(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024073935
(43)【公開日】2024-05-30
(54)【発明の名称】粒子計測装置及び粒子計測方法
(51)【国際特許分類】
G01N 15/0205 20240101AFI20240523BHJP
【ＦＩ】
G01N15/02 A
【審査請求】未請求
【請求項の数】9
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022184929
(22)【出願日】2022-11-18
(71)【出願人】
【識別番号】000115636
【氏名又は名称】リオン株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100120592
【弁理士】
【氏名又は名称】山崎 崇裕
(74)【代理人】
【識別番号】100192223
【弁理士】
【氏名又は名称】加久田 典子
(72)【発明者】
【氏名】松田 朋信
(72)【発明者】
【氏名】篠▲崎▼ 大将
(57)【要約】
【課題】試料流体に含まれる粒子を精度よく計測する技術の提供。
【解決手段】粒子計測装置１００においては、光源１２０、ミラー１３０、受光光学系１４０（レンズ１４１及び受光素子１４２）がステージ１６０に固定されており、ステージ１６０をＸ方向又はＹ方向に移動させると、これら全体がＸ方向又はＹ方向に移動するが、ベース１７０に固定されているフローセル１１０は移動しない。したがって、照射光学系及び受光光学系を相対的な位置関係を保持したままＸ方向又はＹ方向に移動させて、照射光Ｌａがフローセル１１０に入射する位置を変更することができるため、入口１１２から出口１１３にわたり延びる流路１１１に対する観測領域Ｍの位置（照射光Ｌａの照射位置）を変更することができ、広い領域でのスキャニングが可能となる。よって、試料流体に含まれる粒子の分布に偏りがある場合や粒子の個数が非常に少ない場合でも、粒子を精度よく計測できる。
【選択図】図２
【解決手段】粒子計測装置１００においては、光源１２０、ミラー１３０、受光光学系１４０（レンズ１４１及び受光素子１４２）がステージ１６０に固定されており、ステージ１６０をＸ方向又はＹ方向に移動させると、これら全体がＸ方向又はＹ方向に移動するが、ベース１７０に固定されているフローセル１１０は移動しない。したがって、照射光学系及び受光光学系を相対的な位置関係を保持したままＸ方向又はＹ方向に移動させて、照射光Ｌａがフローセル１１０に入射する位置を変更することができるため、入口１１２から出口１１３にわたり延びる流路１１１に対する観測領域Ｍの位置（照射光Ｌａの照射位置）を変更することができ、広い領域でのスキャニングが可能となる。よって、試料流体に含まれる粒子の分布に偏りがある場合や粒子の個数が非常に少ない場合でも、粒子を精度よく計測できる。
【選択図】図２
【特許請求の範囲】
【請求項1】
試料流体が流し込まれる流路を有するフローセルと、
前記流路における前記試料流体の流れを調整可能な流量可変機構と、
照射光を発する光源を含み、前記照射光を前記流路に照射する照射光学系と、
前記照射光が前記流路を照射することで前記流路内の一部に形成される観測領域において前記試料流体に含まれる粒子から生じる散乱光を受光する受光光学系と、
前記照射光学系及び前記受光光学系が配置された１以上のステージと、
前記ステージを移動させることにより、前記観測領域を移動させて前記流路のスキャニングを可能とする移動制御手段と、
前記散乱光の強度に基づいて前記粒子を粒径毎に計数する計数手段と
を備えた粒子計測装置。
前記流路における前記試料流体の流れを調整可能な流量可変機構と、
照射光を発する光源を含み、前記照射光を前記流路に照射する照射光学系と、
前記照射光が前記流路を照射することで前記流路内の一部に形成される観測領域において前記試料流体に含まれる粒子から生じる散乱光を受光する受光光学系と、
前記照射光学系及び前記受光光学系が配置された１以上のステージと、
前記ステージを移動させることにより、前記観測領域を移動させて前記流路のスキャニングを可能とする移動制御手段と、
前記散乱光の強度に基づいて前記粒子を粒径毎に計数する計数手段と
を備えた粒子計測装置。
【請求項2】
請求項１に記載の粒子計測装置において、
前記移動制御手段は、
前記照射光学系と前記受光光学系との相対的な位置関係を保持したまま前記ステージを移動させることを特徴とする粒子計測装置。
前記移動制御手段は、
前記照射光学系と前記受光光学系との相対的な位置関係を保持したまま前記ステージを移動させることを特徴とする粒子計測装置。
【請求項3】
請求項１に記載の粒子計測装置において、
前記流量可変機構は、
前記粒子の計測を開始する前に、前記試料流体の流れを止める又は絞ることを特徴とする粒子計測装置。
前記流量可変機構は、
前記粒子の計測を開始する前に、前記試料流体の流れを止める又は絞ることを特徴とする粒子計測装置。
【請求項4】
請求項３に記載の粒子計測装置において、
前記計測の実行を制御し、前記計測の実行中における前記試料流体の単位体積当りの粒子数の状況に応じて、前記計測を途中で終了する又は前記流量可変機構を制御して前記試料流体の流速を変化させる計測制御部
をさらに備えた粒子計測装置。
前記計測の実行を制御し、前記計測の実行中における前記試料流体の単位体積当りの粒子数の状況に応じて、前記計測を途中で終了する又は前記流量可変機構を制御して前記試料流体の流速を変化させる計測制御部
をさらに備えた粒子計測装置。
【請求項5】
請求項１に記載の粒子計測装置において、
前記移動制御手段は、
前記流路内に設定される始点位置と終点位置との間を連続的に移動させるパターンに沿って前記流路に対する前記照射光の照射位置を移動させ、
前記受光光学系は、
前記照射位置の移動に伴って前記始点位置と前記終点位置との間の連続した領域に形成される前記観測領域において前記散乱光を受光することを特徴とする粒子計測装置。
前記移動制御手段は、
前記流路内に設定される始点位置と終点位置との間を連続的に移動させるパターンに沿って前記流路に対する前記照射光の照射位置を移動させ、
前記受光光学系は、
前記照射位置の移動に伴って前記始点位置と前記終点位置との間の連続した領域に形成される前記観測領域において前記散乱光を受光することを特徴とする粒子計測装置。
【請求項6】
請求項１に記載の粒子計測装置において、
前記移動制御手段は、
前記流路内に設定された複数の不連続な位置に断続的に移動させるパターンに沿って前記流路に対する前記照射光の照射位置を移動させ、
前記受光光学系は、
前記照射位置の移動に伴って前記複数の不連続な位置に形成される前記観測領域において前記散乱光を受光することを特徴とする粒子計測装置。
