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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024093032
(43)【公開日】2024-07-09
(54)【発明の名称】液体吐出ヘッド及びその製造方法
(51)【国際特許分類】
B41J 2/16 20060101AFI20240702BHJP
B41J 2/14 20060101ALI20240702BHJP
【ＦＩ】
B41J2/16 401
B41J2/14 501
B41J2/16 517
B41J2/14 613
B41J2/16 503
B41J2/16 511
【審査請求】未請求
【請求項の数】12
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022209127
(22)【出願日】2022-12-27
(71)【出願人】
【識別番号】000001270
【氏名又は名称】コニカミノルタ株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001254
【氏名又は名称】弁理士法人光陽国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】山下 航平
(72)【発明者】
【氏名】山田 晃久
【テーマコード（参考）】
2C057
【Ｆターム（参考）】
2C057AG01
2C057AP13
2C057AP23
2C057AP25
2C057AP60
(57)【要約】
【課題】本発明の課題は、ノズル穴近傍又は基材端部への不要な接着剤の流れ込みを防止し、液体射出性に優れた液体吐出ヘッド及びその製造方法を提供することである。
【解決手段】撥液膜、基材及び接着層をこの順に有するノズルプレートを備えた液体吐出ヘッドであって、前記基材の液体吐出側の表面に前記撥液膜を有し、当該撥液膜が、フッ素系化合物を含有し、かつ、前記基材の前記接着層側表面に、前記フッ素系化合物を有することを特徴とする液体吐出ヘッド。
【選択図】図１
【解決手段】撥液膜、基材及び接着層をこの順に有するノズルプレートを備えた液体吐出ヘッドであって、前記基材の液体吐出側の表面に前記撥液膜を有し、当該撥液膜が、フッ素系化合物を含有し、かつ、前記基材の前記接着層側表面に、前記フッ素系化合物を有することを特徴とする液体吐出ヘッド。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
撥液膜、基材及び接着層をこの順に有するノズルプレートを備えた液体吐出ヘッドであって、
前記基材の液体吐出側の表面に前記撥液膜を有し、
当該撥液膜が、フッ素系化合物を含有し、かつ、
前記基材の前記接着層側表面に、前記フッ素系化合物を有する
ことを特徴とする液体吐出ヘッド。
前記基材の液体吐出側の表面に前記撥液膜を有し、
当該撥液膜が、フッ素系化合物を含有し、かつ、
前記基材の前記接着層側表面に、前記フッ素系化合物を有する
ことを特徴とする液体吐出ヘッド。
【請求項2】
前記接着層が、固形粒子を含有する
ことを特徴とする請求項１に記載の液体吐出ヘッド。
ことを特徴とする請求項１に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項3】
フッ素元素の原子濃度が、前記基材の前記撥液膜側より前記接着層側の方が低い
ことを特徴とする請求項１に記載の液体吐出ヘッド。
ことを特徴とする請求項１に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項4】
前記固形粒子の体積存在比率が、前記接着層全体に対して０．１～１０．０％の範囲内である
ことを特徴とする請求項１に記載の液体吐出ヘッド。
ことを特徴とする請求項１に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項5】
前記固形粒子の体積平均粒径が、０．２～５．０μｍの範囲内である
ことを特徴とする請求項１に記載の液体吐出ヘッド。
ことを特徴とする請求項１に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項6】
前記固形粒子が、シリカ粒子である
ことを特徴とする請求項１に記載の液体吐出ヘッド。
ことを特徴とする請求項１に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項7】
前記固形粒子が、球形粒子である
ことを特徴とする請求項１に記載の液体吐出ヘッド。
ことを特徴とする請求項１に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項8】
前記撥液膜が、蒸着膜である
ことを特徴とする請求項１に記載の液体吐出ヘッド。
ことを特徴とする請求項１に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項9】
前記基材の前記接着層側表面における前記フッ素元素の存在範囲が、前記基材の各端部からの距離が、２０～１００μｍの範囲内である
