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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024082889
(43)【公開日】2024-06-20
(54)【発明の名称】光源装置及び膜厚調整機構
(51)【国際特許分類】
G03F 7/20 20060101AFI20240613BHJP
H05G 2/00 20060101ALI20240613BHJP
【ＦＩ】
G03F7/20 503
H05G2/00 K
【審査請求】未請求
【請求項の数】20
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022197079
(22)【出願日】2022-12-09
(71)【出願人】
【識別番号】000102212
【氏名又は名称】ウシオ電機株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110003339
【氏名又は名称】弁理士法人南青山国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】後藤 直樹
(72)【発明者】
【氏名】藪田 泰伸
【テーマコード（参考）】
2H197
4C092
【Ｆターム（参考）】
2H197CA10
2H197GA01
2H197GA04
2H197GA05
2H197GA06
2H197GA24
2H197HA03
4C092AA06
4C092AB12
4C092AC09
(57)【要約】
【課題】プラズマの発生領域におけるプラズマ原料の膜厚を高い精度で調整可能な光源装置及び膜厚調整機構を提供すること。
【解決手段】本光源装置は、液体原料からプラズマを発生させて放射線を取り出す光源装置であって、回転体と、膜厚調整機構とを具備する。回転体は、液体原料が付着され、回転することでプラズマの発生領域に、付着された液体原料を供給する。膜厚調整機構は、回転体の液体原料が付着される付着面に対向する位置に間隔をあけて配置される膜厚調整部材と、付着面に対向する第１の方向において移動可能となるように膜厚調整部材を支持する支持機構とを有する。支持機構は、第１の方向において付着面から第１の距離離れた第１の調整基準位置から移動する膜厚調整部材を第１の調整基準位置に戻す位置保持機構と、第１の方向において移動する膜厚調整部材の姿勢を保持する姿勢保持機構とを有する。
【選択図】図５
【解決手段】本光源装置は、液体原料からプラズマを発生させて放射線を取り出す光源装置であって、回転体と、膜厚調整機構とを具備する。回転体は、液体原料が付着され、回転することでプラズマの発生領域に、付着された液体原料を供給する。膜厚調整機構は、回転体の液体原料が付着される付着面に対向する位置に間隔をあけて配置される膜厚調整部材と、付着面に対向する第１の方向において移動可能となるように膜厚調整部材を支持する支持機構とを有する。支持機構は、第１の方向において付着面から第１の距離離れた第１の調整基準位置から移動する膜厚調整部材を第１の調整基準位置に戻す位置保持機構と、第１の方向において移動する膜厚調整部材の姿勢を保持する姿勢保持機構とを有する。
【選択図】図５
【特許請求の範囲】
【請求項1】
液体原料からプラズマを発生させて放射線を取り出す光源装置であって、
前記液体原料が付着され、回転することで前記プラズマの発生領域に、付着された前記液体原料を供給する回転体と、
前記回転体の前記液体原料が付着される付着面に対向する位置に間隔をあけて配置される膜厚調整部材と、前記付着面に対向する第１の方向において移動可能となるように前記膜厚調整部材を支持する支持機構とを有する膜厚調整機構と
を具備し、
前記支持機構は、前記第１の方向において前記付着面から第１の距離離れた第１の調整基準位置から移動する前記膜厚調整部材を前記第１の調整基準位置に戻す位置保持機構と、前記第１の方向において移動する前記膜厚調整部材の姿勢を保持する姿勢保持機構とを有する
光源装置。
前記液体原料が付着され、回転することで前記プラズマの発生領域に、付着された前記液体原料を供給する回転体と、
前記回転体の前記液体原料が付着される付着面に対向する位置に間隔をあけて配置される膜厚調整部材と、前記付着面に対向する第１の方向において移動可能となるように前記膜厚調整部材を支持する支持機構とを有する膜厚調整機構と
を具備し、
前記支持機構は、前記第１の方向において前記付着面から第１の距離離れた第１の調整基準位置から移動する前記膜厚調整部材を前記第１の調整基準位置に戻す位置保持機構と、前記第１の方向において移動する前記膜厚調整部材の姿勢を保持する姿勢保持機構とを有する
光源装置。
【請求項2】
請求項１に記載の光源装置であって、
前記支持機構は、前記第１の方向に直交する第２の方向において移動可能となるように前記膜厚調整部材を支持し、
前記位置保持機構は、前記第２の方向において第２の調整基準位置から移動する前記膜厚調整部材を前記第２の調整基準位置に戻し、
前記姿勢保持機構は、前記第２の方向において移動する前記膜厚調整部材の姿勢を保持する
光源装置。
前記支持機構は、前記第１の方向に直交する第２の方向において移動可能となるように前記膜厚調整部材を支持し、
前記位置保持機構は、前記第２の方向において第２の調整基準位置から移動する前記膜厚調整部材を前記第２の調整基準位置に戻し、
前記姿勢保持機構は、前記第２の方向において移動する前記膜厚調整部材の姿勢を保持する
光源装置。
【請求項3】
請求項２に記載の光源装置であって、
前記姿勢保持機構は、固定して配置される基体部材と、前記第１の方向に沿って延在する第１のレール機構を介して、前記基体部材に対して前記第１の方向に移動可能に接続される第１の移動部材とを含み、
前記膜厚調整部材は、前記第１の方向において前記第１の移動部材が移動した場合に前記第１の移動部材と一体的に移動するように、前記第１の移動部材に接続される
光源装置。
前記姿勢保持機構は、固定して配置される基体部材と、前記第１の方向に沿って延在する第１のレール機構を介して、前記基体部材に対して前記第１の方向に移動可能に接続される第１の移動部材とを含み、
前記膜厚調整部材は、前記第１の方向において前記第１の移動部材が移動した場合に前記第１の移動部材と一体的に移動するように、前記第１の移動部材に接続される
光源装置。
【請求項4】
請求項３に記載の光源装置であって、
前記姿勢保持機構は、前記第２の方向に沿って延在する第２のレール機構を介して前記基体部材に対して前記第２の方向に移動可能に接続される第２の移動部材を含み、
前記膜厚調整部材は、前記第２の方向において前記第２の移動部材が移動した場合に前記第２の移動部材と一体的に移動するように、前記第２の移動部材に接続される
光源装置。
前記姿勢保持機構は、前記第２の方向に沿って延在する第２のレール機構を介して前記基体部材に対して前記第２の方向に移動可能に接続される第２の移動部材を含み、
前記膜厚調整部材は、前記第２の方向において前記第２の移動部材が移動した場合に前記第２の移動部材と一体的に移動するように、前記第２の移動部材に接続される
光源装置。
【請求項5】
請求項４に記載の光源装置であって、
前記第１のレール機構は、前記基体部材と前記第１の移動部材との間に構成され、
前記第２のレール機構は、前記第１の移動部材と前記第２の移動部材との間に構成され、
前記第２の移動部材は、前記第１の移動部材を介して前記基体部材に接続され、
前記膜厚調整機構は、前記第２の移動部材を介して前記第１の移動部材に接続される
光源装置。
前記第１のレール機構は、前記基体部材と前記第１の移動部材との間に構成され、
前記第２のレール機構は、前記第１の移動部材と前記第２の移動部材との間に構成され、
前記第２の移動部材は、前記第１の移動部材を介して前記基体部材に接続され、
前記膜厚調整機構は、前記第２の移動部材を介して前記第１の移動部材に接続される
光源装置。
【請求項6】
請求項４に記載の光源装置であって、
前記第２のレール機構は、前記基体部材と前記第２の移動部材との間に構成され、
前記第１のレール機構は、前記第２の移動部材と前記第１の移動部材との間に構成され、
前記第１の移動部材は、前記第２の移動部材を介して前記基体部材に接続され、
前記膜厚調整機構は、前記第１の移動部材を介して前記第２の移動部材に接続される
光源装置。
前記第２のレール機構は、前記基体部材と前記第２の移動部材との間に構成され、
前記第１のレール機構は、前記第２の移動部材と前記第１の移動部材との間に構成され、
前記第１の移動部材は、前記第２の移動部材を介して前記基体部材に接続され、
前記膜厚調整機構は、前記第１の移動部材を介して前記第２の移動部材に接続される
光源装置。
【請求項7】
請求項４に記載の光源装置であって、
前記位置保持機構は、前記第１の方向において固定されている第１の固定部材と、前記第１の固定部材と前記第１の移動部材との間に前記第１の方向に沿って延在するように配置される１以上の第１のばねを含む
光源装置。
前記位置保持機構は、前記第１の方向において固定されている第１の固定部材と、前記第１の固定部材と前記第１の移動部材との間に前記第１の方向に沿って延在するように配置される１以上の第１のばねを含む
光源装置。
【請求項8】
請求項７に記載の光源装置であって、
前記第１の固定部材は、前記第１の方向に直交し前記第１の方向における第１の側に向けられる第１の固定側支持面と、前記第１の方向に直交し前記第１の方向における前記第１の側とは反対側の第２の側に向けられる第２の固定側支持面とを有し、
前記第１の移動部材は、前記第１の方向において前記第１の固定側支持面に対向する第１の移動側支持面と、前記第１の方向において前記第２の固定側支持面に対向する第２の移動側支持面とを有し、
前記第１の固定部材と前記第１の移動部材との間に配置される前記１以上の第１のばねは、前記第１の固定側支持面と前記第１の移動側支持面との間に配置されるコイルばねと、前記第２の固定側支持面と前記第２の移動側支持面との間に配置されるコイルばねとを含む
光源装置。
前記第１の固定部材は、前記第１の方向に直交し前記第１の方向における第１の側に向けられる第１の固定側支持面と、前記第１の方向に直交し前記第１の方向における前記第１の側とは反対側の第２の側に向けられる第２の固定側支持面とを有し、
前記第１の移動部材は、前記第１の方向において前記第１の固定側支持面に対向する第１の移動側支持面と、前記第１の方向において前記第２の固定側支持面に対向する第２の移動側支持面とを有し、
前記第１の固定部材と前記第１の移動部材との間に配置される前記１以上の第１のばねは、前記第１の固定側支持面と前記第１の移動側支持面との間に配置されるコイルばねと、前記第２の固定側支持面と前記第２の移動側支持面との間に配置されるコイルばねとを含む
光源装置。
【請求項9】
請求項７に記載の光源装置であって、
前記位置保持機構は、前記第２の方向において固定されている第２の固定部材と、前記第２の固定部材と前記第２の移動部材との間に前記第２の方向に沿って延在するように配置される１以上の第２のばねを含む
光源装置。
前記位置保持機構は、前記第２の方向において固定されている第２の固定部材と、前記第２の固定部材と前記第２の移動部材との間に前記第２の方向に沿って延在するように配置される１以上の第２のばねを含む
光源装置。
【請求項10】
請求項９に記載の光源装置であって、
前記第２の固定部材は、前記第２の方向に直交し前記第２の方向における第３の側に向けられる第３の固定側支持面と、前記第２の方向に直交し前記第２の方向における前記第３の側とは反対側の第４の側に向けられる第４の固定側支持面とを有し、
前記第２の移動部材は、前記第２の方向において前記第３の固定側支持面に対向する第３の移動側支持面と、前記第２の方向において前記第４の固定側支持面に対向する第４の移動側支持面とを有し、
前記第２の固定部材と前記第２の移動部材との間に配置される前記１以上の第２のばねは、前記第３の固定側支持面と前記第３の移動側支持面との間に配置されるコイルばねと、前記第４の固定側支持面と前記第４の移動側支持面との間に配置されるコイルばねとを含む
光源装置。
前記第２の固定部材は、前記第２の方向に直交し前記第２の方向における第３の側に向けられる第３の固定側支持面と、前記第２の方向に直交し前記第２の方向における前記第３の側とは反対側の第４の側に向けられる第４の固定側支持面とを有し、
前記第２の移動部材は、前記第２の方向において前記第３の固定側支持面に対向する第３の移動側支持面と、前記第２の方向において前記第４の固定側支持面に対向する第４の移動側支持面とを有し、
前記第２の固定部材と前記第２の移動部材との間に配置される前記１以上の第２のばねは、前記第３の固定側支持面と前記第３の移動側支持面との間に配置されるコイルばねと、前記第４の固定側支持面と前記第４の移動側支持面との間に配置されるコイルばねとを含む
光源装置。
【請求項11】
請求項２に記載の光源装置であって、
前記姿勢保持機構は、固定して配置される基体部材と、前記第１の方向において対向するように前記第１の方向に直交して配置される一対の板ばねからなる第１の平行板ばね機構を介して、前記基体部材に対して前記第１の方向に移動可能に接続される第１の移動部材とを含み、
前記膜厚調整部材は、前記第１の方向において前記第１の移動部材が移動した場合に前記第１の移動部材と一体的に移動するように、前記第１の移動部材に接続される
光源装置。
前記姿勢保持機構は、固定して配置される基体部材と、前記第１の方向において対向するように前記第１の方向に直交して配置される一対の板ばねからなる第１の平行板ばね機構を介して、前記基体部材に対して前記第１の方向に移動可能に接続される第１の移動部材とを含み、
前記膜厚調整部材は、前記第１の方向において前記第１の移動部材が移動した場合に前記第１の移動部材と一体的に移動するように、前記第１の移動部材に接続される
光源装置。
【請求項12】
請求項１１に記載の光源装置であって、
前記姿勢保持機構は、固定して配置される基体部材と、前記第２の方向において対向するように前記第２の方向に直交して配置される一対の板ばねからなる第２の平行板ばね機構を介して、前記基体部材に対して前記第２の方向に移動可能に接続される第２の移動部材とを含み、
前記膜厚調整部材は、前記第２の方向において前記第２の移動部材が移動した場合に前記第２の移動部材と一体的に移動するように、前記第２の移動部材に接続される
光源装置。
前記姿勢保持機構は、固定して配置される基体部材と、前記第２の方向において対向するように前記第２の方向に直交して配置される一対の板ばねからなる第２の平行板ばね機構を介して、前記基体部材に対して前記第２の方向に移動可能に接続される第２の移動部材とを含み、
前記膜厚調整部材は、前記第２の方向において前記第２の移動部材が移動した場合に前記第２の移動部材と一体的に移動するように、前記第２の移動部材に接続される
光源装置。
【請求項13】
請求項１２に記載の光源装置であって、
前記第１の平行板ばね機構及び前記第２の平行板ばね機構は、前記位置保持機構として機能する
光源装置。
前記第１の平行板ばね機構及び前記第２の平行板ばね機構は、前記位置保持機構として機能する
光源装置。
【請求項14】
請求項２に記載の光源装置であって、
前記回転体は、円盤状からなり、互いに対向する第１の主面及び第２の主面と、前記第１の主面及び前記第２の主面の間の端面とを有し、
前記端面は、前記液体原料が付着される前記付着面となり、
前記プラズマの発生領域は、前記端面に対する所定の位置に設定され、
前記端面の前記プラズマの発生領域とは異なる位置に膜厚調整の対象となる膜厚調整領域が設定され、
前記膜厚調整領域に対向する方向を前記第１の方向とし、前記第１の主面と前記第２の主面との対向方向を前記第２の方向として、前記膜厚調整機構が構成される
光源装置。
前記回転体は、円盤状からなり、互いに対向する第１の主面及び第２の主面と、前記第１の主面及び前記第２の主面の間の端面とを有し、
前記端面は、前記液体原料が付着される前記付着面となり、
前記プラズマの発生領域は、前記端面に対する所定の位置に設定され、
前記端面の前記プラズマの発生領域とは異なる位置に膜厚調整の対象となる膜厚調整領域が設定され、
前記膜厚調整領域に対向する方向を前記第１の方向とし、前記第１の主面と前記第２の主面との対向方向を前記第２の方向として、前記膜厚調整機構が構成される
光源装置。
【請求項15】
請求項１４に記載の光源装置であって、
前記膜厚調整部材は、前記第１の方向において前記端面に対向する位置に間隔をあけて配置される主調整面と、前記第２の方向において前記第１の主面に対向する位置に間隔をあけて配置される第１の副整面と、前記第２の方向において前記第２の主面に対向する位置に間隔をあけて配置される第２の副調整面とを含み、
前記第２の調整基準位置は、前記第１の主面と前記第１の副調整面との距離、及び前記第２の主面と前記第２の副調整面との距離が、ともに所定の第２の距離よりも小さくなる位置である
光源装置。
前記膜厚調整部材は、前記第１の方向において前記端面に対向する位置に間隔をあけて配置される主調整面と、前記第２の方向において前記第１の主面に対向する位置に間隔をあけて配置される第１の副整面と、前記第２の方向において前記第２の主面に対向する位置に間隔をあけて配置される第２の副調整面とを含み、
前記第２の調整基準位置は、前記第１の主面と前記第１の副調整面との距離、及び前記第２の主面と前記第２の副調整面との距離が、ともに所定の第２の距離よりも小さくなる位置である
光源装置。
【請求項16】
請求項２に記載の光源装置であって、
前記回転体は、円盤状からなり、互いに対向する第１の主面及び第２の主面と、前記第１の主面及び前記第２の主面の間の端面とを有し、
前記第１の主面は、前記液体原料が付着される前記付着面となり、
前記プラズマの発生領域は、前記第１の主面に対する所定の位置に設定され、
前記第１の面の前記プラズマの発生領域とは異なる位置に膜厚調整の対象となる膜厚調整領域が設定され、
前記膜厚調整領域に対向する方向を前記第１の方向とし、前記端面に対向する方向を前記第２の方向として、前記膜厚調整機構が構成される
光源装置。
前記回転体は、円盤状からなり、互いに対向する第１の主面及び第２の主面と、前記第１の主面及び前記第２の主面の間の端面とを有し、
前記第１の主面は、前記液体原料が付着される前記付着面となり、
前記プラズマの発生領域は、前記第１の主面に対する所定の位置に設定され、
前記第１の面の前記プラズマの発生領域とは異なる位置に膜厚調整の対象となる膜厚調整領域が設定され、
前記膜厚調整領域に対向する方向を前記第１の方向とし、前記端面に対向する方向を前記第２の方向として、前記膜厚調整機構が構成される
光源装置。
【請求項17】
請求項２に記載の光源装置であって、
前記回転体は、容器状からなり、底面部と、前記底面部の周縁に配置される外壁部とを有し、
前記外壁部の内周面は、前記液体原料が付着される前記付着面となり、
前記プラズマの発生領域は、前記内周面に対する所定の位置に設定され、
前記内周面の前記プラズマの発生領域とは異なる位置に膜厚調整の対象となる膜厚調整領域が設定され、
前記膜厚調整領域に対向する方向を前記第１の方向とし、前記底面部に対向する方向を前記第２の方向として、前記膜厚調整機構が構成される
光源装置。
前記回転体は、容器状からなり、底面部と、前記底面部の周縁に配置される外壁部とを有し、
前記外壁部の内周面は、前記液体原料が付着される前記付着面となり、
前記プラズマの発生領域は、前記内周面に対する所定の位置に設定され、
前記内周面の前記プラズマの発生領域とは異なる位置に膜厚調整の対象となる膜厚調整領域が設定され、
