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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024091022
(43)【公開日】2024-07-04
(54)【発明の名称】基板処理装置および基板処理方法
(51)【国際特許分類】
H01L 21/304 20060101AFI20240627BHJP
H01L 21/306 20060101ALI20240627BHJP
【ＦＩ】
H01L21/304 643Z
H01L21/306 R
【審査請求】未請求
【請求項の数】9
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022207275
(22)【出願日】2022-12-23
(71)【出願人】
【識別番号】000207551
【氏名又は名称】株式会社ＳＣＲＥＥＮホールディングス
(74)【代理人】
【識別番号】110002310
【氏名又は名称】弁理士法人あい特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】石川 秀和
(72)【発明者】
【氏名】藤井 定
(72)【発明者】
【氏名】土橋 裕也
(72)【発明者】
【氏名】テン ポーリン
【テーマコード（参考）】
5F043
5F157
【Ｆターム（参考）】
5F043DD13
5F043EE07
5F043EE08
5F157AB02
5F157AB14
5F157AB33
5F157AB45
5F157AB49
5F157AB64
5F157AB72
5F157AB90
5F157BB39
5F157CC01
5F157CF30
5F157CF70
5F157CF74
(57)【要約】
【課題】多量の結晶が待機ポットまたはその付近に発生することを防止できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、水平な基板の上面に向けて薬液を下方に吐出する薬液ノズル３１と、平面視で薬液ノズル３１が基板に重なる処理位置と、平面視で薬液ノズル３１が基板に重ならない待機位置と、の間で薬液ノズル３１を移動させる少なくとも１つのアクチュエーターと、待機位置に位置する薬液ノズル３１から下方に吐出された薬液を凹部５７で受け止める待機ポット５６と、待機ポット５６に向けて待機ポット５６の外から洗浄水を霧状またはシャワー状に吐出する少なくとも１つの洗浄水ノズル６４～６５とを備える。
【選択図】図７
【解決手段】基板処理装置は、水平な基板の上面に向けて薬液を下方に吐出する薬液ノズル３１と、平面視で薬液ノズル３１が基板に重なる処理位置と、平面視で薬液ノズル３１が基板に重ならない待機位置と、の間で薬液ノズル３１を移動させる少なくとも１つのアクチュエーターと、待機位置に位置する薬液ノズル３１から下方に吐出された薬液を凹部５７で受け止める待機ポット５６と、待機ポット５６に向けて待機ポット５６の外から洗浄水を霧状またはシャワー状に吐出する少なくとも１つの洗浄水ノズル６４～６５とを備える。
【選択図】図７
【特許請求の範囲】
【請求項1】
水平な基板の上面に向けて薬液を下方に吐出する薬液ノズルと、
平面視で前記薬液ノズルが前記基板に重なる処理位置と、平面視で前記薬液ノズルが前記基板に重ならない待機位置と、の間で前記薬液ノズルを移動させる少なくとも１つのアクチュエーターと、
下方に凹んだ凹部を含み、前記待機位置に位置する前記薬液ノズルから下方に吐出された前記薬液を前記凹部で受け止める待機ポットと、
前記待機ポットに向けて前記待機ポットの外から洗浄水を霧状またはシャワー状に吐出する少なくとも１つの洗浄水ノズルと、を備える、基板処理装置。
平面視で前記薬液ノズルが前記基板に重なる処理位置と、平面視で前記薬液ノズルが前記基板に重ならない待機位置と、の間で前記薬液ノズルを移動させる少なくとも１つのアクチュエーターと、
下方に凹んだ凹部を含み、前記待機位置に位置する前記薬液ノズルから下方に吐出された前記薬液を前記凹部で受け止める待機ポットと、
前記待機ポットに向けて前記待機ポットの外から洗浄水を霧状またはシャワー状に吐出する少なくとも１つの洗浄水ノズルと、を備える、基板処理装置。
【請求項2】
前記少なくとも１つの洗浄水ノズルは、前記待機ポットの前記凹部によって前記待機ポットの外面内に形成された開口よりも上方に配置された内側用吐出口を含み、前記内側用吐出口から前記待機ポットの前記開口に向けて前記洗浄水を霧状またはシャワー状に吐出する、請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項3】
前記待機ポットの前記凹部内から気体を排出する排気配管をさらに備える、請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項4】
前記少なくとも１つの洗浄水ノズルは、前記薬液ノズルが前記処理位置に位置しているときに、前記内側用吐出口から前記待機ポットの前記開口に向けて前記洗浄水を霧状またはシャワー状に吐出する、請求項２または３に記載の基板処理装置。
【請求項5】
前記基板処理装置は、前記待機位置に位置する前記薬液ノズルと水平に直接向かい合っており、前記待機位置に位置する前記薬液ノズルが前記待機ポットに向けて前記薬液を下方に吐出したときに発生した前記薬液の飛沫を受け止める飛沫ブロッカーをさらに備え、
前記少なくとも１つの洗浄水ノズルは、前記内側用吐出口から前記飛沫ブロッカーと前記待機ポットの前記開口とに向けて前記洗浄水を霧状またはシャワー状に吐出する、請求項２または３に記載の基板処理装置。
前記少なくとも１つの洗浄水ノズルは、前記内側用吐出口から前記飛沫ブロッカーと前記待機ポットの前記開口とに向けて前記洗浄水を霧状またはシャワー状に吐出する、請求項２または３に記載の基板処理装置。
【請求項6】
前記待機ポットおよび飛沫ブロッカーを上から見ると、前記待機ポットの前記開口が視認可能である、請求項５に記載の基板処理装置。
【請求項7】
前記少なくとも１つの洗浄水ノズルの前記内側用吐出口よりも上方に配置された吐出口から気体を吐出することにより、平面視で前記待機ポットに重なる気流を前記待機ポットの上方に形成するガスカーテンノズルをさらに備える、請求項２または３に記載の基板処理装置。
【請求項8】
前記少なくとも１つの洗浄水ノズルは、前記待機ポットの前記凹部によって前記待機ポットの外面内に形成された開口よりも下方に配置された外側用吐出口を含み、前記外側用吐出口から前記待機ポットの前記外面に向けて前記洗浄水を霧状またはシャワー状に吐出する、請求項１～３のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項9】
水平な基板の上面に向けて薬液を下方に吐出する薬液ノズルが、平面視で前記基板に重ならない待機位置に配置されているときに、前記薬液ノズルから下方に吐出された前記薬液を、下方に凹んだ待機ポットの凹部で受け止める工程と、
前記待機位置に位置する前記薬液ノズルが前記待機ポットに向けて前記薬液を下方に吐出し始めた後に、前記待機ポットに向けて前記待機ポットの外から洗浄水を霧状またはシャワー状に少なくとも１つの洗浄水ノズルに吐出させる工程と、を含む、基板処理方法。
前記待機位置に位置する前記薬液ノズルが前記待機ポットに向けて前記薬液を下方に吐出し始めた後に、前記待機ポットに向けて前記待機ポットの外から洗浄水を霧状またはシャワー状に少なくとも１つの洗浄水ノズルに吐出させる工程と、を含む、基板処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、基板を処理する基板処理装置および基板処理方法に関する。基板には、例えば、半導体ウエハ、液晶表示装置や有機ＥＬ（electroluminescence）表示装置などのＦＰＤ（Flat Panel Display）用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板などが含まれる。
【背景技術】
【0002】
特許文献１は、半導体ウエハなどの基板の処理では、ＢＨＦやＴＭＡＨなどの濃度が変化し易い薬液を用いる場合があることと、ＢＨＦ中のＨＦの濃度の上昇によりＨＦを主成分とする結晶が液中に析出する場合があることを開示している。特許文献１は、さらに、薬液ノズル内に残留しているＢＨＦなどの薬液を洗い流すために、純水を薬液ノズルに供給し待機ポットの開口部に向けて薬液ノズルに吐出させることを開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２０１８-１２１０８８公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
薬液ノズルから基板に薬液を供給する前に、待機ポットまたは待機ポッドなどと呼ばれる容器に向けて薬液ノズルに薬液を吐出させるプリディスペンスを行う場合がある。このような薬液の吐出は、ダミーディスペンスなどとも呼ばれる。プリディスペンスを行うと、薬液の飛沫が発生し、待機ポットから漏れ出る。発生する飛沫を減らしたり、待機ポットから漏れる飛沫を減らしたりすることはできるものの、待機ポットから漏れる飛沫を零にすることは難しい。薬液の飛沫が待機ポットの外面に付着すると、この飛沫から結晶が析出する場合がある。このような結晶が浮遊すると、基板に接触する場合がある。
【0005】
そこで、本発明の目的の一つは、多量の結晶が待機ポットまたはその付近に発生することを防止できる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明の一実施形態は、水平な基板の上面に向けて薬液を下方に吐出する薬液ノズルと、平面視で前記薬液ノズルが前記基板に重なる処理位置と、平面視で前記薬液ノズルが前記基板に重ならない待機位置と、の間で前記薬液ノズルを移動させる少なくとも１つのアクチュエーターと、下方に凹んだ凹部を含み、前記待機位置に位置する前記薬液ノズルから下方に吐出された前記薬液を前記凹部で受け止める待機ポットと、前記待機ポットに向けて前記待機ポットの外から洗浄水を霧状またはシャワー状に吐出する少なくとも１つの洗浄水ノズルと、を備える、基板処理装置を提供する。
【0007】
この構成によれば、薬液ノズルから薬液を下方に吐出し、水平な基板の上面に供給する。少なくとも１つのアクチュエーターは、平面視で薬液ノズルが基板に重なる処理位置から、平面視で薬液ノズルが基板に重ならない待機位置に、薬液ノズルを移動させる。待機位置に位置する薬液ノズルから下方に吐出された薬液は、待機ポットの凹部によって受け止められる。洗浄水ノズルから吐出された霧状またはシャワー状の洗浄水は、待機ポットおよび待機ポットのまわりの部材に供給される。
【0008】
薬液ノズルから下方に吐出された薬液が待機ポットに受け止められると、薬液の飛沫が発生する。薬液が蒸発すると薬液の飛沫から結晶が析出することがある。洗浄水ノズルから待機ポットに向けて洗浄水を吐出することにより、薬液の飛沫に水を与えることができ、この飛沫から結晶が析出することを防止または遅延させることができる。薬液の飛沫が結晶化している場合は、洗浄水に結晶を溶解させることにより、当該結晶を液体に戻すことができる。結晶の全体が液体に戻らなかったとしても、洗浄水を結晶に付着させることにより当該結晶を空気中に浮遊させ難くすることができる。
【0009】