前記移動制御手段は、
前記流路内に設定された複数の不連続な位置に断続的に移動させるパターンに沿って前記流路に対する前記照射光の照射位置を移動させ、
前記受光光学系は、
前記照射位置の移動に伴って前記複数の不連続な位置に形成される前記観測領域において前記散乱光を受光することを特徴とする粒子計測装置。
【請求項7】
請求項５又は６に記載の粒子計測装置において、
前記移動制御手段は、
前記照射位置を前記パターンに沿って複数回移動させ、
前記受光光学系は、
前記照射位置の移動に伴って形成される前記観測領域における前記散乱光の受光を複数回行うことを特徴とする粒子計測装置。
前記移動制御手段は、
前記照射位置を前記パターンに沿って複数回移動させ、
前記受光光学系は、
前記照射位置の移動に伴って形成される前記観測領域における前記散乱光の受光を複数回行うことを特徴とする粒子計測装置。
【請求項8】
請求項５又は６に記載の粒子計測装置において、
前記移動制御手段は、
前記照射位置を前記パターンに沿って複数回移動させるに際し、奇数回目には前記照射位置を前記パターンに沿って所定の方向に移動させ、偶数回目には前記照射位置を前記パターンに沿って所定の方向と逆の方向に移動させることを特徴とする粒子計測装置。
前記移動制御手段は、
前記照射位置を前記パターンに沿って複数回移動させるに際し、奇数回目には前記照射位置を前記パターンに沿って所定の方向に移動させ、偶数回目には前記照射位置を前記パターンに沿って所定の方向と逆の方向に移動させることを特徴とする粒子計測装置。
【請求項9】
試料流体が流し込まれる流路を有するフローセルと、照射光を発する光源を含み、前記照射光を前記流路に照射する照射光学系と、前記照射光が前記流路を照射することで前記流路内の一部に形成される観測領域において前記試料流体に含まれる粒子から生じる散乱光を受光する受光光学系とを用いて前記粒子の計測を行う粒子計測方法であって、
前記照射光学系及び前記受光光学系を所定のパターンに応じた態様で移動させることにより、前記流路に対する前記照射光の照射位置を前記所定のパターンに沿って移動させる移動工程と、
前記照射位置の移動に伴って移動する前記観測領域において前記散乱光を受光する受光工程と、
前記散乱光の強度に基づいて前記粒子を粒径毎に計数する計数工程と
を含む粒子計測方法。
前記照射光学系及び前記受光光学系を所定のパターンに応じた態様で移動させることにより、前記流路に対する前記照射光の照射位置を前記所定のパターンに沿って移動させる移動工程と、
前記照射位置の移動に伴って移動する前記観測領域において前記散乱光を受光する受光工程と、
前記散乱光の強度に基づいて前記粒子を粒径毎に計数する計数工程と
を含む粒子計測方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、試料流体に含まれる粒子を計測する装置及びその方法に関する。
【背景技術】
【0002】
試料流体に含まれる粒子の計測は、内部に流路が形成されたフローセルに光を照射し、流路を流れる試料流体中の粒子によって散乱される光を受光して行われるのが一般的である。また、その手法の一つとして、照射光が入射することで流路内の一部に形成される粒子の観測領域を観測し、その観測領域での計測値から試料全体に含まれる粒子の個数を推定するものがある（例えば、特許文献１を参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特許第５８５９１５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
上述した手法において、照射光の照射領域（粒子の観測領域）は流路全体ではなく、流路全体のうち中心付近の一部の領域に過ぎないが、粒子は試料流体中に均一に分布しているとは限らない。そのため、特に個数が非常に少ない粒子を計測する場合には、観測領域での計測値から統計的に全体の粒子の個数を推定することで、実態と懸け離れた結果となる可能性がある。
【0005】
一方で、半導体等の技術の進歩に伴い、より信頼性が高く、より小さな粒子の計測が求められている。より小さな粒子を計測するためには、受光光学系の感度を上げることや、観測領域における照射光の強度（エネルギー密度）を上げるために光源の出力を上げることが考えられるが、これらの対応には使用する部品による性能上の限界がある。
【0006】
本発明は、これらの問題に鑑みてなされたものであり、試料流体に含まれる粒子を精度よく計測する技術の提供を課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
上記の課題を解決するため、本発明は以下の粒子計測装置及び粒子計測方法を採用する。なお、以下の括弧書中の文言はあくまで例示であり、本発明はこれに限定されるものではない。
【0008】
すなわち、本発明の粒子計測装置及び粒子計測方法は、試料流体が流し込まれる流路を有するフローセルと、照射光を発する光源を含み、照射光を流路に照射する照射光学系と、照射光が流路を照射することで流路内の一部に形成される観測領域において試料流体に含まれる粒子から生じる散乱光を受光する受光光学系とを用いて粒子の計測を行うものである。照射光学系及び受光光学系は、１以上のステージに配置されている。また、流路における試料流体の流れは、流量可変機構により調整が可能である。
【0009】
そして、本発明の粒子計測装置及び粒子計測方法においては、ステージを移動させることにより、照射光学系と受光光学系との相対的な位置関係を保持したまま、観測領域を移動させて流路のスキャニングを可能とし、観測領域において散乱光を受光して、散乱光の強度に基づいて粒子を粒径毎に計数する。
【0010】
この態様の粒子計測装置及び粒子計測方法によれば、照射光学系と受光光学系の相対的な位置関係を保持したまま、流路に対する照射光の照射位置を変更することができ、これに伴って移動する観測領域において粒子からの散乱光を受光することができるため、流路における広い領域を対象として粒子の計測を実施することができ、試料流体に含まれる粒子の分布に偏りがある場合や粒子の個数が非常に少ない場合においても精度の高い計測が可能となる。
【0011】
好ましくは、上述した態様の粒子計測装置及び粒子計測方法において、計測を開始する前に、試料流体の流れを止める又は絞る。
【0012】
この態様の粒子計測装置及び粒子計測方法によれば、流路内に試料流体を貯めた状態又は計測時間に対して十分に遅い速度で試料流体を流した状態で粒子の計測を実施することができるため、散乱光の受光感度を上げることができ、より小さな粒子の計測が可能となる。また、同じ試料流体を対象とした網羅的な計測が可能となるため、粒子の見逃しを減らすことができる。したがって、この態様の粒子計測装置及び粒子計測方法によれば、粒子計測の精度をさらに高めることが可能となる。
