特開 2024-89934 拭取装置及び基板の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024089934

(43)【公開日】2024-07-04

(54)【発明の名称】拭取装置及び基板の製造方法

(51)【国際特許分類】

   B08B 1/32 20240101AFI20240627BHJP

【ＦＩ】

B08B1/04

【審査請求】未請求

【請求項の数】9

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022205483

(22)【出願日】2022-12-22

(71)【出願人】

【識別番号】000232243

【氏名又は名称】日本電気硝子株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110000110

【氏名又は名称】弁理士法人 快友国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】熊谷 宏之

【テーマコード（参考）】

3B116

【Ｆターム（参考）】

3B116AA02

3B116AB14

3B116BA08

3B116BA12

3B116BA15

3B116BB22

3B116CD42

3B116CD43

(57)【要約】      （修正有）

【課題】拭取部材に与えられる張力を調整する技術を提供する。
【解決手段】拭取装置は、拭取部材３０と、前記拭取部材３０が巻回されている状態で第１回転軸２４ａ回りを第１方向に回転することによって、前記拭取部材３０を送出する第１ローラ２４と、前記第１ローラ２４と間隔を置いて配置されており、第２回転軸２２ａ回りを第２方向に回転することによって、前記第１ローラ２４から送出される前記拭取部材を巻き取る前記第２ローラ２２と、前記第１ローラ２４と前記第２ローラ２２との間で前記拭取部材３０を対象物に接触させる接触部材３２と、前記第１ローラ２４と前記第２ローラ２２との間の前記拭取部材３０の張力を調整する制御部と、を備えていてもよい。
【選択図】図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

拭取部材と、
前記拭取部材が巻回されている状態で第１回転軸回りを第１方向に回転することによって、前記拭取部材を送出する第１ローラと、
前記第１ローラと間隔を置いて配置されており、第２回転軸回りを第２方向に回転することによって、前記第１ローラから送出される前記拭取部材を巻き取る第２ローラと、
前記第１ローラと前記第２ローラとの間で前記拭取部材を対象物に接触させる接触部材と、
前記第１ローラと前記第２ローラとの間の前記拭取部材の張力を調整する制御部と、を備える拭取装置。

【請求項2】

請求項１に記載の拭取装置に基板をセットするセット工程と、
前記第１ローラと前記第２ローラとの間の前記拭取部材の張力を調整する調整工程と、
前記第１ローラを前記第１方向に回転させることによって前記拭取部材を送出し、前記第２ローラを前記第２方向に回転させることによって前記第１ローラから送出される前記拭取部材を巻き取る拭取部材送出工程と、
前記基板を前記拭取部材によって拭取る拭取工程と、を備える、基板の製造方法。

【請求項3】

前記拭取工程は、前記拭取部材送出工程後、前記第１ローラと前記第２ローラとの間で前記拭取部材が停止している状態で実行される、請求項２に記載の基板の製造方法。

【請求項4】

前記調整工程は、前記第１ローラと前記第２ローラとの少なくとも一方の回転の状態を調整することによって、前記拭取部材の張力を調整する、請求項２又は３に記載の基板の製造方法。

【請求項5】

前記調整工程は、前記第１ローラと前記第２ローラの少なくとも一方の回転期間を調整することによって、前記拭取部材の張力を調整する、請求項２又は３に記載の基板の製造方法。

【請求項6】

前記調整工程は、前記第１ローラの回転の状態を調整する、請求項４に記載の基板の製造方法。

【請求項7】

前記調整工程は、前記第１ローラと前記第２ローラの少なくとも一方を回転させるモータの負荷を用いて、前記拭取部材に張力を調整する、請求項２又は３に記載の拭取装置。

【請求項8】

前記調整工程は、前記第１ローラを回転させる前記モータの負荷を用いて、前記拭取部材に張力を調整する、請求項７に記載の基板の製造方法。

【請求項9】

前記拭取部材送出工程は、前記第２ローラに前記拭取部材が巻回されている状態で、前記第２ローラを前記第２方向と反対方向である第３方向に回転させることによって前記拭取部材を送出し、前記第１ローラを前記第１方向と反対方向である第４方向に回転させることによって前記第２ローラから送出される前記拭取部材を巻き取る、請求項２又は３に記載の基板の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本明細書が開示する技術は、拭取装置及び基板の製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１には、基板表面をクロス拭き取りによって洗浄するパターン形成基板洗浄装置が開示されている。装置は、クロスを基板上に押し当てながら移動するローラと、クロスをローラに供給する供給リールと、クロスをローラから巻き取って回収する回収リールと、を備える。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１５－２１５９４１号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

