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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024090121
(43)【公開日】2024-07-04
(54)【発明の名称】処理方法および電子デバイス
(51)【国際特許分類】
B05D 3/04 20060101AFI20240627BHJP
B05D 7/00 20060101ALI20240627BHJP
B05D 7/24 20060101ALI20240627BHJP
C09K 3/18 20060101ALI20240627BHJP
G02B 1/18 20150101ALI20240627BHJP
【ＦＩ】
B05D3/04 C
B05D7/00 H
B05D7/24 302L
B05D7/24 302Y
C09K3/18 102
C09K3/18 104
G02B1/18
【審査請求】有
【請求項の数】13
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022205796
(22)【出願日】2022-12-22
(71)【出願人】
【識別番号】000002853
【氏名又は名称】ダイキン工業株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100129791
【弁理士】
【氏名又は名称】川本 真由美
(74)【代理人】
【識別番号】100132252
【弁理士】
【氏名又は名称】吉田 環
(74)【代理人】
【識別番号】100221501
【弁理士】
【氏名又は名称】式見 真行
(74)【代理人】
【識別番号】100206324
【弁理士】
【氏名又は名称】齋藤 明子
(72)【発明者】
【氏名】前平 健
(72)【発明者】
【氏名】本多 義昭
(72)【発明者】
【氏名】三橋 尚志
【テーマコード（参考）】
2K009
4D075
4H020
【Ｆターム（参考）】
2K009CC26
2K009CC42
4D075AA01
4D075AE02
4D075BB49X
4D075BB54X
4D075BB60Z
4D075BB91X
4D075BB93X
4D075BB94X
4D075BB95X
4D075CA06
4D075CA36
4D075CA47
4D075CA48
4D075DA06
4D075DB13
4D075DC21
4D075DC24
4D075EA05
4D075EA07
4D075EB14
4D075EB16
4D075EB37
4D075EB43
4H020AA03
4H020BA11
4H020BA36
(57)【要約】
【課題】本開示は、電子デバイスに備えられた表示パネルの新たな表面処理方法の提供を目的とする。
【解決手段】電子デバイスに備えられた表示パネルの処理方法であって、
前記表示パネルの表面の少なくとも一部の領域にプラズマを照射すること、
少なくとも、前記プラズマを照射した領域に表面処理剤を適用して、第１の表面処理層を形成すること、を含み、
前記表面処理剤は、含フッ素シラン化合物を含む、処理方法。
【選択図】なし
【解決手段】電子デバイスに備えられた表示パネルの処理方法であって、
前記表示パネルの表面の少なくとも一部の領域にプラズマを照射すること、
少なくとも、前記プラズマを照射した領域に表面処理剤を適用して、第１の表面処理層を形成すること、を含み、
前記表面処理剤は、含フッ素シラン化合物を含む、処理方法。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
電子デバイスに備えられた表示パネルの処理方法であって、
前記表示パネルの表面の少なくとも一部の領域にプラズマを照射すること、
少なくとも、前記プラズマを照射した領域に表面処理剤を適用して、第１の表面処理層を形成すること、を含み、
前記表面処理剤は、含フッ素シラン化合物を含む、処理方法。
前記表示パネルの表面の少なくとも一部の領域にプラズマを照射すること、
少なくとも、前記プラズマを照射した領域に表面処理剤を適用して、第１の表面処理層を形成すること、を含み、
前記表面処理剤は、含フッ素シラン化合物を含む、処理方法。
【請求項2】
前記プラズマは、低温プラズマである、請求項１に記載の処理方法。
【請求項3】
前記プラズマを照射する前において、前記プラズマを照射する領域の少なくとも一部における水接触角は、１００°未満である、請求項１に記載の処理方法。
【請求項4】
前記プラズマの照射は、照射強度１Ｗ／ｃｍ２以上１００Ｗ／ｃｍ２以下、照射距離１ｍｍ以上３００ｍｍ以下の条件で実施される、請求項１に記載の処理方法。
【請求項5】
前記プラズマの照射は、プラズマの照射速度１ｍｍ／秒以上５０ｍｍ／秒以下の条件で実施される、請求項１に記載の処理方法。
【請求項6】
前記表面処理剤の適用は、前記プラズマの照射を終了した後、６０分以内に実施される、請求項１に記載の処理方法。
【請求項7】
前記プラズマの照射は、プラズマ温度６０℃以下で実施される、請求項１に記載の処理方法。
【請求項8】
前記第１の表面処理層を形成した後において、前記第１の表面処理層を有する部位における前記表示パネルの表面の水接触角は、１００°以上である、請求項１に記載の処理方法。
【請求項9】
前記含フッ素シラン化合物は、下記式（１）または（２）：
［式中：
ＲＦ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－またはフルオロアルキル基であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－またはフルオロアルキレン基であり；
Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０又は１であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子又は１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
少なくとも１つのＲＳｉは、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
ＸＡは、それぞれ独立して、単結合又は２～１０価の有機基であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数である。］
で表される少なくとも１種の含フッ素シラン化合物を含む、請求項１～８のいずれか１項に記載の処理方法。
【化1】
ＲＦ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－またはフルオロアルキル基であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－またはフルオロアルキレン基であり；
Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０又は１であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子又は１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
少なくとも１つのＲＳｉは、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
ＸＡは、それぞれ独立して、単結合又は２～１０価の有機基であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数である。］
で表される少なくとも１種の含フッ素シラン化合物を含む、請求項１～８のいずれか１項に記載の処理方法。
【請求項10】
表示パネルを備える電子デバイスであって、
前記表示パネルは、ガラス基材と、前記ガラス基材の表面の一部を覆う第１の層と、前記ガラス基材の表面の他の一部を覆う第２の層と、を有し、
前記第１の層は、含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤により形成される層であり、
前記第１の層と前記第２の層の組成は、互いに異なる、電子デバイス。
前記表示パネルは、ガラス基材と、前記ガラス基材の表面の一部を覆う第１の層と、前記ガラス基材の表面の他の一部を覆う第２の層と、を有し、
前記第１の層は、含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤により形成される層であり、
前記第１の層と前記第２の層の組成は、互いに異なる、電子デバイス。
【請求項11】
前記第１の層の表面の動摩擦係数は、前記第２の層の表面の動摩擦係数より小さい、請求項１０記載の電子デバイス。
【請求項12】
前記表示パネルの表面の動摩擦係数の最大値は、前記表示パネルの表面の動摩擦係数の最小値の１．１倍以上である、請求項１０に記載の電子デバイス。
【請求項13】
表示パネルの表面における水接触角の平均値が、１０８°以上である、請求項１０～１２のいずれか１項に記載の電子デバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、電子デバイスに備えられた表示パネルの処理方法および電子デバイスに関する。
【背景技術】
【0002】
基材に種々の特性を付与することを目的として、各種のコーティングが形成される。
【0003】
特許文献１および２には、少なくとも部分的にコーティングのない表面を必要とする基板を調製するに際して、コーティングした基板から、プラズマを用いてコーティングを除去する方法が記載されている。
【0004】
特許文献３には、残す部分と剥がす部分を含むフィルムが接着剤を介して被処理面に貼り付けられる被処理基板を、貼り付け前に表面処理する際に、プロセスガスをプラズマ化して、非処理面に接触させることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開２０１１－８２１８４号公報
【特許文献2】特表２００７－５２７０９３号公報
【特許文献3】特開２０１９－７３３９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本開示は、電子デバイスに備えられた表示パネルの新たな表面処理方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本開示は、以下の態様を提供する。
［１］
電子デバイスに備えられた表示パネルの処理方法であって、
前記表示パネルの表面の少なくとも一部の領域にプラズマを照射すること、
少なくとも、前記プラズマを照射した領域に表面処理剤を適用して、第１の表面処理層を形成すること、を含み、
前記表面処理剤は、含フッ素シラン化合物を含む、処理方法。
［２］
前記プラズマは、低温プラズマである、［１］に記載の処理方法。
［３］
前記プラズマを照射する前において、前記プラズマを照射する領域の少なくとも一部における水接触角は、１００°未満である、［１］または［２］に記載の処理方法。
［４］
前記プラズマの照射は、照射強度１Ｗ／ｃｍ２以上１００Ｗ／ｃｍ２以下、照射距離１ｍｍ以上３００ｍｍ以下の条件で実施される、［１］～［３］のいずれか１つに記載の処理方法。
［５］
前記プラズマの照射は、プラズマの照射速度１ｍｍ／秒以上５０ｍｍ／秒以下の条件で実施される、［１］～［４］のいずれか１つに記載の処理方法。
［６］
前記表面処理剤の適用は、前記プラズマの照射を終了した後、６０分以内に実施される、［１］～［５］のいずれか１つに記載の処理方法。
［７］
前記プラズマの照射は、プラズマ温度６０℃以下で実施される、［１］～［６］のいずれか１つに記載の処理方法。
［８］
前記第１の表面処理層を形成した後において、前記第１の表面処理層を有する部位における前記表示パネルの表面の水接触角は、１００°以上である、［１］～［７］のいずれか１つに記載の処理方法。
［９］
前記含フッ素シラン化合物は、下記式（１）または（２）：
［式中：
ＲＦ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－またはフルオロアルキル基であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－またはフルオロアルキレン基であり；
Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０又は１であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子又は１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
少なくとも１つのＲＳｉは、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
ＸＡは、それぞれ独立して、単結合又は２～１０価の有機基であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数である。］
で表される少なくとも１種の含フッ素シラン化合物を含む、［１］～［８］のいずれか１つに記載の処理方法。
［１０］
表示パネルを備える電子デバイスであって、
前記表示パネルは、ガラス基材と、前記ガラス基材の表面の一部を覆う第１の層と、前記ガラス基材の表面の他の一部を覆う第２の層と、を有し、
前記第１の層は、含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤により形成される層であり、
前記第１の層と前記第２の層の組成は、互いに異なる、電子デバイス。
［１１］
前記第１の層の表面の動摩擦係数は、前記第２の層の表面の動摩擦係数より小さい、［１０］に記載の電子デバイス。
［１２］
前記表示パネルの表面の動摩擦係数の最大値は、前記表示パネルの表面の動摩擦係数の最小値の１．１倍以上である、［１０］または［１１］に記載の電子デバイス。
［１３］
表示パネルの表面における水接触角の平均値が、１０８°以上である、［１０］～［１２］のいずれか１つに記載の電子デバイス。
［１４］
表示パネルを備える電子デバイスであって、
前記表示パネルは、ガラス基材と、前記ガラス基材の表面の一部を覆う第１の層と、前記ガラス基材の表面の他の一部を覆う第２の層と、を有し、
前記第１の層は、ガラス基材の表面の少なくとも一部にプラズマを照射すること、
前記プラズマを照射した領域に表面処理剤を適用して、第１の表面処理層を形成すること、を含む方法により形成され、
前記表面処理剤は、含フッ素シラン化合物を含む、電子デバイス。
［１］
電子デバイスに備えられた表示パネルの処理方法であって、
前記表示パネルの表面の少なくとも一部の領域にプラズマを照射すること、
少なくとも、前記プラズマを照射した領域に表面処理剤を適用して、第１の表面処理層を形成すること、を含み、
前記表面処理剤は、含フッ素シラン化合物を含む、処理方法。
［２］
前記プラズマは、低温プラズマである、［１］に記載の処理方法。
［３］
前記プラズマを照射する前において、前記プラズマを照射する領域の少なくとも一部における水接触角は、１００°未満である、［１］または［２］に記載の処理方法。
［４］
前記プラズマの照射は、照射強度１Ｗ／ｃｍ２以上１００Ｗ／ｃｍ２以下、照射距離１ｍｍ以上３００ｍｍ以下の条件で実施される、［１］～［３］のいずれか１つに記載の処理方法。
［５］
前記プラズマの照射は、プラズマの照射速度１ｍｍ／秒以上５０ｍｍ／秒以下の条件で実施される、［１］～［４］のいずれか１つに記載の処理方法。
［６］
前記表面処理剤の適用は、前記プラズマの照射を終了した後、６０分以内に実施される、［１］～［５］のいずれか１つに記載の処理方法。
［７］
前記プラズマの照射は、プラズマ温度６０℃以下で実施される、［１］～［６］のいずれか１つに記載の処理方法。
［８］
前記第１の表面処理層を形成した後において、前記第１の表面処理層を有する部位における前記表示パネルの表面の水接触角は、１００°以上である、［１］～［７］のいずれか１つに記載の処理方法。
［９］
前記含フッ素シラン化合物は、下記式（１）または（２）：
【化1】
ＲＦ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－またはフルオロアルキル基であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－またはフルオロアルキレン基であり；
Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０又は１であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子又は１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
少なくとも１つのＲＳｉは、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
ＸＡは、それぞれ独立して、単結合又は２～１０価の有機基であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数である。］
で表される少なくとも１種の含フッ素シラン化合物を含む、［１］～［８］のいずれか１つに記載の処理方法。
［１０］
表示パネルを備える電子デバイスであって、
前記表示パネルは、ガラス基材と、前記ガラス基材の表面の一部を覆う第１の層と、前記ガラス基材の表面の他の一部を覆う第２の層と、を有し、
前記第１の層は、含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤により形成される層であり、
前記第１の層と前記第２の層の組成は、互いに異なる、電子デバイス。
［１１］
前記第１の層の表面の動摩擦係数は、前記第２の層の表面の動摩擦係数より小さい、［１０］に記載の電子デバイス。
［１２］
前記表示パネルの表面の動摩擦係数の最大値は、前記表示パネルの表面の動摩擦係数の最小値の１．１倍以上である、［１０］または［１１］に記載の電子デバイス。
［１３］
表示パネルの表面における水接触角の平均値が、１０８°以上である、［１０］～［１２］のいずれか１つに記載の電子デバイス。
［１４］
表示パネルを備える電子デバイスであって、
前記表示パネルは、ガラス基材と、前記ガラス基材の表面の一部を覆う第１の層と、前記ガラス基材の表面の他の一部を覆う第２の層と、を有し、
前記第１の層は、ガラス基材の表面の少なくとも一部にプラズマを照射すること、
前記プラズマを照射した領域に表面処理剤を適用して、第１の表面処理層を形成すること、を含む方法により形成され、
前記表面処理剤は、含フッ素シラン化合物を含む、電子デバイス。
【発明の効果】
【0008】
本開示は、電子デバイスに備えられた表示パネルの新たな表面処理方法を提供し得る。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【発明を実施するための形態】
【0010】
（第１実施形態：処理方法）
電子デバイスに備えられた表示パネルの処理方法であって、
前記表示パネルの表面の少なくとも一部の領域にプラズマを照射すること、
少なくとも、前記プラズマを照射した領域に表面処理剤を適用して、第１の表面処理層を形成すること、を含み、
前記表面処理剤は、含フッ素シラン化合物を含む。
電子デバイスに備えられた表示パネルの処理方法であって、
前記表示パネルの表面の少なくとも一部の領域にプラズマを照射すること、
少なくとも、前記プラズマを照射した領域に表面処理剤を適用して、第１の表面処理層を形成すること、を含み、
前記表面処理剤は、含フッ素シラン化合物を含む。
【0011】
本開示によれば、電子デバイスに備えられた表示パネルの新たな表面処理方法を提供できる。
電子デバイスに備えられた表示パネルは、電子デバイスの使用の際、人体や繊維、化学薬品等と接触し得るため、表面特性（例えば、撥水性、撥油性、滑り性、指紋付着性、防汚性、反射防止性、防曇性等）が低下する場合がある。本開示の処理方法では、表面特性が低下した表示パネルであっても、その表面にプラズマを照射し、含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤を用いて表面処理を行うことで、表面特性を回復させることができる。本開示は、特定の理論に限定して解釈されるべきではないが、本開示の処理方法により、表面特性が回復し得る理由は、以下のように考えられる。
電子デバイスに備えられた表示パネルは、電子デバイスの使用の際、人体や繊維、化学薬品等と接触し得るため、表面特性（例えば、撥水性、撥油性、滑り性、指紋付着性、防汚性、反射防止性、防曇性等）が低下する場合がある。本開示の処理方法では、表面特性が低下した表示パネルであっても、その表面にプラズマを照射し、含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤を用いて表面処理を行うことで、表面特性を回復させることができる。本開示は、特定の理論に限定して解釈されるべきではないが、本開示の処理方法により、表面特性が回復し得る理由は、以下のように考えられる。
【0012】
電子デバイスに備えられた表示パネルの表面には、視認性や操作性、防汚性等の観点から、コーティングが設けられ得る。かかるコーティングは、使用により、部分的に損傷或いは除去され得る。プラズマを照射することにより、コーティングが除去され基材が露出している部分では、皮脂等の成分が除去され、また、損傷を受けたコーティングは除去されていると考えられる。また、プラズマを照射することにより、表示パネルの表面が活性化すると考えられる。そして、プラズマを照射した領域にさらに表面処理を施すことで、含フッ素シラン化合物が基材表面と反応し、表示パネルの表面に撥水性が付与されると考えられる。含フッ素シラン化合物を用いることで、さらに、撥油性、滑り性等も付与され得、指紋付着防止、反射防止等の表面特性が回復される効果も期待される。
【0013】
上記表示パネルは、電子デバイスに備えられている。すなわち、本開示の処理方法は、電子デバイスに組み込まれた表示パネルに用いられる。本開示の処理方法では、プラズマを用いるため、電子デバイスに組み込まれた状態の表示パネルに適用した場合であっても、温度の過度な上昇を防ぎ、電子デバイスの機能を損なうことなく、表示パネルに表面処理層を形成できる。
【0014】
上記電子デバイスは、表示パネルを備えるものであればよく、スマートフォン、タブレット、ノートＰＣ、カメラ等のポータブル端末装置；スマートウォッチ等のウェアラブルデバイス；テレビ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機ＥＬディスプレイ等の表示装置であってよい。
【0015】
上記表示パネルの表面は、後述するプラズマを照射する前において、水接触角が１００°未満である領域を含む。すなわち、表示パネルの表面の少なくとも一部の領域において、水接触角が１００°未満であればよく、他の領域において、水接触角が１００°以上であってもよい。かかる領域は、電子デバイスの使用の際、接触や摩擦を受ける頻度が比較的高い領域であり得、例えば、表示パネルの表面の中央部等であり得る。上記表示パネルの中央部は、上記表示パネルを縦方向に三等分して、上位部、中位部および下位部に区分し、上記表示パネルを横方向に三等分して、右部、中部および左部に区分した場合、中位部および中部の両方に該当する部位であり得る。
