特開 2024-81839 表示装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024081839

(43)【公開日】2024-06-19

(54)【発明の名称】表示装置

(51)【国際特許分類】

   G02F 1/1347 20060101AFI20240612BHJP

【ＦＩ】

G02F1/1347

【審査請求】未請求

【請求項の数】11

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022195303

(22)【出願日】2022-12-07

(71)【出願人】

【識別番号】502356528

【氏名又は名称】株式会社ジャパンディスプレイ

(74)【代理人】

【識別番号】110000350

【氏名又は名称】ポレール弁理士法人

(72)【発明者】

【氏名】廣瀬 敬也

(72)【発明者】

【氏名】大平 啓史

(72)【発明者】

【氏名】石川 誠

【テーマコード（参考）】

2H189

【Ｆターム（参考）】

2H189AA27

2H189AA34

2H189HA16

2H189LA10

2H189LA14

2H189LA15

(57)【要約】

【課題】液晶表示パネルと調光パネルとを有する表示装置における格子状の表示ムラを抑制する。
【解決手段】
液晶表示装置１０と調光パネル２０とを有する表示装置であって、前記液晶表示パネル１０は第１の表示ムラパターンを有し、前記調光パネル２０は第２の表示ムラパターンを有し、前記液晶表示パネル１０の表示領域と前記調光パネル２０の表示領域を重ねた場合、平面で視て、前記第１の表示ムラパターンと前記第２の表示ムラパターンは互いに、横方向あるいは縦方向にずれていることを特徴とする表示装置。
【選択図】図１２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

液晶表示パネルと調光パネルとを有する表示装置であって、
前記液晶表示パネルは第１の表示ムラパターンを有し、前記調光パネルは第２の表示ムラパターンを有し、
前記液晶表示パネルの表示領域と前記調光パネルの表示領域を重ねた場合、平面で視て、前記第１の表示ムラパターンと前記第２の表示ムラパターンは互いに、横方向あるいは縦方向にずれていることを特徴とする表示装置。

【請求項2】

前記液晶表示パネルの表示領域と前記調光パネルの表示領域を重ねた場合、平面で視て、前記第１の表示ムラパターンと前記第２の表示ムラパターンは互いに、横方向及び縦方向にずれていることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。

【請求項3】

前記第１の表示ムラパターンは、第１の格子パターンであり、前記第２の表示ムラパターンは、第２の格子パターンであることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。

【請求項4】

前記表示ムラは輝度ムラであることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。

【請求項5】

前記第１の表示ムラパターンの中心と、前記第２の表示ムラパターンの中心との間隔は、前記第１の表示ムラパターンあるいは前記第２の表示ムラパターンの幅の２倍以上であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。

【請求項6】

前記横方向において、前記第１の格子パターンの格子間隔と、前記第２の格子パターンの格子間隔とは同一であり、
前記縦方向において、前記第１の格子パターンの格子間隔と、前記第２の格子パターンの格子間隔とは同一であることを特徴とする請求項３に記載の表示装置。

【請求項7】

前記第１の格子パターンの格子の幅と、前記第２の格子パターンの格子の幅とは同一であることを特徴とする請求項６に記載の表示装置。

【請求項8】

前記第１の格子パターンと前記第２の格子パターンの前記横方向へのズレは、前記格子パターンの幅よりも大きく、前記格子間隔の半分よりも小さいことを特徴とする請求項７に記載の表示装置。

【請求項9】

前記第１の格子パターンと前記第２の格子パターンの前記横方向へのズレは、前記格子間隔の半分であることを特徴とする請求項７に記載の表示装置。

【請求項10】

前記第１の格子パターンと前記第２の格子パターンの前記縦方向へのズレは、前記格子パターンの幅よりも大きく、前記格子間隔の半分よりも小さいことを特徴とする請求項７に記載の表示装置。

【請求項11】

前記第１の格子パターンと前記第２の格子パターンの前記縦方向へのズレは、前記格子間隔の半分であることを特徴とする請求項７に記載の表示装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、液晶表示パネルを複数重ねて用いることによって、高コントラストを実現するデュアルセル表示装置に関する。