待機ポットから漏れた薬液の飛沫が広がる範囲を特定することは難しい。薬液の飛沫が極めて広い範囲に拡散することもある。薬液の飛沫が拡散し得る全ての範囲に洗浄水を自動で供給して、漏れ出た薬液を洗浄水で洗い流すことが考えられる。しかしながら、この方法では、多量の洗浄水が必要になる上に、不必要な範囲にまで多量の洗浄水が供給される。洗浄水を霧状またはシャワー状に吐出する場合は、ノズルと同程度の直径の液柱（洗浄水の柱）を形成しながら洗浄水をノズルから供給する場合に比べて少量の洗浄水を広い範囲に供給することができる。
【0010】
洗浄水を待機ポットに向けて霧状またはシャワー状に吐出する場合、待機ポットから漏れ出た薬液が待機ポットまたはその付近に残るかもしれない。例えば自動または手動で定期的に基板処理装置を洗浄する際に、このような薬液を洗い流せば、結晶の発生源を除去することができる。洗浄水を待機ポットに向けて霧状またはシャワー状に吐出すれば、結晶の析出を防止または遅延させることができるので、定期的な洗浄の頻度を増やす必要もない。これにより、不必要な範囲にまで多量の洗浄水が供給されるなどの洗浄水の供給に伴う新たな問題の発生を防止しながら、多量の結晶が待機ポットまたはその付近に発生することを防止できる。
【0011】
前記実施形態において、以下の特徴の少なくとも１つを、前記基板処理装置に加えてもよい。
【0012】
前記少なくとも１つの洗浄水ノズルは、前記待機ポットの前記凹部によって前記待機ポットの外面内に形成された開口よりも上方に配置された内側用吐出口を含み、前記内側用吐出口から前記待機ポットの前記開口に向けて前記洗浄水を霧状またはシャワー状に吐出する。
【0013】
この場合、待機ポットの開口よりも上方に配置された洗浄水ノズルの内側用吐出口から待機ポットの開口に向けて洗浄水を霧状またはシャワー状に吐出する。霧状またはシャワー状の洗浄水は、待機ポットの開口を通じて待機ポットの中に入る。一部の洗浄水は、待機ポットの外面や待機ポットのまわりの部材に供給される。薬液の飛沫は、待機ポットの開口やその付近に残り易い。したがって、薬液の飛沫に洗浄水を効率的に供給することができる。
【0014】
前記基板処理装置は、前記待機ポットの前記凹部内から気体を排出する排気配管をさらに備える。
【0015】
この場合、空中に浮遊する液体または固体の微粒子を含む気体や、このような微粒子を含まない気体を、待機ポットの凹部から排気配管に排出する。洗浄水ノズルから吐出された霧状またはシャワー状の洗浄水は、待機ポットの開口を通じて待機ポットの中に入る。凹部内の洗浄水のミストは、排気配管に排出される。これにより、凹部内に残留する洗浄水を減らすことができる。
【0016】
前記少なくとも１つの洗浄水ノズルは、前記薬液ノズルが前記処理位置に位置しているときに、前記内側用吐出口から前記待機ポットの前記開口に向けて前記洗浄水を霧状またはシャワー状に吐出する。
【0017】
この場合、薬液ノズルが平面視で基板に重なる処理位置に配置されているときに、待機ポットの開口よりも上方に配置された洗浄水ノズルの内側用吐出口から待機ポットの開口に向けて洗浄水を霧状またはシャワー状に吐出する。薬液ノズルが待機位置に配置されているときに、洗浄水ノズルに洗浄水を吐出させると、霧状またはシャワー状の洗浄水が薬液ノズルに付着する。したがって、薬液ノズルが処理位置に配置されているときに洗浄水ノズルに洗浄水を吐出させれば、薬液ノズルに付着する洗浄水を減らすことができる。
【0018】
前記基板処理装置は、前記待機位置に位置する前記薬液ノズルと水平に直接向かい合っており、前記待機位置に位置する前記薬液ノズルが前記待機ポットに向けて前記薬液を下方に吐出したときに発生した前記薬液の飛沫を受け止める飛沫ブロッカーをさらに備え、前記少なくとも１つの洗浄水ノズルは、前記内側用吐出口から前記飛沫ブロッカーと前記待機ポットの前記開口とに向けて前記洗浄水を霧状またはシャワー状に吐出する。
【0019】
この場合、薬液ノズルと飛沫ブロッカーとを水平に直接向かい合わせる。待機位置に位置する薬液ノズルが待機ポットに向けて薬液を下方に吐出したときに発生した薬液の飛沫の一部は、飛沫ブロッカーに受け止められる。洗浄水ノズルの内側用吐出口は、待機ポットの開口だけでなく、飛沫ブロッカーにも霧状またはシャワー状の洗浄水を供給する。これにより、薬液の飛沫が拡散する範囲を飛沫ブロッカーによって狭めることができ、飛沫ブロッカーに付着している薬液の飛沫から結晶が析出することを防止または遅延させることができる。
【0020】
前記待機ポットおよび飛沫ブロッカーを上から見ると、前記待機ポットの前記開口が視認可能である。
【0021】
この場合、待機ポットおよび飛沫ブロッカーの上から待機ポットの開口が見える。待機ポットおよび飛沫ブロッカーの上から洗浄水を霧状またはシャワー状に吐出すると、洗浄水が飛沫ブロッカーに供給されると共に、待機ポットの開口を通じて待機ポットの中に入る。待機ポットの開口の上方に配置されたシーリングプレートを飛沫ブロッカーに設ければ、薬液の飛沫が上方に拡散する範囲を狭めることができるものの、シーリングプレートの下の空間に薬液の飛沫が残る場合がある。この場合、シーリングプレートがあるので、シーリングプレートの下の空間を洗浄し難い。待機ポットおよび飛沫ブロッカーの上から待機ポットの開口が見える構造では、このような問題の発生を防止できる。
【0022】
前記飛沫ブロッカーは、前記待機位置に位置する前記薬液ノズルの吐出口に対して平面視で前記少なくとも１つのアクチュエーターとは反対側に配置された第１サイドプレートと、前記待機位置に位置する前記薬液ノズルの前記吐出口に対して平面視で前記処理位置とは反対側に配置された第２サイドプレートと、前記待機位置に位置する前記薬液ノズルの前記吐出口に対して平面視で前記少なくとも１つのアクチュエーター側に配置された第３サイドプレートと、前記待機位置に位置する前記薬液ノズルと前記待機ポットの前記開口とに平面視で重なるように前記薬液ノズルおよび待機ポットの上方に配置されたシーリングプレートと、のうちの少なくとも１つを備えていてもよい。
【0023】
前記基板処理装置は、前記少なくとも１つの洗浄水ノズルの前記内側用吐出口よりも上方に配置された吐出口から気体を吐出することにより、平面視で前記待機ポットに重なる気流を前記待機ポットの上方に形成するガスカーテンノズルをさらに備える。
【0024】
この場合、洗浄水ノズルの内側用吐出口よりも上方に配置されたガスカーテンノズルの吐出口から気体を吐出する。ガスカーテンノズルの吐出口から吐出された気体は、待機ポットの上方の空間を浮遊する洗浄水のミストの上方に気流を形成する。上方に流れる洗浄水のミストは、ガスカーテンノズルから流れる気流によって遮断される。これにより、不要な範囲にまで拡散する洗浄水のミストを減らすことができる。
【0025】
前記少なくとも１つの洗浄水ノズルは、前記待機ポットの前記凹部によって前記待機ポットの外面内に形成された開口よりも下方に配置された外側用吐出口を含み、前記外側用吐出口から前記待機ポットの前記外面に向けて前記洗浄水を霧状またはシャワー状に吐出する。
【0026】
この場合、待機ポットの開口よりも下方に配置された洗浄水ノズルの外側用吐出口から待機ポットの外面に向けて洗浄水を霧状またはシャワー状に吐出する。洗浄水ノズルの外側用吐出口が待機ポットの開口よりも下方に配置されているので、洗浄水のミストが待機ポットの開口を通じて待機ポットの中に入り難い。これにより、凹部内に残留する洗浄水を減らしながら、薬液の飛沫が付着し易い待機ポットの外面に効率的に洗浄水を供給することができる。
【0027】
本発明の他の実施形態は、水平な基板の上面に向けて薬液を下方に吐出する薬液ノズルが、平面視で前記基板に重ならない待機位置に配置されているときに、前記薬液ノズルから下方に吐出された前記薬液を、下方に凹んだ待機ポットの凹部で受け止める工程と、前記待機位置に位置する前記薬液ノズルが前記待機ポットに向けて前記薬液を下方に吐出し始めた後に、前記待機ポットに向けて前記待機ポットの外から洗浄水を霧状またはシャワー状に少なくとも１つの洗浄水ノズルに吐出させる工程と、を含む、基板処理方法を提供する。この方法によれば、前述の基板処理装置と同様の効果を奏することができる。基板処理装置に関する前述の特徴の少なくとも１つを前記基板処理方法に加えてもよい。前記待機位置に位置する前記薬液ノズルが前記待機ポットに向けて前記薬液を下方に吐出し始めた後であれば、前記少なくとも１つの洗浄水ノズルは、前記薬液ノズルが前記待機位置以外の位置に配置されているときに洗浄水を吐出してもよい。
【図面の簡単な説明】
【0028】
【図1A】本発明の一実施形態に係る基板処理装置のレイアウトを示す概略平面図である。
【図1B】基板処理装置の概略側面図である。
【図2A】処理ユニットの内部を水平に見た概略図である。
【図2B】処理ユニットの内部を示す概略平面図である。
【図3】基板処理装置の電気的構成を示すブロック図である。
【図4】基板処理装置によって行われる基板の処理の一例について説明するための工程図である。
【図5】薬液ノズルおよび待機ポットを水平に見た概略図である。
【図6】薬液ノズルが移動する経路について説明するための概略図である。
【図7】基板側から薬液ノズルおよび待機ポットを水平に見た概略図である。
【図8】薬液ノズルおよび待機ポットを上から見た概略図である。
【図10】薬液ノズルが待機位置でプリディスペンスを行い、処理位置で基板に薬液を供給し、待機位置に戻るまでの期間に行われるミストの吐出について説明するためのタイムチャートである。
【発明を実施するための形態】
【0029】
以下では、本発明の実施形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
【0030】
【0031】
基板処理装置１は、半導体ウエハなどの円板状の基板Ｗを１枚ずつ処理する枚葉式の装置である。基板処理装置１は、基板Ｗを収容するキャリアＣＡを保持するロードポートＬＰと、ロードポートＬＰ上のキャリアＣＡから搬送された基板Ｗを処理液や処理ガスなどの処理流体で処理する複数の処理ユニット２と、ロードポートＬＰ上のキャリアＣＡと複数の処理ユニット２との間で基板Ｗを搬送する搬送システム５と、基板処理装置１を制御する制御装置３とを備えている。
【0032】
複数の処理ユニット２は、複数のタワーＴＷを形成している。図１Ａは、４つのタワーＴＷが形成された例を示している。図１Ｂに示すように、１つのタワーＴＷに含まれる複数の処理ユニット２は、上下に積層されている。図１Ａに示すように、複数のタワーＴＷは、平面視で基板処理装置１の奥行方向に並んだ２つの列を形成している。平面視において２つの列は搬送路４を介して互いに向かい合っている。
【0033】
搬送システム５は、ロードポートＬＰ上のキャリアＣＡと複数の処理ユニット２との間で基板Ｗを搬送するインデクサロボットＩＲと、インデクサロボットＩＲと複数の処理ユニット２との間で基板Ｗを搬送するセンターロボットＣＲとを含む。インデクサロボットＩＲは、平面視でロードポートＬＰとセンターロボットＣＲとの間に配置されている。センターロボットＣＲは、搬送路４に配置されている。
【0034】
インデクサロボットＩＲは、基板Ｗを水平に支持する１つ以上のハンドＨｉを含む。ハンドＨｉは、水平方向および鉛直方向のいずれにも平行に移動可能である。ハンドＨｉは、鉛直な直線まわりに回転可能である。ハンドＨｉは、いずれのロードポートＬＰ上のキャリアＣＡに対しても基板Ｗの搬入および搬出を行うことができ、センターロボットＣＲと基板Ｗの受け渡しをすることができる。
【0035】
センターロボットＣＲは、基板Ｗを水平に支持する１つ以上のハンドＨｃを含む。ハンドＨｃは、水平方向および鉛直方向のいずれにも平行に移動可能である。ハンドＨｃは、鉛直な直線まわりに回転可能である。ハンドＨｃは、インデクサロボットＩＲと基板Ｗの受け渡しをすることができ、いずれの処理ユニット２に対しても基板Ｗの搬入および搬出を行うことができる。