【0016】
上記領域における水接触角は、例えば９９°以下、さらに９５°以下、８０℃以下、７０℃以下、６０℃以下、５０°以下、４０°以下であってよく、０°以上であり、例えば１０°以上、さらに１５°以上であってよい。
本開示において、水接触角は、ＪＩＳ Ｒ ３２５７：１９９９に準拠して測定され得る。
本開示において、水接触角は、ＪＩＳ Ｒ ３２５７：１９９９に準拠して測定され得る。
【0017】
上記表示パネルは、ディスプレイパネル、タッチパネル、スクリーン等であり得、代表的には、ガラス基材を有することが好ましく；ガラス基材と、上記ガラス基材の表面の一部を覆う第２の層とを有することが好ましい。
【0018】
上記ガラス基材を構成するガラスは、サファイアガラス、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、および化学結合したホウ珪酸ガラスがより好ましい。
上記ガラス基材の厚さは、代表的には、０．１ｍｍ以上１ｍｍ以下であり得る。
上記ガラス基材の厚さは、代表的には、０．１ｍｍ以上１ｍｍ以下であり得る。
【0019】
上記表示パネルは、前記ガラス基材の表面の一部を覆う第２の層をさらに有することが好ましい。第２の層は、好ましくは表面処理層であり得る。かかる表面処理層は、好ましくは、撥水性、撥油性、滑り性、防汚性および防曇性から選ばれる１またはそれ以上をガラス基材に付与するために用いられる化合物およびその反応物を含み得る。該化合物は、例えば、含フッ素化合物、シリコーン化合物およびアクリル化合物から選ばれる１種またはそれ以上であり得る。
【0020】
上記含フッ素化合物としては、フルオロポリエーテル基含有化合物が好ましく、後述するフルオロポリエーテル基含有シラン化合物がより好ましい。上記第２の層に含まれ得るフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、上記第１の表面処理層に含まれるフルオロポオリエーテル基含有シラン化合物と同一であってもよく、異なっていてもよい。
【0021】
上記第２の層は、上記ガラス基材の表面の少なくとも一部を覆うことが好ましく、上記ガラス基材の表面の一部を覆うことが好ましい。すなわち、上記ガラス基材の少なくとも一部が、表面に露出していることが好ましい。
【0022】
上記ガラス基材表面において、第２の層が覆い得る領域は、電子デバイスの使用の際、接触や摩擦を受ける頻度が比較的低い領域であり得、例えば、表示パネルの表面の周縁部および角部から選ばれる１またはそれ以上であり得る。上記表示パネルの周縁部は、上記表示パネルを縦方向に三等分して、上位部、中位部および下位部に区分し、上記表示パネルを横方向に三等分して、右部、中部および左部に区分した場合、上位部または下位部であって、中部に該当する部位および中位部であって、右部または左部に該当する部位から選ばれる１またはそれ以上であり得る。上記表示パネルの角部は、上記表示パネルを縦方向に三等分して、上位部、中位部および下位部に区分し、上記表示パネルを横方向に三等分して、右部、中部および左部に区分した場合、上位部または下位部であって、右部または左部に該当する部位であり得る。
【0023】
上記ガラス基材と上記第２の層とは、代表的には、表示パネルの表面に配置される。
【0024】
上記ガラス基材の表面には、上記第２の層以外に、その他の層が設けられていてもよい。該その他の層は、好ましくは、上記ガラス基材の表面を覆い、上記第２の層と一部重なっていてもよく、上記第２の層の上に設けられていてもよく、上記第２の層とガラス基材との間に設けられていてもよい。かかるその他の層として、ハードコート層、反射防止層が挙げられる。
【0025】
上記表示パネルは、上記ガラス基材以外に、他の部材をさらに有していてもよい。ガラス基材は、代表的には、かかる他の部材上、すなわち、表示パネルにおいて、他の部材よりも表面側に配置され得る。
【0026】
なお、本開示において、「部材上」とは、重力方向に規定される鉛直上方のような絶対的な一方向ではなく、ある部材の表面を境界とする、部材の外側と内側とのうち、外側に向かう方向を指す。したがって、「部材上」とは部材表面の向きによって定まる相対的な方向である。また、ある要素に対する「上」には、当該要素と接する直上の位置だけではなく、当該要素とは離れた上方、すなわち当該要素に接する他の層を介した上側の位置や間隔を空けた上側の位置も含む。
【0027】
本開示の処理方法は、上記表示パネルの表面の少なくとも一部の領域にプラズマを照射することを含む。かかるプラズマの照射により、表示パネルの表面が、後述する第１の表面処理層の形成に適した状態となり得る。
【0028】
一の態様において、上記プラズマは、低温プラズマであることが好ましい。上記プラズマは、表示パネルの表面の一部の領域に照射されることが好ましく、別の態様において、上記プラズマは、表示パネルの表面の全部の領域に照射されることが好ましい。
【0029】
上記プラズマを照射する領域は、その少なくとも一部にプラズマを照射する前において、水接触角が１００°未満である領域を含むことが好ましい。すなわち、上記プラズマは、表示パネルの表面において、水接触角が１００°未満である領域に、少なくとも照射されることが好ましい。上記領域における水接触角は、例えば９９°以下、さらに９５°以下、８０℃以下、７０℃以下、６０℃以下、５０°以下、４０°以下であってよく、０°以上であり、例えば１０°以上、さらに１５°以上あってよい。
【0030】
一の態様において、上記表示パネルが、ガラス基材と上記ガラス基材の表面の一部を覆う第２の層とを有する場合、上記プラズマを照射する領域は、上記第２の層を有しない上記ガラス基材の表面を少なくとも含むことが好ましい。すなわち、上記プラズマは、ガラス基材と上記ガラス基材の表面の一部を覆う第２の層とを有する表示パネルにおいて、第２の層を有しないガラス基材の表面に少なくとも照射されることが好ましい。かかる態様において、好ましくは、上記プラズマを照射する領域は、上記ガラス基材の表面の少なくとも一部および上記第２の層の表面の少なくとも一部を含み；上記ガラス基材の表面の全部および上記第２の層の表面の全部であってもよい。上記プラズマを上記ガラス基材に照射することで、上記ガラス基材の表面に付着する皮脂等が除去され得る。また、上記プラズマを上記第２の層に照射することで、プラズマが第２の層に作用し、第２の層の少なくとも一部が分解され得、例えば、第２の層が除去され得る。
【0031】
上記プラズマとしては、マイクロ波プラズマ、高周波プラズマ等の真空プラズマ；大気圧プラズマが挙げられ、大気圧プラズマが好ましい。また、プラズマを発生させるために用いられるプロセスガスとしては、酸素、窒素、フッ素、水素、アルゴン、空気等が挙げられ、空気が好ましい。
【0032】
上記プラズマの照射は、好ましくは１Ｗ／ｃｍ２以上１００Ｗ／ｃｍ２以下、より好ましくは３Ｗ／ｃｍ２以上７０Ｗ／ｃｍ２以下、さらに好ましくは５Ｗ／ｃｍ２以上５０Ｗ／ｃｍ２以下の照射強度で実施され得る。上記照射強度は、好ましくは１Ｗ／ｃｍ２以上、より好ましくは３Ｗ／ｃｍ２以上、さらに好ましくは５Ｗ／ｃｍ２以上であり、好ましくは１００Ｗ／ｃｍ２以下、より好ましくは７０Ｗ／ｃｍ２以下、さらに好ましくは５０Ｗ／ｃｍ２以下であり得る。かかる照射強度でプラズマを照射することにより、電子デバイスの機能を維持しつつ、表示パネルの表面を第１の層の形成に適した状態とし得る。
【0033】
上記プラズマの照射は、好ましくは１ｍｍ以上３００ｍｍ以下、より好ましくは１．５ｍｍ以上２００ｍｍ以下、さらに好ましくは２ｍｍ以上１００ｍｍ以下の照射距離で実施され得る。上記照射距離は、好ましくは１ｍｍ以上、より好ましくは１．５ｍｍ以上、さらに好ましくは２ｍｍ以上であり、好ましくは３００ｍｍ以下、より好ましくは２００ｍｍ以下、さらに好ましくは１００ｍｍ以下であり得る。かかる照射距離でプラズマを照射することにより、電子デバイスの機能を維持しつつ、表示パネルの表面を第１の層の形成に適した状態とし得る。
本開示において、照射距離は、プラズマの発射位置から照射対象のまでの直線距離としてよい。
本開示において、照射距離は、プラズマの発射位置から照射対象のまでの直線距離としてよい。
【0034】
上記プラズマの照射は、プラズマを走査しながら実施されることが好ましく、かかる態様におけるプラズマの照射速度（走査速度）は、好ましくは１ｍｍ／秒以上５０ｍｍ／秒以下、より好ましくは３ｍｍ／秒以上２０ｍｍ／秒以下、さらに好ましくは５ｍｍ／秒以上１０ｍｍ／秒以下であり得る。上記照射速度（走査速度）は、好ましくは１ｍｍ／秒以上、より好ましくは３ｍｍ／秒以上、さらに好ましくは５ｍｍ／秒以上であり、好ましくは５０ｍｍ／秒以下、より好ましくは２０ｍｍ／秒以下、さらに好ましくは１０ｍｍ／秒以下であり得る。かかる照射速度（走査速度）でプラズマを照射することにより、電子デバイスの機能を維持しつつ、表示パネルの表面を第１の層の形成に適した状態とし得る。
【0035】
上記プラズマの照射は、好ましくは１秒以上６０分以下、より好ましくは３秒以上３０分以下、さらに好ましくは３秒以上１０分以下の照射時間で実施され得る。上記照射時間は、好ましくは１秒以上、より好ましくは３秒以上であり、好ましくは６０分以下、より好ましくは３０分以下、さらに好ましくは１０分以下であり得る。かかる照射時間で低温プラズマを照射することにより、電子デバイスの機能を維持しつつ、表示パネルの表面を第１の層の形成に適した状態とし得る。
【0036】
上記プラズマの照射は、好ましくは、プラズマ温度６０℃以下、より好ましくはプラズマ温度５０℃以下、さらに好ましくはプラズマ温度０℃以上４８℃以下、特に好ましくはプラズマ温度１０℃以上４５℃以下で実施され得る。上記プラズマ温度は、プラズマ噴出口から１０ｍｍの位置における温度としてよい。これにより、電子デバイスの機能を維持しつつ、表示パネルの表面を第１の層の形成に適した状態とし得る。
【0037】
上記表示パネルの表面のプラズマを照射した領域において、後述する表面処理剤を適用する前の水接触角は、例えば５０°以下、さらに３０°以下、特に１０°以下であり得、代表的には、１°以上、さらに５°以上であり得る。
【0038】
次に、少なくとも、プラズマを照射した領域に、表面処理剤を適用して、第１の表面処理層を形成する。これにより、第１の表面処理層が形成された領域において、撥水性、撥油性、滑り性、指紋付着性、防汚性、反射防止性、防曇性等の表面特性が回復され得る。
【0039】
上記表面処理剤の適用は、上記プラズマの照射を終了した後、好ましくは０分後６０分以内、より好ましくは０分後３０分以内、さらに好ましくは０分後１０分以内、さらに好ましくは０分後３分以内に実施されることが好ましい。これにより、プラズマの照射後の状態を維持したまま、表示パネル表面に表面処理剤を適用できる。
【0040】
上記表面処理剤の適用は、上記表面処理剤を上記表示パネルの表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用でき、好ましくは湿潤被覆法が使用される。
【0041】
湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、刷毛塗り、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられ、スプレーコーティングが好ましい
【0042】
表面処理剤の層形成は、層中で本開示の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本開示の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本開示の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。
【0043】
触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。
【0044】
表面処理剤を適用した後、必要に応じて乾燥させてもよい。かかる乾燥により、後述する含フッ素シラン化合物の加水分解および脱水縮合が促進され、溶媒等が除去され得る。
【0045】
上記前駆体層の乾燥は、好ましくは０℃以上６０℃以下、より好ましくは５℃以上５０℃以下、さらに好ましくは１０℃以上３０℃以下の温度で実施され得、好ましくは１時間以上４８時間以下、より好ましくは３時間以上２４時間以下、さらに好ましくは６時間以上１２時間以下の時間で実施され得る。
【0046】
第１の表面処理層を形成した後において、第１の表面処理層が形成された領域における上記表示パネルの表面の水接触角は、好ましくは１００°以上、より好ましくは１０２°以上、さらに好ましくは１０５°以上、いっそう好ましくは１０８°以上、よりさらに好ましくは１１０°以上、よりいっそう好ましくは１１３°以上であり、例えば１３０°以下、さらに１２０°以下であってよい。
【0047】
第１の表面処理層を形成した後において、第１の層が形成された領域における上記表示パネルの表面の動摩擦係数は、好ましくは０．３以下、より好ましくは０．０１以上０．２以下、さらに好ましくは０．０２以上０．１以下であり得る。
【0048】
上記第１の層の厚さは、特に限定されない。上記第１の層の厚さは、１～５０ｎｍ、１～３０ｎｍ、好ましくは１～１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、摩耗耐久性および防汚性の点から好ましい。
【0049】
第１の層を形成した後、表示パネルの表面の拭き取り等を実施してもよい。これにより、表示パネルの表面に残存し得る余剰成分を除去することができる。
【0050】
上記表面処理剤は、含フッ素シラン化合物を含む。
【0051】
上記含フッ素シラン化合物は、含フッ素基と、シランとを少なくとも含む化合物であり、好ましくは、以下の式（１）、（２）：
［式中：
ＲＦ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０又は１であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子又は１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
少なくとも１つのＲＳｉは、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
ＸＡは、それぞれ独立して、単結合又は２～１０価の有機基であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数である。］
で表される少なくとも１種の含フッ素シラン化合物を含む。
【化2】
ＲＦ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０又は１であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子又は１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
少なくとも１つのＲＳｉは、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
ＸＡは、それぞれ独立して、単結合又は２～１０価の有機基であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数である。］
で表される少なくとも１種の含フッ素シラン化合物を含む。
【0052】
上記式（１）において、ＲＦ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－またはフルオロアルキル基である。一の態様において、ＲＦ１は、好ましくは、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－であり、別の態様において、ＲＦ１は、好ましくは、フルオロアルキル基である。ＲＦ１がＲｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－である場合、式（１）で表される化合物は、フルオロポリエーテル基を含み、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物に該当する。
【0053】
上記式（２）において、ＲＦ２は、－Ｒｆ２
ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－またはフルオロアルキレン基である。一の態様において、ＲＦ２は、好ましくは、Ｒｆ２
ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－であり、別の態様において、ＲＦ２は、好ましくは、フルオロアルキレン基である。ＲＦ２がＲｆ２
ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－である場合、式（２）で表される化合物は、フルオロポリエーテル基を含み、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物に該当する。
【0054】
上記式において、Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基である。
【0055】
上記１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基における「Ｃ１－１６アルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ１－６アルキル基、特にＣ１－３アルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ１－６アルキル基、特にＣ１－３アルキル基である。
【0056】
上記Ｒｆ１は、好ましくは、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ１－１６アルキル基であり、より好ましくはＣＦ２Ｈ－Ｃ１－１５パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ１－１６パーフルオロアルキル基である。
【0057】
上記Ｃ１－１６パーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ１－３パーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ１－３パーフルオロアルキル基、具体的には－ＣＦ３、－ＣＦ２ＣＦ３、又は－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３である。
【0058】
上記式において、Ｒｆ２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基である。
【0059】
上記１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基における「Ｃ１－６アルキレン基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ１－３アルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ１－３アルキレン基である。
【0060】
上記Ｒｆ２は、好ましくは、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ１－６アルキレン基であり、より好ましくはＣ１－６パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ１－３パーフルオロアルキレン基である。
【0061】
上記Ｃ１－６パーフルオロアルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ１－３パーフルオロアルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ１－３パーフルオロアルキレン基、具体的には－ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＦ２－、又は－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－である。
【0062】
上記式において、ｐは、０又は１である。一の態様において、ｐは０である。別の態様においてｐは１である。
【0063】
上記式において、ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０又は１である。一の態様において、ｑは０である。別の態様においてｑは１である。
【0064】
上記式（１）及び（２）において、ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基である。
【0065】
ＲＦは、好ましくは、下記：
－（ＯＣｈ１ＲＦａ ２ｈ１）ｈ３－（ＯＣｈ２ＲＦａ ２ｈ２－２）ｈ４－
［式中：
ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、
ｈ１は、１～６の整数であり、
ｈ２は、４～８の整数であり、
ｈ３は、０以上の整数であり、
ｈ４は、０以上の整数であり、
だたし、ｈ３とｈ４の合成は、１以上、好ましくは２以上、より好ましくは５以上であり、ｈ３及びｈ４を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される基を含み得る。
－（ＯＣｈ１ＲＦａ ２ｈ１）ｈ３－（ＯＣｈ２ＲＦａ ２ｈ２－２）ｈ４－
［式中：
ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、
ｈ１は、１～６の整数であり、
ｈ２は、４～８の整数であり、
ｈ３は、０以上の整数であり、
ｈ４は、０以上の整数であり、
だたし、ｈ３とｈ４の合成は、１以上、好ましくは２以上、より好ましくは５以上であり、ｈ３及びｈ４を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される基を含み得る。
【0066】
一の態様において、ＲＦは、直鎖状、又は分枝鎖状であり得る。ＲＦは、好ましくは、式：
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
［式中：
ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は１以上である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。ただし、すべてのＲＦａが水素原子又は塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅ及びｆの少なくとも１つは、１以上である。］
で表される基である。
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
［式中：
ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は１以上である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。ただし、すべてのＲＦａが水素原子又は塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅ及びｆの少なくとも１つは、１以上である。］
