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特開2024-85638インクジェットプリンタ、パスマスクの生成方法、及びマルチパス方式の印刷方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024085638
(43)【公開日】2024-06-27
(54)【発明の名称】インクジェットプリンタ、パスマスクの生成方法、及びマルチパス方式の印刷方法
(51)【国際特許分類】
B41J 2/01 20060101AFI20240620BHJP
B41J 2/21 20060101ALI20240620BHJP
B41J 2/205 20060101ALI20240620BHJP
【ＦＩ】
B41J2/01 213
B41J2/21
B41J2/01 451
B41J2/205
【審査請求】未請求
【請求項の数】13
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022200259
(22)【出願日】2022-12-15
(71)【出願人】
【識別番号】000116057
【氏名又は名称】ローランドディー．ジー．株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100067356
【弁理士】
【氏名又は名称】下田 容一郎
(74)【代理人】
【識別番号】100160004
【弁理士】
【氏名又は名称】下田 憲雅
(74)【代理人】
【識別番号】100120558
【弁理士】
【氏名又は名称】住吉 勝彦
(74)【代理人】
【識別番号】100148909
【弁理士】
【氏名又は名称】瀧澤 匡則
(74)【代理人】
【識別番号】100192533
【弁理士】
【氏名又は名称】奈良 如紘
(72)【発明者】
【氏名】小倉 慶成
【テーマコード（参考）】
2C056
2C057
【Ｆターム（参考）】
2C056EA04
2C056EB58
2C056EC71
2C056EC75
2C056EC79
2C056FA10
2C057AF39
2C057AL31
2C057AM28
2C057AN01
2C057CA05
2C057DA05
2C057DB03
(57)【要約】
【課題】 マルチパス方式の印刷技術における現状の限界を破って、画質や印刷速度の、さらなる向上を実現する。
【解決手段】 マルチパス方式のインクジェットプリンタは、各パスマスク１１３に設定されるインク吐出可能画素によってインクの吐出位置に基づいて生成された印刷データに基づいてインクの吐出を制御するインク吐出制御部１３１を有し、各パス用のパスマスクの各々は、（１）その各パスマスクを重ねると、その重なりに対応する範囲内のすべての画素がインク吐出可能画素となるという補完関係を前提とすることなく設計されたマスクパターンを有するという第１の構成、（２）所定の濃度分布に従うマスクパターンを有するという第２の構成、（３）各パスマスクを重ね合わされた場合に、バンディングが抑制され得る分散性を備えるように設計されたマスクパターンを有する、という第３の構成、を有する。
【選択図】 図２
【解決手段】 マルチパス方式のインクジェットプリンタは、各パスマスク１１３に設定されるインク吐出可能画素によってインクの吐出位置に基づいて生成された印刷データに基づいてインクの吐出を制御するインク吐出制御部１３１を有し、各パス用のパスマスクの各々は、（１）その各パスマスクを重ねると、その重なりに対応する範囲内のすべての画素がインク吐出可能画素となるという補完関係を前提とすることなく設計されたマスクパターンを有するという第１の構成、（２）所定の濃度分布に従うマスクパターンを有するという第２の構成、（３）各パスマスクを重ね合わされた場合に、バンディングが抑制され得る分散性を備えるように設計されたマスクパターンを有する、という第３の構成、を有する。
【選択図】 図２
【特許請求の範囲】
【請求項1】
インクを吐出可能な印刷ヘッドとメディアとを、主走査方向、及び前記主走査方向に直交する副走査方向に、相対的に移動させながら、マルチパス方式によって前記メディアに所望の印刷を行うと共に、
前記印刷ヘッドは、副走査方向に配列された、インクを吐出する所定数のノズルを含むノズル列を有し、
前記ノズル列に対応して、複数のパス毎にパスマスクを設け、各パスマスクに設定されるインク吐出可能画素によってインクの吐出位置を特定するインクジェットプリンタであって、
前記各パス用のパスマスクの各々におけるインク吐出可能画素に基づいて生成された印刷データに基づいてインクの吐出を制御するインク吐出制御部を有し、
前記各パス用のパスマスクの各々は、
（１）複数のパス毎に設定される各パスマスクは、その各パスマスクを重ねると、その重なりに対応する範囲内のすべての画素がインク吐出可能画素となるという補完関係を前提とすることなく設計されたマスクパターンを有するという第１の構成、
（２）複数のパス毎に設定される各パスマスクは、所定の濃度分布に従うマスクパターンを有するという第２の構成、
（３）複数のパス毎に設定される各パスマスクは、各パスマスクが重ね合わされた場合において、バンディングが抑制され得る分散性を備えるように設計されたマスクパターンを有する、という第３の構成、
を有する、
インクジェットプリンタ。
前記印刷ヘッドは、副走査方向に配列された、インクを吐出する所定数のノズルを含むノズル列を有し、
前記ノズル列に対応して、複数のパス毎にパスマスクを設け、各パスマスクに設定されるインク吐出可能画素によってインクの吐出位置を特定するインクジェットプリンタであって、
前記各パス用のパスマスクの各々におけるインク吐出可能画素に基づいて生成された印刷データに基づいてインクの吐出を制御するインク吐出制御部を有し、
前記各パス用のパスマスクの各々は、
（１）複数のパス毎に設定される各パスマスクは、その各パスマスクを重ねると、その重なりに対応する範囲内のすべての画素がインク吐出可能画素となるという補完関係を前提とすることなく設計されたマスクパターンを有するという第１の構成、
（２）複数のパス毎に設定される各パスマスクは、所定の濃度分布に従うマスクパターンを有するという第２の構成、
（３）複数のパス毎に設定される各パスマスクは、各パスマスクが重ね合わされた場合において、バンディングが抑制され得る分散性を備えるように設計されたマスクパターンを有する、という第３の構成、
を有する、
インクジェットプリンタ。
【請求項2】
複数の色のインクを吐出可能な印刷ヘッドとメディアとを、主走査方向、及び前記主走査方向に直交する副走査方向に、相対的に移動させながら、マルチパス方式によって前記メディアに所望のカラー印刷を行うと共に、
前記印刷ヘッドは、副走査方向に配列された、インクを吐出する所定数のノズルを含むノズル列を有し、
前記ノズル列に対応して、複数のパス毎に各色用のパスマスクを設け、各パスマスクに設定されるインク吐出可能画素によって各色のインクの吐出位置を特定するインクジェットプリンタであって、
前記各色の各パス用のパスマスクの各々におけるインク吐出可能画素に基づいて生成された各色の印刷データに基づいて各色のインクの吐出を制御するインク吐出制御部を有し、
前記各色の各パス用のパスマスクの各々は、
（１）同一色のインクについての、複数のパス毎に設定される各パスマスクは、その各パスマスクを重ねると、その重なりに対応する範囲内のすべての画素がインク吐出可能画素となるという補完関係を前提とすることなく設計されたマスクパターンを有するという第１の構成、
（２）同一色のインクについての、複数のパス毎に設定される各パスマスクは、所定の濃度分布に従うマスクパターンを有するという第２の構成、
（３）各色成分の二次元の広がりを示すデータ構造をプレーンと称する場合において、同一色のインクについての、複数のパス毎に設定される各パスマスクは、その色のプレーンにおいて、バンディングが抑制され得る分散性を備えるように設計されたマスクパターンを有する、という第３の構成、
（４）複数のインクとして、第１色～第ｍ色のインクが使用される場合において、各色のインクについての、複数のパス毎に設定される各パスマスクは、各色のプレーンが統合された場合においても、バンディングが抑制され得る分散性を備えるように設計されたマスクパターンを有する、という第４の構成、
を有する、
インクジェットプリンタ。
前記印刷ヘッドは、副走査方向に配列された、インクを吐出する所定数のノズルを含むノズル列を有し、
前記ノズル列に対応して、複数のパス毎に各色用のパスマスクを設け、各パスマスクに設定されるインク吐出可能画素によって各色のインクの吐出位置を特定するインクジェットプリンタであって、
前記各色の各パス用のパスマスクの各々におけるインク吐出可能画素に基づいて生成された各色の印刷データに基づいて各色のインクの吐出を制御するインク吐出制御部を有し、
前記各色の各パス用のパスマスクの各々は、
（１）同一色のインクについての、複数のパス毎に設定される各パスマスクは、その各パスマスクを重ねると、その重なりに対応する範囲内のすべての画素がインク吐出可能画素となるという補完関係を前提とすることなく設計されたマスクパターンを有するという第１の構成、
（２）同一色のインクについての、複数のパス毎に設定される各パスマスクは、所定の濃度分布に従うマスクパターンを有するという第２の構成、
（３）各色成分の二次元の広がりを示すデータ構造をプレーンと称する場合において、同一色のインクについての、複数のパス毎に設定される各パスマスクは、その色のプレーンにおいて、バンディングが抑制され得る分散性を備えるように設計されたマスクパターンを有する、という第３の構成、
（４）複数のインクとして、第１色～第ｍ色のインクが使用される場合において、各色のインクについての、複数のパス毎に設定される各パスマスクは、各色のプレーンが統合された場合においても、バンディングが抑制され得る分散性を備えるように設計されたマスクパターンを有する、という第４の構成、
を有する、
インクジェットプリンタ。
【請求項3】
印刷ヘッドとメディアとを、主走査方向、及び前記主走査方向に直交する副走査方向に、相対的に移動させながら、マルチパス方式によって前記メディアに所望の印刷を行うと共に、
前記印刷ヘッドは、副走査方向に配列された、インクを吐出する所定数のノズルを含むノズル列を有し、
各パス毎にパスマスクを設け、各パスマスクに設定されるインク吐出可能画素によってインクの吐出位置を特定するインクジェットプリンタにおける、前記パスマスクの生成方法であって、
（１）複数のパス毎に設定される各パスマスクは、その各パスマスクを重ねると、その重なりに対応する範囲内のすべての画素がインク吐出可能画素となるという補完関係を前提とすることなく設計される、という基本方針の下で所定の領域を印刷するのに必要なパス数を含む印刷条件を設定するステップと、
（２）各パスマスクに対して、副走査方向に、所定の濃度分布を設定するステップと、
（３）前記ノズル列の前記所定数のノズルが対応付けされ、前記濃度分布が設定される第１のマスクパターンの設計の場において、
各パスマスクにおいて、インク吐出可能画素の一次候補点を設定し、
各一次候補点について、疎／密の評価値を算出し、
その疎／密の評価値を用いて、疎の度合いが上位の１つまたは複数の二次候補点を抽出するステップと、
（４）前記（１）のステップにて設定されたパス数をｊ（ｊは２以上の自然数）とする場合において、
１パス目～ｊパス目に対応する前記二次候補点を、第２のマスクパターン設計のための場に集約し、
前記第２のマスクパターン設計の場における各二次候補点の疎／密の評価値を用いて、疎の度合いが最も高い点を、インク吐出可能画素として特定するステップと、
（５）前記（４）において特定されたインク吐出可能画素が、前記（３）における前記第１のマスクパターンの設計の場において、何パス目のパスマスクにおける、どの箇所に該当するかを特定し、
その特定の際、該当する箇所が複数ある場合は、予め定められた所定条件に従って、該当箇所の一つを特定し、
その特定されたインク吐出可能画素に関する情報を記憶するステップと、
（６）前記（２）～（５）に記載される各処理を、各パスに対応した各パスマスクにおける、必要なすべてのインク吐出可能画素が特定されるまで繰り返すと共に、
前記（３）のステップを実施するに際しては、既にインク吐出可能画素が設定されたパスマスクについては、その設定されたインク吐出可能画素を除いて、必要な数の前記一次候補点を設定し、
（７）前記（２）～（６）に記載される各処理の繰り返しが終了すると、記憶されているインク吐出可能画素に関する情報に基づいて、各パスマスクにおけるマスクパターンを決定するステップと、
を含む、パスマスクの生成方法。
前記印刷ヘッドは、副走査方向に配列された、インクを吐出する所定数のノズルを含むノズル列を有し、
各パス毎にパスマスクを設け、各パスマスクに設定されるインク吐出可能画素によってインクの吐出位置を特定するインクジェットプリンタにおける、前記パスマスクの生成方法であって、
（１）複数のパス毎に設定される各パスマスクは、その各パスマスクを重ねると、その重なりに対応する範囲内のすべての画素がインク吐出可能画素となるという補完関係を前提とすることなく設計される、という基本方針の下で所定の領域を印刷するのに必要なパス数を含む印刷条件を設定するステップと、
（２）各パスマスクに対して、副走査方向に、所定の濃度分布を設定するステップと、
（３）前記ノズル列の前記所定数のノズルが対応付けされ、前記濃度分布が設定される第１のマスクパターンの設計の場において、
各パスマスクにおいて、インク吐出可能画素の一次候補点を設定し、
各一次候補点について、疎／密の評価値を算出し、
その疎／密の評価値を用いて、疎の度合いが上位の１つまたは複数の二次候補点を抽出するステップと、
（４）前記（１）のステップにて設定されたパス数をｊ（ｊは２以上の自然数）とする場合において、
１パス目～ｊパス目に対応する前記二次候補点を、第２のマスクパターン設計のための場に集約し、
前記第２のマスクパターン設計の場における各二次候補点の疎／密の評価値を用いて、疎の度合いが最も高い点を、インク吐出可能画素として特定するステップと、
（５）前記（４）において特定されたインク吐出可能画素が、前記（３）における前記第１のマスクパターンの設計の場において、何パス目のパスマスクにおける、どの箇所に該当するかを特定し、
その特定の際、該当する箇所が複数ある場合は、予め定められた所定条件に従って、該当箇所の一つを特定し、
その特定されたインク吐出可能画素に関する情報を記憶するステップと、
（６）前記（２）～（５）に記載される各処理を、各パスに対応した各パスマスクにおける、必要なすべてのインク吐出可能画素が特定されるまで繰り返すと共に、
前記（３）のステップを実施するに際しては、既にインク吐出可能画素が設定されたパスマスクについては、その設定されたインク吐出可能画素を除いて、必要な数の前記一次候補点を設定し、
（７）前記（２）～（６）に記載される各処理の繰り返しが終了すると、記憶されているインク吐出可能画素に関する情報に基づいて、各パスマスクにおけるマスクパターンを決定するステップと、
を含む、パスマスクの生成方法。
【請求項4】
前記（３）、（４）の各処理において、
各パスマスクの何れにおいても、インク吐出可能画素が一点も設定されていない場合には、
各点にランダムな評価値を付与することで、疎密の評価値に実質的な差異を生じさせる、
請求項３に記載のパスマスクの生成方法。
各パスマスクの何れにおいても、インク吐出可能画素が一点も設定されていない場合には、
各点にランダムな評価値を付与することで、疎密の評価値に実質的な差異を生じさせる、
請求項３に記載のパスマスクの生成方法。
【請求項5】
前記（３）、（４）の各処理において、
各パスマスクの何れかにおいて、インク吐出可能画素が少なくとも一点、設定されている場合には、
