(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024086587
(43)【公開日】2024-06-27
(54)【発明の名称】積層型電子部品
(51)【国際特許分類】
H01G 4/30 20060101AFI20240620BHJP
【FI】
H01G4/30 513
H01G4/30 516
H01G4/30 201F
H01G4/30 201G
【審査請求】未請求
【請求項の数】21
【出願形態】OL
(21)【出願番号】P 2023186543
(22)【出願日】2023-10-31
(31)【優先権主張番号】10-2022-0176785
(32)【優先日】2022-12-16
(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR
(71)【出願人】
【識別番号】594023722
【氏名又は名称】サムソン エレクトロ-メカニックス カンパニーリミテッド.
(74)【代理人】
【識別番号】100108453
【弁理士】
【氏名又は名称】村山 靖彦
(74)【代理人】
【識別番号】100110364
【弁理士】
【氏名又は名称】実広 信哉
(72)【発明者】
【氏名】朴 廷原
(72)【発明者】
【氏名】崔 亨綜
(72)【発明者】
【氏名】安 昭貞
(72)【発明者】
【氏名】李 有▲浄▼
(72)【発明者】
【氏名】元 光淵
(72)【発明者】
【氏名】成 佑慶
(72)【発明者】
【氏名】全 炳俊
(72)【発明者】
【氏名】李 哲承
【テーマコード(参考)】
5E001
5E082
【Fターム(参考)】
5E001AB03
5E001AE02
5E001AE03
5E001AF03
5E001AF06
5E001AH07
5E001AH09
5E082AA01
5E082AB03
5E082BC19
5E082BC35
5E082EE04
5E082FF05
5E082FG04
5E082FG26
5E082GG10
5E082GG11
(57)【要約】
【課題】高温多湿な環境における絶縁抵抗の劣化を抑制し、層間接着力の劣化による耐湿信頼性の低下を抑制することができる積層型電子部品を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態による積層型電子部品は、誘電体層、及び上記誘電体層と交互に配置される内部電極を含む本体と、上記本体上に配置される外部電極と、を含み、上記外部電極は、上記内部電極と連結されCuを含む第1電極層、上記第1電極層上に部分的に配置されNiを含む第2電極層、上記第1電極層のうち第2電極層が配置されていない領域及び上記第2電極層上に配置され金属酸化物を含む中間層、及び上記中間層上に配置されNiを含む第1めっき層を含む。
【選択図】
図5
【特許請求の範囲】
【請求項1】
誘電体層、及び前記誘電体層と交互に配置される内部電極を含む本体と、
前記本体上に配置される外部電極と、を含み、
前記外部電極は、前記内部電極と連結されCuを含む第1電極層、前記第1電極層上に部分的に配置されNiを含む第2電極層、前記第1電極層のうち前記第2電極層が配置されていない領域及び前記第2電極層上に配置され金属酸化物を含む中間層、及び前記中間層上に配置されNiを含む第1めっき層を含む、積層型電子部品。
【請求項2】
前記中間層に含まれる金属酸化物は、Cuを含む酸化物及びNiを含む酸化物のうち1つ以上を含む、請求項1に記載の積層型電子部品。
【請求項3】
前記Cuを含む酸化物は、CuO、Cu2O及びCu3O4のうち1つ以上であり、前記Niを含む酸化物はNiOである、請求項2に記載の積層型電子部品。
【請求項4】
前記中間層は、前記第2電極層が配置されていない第1電極層上に配置された領域でCuを含む酸化物を含み、前記第2電極層上に配置された領域でNiを含む酸化物を含む、請求項1に記載の積層型電子部品。
【請求項5】
前記第2電極層は多孔性である、請求項1に記載の積層型電子部品。
【請求項6】
前記中間層は、前記第1電極層及び前記第2電極層上に部分的に配置される、請求項1に記載の積層型電子部品。
【請求項7】
前記第1電極層はガラスをさらに含む、請求項1に記載の積層型電子部品。
【請求項8】
前記中間層は、前記第1電極層に含まれた金属を含む酸化物及び前記第2電極層に含まれた金属を含む酸化物を含む、請求項1に記載の積層型電子部品。
【請求項9】
前記第1電極層の平均厚さは2μm以上である、請求項1に記載の積層型電子部品。
【請求項10】
前記外部電極は、前記第1めっき層上に配置されSnを含む第2めっき層をさらに含む、請求項1に記載の積層型電子部品。
【請求項11】
前記第2電極層はガラスを含まない、請求項1に記載の積層型電子部品。
【請求項12】
誘電体層、及び前記誘電体層と交互に配置される内部電極を含む本体と、
前記本体上に配置される外部電極と、を含み、
前記外部電極は、前記内部電極と連結されCuを含む第1電極層、前記第1電極層上に配置されNiを含む第2電極層、前記第2電極層上に配置され金属酸化物を含む中間層、及び前記中間層上に配置されNiを含む第1めっき層を含み、
前記第2電極層は、前記第2電極層を貫通する複数の開口部を含み、