【0013】
また、好ましくは、上述した態様の粒子計測装置及び粒子計測方法において、計測の実行中における試料流体の単位体積当りの粒子数（以下、「粒子濃度」と称する。）の状況に応じて、計測を途中で終了するか、或いは、試料流体の流速を変化させる制御を実行する。
【0014】
この態様の粒子計測装置及び粒子計測方法によれば、例えば、粒子濃度が所定の閾値を超える場合には、粒子濃度は計測に対して十分にあるとみなして、計測を途中で終了することができるため、計測時間を短縮することができる。また、例えば、粒子濃度が所定の閾値を超える場合には試料流体の流速を上げる一方、粒子濃度が所定の閾値以下である場合には試料流体の流速を下げることができるため、粒子濃度の高低によらず計測の精度を確保することができる。
【0015】
より好ましくは、上述した態様の粒子計測装置及び粒子計測方法において、流路内に設定される始点位置と終点位置との間を連続的に移動させるパターンに沿って照射位置を移動させ、照射位置の移動に伴って始点位置と終点位置との間の連続した領域に形成される観測領域において散乱光を受光する。或いは、上述した態様の粒子計測装置及び粒子計測方法において、流路内に設定された複数の不連続な位置に断続的に移動させるパターンに沿って照射位置を移動させ、照射位置の移動に伴って複数の不連続な位置に形成される観測領域において散乱光を受光する。
【0016】
この態様の粒子計測装置及び粒子計測方法によれば、流路における広い領域を対象として粒子の計測を行うに際し、試料流体の性質や傾向等を踏まえて最適なパターンを選択することで、粒子の計測を効率よく行うことができる。例えば、試料流体に含まれる粒子の個数が非常に少ない場合には、始点位置から終点位置にわたる連続した領域にて計測を行うことにより、粒子の見落としを減らして計測の精度を上げることができるのに対し、粒子の個数がさほど少なくない場合には、不連続な位置に形成される複数の領域にて計測を行うことにより、計測時間を短縮することができる。
【0017】
さらに好ましくは、上述した態様の粒子計測装置及び粒子計測方法において、照射位置を上記のパターンに沿って複数回移動させ、照射位置の移動に伴って形成される観測領域における散乱光の受光を複数回行う。また、照射位置を上記のパターンに沿って複数回移動させるに際し、奇数回目には照射位置を上記のパターンに沿って所定の方向に移動させ、偶数回目には照射位置を上記のパターンに沿って所定の方向と逆の方向に移動させる。
【0018】
この態様の粒子計測装置及び粒子計測方法によれば、同一の領域を対象として複数回にわたり計測を行うことができるため、計測結果の信頼性を高めることができる。また、奇数回目の計測と偶数回目の測定とで移動方向が逆にすることにより、移動と計測とを同時に行うことができ、移動のみに費やす時間を最小限に抑制することができるため、計測全体の所要時間を短縮することが可能となる。
【発明の効果】
【0019】
以上のように、本発明の粒子計測装置及び粒子計測方法によれば、試料流体に含まれる粒子を精度よく計測することができる。
【図面の簡単な説明】
【0020】
【図1】第１実施形態の粒子計測装置１００を簡略的に示す斜視図である。
【図2】粒子計測装置１００を簡略的に示す平面図である。
【図4】スキャニングの方法を説明する図である。
【図5】スキャニングの方法の変形例を説明する図である。
【図6】粒子計測装置１００の変形例を簡略的に示す斜視図である。
【図7】粒子計測装置１００の構成を示す機能ブロック図である。
【図8】第２実施形態の粒子計測装置２００を簡略的に示す斜視図である。
【図9】粒子計測装置２００を簡略的に示す平面図である。
【図10】第３実施形態の粒子計測装置３００を簡略的に示す斜視図である。
【図11】粒子計測装置３００を簡略的に示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【0021】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、発明の理解を容易とするために、図面においては粒子計測装置を構成する部品の形状を簡略化しつつ寸法を誇張して表しており、また、一部の構成要素の図示を省略している。
【0022】
〔第１実施形態〕
図１は、第１実施形態の粒子計測装置１００を簡略的に表す斜視図である。
粒子計測装置１００は、試料流体に含まれる粒子を検出するための構成として、フローセル１１０、照射光学系（図示の例においては、光源１２０及びミラー１３０）、受光光学系１４０を備えている。
図１は、第１実施形態の粒子計測装置１００を簡略的に表す斜視図である。
粒子計測装置１００は、試料流体に含まれる粒子を検出するための構成として、フローセル１１０、照射光学系（図示の例においては、光源１２０及びミラー１３０）、受光光学系１４０を備えている。
【0023】
フローセル１１０は、合成コランダム等の結晶性材料からなり、その内部に試料流体が流し込まれる流路が形成されている。フローセル１１０及びこれに接続された配管は、不図示のフローセルラックに支持されており、フローセルラックを介して間接的にベース１７０に固定されている。なお、以下の説明においては、フローセル１１０の流路が伸びる方向を「Ｘ方向」と称する。
【0024】
光源１２０は、所定の波長の照射光Ｌａ（例えば、レーザ光）を平行とみなすことができる範囲の広がり角でＸ方向に発する。ミラー１３０は、光源１２０から発せられた照射光Ｌａをフローセル１１０に向けて反射する。これにより、照射光Ｌａがフローセル１１０に入射し、流路内の一部に設定された観測領域を照射する。
【0025】
試料流体に含まれる粒子が観測領域内に存在する場合には、照射光Ｌａが粒子に照射されることで散乱光が生じる。このようにして生じる粒子からの散乱光を、レンズ及び受光素子で構成された受光光学系１４０が受光する。受光光学系１４０は、その中心軸がＸ方向に直交するように配置されている。なお、散乱光の受光については、別の図面を用いてさらに後述する。また、以下の説明においては、受光光学系の中心軸の方向を「Ｙ方向」と称し、Ｘ方向にもＹ方向にも直交する方向を「Ｚ方向」と称する。
【0026】
フローセル１１０に接続された下流側の配管１１５には、流量可変機構１５０が設けられている。流量可変機構１５０は、試料流体の流量を変更してその流れ（流速）を調整することが可能であり、試料流体の流れを止めたり、或いは、計測時間に対して十分に遅い速度で流れるように試料流体の流れを絞ったりすることができる。また、流量可変機構１５０は、検出部を備えており、ここで流量を監視しながらフィードバック制御を行うことが可能である。なお、図示の例においては、流量可変機構１５０が下流側の配管１１５に設けられているが、これに代えて、フローセル１１０における試料流体の出口付近に設けられてもよい。
