特開 2024-84563 プラズマ処理装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024084563

(43)【公開日】2024-06-25

(54)【発明の名称】プラズマ処理装置

(51)【国際特許分類】

   H05H 1/46 20060101AFI20240618BHJP

   C23C 14/40 20060101ALI20240618BHJP

   C23C 16/509 20060101ALI20240618BHJP

   H01L 21/31 20060101ALI20240618BHJP

   H01L 21/3065 20060101ALI20240618BHJP

【ＦＩ】

H05H1/46 L

C23C14/40

C23C16/509

H01L21/31 C

H01L21/302 101C

【審査請求】未請求

【請求項の数】7

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022198890

(22)【出願日】2022-12-13

(71)【出願人】

【識別番号】000003942

【氏名又は名称】日新電機株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110000338

【氏名又は名称】弁理士法人 ＨＡＲＡＫＥＮＺＯ ＷＯＲＬＤ ＰＡＴＥＮＴ ＆ ＴＲＡＤＥＭＡＲＫ

(72)【発明者】

【氏名】藤原 将喜

(72)【発明者】

【氏名】酒井 敏彦

(72)【発明者】

【氏名】東 大介

【テーマコード（参考）】

2G084

4K029

4K030

5F004

5F045

【Ｆターム（参考）】

2G084AA02

2G084AA03

2G084AA04

2G084AA05

2G084BB02

2G084BB05

2G084BB30

2G084BB35

2G084BB37

2G084CC13

2G084CC33

2G084DD03

2G084DD04

2G084DD12

2G084DD22

2G084DD25

2G084DD55

2G084FF32

2G084HH20

2G084HH45

2G084HH53

4K029CA05

4K029DC28

4K029DC35

4K030FA04

4K030KA02

4K030KA16

4K030KA30

5F004BB18

5F004BB29

5F004BD01

5F004BD04

5F004BD05

5F004CB12

5F004DA23

5F004DA24

5F004DA25

5F045AA08

5F045AC01

5F045AC15

5F045AC16

5F045BB10

5F045DP02

5F045EC05

5F045EH02

5F045EH04

5F045EH08

5F045EJ05

5F045EJ09

5F045GB05

(57)【要約】

【課題】内側カバーを設けた場合でも、メンテナンス性を向上させることができるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ処理装置（１）は、処理室内部と外部とを連通する開口部（２ｂ）が設けられた筐体（２）と、筐体（２）に脱着可能に取り付けられ、開口部（２ｂ）を閉塞する真空カバー（４）と、プラズマを発生させるための棒状のアンテナ（８）と、真空カバー（４）との間にアンテナ（８）を包囲するアンテナ収容空間（ＡＫ）を構成するアンテナカバー（５）と、を備える。アンテナカバー（５）は、アンテナ（８）の長手方向に沿って複数に分割されている。被覆カバー（１４）が、アンテナカバー（５）の分割部を覆うように設けられている。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

処理室を構成する筐体であって、前記処理室内部と外部とを連通する開口部が設けられた筐体と、
前記筐体に脱着可能に取り付けられ、前記開口部を閉塞する外側カバーと、
前記処理室内部に配置された、プラズマを発生させるための棒状のアンテナと、
前記外側カバーよりも内側に配置されるとともに、前記外側カバーとの間に前記アンテナを包囲する包囲空間を構成する、誘電性を有する内側カバーと、を備え、
前記内側カバーは、前記アンテナの長手方向に沿って複数に分割されており、
前記外側カバーまたは前記内側カバーに固定され、かつ、前記内側カバーの分割部を覆うように設けられる、誘電性を有する被覆カバーを更に備える、プラズマ処理装置。

【請求項2】

前記外側カバーは、スペーサーを介在させて前記筐体に取り付けられている、請求項１に記載のプラズマ処理装置。

【請求項3】

前記スペーサーには、前記外側カバーを脱着可能に支持する支持台が含まれている、請求項２に記載のプラズマ処理装置。

【請求項4】

前記被覆カバーは、前記内側カバーの全体を覆うように設けられている、請求項１から３のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置。

【請求項5】

前記被覆カバーは、前記アンテナの長手方向に沿って分割された複数の被覆部材によって構成されている、請求項４に記載のプラズマ処理装置。

【請求項6】

前記内側カバーのプラズマ耐性は、前記被覆カバーのプラズマ耐性よりも小さい、請求項４に記載のプラズマ処理装置。

【請求項7】

前記アンテナは、直線状に構成された直線状部と、前記直線状部に連続的に設けられるとともに、当該直線状部に対して折り曲げられた折り曲げ部とを有し、
前記被覆カバーは、少なくとも前記折り曲げ部に対向するように、設けられている、請求項１から３のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、プラズマ処理装置に関する。

【背景技術】

【0002】

真空容器内に配置したアンテナを用いて当該真空容器内に誘導結合性のプラズマを発生させるプラズマ処理装置が知られている。プラズマ処理装置は、その種別に応じて、発生させたプラズマを用いた所定のプラズマ処理を被処理基板に施す。

【0003】

例えば、特許文献１に記載のプラズマ処理装置は、真空容器の上壁に設けられた空洞の内部に高周波アンテナが配置されたアンテナ配置部と、上壁の内面側全体を覆うように設けられた仕切板とを有する。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】国際公開第２０１２／０３３１９１号

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

しかしながら、特許文献１に記載のような従来のプラズマ処理装置では、仕切板が真空容器に固定されていた。そのため、当該プラズマ処理装置のメンテナンス作業を行う場合、例えば仕切板を固定しているネジを真空容器の内部側から取り外して、真空容器から仕切板を取り外すことが要求されることがあった。この場合、プラズマ処理装置の解体に近い作業を要する。それゆえ、従来のプラズマ処理装置では、そのメンテナンス作業に手間および時間を要するという問題点があった。

【0006】

本開示は上記の問題点を鑑みてなされたものであり、内側カバーを設けた場合でも、メンテナンス性を向上させることができるプラズマ処理装置を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0007】