【背景技術】

【0002】

液晶表示装置では画素電極および薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等を有する画素がマトリクス状に形成されたＴＦＴ基板と、ＴＦＴ基板に対向して対向基板が配置され、ＴＦＴ基板と対向基板の間に液晶が挟持されている。そして画素毎に、液晶分子によりバックライトからの光の透過率を制御することによって画像を形成している。液晶表示装置はフラットで軽量であることから、色々な分野で用途が広がっている。

【0003】

黒表示は、バックライトからの光を遮断することによって行うが、液晶表示パネルでは、完全に遮断することは困難である。したがって、液晶表示パネルにおけるコントラストは、１０００：１程度である。特許文献１には、液晶表示パネルを２枚重ねて用いることによって、コントラストを上げる技術が記載されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２００２－１３１７７５号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

コントラストが１０００：１の液晶表示パネルを２枚重ねれば、理論的には、コントラストが１００００００（１Ｍ）：１の表示装置を実現することができる。このような構成の液晶表示装置をデュアルセル表示装置、あるいは、単にデュアルセルという。

【0006】

デュアルセルは、カラー画像を表示する表示パネルと明るさのみを調整する調光セルを用いる。表示パネル、あるいは、調光パネル単独では、表示ムラが発生しない場合であっても、表示パネルと調光パネルを重ねて使用すると表示むらが生ずる場合がある。

【0007】

本発明の課題は、デュアルセルとした場合であても、表示むらが生じない液晶表示装置を実現することである。

【課題を解決するための手段】

【0008】

本発明は上記問題を克服するものであり、具体的な手段は次のとおりである。

【0009】

（１）液晶表示装置と調光パネルを重複して配置したデュアルセル表示装置であって、前記液晶表示パネルは第１の表示ムラパターンを有し、前記調光パネルは第２の表示ムラパターンを有し、前記液晶表示パネルの表示領域と前記調光パネルの表示領域を重ねた場合、平面で視て、前記第１の表示ムラパターンと前記第２の表示ムラパターンは互いに、横方向あるいは縦方向にずれていることを特徴とするデュアルセル表示装置。

【0010】

（２）前記液晶表示パネルの表示領域と前記調光パネルの表示領域を重ねた場合、平面で視て、前記第１の表示ムラパターンと前記第２の表示ムラパターンは互いに、横方向及び縦方向にずれていることを特徴とする（１）に記載のデュアルセル表示装置。

【0011】

（３）前記第１の表示ムラパターンは、第１の格子状パターンであり、前記第２の表示ムラパターンは、第２の格子パターンであることを特徴とする（１）に記載のデュアルセル表示装置。

【0012】

（４）前記横方向において、前記第１の格子パターンの格子間隔と、前記第２の格子パターンの格子間隔とは同一であり、前記縦方向において、前記第１の格子パターンの格子間隔と、前記第２の格子パターンの格子間隔とは同一であることを特徴とする（３）に記載のデュアルセル表示装置。

【0013】

（５）前記第１の格子パターンの格子の幅と、前記第２の格子パターンの格子の幅とは同一であることを特徴とする（４）に記載のデュアルセル表示装置。

【0014】

（６）前記第１の格子パターンと前記第２の格子パターンの前記横方向へのズレは、前記格子パターンの幅よりも大きく、前記格子間隔の半分よりも小さいことを特徴とする（５）に記載のデュアルセル表示装置。

【0015】

（７）前記第１の格子パターンと前記第２の格子パターンの前記横方向へのズレは、前記格子間隔の半分であることを特徴とする（５）に記載のデュアルセル表示装置。

【0016】

（８）前記第１の格子パターンと前記第２の格子パターンの前記縦方向へのズレは、前記格子パターンの幅よりも大きく、前記格子間隔の半分よりも小さいことを特徴とする（５）に記載のデュアルセル表示装置。