【0027】
粒子計測装置１００においては、光源１２０及びミラー１３０がステージ１６０に固定されており、受光光学系１４０もまた、スタンド１６１を介してステージ１６０に固定されている。また、粒子計測装置１００は、ステージ１６０をＸ方向に移動させるＸ軸スライダ１６３、及び、ステージ１６０をＹ方向に移動させるＹ軸スライダ１６４を有しており、ステージ１６０はＸ方向及びＹ方向に移動可能に構成されている。Ｘ軸スライダ１６３及びＹ軸スライダ１６４は、例えばアクチュエータ等で実装される。
【0028】
図示の例においては、ステージ１６０がＸ軸スライダ１６３上に設けられ、Ｘ軸スライダ１６３がＹ軸スライダ１６４上に設けられて、Ｙ軸スライダ１６４がベース１７０に固定されている。そして、Ｘ軸スライダ１６３は、ステージ１６０をＸ方向にスライドして移動させることができ、Ｙ軸スライダ１６４は、ステージ１６０をＸ軸スライダ１６３ごとＹ方向にスライドして移動させることができる。なお、Ｙ軸スライダ１６４は、ステージ１６０のみをＹ方向に移動させるように構成してもよい。
【0029】
図２は、粒子計測装置１００を簡略的に示す平面図である。
粒子計測装置１００においては、フローセル１１０がベース１７０に固定されているのに対し、照射光学系（光源１２０、ミラー１３０）及び受光光学系１４０（レンズ１４１、受光素子１４２）はステージ１６０に固定されている。したがって、ステージ１６０をＸ方向又はＹ方向に移動させることにより、グレーで染色した部分全体がＸ方向又はＹ方向に移動するため、照射光学系及び受光光学系をこれらの相対的な位置関係を保持したままＸ方向又はＹ方向に移動させることができる。
粒子計測装置１００においては、フローセル１１０がベース１７０に固定されているのに対し、照射光学系（光源１２０、ミラー１３０）及び受光光学系１４０（レンズ１４１、受光素子１４２）はステージ１６０に固定されている。したがって、ステージ１６０をＸ方向又はＹ方向に移動させることにより、グレーで染色した部分全体がＸ方向又はＹ方向に移動するため、照射光学系及び受光光学系をこれらの相対的な位置関係を保持したままＸ方向又はＹ方向に移動させることができる。
【0030】
このような構成により、照射光学系及び受光光学系の相対的な位置関係を保持したまま、照射光Ｌａがフローセル１１０に入射する位置を変更することができるため、フローセルの入口１１２から出口１１３にわたり延びる流路１１１に対する照射光Ｌａの照射位置（言い換えると観測領域Ｍの形成位置）を移動させながら、流路１１１における広い領域での粒子の測定が可能となる。以下の説明においては、粒子をこのように測定することを「スキャニング」と称する。
【0031】
図３は、フローセル１１０と受光光学系１４０との位置関係を示す垂直断面図（図２中のIII－III線に沿う断面図）である。
例えば、観測領域Ｍが流路１１１のＹ方向における略中心部に設定された場合には、ミラー１３０が反射する照射光Ｌａがこの位置を照射するようにステージ１６０の移動が制御される。照射光Ｌａは、フローセル１１０に入射して観測領域Ｍを通過したのち、フローセル１１０の外部に抜ける。見方を変えると、流路１１１に対する照射光Ｌａの照射位置が先ず設定され、これに応じた流路１１１内の位置に観測領域Ｍが形成される、と捉えることもできる。
例えば、観測領域Ｍが流路１１１のＹ方向における略中心部に設定された場合には、ミラー１３０が反射する照射光Ｌａがこの位置を照射するようにステージ１６０の移動が制御される。照射光Ｌａは、フローセル１１０に入射して観測領域Ｍを通過したのち、フローセル１１０の外部に抜ける。見方を変えると、流路１１１に対する照射光Ｌａの照射位置が先ず設定され、これに応じた流路１１１内の位置に観測領域Ｍが形成される、と捉えることもできる。
【0032】
観測領域Ｍに粒子が存在する場合には、粒子と照射光Ｌａとの作用により散乱光が生じ、側方散乱光Ｌｓが受光光学系１４０により受光される。具体的には、粒子からの側方散乱光Ｌｓがレンズ１４１により集光され、受光素子１４２（例えば、フォトダイオード）により受光されて、その強度に応じた電気信号に変換されたのち、制御ユニットに送られ（図３には図示されていない）、信号の大きさ、すなわち受光された散乱光の強度に基づいて粒子の大きさや個数が計測される。
【0033】
なお、側方散乱光Ｌｓが透過するフローセル１１０の壁面上に、側方散乱光Ｌｓの集光を補助する構造（例えば、凹面部や凸状のレンズ等）を設けてもよい。また、制御ユニットの内部構成については、別の図面を参照しながら詳しく後述する。
【0034】
〔スキャニングの方法〕
図４は、流路１１１内の試料流体に対するスキャニングの３つの方法をフローセル１１０の水平断面図（図１中のIV－IV線に沿う断面図）を用いて説明する図である。いずれの方法においても、スキャニングは試料流体の流れを止めて流路１１１に試料流体を貯めた状態で行われる。また、各方法に対応して、観測領域Ｍの設定位置（照射光Ｌａの照射位置）に関するパターンが予め定められている。粒子計測装置１００においては、設定された観測領域Ｍを照射光Ｌａが照射し、観測領域Ｍで生じる散乱光を受光するように、ステージ１６０（言い換えると、照射光学系及び受光光学系）をパターンに応じて移動させ、これにより照射光Ｌａの照射位置を移動させて測定を行う。
図４は、流路１１１内の試料流体に対するスキャニングの３つの方法をフローセル１１０の水平断面図（図１中のIV－IV線に沿う断面図）を用いて説明する図である。いずれの方法においても、スキャニングは試料流体の流れを止めて流路１１１に試料流体を貯めた状態で行われる。また、各方法に対応して、観測領域Ｍの設定位置（照射光Ｌａの照射位置）に関するパターンが予め定められている。粒子計測装置１００においては、設定された観測領域Ｍを照射光Ｌａが照射し、観測領域Ｍで生じる散乱光を受光するように、ステージ１６０（言い換えると、照射光学系及び受光光学系）をパターンに応じて移動させ、これにより照射光Ｌａの照射位置を移動させて測定を行う。
【0035】
図４中（Ａ）：スキャニングの第１方法においては、流路１１１に対する照射光Ｌａの照射位置（観測領域Ｍの位置）をフローセルの流路１１１における離れた２つの位置（例えば、流路１１１の一端側及び他端側の各位置）の間をＸ方向に連続的に移動させながら測定を行う。例えば、予め定められたパターンに沿って、フローセルの入口１１２寄りの位置を始点位置として観測領域ＭＢを設定し、出口１１３寄りの位置を終点位置として観測領域ＭＥを設定して、観測領域Ｍが始点位置から終点位置まで移動するようにステージ１６０をＸ方向に移動させながら、観測領域ＭＢから観測領域ＭＥまでの領域を連続的に測定する。
【0036】