上記の課題を解決するために、本開示の一側面に係るプラズマ処理装置は、処理室を構成する筐体であって、前記処理室内部と外部とを連通する開口部が設けられた筐体と、前記筐体に脱着可能に取り付けられ、前記開口部を閉塞する外側カバーと、前記処理室内部に配置された、プラズマを発生させるための棒状のアンテナと、前記外側カバーよりも内側に配置されるとともに、前記外側カバーとの間に前記アンテナを包囲する包囲空間を構成する、誘電性を有する内側カバーと、を備え、前記内側カバーは、前記アンテナの長手方向に沿って複数に分割されており、前記外側カバーまたは前記内側カバーに固定され、かつ、前記内側カバーの分割部を覆うように設けられる、誘電性を有する被覆カバーを更に備える。

【発明の効果】

【0008】

本開示の一態様によれば、内側カバーを設けた場合でも、メンテナンス性を向上させることができるプラズマ処理装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】本開示の実施形態１に係るプラズマ処理装置の構成を説明する図である。

【図2】図１のＩＩ－ＩＩ線断面図である。

【図3】本開示の実施形態２に係るプラズマ処理装置の構成を説明する図である。

【図4】図３のＩＶ－ＩＶ線断面図である。

【図5】本開示の実施形態３に係るプラズマ処理装置の構成を説明する図である。

【図6】図５のＶＩ－ＶＩ線断面図である。

【図7】本開示の実施形態４に係るプラズマ処理装置の構成を説明する図である。

【図8】図７のＶIII－ＶIII線断面図である。

【図9】本開示の変形例に係るプラズマ処理装置の構成を説明する図である。

【発明を実施するための形態】

【0010】

〔実施形態１〕
以下、本開示の実施形態１について、図１および図２を用いて詳細に説明する。図１は、本開示の実施形態１に係るプラズマ処理装置１の構成を説明する図である。図２は、図１のＩＩ－ＩＩ線断面図である。

【0011】

なお、以下の説明では、所定のプラズマ処理として、誘導結合性のプラズマを使用したプラズマＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition；化学気相堆積）法によって、被処理物としての被処理基板Ｈ１の表面に所定の皮膜を成膜する成膜処理を行うプラズマ処理装置１を例示して説明する。

【0012】

しかしながら、本開示は、所定のプラズマ処理として、例えば、スパッタ法によって被処理基板Ｈ１に所定の皮膜を成膜する成膜処理を行うプラズマ処理装置１に適用することができる。また、本開示は、所定のプラズマ処理として、プラズマを用いて、被処理基板Ｈ１の表面に対して、所定の加工を行う表面加工処理、例えば、エッチング処理あるいはアッシング処理を行うプラズマ処理装置１に適用することができる。なお、スパッタ法を行うプラズマ処理装置１においては、ターゲットは、例えば、後述するプラズマ生成領域ＨＡの内部に設置される。

【0013】

＜プラズマ処理装置１の構成＞
図１および図２に示すように、本実施形態１のプラズマ処理装置１は、筐体２と、フランジ（スペーサー）３３と、真空カバー（外側カバー）４と、アンテナカバー（内側カバー）５と、ステージ６と、アンテナ８と、被覆カバー１４と、を備えている。また、プラズマ処理装置１では、図２に示すように、複数のアンテナ８、例えば、４つのアンテナ８が設けられており、真空カバー４、アンテナカバー５、および被覆カバー１４は、アンテナ８毎に設置されている。さらに、プラズマ処理装置１では、被処理基板Ｈ１は搬送機構によってステージ６と公知のロードロック室との間で搬送される（図示せず）。

【0014】

被処理基板Ｈ１は、例えば、液晶パネルディスプレイ、有機ＥＬ（Electro Luminescence）パネルディスプレイなどに用いられるガラス基板、合成樹脂基板であり得る。また、被処理基板Ｈ１は、各種用途に用いられる半導体基板であり得る。プラズマ処理装置１は、上記所定のプラズマ処理によってバリア（防湿）膜などの所定の皮膜を被処理基板Ｈ１上に成膜する。

【0015】

＜筐体２＞
筐体２は、被処理基板Ｈ１に対して上記所定のプラズマ処理を行う処理室を構成している。また、筐体２は、上側が開口した箱体状の筐体本体２ａを備え、当該筐体本体２ａの上部には、上記処理室と外部環境とを連通する、開口部としての第１の開口部２ｂが設けられている。また、筐体２（筐体本体２ａ）の上端面には、図２に示すように、複数の開口部を有するフランジ３３が気密に取り付けられている。プラズマ処理装置１では、筐体本体２ａにフランジ３３が取り付けられた状態において、フランジ３３の開口部は、上記処理室の内部と外部とを連通する第１の開口部２ｂに含まれる。換言すれば、筐体２の上端面において、フランジ３３および真空カバー４が取り付けられた場合、筐体２に脱着可能に取り付けられる真空カバー４は、フランジ３３とともに、第１の開口部２ｂを閉塞している。

【0016】

＜フランジ３３＞
フランジ３３は、図２に示すように、例えば、５つのフランジ部材３３ａ、３３ｂ、３３ｃ、３３ｄ、３３ｅを備えており、真空カバー４を筐体２に取り付けるためのスペーサーとして機能している。換言すれば、これらの各フランジ部材３３ａ～３３ｅは、真空カバー４が取り付けられる段差部が形成された板材を用いて構成されている。また、各フランジ部材３３ａ～３３ｅの一端部および他端部は、筐体本体２ａの互いに対向する２辺の上面に固定されている（図示せず）。フランジ部材３３ａ～３３ｅは、アンテナ８の長手方向に沿って互いに平行に、かつ、当該長手方向と直交する方向（つまり、図２の紙面の左右方向）で等間隔となるように筐体２上に取り付けられている。

【0017】

このように、本実施形態１では、フランジ部材３３ａ～３３ｅが上記スペーサーとして機能しているので、当該スペーサーを調整することにより、真空カバー４及びこれに取り付けられたアンテナ８の位置を調整することができる。これにより、本実施形態１では、被処理基板Ｈ１に対する、アンテナ８の高さ調整およびその長手方向の傾き調整を容易に行うことができ、高精度なプラズマ処理を実行可能なプラズマ処理装置１を容易に構成することができる。