前記中間層は、前記第2電極層及び前記複数の開口部上に配置される、積層型電子部品。
【請求項13】
前記中間層に含まれる金属酸化物は、Cuを含む酸化物及びNiを含む酸化物のうち1つ以上を含む請求項12に記載の積層型電子部品。
【請求項14】
前記Cuを含む酸化物は、CuO、Cu2O及びCu3O4のうち1つ以上であり、前記Niを含む酸化物はNiOである、請求項13に記載の積層型電子部品。
【請求項15】
前記中間層は、前記複数の開口部上の領域でCuを含む酸化物を含み、前記第2電極層上の領域でNiを含む酸化物を含む、請求項12に記載の積層型電子部品。
【請求項16】
前記中間層は、前記複数の開口部及び前記第2電極層上に部分的に配置される、請求項12に記載の積層型電子部品。
【請求項17】
前記第1電極層はガラスをさらに含む、請求項12に記載の積層型電子部品。
【請求項18】
前記中間層は、前記第1電極層に含まれた金属を含む酸化物及び前記第2電極層に含まれた金属を含む酸化物を含む、請求項12に記載の積層型電子部品。
【請求項19】
前記第1電極層の平均厚さは2μm以上である、請求項12に記載の積層型電子部品。
【請求項20】
前記外部電極は、前記第1めっき層上に配置されSnを含む第2めっき層をさらに含む、請求項12に記載の積層型電子部品。
【請求項21】
前記第2電極層はガラスを含まない、請求項12に記載の積層型電子部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、積層型電子部品に関するものである。
【背景技術】
【0002】
積層型電子部品の一つである積層セラミックキャパシタ(MLCC:Multi-Layered Ceramic Capacitor)は、液晶表示装置(LCD:Liquid Crystal Display)及びプラズマ表示装置パネル(PDP:Plasma Display Panel)などの映像機器、コンピュータ、スマートフォン及び携帯電話などの様々な電子製品のプリント回路基板に装着されて電気を充電又は放電させる役割を果たすチップ型のコンデンサである。
【0003】
このような積層セラミックキャパシタは、小型でありながら高容量が保障され、実装が容易であるという長所により、様々な電子装置の部品として使用することができる。コンピュータ、モバイル機器などの各種の電子機器が小型化、高出力化されるにつれて、積層セラミックキャパシタに対する小型化及び高容量化の要求が増大しつつある。
【0004】
また、近年、自動車用の電装部品に対する業界の関心が高まるにつれて、積層セラミックキャパシタもまた、自動車或いはインフォテインメントシステムに使用されるための高信頼性の特性が求められている。
【0005】
積層型電子部品の耐湿信頼性を向上させるための一つの方法として、Cuベースの外部電極の緻密度を高くするか、厚さを厚くする方法がある。しかし、積層型電子部品の小型化及び高容量化が求められる場合、外部電極の厚さを制御して耐湿信頼性を向上させることには限界がある。
【0006】
積層型電子部品の耐湿信頼性を向上させるためのもう一つの方法として、外部電極のめっき層を全て形成した後、熱処理工程を通じて残存する水素を除去する方法がある。しかし、外部電極の焼成、めっき層の形成などの工程を経るにつれて、外部電極の層間には金属酸化物を含む層が形成されることがあり、このような酸化物層は、外部電極の層間接着力を低下させる原因となる可能性がある。
【0007】
従って、外部電極の層間に金属酸化物を含む層が形成される場合にも、層間接着力の低下を抑制することができる外部電極の構造に対する開発が必要な実情である。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
本発明の様々な目的の一つは、高温多湿な環境における、積層型電子部品の絶縁抵抗(IR)の劣化を抑制することである。
【0009】
本発明の様々な目的の一つは、外部電極の多層構造における、電極層間の酸化物形成による層間接着力の劣化に伴う積層型電子部品の耐湿信頼性の低下を抑制することである。
【0010】
但し、本発明の目的は上述した内容に限定されず、本発明の具体的な実施形態を説明する過程でより容易に理解することができる。
【課題を解決するための手段】
【0011】
本発明の一実施形態による積層型電子部品は、誘電体層、及び上記誘電体層と交互に配置される内部電極を含む本体と、上記本体上に配置される外部電極と、を含み、上記外部電極は、上記内部電極と連結されCuを含む第1電極層、上記第1電極層上に部分的に配置されNiを含む第2電極層、上記第1電極層のうち第2電極層が配置されていない領域及び上記第2電極層上に配置され金属酸化物を含む中間層、及び上記中間層上に配置されNiを含む第1めっき層を含む。
【0012】
本発明の一実施形態による積層型電子部品100の他の側面は、誘電体層、及び上記誘電体層と交互に配置される内部電極を含む本体と、上記本体上に配置される外部電極と、を含み、上記外部電極は、上記内部電極と連結されCuを含む第1電極層、上記第1電極層上に配置されNiを含む第2電極層、上記第2電極層上に配置され金属酸化物を含む中間層、及び上記中間層上に配置されNiを含む第1めっき層を含み、上記第2電極層は、上記第2電極層を貫通する複数の開口部を含み、上記中間層は、上記第2電極層及び上記複数の開口部上に配置される。