平滑化フィルタを用いたフィルタリングの結果を用いて、疎／密の評価値を算出する、
請求項３に記載のパスマスクの生成方法。
各パスマスクの何れかにおいて、インク吐出可能画素が少なくとも一点、設定されている場合には、
平滑化フィルタを用いたフィルタリングの結果を用いて、疎／密の評価値を算出する、
請求項３に記載のパスマスクの生成方法。
【請求項6】
前記（４）の処理において、
１つの点が、重複して抽出されている場合には、その重複回数に応じて、その点における疎／密の評価値を重み付けする、
請求項３に記載のパスマスクの生成方法。
１つの点が、重複して抽出されている場合には、その重複回数に応じて、その点における疎／密の評価値を重み付けする、
請求項３に記載のパスマスクの生成方法。
【請求項7】
前記平滑化フィルタを用いたフィルタリングの結果を用いて、疎／密の評価値を算出する処理は、
既に設定されたインク吐出可能画素を含む仮のマスクパターンに対して、フィルタサイズが異なる複数の平滑化フィルタを用いてフィルタ処理を実施するステップと、
フィルタ処理の結果毎に、疎／密の程度を示す一次評価値を求めるステップと、
前記一次評価値に基づいて、総合的な疎／密の程度を示す総合評価値を算出し、算出された総合評価値を、前記疎／密の評価値とするステップと、
を含む、
請求項５に記載のパスマスクの生成方法。
既に設定されたインク吐出可能画素を含む仮のマスクパターンに対して、フィルタサイズが異なる複数の平滑化フィルタを用いてフィルタ処理を実施するステップと、
フィルタ処理の結果毎に、疎／密の程度を示す一次評価値を求めるステップと、
前記一次評価値に基づいて、総合的な疎／密の程度を示す総合評価値を算出し、算出された総合評価値を、前記疎／密の評価値とするステップと、
を含む、
請求項５に記載のパスマスクの生成方法。
【請求項8】
印刷ヘッドとメディアとを、主走査方向、及び前記主走査方向に直交する副走査方向に、相対的に移動させながら、マルチパス方式によって前記メディアに所望の印刷を行うと共に、
前記印刷ヘッドは、副走査方向に配列された、インクを吐出する所定数のノズルを含むノズル列を有し、
各色のインクの各パス毎にパスマスクを設け、各パスマスクに設定されるインク吐出可能画素によって各色のインクの吐出位置を特定するインクジェットプリンタにおける、前記パスマスクの生成方法であって、
（１）同一色のインクについての、複数のパス毎に設定される各パスマスクは、その各パスマスクを重ねると、その重なりに対応する範囲内のすべての画素がインク吐出可能画素となるという補完関係を前提とすることなく設計される、という基本方針の下で所定の領域を印刷するのに必要なパス数を含む印刷条件を設定するステップと、
（２）各パスマスクに対して、副走査方向に、第１色～第ｍ色（ｍは２以上の自然数）の各色成分の濃度分布を設定するステップと、
（３）前記ノズル列の前記所定数のノズルが対応付けされ、前記濃度分布が設定される第１のマスクパターンの設計の場において、
各パスマスクにおいて、インク吐出可能画素の一次候補点を設定し、
各一次候補点について、疎／密の評価値を算出し、
その疎／密の評価値を用いて、疎の度合いが上位の１つまたは複数の二次候補点を抽出するステップと、
（４）各色成分の二次元的な広がりを示すデータ構造をプレーンと称し、前記（１）のステップにて設定されたパス数をｊ（ｊは２以上の自然数）とする場合において、
各色のプレーンにおける１パス目～ｊパス目に対応する前記二次候補点を、プレーン毎に設けられる第２のマスクパターン設計のための場に集約し、
前記第２のマスクパターン設計の場における各二次候補点の疎／密の評価値を用いて、疎の度合いが高い１つまたは複数の点を、各プレーンにおけるプレーン候補点として抽出するステップと、
（５）前記各プレーンにおけるプレーン候補点を、各プレーンを統合した第３のマスクパターンの設計の場において集約し、
前記第３のマスクパターンの設計の場における各プレーン候補点の疎／密の評価値を用いて、疎の度合いが最も高い点をインク吐出可能画素として特定するステップと、
（６）前記（５）において特定されたインク吐出可能画素が、前記（３）における前記第１のマスクパターンの設計の場において、どのプレーンの、何パス目のパスマスクにおける、どの箇所に該当するかを特定し、
その特定の際、該当する箇所が複数ある場合は、予め定められた所定条件に従って、該当箇所の一つを特定し、
その特定されたインク吐出可能画素に関する情報を記憶するステップと、
（７）前記（２）～（６）に記載される各処理を、各プレーンの、各パスに対応した各パスマスクにおける、必要なすべてのインク吐出可能画素が特定されるまで繰り返すと共に、
前記（３）のステップを実施するに際しては、既にインク吐出可能画素が設定されたパスマスクについては、その設定されたインク吐出可能画素を除いて、必要な数の前記一次候補点を設定し、
（８）前記（２）～（７）に記載される各処理の繰り返しが終了すると、記憶されているインク吐出可能画素に関する情報に基づいて、各色の各パスマスクにおけるマスクパターンを決定するステップと、
を含む、パスマスクの生成方法。
前記印刷ヘッドは、副走査方向に配列された、インクを吐出する所定数のノズルを含むノズル列を有し、
各色のインクの各パス毎にパスマスクを設け、各パスマスクに設定されるインク吐出可能画素によって各色のインクの吐出位置を特定するインクジェットプリンタにおける、前記パスマスクの生成方法であって、
（１）同一色のインクについての、複数のパス毎に設定される各パスマスクは、その各パスマスクを重ねると、その重なりに対応する範囲内のすべての画素がインク吐出可能画素となるという補完関係を前提とすることなく設計される、という基本方針の下で所定の領域を印刷するのに必要なパス数を含む印刷条件を設定するステップと、
（２）各パスマスクに対して、副走査方向に、第１色～第ｍ色（ｍは２以上の自然数）の各色成分の濃度分布を設定するステップと、
（３）前記ノズル列の前記所定数のノズルが対応付けされ、前記濃度分布が設定される第１のマスクパターンの設計の場において、
各パスマスクにおいて、インク吐出可能画素の一次候補点を設定し、
各一次候補点について、疎／密の評価値を算出し、
その疎／密の評価値を用いて、疎の度合いが上位の１つまたは複数の二次候補点を抽出するステップと、
（４）各色成分の二次元的な広がりを示すデータ構造をプレーンと称し、前記（１）のステップにて設定されたパス数をｊ（ｊは２以上の自然数）とする場合において、
各色のプレーンにおける１パス目～ｊパス目に対応する前記二次候補点を、プレーン毎に設けられる第２のマスクパターン設計のための場に集約し、
前記第２のマスクパターン設計の場における各二次候補点の疎／密の評価値を用いて、疎の度合いが高い１つまたは複数の点を、各プレーンにおけるプレーン候補点として抽出するステップと、
（５）前記各プレーンにおけるプレーン候補点を、各プレーンを統合した第３のマスクパターンの設計の場において集約し、
前記第３のマスクパターンの設計の場における各プレーン候補点の疎／密の評価値を用いて、疎の度合いが最も高い点をインク吐出可能画素として特定するステップと、
（６）前記（５）において特定されたインク吐出可能画素が、前記（３）における前記第１のマスクパターンの設計の場において、どのプレーンの、何パス目のパスマスクにおける、どの箇所に該当するかを特定し、
その特定の際、該当する箇所が複数ある場合は、予め定められた所定条件に従って、該当箇所の一つを特定し、
その特定されたインク吐出可能画素に関する情報を記憶するステップと、
（７）前記（２）～（６）に記載される各処理を、各プレーンの、各パスに対応した各パスマスクにおける、必要なすべてのインク吐出可能画素が特定されるまで繰り返すと共に、
前記（３）のステップを実施するに際しては、既にインク吐出可能画素が設定されたパスマスクについては、その設定されたインク吐出可能画素を除いて、必要な数の前記一次候補点を設定し、
（８）前記（２）～（７）に記載される各処理の繰り返しが終了すると、記憶されているインク吐出可能画素に関する情報に基づいて、各色の各パスマスクにおけるマスクパターンを決定するステップと、
を含む、パスマスクの生成方法。
【請求項9】
前記（３）、（４）、（５）の各処理において、
各色の各パスマスクの何れにおいても、インク吐出可能画素が一点も設定されていない場合には、
各点にランダムな評価値を付与することで、疎密の評価値に実質的な差異を生じさせる、
請求項８に記載のパスマスクの生成方法。
各色の各パスマスクの何れにおいても、インク吐出可能画素が一点も設定されていない場合には、
各点にランダムな評価値を付与することで、疎密の評価値に実質的な差異を生じさせる、
請求項８に記載のパスマスクの生成方法。
【請求項10】
前記（３）、（４）、（５）の各処理において、
各色の各パスマスクの何れかにおいて、インク吐出可能画素が少なくとも一点、設定されている場合には、
平滑化フィルタを用いたフィルタリングの結果を用いて、疎／密の評価値を算出する、
請求項８に記載のパスマスクの生成方法。
各色の各パスマスクの何れかにおいて、インク吐出可能画素が少なくとも一点、設定されている場合には、
平滑化フィルタを用いたフィルタリングの結果を用いて、疎／密の評価値を算出する、
請求項８に記載のパスマスクの生成方法。
【請求項11】
前記（４）、（５）の各処理において、
１つの点が、重複して抽出されている場合には、その重複回数に応じて、その点における疎／密の評価値を重み付けする、
請求項８に記載のパスマスクの生成方法。
１つの点が、重複して抽出されている場合には、その重複回数に応じて、その点における疎／密の評価値を重み付けする、
請求項８に記載のパスマスクの生成方法。
【請求項12】
前記平滑化フィルタを用いたフィルタリングの結果を用いて、疎／密の評価値を算出する処理は、
既に設定されたインク吐出可能画素を含む仮のマスクパターンに対して、フィルタサイズが異なる複数の平滑化フィルタを用いてフィルタ処理を実施するステップと、
フィルタ処理の結果毎に、疎／密の程度を示す一次評価値を求めるステップと、
前記一次評価値に基づいて、総合的な疎／密の程度を示す総合評価値を算出し、算出された総合評価値を、前記疎／密の評価値とするステップと、
を含む、
請求項１０に記載のパスマスクの生成方法。
既に設定されたインク吐出可能画素を含む仮のマスクパターンに対して、フィルタサイズが異なる複数の平滑化フィルタを用いてフィルタ処理を実施するステップと、
フィルタ処理の結果毎に、疎／密の程度を示す一次評価値を求めるステップと、
前記一次評価値に基づいて、総合的な疎／密の程度を示す総合評価値を算出し、算出された総合評価値を、前記疎／密の評価値とするステップと、
を含む、
請求項１０に記載のパスマスクの生成方法。
【請求項13】
請求項３乃至１２の何れか１項に記載のパスマスクの生成方法により生成された、パスマスクを用いて印刷データを生成し、
生成された印刷データに基づいて、メディアに印刷を実施する、マルチパス方式の印刷方法。
生成された印刷データに基づいて、メディアに印刷を実施する、マルチパス方式の印刷方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、インクジェットプリンタ、パスマスクの生成方法、及びマルチパス方式の印刷方法等に関する。
【背景技術】
【0002】
特許文献１には、マルチパス記録における調整を柔軟に行えるようにしたマルチパス方式のインクジェットプリンタが示されている。
【0003】
特許文献１のインクジェットプリンタは、マスクデータに基づき、マルチパス方式により印刷される印刷画像の画素毎の打滴可否を設定し、その設定に基づいてインクの吐出を制御する（例えば、明細書の[０００６]等）。
【0004】
特許文献１では、マスクパターンは互いに補完関係にあり、複数のマスクパターンを重ね合わせると、マスクパターンの全画素が打滴可能画素となることを前提に設計されている（例えば、請求項３、明細書の[００３８]、[００３９]等）。
【0005】
また、特許文献１の明細書の、例えば[００５８]には、走査毎の打滴画素位置を最大限分散させるために、分散性に優れた高周波特性のマスク（ＦＭマスク）を用いてハーフトーン処理を実施することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【特許文献1】特開２０２１－１４６６９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
パス毎に設定される複数のマスクが補完関係にあるということは、言い換えれば、各マスクをすべて用いてインクが吐出された場合は、メディアの、所定サイズの画像形成領域内のすべての画素にインクを１回は吐出できる、という条件が課せられているということである。
【0008】
この場合、マスクパターンは、パスごとに形成する画像がそれぞれ補完関係になるように画像を間引くためのパターンとなり、補完関係を考慮すると、主走査方向、及び主走査方向に直交する副走査方向の各々についての画像の間引きの程度には制約が生じるのは否めない。
【0009】
また、例えば、１回目のパスでのインク吐出位置と、２回目のパスのインク吐出位置とが画像領域内で部分的に一致（重複）する部分の大きさや形状等、あるいは、その一致（重複）する部分での濃度プロファイル等の印刷条件についても、ある程度の制約を受けざるを得ない。
【0010】
また、その印刷条件を満たすためには、パス数や、パス毎の副走査方向におけるメディアの送り量等についても、ある範囲内で決めざるを得なくなり、設計の自由度が制限されることになる。
【0011】
したがって、現状のマルチパス方式の印刷には一定の限界があり、画像の印刷品質と印刷速度（印刷に要する時間）とはトレードオフの関係にある。すなわち、一方を向上させれば、他方を低下させる必要が生じる。
【0012】
よって、画質を低下させずに印刷速度をさらに向上させたり、印刷速度を維持しつつ画質をさらに向上させたり、あるいは、画質と印刷速度の双方をさらに向上させたりすることは、現状では実現が困難である。
【0013】
本発明の１つの目的は、マルチパス方式の印刷技術における現状の限界を破って、画質や印刷速度のさらなる向上を実現することである。
【0014】
本発明の他の目的は、以下に例示する態様及び最良の実施形態、並びに添付の図面を参照することによって、当業者に明らかになるであろう。
【課題を解決するための手段】
【0015】
以下に、本発明の概要を容易に理解するために、本発明に従う態様を例示する。
【0016】
本発明に従う態様において、インクジェットプリンタは、インクを吐出可能な印刷ヘッドとメディアとを、主走査方向、及び前記主走査方向に直交する副走査方向に、相対的に移動させながら、マルチパス方式によって前記メディアに所望の印刷を行うと共に、前記印刷ヘッドは、副走査方向に配列された、インクを吐出する所定数のノズルを含むノズル列を有し、前記ノズル列に対応して、複数のパス毎にパスマスクを設け、各パスマスクに設定されるインク吐出可能画素によってインクの吐出位置を特定するインクジェットプリンタであって、前記各パス用のパスマスクの各々におけるインク吐出可能画素に基づいて生成された印刷データに基づいてインクの吐出を制御するインク吐出制御部を有し、前記各パス用のパスマスクの各々は、（１）複数のパス毎に設定される各パスマスクは、その各パスマスクを重ねると、その重なりに対応する範囲内のすべての画素がインク吐出可能画素となるという補完関係を前提とすることなく設計されたマスクパターンを有するという第１の構成、（２）複数のパス毎に設定される各パスマスクは、所定の濃度分布に従うマスクパターンを有するという第２の構成、（３）複数のパス毎に設定される各パスマスクは、各パスマスクが重ね合わされた場合において、バンディングが抑制され得る分散性を備えるように設計されたマスクパターンを有する、という第３の構成、を有する。
【0017】