【0036】
次に、処理ユニット２について説明する。
【0037】
【0038】
図２Ａに示すように、処理ユニット２は、内部空間を有する箱型のチャンバー１２と、チャンバー１２内で１枚の基板Ｗを水平に保持しながら基板Ｗの中央部を通る鉛直な回転軸線Ａ１まわりに回転させるスピンチャック２１と、スピンチャック２１に保持されている基板Ｗに処理液や処理ガスなどの処理流体を供給する複数のノズルとを含む。
【0039】
図２Ｂに示すように、チャンバー１２は、センターロボットＣＲ（図１Ａ参照）によって搬送された基板Ｗが通過する搬入搬出口１３ｂが設けられた箱型の隔壁１３と、搬入搬出口１３ｂを開閉するシャッター１７とを含む。図２Ａに示すように、チャンバー１２は、さらに、隔壁１３の天井面で開口する送風口１３ａの下方に配置された整流板１８を含む。クリーンエアー（フィルターによってろ過された空気）を送るＦＦＵ１１（ファン・フィルター・ユニット１１）は、送風口１３ａの上に配置されている。送風口１３ａは、チャンバー１２の上端部に設けられており、排気ダクト４９は、チャンバー１２の下端部に配置されている。排気ダクト４９の上流端４９ｕは、チャンバー１２の中に配置されており、排気ダクト４９の下流端は、チャンバー１２の外に配置されている。
【0040】
整流板１８は、チャンバー１２の内部空間を整流板１８の上方の上空間Ｓｕと整流板１８の下方の下空間ＳＬとに仕切っている。隔壁１３の天井面と整流板１８の上面との間の上空間Ｓｕは、クリーンエアーが拡散する拡散空間である。整流板１８の下面と隔壁１３の床面との間の下空間ＳＬは、基板Ｗの処理が行われる処理空間である。スピンチャック２１は、下空間ＳＬに配置されている。隔壁１３の床面から整流板１８の下面までの鉛直方向への距離は、整流板１８の上面から隔壁１３の天井面までの鉛直方向への距離よりも長い。
【0041】
ＦＦＵ１１は、送風口１３ａを介して上空間Ｓｕにクリーンエアーを送る。上空間Ｓｕに供給されたクリーンエアーは、整流板１８に当たり、上空間Ｓｕで拡散する。上空間Ｓｕ内のクリーンエアーは、整流板１８を上下に貫通する複数の貫通孔を通過し、整流板１８の全域から下方に流れる。下空間ＳＬに供給されたクリーンエアーは、排気ダクト４９内に吸い込まれ、チャンバー１２から排出される。これにより、整流板１８から下方に流れる均一なクリーンエアーの下降流（ダウンフロー）が、下空間ＳＬに形成される。基板Ｗの処理は、クリーンエアーの下降流が形成されている状態で行われる。
【0042】
スピンチャック２１は、基板Ｗを水平に挟む複数のチャックピン２２と、複数のチャックピン２２を支持する円板状のスピンベース２３とを含む。スピンチャック２１は、さらに、スピンベース２３の中央部から下方に延びるスピン軸２４と、スピン軸２４を回転させることにより複数のチャックピン２２およびスピンベース２３を回転させる電動モーター２５と、電動モーター２５を取り囲むチャックハウジング２６とを含む。
【0043】
スピンベース２３は、基板Ｗの下方に配置される円形の上面と、スピンベース２３の上面の外周から下方に延びる円筒状の外周面とを含む。スピンベース２３の上面は、基板Ｗの下面と平行である。スピンベース２３の上面は、基板Ｗの下面から離れている。スピンベース２３の上面は、基板Ｗと同心である。スピンベース２３の上面の外径は、基板Ｗの外径よりも大きい。チャックピン２２は、スピンベース２３の上面の外周部から上方に突出している。
【0044】
図２Ａに示すように、複数のノズルは、基板Ｗの上面に向けて薬液を吐出する薬液ノズル３１と、基板Ｗの上面に向けてリンス液を吐出するリンス液ノズル３４と、基板Ｗの上面に向けて有機溶剤の液体を吐出する溶剤ノズル３７とを含む。図２Ａは、ＢＨＦ（Buffered Hydrogen Fluoride）が薬液ノズル３１から吐出され、純水（脱イオン水：ＤＩＷ（Deionized Water））がリンス液ノズル３４から吐出され、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）が溶剤ノズル３７から吐出される例を示している。
【0045】
ＢＨＦは、フッ化水素酸とフッ化アンモニウムとを含む液体である。ＢＨＦは、酸化シリコン膜などの酸化膜の除去などに用いられる。水やアンモニアなどがＢＨＦから蒸発すると、フッ化アンモニウムとフッ化水素アンモニウム（別名：一水素二フッ化アンモニウム）とを含む結晶が析出する。ＢＨＦは、結晶が析出し易い薬液の一例である。薬液ノズル３１から吐出されるＢＨＦは、室温（例えば、２０～３０℃）であってもよいし、室温よりも高温または低温であってもよい。
【0046】
薬液は、ＢＨＦ以外の水溶液であってもよい。具体的には、薬液は、硫酸、硝酸、塩酸、フッ酸、リン酸、酢酸、アンモニア水、過酸化水素水、有機酸（例えばクエン酸、蓚酸など）、有機アルカリ（例えば、ＴＭＡＨ：テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドなど）、界面活性剤、および腐食防止剤のうちの少なくとも１つを含む液体であってもよいし、これ以外の液体であってもよい。薬液は、カルボン酸を含む水溶液またはクエン酸およびキレート剤を含む水溶液であってもよい。
【0047】
リンス液は、純水以外の液体であってもよい。有機溶剤の液体は、ＩＰＡ以外の液体であってもよい。具体的には、リンス液は、純水、炭酸水、電解イオン水、水素水、オゾン水、希釈濃度（例えば、１０～１００ｐｐｍ程度）の塩酸水、および希釈濃度（例えば、１０～１００ｐｐｍ程度）のアンモニア水のうちの少なくとも１つを含む液体であってもよいし、これ以外の液体であってもよい。有機溶剤の液体は、ＩＰＡ、ＨＦＥ（ハイドロフルオロエーテル）、メタノール、エタノール、アセトンおよびTrans-1,2ジクロロエチレンのうちの少なくとも１つを含む液体であってもよいし、これ以外の液体であってもよい。
【0048】
薬液ノズル３１は、基板Ｗに対する処理液の衝突位置を基板Ｗの上面内で移動させるスキャンノズルであってもよいし、基板Ｗに対する処理液の衝突位置を移動させることができない固定ノズルであってもよい。他のノズルについても同様である。図２Ａは、薬液ノズル３１、リンス液ノズル３４、および溶剤ノズル３７がスキャンノズルである例を示している。
【0049】
処理ユニット２は、１つ以上のスキャンノズルを水平に移動させるノズル移動ユニットを含む。２つ以上のスキャンノズルに連結された１つのノズル移動ユニットを設けてもよいし、１つのスキャンノズルごとに１つのノズル移動ユニットを設けてもよい。図２Ｂは、薬液ノズル３１が第１ノズル移動ユニット３３に連結され、リンス液ノズル３４が第２ノズル移動ユニット３６に連結され、溶剤ノズル３７が第３ノズル移動ユニット３９に連結された例を示している。
【0050】
図２Ｂは、第１ノズル移動ユニット３３、第２ノズル移動ユニット３６、および第３ノズル移動ユニット３９のそれぞれが、平面視で円弧状の経路に沿って１つ以上のスキャンノズルを水平に移動させる旋回ユニットである例を示している。円弧状の経路の半径が大きいので、旋回ユニットは、平面視で直線と見なせる経路に沿って１つ以上のスキャンノズルを水平に移動させる。第１ノズル移動ユニット３３、第２ノズル移動ユニット３６、および第３ノズル移動ユニット３９の少なくとも１つは、平面視で直線状の経路に沿って１つ以上のスキャンノズルを水平に移動させるスライドユニットであってもよい。
【0051】
薬液ノズル３１は、薬液ノズル３１に向けて薬液を案内する薬液配管３２ｐに接続されている。薬液配管３２ｐに介装された薬液バルブ３２ｖが開かれると、薬液が、薬液配管３２ｐから薬液ノズル３１に供給され、薬液ノズル３１から下方に連続的に吐出される。第１ノズル移動ユニット３３は、平面視で薬液ノズル３１が基板Ｗに重なる処理位置と、平面視で薬液ノズル３１が基板Ｗに重ならない待機位置と、の間で薬液ノズル３１を水平に移動させる。
【0052】
図示はしないが、薬液バルブ３２ｖは、処理液が通過する環状の弁座が設けられたバルブボディーと、弁座に対して移動可能な弁体と、弁体が弁座に接触する閉位置と弁体が弁座から離れた開位置との間で弁体を移動させるアクチュエーターとを含む。他のバルブについても同様である。アクチュエーターは、空圧アクチュエーターまたは電動アクチュエーターであってもよいし、これら以外のアクチュエーターであってもよい。制御装置３は、アクチュエーターを制御することにより、薬液バルブ３２ｖを開閉させる。
【0053】
リンス液ノズル３４は、リンス液ノズル３４に向けてリンス液を案内するリンス液配管３５ｐに接続されている。リンス液配管３５ｐに介装されたリンス液バルブ３５ｖが開かれると、リンス液が、リンス液配管３５ｐからリンス液ノズル３４に供給され、リンス液ノズル３４から下方に連続的に吐出される。第２ノズル移動ユニット３６は、平面視でリンス液ノズル３４が基板Ｗに重なる処理位置と、平面視でリンス液ノズル３４が基板Ｗに重ならない待機位置と、の間でリンス液ノズル３４を水平に移動させる。
【0054】
溶剤ノズル３７は、溶剤ノズル３７に向けて有機溶剤の液体を案内する溶剤配管３８ｐに接続されている。溶剤配管３８ｐに介装された溶剤バルブ３８ｖが開かれると、有機溶剤の液体が、溶剤配管３８ｐから溶剤ノズル３７に供給され、溶剤ノズル３７から下方に連続的に吐出される。第３ノズル移動ユニット３９は、溶剤ノズル３７から吐出された処理液が基板Ｗの上面に供給される処理位置と、溶剤ノズル３７が平面視でスピンチャック２１のまわりに位置する待機位置と、の間で溶剤ノズル３７を水平に移動させる。
【0055】
処理ユニット２は、スピンチャック２１および基板Ｗから外方に飛散した処理液を受け止める筒状の処理カップ４１を含む。処理カップ４１は、チャンバー１２内で基板Ｗの回転軸線Ａ１まわりにスピンチャック２１を取り囲んでいる。処理カップ４１は、スピンチャック２１および基板Ｗから外方に飛散した処理液を受け止める複数のガード４４と、複数のガード４４によって下方に案内された処理液を受け止める複数のカップ４３とを含む。図２Ａは、２つのガード４４と２つのカップ４３とが設けられており、最も外側のカップ４３が上から２番目のガード４４と一体である例を示している。
【0056】
ガード４４は、スピンチャック２１を取り囲む円筒部４５と、円筒部４５の上端部から回転軸線Ａ１に向かって斜め上に延びる円環状の天井部４６とを含む。複数の天井部４６は、上下に重なっており、複数の円筒部４５は、同心円状に配置されている。天井部４６の円環状の上端は、平面視で基板Ｗおよびスピンベース２３を取り囲むガード４４の上端４４ｕに相当する。複数のカップ４３は、それぞれ、複数の円筒部４５の下方に配置されている。カップ４３は、ガード４４によって下方に案内された処理液を受け止める環状の溝を形成している。
【0057】
処理カップ４１は、複数のガード４４および複数のカップ４３に加えて、複数のガード４４および複数のカップ４３を取り囲む円筒状の筒状外壁４２を含む。筒状外壁４２は、全てのガード４４のうちで最も外側に位置するガード４４を径方向に間隔を空けて取り囲んでいる。筒状外壁４２は、チャンバー１２の床面から上方に延びている。後述するように、ガード４４は、上位置と下位置との間で昇降可能である。筒状外壁４２の上端は、上位置に位置するガード４４の上端４４ｕよりも下方に配置されている。
【0058】
処理ユニット２は、複数のガード４４を個別に昇降させるガード昇降ユニット４７を含む。ガード昇降ユニット４７は、上位置から下位置までの範囲内の任意の位置にガード４４を位置させる。図２Ａは、２つのガード４４が下位置に配置されている状態を示している。上位置は、スピンチャック２１に保持されている基板Ｗが配置される保持位置よりもガード４４の上端４４ｕが上方に配置される位置である。下位置は、ガード４４の上端４４ｕが保持位置よりも下方に配置される位置である。