【0018】

＜真空カバー４＞
また、プラズマ処理装置１では、第１の開口部２ｂを閉塞する真空カバー４が、筐体２に脱着可能に取り付けられるように構成されている。つまり、真空カバー４は、第１の開口部２ｂを閉塞するようにフランジ３３を介在させて筐体本体２ａに気密に取り付けられるとともに、可逆的にフランジ３３および筐体本体２ａから取り外し可能に取り付けられる。ここで、フランジ３３は、外部環境から上記処理室に向かう方向において第１の開口部２ｂの開口面積を段階的に小さくするように形成された上記段差部を有している。例えば、フランジ部材３３ａ～３３ｅのそれぞれは、第１の開口部２ｂの内部において、真空カバー４の周縁部を係止するように突出する支持部を有してもよい。この支持部は上記段差部の一部であってもよい。また、真空カバー４は、外側カバーの一例であり、図２に示すように、フランジ部材３３ａ～３３ｅの各段差部の上面に当接して支持される。真空カバー４は、例えば、金属製である。

【0019】

＜アンテナカバー５＞
また、プラズマ処理装置１では、アンテナカバー５が真空カバー４よりも筐体２の内側で真空カバー４に固定されている。また、プラズマ処理装置１では、少なくとも真空カバー４およびアンテナカバー５によって囲まれたアンテナ収容空間ＡＫが形成されている。このアンテナ収容空間ＡＫは、包囲空間の一例であり、誘導結合性のプラズマを発生させるためのアンテナ８が収容されている。但し、このアンテナ収容空間ＡＫでは、その空間の大きさがアンテナ８によるプラズマを維持することができない大きさに設定されているため、プラズマ非生成領域として機能する。

【0020】

アンテナカバー５は、図１および図２に示すように、例えば、断面Ｕ字状に構成されたアンテナ収容部５ａを備えている。また、アンテナカバー５は、アンテナ８の長手方向に沿って複数に分割されている。具体的にいえば、アンテナカバー５のアンテナ収容部５ａには、アンテナ８の長手方向に沿って、複数、例えば、４つに分割されたアンテナ収容部材５ａ１、５ａ２、５ａ３、５ａ４を備えている。これらのアンテナ収容部材５ａ１～５ａ４は、各々、アンテナカバー５の分割部を構成している。

【0021】

また、アンテナ収容部５ａにおいては、隣接する２つのアンテナ収容部材５ａ１～５ａ４は所定の隙間を介して設けられている。具体的にいえば、アンテナ収容部材５ａ１とアンテナ収容部材５ａ２とは、隙間Ｋ１を挟むように設けられている。アンテナ収容部材５ａ２とアンテナ収容部材５ａ３とは、隙間Ｋ２を挟むように設けられている。アンテナ収容部材５ａ３とアンテナ収容部材５ａ４とは、隙間Ｋ３を挟むように設けられている。

【0022】

アンテナ収容部材５ａ１～５ａ４は、各々、カバー支持部５ｂと、カバー開口部５ｃとを備えている。カバー支持部５ｂは、対応するアンテナ収容部材５ａ１～５ａ４の２つの端部から連続的に形成されるとともに、対応するアンテナ収容部材５ａ１～５ａ４の端部から外向きに張り出すように形成された鍔部である。つまり、カバー支持部５ｂは、外向きフランジ形状を有する。また、図２に示すように、カバー支持部５ｂが、例えば、図示しないネジ等を用いて真空カバー４の内側表面に固定されることにより、対応するアンテナ収容部材５ａ１～５ａ４が、各々真空カバー４に直接的に取り付けられる。

【0023】

また、アンテナカバー５は、例えば、ガラスや石英などの誘電材料を用いて構成されており、誘電性を有する内側カバーを構成している。また、アンテナカバー５では、アンテナ収容部材５ａ１～５ａ４は、アンテナ８の形状に対応するように形成されている。アンテナ収容部材５ａ１～５ａ４は、アンテナ８が取り付けられた状態において、アンテナ８の外周面の一部を覆うような形状に構成されている。さらに、アンテナカバー５では、カバー開口部５ｃが真空カバー４側に開口するように設けられている。このカバー開口部５ｃは、アンテナ収容空間ＡＫの一部を構成する第２の開口部の一例である。

【0024】

また、本実施形態１のプラズマ処理装置１では、図２に示すように、アンテナカバー５が筐体本体２ａの上端面に設けられたフランジ３３によって筐体２の内部側に支持されている。これにより、本実施形態１では、アンテナカバーのアンテナ支持部が筐体の上側表面に接した状態で当該アンテナカバーを筐体に取り付ける場合に比べて、プラズマ処理装置をコンパクトに構成することができる。換言すれば、本実施形態１のプラズマ処理装置１では、アンテナカバー５の上部部分（カバー支持部５ｂ）が筐体２の上側表面から突出することなく、アンテナカバー５を筐体２に着脱可能に取り付けることができる。これにより、本実施形態１のプラズマ処理装置１では、筐体２が大型化することを抑制することができる。

【0025】

＜アンテナ８＞
アンテナ８は、例えば、棒状に構成されるとともに、銅などの金属材料を用いて構成されている。また、アンテナ８の一方の端部および他方の端部は、それぞれアンテナ絶縁部１３Ａおよび１３Ｂを介して真空カバー４に電気的に絶縁された状態で設けられており、筐体２の外部に気密に引き出されている。具体的にいえば、アンテナ８は、図１に示すように、直線状に構成された直線状部８ａと、直線状部８ａに連続的に設けられるとともに、当該直線状部８ａに対して折り曲げられた折り曲げ部８ｂ、８ｄと、を備えている。また、アンテナ８は、折り曲げ部８ｂ、８ｄにそれぞれ連続的に設けられるとともに、アンテナ絶縁部１３Ａ、１３Ｂにそれぞれ保持されて、筐体２の外部に引き出される終端部８ｃ、８ｅを備えている。

【0026】

また、アンテナ８には、チラー１２が設置されており、当該チラー１２によって循環された冷却媒体、例えば、冷却水によってアンテナ８は所定温度に冷却されるようになっている。具体的には、チラー１２は、図示しないポンプ等の駆動部を含み、冷却水を循環させるためのチラー本体１２ａと、チラー本体１２ａに気密に連結された配管１２ｂとを備えている。また、配管１２ｂは、アンテナ８の内部空間にも配置されており、アンテナ８の当該内部空間を冷却水の循環路として利用するよう構成されている。すなわち、アンテナ８では、図１に矢印Ｒ１およびＲ２にて示すように、アンテナ８の内部空間に冷却水を流すことにより、当該アンテナ８の冷却を行うようになっている。