本態様によれば、パスマスクは、補完関係を前提とすることなく設計されたマスクパターンを有するという第１の構成を備えることで、補完関係を前提とする場合の制限がなくなり、より自由に、印刷条件を選ぶことが可能となる。例えば、従来よりも印刷速度を向上させたいという要求があるとき、その要求を満足させ得るような印刷条件の自由な設定が可能である。
【0018】
また、パスマスクが、所定の濃度分布に従うマスクパターンを有するという第２の構成を備えることで、設定された所定の濃度分布を忠実に再現することができる。
【0019】
但し、補完関係を前提とする条件を外したことから、上記第１、第２の構成のみでは、バンディング（横筋）等に対する対策がなされていないため、所望の画質を担保することができない。
【0020】
そこで、高度なバンディング対策を実施する。この結果として、パスマスクは、さらに第３の構成を有する。
【0021】
第３の構成に関して、各パスマスクは、各パスマスクが重ね合わされた場合において、バンディングが抑制され得る分散性を備えるように設計されたマスクパターンを有する。これにより、インク吐出可能画素の分布の分散性が確保され、バンディング等の発生が抑制される。
【0022】
具体的には、例えば、パスとパスの境界付近において生じるバンディングを軽減する効果が得られる。
【0023】
また、ノズル抜け、ノズルのヨレ、あるいはノズルの個体差等に起因するバンディングを軽減する効果が得られる。
【0024】
また、設計の自由度が向上するため、例えば、任意の濃度分布に従い、かつ、バンディングを軽減するといった効果が得られる。
【0025】
また、例えば、印刷画像の画像品質と、印刷速度と、濃度のバランスを、より自由に設定できるという効果が得られる。
【0026】
このように、本態様によれば、画質を良好に保ちつつ、マスクパターンの作成自由度を高めることができる。例えば、一定水準の画質を担保しつつ印刷速度を早めるのに適したマスクパターンを作成することができる。また、各パスでノズル使用率（濃度カーブ）が異なっていても、一定水準の画質が担保されたマスクパターンを作成することも可能である。
【0027】
よって、マルチパス方式の印刷技術における現状の限界を破って、画質や印刷速度の、さらなる向上を実現することができる。
【0028】
なお、「インク」という用語は広義に解釈することができる。例えば、「液体」と表現することもできる。例えば、「インクジェットプリンタ」という用語は、「液体吐出装置」と表現することも可能である。
【0029】
当業者は、例示した本発明に従う態様が、本発明の精神を逸脱することなく、さらに変更され得ることを容易に理解できるであろう。
【図面の簡単な説明】
【0030】
【図1】インクジェットプリンタ、及びパスマスク生成装置として機能するコンピュータ本体を含む印刷システムの例を示す図である。
【図2】パスマスクを用いて印刷データを生成し、マルチパス方式の印刷を実施するインクジェットプリンタの構成の一例を示す図である。
【図3】印刷ヘッドにおけるノズル列の配置の一例を示す図である。
【図4】コンピュータ本体に構築されるパスマスク生成装置の構成の一例、及びパスマスクの生成手順の概要を示す図である。
【図5】ノズルマスクフィールド（階層化された複数のパスマスク設計の場における、最下層の設計の場であり、ここでは４個のノズルを含むノズル列が割り当てられ、パス数が４である場合を想定する）におけるマスクパターンの範囲等を示す図である。
【図6】パス数が４であるマルチパス方式の印刷における、各パスの印刷範囲、及び各印刷範囲の重なりの態様を示す図である。
【図7】階層化された複数のパスマスク設計の場（最下層のノズルマスクフィールド（第１のマスクパターンの設計の場）、中位層のプレーンフィールド（第２のマスクパターンの設計の場）、及び、最上位層のプレーン統合フィールド（第３のマスクパターンの設計の場））を用いた、パスマスク設計の手順の概要を示す図である。
【図8】第１のプレーンの、ノズルマスクフィールドにおける１パス目～４パス目のマスクパターンでの一次候補点の生成の一例を示す図である。
【図9】第１のプレーンの、ノズルマスクフィールドにおける１パス目～４パス目のマスクパターンでの二次候補点の抽出の一例を示す図である。
【図10】第１のプレーンの、ノズルマスクフィールドにおける５パス目～８パス目のマスクパターンでの二次候補点の抽出の一例を示す図である。
【図11】第１のプレーンの、プレーンフィールドにおけるマスクパターンでのプレーン候補点の抽出の一例を示す図である。
【図12】第１～第ｍのプレーンの各々における、抽出されたプレーン候補点を示す図である。
【図13】プレーン統合フィールドにおける、マスクパターンでのインク吐出可能画素位置の特定を示す図である。
【図14】第１のプレーンの、ノズルマスクフィールドにおけるマスクパターンの、１パス目～４パス目の各マスクパターン上での、インク吐出可能画素（一点目）の位置の特定を示す図である。
【図15】第１のプレーンの、インク吐出可能画素が特定された後のノズルマスクフィールドにおける１パス目～４パス目のマスクパターンでの一次候補点の生成の一例を示す図である。
【図16】第１のプレーンの、インク吐出可能画素が特定された後のノズルマスクフィールドにおける１パス目～４パス目のマスクパターンでの二次候補点の生成の一例を示す図である。
【図17】第１のプレーンの、インク吐出可能画素が特定された後のノズルマスクフィールドにおけるマスクパターンの、１パス目～４パス目の各マスクパターン上での、インク吐出可能画素（二点目）の位置の特定を示す図である。
【図18】平滑化フィルタを用いて評価値を算出する評価値算出装置の構成の一例を示す図である。
【図19】用意されるすべての平滑化フィルタの例、及び、インク吐出可能画素の分布の濃度に対応して使用する平滑化フィルタを選択する場合における、使用する平滑化フィルタの例を示す図である。
【図20】サイズが異なる、１７個の平滑化フィルタ（ガウシアンフィルタ）の例を示す図である。
【図21】確定済みドットが２点存在するマスクパターンにおける評価値（ここでは総合評価値）の算出の一例を示す図である。
【図22】付与された評価値（総合評価値）に基づいて、複数の候補点の中から最も疎である一点を特定する例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0031】
以下に説明する最良の実施形態は、本発明を容易に理解するために用いられている。従って、当業者は、本発明が、以下に説明される実施形態によって不当に限定されないことを留意すべきである。
【0032】
以下の説明では、「インク」という用語を使用するが、この用語は広義に解釈することができる。例えば、「液体」と表現することもできる。例えば、「インクジェットプリンタ」という用語は、「液体吐出装置」と表現することもできる。
【0033】
【0034】
印刷システム１５０は、コンピュータ本体１０と、モニタ２０と、キーボードを備える操作部３２と、マウスを備える入力装置３４と、フォルダ４２、４３と、インクジェットプリンタ（印刷装置）１００と、を有する。
【0035】
フォルダ４２、４３には、印刷対象画像のデータ等が記憶され得る。
【0036】
コンピュータ本体１０は、パスマスク生成用のプログラムＰＲＧを有する。このプログラムＰＲＧに従ってプロセッサ（不図示）が動作することで、マルチパス方式の印刷用のパスマスクが生成される。
【0037】
このパスマスクは、所望の濃度分布に対応したマスクパターン（図１では不図示）を備える。このマスクパターンは、インク吐出可能画素（インク吐出を許可するパスマスク上の画素）の分布が高度の分散性を有し、これによって、バンディング等が抑制され得る（詳細は後述する）。
上記の濃度分布は、パスマスクの設計者が任意に設定することができる。
上記の濃度分布は、パスマスクの設計者が任意に設定することができる。
【0038】
インクジェットプリンタ（印刷装置）１００は、紙等のメディア（記録媒体）７０上に画像Ａに対応した印刷画像７２を形成する。
【0039】
次に、図２を参照する。図２は、パスマスクを用いて印刷データを生成し、マルチパス方式の印刷を実施するインクジェットプリンタの構成の一例を示す図である。なお、以下の説明では、印刷対象の画像を、「画像Ａ」とし、その画像データを「画像Ａのデータ」と記載する。
【0040】
【0041】
図２のＡ－２は、マルチパス方式の印刷を実施可能なインクジェットプリンタ（印刷装置）１００の内部構成の一例を示している。
【0042】
インクジェットプリンタ１００は、操作パネル１２０と、ＲＯＭ１２２と、ＲＡＭ１２４と、印刷装置の画像メモリ１２６（印刷対象の画像Ａのデータが記憶されている）と、通信インタフェース（Ｉ／Ｆ）１２８と、制御部１１０と、印刷ヘッド（記録ヘッド）１３０と、メディア７０を移動させる搬送モータ１３２と、印刷ヘッド１３０を備えたキャリッジを移動させるキャリッジモータ１３４と、キャリッジモータ１３４の回転情報を制御部１１０（具体的にはキャリッジ駆動処理部１１９）に供給するエンコーダ１３６と、を有する。
【0043】
制御部１１０は、マルチパス印刷制御部１１１を有する。このマルチパス印刷制御部１１１は、マスク記憶部１１２（各色用の、各パス毎のパスマスク１１３を記憶している）と、印刷データ生成部１１７を備える印刷処理部１１５と、搬送処理部１１８と、キャリッジ駆動処理部１１９と、を有する。
【0044】
印刷処理部１１５の印刷データ生成部１１７は、各色用の、各パス毎のパスマスク１１３を使用して印刷データを生成する。生成された印刷データは、印刷ヘッド１３０に供給される。印刷ヘッド１３０のインク吐出制御部１３１は、印刷データに基づいて、画像をメディア７０上に画像７２を印刷する。なお、コンピュータ本体１０が、マスク記憶部１１２および印刷データ生成部１１７を有していてもよい。コンピュータ本体１０で生成された印刷データをインクジェットプリンタ１００の印刷処理部１１５に送信し、インクジェットプリンタ１００の印刷処理部１１５は受信した印刷データに基づいて画像７２を印刷してもよい。
【0045】
印刷ヘッド１３０は、複数の色のインクを吐出可能である。インクジェットプリンタ１００は、主走査方向（Ｘ方向）、及び主走査方向に直交する副走査方向（Ｙ方向）に、印刷ヘッド１３０とメディア７０とを相対的に移動させながら、マルチパス方式によってメディア７０に所望のカラー印刷を行う。
【0046】
マルチパス方式では、印刷ヘッド１３０が主走査方向に繰り返し走査される。その１回の走査をパスと称する。
【0047】
印刷に際しては、パス毎にパスマスク１１３が用意される。そのパスマスク１１３のマスクパターンに対応した画像が、パス毎に形成される。そして、各パスの画像の少なくとも一部同士が重ね合わされることで、所望の画像がメディア７０上に形成される。
【0048】
【0049】
印刷ヘッド１３０は、副走査方向に配列された、インクを吐出する所定数のノズル３を含むノズル列を有する。図３の例では、Ｃ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）、Ｋ（ブラック）の４色のインクを吐出可能なノズル列が設けられている。ノズル列の数やインクの色の種類はこれに限定されるものではない。
【0050】
図３の例では、各色のインクに対応して、２列のノズル列が用意されている。各ノズル列では、複数のノズル３が副走査方向（Ｙ方向）に所定間隔で配置されている。
【0051】
ノズル列ＮＣ１、ＮＣ２は、Ｃ（シアン）のインクを吐出するノズル列であり、ノズル列ＮＭ１、ＮＭ２は、Ｍ（マゼンタ）のインクを吐出するノズル列であり、ノズル列ＮＹ１、ＮＹ２は、Ｙ（イエロー）のインクを吐出するノズル列であり、ノズル列ＮＫ１、ＮＫ２は、Ｋ（ブラック）のインクを吐出するノズル列である。
【0052】
ノズル３の副走査方向（Ｙ方向）に沿う配置間隔を１ピッチとすると、ノズル列ＮＣ１とＮＣ２、ノズル列ＮＭ１とＮＭ２、ノズル列ＮＹ１とＮＹ２、ノズル列ＮＫ１とＮＫ２の一方は、他方に対して、副走査方向に１／２ピッチずれて配置されている。但し、これは一例であり、この例に限定されるものではない。
【0053】
【0054】
パスマスク生成装置の構成と生成手順の概要を説明する前に、本発明の基礎的な設計方針と、設計事項等について簡単に説明する（詳細は後述する）。
【0055】
以下の説明において、「プレーン」は、各色の面、あるいは各色の面の構造を指す用語である。具体的には、「プレーン」は、各色の画像成分の二次元的な広がりを示すデータ構造を示すものである。
【0056】
例えば、Ｃ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）、Ｋ（ブラック）の４色のインクを使用するときは、Ｃプレーン、Ｍプレーン、Ｙプレーン、Ｋプレーンの４つのプレーンを定義することができる。
【0057】
また、各色のプレーンを細分化（断片化）して得られる、所定サイズの領域を「プレーンチップ」と称する。パスマスクの設計に際しては、各色のプレーンチップ毎にマスクパターンが設定される。
【0058】
「プレーンチップ」には、図３で示したノズル列における所定の個数のノズルが割り当てられる。プレーンチップの副走査方向における長さは、割り当てられたノズルの個数で定まり、主走査方向の長さは、例えば、マスクパターンのデータを記憶する記憶装置の容量等に基づいて定まる。
【0059】
各プレーンチップに設定されるパスマスクには多数の画素（ドット）が含まれるが、そのドットの数は、インクジェットプリンタ１００における主走査方向、副走査方向の解像度によって定まる。
【0060】
パスマスクの設計のために、複数の、階層化されたフィールド（パスマスクを設計するための場）が設定される。
【0061】
複数のフィールドを設けるのは、以下の理由による。すなわち、１つのパスマスクを設計する際、そのパスマスクの内部におけるインク吐出可能画素（単にドットという場合がある）を適切に分散させ、バンディングの原因となる規則性を抑制するのが好ましい。このパターン設計は、最下層のフィールドである「ノズルマスクフィールド（第１のマスクパターンの設計の場）」にて実施される（図８～図１０参照）。
【0062】
但し、ノズルマスクフィールドにおけるパターン設計だけでは不十分である。例えば、１つのマスクパターンの範囲と、その範囲に隣接する他のマスクパターンの範囲との間においても規則性が生じる可能性がある。
【0063】
よって、隣接するマスクパターンの範囲間においても、各ドットの配置が分散されているのが好ましい。このパターン設計は、中位層のフィールドである「プレーンフィールド（第２のマスクパターンの設計の場）」にて実施される（図１１、図１２参照）。
【0064】
また、各色のプレーンにおいてドットの適切な分散ができたとしても、各色のプレーンが重ね合わされた場合に規則性が生じる場合があるため、このことに対しても対策する必要がある。
【0065】
複数の色のドットが集合した場合においても分散性が確保できるようにするパターン設計は、最上位層のフィールドである「プレーン統合フィールド（第３のマスクパターンの設計の場）」にて実施される（図１３～図１７参照）。
【0066】
また、パスマスクのマスクパターンを設計するに際しては、まず、最下層のフィールドである「ノズルマスクフィールド（第１のマスクパターンの設計の場）」にて、例えば、プレーンチップ毎に副走査方向に濃度分布（ノズルの使用率）を設定し、設定された濃度分布（ノズルの使用率）に応じた個数の一次候補点を設定し、各候補点に評価値（ボイド値）を付与し、その評価値に基づいて、複数の二次候補点を抽出する（図９、図１０参照）。
【0067】
なお、上記の例では、濃度分布を、副走査方向に一次元的に設定しているが、これに限定されるものではなく、主走査方向も含めて二次元的に濃度分布を設定してもよい。
【0068】