前記膜厚調整領域に対向する方向を前記第１の方向とし、前記底面部に対向する方向を前記第２の方向として、前記膜厚調整機構が構成される
光源装置。
【請求項18】
請求項１に記載の光源装置であって、さらに、
エネルギービームを照射するビーム源を具備し、
前記エネルギービームの照射を利用して前記液体原料をプラズマ化して前記放射線を取り出す
光源装置。
エネルギービームを照射するビーム源を具備し、
前記エネルギービームの照射を利用して前記液体原料をプラズマ化して前記放射線を取り出す
光源装置。
【請求項19】
請求項１８に記載の光源装置であって、
ＬＰＰ（Laser Produced Plasma）方式の光源装置、又はＬＤＰ（Laser Assisted Discharge Produced Plasma）方式の光源装置として構成される
光源装置。
ＬＰＰ（Laser Produced Plasma）方式の光源装置、又はＬＤＰ（Laser Assisted Discharge Produced Plasma）方式の光源装置として構成される
光源装置。
【請求項20】
プラズマを発生させるための液体原料が付着され、回転することで前記プラズマの発生領域に、付着された前記液体原料を供給する回転体に用いられる膜厚調整機構であって、
前記回転体の前記液体原料が付着される付着面に対向する位置に間隔をあけて配置される膜厚調整部材と、
前記付着面に対向する第１の方向において移動可能となるように前記膜厚調整部材を支持する支持機構と
を具備し、
前記支持機構は、前記第１の方向において前記付着面から第１の距離離れた第１の調整基準位置から移動する前記膜厚調整部材を前記第１の調整基準位置に戻す位置保持機構と、前記第１の方向において移動する前記膜厚調整部材の姿勢を保持する姿勢保持機構とを有する
膜厚調整機構。
前記回転体の前記液体原料が付着される付着面に対向する位置に間隔をあけて配置される膜厚調整部材と、
前記付着面に対向する第１の方向において移動可能となるように前記膜厚調整部材を支持する支持機構と
を具備し、
前記支持機構は、前記第１の方向において前記付着面から第１の距離離れた第１の調整基準位置から移動する前記膜厚調整部材を前記第１の調整基準位置に戻す位置保持機構と、前記第１の方向において移動する前記膜厚調整部材の姿勢を保持する姿勢保持機構とを有する
膜厚調整機構。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、Ｘ線や極端紫外光等の出射に適用可能な光源装置、及び膜厚調整機構に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、半導体集積回路の微細化、高集積化につれて、露光用光源の短波長化が進められている。次世代の半導体露光用光源としては、特に波長１３．５ｎｍの極端紫外光（以下、「ＥＵＶ（Extreme Ultra Violet）光」ともいう）を放射する極端紫外光光源装置（以下、「ＥＵＶ光源装置」ともいう）の開発が進められている。
【0003】
ＥＵＶ光源装置において、ＥＵＶ光（ＥＵＶ放射）を発生させる方法はいくつか知られている。それらの方法のうちの一つに極端紫外光放射種（以下、ＥＵＶ放射種ともいう）を加熱して励起することにより高温プラズマを発生させ、高温プラズマからＥＵＶ光を取り出す方法がある。
【0004】
このような方法を採用するＥＵＶ光源装置は、高温プラズマの生成方式により、ＬＰＰ（Laser Produced Plasma：レーザ生成プラズマ）方式と、ＤＰＰ（Discharge Produced Plasma：放電生成プラズマ）方式とに分けられる。
【0005】
ＤＰＰ方式のＥＵＶ光源装置は、ＥＵＶ放射種（気相のプラズマ原料）を含む放電ガスが供給された電極間に高電圧を印加して、放電により高密度高温プラズマを生成し、そこから放射される極端紫外光を利用するものである。
【0006】
ＤＰＰ方式としては、放電を発生させる電極（放電電極）表面にＥＵＶ放射種を含む液体状のプラズマ原料（例えば、Ｓｎ（スズ）やＬｉ（リチウム）等）を供給し、当該原料に対してレーザビーム等のエネルギービームを照射して当該原料を気化し、その後、放電によって高温プラズマを生成する方法が提案されている。このような方式は、ＬＤＰ（Laser Assisted Discharge Produced Plasma）方式と称されることもある。
【0007】
一方、ＬＰＰ方式のＥＵＶ光源装置は、レーザビーム等のエネルギービームをターゲット材料に照射し、当該ターゲット材料を励起させてプラズマを生成するものである。
【0008】
ＥＵＶ光源装置は、半導体デバイス製造における半導体露光装置（リソグラフィ装置）の光源装置として使用される。あるいは、ＥＵＶ光源装置は、リソグラフィに使用されるマスクの検査装置の光源装置として使用される。
【0009】
例えばマスク検査装置は、ＥＵＶ光源装置から放出されるＥＵＶ光を検査光として、マスクのブランクス検査またはパターン検査を行う。ＥＵＶ光を用いることにより、５ｎｍ～７ｎｍプロセスに対応することができる。その他、ＥＵＶ光源装置を、ＥＵＶ光を利用する他の任意の光学系装置（利用装置）の光源装置として使用することが可能である。
【0010】
特許文献１には、ガス放電プラズマを用いた短波長電磁放射生成装置について開示されている。当該短波長電磁放射生成装置では、上記したＬＤＰ方式により高温プラズマが生成され、ＥＵＶ光の放射が実現されている。
【0011】
特許文献１の図１等に示されるように、互いに反対方向に回転する２つのディスク状の電極が並ぶように配置される。２つの電極の各々は、下方側の領域が、液体状のプラズマ原料（例えば、液体状のスズ）が貯留された貯蔵部に浸されている。電極が回転すると、電極の貯蔵部に浸されていた部分にはプラズマ原料が塗布され膜が形成される。そして、電極に塗布されたプラズマ原料が、２つの電極が最も近接している位置に設定された放電領域に輸送される。
【0012】
放電領域では、輸送されたプラズマ原料が、レーザビームの照射によってエネルギーの作用を受けて気化する。そうると、２つの電極の間でトリガされた電気放電により、気化されたプラズマ原料を通じて電流が流れ始め高温プラズマが発生する。発生した高温プラズマが圧縮されると所望のＥＵＶ光が放出される。
【0013】
放電領域にて発生する放電の電流量は、電極の表面を侵食するほど非常に大きい。従ってプラズマ原料の膜を、電極を保護するコーティング膜としても作用させる。これにより、電極の摩耗を防止することが可能となり、ＥＵＶ光の発生に必要な大きな放電を繰り返し行うことが可能となっている。
【0014】
また、一部が貯蔵部に浸されている電極を回転させることで、電極の表面に連続的に新たなプラズマ原料の膜を再生することが可能となり、放電領域に連続的にプラズマ原料を供給することが可能となる。さらに、電極の一部がプラズマ原料に浸されているため、電極が回転するたびに電極表面を冷却することが可能である。この結果、長期間の安定した高温プラズマの生成とＥＵＶ光の放射とを実現することが可能である。
【0015】
さらに、高温プラズマの生成とＥＵＶ光の放射の安定性を高めるためには、電極に塗布されるプラズマ原料の量、つまり電極に塗布されるプラズマ原料の膜厚を適量に、かつ一定にする必要がある。このような均一な膜厚の塗布を実現するためには、電極の回転数の制御だけでは難しい。特許文献１には、電極の回転周波数が高くなっても電極表面上のプラズマ原料の均一な膜厚を保証することが可能なストリッパについて開示されている。
【0016】
特許文献２には、放射線（Ｘ線、ＥＵＶ）発生用のプラズマ原料が供給された回転体において、当該回転体におけるプラズマ原料供給領域にエネルギービーム（レーザビーム）を照射して放射線を得る方法が提案されている。
【0017】
特許文献２の図１や図２等に示されるように、坩堝からなる容器内に固体状のプラズマ原料が投入され、ヒータにより溶融される。溶融された液体状のプラズマ原料は容器の底部に形成された溝に溜まる。容器が回転することで、遠心力により、溝に溜まった液体状のプラズマ原料が容器の内周面に拡げられる。容器の内周面に拡げられたプラズマ原料にエネルギービームを照射することで高温プラズマが発生され、放射線が放射される。
【0018】
特許文献２に記載の方法をＥＵＶ光源装置に適用した場合、所謂ＬＰＰ方式に相当するが、液体状のプラズマ原料をドロップレットとして供給する必要がない。そのため、プラズマ原料の供給が容易で、かつ確実に液体状のプラズマ原料にエネルギービームを照射することが可能となり、比較的簡易な構成の装置でＥＵＶ放射を得ることが可能となる。
【0019】
特許文献２に記載のようなＬＰＰ方式のＥＵＶ光源装置おいても、高温プラズマの生成とＥＵＶ光の放射の安定性を高めるためには、プラズマ原料の膜厚を均一にすることが重要となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0020】
【特許文献1】特開２０１４－８２２０６号公報
【特許文献2】特開２０２１－１９２４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0021】
特許文献１や特許文献２に記載のような、Ｘ線やＥＵＶ光等の放射線を放射する光源装置において、プラズマの発生領域におけるプラズマ原料の膜厚を高い精度で調整可能な技術が求められている。
【0022】
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、プラズマの発生領域におけるプラズマ原料の膜厚を高い精度で調整可能な光源装置及び膜厚調整機構を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0023】
上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る光源装置は、液体原料からプラズマを発生させて放射線を取り出す光源装置であって、回転体と、膜厚調整機構とを具備する。
前記回転体は、前記液体原料が付着され、回転することで前記プラズマの発生領域に、付着された前記液体原料を供給する。
前記膜厚調整機構は、前記回転体の前記液体原料が付着される付着面に対向する位置に間隔をあけて配置される膜厚調整部材と、前記付着面に対向する第１の方向において移動可能となるように前記膜厚調整部材を支持する支持機構とを有する。
前記支持機構は、前記第１の方向において前記付着面から第１の距離離れた第１の調整基準位置から移動する前記膜厚調整部材を前記第１の調整基準位置に戻す位置保持機構と、前記第１の方向において移動する前記膜厚調整部材の姿勢を保持する姿勢保持機構とを有する。
前記回転体は、前記液体原料が付着され、回転することで前記プラズマの発生領域に、付着された前記液体原料を供給する。
前記膜厚調整機構は、前記回転体の前記液体原料が付着される付着面に対向する位置に間隔をあけて配置される膜厚調整部材と、前記付着面に対向する第１の方向において移動可能となるように前記膜厚調整部材を支持する支持機構とを有する。
前記支持機構は、前記第１の方向において前記付着面から第１の距離離れた第１の調整基準位置から移動する前記膜厚調整部材を前記第１の調整基準位置に戻す位置保持機構と、前記第１の方向において移動する前記膜厚調整部材の姿勢を保持する姿勢保持機構とを有する。
【0024】
この光源装置では、液体原料（液体状のプラズマ原料）が付着される付着面に対向する位置に間隔をあけて膜厚調整部材が配置され、支持機構により付着面に対向する第１の方向において移動可能となるように膜厚調整部材が支持される。また支持機構は、第１の方向において移動する膜厚調整部材を第１の調整基準位置に戻す位置保持機構と、第１の方向において移動する膜厚調整部材の姿勢を保持する姿勢保持機構とを有する。これにより、プラズマの発生領域における液体原料の膜厚を高い精度で調整することが可能となる。
【0025】
前記支持機構は、前記第１の方向に直交する第２の方向において移動可能となるように前記膜厚調整部材を支持してもよい。この場合、前記位置保持機構は、前記第２の方向において第２の調整基準位置から移動する前記膜厚調整部材を前記第２の調整基準位置に戻してもよい。また前記姿勢保持機構は、前記第２の方向において移動する前記膜厚調整部材の姿勢を保持してもよい。
【0026】
前記姿勢保持機構は、固定して配置される基体部材と、前記第１の方向に沿って延在する第１のレール機構を介して、前記基体部材に対して前記第１の方向に移動可能に接続される第１の移動部材とを含んでもよい。この場合、前記膜厚調整部材は、前記第１の方向において前記第１の移動部材が移動した場合に前記第１の移動部材と一体的に移動するように、前記第１の移動部材に接続されてもよい。
【0027】
前記姿勢保持機構は、前記第２の方向に沿って延在する第２のレール機構を介して前記基体部材に対して前記第２の方向に移動可能に接続される第２の移動部材を含んでもよい。この場合、前記膜厚調整部材は、前記第２の方向において前記第２の移動部材が移動した場合に前記第２の移動部材と一体的に移動するように、前記第２の移動部材に接続されてもよい。
【0028】
前記第１のレール機構は、前記基体部材と前記第１の移動部材との間に構成されてもよい。この場合、前記第２のレール機構は、前記第１の移動部材と前記第２の移動部材との間に構成されてもよい。また前記第２の移動部材は、前記第１の移動部材を介して前記基体部材に接続されてもよい。また前記膜厚調整機構は、前記第２の移動部材を介して前記第１の移動部材に接続されてもよい。
【0029】
前記第２のレール機構は、前記基体部材と前記第２の移動部材との間に構成されてもよい。この場合、前記第１のレール機構は、前記第２の移動部材と前記第１の移動部材との間に構成されてもよい。また前記第１の移動部材は、前記第２の移動部材を介して前記基体部材に接続されてもよい。また前記膜厚調整機構は、前記第１の移動部材を介して前記第２の移動部材に接続されてもよい。
【0030】
前記位置保持機構は、前記第１の方向において固定されている第１の固定部材と、前記第１の固定部材と前記第１の移動部材との間に前記第１の方向に沿って延在するように配置される１以上の第１のばねを含んでもよい。
【0031】
前記第１の固定部材は、前記第１の方向に直交し前記第１の方向における第１の側に向けられる第１の固定側支持面と、前記第１の方向に直交し前記第１の方向における前記第１の側とは反対側の第２の側に向けられる第２の固定側支持面とを有してもよい。この場合、前記第１の移動部材は、前記第１の方向において前記第１の固定側支持面に対向する第１の移動側支持面と、前記第１の方向において前記第２の固定側支持面に対向する第２の移動側支持面とを有してもよい。また前記第１の固定部材と前記第１の移動部材との間に配置される前記１以上の第１のばねは、前記第１の固定側支持面と前記第１の移動側支持面との間に配置されるコイルばねと、前記第２の固定側支持面と前記第２の移動側支持面との間に配置されるコイルばねとを含んでもよい。
【0032】
前記位置保持機構は、前記第２の方向において固定されている第２の固定部材と、前記第２の固定部材と前記第２の移動部材との間に前記第２の方向に沿って延在するように配置される１以上の第２のばねを含んでもよい。
【0033】
前記第２の固定部材は、前記第２の方向に直交し前記第２の方向における第３の側に向けられる第３の固定側支持面と、前記第２の方向に直交し前記第２の方向における前記第３の側とは反対側の第４の側に向けられる第４の固定側支持面とを有してもよい。この場合、前記第２の移動部材は、前記第２の方向において前記第３の固定側支持面に対向する第３の移動側支持面と、前記第２の方向において前記第４の固定側支持面に対向する第４の移動側支持面とを有してもよい。また前記第２の固定部材と前記第２の移動部材との間に配置される前記１以上の第２のばねは、前記第３の固定側支持面と前記第３の移動側支持面との間に配置されるコイルばねと、前記第４の固定側支持面と前記第４の移動側支持面との間に配置されるコイルばねとを含んでもよい。
【0034】
前記姿勢保持機構は、固定して配置される基体部材と、前記第１の方向において対向するように前記第１の方向に直交して配置される一対の板ばねからなる第１の平行板ばね機構を介して、前記基体部材に対して前記第１の方向に移動可能に接続される第１の移動部材とを含んでもよい。この場合、前記膜厚調整部材は、前記第１の方向において前記第１の移動部材が移動した場合に前記第１の移動部材と一体的に移動するように、前記第１の移動部材に接続されてもよい。
【0035】
前記姿勢保持機構は、固定して配置される基体部材と、前記第２の方向において対向するように前記第２の方向に直交して配置される一対の板ばねからなる第２の平行板ばね機構を介して、前記基体部材に対して前記第２の方向に移動可能に接続される第２の移動部材とを含んでもよい。この場合、前記膜厚調整部材は、前記第２の方向において前記第２の移動部材が移動した場合に前記第２の移動部材と一体的に移動するように、前記第２の移動部材に接続されてもよい。
【0036】
前記第１の平行板ばね機構及び前記第２の平行板ばね機構は、前記位置保持機構として機能してもよい。
【0037】
前記回転体は、円盤状からなり、互いに対向する第１の主面及び第２の主面と、前記第１の主面及び前記第２の主面の間の端面とを有してもよい。この場合、前記端面は、前記液体原料が付着される前記付着面となってもよい。また前記プラズマの発生領域は、前記端面に対する所定の位置に設定されてもよい。また前記端面の前記プラズマの発生領域とは異なる位置に膜厚調整の対象となる膜厚調整領域が設定されてもよい。また前記膜厚調整領域に対向する方向を前記第１の方向とし、前記第１の主面と前記第２の主面との対向方向を前記第２の方向として、前記膜厚調整機構が構成されてもよい。
【0038】
前記膜厚調整部材は、前記第１の方向において前記端面に対向する位置に間隔をあけて配置される主調整面と、前記第２の方向において前記第１の主面に対向する位置に間隔をあけて配置される第１の副整面と、前記第２の方向において前記第２の主面に対向する位置に間隔をあけて配置される第２の副調整面とを含んでもよい。この場合、前記第２の調整基準位置は、前記第１の主面と前記第１の副調整面との距離、及び前記第２の主面と前記第２の副調整面との距離が、ともに所定の第２の距離よりも小さくなる位置であってもよい。
【0039】
前記回転体は、円盤状からなり、互いに対向する第１の主面及び第２の主面と、前記第１の主面及び前記第２の主面の間の端面とを有してもよい。この場合、前記第１の主面は、前記液体原料が付着される前記付着面となってもよい。また前記プラズマの発生領域は、前記第１の主面に対する所定の位置に設定されてもよい。また前記第１の面の前記プラズマの発生領域とは異なる位置に膜厚調整の対象となる膜厚調整領域が設定されてもよい。また前記膜厚調整領域に対向する方向を前記第１の方向とし、前記端面に対向する方向を前記第２の方向として、前記膜厚調整機構が構成されてもよい。
【0040】
前記回転体は、容器状からなり、底面部と、前記底面部の周縁に配置される外壁部とを有してもよい。この場合、前記外壁部の内周面は、前記液体原料が付着される前記付着面となってもよい。また前記プラズマの発生領域は、前記内周面に対する所定の位置に設定されてもよい。前記内周面の前記プラズマの発生領域とは異なる位置に膜厚調整の対象となる膜厚調整領域が設定されてもよい。前記膜厚調整領域に対向する方向を前記第１の方向とし、前記底面部に対向する方向を前記第２の方向として、前記膜厚調整機構が構成されてもよい。
【0041】