【0027】

また、アンテナ８の一方の終端部８ｃおよび他方の終端部８ｅには、インピーダンス調整部１０およびインピーダンス調整部１１がそれぞれ電気的に接続されている。インピーダンス調整部１０は、図示しない整合回路を備えており、整合回路を介してアンテナ８の一方の端部が電源９に接続されている。また、インピーダンス調整部１１は、可変コンデンサを備えており、アンテナ８の他方の終端部８ｅは可変コンデンサを介して電気的に接地されている。

【0028】

また、アンテナ８は、図１に示すように、筐体２の外部への引出し部分である、終端部８ｃ、８ｅ以外の、プラズマを発生させるための主要部分として、直線状部８ａおよび折り曲げ部８ｂ、８ｄを備えている。これにより、本実施形態１のプラズマ処理装置１では、例えば、螺旋状やＵ字状などの湾曲形状を含んでいる場合に比べて、アンテナを容易に、かつ、コストが安価に製造することができる。また、本実施形態１では、アンテナ８の長手方向での傾きを調整することにより、当該アンテナ８によるプラズマの発生分布を容易に調整することが可能となる。

【0029】

また、図２に示すように、アンテナカバー５は、アンテナ８の上記主要部分に対応して形成されて当該主要部分を収容する断面Ｕ字状のアンテナ収容部材５ａ１～５ａ４を備えている。これにより、本実施形態１では、複数のアンテナ８を設ける場合でも、複数の各アンテナ８の設置スペース、ひいては筐体２およびプラズマ処理装置１の小型化を容易に図ることができる。

【0030】

電源９は、例えば、１３．５６ＭＨｚの高周波電力を、インピーダンス調整部１０を介してアンテナ８の一方の端部に供給する。プラズマ処理装置１では、図示しない制御部がインピーダンス調整部１１の上記可変コンデンサの容量を変更することにより、アンテナ８に高周波電力が効率的に供給されるように制御する。

【0031】

また、本実施形態１では、電源９、インピーダンス調整部１０、およびインピーダンス調整部１１はアンテナ８毎に設けられており、上記制御部は、アンテナ８毎の電源９の制御を行うことにより、各アンテナ８で発生させるプラズマの生成制御を実行し得る。これにより、本実施形態１では、上記制御部は、アンテナ８をより適切に動作させることができ、アンテナ収容空間ＡＫでのプラズマの発生を確実に抑制可能となる。この結果、本実施形態１では、アンテナ８の損傷等の発生をより確実に抑えることができる。

【0032】

被覆カバー１４は、例えば、炭化シリコンやアルミナなどの誘電材料を用いた誘電性を有している。また、被覆カバー１４は、図１に示すように、アンテナ８の長手方向に沿って分割された複数、例えば、３つの被覆部材１４ａ、１４ｂ、１４ｃを備えている。これらの被覆部材１４ａ～１４ｃは、アンテナカバー５の上記分割部を覆うように設けられている。

【0033】

具体的にいえば、被覆部材１４ａは、少なくとも隙間Ｋ１を閉塞するように、アンテナ収容部材５ａ１および５ａ２に取り付けられている。被覆部材１４ｂは、少なくとも隙間Ｋ２を閉塞するように、アンテナ収容部材５ａ２および５ａ３に取り付けられている。被覆部材１４ｃは、少なくとも隙間Ｋ３を閉塞するように、アンテナ収容部材５ａ３および５ａ４に取り付けられている。このように、被覆部材１４ａ～１４ｃが、それぞれ隙間Ｋ１～Ｋ３を閉塞しているので、筐体２の内部に生じたプラズマが、アンテナ収容空間ＡＫの内部に入る可能性を大幅に低減することができる。

【0034】

被覆カバー１４においては、被覆部材１４ａ～１４ｃは、各々、例えば、図示しないネジ等の固定部材により、アンテナカバー５に取り付けられている。また、被覆カバー１４では、被覆部材１４ａ、１４ｃは、それぞれアンテナ８の折り曲げ部８ｂ、８ｄに対向するように設けられている。これにより、筐体２の内部において折り曲げ部８ｂ、８ｄに対向する領域のみ、プラズマ密度が不適切に大きくなるのを抑制することができ、被処理基板Ｈ１に対して、高精度なプラズマ処理を容易に行うことができる。なお、上記説明以外に、例えば、真空カバー４に対して、被覆部材１４ａ～１４ｃが取り付けられる構成でもよい。

【0035】

また、本実施形態１のプラズマ処理装置１では、アンテナカバー５は、筐体２の内部側に設けられた被覆カバー１４によって被覆されている。これにより、本実施形態１のプラズマ処理装置１では、アンテナカバー５は、被覆カバー１４のプラズマ耐性よりも小さいプラズマ耐性を有する材料、すなわち筐体２の内部で生じたプラズマに対する耐久性が小さい材料を用いて、構成されている。具体的にいえば、アンテナカバー５および被覆カバー１４は、上述したように、それぞれガラスや石英などの誘電材料および炭化シリコンやアルミナなどの誘電材料を用いて構成することができる。この結果、本実施形態１では、コストが安価なアンテナカバー５、ひいてはコストが安価なプラズマ処理装置１を容易に構成することができる。

【0036】

また、筐体２では、第１の開口部２ｂの内部にアンテナカバー５および被覆カバー１４を取り付けることによって、当該筐体２の内部空間が画定されてプラズマ生成領域ＨＡが筐体本体２ａの内部に形成される。このプラズマ生成領域ＨＡの内部には、ステージ６および当該ステージ６に支持された被処理基板Ｈ１が配置されるようになっており、プラズマ生成領域ＨＡが上記処理室を実質的に構成している。換言すれば、筐体２では、アンテナカバー５および被覆カバー１４により、プラズマ生成領域ＨＡと上記プラズマ非生成領域とが互いに区切られている。

【0037】

さらに、筐体２では、フランジ３３および真空カバー４が筐体本体２ａに気密に取り付けられることにより、上記処理室を含んだ真空容器を構成している。つまり、図１に示すように、筐体２では、真空ポンプＰＯが筐体本体２ａに連結されており、上記制御部が真空ポンプＰＯの制御を行うことにより、プラズマ生成領域ＨＡの内部は少なくともプラズマ処理の際に所定の真空度とされる。