【0017】

（９）前記第１の格子パターンと前記第２の格子パターンの前記縦方向へのズレは、前記格子間隔の半分であることを特徴とする（５）に記載のデュアルセル表示装置。

【図面の簡単な説明】

【0018】

【図1】デュアルセル表示装置の分解斜視図である。

【図2】液晶表示装置の平面図と断面図である。

【図3】図１の構成での液晶表示パネルにおける表示ムラの例である。

【図4】ＴＦＴ基板における露光ショットの例である。

【図5】露光ショットの重複部を示す平面図である。

【図6】図５の領域Ａを示す平面図である。

【図7】図５の領域Ｂを示す平面図である。

【図8】図５の領域Ｃを示す平面図である。

【図9A】通常領域における画素電極パターンである。

【図9B】ポジレジストを使用した場合、２重露光ショット領域において、露光が弱すぎた場合の画素電極パターンである。

【図9C】ポジレジストを使用した場合、２重露光ショット領域において、露光がすぎた場合の画素電極パターンである。

【図10A】通常領域における画素電極パターンである。

【図10B】ポジレジストを使用した場合、２重露光ショット領域において、露光が弱すぎた場合の画素電極パターンである。

【図10C】ポジレジストを使用した場合、２重露光ショット領域において、露光がさらに弱すぎた場合の画素電極パターンである。

【図11】従来例のデュアルセル表示装置での表示ムラのメカニズムを示す断面図である。

【図12】本発明によるデュアルセルでの表示ムラの改善メカニズムを示す断面図である。

【図13】本発明による液晶表示パネル用マザーＴＦＴ基板における、露光ショットの例を示す平面図である。

【図14】本発明による調光パネル用マザーＴＦＴ基板における、露光ショットの例を示す平面図である。

【発明を実施するための形態】

【0019】

以下に実施例によって本発明を詳細に説明する。

【実施例0020】

図１は、デュアルセル液晶表示装置の分解斜視図である。図１において、液晶表示パネル１０と調光パネル２０が重ねて使用される。調光パネル２０の構成は、カラーフィルタが無い他は、液晶表示パネル１０と同じである。図１では、液晶表示パネル１０が前面に、調光パネル２０が背面に配置しているが、調光パネル２０が前面に、液晶表示パネル１０が背面に配置した構成でもよい。

【0021】

図１において、調光パネル２０の背面に第１偏光板３１が配置し、第２偏光板３２が調光パネルの前面に配置している。また、第２偏光板と液晶表示パネル１０の間に第３偏光板３１が配置し、第４偏光板３４が液晶表示パネル１０の前面に配置している。バックライトからの光ＢＬは、調光パネル２０及び液晶表示装置１０で変調を受けて第４偏光板３４で最終的に検光されて、出射する。

【0022】

図２は液晶表示パネル１０の構成を示す平面図と断面図である。図２において、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）、画素電極、走査線１０１、映像信号線１０２等を備えたＴＦＴ基板１００に対して、液晶層３００を挟んで対向基板２００が配置している。対向基板２００には、ブラックマトリクス、カラーフィルタ等が形成されている。なお、カラーフィルタはＴＦＴ基板１００側に形成される場合もある。ＴＦＴ基板１００と対向基板２００は周辺において、シール材１５０にて接着し、内部に液晶層３００がシールされる。

【0023】

図２において、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００とが重なった部分に表示領域８０が形成されている。表示領域８０には、走査線１０１が横方向（ｘ方向）に延在し、縦方向（ｙ方向）に配列している。また、映像信号線１０２が縦方向に延在し、横方向に配列している。走査線１０１と映像信号線１０２で囲まれた領域に画素１０３が形成されている。

【0024】

ＴＦＴ基板１００は対向基板２００よりも大きく形成され、ＴＦＴ基板１００の対向基板２００と重なっていない部分には、端子領域９０が形成されている。端子領域９０には、ドライバＩＣ１６０が配置し、また、液晶表示パネル１０に電源や信号を供給するために、フレキシブル配線基板１７０が接続している。