前記光源装置は、さらに、エネルギービームを照射するビーム源を具備してもよい。この場合、前記エネルギービームの照射を利用して前記液体原料をプラズマ化して前記放射線を取り出してもよい。
【0042】
前記光源装置は、ＬＰＰ（Laser Produced Plasma）方式の光源装置、又はＬＤＰ（Laser Assisted Discharge Produced Plasma）方式の光源装置として構成されてもよい。
【0043】
本発明の一形態に係る膜厚調整機構は、プラズマを発生させるための液体原料が付着され、回転することで前記プラズマの発生領域に、付着された前記液体原料を供給する回転体に用いられる膜厚調整機構であって、前記膜厚調整部材と、前記支持機構とを具備する。
【発明の効果】
【0044】
以上のように、本発明によれば、プラズマの発生領域におけるプラズマ原料の膜厚を高い精度で調整することが可能となる。なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれかの効果であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【0045】
【図1】本発明の一実施形態に係る光源装置の構成例を示す模式図である。
【図2】光源装置に含まれる光源ユニットを主に示す模式図である。
【図3】光源ユニットの他の構成例を示す模式図である。
【図5】本発明に係る膜厚調整機構の基本原理を説明するための模式図である。
【図6】第１の実施形態に係る膜厚調整機構を正面から見た場合の図である。
【図7】膜厚調整機構を左側から見た場合の左側面図である。
【図8】膜厚調整機構を右側から見た場合の右側面図である。
【図9】膜厚調整機構を上方側から見た場合の上面図である。
【図10】膜厚調整機構を下方側から見た場合の底面図である。
【図11】比較例として挙げる膜厚調整機構を、正面から見た場合の図である。
【図12】比較例として挙げる膜厚調整機構を、左側から見た場合の左側面図である。
【図13】放電電極とスキマーとの噛み込みが発生した状態を示す模式図である
【図14】放電電極とスキマーとの噛み込みが発生した状態を示す模式図である
【図15】放電電極とスキマーとの噛み込みが発生した状態を示す模式図である
【図16】放電電極とスキマーとの噛み込みが発生した状態を示す模式図である
【図17】第２の実施形態に係る膜厚調整機構の模式図である。
【図18】第３の実施形態に係る膜厚調整機構の模式図である。
【図19】ＬＰＰ方式の光源装置に含まれる光源ユニットの一例を示す模式図である。
【図20】ＬＰＰ方式の光源装置に含まれる光源ユニットの他の例を示す模式図である。
【図21】ＬＰＰ方式の光源装置に含まれる光源ユニットの他の例を示す模式図である。
【図22】膜厚調整機構を奥行方向の手前側から見た場合の図である。
【図23】膜厚調整機構を左右方向の左側から見た場合の左側面図である。
【図24】スキマーの変形例を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【0046】
以下、本発明に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。
【0047】
【0048】
図１は、光源装置１を設置面から所定の高さの位置で水平方向に沿って切断した場合の模式的な断面を、上方から見た場合の図である。図１では、光源装置１の構成及び動作を理解しやすいように、断面の構成等を説明する必要のない部分については、断面の図示を省略している。
【0049】
光源装置１は、エネルギービームの照射を利用して液体状（液相）のプラズマ原料をプラズマ化して放射線を取り出すＬＤＰ方式の光源装置である。光源装置１は、本発明に係る、液体状のプラズマ原料からプラズマを発生させて放射線を取り出す光源装置の一実施形態となる。
【0050】
光源装置１は、例えば波長３０ｎｍ以下の硬Ｘ線から軟Ｘ線（ＥＵＶ光含む）までの放射線を放出することが可能である。従って光源装置１を、Ｘ線発生装置、又はＥＵＶ光源装置（ＥＵＶ放射発生装置）として使用することが可能である。もちろん、他の波長帯域の放射線を出射する光源装置に、本技術を適用することも可能である。
【0051】
本実施形態では、光源装置１は、ＥＵＶ光源装置として使用される。そして、光源装置１により、波長１３．５ｎｍのＥＵＶ光が放出される。
【0052】
図１に示すように、光源装置１は、光源部２と、デブリ捕捉部３とを有する。光源部２は、ＬＤＰ方式に基づいてＥＵＶ光を発生させる。デブリ捕捉部３は、光源部２から放射されるＥＵＶ光とともに飛散するデブリを捕捉するデブリ低減装置である。光源部２で発生したデブリ、及びデブリ捕捉部３で捕捉されたデブリ等は、デブリ捕捉部３の下方側に配置されるデブリ収容部（図示は省略）に収容される。
【0053】
図１に示すように、光源部２は、チャンバ４と、光源ユニット５とを有する。チャンバ４は、内部で生成されるプラズマＰを外部と隔離する。チャンバ４は、プラズマＰを生成する光源ユニット５を収容するプラズマ生成室を形成する。
【0054】
チャンバ４は、剛体、例えば、金属製の真空筐体であり、その内部は、プラズマ原料ＳＡ，ＳＢを加熱励起するための放電を良好に発生させ、ＥＵＶ光の減衰を抑制するために、図示しない真空ポンプにより所定圧力以下の減圧雰囲気に維持される。
【0055】
【0056】
一対の放電電極ＥＡ，ＥＢは、各々が円盤状に構成された電極である。例えば、放電電極ＥＡがカソードとして使用され、放電電極ＥＢがアノードとして使用される。放電電極ＥＡ，ＥＢは、例えば、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）又はタンタル（Ｔａ）等の高融点金属を用いて構成される。
【0057】
図２に示すように、放電電極ＥＡ，ＥＢは、互いに離間した位置に配置され、放電電極ＥＡ，ＥＢの周縁部６が近接している。放電電極ＥＡ，ＥＢの周縁部６が互いに最も接近した位置が、プラズマＰが生成される放電領域Ｒとなる。本実施形態において放電領域Ｒは、本技術に係るプラズマＰの発生領域の一実施形態となる。
【0058】
なお、放電電極ＥＡ，ＥＢの周縁部６とは、円盤状の電極の周縁を形成する部分である。図２では、各電極の周縁に設けられる帯状の端面７が周縁部６となる。
【0059】
放電電極ＥＡは、モータＭＡの回転軸ＪＡに連結され、放電電極ＥＡの軸線周りに回転する。放電電極ＥＢは、モータＭＢの回転軸ＪＢに連結され、放電電極ＥＢの軸線周りに回転する。
【0060】
図１に示すように、モータＭＡ，ＭＢは、チャンバ４の外部に配置され、各モータＭＡ，ＭＢの回転軸ＪＡ，ＪＢは、チャンバ４の外部から内部に延びる。回転軸ＪＡとチャンバ４の壁の間の隙間は、シール部材ＰＡで封止され、回転軸ＪＢとチャンバ４の壁の間の隙間は、シール部材ＰＢで封止される。シール部材ＰＡ，ＰＢは、例えば、メカニカルシールである。各シール部材ＰＡ，ＰＢは、チャンバ４内の減圧雰囲気を維持しつつ、回転軸ＪＡ，ＪＢを回転自在に支持する。
【0061】
一対のコンテナＣＡ，ＣＢは、各々が液体状のプラズマ原料ＳＡ，ＳＢを収容可能なコンテナ（容器）である。プラズマ原料ＳＡ，ＳＢは、プラズマＰを発生させるための液体原料であり、典型的には液体金属が用いられる。プラズマ原料ＳＡ，ＳＢとしては、例えばスズ（Ｓｎ）やリチウム（Ｌｉ）等が用いられる。もちろん他の液体金属が用いられてもよい。またコンテナＣＡ，ＣＢは、導電性材料を用いて構成される。従って、コンテナＣＡはプラズマ原料ＳＡと通電し、コンテナＣＢはプラズマ原料ＳＢと通電する。
【0062】
コンテナＣＡは、放電電極ＥＡの下部が液体状のプラズマ原料ＳＡに浸されるようにプラズマ原料ＳＡを収容する。コンテナＣＢは、放電電極ＥＢの下部が液体状のプラズマ原料ＳＢに浸されるようにプラズマ原料ＳＢを収容する。従って、放電電極ＥＡ，ＥＢの下部には、液体状のプラズマ原料ＳＡ，ＳＢが付着する。放電電極ＥＡ，ＥＢの下部に付着した液体状のプラズマ原料ＳＡ，ＳＢは、放電電極ＥＡ，ＥＢの回転に伴って、プラズマＰが生成される放電領域Ｒに輸送される。
【0063】
図２に示すように、コンテナＣＡ，ＣＢには、プラズマ原料供給部８が接続される。そして、プラズマ原料供給部８により、コンテナＣＡ，ＣＢの各々に、プラズマ原料ＳＡ，ＳＢが供給される。
【0064】
プラズマ原料供給部８は、例えばプラズマ原料ＳＡ，ＳＢとなる液体金属（ここではスズ）を液体の状態を維持したまま貯留するリザーバを有する。このリザーバから各コンテナＣＡ，ＣＢに液体の状態でプラズマ原料ＳＡ，ＳＢが供給される。プラズマ原料供給部８は、原料供給部として機能する。
【0065】
一対の膜厚調整機構ＳＫＡ，ＳＫＢは、放電電極ＥＡ，ＥＢに付着するプラズマ原料ＳＡ，ＳＢの厚みを所定の厚みに調整する。
【0066】
膜厚調整機構ＳＫＡは、放電電極ＥＡに対して配置され、放電電極ＥＡに付着したプラズマ原料ＳＡの厚みを放電領域Ｒに輸送される前に調整する。膜厚調整機構ＳＫＢは、放電電極ＥＢに対して配置され、放電電極ＥＢに付着したプラズマ原料ＳＢの厚みを放電領域Ｒに輸送される前に調整する。これにより、放電領域Ｒに供給されるプラズマ原料ＳＡ，ＳＢの供給量を制御することが可能となる。
【0067】
図１に示すように、光源装置１は、さらに、制御部９と、パルス電力供給部１０と、ビーム源（エネルギービーム照射装置）１１と、可動ミラー１２とを備える。制御部９、パルス電力供給部１０、ビーム源１１及び可動ミラー１２は、チャンバ４の外部に設置される。
【0068】
制御部９は、光源装置１の各部の動作を制御する。例えば、制御部９は、モータＭＡ，ＭＢの回転駆動を制御し、放電電極ＥＡ，ＥＢを所定の回転数で回転させる。また、制御部９は、パルス電力供給部１０の動作、ビーム源１１からエネルギービームとして照射されるレーザビームＬＢの照射タイミング等を制御する。
【0069】
パルス電力供給部１０から延びる２つの給電線ＱＡ，ＱＢは、フィードスルーＦＡ，ＦＢを通過して、チャンバ４の内部に配置されたコンテナＣＡ，ＣＢにそれぞれ接続される。フィードスルーＦＡ，ＦＢは、チャンバ４の壁に埋設されてチャンバ４内の減圧雰囲気を維持するシール部材である。
【0070】
コンテナＣＡ，ＣＢは、導電性材料から形成され、各コンテナＣＡ，ＣＢの内部に収容されるプラズマ原料ＳＡ，ＳＢもスズなどの導電性材料である。そして、各コンテナＣＡ，ＣＢの内部に収容されているプラズマ原料ＳＡ，ＳＢには、放電電極ＥＡ，ＥＢの下部がそれぞれ浸されている。従って、パルス電力供給部１０からパルス電力がコンテナＣＡ，ＣＢに供給されると、そのパルス電力は、プラズマ原料ＳＡ，ＳＢをそれぞれ介して放電電極ＥＡ，ＥＢに供給される。
【0071】
ビーム源１１は、放電領域Ｒに輸送された放電電極ＥＡに付着したプラズマ原料ＳＡにレーザビームＬＢを照射して、当該プラズマ原料ＳＡを気化させる。ビーム源１１は、例えば、Ｎｄ：ＹＶＯ４（Neodymium-doped Yttrium Orthovanadate）レーザ装置である。
このとき、ビーム源１１は、波長１０６４ｎｍの赤外領域のレーザビームＬＢを発する。ただし、ビーム源１１は、プラズマ原料ＳＡの気化が可能であれば、レーザビームＬＢ以外のエネルギービームを発する装置であってもよい。
このとき、ビーム源１１は、波長１０６４ｎｍの赤外領域のレーザビームＬＢを発する。ただし、ビーム源１１は、プラズマ原料ＳＡの気化が可能であれば、レーザビームＬＢ以外のエネルギービームを発する装置であってもよい。
【0072】
ビーム源１１から放出されたレーザビームＬＢは、例えば、集光レンズ１３を含む集光手段を介して可動ミラー１２に導かれる。集光手段は、放電電極ＥＡのレーザビーム照射位置におけるレーザビームＬＢのスポット径を調整する。集光レンズ１３および可動ミラー１２は、チャンバ４の外部に配置される。
【0073】
集光レンズ１３で集光されたレーザビームＬＢは、可動ミラー１２により反射され、チャンバ４の側壁４ａに設けられた透明窓１４を通過して、放電領域Ｒ付近の放電電極ＥＡの周縁部６（端面７）に照射される。可動ミラー１２の姿勢を調整することにより、放電電極ＥＡにおけるレーザビームＬＢの照射位置が調整される。
【0074】
放電領域Ｒ付近の放電電極ＥＡの端面７にレーザビームＬＢを照射するのを容易にするため、放電電極ＥＡ，ＥＢの軸線は平行ではない。回転軸ＪＡ，ＪＢの間隔は、モータＭＡ，ＭＢ側が狭く、放電電極ＥＡ，ＥＢ側が広くなっている。
【0075】
これにより、放電電極ＥＡ，ＥＢの対向面側を接近させつつ、放電電極ＥＡ，ＥＢの対向面側とは反対側をレーザビームＬＢの照射経路から退避させることができ、放電領域Ｒ付近の放電電極ＥＡの端面７にレーザビームＬＢを照射するのを容易にすることができる。
【0076】
放電電極ＥＢは、放電電極ＥＡと可動ミラー１２との間に配置される。可動ミラー１２で反射されたレーザビームＬＢは、放電電極ＥＢの外周面付近を通過した後、放電電極ＥＡの外周面に到達する。このとき、レーザビームＬＢが放電電極ＥＢで遮光されないように、放電電極ＥＢは、放電電極ＥＡよりも、モータＭＢ側の方向（図１の左側）に退避される。
【0077】
放電領域Ｒ付近の放電電極ＥＡの端面７に付着された液体状のプラズマ原料ＳＡは、レーザビームＬＢの照射により気化され、気体状（気相）のプラズマ原料ＳＡとして放電領域Ｒに供給される。
【0078】
放電領域ＲでプラズマＰを発生させるため（気体状のプラズマ原料ＳＡをプラズマ化するため）、パルス電力供給部１０は、放電電極ＥＡ，ＥＢにパルス電力を供給する。そして、レーザビームＬＢの照射により放電領域Ｒに気体状のプラズマ原料ＳＡが供給されると、放電領域Ｒにおける放電電極ＥＡ，ＥＢ間で放電が生じる。
【0079】
放電電極ＥＡ、ＥＢ間で放電が発生すると、放電領域Ｒにおける気体状のプラズマ材料ＳＡが電流により加熱励起されて、プラズマＰが発生する。生成されたプラズマＰから放射されるＥＵＶ光は、チャンバ４の側壁４ｂに設けられた貫通孔である第１窓部１５を通ってデブリ捕捉部３へ入射する。
【0080】
デブリ捕捉部３は、チャンバ４の側壁４ｂに配置された接続チャンバ１６を有する。接続チャンバ１６は、剛体、例えば、金属製の真空筐体であり、その内部は、チャンバ４と同様、ＥＵＶ光の減衰を抑制するために所定圧力以下の減圧雰囲気に維持される。接続チャンバ１６は、チャンバ４と利用装置１７（例えばリソグラフィ装置やマスク検査装置）との間に接続される。
【0081】
接続チャンバ１６の内部空間は、第１窓部１５を介してチャンバ４と連通する。接続チャンバ１６は、第１窓部１５から入射したＥＵＶ光を利用装置１７へ導入する光取出し部としての第２窓部１８を有する。第２窓部１８は、接続チャンバ１６の側壁１６ａに形成された所定形状の貫通孔である。放電領域ＲのプラズマＰから放出されたＥＵＶ光は、第１窓部１５及び第２窓部１８を通じて利用装置１７に導入される。
【0082】
なお、図１に示すように、接続チャンバ１６の内部空間には、遮熱板１９が配置される。第１窓部１５から入射するＥＵＶ光は、図１の遮熱板１９に設けられた開口（図示は省略）により進行方向が制限されて、第２窓部１８に向かって進行する。
【0083】
放電領域Ｒにて発生するプラズマＰからは、ＥＵＶ光とともにデブリが高速で様々な方向に放散される。デブリは、プラズマ原料ＳＡ，ＳＢであるスズ粒子及びプラズマＰの発生に伴いスパッタリングされる放電電極ＥＡ、ＥＢの材料粒子を含む。
【0084】
これらのデブリは、プラズマＰの収縮および膨張過程を経て、大きな運動エネルギーを得る。すなわち、プラズマＰから発生するデブリは、高速で移動するイオン、中性粒子及び電子を含む。このようなデブリが利用装置１７に到達すると、利用装置１７内の光学素子の反射膜を損傷または汚染させ、性能を低下させることがある。そのため、デブリが利用装置１７に侵入しないようにするため、デブリを捕捉するデブリ捕捉機構が、接続チャンバ１６内に設けられる。
【0085】
図１に示す例では、デブリ捕捉機構として、複数のホイルを有し、回転することで複数のホイルをデブリと能動的に衝突させる回転式ホイルトラップ２０が配置される。回転式ホイルトラップ２０は、接続チャンバ１６の内部にて、接続チャンバ１６から利用装置１７へと進行するＥＵＶ光の光路上に配置される。
【0086】
回転式ホイルトラップ２０に代えて、複数のホイルの位置が固定された固定式ホイルトラップが配置されてもよい。あるいは、回転式ホイルトラップ２０及び固定式ホイルトラップの双方が設けられてもよい。
【0087】
図３は、光源ユニット５の他の構成例を示す模式図である。
図３に示す光源ユニット５は、放電電極ＥＡ，ＥＢ、液体状のプラズマ原料ＳＡ，ＳＢを収容するコンテナＣＡ，ＣＢ、各放電電極ＥＡ，ＥＢに付着したプラズマ原料ＳＡ，ＳＢの厚みを調整する膜厚調整機構ＳＫＡ，ＳＫＢ、及び放電電極ＥＡ，ＥＢを回転駆動するためのモータＭＡ，ＭＢ等の要素が１つのユニット基板２２上に組み込まれてユニット化されている。ユニット化された光源ユニット５は、光源装置１に取付け可能に構成される。
図３に示す光源ユニット５は、放電電極ＥＡ，ＥＢ、液体状のプラズマ原料ＳＡ，ＳＢを収容するコンテナＣＡ，ＣＢ、各放電電極ＥＡ，ＥＢに付着したプラズマ原料ＳＡ，ＳＢの厚みを調整する膜厚調整機構ＳＫＡ，ＳＫＢ、及び放電電極ＥＡ，ＥＢを回転駆動するためのモータＭＡ，ＭＢ等の要素が１つのユニット基板２２上に組み込まれてユニット化されている。ユニット化された光源ユニット５は、光源装置１に取付け可能に構成される。
【0088】
チャンバ４内でプラズマＰを適正に発生させるためには、放電電極ＥＡ，ＥＢ、コンテナＣＡ，ＣＢ、膜厚調整機構ＳＫＡ，ＳＫＢ、モータＭＡ，ＭＢ等の要素を所定の位置関係となるように調整して配置することが必要となる。例えば、これらの要素を一つずつ調整しながら光源装置１に取り付けてゆく作業は容易ではなく、ある程度の熟練技巧が必要となる。また、各要素を個別に取り付ける場合、作業時間が長くなる可能性がある。また他の要素を接続するためにも時間がかかる。
【0089】
図３に示すように、これら多数の要素をユニット基板２２に組み込んで、ユニット化することにより、各要素を１つずつ調整するといった必要がなくなり、光源装置１のメンテナンスを容易にすることが可能となる。
【0090】
ユニット基板２２は、正面から見たおおよその外形が円形状となり、正面側に凹部２２ａが構成されている。当該凹部２２ａ内に、一対の放電電極ＥＡ，ＥＢと、一対のコンテナＣＡ，ＣＢとが支持される。
【0091】
またユニット基板２２は、光源装置１のチャンバ４の側壁に設けられた取付け用の開口を外側から塞ぐ蓋として構成される。例えば、図１に示す光源装置１を例に挙げると、チャンバ４の左側の側壁４ｃに、取付け用の開口が形成される。当該開口に、凹部２２ａがチャンバ４の内部空間に収まる向きで、ユニット基板２２が取付けられる。これにより、一対の放電電極ＥＡ，ＥＢと、一対のコンテナＣＡ，ＣＢとがチャンバ４内に収まるように支持される。
【0092】
ユニット基板２２は、チャンバ４の側壁４ｃに外側から装着され、チャンバ４の側壁４ｃの一部として機能するとともに、チャンバ４内に放電電極ＥＡ，ＥＢやコンテナＣＡ，ＣＢを配置する支持部材として機能する。
【0093】
図３に示す光源ユニット５を正面から見た場合に、凹部２２ａの底面２２ｂは正面方向に対して垂直に構成される。当該底面２２ｂに対して、放電電極ＥＡ，ＥＢが斜めに配置される。具体的には、図１に示す配置構成となるように、放電電極ＥＡ，ＥＢの周縁部６の互いに接近する側が、凹部２２ａの底面２２ｂから最も離れるように配置される。また、レーザビームＬＢが放電電極ＥＢで遮光されないように、放電電極ＥＢは、放電電極ＥＡよりも、凹部２２ａの底面２２ｂ側に退避されて配置される。