【発明の効果】
【0013】
本発明の様々な効果の一つとして、外部電極の電極層上にめっき層を形成し、水素を除去する過程で層間酸化物層が形成されても、電極層の形状又は酸化物層の成分を調節することにより、層間接着力を向上させることができる。
【0014】
本発明の様々な効果の一つとして、外部電極の層間接着力を向上させることにより、積層型電子部品の絶縁抵抗の劣化を抑制し、耐湿信頼性を向上させることができる。
【0015】
但し、本発明の多様且つ有益な利点と効果は上述した内容に限定されず、本発明の具体的な実施形態を説明する過程でより容易に理解することができる。
【図面の簡単な説明】
【0016】
【
図1】本発明の一実施形態による積層型電子部品を概略的に示した斜視図である。
【
図4】本発明の一実施例による積層型電子部品の本体を分解して示した分解斜視図である。
【
図7】一実施例において、
図5のB領域に対応するB’領域の拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【0017】
以下、具体的な実施形態及び添付の図面を参照して、本発明の実施形態を説明する。しかし、本発明の実施形態は、いくつかの他の形態に変形することができ、本発明の範囲が以下説明する実施形態に限定されるものではない。また、本発明の実施形態は、通常の技術者に本発明をより完全に説明するために提供されるものである。従って、図面における要素の形状及び大きさなどはより明確な説明のために拡大縮小表示(又は強調表示や簡略化表示)がされることがあり、図面上の同一符号で示される要素は同一要素である。
【0018】
尚、図面において本発明を明確に説明するために説明と関係のない部分は省略し、図示した各構成の大きさ及び厚さは、説明の便宜のために任意で示したものであるため、本発明は必ずしも図示により限定されるものではない。また、同一の思想の範囲内の機能が同一である構成要素は、同一の参照符号を用いて説明することができる。さらに、明細書全体において、ある部分がある構成要素を「含む」というのは、特に反対される記載がない限り、他の構成要素を除外するのではなく、他の構成要素をさらに含むことができることを意味する。
【0019】
図面において、第1方向は積層方向又は厚さ(T)方向、第2方向は長さ(L)方向、第3方向は幅(W)方向と定義されることができる。
【0020】
図1は、本発明の一実施形態による積層型電子部品を概略的に示した斜視図であり、
図2は、
図1の本体を概略的に示した斜視図であり、
図3は、
図1のI-I’線に沿った断面図であり、
図4は、本発明の一実施例による積層型電子部品の本体を分解して示した分解斜視図であり、
図5は、
図3のA領域の拡大図であり、
図6は、
図5のB領域の拡大図であり、
図7は、一実施例において、
図5のB領域に対応するB’領域の拡大図である。
【0021】
以下では、
図1~
図7を参照して、本発明の一実施形態による積層型電子部品100、本発明の一実施形態による積層型電子部品100の他の側面、及びこれらの様々な実施例について詳細に説明する。
【0022】
本発明の一実施形態による積層型電子部品100は、誘電体層111、及び誘電体層111と交互に配置される内部電極121、122を含む本体110と、本体110上に配置される外部電極130、140とを含み、外部電極130、140は、内部電極と連結されCuを含む第1電極層131、第1電極層131上に部分的に配置されNiを含む第2電極層132、第1電極層131のうち第2電極層132が配置されていない領域及び第2電極層上に配置され金属酸化物を含む中間層133、及び中間層133上に配置されNiを含む第1めっき層134を含む。
【0023】
本体110は、誘電体層111、及び誘電体層111と交互に配置される内部電極121、122を含む。本体110は、誘電体層111及び内部電極121、122が交互に積層されていてもよく、上記積層されている方向を第1方向と見なすことができる。
【0024】
本体110の具体的な形状に特に制限はないが、図示のように、本体110は六面体形状やこれと類似の形状からなることができる。焼成過程における本体110に含まれたセラミック粉末の収縮により、本体110は完全な直線を有した六面体形状ではないが、実質的に六面体形状を有することができる。
【0025】
図2を参照すると、本体110は、第1方向に互いに対向する第1面及び第2面1、2、上記第1面及び第2面1、2と連結され第2方向に互いに対向する第3面及び第4面3、4、第1面及び第2面1、2と連結され、第3面及び第4面3、4と連結され、第3方向に互いに対向する第5面及び第6面5、6を有することができる。
【0026】
本体110を形成する複数の誘電体層111は焼成された状態であって、隣接する誘電体層111間の境界は、走査電子顕微鏡(SEM:Scanning Electron Microscope)を用いずには確認することが困難なほど一体化されることができる。
【0027】