２個のローラのうちの一方のローラを回転させることによって、クロス等の拭取部材を供給し、他方のローラを回転させることによって拭取部材を回収する構成では、２個のローラの回転状況に応じて拭取部材に与えられる張力が変動する。拭取部材の張力が小さいと、拭取部材が緩み過ぎ得る。その結果、拭取部材から基板に対して十分な力が加わらず、拭取り難くなり得る。一方、拭取部材の張力が大きいと、例えばクロスが破損し得る。その結果、拭取部材の劣化が進む事態が生じ得る。

【0005】

本明細書では、拭取部材に与えられる張力を調整する技術を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本明細書で開示される技術の第１の形態は、拭取装置である。拭取装置は、拭取部材と、前記拭取部材が巻回されている状態で第１回転軸回りを第１方向に回転することによって、前記拭取部材を送出する第１ローラと、前記第１ローラと間隔を置いて配置されており、第２回転軸回りを第２方向に回転することによって、前記第１ローラから送出される前記拭取部材を巻き取る第２ローラと、前記第１ローラと前記第２ローラとの間で前記拭取部材を対象物に接触させる接触部材と、前記第１ローラと前記第２ローラとの間の前記拭取部材の張力を調整する制御部と、を備えていてもよい。

【0007】

この構成によると、制御部によって、拭取部材の張力を調整することができる。これにより、拭取部材に適切な張力を与え得る。

【0008】

本明細書で開示される技術の第２の形態は、基板の製造方法である。基板の製造方法は、上記第１の形態に記載の拭取装置に基板をセットするセット工程と、前記第１ローラと前記第２ローラとの間の前記拭取部材の張力を調整する調整工程と、前記第１ローラを前記第１方向に回転させることによって前記拭取部材を送出し、前記第２ローラを前記第２方向に回転させることによって前記第１ローラから送出される前記拭取部材を巻き取る拭取部材送出工程と、前記基板を前記拭取部材によって拭取る拭取工程と、を備えていてもよい。

【0009】

この構成によると、調整工程によって、拭取部材の張力を調整することができる。これにより、拭取部材に適切な張力を与え得る。

【0010】

本明細書で開示される技術の第３の形態では、上記の第２の形態において、前記拭取工程は、前記拭取部材送出工程後、前記第１ローラと前記第２ローラとの間で前記拭取部材が停止している状態で実行されてもよい。

【0011】

この構成では、拭取工程の実行中に、拭取部材は、第１ローラと第２ローラとの間で、停止されている。この構成によると、第１ローラと第２ローラとが停止しているために、拭取工程の実行中に、拭取部材から基板に対して意図しない力が加わることを抑制し、その結果として基板が損傷することを抑制し得る。

【0012】

本明細書で開示される技術の第４の形態では、上記の第２又は第３の形態において、前記調整工程は、前記第１ローラと前記第２ローラとの少なくとも一方の回転の状態を調整することによって、前記拭取部材の張力を調整してもよい。

【0013】

この構成によると、第１ローラ及び第２ローラの少なくとも一方の回転の状態、例えば、回転速度、回転期間、回転量等を調整することによって、拭取部材の張力を調整することができる。

【0014】

本明細書で開示される技術の第５の形態では、上記の第２から第４の形態のいずれか１つにおいて、前記調整工程は、前記第１ローラと前記第２ローラの少なくとも一方の回転期間を調整することによって、前記拭取部材の張力を調整してもよい。