【0059】
回転している基板Ｗに処理液を供給するときは、少なくとも１つのガード４４が上位置に配置される。この状態で、処理液が基板Ｗに供給されると、処理液は、基板Ｗから外方に振り切られる。振り切られた処理液は、基板Ｗに水平に対向するガード４４の内面に衝突し、このガード４４に対応するカップ４３に案内される。これにより、基板Ｗから排出された処理液がカップ４３に集められる。
【0060】
処理ユニット２は、上位置に位置する複数のガード４４のまわりの空間内で水平面に沿って配置された仕切板４８を含む。仕切板４８は、複数のガード４４を取り囲んでいる。仕切板４８の内縁は、複数のガード４４から水平に離れている。仕切板４８の外縁は、チャンバー１２の内周面（基板Ｗを取り囲む隔壁１３の内周面）から水平に離れている。仕切板４８は、筒状外壁４２の上方に配置されている。仕切板４８は、筒状外壁４２の上に置かれている。仕切板４８は、上位置に位置するガード４４の上端４４ｕよりも下方に配置されている。
【0061】
図２Ｂに示すように、処理ユニット２は、待機位置に位置する薬液ノズル３１から下方に吐出された薬液を受け止める待機ポット５６を含む。待機ポット５６は、待機位置に位置する薬液ノズル３１よりも下方に配置されている。待機位置は、平面視で薬液ノズル３１が待機ポット５６に重なる位置である。待機ポット５６は、処理カップ４１の外側に配置されている。待機ポット５６は、チャンバー１２内に配置されている。待機ポット５６の開口５６ｏは、仕切板４８よりも上方に配置されている。待機ポット５６の開口５６ｏが仕切板４８よりも上方に配置されるのであれば、待機ポット５６の下端は、仕切板４８よりも上方または下方に配置されてもよいし、仕切板４８上に配置されてもよい。
【0062】
次に、基板処理装置１の電気的構成について説明する。
【0063】
図３は、基板処理装置１の電気的構成を示すブロック図である。制御装置３は、コンピューター本体３ａと、コンピューター本体３ａに接続された周辺装置３ｄとを含む、コンピューターである。コンピューター本体３ａは、各種の命令を実行するＣＰＵ３ｂ（central processing unit：中央処理装置）と、情報を記憶するメモリー３ｃとを含む。周辺装置３ｄは、プログラムＰ等の情報を記憶するストレージ３ｅと、リムーバブルメディアＲＭから情報を読み取るリーダー３ｆと、ホストコンピューター等の他の装置と通信する通信装置３ｇとを含む。
【0064】
制御装置３は、入力装置および表示装置に接続されている。入力装置は、ユーザーやメンテナンス担当者などの操作者が基板処理装置１に情報を入力するときに操作される。情報は、表示装置の画面に表示される。入力装置は、キーボード、ポインティングデバイス、およびタッチパネルのいずれかであってもよいし、これら以外の装置であってもよい。入力装置および表示装置を兼ねるタッチパネルディスプレイが基板処理装置１に設けられてもよい。
【0065】
ＣＰＵ３ｂは、ストレージ３ｅに記憶されたプログラムＰを実行する。ストレージ３ｅ内のプログラムＰは、制御装置３に予めインストールされたものであってもよいし、リーダー３ｆを通じてリムーバブルメディアＲＭからストレージ３ｅに送られたものであってもよいし、ホストコンピューターなどの外部装置から通信装置３ｇを通じてストレージ３ｅに送られたものであってもよい。
【0066】
ストレージ３ｅおよびリムーバブルメディアＲＭは、電力が供給されていなくても記憶を保持する不揮発性メモリーである。ストレージ３ｅは、例えば、ハードディスクドライブ等の磁気記憶装置である。リムーバブルメディアＲＭは、例えば、コンパクトディスクなどの光ディスクまたはメモリーカードなどの半導体メモリーである。リムーバブルメディアＲＭは、プログラムＰが記録されたコンピューター読取可能な記録媒体の一例である。リムーバブルメディアＲＭは、一時的ではない有形の記録媒体（non-transitory tangible media）である。
【0067】
ストレージ３ｅは、複数のレシピを記憶している。レシピは、基板Ｗの処理内容、処理条件、および処理手順を規定する情報である。複数のレシピは、基板Ｗの処理内容、処理条件、および処理手順の少なくとも１つにおいて互いに異なる。制御装置３は、ホストコンピューターによって指定されたレシピにしたがって基板Ｗが処理されるように基板処理装置１を制御する。制御装置３は、後述する各工程を実行するようにプログラムされている。
【0068】
次に、基板Ｗの処理の一例について説明する。
【0069】
【0070】
基板処理装置１によって基板Ｗを処理するときは、チャンバー１２内に基板Ｗを搬入する搬入工程（図４のステップＳ１）を行う。
【0071】
具体的には、全てのガード４４が下位置に位置しており、全てのスキャンノズルが待機位置に位置している状態で、センターロボットＣＲ（図１Ａ参照）が、基板ＷをハンドＨｃで水平に支持しながら、ハンドＨｃをチャンバー１２内に進入させる。その後、センターロボットＣＲは、基板Ｗの表面が上に向けられた状態でハンドＨｃ上の基板Ｗを複数のチャックピン２２の上に置く。その後、センターロボットＣＲは、ハンドＨｃをチャンバー１２の内部から退避させる。
【0072】
基板Ｗが複数のチャックピン２２の上に置かれた後は、複数のチャックピン２２が基板Ｗの外周面に押し付けられ、基板Ｗが把持される。その後、電動モーター２５が駆動され、基板Ｗの回転が開始される。これにより、基板Ｗが薬液供給速度で回転する。ガード昇降ユニット４７は、基板Ｗの回転が開始される前または後に、少なくとも１つのガード４４を下位置から上位置に上昇させる。
【0073】
次に、薬液の一例であるＢＨＦを基板Ｗの上面に供給して、基板Ｗの上面の全域を覆うＢＨＦの液膜を形成する薬液供給工程（図４のステップＳ２）を行う。
【0074】
具体的には、少なくとも１つのガード４４が上位置に位置している状態で、第１ノズル移動ユニット３３が薬液ノズル３１を待機位置から処理位置に移動させる。その後、薬液バルブ３２ｖが開かれ、薬液ノズル３１がＢＨＦの吐出を開始する。薬液バルブ３２ｖが開かれてから所定時間が経過すると、薬液バルブ３２ｖが閉じられ、ＢＨＦの吐出が停止される。その後、第１ノズル移動ユニット３３が、薬液ノズル３１を待機位置に移動させる。
【0075】
薬液ノズル３１から吐出されたＢＨＦは、薬液供給速度で回転している基板Ｗの上面に衝突した後、遠心力によって基板Ｗの上面に沿って外方に流れる。そのため、ＢＨＦが基板Ｗの上面の全域に供給され、基板Ｗの上面の全域を覆うＢＨＦの液膜が形成される。薬液ノズル３１がＢＨＦを吐出しているとき、第１ノズル移動ユニット３３は、基板Ｗの上面に対するＢＨＦの衝突位置が中央部と外周部とを通るように衝突位置を移動させてもよいし、中央部で衝突位置を静止させてもよい。衝突位置を移動させるか否かは、ＢＨＦの後に基板Ｗの上面に供給される処理液についても同様である。
【0076】
薬液ノズル３１から基板ＷへのＢＨＦの吐出を停止した後、薬液ノズル３１に残留しているＢＨＦを逆流させることにより薬液ノズル３１から除去するサックバックを行ってもよい。サックバックは、薬液ノズル３１を待機位置の方に移動させる前に行ってもよいし、薬液ノズル３１を待機位置の方に移動させながら行ってもよい。サックバックは、薬液ノズル３１と薬液バルブ３２ｖとの間で薬液配管３２ｐに接続されたサックバック配管にＢＨＦを流入させることにより行ってもよいし、薬液配管３２ｐに取り付けられたサックバックバルブまでＢＨＦを逆流させることにより行ってもよい。後者の場合、薬液バルブ３２ｖがサックバックバルブであってもよい。
【0077】
次に、リンス液の一例である純水を基板Ｗの上面に供給して、基板Ｗ上のＢＨＦを洗い流すリンス液供給工程（図４のステップＳ３）を行う。
【0078】
具体的には、少なくとも１つのガード４４が上位置に位置している状態で、第２ノズル移動ユニット３６がリンス液ノズル３４を待機位置から処理位置に移動させる。その後、リンス液バルブ３５ｖが開かれ、リンス液ノズル３４が純水の吐出を開始する。純水の吐出が開始される前に、ガード昇降ユニット４７は、基板Ｗから排出された液体を受け止めるガード４４を切り替えるために、少なくとも１つのガード４４を鉛直に移動させてもよい。
【0079】
リンス液ノズル３４から吐出された純水は、リンス液供給速度で回転している基板Ｗの上面に衝突した後、遠心力によって基板Ｗの上面に沿って外方に流れる。基板Ｗ上のＢＨＦは、リンス液ノズル３４から吐出された純水に置換される。これにより、基板Ｗの上面の全域を覆う純水の液膜が形成される。リンス液バルブ３５ｖが開かれてから所定時間が経過すると、リンス液バルブ３５ｖが閉じられ、純水の吐出が停止される。その後、第２ノズル移動ユニット３６が、リンス液ノズル３４を待機位置に移動させる。
【0080】
次に、有機溶剤の一例であるＩＰＡを基板Ｗの上面に供給して、基板Ｗ上の純水をＩＰＡに置換する有機溶剤供給工程（図４のステップＳ４）を行う。
【0081】
具体的には、少なくとも１つのガード４４が上位置に位置している状態で、第３ノズル移動ユニット３９が溶剤ノズル３７を待機位置から処理位置に移動させる。その後、溶剤バルブ３８ｖが開かれ、溶剤ノズル３７がＩＰＡの吐出を開始する。ＩＰＡの吐出が開始される前に、ガード昇降ユニット４７は、基板Ｗから排出された液体を受け止めるガード４４を切り替えるために、少なくとも１つのガード４４を鉛直に移動させてもよい。
【0082】
溶剤ノズル３７から吐出されたＩＰＡは、有機溶剤供給速度で回転している基板Ｗの上面に衝突した後、遠心力によって基板Ｗの上面に沿って外方に流れる。基板Ｗ上の純水は、溶剤ノズル３７から吐出されたＩＰＡに置換される。これにより、基板Ｗの上面の全域を覆うＩＰＡの液膜が形成される。溶剤バルブ３８ｖが開かれてから所定時間が経過すると、溶剤バルブ３８ｖが閉じられ、ＩＰＡの吐出が停止される。その後、第３ノズル移動ユニット３９が、溶剤ノズル３７を待機位置に移動させる。
【0083】
次に、ＩＰＡを基板Ｗの上面から除去して、基板Ｗを乾燥させる乾燥工程（図４のステップＳ５）を行う。
【0084】
具体的には、電動モーター２５が基板Ｗを回転方向に加速させ、薬液供給工程から有機溶剤供給工程までの基板Ｗの回転速度よりも大きい高回転速度（例えば数千ｒｐｍ）で基板Ｗを回転させる。電動モーター２５が基板Ｗの高速回転を開始すると、ＩＰＡが基板Ｗから外方に飛散し、基板Ｗの上面から除去される。これにより、基板Ｗが乾燥する。基板Ｗの高速回転が開始されてから所定時間が経過すると、電動モーター２５が回転を停止する。これにより、基板Ｗの回転が停止される。
【0085】
次に、基板Ｗをチャンバー１２から搬出する搬出工程（図４のステップＳ６）を行う。
【0086】
具体的には、ガード昇降ユニット４７が全てのガード４４を下位置まで下降させる。その後、センターロボットＣＲが、ハンドＨｃをチャンバー１２内に進入させる。センターロボットＣＲは、複数のチャックピン２２が基板Ｗの把持を解除した後、スピンチャック２１上の基板ＷをハンドＨｃで支持する。その後、センターロボットＣＲは、基板ＷをハンドＨｃで水平に支持しながら、ハンドＨｃをチャンバー１２の内部から退避させる。これにより、処理済みの基板Ｗがチャンバー１２から搬出される。
【0087】
次に、待機ポット５６およびこれに関連する構成について説明する。最初に、薬液ノズル３１について説明する。
【0088】