ここで、評価値（ボイド値）は、注目するドット（画素）が、すでに確定しているインク吐出可能画素（確定済みドット）から受ける影響の度合いを示す指標という意味をもち、評価が「疎」であるほど、確定済みのドットから受ける影響が少なく、規則性が生じにくい。
【0069】
評価値（ボイド値）は、例えば、フィルタサイズが異なる複数の平滑化フィルタ（例えばガウシアンフィルタ）によるフィルタリング処理の結果を用いて取得することができる（図１８～図２２参照）。但し、評価値は、単一のフィルタサイズの平滑化フィルタによるフィルタリング処理の結果を用いて取得してもよい。
【0070】
但し、確定したドットが一つもない状態では、各一次候補点の評価値は同じとせざるを得ない。この場合は、ランダムに順位を付与し、順位の高いものから順に所定個の２次候補点を抽出する（図９、図１０参照）。ランダムに順位を付与することで、実質的に、評価値に差異が生じたことになる。言い換えれば、順位の付与によって実質的に差が生じた評価値に基づいて、複数個の二次候補点が抽出されたことになる。
【0071】
それ以降は、例えば、複数の平滑化フィルタを用いる手法にて評価値を算出し、評価値に基づく二次候補点の抽出を実施する。例えば、１つのパスマスクにおいて、１０点のインク吐出可能画素（１０点の一次候補点）の配置を特定する必要があるとき、１個のインク吐出可能画素が特定されている場合は、他の９個の一次候補点に評価値を付与し、その評価値に基づいて、疎の度合いが高い所定個の一次候補点を抽出する。この抽出された候補点が２次候補点となる。
【0072】
次に、例えば、ノズルマスクフィールド（第１のマスクパターンの設計の場）における複数のマスクパターンの範囲の各々で抽出された二次候補点を、プレーンフィールド（第２のマスクパターンの設計の場）におけるパスマスクの設計領域に集約し、ここで、再び評価値を参照して、疎の度合いが高い複数個の「プレーン候補点」を、各色のプレーン毎に抽出する。
【0073】
次に、各色のプレーン毎のプレーン候補点を、プレーン統合フィールド（第３のマスクパターンの設計の場）におけるパスマスクの設計領域に集約し、ここで、再び評価値を参照し、疎の度合いが最も高い点（画素、ドット）を特定する。
【0074】
このようにして特定されたプレーン統合フィールド上のドット位置に対応する、ノズルマスクフィールド上の点（画素、ドット）に、インク吐出可能画素を設定する（これが確定済みのドットとなる）。
【0075】
但し、ノズルマスクフィールドには、パス数に対応する複数のパスマスクが存在するため、プレーン統合フィールド上のドット位置に対応する点が、ノズルマスクフィールド上において複数、存在する場合があり得る。
【0076】
この場合には、所定条件（詳細は後述する）により一点を選び、その選ばれた一点に、インク吐出可能画素を設定する。
【0077】
また、ノズルマスクフィールド（第１のマスクパターン設計の場）にて、一点のドットが確定されると、これに対応して、プレーンフィールド（第２のマスクパターン設計の場）、及び、プレーン統合フィールド（第３のマスクパターン設計の場）の各々においても、対応する位置に確定された１点のドットが設定される。
【0078】
以上の手順を繰り返し、マスクパターンにおいて必要なインク吐出画素をすべて特定する。インク吐出画素（確定済みドット）が特定される毎に、その位置情報が記憶される。
記憶された確定済みドットの位置情報に基づいて、パスマスクのマスクパターンが決定される。決定されたマスクパターンは、そのパスマスクに対応付けられて記憶される。
記憶された確定済みドットの位置情報に基づいて、パスマスクのマスクパターンが決定される。決定されたマスクパターンは、そのパスマスクに対応付けられて記憶される。
【0079】
このとき、そのマスクパターンが、どのパスマスクに対応するかの情報が記憶される。このとき、必要に応じて、１回のパス走査における、主走査方向、副走査方向の各々における何回目のインク吐出に対応するかの情報も記憶される。
【0080】
所定の領域を印刷するのに必要なパスの数だけパスマスクを設定し、マスクパターン情報を記憶する。設定されたパスマスクを繰り返し適用することで、印刷対象の画像の全領域についてのマルチパス印刷が可能となる。
【0081】
以上、本発明の基礎的な設計方針と、設計事項等について簡略化して説明した。次に、図４を参照して、パスマスク生成装置の構成例について説明する。
【0082】
図４において、コンピュータ本体１０は、情報取得部３５と、パスマスク生成装置２１と、を有する。パスマスク生成装置２１は、パスマスク生成部２２と、制御部（プロセッサ）５０と、パスマスク生成用のプログラムＰＲＧを記憶しているプログラム記憶部５１と、を有する。
【0083】
パスマスク生成部２２は、設定された所定の濃度分布に対応した各プレーンの一次候補点の生成部２４と、一次候補点の評価値（ボイド値）算出部２６と、評価値に基づく二次候補点の抽出部２８と、二次候補点の集約、及び評価値に基づくプレーン候補点の生成部２９と、プレーン統合フィールドにおける各プレーン候補点の集約部３１と、評価値に基づく最も疎のドットの決定部３３と、パスマスク取得部３６と、を有する。
【0084】
一次候補点の評価値（ボイド値）算出部２６は、確定したドットが無い場合の評価値算出部２５と、確定したドットが有る場合の評価値算出部２７と、を有する。
【0085】
確定したドットが無い場合は、一次候補点の各々の評価値には差がないため、各候補点についてランダムに順位付けを行い、これによって実質的に評価値に差異を設ける。言い換えれば、順位付け処理を含めると、異なる値の評価値が算出されたことになる（図９、図１０参照）。
【0086】
【0087】
パスマスク取得部３６は、ドット位置記憶部３７と、パスマスク作成部３８と、パスマスク記憶部３９と、を有する。
【0088】
次に、パスマスクの生成手順の概要について説明する。図４に示される矢印には、Ｓ１、Ｓ２・・・という符号が付されているが、これが、パスマスクの生成についての手順（ステップ）を示す。
【0089】
まず、情報取得部３５に、パスマスクの設計に必要な基礎情報を入力する。このとき、例えば、必要な印刷速度が達成されるように、種々の条件を自由に設定する。例えば、情報取得部３５に、所定の領域において、主走査方向、副走査方向の各々にてインクを何回に分けて吐出するか等の情報を入力する（ステップＳ１）。
情報取得部３５が取得した基礎情報は、パスマスク生成部２２に供給される（ステップＳ２）。
情報取得部３５が取得した基礎情報は、パスマスク生成部２２に供給される（ステップＳ２）。
【0090】
次に、パスマスク生成部２２において、プレーンチップ（ノズルマスクフィールドにおいて、所定の個数のノズルが割り当てられる所定サイズの領域であり、この領域にてマスクパターンが設計される）において、副走査方向に濃度分布（ノズル使用率）を設定し、その濃度分布に対応して、複数個の一次候補点が設定される。これがステップＳ３である。例えば、ノズル使用率が２０％であれば、主走査方向のランダムな位置に２個の一次候補点が設定される。
【0091】
次に、一次候補点の各々に評価値が付与される。確定されたドットが無い場合には、ランダムな順位付けによって実質的に差異が生じた評価値が付与される。
【0092】
ここで、確定されたドットが無い場合において、評価値に基づく判断をせず、任意の位置に、インク吐出可能画素を設定することも考えられる。本発明では、このような場合も排除はしない。
【0093】
しかし、好ましくは、確定されたドットが有る場合と同様の手順を経て、濃度分布を考慮して、慎重に、インク吐出可能画素の位置（最初の確定済みの一点のドット）を特定するのがよい。
【0094】
これは、その一点を、例えば各色の濃度分布が集中する箇所に設定してしまうと、他の点との関連性が生じ易くなることを考慮したものである。つまり、最初の一点の位置によって、その後に設定される点の分散性に影響が生じるため、できるだけ、疎となる配置が実現され易いように、最初の一点の位置を決めるのがよい。
【0095】
よって、好ましい実施形態では、上記のとおり、最初の一点を決める場合でも、濃度分布を考慮した、評価値を用いた処理が実施される。
【0096】
言い換えれば、好ましい実施形態では、確定されたドットが無い場合、有る場合の双方において、評価値に基づく同様の処理が実施されることになる。但し、確定されたドットが無い場合と有る場合とでは、評価値（ボイド値）の算出方法に差異がある（この点については後述する）。
【0097】
次に、ステップＳ５において、評価値に基づいて二次候補点が抽出される。
【0098】
次に、ステップＳ６において、隣接する複数のマスクパターンの範囲の各々における二次候補点が、プレーンフィールド上のマスクパターン設計のための領域に集約され、評価値に基づいて、複数のプレーン候補点が生成される。
【0099】
次に、ステップＳ７において、各色のプレーンにおけるプレーン候補点が、プレーン統合フィールド上のマスクパターン設計のための領域に集約され、そして、評価値に基づいて、最も疎であるドット（ドットの位置）が特定される。
但し、複数色のインクの吐出を前提としない場合は、上記のステップＳ６における複数のプレーン候補点について、評価値に基づいて、最も疎であるドット（ドットの位置）が特定される。
但し、複数色のインクの吐出を前提としない場合は、上記のステップＳ６における複数のプレーン候補点について、評価値に基づいて、最も疎であるドット（ドットの位置）が特定される。
【0100】
ステップＳ８では、ステップＳ３に戻って、以下、同様の処理を繰り返し実施する。
【0101】
ステップＳ９では、特定されたドットの位置が記憶され、ステップＳ１０では、記憶されたドットの位置を示すデータに基づいて、パスマスクのマスクパターンが決定され、これによって、パスマスクが作成される。
【0102】
ステップＳ１１では、パスマスクのデータが記憶（保存）される。
【0103】
次に、図５を参照する。図５は、ノズルマスクフィールド（階層化された複数のパスマスク設計の場における、最下層の設計の場であり、ここでは４個のノズルを含むノズル列が割り当てられ、所定の領域を印刷するのに必要なパス数が４である場合を想定する）におけるマスクパターンの範囲等を示す図である。
【0104】
図５では、１パスに対応するパスマスクをＰＭ１、２パスに対応するパスマスクをＰＭ２、３パスに対応するパスマスクをＰＭ３、４パスに対応するパスマスクをＰＭ４と表記している。
【0105】
各パスマスクＰＭ１～ＰＭ４では、副走査方向に、４個のノズル３ａ～３ｄ（ここでは、これらはノズル列ＮＣ１の構成要素であるものとする）が対応付けされている。各パスマスクＰＭ１～ＰＭ４では、副走査方向に８個のドット（画素）ＤＴが割り当てられ、主走査方向に１０個のドット（画素）ＤＴが割り当てられ、これによって、合計８０個のドット（画素）からなるドット（画素）マトリクスが構成されている。
【0106】
１パスの走査毎に、印刷ヘッド１３０とメディア７０とが副走査方向に相対的に２ドット（２画素）分だけ移動される。
【0107】
図５の右側に、４パス（１パス目～４パス目）でカバーされるマスクパターンの範囲ＲＳと、この範囲ＲＳに対して副走査方向に隣接する、４パス（５パス目～８パス目）でカバーされるマスクパターンの範囲ＲＳ’が示されている。範囲ＲＳ、ＲＳ’のサイズは、各パスマスクＰＭ１～ＰＭ４と同じである。
【0108】
次に、図６を参照する。図６は、所定の領域を印刷するのに必要なパス数が４であるマルチパス方式の印刷における、各パスの印刷範囲、及び各印刷範囲の重なりの態様を示す図である。図６において、図５と共通する箇所には同じ符号を付している。
【0109】
図６のＡ－１において、４パス（１パス目～４パス目）でカバーされるマスクパターンの範囲ＲＳに対応するメディア７０上の領域Ｚ１において、パスマスクＰＭ１を用いて画像が形成される。図６のＡ－２において、範囲ＲＳに対応するメディア７０上の領域Ｚ２において、パスマスクＰＭ２を用いて画像が形成される。図６のＡ－３において、範囲ＲＳに対応するメディア７０上の領域Ｚ３において、パスマスクＰＭ３を用いて画像が形成される。図６のＡ－４において、範囲ＲＳに対応するメディア７０上の領域Ｚ４において、パスマスクＰＭ４を用いて画像が形成される。
【0110】
各領域Ｚ１～Ｚ４の画像を重ね合わせることで、範囲ＲＳにおけるカラー画像が形成される。
ここで、１パス～４パスの各々に対応する上記のパスマスクＰＭ１～ＰＭ４は、主走査方向に繰り返し適用され得る。
ここで、１パス～４パスの各々に対応する上記のパスマスクＰＭ１～ＰＭ４は、主走査方向に繰り返し適用され得る。
【0111】
次に、図７を参照する。図７は、階層化された複数のパスマスク設計の場（最下層のノズルマスクフィールド（第１のマスクパターンの設計の場）、中位層のプレーンフィールド（第２のマスクパターンの設計の場）、及び、最上位層のプレーン統合フィールド（第３のマスクパターンの設計の場））を用いた、パスマスク設計の手順の概要を示す図である。
【0112】
先に説明したように、パスマスクの設計のために、複数の、階層化されたフィールド（パスマスクを設計するための場）が設定される。
【0113】
図７の左側（かつ上側）に示されるように、第１のプレーン（例えば、第１色であるＣ（シアン）のプレーン）のノズルマスクフィールド６０には、１パス目～４パス目でカバーされるマスクパターンの範囲ＲＳと、５パス目～８パス目でカバーされるマスクパターンの範囲ＲＳ’とが含まれる。なお、各範囲ＲＳ、ＲＳ’における評価値の分布は同じであるため、ノズルマスクフィールド６０では、範囲ＲＳにおける評価値の分布を算出すれば、範囲ＲＳ’における評価値の分布を導出することができる。したがって、ノズルマスクフィールド６０では範囲ＲＳにおける評価値の分布のみを算出すればよい。
【0114】
各範囲ＲＳ、ＲＳ’において、評価値に基づいて、マスクパターンの候補（インク吐出画素の候補）としての複数の一次候補点の中から、疎の度合いが高い二次候補点が抽出される。
【0115】
抽出された二次候補点は、第１のプレーンのプレーンフィールド（マスクパターン設計の場）６３に集約される。
【0116】
同様に、図７の左側（かつ下側）に示されるように、第２のプレーン（例えば、第２色であるＭ（マゼンタ）のプレーン）のノズルマスクフィールド６５には、１パス目～４パス目でカバーされるマスクパターンの範囲（符号は付していない）と、５パス目～８パス目でカバーされるマスクパターンの範囲（符号は付していない）が含まれる。
【0117】
各範囲において、評価値に基づいて、マスクパターンの候補（インク吐出画素の候補）としての複数の一次候補点の中から、疎の度合いが高い二次候補点が抽出される。抽出された二次候補点は、第２のプレーンのプレーンフィールド６５に集約される。
【0118】
以下、同様であり、第ｍのプレーン（ここでは、ｍは３以上の自然数）のプレーンフィールド６７には、第ｍ色のノイズマスクフィールドにおいて抽出された２次候補点が集約される。
【0119】
第１のプレーンのプレーンフィールド６３では、集約された、第１のプレーンにおける複数の２次候補点の中から、評価値に基づいて、疎の度合いが高い順に複数（所定の数）の候補点が抽出され、この抽出によって、第１のプレーンにおけるプレーン候補点が生成される。
【0120】
同様に、第２のプレーンのプレーンフィールド６５では、集約された、第２のプレーンにおける複数の２次候補点の中から、評価値に基づいて、疎の度合いが高い順に複数（所定の数）の候補点が抽出され、この抽出によって、第２のプレーンにおけるプレーン候補点が生成される。
【0121】
以下、同様である。第ｍのプレーンのプレーンフィールド６７では、集約された、第ｍのプレーンにおける複数の２次候補点の中から、評価値に基づいて、疎の度合いが高い順に複数（所定の数）の候補点が抽出され、この抽出によって、第ｍのプレーンにおけるプレーン候補点が生成される。