観測領域ＭＢから観測領域ＭＥまでの領域を測定し終えたら、そこで測定を終了してもよいし、ステージ１６０を直前とは逆方向に移動させて、直前と同じ領域を再び測定してもよいし、さらに始点位置と終点位置との間を往復する測定を複数回繰り返し行ってもよい。同じ領域を複数回測定した場合には、各回における平均値や最頻値、最多値、最少値等を測定結果として出力することが可能である。
【0037】
図４中（Ｂ）：スキャニングの第２方法においては、流路１１１に対する照射光Ｌａの照射位置（観測領域Ｍの位置）をＸ方向に離散的に設定して測定を行う。例えば、予め定められたパターンに沿って、フローセルの入口１１２寄りの位置を始点位置とし、出口１１３寄りの位置を終点位置として、始点位置と終点位置との間に所定の間隔で観測領域Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３，・・・，ＭＥを設定する。そして、先ず観測領域Ｍ１を測定し、この測定を終えたら、次の観測領域Ｍ２に合わせてステージ１６０をＸ方向に移動させて、観測領域Ｍ２を測定し、この測定を終えたら、次の観測領域Ｍ３に合わせてステージ１６０をＸ方向に移動させて、観測領域Ｍ３を測定する、という具合に、離散的に設定された複数の観測領域Ｍ１～ＭＥを対象として順番に測定を行う。
【0038】
複数の観測領域Ｍ１～ＭＥを測定し終えたら、そこで測定を終了してもよいし、ステージ１６０を直前とは逆方向に移動させて、観測領域ＭＥ，・・・，Ｍ２，Ｍ１の順で直前と同じ領域を再び測定してもよいし、複数の観測領域Ｍ１～ＭＥに対する測定の往復を複数回繰り返し行ってもよい。同じ領域を複数回測定した場合には、各回における平均値や最頻値、最多値、最少値等を測定結果として出力することが可能である。また、複数回測定する場合に、観測領域毎の測定回数を同じにしても異ならせてもよい。例えば、特に重要な観測領域については、他の観測領域よりも測定回数を多くしてもよい。また、スキャニングの第２方法を上述した第１方法と組み合わせ、連続的な測定と離散的な測定を組み合わせた測定を行ってもよい。
【0039】
図４中（Ｃ）：スキャニングの第３方法においては、流路１１１に対する照射光Ｌａの照射位置（観測領域Ｍの位置）をＸ方向に加えＹ方向にも移動させることで、いわば面での測定を行う。例えば、予め定められたパターンに沿って、先ず、フローセルの入口１１２寄りの観測領域Ｍ１Ｂから出口１１３寄りの観測領域Ｍ１Ｅにわたる領域を対象として、ステージ１６０をＸ方向に移動させながら連続的に測定し（以下、「測定１」と称する。）、測定１の終了後にステージ１６０をＹ方向に少し移動させ、次に、出口１１３寄りの観測領域Ｍ２Ｂから入口１１２寄りの観測領域Ｍ２Ｅにわたる領域を対象として、ステージ１６０を直前とは逆方向に移動させながら連続的に測定し（以下、「測定２」と称する。）、測定２の終了後にステージ１６０をＹ方向に少し移動させて、さらに測定を行う、という具合に、Ｘ方向における連続的な測定をＹ方向における位置を少しずつ変えて繰り返すことにより、上述した第１及び第２方法よりも広い領域を測定する。
【0040】
このように、スキャニングの第３方法は、上述した第１方法（Ｘ方向における連続的な測定）にＹ方向の移動を組み合わせてスキャニングの対象領域を拡張したものであるが、これに代えて、上述した第２方法（Ｘ方向における離散的な測定）にＹ方向の移動を組み合わせてスキャニングの対象領域を拡張することも可能である。また、見方を変えると、第３方法は、照射光ＬａがＸＹ平面に対してジグザグを描くようにステージ１６０を移動させる方法、と捉えることもできる。
【0041】
なお、図４中（Ｃ）に示されるように、上記の例においては測定１と測定２とで、すなわち前後する２つの連続的な測定において、観測領域Ｍを完全に異ならせているが、観測領域Ｍの一部をオーバーラップさせてもよい。また、Ｘ方向での連続的な測定の終了後にステージ１６０をＹ方向に移動させているが、Ｘ方向における測定の最中、すなわちステージ１６０をＸ方向に移動させるのと同時に、Ｙ方向への移動を行ってもよい。
【0042】
ところで、粒子計測装置１００における照射光学系の配置を少し変形し、図６に図示された粒子計測装置１０２のように構成してもよい。上述した粒子計測装置１００（図１）と比べて見ると、変形例の粒子計測装置１０２は、Ｙ軸スライダ１６４を有しておらず、ステージ１６０がＸ方向にのみ移動可能であり、また、光源１２０がステージ１６０とは別のステージ１２１に配置されており、ステージ１２１がＹ軸スライダ１２３上に設けられてＹ方向にのみ移動可能である。粒子計測装置１０２においては、ステージ１２１をＹ方向に移動させることで流路１１１に対する照射光Ｌａの照射位置をＹ方向に移動させることができ、ステージ１６０をＸ方向に移動させることで流路１１１に対する照射光Ｌａの照射位置をＸ方向に移動させることができる。したがって、粒子計測装置１０２によっても、粒子計測装置１００と同様に、上述した第１～第３方法によるスキャニングを実施することが可能である。
【0043】
また、このような配置とすることにより、ステージ１６０上の部品の総重量が減るため、Ｘ軸スライダ１６３への負荷を軽減することができ、Ｘ軸スライダ１６３に要求される性能を下げることができるため、比較的性能の低い部品によっても実装が可能となる。
【0044】
もっとも、第１方法又は第２方法によるスキャニングのみで足り、第３方法によるスキャニングを実施しないのであれば、Ｙ軸スライダ１２３は不要である。この場合には、変形例の粒子計測装置１０２において、ステージ１２１をベース１７０に固定させ、光源１２０をその発光口をミラー１３０の反射面に対向させた状態でステージ１２１に固定させればよい。
【0045】
なお、上記の例においては、流路１１１に試料流体を貯めた状態でスキャニングを行っているが、これに代えて、測定時間に対して十分に遅い速度（例えば、１ｍＬ／分）で試料流体が流路１１１を流れるように流量可変機構１５０により流速を調整した上でスキャニングを行ってもよい。また、上述した各方法により一連の測定を終えたら、必要に応じて流量可変機構１５０を操作し、次の測定対象とする試料流体を流し込んで、引き続き測定を行うことが可能である。
【0046】
図５は、スキャニングの方法の変形例を説明する図である。
上述したスキャニングの第３方法においては、観測領域Ｍ（照射光Ｌａの照射位置）をＸ方向に移動させながら行う測定を、Ｙ方向における位置を少しずつ変えて繰り返し、観測領域Ｍの軌跡がＸ方向に沿って描かれるようにステージ１６０を移動させていたが、これに代えて、図６中（Ａ）に示されるように、観測領域ＭをＹ方向に移動させながら行う測定を、Ｘ方向における位置を少しずつ変えて繰り返し、観測領域Ｍの軌跡が流路１１１にＹ方向に沿って描かれるようにステージ１６０を移動させてもよい。