図５は、薬液ノズル３１および待機ポット５６を水平に見た概略図である。図６は、薬液ノズル３１が移動する経路について説明するための概略図である。図５は、薬液ノズル３１が中間位置に配置された状態を示している。
【0089】
図５に示すように、薬液ノズル３１は、薬液などの処理液を吐出する吐出口３１ｐが設けられたノズル部５１と、ノズル部５１を支持するアーム部５２とを含む。ノズル部５１は、アーム部５２を介して第１ノズル移動ユニット３３に支持されている。アーム部５２は、ノズル部５１から第１ノズル移動ユニット３３に延びている。アーム部５２は、ノズル部５１と一体である。アーム部５２を薬液ノズル３１に設ける代わりに、薬液ノズル３１に相当するノズル部５１を取り付け可能なノズルアームを介してノズル部５１を第１ノズル移動ユニット３３に接続してもよい。
【0090】
ノズル部５１は、鉛直な直線に沿ってアーム部５２から下方に延びている。ノズル部５１の中心線は、鉛直である。ノズル部５１は、アーム部５２から斜め下に延びていてもよい。アーム部５２は、ノズル部５１から水平に延びている。ノズル部５１の下端は、アーム部５２の下端よりも下方に配置されている。ノズル部５１の中心線に沿う方向へのノズル部５１の長さは、アーム部５２の中心線に沿う方向へのアーム部５２の長さよりも短い。
【0091】
ノズル部５１は、上下に延びる円柱状である。ノズル部５１は、上下に延びる大径部５１ａと、大径部５１ａから下方に離れるにしたがって細くなったテーパー部５１ｂと、テーパー部５１ｂから下方に延びており、大径部５１ａよりも細い小径部５１ｃとを含む。大径部５１ａ、テーパー部５１ｂ、および小径部５１ｃは、同軸である。大径部５１ａの上端は、薬液ノズル３１の上端に相当する。小径部５１ｃの下端は、薬液ノズル３１の下端に相当する。薬液ノズル３１の吐出口３１ｐは、小径部５１ｃの下端で開口している。ノズル部５１の形状は、これに限られない。
【0092】
第１ノズル移動ユニット３３は、薬液ノズル３１を水平に移動させる水平駆動アクチュエーター５５ｈと、薬液ノズル３１を鉛直に移動させる鉛直駆動アクチュエーター５５ｖとを含む。アクチュエーターは、電気、流体、磁気、熱、または化学的エネルギーを機械的な仕事に変換する装置である。アクチュエーターには、電動モーター、エアシリンダー、およびその他の装置が含まれる。水平駆動アクチュエーター５５ｈは、電動モーターまたはエアシリンダーであってもよいし、これら以外であってもよい。鉛直駆動アクチュエーター５５ｖについても同様である。
【0093】
水平駆動アクチュエーター５５ｈおよび鉛直駆動アクチュエーター５５ｖの動力は、第１ノズル移動ユニット３３の可動ボディー５４を介して薬液ノズル３１に伝達される。薬液ノズル３１は、可動ボディー５４に支持されている。可動ボディー５４は、処理カップ４１（図２Ｂ参照）の外側に配置されている。可動ボディー５４は、鉛直な回転軸線Ａ２に沿って上下に延びている。水平駆動アクチュエーター５５ｈは、可動ボディー５４を回転軸線Ａ２まわりに回転させることにより薬液ノズル３１を水平に移動させる。鉛直駆動アクチュエーター５５ｖは、可動ボディー５４を鉛直に移動させることにより、薬液ノズル３１を鉛直に移動させる。
【0094】
図５は、アーム部５２に接した状態でアーム部５２を保持するアームホルダー５３が第１ノズル移動ユニット３３に設けられた例を示している。アームホルダー５３は、可動ボディー５４から水平に突出した状態で可動ボディー５４に支持されている。水平駆動アクチュエーター５５ｈおよび鉛直駆動アクチュエーター５５ｖの動力は、可動ボディー５４およびアームホルダー５３を介して薬液ノズル３１に伝達される。アームホルダー５３に保持されるノズルの本数は２本以上であってもよい。例えば、複数のアーム部５２が互いに平行になるように複数のアーム部５２を水平な姿勢でアームホルダー５３に取り付けてもよい。
【0095】
図６に示すように、第１ノズル移動ユニット３３は、処理位置と中間位置との間で薬液ノズル３１を水平に移動させ、中間位置と待機位置との間で薬液ノズル３１を鉛直に移動させる。図６において、基板Ｗの上方に配置された薬液ノズル３１の位置は処理位置を、待機ポット５６内に挿入された薬液ノズル３１の位置は待機位置を、これら以外の薬液ノズル３１の位置は中間位置を、それぞれ表している。図６では、中間位置に配置された薬液ノズル３１の上端部だけを示している。
【0096】
中間位置は、平面視で薬液ノズル３１が基板Ｗに重ならない位置である。中間位置は、待機位置の真上の位置である。したがって、中間位置および待機位置は、鉛直方向への位置が互いに異なり、水平方向への位置が互いに等しい位置である。中間位置および処理位置は、鉛直方向への位置が互いに等しく、水平方向への位置が互いに異なる位置である。中間位置および待機位置に位置する薬液ノズル３１が薬液を吐出すると、薬液は、基板Ｗではなく待機ポット５６に供給される。
【0097】
中間位置および待機位置は、平面視で薬液ノズル３１が待機ポット５６に重なる位置である。薬液ノズル３１が中間位置に配置されると、薬液ノズル３１の吐出口３１ｐが待機ポット５６の開口５６ｏから上方に離れた状態で、薬液ノズル３１が平面視で待機ポット５６の開口５６ｏに重なる。薬液ノズル３１が中間位置から待機位置に下降すると、薬液ノズル３１が待機ポット５６の開口５６ｏを通じて待機ポット５６の中に入り、薬液ノズル３１の吐出口３１ｐが待機ポット５６の中に配置される。薬液ノズル３１を使用しないとき、薬液ノズル３１は待機位置に配置される。薬液ノズル３１から基板Ｗに薬液を供給する前に待機ポット５６に向けて薬液ノズル３１に薬液を吐出させるプリディスペンスを行うときも、薬液ノズル３１は待機位置に配置される。
【0098】
次に、待機ポット５６および飛沫ブロッカー６０について説明する。
【0099】
図７は、基板Ｗ側から薬液ノズル３１および待機ポット５６を水平に見た概略図である。図８は、薬液ノズル３１および待機ポット５６を上から見た概略図である。図９は、図７における紙面の左側から薬液ノズル３１および待機ポット５６を水平に見た概略図である。図７～図９は、薬液ノズル３１が待機位置に配置された状態を示している。以下では、薬液ノズル３１のノズル部５１を単に薬液ノズル３１ということがある。
【0100】
前述のように、処理ユニット２は、待機位置に位置する薬液ノズル３１から下方に吐出された薬液を受け止める待機ポット５６を含む。図７に示すように、待機ポット５６は、下方に凹んだ凹部５７を含む。凹部５７は、待機ポット５６の上面で開口している。凹部５７は、待機ポット５６の上面から下方に凹んでいる。凹部５７の内面５８は、液体を溜める空間を形成している。凹部５７の内面５８によって形成された空間は、待機ポット５６の内部空間に相当する。
【0101】
薬液ノズル３１から下方に吐出された薬液は、凹部５７の内面５８に衝突し、凹部５７内に溜まる。凹部５７の内面５８は、待機ポット５６の内面５８に相当する。凹部５７の内面５８は、上下に延びる筒状の内周面と、待機ポット５６の内周面の底を閉じる底面とを含む。待機ポット５６の外面５９は、待機ポット５６の内周面を取り囲む筒状の外周面と、待機ポット５６の外周面の上縁から内側に延びる上面と、待機ポット５６の外周面の下縁から内側に延びる下面とを含む。
【0102】
凹部５７の内面５８は、待機ポット５６の外面５９内に位置する開口５６ｏを形成している。凹部５７内の空間は、待機ポット５６の開口５６ｏから下方に延びている。待機ポット５６の開口５６ｏは、凹部５７内の空間の入口に相当する。待機ポット５６の開口５６ｏは、平面視で長方形、正方形、円、および楕円のいずれかであってもよいし、これら以外の形状であってもよい。図８は、待機ポット５６の開口５６ｏが平面視で長方形である例を示している。
【0103】
図７に示すように、待機ポット５６は、凹部５７内の液体を排出する排液口５８Ｌと、凹部５７内の気体を排出する排気口５８ｇとを含む。排液口５８Ｌおよび排気口５８ｇは、凹部５７内に配置されている。排気口５８ｇは、排液口５８Ｌよりも上方に配置されている。排液口５８Ｌは、排液口５８Ｌに流入した液体を案内する排液配管５９Ｌに接続されている。排気口５８ｇは、排気口５８ｇに流入した気体を案内する排気配管５９ｇに接続されている。図示しない吸引装置の吸引力は、排気配管５９ｇを介して排気口５８ｇに伝達される。排気配管５９ｇは、凹部５７内の気体を常時吸引してもよいし、指定された期間だけまたは指定された条件が満たされたときだけ凹部５７内の気体を吸引してもよい。
【0104】
プリディスペンスの際に薬液ノズル３１から吐出された薬液は、待機ポット５６の内面５８に衝突し、待機ポット５６内に溜まる。待機ポット５６内の薬液は、排液口５８Ｌを通じて排液配管５９Ｌに排出される。排液口５８Ｌに排出された薬液は、再利用するために、すなわち、再び薬液ノズル３１に供給するために回収されてもよいし、回収されなくてもよい。プリディスペンスを行うと、薬液の飛沫や蒸気などが発生する。待機ポット５６の中や待機ポット５６の開口５６ｏ付近を漂う薬液の飛沫や蒸気などの気体は、排気口５８ｇを通じて排気配管５９ｇに排出される。
【0105】
処理ユニット２は、待機位置に位置する薬液ノズル３１が薬液を下方に吐出したときに発生した薬液の飛沫を待機ポット５６の外で受け止める飛沫ブロッカー６０を含む。図７は、飛沫ブロッカー６０が第１サイドプレート６１、第２サイドプレート６２、および第３サイドプレート６３を含む例を示している。
【0106】
第１サイドプレート６１、第２サイドプレート６２、および第３サイドプレート６３の上端は、待機ポット５６の開口５６ｏよりも上方に配置されている。第１サイドプレート６１、第２サイドプレート６２、および第３サイドプレート６３は、待機位置に位置する薬液ノズル３１と水平に直接向かい合う。
【0107】
第１サイドプレート６１、第２サイドプレート６２、および第３サイドプレート６３は、鉛直な姿勢に保持された長方形または正方形のプレートである。第１サイドプレート６１、第２サイドプレート６２、および第３サイドプレート６３は、長方形および正方形以外の形状のプレートであってもよい。第１サイドプレート６１の形状は、第２サイドプレート６２および第３サイドプレート６３のうちの少なくとも１つの形状と同じであってもよいし、異なっていてもよい。第１サイドプレート６１の大きさおよび厚みについても同様である。
【0108】
第１サイドプレート６１、第２サイドプレート６２、および第３サイドプレート６３は、鉛直な姿勢で待機ポット５６から上方に延びている。第１サイドプレート６１、第２サイドプレート６２、および第３サイドプレート６３は、待機ポット５６の開口５６ｏの縁に沿って配置されている。図８は、第１サイドプレート６１、第２サイドプレート６２、および第３サイドプレート６３が、平面視で長方形状の開口５６ｏの３つの辺に沿って配置された例を示している。第１サイドプレート６１、第２サイドプレート６２、および第３サイドプレート６３は、平面視でＵ字状に配置されている。待機ポット５６および飛沫ブロッカー６０を上から見ると、待機ポット５６の開口５６ｏが視認可能である。
【0109】
第１サイドプレート６１、第２サイドプレート６２、および第３サイドプレート６３の上端は、互いに等しい高さに配置されている。第１サイドプレート６１、第２サイドプレート６２、および第３サイドプレート６３の下端は、互いに等しい高さに配置されている。第１サイドプレート６１の上端を、第２サイドプレート６２および第３サイドプレート６３のうちの少なくとも１つの上端とは異なる高さに配置してもよい。第１サイドプレート６１の下端についても同様である。
【0110】