【0122】
第１、第２、・・・第ｍのプレーン候補点は、各プレーンを統合したマスクパターン設計の場であるプレーン統合フィールド６９に集約される。ここでは、評価値に基づいて、最も疎である点を特定する。
【0123】
特定された最も疎である一点に対応する、ノズルマスクフィールドにおける、何れかのパスのパスマスク内の一点が、確定したドット（確定されたインク吐出可能画素）となる。但し、対応する点が複数ある場合は、所定の条件（後述）に従って、一点を特定（選択）する。このようにして、インク吐出画素の位置（ドット位置）が特定される。
【0124】
以上の動作を、ノズルマスクフィールドにおけるマスクパターンのすべてにおいて、必要な数のドット（インク吐出可能画素）のすべてが特定されるまで、繰り返す。このようにして、各パスに対応したパスマスクのマスクパターンが設計される。
【0125】
次に、図８を参照する。第１のプレーンの、ノズルマスクフィールドにおける１パス目～４パス目のマスクパターンでの一次候補点の生成の一例を示す図である。
【0126】
図８のＡ－１～図８のＡ－４に示されるように、４つのパスの各々に対応するパスマスクＰＭ１～ＰＭ４には、４個のノズル３ａ～３ｄ（ノズル列ＮＣ１の構成要素）が割り当てられており、各パスマスクには、８０個（＝８×１０）の画素（ドット）ＤＴが含まれる。
【0127】
各パスマスクＰＭ１～ＰＭ４には、副走査方向（ノズル列ＮＣ１の延在方向）に沿って、第１のプレーン（例えばＣ（シアン）のプレーン）における濃度分布（ノズル使用率）を示す特性線（濃度曲線、あるいは濃度カーブと称することもできる）Ｑ１～Ｑ４が設定されている。ここでは、説明の便宜上、特性線Ｑ１～Ｑ４は同一の形状を有し、各特性線Ｑ１～Ｑ４によって示される濃度分布は同じであるものとする。
【0128】
なお、濃度分布（ノズル使用率）は、１パス当たりの、１個のノズルからのインク吐出の回数を示すものである。
【0129】
図８のＡ－５～Ａ－８に示されるように、各パスマスクＰＭ１～ＰＭ４において、各特性線Ｑ１～Ｑ４が示す濃度分布に従って、仮のマスクパターン（仮のドットパターン）ＤＰ１～ＤＰ４が設定される。
【0130】
なお、仮のマスクパターン（仮のドットパターン）ＤＰ１～ＤＰ４を構成する画素（ドット）は、模様が付された丸にて示されている。この模様が付された丸が、各パスマスクＰＭ１～ＰＭ４における、仮のマスクパターンの構成要素である一次候補点を示す。
【0131】
一次候補点は、以下のように設定してもよい。例えば、ノズル使用率が１０％なら、主走査方向に並ぶ１０個の画素の中から１つの画素（ドット）がランダムに選ばれ、ノズル使用率が２０％なら、主走査方向に並ぶ１０個の画素の中から２つの画素（ドット）がランダムに選ばれ、ノズル使用率が５０％なら、主走査方向に並ぶ１０個の画素の中から５つの画素（ドット）がランダムに選ばれる。なお、ランダムな選択には、例えば乱数を用いることができる。
この方法が採用される場合は、各パスマスクにおいて、ノズル使用率（濃度分布）に対応するように、インク吐出可能画素の一次候補点が設定される。
この方法が採用される場合は、各パスマスクにおいて、ノズル使用率（濃度分布）に対応するように、インク吐出可能画素の一次候補点が設定される。
【0132】
一次候補点は、以下のようにして設定してもよい。ノズル使用率（濃度分布）を満たす数だけ確定したドットが無い場合に、主走査方向に並ぶ画素全てを一次候補点として設定してもよい。
例えば、ノズル使用率（濃度分布）が１０％であり、確定したドットが無い場合には、主走査方向に並ぶ１０個の画素全てを一次候補点として設定する。１個の画素が確定したドットとして設定された場合には、ノズル使用率１０％が満たされるため、その後、一次候補点は設定しない。
例えば、ノズル使用率（濃度分布）が１０％であり、確定したドットが無い場合には、主走査方向に並ぶ１０個の画素全てを一次候補点として設定する。１個の画素が確定したドットとして設定された場合には、ノズル使用率１０％が満たされるため、その後、一次候補点は設定しない。
【0133】
【0134】
【0135】
【0136】
図９のＡ－１の仮のマスクパターンＤＰ１には８０個のドットＤＴが含まれ、その内、一次候補点は、模様を付した丸で示されている。
【0137】
図９のＡ－１に着目すると、マスクパターンを構成するドットマトリクスＤＰ１には、副走査方向にＡ～Ｈの符号が付されており、また、主走査方向には１～１０の符号が付されている。よって、各一次候補点は、その副走査方向、及び主走査方向における各ドット位置を示す、Ａ～Ｈと、１～１０の組み合わせによって表記可能である。
例えば、図９のＡ－１における一次候補点は、「Ａ３、Ｃ５、Ｃ９、Ｅ１、Ｅ３、Ｅ４、Ｅ８、Ｅ９、Ｇ３、Ｇ５」である。
例えば、図９のＡ－１における一次候補点は、「Ａ３、Ｃ５、Ｃ９、Ｅ１、Ｅ３、Ｅ４、Ｅ８、Ｅ９、Ｇ３、Ｇ５」である。
【0138】
図９のＡ－１に示される各候補点に対して、図９のＡ－２では、評価値としてのボイド値が付与される。ここで、上記のとおり、ボイド値は、点と点との関係における疎の度合いを示す指標であり、少なくとも１点の確定したドットがないと、各一次候補点の評価ができない。
【0139】
図９では、確定したドットが無い状態である（言い換えれば、二次候補点の抽出処理における初回の処理である）ため、各一次候補点はすべて疎であり、よって各点のボイド値はすべて「１」となる。
【0140】
なお、評価値（ボイド値）が、「１」に近いほど、疎の度合いが高く、「０」に近いほど、密の度合いが高い。但し、評価値（ボイド値）の上限値が「１」に限定されるものではない。後述するが、一つの候補点が重複抽出される場合は、その重複の回数に応じて評価値（ボイド値）が重み付けされ、この結果として、評価値（ボイド値）が１よりも大きな値となることがある。
【0141】
上記のように、各候補点の評価値（ボイド値）がすべて「１」であれば、評価値（ボイド値）に基づく評価ができない。そこで、図９のＡ－３では、各候補点のボイド値（言い換えれば、各候補点自体）をランダムに順位付けし、これによって、実質的にボイド値に差異を設ける。これにより、各一次候補点が順位付けされる。次に、順位の値を正規化する。
【0142】
すなわち、パスによって候補点の数が異なるので、順位の値を正規化して、パス毎の比較ができるようにする。ここでは、順位の値から１を引いた値を、（候補点の数-１）で除した値を、正規化した点数とする。
【0143】
この結果、図９のＡ－４では、順位が上位である６点（Ｃ５、Ｇ３、Ｅ９、Ｅ１、Ａ３、Ｇ５：これらの点は太線の枠にて強調表示されている）が抽出される。これらの抽出された６点が二次候補点となる。
【0144】
なお、候補点の抽出に際しては、正規化された値（正規化値）に対して、所定の閾値を設定し、その閾値より大きい（あるいはその閾値以上）である正規化値をもつ候補点を抽出することができる。必要な個数の候補点を抽出できないときは、閾値を適宜、更新してもよい。
【0145】
【0146】
【0147】
【0148】
【0149】
【0150】
【0151】
【0152】
【0153】
【0154】
【0155】
図１１のＡ－１では、図９、図１０の処理により抽出された、第１のプレーンのノズルマスクフィールドにおける二次候補点が、第１のプレーンにおけるプレーンフィールド（ノズルマスクフィールドよりも上位の階層に属するマスクパターン設計の場）に集約される。
【0156】
図１１のＡ－２には、プレーンフィールドにおいて集約された二次候補点（言い換えれば抽出点）の配置が示されている。ここで、今、着目しているのは、図５に示したマスクパターンの範囲ＲＳであり、この範囲ＲＳ内の二次候補点において、ボイド値（評価値）を付与する。
【0157】
ボイド値（評価値）の付与の方法は、先に図９で説明したものと同様である。つまり、確定されたドットが無い状態であるため、各二次候補点はすべて疎と判定され、ボイド値（評価値）は「１」である。
【0158】
但し、図１１のＡ－２では、二次候補点を集約するに際し、同じ位置の点が二次候補点として複数回、抽出されているときは、その点は、複数のパスにおいて疎であると判定された点であり、より有力な候補点であると判断され得る。
【0159】
よって、その二次候補点については、ボイド値に、その回数の値を乗算して、ボイド値の値を大きくする。すなわち、抽出回数による重み付けが実施される。これによって、その点は、より有力な候補点であると判定され得る。
【0160】
例えば、図１１のＡ－３では、二次候補点として「Ｇ５」が抽出されているが、この「Ｇ５」は、先に示した図９の抽出過程において、図９のＡ－４、及び図９のＡ－１６に登場する。つまり、２回、抽出されている。よって、「Ｇ５」のボイド値は２（＝１×２回）となる。
【0161】
図１１のＡ－４では、図９と同様に、ボイド値が同じ各点については、ボイド値（評価値）をランダムに順位付けする。これにより、ボイド値（評価値）に実質的な差異を生じさせる。そして、ボイド値（評価値）に基づいて、二次候補点が順位付けされ、そして、順位の値が正規化される。
【0162】
この結果、図１１のＡ－５では、第１のプレーンにおけるプレーン候補点（Ｇ５、Ｇ８、Ｍ８、Ｍ１０、Ｋ５、Ｋ４）が抽出される。
【0163】
以上の説明では、第１のプレーンについてのみ説明しているが、実際は、第２・・・第ｍの各プレーンにおいても、同様の処理が実施されて、各プレーンにおけるプレーン候補点が抽出される。
【0164】
次に、図１２を参照する。図１２は、第１～第ｍの各プレーンの各々における、抽出されたプレーン候補点を示す図である。
図１２のＡ－１は、図１１のＡ－５の図を再掲したものである。
図１２のＡ－２では、第２のプレーンのプレーン候補点（Ｇ５、Ｉ９、Ｍ３、Ｇ３、Ｉ４、Ｍ１）が示されている。
図１２のＡ－３では、第ｍのプレーンのプレーン候補点（Ｉ７、Ｋ３、Ｍ９、Ｍ２、Ｇ５、Ｉ２）が示されている。
図１２のＡ－１は、図１１のＡ－５の図を再掲したものである。
図１２のＡ－２では、第２のプレーンのプレーン候補点（Ｇ５、Ｉ９、Ｍ３、Ｇ３、Ｉ４、Ｍ１）が示されている。
図１２のＡ－３では、第ｍのプレーンのプレーン候補点（Ｉ７、Ｋ３、Ｍ９、Ｍ２、Ｇ５、Ｉ２）が示されている。
【0165】
【0166】
図１２に示した各プレーンのプレーン候補点は、最上位階層のマスクパターンの設計の場であるプレーン統合フィールドに集約される。
【0167】
図１３のＡ－１には、集約されたプレーン候補点が示されている。図１３のＡ－２には、プレーン統合フィールドにおける、マスクパターンの範囲ＲＳ内におけるドットパターンが示されている。模様が付された丸で示される点が、パターンを構成するプレーン候補点であり、これらの各点に、ボイド値（評価値）が付与される。ボイド値（評価値）を付与する方法は、図１１の場合と同じである。
【0168】
確定されたドットが無い状態であるため、各プレーン候補点はすべて疎と判定され、ボイド値（評価値）は「１」である。
【0169】
但し、プレーン候補点を集約するに際し、同じ位置の点がプレーン候補点として複数回、抽出されているときは、その点は複数のプレーンにおいて疎であると判定された点であり、より有力な候補点であると判断され得る。よって、そのプレーン候補点については、ボイド値に、その回数の値を乗算して、ボイド値の値を大きくする。
【0170】
図１３のＡ－３では、プレーン候補点として「Ｇ５」が抽出されているが、この「Ｇ５」は、抽出過程において３回、抽出されているものとする。したがって、「Ｇ５」のボイド値は３（＝１×３回）となる。
【0171】
図１３のＡ－４では、ボイド値が同じ各点については、ボイド値をランダムに順位付けする。そして、ボイド値に基づいて順位を決定する。この結果、「Ｇ５」が、最も疎である点と判定される。
【0172】
これにより、図１３のＡ－５では、画素「Ｇ５」の位置が、インク吐出可能画素を設定する位置として定まる。
【0173】
次に、図１４を参照する。図１４は、第１のプレーンの、ノズルマスクフィールドにおけるマスクパターンの、１パス目～４パス目の各マスクパターン上での、インク吐出可能画素（一点目）の位置の特定を示す図である。
【0174】
【0175】
図１４において、画素Ｇ５は、１パス目のパスマスクＰＭ１、４パス目のパスマスクＰＭ４の双方に存在する。よって、インクを吐出するのが、１パス目であるのか、４パス目であるのかを決定する必要がある。
【0176】
ここでは、「所定条件」にしたがって決定する。所定条件は、例えば、以下のとおりである。
条件１：最も評価値による順位が高いドットを選択する。同順位の場合は、インク吐出のタイミングが最も早く訪れるドット（最も早く打たれるドット）を選択する。それでも差がないときは、ランダムに選択する。
条件２：インク吐出のタイミングが最も早く訪れるドット（最も早く打たれるドット）を選択する。差がつかない場合は、最も評価値による順位が高いドットを選択する。それでも差がないときは、ランダムに選択する。
条件３：インク吐出のタイミングが最も遅く訪れるドット（最も遅く打たれるドット）を選択する。差がつかない場合は、最も評価値による順位が高いドットを選択する。それでも差がないときは、ランダムに選択する。
条件１：最も評価値による順位が高いドットを選択する。同順位の場合は、インク吐出のタイミングが最も早く訪れるドット（最も早く打たれるドット）を選択する。それでも差がないときは、ランダムに選択する。
条件２：インク吐出のタイミングが最も早く訪れるドット（最も早く打たれるドット）を選択する。差がつかない場合は、最も評価値による順位が高いドットを選択する。それでも差がないときは、ランダムに選択する。
条件３：インク吐出のタイミングが最も遅く訪れるドット（最も遅く打たれるドット）を選択する。差がつかない場合は、最も評価値による順位が高いドットを選択する。それでも差がないときは、ランダムに選択する。
【0177】
【0178】
一方、図９のＡ－１６を採用すると、４パス目のパスマスクＰＭ４では、画素「Ｇ５」の評価値に基づく順位は第４位であり、４パス目の方が高い順位である。
【0179】
よって、４パス目のパスマスクＰＭ４における画素「Ｇ５」が、インク吐出可能画素として特定される。言い換えれば、画素「Ｇ５」の位置に、インク吐出可能画素が設定される。
【0180】
このようにして、所定の濃度分布を満足し（図８）、かつ、ノズルマスクフィールドにおけるマスクパターンの設計範囲内においてドットが適切に分散されており（図９、図１０）、また、複数のマスクパターンの範囲のドットを統合したプレーンフィールドにおいてもドットが適切に分散されており（図１１）、また、複数のプレーンを統合したプレーン統合フィールドにおいてもドットが分散されている（図１２、図１３）という条件をすべて満たすようにして、各パスのパスマスクにおいてインク吐出画素が１点、確定される
【0181】
確定された１点のドットは、ノズルマスクフィールド、プレーンフィールド、及び、プレーン統合フィールドの各々において設定される。
【0182】
この確定された１点のドットは、所定の濃度分布を考慮しつつ、同一色のドットの集団においても、各色のドットが混合された集団においても、最も疎と判定されるドットである。
【0183】
これ以降、この確定された１点を有するマスクパターンにおいて、疎の度合いが高い点を順次、設定していくのであるが、確定された１点は疎の度合いが高いため、それ以降の点も、疎の度合いが高い点として設定し易いという利点がある。このことは、マスクパターンを構成する各ドットの高い分散性を確保することに貢献する。
【0184】
以上説明した例では、ドットの分散性に関して、「ノズルマスクフィールド」、「プレーンフィールド」、及び、「プレーン統合フィールド」の各々における分散性が考慮されている。
但し、「プレーン統合フィールド」における分散性は省略することもできる。この点について、以下、順を追って説明する。