で表される基である。
【0067】
ＲＦａは、好ましくは、水素原子又はフッ素原子であり、より好ましくは、フッ素原子である。ただし、すべてのＲＦａが水素原子又は塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅ及びｆの少なくとも１つは、１以上である。
【0068】
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、好ましくは、それぞれ独立して、０～１００の整数であってもよい。
【0069】
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上又は２０以上であってもよい。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１００以下、さらに好ましくは６０以下であり、例えば５０以下又は３０以下であってもよい。
【0070】
これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよく、環構造を含んでいてもよい。例えば、－（ＯＣ６Ｆ１２）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－等であってもよい。－（ＯＣ５Ｆ１０）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－等であってもよい。－（ＯＣ４Ｆ８）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）－及び－（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））－のいずれであってもよい。－（ＯＣ３Ｆ６）－（即ち、上記式中、ＲＦａはフッ素原子である）は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－及び－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－のいずれであってもよい。－（ＯＣ２Ｆ４）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－及び－（ＯＣＦ（ＣＦ３））－のいずれであってもよい。
【0071】
一の態様において、上記繰り返し単位は直鎖状である。上記繰り返し単位を直鎖状とすることにより、表面処理層の表面滑り性、摩耗耐久性等を向上させることができる。
【0072】
一の態様において、上記繰り返し単位は分枝鎖状である。上記繰り返し単位を分枝鎖状とすることにより、表面処理層の動摩擦係数を大きくすることができる。
【0073】
一の態様において、ＲＦは、環構造を含み得る。
【0074】
上記環構造は、下記三員環、四員環、五員環、又は六員環であり得る。
【0075】
【化3】
【0076】
上記環構造は、好ましくは四員環、五員環、又は六員環、より好ましくは四員環、又は六員環であり得る。
【0077】
環構造を有する繰り返し単位は、好ましくは、下記の単位であり得る。
【0078】
【化4】
【0079】
一の態様において、上記繰り返し単位は直鎖状である。上記繰り返し単位を直鎖状とすることにより、表面処理層の表面滑り性、摩耗耐久性等を向上させることができる。
【0080】
一の態様において、上記繰り返し単位は分枝鎖状である。上記繰り返し単位を分枝鎖状とすることにより、表面処理層の動摩擦係数を大きくすることができる。
【0081】
一の態様において、ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）～（ｆ６）のいずれかで表される基である。
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－ （ｆ１）
［式中、ｄは、１～２００の整数であり、ｅは０又は１である。］；
－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－ （ｆ２）
［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅ及びｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は２以上であり、
添字ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］；
－（Ｒ６－Ｒ７）ｇ－ （ｆ３）
［式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり、
Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２～１００の整数である。］；
－（Ｒ６－Ｒ７）ｇ－Ｒｒ－（Ｒ７’－Ｒ６’）ｇ’－ （ｆ４）
［式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり、
Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
Ｒ６’は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり、
Ｒ７’は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２～１００の整数であり、
ｇ’は、２～１００の整数であり、
Ｒｒは、
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－ （ｆ１）
［式中、ｄは、１～２００の整数であり、ｅは０又は１である。］；
－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－ （ｆ２）
［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅ及びｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は２以上であり、
添字ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］；
－（Ｒ６－Ｒ７）ｇ－ （ｆ３）
［式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり、
Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２～１００の整数である。］；
－（Ｒ６－Ｒ７）ｇ－Ｒｒ－（Ｒ７’－Ｒ６’）ｇ’－ （ｆ４）
［式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり、
Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
Ｒ６’は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり、
Ｒ７’は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２～１００の整数であり、
ｇ’は、２～１００の整数であり、
Ｒｒは、
【0082】
【化5】
である。］；
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－ （ｆ５）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－ （ｆ６）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
【0083】
上記式（ｆ１）において、ｄは、好ましくは５～２００、より好ましくは１０～１００、さらに好ましくは１５～５０、例えば２５～３５の整数である。上記式（ｆ１）におけるＯＣ３Ｆ６は、好ましくは、（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）、（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）または（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））であり、より好ましくは、（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）である。上記式（ｆ１）における（ＯＣ２Ｆ４）は、好ましくは、（ＯＣＦ２ＣＦ２）または（ＯＣＦ（ＣＦ３））であり、より好ましくは、（ＯＣＦ２ＣＦ２）である。一の態様において、ｅは０である。別の態様において、ｅは１である。
【0084】
上記式（ｆ２）において、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、好ましくは５～２００、より好ましくは１０～２００の整数である。また、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上又は２０以上であってもよい。一の態様において、上記式（ｆ２）は、好ましくは、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｃ－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ－（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－で表される基である。別の態様において、式（ｆ２）は、－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－で表される基であってもよい。
【0085】
上記式（ｆ３）において、Ｒ６は、好ましくは、ＯＣ２Ｆ４である。上記（ｆ３）において、Ｒ７は、好ましくは、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６及びＯＣ４Ｆ８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、より好ましくは、ＯＣ３Ｆ６及びＯＣ４Ｆ８から選択される基である。ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６及びＯＣ４Ｆ８から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、及び－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４－等が挙げられる。上記式（ｆ３）において、ｇは、好ましくは３以上、より好ましくは５以上の整数である。上記ｇは、好ましくは５０以下の整数である。上記式（ｆ３）において、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２は、直鎖又は分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、上記式（ｆ３）は、好ましくは、－（ＯＣ２Ｆ４－ＯＣ３Ｆ６）ｇ－又は－（ＯＣ２Ｆ４－ＯＣ４Ｆ８）ｇ－である。
【0086】
上記式（ｆ４）において、Ｒ６、Ｒ７及びｇは、上記式（ｆ３）の記載と同意義であり、同様の態様を有する。Ｒ６’、Ｒ７’及びｇ’は、それぞれ、上記式（ｆ３）に記載のＲ６、Ｒ７及びｇと同意義であり、同様の態様を有する。Ｒｒは、好ましくは、
【0087】
【化6】
であり、より好ましくは
【0088】
【化7】
である。
【0089】
上記式（ｆ５）において、ｅは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。
【0090】
上記式（ｆ６）において、ｆは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。
【0091】
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ１）で表される基である。
【0092】
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ２）で表される基である。
【0093】
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ３）で表される基である。
【0094】
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ４）で表される基である。
【0095】
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ５）で表される基である。
【0096】
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ６）で表される基である。
【0097】
一の態様において、上記第１の表面処理層に含まれる含フッ素シラン化合物は、第１の表面処理層の滑り性の観点から、上記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ５）または（ｆ６）で表される構造を含むことが好ましく、上記式（ｆ１）または（ｆ２）で表される構造を含むことがより好ましく、上記式（ｆ１）で表される構造を含むことがさらに好ましい。
【0098】
一の態様において、上記第２の層に含まれ得る含フッ素シラン化合物は、上記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）、（ｆ５）または（ｆ６）で表される構造を含むことが好ましく、上記式（ｆ１）または（ｆ２）で表される構造を含むことがより好ましく、上記式（ｆ２）で表される構造を含むことがさらに好ましい。
【0099】
上記ＲＦにおいて、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、０．１～１０であり、好ましくは０．２～５であり、より好ましくは０．２～２であり、さらに好ましくは０．２～１．５であり、さらにより好ましくは０．２～０．８５である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、この化合物から得られる表面処理層の滑り性、摩耗耐久性及び耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性及び摩耗耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。
【0100】
ＲＦ１で表されるフルオロアルキル基は、アルキル基に含まれる水素原子がフッ素原子に置き換わった基であり、直鎖状であっても分枝鎖状であってもよい。上記ＲＦ１で表されるフルオロアルキル基は、好ましくは、Ｃ１－５０フルオロアルキル基、より好ましくはＣ１－２０フルオロアルキル基、さらに好ましくはＣ１－１６フルオロアルキル基であり、例えば、Ｃ１－１０フルオロアルキル基、さらにＣ１－６フルオロアルキル基、特にＣ１－３フルオロアルキル基であってもよい。一の態様において、ＲＦ１で表されるフルオロアルキル基は、全ての水素原子がフッ素原子で置換されたパーフルオロアルキル基である。かかる態様において、上記パーフルオロアルキル基は、好ましくは、直鎖状または分枝鎖状のＣ１－５０パーフルオロアルキル基、より好ましくは、直鎖状または分枝鎖状のＣ１－２０パーフルオロアルキル基、さらに好ましくは、直鎖状または分枝鎖状のＣ１－１６パーフルオロアルキル基であり、例えば、直鎖状または分枝鎖状のＣ１－１０パーフルオロアルキル基、さらに直鎖状または分枝鎖状のＣ１－６パーフルオロアルキル基、特に直鎖状または分枝鎖状のＣ１－３パーフルオロアルキル基であってよい。
【0101】
ＲＦ２で表されるフルオロアルキレン基は、アルキレン基に含まれる水素原子がフッ素原子に置き換わった基であり、直鎖状であっても分枝鎖状であってもよい。上記ＲＦ２で表されるフルオロアルキレン基は、好ましくは、Ｃ１－５０フルオロアルキレン基、より好ましくはＣ１－２０フルオロアルキレン基、さらに好ましくはＣ１－１６フルオロアルキレン基であり、例えば、Ｃ１－１０フルオロアルキレン基、さらにＣ１－６フルオロアルキレン基、特にＣ１－３フルオロアルキレン基であってもよい。一の態様において、ＲＦ２で表されるフルオロアルキレン基は、全ての水素原子がフッ素原子で置換されたパーフルオロアルキレン基である。かかる態様において、上記パーフルオロアルキレン基は、好ましくは、直鎖状または分枝鎖状のＣ１－５０パーフルオロアルキレン基、より好ましくは、直鎖状または分枝鎖状のＣ１－２０パーフルオロアルキレン基、さらに好ましくは、直鎖状または分枝鎖状のＣ１－１６パーフルオロアルキレン基であり、例えば、直鎖状または分枝鎖状のＣ１－１０パーフルオロアルキレン基、さらに直鎖状または分枝鎖状のＣ１－６パーフルオロアルキレン基、特に直鎖状または分枝鎖状のＣ１－３パーフルオロアルキレン基であってもよい。
【0102】
上記含フッ素シラン化合物において、ＲＦ１及びＲＦ２部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００～３０，０００、好ましくは１，５００～３０，０００、より好ましくは２，０００～１０，０００である。本明細書において、ＲＦ１及びＲＦ２の数平均分子量は、１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。
【0103】
別の態様において、ＲＦ１及びＲＦ２部分の数平均分子量は、５００～３０，０００、好ましくは１，０００～２０，０００、より好ましくは２，０００～１５，０００、さらにより好ましくは２，０００～１０，０００、例えば３，０００～６，０００であり得る。
【0104】
別の態様において、ＲＦ１及びＲＦ２部分の数平均分子量は、４，０００～３０，０００、好ましくは５，０００～１０，０００、より好ましくは６，０００～１０，０００であり得る。
【0105】
上記式（１）及び（２）において、ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子又は１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり、少なくとも１つのＲＳｉは、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基である。
【0106】
ここに、「加水分解性基」とは、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解性基の例としては、－ＯＲｊ、－ＯＣＯＲｊ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲｊ
２、－ＮＲｊ
２、－ＮＨＲｊ、－ＮＣＯ、ハロゲン（これら式中、Ｒｊは、置換又は非置換のＣ１－４アルキル基を示す）などが挙げられる。
【0107】
好ましい態様において、ＲＳｉは、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基である。
【0108】
好ましい態様において、ＲＳｉは、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、又は（Ｓ４）：
で表される基である。
【化8】
【0109】
上記式中、Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。
【0110】
Ｒ１１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。
【0111】
Ｒ１１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲｊ、－ＯＣＯＲｊ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲｊ
２、－ＮＲｊ
２、－ＮＨＲｊ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒｊは、置換又は非置換のＣ１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲｊ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒｊとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒｊは、メチル基であり、別の態様において、Ｒｊは、エチル基である。
【0112】
上記式中、Ｒ１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。
【0113】
Ｒ１２において、１価の有機基は、好ましくはＣ１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【0114】
上記式中、ｎ１は、（ＳｉＲ１１
ｎ１Ｒ１２
３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、ＲＳｉが式（Ｓ１）又は（Ｓ２）で表される基である場合、式（１）及び式（２）の末端のＲＳｉ部分（以下、単に式（１）及び式（２）の「末端部分」ともいう）において、ｎ１が１～３である（ＳｉＲ１１
ｎ１Ｒ１２
３－ｎ１）単位が少なくとも１つ存在する。即ち、かかる末端部分において、すべてのｎ１が同時に０になることはない。換言すれば、式（１）及び式（２）の末端部分において、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。
【0115】
ｎ１は、（ＳｉＲ１１
ｎ１Ｒ１２
３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。
【0116】
上記式中、Ｘ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は２価の有機基である。かかる２価の有機基は、好ましくは－Ｒ２８－Ｏｘ－Ｒ２９－（式中、Ｒ２８及びＲ２９は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又はＣ１－２０アルキレン基であり、ｘは０又は１である。）である。かかるＣ１－２０アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。かかるＣ１－２０アルキレン基は、好ましくはＣ１－１０アルキレン基、より好ましくはＣ１－６アルキレン基、さらに好ましくはＣ１－３アルキレン基である。
【0117】
一の態様において、Ｘ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｃ１－６アルキレン－Ｏ－Ｃ１－６アルキレン－又は－Ｏ－Ｃ１－６アルキレン－である。
【0118】
好ましい態様において、Ｘ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は直鎖のＣ１－６アルキレン基であり、好ましくは単結合又は直鎖のＣ１－３アルキレン基、より好ましくは単結合又は直鎖のＣ１－２アルキレン基であり、さらに好ましくは直鎖のＣ１－２アルキレン基である。
