特開 2024-82519 表示装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024082519

(43)【公開日】2024-06-20

(54)【発明の名称】表示装置

(51)【国際特許分類】

   G02F 1/1345 20060101AFI20240613BHJP

   G02F 1/1368 20060101ALI20240613BHJP

   G02F 1/1337 20060101ALI20240613BHJP

【ＦＩ】

G02F1/1345

G02F1/1368

G02F1/1337 525

【審査請求】未請求

【請求項の数】8

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022196426

(22)【出願日】2022-12-08

(71)【出願人】

【識別番号】520487808

【氏名又は名称】シャープディスプレイテクノロジー株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110001036

【氏名又は名称】弁理士法人暁合同特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】小柴 貴裕

(72)【発明者】

【氏名】秋山 泰人

【テーマコード（参考）】

2H092

2H192

2H290

【Ｆターム（参考）】

2H092GA14

2H092GA33

2H092GA35

2H092GA50

2H092GA60

2H092HA04

2H092JA26

2H092KA05

2H092KA08

2H092KA12

2H092NA04

2H092NA25

2H092PA02

2H092QA06

2H192AA24

2H192BB01

2H192BB12

2H192CB05

2H192CB35

2H192CB37

2H192EA22

2H192EA43

2H192FA32

2H192FA34

2H192FA39

2H192FA73

2H192FB22

2H192FB42

2H192GD12

2H192JA33

2H290AA73

2H290BA26

2H290BF13

2H290BF23

2H290CA46

(57)【要約】

【課題】高精細化及び狭額縁化が進行しても配向膜の膜厚ムラを抑制する。
【解決手段】表示装置１１は、第１画素電極２５αと、第１スイッチング素子２４αと、第１配線２７αと、第２画素電極２５βと、第２スイッチング素子２４βと、第２配線２７βと、第３配線４０α，４１αと、第４配線４０β，４１βと、第１絶縁膜３４と、第２絶縁膜３５と、配向膜２９と、を備え、第１配線２７αは、表示領域ＡＡ外に配されて第１絶縁膜３４の下層側に位置する第１引き出し部２７Ｂαを有し、第２配線２７βは、表示領域ＡＡ外にて第１引き出し部２７Ｂαに隣り合って配されて第１絶縁膜３４の上層側で第２絶縁膜３５の下層側に位置する第２引き出し部２７Ｂβを有し、第３配線４０α，４１αは、第１絶縁膜３４の下層側に位置し、第４配線４０β，４１βは、第１絶縁膜３４の上層側で第２絶縁膜３５の下層側に位置する。
【選択図】図９

【特許請求の範囲】

【請求項1】

表示領域内に配される第１画素電極と、
前記表示領域内に配されて前記第１画素電極に接続される第１スイッチング素子と、
前記表示領域の内外にわたって配されて前記第１スイッチング素子に接続される第１配線と、
前記表示領域内に配される第２画素電極と、
前記表示領域内に配されて前記第２画素電極に接続される第２スイッチング素子と、
前記表示領域の内外にわたって配されて前記第２スイッチング素子に接続される第２配線と、
前記表示領域外に配されて前記第１スイッチング素子及び前記第２スイッチング素子とは非接続とされる第３配線と、
前記表示領域外にて前記第３配線に隣り合って配されて前記第１スイッチング素子及び前記第２スイッチング素子とは非接続とされる第４配線と、
第１絶縁膜と、
前記第１絶縁膜よりも上層側に配される第２絶縁膜と、
前記第２絶縁膜よりも上層側に配される配向膜と、を備え、
前記第１配線は、前記表示領域外に配されて前記第１絶縁膜の下層側に位置する第１引き出し部を有し、
前記第２配線は、前記表示領域外にて前記第１引き出し部に隣り合って配されて前記第１絶縁膜の上層側で前記第２絶縁膜の下層側に位置する第２引き出し部を有し、
前記第３配線は、前記第１絶縁膜の下層側に位置し、
前記第４配線は、前記第１絶縁膜の上層側で前記第２絶縁膜の下層側に位置する表示装置。

【請求項2】

前記第１引き出し部、前記第２引き出し部、前記第３配線及び前記第４配線は、複数ずつ備えられており、
前記第１引き出し部と前記第２引き出し部とが１つずつ交互に並んで配され、前記第３配線と前記第４配線とが１つずつ交互に並んで配される請求項１記載の表示装置。

【請求項3】

前記第１引き出し部と前記第２引き出し部とが間隔を空けて配され、前記第３配線と前記第４配線とが、前記第１引き出し部と前記第２引き出し部との間の間隔と同じ間隔を空けて配される請求項１または請求項２記載の表示装置。

【請求項4】

前記表示領域内に配されて前記第１画素電極及び前記第２画素電極と重畳して配される共通電極を備えており、
前記第３配線及び前記第４配線は、前記共通電極に接続されている請求項１または請求項２記載の表示装置。

【請求項5】

前記第３配線及び前記第４配線は、電気的に孤立している請求項１または請求項２記載の表示装置。

【請求項6】

前記第１画素電極、前記第１スイッチング素子、前記第１配線、前記第２画素電極、前記第２スイッチング素子、前記第２配線、前記第３配線、前記第４配線、前記第１絶縁膜、前記第２絶縁膜及び前記配向膜が設けられる第１基板と、
前記第１基板と対向して配される第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に介在する液晶層と、を備える請求項１または請求項２記載の表示装置。

【請求項7】

前記第１配線は、前記表示領域内に配されて第１方向に沿って延在する第１配線本体を有し、
前記第２配線は、前記表示領域内に配されて前記第１方向に沿って延在する第２配線本体を有しており、
前記第１引き出し部及び前記第２引き出し部は、それぞれ前記第１方向と直交する第２方向に対して第１角度傾いており、
前記第３配線及び前記第４配線は、それぞれ前記第２方向に対して前記第１角度よりも大きい第２角度傾く請求項１または請求項２記載の表示装置。

【請求項8】

表示領域内に配される第１画素電極と、
前記表示領域内に配されて前記第１画素電極に接続される第１スイッチング素子と、
前記表示領域の内外にわたって配されて前記第１スイッチング素子に接続される第１配線と、
前記表示領域内に配される第２画素電極と、
前記表示領域内に配されて前記第２画素電極に接続される第２スイッチング素子と、
前記表示領域の内外にわたって配されて前記第２スイッチング素子に接続される第２配線と、
前記表示領域外にて互いに並行して配されて前記第１スイッチング素子及び前記第２スイッチング素子とは非接続とされる複数の第３配線と、
第１絶縁膜と、
前記第１絶縁膜よりも上層側に配される第２絶縁膜と、
前記第２絶縁膜よりも上層側に配される配向膜と、を備え、
前記第１配線は、前記表示領域内に配されて第１方向に沿って延在する第１配線本体と、前記表示領域外に配されて前記第１絶縁膜の下層側に位置する第１引き出し部と、を有し、
前記第２配線は、前記表示領域内に配されて前記第１方向に沿って延在する第２配線本体と、前記表示領域外にて前記第１引き出し部に隣り合って配されて前記第１絶縁膜の上層側で前記第２絶縁膜の下層側に位置する第２引き出し部と、を有し、
前記第１引き出し部及び前記第２引き出し部は、前記第１方向と直交する第２方向に対して第１角度傾き、
複数の前記第３配線は、前記第１絶縁膜の下層側または前記第１絶縁膜の上層側で前記第２絶縁膜の下層側に位置し、前記第２方向に対して前記第１角度よりも大きい第２角度傾く表示装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本明細書が開示する技術は、表示装置に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、表示装置の一例として下記特許文献１に記載の液晶表示装置が知られている。特許文献１に記載の液晶表示装置は、略平行線状の配線群の配線間隔が途中で屈曲して変わるように構成されたデバイス基板を備える。デバイス基板は、間隔が広い配線群の空隙で、間隔が狭い配線群の略延長線上にあたる位置にダミー配線が配置された構成、又は、上層と基板との間に層間膜を有し、間隔が狭い配線群が層間膜上に配置され、間隔が広い配線群が層間膜下に配置され、更に、層間膜上の間隔が狭い配線群の略延長線上にあたる位置にダミー配線が配置された構成を有する。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２００５－３３８１９１号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

上記した特許文献１に記載の液晶表示装置に備わるデバイス基板によれば、配線間隔が途中で屈曲して変わる略平行線状の配線群上に樹脂が塗り広げられる際に、塗布ムラの発生が抑制される、とのことである。しかしながら、近年では、液晶表示装置の高精細化及び狭額縁化の進行に伴って配線を狭ピッチで配列することが求められる傾向にあり、配線の間にダミー配線を設置するスペースを十分に確保するのが難しくなっていた。

【0005】

本明細書に記載の技術は、上記のような事情に基づいて完成されたものであって、高精細化及び狭額縁化が進行しても配向膜の膜厚ムラを抑制することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