ここで、各フィールドにおける、ドットの分散性の確保の意義についてまとめると、次のようになる。
（ｉ）「ノズルマスクフィールド（最下層のマスクパターンの設計の場）」におけるドットの分散性を確保することは、言い換えれば、１つの色における、１つのマスクパターンの範囲におけるドットの規則性を抑制することである。
（ｉｉ）「プレーンフィールド（中位層のマスクパターン設計の場）」におけるドットの分散性を確保することは、言い換えれば、１つの色における、１つのマスクパターンの範囲と、その範囲に隣接する他のマスクパターンの範囲との間における規則性を抑制することである。
（ｉｉｉ）「プレーン統合フィールド（最上位層のマスクパターンの設計の場）」におけるドットの分散性を確保することは、言い換えれば、各色のプレーンが重ね合わされた場合に規則性が生じる場合がある場合を想定して、複数の色のドットが集合した場合においてもドットの規則性を抑制することである。
但し、「プレーン統合フィールド」における分散性は省略することもできる。この点について、以下、順を追って説明する。
ここで、各フィールドにおける、ドットの分散性の確保の意義についてまとめると、次のようになる。
（ｉ）「ノズルマスクフィールド（最下層のマスクパターンの設計の場）」におけるドットの分散性を確保することは、言い換えれば、１つの色における、１つのマスクパターンの範囲におけるドットの規則性を抑制することである。
（ｉｉ）「プレーンフィールド（中位層のマスクパターン設計の場）」におけるドットの分散性を確保することは、言い換えれば、１つの色における、１つのマスクパターンの範囲と、その範囲に隣接する他のマスクパターンの範囲との間における規則性を抑制することである。
（ｉｉｉ）「プレーン統合フィールド（最上位層のマスクパターンの設計の場）」におけるドットの分散性を確保することは、言い換えれば、各色のプレーンが重ね合わされた場合に規則性が生じる場合がある場合を想定して、複数の色のドットが集合した場合においてもドットの規則性を抑制することである。
【0185】
上記（ｉ）、（ｉｉ）は、１つの色のインクが使用された場合を想定している。そして、上記（ｉｉ）では、１つのマスクパターンの範囲と、その範囲に隣接する他のマスクパターンの範囲との間のドットの分散性を問題としている。
【0186】
ここで、先に説明した図５を参照する。図５では、１パス～４パスに対応する４つのパスマスクＰＭ１～ＰＭ４が設定されている。そして、図５の右側には、４パス（１パス目～４パス目）でカバーされるマスクパターンの範囲ＲＳが示されている。
ここで、このマスクパターンの範囲ＲＳは、「各パスマスクが重ね合わされた場合のマスクパターンの範囲」を示しており、上記の（ｉ）、（ｉｉ）を満足するということは、つまり、「各パスマスクが重ね合わされた場合のマスクパターンの範囲（例えば、図５の右側に示される範囲ＲＳ）」におけるドットの分散性が確保される、ということである。
ここで、上記（ｉｉｉ）は、複数の色のインクが使用された場合を想定して設定される条件である。
よって、複数色のインクの吐出を前提とせず、発明をより広義に把握して、インク（複数のインクでなくても、少なくとも一色のインクであればよい）を吐出可能な印刷ヘッドとメディアとを、主走査方向、及び主走査方向に直交する副走査方向に、相対的に移動させながら、マルチパス方式によってメディアに所望の印刷を行うインクジェットプリンタを想定する場合は、上記（ｉｉｉ）の構成は削除してもよい。
ここで、このマスクパターンの範囲ＲＳは、「各パスマスクが重ね合わされた場合のマスクパターンの範囲」を示しており、上記の（ｉ）、（ｉｉ）を満足するということは、つまり、「各パスマスクが重ね合わされた場合のマスクパターンの範囲（例えば、図５の右側に示される範囲ＲＳ）」におけるドットの分散性が確保される、ということである。
ここで、上記（ｉｉｉ）は、複数の色のインクが使用された場合を想定して設定される条件である。
よって、複数色のインクの吐出を前提とせず、発明をより広義に把握して、インク（複数のインクでなくても、少なくとも一色のインクであればよい）を吐出可能な印刷ヘッドとメディアとを、主走査方向、及び主走査方向に直交する副走査方向に、相対的に移動させながら、マルチパス方式によってメディアに所望の印刷を行うインクジェットプリンタを想定する場合は、上記（ｉｉｉ）の構成は削除してもよい。
【0187】
この場合、各パス用のパスマスクの各々は、
（１）複数のパス毎に設定される各パスマスクは、その各パスマスクを重ねると、その重なりに対応する範囲内のすべての画素がインク吐出可能画素となるという補完関係を前提とすることなく設計されたマスクパターンを有するという第１の構成、
（２）複数のパス毎に設定される各パスマスクは、所定の濃度分布に従うマスクパターンを有するという第２の構成、
（３）複数のパス毎に設定される各パスマスクは、各パスマスクが重ね合わされた場合において、バンディングが抑制され得る分散性を備えるように設計されたマスクパターンを有するという第３の構成、を有する。
また、この場合、先に図４を用いて説明したパスマスクの生成方法では、ステップＳ７において、ステップＳ６で生成される「プレーン候補点」について、評価に基づく最も疎である画素の特定が実施される。
（１）複数のパス毎に設定される各パスマスクは、その各パスマスクを重ねると、その重なりに対応する範囲内のすべての画素がインク吐出可能画素となるという補完関係を前提とすることなく設計されたマスクパターンを有するという第１の構成、
（２）複数のパス毎に設定される各パスマスクは、所定の濃度分布に従うマスクパターンを有するという第２の構成、
（３）複数のパス毎に設定される各パスマスクは、各パスマスクが重ね合わされた場合において、バンディングが抑制され得る分散性を備えるように設計されたマスクパターンを有するという第３の構成、を有する。
また、この場合、先に図４を用いて説明したパスマスクの生成方法では、ステップＳ７において、ステップＳ６で生成される「プレーン候補点」について、評価に基づく最も疎である画素の特定が実施される。
【0188】
１色のインクではなく、「複数の色のインク」を吐出可能な印刷ヘッドを用いてメディアにマルチパス印刷を実施する場合には、上記（ｉｉｉ）の条件が、加重されることになる。
この場合、各色の各パス用のパスマスクの各々は、
（１）同一色のインクについての、複数のパス毎に設定される各パスマスクは、その各パスマスクを重ねると、その重なりに対応する範囲内のすべての画素がインク吐出可能画素となるという補完関係を前提とすることなく設計されたマスクパターンを有するという第１の構成、
（２）同一色のインクについての、複数のパス毎に設定される各パスマスクは、所定の濃度分布に従うマスクパターンを有するという第２の構成、
（３）各色成分の二次元の広がりを示すデータ構造をプレーンと称する場合において、同一色のインクについての、複数のパス毎に設定される各パスマスクは、その色のプレーンにおいて、バンディングが抑制され得る分散性を備えるように設計されたマスクパターンを有する、という第３の構成、
（４）複数のインクとして、第１色～第ｍ色のインクが使用される場合において、各色のインクについての、複数のパス毎に設定される各パスマスクは、各色のプレーンが統合された場合においても、バンディングが抑制され得る分散性を備えるように設計されたマスクパターンを有するという第４の構成、を有する。
この場合、各色の各パス用のパスマスクの各々は、
（１）同一色のインクについての、複数のパス毎に設定される各パスマスクは、その各パスマスクを重ねると、その重なりに対応する範囲内のすべての画素がインク吐出可能画素となるという補完関係を前提とすることなく設計されたマスクパターンを有するという第１の構成、
（２）同一色のインクについての、複数のパス毎に設定される各パスマスクは、所定の濃度分布に従うマスクパターンを有するという第２の構成、
（３）各色成分の二次元の広がりを示すデータ構造をプレーンと称する場合において、同一色のインクについての、複数のパス毎に設定される各パスマスクは、その色のプレーンにおいて、バンディングが抑制され得る分散性を備えるように設計されたマスクパターンを有する、という第３の構成、
（４）複数のインクとして、第１色～第ｍ色のインクが使用される場合において、各色のインクについての、複数のパス毎に設定される各パスマスクは、各色のプレーンが統合された場合においても、バンディングが抑制され得る分散性を備えるように設計されたマスクパターンを有するという第４の構成、を有する。
【0189】
次に、図１５を参照する。図１５は、第１のプレーンの、インク吐出可能画素が特定された後のノズルマスクフィールドにおける１パス目～４パス目のマスクパターンでの一次候補点の生成の一例を示す図である。
図１５は、先に説明した図８に対応する図である。実施される処理の内容は、図８で説明したものと同じである。図１５のＡ－１、Ａ－３、Ａ－５、Ａ－７では、図１４の処理にて確定されたドットは黒丸にて示されている。
図１５は、先に説明した図８に対応する図である。実施される処理の内容は、図８で説明したものと同じである。図１５のＡ－１、Ａ－３、Ａ－５、Ａ－７では、図１４の処理にて確定されたドットは黒丸にて示されている。
【0190】
図１５のＡ－２、Ａ－４、Ａ－６、Ａ－８に示されるように、各パスマスクＰＭ１～ＰＭ４において、仮のマスクパターン（ドットパターン）ＤＰ１～ＤＰ４が設定される。
濃度分布に従うドットの数は合計で１０点であるが、既に１点のドットが確定しているため、９点のドットを設定する。確定済みのドットについては、新たなドットを重ねることはしない。すなわち、９点のドットは、未確定のドット位置に設定される。
濃度分布に従うドットの数は合計で１０点であるが、既に１点のドットが確定しているため、９点のドットを設定する。確定済みのドットについては、新たなドットを重ねることはしない。すなわち、９点のドットは、未確定のドット位置に設定される。
【0191】
次に、図１６を参照する。図１６は、第１のプレーンの、インク吐出可能画素が特定された後のノズルマスクフィールドにおける１パス目～４パス目のマスクパターンでの二次候補点の生成の一例を示す図である。
図１６は、先に説明した図９に対応する図である。実施される処理の内容は、図９で説明したものと同じである。但し、図１６のＡ－２、Ａ－６、Ａ－１０、Ａ－１４における評価値（ボイド値）は、複数の平滑化フィルタによるフィルタリング処理の結果を利用することで算出される（この点は、図１８～図２２を参照して後述する）。
図１６は、先に説明した図９に対応する図である。実施される処理の内容は、図９で説明したものと同じである。但し、図１６のＡ－２、Ａ－６、Ａ－１０、Ａ－１４における評価値（ボイド値）は、複数の平滑化フィルタによるフィルタリング処理の結果を利用することで算出される（この点は、図１８～図２２を参照して後述する）。
【0192】
【0193】
次に、図１７を参照する。図１７は、第１のプレーンの、インク吐出可能画素が特定された後のノズルマスクフィールドにおけるマスクパターンの、１パス目～４パス目の各マスクパターン上での、インク吐出可能画素（二点目）の位置の特定を示す図である。
【0194】
図１７では、１パス目のパスマスクＰＭ１の画素「Ｅ１０」が、インク吐出可能画素の位置として特定される。これに伴い、プレーンフィールド、プレーン統合フィールドにおいても、１点のインク吐出可能画素が設定される。
以上説明した処理が、パスマスクのマスクパターンが完成するまで、繰り返し実施される。
以上説明した処理が、パスマスクのマスクパターンが完成するまで、繰り返し実施される。
【0195】
次に、図１８を参照する。図１８は、平滑化フィルタを用いて評価値を算出する評価値算出装置の構成の一例を示す図である。図１８の例では、複数の平滑化フィルタを使用する。但し、この構成は一例であり、この構成に限定されるものではない。
【0196】
なお、「平滑化フィルタ」は、平均化フィルタ、ぼかしフィルタ等とも称されるものであり、以下の説明では、単に、「フィルタ」と称する場合もある。平滑化フィルタは、画像をぼかして滑らかにする機能を有するフィルタである。平滑化フィルタＦ１～Ｆｍとしては、例えば、ガウシアンフィルタを用いることができる（但し、これに限定されるものではない）。
【0197】
ガウシアンフィルタは、正規分布を利用して、注目画素（確定されたドット：確定ドット）からの距離に応じて、近傍のドットの輝度値に重み付けをすることで、画像をぼかす機能を有する。
フィルタリングによるぼかし処理の後、輝度値の変化が大きいドットほど、注目画素から受ける影響が大きく、密の程度が高いと判定され、輝度値の変化が小さいドットほど、注目画素から受ける影響が小さく、疎の程度が高いと判定され得る。
フィルタリングによるぼかし処理の後、輝度値の変化が大きいドットほど、注目画素から受ける影響が大きく、密の程度が高いと判定され、輝度値の変化が小さいドットほど、注目画素から受ける影響が小さく、疎の程度が高いと判定され得る。
【0198】
図１８において、評価値算出装置８０は、処理対象となるドットパターンを取得するドットパターン取得部８１と、フィルタリングによる評価値算出部８３と、を有する。
【0199】
フィルタリングによる評価値算出部８３は、ｍ個（ｍは２以上の自然数）の平滑化フィルタＦ１～Ｆｍを備えるフィルタ部３０２と、フィルタ選択部３０４と、疎／密の評価値算出部３０６と、疎／密の総合評価値算出部３０８と、を有する。
【0200】
フィルタ部３０２が備える複数の平滑化フィルタは、各々、フィルタサイズ（標準偏差σの値）が異なる。
【0201】
フィルタ部３０２は、ドットパターン取得部８１から供給される確定ドット情報に基づいて、使用するフィルタの数を可変に制御する。確定したドットが増えるにしたがって、確定したドットの影響が及ぶ範囲が広域化するため、確定したドットの数の増大に対応させて、使用する平滑化フィルタの数を増やすのが好ましい（この点は、後述する）。
【0202】
次に、図１９を参照する。図１９は、用意されるすべての平滑化フィルタの例、及び、インク吐出可能画素の分布の濃度に対応して使用する平滑化フィルタを選択する場合における、使用する平滑化フィルタの例を示す図である。
【0203】
図１９のＡ－１では、フィルタ部３０２には、サイズ（言い換えれば、標準偏差σ）が異なる１０個の平滑化フィルタＦ１～Ｆ１０が用意されている（ここでは、ｍ＝１０）。
【0204】
図１９のＡ－２には、例えば、最小サイズのフィルタＦ１と最大サイズのフィルタＦｍの、サイズ（標準偏差σ）の違いの例を示している。最小サイズに対応する標準偏差σ１は、小さすぎると、平滑化処理後も、各画素の輝度値が平滑化前と変わらず、各画素についての疎密の程度の優劣を判定できず、有効な評価値を得られない。
【0205】
また、最大サイズに対応する標準偏差σｍは、大きすぎると、各画素の輝度が平滑化され過ぎて、同様に有効な評価値を得ることができない。
【0206】
よって、σ１は、ドットサイズ程度とし、σｍは、ドットパターンのサイズ（マスクパターンのサイズ）の（１／６）倍～（１／４）倍程度に設定している。但し、一例であり、これに限定されるものではない。
【0207】
このように、最小サイズのフィルタＦ１の標準偏差σ１は、例えば、ドットサイズの１倍～３倍程度と微小である。一方、最大サイズのフィルタＦｍの標準偏差σｍは、例えば、ドットパターンのサイズ（マスクパターンのサイズ）の（１／６）倍～（１／４）倍と、かなり大きい。
【0208】
標準偏差σ１、σｍのサイズの差が、このように大きい場合には、ドットパターンの濃度（階調）に応じて、実際に使用する平滑化フィルタを、適宜、選択して用いるのが好ましい。
【0209】