【0038】

具体的にいえば、筐体２では、真空ポンプＰＯを用いて排気することにより、プラズマ生成領域ＨＡ内が減圧されるとともに、アンテナ収容空間ＡＫも減圧される。これは、アンテナカバー５と筐体２とが互いに接する部分は真空シールされておらず、隙間を介してプラズマ生成領域ＨＡとアンテナ収容空間ＡＫとは互いに連通しているためである。アンテナ収容空間ＡＫは、プラズマ生成領域ＨＡと比べると狭く、プラズマの生成および維持が困難な領域（プラズマ非生成領域）となっており、アンテナ８に通電してプラズマ生成領域ＨＡにプラズマを発生させている状態において、アンテナ収容空間ＡＫの気圧は、プラズマ生成領域ＨＡと同等の、例えば１Ｐａ～１００Ｐａであってよい。なお、図１に示すように、筐体２およびステージ６は、各々電気的に接地されている。

【0039】

また、筐体２には、プラズマ生成領域ＨＡの内部での圧力（真空度）を検知する第１圧力計が設けられており（図示せず）、上記制御部は、第１圧力計の検知結果を用いて、プラズマ生成領域ＨＡの内部の真空度の制御を行う。

【0040】

また、筐体２には、ステージ６の温度を検出する温度センサが設けられており（図示せず）、当該温度センサの検出結果は、上記制御部に出力される。そして、上記制御部は、入力した温度センサの検出結果を用いたフィードバック制御を行うことにより、上記プラズマ処理中に、ステージ６を予め定められた設定温度となるように制御する。

【0041】

また、筐体２には、上記所定のプラズマ処理に対応した、上記皮膜の成膜用ガスを含んだ処理ガスを筐体２のプラズマ生成領域ＨＡ（処理室）の内部に導入する処理ガス供給部を備えており（図示せず）、処理ガスの雰囲気下で当該プラズマ処理が行われるようになっている。なお、処理ガスは、例えば、アルゴン、水素、窒素、シラン、または酸素である。

【0042】

以上のように構成された本実施形態１のプラズマ処理装置１は、処理室内部と外部とを連通する第１の開口部２ｂが設けられた筐体２と、筐体２に脱着可能に取り付けられ、第１の開口部２ｂを閉塞する真空カバー４と、を備えている。また、プラズマ処理装置１は、プラズマを発生させるための棒状のアンテナ８と、真空カバー４との間にアンテナ８を包囲するアンテナ収容空間ＡＫを構成するアンテナカバー５と、を備えている。プラズマ処理装置１では、アンテナカバー５は、アンテナ８の長手方向に沿って複数に分割されたアンテナ収容部材５ａ１～５ａ４を有する。また、プラズマ処理装置１では、被覆カバー１４が、アンテナカバー５のアンテナ収容部材５ａ１～５ａ４を覆うように設けられている。

【0043】

以上の構成により、本実施形態１では、アンテナカバー５を設けた場合でも、メンテナンス性を向上させることができるプラズマ処理装置１を構成することができる。具体的にいえば、本実施形態１では、真空カバー４、アンテナカバー５、および被覆カバー１４は筐体２に対してその第１の開口部２ｂ側から自在に取り出すことができる。この結果、本実施形態１では、プラズマ処理装置１のメンテナンス作業を実施するときに、真空カバー４、アンテナカバー５、および被覆カバー１４を筐体２から容易に取り除くことができ、当該メンテナンス作業に手間および時間を要する可能性を大幅に低減することができる。

【0044】

また、本実施形態１では、アンテナ８毎に、真空カバー４、アンテナカバー５、および被覆カバー１４が設けられているので、アンテナ８単位に、設置作業、交換作業、位置調整作業、およびメンテナンス作業等を行うことが可能となる。この結果、本実施形態１では、取り扱いが容易で高品質なプラズマ処理装置１を簡単に構成することができる。

【0045】

また、本実施形態１では、アンテナカバー５が真空カバー４に固定されているので、アンテナ８の取り付けまたは取り出すときに、アンテナカバー５を直接的にハンドリングする必要がない。これにより、本実施形態１では、欠けや割れなどの破損がアンテナカバー５に生じる可能性を大幅に小さくすることができ、プラズマ処理装置１のメンテナンス時間およびコストを低減することができる。

【0046】

また、本実施形態１では、アンテナカバー５はアンテナ収容部材５ａ１～５ａ４に分割されているため。アンテナカバー５自体のコストを低減することができる。また、アンテナカバー５において、例えば、破損が生じて交換が必要となった場合でも、交換を必要とするいずれかのアンテナ収容部材５ａ１～５ａ４だけを交換することが可能となる。この結果、本実施形態１では、プラズマ処理装置１のメンテナンス時間およびコストを低減することができる。

【0047】

また、本実施形態１では、アンテナカバー５において、いずれかのアンテナ収容部材５ａ１～５ａ４の長さを変更することによって、アンテナ８の長手方向の寸法の変更に容易に対応することができ、コストが安価なプラズマ処理装置１を簡単に構成することができる。

【0048】

また、本実施形態１では、アンテナカバー５において、隙間Ｋ１～Ｋ３が設けられているので、各アンテナ収容部材５ａ１～５ａ４に熱膨張係数の違いが生じたとしても、対応する隙間Ｋ１～Ｋ３によって隣接する２つのアンテナ収容部材５ａ１～５ａ４が接触する可能性を大幅に低減することができる。この結果、本実施形態１では、熱膨張係数の違いによる、アンテナ収容部材５ａ１～５ａ４の破損を確実に抑制することができる。

【0049】

また、本実施形態１では、被覆部材１４ａ～１４ｃに分割された被覆カバー１４がアンテナカバー５を覆うように設けられているので、アンテナ８の長手方向において、アンテナカバー５および被覆カバー１４の各厚みを合計した誘電体の厚みを容易に調整することができる。この結果、本実施形態１では、被処理基板Ｈ１の表面でのプラズマ密度などを調整することができ、被処理基板Ｈ１に対して、高精度なプラズマ処理を容易に行うことができる。また、本実施形態１では、処理室内に生じるプラズマの面内均一性を容易に向上させることができることから、プラズマ処理装置１の立上げ時間を短縮することができる。