（１）本明細書に記載の技術に関わる表示装置は、表示領域内に配される第１画素電極と、前記表示領域内に配されて前記第１画素電極に接続される第１スイッチング素子と、前記表示領域の内外にわたって配されて前記第１スイッチング素子に接続される第１配線と、前記表示領域内に配される第２画素電極と、前記表示領域内に配されて前記第２画素電極に接続される第２スイッチング素子と、前記表示領域の内外にわたって配されて前記第２スイッチング素子に接続される第２配線と、前記表示領域外に配されて前記第１スイッチング素子及び前記第２スイッチング素子とは非接続とされる第３配線と、前記表示領域外にて前記第３配線に隣り合って配されて前記第１スイッチング素子及び前記第２スイッチング素子とは非接続とされる第４配線と、第１絶縁膜と、前記第１絶縁膜よりも上層側に配される第２絶縁膜と、前記第２絶縁膜よりも上層側に配される配向膜と、を備え、前記第１配線は、前記表示領域外に配されて前記第１絶縁膜の下層側に位置する第１引き出し部を有し、前記第２配線は、前記表示領域外にて前記第１引き出し部に隣り合って配されて前記第１絶縁膜の上層側で前記第２絶縁膜の下層側に位置する第２引き出し部を有し、前記第３配線は、前記第１絶縁膜の下層側に位置し、前記第４配線は、前記第１絶縁膜の上層側で前記第２絶縁膜の下層側に位置する。

【0007】

（２）また、上記表示装置は、上記（１）に加え、前記第１引き出し部、前記第２引き出し部、前記第３配線及び前記第４配線は、複数ずつ備えられており、前記第１引き出し部と前記第２引き出し部とが１つずつ交互に並んで配され、前記第３配線と前記第４配線とが１つずつ交互に並んで配されてもよい。

【0008】

（３）また、上記表示装置は、上記（１）または上記（２）に加え、前記第１引き出し部と前記第２引き出し部とが間隔を空けて配され、前記第３配線と前記第４配線とが、前記第１引き出し部と前記第２引き出し部との間の間隔と同じ間隔を空けて配されてもよい。

【0009】

（４）また、上記表示装置は、上記（１）から上記（３）のいずれかに加え、前記表示領域内に配されて前記第１画素電極及び前記第２画素電極と重畳して配される共通電極を備えており、前記第３配線及び前記第４配線は、前記共通電極に接続されてもよい。

【0010】

（５）また、上記表示装置は、上記（１）から上記（４）のいずれかに加え、前記第３配線及び前記第４配線は、電気的に孤立してもよい。

【0011】

（６）また、上記表示装置は、上記（１）から上記（５）のいずれかに加え、前記第１画素電極、前記第１スイッチング素子、前記第１配線、前記第２画素電極、前記第２スイッチング素子、前記第２配線、前記第３配線、前記第４配線、前記第１絶縁膜、前記第２絶縁膜及び前記配向膜が設けられる第１基板と、前記第１基板と対向して配される第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に介在する液晶層と、を備えてもよい。

【0012】

（７）また、上記表示装置は、上記（１）から上記（６）のいずれかに加え、前記第１配線は、前記表示領域内に配されて第１方向に沿って延在する第１配線本体を有し、前記第２配線は、前記表示領域内に配されて前記第１方向に沿って延在する第２配線本体を有しており、前記第１引き出し部及び前記第２引き出し部は、それぞれ前記第１方向と直交する第２方向に対して第１角度傾いており、前記第３配線及び前記第４配線は、それぞれ前記第２方向に対して前記第１角度よりも大きい第２角度傾いてもよい。

【0013】

（８）本明細書に記載の技術に関わる表示装置は、表示領域内に配される第１画素電極と、前記表示領域内に配されて前記第１画素電極に接続される第１スイッチング素子と、前記表示領域の内外にわたって配されて前記第１スイッチング素子に接続される第１配線と、前記表示領域内に配される第２画素電極と、前記表示領域内に配されて前記第２画素電極に接続される第２スイッチング素子と、前記表示領域の内外にわたって配されて前記第２スイッチング素子に接続される第２配線と、前記表示領域外にて互いに並行して配されて前記第１スイッチング素子及び前記第２スイッチング素子とは非接続とされる複数の第３配線と、第１絶縁膜と、前記第１絶縁膜よりも上層側に配される第２絶縁膜と、前記第２絶縁膜よりも上層側に配される配向膜と、を備え、前記第１配線は、前記表示領域内に配されて第１方向に沿って延在する第１配線本体と、前記表示領域外に配されて前記第１絶縁膜の下層側に位置する第１引き出し部と、を有し、前記第２配線は、前記表示領域内に配されて前記第１方向に沿って延在する第２配線本体と、前記表示領域外にて前記第１引き出し部に隣り合って配されて前記第１絶縁膜の上層側で前記第２絶縁膜の下層側に位置する第２引き出し部と、を有し、前記第１引き出し部及び前記第２引き出し部は、前記第１方向と直交する第２方向に対して第１角度傾き、複数の前記第３配線は、前記第１絶縁膜の下層側または前記第１絶縁膜の上層側で前記第２絶縁膜の下層側に位置し、前記第２方向に対して前記第１角度よりも大きい第２角度傾く。

【発明の効果】

【0014】

本明細書に記載の技術によれば、高精細化及び狭額縁化が進行しても配向膜の膜厚ムラを抑制することができる。

【図面の簡単な説明】

【0015】

【図1】実施形態１に係る液晶表示装置を構成する液晶パネル、ドライバ及びフレキシブル基板の平面図

【図2】実施形態１に係る液晶パネル、ドライバ及びフレキシブル基板の断面図

【図3】実施形態１に係る液晶パネルに備わるアレイ基板の表示領域における画素配列を示す回路図

【図4】実施形態１に係る液晶パネルの表示領域における画素電極等の断面図

【図5】実施形態１に係るアレイ基板に備わるＴＦＴの断面図

【図6】実施形態１に係るアレイ基板の平面図

【図7】実施形態１に係る液晶パネルの端部の断面図

【図8】実施形態１に係るアレイ基板の突き出し部付近を拡大した平面図

【図9】実施形態１に係るアレイ基板における図８のix-ix線断面図

【図10】実施形態２に係るアレイ基板の突き出し部付近を拡大した平面図

【図11】実施形態２に係るアレイ基板における図１０のxi-xi線断面図

【図12】実施形態３に係るアレイ基板の突き出し部付近を拡大した平面図

【図13】実施形態３に係るアレイ基板における図１２のxiii-xiii線断面図

【発明を実施するための形態】

【0016】

＜実施形態１＞
実施形態１を図１から図９によって説明する。本実施形態では、液晶表示装置１０について例示する。なお、各図面の一部にはＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸を示しており、各軸方向が各図面で示した方向となるように描かれている。また、図２，図４，図５，図７及び図９の上側を表側とし、同図下側を裏側とする。

【0017】

液晶表示装置１０は、図１に示すように、横長の方形状をなしていて画像を表示可能な液晶パネル（表示装置）１１と、液晶パネル１１に対して表示に利用するための光を照射するバックライト装置（照明装置）と、を少なくとも備える。バックライト装置は、液晶パネル１１に対して裏側（背面側）に配置され、白色の光を発する光源（例えばＬＥＤ等）や光源からの光に光学作用を付与することで面状の光に変換する光学部材等を有する。液晶パネル１１は、画面の中央側部分が、画像が表示される表示領域ＡＡとされる。液晶パネル１１は、画面における表示領域ＡＡを取り囲む枠状（額縁状）の外周側部分が、画像が表示されない非表示領域（表示領域ＡＡ外の領域）ＮＡＡとされる。図１において一点鎖線により囲った範囲が表示領域ＡＡである。

【0018】

液晶パネル１１に関し、図１に加えて図２を参照して説明する。液晶パネル１１は、図１及び図２に示すように、一対の基板２０，２１を貼り合わせてなる。一対の基板２０，２１のうち表側が対向基板（第２基板）２０とされ、裏側がアレイ基板（第１基板）２１とされる。対向基板２０及びアレイ基板２１は、いずれもガラス基板の内面側に各種の膜が積層形成されてなる。一対の基板２０，２１間には、電界印加に伴って光学特性が変化する物質である液晶分子を含む液晶層２２が介在して配される。一対の基板２０，２１の外周端部間には、液晶層２２をシールするシール部２３が介在して設けられている。シール部２３は、液晶層２２を取り囲むよう方形の枠状に形成されている。なお、両基板２０，２１の外面側には、それぞれ偏光板１４が貼り付けられている。

【0019】

アレイ基板２１は、図１及び図２に示すように、対向基板２０よりも大型となっていてその一部が対向基板２０に対して側方に突き出す突き出し部２１Ａとなっている。突き出し部２１Ａは、対向基板２０により覆われずに露出している。突き出し部２１Ａは、全域が非表示領域ＮＡＡであり、各種信号を供給するためのドライバ１２及びフレキシブル基板１３が実装されている。ドライバ１２は、内部に駆動回路を有するＬＳＩチップからなる。ドライバ１２は、アレイ基板２１の突き出し部２１Ａに対してＣＯＧ（Chip On Glass）実装されている。ドライバ１２は、表示領域ＡＡに対してＹ軸方向の片側に隣り合うよう配されており、フレキシブル基板１３と表示領域ＡＡとの間に挟み込まれる配置となっている。ドライバ１２は、平面形状が横長の方形状とされる。ドライバ１２は、突き出し部２１ＡにおいてＸ軸方向について間隔を空けた位置に２つ配されている。ドライバ１２は、フレキシブル基板１３によって伝送される各種信号を処理する。フレキシブル基板１３は、絶縁性及び可撓性を有する基材上に多数本の配線パターンを形成した構成とされる。フレキシブル基板１３は、一端側がアレイ基板２１に、他端側が外部のコントロール基板（信号供給源）に、それぞれ接続されている。コントロール基板から供給される各種信号は、フレキシブル基板１３を介して液晶パネル１１に伝送される。