例えば、ドットパターンの濃度が低く、ドットが有る画素が少ない状態で、サイズが小さいフィルタ（例えば、ドットサイズ程度の標準偏差をもつ局所的フィルタ）を用いてフィルタ処理を実施しても、ドットパターンをぼかす効果はほとんど得られない。この状態で、疎密の評価を実施すると、ドットがない多数の画素のほとんどが、最も疎と判定されてしまい、有効な評価値は得られない。有効でない多数の評価値をそのまま使用して総合評価値を算出しても、信頼性の高い結果は得られない。
【0210】
そこで、ドットパターンの濃度（階調）が低い場合には、あるサイズ以上の、サイズが比較的大きいフィルタを選択的に用いてフィルタリングを実施し、ドットパターンの濃度が上昇するにつれて、比較的小さいサイズのフィルタも使用するようにして、少しずつ（例えば、段階的に、あるいは連続的に）フィルタの数を増やしていく。
【0211】
図１９のＡ－３では、ドットパターンの濃度（階調）が「低濃度」の場合は、比較的サイズが大きなフィルタＦ８～Ｆ１０を使用する。
【0212】
言い換えれば、ドットパターンの濃度が低い場合は、ドットとドットの間隔の平均値が大きく、そのドットパターンは隙間が多い状態であるため、広範囲にわたる「ぼかし」が可能なサイズの大きなフィルタを使用し、ぼかし効果が期待できない、比較的小さなサイズのフィルタは実際の使用から除外する。
【0213】
図１９のＡ－４は、ドットパターンの濃度が「中濃度（低）」の場合を示す。ここではフィルタＦ４～Ｆ１０を使用する。使用するフィルタの数が、低濃度のときに比べて４個増えている。
【0214】
図１９のＡ－５は、ドットパターンの濃度が「中濃度（高）」の場合を示す。ここではフィルタＦ２～Ｆ１０を使用する。使用するフィルタの数が、中濃度（低）のときに比べて２個増えている。
【0215】
図１９のＡ－６では、ドットパターンの濃度が「高濃度」の場合を示す。ここでは、用意されているすべてのフィルタＦ１～Ｆ１０を使用する。使用するフィルタの数が、中濃度（高）のときに比べて１個増えている。
【0216】
このように、ドットパターンの濃度（階調）に応じて、適宜、複数のフィルタの中から適切なサイズのフィルタ（３以上のフィルタであるのが好ましい）を選択し、それらを組み合わせて使用することで、適切なぼかし処理が実現される。
【0217】
ぼかし処理が実施されたときに、輝度値が変化する程度が小さいドットは、確定ドットからの影響の程度が小さく、疎の度合いが高いと判定され得る。適切なぼかし処理がなされることで、適切な評価値が得られ、適切な疎／密の判定が可能となる。
【0218】
【0219】
図２０では、１７個のフィルタＦ１～Ｆ１７が、そのサイズを比較できるように、間隔をおいて配置されている。また、サイズの違いを分かり易く表現するために、フィルタサイズに相当する正方形の中央部に高輝度の領域を設けている。フィルタのサイズが大きくなるほど、その高輝度の部分も広がり、全体の明るさが増している。最小サイズのフィルタＦ１と、最大サイズのフィルタＦ１７とを比較すると、その差は歴然である。
【0220】
また、図２０の例では、ドットパターンにおける、どのようなサイズの領域に対しても、適切なサイズの平滑化フィルタが存在することを担保するべく、各フィルタＦ１～Ｆ１７のサイズはランダムに決定するのではなく、一定の倍率で相関付けられるものとしている。
【0221】
すなわち、第２のフィルタＦ２のサイズは、第１のフィルタＦ１のサイズの所定倍（例えば１．３倍）とし、第３のフィルタＦ３のサイズは、第２のフィルタＦ２のサイズの所定倍（例えば、１．３倍）とし、以下、同様に、フィルタサイズを一定の倍率で拡大していく（但し、好ましい一例であり、これに限定されるものではない）。言い換えれば、複数のフィルタ（少なくとも３つの平滑化フィルタ）のサイズは、等倍で異なる。
【0222】
【0223】
図２１のＡ－１では、ノズルマスクフィールドにおけるパスマスクＰＭは、６４個（＝８×８）のドットＤＴを有する。パスマスクＰＭには、既に確定されたドットが２点、含まれている。また、８個の一次候補点が設定されている。確定済みのドットは黒丸で示され、一次候補点は模様が付された丸で示されている。
【0224】
図２１のＡ－２は、８×８のドットマトリクスにおける、確定済みのドットパターンを示す。このドットマトリクスに対して、複数の平滑化フィルタ（ガウシアンフィルタ）に基づく平滑化処理が実施される。
【0225】
ここでは３個のフィルタａ、ｂ、ｃを使用するものとし、また、フィルタサイズについては、フィルタａ＜フィルタｂ＜フィルタｃの関係が成立するものとする。
【0226】
【0227】
確定済みの２点のドットの周囲には、濃い模様が付されたドットが存在するが、これらの点が、密の程度が高い（言い換えれば、疎の度合いが低い）ドットである。
【0228】
その密の程度が高いドットの周囲に、斜線が施されているドットが存在するが、これらが、密の程度が中程度（言い換えれば、疎の度合いが中程度）のドットである。
【0229】
模様が施されない白地のドットは、密の程度が低い（言い換えれば、疎の度合いが高い）ドットである。
【0230】
図２１のＡ－６～Ａ－８では、図２１のＡ－３～Ａ－５における、各ドットの疎密の度合いを、数値化して示している。この数値が、各ドットの評価値（一次評価値）を示している。数値が大きいほど、疎の度合いが低く、数値が小さいほど、疎の度合いが高い。
【0231】
図２１のＡ－９では、図２１のＡ－６～Ａ－８の各々における各ドットの評価値（一次評価値）の数値がすべて加算される。各ドットに付された加算結果を示す数値が、総合評価値である。このようにして、総合評価値マトリクス４３０が得られる。
【0232】
総合評価値の数値が小さいものほど、局所的な範囲、中程度の範囲、及び、広域の範囲の各々のいずれにおいても疎の度合いが高いと判定され得る。総合評価値による判定の結果として、疎の度合いが高いと判定されたドットは、局所的な範囲、中程度の範囲、及び、広域の範囲の各々のいずれにおいても分散性が高く、規則性が生じにくい。よって、バンディングの抑制に貢献する。
【0233】
【0234】
図２２のＡ－１には、図２１のＡ－９に示した総合評価値マトリクスが再掲されている。図２２のＡ－１において、最も小さい総合評価値は「３」である（図中、総合評価値が「３」のドットは太線の枠で囲んで強調して示している）。
【0235】
図２２のＡ－２において、総合評価値が「３」であるドットに該当する候補点は、「Ｆ３」である。よって、図２２のＡ－３に示されるように、ドット（画素）「Ｆ３」が、評価値による順位付けがなされた場合の、最も高い順位の点となる。
【0236】
【0237】
他の評価値（総合評価値）を参照することで、他の候補点についても順位付けが可能である。また、先に説明したように、評価値（総合評価値）の値が同じ候補点については、評価値（総合評価値）をランダムに順位付けすることで、各候補点の順位付けが可能となる。
【0238】
このようにして、評価値（総合評価値）を参照することで、疎の度合いに応じて、各候補点を順位付けることができる。
【0239】
以上説明したように、本発明の第１の実施形態において、インクジェットプリンタは、インクを吐出可能な印刷ヘッドとメディアとを、主走査方向、及び前記主走査方向に直交する副走査方向に、相対的に移動させながら、マルチパス方式によって前記メディアに所望の印刷を行うと共に、前記印刷ヘッドは、副走査方向に配列された、インクを吐出する所定数のノズルを含むノズル列を有し、前記ノズル列に対応して、複数のパス毎にパスマスクを設け、各パスマスクに設定されるインク吐出可能画素によってインクの吐出位置を特定するインクジェットプリンタであって、前記各パス用のパスマスクの各々におけるインク吐出可能画素に基づいて生成された印刷データに基づいてインクの吐出を制御するインク吐出制御部を有し、前記各パス用のパスマスクの各々は、（１）複数のパス毎に設定される各パスマスクは、その各パスマスクを重ねると、その重なりに対応する範囲内のすべての画素がインク吐出可能画素となるという補完関係を前提とすることなく設計されたマスクパターンを有するという第１の構成、（２）複数のパス毎に設定される各パスマスクは、所定の濃度分布に従うマスクパターンを有するという第２の構成、（３）複数のパス毎に設定される各パスマスクは、各パスマスクが重ね合わされた場合において、バンディングが抑制され得る分散性を備えるように設計されたマスクパターンを有する、という第３の構成、を有する。
【0240】
本実施形態によれば、パスマスクは、補完関係を前提とすることなく設計されたマスクパターンを有するという第１の構成を備えることで、補完関係を前提とする場合の制限がなくなり、より自由に、印刷条件を選ぶことが可能となる。例えば、従来よりも印刷速度を向上させたいという要求があるとき、その要求を満足させ得るような印刷条件の自由な設定が可能である。
また、パスマスクが、所定の濃度分布に従うマスクパターンを有するという第２の構成を備えることで、所定の濃度分布を忠実に再現することができる。
但し、補完関係を前提とする条件を外したことから、上記第１、第２の構成のみでは、バンディング（横筋）等に対する対策がなされていないため、所望の画質を担保することができない。
そこで、高度なバンディング対策を実施する。この結果として、パスマスクは、さらに第３の構成を有する。
第３の構成に関して、複数のパス毎に設定される各パスマスクは、各パスマスクが重ね合わされた場合において、バンディングが抑制され得る分散性を備えるように設計されたマスクパターンを有する。これにより、インク吐出可能画素の分布の分散性が確保され、バンディング等の発生が抑制される。
また、パスマスクが、所定の濃度分布に従うマスクパターンを有するという第２の構成を備えることで、所定の濃度分布を忠実に再現することができる。
但し、補完関係を前提とする条件を外したことから、上記第１、第２の構成のみでは、バンディング（横筋）等に対する対策がなされていないため、所望の画質を担保することができない。
そこで、高度なバンディング対策を実施する。この結果として、パスマスクは、さらに第３の構成を有する。
第３の構成に関して、複数のパス毎に設定される各パスマスクは、各パスマスクが重ね合わされた場合において、バンディングが抑制され得る分散性を備えるように設計されたマスクパターンを有する。これにより、インク吐出可能画素の分布の分散性が確保され、バンディング等の発生が抑制される。
【0241】
具体的には、例えば、パスとパスの境界付近において生じるバンディングを軽減する効果が得られる。また、ノズル抜け、ノズルのヨレ、あるいはノズルの個体差等に起因するバンディングを軽減する効果が得られる。また、設計の自由度が向上するため、例えば、パス間の相対濃度を任意に設定する効果、すなわち、好ましい例では、特定のパスの濃度を個別に制御できるといった効果が得られる。
【0242】
また、例えば、印刷画像の画像品質と、印刷速度と、各パスの濃度のバランスを、より自由に設定できるという効果が得られる。
このように、本実施形態によれば、画質を良好に保ちつつ、マスクパターンの作成自由度を高めることができる。例えば、一定水準の画質を担保しつつ印刷速度を早めるのに適したマスクパターンを作成することができる。また、各パスごとでノズル使用率（濃度カーブ）が異なっていても一定水準の画質が担保されたマスクパターンを作成することも可能である。
よって、マルチパス方式の印刷技術における現状の限界を破って、画質や印刷速度の、さらなる向上を実現することができる。
このように、本実施形態によれば、画質を良好に保ちつつ、マスクパターンの作成自由度を高めることができる。例えば、一定水準の画質を担保しつつ印刷速度を早めるのに適したマスクパターンを作成することができる。また、各パスごとでノズル使用率（濃度カーブ）が異なっていても一定水準の画質が担保されたマスクパターンを作成することも可能である。
よって、マルチパス方式の印刷技術における現状の限界を破って、画質や印刷速度の、さらなる向上を実現することができる。
【0243】
なお、「インク」という用語は広義に解釈することができる。例えば、「液体」と表現することもできる。例えば、「インクジェットプリンタ」という用語は、「液体吐出装置」と表現することも可能である。
【0244】
また、第２の実施形態において、インクジェットプリンタは、複数の色のインクを吐出可能な印刷ヘッドとメディアとを、主走査方向、及び前記主走査方向に直交する副走査方向に、相対的に移動させながら、マルチパス方式によって前記メディアに所望のカラー印刷を行うと共に、前記印刷ヘッドは、副走査方向に配列された、インクを吐出する所定数のノズルを含むノズル列を有し、前記ノズル列に対応して、複数のパス毎に各色用のパスマスクを設け、各パスマスクに設定されるインク吐出可能画素によって各色のインクの吐出位置を特定するインクジェットプリンタであって、前記各色の各パス用のパスマスクの各々におけるインク吐出可能画素に基づいて生成された各色の印刷データに基づいて各色のインクの吐出を制御するインク吐出制御部を有し、前記各色の各パス用のパスマスクの各々は、（１）同一色のインクについての、複数のパス毎に設定される各パスマスクは、その各パスマスクを重ねると、その重なりに対応する範囲内のすべての画素がインク吐出可能画素となるという補完関係を前提とすることなく設計されたマスクパターンを有するという第１の構成、（２）同一色のインクについての、複数のパス毎に設定される各パスマスクは、所定の濃度分布に従うマスクパターンを有するという第２の構成、（３）各色成分の二次元の広がりを示すデータ構造をプレーンと称する場合において、同一色のインクについての、複数のパス毎に設定される各パスマスクは、その色のプレーンにおいて、バンディングが抑制され得る分散性を備えるように設計されたマスクパターンを有する、という第３の構成、（４）複数のインクとして、第１色～第ｍ色のインクが使用される場合において、各色のインクについての、複数のパス毎に設定される各パスマスクは、各色のプレーンが統合された場合においても、バンディングが抑制され得る分散性を備えるように設計されたマスクパターンを有する、という第４の構成、を有する。
【0245】
第２の実施形態のインクジェットプリンタでは、第１の実施形態で示した第１～第３の構成の他に、第４の構成が追加されている。
第４の構成に関して、各パスマスクは、異なる色のプレーンが統合された場合においても、バンディングが抑制され得る分散性を備えるように設計されたマスクパターンを有する。
これにより、異なる色のインク吐出可能画素の分布を統合的に観察した場合でも、インク吐出可能画素の分布の分散性が確保され、バンディング等の発生が抑制される。このようにして、印刷画像についての所望の画質も担保され得る。
具体的な効果としては、第１の実施形態にて示した効果と同様の効果が得られる。
第４の構成に関して、各パスマスクは、異なる色のプレーンが統合された場合においても、バンディングが抑制され得る分散性を備えるように設計されたマスクパターンを有する。
これにより、異なる色のインク吐出可能画素の分布を統合的に観察した場合でも、インク吐出可能画素の分布の分散性が確保され、バンディング等の発生が抑制される。このようにして、印刷画像についての所望の画質も担保され得る。
具体的な効果としては、第１の実施形態にて示した効果と同様の効果が得られる。
【0246】