【0050】

また、本実施形態１では、アンテナカバー５はアンテナ８の形状に一致するように形成されたアンテナ収容部５ａと、アンテナ収容空間ＡＫの一部を構成するカバー開口部５ｃとを備えている。これにより、本実施形態１では、ステージ６上の被処理基板Ｈ１に対して、アンテナ８を近接して配置することを容易に行うことが可能となる。この結果、本実施形態１では、被処理基板Ｈ１に対するプラズマ処理を効率よく実行することができる。

【0051】

また、本実施形態１では、図２に示されるように、アンテナ８はアンテナカバー５のアンテナ収容部５ａによって被処理基板Ｈ１側に突出するように筐体２の内部に配置されている。このため、本実施形態１では、アンテナ８の円周方向で考えたとき、当該アンテナ８からのプラズマの発生領域を１８０度よりも大きくできる。つまり、図２において、アンテナ８の直径よりも上側部分からもプラズマ処理に用いられるプラズマを被処理基板Ｈ１に付与することができる。この結果、本実施形態１では、プラズマ処理に用いられるプラズマを効率よく発生させることができる。

【0052】

また、本実施形態１では、図１に示すように、アンテナ８の長手方向の一方の端部および他方の端部がアンテナカバー５のアンテナ収容部５ａによって保持された状態で筐体２の内部に配置されている。このため、本実施形態１では、アンテナ８の長手方向の一方の端部および他方の端部からプラズマ処理に用いられるプラズマを被処理基板Ｈ１に付与することができる。この結果、本実施形態１では、一方の端部および他方の端部からのプラズマの密度低下を抑えることができ、アンテナ８の長手方向のプラズマ密度の均一性を向上させることができる。

【0053】

また、本実施形態１のプラズマ処理装置１では、アンテナカバー５および被覆カバー１４がプラズマ生成領域ＨＡとプラズマ非生成領域（アンテナ収容空間ＡＫ）とを互いに区切っている。これにより、本実施形態１では、異常放電の発生またはプラズマの発生によってアンテナ８等が損傷して、パーティクルなどの汚染物質がアンテナ収容空間ＡＫに生じたとしても、汚染物質のプラズマ生成領域ＨＡ側への侵入をアンテナカバー５および被覆カバー１４によって大幅に抑制することができ、汚染物質による被処理基板Ｈ１の品質低下の発生する可能性を極力低減することができる。

【0054】

〔実施形態２〕
本開示の実施形態２について、図３および図４を用いて具体的に説明する。図３は、本開示の実施形態２に係るプラズマ処理装置１の構成を説明する図である。図４は、図３のＩＶ－ＩＶ線断面図である。なお、説明の便宜上、上記実施形態１にて説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を繰り返さない。

【0055】

本実施形態２と上記実施形態１との主な相違点は、上記スペーサーとして、５つのフランジ部材３３ａ～３３ｅを備えたフランジ部３３に代えて、枠体状に一体的に構成されたフランジ３を用いた点である。

【0056】

図３および図４に示すように、本実施形態２のプラズマ処理装置１では、真空カバー４は、フランジ（スペーサー）３を介在させて筐体２に取り付けられている。このフランジ３は、例えば、互いに対向する２つの第１辺部３ａと、第１辺部３ａに直交するとともに、互いに対向する２つの第２辺部３ｂと、を有する矩形状の枠体を備えている。また、フランジ３は、例えば、上記枠体の内側において一方の第２辺部３ｂから他方の第２辺部３ｂにわたって設けられた、第３辺部３ｃ、第４辺部３ｄ、および第５辺部３ｅを備えている。すなわち、これらの第３辺部３ｃ、第４辺部３ｄ、および第５辺部３ｅの各両端部は、第２辺部３ｂに連続して形成されている。第３辺部３ｃ、第４辺部３ｄ、および第５辺部３ｅは、２つの第１辺部３ａの間において、第１辺部３ａと平行となるように形成されていてよい。

【0057】

また、第１辺部３ａ、第２辺部３ｂ、第３辺部３ｃ、第４辺部３ｄ、および第５辺部３ｅはそれぞれ、第１の開口部２ｂ側に突出する突出部を有していてよい。なお、以下の説明では、第１辺部３ａ、第２辺部３ｂ、第３辺部３ｃ、第４辺部３ｄ、および第５辺部３ｅについて、辺部３ｈと総称する。

【0058】

また、本実施形態２のプラズマ処理装置１では、アンテナカバー（内側カバー）１５が第１の開口部２ｂの内部にてフランジ３に対し取り外し可能に支持されている。具体的には、アンテナカバー１５は、図３及び図４に示すように、例えば、断面Ｕ字状に構成されたアンテナ収容部１５ａを備えている。また、アンテナカバー１５は、アンテナ８の長手方向に沿って複数に分割されている。具体的にいえば、アンテナカバー１５のアンテナ収容部１５ａには、アンテナ８の長手方向に沿って、複数、例えば、４つに分割されたアンテナ収容部材１５ａ１、１５ａ２、１５ａ３、１５ａ４を備えている。これらのアンテナ収容部材１５ａ１～１５ａ４は、各々、アンテナカバー１５の分割部を構成している。また、被覆カバー１４が、実施形態１のものと同様に、アンテナ収容部材１５ａ１～１５ａ４を覆うように設けられている。

【0059】

また、アンテナ収容部１５ａにおいては、隣接する２つのアンテナ収容部材１５ａ１～１５ａ４は所定の隙間を介して設けられている。具体的にいえば、アンテナ収容部材１５ａ１とアンテナ収容部材１５ａ２とは、隙間Ｋ１を挟むように設けられている。アンテナ収容部材１５ａ２とアンテナ収容部材１５ａ３とは、隙間Ｋ２を挟むように設けられている。アンテナ収容部材１５ａ３とアンテナ収容部材１５ａ４とは、隙間Ｋ３を挟むように設けられている。