ことを特徴とする請求項３に記載の液体吐出ヘッド。
ことを特徴とする請求項３に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項10】
前記基材の前記接着層側表面の前記フッ素元素の原子濃度が、１．０～５０．０ａｔｍ％の範囲内である
ことを特徴とする請求項３に記載の液体吐出ヘッド。
ことを特徴とする請求項３に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項11】
前記基材の前記接着層側のノズル穴近傍にも撥液膜が付着している
ことを特徴とする請求項１に記載の液体吐出ヘッド。
ことを特徴とする請求項１に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項12】
請求項１から請求項１１までのいずれか一項に記載の液体吐出ヘッドを製造する液体吐出ヘッドの製造方法であって、
前記ノズルプレートをレーザー加工する
ことを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。
前記ノズルプレートをレーザー加工する
ことを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、液体吐出ヘッド及びその製造方法に関する。より詳しくは、ノズル穴近傍又は基材端部への不要な接着剤の流れ込みを防止し、液体射出性に優れた液体吐出ヘッド及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
近年は、高画質化のため、耐久性及び吐出性能に優れた液体吐出ヘッドが求められている。
従来、液体吐出ヘッドとしては、液体に吐出圧を付与するためのチャネル（流路）が設けられたヘッドチップに対して、当該チャネルに液体（例えばインク等）を供給するためのマニホールドや、当該チャネルからの液体を吐出するノズルが形成されたノズルプレートを接着してなるものが知られている。
従来、液体吐出ヘッドとしては、液体に吐出圧を付与するためのチャネル（流路）が設けられたヘッドチップに対して、当該チャネルに液体（例えばインク等）を供給するためのマニホールドや、当該チャネルからの液体を吐出するノズルが形成されたノズルプレートを接着してなるものが知られている。
【0003】
特許文献１では、マニホールドとヘッドチップ等を接着する接着部を、熱硬化性組成物を加熱硬化させることにより形成し、液体吐出ヘッドの耐久性及び吐出性能を向上する技術が開示されている。
【0004】
ここで、液体吐出ヘッドの液体吐出性能に与える影響は、当該液体吐出ヘッドが備えるノズルの液体吐出面の表面特性によるところが大きい。
【0005】
そのため、一般にノズルの液体吐出面の表面に撥液膜（「撥水膜」、又は「撥液層」ともいう。）を形成し、ノズル周辺部の液体の付着を防止することにより、液体吐出性能を向上する技術が知られている。
【0006】
近年、液体吐出ヘッドは高密度化のために、当該液体吐出ヘッドが備えるノズルプレートの隣接ノズルの間隔がますます狭くなってきている。
【0007】
一般的にノズルプレートを記録素子基板や流路部材等に接着する際には接着剤を用いて、当該接着剤を硬化することにより接着する。
【0008】
しかしながら、上記の接着剤を硬化するための加熱処理を施すと、これにより当該接着剤の粘度が低下し流動性が上がってしまうため、接着部分に近接して存在しているノズル部に当該接着剤が流れ込み、ノズル部の一部、又は場合によっては全域を塞いでしまうことがあった。
【0009】
特許文献２では、上記のようなノズル領域（接着部分に近接して存在しているノズル部）への接着剤の流れ込みを防止する方法として、室温では固体となるような高粘度接着剤を溶媒に溶解させて塗布する技術が開示されている。
【0010】
しかしながら、特許文献２では接着剤を溶剤に溶解させる必要があり、作業性に改善の余地があった。
【0011】
特許文献３では、光カチオン重合開始剤及び特定の熱カチオン重合開始剤を含有する接着剤で接着し、はみ出した接着剤に紫外線を照射して第一次硬化を行い、次いで加熱処理をして光の当たらなかった部分を硬化することでノズル部への接着剤の流れ込みを防止する技術が開示されている。
【0012】
しかしながら、上記の文献に開示されている技術において用いられる接着剤は光に対する感度が低いことから、当該接着剤の流動を停止させ、かつ長時間の光照射を行うことが必要となり、作業効率の面で改善の余地があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0013】
【特許文献1】特開２００６－２９１１６７号公報
【特許文献2】特開２００２－１９２７３１号公報
【特許文献3】特開２００９－１４８９６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0014】
本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、ノズル穴近傍又は基材端部への不要な接着剤の流れ込みを防止し、液体射出性に優れた液体吐出ヘッド及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0015】