第３の実施形態において、パスマスクの生成方法は、印刷ヘッドとメディアとを、主走査方向、及び前記主走査方向に直交する副走査方向に、相対的に移動させながら、マルチパス方式によって前記メディアに所望の印刷を行うと共に、前記印刷ヘッドは、副走査方向に配列された、インクを吐出する所定数のノズルを含むノズル列を有し、各パス毎にパスマスクを設け、各パスマスクに設定されるインク吐出可能画素によってインクの吐出位置を特定するインクジェットプリンタにおける、前記パスマスクの生成方法であって、（１）複数のパス毎に設定される各パスマスクは、その各パスマスクを重ねると、その重なりに対応する範囲内のすべての画素がインク吐出可能画素となるという補完関係を前提とすることなく設計される、という基本方針の下で所定の領域を印刷するのに必要なパス数を含む印刷条件を設定するステップと、（２）各パスマスクに対して、副走査方向に、所定の濃度分布を設定するステップと、（３）前記ノズル列の前記所定数のノズルが対応付けされ、前記濃度分布が設定される第１のマスクパターンの設計の場において、各パスマスクにおいて、インク吐出可能画素の一次候補点を設定し、各一次候補点について、疎／密の評価値を算出し、その疎／密の評価値を用いて、疎の度合いが上位の二次候補点を抽出するステップと、（４）前記（１）のステップにて設定されたパス数をｊ（ｊは２以上の自然数）とする場合において、１パス目～ｊパス目に対応する前記二次候補点を、第２のマスクパターン設計のための場に集約し、前記第２のマスクパターン設計の場における各二次候補点の疎／密の評価値を用いて、疎の度合いが最も高い点を、インク吐出可能画素として特定するステップと、（５）前記（４）において特定されたインク吐出可能画素が、前記（３）における前記第１のマスクパターンの設計の場において、何パス目のパスマスクにおける、どの箇所に該当するかを特定し、その特定の際、該当する箇所が複数ある場合は、予め定められた所定条件に従って、該当箇所の一つを特定し、その特定されたインク吐出可能画素に関する情報を記憶するステップと、（６）前記（２）～（５）に記載される各処理を、各パスに対応した各パスマスクにおける、必要なすべてのインク吐出可能画素が特定されるまで繰り返すと共に、前記（３）のステップを実施するに際しては、既にインク吐出可能画素が設定されたパスマスクについては、その設定されたインク吐出可能画素を除いて、必要な数の前記一次候補点を設定し、（７）前記（２）～（６）に記載される各処理の繰り返しが終了すると、記憶されているインク吐出可能画素に関する情報に基づいて、各パスマスクにおけるマスクパターンを決定するステップと、を含む。
【0247】
これにより、所定の濃度分布に従うマスクパターンであって、バンディングが抑制され得る分散性を備えるパスマスクを、補完関係を前提とすることなく、より自由な条件の下で設計することが可能である。これによって、マルチパス方式の印刷技術における現状の限界を破って、画質や印刷速度の、さらなる向上を実現することができる。
【0248】
第３の実施形態に従属する第４の実施形態では、前記（３）、（４）の各処理において、各パスマスクの何れにおいても、インク吐出可能画素が一点も設定されていない場合には、各点にランダムな評価値を付与することで、疎密の評価値に実質的な差異を生じさせてもよい。
【0249】
第４の実施形態によれば、確定したドットが一つもない状態においても、評価値による候補点の順位付けが可能となる。
【0250】
第３の実施形態に従属する第５の実施形態では、前記（３）、（４）の各処理において、各パスマスクの何れかにおいて、インク吐出可能画素が少なくとも一点、設定されている場合には、平滑化フィルタを用いたフィルタリングの結果を用いて、疎／密の評価値を算出してもよい。
【0251】
フィルタリングによるぼかし処理の後、輝度値の変化が大きいドットほど、注目画素から受ける影響が大きく、密の程度が高いと判定され、輝度値の変化が小さいドットほど、注目画素から受ける影響が小さく、疎の程度が高いと判定され得る。よって、フィルタリング後の輝度値の変化に着目して評価値を算出することで、その評価値を用いて、疎の度合いが高いドットを特定することができる。
【0252】
第３の実施形態に従属する第６の態様では、前記（４）の処理において、１つの点が、重複して抽出されている場合には、その重複回数に応じて、その点における疎／密の評価値を重み付けしてもよい。
【0253】
第６の実施形態では、抽出回数による重み付けが実施される。これによって、複数回の抽出がなされている点（ドット）は、より有力な候補点であると判定することができる。
【0254】
第５の実施形態に従属する第７の実施形態において、前記平滑化フィルタを用いたフィルタリングの結果を用いて、疎／密の評価値を算出する処理は、既に設定されたインク吐出可能画素を含む仮のマスクパターンに対して、フィルタサイズが異なる複数の平滑化フィルタを用いてフィルタ処理を実施するステップと、フィルタ処理の結果毎に、疎／密の程度を示す一次評価値を求めるステップと、前記一次評価値に基づいて、総合的な疎／密の程度を示す総合評価値を算出し、算出された総合評価値を、前記疎／密の評価値とするステップと、を含む。
【0255】
第７の実施形態では、フィルタリング処理に際して、フィルタサイズが異なる複数の平滑化フィルタを使用する。
これにより、局所的な範囲、中程度の範囲、及び、広域の範囲の各々のいずれにおいても疎の度合いが高いと判定され得る候補点、言い換えれば、局所的な範囲、中程度の範囲、及び、広域の範囲の各々のいずれにおいても分散性が高く、規則性が生じにくい候補点を選ぶことができる。このことは、バンディングの抑制に貢献する。
これにより、局所的な範囲、中程度の範囲、及び、広域の範囲の各々のいずれにおいても疎の度合いが高いと判定され得る候補点、言い換えれば、局所的な範囲、中程度の範囲、及び、広域の範囲の各々のいずれにおいても分散性が高く、規則性が生じにくい候補点を選ぶことができる。このことは、バンディングの抑制に貢献する。
【0256】
第８の実施形態において、パスマスクの生成方法は、印刷ヘッドとメディアとを、主走査方向、及び前記主走査方向に直交する副走査方向に、相対的に移動させながら、マルチパス方式によって前記メディアに所望の印刷を行うと共に、前記印刷ヘッドは、副走査方向に配列された、インクを吐出する所定数のノズルを含むノズル列を有し、各色のインクの各パス毎にパスマスクを設け、各パスマスクに設定されるインク吐出可能画素によって各色のインクの吐出位置を特定するインクジェットプリンタにおける、前記パスマスクの生成方法であって、（１）同一色のインクについての、複数のパス毎に設定される各パスマスクは、その各パスマスクを重ねると、その重なりに対応する範囲内のすべての画素がインク吐出可能画素となるという補完関係を前提とすることなく設計される、という基本方針の下で所定の領域を印刷するのに必要なパス数を含む印刷条件を設定するステップと、（２）各パスマスクに対して、副走査方向に、第１色～第ｍ色（ｍは２以上の自然数）の各色成分の濃度分布を設定するステップと、（３）前記ノズル列の前記所定数のノズルが対応付けされ、前記濃度分布が設定される第１のマスクパターンの設計の場において、各パスマスクにおいて、インク吐出可能画素の一次候補点を設定し、各一次候補点について、疎／密の評価値を算出し、その疎／密の評価値を用いて、疎の度合いが上位の二次候補点を抽出するステップと、（４）各色成分の二次元的な広がりを示すデータ構造をプレーンと称し、前記（１）のステップにて設定されたパス数をｊ（ｊは２以上の自然数）とする場合において、各色のプレーンにおける１パス目～ｊパス目に対応する前記二次候補点を、プレーン毎に設けられる第２のマスクパターン設計のための場に集約し、前記第２のマスクパターン設計の場における各二次候補点の疎／密の評価値を用いて、疎の度合いが高い点を、各プレーンにおけるプレーン候補点として抽出するステップと、（５）前記各プレーンにおけるプレーン候補点を、各プレーンを統合した第３のマスクパターンの設計の場において集約し、前記第３のマスクパターンの設計の場における各プレーン候補点の疎／密の評価値を用いて、疎の度合いが最も高い点をインク吐出可能画素として特定するステップと、（６）前記（５）において特定されたインク吐出可能画素が、前記（３）における前記第１のマスクパターンの設計の場において、どのプレーンの、何パス目のパスマスクにおける、どの箇所に該当するかを特定し、その特定の際、該当する箇所が複数ある場合は、予め定められた所定条件に従って、該当箇所の一つを特定し、その特定されたインク吐出可能画素に関する情報を記憶するステップと、（７）前記（２）～（６）に記載される各処理を、各プレーンの、各パスに対応した各パスマスクにおける、必要なすべてのインク吐出可能画素が特定されるまで繰り返すと共に、前記（３）のステップを実施するに際しては、既にインク吐出可能画素が設定されたパスマスクについては、その設定されたインク吐出可能画素を除いて、必要な数の前記一次候補点を設定し、（８）前記（２）～（７）に記載される各処理の繰り返しが終了すると、記憶されているインク吐出可能画素に関する情報に基づいて、各色の各パスマスクにおけるマスクパターンを決定するステップと、を含む。
【0257】
第８の実施形態によれば、所定の濃度分布に従うマスクパターンであって、各色のプレーンにおいてバンディングが抑制され得る分散性を備え、かつ異なる色のプレーンが統合された場合においてもバンディングが抑制され得る分散性を備える、各色の各パスのパスマスクを、補完関係を前提とすることなく、より自由な条件の下で設計することが可能である。これによって、マルチパス方式の印刷技術における現状の限界を破って、画質や印刷速度の、さらなる向上を実現することができる。
【0258】
第８の実施形態に従属する第９の実施形態では、前記（３）、（４）、（５）の各処理において、各色の各パスマスクの何れにおいても、インク吐出可能画素が一点も設定されていない場合には、各点にランダムな評価値を付与することで、疎密の評価値に実質的な差異を生じさせてもよい。
【0259】
第９の実施形態によれば、確定したドットが一つもない状態においても、評価値による候補点の順位付けが可能となる。
【0260】
第８の実施形態に従属する第１０の実施形態では、前記（３）、（４）、（５）の各処理において、各色の各パスマスクの何れかにおいて、インク吐出可能画素が少なくとも一点、設定されている場合には、平滑化フィルタを用いたフィルタリングの結果を用いて、疎／密の評価値を算出してもよい。
【0261】
フィルタリングによるぼかし処理の後、輝度値の変化が大きいドットほど、注目画素から受ける影響が大きく、密の程度が高いと判定され、輝度値の変化が小さいドットほど、注目画素から受ける影響が小さく、疎の程度が高いと判定され得る。よって、フィルタリング後の輝度値の変化に着目して評価値を算出することで、その評価値を用いて、疎の度合いが高いドットを特定することができる。
【0262】
第８の実施形態に従属する第１１の実施形態では、前記（４）、（５）の各処理において、１つの点が、重複して抽出されている場合には、その重複回数に応じて、その点における疎／密の評価値を重み付けしてもよい。
【0263】
第１１の実施形態では、抽出回数による重み付けが実施される。これによって、複数回の抽出がなされている点（ドット）は、より有力な候補点であると判定することが可能となる。
【0264】
第１０の実施形態に従属する第１２の実施形態では、前記平滑化フィルタを用いたフィルタリングの結果を用いて、疎／密の評価値を算出する処理は、既に設定されたインク吐出可能画素を含む仮のマスクパターンに対して、フィルタサイズが異なる複数の平滑化フィルタを用いてフィルタ処理を実施するステップと、フィルタ処理の結果毎に、疎／密の程度を示す一次評価値を求めるステップと、前記一次評価値に基づいて、総合的な疎／密の程度を示す総合評価値を算出し、算出された総合評価値を、前記疎／密の評価値とするステップと、を含んでもよい。
【0265】
第１２の実施形態では、フィルタリング処理に際して、フィルタサイズが異なる複数の平滑化フィルタを使用する。
これにより、局所的な範囲、中程度の範囲、及び、広域の範囲の各々のいずれにおいても疎の度合いが高いと判定され得る候補点、言い換えれば、局所的な範囲、中程度の範囲、及び、広域の範囲の各々のいずれにおいても分散性が高く、規則性が生じにくい候補点を選ぶことができる。このことは、バンディングの抑制に貢献する。
これにより、局所的な範囲、中程度の範囲、及び、広域の範囲の各々のいずれにおいても疎の度合いが高いと判定され得る候補点、言い換えれば、局所的な範囲、中程度の範囲、及び、広域の範囲の各々のいずれにおいても分散性が高く、規則性が生じにくい候補点を選ぶことができる。このことは、バンディングの抑制に貢献する。
【0266】
第１３の実施形態において、マルチパス方式の印刷方法は、第３乃至第１２の何れか１つの実施形態に記載のパスマスクの生成方法により生成された、パスマスクを用いて印刷データを生成し、生成された印刷データに基づいて、メディアに印刷を実施する。
【0267】
これにより、現状の技術の限界を破って、画質や印刷速度がさらに向上されたマルチパス方式の印刷方法が実現される。
【0268】
以上、説明したように、本発明によれば、マルチパス方式の印刷技術における現状の限界を破って、画質や印刷速度の、さらなる向上を実現することができる。
【0269】
本発明は、上述の例示的な実施形態に限定されず、また、当業者は、上述の例示的な実施形態を特許請求の範囲に含まれる範囲まで、容易に変更することができるであろう。
【符号の説明】
【0270】
３（３ａ～３ｄ）・・・ノズル、１０・・・コンピュータ本体、２０・・・モニタ、２１・・・パスマスク生成装置、２２・・・パスマスク生成部、２４・・・濃度分布に対応した各プレーンの一次候補点の生成部、２５・・・確定したドットが無い場合の評価値算出部（ランダムに順位付け）、２６・・一次候補点の評価値（ボイド値）算出部、２７・・・確定したドットが有る場合の評価値算出部（複数の平滑化フィルタを用いて評価値算出）、２８・・・評価値に基づく二次候補点の抽出部、２９・・・二次候補点の集約、及び評価値に基づくプレーン候補点の生成部、３１・・・プレーン統合フィールドにおける各プレーン候補点の集約部、３２・・・操作部、３３・・・評価値に基づく、最も疎の画素（ドット位置）の決定部、３４・・・入力装置、３５・・・情報取得部、３６・・・パスマスク取得部、３７・・・ドット位置記憶部、３８・・・パスマスク作成部、３９・・・パスマスク記憶部、４２、４３・・・フォルダ、５０・・・制御部（プロセッサ）、５１・・・プログラム記憶部、６０・・・第１のプレーンのノズルマスクフィールド、６１・・・第２のプレーンのノズルマスクフィールド、６３・・・第１のプレーンのプレーンフィールド、６５・・・第２のプレーンのプレーンフィールド、６７・・・第ｍのプレーンのプレーンフィールド、６９・・・プレーン統合フィールド、７０・・・メディア、７２・・・印刷画像、８０・・・評価値算出装置、８１・・・ドットパターン取得部、８３・・・フィルタリングによる評価値算出部、１００・・・インクジェットプリンタ（印刷装置）、１１０・・・制御部、１１１・・・マルチパス印刷制御部、１１２・・・マスク記憶部、１１３・・・各色用の、各パス毎のパスマスク、１１５・・・印刷処理部、１１７・・・印刷データ生成部、１１８・・・搬送処理部、１１９・・・キャリッジ駆動処理部、１２７・・・画像Ａのデータ、１３０・・・印刷ヘッド（記録ヘッド）、１３２・・・搬送モータ、１３４・・・キャリッジモータ、１３６・・・エンコーダ、１５０・・・印刷システム、３０２・・・フィルタ部、３０４・・・フィルタ選択部、３０６・・・疎／密の評価値算出部、３０８・・・疎／密の総合評価値算出部、ＮＣ１、ＮＣ２、ＮＭ１、ＮＭ２、ＮＹ１、ＮＹ２、ＮＫ１、ＮＫ２・・・ノズル列、ＰＭ１～ＰＭ４・・・パスマスク（１パス目～４パス目のパスマスク）、ＲＳ・・・４パス（１パス目～４パス目）でカバーされるマスクパターンの範囲、
ＲＳ’・・・４パス（５パス目～８パス目）でカバーされるマスクパターンの範囲、ＤＴ・・・ドット（画素）、ＤＰ１～ＤＰ４・・・マスクパターン（ドットパターン）、Ｑ１～Ｑ４・・・濃度分布を示す特性線、濃度カーブ。
ＲＳ’・・・４パス（５パス目～８パス目）でカバーされるマスクパターンの範囲、ＤＴ・・・ドット（画素）、ＤＰ１～ＤＰ４・・・マスクパターン（ドットパターン）、Ｑ１～Ｑ４・・・濃度分布を示す特性線、濃度カーブ。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】