誘電体層111を形成する原料は、十分な静電容量が得られる限り特に制限されない。例えば、チタン酸バリウム系材料、鉛複合ペロブスカイト系材料又はチタン酸ストロンチウム系材料などを使用することができる。上記チタン酸バリウム系材料は、BaTiO3系セラミック粉末を含むことができ、上記セラミック粉末の例として、BaTiO3、BaTiO3にCa(カルシウム)、Zr(ジルコニウム)などが一部固溶された(Ba1-xCax)TiO3(0<x<1)、Ba(Ti1-yCay)O3(0<y<1)、(Ba1-xCax)(Ti1-yZry)O3(0<x<1、0<y<1)又はBa(Ti1-yZry)O3(0<y<1)などが挙げられる。
【0028】
また、誘電体層111を形成する原料は、チタン酸バリウム(BaTiO3)などのパウダーに、本発明の目的に応じて様々なセラミック添加剤、有機溶剤、結合剤、分散剤などが添加されてもよい。
【0029】
一方、誘電体層111の平均厚さtdは、特に限定する必要はない。但し、一般的に誘電体層を0.6μm未満の平均厚さに薄く形成する場合、特に誘電体層の平均厚さtdが0.35μm以下である場合のように積層型電子部品を小型化するとき、外部電極130の厚さの制御を通じて積層型電子部品100の耐湿信頼性を向上させることは困難である。
【0030】
本発明の一実施形態によると、Cuを含む第1電極層131上に部分的に配置されNiを含む第2電極層132が配置され、第1電極層131のうち第2電極層132が配置されていない領域及び第2電極層132上に金属酸化物を含む中間層133が配置され、中間層133上にNiを含む第1めっき層134が配置されるため、誘電体層の平均厚さtdが0.35μm以下である場合にも、優れた信頼性を確保することができる。
【0031】
従って、誘電体層の平均厚さtdが0.35μm以下である場合に、本発明による効果がさらに顕著となり、積層型電子部品の小型化及び高容量化をより容易に達成することができる。
【0032】
誘電体層111の平均厚さtdは、上記第1内部電極及び第2内部電極121、122の間に配置される誘電体層111の平均厚さを意味することができる。
【0033】
誘電体層111の平均厚さは、本体110の長さ及び厚さ方向(L-T)の断面を1万倍率の走査電子顕微鏡(SEM、Scanning Electron Microscope)でイメージをスキャンして測定することができる。より具体的に、スキャンされたイメージにおいて、1つの誘電体層を長さ方向に等間隔の30箇所でその厚さを測定して平均値を測定することができる。上記等間隔の30箇所は容量形成部Acで指定されることができる。また、このような平均値の測定を10個の誘電体層に拡張して平均値を測定すると、誘電体層の平均厚さをさらに一般化することができる。
【0034】
図3を参照すると、本体110は、本体110の内部に配置され、誘電体層111を挟んで互いに対向するように配置される第1内部電極121及び第2内部電極122を含んで容量が形成される容量形成部Acと、上記容量形成部Acの上部及び下部に形成されたカバー部112、113を含むことができる。
【0035】
また、容量形成部Acは、キャパシタの容量形成に寄与する部分であって、誘電体層111を挟んで複数の第1内部電極及び第2内部電極121、122を繰り返し積層して形成することができる。
【0036】
上部カバー部112及び下部カバー部113は、単一の誘電体層又は2つ以上の誘電体層を容量形成部Acの上下面にそれぞれ厚さ方向に積層して形成することができ、基本的に物理的又は化学的ストレスによる内部電極の損傷を防止する役割を果たすことができる。
【0037】
上部カバー部112及び下部カバー部113は、内部電極を含まず、誘電体層111と同一の材料を含むことができる。すなわち、上部カバー部112及び下部カバー部113はセラミック材料を含むことができ、例えば、チタン酸バリウム(BaTiO3)系セラミック材料を含むことができる。
【0038】
カバー部112、113の平均厚さtcは、特に限定する必要はない。但し、積層型電子部品の小型化及び高容量化をより容易に達成するために、カバー部112、113の平均厚さtcは20μm以下であることができる。また、本発明の一実施形態によると、Cuを含む第1電極層131上に部分的に配置されNiを含む第2電極層132が配置され、第1電極層131のうち第2電極層132が配置されていない領域及び第2電極層132上に金属酸化物を含む中間層133が配置され、中間層133上にNiを含む第1めっき層134が配置されるため、カバー部112、113の平均厚さtcが20μm以下である場合にも、優れた信頼性を確保することができる。
【0039】
カバー部112、113の平均厚さtcは、第1方向の大きさを意味することができ、容量形成部Acの上部又は下部において、等間隔の5箇所で測定したカバー部112、113の第1方向の大きさを平均した値であることができる。
【0040】
図2を参照すると、容量形成部Acの第3方向の一面及び他面にはマージン部114、115が配置されることができる。
【0041】
マージン部114、115は、本体110の第5面5に配置されたマージン部114と、第6面6に配置されたマージン部115とを含む。すなわち、マージン部114、115は、上記セラミック本体110の幅方向の両側面に配置されることができる。
【0042】
マージン部114、115は、