【0119】
上記式中、Ｒ１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、好ましくはＣ１－２０アルキル基である。かかるＣ１－２０アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。
【0120】
好ましい態様において、Ｒ１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は直鎖のＣ１－６アルキル基であり、好ましくは水素原子又は直鎖のＣ１－３アルキル基、好ましくは水素原子又はメチル基である。
【0121】
上記式中、ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上の整数である。
【0122】
好ましい態様において、ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２～１０の整数、好ましくは２～６の整数である。
【0123】
上記式中、Ｒ１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は－Ｘ１１－ＳｉＲ１１
ｎ１Ｒ１２
３－ｎ１である。かかるハロゲン原子は、好ましくはヨウ素原子、塩素原子又はフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。好ましい態様において、Ｒ１４は、水素原子である。
【0124】
上記式中、Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基又は炭素数１～６のアルキレンオキシ基である。
【0125】
一の態様において、Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基又は炭素数１～６のアルキレンオキシ基である。
【0126】
好ましい態様において、Ｒ１５は、単結合である。
【0127】
一の態様において、式（Ｓ１）は、下記式（Ｓ１－ａ）である。
［式中、
Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｘ１１、及びｎ１は、上記式（Ｓ１）の記載と同意義であり；
ｔ１及びｔ２は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上の整数、好ましくは１～１０の整数、より好ましくは２～１０の整数、例えば１～５の整数又は２～５の整数であり；
ｔ１及びｔ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
【化9】
Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｘ１１、及びｎ１は、上記式（Ｓ１）の記載と同意義であり；
ｔ１及びｔ２は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上の整数、好ましくは１～１０の整数、より好ましくは２～１０の整数、例えば１～５の整数又は２～５の整数であり；
ｔ１及びｔ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
【0128】
好ましい態様において、式（Ｓ１）は、下記式（Ｓ１－ｂ）である。
［式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｘ１１、ｎ１及びｔは、上記式（Ｓ１）の記載と同意義である］
【化10】
【0129】
上記式中、Ｒａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ１－ＳｉＲ２１
ｐ１Ｒ２２
ｑ１Ｒ２３
ｒ１である。
【0130】
上記Ｚ１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ１として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ２１
ｐ１Ｒ２２
ｑ１Ｒ２３
ｒ１）に結合する。
【0131】
好ましい態様において、Ｚ１は、２価の有機基である。
【0132】
好ましい態様において、Ｚ１は、Ｚ１が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ－Ｚ１－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。
【0133】
上記Ｚ１は、好ましくは、Ｃ１－６アルキレン基、－（ＣＨ２）ｚ１－Ｏ－（ＣＨ２）ｚ２－（式中、ｚ１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ２）ｚ３－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ４－（式中、ｚ３は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、及びＣ２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。
【0134】
好ましい態様において、Ｚ１は、Ｃ１－６アルキレン基又は－（ＣＨ２）ｚ３－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ４－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ４－である。Ｚ１がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。
【0135】
別の好ましい態様において、上記Ｚ１は、Ｃ１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ１は、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。別の態様において、Ｚ１は、－ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。
【0136】
上記Ｒ２１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ１’－ＳｉＲ２１’
ｐ１’Ｒ２２’
ｑ１’Ｒ２３’
ｒ１’である。
【0137】
上記Ｚ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ１’として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ２１’
ｐ１’Ｒ２２’
ｑ１’Ｒ２３’
ｒ１’）に結合する。
【0138】
好ましい態様において、Ｚ１’は、２価の有機基である。
【0139】
好ましい態様において、Ｚ１’は、Ｚ１’が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ－Ｚ１’－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。
【0140】
上記Ｚ１’は、好ましくは、Ｃ１－６アルキレン基、－（ＣＨ２）ｚ１’－Ｏ－（ＣＨ２）ｚ２’－（式中、ｚ１’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ２）ｚ３’－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ４’－（式中、ｚ３’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、及びＣ２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。
【0141】
好ましい態様において、Ｚ１’は、Ｃ１－６アルキレン基又は－（ＣＨ２）ｚ３’－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ４’－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ４’－である。Ｚ１’がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。
【0142】
別の好ましい態様において、上記Ｚ１’は、Ｃ１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ１’は、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。別の態様において、Ｚ１’は、－ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。
【0143】
上記Ｒ２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ１”－ＳｉＲ２２”
ｑ１”Ｒ２３”
ｒ１”である。
【0144】
上記Ｚ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ１”として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ２２”
ｑ１”Ｒ２３”
ｒ１”）に結合する。
【0145】
好ましい態様において、Ｚ１”は、２価の有機基である。
【0146】
好ましい態様において、Ｚ１”は、Ｚ１”が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ－Ｚ１”－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。
【0147】
上記Ｚ１”は、好ましくは、Ｃ１－６アルキレン基、－（ＣＨ２）ｚ１”－Ｏ－（ＣＨ２）ｚ２”－（式中、ｚ１”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ２）ｚ３”－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ４”－（式中、ｚ３”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、及びＣ２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。
【0148】
好ましい態様において、Ｚ１”は、Ｃ１－６アルキレン基又は－（ＣＨ２）ｚ３”－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ４”－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ４”－である。Ｚ１”がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。
【0149】
別の好ましい態様において、上記Ｚ１”は、Ｃ１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ１”は、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。別の態様において、Ｚ１”は、－ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。
【0150】
上記Ｒ２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。
【0151】
上記Ｒ２２”は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。
【0152】
上記Ｒ２２”は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲｊ、－ＯＣＯＲｊ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲｊ
２、－ＮＲｊ
２、－ＮＨＲｊ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒｊは、置換又は非置換のＣ１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲｊ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒｊとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒｊは、メチル基であり、別の態様において、Ｒｊは、エチル基である。
【0153】
上記Ｒ２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。
【0154】
上記Ｒ２３”において、１価の有機基は、好ましくはＣ１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【0155】
上記ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、上記ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｑ１”とｒ１”の合計は、（ＳｉＲ２２”
ｑ１”Ｒ２３”
ｒ１”）単位において、３である。
【0156】
上記ｑ１”は、（ＳｉＲ２２”
ｑ１”Ｒ２３”
ｒ１”）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。
【0157】
上記Ｒ２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。
【0158】
Ｒ２２’は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。
【0159】
Ｒ２２’は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲｊ、－ＯＣＯＲｊ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲｊ
２、－ＮＲｊ
２、－ＮＨＲｊ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒｊは、置換又は非置換のＣ１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲｊ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒｊとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒｊは、メチル基であり、別の態様において、Ｒｊは、エチル基である。
【0160】
上記Ｒ２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。
【0161】
Ｒ２３’において、１価の有機基は、好ましくはＣ１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【0162】
上記ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ’、ｑ１’とｒ１’の合計は、（ＳｉＲ２１’
ｐ１’Ｒ２２’
ｑ１’Ｒ２３’
ｒ１’）単位において、３である。
【0163】
一の態様において、ｐ１’は、０である。
【0164】
一の態様において、ｐ１’は、（ＳｉＲ２１’
ｐ１’Ｒ２２’
ｑ１’Ｒ２３’
ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、又は３であってもよい。好ましい態様において、ｐ１’は、３である。
【0165】
一の態様において、ｑ１’は、（ＳｉＲ２１’
ｐ１’Ｒ２２’
ｑ１’Ｒ２３’
ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。
【0166】
一の態様において、ｐ１’は０であり、ｑ１’は、（ＳｉＲ２１’
ｐ１’Ｒ２２’
ｑ１’Ｒ２３’
ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、さらに好ましくは３である。
【0167】
上記Ｒ２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。
【0168】
Ｒ２２は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。
【0169】
Ｒ２２は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲｊ、－ＯＣＯＲｊ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲｊ
２、－ＮＲｊ
２、－ＮＨＲｊ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒｊは、置換又は非置換のＣ１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲｊ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒｊとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒｊは、メチル基であり、別の態様において、Ｒｊは、エチル基である。
【0170】
上記Ｒ２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。
【0171】
Ｒ２３において、１価の有機基は、好ましくはＣ１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【0172】
上記ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ１、ｑ１とｒ１の合計は、（ＳｉＲ２１
ｐ１Ｒ２２
ｑ１Ｒ２３
ｒ１）単位において、３である。
【0173】
一の態様において、ｐ１は、０である。
【0174】
一の態様において、ｐ１は、（ＳｉＲ２１
ｐ１Ｒ２２
ｑ１Ｒ２３
ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、又は３であってもよい。好ましい態様において、ｐ１は、３である。
【0175】
一の態様において、ｑ１は、（ＳｉＲ２１
ｐ１Ｒ２２
ｑ１Ｒ２３
ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。
【0176】
一の態様において、ｐ１は０であり、ｑ１は、（ＳｉＲ２１
ｐ１Ｒ２２
ｑ１Ｒ２３
ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、さらに好ましくは３である。
【0177】
上記式中、Ｒｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。
【0178】
上記Ｒｂ１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。
【0179】
上記Ｒｂ１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲｊ、－ＯＣＯＲｊ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲｊ
２、－ＮＲｊ
２、－ＮＨＲｊ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒｊは、置換又は非置換のＣ１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲｊ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒｊとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒｊは、メチル基であり、別の態様において、Ｒｊは、エチル基である。
【0180】
上記式中、Ｒｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。
【0181】
上記Ｒｃ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【0182】
上記ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｋ１、ｌ１とｍ１の合計は、（ＳｉＲａ１
ｋ１Ｒｂ１
ｌ１Ｒｃ１
ｍ１）単位において、３である。
【0183】
一の態様において、ｋ１は、（ＳｉＲａ１
ｋ１Ｒｂ１
ｌ１Ｒｃ１
ｍ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。好ましい態様において、ｋ１は、３である。
【0184】
上記式（１）及び（２）において、ＲＳｉが式（Ｓ３）で表される基である場合、好ましくは、式（１）及び式（２）の末端部分において、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。
【0185】
好ましい態様において、式（Ｓ３）で表される基は、－Ｚ１－ＳｉＲ２２
ｑ１Ｒ２３
ｒ１（式中、ｑ１は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３であり、ｒ１は、０～２の整数である。）、－Ｚ１’－ＳｉＲ２２’
ｑ１’Ｒ２３’
ｒ１’（式中、ｑ１’は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３であり、ｒ１’は、０～２の整数である。）、又は－Ｚ１”－ＳｉＲ２２”
ｑ１”Ｒ２３”
ｒ１”（式中、ｑ１”は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３であり、ｒ１”は、０～２の整数である。）のいずれか１つを有する。Ｚ１、Ｚ１’、Ｚ１”、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２２’、Ｒ２３’、Ｒ２２”、及びＲ２３”は、上記と同意義である。
【0186】
好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ２１’が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ２１’において、ｑ１”は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。
【0187】
好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ２１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ２１において、ｐ１’は、０であり、ｑ１’は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。
【0188】
好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒａ１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲａ１において、ｐ１は、０であり、ｑ１は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。