【0020】

次に、液晶パネル１１における表示領域ＡＡの構成について図３及び図４を用いて説明する。アレイ基板２１の表示領域ＡＡにおける内面側には、図３に示すように、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ、スイッチング素子）２４及び画素電極２５が少なくとも設けられている。ＴＦＴ２４及び画素電極２５は、複数ずつＸ軸方向及びＹ軸方向に沿って間隔を空けて並んでマトリクス状（行列状）に設けられている。これらＴＦＴ２４及び画素電極２５の周りには、互いに直交（交差）するゲート配線（走査配線）２６及びソース配線（画像配線、信号配線）２７が配設されている。ゲート配線２６は、Ｘ軸方向に沿って延在する。ソース配線２７は、Ｙ軸方向に沿って延在する。ＴＦＴ２４は、ゲート配線２６に接続されるゲート電極２４Ａと、ソース配線２７に接続されるソース電極２４Ｂと、画素電極２５に接続されるドレイン電極２４Ｃと、ソース電極２４Ｂ及びドレイン電極２４Ｃに接続されて半導体材料からなる半導体部２４Ｄと、を有する。そして、ＴＦＴ２４は、ゲート配線２６によってゲート電極２４Ａに供給される走査信号に基づいて駆動される。すると、ドライバ１２からソース配線２７によってソース電極２４Ｂに供給される画像信号（データ信号）に係る電位が、半導体部２４Ｄを介してドレイン電極２４Ｃに供給される。その結果、画素電極２５は、画像信号に係る電位に充電される。画素電極２５は、ゲート配線２６とソース配線２７とに取り囲まれた領域に配されており、平面形状が例えば略長方形状とされる。

【0021】

アレイ基板２１の表示領域ＡＡにおける内面側には、図４に示すように、共通電極２８が設けられている。共通電極２８は、画素電極２５よりも上層側に位置しており、表示領域ＡＡのほぼ全域にわたって配されている。これにより、共通電極２８は、表示領域ＡＡに配される全ての画素電極２５に対して重畳する。共通電極２８のうち、複数の画素電極２５に対して重畳する部分には、複数のスリット２８Ａがそれぞれ開口形成されている。共通電極２８には、共通電位（基準電位）とされる共通電位信号が供給されている。ＴＦＴ２４の駆動に伴って画素電極２５がソース配線２７に伝送される画像信号に基づく電位に充電されると、画素電極２５と共通電極２８との間には電位差が生じる。すると、共通電極２８におけるスリット２８Ａの開口縁と画素電極２５との間には、アレイ基板２１の板面に沿う成分に加えて、アレイ基板２１の板面に対する法線方向の成分を含むフリンジ電界（斜め電界）が生じる。従って、このフリンジ電界を利用することで液晶層２２に含まれる液晶分子の配向状態を制御することができ、この液晶分子の配向状態に基づいて所定の表示がなされる。つまり、本実施形態に係る液晶パネル１１は、動作モードがＦＦＳ（Fringe Field Switching）モードとされている。アレイ基板２１の表示領域ＡＡにおける内面側には、液晶層２２に含まれる液晶を配向させるための第１配向膜２９が設けられている。第１配向膜２９は、共通電極２８の上層側に位置し、その上面が液晶層２２に接する。第１配向膜２９は、液晶層２２に臨む上面に光配向処理が施されることで、液晶分子を配向させることができる。

【0022】

対向基板２０の表示領域ＡＡにおける内面側には、図４に示すように、アレイ基板２１に備わる各画素電極２５と重畳する位置に多数個のカラーフィルタ３０が設けられている。カラーフィルタ３０は、赤色（Ｒ），緑色（Ｇ），青色（Ｂ）を呈する３色がＸ軸方向に沿って繰り返し交互に並ぶ配置とされるとともに、それらがＹ軸方向に沿って延在することで、全体としてストライプ状に配列されている。対向基板２０の表示領域ＡＡにおける内面側には、隣り合うカラーフィルタ３０間を仕切ることで混色を防ぐなどのために遮光部（ブラックマトリクス）３１が設けられている。遮光部３１は、非表示領域ＮＡＡにも設けられている。遮光部３１は、表示領域ＡＡではゲート配線２６及びソース配線２７と重畳するよう格子状をなしているものの、非表示領域ＮＡＡではベタ状をなしている。カラーフィルタ３０及び遮光部３１の上層側には、オーバーコート膜３２が形成される。オーバーコート膜３２は、対向基板２０において表示領域ＡＡと非表示領域ＮＡＡとに跨る範囲にわたって概ねベタ状に設けられている。オーバーコート膜３２は、例えばアクリル樹脂（例えばＰＭＭＡ等）等の有機材料からなり、自身よりも下層側に生じた段差を平坦化するのに機能する。オーバーコート膜３２の上層側（対向基板２０の最内面）には、液晶層２２に含まれる液晶を配向させるための第２配向膜３３が設けられている。第２配向膜３３は、対向基板２０の最上層に位置し、その上面が液晶層２２に接する。第２配向膜３３は、液晶層２２に臨む上面に光配向処理が施されることで、液晶分子を配向させることができる。

【0023】

ここで、アレイ基板２１の内面側に積層形成された各種の膜について図５を参照しつつ説明する。アレイ基板２１には、図５に示すように、下層側（ガラス基板側）から順に第１金属膜、第１絶縁膜３４、半導体膜、半導体膜、第１透明電極膜、第２金属膜、第２絶縁膜３５、第２透明電極膜、第１配向膜２９が積層形成されている。

【0024】

第１金属膜及び第２金属膜は、それぞれ銅、チタン、アルミニウム、モリブデン、タングステン等の中から選択される１種類の金属材料からなる単層膜または異なる種類の金属材料からなる積層膜や合金とされることで導電性及び遮光性を有している。第１金属膜は、ゲート配線２６やＴＦＴ２４のゲート電極２４Ａ等を構成する。第２金属膜は、ソース配線２７の全てまたは一部、ＴＦＴ２４のソース電極２４Ｂ及びドレイン電極２４Ｃ等を構成する。第１絶縁膜３４及び第２絶縁膜３５は、それぞれ窒化ケイ素（ＳｉＮ_ｘ）、酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）等の無機材料からなる。第１絶縁膜３４は、下層側の第１金属膜と、上層側の半導体膜、第１透明電極膜及び第２金属膜と、を絶縁状態に保つ。第２絶縁膜３５は、下層側の半導体膜、第１透明電極膜及び第２金属膜と、上層側の第２透明電極膜と、を絶縁状態に保つ。半導体膜は、材料として例えば酸化物半導体、アモルファスシリコン等を用いた薄膜からなり、ＴＦＴ２４の半導体部２４Ｄ等を構成する。第１透明電極膜及び第２透明電極膜は、透明電極材料（例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）やＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）など）からなる。第１透明電極膜は、画素電極２５等を構成する。第２透明電極膜は、共通電極２８等を構成する。第１配向膜２９は、例えばポリイミド等の有機材料からなる。なお、対向基板２０に備わる第２配向膜３３も、第１配向膜２９と同様に、例えばポリイミド等の有機材料からなる。

【0025】

次に、アレイ基板２１における非表示領域ＮＡＡ（表示領域ＡＡ外）の構成について図６から図９を用いて説明する。アレイ基板２１において枠状をなす非表示領域ＮＡＡのうち、突き出し部２１Ａを含む長辺部には、図６に示すように、複数の端子３６～３８が設けられている。複数の端子３６～３８は、ゲート配線２６等と同じ第１金属膜とソース配線２７等と同じ第２金属膜との少なくとも一方に、画素電極２５等と同じ第１透明電極膜と共通電極２８等と同じ第２透明電極膜との少なくとも一方を積層して形成されている。複数の端子３６～３８は、いずれも平面形状が方形とされる。複数の端子３６～３８には、ドライバ１２に接続される入力端子３６及び出力端子３７と、フレキシブル基板１３に接続される端子３８と、が含まれる。このうち、端子３８は、突き出し部２１Ａのうちのフレキシブル基板１３の実装領域に複数がＸ軸方向に沿って直線的に間隔を空けて並んで配されている。複数の端子３８には、フレキシブル基板１３からドライバ１２に供給するための信号が入力される端子３８の他にも、フレキシブル基板１３から共通電位信号が入力される端子３８やグランド電位信号が入力される端子３８等が含まれる。