【0025】

ＴＦＴ基板１００と対向基板２００は別々に形成される。すなわち、マザーＴＦＴ基板に多数のＴＦＴ基板１００を形成し、マザー対向基板に多数の対向基板２００を形成する。マザーＴＦＴ基板とマザー対向基板の状態で、貼り合わせを行い、その後、スクライビング等によって、個々の液晶表示パネル１０に分離する。その後、個々の液晶表示パネル１０の端子領域９０にドライバＩＣ１６０を搭載し、また、フレキシブル配線基板１７０を接続する。図２では、液晶表示パネル１０の構成について説明したが、調光パネル２０も、カラーフィルタが無い他は、液晶表示パネル１０と同じである。

【0026】

このようにして形成された図１のデュアルセル表示装置の画面に、図３に示すような格子状のムラ１１が観測された。このムラ１１は、例えば、画面全面に白画面を表示したときに、格子状に輝度ムラ（例えば明るい部分、あるいは、明るい部分）が観測される、等である。このムラ１１は、白画面の階調によっても、目立ち方が異なる。

【0027】

発明者は、このムラ１１は、液晶表示パネル１０あるいは調光パネル２０を形成する際の、露光ショットと関係があることをつきとめた。液晶表示パネル１０も調光パネル２０も同様な製造方法で形成するので、以下では、特に区別する必要のない限り、液晶表示パネル１０を例にとって説明する。液晶表示パネル１０は、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００とで形成されるが、露光によってパターニングされることは同じである。以後の説明では、特に断らない限り、液晶表示パネル１０のＴＦＴ基板１００を例にとって説明する。

【0028】

図４は、ＴＦＴ基板１００における露光ショットの位置を示す平面図である。図４におけるハッチング部が１回の露光（露光ショット）によってカバーする範囲である。本明細書では、これを露光ショット領域１３ともいう。なお、以下の説明では、露光ショット領域１３と露光ショット１３を区別なく使用する場合がある。

【0029】

図４において、点線１２が露光ショットの境界である。すなわち、図４では、ＴＦＴ基板１００の面積よりも、露光ショット領域１３の面積のほうが小さい。図４では、ＴＦＴ基板１００の大部分は、９回の露光ショットによってカバーされるが、周辺も含めると９＋１６＝２５回の露光ショットを必要とする。なお、ＴＦＴ基板１００の周辺における露光ショットの境界１２は、マザー対向基板において、隣接するＴＦＴ基板１００と同時に露光される。

【0030】

図４において、露光ショットと露光ショットの境界１２が問題となる。すなわちこの境界部分で、隙間が生ずると明確なムラが生ずる。したがって、境界１２において、隙間が生じないように、隣接する露光ショット間で重なりが生ずるようにして露光される。

【0031】

図５乃至図８は、境界１２において、ムラが生じないようにするための構成例である。図５に示すように、境界１２は、縦境界Ａ、横境界Ｂ、コーナーＣの３種類がある。図６は、縦境界Ａの詳細図である。図６において、１２は設計上の露光ショット境界である。図６において、左側の露光ショットは、境界１２よりも、ｓ／２だけ右側に張り出して露光している。一方右側の露光ショットは、ｓ／２だけ左側に張り出して露光している。その結果、幅ｓにわたって２重に露光される部分が存在している。２重に露光されれば、パターン寸法が境界以外の部分と大きく異なってしまう。

【0032】

これを避けるために、マスクの端部において、幅ｓにわたって、透過率を低くした領域４０を形成しておく。この透過率は、２重露光された場合に、露光光量が境界部分以外の露光量を同等になるように調整する。透過率を低くする手段は種々存在するが、例えば、小さなモザイク模様を多数、幅ｓにわたって形成することでもよい。

【0033】

図７は、横境界Ｂの詳細図である。図７において、１２は設計上の露光ショット境界である。図７において、上側の露光ショットは、境界１２よりも、ｓ／２だけ下側に張り出して露光している。一方下側の露光ショットは、ｓ／２だけ上側に張り出して露光している。その結果、幅ｓにわたって２重に露光される部分が存在している。２重に露光されれば、パターン寸法が境界以外の部分と大きく異なってしまう。