【0094】
図４は、図３に示す光源ユニット５の右側に配置される放電電極ＥＡ、コンテナＣＡ、及び膜厚調整機構ＳＫＡを示す模式図である。図４は、放電電極ＥＡを正面から見た場合の図であり、放電電極ＥＡを回転駆動するモータＭＡの回転軸ＪＡの軸方向に沿って見た場合の図となる。
【0095】
以下、放電電極ＥＡを正面から見た場合の左右方向をＸ方向とし、Ｘ軸の正側を右側、負側を左側とする。また、放電電極ＥＡの回転軸方向をＹ方向とし、Ｙ軸の正側を奥側、負側を手前側とする。また、上下方向をＺ方向として、Ｚ軸の正側を上方側、負側を下方側とする。もちろん、本技術の適用について、放電電極ＥＡ（光源ユニット５）が配置される向き等が限定される訳ではない。
【0096】
図４に示すように、放電電極ＥＡは、手前側に向いている第１の主面２４ａと、奥側に向いている第２の主面２４ｂ（図７参照）と、第１の主面２４ａ及び第２の主面２４ｂの間の端面７とを有する。第１の主面２４ａ及び第２の主面２４ｂは、回転軸方向（Ｙ方向）に沿って互いに対向する。
【0097】
図４に示す例では、放電電極ＥＡの端面７の左端部の位置が、レーザビームＬＢの照射位置２５として設定される。当該レーザビームＬＢの照射位置２５が、プラズマＰの発生領域である放電領域Ｒとなる。
【0098】
コンテナＣＡは、円盤状の放電電極ＥＡが挿入されるスリット型の容器からなる。コンテナＣＡは、放電電極ＥＡの第１の主面２４ａと対向する第１の側壁２６ａと、放電電極ＥＡの第２の主面２４ｂと対向する第２の側壁２６ｂ（図３参照）とを有する。またコンテナＣＡは、第１の側壁２６ａ及び第２の側壁２６ｂの間に配置され、放電電極ＥＡの端面７と対向する端面２６ｃを有する。
【0099】
図４に示すように、コンテナＣＡを正面から見た場合に、第１の側壁２６ａのおおよその形状はＬ字を左右反転させた形状となる。第１の側壁２６ａは、放電電極ＥＡの下方側の部分と、右側の部分とを覆うようにして配置される。
【0100】
コンテナＣＡを正面から見た場合に、第２の側壁２６ｂは、第１の側壁２６ａと等しい外形を有する。コンテナＣＡを正面から見た場合に、コンテナＣＡの端面２６ｃは、放電電極ＥＡの端面７に沿うように円形状で構成される。コンテナＣＡの端面２６ｃは、放電電極ＥＡの左端部から端面７に沿って下方側に移動した位置から、放電電極ＥＡの右側の上方側の位置までの領域にわたって構成される。
【0101】
図３に示すように、第１の側壁２６ａと第２の側壁２６ｂとの間には、スリット２７が形成される。放電電極ＥＡは、第１の側壁２６ａと第２の側壁２６ｂとにより挟まれるように、スリット２７に挿入される。また、放電電極ＥＡは、第１の側壁２６ａ、第２の側壁２６ｂ、及び端面２６ｃに接触することなく、所定の間隔（クリアランス）をあけて配置される。
【0102】
図示は省略しているが、コンテナＣＡのスリット２７の下方側の空間には、液体状のプラズマ原料ＳＡが供給される。従って、スリット２７に挿入された放電電極ＥＡの下方側の部分は、液体状のプラズマ原料ＳＡに浸漬される。これにより、放電電極ＥＡの第１の主面２４ａの下方側の部分、第２の主面２４ｂの下方側の部分、及び端面７の下方側の部分に、液体状のプラズマ原料ＳＡが付着する。
【0103】
モータＭＡが駆動すると、円盤状の放電電極ＥＡが、回転軸ＪＡを中心に左回りに回転する。これにより、液体状のプラズマ原料ＳＡが付着した部分が放電領域Ｒに移動する。この結果、プラズマ原料ＳＡが放電領域Ｒに供給される。
【0104】
図４では、回転する放電電極ＥＡに付着するプラズマ原料ＳＡの領域が、グレーの色で模式的に図示されている。放電電極ＥＡが回転することで、第１の主面２４ａの端面７に沿った外周側の領域、第２の主面２４ｂの端面７に外周側の領域、及び端面７の全体に、プラズマ原料ＳＡが付着する。
【0105】
プラズマ原料ＳＡが付着する各領域において、プラズマ原料ＳＡの付着状態が一定という訳ではない。例えば、コンテナＣＡ内に収容されたプラズマ原料ＳＡに浸漬されることで付着されたプラズマ原料ＳＡは、膜厚調整機構ＳＫＡにより膜厚が調整されて、放電領域Ｒに輸送される。放電領域ＲにてプラズマＰが発生すると、放電電極ＥＡに付着しているプラズマ原料ＳＡは消費される。
【0106】
放電電極ＥＡが回転することで、浸漬によるプラズマ原料ＳＡの付着、及び放電領域ＲにおけるプラズマＰの発生（プラズマ原料ＳＡの消費）が、連続的に繰り返される。また、膜厚調整機構ＳＫＡにより、長時間安定して、調整された膜厚で、放電領域Ｒにプラズマ原料を供給することが可能である。
【0107】
以下、放電電極ＥＡのプラズマ原料ＳＡが付着する面を、付着面２８と記載する。また、第１の主面２４ａのプラズマ原料ＳＡが付着する面を第１の付着面２８ａとし、第２の主面２４ｂのプラズマ原料ＳＡが付着する面を第２の付着面２８ｂ（図７参照）とする。また、全体にプラズマ原料ＳＡが付着する端面７については、端面側付着面２８ｃと記載する。
【0108】
図４に示すように、コンテナＣＡの右端部には、左右方向（Ｘ方向）に延在する長方形状の切り欠き２９が、周縁部から内部側にわたって形成される。当該切り欠き２９の部分において、放電電極ＥＡの右端部の部分が露出される。
【0109】
膜厚調整機構ＳＫＡは、コンテナＣＡに形成された切り欠き２９の上方側の位置に設置される。そして、放電電極ＥＡの右端部の位置にて、付着面２８に付着するプラズマ原料ＳＡの膜厚を調整する。以下、膜厚調整機構ＳＫＡについて、詳しく説明する。
【0110】
［膜厚調整機構の基本原理］
図５は、本発明に係る膜厚調整機構ＳＫＡの基本原理を説明するための模式図である。なお、膜厚調整機構ＳＫＢも、以下に説明する膜厚調整機構ＳＫＡと同じ構成を有する。
図５は、本発明に係る膜厚調整機構ＳＫＡの基本原理を説明するための模式図である。なお、膜厚調整機構ＳＫＢも、以下に説明する膜厚調整機構ＳＫＡと同じ構成を有する。
【0111】
膜厚調整機構ＳＫＡは、本実施形態に係る光源装置１のような、液体状のプラズマ原料ＳＡからプラズマＰを発生させて放射線を取り出す光源装置に適用することが可能である。また膜厚調整機構ＳＫＡは、放電電極ＥＡのような、液体状のプラズマ原料ＳＡが付着され、回転することでプラズマＰの発生領域である放電領域Ｒに、付着された液体状のプラズマ原料ＳＡを供給する回転体に用いることが可能である。なお放電電極ＥＡは、本発明に係る回転体の一実施形態である。
【0112】
図５に示すように、膜厚調整機構ＳＫＡは、膜厚調整部材３０と、支持機構３１とを有する。膜厚調整部材３０は、放電電極ＥＡの液体状のプラズマ原料ＳＡが付着される付着面２８（端面側付着面２８ｃ）に対向する位置に間隔をあけて配置される。支持機構３１は、端面側付着面２８ｃに対向する対向方向において移動可能となるように膜厚調整部材３０を支持する。
【0113】
本実施形態では、端面側付着面２８ｃの右端部の位置が、膜厚調整の対象となる膜厚調整領域３２として設定される。すなわち、端面側付着面２８ｃの所定の位置に設定される放電領域Ｒとは異なる位置（回転の上流側）に、膜厚調整領域３２が設定される。そして、膜厚調整領域３２に対向する方向である左右方向（Ｘ方向）が、対向方向となる。対向方向は、膜厚調整領域３２の法線方向とも一致する。
【0114】
支持機構３１は、左右方向（Ｘ方向）に沿って、放電電極ＥＡに近付く向き（左側の向き）、及び放電電極ＥＡから遠ざかる向き（右側の向き）の、両方の向きにて膜厚調整部材３０が移動可能なように、膜厚調整部材３０を支持する。
【0115】
図５に示すように、支持機構３１は、位置保持機構３３と、姿勢保持機構３４とを有する。位置保持機構３３は、左右方向（Ｘ方向）において端面側付着面２８ｃから第１の距離Ｄ１離れた状態となる第１の調整基準位置から移動する膜厚調整部材３０を第１の調整基準位置に戻す。
【0116】
すなわち位置保持機構３３は、膜厚調整部材３０が左右方向（Ｘ方向）に沿って、第１の調整基準位置から放電電極ＥＡに近付く向きに移動した場合、膜厚調整部材３０を放電電極ＥＡから遠ざかる向きに移動させて、第１の調整基準位置に戻す。また、位置保持機構３３は、膜厚調整部材３０が左右方向（Ｘ方向）に沿って、第１の調整基準位置から放電電極ＥＡに対して遠ざかる向きに移動した場合、膜厚調整部材３０を放電電極ＥＡに近付く向きに移動させて、第１の調整基準位置に戻す。
【0117】
図５に示すように、膜厚調整部材３０は、膜厚調整領域３２に対向して配置される主調整面３５を有する。主調整面３５は、左右方向（Ｘ方向）に直交する平面形状を有する。当該主調整面３５が膜厚調整領域３２から第１の距離Ｄ１離れた状態となる位置が、第１の調整基準位置となる。膜厚調整部材３０が第１の調整基準位置に配置されている状態を、膜厚調整部材３０の調整基準状態と呼ぶことも可能である。
【0118】
第１の距離Ｄ１のサイズは、放電領域ＲのレーザビームＬＢの照射位置２５にて実現させたいプラズマ原料ＳＡの膜厚に基づいて設定される。典型的には、実現させたいプラズマ原料ＳＡの膜厚と等しいサイズとなるように、第１の距離Ｄ１が設定される。例えば、第１の距離Ｄ１として、１０μｍ程度の大きさが設定される。もちろんこの値に限定される訳ではない。
【0119】
図５に示すように、光源装置１の駆動時には放電電極ＥＡが回転し、膜厚調整領域３２にて膜厚調整部材３０の主調整面３５により、プラズマ原料ＳＡの膜厚が第１の距離Ｄ１に調整される。
【0120】
姿勢保持機構３４は、左右方向（Ｘ方向）において移動する膜厚調整部材３０の姿勢を保持する。本実施形態では、姿勢保持機構３４により、端面側付着面２８ｃの膜厚調整領域３２に対して、主調整面３５の姿勢が保持される。すなわち、主調整面３５が左右方向（Ｘ方向）に対して直交した状態で、左右方向（Ｘ方向）に沿って直線的に移動可能（直動可能）なように、膜厚調整部材３０が支持される。
【0121】
［膜厚調整機構の具体的な構成例］
（第１の実施形態）
図６～図１０を参照して、膜厚調整機構ＳＫＡの具体的な構成例について説明する。
図６は、コンテナＣＡに設置された膜厚調整機構ＳＫＡを正面から見た場合の図である。
図７は、膜厚調整機構ＳＫＡを左側から見た場合の左側面図である。図７では、左側から見た場合の放電電極ＥＡの一部が、断面で図示されている。具体的には、図４に示す付着面２８（第１の付着面２８ａ及び第２の付着面２８ｂ）の部分が図示されている。
（第１の実施形態）
図６～図１０を参照して、膜厚調整機構ＳＫＡの具体的な構成例について説明する。
図６は、コンテナＣＡに設置された膜厚調整機構ＳＫＡを正面から見た場合の図である。
図７は、膜厚調整機構ＳＫＡを左側から見た場合の左側面図である。図７では、左側から見た場合の放電電極ＥＡの一部が、断面で図示されている。具体的には、図４に示す付着面２８（第１の付着面２８ａ及び第２の付着面２８ｂ）の部分が図示されている。
【0122】
図８は、膜厚調整機構ＳＫＡを右側から見た場合の右側面図である。図８では、左側から見た場合の放電電極ＥＡの一部が図示されている。
図９は、膜厚調整機構ＳＫＡを上方側から見た場合の上面図である。図９では、上方側から見た場合の放電電極ＥＡの一部が、断面で図示されている。具体的には、図５に示す対向方向（Ｘ方向）に沿って放電電極ＥＡを切断した場合の断面の一部が図示されている。
図９は、膜厚調整機構ＳＫＡを上方側から見た場合の上面図である。図９では、上方側から見た場合の放電電極ＥＡの一部が、断面で図示されている。具体的には、図５に示す対向方向（Ｘ方向）に沿って放電電極ＥＡを切断した場合の断面の一部が図示されている。
【0123】
図１０は、膜厚調整機構ＳＫＡを下方側から見た場合の底面図である。図１０では、下方側から見た場合の放電電極ＥＡの一部が、断面で図示されている。具体的には、図５に示す対向方向（Ｘ方向）に沿って放電電極ＥＡを切断した場合の断面の一部が図示されている。
【0124】
図６～図１０に示すように、膜厚調整機構ＳＫＡは、基体部材３７と、Ｘ方向移動部材３８と、Ｙ方向移動部材３９と、スキマー支持部材４０と、スキマー４１とを有する。また膜厚調整機構ＳＫＡは、複数の接続板４２と、複数のボルト４３と、複数のナット４４と、複数のコイルばね４５とを有する。
【0125】
［基体部材、Ｘ方向移動部材、Ｙ方向移動部材］
基体部材３７は、放電電極ＥＡに対して所定の位置関係となるように、放電電極ＥＡとは別の物体に固定して配置される。本実施形態では、基体部材３７は、コンテナ側部材４８と、スキマー側部材４９により構成される。
基体部材３７は、放電電極ＥＡに対して所定の位置関係となるように、放電電極ＥＡとは別の物体に固定して配置される。本実施形態では、基体部材３７は、コンテナ側部材４８と、スキマー側部材４９により構成される。
【0126】
図６及び図７等に示すように、コンテナ側部材４８のおおよその形状は平板形状であり、回転軸方向（Ｙ方向）に直交する向き、すなわちＸＺ平面方向と平行となる向きで配置される。コンテナ側部材４８を正面から見た場合のおおよその外形は矩形状となり、コンテナＣＡの第１の側壁２６ａに形成された切り欠き２９の上方側の部分に接続されて固定される。
【0127】
なお本開示における部材同士の「接続」は、接続対象となる部材に対して直接的に接続する場合に限定されず、物理的な他の部材を介して接続する場合を含むものとする。例えば、部材Ａと部材Ｂとの接続は、部材Ａと部材Ｂとを直接的に接続する場合と、他の部材Ｃを介在させて、部材Ｃに部材Ａ及び部材Ｂの各々を接続し、結果的に部材Ａ及び部材Ｂが接続される形態も含まれる。例えば、部材Ａを移動させた場合に、ともに移動する部材は、直接的及び間接的を問わず、部材Ａに接続された部材といえる。
【0128】
図７及び図９等に示すように、スキマー側部材４９のおおよその形状は平板形状であり、上下方向（Ｚ方向）に直交する向き、すなわちＸＹ平面方向と平行となる向きで配置される。スキマー側部材４９を上方から見た場合のおおよその外形は矩形状となり、奥側の側面が、コンテナ側部材４８の表側に接続されて固定される。
【0129】
スキマー側部材４９の下方側の面には、左右方向（Ｘ方向）に沿って延在するように、第１のレール溝５１が形成される。第１のレール溝５１は、左右方向（Ｘ方向）から見た場合の断面形状が、下辺が上辺よりもサイズが小さい台形状となるように形成される。すなわち、第１のレール溝５１は、下方側の開口部分の回転軸方向（Ｙ方向）における幅が、上方側の底面部の幅よりも小さくなるように形成される。
【0130】
図９に示すように、スキマー側部材４９の手前側の側面の左右方向（Ｘ方向）における中央部分には、手前側に突出する突出部５２が形成される。突出部５２は、平板形状からなり、左右方向（Ｘ方向）に垂直となる向きで形成される。突出部５２は、左側に向けられる左側主面５２ａと、右側に向けられる右側主面５２ｂとを有する。左側主面５２ａ及び右側主面５２ｂの各々には、コイルばね４５を支持するばね支持部５３ａ及び５３ｂが取付けられる。
【0131】
図６及び図７等に示すように、Ｘ方向移動部材３８のおおよその形状は平板形状であり、上下方向（Ｚ方向）に直交する向き、すなわちＸＹ平面方向と平行となる向きで配置される。Ｘ方向移動部材３８を上方から見た場合のおおよその外形は矩形状となる。
【0132】
図９に示すように、Ｘ方向移動部材３８の左右方向（Ｘ方向）における幅は、スキマー側部材４９と略等しくなる。Ｘ方向移動部材３８の回転軸方向（Ｙ方向）における幅は、スキマー側部材４９の奥側の面から突出部５２の手前側の先端までのサイズと略等しくなる。従って、上方から見た場合に、スキマー側部材４９の突出部５２の左右の部分には、Ｘ方向移動部材３８の上方側の面が露出している。
【0133】
Ｘ方向移動部材３８の上方側の面には、左右方向（Ｘ方向）に沿って延在するように、第１のレール突起５４が形成される。第１のレール突起５４は、左右方向（Ｘ方向）から見た場合の断面形状が、スキマー側部材４９の下方側の面に形成された第１のレール溝５１と等しくなる。
【0134】
第１のレール突起５４は、第１のレール溝５１に摺動可能に嵌め込まれる。従って、Ｘ方向移動部材３８は、第１のレール溝５１及び第１のレール突起５４を介して、スキマー側部材４９に対して左右方向（Ｘ方向）に移動可能に接続される。Ｘ方向移動部材３８は、姿勢を維持しながら左右方向（Ｘ方向）に沿って直線的に移動することが可能となる。Ｘ方向移動部材３８を、第１の直動ステージと呼ぶことも可能である。
【0135】
なお回転軸方向（Ｙ方向）に関しては、Ｘ方向移動部材３８は、スキマー側部材４９に対して移動することはできない。従って、スキマー側部材４９は、回転軸方向（Ｙ方向）において固定されている部材となる。
【0136】
図６に示すように、Ｘ方向移動部材３８の下方側の面には、回転軸方向（Ｙ方向）に沿って延在するように、第２のレール溝５５が形成される。第２のレール溝５５は、回転軸方向（Ｙ方向）から見た場合の断面形状が、下辺が上辺よりもサイズが小さい台形状となるように形成される。すなわち、第２のレール溝５５は、下方側の開口部分の回転軸方向（Ｙ方向）における幅が、上方側の底面部の幅よりも小さくなるように形成される。
【0137】
図７等に示すように、スキマー側部材４９の第１のレール溝５１が形成されない領域の厚み（Ｚ方向におけるサイズ）と、Ｘ方向移動部材３８の第１のレール突起５４及び第２のレール溝５５が形成されない領域の厚みとは、互いに略等しい。
【0138】
図６及び図７等に示すように、Ｙ方向移動部材３９のおおよその形状は平板形状であり、上下方向（Ｚ方向）に直交する向き、すなわちＸＹ平面方向と平行となる向きで配置される。Ｙ方向移動部材３９を上方から見た場合のおおよその外形は矩形状となる。
【0139】
図１０に示すように、Ｙ方向移動部材３９の回転軸方向（Ｙ方向）における幅は、Ｘ方向移動部材３８と略等しくなる。Ｙ方向移動部材３９の左右方向（Ｘ方向）における幅は、Ｘ方向移動部材３８と比べて、後に説明する突出部５７の長さ分だけ小さくなる。従って、下方から見た場合に、Ｙ方向移動部材３９の突出部５７の上下の部分には、Ｘ方向移動部材３８の下方側の面が露出している。
【0140】
Ｙ方向移動部材３９の上方側の面には、回転軸方向（Ｙ方向）に沿って延在するように、第２のレール突起５６が形成される。第２のレール突起５６は、回転軸方向（Ｙ方向）から見た場合の断面形状が、Ｘ方向移動部材３８の下方側の面に形成された第２のレール溝５５と等しくなる。
【0141】
第２のレール突起５６は、第２のレール溝５５に摺動可能に嵌め込まれる。従って、Ｙ方向移動部材３９は、第２のレール溝５５及び第２のレール突起５６を介して、Ｘ方向移動部材３８に対して回転軸方向（Ｙ方向）に移動可能に接続される。Ｙ方向移動部材３９は、姿勢を維持しながら回転軸方向（Ｙ方向）に沿って直線的に移動することが可能となる。Ｙ方向移動部材３９を、第２の直動ステージと呼ぶことも可能である。
【0142】
左右方向（Ｘ方向）に関しては、Ｙ方向移動部材３９は、Ｘ方向移動部材３８に対して移動することはできない。例えば、Ｘ方向移動部材３８が左右方向（Ｘ方向）移動した場合には、Ｙ方向移動部材３９はＸ方向移動部材３８とともに移動する。すなわち、Ｙ方向移動部材３９は、左右方向（Ｘ方向）においてＸ方向移動部材３８が移動した場合に、Ｘ方向移動部材３８と一体的に移動するように、Ｘ方向移動部材３８に接続される。
【0143】
図６及び図７等に示すように、Ｘ方向移動部材３８の第１のレール突起５４及び第２のレール溝５５が形成されない領域の厚み（Ｚ方向におけるサイズ）と、Ｙ方向移動部材３９の第２のレール突起５６が形成されない領域の厚みとは、互いに略等しい。
【0144】