【0015】

この構成によると、第１ローラ及び第２ローラの回転速度、トルク等を複雑に調整せずとも、拭取部材の張力を容易に調整することができる。

【0016】

本明細書で開示される技術の第６の形態では、上記の第４又は第５の形態において、前記調整工程は、前記第１ローラの回転の状態を調整してもよい。

【0017】

この構成によると、拭取部材を送出する第１ローラの回転の状態を調整することによって、拭取部材の張力を容易に調整することができる。

【0018】

本明細書で開示される技術の第７の形態では、上記の第２から第６の形態のいずれか１つにおいて、前記調整工程は、前記第１ローラと前記第２ローラの少なくとも一方を回転させるモータの負荷を用いて、前記拭取部材に張力を調整してもよい。

【0019】

前記第１ローラと前記第２ローラの少なくとも一方を回転させるモータの負荷は、拭取部材の張力に相関する。この構成によると、モータの負荷を用いることによって、拭取部材の張力に基づいて、拭取部材の張力を容易に調整することができる。

【0020】

本明細書で開示される技術の第８の形態では、上記の第７の形態において、前記第１ローラを回転させる前記モータの負荷を用いて、前記拭取部材に張力を調整してもよい。

【0021】

この構成によると、第２ローラのモータの負荷を用いずに済む。

【0022】

本明細書で開示される技術の第９の形態では、上記の第２から第８の形態のいずれか１つにおいて、前記拭取部材送出工程は、前記第２ローラに前記拭取部材が巻回されている状態で、前記第２ローラを前記第２方向と反対方向である第３方向に回転させることによって前記拭取部材を送出し、前記第１ローラを前記第１方向と反対方向である第４方向に回転させることによって前記第２ローラから送出される前記拭取部材を巻き取ってもよい。

【0023】

この構成によると、第１ローラから送出される拭取部材が第２ローラに巻き取られた後、第２ローラから第１ローラに拭取部材を送出することによって、第１ローラと第２ローラとを交換せずに、継続して拭取工程を実行することができる。

【図面の簡単な説明】

【0024】

【図1】実施例の拭取装置の斜視図を示す。

【図2】実施例の拭取装置の制御系統を含む拭取装置の概略図を示す。

【図3】実施例の基板の製造方法のフローチャートを示す。

【図4】実施例のモータの負荷を模式的に表すグラフを示す。

【図5】変形例のモータの負荷を模式的に表すグラフを示す。

【発明を実施するための形態】

【0025】

図１に示すように、拭取装置１０は、ガラス製の基板１００の表面に指紋付着防止用のＡＦ（Anti-Fingerprintの略）膜を成膜して焼成した後に、基板１００の表面、即ち成膜後のＡＦ膜を拭き取ることによって基板１００の表面を洗浄する。ＡＦ膜は、例えばポリテトラフルオロエチレン（即ちＰＴＦＥ）等のフッ素系樹脂で作製される。変形例では、拭取装置１０は、ガラス製の基板１００以外の対象物、例えばパターニングされている基板等の表面を洗浄してもよい。基板１００は、例えば、携帯端末、ＰＣ等のディスプレイに利用される。

【0026】

拭取装置１０は、支持台１２と、拭取部２０と、拭取部材３０と、搬送部４０と、を備える。支持台１２は、拭取部２０を支持する枠体を有する。支持台１２には、拭取部２０が載置されている。拭取部２０は、２個のモータ１４、１６と、制御部１８（図２参照）と、これら２個のモータ１４、１６に対応する２個のローラ２２、２４と、接触部材３２と、薬液ノズル３６（図２参照）と、を備える。また、本明細書では、拭取部材３０は、拭取部２０を構成する部材である。そして、支持台１２は、２個のモータ１４、１６を支持する。

【0027】

拭取部２０は、拭取部材３０を用いて、基板１００の表面を拭き取る。拭取部材３０は、例えば、マイクロファイバ製の不織布又は織物、ポリエステル等の化学繊維より作製されるクロスである。拭取部材３０は、２個のローラ２２、２４に巻き回される長尺の薄いシート状の部材である。