【0034】

これを避けるために、マスクの端部において、幅ｓにわたって、透過率を低くした領域４０を形成しておく。この透過率は、２重露光された場合に、露光光量が境界部分以外の露光量を同等になるように調整する。

【0035】

図８は、コーナーＣの詳細図である。図８において、正方形状のコーナー部４１は境界部以外の領域の４倍の露光を受けることになる。しかし、遮光効果も４倍、あるいは、領域Ａ及びＢの２倍の遮光効果を受けることになるので、コーナーＣのみのパターンに異常が生ずるわけではない。

【0036】

このような対策によって、液晶表示パネル１０における、露光ショットの境界１２に起因する表示むらは抑え込むことが出来る。調光パネル２０も同様である。すなわち、液晶表示パネル１０だけ、あるいは、調光パネル２０だけであれば、例えば、表示むらは、図５乃至図８に示すような手段によって抑え込むことが出来るが、問題は、デュアルセルのように、液晶表示パネル１０と調光パネル２０を重ね合わせると格子状の表示ムラ１１が現れるということである。

【0037】

発明者は、図３に示す表示ムラは、露光ショットの境界部１２における露光ムラが関係するという推定のもとに、検討を行った。つまり、露光ショットパターンと、表示ムラパターンの形状の関係に問題があると推定した。ところで、露光量とパターン幅の太り、あるいは、細りの関係は、ポジレジストを使用するか、ネガレジストを使用するかによって、異なる。ポジレジストを使用した場合、オーバー露光をした場合は、パターンが太くなる。一方、露光不足であればパターンは細くなる。逆に、ネガレジストを使用した場合は、オーバー露光をした場合は、パターンが細くなり、露光不足であれば、パターンは太くなる。

【0038】

以下の説明では、ポジパターンを使用した場合を例にとって説明する。図９Ａ乃至図９Ｃは、露光量によって、画素電極１０５のパターン幅が変化する様子を示す図である。図９Ａは露光ショットの境界以外の通常領域５０における画素電極の様子である。図９Ｂは、露光ショットの重なり部４０において、露光量が少ないために、画素電極のパターン幅が小さくなった場合である。図９Ｃは、露光ショットの重なり部４０において、露光量が大きいために、画素電極のパターン幅が大きくなった場合である。

【0039】

図１０Ａ乃至図１０Ｃは、露光量によって、画素電極１０５のパターン幅が変化する様子を示す他の例である。図１０Ａは露光ショットの境界以外の通常領域５０における画素電極の様子である。図１０Ｂは、露光ショットの境界部４０において、露光量が少ないために、画素電極のパターン幅が小さくなった場合である。図１０Ｃは、露光量がさらに小さくなったために、画素電極のパターン幅がさらに小さくなった場合である。ここで、図１０Ｂの状態であれば人間の眼には表示ムラとして認識できないが、図１０Ｃの状態であれば人間の眼に表示ムラとして認識される場合がある。

【0040】

すなわち、パターン幅が１０Ｂ程度である場合、液晶表示パネル１０あるいは調光パネル２０だけの場合、表示ムラは認識できないが、図１に示すように、液晶表示パネル１０と調光パネル２０を重複して用いた場合にムラが生ずる場合がある。図１１はこの様子を示すデュアルセルの断面図である。

【0041】

図１１において、矢印の太さは各パネルからの出射光の強度を示す。バックライト４００を出射した光は、まず、調光パネル２０によって制御を受ける。調光パネル２０において、露光ショット領域１３の、境界１２以外の領域５０を通過する領域は正常なパターンによる制御であり、太い矢印で示されている。

【0042】

ここで、露光ショットの境界１２における重複領域４０においては、重複露光時における遮光効果が弱すぎて、パターンが小さくなり、これによるパネルの透過率が低下したと仮定する。この現象を、図１１では、露光ショットの境界１２における重複領域４０を出射する光が細い矢印となることで示している。