【0026】

入力端子３６及び出力端子３７は、図６に示すように、非表示領域ＮＡＡである突き出し部２１Ａのうちの各ドライバ１２の実装領域に複数ずつが設けられている。入力端子３６は、ドライバ１２に信号を入力するための端子である。入力端子３６は、ドライバ１２の実装領域のうち、出力端子３７よりもＹ軸方向について表示領域ＡＡから遠い側で端子３８（フレキシブル基板１３）に近い側に位置する。入力端子３６は、複数がＸ軸方向に沿って直線的に間隔を空けて並んで配されている。出力端子３７は、ドライバ１２からの信号の出力を受けるための端子である。なお、ドライバ１２から出力端子３７に出力される信号には、少なくとも画像信号が含まれる。出力端子３７は、ドライバ１２の実装領域のうち、入力端子３６よりもＹ軸方向について表示領域ＡＡに近い側で端子３８（フレキシブル基板１３）から遠い側に位置する。出力端子３７は、複数がＸ軸方向に沿って直線的に間隔を空けて並んで配されている。

【0027】

複数の出力端子３７には、図８に示すように、ソース配線２７の端部が接続されている。ソース配線２７は、表示領域ＡＡと非表示領域ＮＡＡとにわたって配されている。詳しくは、ソース配線２７は、表示領域ＡＡにおいてＹ軸方向（第１方向）に沿って延在する配線本体２７Ａと、非表示領域ＮＡＡにおいて配線本体２７Ａから出力端子３７に至るまで引き回される引き出し部２７Ｂと、からなる。引き出し部２７Ｂのうち、配線本体２７Ａ側とは反対側の端部が出力端子３７に接続されている。なお、図６には、アレイ基板２１のうちのソース配線２７の引き出し部２７Ｂの形成範囲Ａ１を網掛け状にして図示している。複数の引き出し部２７Ｂは、複数の出力端子３７から表示領域ＡＡ（配線本体２７Ａ）に向けて扇状に広がるよう配されている。これにより、引き出し部２７Ｂの形成範囲Ａ１は、図６に示すように、平面形状が略逆台形状となっている。引き出し部２７Ｂは、Ｘ軸方向に対して所定角度傾いている。

【0028】

アレイ基板２１の非表示領域ＮＡＡには、図６及び図７に示すように、第１配向膜２９の成膜範囲を規制する規制溝部３９が設けられている。規制溝部３９は、シール部２３よりも内寄り（表示領域ＡＡの近く）に配されている。規制溝部３９は、シール部２３の全周にわたってシール部２３に沿って延在し、平面に視て方形の枠状の範囲に設けられている。規制溝部３９は、非表示領域ＮＡＡにおいて第１絶縁膜３４及び第２絶縁膜３５を膜厚方向（Ｚ軸方向）に貫通しており、第１絶縁膜３４及び第２絶縁膜３５に開口形成されている。なお、図６には、アレイ基板２１のうちのシール部２３の形成範囲Ａ２を網掛け状にして図示している。また、共通電極２８は、図６に示すように、表示領域ＡＡよりも一回り大きい形成範囲を有しており、その外周端部が非表示領域ＮＡＡに位置している。

【0029】

ここで、アレイ基板２１の製造過程において第１配向膜２９の成膜に際しては、例えばインクジェット式の塗布装置等を用いて第１配向膜２９の材料をアレイ基板２１の表示領域ＡＡにおいて共通電極２８の上層側（第２絶縁膜３５よりも上層側）に塗布する。塗布された第１配向膜２９の材料を流動させることで、アレイ基板２１のうち少なくとも表示領域ＡＡの全域に行き渡らせるようにする。このため、第１配向膜２９の材料としては、粘度が十分に低くて高い流動性を備えるものが用いられる。高い流動性を備える第１配向膜２９の材料は、表示領域ＡＡの外側の非表示領域ＮＡＡにまで広がり、非表示領域ＮＡＡでは第２絶縁膜３５の上面を流動する。非表示領域ＮＡＡにおいて第１配向膜２９の材料は、シール部２３の形成範囲Ａ２に至る手前の位置において、第１絶縁膜３４及び第２絶縁膜３５を部分的に凹ませて設けられる規制溝部３９によってその成膜範囲が規制される。これにより、第１配向膜２９の材料がシール部２３の形成範囲Ａ２に到達するのを回避することができるので、アレイ基板２１を対向基板２０と貼り合わせる際にシール部２３が第１配向膜２９と重畳する配置となって第１配向膜２９と接触する事態を防ぐことができる。第１配向膜２９は、シール部２３に対する密着性が芳しくないことから、上記のようにシール部２３との接触が回避されることで、シール部２３の接着強度が向上し、シール部２３に剥離が生じ難くなる。

【0030】

アレイ基板２１の非表示領域ＮＡＡのうち、突き出し部２１Ａを含む長辺部には、図８に示すように、共通配線４０及びダミー配線４１が設けられている。共通配線４０及びダミー配線４１は、アレイ基板２１の非表示領域ＮＡＡの上記した長辺部のうち、少なくとも２つのドライバ１２の実装領域の間に挟まれた領域（Ｘ軸方向についての中央部）に配されている。なお、共通配線４０及びダミー配線４１は、アレイ基板２１の非表示領域ＮＡＡの上記した長辺部のうち、各ドライバ１２の実装領域に対してＸ軸方向について端側に配されていてもよい。いずれにしても共通配線４０及びダミー配線４１は、ソース配線２７の引き出し部２７Ｂの形成範囲Ａ１に対してＸ軸方向について隣り合う配置とされる。このように、共通配線４０及びダミー配線４１は、アレイ基板２１の非表示領域ＮＡＡの上記した長辺部のうち、ソース配線２７の引き出し部２７Ｂが非形成とされるスペース（範囲）を平面充填する形で配置されている。共通配線４０及びダミー配線４１は、Ｘ軸方向に対して所定角度傾いている。Ｘ軸方向に対する共通配線４０及びダミー配線４１の傾き角度は、Ｘ軸方向に対する引き出し部２７Ｂの傾き角度とほぼ同じとされる。つまり、共通配線４０及びダミー配線４１は、引き出し部２７Ｂと並行している。これにより、互いに隣り合う配置となる共通配線４０と引き出し部２７Ｂとの間の間隔が、長さ方向に沿ってほぼ一定になるとともに、互いに隣り合う配置となるダミー配線４１と引き出し部２７Ｂとの間の間隔が、長さ方向に沿ってほぼ一定になる。従って、アレイ基板２１の非表示領域ＮＡＡの上記した長辺部において引き出し部２７Ｂ、共通配線４０及びダミー配線４１がいずれも非形成とされるスペースを小さく保つことができる。共通配線４０及びダミー配線４１は、アレイ基板２１の非表示領域ＮＡＡの上記した長辺部のうち、表示領域ＡＡと規制溝部３９（図６を参照）との間には少なくとも存在している。共通配線４０及びダミー配線４１は、少なくとも一部が液晶層２２に対して重畳配置されている。

【0031】

共通配線４０は、図８に示すように、一方の端部（表示領域ＡＡに近い側の端部）が、共通電極２８のうち、非表示領域ＮＡＡにある部分（外周端部の一部）に接続されている。共通配線４０は、複数が間隔を空けて並んで配されている。複数の共通配線４０は、互いに並行している。複数の共通配線４０は、他方の端部（共通電極２８に接続される端部とは反対側の端部）が、複数の端子３８のうち、フレキシブル基板１３によって共通電位信号が供給される端子３８にそれぞれ接続されている。複数の共通配線４０は、同電位（共通電位）とされる。共通電極２８には、共通配線４０によって共通電位信号が供給されるようになっている。

【0032】

ダミー配線４１は、図８に示すように、アレイ基板２１に備わる配線や電極等とは非接続であり、電気的に孤立している。ダミー配線４１は、複数が間隔を空けて並んで配されている。複数のダミー配線４１は、互いに並行していて相互が接続されている。複数のダミー配線４１は、特定の信号を伝送する等の電気的な機能を有さない。このように、ダミー配線４１は、電気的に孤立していることから、他の配線や電極等に対して干渉（短絡等）しない範囲において、非表示領域ＮＡＡでの配置自由度が高くなっている。従って、非表示領域ＮＡＡにおいて引き出し部２７Ｂが非配置とされるスペースの多くにダミー配線４１を配置することが可能とされる。これにより、アレイ基板２１の非表示領域ＮＡＡの上記した長辺部において引き出し部２７Ｂ、共通配線４０及びダミー配線４１がいずれも非形成とされるスペースをより小さくすることができる。ここで、非表示領域ＮＡＡのうち、引き出し部２７Ｂ、共通配線４０及びダミー配線４１がいずれも非形成とされる範囲では、引き出し部２７Ｂ、共通配線４０及びダミー配線４１のいずれかが形成される範囲に比べると、第１配向膜２９がＺ軸方向について低い配置となり、液晶層２２の厚みが大きくなる。その点、上記のように、非表示領域ＮＡＡにおいて引き出し部２７Ｂが非配置とされるスペースの多くに共通配線４０及びダミー配線４１が設けられているので、非表示領域ＮＡＡにおける対向基板２０とアレイ基板２１との間の間隔、つまり液晶層２２の厚みを均一化することができる。これにより、液晶層２２に真空気泡が生じ難くなるので、真空気泡に起因する表示品位の低下が抑制される。