【0060】

アンテナ収容部材１５ａ１～１５ａ４は、各々、カバー支持部１５ｂと、カバー開口部１５ｃとを備えている。カバー支持部１５ｂは、対応するアンテナ収容部材１５ａ１～５ａ４の２つの端部から連続的に形成されるとともに、対応するアンテナ収容部材１５ａ１～１５ａ４の端部から外向きに張り出すように形成された鍔部である。つまり、カバー支持部１５ｂは、外向きフランジ形状を有する。また、図３および図４に示すように、カバー支持部１５ｂが、被覆カバー１４を介在させてフランジ３の辺部３ｈに支持されることにより、対応するアンテナ収容部材１５ａ１～１５ａ４が、各々フランジ３および筐体本体２ａに取り付けられる。

【0061】

また、アンテナカバー１５は、例えば、ガラスや石英などの誘電材料を用いて構成されており、誘電性を有する内側カバーを構成している。また、アンテナカバー１５では、アンテナ収容部材１５ａ１～１５ａ４は、アンテナ８の形状に対応するように形成されている。アンテナ収容部材１５ａ１～１５ａ４は、アンテナ８が取り付けられた状態において、アンテナ８の外周面の一部を覆うような形状に構成されている。さらに、アンテナカバー１５では、カバー開口部１５ｃが真空カバー４側に開口するように設けられている。このカバー開口部１５ｃは、アンテナ収容空間ＡＫの一部を構成する第２の開口部の一例である。

【0062】

また、本実施形態２のプラズマ処理装置１では、図４に示すように、アンテナカバー１５が筐体本体２ａの上端面に設けられたフランジ３によって筐体２の内部側に支持されている。これにより、本実施形態２では、アンテナカバーのアンテナ支持部が筐体の上側表面に接した状態で当該アンテナカバーを筐体に取り付ける場合に比べて、プラズマ処理装置をコンパクトに構成することができる。換言すれば、本実施形態２のプラズマ処理装置１では、アンテナカバー１５の上部部分（カバー支持部１５ｂ）が筐体２の上側表面から突出することなく、アンテナカバー１５を筐体２に着脱可能に取り付けることができる。これにより、本実施形態２のプラズマ処理装置１では、筐体２が大型化することを抑制することができる。

【0063】

ここで、例えば、フランジ３の辺部３ｈは、第１の開口部２ｂの内部において、アンテナカバー１５の周縁部を係止するように突出する第２の支持部を有していてよい。第２の支持部は、上記突出部の一部であり、上記第１の支持部よりも第１の開口部２ｂの内部側に突出している（突出長が大きい）。アンテナカバー１５が第１の開口部２ｂの内部に支持された状態において、カバー支持部５ｂは、フランジ３の辺部３ｈ（の上記第２の支持部）によって支持される。また、アンテナカバー１５は、アンテナ収容部１５ａによって囲まれて形成されたカバー開口部１５ｃを有している。

【0064】

以上の構成により、本実施形態２のプラズマ処理装置１は、実施形態１のものと同様な効果を奏する。

【0065】

また、本実施形態２のプラズマ処理装置１では、筐体２の第１の開口部２ｂ側には、アンテナカバー１５を取り外し可能に支持するフランジ３が設けられている。これにより、本実施形態２では、アンテナカバー１５を容易に筐体２に設けることができる。さらに、本実施形態２では、真空カバー４、アンテナカバー５、被覆カバー１４、およびアンテナ８などを筐体２から容易に取り外すことが可能となって、メンテナンス性に優れたプラズマ処理装置１を容易に構成することができる。

【0066】

また、本実施形態２では、ネジ止めを用いていた上記従来例と異なり、アンテナカバー１５はネジ止め等を行うことなく、筐体２の内部に設置することができる。この結果、本実施形態２では、プラズマ生成領域ＨＡ（処理室）の内部を所定の真空度の真空環境下にしたときでも、上記従来例と異なり、ネジ止めの箇所を起点とする割れまたは変形などがアンテナカバー１５に生じる可能性を大幅に低減することができる。

【0067】

〔実施形態３〕
本開示の実施形態３について、図５および図６を用いて具体的に説明する。図５は、本開示の実施形態３に係るプラズマ処理装置１の構成を説明する図である。図６は、図５のＶＩ－ＶＩ線断面図である。なお、説明の便宜上、上記実施形態２にて説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を繰り返さない。

【0068】

本実施形態３と上記実施形態２との主な相違点は、上記スペーサーにおいて、筐体２に対して真空カバー４を脱着可能に支持する支持台１６を設けた点である。

【0069】

図５および図６に示すように、本実施形態３のプラズマ処理装置１では、支持台（スペーサー）１６が真空カバー４とフランジ３との間に設けられている。この支持台１６は、筐体２に対して真空カバー４を脱着可能に支持する。また、アンテナカバー１５は、支持台１６を介在させてフランジ３に支持されている。

【0070】

以上の構成により、本実施形態３のプラズマ処理装置１は、実施形態２のものと同様な効果を奏する。

【0071】

また、本実施形態３のプラズマ処理装置１では、筐体２から、アンテナカバー１５および被覆カバー１４と一体でアンテナ８および真空カバー４を取り外せることができる。この結果、本実施形態３では、プラズマ処理装置１のメンテナンス性をさらに向上させることができる。

【0072】

また、本実施形態３では、アンテナカバー１５に対する、支持台１６の支持高さを部分的に調整して、調整した支持台１６に合わせて、アンテナ８を真空カバー４に取り付けることができる。これにより、本実施形態３では、アンテナカバー１５、ひいては被処理基板Ｈ１に対する、アンテナ８の高さ調整およびその長手方向の傾き調整を容易に行うことができる。この結果、本実施形態３では、高精度なプラズマ処理を実行することができるプラズマ処理装置１を容易に構成することができる。

【0073】

〔実施形態４〕
本開示の実施形態４について、図７および図８を用いて具体的に説明する。図７は、本開示の実施形態４に係るプラズマ処理装置１の構成を説明する図である。図８は、図７のＶIII－ＶIII線断面図である。なお、説明の便宜上、上記実施形態１にて説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を繰り返さない。

【0074】

本実施形態４と上記実施形態１との主な相違点は、真空カバー４と上記スペーサーとしてのフランジ部３３との間にスペーサー部材１８を介在させた点である。

【0075】

図７および図８に示すように、本実施形態４のプラズマ処理装置１では、スペーサー部材（スペーサー）１８が、アンテナ８毎に、真空カバー４とフランジ３３との間に設けられている。このスペーサー部材１８は、例えば、金属材料を用いて、枠状に構成されており、筐体本体２ａの上端面上に設置されている。そして、スペーサー部材１８は、矩形状に形成された、真空カバー４の４辺を支持している。