【0043】

調光パネル２０を出射した光は液晶表示パネル１０に入射し、さらに制御を受ける。図１１では、調光パネル２０と液晶表示パネル１０とは、全く同じ露光方法によって製造されている。つまり、露光ショットの境界位置１２も調光パネル２０と液晶表示パネルとで、同じ位置となっている。したがって、上記した調光パネルで生じた現象が、液晶表示パネル１０においても同じ位置において生ずる。

【0044】

そうすると、調光パネル２０の境界領域４０で低下した出射光は、液晶表示パネル１０においてさらに低下する。図１１では、この現象を、境界領域４０を出射する矢印がさらに細くなることで表している。つまり、調光パネル２０から出射する光量のムラは人間の眼に認識できない場合であっても、液晶表示パネル１０から出射する光量のムラは人間の眼に認識できる場合があるということである。

【0045】

図１２は本発明の構成を示すデュアルセルの断面図である。図１２において、バックライト４００からの光が調光パネル２０によって制御されるまでは図１１と同じである。すなわち、調光パネル２０において、露光ショット間の境界における、重複露光部４０における遮光効果が大きいために、露光ショットの他の領域５０におけるよりも、調光パネル２０による光量の減少が大きくなっている。図１２におけるｓは露光ショットの重複幅である。

【0046】

図１２において、液晶表示パネル１０における露光ショット間の境界における重複露光部４０の位置は、調光パネル２０における露光ショット間の境界における重複露光部４０の位置とは重複していない。したがって、図１２の構成においては、図１１のような、重複露光部４０が２重に存在することによる、極端なパターン細りは存在しない。図１２においては、３段階の矢印の太さのうち、図１１のような最細の矢印は存在せず、やや細い矢印が２本存在している。

【0047】

つまり、図１２においては、デュアルセルにおいても、液晶表示パネル１０を出射する光量の差は、液晶表示パネル２０が1枚の場合、あるいは、調光パネル２０が1枚の場合と同じ光量差であるから、目視での輝度ムラ、あるいは表示ムラは実質的には生じないことになる。

【0048】

液晶表示パネル１０における２重露光ショット部と調光パネル２０の２重露光ショット部が重ならないということは、図１２において、ｄが０よりも大きいということである。言い換えると、液晶表示パネル１０における２重露光ショット部と調光パネル２０の２重露光ショット部４０の幅がｓであるとした場合、液晶表示パネル１０における２重露光ショット部４０と調光パネル２０の２重露光ショット部４０の中心間距離がｓ以上であるということである。２重露光ショット部４０の幅ｓは、ステッパーの移動精度以上に設定される。また、２重露光ショット部４０の幅ｓは、表示パネル１０及び調光パネル２０の必要パターン精度によっても異なる。これらを勘案して、２重露光ショット部の幅ｓは、例えば２μm以上である。

【0049】

図１２に示すように、理論上は、液晶表示パネル１０と調光パネル２０の２重露光ショットの間隔ｄはゼロ以上でよい。しかし、ｄがゼロに近づくと、２重露光ショットの幅ｓが広がったと同じような効果が生じ、これが表示ムラの原因になることもある。これらの事情を考慮すると、ｄの好ましい値は、ｓの１０倍以上で、出来る限り大きな値にしたほうがよい。

【0050】

ところで、２重露光ショットの幅ｓに起因する表示ムラの幅は、回折や反射の影響によって、２重露光ショットの幅ｓよりも大きくなる。ここで、液晶表示パネル１０と調光パネル２０とで、露光ショットに起因する表示ムラが存在すると仮定した場合、液晶表示パネル１０と調光パネル２０における２重露光ショットの間隔と、液晶表示パネル１０の表示ムラの中心と、調光パネル２０の表示ムラの中心の間隔は、表示ムラの幅の２倍以上離れていることが好ましい。

【0051】

そうすると、液晶表示パネル１０と調光パネル２０における表示ムラの間隔は、図３に示す表示ムラ１１の幅以上となる。したがって、平面的に視ても、液晶表示パネル１０と調光パネル２０における表示ムラが強調されて、デュアルセルおける表示ムラとなる現象は回避することが出来る。