図８及び図１０等に示すように、Ｙ方向移動部材３９の右側の面の回転軸方向（Ｙ方向）における中央部分には、右側に突出する突出部５７が形成される。突出部５７は、平板形状からなり、回転軸方向（Ｙ方向）に垂直となる向きで形成される。突出部５７の左右方向（Ｘ方向）におけるサイズは、スキマー側部材４９に設けられる突出部５２の回転軸方向（Ｙ方向）におけるサイズと等しい。
【0145】
突出部５７は、手前側に向けられる手前側主面５７ａと、奥側に向けられる奥側主面５７ｂとを有する。手前側主面５７ａ及び奥側主面５７ｂの各々には、コイルばね４５を支持するばね支持部５８ａ及び５８ｂが取付けられる。
【0146】
［スキマー支持部材、スキマー］
スキマー支持部材４０は、Ｙ方向移動部材３９の下方側の面に接続されて固定される。図７及び図１０等に示すように、スキマー支持部材４０は、回転軸方向（Ｙ方向）に沿って延在する直方体形状の部材である。
スキマー支持部材４０は、Ｙ方向移動部材３９の下方側の面に接続されて固定される。図７及び図１０等に示すように、スキマー支持部材４０は、回転軸方向（Ｙ方向）に沿って延在する直方体形状の部材である。
【0147】
スキマー支持部材４０の上方側の面が、Ｙ方向移動部材３９の下方側の面に接続されて固定される。図１０等に示すように、スキマー支持部材４０は、Ｙ方向移動部材３９の下方側の面の略中央の位置から回転軸方向（Ｙ方向）に沿って奥側に延在するように配置される。
【0148】
スキマー４１は、スキマー支持部材４０の奥側の側面に接続されて固定される。図９及び図１０等に示すように、上下方向（Ｚ方向）から見た場合に、スキマー４１はスリット６０を内部に含むＵ字形状を有する。スキマー４１のスリット６０に、放電電極ＥＡが挿入される。
【0149】
スキマー４１は、スリット６０の内周面を構成する、主調整面３５と、第１の副調整面６１ａと、第２の副調整面６１ｂとを有する。主調整面３５は、左右方向（Ｘ方向）において、放電電極ＥＡの端面側付着面２８ｃの膜厚調整領域３２に対向する位置に、第１の距離Ｄ１をあけて配置される。左右方向（Ｘ方向）において、膜厚調整領域３２と主調整面３５との間隔が第１の距離Ｄ１となる位置が、第１の調整基準位置となる。
【0150】
【0151】
第１の副調整面６１ａは、回転軸方向（Ｙ方向）において、放電電極ＥＡの第１の主面２４ａの第１の付着面２８ａに対向する位置に、距離Ｄ２の間隔をあけて配置される。第２の副調整面６１ｂは、回転軸方向（Ｙ方向）において、放電電極ＥＡの第２の主面２４ｂの第２の付着面２８ｂに対向する位置に、距離Ｄ３の間隔をあけて配置される。
【0152】
本実施形態に係る膜厚調整機構ＳＫＡでは、第１の副調整面６１ａにより、放電電極ＥＡの第１の主面２４ａに付着するプラズマ原料ＳＡの膜厚が調整される。また第２の副調整面６１ｂにより、放電電極ＥＡの第２の主面２４ａに付着するプラズマ原料ＳＡの膜厚が調整される。
【0153】
放電電極ＥＡが回転すると、第１の主面２４ａ及び第２の主面２４ｂに付着するプラズマ原料ＳＡは、遠心力により、放電電極ＥＡの端面７側に移動する。本実施形態では、スキマー４１により、第１の主面２４ａ及び第２の主面２４ｂに付着するプラズマ原料ＳＡの膜厚を調整することが可能であるので、放電電極ＥＡの端面７側へのプラズマ原料ＳＡの移動による端面７上での膜厚に対する影響を十分に抑えることが可能となる。
【0154】
図５を参照して説明したように、左右方向（Ｘ方向）において、第１の調整基準位置が設定される。上記したように、本実施形態では、左右方向（Ｘ方向）において、膜厚調整領域３２と主調整面３５との間隔が第１の距離Ｄ１となる位置が、第１の調整基準位置となる。
【0155】
本実施形態では、回転軸方向（Ｙ方向）において、第２の調整基準位置が設定される。第２の調整基準位置は、放電電極ＥＡの第１の付着面２８ａと第１の副調整面６１ａとの間の距離Ｄ２、及び放電電極ＥＡの第２の付着面２８ｂと第２の副調整面６１ｂとの間の距離Ｄ３とが、所望のサイズとなる位置が設定される。
【0156】
例えば、第２の調整基準位置として、距離Ｄ２及び距離Ｄ３が、ともに所定の第２の距離よりも小さくなる位置が設定される。典型的には、距離Ｄ２及び距離Ｄ３が、互いに等しくなる位置（Ｄ２＝Ｄ３となる位置）が、第２の調整基準位置として設定される。
【0157】
距離Ｄ２のサイズは、第１の付着面２８ａにおいて実現させたいプラズマ原料ＳＡの膜厚に基づいて設定される。距離Ｄ３のサイズは、第２の付着面２８ｂにおいて実現させたいプラズマ原料ＳＡの膜厚に基づいて設定される。典型的には、実現させたプラズマ原料ＳＡの膜厚となるように、距離Ｄ２及び距離Ｄ３が設定される。距離Ｄ２及び距離Ｄ３の両方、又は一方が、第１の距離Ｄ１と等しくなってもよい。
【0158】
本実施形態では、図５に示す位置保持機構３３が、左右方向（Ｘ方向）に直交する回転軸方向（Ｙ方向）において、移動可能となるように、スキマー４１を支持する。また位置保持機構３３は、回転軸方向（Ｙ方向）において、第２の調整基準位置から移動するスキマー４１を、第２の調整基準位置に戻す。
【0159】
また図５に示す姿勢保持機構３４は、回転軸方向（Ｙ方向）において移動するスキマー４１の姿勢を保持する。すなわち本実施形態では、支持機構３１により、左右方向（Ｘ方向）及び回転軸方向（Ｙ方向）の２方向において、調整基準位置での位置保持機能と、スキマー４１の姿勢保持機能が発揮される。
【0160】
【0161】
［コイルばねの取付け］
本実施形態では、４個の接続板４２、８個のボルト４３、及び４個のナット４４を用いて、４個のコイルばね４５が取付けられる。
本実施形態では、４個の接続板４２、８個のボルト４３、及び４個のナット４４を用いて、４個のコイルばね４５が取付けられる。
【0162】
【0163】
図７及び図８に示すように、接続板４２の長辺方向のサイズは、スキマー側部材４９の第１のレール溝５１が形成されない領域の厚みと、Ｘ方向移動部材３８の第１のレール突起５４及び第２のレール溝５５が形成されない領域の厚みとを足し合わせたサイズと略等しい。従って、接続板４２の長辺方向のサイズは、Ｘ方向移動部材３８の第１のレール突起５４及び第２のレール溝５５が形成されない領域の厚みと、Ｙ方向移動部材３９の第２のレール突起５６が形成されない領域の厚みとを足し合わせたサイズと略等しいともいえる。
【0164】
接続板４２の短辺方向のサイズは、スキマー側部材４９に設けられる突出部５２の回転軸方向（Ｙ方向）におけるサイズ（Ｙ方向移動部材３９に設けられる突出部５７の左右方向（Ｘ方向）にけるサイズと等しい）よりも、若干小さい。
【0165】
本実施形態では、複数のコイルばね４５は、同じ種類（同じ特性）のものが用いられる。すなわち、複数のコイルばね４５の各々は、同じ長さで構成されており、同じ弾性力を有する。
【0166】
図６及び図９等に示すように、Ｘ方向移動部材３８の左側の側面の手前側の部分、及び右側の側面の手前側の部分に、接続板４２ａ及び４２ｂがそれぞれ接続される。接続板４２ａ及び４２ｂは、長辺方向が上下方向（Ｚ方向）に沿うように、ボルト４３ａ及び４３ｂを介してＸ方向移動部材３８に接続される。
【0167】
接続板４２ａ及び４２ｂは、下端の位置が、Ｘ方向移動部材３８の下方側の面と略合わされて、Ｘ方向移動部材３８に接続される。従って、接続板４２ａ及び４２ｂの上方側の半分の部分は、Ｘ方向移動部材３８の上方側の面よりも上方側に突出し、スキマー側部材４９の上方側の面の位置付近まで延在する。
【0168】
図６に示すように、Ｘ方向移動部材３８の左側の側面に接続された接続板４２ａの上方側の半分の部分は、スキマー側部材４９に形成された突出部５２と、左右方向（Ｘ方向）に沿って対向する。以下、接続板４２ａの上方側の半分の部分の、突出部５２の左側主面５２ａと対向する面を、ばね支持面６３ａと記載する。
【0169】
図６に示すように、Ｘ方向移動部材３８の右側の側面に接続された接続板４２ｂの上方側の半分の部分は、スキマー側部材４９に形成された突出部５２と、左右方向（Ｘ方向）に沿って対向する。以下、接続板４２ｂの上方側の半分の部分の、突出部５２の右側主面５２ｂと対向する面を、ばね支持面６３ｂと記載する。
【0170】
図６に示すように、ばね支持面６３ａには、左側からボルト４３ｃが挿入され、右側からナット４４ａが取付けられる。ばね支持面６３ｂには、右側からボルト４３ｄが挿入され、左側からナット４４ｂが取付けられる。
【0171】
接続板４２ａ及び４２ｂは、Ｘ方向移動部材３８が左右方向（Ｘ方向）に沿って移動した場合に、Ｘ方向移動部材３８と一体的に移動する。もちろん、接続板４２ａ及び４２ｂに取付けられるボルトやナットもＸ方向移動部材３８と一体的に移動する。
【0172】
なお、接続板４２ａ及び４２ｂの奥側の端部は、スキマー側部材４９の手前側の側面よりも手前側に位置する。従って、Ｘ方向移動部材３８が左右方向（Ｘ方向）に沿って移動する際に、接続板４２ａ及び４２ｂと、スキマー側部材４９とが干渉することはない。
【0173】
図６及び図９に示すように、スキマー側部材４９の突出部５２の左側主面５２ａと、Ｘ方向移動部材３８の左側の側面に接続される接続板４２ａのばね支持面６３ａとの間には、コイルばね４５ａが配置される。コイルばね４５ａは、ナット４４ａ及びばね支持部５３ａにより支持される。
【0174】
スキマー側部材４９の突出部５２の右側主面５２ｂと、Ｘ方向移動部材３８の左側の側面に接続される接続板４２ｂのばね支持面６３ｂとの間には、コイルばね４５ｂが配置される。コイルばね４５ｂは、ナット４４ｂ及びばね支持部５３ｂにより支持される。
【0175】
なお部材同士を接続するための構成や、ばねを支持するための構成として、ボルト及びナットを用いた構成に限定されず、任意の構成が採用されてよい。例えば、部材に対して他の部材を固定する固定ジグや接着剤等、任意の部品が用いられてよい。
【0176】
図６に示すように、第１の調整基準位置となる場合には、突出部５２の左側主面５２ａと接続板４２ａのばね支持面６３ａとの間の距離と、突出部５２の右側主面５２ｂと接続板４２ｂのばね支持面６３ｂとの間の距離とが互いに等しくなる。従って、第１の調整基準位置の状態では、コイルばね４５ａ及び４５ｂの長さは、互いに等しくなる。
【0177】
Ｘ方向移動部材３８が左右方向（Ｘ方向）に沿って第１の調整基準位置から左側に移動した場合、左側のコイルばね４５ａが伸長し、右側のコイルばね４５ｂが圧縮する。この結果、Ｘ方向移動部材３８に対して、右側に向かって力が作用する。これにより、Ｘ方向移動部材３８が第１の調整基準位置に戻される。
【0178】
Ｘ方向移動部材３８が左右方向（Ｘ方向）に沿って第１の調整基準位置から右側に移動した場合、左側のコイルばね４５ａが圧縮し、右側のコイルばね４５ｂが伸長する。この結果、Ｘ方向移動部材３８に対して、左側に向かって力が作用する。これにより、Ｘ方向移動部材３８が第１の調整基準位置に戻される。
【0179】
図８及び図１０等に示すように、Ｘ方向移動部材３８の手前側の側面の右側の部分、及び奥側の側面の右側の部分に、接続板４２ｃ及び４２ｄがそれぞれ接続される。接続板４２ｃ及び４２ｄは、長辺方向が上下方向（Ｚ方向）に沿うように、ボルト４３ｅ及び４３ｆを介してＸ方向移動部材３８に接続される。
【0180】
接続板４２ｃ及び４２ｄは、上端の位置が、Ｘ方向移動部材３８の上方側の面と略合わされて、Ｘ方向移動部材３８に接続される。従って、接続板４２ｃ及び４２ｄの下方側の半分の部分は、Ｘ方向移動部材３８の下方側の面よりも下方側に突出し、Ｙ方向移動部材３９の下方側の面の位置付近まで延在する。
【0181】
図８に示すように、Ｘ方向移動部材３８の手前側の側面に接続された接続板４２ｃの下方側の半分の部分は、Ｙ方向移動部材３９に形成された突出部５７と、回転軸方向（Ｙ方向）に沿って対向する。以下、接続板４２ｃの下方側の半分の部分の、突出部５７の手前側主面５７ａと対向する面を、ばね支持面６３ｃと記載する。
【0182】
図８に示すように、Ｘ方向移動部材３８の奥側の側面に接続された接続板４２ｄの下方側の半分の部分は、Ｙ方向移動部材３９に形成された突出部５７と、回転軸方向（Ｙ方向）に沿って対向する。以下、接続板４２ｄの下方側の半分の部分の、突出部５７の奥側主面５７ｂと対向する面を、ばね支持面６３ｄと記載する。
【0183】
図８に示すように、ばね支持面６３ｃには、手前側からボルト４３ｇが挿入され、奥側からナット４４ｃが取付けられる。ばね支持面６３ｄには、奥側からボルト４３ｈが挿入され、手前側からナット４４ｄが取付けられる。
【0184】
接続板４２ｃ及び４２ｄは、Ｘ方向移動部材３８が左右方向（Ｘ方向）に沿って移動した場合に、Ｘ方向移動部材３８と一体的に移動する。もちろん、接続板４２ｃ及び４２ｄに取付けられるボルト及びナットもＸ方向移動部材３８と一体的に移動する。回転軸方向（Ｙ方向）においては、Ｘ方向移動部材３８は移動しないので、接続板４２ｃ及び４２ｄは移動しない。
【0185】
なお、接続板４２ｃ及び４２ｄの左側の端部は、Ｙ方向移動部材３９の右側の側面よりも右側に位置する。従って、Ｙ方向移動部材３９が回転軸方向（Ｙ方向）に沿って移動する際に、接続板４２ｃ及び４２ｄと、Ｙ方向移動部材３９とが干渉することはない。
【0186】
図８及び図１０に示すように、Ｙ方向移動部材３９の突出部５７の手前側主面５７ａと、Ｘ方向移動部材３８の手前側の側面に接続される接続板４２ｃのばね支持面６３ｃとの間には、コイルばね４５ｃが配置される。コイルばね４５ｃは、ナット４４ｃ及びばね支持部５８ａにより支持される。
【0187】
Ｙ方向移動部材３９の突出部５７の奥側主面５７ｂと、Ｘ方向移動部材３８の奥側の側面に接続される接続板４２ｄのばね支持面６３ｄとの間には、コイルばね４５ｄが配置される。コイルばね４５ｄは、ナット４４ｄ及びばね支持部５８ｂにより支持される。
【0188】
図８及び図１０に示すように、第２の調整基準位置となる場合には、突出部５７の手前側主面５７ａと接続板４２ｃのばね支持面６３ｃとの間の距離と、突出部５７の奥側主面５７ｂと接続板４２ｄのばね支持面６３ｄとの間の距離とが互いに等しくなる。従って、第２の調整基準位置の状態では、コイルばね４５ｃ及び４５ｄの長さは、互いに等しくなる。
【0189】
Ｙ方向移動部材３９が回転軸方向（Ｙ方向）に沿って第２の調整基準位置から手前側に移動した場合、手前側のコイルばね４５ｃが圧縮し、奥側のコイルばね４５ｄが伸長する。この結果、Ｙ方向移動部材３９に対して、奥側に向かって力が作用する。これにより、Ｙ方向移動部材３９が第２の調整基準位置に戻される。
【0190】
Ｙ方向移動部材３９が回転軸方向（Ｙ方向）に沿って第２の調整基準位置から奥側に移動した場合、手前側のコイルばね４５ｃが伸長し、奥側のコイルばね４５ｄが圧縮する。この結果、Ｙ方向移動部材３９に対して、手前側に向かって力が作用する。これにより、Ｙ方向移動部材３９が第２の調整基準位置に戻される。
【0191】
図６等に示すように、スキマー４１は、スキマー支持部材４０を介して、Ｙ方向移動部材３９に接続されて固定される。従って、スキマー４１は、左右方向（Ｘ方向）において、Ｘ方向移動部材３８と一体的に移動することが可能である。すなわち、スキマー４１は、左右方向（Ｘ方向）においてＸ方向移動部材３８が移動した場合に、Ｘ方向移動部材３８と一体的に移動するように、Ｘ方向移動部材３８に接続されている。
【0192】
またスキマー４１は、回転軸方向（Ｙ方向）において、Ｙ方向移動部材３９と一体的に移動することが可能である。すなわち、スキマー４１は、回転軸方向（Ｙ方向）においてＹ方向移動部材３９が移動した場合に、Ｙ方向移動部材３９と一体的に移動するように、Ｙ方向移動部材３９に接続されている。
【0193】
上記したように、Ｘ方向移動部材３８は、第１のレール溝５１及び第１のレール突起５４を介して、姿勢を保持したまま移動する。従って、スキマー４１についても、姿勢が保持された状態で、左右方向（Ｘ方向）に沿って移動可能となる。
【0194】
また、Ｙ方向移動部材３９は、第２のレール溝５５及び第２のレール突起５６を介して、姿勢を保持したまま移動する。従って、スキマー４１についても、姿勢が保持された状態で、回転軸方向（Ｙ方向）に沿って移動可能となる。
【0195】
すなわち、本実施形態に係る膜厚調整機構ＳＫＡでは、スキマー４１は、姿勢が保持された状態で、左右方向（Ｘ方向）及び回転軸方向（Ｙ方向）の各々において、直線的に移動することが可能となる。
【0196】
またスキマー４１は、左右方向（Ｘ方向）に沿って移動した場合に、コイルばね４５ａ及び４５ｂにより、第１の調整基準位置に戻される。また、スキマー４１は、回転軸方向（Ｙ方向）に沿って移動した場合に、コイルばね４５ｃ及び４５ｄにより、第２の調整基準位置に戻される。
【0197】
スキマー４１は、例えばタングステン（Ｗ）やモリブデン（Ｍｏ）等、高温のプラズマ原料ＳＡに対して不活性な材料で構成される。スキマー４１以外の部材も、スキマー４１と同じ材料で構成されもよいし、他の材料が用いられてもよい。例えば、ステンレス鋼（ＳＵＳ）等の材料により、基体部材３７、Ｘ方向移動部材３８、Ｙ方向移動部材３９、スキマー支持部材４０、接続板４２等が構成されてもよい。
【0198】
図６～図１０に示す膜厚調整機構ＳＫＡでは、基体部材３７（コンテナ側部材４８、スキマー側部材４９）、Ｘ方向移動部材３８、Ｙ方向移動部材３９、スキマー支持部材４０、接続板４２ａ～４２ｄ、ボルト４３ａ～４３ｈ、ナット４４ａ～４４ｃ、及びコイルばね４５ａ～４５ｄにより、図５に示す支持機構３１が実現される。スキマー４１により、図５に示す膜厚調整部材３０が実現される。
【0199】
また、左右方向（Ｘ方向）は、本発明に係る第１の方向の一実施形態となる。また回転軸方向（Ｙ方向）が、第１の方向に直交する第２の方向の一実施形態となる。
【0200】
スキマー側部材４９の突出部５２、Ｘ方向移動部材３８に接続される接続板４２ａ及び４２ｂ、ボルト４３ａ～４３ｄ、ナット４４ａ及び４４ｂ、及びコイルばね４５ａ及び４５ｂが、図５に示す位置保持機構３３として機能し、左右方向（Ｘ方向）において位置保持機能を発揮する。
【0201】
また、Ｘ方向移動部材３８に接続される接続板４２ｃ及び４２ｄ、Ｙ方向移動部材３９の突出部５７、ボルト４３ｅ～４３ｈ、ナット４４ｃ及び４４ｄ、及びコイルばね４５ｃ及び４５も、図５に示す位置保持機構３３として機能し、回転軸方向（Ｙ方向）において位置保持機能を発揮する。
【0202】
Ｘ方向移動部材３８、スキマー側部材４９の第１のレール溝５１、及びＸ方向移動部材３８の第１のレール突起５４が、図５に示す姿勢保持機構３４として機能し、左右方向（Ｘ方向）において移動するスキマー４１の姿勢を保持する姿勢保持機能を発揮する。
【0203】
また、Ｙ方向移動部材３９、Ｘ方向移動部材３８の第２のレール溝５５、及びＹ方向移動部材３９の第２のレール突起５６も、図５に示す姿勢保持機構３４として機能し、回転軸方向（Ｙ方向）において移動するスキマー４１の姿勢を保持する姿勢保持機能を発揮する。
【0204】
また本実施形態では、基体部材３７（コンテナ側部材４８、スキマー側部材４９）が、本発明に係る基体部材の一実施形態となる。Ｘ方向移動部材３８、接続板４２ａ及び４２ｂ、ボルト４３ａ～４３ｄ、及びナット４４ａ及び４４ｂが、基体部材に対して第１の方向に移動可能に接続される第１の移動部材の一実施形態となる。スキマー側部材４９の第１のレール溝５１、及びＸ方向移動部材３８の第１のレール突起５４が、第１の方向に沿って延在する第１のレール機構の一実施形態となる。
【0205】
Ｙ方向移動部材３９、接続板４２ｃ及び４２ｄ、ボルト４３ｅ～４３ｈ、及びナット４４ｃ及び４４ｄが、基体部材に対して第２の方向に移動可能に接続される第２の移動部材の一実施形態となる。Ｘ方向移動部材３８の第２のレール溝５５、及びＹ方向移動部材３９の第２のレール突起５６が、第２の方向に沿って延在する第２のレール機構の一実施形態となる。