【0076】

以上の構成により、本実施形態４のプラズマ処理装置１は、実施形態１のものと同様な効果を奏する。

【0077】

また、本実施形態４のプラズマ処理装置１では、筐体２に対して、スペーサー部材１８を介在させて真空カバー４およびこれに取り付けられたアンテナ８を支持していることから、スペーサー部材１８を調整することにより、アンテナ８の位置を調整することができる。換言すれば、本実施形態４では、実施形態１のものと異なり、フランジ部３３を変更することなく、被処理基板Ｈ１に対する、アンテナ８の高さ調整およびその長手方向の傾き調整を容易に行うことができる。

【0078】

〔変形例〕
本開示の変形例について、図９を用いて具体的に説明する。図９は、本開示の変形例に係るプラズマ処理装置１の構成を説明する図である。なお、説明の便宜上、上記実施形態１にて説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を繰り返さない。

【0079】

本変形例と上記実施形態１との主な相違点は、アンテナカバー５の全体を覆う被覆カバー２４を設けた点である。

【0080】

本変形例のプラズマ処理装置１では、被覆カバー２４が、アンテナカバー５の筐体２側の表面全体を覆うように設けられている。これにより、本変形例では、被覆カバー２４のみを交換することにより、プラズマ処理装置１のメンテナンスを終了することができる。この結果、本変形例では、優れたメンテナンス性を有するプラズマ処理装置１を容易に構成することができる。

【0081】

なお、上記の説明以外に、上記実施形態と同様に、被覆カバー２４をアンテナ８の長手方向に沿って複数の被覆部材に分割する構成でもよい。

【0082】

〔まとめ〕
上記の課題を解決するために、本開示の第１態様のプラズマ処理装置は、処理室を構成する筐体であって、前記処理室内部と外部とを連通する開口部が設けられた筐体と、前記筐体に脱着可能に取り付けられ、前記開口部を閉塞する外側カバーと、前記処理室内部に配置された、プラズマを発生させるための棒状のアンテナと、前記外側カバーよりも内側に配置されるとともに、前記外側カバーとの間に前記アンテナを包囲する包囲空間を構成する、誘電性を有する内側カバーと、を備え、前記内側カバーは、前記アンテナの長手方向に沿って複数に分割されており、前記外側カバーまたは前記内側カバーに固定され、かつ、前記内側カバーの分割部を覆うように設けられる、誘電性を有する被覆カバーを更に備える。

【0083】

上記構成によれば、メンテナンス性を向上させることができるプラズマ処理装置を提供することができる。

【0084】

本開示の第２態様は、第１態様のプラズマ処理装置において、前記外側カバーは、スペーサーを介在させて前記筐体に取り付けられてもよい。

【0085】

上記構成によれば、スペーサーを調整することにより、アンテナの位置を調整することができる。これにより、被処理物に対する、アンテナの高さ調整およびその長手方向の傾き調整を容易に行うことができ、高精度なプラズマ処理を実行することができるプラズマ処理装置を容易に構成することができる。

【0086】

本開示の第３態様は、第２態様のプラズマ処理装置において、前記スペーサーには、前記外側カバーを脱着可能に支持する支持台が含まれてもよい。

【0087】

上記構成によれば、外側カバーと一体で、アンテナ、内側カバー、および被覆カバーを取り外せることができ、メンテナンス性をさらに向上させることができる。

【0088】

本開示の第４態様は、第１態様から第３態様のいずれかの態様のプラズマ処理装置において、前記被覆カバーは、前記内側カバーの全体を覆うように設けられてもよい。

【0089】

上記構成によれば、被覆カバーが内側カバーの全体を覆うように設けられているので、当該被覆カバーのみを交換することにより、プラズマ処理装置のメンテナンスを終了することが可能となって優れたメンテナンス性を有するプラズマ処理装置を容易に構成することができる。

【0090】

本開示の第５態様は、第１態様から第４態様のいずれかの態様のプラズマ処理装置において、前記被覆カバーは、前記アンテナの長手方向に沿って分割された複数の被覆部材によって構成されてもよい。

【0091】

上記構成によれば、複数の被覆部材の各厚みを調整することにより、アンテナの長手方向において、被処理物の表面でのプラズマ密度を容易に調整することができる。これにより、被処理物に対する、プラズマ処理を精度よく行うことができる。

【0092】

本開示の第６態様は、第１態様から第５態様のいずれかの態様のプラズマ処理装置において、前記内側カバーのプラズマ耐性は、前記被覆カバーのプラズマ耐性よりも小さくてもよい。

【0093】

上記構成によれば、コストが安価な内側カバー、ひいてはコストが安価なプラズマ処理装置を容易に構成することができる。

【0094】

本開示の第７態様は、第１態様から第６態様のいずれかの態様のプラズマ処理装置において、前記アンテナは、直線状に構成された直線状部と、前記直線状部に連続的に設けられるとともに、当該直線状部に対して折り曲げられた折り曲げ部とを有し、前記被覆カバーは、少なくとも前記折り曲げ部に対向するように、設けられてもよい。

【0095】

上記構成によれば、被覆カバーが少なくとも折り曲げ部に対向するように設けられているので、処理室内部において折り曲げ部に対向する領域のみ、プラズマ密度が不適切に大きくなるのを抑制することができる。これにより、被処理物に対して、高精度なプラズマ処理を容易に行うことができる。

【0096】

本開示は上述した各実施形態及び変形例に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態及び変形例に開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本開示の技術的範囲に含まれる。

【符号の説明】

【0097】

１ プラズマ処理装置
２ 筐体（処理室）
２ｂ 第１の開口部（開口部）
３ フランジ（スペーサー）
４ 真空カバー（外側カバー）
５、１５ アンテナカバー（内側カバー）
５ａ１～５ａ４、１５ａ１～１５ａ４ アンテナ収容部材（分割部）
８ アンテナ
８ａ 直線状部
８ｂ、８ｄ 折り曲げ部
１４、２４ 被覆カバー
１６ 支持台（スペーサー）
１８ スペーサー部材（スペーサー）
３３ フランジ部（スペーサー）
ＡＫ アンテナ収容空間（包囲空間）

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】