上述したスキャニングの第３方法においては、観測領域Ｍ（照射光Ｌａの照射位置）をＸ方向に移動させながら行う測定を、Ｙ方向における位置を少しずつ変えて繰り返し、観測領域Ｍの軌跡がＸ方向に沿って描かれるようにステージ１６０を移動させていたが、これに代えて、図６中（Ａ）に示されるように、観測領域ＭをＹ方向に移動させながら行う測定を、Ｘ方向における位置を少しずつ変えて繰り返し、観測領域Ｍの軌跡が流路１１１にＹ方向に沿って描かれるようにステージ１６０を移動させてもよい。
【0047】
また、上述したスキャニングの３つの方法において、シート状（断面が円形や扁平等の形状）の照射光Ｌａを発する光源を用いれば、個々の観測領域Ｍをより大きく設定することができ、第１及び第２方法においてはＹ方向への移動を行うことなく、また、第３方法においてはＹ方向への移動回数を減らして、より広い領域を測定することができる。例えば、断面形状が扁平状の照射光Ｌａをフローセル１１０に向けて照射すると、図５中（Ｂ）に示されるように、観測領域Ｍを上からみた形状も扁平状となる。
【0048】
このような照射光Ｌａを発する光源を用いて、例えば、フローセルの入口１１２寄りの位置を始点位置として観測領域ＭＦＢを設定し、出口１１３寄りの位置を終点位置として観測領域ＭＦＥを設定して、観測領域Ｍが初期位置から最終位置まで移動するようにステージ１６０をＸ方向に移動させながら、観測領域ＭＦＢから観測領域ＭＦＥまでの領域を連続的に測定すると、移動の態様としては上述した第１方法と同一であるが、第１方法よりも広い領域を測定することができる。また、この測定にＹ方向の移動を組み合わせれば、スキャニングの対象領域をさらに拡張することができ、上述した第３方法と同等の領域を少ない移動回数で測定することが可能となる。
【0049】
図７は、粒子計測装置１００の構成を示す機能ブロック図である。
粒子計測装置１００は、粒子の検出に用いられる上述した構成部品の他に、制御ユニット１９０を備えている。制御ユニット１９０は、例えば、操作受付部１９１、測定制御部１９２、移動制御部１９３、記憶部１９４、計数部１９５、データ出力部１９６を有している。
粒子計測装置１００は、粒子の検出に用いられる上述した構成部品の他に、制御ユニット１９０を備えている。制御ユニット１９０は、例えば、操作受付部１９１、測定制御部１９２、移動制御部１９３、記憶部１９４、計数部１９５、データ出力部１９６を有している。
【0050】
操作受付部１９１は、ユーザに対して操作画面を提供するとともに、操作画面を介してユーザによりなされる操作を受け付ける。ユーザは、操作画面において、測定の実行、試料流体の流速やスキャニングパターンの選択、計測結果の保存等に関する操作を行うことができる。操作受付部１９１は、測定の実行に関する操作を受け付けると、測定制御部１９２に測定の実行を指示する。
【0051】
測定制御部１９２は、測定実行の指示がなされると、先ず測定の準備として、電源を要する光源１２０、受光素子１４２、増幅器１４３、Ａ／Ｄ変換器１４４を作動状態に切り替えるとともに、流量可変機構１５０を作動させて、フローセル１１０に対する試料流体の流速が選択された流速となるよう流量可変機構１５０に調整を行わせる。なお、測定制御部１９２が流量可変機構１５０を作動させて流速を調整させるのに代えて、ユーザが流量可変機構１５０を直接操作して流速の調整を行ってもよい。
【0052】
測定の準備が整うと、測定制御部１９２は測定を開始する。具体的には、測定制御部１９２は、移動制御部１９３に対し、Ｘ軸スライダ１６３及びＹ軸スライダ１６４の動作を制御するよう指示する。これを受けて、移動制御部１９３は、選択されたスキャニングパターンに関する情報を記憶部１９４から取得して、Ｘ軸スライダ１６３及びＹ軸スライダ１６４の動作を制御し、ステージ１６０をスキャニングパターンに応じた態様で移動させる。このような移動制御部１９３による制御の結果、フローセルの流路に対する照射光Ｌａの照射位置（流路における観測領域Ｍの位置）が、選択されたスキャニングパターンに沿って移動することとなる。
【0053】
記憶部１９４は、記憶領域であり、スキャニングパターン毎に定義された情報を予め記憶している。例えば、ステージ１６０のＸ軸スライダ１６３に対する位置を示すＸ座標、及び、Ｙ軸スライダ１６４に対する位置を示すＹ座標に関する移動タイミング、移動方向や移動量等がスキャニングパターン毎に定義されている。移動制御部１９３は、これらの情報に基づいてＸ軸スライダ１６３及びＹ軸スライダ１６４の動作を制御することで、ステージ１６０、ひいては照射光Ｌａの照射位置をスキャニングパターンに沿って移動させることができる。
【0054】
また、測定制御部１９２は、スキャニングパターンに沿って散乱光の受光を制御する。測定が開始されると、光源１２０から発せられた照射光Ｌａは、ミラー１３０を経てフローセル１１０に入射し、設定された観測領域Ｍを照射する。試料流体に含まれる粒子が観測領域Ｍに存在すると、照射光Ｌａが粒子に照射されて散乱光が生じ、この側方散乱光Ｌｓがレンズ１４１により集光されて受光素子１４２に入射し受光される。受光素子１４２により受光された側方散乱光Ｌｓはその強度に応じた電気信号に変換され、増幅器１４３により所定のゲインで増幅された後に、Ａ／Ｄ変換器１４４によりデジタル信号に変換されて、計数部１９５に出力される。
【0055】
計数部１９５は、入力したデジタル信号の大きさ、すなわち受光された側方散乱光Ｌｓの強度に基づいて粒子の粒径を判定し、粒径毎に粒子を計数して、計測結果を取りまとめた上でデータ出力部１９６に出力する。
【0056】
計数部１９５による計数値は、測定制御部１９２がリアルタイムで参照することができ、測定制御部１９２は、計数の状況に応じた制御を実行可能である。例えば、測定の実行中において粒子濃度（試料流体の単位体積当りの粒子数）が所定の閾値を超える場合には、粒子濃度は測定に対して十分にあると判断でき、最後まで測定しなくても測定の精度を十分保持できることから、測定制御部１９２は、測定を最後まで実行することなく途中で終了することができる。このような制御により、測定全体の所要時間を短縮することができる。また、測定制御部１９２は、粒子濃度が所定の閾値を超える場合には、測定途中で流量可変機構１５０を制御して試料流体の流速を速くする（上げる）一方、粒子濃度が所定の閾値以下である場合には、測定途中で流量可変機構１５０を制御して試料流体の流速を遅くする（下げる）ことができる。このような制御により、粒子濃度の高低によらず測定の精度を確保することができる。
【0057】