【0206】
また、本実施形態では、スキマー側部材４９は、第１の方向において固定されている第１の固定部材の一実施形態となる。コイルばね４５ａ及び４５ｂは、第１の固定部材と第１の移動部材との間に第１の方向に沿って延在するように配置される１以上の第１のばねの一実施形態となる。
【0207】
左右方向（Ｘ方向）における左側が、第１の方向における第１の側の一実施形態となる。左右方向（Ｘ方向）における右側が、第１の方向における第１の側とは反対側の第２の側の一実施形態となる。
【0208】
スキマー側部材４９の突出部５２の左側主面５２ａが、第１の方向に直交し第１の方向における第１の側に向けられる第１の固定側支持面の一実施形態となる。突出部５２の右側主面５２ｂが、第１の方向に直交し第１の方向における第１の側とは反対側の第２の側に向けられる第２の固定側支持面の一実施形態となる。
【0209】
Ｘ方向移動部材３８に接続される接続板４２ａのばね支持面６３ａが、第１の方向において第１の固定側支持面に対向する第１の移動側支持面の一実施形態となる。接続板４２ｂのばね支持面６３ｂが、第１の方向において第２の固定側支持面に対向する第２の移動側支持面の一実施形態となる。
【0210】
コイルばね４５ａは、第１の固定側支持面と第１の移動側支持面との間に配置されるコイルばねの一実施形態となる。コイルばね４５ｂは、第２の固定側支持面と第２の移動側支持面との間に配置されるコイルばねの一実施形態となる。
【0211】
また、本実施形態では、Ｘ方向移動部材３８は、第２の方向において固定されている第２の固定部材の一実施形態となる。コイルばね４５ｃ及び４５ｄは、第２の固定部材と第２の移動部材との間に第２の方向に沿って延在するように配置される１以上の第２のばねの一実施形態となる。
【0212】
回転軸方向（Ｙ方向）における手前側が、第２の方向における第３の側の一実施形態となる。回転軸方向（Ｙ方向）における奥側が、第２の方向における第３の側とは反対側の第４の側の一実施形態となる。
【0213】
接続板４２ｄのばね支持面６３ｄが、第２の方向に直交し第２の方向における第３の側に向けられる第３の固定側支持面の一実施形態となる。接続板４２ｃのばね支持面６３ｃが、第２の方向に直交し第２の方向における第３の側とは反対側の第４の側に向けられる第４の固定側支持面の一実施形態となる。
【0214】
Ｙ方向移動部材３９の突出部５７の奥側主面５７ｂが、第２の方向において第３の固定側支持面に対向する第３の移動側支持面の一実施形態となる。突出部５７の手前側主面５７ａが、第２の方向において第４の固定側支持面に対向する第４の移動側支持面の一実施形態となる。
【0215】
コイルばね４５ｄは、第３の固定側支持面と第３の移動側支持面との間に配置されるコイルばねの一実施形態となる。コイルばね４５ｃは、第４の固定側支持面と第４の移動側支持面との間に配置されるコイルばねの一実施形態となる。
【0216】
［比較例の膜厚調整機構］
図１１及び図１２は、比較例として挙げる膜厚調整機構ＳＫＺの構成例を示す図である。
図１１は、膜厚調整機構ＳＫＺを、正面から見た場合の図である。
図１２は、膜厚調整機構ＳＫＺを、左側から見た場合の左側面図である。
図１１及び図１２は、比較例として挙げる膜厚調整機構ＳＫＺの構成例を示す図である。
図１１は、膜厚調整機構ＳＫＺを、正面から見た場合の図である。
図１２は、膜厚調整機構ＳＫＺを、左側から見た場合の左側面図である。
【0217】
【0218】
基体部材６５は、放電電極ＥＡに対して所定の位置関係となるように、放電電極ＥＡとは別の物体に固定して配置される。図１１及び図１２等に示すように、基体部材６５は、直方体形状を有し、コンテナＣＡの第１の側壁２６ａに形成された切り欠き２９の上方側の部分に接続されて固定される。
【0219】
移動部材６６は、直方体形状を有し、基体部材６５に対して移動可能に接続される。本実施形態では、ヒンジ６７を介して、基体部材６５と移動部材６６とが接続される。
【0220】
図１１及び図１２に示すように、ヒンジ６７は、上下方向（Ｚ方向）に延在する薄肉部材からなる。ヒンジ６７の上端が、基体部材６５の下方側の面の手前側の部分であって、左右方向（Ｘ方向）における中央の位置に接続される。ヒンジ６７の下端は、移動部材６６の上方側の面の手前側の部分であって、左右方向（Ｘ方向）における中央位置に接続される。
【0221】
スキマー支持部材６８は、移動部材６６の下方側の面に接続されて固定される。図１１及び図１２等に示すように、スキマー支持部材４０は、直方体形状の部材である。スキマー支持部材４０の上方側の面が、移動部材６６の下方側の面に接続されて固定される。
【0222】
スキマー６８は、スキマー支持部材４０の奥側の側面に接続されて固定される。スキマー６８は、図６～図１０に示すスキマー４１と略等しい構成を有し、上下方向（Ｚ方向）から見た場合に、スリット７０を内部に含むＵ字形状を有する。スキマー６８のスリット７０に、放電電極ＥＡが挿入される。
【0223】
図１１及び図１２に示すように、スキマー６９は、スリット７０の内周面を構成する、主調整面７１と、第１の副調整面７２ａと、第２の副調整面７２ｂとを有する。主調整面３５は、左右方向（Ｘ方向）において、放電電極ＥＡの端面側付着面２８ｃに対向する位置に、第１の距離Ｄ１をあけて配置される。なお図１１では、スキマー６９のスリット７０内に配置される主調整面７１と、端面側付着面２８ｃが、破線で図示されている。
【0224】
第１の副調整面７２ａは、回転軸方向（Ｙ方向）において、放電電極ＥＡの第１の主面２４ａの第１の付着面２８ａに対向する位置に、距離Ｄ２の間隔をあけて配置される。第２の副調整面７２ｂは、回転軸方向（Ｙ方向）において、放電電極ＥＡの第２の主面２４ｂの第２の付着面２８ｂに対向する位置に、距離Ｄ３の間隔をあけて配置される。
【0225】
比較例に係る膜厚調整機構ＳＫＺにおいても、主調整面７１により、端面側付着面２８ｃに付着するプラズマ原料ＳＡの膜厚が調整される。また第１の副調整面７２ａにより、放電電極ＥＡの第１の主面２４ａに付着するプラズマ原料ＳＡの膜厚が調整される。また第２の副調整面７２ｂにより、放電電極ＥＡの第２の主面２４ａに付着するプラズマ原料ＳＡの膜厚が調整される。
【0226】
［スキマーによる膜厚調整に関する考察］
放電領域Ｒに輸送される放電電極ＥＡの表面上の液体状のプラズマ原料ＳＡの膜厚が小さすぎると、レーザビームＬＢを照射した際に生じる気化原料の量が不足する。これにより、放電によって高温のプラズマＰを生成する際に、プラズマＰの強度（密度）が不十分となる。この結果、所望の強度のＥＵＶ光をプラズマＰから取り出せなくなる。
放電領域Ｒに輸送される放電電極ＥＡの表面上の液体状のプラズマ原料ＳＡの膜厚が小さすぎると、レーザビームＬＢを照射した際に生じる気化原料の量が不足する。これにより、放電によって高温のプラズマＰを生成する際に、プラズマＰの強度（密度）が不十分となる。この結果、所望の強度のＥＵＶ光をプラズマＰから取り出せなくなる。
【0227】
一方、プラズマ原料ＳＡの膜厚が大きすぎると、放電電極ＥＡの回転の際に生じる遠心力により、放電電極ＥＡの表面上のプラズマ原料ＳＡの一部が飛散し、デブリとなって光源装置１の内部の不所望な部位に付着するおそれが生じる。また、プラズマ原料ＳＡの膜厚が大きすぎるとプラズマ原料ＳＡにレーザビームＬＢを照射した場合、生じる気化原料（低温プラズマ）の量が過剰となる。
【0228】
そして、その後、放電によって高温のプラズマＰを生成する際、プラズマＰの密度が高くなりすぎ、プラズマＰから放出されるＥＵＶ光の一部がこの高密度のプラズマＰによって吸収されたり、プラズマＰからＥＵＶ光以外の波長を有する光の放出量が多くなったりする。従って、放電領域Ｒに輸送される放電電極ＥＡの表面上の液体状のプラズマ原料ＳＡの膜厚は、所定の厚みに調整する必要がある。
【0229】
プラズマ原料ＳＡの膜厚を調整するために、プラズマ原料ＳＡが付着する面に対して、所定の間隔をあけてスキマーが配置される。スキマーは、放電電極ＥＡの回転時及び静止時に両方において、実現させたいプラズマ原料ＳＡの膜厚に応じた距離の間隔をあけて配置され支持される。
【0230】
本実施形態では、図６～図１０に示す膜厚調整機構ＳＫＡが、放電電極ＥＡに対してスキマー４１が所定の位置関係となるように配置される。すなわち、端面側付着面２８ｃと主調整面３５との間の第１の距離Ｄ１、第１の付着面２８ａと第１の副調整面６１ａとの間の距離Ｄ２、及び第２の付着面２８ｂと第２の副調整面６１ｂとの間の距離Ｄ３がそれぞれ所定の値となるように、膜厚調整機構ＳＫＡが配置される。
【0231】
また、図１１及び図１２に示す膜厚調整機構ＳＫＺが、放電電極ＥＡに対してスキマー６９が所定の位置関係となるように配置される。すなわち、端面側付着面２８ｃと主調整面７１との間の第１の距離Ｄ１、第１の付着面２８ａと第１の副調整面７２ａとの間の距離Ｄ２、及び第２の付着面２８ｂと第２の副調整面７２ｂとの間の距離Ｄ３がそれぞれ所定の値となるように、膜厚調整機構ＳＫＺが配置される。
【0232】
スキマー４１（６９）の主調整面３５（７１）、第１の副調整面６１ａ（７２ａ）、及び第２の副調整面６１ｂ（７２ｂ）により、端面側付着面２８ｃ、第１の付着面２８ａ、及び第２の付着面２８ｂに付着するプラズマ原料ＳＡが削られ、あるいは押しのけられて、所定の膜厚に調整される。
【0233】
ここで、円盤状の放電電極ＥＡが若干偏心していたり、放電電極ＥＡの重心位置が中心と同じであっても中心からの距離すなわち半径が不均一となる場合もあり得る。このような形状の放電電極ＥＡが回転すると、動きにブレが生じる。ブレて回転する放電電極ＥＡの全周にわたって、プラズマ原料ＳＡの膜厚を均一にするためには、偏心している部分や半径が異なる部分に対して、スキマー４１（６９）が追従して動くことが望ましい。すなわち放電電極ＥＡの回転動作のブレに追従して、スキマー４１（６９）が追従して動くことが望ましい。
【0234】
また、放電電極ＥＡの回転軸方向において、微妙な歪みやサイズのバラつき等が発生する場合もあり得る。また光源装置１の駆動時に、放電領域Ｒ周辺の温度の上昇等による各部材の熱膨張や変形、プラズマ原料ＳＡの粘性の変化等が発生する場合もあり得る。また、放電電極ＥＡを回転させるためのベアリングの摩耗等により、放電電極ＥＡの回転動作時にブレが発生してしまうこともあり得る。
【0235】
このような、放電電極ＥＡの微妙な歪み、光源装置１の駆動時における放電電極ＥＡの熱膨張や変形、回転動作時のブレ、プラズマ原料ＳＡの粘性の変化等により、スキマー４１（６９）がプラズマ原料ＳＡから意図しない過剰な応力を受けることもあり得る。特に長時間の駆動時には、このような意図しない応力の影響が大きくなると考えられる。
【0236】
図１１及び図１２に示す膜厚調整機構ＳＫＺでは、くびれている部分であるヒンジ６７を中心に、スキマー６９が移動可能に構成されている。従って、放電電極ＥＡの形状の変化に追従してスキマー６９を移動させることが可能である。また、放電電極ＥＡの微妙な歪みや、光源装置１の駆動時における放電電極ＥＡの熱膨張や変形、プラズマ原料ＳＡの粘性の変化等により発生する意図しない応力を、スキマー６９が移動することで吸収することが可能である。
【0237】
しかしながら図１１に示すように、膜厚調整機構ＳＫＺでは、回転軸方向（Ｙ方向）から見た場合に、スキマー６８はヒンジ６７を中心に円弧運動する。また図１２に示すように、左右方向（Ｘ方向）から見た場合も同様に、スキマー６８はヒンジ６７を中心に円弧運動する。すなわち、比較例に係る膜厚調整機構ＳＫＺでは、スキマー６８の姿勢は保持されずに、スキマー６８が傾いた状態で移動することになる。
【0238】
そうすると、例えば図１３に示すように、回転軸方向（Ｙ方向）から見た場合に、スキマー６９の右側の部分が、左側の部分よりも上方側となるように、スキマー６９が傾いてしまう場合も起こり得る。この場合、スキマー６９の主調整面７１の上方側の端部が放電電極ＥＡの端面側付着面２８ｃに接触してしまい、スキマー６９が放電電極ＥＡに噛み込んでしまう可能性がある。
【0239】
また、図１４に示すように、左右方向（Ｘ方向）から見た場合に、スキマー６９の手前側の部分が奥側の部分よりも下方側となるように、スキマー６９が傾いてしまう場合も起こり得る。この場合、スキマー６９と放電電極ＥＡとの間で、第１の副調整面７２ａと第１の付着面２８ａとの接触や、第２の副調整面７２ｂと第２の付着面２８ｂとの接触が発生し、スキマー６９が放電電極ＥＡに噛み込んでしまう可能性がある。
【0240】
また図１５に示すように、上下方向（Ｚ方向）において下方側から見た場合に、ヒンジ６７の位置を中心にスキマー６９が回転運動してしまい、スキマー６９が放電電極ＥＡに噛み込んでしまう可能性もある。
【0241】
図１６に示すように、スキマー６９が放電電極ＥＡに噛み込んでしまった結果、スキマー６９が放電電極ＥＡの回転方向に引っ張られ、コンテナＣＡの切り欠き２９の上端部に衝突して停止してしまうこともあり得る。この結果、放電電極ＥＡの回転が強制的に停止してしまうことも十分に考えられる。
【0242】
放電電極ＥＡの回転が停止されたままプラズマＰの発生動作が続けられると、プラズマ原料ＳＡが消費された状態の照射位置２５にレーザビームＬＢが連続的に照射されることになり、放電電極ＥＡが損傷してしまう。また放電電極ＥＡの回転が停止することにより、液体状のプラズマ原料ＳＡが、放電領域Ｒに供給されなくなってしまうので、ＥＵＶ光の光量も得られなくなる。従って、光源装置１の駆動を一旦停止させなければならなくなる。
【0243】
また、図１６に示すように、ビンジ６７が復元できないほど曲がってしまった場合、すなわち弾性変形領域をこえて塑性変形してしまった場合、光源装置１を再び駆動できるように復帰させるには、膜厚調整機構ＳＫＺを新しいものに交換しなければならない。
【0244】
【0245】
噛み込みが繰り返し発生する場合等では、摩擦により、スキマー６９の各調整面が摩耗し削れていくので、放電電極ＥＡの付着面２８と、スキマー６９の各調整面との間隔（距離Ｄ１～Ｄ３）が広がってしまう。これにより、プラズマ原料ＳＡの膜厚が、所望の膜厚よりも大きくなってしまう。この結果、放電電極ＥＡが回転する際のデブリの飛散量が増えてしまい、光源装置１の内部に付着してしまう。またレーザビームＬＢの照射による気化されるプラズマ原料ＳＡの量が過剰となってしまい、所望のＥＵＶ光の光量が得られなくなってしまう。従って、スキマー６９の交換も必要になってしまう。
【0246】
また、放電電極ＥＡとスキマー６９との噛み込みにより、放電電極ＥＡが摩耗して削れてしまう場合もあり得る。その場合、放電電極ＥＡの交換が必要になってしまう。
【0247】
図６～図１０に示す本実施形態に係る膜厚調整機構ＳＫＡでは、左右方向（Ｘ方向）及び回転軸方向（Ｙ方向）の２方向において、スキマー４１の姿勢を保持したまま、スキマー４１を直線的に移動させることが可能である。
【0248】
従って、放電電極ＥＡの形状の変化に追従してスキマー４１を移動させることが可能である。また、放電電極ＥＡの微妙な歪みや、光源装置１の駆動時における放電電極ＥＡの熱膨張や変形、プラズマ原料ＳＡの粘性の変化等により発生する意図しない応力を、スキマー４１が移動することで吸収することが可能である。
【0249】
例えば、放電電極ＥＡの偏心等により、第１の調整基準位置に配置されたスキマー４１に対して、端面側付着面２８ｃが近づく（端面側付着面２８ｃと主調整面３５との距離が小さくなる）状況が、周期的に繰り返されるとする。
【0250】
仮に、左右方向（Ｘ方向）において、スキマー４１が固定されているとすると、周期的な距離の変動に応じて、放電領域Ｒに供給されるプラズマ原料ＳＡの膜厚も周期的に変化してしまう。
【0251】
本実施形態では、姿勢保持機構３４により、スキマー４１が、左右方向（Ｘ方向）に沿って、姿勢を保持した状態で直線的に移動可能に構成される。また、位置保持機構３３により、左右方向（Ｘ方向）において第１の調整基準位置から移動するスキマー４１が、第１の調整基準位置に戻される。
【0252】
これにより、周期的に発生する端面側付着面２８ｃと主調整面３５との距離の変化に追従して、スキマー４１を移動させることが可能となる。また、端面側付着面２８ｃと主調整面３５との距離を、第１の距離Ｄ１でほぼ維持することが可能となる。この結果、放電領域Ｒに供給されるプラズマ原料ＳＡの膜厚の変動を十分に抑制することが可能となり、膜厚の均一化を図ることが可能となる。
【0253】
回転軸方向（Ｙ方向）においても、同様に、姿勢保持機構３４により、スキマー４１が、回転軸方向（Ｙ方向）に沿って、姿勢を保持した状態で直線的に移動可能に構成される。また、位置保持機構３３により、回転軸方向（Ｙ方向）において第２の調整基準位置から移動するスキマー４１が、第２の調整基準位置に戻される。
【0254】
この結果、回転軸方向（Ｙ方向）においても、放電電極ＥＡの形状の変化等に追従して、スキマー４１を移動させることが可能となる。また、第１の付着面２８ａと第１の副調整面６１ａとの距離Ｄ２、及び第２の付着面２８ｂと第２の副調整面６１ｂとの距離Ｄ３を、設定されたサイズで保持することが可能となる。この結果、第１の付着面２８ａ及び第２の付着面２８ｂにおいても、プラズマ原料ＳＡの膜厚の変動を抑制することが可能となり、膜厚の均一化を図ることが可能となる。
【0255】
また、左右方向（Ｘ方向）及び回転軸方向（Ｙ方向）の２方向において、スキマー４１の姿勢が保持されるので、図１３～図１５で示したような、放電電極ＥＡとスキマー４１との噛み込みを十分に抑制することが可能となる。
【0256】
従って、ＥＵＶ光の放射動作中における放電電極ＥＡの回転の強制的な停止、膜厚調整機構ＳＫＡの支持機構３１の変形や破損、スキマー４１の各調整面の摩耗や削れ等を、防止することが可能となる。
【0257】
これにより、放電路域Ｄにおける液体状のプラズマ原料ＳＡの膜厚を高い精度で、長期間安定して調整することが可能となる。この結果、所望のＥＵＶ光の光量を得ることが可能となり、光源装置１の安定した長時間運転が実現される。
【0258】
また図６～図１０に示す膜厚調整機構ＳＫＡでは、第１のレール機構（第１のレール溝５１、第１のレール突起５４）及び第２のレール機構（第２のレール溝５５、第２のレール突起５６）が構成されている。これにより、スキマー４１が大きく移動するような場合でも、支持機構３１が復元不能なほど変形してしまうことがない。また膜厚調整機構ＳＫＡでは、ヒンジ６７が用いられる構成と比べて、支持機構３１の剛性が高い。
【0259】
従って、仮に膜厚調整機構ＳＫＡに、想定されていないような外力が作用してしまった場合でも、支持機構３１の破損や変形を抑えることが可能となる。この結果、膜厚調整機構ＳＫＡの交換が必要となるケースの発生頻度を十分に抑制することが可能となる。万が一放電電極ＥＡとスキマー４１との間で噛み込みが発生した場合でも、支持機構３１の破損や変形を抑制することが可能であるので、フェイルセーフとして機能することが可能である。
【0260】
［複数のコイルバネについて］
図６～図１０に示す膜厚調整機構ＳＫＡでは、４つのコイルばね４５ａ～４５ｄが、位置保持機構３３を構成する要素として用いられる。具体的には、左右方向（Ｘ方向）に沿って延在するように、コイルばね４５ａ及び４５ｂが、突出部５２を間に挟み込むように配置される。また、回転軸方向（Ｙ方向）にそって延在するように、コイルばね４５ｃ及び４５ｄが、突出部５７を間に挟み込むように配置される。このよに、２つのコイルばね４５を両側に配置することで、安定した位置保持機能を発揮することが可能となる。