図2に示されているように、上記本体110を幅-厚さ(W-T)方向に切断した断面において、第1内部電極及び第2内部電極121、122の両端と本体110の境界面との間の領域を意味することができる。
【0043】
マージン部114、115は、基本的に物理的又は化学的ストレスによる内部電極の損傷を防止する役割を果たすことができる。
【0044】
マージン部114、115は、セラミックグリーンシート上にマージン部が形成されるところを除いて、導電性ペーストを塗布して内部電極を形成することで形成されたものであることができる。
【0045】
また、内部電極121、122による段差を抑制するために、積層後、内部電極が本体の第5面及び第6面5、6に露出されるように切断した後、単一の誘電体層又は2つ以上の誘電体層を容量形成部Acの両側面に幅方向に積層して、マージン部114、115を形成することもできる。
【0046】
一方、マージン部114、115の幅は、特に限定する必要はない。但し、積層型電子部品の小型化及び高容量化をより容易に達成するために、マージン部114、115の平均幅は15μm以下であることができる。
【0047】
マージン部114、115の平均幅は、マージン部114、115の第3方向の平均大きさを意味することができ、容量形成部Acの側面において、等間隔の5箇所で測定したマージン部114、115の第3方向の大きさを平均した値であることができる。
【0048】
内部電極121、122は、誘電体層111と交互に配置される。
【0049】
内部電極121、122は、第1内部電極及び第2内部電極121、122を含むことができる。第1内部電極及び第2内部電極121、122は、本体110を構成する誘電体層111を挟んで互いに対向するように交互に配置され、本体110の第3面及び第4面3、4にそれぞれ露出されることができる。
【0050】
図3を参照すると、第1内部電極121は、第4面4と離隔して第3面3を介して露出され、第2内部電極122は、第3面3と離隔して第4面4を介して露出されることができる。
【0051】
このとき、第1内部電極及び第2内部電極121、122は、中間に配置された誘電体層111によって、互いに電気的に分離されることができる。
【0052】
図4を参照すると、本体110は、第1内部電極121が印刷されたセラミックグリーンシートと、第2内部電極122が印刷されたセラミックグリーンシートを交互に積層した後、焼成して形成することができる。
【0053】
内部電極121、122を形成する材料は特に制限されず、電気伝導性に優れた材料を使用することができる。例えば、内部電極121、122は、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、パラジウム(Pd)、銀(Ag)、金(Au)、白金(Pt)、スズ(Sn)、タングステン(W)、チタン(Ti)及びこれらの合金のうち1つ以上を含むことができる。
【0054】
また、内部電極121、122は、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、パラジウム(Pd)、銀(Ag)、金(Au)、白金(Pt)、スズ(Sn)、タングステン(W)、チタン(Ti)及びこれらの合金のうち1つ以上を含む内部電極用の導電性ペーストをセラミックグリーンシートに印刷して形成することができる。上記内部電極用の導電性ペーストの印刷方法は、スクリーン印刷法又はグラビア印刷法などを用いることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【0055】
一方、内部電極121、122の平均厚さteは、特に限定する必要はない。但し、一般的に内部電極を0.6μm未満の厚さに薄く形成する場合、特に内部電極の厚さが0.35μm以下である場合のように、積層型電子部品を小型化するとき、外部電極130の厚さの制御を通じて積層型電子部品100の耐湿信頼性を向上させることは困難である。
【0056】
本発明の一実施形態によると、Cuを含む第1電極層131上に部分的に配置されNiを含む第2電極層132が配置され、第1電極層131のうち第2電極層132が配置されていない領域及び第2電極層132上に金属酸化物を含む中間層133が配置され、中間層133上にNiを含む第1めっき層134が配置されるため、内部電極121、122の平均厚さが0.35μm以下である場合にも、優れた信頼性を確保することができる。
【0057】
従って、内部電極121、122の平均厚さが0.35μm以下である場合に、本発明による効果がさらに顕著となり、積層型電子部品の小型化及び高容量化をより容易に達成することができる。
【0058】
内部電極121、122の平均厚さteは、内部電極121、122の平均厚さを意味することができる。
【0059】
内部電極121、122の平均厚さは、本体110の長さ及び厚さ方向(L-T)の断面を1万倍率の走査電子顕微鏡(SEM、Scanning Electron Microscope)でイメージをスキャンして測定することができる。より具体的に、スキャンされたイメージにおいて、1つの内部電極を長さ方向に等間隔の30箇所でその厚さを測定して平均値を測定することができる。上記等間隔の30箇所は容量形成部Acで指定されることができる。また、このような平均値の測定を10個の内部電極に拡張して平均値を測定すると、内部電極の平均厚さをさらに一般化することができる。