【0189】
好ましい態様において、式（Ｓ３）において、ｋ１は２又は３、好ましくは３であり、ｐ１は０であり、ｑ１は２又は３、好ましくは３である。
【0190】
Ｒｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ２－ＣＲ３１
ｐ２Ｒ３２
ｑ２Ｒ３３
ｒ２である。
【0191】
Ｚ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ２として記載する構造は、右側が（ＣＲ３１
ｐ２Ｒ３２
ｑ２Ｒ３３
ｒ２）に結合する。
【0192】
好ましい態様において、Ｚ２は、２価の有機基である。
【0193】
上記Ｚ２は、好ましくは、Ｃ１－６アルキレン基、－（ＣＨ２）ｚ５－Ｏ－（ＣＨ２）ｚ６－（式中、ｚ５は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ２）ｚ７－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ８－（式中、ｚ７は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、及びＣ２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。
【0194】
好ましい態様において、Ｚ２は、Ｃ１－６アルキレン基又は－（ＣＨ２）ｚ７－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ８－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ８－である。Ｚ２がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。
【0195】
別の好ましい態様において、上記Ｚ２は、Ｃ１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ２は、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。別の態様において、Ｚ２は、－ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。
【0196】
Ｒ３１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ２’－ＣＲ３２’
ｑ２’Ｒ３３’
ｒ２’である。
【0197】
Ｚ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ２’として記載する構造は、右側が（ＣＲ３２’
ｑ２’Ｒ３３’
ｒ２’）に結合する。
【0198】
上記Ｚ２’は、好ましくは、Ｃ１－６アルキレン基、－（ＣＨ２）ｚ５’－Ｏ－（ＣＨ２）ｚ６’－（式中、ｚ５’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ２）ｚ７’－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ８’－（式中、ｚ７’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、及びＣ２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。
【0199】
好ましい態様において、Ｚ２’は、Ｃ１－６アルキレン基又は－（ＣＨ２）ｚ７’－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ８’－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ８’－である。Ｚ２’がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。
【0200】
別の好ましい態様において、上記Ｚ２’は、Ｃ１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ２’は、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。別の態様において、Ｚ２’は、－ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。
【0201】
上記Ｒ３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ３－ＳｉＲ３４
ｎ２Ｒ３５
３－ｎ２である。
【0202】
上記Ｚ３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ３として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ３４
ｎ２Ｒ３５
３－ｎ２）に結合する。
【0203】
一の態様において、Ｚ３は酸素原子である。
【0204】
一の態様において、Ｚ３は２価の有機基である。
【0205】
上記Ｚ３は、好ましくは、Ｃ１－６アルキレン基、－（ＣＨ２）ｚ５”－Ｏ－（ＣＨ２）ｚ６”－（式中、ｚ５”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ２）ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ８”－（式中、ｚ７”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、及びＣ２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。
【0206】
好ましい態様において、Ｚ３は、Ｃ１－６アルキレン基又は－（ＣＨ２）ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ８”－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ８”－である。Ｚ３がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。
【0207】
別の好ましい態様において、上記Ｚ３は、Ｃ１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ３は、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。別の態様において、Ｚ３は、－ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。
【0208】
上記Ｒ３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。
【0209】
Ｒ３４は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。
【0210】
Ｒ３４は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲｊ、－ＯＣＯＲｊ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲｊ
２、－ＮＲｊ
２、－ＮＨＲｊ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒｊは、置換又は非置換のＣ１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲｊ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒｊとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒｊは、メチル基であり、別の態様において、Ｒｊは、エチル基である。
【0211】
上記Ｒ３５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。
【0212】
上記Ｒ３５において、１価の有機基は、好ましくはＣ１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【0213】
上記式中、ｎ２は、（ＳｉＲ３４
ｎ２Ｒ３５
３－ｎ２）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、ＲＳｉが式（Ｓ４）で表される基である場合、式（１）及び式（２）の末端部分において、ｎ２が１～３である（ＳｉＲ３４
ｎ２Ｒ３５
３－ｎ２）単位が少なくとも１つ存在する。即ち、かかる末端部分において、すべてのｎ２が同時に０になることはない。換言すれば、式（１）及び式（２）の末端部分において、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。
【0214】
ｎ２は、（ＳｉＲ３４
ｎ２Ｒ３５
３－ｎ２）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。
【0215】
上記Ｒ３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。
【0216】
上記Ｒ３３’において、１価の有機基は、好ましくはＣ１－２０アルキル基又は－（ＣｓＨ２ｓ）ｔ１－（Ｏ－ＣｓＨ２ｓ）ｔ２（式中、ｓは、１～６の整数、好ましくは２～４の整数であり、ｔ１は１又は０、好ましくは０であり、ｔ２は、１～２０の整数、好ましくは２～１０の整数、より好ましくは２～６の整数である。）であり、より好ましくはＣ１－２０アルキル基、さらに好ましくはＣ１－６アルキル基、特に好ましくはメチル基である。
【0217】
一の態様において、Ｒ３３’は、水酸基である。
【0218】
別の態様において、Ｒ３３’は、１価の有機基、好ましくはＣ１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１－６アルキル基である。
【0219】
上記ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、上記ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｑ２’とｒ２’の合計は、（ＣＲ３２’
ｑ２’Ｒ３３’
ｒ２’）単位において、３である。
【0220】
ｑ２’は、（ＣＲ３２’
ｑ２’Ｒ３３’
ｒ２’）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。
【0221】
Ｒ３２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ３－ＳｉＲ３４
ｎ２Ｒ３５
３－ｎ２である。かかる－Ｚ３－ＳｉＲ３４
ｎ２Ｒ３５
３－ｎ２は、上記Ｒ３２’における記載と同意義である。
【0222】
上記Ｒ３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。
【0223】
上記Ｒ３３において、１価の有機基は、好ましくはＣ１－２０アルキル基又は－（ＣｓＨ２ｓ）ｔ１－（Ｏ－ＣｓＨ２ｓ）ｔ２（式中、ｓは、各出現においてそれぞれ独立して、１～６の整数、好ましくは２～４の整数であり、ｔ１は１又は０、好ましくは０であり、ｔ２は、１～２０の整数、好ましくは２～１０の整数、より好ましくは２～６の整数である。）であり、より好ましくはＣ１－２０アルキル基、さらに好ましくはＣ１－６アルキル基、特に好ましくはメチル基である。
【0224】
一の態様において、Ｒ３３は、水酸基である。
【0225】
別の態様において、Ｒ３３は、１価の有機基、好ましくはＣ１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１－６アルキル基である。
【0226】
上記ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ２、ｑ２及びｒ２の合計は、（ＣＲ３１
ｐ２Ｒ３２
ｑ２Ｒ３３
ｒ２）単位において、３である。
【0227】
一の態様において、ｐ２は、０である。
【0228】
一の態様において、ｐ２は、（ＣＲ３１
ｐ２Ｒ３２
ｑ２Ｒ３３
ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、又は３であってもよい。好ましい態様において、ｐ２は、３である。
【0229】
一の態様において、ｑ２は、（ＣＲ３１
ｐ２Ｒ３２
ｑ２Ｒ３３
ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。
【0230】
一の態様において、ｐ２は０であり、ｑ２は、（ＣＲ３１
ｐ２Ｒ３２
ｑ２Ｒ３３
ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、さらに好ましくは３である。
【0231】
上記Ｒｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ３－ＳｉＲ３４
ｎ２Ｒ３５
３－ｎ２である。かかる－Ｚ３－ＳｉＲ３４
ｎ２Ｒ３５
３－ｎ２は、上記Ｒ３２’における記載と同意義である。
【0232】
上記Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。
【0233】
上記Ｒｆ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ１－２０アルキル基又は－（ＣｓＨ２ｓ）ｔ１－（Ｏ－ＣｓＨ２ｓ）ｔ２（式中、ｓは、１～６の整数、好ましくは２～４の整数であり、ｔ１は１又は０、好ましくは０であり、ｔ２は、１～２０の整数、好ましくは２～１０の整数、より好ましくは２～６の整数である。）であり、より好ましくはＣ１－２０アルキル基、さらに好ましくはＣ１－６アルキル基、特に好ましくはメチル基である。
【0234】
一の態様において、Ｒｆ１は、水酸基である。
【0235】
別の態様において、Ｒｆ１は、１価の有機基、好ましくはＣ１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１－６アルキル基である。
【0236】
上記ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｋ２、ｌ２及びｍ２の合計は、（ＣＲｄ１
ｋ２Ｒｅ１
ｌ２Ｒｆ１
ｍ２）単位において、３である。
【0237】
上記式（１）及び（２）において、ＲＳｉが式（Ｓ４）で表される基である場合、好ましくは、式（１）及び式（２）の末端部分において、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。
【0238】
一の態様において、ＲＳｉが式（Ｓ４）で表される基である場合、ｎ２が１～３、好ましくは２又は３、より好ましくは３である（ＳｉＲ３４
ｎ２Ｒ３５
３－ｎ２）単位は、式（１）及び式（２）の各末端部分において、２個以上、例えば２～２７個、好ましくは２～９個、より好ましくは２～６個、さらに好ましくは２～３個、特に好ましくは３個存在する。
【0239】
好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ３２’が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ３２’において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。
【0240】
好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ３２が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ３２において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。
【0241】
好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒｅ１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲａ１において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。
【0242】
好ましい態様において、式（Ｓ４）において、ｋ２は０であり、ｌ２は２又は３、好ましくは３であり、ｎ２は、２又は３、好ましくは３である。
【0243】
上記Ｒｇ１及びＲｈ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ４－ＳｉＲ１１
ｎ１Ｒ１２
３－ｎ１、－Ｚ４－ＳｉＲａ１
ｋ１Ｒｂ１
ｌ１Ｒｃ１
ｍ１、－Ｚ４－ＣＲｄ１
ｋ２Ｒｅ１
ｌ２Ｒｆ１
ｍ２である。ここに、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒａ１、Ｒｂ２、Ｒｃ１、Ｒｄ１、Ｒｅ１、Ｒｆ１、ｎ１、ｋ１、ｌ１、ｍ１、ｋ２、ｌ２、及びｍ２は、上記と同意義である。
【0244】
好ましい態様において、Ｒｇ１及びＲｈ１は、それぞれ独立して、－Ｚ４－ＳｉＲ１１
ｎ１Ｒ１２
３－ｎ１である。
【0245】
上記Ｚ４は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ４として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ１１
ｎ１Ｒ１２
３－ｎ１）に結合する。
【0246】
一の態様において、Ｚ４は酸素原子である。
【0247】
一の態様において、Ｚ４は２価の有機基である。
【0248】
上記Ｚ４は、好ましくは、Ｃ１－６アルキレン基、－（ＣＨ２）ｚ５”－Ｏ－（ＣＨ２）ｚ６”－（式中、ｚ５”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ２）ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ８”－（式中、ｚ７”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、及びＣ２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。
【0249】
好ましい態様において、Ｚ４は、Ｃ１－６アルキレン基又は－（ＣＨ２）ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ８”－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ８”－である。Ｚ３がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。
【0250】
別の好ましい態様において、上記Ｚ４は、Ｃ１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ４は、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。別の態様において、Ｚ４は、－ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。
【0251】
一の態様において、ＲＳｉは、式（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）で表される基である。これらの化合物は、高い表面滑り性を有する表面処理層を形成することができる。
【0252】
一の態様において、ＲＳｉは、式（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）で表される基である。これらの化合物は、一の末端に複数の加水分解性基を有することから、基材に強く密着し、高い摩耗耐久性を有する表面処理層を形成することができる。
【0253】
一の態様において、ＲＳｉは、式（Ｓ３）又は（Ｓ４）で表される基である。これらの化合物は、一の末端に、一のＳｉ原子又はＣ原子から分岐した複数の加水分解性基を有し得ることから、さらに高い摩耗耐久性を有する表面処理層を形成することができる。
【0254】
一の態様において、ＲＳｉは、式（Ｓ１）で表される基である。
【0255】
一の態様において、ＲＳｉは、式（Ｓ２）で表される基である。
【0256】
一の態様において、ＲＳｉは、式（Ｓ３）で表される基である。
【0257】
一の態様において、ＲＳｉは、式（Ｓ４）で表される基である。
【0258】
一の態様において、ＲＳｉは、式（Ｓ５）で表される基である。
【0259】
上記式（１）及び（２）において、ＸＡは、主に撥水性及び表面滑り性等を提供するフルオロポリエーテル部（ＲＦ１及びＲＦ２）と基材との結合能を提供する部（ＲＳｉ）とを連結するリンカーと解される。従って、当該ＸＡは、式（１）及び（２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、単結合であってもよく、いずれの基であってもよい。
【0260】
上記式（１）において、αは１～９の整数であり、βは１～９の整数である。これらα及びβは、ＸＡの価数に応じて変化し得る。α及びβの和は、ＸＡの価数と同じである。例えば、ＸＡが１０価の有機基である場合、α及びβの和は１０であり、例えばαが９かつβが１、αが５かつβが５、又はαが１かつβが９となり得る。また、ＸＡが２価の有機基である場合、α及びβは１である。
【0261】
上記式（２）において、γは１～９の整数である。γは、ＸＡの価数に応じて変化し得る。即ち、γは、ＸＡの価数から１を引いた値である。
【0262】
ＸＡは、それぞれ独立して、単結合又は２～１０価の有機基であり；
【0263】
上記ＸＡにおける２～１０価の有機基は、好ましくは２～８価の有機基である。一の態様において、かかる２～１０価の有機基は、好ましくは２～４価の有機基であり、より好ましくは２価の有機基である。別の態様において、かかる２～１０価の有機基は、好ましくは３～８価の有機基、より好ましくは３～６価の有機基である。
【0264】
一の態様において、ＸＡは、単結合又は２価の有機基であり、αは１であり、βは１である。
【0265】
一の態様において、ＸＡは、単結合又は２価の有機基であり、γは１である。
【0266】
一の態様において、ＸＡは３～６価の有機基であり、αは１であり、βは２～５である。
【0267】
一の態様において、ＸＡは３～６価の有機基であり、γは２～５である。
【0268】
一の態様において、ＸＡは、３価の有機基であり、αは１であり、βは２である。
【0269】
一の態様において、ＸＡは、３価の有機基であり、γは２である。
【0270】
ＸＡが、単結合又は２価の有機基である場合、式（１）及び（２）は、下記式（１’）及び（２’）で表される。
【化11】
【0271】
一の態様において、ＸＡは単結合である。
【0272】
別の態様において、ＸＡは２価の有機基である。
【0273】
一の態様において、ＸＡとしては、例えば、単結合又は下記式：
－（Ｒ５１）ｐ５－（Ｘ５１）ｑ５－
［式中：
Ｒ５１は、単結合、－（ＣＨ２）ｓ５－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基を表し、好ましくは－（ＣＨ２）ｓ５－であり、
ｓ５は、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数、さらにより好ましくは１又は２であり、