図６～図１０に示す膜厚調整機構ＳＫＡでは、４つのコイルばね４５ａ～４５ｄが、位置保持機構３３を構成する要素として用いられる。具体的には、左右方向（Ｘ方向）に沿って延在するように、コイルばね４５ａ及び４５ｂが、突出部５２を間に挟み込むように配置される。また、回転軸方向（Ｙ方向）にそって延在するように、コイルばね４５ｃ及び４５ｄが、突出部５７を間に挟み込むように配置される。このよに、２つのコイルばね４５を両側に配置することで、安定した位置保持機能を発揮することが可能となる。
【0261】
また、上記した実施形態では、４つのコイルばね４５ａ～４５ｄとして、同じ種類のものが用いられた。これに限定されず、同一方向に沿って並ぶ２つのコイルばね４５として、異なる種類のもの（例えば弾性力が異なるもの等）が用いられてもよい。例えば、左右方向（Ｘ方向）に沿って配置されるコイルばね４５ａ及び４５ｂとして、異なる種類のものが用いられてもよい。また、回転軸方向（Ｙ方向）に沿って配置されるコイルばね４５ｃ及び４５ｄとして、異なる種類のものが用いられてもよい。
【0262】
コイルばね４５ａ～４５ｄの各々の特性（ばね定数等）を適宜設定することで、例えば第１の調整基準位置からの左側への移動に対する復元力と、第１の調整基準位置からの右側への移動に対する復元力とを異ならせるといったことが可能となる。また第２の調整基準位置からの手前側への移動に対する復元力と、第１の調整基準位置からの奥側への移動に対する復元力とを異ならせるといったことが可能となる。
【0263】
一方で、同一方向に沿って並ぶ２つのコイルばね４５として同じ種類のものを用いることで、周辺の過渡的な温度変化が起きた場合でも、位置保持機能を安定して発揮することが可能となる。これにより、環境の変化といった外乱の位置保持機能への影響を抑制することが可能となる。
【0264】
なお、図５に示す位置保持機構３３を実現するための構成が、図６～図１０に示す４つのコイルばね４５を配置する構成に限定される訳ではない。１以上の圧縮ばね、１以上の引張ばね、１以上の平行板ばね、ダンパーのような粘性を持った１以上の素子、その他の弾性体等を用いた任意の構成が採用されてよい。
【0265】
以上、本実施形態に係る光源装置１及び膜厚調整機構ＳＫＡでは、液体状のプラズマ原料ＳＡが付着される付着面２８に対向する位置に間隔をあけてスキマー４１が配置され、支持機構３１により付着面２８に対向する左右方向（Ｘ方向）において移動可能となるようにスキマー４１が支持される。また支持機構３１は、左右方向（Ｘ方向）において移動するスキマー４１を第１の調整基準位置に戻す位置保持機構３３と、左右方向（Ｘ方向）において移動するスキマー４１の姿勢を保持する姿勢保持機構３４とを有する。これにより、プラズマＰの発生領域である放電領域Ｒにおけるプラズマ原料ＳＡの膜厚を高い精度で調整することが可能となる。
【0266】
本発明者は、放電電極ＥＡに対する膜厚の調整動作について、６００時間におよぶ観察を行った。この結果、図６～図１０に示す新規の膜厚調整機構ＳＫＡを採用した場合、膜厚の変動の最大値が１０分の１以下になっている結果を得ることができた。
【0267】
スキマーの噛み込みや、放電電極ＥＡの回転の停止は、膜厚の変動が大きいときに発生する可能性が高い。本実施形態に係る膜厚調整機構ＳＫＡを用いることで、スキマーの噛み込みや放電電極ＥＡの回転の停止を十分に防止することが可能となり、ＥＵＶ光の安定定的な発行を長時間得られることが可能となる。
【0268】
図６～図１０に示す例では、スキマー側部材４９とＸ方向移動部材３８との間に、第１のレール機構（第１のレール溝５１、第１のレール突起５４）が構成される。また、Ｘ方向移動部材３８とＹ方向移動部材３９との間に、第２のレール機構（第２のレール溝５５、第２のレール突起５６）が構成される。
【0269】
すなわち本実施形態では、基体部材３７と第１の移動部材（Ｘ方向移動部材３８、接続板４２ａ及び４２ｂ、ボルト４３ａ～４３ｄ、及びナット４４ａ及び４４ｂ）との間に第１のレール機構が構成されている。また、第１の移動部材と第２の移動部材（Ｘ方向移動部材３８、接続板４２ａ及び４２ｂ、ボルト４３ａ～４３ｄ、及びナット４４ａ及び４４ｂ）との間に第２のレール機構が構成されている。また、第２の移動部材が第１の移動部材を介して基体部材３７に接続され、かつ、スキマー４１が第２の移動部材を介して第１の移動部材に接続される。
【0270】
これに限定されず、基体部材３７の下方側の面に回転軸方向（Ｙ方向）に沿って延在するレール溝が形成され、当該レール溝にＹ方向移動部材３９の第２のレール突起５６が摺動可能に嵌め込まれてもよい。この場合、基体部材３７の下方側の面に形成されるレール溝と、Ｙ方向移動部材３９の第２のレール突起５６により、第２のレール機構が実現される。
【0271】
そして、Ｙ方向移動部材３９の下方側の面に、左右方向（Ｘ方向）に延在するレール溝が形成され、当該レール溝にＸ方向移動部材３８の第１のレール突起５４が摺動可能に接続される。この場合、Ｙ方向移動部材３９の下方側の面に形成されるレール溝と、Ｘ方向移動部材３８の第１のレール突起５６により、第１のレール機構が実現される。
【0272】
すなわち本実施形態のように、基体部材３７、Ｘ方向移動部材３８、及びＹ方向移動部材３９の順番で、これらの部材が直接的に接続されてもよいし、基体部材３７、Ｙ方向移動部材３９、及びＸ方向移動部材３８の順番で、これらの部材が直接的に接続されてもよい。後者の場合では、基体部材３７と第２の移動部材との間に第２のレール機構が構成され、かつ、第２の移動部材と第１の移動部材との間に第１のレール機構が構成される。また、第１の移動部材は第２の移動部材を介して基体部材３７に接続され、スキマー４１は第１の移動部材を介して第２の移動部材に接続される。いずれの構成であっても、上記した効果を発揮することが可能である。
【0273】
（第２の実施形態）
図１７は、第２の実施形態に係る膜厚調整機構ＳＫＡの模式図である。
図１７に示す膜厚調整機構ＳＫＡでは、Ｙ方向移動部材３９が省略されており、Ｘ方向移動部材３８に、スキマー支持部材４０が接続されて固定される。従って、図１７に示す例では、スキマー４１は、左右方向（Ｘ方向）において移動可能となる。また、位置保持機構３３及び姿勢保持機構３４により、左右方向（Ｘ方向）における移動に対して、位置保持機能と姿勢保持機能が発揮される。このような構成の膜厚調整機構ＳＫＡも、本発明に係る膜厚調整機構の一実施形態に含まれる。
図１７は、第２の実施形態に係る膜厚調整機構ＳＫＡの模式図である。
図１７に示す膜厚調整機構ＳＫＡでは、Ｙ方向移動部材３９が省略されており、Ｘ方向移動部材３８に、スキマー支持部材４０が接続されて固定される。従って、図１７に示す例では、スキマー４１は、左右方向（Ｘ方向）において移動可能となる。また、位置保持機構３３及び姿勢保持機構３４により、左右方向（Ｘ方向）における移動に対して、位置保持機能と姿勢保持機能が発揮される。このような構成の膜厚調整機構ＳＫＡも、本発明に係る膜厚調整機構の一実施形態に含まれる。
【0274】
（第３の実施形態）
図１８は、第３の実施形態に係る膜厚調整機構ＳＫＡの模式図である。
図１８に示す膜厚調整機構ＳＫＡは、基体部材３７と、第１の平行板ばね機構７４と、Ｘ方向移動部材３８と、スキマー支持部材４０と、スキマー４１とを有する。
図１８は、第３の実施形態に係る膜厚調整機構ＳＫＡの模式図である。
図１８に示す膜厚調整機構ＳＫＡは、基体部材３７と、第１の平行板ばね機構７４と、Ｘ方向移動部材３８と、スキマー支持部材４０と、スキマー４１とを有する。
【0275】
基体部材３７は、放電電極ＥＡに対して所定の位置関係となるように、放電電極ＥＡとは別の物体（コンテナＣＡ）に固定して配置される。
【0276】
第１の平行板ばね機構７４は、左右方向（Ｘ方向）において対向するように左右方向（Ｘ方向）に直交して配置される一対の板ばね７４ａ及び７４ｂからなり、基体部材３７の下方側の面に接続される。
【0277】
Ｘ方向移動部材３８は、第１の平行板ばね機構７４の下端に接続される。従って、Ｘ方向移動部材３８は、第１の平行板ばね機構７４を介して、基体部材３７に対して左右方向（Ｘ方向）に移動可能に接続される。
【0278】
スキマー支持部材４０は、Ｘ方向移動部材３８に接続されて固定される。スキマー４１は、図６～図１０に示す例と同様の構成を有し、付着面２８（第１の付着面２８ａ、第２の付着面２８ｂ、端面側付着面２８ｃ）に付着する液体状のプラズマ原料ＳＡの膜厚を調整する。スキマー４１は、左右方向（Ｘ方向）においてＸ方向移動部材３８が移動した場合に、Ｘ方向移動部材３８と一体的に移動するように、Ｘ方向移動部材３８に接続される。
【0279】
図１８に示すように、膜厚調整機構ＳＫＡは、第１の平行板ばね７４ａ及び７４ｂが、ともにＹＺ平面と平行となる位置が、第１の調整基準位置となるように設計されている。
【0280】
本実施形態の膜厚調整機構ＳＫＡでは、第１の平行板ばね機構７４により、左右方向（Ｘ方向）において第１の調整基準位置から移動するスキマー４１を第１の調整基準位置に戻すことが可能である。また第１の平行板ばね機構７４により、左右方向（Ｘ方向）において移動するスキマー４１の姿勢を保持することが可能である。
すなわち、本実施形態では、第１の平行板ばね機構７４は、図５に示す位置保持機構３３として機能するとともに、姿勢保持機構３４としても機能する。
すなわち、本実施形態では、第１の平行板ばね機構７４は、図５に示す位置保持機構３３として機能するとともに、姿勢保持機構３４としても機能する。
【0281】
第１の平行板ばね機構７４を採用することで、シンプルな構成で、安価に、位置保持機構３３及び姿勢保持機構３４を実現することが可能となる。また、板ばね７４ａ及び７４ｂは、塑性変形しにくく、剛性も高い。仮に、板ばね７４ａ及び７４ｂが塑性変形してしまったとしても、板ばねの部分のみを取り換えればよく、膜厚調整機構ＳＫＡの全体を交換する必要がない。従って、光源装置１の再び駆動できるように復帰させることに有利である。また、液体状のプラズマ原料ＳＡが付着してしまった場合に正常に駆動するかどうかといった点においても、有利である。
【0282】
本実施形態では、Ｘ方向移動部材３８が、第１の移動部材の一実施形態となる。第１の平行板ばね機構７４が、第１の方向において対向するように第１の方向に直交して配置される一対の板ばねからなる第１の平行板ばね機構の一実施形態となる。
【0283】
なお、図１８に示すＸ方向移動部材３８の下方側の面に、さらに平行板ばね機構を接続させてもよい。具体的には、回転軸方向（Ｙ方向）において対向するように回転軸方向（Ｙ方向）に直交して配置される一対の板ばねからなる第２の平行板ばね機構を、Ｘ方向移動部材３８の下方側の面に接続する。そして、当該第２の平行板ばね機構の下端に、Ｙ方向移動部材を接続させる。Ｙ方向移動部材は、第２の平行板ばね機構を介して、基体部材３７及びＸ方向移動部材３８に対して、回転軸方向（Ｙ方向）に移動可能に接続される。
【0284】
第２の平行板ばね機構により、回転軸方向（Ｙ方向）において第２の調整基準位置から移動するスキマー４１を第２の調整基準位置に戻すことが可能である。また第２の平行板ばね機構により、回転軸方向（Ｙ方向）において移動するスキマー４１の姿勢を保持することが可能である。このように、第２の平行板ばね機構をさらに設けることで、左右方向（Ｘ方向）及び回転軸方向（Ｙ方向）の２方向における移動に対して、位置保持機能及び姿勢保持機能を発揮することが可能となる。
【0285】
第２の平行ばね機構が構成される場合、Ｙ方向移動部材が、第２の移動部材の一実施形態となる。また第２の平行板ばね機構が、第２の方向において対向するように第２の方向に直交して配置される一対の板ばねからなる第２の平行板ばね機構の一実施形態となる。
【0286】
基体部材３７、第１の平行板ばね機構７４、Ｘ方向移動部材３８、第２の平行板ばね機構、及びＹ方向移動部材の順番で、これらの部材が直接的に接続されてもよい。そして、Ｙ方向移動部材に、スキマー支持部材４０が接続されてもよい。これに限定されず、基体部材３７、第２の平行板ばね機構、Ｙ方向移動部材、第１の平行板ばね機構７４、及びＸ方向移動部材３８の順番で、これらの部材が直接的に接続されてもよい。そして、Ｘ方向移動部材３８に、スキマー支持部材４０が接続されてもよい。
【0287】
位置保持機構３３及び姿勢保持機構３４を実現するために、図６～図１０に例示するようなレール機構と、図１８に例示するような平行板ばね機構とが併用されてもよい。例えば、左右方向（Ｘ方向）に関してはレール機構により位置保持機構３３が実現され、回転軸方向（Ｙ方向）に関しては平行板ばね機構により位置保持機構３３（姿勢保持機構３４）が実現されてもよい。
【0288】
＜その他の実施形態＞
本発明は、以上説明した実施形態に限定されず、他の種々の実施形態を実現することができる。
本発明は、以上説明した実施形態に限定されず、他の種々の実施形態を実現することができる。
【0289】
上記では、ＬＤＰ方式の光源装置１に、本技術に係る膜厚調整機構が適用される例を説明した。すなわち、本技術に係る光源装置として、ＬＤＰ方式の光源装置１が構成される実施形態を説明した。これに限定されず、ＬＰＰ方式の光源装置に、本技術に係る膜厚調整機構を適用することも可能である。すなわち、本技術に係る光源装置として、ＬＰＰ方式の光源装置１を構成することも可能である。
【0290】
［ＬＰＰ方式の光源装置］
ＬＰＰ方式の光源装置は、液体状のプラズマ原料にエネルギービームを照射することで、プラズマ原料を励起してプラズマを発生させ、プラズマから放出される放射線を取り出して光源として用いる装置である。
ＬＰＰ方式の光源装置は、液体状のプラズマ原料にエネルギービームを照射することで、プラズマ原料を励起してプラズマを発生させ、プラズマから放出される放射線を取り出して光源として用いる装置である。
【0291】
ＬＰＰ方式の光源装置は、ＬＤＰ方式の光源装置１と同様に、エネルギービームの照射を利用してプラズマ原料をプラズマ化して放射線を取り出す光源装置となる。従って、ＬＰＰ方式の光源装置は、本発明に係る、液体状のプラズマ原料からプラズマを発生させて放射線を取り出す光源装置の一実施形態となる。
【0292】
図１９は、ＬＰＰ方式の光源装置に含まれる光源ユニットの一構成例を示す模式図である。光源ユニット７６は、減圧雰囲気に維持されたチャンバの内部に配置され、回転体Ｔ、コンテナＣ、膜厚調整機構ＳＫ、及びモータ（図示は省略）を有する。
【0293】
回転体Ｔは、円盤状に構成され、互いに対向する第１の主面７７ａ及び第２の主面７７ｂと、第１の主面７７ａ及び第２の主面７７ｂの間の端面７７ｃとを有する。回転体Ｔは、例えば、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）又はタンタル（Ｔａ）等の高融点金属を用いて構成される。
【0294】
回転体Ｔは、モータの回転軸に連結され、回転体Ｔの軸線周りに回転する。従って、第１の主面７７ａ及び第２の主面７７ｂは、回転軸方向に沿って互いに対向する面となる。
【0295】
以下、回転体Ｔを正面から見た場合の左右方向をＸ方向とし、Ｘ軸の正側を左側、負側を右側とする。また、放電電極ＥＡの回転軸方向をＹ方向とし、Ｙ軸の正側を奥側、負側を手前側とする。また、上下方向をＺ方向として、Ｚ軸の正側を上方側、負側を下方側とする。
【0296】
図１９に示すように、本実施形態では、回転体Ｔの第１の主面７７ａの左端部の位置がレーザビームＬＢの照射位置２５として設定される。当該レーザビームＬＢの照射位置２５が、プラズマＰの発生領域Ｏとなる。
【0297】
コンテナＣは、液体状のプラズマ原料Ｓを収容可能なコンテナ（容器）である。プラズマ原料Ｓとしては、例えばスズ（Ｓｎ）やリチウム（Ｌｉ）等の液体金属が用いられる。
【0298】
コンテナＣは、回転体Ｔの下部が液体状のプラズマ原料Ｓに浸されるようにプラズマ原料Ｓを収容する。従って、回転体Ｔの下部には、液体状のプラズマ原料Ｓが付着する。回転体Ｔの下部に付着した液体状のプラズマ原料Ｓは、回転体Ｔの回転に伴って、プラズマＰの発生領域Ｏに輸送される。
【0299】
図１９に示すように、コンテナＣには、プラズマ原料供給部８が接続される。そして、プラズマ原料供給部８により、コンテナＣに、プラズマ原料Ｓが供給される。
【0300】
膜厚調整機構ＳＫは、回転体Ｔに付着するプラズマ原料Ｓの厚みを、プラズマＰの発生領域Ｏに輸送される前に所定の厚みに調整する。これにより、プラズマＰの発生領域Ｏに供給されるプラズマ原料Ｓの供給量を制御することが可能となる。
【0301】
図１９に示すように、ＬＰＰ方式の光源装置には、さらに、制御部（図示は省略）と、ビーム源１１とを有する。制御部、ビーム源１１は、チャンバの外部に配置される。
制御部により、モータの回転駆動や、ビーム源１１によるレーザビームＬＢの照射駆動等が制御される。
制御部により、モータの回転駆動や、ビーム源１１によるレーザビームＬＢの照射駆動等が制御される。
【0302】
なお、図１に示すＬＤＰ方式の光源装置１と同様に、チャンバ外に集光レンズや可動ミラー等が配置され、レーザビームＬＢのスポット径や、照射位置２５等が調整可能であってもよい。
【0303】
回転体Ｔの下部がコンテナＣに貯留されたプラズマ原料Ｓに浸漬した状態で、回転体Ｔが軸部（回転軸）を中心に回転する。これにより、プラズマ原料Ｓは、回転体Ｔの第１の主面７７ａとの濡れ性により、回転体Ｔの第１の主面７７ａになじみ、コンテナＣの原料貯留部分から引き上げられ、輸送される。
【0304】
回転体Ｔ上のプラズマ原料Ｓは、回転体Ｔの回転とともに、膜厚調整機構ＳＫにより膜厚が調整された後に、レーザビームＬＢが入射する発生領域Ｏに輸送される。そして、プラズマＰの発生領域Ｏにおいて、回転体Ｔ上のプラズマ原料ＳにレーザビームＬＢが照射され、プラズマＰが発生される。
【0305】
コンテナＣに収容されるプラズマ原料Ｓを所定量以上に維持し、回転体Ｔを連続的に回転させることにより、常にレーザビームＬＢの照射位置２５にプラズマ原料Ｓを供給することが可能となり、発生領域ＯにてプラズマＰを発生させることが可能となる。
【0306】
図１９に示すＬＰＰ方式の光源装置に用いられる光源ユニット７６においても、本発明に係る膜厚調整機構ＳＫを使用することが可能である。例えば、図６～図１０にて例示した膜厚調整機構ＳＫＡと同様の構成を採用することも可能である。これにより、長時間安定して、調整された膜厚で、プラズマＰの発生領域Ｏにプラズマ原料Ｓを供給することが可能である。
【0307】
図１９に示すように、回転体Ｔの第１の主面７７ａ、第２の主面７７ｂ、及び端面７７ｃの、コンテナＣに収容されるプラズマ原料Ｓに浸漬する部分に、プラズマ原料Ｓが付着する。そして、第１の主面７７において、プラズマ原料Ｓが付着する面に、レーザビームＬＢが照射される。
【0308】
従って、図１９に示す例では、回転体Ｔの第１の主面７７ａの所定の位置にプラズマＰの発生領域Ｏが設定される。そして、第１の主面７７ａのプラズマＰの発生領域Ｏとは異なる位置（上流側の位置）に膜厚調整領域が設定される。本実施形態では、回転体Ｔの第１の主面７７ａの右端部の位置が、膜厚調整領域として設定される。従って、図１９に示す例では、回転軸方向（Ｙ方向）を、本発明に係る第１の方向の一実施形態として、本技術に係る膜厚調整機構ＳＫが構成される。
【0309】
図６～図１０に示す膜厚調整機構ＳＫＡの構成が採用される場合、回転体Ｔの端面７７ｃ、及び第１の主面７７ｂに付着するプラズマ原料Ｓの膜厚も調整することが可能である。本構成は、左右方向（Ｘ方向）を、本発明に係る第２の方向の一実施形態とする構成に含まれる。
【0310】