【0028】

２個のローラ２２、２４は、互いに間隔を有して、平行に配置される。２個のローラ２２、２４のそれぞれは、円筒形状を有する。２個のローラ２２、２４の円筒形状は、互いに同一外径及び軸方向における同一長さを有する。図２に示すように、２個のローラ２２、２４のそれぞれは、回転軸２２ａ、２４ａのそれぞれを中心に互いに同じ方向に回転する。これにより、２個のローラ２２、２４のうちの一方のローラから拭取部材３０が送出され、他方のローラによって巻き取られる。例えば、図２では、２個のローラ２２、２４のそれぞれが時計回りに回転することによって、拭取部材３０が、ローラ２４から送出され、ローラ２２によって巻き取られる。ローラ２４に巻き回されている拭取部材３０の殆どがローラ２２に巻き取られると、２個のローラ２２、２４のそれぞれが逆回転、即ち、図２の反時計回りに回転することによって、拭取部材３０が、ローラ２２から送出され、ローラ２４によって巻き取られる。これにより、拭取部材３０を２個のローラ２２、２４との間で、送出及び巻取を繰り返すことによって、ローラ２２、２４を交換せずに、継続して拭取部材３０を使用することができる。

【0029】

モータ１４、１６のそれぞれは、ローラ２２、２４のそれぞれを回転可能に支持している。ローラ２２は、モータ１４によって回転される。モータ１４は、予め決められている一定の角速度及びトルクでローラ２２を回転させる。同様に、ローラ２４は、モータ１６によって回転される。モータ１６は、モータ１４と同様に、予め決められている一定の角速度及びトルクでローラ２２を回転させる。

【0030】

モータ１４、１６は、制御部１８によって制御される。制御部１８は、モータ１４、１６のそれぞれと、配線によって接続されている。制御部１８は、ＣＰＵ及びＲＯＭ、ＲＡＭ等のメモリを含む。制御部１８は、メモリに格納されているコンピュータプログラムに従ってＣＰＵが処理を実行することによって、モータ１４、１６を制御する。制御部１８は、モータ１４、１６に電力を供給することによって、モータ１４、１６のそれぞれを、一定の角速度及びトルクで回転させる。制御部１８は、モータ１４、１６のそれぞれに電力を供給する期間を制御することによって、モータ１４、１６のそれぞれの回転している期間、即ち回転期間を調整する。制御部１８は、モータ１４、１６のそれぞれについて、モータ１４、１６の回転中の電流値を計測する。

【0031】

２個のローラ２２、２４の間には、接触部材３２が配置されている。接触部材３２は、ばね等の付勢部材３４によって、下方に付勢されている。接触部材３２及び付勢部材３４は、支持台１２に取り付けられている。接触部材３２は、２個のローラ２２、２４の間に延びる拭取部材３０を下方に押し下げる。接触部材３２は、ローラ２２、２４と平行に、拭取部材３０の幅方向（即ち拭取部材３０の短手方向）の全長に亘って延びる円筒形状を有する。図２では詳述していないが、接触部材３２は、２個のローラ２２、２４によって送出及び巻取される拭取部材３０の移動に合わせて、円筒形状の中心軸を中心に回転可能に支持台１２に支持されている。

【0032】

接触部材３２とローラ２４との間には、薬液ノズル３６が配置されている。薬液ノズル３６は、支持台１２に支持されている。薬液ノズル３６のそれぞれは、図示省略したホースを介して、薬液が貯留されている容器から供給される薬液を、拭取部材３０に噴霧する。薬液ノズル３６からの薬液の噴霧タイミングは、制御部１８によって制御される。制御部１８は、薬液ノズル３６を開弁させて、薬液を噴霧させる。薬液は、拭取部材３０に染み込む。薬液は、基板１００の洗浄に用いられる洗浄液である。

【0033】

接触部材３２の下方では、搬送部４０によって、方向Ｄに沿って、複数の基板１００が搬送される。搬送部４０は、複数の搬送ローラ４２と、搬送盤４４と、を備える。搬送盤４４は、長方形状の平板を有する。搬送盤４４には、複数の基板１００が互いに間隔を置いて載置可能である。搬送盤４４は、下方から複数の搬送ローラ４２によって支持されている。複数の搬送ローラ４２は、ローラ２２、２４と平行に配置される円柱形状を有する。複数の搬送ローラ４２は、互いに間隔を置いて配置されている。複数の搬送ローラ４２は、支持台１２に対して円柱形状の中心軸を中心に回転可能に設置されている。複数の搬送ローラ４２の回転は、制御部１８によって制御される。制御部１８は、複数の搬送ローラ４２を回転させるアクチュエータ（図示省略）に電力を供給することによって、複数の搬送ローラ４２を中心軸回りに回転させる。