【0052】

ところで、液晶表示パネル１０も調光パネル２０もマザー基板から分離されて形成される。露光はマザー基板の状態で行われる。図１３は、液晶表示パネル１０の、ＴＦＴ基板が多数形成されたマザー基板１１００における露光ショットの一例を示す平面図である。マザー基板１１００には多数のＴＦＴ基板が形成されているが、図１３では、４個分のＴＦＴ基板のみが記載されている。図１３において、１５が個々のＴＦＴ基板の境界である。露光ショット領域１３は、ＴＦＴ基板の面積よりも小さい。点線１２は、露光ショット１３の境界である。露光ショット１３の大きさは、横方向（ｘ方向）がｓｘであり、縦方向（ｙ方向）がｓｙである。

【0053】

図１４は、調光パネルＴＦＴ基板が多数形成されたマザー基板１２００における露光ショット１３の一例を示す平面図である。マザー基板１２００には多数のＴＦＴ基板が形成されているが、図１４では、４個分のＴＦＴ基板のみが記載されている。図１４において、１５が個々のＴＦＴ基板の境界である。露光ショット領域１３は、ＴＦＴ基板の面積よりも小さい。点線１２は、露光ショット１３の境界である。露光ショット１３の大きさは、横方向（ｘ方向）がｓｘであり、縦方向（ｙ方向）がｓｙである。以上は図１３と同じである。

【0054】

図１４が図１３と異なる点は、各露光ショット１３の位置である。図１４において、露光ショット１３の位置は、図１３の露光ショット１３の位置に対して、ｘ方向にｓｘ／２、ｙ方向にｓｙ／２だけずれている。つまり、液晶表示パネル１０におけるショット境界１２と調光パネル２０におけるショット境界１２が最も離れるような構成となっている。

【0055】

以上の説明では、液晶表示パネル１０だけ、あるいは、調光パネル２０だけの表示ムラであれば、例えば、図５乃至図８に示すような手段によって抑え込むことが出来るとしたが、これは、実用的に、人間の眼には、目立たないという意味であり、詳細な測定によれば、液晶表示パネル１０だけ、あるいは、調光パネル２０だけであっても、露光ショットに起因するムラは存在する。なお、この表示ムラは輝度ムラとして現れる場合が多い。

【0056】

本発明によれば、デュアルセルにおいても、表示ムラを実質的に抑え込むことが出来る。あるいは、デュアルセルにおける表示ムラを、液晶表示パネル１０だけ、あるいは、調光パネル２０だけの表示ムラ程度に抑え込むことが出来る。

【0057】

以上の説明では、液晶表示パネル１０と調光パネル２０の間で、露光ショット１３の位置を、縦方向、横方向にいずれにもずらすとして説明したが、目的によっては、縦方向のムラ、あるいは、横方向のムラのみを対策する場合もある。この場合には、露光ショット１３の位置を、縦方向、横方向のいずれかの方向をずらすということでもよい。

【符号の説明】

【0058】

１０…液晶表示パネル、 １１…表示ムラ、 １２…露光ショット境界、 １３…露光ショット領域、 １５…セル（ＴＦＴ基板）境界、 ２０…調光パネル、 ３１…第１偏光板、 ３２…第２偏光板、 ３３…第３偏光板、 ３４…第４偏光板、 ４０…重複露光領域、 ４１…コーナー部重複露光領域、 ５０…通常露光領域、 ８０…表示領域、 ９０…端子領域、 １００…ＴＦＴ基板、 １０１…走査線、 １０２…映像信号線、 １０３…画素、 １０５…画素電極、 １５０…シール材、 １６０…ドライバＩＣ、 １７０…フレキシブル配線基板、 ２００…対向基板、 ３００…液晶層、 ４００…バックライト、 １１００…液晶表示パネルのマザーＴＦＴ基板、 １２００…調光パネルのマザーＴＦＴ基板

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9A】

【図9B】

【図9C】

【図10A】

【図10B】

【図10C】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】