第１サイドプレート６１および第３サイドプレート６３は、第２サイドプレート６２に接している。第１サイドプレート６１および第３サイドプレート６３の少なくとも１つは、第２サイドプレート６２から離れていてもよい。第１サイドプレート６１、第２サイドプレート６２、および第３サイドプレート６３は、待機ポット５６に接している。第１サイドプレート６１、第２サイドプレート６２、および第３サイドプレート６３の少なくとも１つは、待機ポット５６から離れていてもよい。
【0111】
第１サイドプレート６１は、待機位置に位置する薬液ノズル３１の吐出口３１ｐに対して平面視で第１ノズル移動ユニット３３とは反対側に配置されている。第２サイドプレート６２は、待機位置に位置する薬液ノズル３１の吐出口３１ｐに対して平面視で処理位置とは反対側に配置されている。第３サイドプレート６３は、待機位置に位置する薬液ノズル３１の吐出口３１ｐに対して平面視で第１ノズル移動ユニット３３側に配置されている。中間位置および待機位置に位置する薬液ノズル３１は、第１サイドプレート６１と第３サイドプレート６３の間に配置される。
【0112】
第１サイドプレート６１、第２サイドプレート６２、および第３サイドプレート６３は、薬液ノズル３１がいずれの位置に配置されているときでも、薬液ノズル３１に接触しない位置に配置されている。第１サイドプレート６１、第２サイドプレート６２、および第３サイドプレート６３の上端は、ノズルアームに相当する薬液ノズル３１のアーム部５２の下端よりも下方に配置されている。第１サイドプレート６１、第２サイドプレート６２、および第３サイドプレート６３が薬液ノズル３１に接触しないのであれば、第１サイドプレート６１および第２サイドプレート６２のうちの少なくとも１つの上端を、薬液ノズル３１のアーム部５２の下端よりも上方に配置してもよい。
【0113】
薬液ノズル３１を中間位置に配置すると、薬液ノズル３１は、平面視で第１サイドプレート６１および第３サイドプレート６３の間に配置される。第１サイドプレート６１、第２サイドプレート６２、および第３サイドプレート６３の少なくとも１つの上端は、中間位置に位置する薬液ノズル３１の吐出口３１ｐよりも上方または下方に配置されてもよいし、中間位置に位置する薬液ノズル３１の吐出口３１ｐと等しい高さに配置されてもよい。
【0114】
次に、洗浄水ノズル６４～６５およびガスカーテンノズル６７について説明する。
【0115】
図７に示すように、処理ユニット２は、待機ポット５６の外から待機ポット５６に向けて洗浄水を霧状またはシャワー状に吐出する１つ以上の洗浄水ノズルを含む。図７は、２本の洗浄水ノズル６４～６５が設けられた例を示している。
【0116】
２本の洗浄水ノズル６４～６５の一方は、待機ポット５６の中に向けて洗浄水を霧状またはシャワー状に吐出する内側用洗浄水ノズル６４である。２本の洗浄水ノズル６４～６５の他方は、待機ポット５６の外面５９に向けて洗浄水の霧状またはシャワー状に吐出する外側用洗浄水ノズル６５である。内側用洗浄水ノズル６４の吐出口６４ｐは、内側用吐出口の一例である。外側用洗浄水ノズル６５の吐出口６５ｐは、外側用吐出口の一例である。以下では、内側用洗浄水ノズル６４および外側用洗浄水ノズル６５のそれぞれを、洗浄水ノズル６４～６５という場合がある。
【0117】
洗浄水ノズル６４～６５は、洗浄水を霧状に吐出するミストノズルである。洗浄水ノズル６４～６５は、洗浄水をシャワー状に吐出するシャワーノズルであってもよい。図９は、外側用洗浄水ノズル６５がシャワーノズルである例を示している。内側用洗浄水ノズル６４および外側用洗浄水ノズル６５の一方がミストノズルであり、内側用洗浄水ノズル６４および外側用洗浄水ノズル６５の他方がシャワーノズルであってもよい。ミストノズルは、液体および気体を衝突させることによりミストを発生する外部混合型または内部混合型の二流体ノズルであってもよいし、圧縮された液体をオリフィスから吐出することによりまたはベンチュリ効果（Venturi effect）を利用することによりミストを発生するスプレーノズルであってもよい。
【0118】
ミストノズルは、ミストノズルの吐出口から洗浄水のミストを吐出することにより、ミストノズルの吐出口から円錐状に広がる空間内に洗浄水のミストを拡散させる。洗浄水のミストの広がり方は、これに限られない。ミストノズルは、ミストノズルの吐出口から扇状に広がる平坦な空間内に洗浄水のミストが分散するように、洗浄水のミストをミストノズルの吐出口から吐出してもよいし、ミストノズルの吐出口から直線状に延びる柱状の空間内に洗浄水のミストが分散するように、洗浄水のミストをミストノズルの吐出口から吐出してもよい。
【0119】
洗浄水ノズル６４～６５は、洗浄水バルブ６６ｖが取り付けられた洗浄水配管６６ｐに接続されている。洗浄水バルブ６６ｖが開かれると、洗浄水配管６６ｐから洗浄水ノズル６４～６５に洗浄水が供給され、洗浄水ノズル６４～６５が洗浄水のミストの吐出を開始する。洗浄水バルブ６６ｖが閉じられると、洗浄水配管６６ｐから洗浄水ノズル６４～６５への洗浄水の供給が停止され、洗浄水ノズル６４～６５が洗浄水のミストの吐出を停止する。洗浄水は、純水である。洗浄水は、純水以外の液体であってもよい。洗浄水は、前述のリンス液の具体例のいずれかであってもよい。以下では、内側用洗浄水ノズル６４に対応する洗浄水バルブ６６ｖを内側用洗浄水バルブ６６ｖと、外側用洗浄水ノズル６５に対応する洗浄水バルブ６６ｖを外側用洗浄水バルブ６６ｖと、いうことがある。
【0120】
内側用洗浄水ノズル６４は、待機ポット５６の開口５６ｏに向けて洗浄水のミストを円錐状に下方に吐出する。内側用洗浄水ノズル６４の吐出口６４ｐは、待機ポット５６の開口５６ｏよりも上方に配置されている。図７は、内側用洗浄水ノズル６４の吐出口６４ｐから円錐状に広がる空間の中心線が斜め下に延びるように、内側用洗浄水ノズル６４が洗浄水のミストを斜め下に吐出する例を示している。内側用洗浄水ノズル６４は、内側用洗浄水ノズル６４の吐出口６４ｐから円錐状に広がる空間の中心線が鉛直に延びるように、洗浄水のミストを真下に吐出してもよい。
【0121】
内側用洗浄水ノズル６４から吐出された洗浄水のミストは、待機ポット５６の開口５６ｏを通じて待機ポット５６の中に入る。図７は、内側用洗浄水ノズル６４の吐出口６４ｐが飛沫ブロッカー６０の上端よりも上方に配置された例を示している。この例では、内側用洗浄水ノズル６４から吐出された洗浄水のミストの少なくとも一部が、飛沫ブロッカー６０の内側の空間を下方に通過し、待機ポット５６の開口５６ｏを通じて待機ポット５６の中に入る。洗浄水のミストが待機ポット５６の中に入るのであれば、内側用洗浄水ノズル６４の吐出口６４ｐは、飛沫ブロッカー６０の上端よりも下方に配置されていてもよい。
【0122】
外側用洗浄水ノズル６５は、待機ポット５６の外面５９に向けて洗浄水のミストを円錐状に吐出する。外側用洗浄水ノズル６５の吐出口６５ｐは、待機ポット５６の開口５６ｏよりも下方に配置されている。図７は、外側用洗浄水ノズル６５の吐出口６５ｐから円錐状に広がる空間の中心線が水平に延びるように、外側用洗浄水ノズル６５が洗浄水のミストを吐出する例を示している。外側用洗浄水ノズル６５は、外側用洗浄水ノズル６５の吐出口６５ｐから円錐状に広がる空間の中心線が斜め上または斜め下に延びるように、洗浄水のミストを吐出してもよい。図７は、柱状の外側用洗浄水ノズル６５の中心線を含む直線が待機ポット５６の開口５６ｏを通過することなく待機ポット５６の外面５９を通過する例を示している。
【0123】
外側用洗浄水ノズル６５から吐出された洗浄水のミストは、待機ポット５６の外面５９に吹き付けられる。外側用洗浄水ノズル６５から吐出された洗浄水のミストは、飛沫ブロッカー６０の外面に吹き付けられてもよいし、吹き付けられなくてもよい。外側用洗浄水ノズル６５の位置および姿勢は、外側用洗浄水ノズル６５から吐出された全てまたは殆ど全ての洗浄水のミストが待機ポット５６の開口５６ｏを通じて待機ポット５６の中に入らないように設定されていてもよい。洗浄水のミストが待機ポット５６の中に入ったとしても、微量であれば、排気口５８ｇを通じて待機ポット５６から排出される。
【0124】
図７に示すように、処理ユニット２は、待機ポット５６に近づくまたは待機ポット５６から遠ざかる気流を遮断するガスカーテンノズル６７を含む。ガスカーテンノズル６７は、ガスカーテンノズル６７の吐出口６７ｐから気体を吐出することにより、シート状の気流を形成する。ガスカーテンノズル６７の吐出口６７ｐは、スリット状の穴または１列に並んだ複数の穴であってもよいし、スリット状の穴と１列に並んだ複数の穴とを含んでいてもよい。
【0125】
ガスカーテンノズル６７は、ガスバルブ６８ｖが取り付けられたガス配管６８ｐに接続されている。ガスバルブ６８ｖが開かれると、ガス配管６８ｐからガスカーテンノズル６７に気体が供給され、ガスカーテンノズル６７が気体の吐出を開始する。ガスバルブ６８ｖが閉じられると、ガス配管６８ｐからガスカーテンノズル６７への気体の供給が停止され、ガスカーテンノズル６７が気体の吐出を停止する。ガスカーテンノズル６７から吐出される気体は、不活性ガス、清浄空気、および乾燥空気のいずれかであってもよいし、これら以外であってもよい。図７中のＣＤＡは、清浄な乾燥した空気（clean dry air）を表している。これは他の図でも同様である。
【0126】
ガスカーテンノズル６７の吐出口６７ｐは、内側用洗浄水ノズル６４の吐出口６４ｐよりも上方に配置されている。したがって、ガスカーテンノズル６７の吐出口６７ｐは、待機ポット５６の開口５６ｏよりも上方に配置されている。ガスカーテンノズル６７は、待機ポット５６の上方でガスカーテンノズル６７の吐出口６７ｐから気体を吐出することにより、平面視で待機ポット５６の開口５６ｏに重なるシート状の気流を待機ポット５６の上方に形成する。ガスカーテンノズル６７は、さらに、内側用洗浄水ノズル６４によって吐出された洗浄水のミストの上方でガスカーテンノズル６７の吐出口６７ｐから気体を吐出することにより、平面視で当該ミストに重なるシート状の気流を当該ミストの上方に形成する。
【0127】
内側用洗浄水ノズル６４が洗浄水のミストを吐出すると、一部のミストが上方に流れ得る。ガスカーテンノズル６７に気体を吐出させながら、内側用洗浄水ノズル６４に洗浄水のミストを吐出させれば、ガスカーテンノズル６７によって形成された気流の層によってこのようなミストの流れを遮断することができ、不要な範囲にまで拡散する洗浄水のミストを減らすことができる。さらに、ガスカーテンノズル６７に気体を吐出させると、ＦＦＵ１１（図２Ａ参照）から下方に流れる清浄空気のダウンフローが気流の層によって遮断される。これにより、洗浄水のミストが空気中を浮遊する時間を延ばすことができ、洗浄水のミストが水平に広がる範囲を広げることができる。
【0128】
ガスカーテンノズル６７の吐出口６７ｐは、水平に気体を吐出してもよいし、斜め上または斜め下に気体を吐出してもよい。図７は、ガスカーテンノズル６７の吐出口６７ｐが水平に気体を吐出する例を示している。ガスカーテンノズル６７の吐出口６７ｐは、基板Ｗに向かう方向に気体を吐出してもよいし、基板Ｗの上方を通らずにチャンバー１２の内周面に向かう方向に気体を吐出してもよい。後者の場合、洗浄水のミストなどの空気中に漂う液体または固体の微粒子を、ガスカーテンノズル６７の吐出口６７ｐから吐出された気体によってチャンバー１２の内周面の方に流すことができ、基板Ｗまたはその周辺に配置された部材に付着する微粒子を減らすことができる。
【0129】