データ出力部１９６は、計数部１９５により出力された計測結果に基づいてデータを出力する。データの出力は、画面への表示により行ってもよいし、プリンタへの出力やネットワークを介した他のデバイスへの送信により行ってもよい。粒子の測定が終了して計測結果の最終データが整うと、最終データの保存が可能な状態となる。データ出力部１９６は、最終データの保存が可能になったことを操作受付部１９１に伝える。
【0058】
なお、制御ユニット１９０は、粒子計測装置１００の内部に一体的に設けてもよいし、粒子計測装置１００の外部に設けてケーブルやネットワーク等で接続してもよい。
【0059】
〔第２実施形態〕
図８は、第２実施形態の粒子計測装置２００を簡略的に示す斜視図である。
粒子計測装置２００は、光源がミラー及び受光光学系とは別のステージ上に配置されている点において、上述した第１実施形態の粒子計測装置１００と特に異なっており、これらの点に関連して、照射光Ｌａの進み方やスライダの構成も粒子計測装置１００と異なっている。なお、第１実施形態と共通する点については、説明を省略する。
図８は、第２実施形態の粒子計測装置２００を簡略的に示す斜視図である。
粒子計測装置２００は、光源がミラー及び受光光学系とは別のステージ上に配置されている点において、上述した第１実施形態の粒子計測装置１００と特に異なっており、これらの点に関連して、照射光Ｌａの進み方やスライダの構成も粒子計測装置１００と異なっている。なお、第１実施形態と共通する点については、説明を省略する。
【0060】
粒子計測装置２００においては、照射光Ｌａは、光源２２０からＹ方向に発せられ、ミラー２３０にてフローセル２１０に向けて反射されることにより、フローセル２１０に入射して観測領域を照射する。
【0061】
粒子計測装置２００においては、光源２２０はＸ方向にのみ移動可能な第１ステージ２６０に固定されているのに対し、ミラー２３０及び受光光学系２４０はＸ方向及びＹ方向に移動可能な第２ステージ２７０に固定されている。これに対応して、粒子計測装置２００は、第１ステージ２６０をＸ方向に移動させるＸ軸スライダ２６１を有しているとともに、第２ステージ２７０をＹ方向に移動させるＹ軸スライダ２７３、及び、第２ステージ２７０をＸ方向に移動させるＸ軸スライダ２７４を有している。
【0062】
図９は、粒子計測装置２００を簡略的に示す平面図である。
粒子計測装置２００においては、光源２２０が固定されている第１ステージ２６０の移動は、ミラー２３０及び受光光学系２４０（レンズ２４１、受光素子２４２）が固定されている第２ステージ２７０のＸ方向への移動に連動してなされる。すなわち、図中の黒矢印方向への移動は同期して行われ、グレーで染色した部分全体が同時にＸ方向に移動するため、第１及び第２ステージ２６０，２７０がＸ方向に移動しても、照射光学系（光源２２０、ミラー２３０）及び受光光学系２４０の相対的な位置関係は保持される。
粒子計測装置２００においては、光源２２０が固定されている第１ステージ２６０の移動は、ミラー２３０及び受光光学系２４０（レンズ２４１、受光素子２４２）が固定されている第２ステージ２７０のＸ方向への移動に連動してなされる。すなわち、図中の黒矢印方向への移動は同期して行われ、グレーで染色した部分全体が同時にＸ方向に移動するため、第１及び第２ステージ２６０，２７０がＸ方向に移動しても、照射光学系（光源２２０、ミラー２３０）及び受光光学系２４０の相対的な位置関係は保持される。
【0063】
また、第２ステージ２７０をＹ方向に移動させると、照射光学系を構成する要素間の（光源２２０とミラー２３０との）相対的な位置関係は変化するものの、照射光学系全体をまとまりとして捉えれば、照射光学系と受光光学系との相対的な位置関係は保持されるため、フローセル２１０に入射する照射光Ｌａと受光光学系２４０との相対的な位置関係を保持したまま、流路２１１に対する照射光Ｌａの照射位置を変更することができる。したがって、粒子計測装置２００によっても、上述した第１実施形態の粒子計測装置１００と同様に、流路２１１に対し設定する観測領域Ｍの位置を変更することができ、流路２１１における広い領域でのスキャニングが可能となる。
【0064】
〔第３実施形態〕
図１０は、第３実施形態の粒子計測装置３００を簡略的に示す斜視図である。
粒子計測装置３００は、ミラーを２個有しており、光源及び一方のミラーがそれぞれ別のステージ上に配置されており、他方のミラー及び受光光学系がさらに別のステージ上に配置されている点において、上述した第１及び第２実施形態の粒子計測装置１００，２００と特に異なっており、これらの点に関連して、照射光Ｌａの進み方やスライダの構成も粒子計測装置１００，２００と異なっている。なお、第１及び第２実施形態と共通する点については、説明を省略する。
図１０は、第３実施形態の粒子計測装置３００を簡略的に示す斜視図である。
粒子計測装置３００は、ミラーを２個有しており、光源及び一方のミラーがそれぞれ別のステージ上に配置されており、他方のミラー及び受光光学系がさらに別のステージ上に配置されている点において、上述した第１及び第２実施形態の粒子計測装置１００，２００と特に異なっており、これらの点に関連して、照射光Ｌａの進み方やスライダの構成も粒子計測装置１００，２００と異なっている。なお、第１及び第２実施形態と共通する点については、説明を省略する。
【0065】
粒子計測装置３００においては、照射光Ｌａは、光源３２０からＹ方向に発せられ、第１ミラー３３０にてＸ方向に反射され、さらに第２ミラー３３１にてフローセル３１０に向けて反射されることにより、フローセル３１０に入射して観測領域を照射する。
【0066】
粒子計測装置３００においては、光源３２０は移動しない第１ステージ３６０に固定されており、第１ミラー３３０はＹ方向にのみ移動可能な第２ステージ３７０に固定されており、第２ミラー３３１及び受光光学系３４０はＸ方向及びＹ方向に移動可能な第３ステージ３８０に固定されている。これに対応して、粒子計測装置３００は、第２ステージ３７０をＹ方向に移動させるＹ軸スライダ３７１を有しているとともに、第３ステージ３８０をＹ方向に移動させるＹ軸スライダ３８３、及び、第３ステージ３８０をＸ方向に移動させるＸ軸スライダ３８４を有している。なお、第２ステージ３７０及び第３ステージ３８０を１つのＹ軸スライダで移動させるよう構成してもよい。
【0067】
図１１は、粒子計測装置３００を簡略的に示す平面図である。
粒子計測装置３００においては、光源３２０が固定されている第１ステージ３６０は移動せず、また、第１ミラー３３０が固定されている第２ステージ３７０のＹ方向への移動は、第２ミラー３３１及び受光光学系３４０（レンズ３４１、受光素子３４２）が固定されている第３ステージ３８０のＹ方向への移動に連動してなされる。すなわち、図中の黒矢印方向への移動は同期して行われ、グレーで染色した部分全体が同時にＹ方向に移動する。