Ｘ５１は、－（Ｘ５２）ｌ５－を表し、
Ｘ５２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、－（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｍ５－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、－ＣＯＮＲ５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ５４－、－ＮＲ５４－及び－（ＣＨ２）ｎ５－からなる群から選択される基を表し、
Ｒ５３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１－６アルキル基又はＣ１－６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基又はＣ１－６アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
Ｒ５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ１－６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、
ｍ５は、各出現において、それぞれ独立して、１～１００の整数、好ましくは１～２０の整数であり、
ｎ５は、各出現において、それぞれ独立して、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
ｌ５は、１～１０の整数、好ましくは１～５の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
ｐ５は、０又は１であり、
ｑ５は、０又は１であり、
ここに、ｐ５及びｑ５の少なくとも一方は１であり、ｐ５又はｑ５を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である］
で表される２価の有機基が挙げられる。ここに、ＸＡ（典型的にはＸＡの水素原子）は、フッ素原子、Ｃ１－３アルキル基及びＣ１－３フルオロアルキル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、ＸＡは、これらの基により置換されていない。
－（Ｒ５１）ｐ５－（Ｘ５１）ｑ５－
［式中：
Ｒ５１は、単結合、－（ＣＨ２）ｓ５－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基を表し、好ましくは－（ＣＨ２）ｓ５－であり、
ｓ５は、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数、さらにより好ましくは１又は２であり、
Ｘ５１は、－（Ｘ５２）ｌ５－を表し、
Ｘ５２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、－（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｍ５－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、－ＣＯＮＲ５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ５４－、－ＮＲ５４－及び－（ＣＨ２）ｎ５－からなる群から選択される基を表し、
Ｒ５３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１－６アルキル基又はＣ１－６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基又はＣ１－６アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
Ｒ５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ１－６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、
ｍ５は、各出現において、それぞれ独立して、１～１００の整数、好ましくは１～２０の整数であり、
ｎ５は、各出現において、それぞれ独立して、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
ｌ５は、１～１０の整数、好ましくは１～５の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
ｐ５は、０又は１であり、
ｑ５は、０又は１であり、
ここに、ｐ５及びｑ５の少なくとも一方は１であり、ｐ５又はｑ５を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である］
で表される２価の有機基が挙げられる。ここに、ＸＡ（典型的にはＸＡの水素原子）は、フッ素原子、Ｃ１－３アルキル基及びＣ１－３フルオロアルキル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、ＸＡは、これらの基により置換されていない。
【0274】
好ましい態様において、上記ＸＡは、それぞれ独立して、－（Ｒ５１）ｐ５－（Ｘ５１）ｑ５－Ｒ５２－である。Ｒ５２は、単結合、－（ＣＨ２）ｔ５－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基を表し、好ましくは－（ＣＨ２）ｔ５－である。ｔ５は、１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。ここに、Ｒ５２（典型的にはＲ５２の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ１－３アルキル基及びＣ１－３フルオロアルキル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、Ｒ５６は、これらの基により置換されていない。
【0275】
好ましくは、上記ＸＡは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ１－２０アルキレン基、
－Ｒ５１－Ｘ５３－Ｒ５２－、又は
－Ｘ５４－Ｒ５２－
［式中、Ｒ５１及びＲ５２は、上記と同意義であり、
Ｘ５３は、
－Ｏ－、
－Ｓ－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、
－ＣＯＮＲ５４－、
－Ｏ－ＣＯＮＲ５４－、
－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、
－（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｍ５－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、
－Ｏ－（ＣＨ２）u５－（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｍ５－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、
－Ｏ－（ＣＨ２）u５－Ｓｉ（Ｒ５３）２－Ｏ－Ｓｉ（Ｒ５３）２－ＣＨ２ＣＨ２－Ｓｉ（Ｒ５３）２－Ｏ－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、
－Ｏ－（ＣＨ２）u５－Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２－、
－ＣＯＮＲ５４－（ＣＨ２）u５－（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｍ５－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、
－ＣＯＮＲ５４－（ＣＨ２）u５－Ｎ（Ｒ５４）－、又は
－ＣＯＮＲ５４－（ｏ－、ｍ－又はｐ－フェニレン）－Ｓｉ（Ｒ５３）２－
（式中、Ｒ５３、Ｒ５４及びｍ５は、上記と同意義であり、
ｕ５は１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。）を表し、
Ｘ５４は、
－Ｓ－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、
－ＣＯＮＲ５４－、
－Ｏ－ＣＯＮＲ５４－、
－ＣＯＮＲ５４－（ＣＨ２）u５－（Ｓｉ（Ｒ５４）２Ｏ）ｍ５－Ｓｉ（Ｒ５４）２－、
－ＣＯＮＲ５４－（ＣＨ２）u５－Ｎ（Ｒ５４）－、又は
－ＣＯＮＲ５４－（ｏ－、ｍ－又はｐ－フェニレン）－Ｓｉ（Ｒ５４）２－
（式中、各記号は、上記と同意義である。）
を表す。］
であり得る。
単結合、
Ｃ１－２０アルキレン基、
－Ｒ５１－Ｘ５３－Ｒ５２－、又は
－Ｘ５４－Ｒ５２－
［式中、Ｒ５１及びＲ５２は、上記と同意義であり、
Ｘ５３は、
－Ｏ－、
－Ｓ－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、
－ＣＯＮＲ５４－、
－Ｏ－ＣＯＮＲ５４－、
－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、
－（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｍ５－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、
－Ｏ－（ＣＨ２）u５－（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｍ５－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、
－Ｏ－（ＣＨ２）u５－Ｓｉ（Ｒ５３）２－Ｏ－Ｓｉ（Ｒ５３）２－ＣＨ２ＣＨ２－Ｓｉ（Ｒ５３）２－Ｏ－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、
－Ｏ－（ＣＨ２）u５－Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２－、
－ＣＯＮＲ５４－（ＣＨ２）u５－（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｍ５－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、
－ＣＯＮＲ５４－（ＣＨ２）u５－Ｎ（Ｒ５４）－、又は
－ＣＯＮＲ５４－（ｏ－、ｍ－又はｐ－フェニレン）－Ｓｉ（Ｒ５３）２－
（式中、Ｒ５３、Ｒ５４及びｍ５は、上記と同意義であり、
ｕ５は１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。）を表し、
Ｘ５４は、
－Ｓ－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、
－ＣＯＮＲ５４－、
－Ｏ－ＣＯＮＲ５４－、
－ＣＯＮＲ５４－（ＣＨ２）u５－（Ｓｉ（Ｒ５４）２Ｏ）ｍ５－Ｓｉ（Ｒ５４）２－、
－ＣＯＮＲ５４－（ＣＨ２）u５－Ｎ（Ｒ５４）－、又は
－ＣＯＮＲ５４－（ｏ－、ｍ－又はｐ－フェニレン）－Ｓｉ（Ｒ５４）２－
（式中、各記号は、上記と同意義である。）
を表す。］
であり得る。
【0276】
より好ましくは、上記ＸＡは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ２）ｓ５－Ｘ５３－、
－（ＣＨ２）ｓ５－Ｘ５３－（ＣＨ２）ｔ５－
－Ｘ５４－、又は
－Ｘ５４－（ＣＨ２）ｔ５－
［式中、Ｘ５３、Ｘ５４、ｓ５及びｔ５は、上記と同意義である。］
である。
単結合、
Ｃ１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ２）ｓ５－Ｘ５３－、
－（ＣＨ２）ｓ５－Ｘ５３－（ＣＨ２）ｔ５－
－Ｘ５４－、又は
－Ｘ５４－（ＣＨ２）ｔ５－
［式中、Ｘ５３、Ｘ５４、ｓ５及びｔ５は、上記と同意義である。］
である。
【0277】
より好ましくは、上記ＸＡは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ２）ｓ５－Ｘ５３－（ＣＨ２）ｔ５－、又は
－Ｘ５４－（ＣＨ２）ｔ５－
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
であり得る。
単結合、
Ｃ１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ２）ｓ５－Ｘ５３－（ＣＨ２）ｔ５－、又は
－Ｘ５４－（ＣＨ２）ｔ５－
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
であり得る。
【0278】
好ましい態様において、上記ＸＡは、それぞれ独立して、
単結合
Ｃ１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ２）ｓ５－Ｘ５３－、又は
－（ＣＨ２）ｓ５－Ｘ５３－（ＣＨ２）ｔ５－
［式中、
Ｘ５３は、－Ｏ－、－ＣＯＮＲ５４－、又は－Ｏ－ＣＯＮＲ５４－であり、
Ｒ５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ１－６アルキル基を表し、
ｓ５は、１～２０の整数であり、
ｔ５は、１～２０の整数である。］
であり得る。
単結合
Ｃ１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ２）ｓ５－Ｘ５３－、又は
－（ＣＨ２）ｓ５－Ｘ５３－（ＣＨ２）ｔ５－
［式中、
Ｘ５３は、－Ｏ－、－ＣＯＮＲ５４－、又は－Ｏ－ＣＯＮＲ５４－であり、
Ｒ５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ１－６アルキル基を表し、
ｓ５は、１～２０の整数であり、
ｔ５は、１～２０の整数である。］
であり得る。
【0279】
好ましい態様において、上記ＸＡは、それぞれ独立して、
－（ＣＨ２）ｓ５－Ｏ－（ＣＨ２）ｔ５－
－ＣＯＮＲ５４－（ＣＨ２）ｔ５－
［式中、
Ｒ５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ１－６アルキル基を表し、
ｓ５は、１～２０の整数であり、
ｔ５は、１～２０の整数である。］
であり得る。
－（ＣＨ２）ｓ５－Ｏ－（ＣＨ２）ｔ５－
－ＣＯＮＲ５４－（ＣＨ２）ｔ５－
［式中、
Ｒ５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ１－６アルキル基を表し、
ｓ５は、１～２０の整数であり、
ｔ５は、１～２０の整数である。］
であり得る。
【0280】
一の態様において、上記ＸＡは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ２）ｓ５－Ｏ－（ＣＨ２）ｔ５－、
－（ＣＨ２）ｓ５－（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｍ５－Ｓｉ（Ｒ５３）２－（ＣＨ２）ｔ５－、
－（ＣＨ２）ｓ５－Ｏ－（ＣＨ２）u５－（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｍ５－Ｓｉ（Ｒ５３）２－（ＣＨ２）ｔ５－、又は
－（ＣＨ２）ｓ５－Ｏ－（ＣＨ２）ｔ５－Ｓｉ（Ｒ５３）２－（ＣＨ２）u５－Ｓｉ（Ｒ５３）２－（ＣvＨ２v）－
［式中、Ｒ５３、ｍ５、ｓ５、ｔ５及びｕ５は、上記と同意義であり、ｖ５は１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。］
である。
単結合、
Ｃ１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ２）ｓ５－Ｏ－（ＣＨ２）ｔ５－、
－（ＣＨ２）ｓ５－（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｍ５－Ｓｉ（Ｒ５３）２－（ＣＨ２）ｔ５－、
－（ＣＨ２）ｓ５－Ｏ－（ＣＨ２）u５－（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｍ５－Ｓｉ（Ｒ５３）２－（ＣＨ２）ｔ５－、又は
－（ＣＨ２）ｓ５－Ｏ－（ＣＨ２）ｔ５－Ｓｉ（Ｒ５３）２－（ＣＨ２）u５－Ｓｉ（Ｒ５３）２－（ＣvＨ２v）－
［式中、Ｒ５３、ｍ５、ｓ５、ｔ５及びｕ５は、上記と同意義であり、ｖ５は１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。］
である。
【0281】
上記式中、－（ＣvＨ２v）－は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、例えば、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）－、－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－であり得る。
【0282】
上記ＸＡは、それぞれ独立して、フッ素原子、Ｃ１－３アルキル基及びＣ１－３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ１－３パーフルオロアルキル基）から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。一の態様において、ＸＡは、非置換である。
【0283】
尚、上記ＸＡは、各式の左側がＲＦ１又はＲＦ２に結合し、右側がＲＳｉに結合する。
【0284】
一の態様において、ＸＡは、それぞれ独立して、－Ｏ－Ｃ１－６アルキレン基以外であり得る。
【0285】
別の態様において、ＸＡとしては、例えば下記の基が挙げられる：
［式中、Ｒ４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１～６のアルキル基、又はＣ１－６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり；
Ｄは、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）4－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）３－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、及び
（式中、Ｒ４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１－６のアルキル基又はＣ１－６のアルコキシ基、好ましくはメチル基又はメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。）
から選択される基であり、
Ｅは、－（ＣＨ２）ｎ－（ｎは２～６の整数）であり、
Ｄは、分子主鎖のＲＦ１又はＲＦ２に結合し、Ｅは、ＲＳｉに結合する。］
【化12】
【化13】
Ｄは、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）4－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）３－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、及び
【化14】
から選択される基であり、
Ｅは、－（ＣＨ２）ｎ－（ｎは２～６の整数）であり、
Ｄは、分子主鎖のＲＦ１又はＲＦ２に結合し、Ｅは、ＲＳｉに結合する。］
【0286】
上記ＸＡの具体的な例としては、例えば：
単結合、
－ＣＨ２ＯＣＨ２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）４－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）５－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－ＣＨ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＨ２）７ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２－、
－（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）４－、
－（ＣＨ２）５－、
－（ＣＨ２）６－、
－ＣＯ－、
－ＣＯＮＨ－、
－ＣＯＮＨ－ＣＨ２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）４－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）５－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－ＣＨ２－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）４－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）５－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）６－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－ＣＨ２－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）２－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）３－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）４－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）５－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）６－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６－、
－Ｓ－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）２Ｓ（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ２）３－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ２）６－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－ＣＨ（ＣＨ３）－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨ２－、
－ＯＣＨ２－、
－Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＯＣＦＨＣＦ２－、
などが挙げられる。
単結合、