【0034】

（基板の製造方法）
次いで、基板１００の製造方法を説明する。まず、基板１００の表面にＡＦ膜が成膜される前の状態で、基板１００を、洗浄液を用いたウェット洗浄によって洗浄する。次いで、基板１００を焼成トレイ上に載置して、例えば液体樹脂をスプレーによって噴霧することによって、基板１００の表面にＡＦ膜を成膜する。次いで、成膜後の基板１００が焼成トレイに載置されている状態で、焼成炉を用いて、ＡＦ膜を焼成する。

【0035】

ＡＦ膜が焼成されると、図３に示すように、Ｓ１２において、複数の基板１００を拭取装置１０にセットするセット工程が実行される。具体的には、複数の基板１００を、搬送盤４４に並べて載置する。次いで、Ｓ１４では、制御部１８は、薬液ノズル３６から薬液を拭取部材３０に向けて噴霧させる。Ｓ１６では、制御部１８は、薬液ノズル３６からの薬液の噴霧を停止させる。

【0036】

以下では、ローラ２４が拭取部材３０を送出する側のローラであり、ローラ２２が拭取部材３０を巻き取る側のローラである場合を例として説明する。Ｓ１８では、制御部１８は、ローラ２２、２４を回転させて、接触部材３２によって複数の基板１００に押し当てられる拭取部材３０の部分を変更させる。具体的には、制御部１８は、ローラ２２を初期値ＴＰの期間に亘って回転させる。一方、制御部１８は、ローラ２４を後述するＳ２６で決定済みの回転期間に亘って回転させる。これにより、拭取部材３０の張力が調整される。Ｓ１８及びＳ２６によって、拭取部材３０の張力を調整する調整工程が実行される。

【0037】

Ｓ２０では、制御部１８は、ローラ２２、２４を、それぞれの回転期間だけ回転させて停止させる。Ｓ１８及びＳ２０によって、拭取部材３０を送出する拭取部材送出工程が実行される。

【0038】

次いで、Ｓ２２では、制御部１８は、ローラ２２、２４が停止している状態、即ち、拭取部材３０が停止している状態で、複数の搬送ローラ４２を回転させて、搬送盤４４に載置されている複数の基板１００を、接触部材３２によって下方に押し下げられている拭取部材３０の下を搬送させる。基板１００は、拭取部材３０に接触することによって、拭き取られて、洗浄される。Ｓ２２によって拭取工程が実行される。

【0039】

Ｓ２２の拭取工程が終了すると、複数の基板１００の搬送が停止されて、複数の基板１００が搬送盤４４から回収される。これにより、基板１００が作製される。

【0040】

Ｓ２４では、制御部１８は、ローラ２２のモータの負荷、即ち、モータに流れる電流の電流値を制御部１８に記録する。Ｓ２６では、制御部１８は、拭取部材３０を送出する側のローラ２４の回転期間を決定する。具体的には、制御部１８は、Ｓ２４で制御部１８に記録されたモータの負荷、即ちモータに流れる電流の電流値が、あらかじめ決められた所定範囲に含まれているか否かを判断する。制御部１８は、測定済みの電流値があらかじめ決められた所定範囲よりも大きい場合、即ち拭取部材３０の張力が比較的に大きい場合、拭取部材３０を送出する側のローラ２４の現在の回転期間ＴＣを予め決められている期間Ｔ１だけ長くする。一方、制御部１８は、測定済みの電流値があらかじめ決められた所定範囲よりも小さい場合、即ち拭取部材３０の張力が比較的に小さい場合、拭取部材３０を送出する側のローラ２４の現在の回転期間ＴＣを予め決められている期間Ｔ２だけ短くする。なお、期間Ｔ１、Ｔ２は、同一あってもよく、異なっていてもよい。期間Ｔ１、Ｔ２は、例えば初期値ＴＰの１％～１０％程度の長さに設定されていてもよい。制御部１８は、決定された回転期間を格納（即ち更新）する。