内側用洗浄水ノズル６４から吐出された洗浄水のミストは、待機ポット５６の中に入るだけでなく、待機ポット５６の外面５９や待機ポット５６のまわりの部材に付着する。外側用洗浄水ノズル６５から吐出された洗浄水のミストも、待機ポット５６の外面５９や待機ポット５６のまわりの部材に付着する。これにより、待機ポット５６の外面５９や待機ポット５６のまわりの部材に付着している薬液の飛沫に水を与えることができ、この飛沫から析出する結晶を減らすことができる。薬液の飛沫が結晶化している場合は、洗浄水のミストに結晶を溶解させることにより、当該結晶を液体に戻すことができる。結晶の全体が液体に戻らなかったとしても、洗浄水のミストを結晶に付着させることにより当該結晶を空気中に浮遊させ難くすることができる。
【0130】
薬液ノズル３１が待機位置でプリディスペンスを行っているときに、内側用洗浄水ノズル６４に洗浄水のミストを吐出させると、待機ポット５６から上方に流れる薬液の飛沫に洗浄水のミストが接触する一方で、洗浄水のミストが薬液ノズル３１に付着する。薬液ノズル３１に付着した洗浄水の大半は蒸発して薬液ノズル３１からなくなるものの、このような洗浄水の付着が好ましくなければ、処理位置などの薬液ノズル３１が平面視で待機ポット５６に重ならない位置に配置されているときに、内側用洗浄水ノズル６４に洗浄水のミストを吐出させればよい。もしくは、薬液ノズル３１が平面視で待機ポット５６に重なる位置に配置されているときに薬液ノズル３１に向けて気体を吐出する乾燥用ノズル７０（図９参照）を設けてもよい。
【0131】
図９に示すように、乾燥用ノズル７０は、乾燥用ノズル７０に向けて気体を案内する乾燥用配管７１ｐに接続されている。乾燥用配管７１ｐに介装された乾燥用バルブ７１ｖが開かれると、気体が、乾燥用配管７１ｐから乾燥用ノズル７０に供給され、乾燥用ノズル７０から連続的に吐出される。乾燥用ノズル７０は、薬液ノズル３１が中間位置または待機位置で静止しているときに薬液ノズル３１に向けて気体を吐出してもよいし、薬液ノズル３１が中間位置から待機位置または待機位置から中間位置に移動しているときに薬液ノズル３１に向けて気体を吐出してもよい。乾燥用ノズル７０から吐出される気体は、不活性ガス、清浄空気、および乾燥空気のいずれかであってもよいし、これら以外であってもよい。
【0132】
薬液ノズル３１が待機位置でプリディスペンスを行っているときに、内側用洗浄水ノズル６４に洗浄水のミストを吐出させると、洗浄水のミストが待機ポット５６の中に入る。大半のミストは、排気口５８ｇを通じて待機ポット５６から排出されるものの、微量の洗浄水が薬液に混じり、薬液と共に排液口５８Ｌを通じて待機ポット５６から排出される場合がある。待機ポット５６から排出された薬液を再利用するために回収する場合は、濃度が変化した薬液が回収されることになる。
【0133】
このような洗浄水の混入が好ましくなければ、プリディスペンスを行っていない期間に内側用洗浄水ノズル６４に洗浄水のミストを吐出させてもよい。もしくは、内側用洗浄水ノズル６４に洗浄水のミストを吐出させずにプリディスペンスを開始し、その後、プリディスペンスを行いながら内側用洗浄水ノズル６４に洗浄水のミストを吐出させてもよい。このようにすれば、プリディスペンスを行う期間の初めでは、洗浄水が混じっていないまたは殆ど混じっていない薬液を排液口５８Ｌに排出することができる。さらに、薬液の飛沫が待機ポット５６から広がり始めると、内側用洗浄水ノズル６４が洗浄水のミストの吐出を開始するので、薬液の飛沫が拡散する範囲を狭めることができる。
【0134】
内側用洗浄水ノズル６４および外側用洗浄水ノズル６５の少なくとも一方が洗浄水を吐出すると、チャンバー１２の内部全体ではなく、待機ポット５６付近の湿度だけが高まり、待機ポット５６付近が高湿度に維持される。制御装置３は、洗浄水ノズル６４～６５に洗浄水のミストを常時吐出させてもよいし、指定された期間だけまたは指定された条件が満たされたときだけ洗浄水ノズル６４～６５に洗浄水のミストを吐出させてもよい。制御装置３は、内側用洗浄水ノズル６４および外側用洗浄水ノズル６５の一方に洗浄水のミストを常時吐出させながら、指定された期間だけまたは指定された条件が満たされたときだけ内側用洗浄水ノズル６４および外側用洗浄水ノズル６５の他方に洗浄水のミストを吐出させてもよい。
【0135】
指定された期間だけまたは指定された条件が満たされたときだけ内側用洗浄水ノズル６４および外側用洗浄水ノズル６５の少なくとも一方に洗浄水のミストを吐出させる場合、制御装置３は、レシピで指定された期間だけ洗浄水ノズル６４～６５に洗浄水のミストを吐出させてもよいし、待機ポット５６に接する雰囲気の湿度を検出する湿度計７２（図７参照）によって検出された湿度が下限値を下回っている期間だけ洗浄水ノズル６４～６５に洗浄水のミストを吐出させてもよい。
【0136】
薬液ノズル３１から吐出される薬液が室温のＢＨＦである場合、薬液に接する雰囲気の湿度が例えば６０％以上であれば、薬液から結晶が析出しないまたは殆ど析出しないと考えられる。この場合、制御装置３は、湿度の下限値を６０％に設定し、待機ポット５６を含む空間内の湿度を下限値以上に維持してもよい。具体的には、湿度計７２によって検出された湿度が下限値を下回った場合、制御装置３は、湿度計７２によって検出された湿度が下限値を超える中間値（例えば７０％）に到達するまで洗浄水ノズル６４～６５に洗浄水のミストを吐出させてもよい。
【0137】
制御装置３は、ガスカーテンノズル６７に気体を常時吐出させてもよいし、指定された期間だけまたは指定された条件が満たされたときだけガスカーテンノズル６７に気体を吐出させてもよい。制御装置３は、内側用洗浄水ノズル６４および外側用洗浄水ノズル６５の少なくとも一方が洗浄水のミストを吐出しているときに、ガスカーテンノズル６７に気体を吐出させてもよいし、内側用洗浄水ノズル６４および外側用洗浄水ノズル６５の両方が洗浄水のミストを吐出していないときに、ガスカーテンノズル６７に気体を吐出させてもよい。
【0138】
次に、洗浄水ノズル６４～６５に洗浄水を吐出させるときの動作の一例について説明する。
【0139】
図１０は、薬液ノズル３１が待機位置でプリディスペンスを行い、処理位置で基板Ｗに薬液を供給し、待機位置に戻るまでの期間に行われるミストの吐出について説明するためのタイムチャートである。
【0140】
図１０中の「ＢＨＦ吐出」の右側のＯＮは、薬液バルブ３２ｖが開かれており、薬液ノズル３１が薬液を吐出していることを表している。図１０中の「ＢＨＦ吐出」の右側のＯＦＦは、薬液バルブ３２ｖが閉じられており、薬液ノズル３１が薬液を吐出していないことを表している。図１０中の「ノズルの位置」は、薬液ノズル３１の位置を表している。
【0141】
図１０中の「内側へのミスト吐出」の右側のＯＮおよびＯＦＦは、薬液、薬液バルブ３２ｖ、および薬液ノズル３１が、洗浄水のミスト、内側用洗浄水バルブ６６ｖ、および内側用洗浄水ノズル６４に変わることを除き、ＢＨＦ吐出と同様である。図１０中の「外側へのミスト吐出」の右側のＯＮおよびＯＦＦは、薬液、薬液バルブ３２ｖ、および薬液ノズル３１が、洗浄水のミスト、外側用洗浄水バルブ６６ｖ、および外側用洗浄水ノズル６５に変わることを除き、ＢＨＦ吐出と同様である。図１０中の「ＣＤＡ吐出」の右側のＯＮおよびＯＦＦは、薬液、薬液バルブ３２ｖ、および薬液ノズル３１が、気体、ガスバルブ６８ｖ、およびガスカーテンノズル６７に変わることを除き、ＢＨＦ吐出と同様である。
【0142】
図１０は、薬液ノズル３１が待機位置でプリディスペンスを行う前の時刻から、処理位置から待機位置に戻った後の時刻までの全期間にわたって「外側へのミスト吐出」がＯＮであり、外側用洗浄水ノズル６５が洗浄水のミストを吐出し続ける例を示している。制御装置３は、内側用洗浄水ノズル６４に洗浄水のミストを吐出させておらず、ガスカーテンノズル６７に気体を吐出させていない状態で、待機位置に位置する薬液ノズル３１に薬液を吐出させる。
【0143】
具体的には、制御装置３は、時刻Ｔ１で薬液ノズル３１に薬液の吐出を開始させ、時刻Ｔ２で薬液ノズル３１に薬液の吐出を停止させる。その後、制御装置３は、第１ノズル移動ユニット３３を制御することにより、薬液ノズル３１を待機位置から処理位置に移動させる。薬液ノズル３１が処理位置に到着すると、制御装置３は、薬液ノズル３１に薬液の吐出を開始させる。これにより、前述の薬液供給工程（図４のステップＳ２）が行われる。図１０は、時刻Ｔ３で薬液ノズル３１が処理位置に到着すると共に薬液の吐出が開始される例を示している。薬液の吐出は、薬液ノズル３１が処理位置に到着するのと同時ではなく、到着した後に開始されてもよい。
【0144】
制御装置３は、薬液ノズル３１がプリディスペンスを行い待機ポット５６から離れた後に、内側用洗浄水ノズル６４に洗浄水のミストの吐出を開始させる。図１０は、時刻Ｔ２で薬液ノズル３１が待機ポット５６から離れ、時刻Ｔ４で内側用洗浄水ノズル６４が洗浄水の吐出を開始する例を示している。この例では、薬液ノズル３１が処理位置に到着した後であって薬液を吐出しているときに、内側用洗浄水ノズル６４が洗浄水の吐出を開始する。さらに、この例では、内側用洗浄水ノズル６４が洗浄水の吐出を開始するのと同時に、ガスカーテンノズル６７が気体の吐出を開始する。制御装置３は、内側用洗浄水ノズル６４に洗浄水の吐出を開始させる前または後に、ガスカーテンノズル６７に気体の吐出を開始させてもよい。
【0145】
制御装置３は、時刻Ｔ５に内側用洗浄水ノズル６４に洗浄水のミストの吐出を停止させ、ガスカーテンノズル６７に気体の吐出を停止させる。制御装置３は、内側用洗浄水ノズル６４に洗浄水の吐出を停止させる前または後に、ガスカーテンノズル６７に気体の吐出を停止させてもよい。その後、制御装置３は、時刻Ｔ６に薬液ノズル３１に薬液の吐出を停止させ、薬液ノズル３１を処理位置から待機位置に移動させる。薬液ノズル３１は、時刻Ｔ７に待機位置に戻る。制御装置３は、薬液ノズル３１が薬液の吐出を停止するのと同時ではなく、薬液ノズル３１が薬液の吐出を停止した後に、薬液ノズル３１を処理位置から待機位置に移動させてもよい。
【0146】
図１０に示す例では、薬液ノズル３１が待機位置から離れてから直ぐに、内側用洗浄水ノズル６４に洗浄水のミストの吐出を開始させるのではなく、薬液ノズル３１が待機位置から離れてからある程度の時間が経過した時刻Ｔ４に、内側用洗浄水ノズル６４が洗浄水のミストの吐出を開始する。したがって、薬液ノズル３１の移動に伴って待機ポット５６付近に形成された気流がなくなったまたは弱まった状態で、内側用洗浄水ノズル６４が洗浄水の吐出を開始する。これにより、意図しない範囲にまで拡散する洗浄水のミストを減らすことができる。
【0147】
さらに、図１０に示す例では、薬液ノズル３１が待機位置に向かって移動する前の時刻Ｔ５に、内側用洗浄水ノズル６４が洗浄水のミストの吐出を停止する。薬液ノズル３１が待機位置に近づくと、薬液ノズル３１の移動に伴う気流が待機ポット５６付近に形成される。内側用洗浄水ノズル６４は、このような気流がないまたは弱い状態で洗浄水の吐出を停止する。これにより、意図しない範囲にまで拡散する洗浄水のミストを減らすことができる。
【0148】
次に、本実施形態に係る効果について説明する。
【0149】
本実施形態では、薬液ノズル３１から薬液を下方に吐出し、水平な基板Ｗの上面に供給する。水平駆動アクチュエーター５５ｈおよび鉛直駆動アクチュエーター５５ｖは、平面視で薬液ノズル３１が基板Ｗに重なる処理位置から、平面視で薬液ノズル３１が基板Ｗに重ならない待機位置に、薬液ノズル３１を移動させる。待機位置に位置する薬液ノズル３１から下方に吐出された薬液は、待機ポット５６の凹部５７によって受け止められる。洗浄水ノズル６４～６５から吐出された霧状またはシャワー状の洗浄水は、待機ポット５６および待機ポット５６のまわりの部材に供給される。
【0150】