粒子計測装置３００においては、光源３２０が固定されている第１ステージ３６０は移動せず、また、第１ミラー３３０が固定されている第２ステージ３７０のＹ方向への移動は、第２ミラー３３１及び受光光学系３４０（レンズ３４１、受光素子３４２）が固定されている第３ステージ３８０のＹ方向への移動に連動してなされる。すなわち、図中の黒矢印方向への移動は同期して行われ、グレーで染色した部分全体が同時にＹ方向に移動する。
【0068】
第２ステージ３７０のＹ方向への移動、並びに、第３ステージ３８０のＹ方向及びＸ方向への移動に伴い、照射光学系を構成する要素間の（光源３２０、第１ミラー３３０及び第２ミラー３３１の）相対的な位置関係は変化するものの、照射光学系全体をまとまりとして捉えれば、照射光学系と受光光学系との相対的な位置関係は保持されるため、フローセル３１０に入射する照射光Ｌａと受光光学系３４０との相対的な位置関係を保持したまま、流路３１１に対する照射光Ｌａの照射位置を変更することができる。したがって、粒子計測装置３００によっても、上述した第１及び第２実施形態の粒子計測装置１００，２００と同様に、流路３１１に対し設定する観測領域Ｍの位置を変更することができ、流路３１１における広い領域でのスキャニングが可能となる。
【0069】
〔本発明の優位性〕
以上のように、上述した各実施形態の粒子計測装置によれば、以下のような効果が得られる。
以上のように、上述した各実施形態の粒子計測装置によれば、以下のような効果が得られる。
【0070】
（１）照射光学系及び受光光学系を１次元方向（Ｘ方向）又は２次元方向（Ｘ方向及びＹ方向）に移動させることができ、照射光学系と受光光学系との相対的な位置関係を保持したまま、流路に対する照射光Ｌａの照射位置（観測領域の形成位置）を変更することができるため、従来の粒子計測装置と比較して、流路における広い領域でスキャニングが実施できるため、試料流体に含まれる粒子の分布に偏りがある場合や粒子の個数が非常に少ない場合でも精度の高い計測が可能となる。
【0071】
（２）流量可変機構が設けられており、流路における試料流体の流れを止めた状態（流路内に試料流体を貯めた状態）、又は、流れを絞った状態（試料流体が遅い速度で流れる状態）で測定を実施することができ、流速を遅くするほど受光の感度を上げることができるため、より小さな粒子を測定することができるとともに、粒子の見逃し等を減らすことができ、計測の精度を上げることが可能となる。
【0072】
（３）流路内に設定する観測領域の位置（照射光Ｌａの照射位置）を移動させながら測定を行うことができ、同一領域を複数回測定することができるため、計測結果の信頼性を高めることが可能となる。また、同一領域を複数回測定する場合に、例えば、奇数回目は流路の一端側（例えば入口側）から他端側（例えば出口側）に向かって移動させながら測定を行い、偶数回目は方向を逆にして流路の他端側から一端側に向かって移動させながら測定を行うようにすれば、移動と測定を兼ねることができ、移動のみに費やす時間を最小限に抑制することができるため、測定全体の所要時間を短縮することが可能となる。
【0073】
（４）フローセルの流路における広い領域でスキャニングがなされるため、従来の粒子計測装置よりも測定全体の所要時間が長くなるものの、現場によっては、測定対象となる試料流体が常に流れたままではなく、流れたり止まったりする場合もあることから、そのような現場においては、次の試料流体が到達するまでの時間を有効活用して測定を行うことが可能である。また、試料流体の流速が遅い場合や、敢えて遅くする場合にも、同様の効果を期待できる。
【0074】
（５）シート状（断面が円形や扁平等の形状）の照射光Ｌａを発する光源を用いることにより、照射光Ｌａの照射により形成される観測領域Ｍを大きくすることができるため、フローセルの流路における広い領域を１回又は数回のスキャニングで測定することができ、測定全体の所要時間を短縮することができる。
【0075】
（６）照射光学系（光源、ミラー等）及び受光光学系（レンズ、受光素子）を複数のステージに分けて配置することにより、全てを同じステージに配置する場合と比較して、１つのステージ上の部品の総重量を減らすことができるため、個々のステージを移動させる上で要求されるスライダの性能が下がり、比較的性能の低いスライダによっても実装が可能となる。結果として、ステージに関連する構成部品のコストを下げることができる。
【0076】
本発明は、上述した実施形態に制約されることなく、種々に変形して実施することが可能である。
【0077】
上述した実施形態においては、光源からの照射光をミラーが反射してフローセルに入射させているが、ミラーとフローセルとの間にレンズを設けてもよい。これにより、照射光を絞り込みエネルギ密度を高めた状態でフローセルの観測領域に集光することが可能となる。また、ミラーもレンズも設けることなく、光源からの照射光を直接フローセルに入射させてもよい。
【0078】
上述した実施形態においては、フローセルの下方に位置するミラーが照射光Ｌａを直上方向に反射することで、照射光Ｌａをフローセルの底面に対し略直角に入射させているが、照射光Ｌａの入射角はこれに限定されず、底面に対し斜めに入射させてもよい。
【0079】
上述した実施形態においては、１つのフローセルを対象としてスキャニングを行っているが、複数のフローセルをＹ方向に整列して配置することにより、マルチフローセルを対象としてスキャニングを行うことが可能である。
【0080】
上述した実施形態においては、フローセルをベースに固定しつつ、照射光学系及び受光光学系（より正確には、これらが固定された各ステージ）を１次元又は２次元方向に移動させることにより、照射光学系と受光光学系との相対的な位置関係を保持したまま観測領域Ｍの位置を変更してスキャニングを行っているが、これとは逆に、照射光学系及び受光光学系をベースに固定しつつ、フローセルを１次元又は２次元方向に移動させることにより、観測領域の位置を変更してスキャニングを行ってもよい。
【0081】
その他、粒子計測装置１００，２００，３００に関する説明の過程で挙げた構成や数値等はあくまで例示であり、本発明の実施に際して適宜に変形が可能であることは言うまでもない。
【符号の説明】
【0082】
１００ 粒子計測装置
１１０ フローセル
１２０ 光源
１３０ ミラー
１４０ 受光光学系
１５０ 流量調整機構
１６０ ステージ
１６３ Ｘ軸スライダ
１６４ Ｙ軸スライダ
１７０ ベース
１９０ 制御ユニット
１９２ 測定制御部（計測制御部）
１１０ フローセル
１２０ 光源
１３０ ミラー
１４０ 受光光学系
１５０ 流量調整機構
１６０ ステージ
１６３ Ｘ軸スライダ
１６４ Ｙ軸スライダ
１７０ ベース
１９０ 制御ユニット
１９２ 測定制御部（計測制御部）
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