【0033】

複数のソース配線２７には、図８及び図９に示すように、第１金属膜と第２金属膜とにより構成される第１ソース配線（第１配線）２７αと、第２金属膜により構成される第２ソース配線（第２配線）２７βと、の２種類が含まれる。第１ソース配線２７αは、第２金属膜からなる第１配線本体２７Ａαと、第１金属膜からなる第１引き出し部２７Ｂαと、を有する。第２ソース配線２７βは、第２金属膜からなる第２配線本体２７Ａβと、第２金属膜からなる第２引き出し部２７Ｂβと、を有する。なお、以下ではソース配線２７、配線本体２７Ａ及び引き出し部２７Ｂを区別する場合には、「第１ソース配線」、「第１配線本体」及び「第１引き出し部」の各符号に添え字αを、「第２ソース配線」、「第２配線本体」及び「第２引き出し部」の各符号に添え字βを付し、区別せずに総称する場合には、符号に添え字を付さないものとする。

【0034】

また、以下ではＴＦＴ２４を区別する場合には、第１ソース配線２７αの第１配線本体２７Ａαに接続されるＴＦＴ２４を「第１ＴＦＴ」としてその符号に添え字αを付し、第２ソース配線２７βの第２配線本体２７Ａβに接続されるＴＦＴ２４を「第２ＴＦＴ」としてその符号に添え字βを付し、区別せずに総称する場合には、符号に添え字を付さないものとする。また、以下では画素電極２５を区別する場合には、第１ＴＦＴ２４αに接続される画素電極２５を「第１画素電極」としてその符号に添え字αを付し、第２ＴＦＴ２４βに接続される画素電極２５を「第２画素電極」としてその符号に添え字βを付し、区別せずに総称する場合には、符号に添え字を付さないものとする。

【0035】

ところで、本実施形態に係るアレイ基板２１は、絶縁膜として有機材料からなる平坦化膜を有さない構成となっている。このため、平坦化膜を有する場合に比べると、アレイ基板２１の内面に係る平坦性が低くなりがちとなっている。アレイ基板２１の内面に係る平坦性が低いと、第１配向膜２９を成膜する際に、塗布された第１配向膜２９の材料に係る流動性が、アレイ基板２１の内面に生じた凹凸に起因して阻害され易い傾向にある。第１配向膜２９の材料に係る流動性が低いと、成膜される第１配向膜２９に膜厚ムラが生じることが懸念される。

【0036】

そこで、本実施形態では、複数ずつの共通配線４０及びダミー配線４１には、図８及び図９に示すように、第１金属膜により構成される第１共通配線（第３配線）４０α及び第１ダミー配線（第３配線）４１αと、第２金属膜により構成される第２共通配線（第４配線）４０β及び第２ダミー配線（第４配線）４１βと、の２種類が含まれる。なお、以下では共通配線４０及びダミー配線４１を区別する場合には、「第１共通配線」及び「第１ダミー配線」の各符号に添え字αを、「第２共通配線」及び「第２ダミー配線」の各符号に添え字βを付し、区別せずに総称する場合には、符号に添え字を付さないものとする。

【0037】

第１金属膜からなる第１引き出し部２７Ｂα、第１共通配線４０α及び第１ダミー配線４１αは、図９に示すように、いずれも第１絶縁膜３４の下層側に配されている。第２金属膜からなる第２引き出し部２７Ｂβ、第２共通配線４０β及び第２ダミー配線４１βは、いずれも第１絶縁膜３４の上層側で第２絶縁膜３５の下層側に配されている。第１引き出し部２７Ｂαと第２引き出し部２７Ｂβとは、互いに隣り合って配されており、第１絶縁膜３４によって相互に絶縁状態に保たれている。これにより、第１引き出し部２７Ｂαと第２引き出し部２７Ｂβとの配列間隔を狭くすることができるので、液晶パネル１１の高精細化及び狭額縁化を図る上で好適となる。その上で、第２引き出し部２７Ｂβは、第１絶縁膜３４の上層側にあることから、第１絶縁膜３４のうちの第１引き出し部２７Ｂαに乗り上げる部分とＺ軸方向について同じ程度の高さの配置となっている。従って、第２絶縁膜３５のうちの第２引き出し部２７Ｂβに乗り上げる部分は、第２絶縁膜３５のうちの第１引き出し部２７Ｂαと重畳する部分とＺ軸方向について同じ程度の高さの配置となる。このように、第２絶縁膜３５のうち、第１引き出し部２７Ｂαと第２引き出し部２７Ｂβとに跨がって配される部分の平坦性が高くなっている。

【0038】

第２共通配線４０βは、図９に示すように、第１絶縁膜３４の上層側にあることから、第１絶縁膜３４のうちの第１共通配線４０αに乗り上げる部分とＺ軸方向について同じ程度の高さの配置となっている。従って、第２絶縁膜３５のうちの第２共通配線４０βに乗り上げる部分は、第２絶縁膜３５のうちの第１共通配線４０αと重畳する部分とＺ軸方向について同じ程度の高さの配置となる。このように、第２絶縁膜３５のうち、第１共通配線４０αと第２共通配線４０βとに跨がって配される部分は、平坦性が高くなるのに加え、第２絶縁膜３５のうち、第１引き出し部２７Ｂαと第２引き出し部２７Ｂβとに跨がって配される部分に近い平坦性となる。第２ダミー配線４１βは、第１絶縁膜３４の上層側にあることから、第１絶縁膜３４のうちの第１ダミー配線４１αに乗り上げる部分とＺ軸方向について同じ程度の高さの配置となっている。従って、第２絶縁膜３５のうちの第２ダミー配線４１βに乗り上げる部分は、第２絶縁膜３５のうちの第１ダミー配線４１αと重畳する部分とＺ軸方向について同じ程度の高さの配置となる。このように、第２絶縁膜３５のうち、第１ダミー配線４１αと第２ダミー配線４１βとに跨がって配される部分は、平坦性が高くなるのに加え、第２絶縁膜３５のうち、第１引き出し部２７Ｂαと第２引き出し部２７Ｂβとに跨がって配される部分に近い平坦性となる。

【0039】

以上のように、アレイ基板２１の非表示領域ＮＡＡのうち、突き出し部２１Ａを含む長辺部での第２絶縁膜３５の平坦性は、図９に示すように、引き出し部２７Ｂ、共通配線４０及びダミー配線４１の各配置領域において均一化が図られている。従って、第２絶縁膜３５よりも上層側に第１配向膜２９を成膜する際、表示領域ＡＡから非表示領域ＮＡＡへと広がる第１配向膜２９の材料の流動が、第２絶縁膜３５のうちの共通配線４０及びダミー配線４１の各配置領域において表面に生じ得る凹凸に起因して妨げられ難くなる。このようにして成膜された第１配向膜２９は、特に表示領域ＡＡの外周端側部分において膜厚にムラが生じ難くなるので、表示領域ＡＡに表示される画像に係る表示品位が良好になる。以上によれば、高精細化及び狭額縁化が進行し、第１引き出し部２７Ｂαと第２引き出し部２７Ｂβとの配列間隔が狭くなっても、第１配向膜２９に膜厚ムラが生じ難くなる。

【0040】

複数の共通配線４０は、図８及び図９に示すように、第１共通配線４０αと第２共通配線４０βとが１つずつ交互に並ぶよう配されている。複数のダミー配線４１は、第１ダミー配線４１αと第２ダミー配線４１βとが１つずつ交互に並ぶよう配されている。このようにすれば、仮に、第１共通配線及び第１ダミー配線と第２共通配線及び第２ダミー配線とが複数ずつ交互に並んで配される場合に比べると、第２絶縁膜３５の平坦性が高くなる。これにより、第２絶縁膜３５よりも上層側に第１配向膜２９を成膜する際、表示領域ＡＡから非表示領域ＮＡＡへと広がる第１配向膜２９の材料の流動が、第２絶縁膜３５の表面に生じ得る凹凸に起因してより妨げられ難くなる。従って、第１配向膜２９に膜厚ムラがより生じ難くなる。

【0041】

互いに隣り合う第１共通配線４０αと第２共通配線４０βとの間には、図８及び図９に示すように、互いに隣り合う第１引き出し部２７Ｂαと第２引き出し部２７Ｂβとの間に空けられる間隔Ｄ１と等しい間隔Ｄ２が空けられている。互いに隣り合う第１ダミー配線４１αと第２ダミー配線４１βとの間には、互いに隣り合う第１共通配線４０αと第２共通配線４０βとの間と同じ間隔Ｄ２が空けられている。このようにすれば、表示領域ＡＡ外において第２絶縁膜３５のうち、第１共通配線４０α及び第１ダミー配線４１αと、第２共通配線４０β及び第２ダミー配線４１βと、のそれぞれと重畳する部分は、第１引き出し部２７Ｂα及び第２引き出し部２７Ｂβと重畳する部分と同等の平坦度合いとなる。これにより、第２絶縁膜３５よりも上層側に第１配向膜２９を成膜する際、表示領域ＡＡから非表示領域ＮＡＡへと広がる第１配向膜２９の材料の流動が、第２絶縁膜３５の表面に生じ得る凹凸に起因してより妨げられ難くなる。また、第１共通配線４０α及び第２共通配線４０βの各線幅は、第１引き出し部２７Ｂα及び第２引き出し部２７Ｂβの各線幅よりも大きい。同様に、第１ダミー配線４１α及び第２ダミー配線４１βの各線幅は、第１引き出し部２７Ｂα及び第２引き出し部２７Ｂβの各線幅よりも大きい。