－ＣＨ２ＯＣＨ２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）４－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）５－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－ＣＨ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＨ２）７ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２－、
－（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）４－、
－（ＣＨ２）５－、
－（ＣＨ２）６－、
－ＣＯ－、
－ＣＯＮＨ－、
－ＣＯＮＨ－ＣＨ２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）４－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）５－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－ＣＨ２－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）４－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）５－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）６－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－ＣＨ２－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）２－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）３－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）４－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）５－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）６－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６－、
－Ｓ－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）２Ｓ（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ２）３－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ２）６－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－ＣＨ（ＣＨ３）－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨ２－、
－ＯＣＨ２－、
－Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＯＣＦＨＣＦ２－、
【化15】
などが挙げられる。
【0287】
さらに別の態様において、ＸＡは、それぞれ独立して、式：－（Ｒ１６）ｘ１－（ＣＦＲ１７）ｙ１－（ＣＨ２）ｚ１－で表される基である。式中、ｘ１、ｙ１及びｚ１は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり、ｘ１、ｙ１及びｚ１の和は１以上であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。
【0288】
上記式中、Ｒ１６は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、フェニレン、カルバゾリレン、－ＮＲ１８－（式中、Ｒ１８は、水素原子又は有機基を表す）又は２価の有機基である。好ましくは、Ｒ１８は、酸素原子又は２価の極性基である。
【0289】
上記「２価の極性基」としては、特に限定されないが、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（＝ＮＲ１９）－、及び－Ｃ（Ｏ）ＮＲ１９－（これらの式中、Ｒ１９は、水素原子又は低級アルキル基を表す）が挙げられる。当該「低級アルキル基」は、例えば、炭素数１～６のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ－プロピルであり、これらは、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい。
【0290】
上記式中、Ｒ１７は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は低級フルオロアルキル基であり、好ましくはフッ素原子である。当該「低級フルオロアルキル基」は、例えば、炭素数１～６、好ましくは炭素数１～３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１～３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、さらに好ましくはトリフルオロメチル基である。
【0291】
さらに別の態様において、ＸＡの例として、下記の基が挙げられる：
［式中、
Ｒ４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１～６のアルキル基、又はＣ１－６アルコキシ基好ましくはメチル基であり；
各ＸＡ基において、Ｔのうち任意のいくつかは、分子主鎖のＲＦ１又はＲＦ２に結合する以下の基：
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）4－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）３－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、又は
［式中、Ｒ４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１－６のアルキル基又はＣ１－６のアルコキシ基、好ましくはメチル基又はメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。］
であり、別のＴのいくつかは、分子主鎖のＲＳｉに結合し、存在する場合、残りのＴは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基、Ｃ１－６アルコキシ基又はラジカル捕捉基又は紫外線吸収基である。
【化16】
Ｒ４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１～６のアルキル基、又はＣ１－６アルコキシ基好ましくはメチル基であり；
各ＸＡ基において、Ｔのうち任意のいくつかは、分子主鎖のＲＦ１又はＲＦ２に結合する以下の基：
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）4－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）３－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、又は
【化17】
であり、別のＴのいくつかは、分子主鎖のＲＳｉに結合し、存在する場合、残りのＴは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基、Ｃ１－６アルコキシ基又はラジカル捕捉基又は紫外線吸収基である。
【0292】
ラジカル捕捉基は、光照射で生じるラジカルを捕捉できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、安息香酸エステル類、サリチル酸フェニル類、クロトン酸類、マロン酸エステル類、オルガノアクリレート類、ヒンダードアミン類、ヒンダードフェノール類、又はトリアジン類の残基が挙げられる。
【0293】
紫外線吸収基は、紫外線を吸収できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾトリアゾール類、ヒドロキシベンゾフェノン類、置換及び未置換安息香酸もしくはサリチル酸化合物のエステル類、アクリレート又はアルコキシシンナメート類、オキサミド類、オキサニリド類、ベンゾキサジノン類、ベンゾキサゾール類の残基が挙げられる。
【0294】
好ましい態様において、好ましいラジカル捕捉基又は紫外線吸収基としては、
が挙げられる。
【化18】
【0295】
この態様において、ＸＡは、それぞれ独立して、３～１０価の有機基であり得る。
【0296】
さらに別の態様において、ＸＡの例として、下記の基が挙げられる：
［式中、Ｒ２５、Ｒ２６及びＲ２７は、それぞれ独立して２～６価の有機基であり、
Ｒ２５は、少なくとも１つのＲＦ１に結合し、Ｒ２６及びＲ２７は、それぞれ、少なくとも１つのＲＳｉに結合する。］
【化19】
Ｒ２５は、少なくとも１つのＲＦ１に結合し、Ｒ２６及びＲ２７は、それぞれ、少なくとも１つのＲＳｉに結合する。］
【0297】
一の態様において、上記Ｒ２５は、単結合、Ｃ１－２０アルキレン基、Ｃ３－２０シクロアルキレン基、Ｃ５－２０アリーレン基、－Ｒ５７－Ｘ５８－Ｒ５９－、－Ｘ５８－Ｒ５９－、又は－Ｒ５７－Ｘ５８－である。上記、Ｒ５７及びＲ５９は、それぞれ独立して、単結合、Ｃ１－２０アルキレン基、Ｃ３－２０シクロアルキレン基、又はＣ５－２０アリーレン基である。上記Ｘ５８は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－又は－ＣＯＯ－である。
【0298】
一の態様において、上記Ｒ２６及びＲ２７は、それぞれ独立して、炭化水素、又は炭化水素の端又は主鎖中にＮ、Ｏ及びＳから選択される少なくとも１つの原子を有する基であり、好ましくは、Ｃ１－６アルキル基、－Ｒ３６－Ｒ３７－Ｒ３６－、－Ｒ３６－ＣＨＲ３８
２－などが挙げられる。ここに、Ｒ３６は、それぞれ独立して、単結合又は炭素数１～６のアルキル基、好ましくは炭素数１～６のアルキル基である。Ｒ３７は、Ｎ、Ｏ又はＳであり、好ましくはＮ又はＯである。Ｒ３８は、－Ｒ４５－Ｒ４６－Ｒ４５－、－Ｒ４６－Ｒ４５－又は－Ｒ４５－Ｒ４６－である。ここに、Ｒ４５は、それぞれ独立して、炭素数１～６のアルキル基である。Ｒ４６は、Ｎ、Ｏ又はＳであり、好ましくはＯである。
【0299】
この態様において、ＸＡは、それぞれ独立して、３～１０価の有機基であり得る。
【0300】
さらに別の態様において、ＸＡの例として、下記：
［式中、Ｘａは、単結合または２価の有機基である。］
で表される基が挙げられる
【化20】
で表される基が挙げられる
【0301】
上記Ｘａは、イソシアヌル環に直接結合する単結合または二価の連結基である。Ｘａとしては、単結合、アルキレン基、または、エーテル結合、エステル結合、アミド結合及びスルフィド結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む二価の基が好ましく、単結合、炭素数１～１０のアルキレン基、または、エーテル結合、エステル結合、アミド結合及びスルフィド結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む炭素数１～１０の二価の炭化水素基がより好ましい。
【0302】
Ｘａとしては、下記式：
－（ＣＸ１２１Ｘ１２２）ｘ１－（Ｘａ１）ｙ１－（ＣＸ１２３Ｘ１２４）ｚ１－
（式中、Ｘ１２１～Ｘ１２４は、それぞれ独立して、Ｈ、Ｆ、ＯＨ、または、－ＯＳｉ（ＯＲ１２１）３（式中、３つのＲ１２１は、それぞれ独立して、炭素数１～４のアルキル基である。）であり、
上記Ｘａ１は、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、または、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－であり（各結合の左側がＣＸ１２１Ｘ１２２に結合する。）、
ｘ１は０～１０の整数であり、ｙ１は０または１であり、ｚ１は１～１０の整数である。）
で表される基が更に好ましい。
－（ＣＸ１２１Ｘ１２２）ｘ１－（Ｘａ１）ｙ１－（ＣＸ１２３Ｘ１２４）ｚ１－
（式中、Ｘ１２１～Ｘ１２４は、それぞれ独立して、Ｈ、Ｆ、ＯＨ、または、－ＯＳｉ（ＯＲ１２１）３（式中、３つのＲ１２１は、それぞれ独立して、炭素数１～４のアルキル基である。）であり、
上記Ｘａ１は、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、または、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－であり（各結合の左側がＣＸ１２１Ｘ１２２に結合する。）、
ｘ１は０～１０の整数であり、ｙ１は０または１であり、ｚ１は１～１０の整数である。）
で表される基が更に好ましい。
【0303】
上記Ｘａ１としては、－Ｏ－または－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－が好ましい。
【0304】
上記Ｘａとしては、下記式：
－（ＣＦ２）ｍ１１－（ＣＨ２）ｍ１２－Ｏ－（ＣＨ２）ｍ１３－
（式中、ｍ１１は１～３の整数であり、ｍ１２は１～３の整数であり、ｍ１３は１～３の整数である。）
で表される基、
－（ＣＦ２）ｍ１４－（ＣＨ２）ｍ１５－Ｏ－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）－（ＣＨ２）ｍ１６－
（式中、ｍ１４は１～３の整数であり、ｍ１５は１～３の整数であり、ｍ１６は１～３の整数である。）
で表される基、
－（ＣＦ２）ｍ１７－（ＣＨ２）ｍ１８－
（式中、ｍ１７は１～３の整数であり、ｍ１８は１～３の整数である。）
で表される基、
－（ＣＦ２）ｍ１９－（ＣＨ２）ｍ２０－Ｏ－ＣＨ２ＣＨ（ＯＳｉ（ＯＣＨ３）３）－（ＣＨ２）ｍ２１－
（式中、ｍ１９は１～３の整数であり、ｍ２０は１～３の整数であり、ｍ２１は１～３の整数である。）
で表される基、または、
－（ＣＨ２）ｍ２２－
（式中、ｍ２２は１～３の整数である。）
で表される基が特に好ましい。
－（ＣＦ２）ｍ１１－（ＣＨ２）ｍ１２－Ｏ－（ＣＨ２）ｍ１３－
（式中、ｍ１１は１～３の整数であり、ｍ１２は１～３の整数であり、ｍ１３は１～３の整数である。）
で表される基、
－（ＣＦ２）ｍ１４－（ＣＨ２）ｍ１５－Ｏ－ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）－（ＣＨ２）ｍ１６－
（式中、ｍ１４は１～３の整数であり、ｍ１５は１～３の整数であり、ｍ１６は１～３の整数である。）
で表される基、
－（ＣＦ２）ｍ１７－（ＣＨ２）ｍ１８－
（式中、ｍ１７は１～３の整数であり、ｍ１８は１～３の整数である。）
で表される基、
－（ＣＦ２）ｍ１９－（ＣＨ２）ｍ２０－Ｏ－ＣＨ２ＣＨ（ＯＳｉ（ＯＣＨ３）３）－（ＣＨ２）ｍ２１－
（式中、ｍ１９は１～３の整数であり、ｍ２０は１～３の整数であり、ｍ２１は１～３の整数である。）
で表される基、または、
－（ＣＨ２）ｍ２２－
（式中、ｍ２２は１～３の整数である。）
で表される基が特に好ましい。
【0305】
上記Ｘａとして、特に限定されないが、具体的には、
－ＣＨ２－、－Ｃ２Ｈ４－、－Ｃ３Ｈ６－、－Ｃ４Ｈ８－、－Ｃ４Ｈ８－Ｏ－ＣＨ２－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ（ＯＨ）－ＣＨ２－、－（ＣＦ２）ｎ５－（ｎ５は０～４の整数である。）、－（ＣＦ２）ｎ５－（ＣＨ２）ｍ５－（ｎ５およびｍ５は、それぞれ独立して、０～４の整数である。）、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２－、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＳｉ（ＯＣＨ３）３）ＣＨ２－
等が挙げられる。
－ＣＨ２－、－Ｃ２Ｈ４－、－Ｃ３Ｈ６－、－Ｃ４Ｈ８－、－Ｃ４Ｈ８－Ｏ－ＣＨ２－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ（ＯＨ）－ＣＨ２－、－（ＣＦ２）ｎ５－（ｎ５は０～４の整数である。）、－（ＣＦ２）ｎ５－（ＣＨ２）ｍ５－（ｎ５およびｍ５は、それぞれ独立して、０～４の整数である。）、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２－、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＳｉ（ＯＣＨ３）３）ＣＨ２－
等が挙げられる。
【0306】
この態様において、ＸＡは、それぞれ独立して、２又は３価の有機基であり得る。
【0307】
上記式（１）又は式（２）で表される含フッ素シラン化合物は、特に限定されるものではないが、５×１０２～１×１０５の平均分子量を有し得る。かかる範囲のなかでも、２，０００～３２，０００、より好ましくは２，５００～１２，０００の平均分子量を有することが、摩耗耐久性の観点から好ましい。なお、かかる「平均分子量」は、数平均分子量を言い、「平均分子量」は、１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。
【0308】
上記式（１）又は（２）で表される含フッ素シラン化合物の含有率は、上記含フッ素シラン化合物の合計１００質量％中、好ましくは９０質量％以上１００質量％以下、より好ましくは９５質量％以上１００質量％以下であり得る。
【0309】
上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物の含有率は、上記表面処理剤１００質量％中、好ましくは０．０２～４０．０質量％、より好ましくは０．０２～３０．０質量％、さらに好ましくは０．０４～２５．０質量％、特に好ましくは０．０５～２０．０質量％であり得る。上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物の含有量を上記の範囲にすることにより、より高い撥水撥油性を得ることができる。
本開示の組成物において、不揮発分は、組成物の全量から溶媒を除いた部分としてよい。
本開示の組成物において、不揮発分は、組成物の全量から溶媒を除いた部分としてよい。
【0310】
上記含フッ素シラン化合物の含有率は、上記表面処理剤１００質量％中、好ましくは０．０２～４０．０質量％、より好ましくは０．０２～３０．０質量％、さらに好ましくは０．０４～２５．０質量％、特に好ましくは０．０５～２０．０質量％であり得る。上記含フッ素シラン化合物の含有量を上記の範囲にすることにより、より高い撥水撥油性を得ることができる。
【0311】
上記表面処理剤は、溶媒をさらに含んでいてもよい。溶媒を含むことにより、組成物の取り扱い性が良好になる。このような組成物を用いて層を形成すると、形成された層は連続した薄膜となり得る。また、このような組成物は、任意の膜厚の薄膜の形成に寄与し得る。
【0312】
上記溶媒としては、特に限定されないが、例えば、炭素数５～１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ－１，３－ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ３Ｆ７ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい）、あるいはＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００））など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、ヒドロフルオロエーテルが好ましく、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）および／またはパーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）が特に好ましい。
【0313】
上記溶媒の沸点（大気圧下）は、好ましくは１０５℃未満、より好ましくは９０℃以下、さらに好ましくは８０℃以下であり得る。上記溶媒が上記の範囲の沸点を有することにより、本開示の表面処理剤を基材に適用した際に、加熱などを加えることなく比較的容易に気化し、表面処理工程に要する時間およびエネルギーを小さくすることができる。かかる沸点の下限は特に限定されないが、例えば３０℃以上、好ましくは５０℃以上であり得る。
【0314】
上記溶剤の含有量は、上記表面処理剤の合計１００質量％中、好ましくは５０～９９．７質量％、より好ましくは６０～９９．７質量％、さらに好ましくは７０～９９．７質量％、特に好ましくは８０～９９．７質量％であり得る。
【0315】
本開示の表面処理剤は、さらに、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、まとめて「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、アルコール類、触媒、界面活性剤、重合禁止剤、増感剤等を含み得る。尚、他の成分は、上記した含フッ素シラン化合物および溶媒とは異なる成分である。
【0316】
含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（４）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
Ｒｆ５－（ＯＣ４Ｆ８）ａ”－（ＯＣ３Ｆ６）ｂ”－（ＯＣ２Ｆ４）ｃ”－（ＯＣＦ２）ｄ”－Ｒｆ６ ・・・（４）
式中、Ｒｆ５は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基（好ましくは、Ｃ１－１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ６は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基（好ましくは、Ｃ１－１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子または水素原子を表し、Ｒｆ５およびＲｆ６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ１－３パーフルオロアルキル基である。
ａ”、ｂ”、ｃ”およびｄ”は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ”、ｂ”、ｃ”およびｄ”の和は３０より大きく、好ましくは４０～３００、より好ましくは５０～３００である。添字ａ”、ｂ”、ｃ”またはｄ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、－（ＯＣ４Ｆ８）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）－および（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。－（ＯＣ３Ｆ６）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－および（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－のいずれであってもよく、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。－（ＯＣ２Ｆ４）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－および（ＯＣＦ（ＣＦ３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－である。