【0060】
本体110上には、外部電極130、140が配置される。
【0061】
外部電極130、140は、本体110の第3面3に接する第1外部電極130及び第4面4に接する第2外部電極140を含むことができる。
【0062】
以下では、第1外部電極130を基準として、外部電極130、140の構造について説明する。第1外部電極130についての説明は、第2外部電極140にも同様に適用されることができる。
【0063】
積層セラミックキャパシタのような積層型電子部品は、高温多湿な環境において、絶縁抵抗(IR、Insulation Resistance)が劣化する恐れがある。これを改善するためには、水分又は水素といった劣化の原因物質が積層型電子部品100の本体110に浸透するのを遅らせるか又は防ぐ必要がある。
【0064】
従来の場合、絶縁抵抗の劣化を防止するために、Cuを主成分とする外部電極を緻密に形成するか、外部電極の厚さを厚くする方式を用いていた。しかし、積層型電子部品の小型化・高容量化により、Cuを主成分とする外部電極の厚さ制御を通じて絶縁抵抗の劣化を防止する方式には限界がある。
【0065】
一方、積層型電子部品の耐湿信頼性を向上させるためのもう一つの方法として、外部電極のめっき層を全て形成した後、熱処理工程を通じて残存する水素を除去する方法がある。しかし、外部電極の焼成、めっき層の形成などの工程を経るにつれて、外部電極の層間には金属酸化物を含む層が形成されることがあり、このような酸化物層は、外部電極の層間接着力を低下させる原因となる可能性がある。
【0066】
本発明の一実施形態では、内部電極と連結されCuを含む第1電極層131上に部分的に配置されるNiを含む第2電極層132を配置することで、第1電極層131上にNiを含む第1めっき層134を形成することによって、第1電極層131のうち第2電極層132が配置されていない領域及び第2電極層132上に金属酸化物を含む中間層が形成される場合にも、外部電極130の層間接着力を確保することができる。これにより、積層型電子部品100の外部電極130の密閉性を確保することができ、積層型電子部品100の耐湿信頼性を向上させることができる。
【0067】
図5及び
図6を参照すると、外部電極130は、内部電極121と連結されCuを含む第1電極層131を含む。
【0068】
第1電極層131は、導電性金属であるCuを含み、内部電極121と連結されることにより、外部電極130を内部電極121と電気的に連結する役割を果たすことができる。第1電極層131は、Cu以外の導電性金属元素及び合金のうち1つ以上をさらに含むことができる。具体的に、第1電極層は、Cuの他にも、Ni、Pd、Cr及びこれらの合金のうち1つ以上を含むことができる。
【0069】
第1電極層131を形成する方法は特に制限されない。第1電極層131は、Cu粒子とガラスを含む導電性ペーストを本体110の第3面3及び第4面4に塗布し、乾燥及び焼成過程を経て形成することができるが、これに制限されるものではなく、Cuを、本体110の第3面3及び第4面4に電解めっき又は無電解めっきすることによって形成してもよい。
【0070】
外部電極130は、第1電極層131のうち第2電極層132が配置されていない領域及び第2電極層132上に配置され金属酸化物を含む中間層133を含む。中間層133は、第1電極層131のうち第2電極層132が配置されていない領域及び第2電極層132上にNiを含む第1めっき層134を形成する過程、第1めっき層を形成した後、水素を除去するために熱処理する過程、又は第2電極層132を形成する過程において、第1電極層131又は第2電極層132に含まれた導電性金属が酸化して形成されたものであることができる。
【0071】
外部電極130は、中間層133上に配置されNiを含む第1めっき層134を含む。第1めっき層134は、Niを含むことにより、積層型電子部品の密閉性を向上させる役割を果たすことができる。従って、第1めっき層134は、ガラスを含まないめっき層であることが好ましいが、これに制限されるものではない。第1めっき層134を形成する方法は特に制限されず、電解めっき、無電解めっきなどの様々なめっき法を用いて形成することができる。
【0072】
外部電極130は、第1電極層131上に部分的に配置されNiを含む第2電極層132を含む。第2電極層132は、第1電極層131上に部分的に配置されることで、第1めっき層134を形成する過程で発生する金属酸化物を含む中間層133が、第1電極層131のうち第2電極層132が配置されていない領域及び第2電極層132上に形成される場合にも、外部電極130の層間接着力を確保することができる。第2電極層132が第1電極層131上に「部分的に配置」されるとは、第2電極層132が第1電極層131の少なくとも一部を覆わないように配置されることを意味することができるが、これに制限されるものではなく、第2電極層132が第2電極層132を貫通する複数の開口部を有する構造を意味することもでき、第2電極層132が多数の気孔を有する多孔性構造であることを意味することができる。
【0073】