【0042】

以上説明したように本実施形態の液晶パネル（表示装置）１１は、表示領域ＡＡ内に配される第１画素電極２５αと、表示領域ＡＡ内に配されて第１画素電極２５αに接続される第１ＴＦＴ（第１スイッチング素子）２４αと、表示領域ＡＡの内外にわたって配されて第１ＴＦＴ２４αに接続される第１ソース配線（第１配線）２７αと、表示領域ＡＡ内に配される第２画素電極２５βと、表示領域ＡＡ内に配されて第２画素電極２５βに接続される第２ＴＦＴ（第２スイッチング素子）２４βと、表示領域ＡＡの内外にわたって配されて第２ＴＦＴ２４βに接続される第２ソース配線（第２配線）２７βと、表示領域ＡＡ外に配されて第１ＴＦＴ２４α及び第２ＴＦＴ２４βとは非接続とされる第３配線である第１共通配線４０α及び第１ダミー配線４１αと、表示領域ＡＡ外にて第３配線である第１共通配線４０α及び第１ダミー配線４１αに隣り合って配されて第１ＴＦＴ２４α及び第２ＴＦＴ２４βとは非接続とされる第４配線である第２共通配線４０β及び第２ダミー配線４１βと、第１絶縁膜３４と、第１絶縁膜３４よりも上層側に配される第２絶縁膜３５と、第２絶縁膜３５よりも上層側に配される第１配向膜（配向膜）２９と、を備え、第１ソース配線２７αは、表示領域ＡＡ外に配されて第１絶縁膜３４の下層側に位置する第１引き出し部２７Ｂαを有し、第２ソース配線２７βは、表示領域ＡＡ外にて第１引き出し部２７Ｂαに隣り合って配されて第１絶縁膜３４の上層側で第２絶縁膜３５の下層側に位置する第２引き出し部２７Ｂβを有し、第３配線である第１共通配線４０α及び第１ダミー配線４１αは、第１絶縁膜３４の下層側に位置し、第４配線である第２共通配線４０β及び第２ダミー配線４１βは、第１絶縁膜３４の上層側で第２絶縁膜３５の下層側に位置する。

【0043】

第１ＴＦＴ２４α及び第２ＴＦＴ２４βが駆動されると、第１ソース配線２７α及び第２ソース配線２７βに供給される各信号が第１画素電極２５α及び第２画素電極２５βにそれぞれ供給される。第１画素電極２５α及び第２画素電極２５βは、第１ソース配線２７α及び第２ソース配線２７βに供給される各信号に基づく電位に充電される。充電された第１画素電極２５α及び第２画素電極２５βによって表示領域ＡＡに画像が表示される。

【0044】

第１ソース配線２７αのうちの表示領域ＡＡ外に配される第１引き出し部２７Ｂαは、第１絶縁膜３４の下層側に位置する。これに対し、第２ソース配線２７βのうちの表示領域ＡＡ外に配される第２引き出し部２７Ｂβは、第１引き出し部２７Ｂαに隣り合って配されて第１絶縁膜３４の上層側で第２絶縁膜３５の下層側に位置する。このように、互いに隣り合う第１引き出し部２７Ｂα及び第２引き出し部２７Ｂβは、第１絶縁膜３４によって絶縁状態に保たれている。これにより、第１引き出し部２７Ｂαと第２引き出し部２７Ｂβとの配列間隔を狭くすることができ、高精細化及び狭額縁化を図る上で好適となる。

【0045】

一方、表示領域ＡＡ外に配される第３配線である第１共通配線４０α及び第１ダミー配線４１αは、第１絶縁膜３４の下層側に位置する。これに対し、表示領域ＡＡ外にて第３配線である第１共通配線４０α及び第１ダミー配線４１αに隣り合って配される第４配線である第２共通配線４０β及び第２ダミー配線４１βは、第１絶縁膜３４の上層側で第２絶縁膜３５の下層側に位置する。このようにすれば、仮に、第３配線である第１共通配線４０α及び第１ダミー配線４１α及び第４配線である第２共通配線４０β及び第２ダミー配線４１βがいずれも第１絶縁膜３４の下層側に位置する場合に比べると、第２絶縁膜３５のうち、第３配線である第１共通配線４０α及び第１ダミー配線４１α及び第４配線である第２共通配線４０β及び第２ダミー配線４１βと重畳する部分の平坦性が高くなる。これにより、第２絶縁膜３５よりも上層側に第１配向膜２９を成膜する際、表示領域ＡＡ内から表示領域ＡＡ外へと広がる第１配向膜２９の材料の流動が、第２絶縁膜３５の表面に生じ得る凹凸に起因して妨げられ難くなる。このようにして成膜された第１配向膜２９は、膜厚にムラが生じ難くなるので、表示領域ＡＡに表示される画像に係る表示品位が良好になる。以上によれば、高精細化及び狭額縁化が進行し、第１引き出し部２７Ｂαと第２引き出し部２７Ｂβとの配列間隔が狭くなっても、第１配向膜２９に膜厚ムラが生じ難くなる。

【0046】

また、第１引き出し部２７Ｂα、第２引き出し部２７Ｂβ、第３配線である第１共通配線４０α及び第１ダミー配線４１α、第４配線である第２共通配線４０β及び第２ダミー配線４１βは、複数ずつ備えられており、第１引き出し部２７Ｂαと第２引き出し部２７Ｂβとが１つずつ交互に並んで配され、第３配線である第１共通配線４０α及び第１ダミー配線４１αと第４配線である第２共通配線４０β及び第２ダミー配線４１βとが１つずつ交互に並んで配される。仮に、第１引き出し部と第２引き出し部とが複数ずつ交互に並んで配され、第３配線である第１共通配線及び第１ダミー配線と第４配線である第２共通配線及び第２ダミー配線とが複数ずつ交互に並んで配される場合に比べると、第２絶縁膜３５の平坦性が高くなる。これにより、第２絶縁膜３５よりも上層側に第１配向膜２９を成膜する際、表示領域ＡＡ内から表示領域ＡＡ外へと広がる第１配向膜２９の材料の流動が、第２絶縁膜３５の表面に生じ得る凹凸に起因してより妨げられ難くなる。

【0047】

また、第１引き出し部２７Ｂαと第２引き出し部２７Ｂβとが間隔Ｄ１を空けて配され、第３配線である第１共通配線４０α及び第１ダミー配線４１αと第４配線である第２共通配線４０β及び第２ダミー配線４１βとが、第１引き出し部２７Ｂαと第２引き出し部２７Ｂβとの間の間隔Ｄ１と同じ間隔Ｄ２を空けて配される。このようにすれば、表示領域ＡＡ外において第２絶縁膜３５のうち、第３配線である第１共通配線４０α及び第１ダミー配線４１αと、第４配線である第２共通配線４０β及び第２ダミー配線４１βと、のそれぞれと重畳する部分は、第１引き出し部２７Ｂα及び第２引き出し部２７Ｂβと重畳する部分と同等の平坦度合いとなる。これにより、第２絶縁膜３５よりも上層側に第１配向膜２９を成膜する際、表示領域ＡＡ内から表示領域ＡＡ外へと広がる第１配向膜２９の材料の流動が、第２絶縁膜３５の表面に生じ得る凹凸に起因してより妨げられ難くなる。

【0048】

また、表示領域ＡＡ内に配されて第１画素電極２５α及び第２画素電極２５βと重畳して配される共通電極２８を備えており、第３配線である第１共通配線４０α及び第４配線である第２共通配線４０βは、共通電極２８に接続されている。共通電極２８は、第３配線である第１共通配線４０α及び第４配線である第２共通配線４０βにより供給される信号（共通信号）に基づく電位とされる。共通電極２８と第１画素電極２５αとの間の電位差に基づいて生じる電界や共通電極２８と第２画素電極２５βとの間の電位差に基づいて生じる電界を利用して画像の表示が行われる。

【0049】

また、第３配線である第１ダミー配線４１α及び第４配線である第２ダミー配線４１βは、電気的に孤立している。表示領域ＡＡ外における第３配線である第１ダミー配線４１α及び第４配線である第２ダミー配線４１βの配置自由度が高くなる。従って、表示領域ＡＡ外において第１ソース配線２７α及び第２ソース配線２７βが非配置とされるスペースを平面充填する形で第３配線である第１ダミー配線４１α及び第４配線である第２ダミー配線４１βを配置することができる。