Ｒｆ５－（ＯＣ４Ｆ８）ａ”－（ＯＣ３Ｆ６）ｂ”－（ＯＣ２Ｆ４）ｃ”－（ＯＣＦ２）ｄ”－Ｒｆ６ ・・・（４）
式中、Ｒｆ５は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基（好ましくは、Ｃ１－１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ６は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基（好ましくは、Ｃ１－１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子または水素原子を表し、Ｒｆ５およびＲｆ６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ１－３パーフルオロアルキル基である。
ａ”、ｂ”、ｃ”およびｄ”は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ”、ｂ”、ｃ”およびｄ”の和は３０より大きく、好ましくは４０～３００、より好ましくは５０～３００である。添字ａ”、ｂ”、ｃ”またはｄ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、－（ＯＣ４Ｆ８）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）－および（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。－（ＯＣ３Ｆ６）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－および（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－のいずれであってもよく、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。－（ＯＣ２Ｆ４）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－および（ＯＣＦ（ＣＦ３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－である。
【0317】
上記一般式（４）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（４ａ）および（４ｂ）のいずれかで示される化合物（１種または２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
Ｒｆ５－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ”－Ｒｆ６ ・・・（４ａ）
Ｒｆ５－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ａ”－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ”－（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ”－（ＯＣＦ２）ｄ”－Ｒｆ６ ・・・（４ｂ）
これら式中、Ｒｆ５およびＲｆ６は上記の通りであり；式（４ａ）において、ｂ”は１以上１００以下の整数であり；式（４ｂ）において、ａ”およびｂ”は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃ”およびｄ”はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ”、ｂ”、ｃ”、ｄ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
Ｒｆ５－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ”－Ｒｆ６ ・・・（４ａ）
Ｒｆ５－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ａ”－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ”－（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ”－（ＯＣＦ２）ｄ”－Ｒｆ６ ・・・（４ｂ）
これら式中、Ｒｆ５およびＲｆ６は上記の通りであり；式（４ａ）において、ｂ”は１以上１００以下の整数であり；式（４ｂ）において、ａ”およびｂ”は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃ”およびｄ”はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ”、ｂ”、ｃ”、ｄ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
【0318】
また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ３－Ｆ（式中、Ｒｆ３はＣ５－１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。
【0319】
上記含フッ素オイルは、好ましくは１０００以上、より好ましくは１５００以上、さらに好ましくは２０００以上の数平均分子量を有していてもよい。また、上記含フッ素オイルは、好ましくは３００００以下、より好ましくは２００００以下、さらに好ましくは１００００以下の数平均分子量を有していてもよい。含フッ素オイルの分子量は、ＧＰＣを用いて測定し得る。
【0320】
上記含フッ素オイルは、上記表面処理剤に対して、例えば０～５０質量％、好ましくは０～３０質量％、より好ましくは０～５質量％含まれ得る。一の態様において、本開示の表面処理剤は、含フッ素オイルを実質的に含まない。含フッ素オイルを実質的に含まないとは、含フッ素オイルを全く含まない、または極微量の含フッ素オイルを含んでいてもよいことを意味する。
【0321】
一の態様において、含フッ素シラン化合物の数平均分子量よりも、含フッ素オイルの数平均分子量を小さくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、かかる化合物から得られる表面処理層の透明性の低下を抑制しつつ、高い摩耗耐久性および高い表面滑り性を有する硬化物を形成できる。
【0322】
含フッ素オイルは、本開示の表面処理剤によって形成された層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
【0323】
上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。
【0324】
本開示の表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記本開示の含フッ素シラン化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０～３００質量部、好ましくは５０～２００質量部で含まれ得る。
【0325】
シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
【0326】
上記アルコール類としては、例えば１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～６のアルコール、例えば、メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ＣＦ３ＣＨ２ＯＨ、ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ、（ＣＦ３）２ＣＨＯＨが挙げられる。これらのアルコール類を表面処理剤に添加することにより、表面処理剤の安定性を向上させ、また、含フッ素シラン化合物と溶媒の相溶性を改善させる。
【0327】
上記アルコール類は、表面処理剤中、上記金属化合物に対して、モル比で、好ましくは０．１～５倍、より好ましくは０．５～３倍、さらに好ましくは０．８～１．２倍の量で含まれる。アルコール類の含有割合を上記の範囲とすることにより、表面処理層の安定性をより向上させることができる。
【0328】
上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。
【0329】
触媒は、本開示の含フッ素シラン化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、本開示の表面処理剤により形成される層の形成を促進する。
【0330】
他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。
【0331】
なお、本開示の処理方法は、電子デバイスから取り外された表示パネルや、表示パネルからさらに取り外された、層を有するガラス基材に対しても適用され得る。
【0332】
（第２実施形態：電子デバイス）
本開示の電子デバイスは、表示パネルを備える電子デバイスであって、
上記表示パネルは、ガラス基材と、上記ガラス基材の表面の一部を覆う第１の表面処理層と、上記ガラス基材の表面の他の一部を覆う第２の層と、を有し、
上記第１の層は、含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤により形成される層であり、
上記第１の層と上記第２の層の組成は、互いに異なる。
本開示の電子デバイスは、表示パネルを備える電子デバイスであって、
上記表示パネルは、ガラス基材と、上記ガラス基材の表面の一部を覆う第１の表面処理層と、上記ガラス基材の表面の他の一部を覆う第２の層と、を有し、
上記第１の層は、含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤により形成される層であり、
上記第１の層と上記第２の層の組成は、互いに異なる。
【0333】
上記本開示のデバイスの表示パネルの表面は、良好な撥水性を発揮し得る。
【0334】
上記電子デバイスは、第１実施形態における電子デバイスと同意義である。
【0335】
上記表示パネルは、上記電子デバイスに備えられる。上記表示パネルは、ディスプレイパネル、タッチパネル、スクリーン等であり得、ガラス基材と、上記ガラス基材の表面の一部を覆う第１の層と、上記ガラス基材の表面の他の一部を覆う第２の層と、を有する。
【0336】
上記ガラス基材を構成するガラスは、アルミノケイ酸ガラス、ソーダガラス、ホウケイ酸ガラス等であってよく、好ましくは、アルミノケイ酸ガラスであってよい。
上記ガラス基材の厚さは、代表的には、０．１ｍｍ以上１ｍｍ以下であり得る。
上記ガラス基材の厚さは、代表的には、０．１ｍｍ以上１ｍｍ以下であり得る。
【0337】
上記第１の層は、含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤により形成される。含フッ素シラン化合物および表面処理剤は、上記第１実施形態における含フッ素シラン化合物および表面処理剤と同意義である。上記第１の層は、含フッ素シラン化合物と、含フッ素シラン化合物の加水分解および重縮合により生じる化合物とを含み得る。
【0338】
上記第１の層は、上記ガラス基材の表面の一部を覆う。本実施形態の電子デバイスにおいて、上記第１の層に覆われる領域は、電子デバイスの使用の際、表示パネルの表面において、接触や摩擦を受ける頻度が比較的高い領域であり得、例えば、表示パネルの表面の中央部等であり得る。これにより、電子デバイスの使用に際して、摩擦や接触を受けやすい箇所の表面の滑り性が良好となり、撥水性、撥油性および防汚性等の表面特性が維持されやすくなる。
上記表示パネルの中央部は、上記表示パネルを縦方向に三等分して、上位部、中位部および下位部に区分し、上記表示パネルを横方向に三等分して、右部、中部および左部に区分した場合、中位部および中部の両方に該当する部位であり得る。
上記表示パネルの中央部は、上記表示パネルを縦方向に三等分して、上位部、中位部および下位部に区分し、上記表示パネルを横方向に三等分して、右部、中部および左部に区分した場合、中位部および中部の両方に該当する部位であり得る。
【0339】
上記第２の層は、上記ガラス基材の表面の他の一部を覆う。上記ガラス基材の表面の他の一部は、上記ガラス基材の表面において、第１の層で覆われていない部分の一部または全部であり得る。上記ガラス基材の表面に置いて、第２の層が覆い得る領域は、電子デバイスの使用の際、接触や摩擦を受ける頻度が比較的低い領域であり得、例えば、表示パネルの表面の周縁部および角部から選ばれる１またはそれ以上であり得る。
上記表示パネルの周縁部は、上記表示パネルを縦方向に三等分して、上位部、中位部および下位部に区分し、上記表示パネルを横方向に三等分して、右部、中部および左部に区分した場合、上位部または下位部であって、中部に該当する部位および中位部であって、右部または左部に該当する部位から選ばれる１またはそれ以上であり得る。上記表示パネルの角部は、上記表示パネルを縦方向に三等分して、上位部、中位部および下位部に区分し、上記表示パネルを横方向に三等分して、右部、中部および左部に区分した場合、上位部または下位部であって、右部または左部に該当する部位であり得る。
上記表示パネルの周縁部は、上記表示パネルを縦方向に三等分して、上位部、中位部および下位部に区分し、上記表示パネルを横方向に三等分して、右部、中部および左部に区分した場合、上位部または下位部であって、中部に該当する部位および中位部であって、右部または左部に該当する部位から選ばれる１またはそれ以上であり得る。上記表示パネルの角部は、上記表示パネルを縦方向に三等分して、上位部、中位部および下位部に区分し、上記表示パネルを横方向に三等分して、右部、中部および左部に区分した場合、上位部または下位部であって、右部または左部に該当する部位であり得る。
【0340】
上記第１の層と、上記第２の層の組成は、互いに異なる。上記第１の層と上記第２の層が互いに異なることの一態様には、第１の層に含まれる含フッ素シラン化合物と、第２の層に含まれる含フッ素化合物とが異なる態様が含まれ、特に、第１の層に含まれるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物と、第２の層に含まれるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物とが異なる態様が含まれる。上記第２の層は、好ましくは、撥水性、撥油性、滑り性、防汚性および防曇性から選ばれる１またはそれ以上をガラス基材に付与するために用いられる化合物およびその反応物を含み得る。該化合物は例えば、含フッ素化合物、シリコーン化合物およびアクリル化合物から選ばれる１種またはそれ以上であり得る。
【0341】
上記含フッ素化合物としては、含フッ素シラン化合物が好ましく、上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物が好ましい。かかるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、上記第１実施形態におけるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物と同意義である。
【0342】
上記ガラス基材の表面には、上記第１の層および上記第２の層以外の層が配置されていてもよい。該その他の層は、好ましくは、上記ガラス基材の表面を覆い、上記第２の層と一部重なっていてもよく、上記第２の層の上に設けられていてもよく、上記第２の層とガラス基材との間に設けられていてもよい。かかるその他の層として、ハードコート層、反射防止層が挙げられる。
【0343】
上記表示パネルは、上記ガラス基材以外に、他の部材をさらに有していてもよい。ガラス基材は、代表的には、かかる他の部材上、すなわち、表示パネルにおいて、他の部材よりも表面側に配置され得る。
【0344】
上記表示パネルの表面の動摩擦係数の最大値は、上記表示パネルの表面の動摩擦係数の最小値の、例えば１．１倍以上、さらに１．２倍以上、特に１．３以上であり得、例えば２．０倍以下、さらに１．８倍以下であり得る。第２の層を含まない表面は、プラズマ照射および表面処理剤適用の前の段階では、動摩擦係数が高く、滑り性が低下していると考えられる。第１の層の形成により、第１の層が形成されている部分では動摩擦係数が低下するため、第２の層を含まない部分や、第２の層が形成されている部分より滑りやすくなると考えられる。
【0345】
上記表示パネルの表面の動摩擦係数の最大値および最小値は、上記表示パネルを縦方向および横方向にそれぞれ３等分して、９つの区分に分けた場合に、各区分における動摩擦係数を測定した場合における、最大値および最小値としてよい。
【0346】
上記第１の層の表面の動摩擦係数と、上記第２の層の表面の動摩擦係数とは、異なることが好ましく、一の態様において、上記第１の層の表面の動摩擦係数は、上記第２の層の表面の動摩擦係数より小さいことが好ましい。例えば、上記第１の層の表面の動摩擦係数は、上記第２の層の表面の動摩擦係数に対して、例えば０．９倍以下、さらに０．８倍以下、特に０．７倍以下であり得、例えば０．３倍以上、さらに０．４倍以上であり得る。
【0347】
上記表示パネルの表面の水接触角の平均値は、例えば１０８°以上、さらに１１０°以上であってよく、例えば１６０°以下、１５０°以下、１４０°以下であってよい。上記表示パネルの表面の水接触角の平均値は、上記表示パネルを縦方向および横方向にそれぞれ３等分して、９つの区分に分けた場合に、各区分における水接触角を測定して、その平均値を算出した値としてよい。
【0348】
上記電子デバイスは、
ガラス基材と、上記ガラス基材の表面の一部を覆う第２の層をと有する表示パネルを備える電子デバイスにおいて、
上記ガラス基材の表面および上記第２の層の表面から選ばれる１またはそれ以上の少なくとも一部にプラズマを照射すること、
上記プラズマを照射した領域に表面処理剤を適用して、第１の表面処理層を形成すること、を含み、
上記表面処理剤は、含フッ素シラン化合物を含む、製造方法により製造され得る。
ガラス基材と、上記ガラス基材の表面の一部を覆う第２の層をと有する表示パネルを備える電子デバイスにおいて、
上記ガラス基材の表面および上記第２の層の表面から選ばれる１またはそれ以上の少なくとも一部にプラズマを照射すること、
上記プラズマを照射した領域に表面処理剤を適用して、第１の表面処理層を形成すること、を含み、
上記表面処理剤は、含フッ素シラン化合物を含む、製造方法により製造され得る。
【0349】
上記製造方法において、ガラス基材の表面および上記第２の層の表面から選ばれる１またはそれ以上の少なくとも一部、プラズマおよびその照射、前駆体層、表面処理剤、ならびに、含フッ素シラン化合物は、第１実施形態におけるガラス基材の表面および上記第２の層の表面から選ばれる１またはそれ以上の少なくとも一部、プラズマおよびその照射、前駆体層、表面処理剤、ならびに、含フッ素シラン化合物と同意義である。
【0350】
本開示の電子デバイスは、上記製造方法により製造され得るが、かかる方法により製造されたものに限定されない。
【実施例0351】
以下の実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
【0352】
（実施例）
フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）が塗布されたガラス基材（表示パネル）において、水接触角１００°未満となっている箇所（一部）に対し、照射照度１２．４Ｗ／ｃｍ２、照射距離３ｍｍ、照射速度５ｍｍ／ｓｅｃ、照射温度４７℃で低温プラズマ処理を行った後、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）をハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させて０．１ｗｔ％に調整した溶液をスプレー処理した。塗布後、２５℃で１２ｈ放置し水接触角を測定した。
フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）が塗布されたガラス基材（表示パネル）において、水接触角１００°未満となっている箇所（一部）に対し、照射照度１２．４Ｗ／ｃｍ２、照射距離３ｍｍ、照射速度５ｍｍ／ｓｅｃ、照射温度４７℃で低温プラズマ処理を行った後、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）をハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させて０．１ｗｔ％に調整した溶液をスプレー処理した。塗布後、２５℃で１２ｈ放置し水接触角を測定した。
【0353】
フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）
ＰＦＰＥ：ＣＦ３（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ（ＯＣＦ２）ｎ
フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）
ＰＦＰＥ：ＣＦ３（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ（ＯＣＦ２）ｎ
【化21】
フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）
【化22】
【0354】
【表1】
【0355】
（水の静的接触角の測定方法）
静的接触角は全自動接触角計ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ７００（協和界面科学社製）を用いた。形成された表面処理層を有する基材を水平に静置し、その表面にマイクロシリンジから水を２μＬ滴下し、滴下１秒後の静止画をビデオマイクロスコープで撮影することにより求めた。
静的接触角は全自動接触角計ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ７００（協和界面科学社製）を用いた。形成された表面処理層を有する基材を水平に静置し、その表面にマイクロシリンジから水を２μＬ滴下し、滴下１秒後の静止画をビデオマイクロスコープで撮影することにより求めた。
【0356】
（動摩擦係数の測定方法）
動摩擦係数はＦＰＴ－１（ＬａｂＴｈｉｎｋ）を用いて、下記条件で測定した。
摩耗子：上質紙
接地面積：２０ｍｍ×２０ｍｍ
荷重：２００ｇｆ
移動速度：２００ｍｍ／分
動摩擦係数はＦＰＴ－１（ＬａｂＴｈｉｎｋ）を用いて、下記条件で測定した。
摩耗子：上質紙
接地面積：２０ｍｍ×２０ｍｍ
荷重：２００ｇｆ
移動速度：２００ｍｍ／分
【図1】