第2電極層132は、第1電極層131上に部分的に配置され、第1めっき層134が形成される面積を向上させる役割を果たすことができる。第2電極層132が第1電極層131の全表面ではなく一部の表面にのみ形成される場合、第2電極層132は第1電極層131上の凹凸として働くことができる。これにより、第1めっき層134に対してアンカー効果が働くことができる。すなわち、第2電極層132は、第1電極層131上に部分的に配置されることにより、めっき層134の形成面積を増加させ、アンカー効果を誘発することで、外部電極130の層間接着力を向上させることができる。これにより、積層型電子部品100の耐湿信頼性を向上させることができる。
【0074】
一実施例において、中間層133は、第1電極層131に含まれた金属を含む酸化物、及び第2電極層132に含まれた金属を含む酸化物を含むことができる。具体的な一実施例において、中間層133に含まれる金属酸化物は、Cuを含む酸化物及びNiを含む酸化物のうち1つ以上を含むことができる。中間層133に含まれる金属酸化物は、第1電極層131及び第2電極層132に含まれる金属が酸化して形成されたものであることができる。従って、第1電極層131に含まれるCu及び第2電極層132に含まれるNiを含む酸化物のうち1つ以上が、中間層133に含まれることができる。このとき、Cuを含む酸化物は、CuO、Cu2O及びCu3O4のうち1つ以上であり、Niを含む酸化物はNiOであることができるが、これに制限されるものではない。
【0075】
一実施例において、中間層133は、第2電極層132が配置されていない第1電極層131上に配置された領域133aでCuを含む酸化物を含み、第2電極層132上に配置された領域133bでNiを含む酸化物を含むことができる。
【0076】
図6を参照すると、中間層133は、第1電極層上に配置された領域133a及び第2電極層上に配置された領域133bに分けられる。中間層133を形成した後、水素を除去する熱処理工程を行う場合、第2電極層132は、第1電極層131上に部分的に配置される形態に変形されることができる。これと同時に、第2電極層132の表面と、第2電極層が配置されていない第1電極層131の表面が酸化されることができる。一方、第1電極層131はCuを含むため、第1電極層131の表面にCuを含む酸化物が形成される場合、Niを含む第1めっき層134との接着力が低下する問題が生じる可能性がある。本発明の一実施例によると、中間層133が第2電極層上に配置された領域133bでNiを含む酸化物を含むため、中間層133がCuを含む酸化物のみからなっているときよりも、第1めっき層131の接着力の低下を抑制することができる。従って、積層型電子部品100の耐湿信頼性をさらに向上させることができる。
【0077】
図7を参照すると、一実施例において、中間層133は、第1電極層131及び第2電極層132上に部分的に配置されることができる。中間層133は金属酸化物を含むため、基本的にNiを含む第1めっき層134との接着力が弱い。一実施例では、中間層133を第1電極層131及び第2電極層132上に部分的に配置することで、接触面積を向上させることができ、中間層133が部分的に形成された隙間から第1めっき層134が形成されることによって、アンカー効果を極大化することができる。従って、積層型電子部品100の耐湿信頼性をさらに向上させることができる。
【0078】
一実施例において、第1電極層131の平均厚さTは、2μm以上20μm以下であることができる。第1電極層131の平均厚さTが2μm未満である場合、第1電極層131に切れが生じる可能性がある。従って、一実施例のように、第1電極層131の平均厚さTが2μm以上である場合、切れのない第1電極層131が形成されることで、積層型電子部品100の耐湿信頼性をさらに向上させることができる。
【0079】
第1電極層131の平均厚さTを測定する方法は特に制限されない。積層型電子部品100の第2方向の中央部まで研磨して第1方向及び第2方向の面を露出させた後、内部電極121、122の最上端と最下端との間の領域において、第1方向に等間隔の5個以上の地点で、第1電極層131の第2方向の端と第3面の延長線E3との間の第2方向の大きさを測定して平均した値であることができる。
【0080】
一実施例において、外部電極130は、第1めっき層134上に配置されSnを含む第2めっき層135をさらに含むことができる。これにより、積層型電子部品100の実装性を向上させることができる。第2めっき層135は、第1めっき層134上にSnをめっきして形成することができ、第1めっき層と同一の方式で形成することができる。
【0081】
積層型電子部品100のサイズは、特に限定する必要はない。
【0082】
但し、小型化及び高容量化を同時に達成するためには、誘電体層及び内部電極の厚さを薄くして積層数を増加させなければならないため、0603(長さ×幅、0.6mm×0.3mm)以下のサイズを有する積層型電子部品100に本発明を適用することができる。
【0083】
ここで、積層型電子部品100の長さは、積層型電子部品100の第2方向の最大大きさを意味し、積層型電子部品100の幅は、積層型電子部品100の第3方向の最大大きさを意味することができる。