【0041】

上記の構成では、制御部１８が、ローラ２２、２４のうち、拭取部材３０を送出する側のローラの回転期間を決定する。制御部１８は、ローラ２２、２４を一定の角速度及び一定のトルクで回転させる。ローラ２２、２４のうち、拭取部材３０を巻き取る側のローラの回転期間が一定である場合、拭取部材３０を送出する側のローラの回転期間を調整することによって、ローラ２２、２４の間の拭取部材３０の張力を調整することができる。これにより、拭取部材３０の張力が小さいことによって、拭取部材３０が緩み過ぎ、その結果、拭取部材３０から基板１００に対して十分な力が加わらず、拭取り難くなることを抑制することができる。また、拭取部材３０の張力が大きいことによって、例えば拭取部材３０が破損することを抑制することができる。拭取部材２０の劣化を抑制することができる。

【0042】

ローラ２２、２４では、拭取部材３０が巻回されている長さによって、ローラ２２、２４に巻回わされている拭取部材３０の最外層の直径が異なる。この結果、ローラ２２、２４が同一の角速度で同一の回転期間に亘って回転されると、ローラ２４から送出される拭取部材３０の長さと、ローラ２２に巻き取られる拭取部材３０の長さが異なる。

【0043】

例えば、図２に示すように、ローラ２２に巻回わされている拭取部材３０の最外層の直径が、ローラ２４に巻回わされている拭取部材３０の最外層の直径よりも大きい場合、ローラ２４から送出される拭取部材３０の長さよりもローラ２２に巻き取られる拭取部材３０の長さの方が長い。この結果、拭取部材３０の張力が大きくなる。このことから、拭取部材３０の張力を調整するために、Ｓ２６によってローラ２４の回転期間を決定する処理が必要となる。

【0044】

拭取装置１０には、新たな複数の基板１００が載置される。ローラ２２、２４の回転によって、基板１００の拭き取りに使用される拭取部材３０の部分、即ち、接触部材３２によって基板１００に接触される部分が変化する。これにより、繰り返し、かつ、連続的に基板１００を洗浄することができる。

【0045】

ローラ２４に巻き回されている拭取部材３０が殆ど全て送出されると、制御部１８は、ローラ２２、２４を逆向きに回転させることによって、ローラ２２から拭取部材３０を送出し、ローラ２４によって拭取部材３０が巻き取らせる。この構成では、上記した、Ｓ１８、Ｓ２０、Ｓ２４、Ｓ２６において、ローラ２２、２４の機能が入れ替わる。これにより、拭取部材３０を繰り返し使用することができる。

【0046】

ローラ２２、２４によって、拭取部材３０の送出及び巻取を繰り返すと、拭取部材３０の全長において、ローラ２２、２４に強く巻き回されている箇所と緩く巻き回されている箇所とが混在する。ローラ２２、２４に巻き回されている拭取部材３０の最外径の差とともに、ローラ２２、２４に強く巻き回されているか、緩く巻き回されているかによっても、拭取部材３０の張力が変化する。

【0047】

図４には、拭取回数とモータの負荷との関係、即ち、Ｓ２４において記録されるモータの負荷（即ちモータの電流値）の変化の一例が模式的に示されている。図４に示すように、ローラ２２、２４のモータの負荷、即ち、モータの電流値が最小電流値Ｉｍｉｎと最大電流値Ｉｍａｘとの間の範囲を逸脱すると、拭取部材３０の張力が大き過ぎる、または小さ過ぎるために、基板１００を適切に洗浄することができない場合がある。上記の製造方法では、モータの電流値が電流値Ｉ１から電流値Ｉ２の範囲をわずかでも逸脱する場合に、ローラ２２、２４の回転期間を調整する。この結果、モータの電流値を、最小電流値Ｉｍｉｎと最大電流値Ｉｍａｘとの間の範囲を逸脱しない範囲に収めることができる。これにより、拭取部材３０の張力を適切に調整することができる。