図９に示すスキマー４１と同様の構成が採用された場合、回転体Ｔの第１の主面７７ａのプラズマ原料Ｓの付着面に対向する面が主調整面となる。また、端面７７ｃのプラズマ原料Ｓの付着面に対向する面、及び第２の主面７７ｂのプラズマ原料Ｓの付着面に対向する面の各々が、副調整面となる。
【0311】
なお、ＬＰＰ方式の光源装置が構成されるうえで、レーザビームＬＢの照射位置２５（発生Ｏ）の位置や、膜厚調整機構ＳＫが配置される位置は限定されず、任意に設定可能である。例えば、回転体Ｔの端面７７ｃに、レーザビームＬＢが照射されてもよい。
【0312】
図２０及び図２１は、ＬＰＰ方式の光源装置に含まれる光源ユニットの他の構成例を示す模式図である。図２０及び図２１に示す光源ユニット７９は、減圧雰囲気に維持されたチャンバ４の内部に配置され、回転ドラムＲＤ、膜厚調整機構ＳＫ、及びモータＭを有する。
【0313】
回転ドラムＲＤは、容器状（皿状）の形状を有し、底面部８０と、底面部８０の周縁に沿って配置された外壁部８１と有する。底面部８０は、平板形状からなり、水平方向と平行となるように配置される。外壁部８１は、底面部８０の周縁から鉛直方向に沿って上方側に延在して構成される。底面部８０と、外壁部８１の内周面８１ａとにより、液体状のプラズマ原料Ｓを貯留する凹状の貯留空間が構成される。回転ドラムＲＤは、本発明に係る回転体の一実施形態となる。
【0314】
以下、水平方向がＸＹ平面となるように、Ｘ方向及びＹ方向を規定する。また、上下方向をＺ方向とする。
【0315】
図２１に示すように、回転ドラムＲＤの底面部８０を上方側から見た場合、底面部８０は円形状を有する。外壁部８１の内周面８１に設定される膜厚調整領域３２の対向方向（膜厚調整領域３２を通る直径方向）を左右方向（Ｘ方向）とし、Ｘ軸の正側を左側、負側を右側とする。そして、Ｘ方向に直交する方向を奥行方向（Ｙ方向）とし、Ｙ軸の正側を奥側、負側を手前側とする。
【0316】
なお図２０は、光源ユニット７６を、奥行方向（Ｙ方向）に沿って見た場合の模式図であり、チャンバ４及び回転ドラムＲＤの２つの部材のみ、膜厚調整領域３２の位置でＸ方向に沿って切断した断面図が図示されている。
【0317】
図２０に示すように、底面部８０の下方側の面の中心の位置に、下方側に延在するように回転軸Ｊが接続され、チャンバ４の外部に配置されたモータＭに接続される。図２１に示すように上方側から見た場合に、モータＭが駆動することで、回転ドラムＲＤが左回りに回転する。
【0318】
回転軸Ｊを中心に回転ドラムＲＤが連続的に回転すると、貯留空間に供給された液体状のプラズマ原料Ｓは、遠心力により外壁部８１の内周面８１ａ側に移動し、内周面８１ａに沿って分布する。回転ドラムＲＤの回転速度を制御することで、内周面８１ａに分布する液体状のプラズマ原料Ｓの膜厚を、ある程度は制御することが可能である。
【0319】
なお、貯留空間に液体状のプラズマ原料Ｓを供給するための構成や方法は限定されない。図２１に示す例では、上方側から見た場合に、底面部８０の下端部から右側に移動した位置に、原料供給領域８２が設定される。そして、原料供給領域８２にプラズマ原料Ｓが供給される。
【0320】
例えば、上方側から原料供給領域８２に向かって、液体状又は固体状のプラズマ原料Ｓが供給されてもよい。あるいは、底面部８０の原料供給領域８２に供給孔が形成され、図１９に例示するようなプラズマ原料供給部８と連結されてもよい。その他、任意の構成や方法が採用されてもよい。
【0321】
なお、回転ドラムＲＤには、貯留空間に供給されるプラズマ原料Ｓを液体状態で維持するために、図示しない加熱機構が設けられる。加熱機構としては、電熱線等を利用して回転ドラムＲＤを直接加熱するヒータが用いられる。また、輻射等を利用して外側から回転ドラムＲＤを加熱するヒータ等が用いられてもよい。
【0322】
図２１に示すように、本実施形態では、外壁部８１の内周面８１ａの左端部の位置に、膜厚調整領域３２が設定され、膜厚調整機構ＳＫが配置される。膜厚調整機構ＳＫにより、回転ドラムＲＤの外壁部８１の内周面８１ａに付着するプラズマ原料Ｓの厚みを、プラズマＰの発生領域Ｏに輸送される前に所定の厚みに調整することが可能となる。
【0323】
図２１に示すように、本実施形態では、外壁部８１の内周面８１ａに設定された膜厚調整領域３２から、回転の下流側に進んだ位置に、レーザビームＬＢの照射位置２５が設定される。具体的には、回転ドラムＲＤを上方側から見た場合に、左端部から右下に進んだ位置に、レーザビームＬＢの照射位置２５が設定される。当該レーザビームＬＢの照射位置２５が、プラズマＰの発生領域Ｏとなる。
【0324】
回転ドラムＲＤの貯留空間に液体状のプラズマ原料Ｓが供給されている状態で、回転ドラムＲＤが回転軸Ｊを中心に回転する。これにより、プラズマ原料Ｓは、外壁部８１の内周面８１ａに付着して、プラズマＰの発生領域Ｏに向かって輸送される。
【0325】
外壁部８１の内周面８１ａに付着したプラズマ原料Ｓは、回転ドラムＲＤの回転とともに、膜厚調整機構ＳＫにより膜厚が調整された後に、レーザビームＬＢが入射する発生領域Ｏに輸送される。そして、プラズマＰの発生領域Ｏにおいて、外壁部８１の内周面８１ａ上のプラズマ原料ＳにレーザビームＬＢが照射され、プラズマＰが発生される。
【0326】
回転ドラムＲＤの貯留空間へのプラズマ原料Ｓの供給量を所定量以上に維持し、回転ドラムＲＤを連続的に回転させることにより、常にレーザビームＬＢの照射位置２５にプラズマ原料Ｓを供給することが可能となり、発生領域ＯにてプラズマＰを発生させることが可能となる。
【0327】
【0328】
図２２及び図２３は、光源ユニット７９にて用いられる膜厚調整機構ＳＫの構成例を示す模式図である。
図２２は、膜厚調整機構ＳＫを奥行方向（Ｙ方向）の手前側から見た場合の図である。
図２３は、膜厚調整機構ＳＫを左右方向（Ｘ方向）の左側から見た場合の左側面図である。なお、図２０及び図２１では、膜厚調整機構ＳＫの図示は模式的に行われており、膜厚調整機構ＳＫの詳しい構成については図２２及び図２３を参照されたい。
図２２は、膜厚調整機構ＳＫを奥行方向（Ｙ方向）の手前側から見た場合の図である。
図２３は、膜厚調整機構ＳＫを左右方向（Ｘ方向）の左側から見た場合の左側面図である。なお、図２０及び図２１では、膜厚調整機構ＳＫの図示は模式的に行われており、膜厚調整機構ＳＫの詳しい構成については図２２及び図２３を参照されたい。
【0329】
膜厚調整機構ＳＫは、支持柱８４と、支持部材８５と、スキマー側部材８６と、Ｘ方向移動部材８７と、Ｚ方向移動部材８８と、スキマー支持部材８９と、スキマー９０とを有する。
【0330】
支持柱８４は、回転ドラムＲＤの左端部の膜厚調整領域３２の付近の位置に固定され、チャンバ４の底面から上方側に延在するように構成される。支持部材８５は、支持柱８４の上方側の端部に、右側に延在するように接続されて固定される。
【0331】
【0332】
図６～図１０に示す構成では、スキマー側部材４９、Ｘ方向移動部材３８、及びＹ方向移動部材３９の各々が、水平方向と平行となるように配置される。そして、スキマー側部材４９の奥側の側面が、コンテナ側部材４８の手前側に向いている面に接続されて固定される。これにより、左右方向（Ｘ方向）及び回転軸方向（Ｙ方向）の２方向において、スキマー４１の姿勢を保持したまま、スキマー４１を直線的に移動させることが可能である。
【0333】
図２２及び図２３に示す構成では、図６～図１０に示すスキマー側部材４９、Ｘ方向移動部材３８、及びＹ方向移動部材３９の各々が、ＸＺ平面方向と平行となるように、すなわち奥行方向（Ｙ方向）に対して直交するように向きを変更する。そして、スキマー側部材４９の上方側の側面（図６～図１０ではコンテナ側部材４８に接続される側面）が、支持部材８５の下方側の面に接続される。
【0334】
このように接続部材８５に接続されたスキマー側部材４９、Ｘ方向移動部材３８、及びＹ方向移動部材３９のうち、スキマー側部材４９が図２２及び図２４に示すスキマー側部材８６となる。またＸ方向移動部材３８がＸ方向移動部材８７となり、Ｙ方向移動部材３９がＺ方向移動部材８８となる。従って本実施形態では、左右方向（Ｘ方向）及び上下方向（Ｚ方向）の２方向において、位置保持機能及び姿勢保持機能を発揮することが可能となる。
【0335】
スキマー保持部材８９は、左右方向（Ｘ方向）に延在するように構成され、Ｚ方向移動部材８８の奥側の面に接続される。スキマー保持部材８９の右端部は、回転ドラムＲＤのプラズマ原料Ｓが供給される貯留空間まで延びている。
【0336】
スキマー９０は、クランク形状を有し、第１の平面部９１ａと、第２の平面部９１ｂと、第３の平面部９１ｃとを有する。すなわち、スキマー９０は、一方向に延在する細長い平板形状を、長辺方向における両端部分にて、互いに反対の向きに直角に折り曲げた形状を有する。
【0337】
一方の端部の折り曲げられた部分が第１の平面部９１ａとなり、他方の端部の折り曲げられた部分が第３の平面部９１ｃとなる。第１及び第３の平面部９１ａ及び９１ｃの間の、細長い平板形状の部分が、第２の平面部９１ｂとなる。なお、第１～第３の平面部９１ａ～９１ｃの短軸方向のサイズは全て等しい。
【0338】
【0339】
また、第１の平面部９１ａは、第２の平面部９１ｂの上端から左側に直角に折り曲げられて構成される。第３の平面部９１ｃは、第２の平面部９１ｂの下端から右側に直角に折り曲げられて構成される。従って、第１及び第３の平面部９１ａ及び９１ｃは、水平方向に平行に配置される。
【0340】
スキマー９０の第１の平面部９１ａの上方側の面が、スキマー支持部材８９の下方側の面の右端部の位置に接続される。
【0341】
図２０に示すように、本実施形態では、スキマー９０の第２の平面部９１ｂの左側の面が主調整面となり、回転ドラムＲＤの外壁部８１の内周面８１ａに付着したプラズマ原料Ｓの膜厚を調整することが可能である。また、本実施形態では、スキマー９０の第３の平面部９１ｃの下方側の面が副調整面となり、底面部８０の周縁側の領域（外壁部８１の近傍の領域）に付着するプラズマ原料Ｓの膜厚を調整することが可能である。底面部８０に付着するプラズマ原料Ｓの膜厚も調整することで、安定した膜厚調整が実現される。
【0342】
すなわち、図２２及び図２３に示す膜厚調整機構ＳＫでは、左右方向（Ｘ方向）を第１の方向とし、上下方向（Ｚ方向）（底面部８０に対向する方向）を第２の方向として、膜厚調整機構ＳＫが構成される。スキマー側部材８６、Ｘ方向移動部材８７、及びＹ方向移動部材８８により、左右方向（Ｘ方向）及び上下方向（Ｚ方向）の２方向において、スキマー９０の姿勢を保持したまま、スキマー４１を直線的に移動させることが可能である。
【0343】
なお、容器型の回転ドラムＤＲに対して、レーザビームＬＢの照射位置２５（発生Ｏ）の位置や、膜厚調整機構ＳＫが配置される位置は限定されず、任意に設定可能である。
【0344】
図２４は、スキマー９０の変形例を示す模式図である。図２４に示すスキマー９０では、第２の平板部材９１ｂの下半分の部分、及び下方側の第３の平板部９１ｃの奥行方向（Ｙ方向）におけるサイズが大きくなるように設計されている。
【0345】
すなわち、上方側の第１の平板部９１ａ、及び第２の平板部材９１ｂの上半分の部分の部分は、奥行方向（Ｙ方向）において第１のサイズで形成される。第２の平板部材９１ｂの下半分の部分、及び下方側の第３の平板部９１ｃは、奥行方向（Ｙ方向）にいて第１のサイズよりも大きい第２のサイズで形成される。
【0346】
図２４に示すように、第１～第３の平板部９１ａ～９１ｃの奥側（回転の上流側）の端面は、奥行方向（Ｙ方向）において同じ位置に揃えられる。従って、第２の平板部材９１ｂの下半分の部分、及び第３の平板部９１ｃの手前側（回転の下流側）の端面は、手前側に突出するように構成される。従って、図２４に示すように、左右方向（Ｘ方向）の右側から見た場合、スキマー９０はＬ字を左右反転した形状となる。
【0347】
例えば、回転ドラムＲＤの回転数が大きくなる場合や、回転ドラムＲＤの貯留空間に収容されるプラズマ原料Ｓの量が多い場合等では、回転ドラムＲＤの底面部８０から外壁部８１の内周面８１ａに沿って、プラズマ原料Ｓが上方に移動してくる場合もあり得る。図２４に示すように、スキマー９０の下方側の部分の幅を大きくすることで、底面部８０から上方に移動してくるプラズマ原料Ｓの影響を抑制することが可能となり、プラズマＰの発生領域Ｏにおけるプラズマ原料Ｓの膜厚を安定して調整することが可能となる。
【0348】
このようにＬＰＰ方式の光源装置においても、本発明に係る膜厚調整機構を適用することが可能となる。これにより、回転体Ｔ（回転ドラムＲＤ）の微妙な歪み、光源装置の駆動時における回転体Ｔ（回転ドラムＲＤ）の熱膨張や変形、回転動作時のブレ、プラズマ原料Ｓの粘性の変化等により発生する意図しない応力の影響を十分に抑制することが可能となる。また、ＥＵＶ光の放射動作中における回転体Ｔ（回転ドラムＲＤ）の回転の強制的な停止、膜厚調整機構ＳＫの変形や破損、スキマーの各調整面の摩耗や削れ等を、防止することが可能となる。
【0349】
この結果、プラズマＰの発生領域Ｏにおける液体状のプラズマ原料Ｓの膜厚を高い精度で、長期間安定して調整することが可能となる。この結果、所望のＥＵＶ光の光量を得ることが可能となり、光源装置の安定した長時間運転が実現される。その他、上記した様々な効果を発揮することが可能である。
【0350】
もちろん、ＬＰＰ方式の光源装置に対して、本発明に係る膜厚調整機構を適用する際に、図１７に例示したような一方向のみに位置保持機能及び姿勢保持機能を発揮する構成や、図１８に例示したような平行板ばね機構を用いた構成が採用されてもよい。その他、任意の構成が採用されてよい。
【0351】
また、上記の実施形態では、エネルギービームの照射を利用して液体状のプラズマ原料Ｓをプラズマ化して放射線を取り出す光源装置を説明した。これに限定されず、例えばエネルギービームの照射を利用しない任意の装置等においても、液体状のプラズマ原料Ｓの膜厚調整に本発明を適用することが可能である。
【0352】
各図面を参照して説明した光源装置、光源部、光源ユニット、回転体、膜厚調整機構、位置保持機構、姿勢保持機構、スキマー、各種チャンバ等の各構成はあくまで一実施形態であり、本技術の趣旨を逸脱しない範囲で、任意に変形可能である。すなわち本技術を実施するための他の任意の構成が採用されてよい。
【0353】
本開示において、説明の理解を容易とするために、「略」「ほぼ」「おおよそ」等の文言が適宜使用されている。一方で、これら「略」「ほぼ」「おおよそ」等の文言を使用する場合と使用しない場合とで、明確な差異が規定されるわけではない。
すなわち、本開示において、「中心」「中央」「均一」「等しい」「同じ」「直交」「平行」「対称」「延在」「軸方向」「円柱形状」「円筒形状」「リング形状」「円環形状」等の、形状、サイズ、位置関係、状態等を規定する概念は、「実質的に中心」「実質的に中央」「実質的に均一」「実質的に等しい」「実質的に同じ」「実質的に直交」「実質的に平行」「実質的に対称」「実質的に延在」「実質的に軸方向」「実質的に円柱形状」「実質的に円筒形状」「実質的にリング形状」「実質的に円環形状」等を含む概念とする。
例えば「完全に中心」「完全に中央」「完全に均一」「完全に等しい」「完全に同じ」「完全に直交」「完全に平行」「完全に対称」「完全に延在」「完全に軸方向」「完全に円柱形状」「完全に円筒形状」「完全にリング形状」「完全に円環形状」等を基準とした所定の範囲（例えば±１０％の範囲）に含まれる状態も含まれる。
従って、「略」「ほぼ」「おおよそ」等の文言が付加されていない場合でも、いわゆる「略」「ほぼ」「おおよそ」等を付加して表現され得る概念が含まれ得る。反対に、「略」「ほぼ」「おおよそ」等を付加して表現された状態について、完全な状態が必ず排除されるというわけではない。
すなわち、本開示において、「中心」「中央」「均一」「等しい」「同じ」「直交」「平行」「対称」「延在」「軸方向」「円柱形状」「円筒形状」「リング形状」「円環形状」等の、形状、サイズ、位置関係、状態等を規定する概念は、「実質的に中心」「実質的に中央」「実質的に均一」「実質的に等しい」「実質的に同じ」「実質的に直交」「実質的に平行」「実質的に対称」「実質的に延在」「実質的に軸方向」「実質的に円柱形状」「実質的に円筒形状」「実質的にリング形状」「実質的に円環形状」等を含む概念とする。
例えば「完全に中心」「完全に中央」「完全に均一」「完全に等しい」「完全に同じ」「完全に直交」「完全に平行」「完全に対称」「完全に延在」「完全に軸方向」「完全に円柱形状」「完全に円筒形状」「完全にリング形状」「完全に円環形状」等を基準とした所定の範囲（例えば±１０％の範囲）に含まれる状態も含まれる。
従って、「略」「ほぼ」「おおよそ」等の文言が付加されていない場合でも、いわゆる「略」「ほぼ」「おおよそ」等を付加して表現され得る概念が含まれ得る。反対に、「略」「ほぼ」「おおよそ」等を付加して表現された状態について、完全な状態が必ず排除されるというわけではない。
【0354】
本開示において、「Ａより大きい」「Ａより小さい」といった「より」を使った表現は、Ａと同等である場合を含む概念と、Ａと同等である場合を含なまい概念の両方を包括的に含む表現である。例えば「Ａより大きい」は、Ａと同等は含まない場合に限定されず、「Ａ以上」も含む。また「Ａより小さい」は、「Ａ未満」に限定されず、「Ａ以下」も含む。
本技術を実施する際には、上記で説明した効果が発揮されるように、「Ａより大きい」及び「Ａより小さい」に含まれる概念から、具体的な設定等を適宜採用すればよい。
本技術を実施する際には、上記で説明した効果が発揮されるように、「Ａより大きい」及び「Ａより小さい」に含まれる概念から、具体的な設定等を適宜採用すればよい。
【0355】
以上説明した本技術に係る特徴部分のうち、少なくとも２つの特徴部分を組み合わせることも可能である。すなわち各実施形態で説明した種々の特徴部分は、各実施形態の区別なく、任意に組み合わされてもよい。また上記で記載した種々の効果は、あくまで例示であって限定されるものではなく、また他の効果が発揮されてもよい。
【符号の説明】
【0356】
Ｄ１…第１の距離
ＬＢ…レーザビーム
Ｏ…プラズマの発生領域
Ｐ…プラズマ
Ｒ…放電領域
ＲＤ…回転ドラム
Ｓ…プラズマ原料
Ｔ…回転体
１…光源装置
５、７６、７９…光源ユニット
７…放電電極の端面
２４ａ…放電電極の第１の主面
２４ｂ…放電電極の第２の主面
２８…付着面
３０…膜厚調整部材
３１…支持機構
３２…膜厚調整領域
３３…位置保持機構
３４…姿勢保持機構
３５…主調整面
３７…基体部材
３８…Ｘ方向移動部材
３９…Ｙ方向移動部材
４０…スキマー支持部材
４１…スキマー
６１ａ…第１の副調整面
６１ｂ…第２の副調整面
７７ａ…回転体の第１の主面
７７ｂ…回転体の第２の主面
７７ｃ…回転体の端面
８１ａ…回転ドラムの内周面
ＬＢ…レーザビーム
Ｏ…プラズマの発生領域
Ｐ…プラズマ
Ｒ…放電領域
ＲＤ…回転ドラム
Ｓ…プラズマ原料
Ｔ…回転体
１…光源装置
５、７６、７９…光源ユニット
７…放電電極の端面
２４ａ…放電電極の第１の主面
２４ｂ…放電電極の第２の主面
２８…付着面
３０…膜厚調整部材
３１…支持機構
３２…膜厚調整領域
３３…位置保持機構
３４…姿勢保持機構
３５…主調整面
３７…基体部材
３８…Ｘ方向移動部材
３９…Ｙ方向移動部材
４０…スキマー支持部材
４１…スキマー
６１ａ…第１の副調整面
６１ｂ…第２の副調整面
７７ａ…回転体の第１の主面
７７ｂ…回転体の第２の主面
７７ｃ…回転体の端面
８１ａ…回転ドラムの内周面
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】