【0084】
以下では、本発明の一実施形態による積層型電子部品100の他の側面について説明するが、上述した本発明の一実施形態による積層型電子部品100と重複する叙述は省略する。
【0085】
本発明の一実施形態による積層型電子部品100の他の側面によると、外部電極130、140は、内部電極121と連結される第1電極層131、第1電極層131上に配置されNiを含む第2電極層132、第2電極層132上に配置され金属酸化物を含む中間層133、及び中間層133上に配置されNiを含む第1めっき層134を含み、第2電極層132は、第2電極層132を貫通する複数の開口部Pを含み、中間層133は、第2電極層及び複数の開口部P上に配置される。
【0086】
第2電極層132は、第2電極層を貫通する複数の開口部Pを含む。しかし、本発明において、第2電極層132は、第2電極層を貫通する複数の開口部Pのみを含むものに制限されず、第2電極層は、第2電極層132を貫通することなく第2電極層132の表面に形成された溝部をさらに含むことができる。
【0087】
第2電極層132は、第2電極層を貫通する複数の開口部Pを含むことにより、第1めっき層134が形成される面積を向上させる役割を果たすことができる。それだけでなく、第2電極層132の開口部Pにより、第2電極層132は凹凸が形成されることができる。これにより、第1めっき層134に対してアンカー効果が働くことができる。すなわち、第2電極層132は、第2電極層を貫通する複数の開口部Pを含むことにより、めっき層134の形成面積を増加させ、アンカー効果を誘発することで、外部電極130の層間接着力を向上させることができる。これにより、積層型電子部品100の耐湿信頼性を向上させることができる。
【0088】
本発明の一実施形態による積層型電子部品100の他の側面の一実施例において、中間層133は、複数の開口部P上に配置された領域133aでCuを含む酸化物を含み、第2電極層上に配置された領域133bでNiを含む酸化物を含むことができる。
【0089】
図6を参照すると、中間層133は、複数の開口部P上に配置された領域133a及び第2電極層上に配置された領域133bに分けられる。中間層133を形成した後、水素を除去する熱処理工程を行う場合、第2電極層132には、第2電極層を貫通する複数の開口部Pが形成されることができる。これと同時に、第2電極層132の表面と、開口部Pに露出された第1電極層131の表面が酸化されることができる。一方、第1電極層131はCuを含むため、第1電極層131の表面にCuを含む酸化物が形成される場合、Niを含む第1めっき層134との接着力が低下する問題が生じる可能性がある。本発明の一実施例によると、中間層133が第2電極層上に配置された領域133bでNiを含む酸化物を含むため、中間層133がCuを含む酸化物のみからなっているときよりも、第1めっき層131の接着力の低下を抑制することができる。従って、積層型電子部品100の耐湿信頼性をさらに向上させることができる。
【0090】
図7を参照すると、本発明の一実施形態による積層型電子部品100の他の側面の一実施例において、中間層133は、複数の開口部P及び第2電極層132上に部分的に配置されることができる。これにより、中間層133が部分的に形成された隙間から第1めっき層134が形成されることで、アンカー効果を極大化することができる。従って、積層型電子部品100の耐湿信頼性をさらに向上させることができる。
【0091】
他にも、本発明の一実施形態による積層型電子部品100の様々な実施例は、本発明の一実施形態による積層型電子部品100の他の側面にも適用されることができる。
【0092】
一方、本発明で使用されている「一実施例」という表現は、互いに同一の実施例を意味するものではなく、それぞれ互いに異なる固有の特徴を強調して説明するために提供されたものである。しかし、上記提示された一実施例は、他の一実施例の特徴と組み合わされて実現されることを排除しない。例えば、特定の一実施例で説明されている事項が他の一実施例では説明されていなくても、他の一実施例においてその事項と反対又は矛盾する説明がない限り、他の一実施例に関連した説明として理解することができる。
【0093】
本発明で使用されている用語は、単に一実施例を説明するためのものであって、本発明を限定する意図ではない。このとき、単数の表現は、文脈上明らかに異なる意味でない限り、複数の表現を含むものである。
【0094】
以上、本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明は、上述の実施形態及び添付の図面によって限定されるものではなく、添付の請求の範囲によって限定される。従って、特許請求の範囲に記載された本発明の技術的思想から外れない範囲内で、当技術分野における通常の知識を有する者によって多様な形態の置換、変形、及び変更が可能であり、これも本発明の範囲に属するといえる。
【符号の説明】
【0095】
100 積層型電子部品
110 本体
111 誘電体層
112、113 カバー部
114、115 マージン部
121、122 内部電極
130、140 外部電極
131 第1電極層
132 第2電極層
133 中間層
134 第1めっき層
135 第2めっき層