【0050】

また、第１画素電極２５α、第１ＴＦＴ２４α、第１ソース配線２７α、第２画素電極２５β、第２ＴＦＴ２４β、第２ソース配線２７β、第３配線である第１共通配線４０α及び第１ダミー配線４１α、第４配線である第２共通配線４０β及び第２ダミー配線４１β、第１絶縁膜３４、第２絶縁膜３５及び第１配向膜２９が設けられるアレイ基板（第１基板）２１と、アレイ基板２１と対向して配される対向基板（第２基板）２０と、アレイ基板２１と対向基板２０との間に介在する液晶層２２と、を備える。アレイ基板２１の表示領域ＡＡ外には、第１ソース配線２７α及び第２ソース配線２７βに加えて、第３配線である第１共通配線４０α及び第１ダミー配線４１αと第４配線である第２共通配線４０β及び第２ダミー配線４１βとが配されているので、表示領域ＡＡ外におけるアレイ基板２１と対向基板２０との間の間隔、つまり液晶層２２の厚みの均一化を図ることができる。これにより、液晶層２２に真空気泡が生じ難くなるので、真空気泡に起因する表示品位の低下が抑制される。

【0051】

＜実施形態２＞
実施形態２を図１０または図１１によって説明する。この実施形態２では、共通配線１４０及びダミー配線１４１の構成を変更した場合を示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

【0052】

まず、本実施形態に係る引き出し部１２７Ｂは、図１０に示すように、配線本体１２７Ａの延在方向であるＹ軸方向と直交するＸ軸方向（第２方向）に対して第１角度θ１傾いている。互いに隣り合う第１引き出し部１２７Ｂα及び第２引き出し部１２７Ｂβは、Ｘ軸方向に対する傾き角度が同一であり、第１角度θ１となっている。第１角度θ１は、例えば３度～１５度の範囲とされる。

【0053】

これに対し、共通配線（第３配線）１４０及びダミー配線（第３配線）１４１は、図１０に示すように、Ｘ軸方向に対して第１角度θ１よりも大きい第２角度θ２傾いている。第１角度θ１と第２角度θ２との差は、１０度以上とされる。従って、第２角度θ２は、少なくとも１３度以上とされる。複数ずつの共通配線１４０及びダミー配線１４１は、図１１に示すように、いずれも第１金属膜からなる。つまり、全ての共通配線１４０及びダミー配線１４１は、第１絶縁膜１３４の下層側に配されている。

【0054】

このように、本実施形態では、全ての共通配線１４０及びダミー配線１４１が第１金属膜からなるため、膜残りによるパターン不良等を防ぐべく、隣り合う２つの共通配線１４０の間の間隔や隣り合う２つのダミー配線１４１の間の間隔を実施形態１（図９を参照）よりも広くする必要がある。そのため、第２絶縁膜１３５のうち、共通配線１４０及びダミー配線１４１と重畳する部分の平坦性が、第１引き出し部１２７Ｂα及び第２引き出し部１２７Ｂβと重畳する部分の平坦性よりも低くなる傾向にある。その結果、第２絶縁膜１３５よりも上層側に第１配向膜１２９を成膜する際、表示領域ＡＡから非表示領域ＮＡＡへと広がる第１配向膜１２９の材料の流動が、第２絶縁膜１３５のうち、共通配線１４０及びダミー配線１４１と重畳する部分の表面に生じる凹凸に起因して妨げられることが懸念される。その点、複数の第３配線である共通配線１４０及びダミー配線１４１は、Ｘ軸方向に対して第１角度θ１よりも大きい第２角度θ２傾いているから、第１配向膜１２９を成膜する際に第１配向膜１２９の材料を、共通配線１４０及びダミー配線１４１の延在方向に沿って流動し易くすることができる。これにより、成膜された第１配向膜１２９の膜厚にムラが生じ難くなるので、表示領域ＡＡに表示される画像に係る表示品位が良好になる。

【0055】

以上説明したように本実施形態に係る液晶パネル１１１は、表示領域ＡＡ内に配される第１画素電極１２５αと、表示領域ＡＡ内に配されて第１画素電極１２５αに接続される第１ＴＦＴ１２４αと、表示領域ＡＡの内外にわたって配されて第１ＴＦＴ１２４αに接続される第１ソース配線１２７αと、表示領域ＡＡ内に配される第２画素電極１２５βと、表示領域ＡＡ内に配されて第２画素電極１２５βに接続される第２ＴＦＴ１２４βと、表示領域ＡＡの内外にわたって配されて第２ＴＦＴ１２４βに接続される第２ソース配線１２７βと、表示領域ＡＡ外にて互いに並行して配されて第１ＴＦＴ１２４α及び第２ＴＦＴ１２４βとは非接続とされる複数の第３配線である共通配線１４０及びダミー配線１４１と、第１絶縁膜１３４と、第１絶縁膜１３４よりも上層側に配される第２絶縁膜１３５と、第２絶縁膜１３５よりも上層側に配される第１配向膜１２９と、を備え、第１ソース配線１２７αは、表示領域ＡＡ内に配されて第１方向に沿って延在する第１配線本体１２７Ａαと、表示領域ＡＡ外に配されて第１絶縁膜１３４の下層側に位置する第１引き出し部１２７Ｂαと、を有し、第２ソース配線１２７βは、表示領域ＡＡ内に配されて第１方向に沿って延在する第２配線本体１２７Ａβと、表示領域ＡＡ外にて第１引き出し部１２７Ｂαに隣り合って配されて第１絶縁膜１３４の上層側で第２絶縁膜１３５の下層側に位置する第２引き出し部１２７Ｂβと、を有し、第１引き出し部１２７Ｂα及び第２引き出し部１２７Ｂβは、第１方向と直交する第２方向に対して第１角度θ１傾き、複数の第３配線である共通配線１４０及びダミー配線１４１は、第１絶縁膜１３４の下層側または第１絶縁膜１３４の上層側で第２絶縁膜１３５の下層側に位置し、第２方向に対して第１角度θ１よりも大きい第２角度θ２傾く。

【0056】

第１ＴＦＴ１２４α及び第２ＴＦＴ１２４βが駆動されると、第１ソース配線１２７α及び第２ソース配線１２７βに供給される各信号が第１画素電極１２５α及び第２画素電極１２５βにそれぞれ供給される。第１画素電極１２５α及び第２画素電極１２５βは、第１ソース配線１２７α及び第２ソース配線１２７βに供給される各信号に基づく電位に充電される。充電された第１画素電極１２５α及び第２画素電極１２５βによって表示領域ＡＡに画像が表示される。

【0057】

第１ソース配線１２７αのうちの表示領域ＡＡ外に配される第１引き出し部１２７Ｂαは、第１絶縁膜１３４の下層側に位置する。これに対し、第２ソース配線１２７βのうちの表示領域ＡＡ外に配される第２引き出し部１２７Ｂβは、第１引き出し部１２７Ｂαに隣り合って配されて第１絶縁膜１３４の上層側で第２絶縁膜１３５の下層側に位置する。このように、互いに隣り合う第１引き出し部１２７Ｂα及び第２引き出し部１２７Ｂβは、第１絶縁膜１３４によって絶縁状態に保たれている。これにより、第１引き出し部１２７Ｂαと第２引き出し部１２７Ｂβとの配列間隔を狭くすることができ、高精細化及び狭額縁化を図る上で好適となる。

【0058】

一方、表示領域ＡＡ外にて互いに並行して配される複数の第３配線である共通配線１４０及びダミー配線１４１は、第１絶縁膜１３４の下層側または第１絶縁膜１３４の上層側で第２絶縁膜１３５の下層側に位置する。このような構成では、第２絶縁膜１３５のうち、複数の第３配線である共通配線１４０及びダミー配線１４１と重畳する部分の平坦性が、第１引き出し部１２７Ｂα及び第２引き出し部１２７Ｂβと重畳する部分の平坦性よりも低くなる傾向にある。このため、第２絶縁膜１３５よりも上層側に第１配向膜１２９を成膜する際、表示領域ＡＡ内から表示領域ＡＡ外へと広がる第１配向膜１２９の材料の流動が、第２絶縁膜１３５のうち、複数の第３配線である共通配線１４０及びダミー配線１４１と重畳する部分の表面に生じる凹凸に起因して妨げられることが懸念される。その点、複数の第３配線である共通配線１４０及びダミー配線１４１は、第２方向に対して第１角度θ１よりも大きい第２角度θ２傾いているから、第１配向膜１２９を成膜する際に第１配向膜１２９の材料を、複数の第３配線である共通配線１４０及びダミー配線１４１の延在方向に沿って流動し易くすることができる。これにより、成膜された第１配向膜１２９の膜厚にムラが生じ難くなるので、表示領域ＡＡに表示される画像に係る表示品位が良好になる。以上によれば、高精細化及び狭額縁化が進行し、第１引き出し部１２７Ｂαと第２引き出し部１２７Ｂβとの配列間隔が狭くなっても、第１配向膜１２９に膜厚ムラが生じ難くなる。

【0059】

＜実施形態３＞
実施形態３を図１２または図１３によって説明する。この実施形態３では、上記した実施形態１から共通配線２４０及びダミー配線２４１の平面構成を変更した場合を示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。

【0060】

まず、本実施形態に係る引き出し部２２７Ｂは、図１２に示すように、配線本体２２７Ａの延在方向であるＹ軸方向と直交するＸ軸方向（第２方向）に対して第１角度θ１傾いている。互いに隣り合う第１引き出し部２２７Ｂα及び第２引き出し部２２７Ｂβは、Ｘ軸方向に対する傾き角度が同一であり、第１角度θ１となっている。第１角度θ１は、例えば３度～１５度の範囲とされる。