薬液ノズル３１から下方に吐出された薬液が待機ポット５６に受け止められると、薬液の飛沫が発生する。薬液が蒸発すると薬液の飛沫から結晶が析出することがある。洗浄水ノズル６４～６５から待機ポット５６に向けて洗浄水を吐出することにより、薬液の飛沫に水を与えることができ、この飛沫から析出する結晶を減らすことができる。薬液の飛沫が結晶化している場合は、洗浄水に結晶を溶解させることにより、当該結晶を液体に戻すことができる。結晶の全体が液体に戻らなかったとしても、洗浄水を結晶に付着させることにより当該結晶を空気中に浮遊させ難くすることができる。
【0151】
待機ポット５６から漏れた薬液の飛沫が広がる範囲を特定することは難しい。薬液の飛沫が極めて広い範囲に拡散することもある。薬液の飛沫が拡散し得る全ての範囲に洗浄水を自動で供給して、漏れ出た薬液を洗浄水で洗い流すことが考えられる。しかしながら、この方法では、多量の洗浄水が必要になる上に、不必要な範囲にまで多量の洗浄水が供給される。洗浄水を霧状またはシャワー状に吐出する場合は、ノズルと同程度の直径の液柱（洗浄水の柱）を形成しながら洗浄水をノズルから供給する場合に比べて少量の洗浄水を広い範囲に供給することができる。
【0152】
洗浄水を待機ポット５６に向けて霧状またはシャワー状に吐出する場合、待機ポット５６から漏れ出た薬液が待機ポット５６またはその付近に残るかもしれない。例えば自動または手動で定期的に基板処理装置１を洗浄する際に、このような薬液を洗い流せば、結晶の発生源を除去することができる。洗浄水を待機ポット５６に向けて霧状またはシャワー状に吐出すれば、結晶の析出を防止または遅延させることができるので、定期的な洗浄の頻度を増やす必要もない。これにより、不必要な範囲にまで多量の洗浄水が供給されるなどの洗浄水の供給に伴う新たな問題の発生を防止しながら、多量の結晶が待機ポット５６またはその付近に発生することを防止できる。
【0153】
本実施形態では、待機ポット５６の開口５６ｏよりも上方に配置された内側用洗浄水ノズル６４の吐出口６４ｐから待機ポット５６の開口５６ｏに向けて洗浄水を霧状またはシャワー状に吐出する。霧状またはシャワー状の洗浄水は、待機ポット５６の開口５６ｏを通じて待機ポット５６の中に入る。一部の洗浄水は、待機ポット５６の外面５９や待機ポット５６のまわりの部材に供給される。薬液の飛沫は、待機ポット５６の開口５６ｏやその付近に残り易い。したがって、薬液の飛沫に洗浄水を効率的に供給することができる。
【0154】
本実施形態では、空中に浮遊する液体または固体の微粒子を含む気体や、このような微粒子を含まない気体を、待機ポット５６の凹部５７から排気配管５９ｇに排出する。洗浄水ノズル６４～６５から吐出された霧状またはシャワー状の洗浄水は、待機ポット５６の開口５６ｏを通じて待機ポット５６の中に入る。凹部５７内の洗浄水のミストは、排気配管５９ｇに排出される。これにより、凹部５７内に残留する洗浄水を減らすことができる。
【0155】
本実施形態では、薬液ノズル３１が平面視で基板Ｗに重なる処理位置に配置されているときに、待機ポット５６の開口５６ｏよりも上方に配置された内側用洗浄水ノズル６４の吐出口６４ｐから待機ポット５６の開口５６ｏに向けて洗浄水を霧状またはシャワー状に吐出する。薬液ノズル３１が待機位置に配置されているときに、洗浄水ノズル６４～６５に洗浄水を吐出させると、霧状またはシャワー状の洗浄水が薬液ノズル３１に付着する。したがって、薬液ノズル３１が処理位置に配置されているときに洗浄水ノズル６４～６５に洗浄水を吐出させれば、薬液ノズル３１に付着する洗浄水を減らすことができる。
【0156】
本実施形態では、薬液ノズル３１と飛沫ブロッカー６０とを水平に直接向かい合わせる。待機位置に位置する薬液ノズル３１が待機ポット５６に向けて薬液を下方に吐出したときに発生した薬液の飛沫の一部は、飛沫ブロッカー６０に受け止められる。内側用洗浄水ノズル６４の吐出口６４ｐは、待機ポット５６の開口５６ｏだけでなく、飛沫ブロッカー６０にも霧状またはシャワー状の洗浄水を供給する。これにより、薬液の飛沫が拡散する範囲を飛沫ブロッカー６０によって狭めることができ、飛沫ブロッカー６０に付着している薬液の飛沫から結晶が析出することを防止または遅延させることができる。
【0157】
本実施形態では、待機ポット５６および飛沫ブロッカー６０の上から待機ポット５６の開口５６ｏが見える。待機ポット５６および飛沫ブロッカー６０の上から洗浄水を霧状またはシャワー状に吐出すると、洗浄水が飛沫ブロッカー６０に供給されると共に、待機ポット５６の開口５６ｏを通じて待機ポット５６の中に入る。待機ポット５６の開口５６ｏの上方に配置されたシーリングプレートを飛沫ブロッカー６０に設ければ、薬液の飛沫が上方に拡散する範囲を狭めることができるものの、シーリングプレートの下の空間に薬液の飛沫が残る場合がある。この場合、シーリングプレートがあるので、シーリングプレートの下の空間を洗浄し難い。待機ポット５６および飛沫ブロッカー６０の上から待機ポット５６の開口５６ｏが見える構造では、このような問題の発生を防止できる。
【0158】
本実施形態では、内側用洗浄水ノズル６４の吐出口６４ｐよりも上方に配置されたガスカーテンノズル６７の吐出口６７ｐから気体を吐出する。ガスカーテンノズル６７の吐出口６７ｐから吐出された気体は、待機ポット５６の上方の空間を浮遊する洗浄水のミストの上方に気流を形成する。上方に流れる洗浄水のミストは、ガスカーテンノズル６７から流れる気流によって遮断される。これにより、不要な範囲にまで拡散する洗浄水のミストを減らすことができる。
【0159】
本実施形態では、待機ポット５６の開口５６ｏよりも下方に配置された外側用洗浄水ノズル６５の吐出口６５ｐから待機ポット５６の外面５９に向けて洗浄水を霧状またはシャワー状に吐出する。外側用洗浄水ノズル６５の吐出口６５ｐが待機ポット５６の開口５６ｏよりも下方に配置されているので、洗浄水のミストが待機ポット５６の開口５６ｏを通じて待機ポット５６の中に入り難い。これにより、凹部５７内に残留する洗浄水を減らしながら、薬液の飛沫が付着し易い待機ポット５６の外面５９に効率的に洗浄水を供給することができる。
【0160】
次に、他の実施形態について説明する。
【0161】
内側用洗浄水ノズル６４の吐出口６４ｐを、第１サイドプレート６１、第２サイドプレート６２、および第３サイドプレート６３の上方ではなく、第１サイドプレート６１および第３サイドプレート６３の間に配置してもよい。
【0162】
待機ポット５６の開口５６ｏよりも上方に配置された吐出口６４ｐを内側用洗浄水ノズル６４に設け、待機ポット５６の開口５６ｏよりも下方に配置された吐出口６５ｐを外側用洗浄水ノズル６５に設けるのではなく、吐出口６４ｐおよび吐出口６５ｐを１つの洗浄水ノズルに設けてもよい。
【0163】
制御装置３は、プリディスペンスを１回ではなく複数回行った後に洗浄水ノズル６４～６５に洗浄水を吐出させてもよい。制御装置３は、一定時間が経過するたびにまたは任意の時期に洗浄水ノズル６４～６５に洗浄水を吐出させてもよい。制御装置３は、待機ポット５６を含む範囲を撮影するカメラによって撮影された画像に基づいて洗浄水ノズル６４～６５に洗浄水を吐出させるか否かを判断してもよい。
【0164】
制御装置３は、待機ポット５６付近の湿度に加えてまたは代えて、待機ポット５６付近の気温と待機ポット５６付近の気圧とのうちの少なくとも１つを考慮して、洗浄水ノズル６４～６５に洗浄水を吐出させるか否かを判断してもよい。つまり、待機ポット５６およびその付近に付着している薬液の濃度が飽和濃度未満に維持されるように、待機ポット５６およびその付近に洗浄水を供給してもよい。気温を考慮する場合、待機ポット５６付近の気温を測定する温度計を制御装置３に接続すればよい。気圧を考慮する場合、待機ポット５６付近の気圧を測定する気圧計を制御装置３に接続すればよい。
【0165】
飛沫ブロッカー６０、排気配管５９ｇ、およびガスカーテンノズル６７のうちの少なくとも１つを省略してもよい。第１サイドプレート６１、第２サイドプレート６２、および第３サイドプレート６３の全てを省略するのではなく、第１サイドプレート６１、第２サイドプレート６２、および第３サイドプレート６３のうちの１つまたは２つを省略してもよい。
【0166】
スピンチャック２１は、複数のチャックピン２２を基板Ｗの端面に押し付けるメカニカルチャックに限らず、基板Ｗの下面をスピンベース２３の上面に吸着させることにより基板Ｗを水平に保持するバキュームチャックであってもよい。スピンチャック２１がメカニカルチャックである場合、チャックピン２２は、基板Ｗを水平に保持する基板ホルダーに相当する。スピンチャック２１がバキュームチャックである場合、スピンベース２３は、基板Ｗを水平に保持する基板ホルダーに相当する。
【0167】
基板処理装置１は、円板状の基板Ｗを処理する装置に限らず、多角形の基板Ｗを処理する装置であってもよい。
【0168】
前述の全ての構成の２つ以上を組み合わせてもよい。前述の全ての工程の２つ以上を組み合わせてもよい。
【0169】
本発明の実施形態について詳細に説明してきたが、これらは本発明の技術的内容を明らかにするために用いられた具体例に過ぎず、本発明はこれらの具体例に限定して解釈されるべきではなく、本発明の精神および範囲は添付の請求の範囲によってのみ限定される。
【符号の説明】
【0170】
１：基板処理装置、２：処理ユニット、３：制御装置、３ａ：コンピューター本体、３ｂ：ＣＰＵ、３ｃ：メモリー、３ｄ：周辺装置、３ｅ：ストレージ、３ｆ：リーダー、３ｇ：通信装置、４：搬送路、５：搬送システム、１１：ＦＦＵ、１２：チャンバー、１３：隔壁、１３ａ：送風口、１３ｂ：搬入搬出口、１７：シャッター、１８：整流板、２１：スピンチャック、２２：チャックピン、２３：スピンベース、２４：スピン軸、２５：電動モーター、２６：チャックハウジング、３１：薬液ノズル、３１ｐ：吐出口、３２ｐ：薬液配管、３２ｖ：薬液バルブ、３３：第１ノズル移動ユニット、３４：リンス液ノズル、３５ｐ：リンス液配管、３５ｖ：リンス液バルブ、３６：第２ノズル移動ユニット、３７：溶剤ノズル、３８ｐ：溶剤配管、３８ｖ：溶剤バルブ、３９：第３ノズル移動ユニット、４１：処理カップ、４２：筒状外壁、４３：カップ、４４：ガード、４４ｕ：ガードの上端、４５：ガードの円筒部、４６：ガードの天井部、４７：ガード昇降ユニット、４８：仕切板、４９：排気ダクト、４９ｕ：排気ダクトの上流端、５１：ノズル部、５１ａ：大径部、５１ｂ：テーパー部、５１ｃ：小径部、５２：アーム部、５３：アームホルダー、５４：可動ボディー、５５ｈ：水平駆動アクチュエーター、５５ｖ：鉛直駆動アクチュエーター、５６：待機ポット、５６ｏ：開口、５７：凹部、５８：内面、５８Ｌ：排液口、５８ｇ：排気口、５９：外面、５９Ｌ：排液配管、５９ｇ：排気配管、６０：飛沫ブロッカー、６１：第１サイドプレート、６２：第２サイドプレート、６３：第３サイドプレート、６４：内側用洗浄水ノズル（洗浄水ノズル）、６４ｐ：吐出口（内側用吐出口）、６５：外側用洗浄水ノズルル（洗浄水ノズル）、６５ｐ：吐出口（外側用吐出口）、６６ｐ：洗浄水配管、６６ｖ：洗浄水バルブ、６７：ガスカーテンノズル、６７ｐ：吐出口、６８ｐ：ガス配管、６８ｖ：ガスバルブ、７０：乾燥用ノズル、７１ｐ：乾燥用配管、７１ｖ：乾燥用バルブ、７２：湿度計、Ａ１：回転軸線、Ａ２：回転軸線、ＣＡ：キャリア、ＣＲ：センターロボット、Ｈｃ：ハンド、Ｈｉ：ハンド、ＩＲ：インデクサロボット、ＬＰ：ロードポート、Ｐ：プログラム、ＲＭ：リムーバブルメディア、Ｓ１～Ｓ６：ステップ、ＳＬ：下空間、Ｓｕ：上空間、ＴＷ：タワー、Ｗ：基板
【図1A】
【図1B】
【図2A】
【図2B】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】