【0048】

上記の製造方法では、拭取部材３０を送出する側のローラ２２、２４の回転期間を調整することによって、拭取部材３０の張力を調整する。これにより、ローラ２２、２４の角速度等を調整せずに済む。また、拭取部材３０を巻き取る側のローラ２２、２４の回転期間を調整せずに済む。

【0049】

なお、変形例では、拭取部材３０を送出する側のローラ２２、２４の回転期間とともに、または、これに替えて、拭取部材３０を巻き取る側のローラ２２、２４の回転期間を調整してもよい。また、ローラ２２、２４の回転期間とともに、または、これに替えて、調整ローラ２２、２４の角速度、回転量等を調整してもよい。

【0050】

（対応関係）
ローラ２４が「第１ローラ」の一例であり、ローラ２２が「第２ローラ」の一例である。回転軸２２ａが「第１回転軸」の一例であり、回転軸２４ａが「第２回転軸」の一例である。時計回りが「第１方向」及び「第２方向」の一例であり、反時計回りが「第３方向」及び「第４方向」の一例である。

【0051】

以上、本発明の具体例を詳細に説明したが、これらは例示に過ぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。

【0052】

（変形例１）上記の製造方法では、モータの負荷、即ち、モータの電流値が所定範囲から逸脱した場合に、拭取部材３０を送出する側のローラ２２、２４の回転期間を予め決められている期間Ｔ１、Ｔ２を用いて調整する。変形例では、モータの負荷に応じて、拭取部材３０を送出する側のローラ２２、２４の回転期間の変化量を変動させてもよい。例えば、制御部１８は、モータの負荷が高いほど、即ち、拭取部材３０の張力が高いほど、拭取部材３０を送出する側のローラ２２、２４の回転期間をより長く調整してもよい。制御部１８は、モータの負荷が低いほど、即ち、拭取部材３０の張力が低いほど、拭取部材３０を送出する側のローラ２２、２４の回転期間をより短く調整してもよい。

【0053】

（変形例２）モータの負荷に応じて、拭取部材３０を送出する側のローラ２２、２４の回転期間の変化の頻度を変動させてもよい。例えば、図５を参照すると、拭取回数とモータの負荷（即ちモータの電流値）との関係の模式的な一例において、電流値Ｉ１と電流値Ｉｍｉｎとの間であって電流値Ｉｍｉｄよりも小さいモータの電流値が１回でもＳ２４において記録される場合（例えば電流値２００）、ローラ２２、２４の回転期間を調整してもよい。一方、電流値Ｉ１と電流値Ｉｍｉｎとの間であって電流値Ｉｍｉｄ以上のモータの電流値が１回のＳ２４において記録されてもローラ２２、２４の回転期間を調整せず、連続する複数回（例えば３回）のＳ２４において電流値Ｉｍｉｄ以上の電流値が記録される場合（例えば電流値２０２）、ローラ２２、２４の回転期間を調整してもよい。Ｓ２４で記録される電流値が電流値Ｉ２と電流値Ｉｍａｘとの間である場合も同様であってもよい。

【0054】

（変形例３）モータの負荷の測定タイミングは、特に限定されず、例えば、制御部１８は、ローラ２２、２４を停止している間に、拭取部材３０を巻き取る側のローラ２２、２４のモータに電力を供給して、拭取部材３０を巻き取る側のローラ２２、２４が回転し始める電流の電流値を測定してもよい。

【0055】

（変形例４）Ｓ２６のローラ２２、２４の回転期間を決定する工程は、例えば、Ｓ２４のモータの負荷が記録された後、次のＳ１８のローラ２２、２４が回転される前に、決定されていればよい。例えば、Ｓ１２の複数の基板１００のセット工程中に決定されてもよい。

【0056】

本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組合せによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組合せに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成し得るものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。

【符号の説明】

【0057】

１０：拭取装置、１２：支持台、１４、１６：モータ、１８：制御部、２０：拭取部、２２、２４：ローラ、２２ａ、２４ａ：回転軸、３０：拭取部材、３２：接触部材、３４：付勢部材、４０：搬送部、１００：基板

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】