【0061】

これに対し、共通配線２４０及びダミー配線２４１は、図１２に示すように、Ｘ軸方向に対して第１角度θ１よりも大きい第２角度θ２傾いている。第１角度θ１と第２角度θ２との差は、１０度以上とされる。従って、第２角度θ２は、少なくとも１３度以上とされる。複数ずつの共通配線２４０及びダミー配線２４１には、図１３に示すように、第１金属膜からなる第１共通配線２４０α及び第１ダミー配線２４１αと、第２金属膜からなる第２共通配線２４０β及び第２ダミー配線２４１βと、が含まれる。第１共通配線２４０α及び第１ダミー配線２４１αと、第２共通配線２４０β及び第２ダミー配線２４１βと、は、図１２に示すように、それぞれＸ軸方向に対して第２角度θ２傾いている。

【0062】

このような構成によれば、第２絶縁膜２３５よりも上層側に第１配向膜２２９を成膜する際、表示領域ＡＡから非表示領域ＮＡＡへと広がる第１配向膜２２９の材料を、Ｘ軸方向に対して第１角度θ１よりも大きい第２角度θ２傾く第１共通配線２４０α及び第１ダミー配線２４１αと、第２共通配線２４０β及び第２ダミー配線２４１βと、の延在方向に沿って流動し易くすることができる。これにより、成膜された第１配向膜２２９の膜厚にムラがより生じ難くなるので、表示領域ＡＡに表示される画像に係る表示品位がより良好になる。

【0063】

以上説明したように本実施形態によれば、第１ソース配線２２７αは、表示領域ＡＡ内に配されて第１方向に沿って延在する第１配線本体２２７Ａαを有し、第２ソース配線２２７βは、表示領域ＡＡ内に配されて第１方向に沿って延在する第２配線本体２２７Ａβを有しており、第１引き出し部２２７Ｂα及び第２引き出し部２２７Ｂβは、それぞれ第１方向と直交する第２方向に対して第１角度θ１傾いており、第３配線である第１共通配線２４０α及び第１ダミー配線２４１αと、第４配線である第２共通配線２４０β及び第２ダミー配線２４１βと、は、それぞれ第２方向に対して第１角度θ１よりも大きい第２角度θ２傾く。第２絶縁膜２３５よりも上層側に第１配向膜２２９を成膜する際、表示領域ＡＡ内から表示領域ＡＡ外へと広がる第１配向膜２２９の材料を、第２方向に対して第１角度θ１よりも大きい第２角度θ２傾く第３配線である第１共通配線２４０α及び第１ダミー配線２４１αと、第４配線である第２共通配線２４０β及び第２ダミー配線２４１βと、の延在方向に沿って流動し易くすることができる。これにより、成膜された第１配向膜２２９の膜厚にムラがより生じ難くなるので、表示領域ＡＡに表示される画像に係る表示品位がより良好になる。

【0064】

＜他の実施形態＞
本明細書が開示する技術は、上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されず、例えば次のような実施形態も技術的範囲に含まれる。

【0065】

（１）第１引き出し部２７Ｂα，１２７Ｂα，２２７Ｂαと第２引き出し部２７Ｂβ，１２７Ｂβ，２２７Ｂβとが複数ずつ交互に並んで配されてもよい。

【0066】

（２）実施形態１，３に記載の構成において、第１共通配線４０α，２４０αと第２共通配線４０β，２４０βとが複数ずつ交互に並んで配されてもよい。第１ダミー配線４１α，２４１αと第２ダミー配線４１β，２４１βとが複数ずつ交互に並んで配されてもよい。

【0067】

（３）実施形態１，３に記載の構成において、第１共通配線４０α，２４０αと第２共通配線４０β，２４０βとの間の間隔が、第１引き出し部２７Ｂα，２２７Ｂαと第２引き出し部２７Ｂβ，２２７Ｂβとの間の間隔とは異なってもよい。

【0068】

（４）実施形態１，３に記載の構成において、第１ダミー配線４１α，２４１αと第２ダミー配線４１β，２４１βとの間の間隔が、第１引き出し部２７Ｂα，２２７Ｂαと第２引き出し部２７Ｂβ，２２７Ｂβとの間の間隔とは異なってもよい。

【0069】

（５）実施形態１，３に記載の構成において、第１共通配線４０α，２４０αと第２共通配線４０β，２４０βとの間の間隔が、第１ダミー配線４１α，２４１αと第２ダミー配線４１β，２４１βとの間の間隔とは異なってもよい。

【0070】

（６）実施形態１，３に記載の構成において、第１共通配線４０α，２４０α及び第２共通配線４０β，２４０βの各線幅が、第１引き出し部２７Ｂα，２２７Ｂα及び第２引き出し部２７Ｂβ，２２７Ｂβの各線幅と同じでもよい。

【0071】

（７）実施形態２に記載の構成において、複数ずつの共通配線１４０及びダミー配線１４１が、いずれも第２金属膜からなってもよい。つまり、全ての共通配線１４０及びダミー配線１４１が、第１絶縁膜１３４の上層側で第２絶縁膜１３５の下層側に配されてもよい。

【0072】

（８）アレイ基板２１には、ＳＳＤ（Source Shared Driving）回路が備えられてもよい。ＳＳＤ回路は、非表示領域ＮＡＡに配され、ソース配線２７における配線本体２７Ａ，１２７Ａ，２２７Ａと引き出し部２７Ｂ，１２７Ｂ，２２７Ｂとに接続される。ＳＳＤ回路は、ドライバ１２から引き出し部２７Ｂ，１２７Ｂ，２２７Ｂを介して供給される画像信号を、複数の配線本体２７Ａ，１２７Ａ，２２７Ａに振り分けるスイッチ機能等を有している。この場合、複数の配線本体２７Ａ，１２７Ａ，２２７Ａと、１つの引き出し部２７Ｂ，１２７Ｂ，２２７Ｂと、がソース配線を構成することになる。

【0073】

（９）複数ずつの引き出し部２７Ｂ，１２７Ｂ，２２７Ｂ、共通配線４０，１４０，２４０及びダミー配線４１，１４１，２４１の具体的な平面構成（平面に視た配索パターン）は、図示以外にも適宜に変更可能である。

【0074】

（１０）アレイ基板２１の非表示領域ＮＡＡのうち、突き出し部２１Ａを含む長辺部には、共通配線４０，１４０，２４０とダミー配線４１，１４１，２４１とのうちのいずれか一方が配されなくてもよい。

【0075】

（１１）ドライバ１２の設置数は、１つでも３つ以上でもよい。ドライバ１２の設置数が１つの場合は、ソース配線２７の引き出し部２７Ｂ，１２７Ｂ，２２７Ｂに対してＸ軸方向について片側または両側に隣り合う部分に共通配線４０，１４０，２４０やダミー配線４１，１４１，２４１が配置される。

【0076】

（１２）ドライバ１２によって共通電位信号がアレイ基板２１に供給される場合には、共通配線４０は、他方の端部が、複数の出力端子３７のうち、ドライバ１２によって共通電位信号が供給される出力端子３７に接続されてもよい。

【0077】

（１３）ドライバ１２の実装領域に配される複数の出力端子３７は、例えば千鳥状に配列されていてもよい。

【0078】

（１４）各配向膜２９，３３，１２９，２２９は、ラビングにより配向処理がなされてもよい。

【0079】

（１５）対向基板２０及びアレイ基板２１の材料は、ガラス以外にも合成樹脂等であってもよい。

【0080】

（１６）液晶パネル１１，１１１の表示モードは、ＩＰＳモード等でもよい。

【0081】

（１７）液晶パネル１１，１１１の平面形状は、横長の縦長の長方形、正方形、円形、半円形、長円形、楕円形、台形などでもよい。

【符号の説明】

【0082】

１１，１１１…液晶パネル（表示装置）、２０…対向基板（第２基板）、２１…アレイ基板（第１基板）、２２…液晶層、２４α，１２４α…第１ＴＦＴ（第１スイッチング素子）、２４β，１２４β…第２ＴＦＴ（第２スイッチング素子）、２５α，１２５α…第１画素電極、２５β，１２５β…第２画素電極、２７α，１２７α，２２７α…第１ソース配線（第１配線）、２７β，１２７β，２２７β…第２ソース配線（第２配線）、２７Ａα，１２７Ａα，２２７Ａα…第１配線本体、２７Ａβ，１２７Ａβ，２２７Ａβ…第２配線本体、２７Ｂα，１２７Ｂα，２２７Ｂα…第１引き出し部、２７Ｂβ，１２７Ｂβ，２２７Ｂβ…第２引き出し部、２８…共通電極、２９，１２９，２２９…第１配向膜（配向膜）、３４，１３４…第１絶縁膜、３５，１３５，２３５…第２絶縁膜、４０α，２４０α…第１共通配線（第３配線）、４０β，２４０β…第２共通配線（第４配線）、４１α，２４１α…第１ダミー配線（第３配線）、４１β，２４１β…第２ダミー配線（第４配線）、１４０…共通配線（第３配線）、１４１…ダミー配線（第３配線）、ＡＡ…表示領域、Ｄ１，Ｄ２…間隔、θ１…第１角度、θ２…第２角度

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】