本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討した結果、ノズルプレートが備える基材の液体吐出側の表面にフッ素系化合物を含有する撥液膜を有し、接着層側表面に、前記フッ素系化合物を有し、かつ、当該ノズルプレートが備える接着層が、固形粒子を含有することによって上記課題を解決できることを見いだし本発明に至った。
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
【0016】
１．撥液膜、基材及び接着層をこの順に有するノズルプレートを備えた液体吐出ヘッドであって、
前記基材の液体吐出側の表面に前記撥液膜を有し、
当該撥液膜が、フッ素系化合物を含有し、かつ、
前記基材の前記接着層側表面に、前記フッ素系化合物を有する
ことを特徴とする液体吐出ヘッド。
前記基材の液体吐出側の表面に前記撥液膜を有し、
当該撥液膜が、フッ素系化合物を含有し、かつ、
前記基材の前記接着層側表面に、前記フッ素系化合物を有する
ことを特徴とする液体吐出ヘッド。
【0017】
２．前記接着層が、固形粒子を含有する
ことを特徴とする第１項に記載の液体吐出ヘッド。
ことを特徴とする第１項に記載の液体吐出ヘッド。
【0018】
３．フッ素元素の原子濃度が、前記基材の前記撥液膜側より前記接着層側の方が低いことを特徴とする第１項に記載の液体吐出ヘッド。
【0019】
４．前記固形粒子の体積存在比率が、前記接着層全体に対して０．１～１０．０％の範囲内であることを特徴とする第１項に記載の液体吐出ヘッド。
【0020】
５．前記固形粒子の体積平均粒径が、０．２～５．０μｍの範囲内であることを特徴とする第１項に記載の液体吐出ヘッド。
【0021】
６．前記固形粒子が、シリカ粒子であることを特徴とする第１項に記載の液体吐出ヘッド。
【0022】
７．前記固形粒子が、球形粒子であることを特徴とする第１項に記載の液体吐出ヘッド。
【0023】
８．前記撥液膜が、蒸着膜であることを特徴とする第１項に記載の液体吐出ヘッド。
【0024】
９．前記基材の前記接着層側表面における前記フッ素元素の存在範囲が、前記基材の各端部からの距離が、２０～１００μｍの範囲内であることを特徴とする第３項に記載の液体吐出ヘッド。
【0025】
１０．前記基材の前記接着層側表面の前記フッ素元素の原子濃度が、１．０～５０．０ａｔｍ％の範囲内であることを特徴とする第３項に記載の液体吐出ヘッド。
【0026】
１１．前記基材の前記接着層側のノズル穴近傍にも撥液膜が付着していることを特徴とする第１項に記載の液体吐出ヘッド。
【0027】
１２．第１項から第１１項までのいずれか一項に記載の液体吐出ヘッドを製造する液体吐出ヘッドの製造方法であって、
前記ノズルプレートをレーザー加工する
ことを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。
前記ノズルプレートをレーザー加工する
ことを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。
【発明の効果】
【0028】
本発明の上記手段により、ノズル穴近傍又は基材端部への不要な接着剤の流れ込みを防止し、液体射出性に優れた液体吐出ヘッド及びその製造方法を提供することができる。
【0029】
本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。
【0030】
本発明の液体吐出ヘッドは、当該液体吐出ヘッドが備えるノズルプレートが有する基材の液体吐出側の表面にフッ素系化合物を含有する撥液膜を有し、前記基材が他部材と接着する部分に形成される層（接着層）側の表面に、前記フッ素系化合物を有し、これによりノズル穴近傍又は基材端部への不要な接着剤の流れ込みを防止し、液体の射出性を向上させる。
【0031】
前述のように、ノズル穴近傍又は基材端部への不要な接着剤の流れ込み防止及び液体の射出性を向上させるために様々な技術が開示されているが、それらは作業性及び作業効率の面で改善の余地があった。
【0032】
本発明においては、液体吐出ヘッドが備えるノズルプレートが有する基材の液体吐出側の表面にフッ素系化合物を含有する撥液膜を形成した際に生じる当該ノズルプレートの他部材との接着面側へのフッ素系化合物の裏回りを利用する。
【0033】
これにより、ノズル穴近傍又は基材端部への不要な接着剤の流れ込みを防止し、液体射出性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【0034】
【図1】液体吐出ヘッドの一例を示す分解斜視図
【図2】本発明に係るノズルプレートが有する撥液膜、基材及び接着層の位置関係を表す一例の概念図
【図3】本発明に係る基材の接着層側表面を表す簡略図
【図4】ノズルプレートを撥液膜側から見たときの撥液膜と基材の位置関係を表す一例の概念図
【図5】ノズルプレートを接着層側から見たときの基材と接着層の位置関係を表す一例の概念図
【図6】本発明に係るノズル穴近傍の領域を表す簡略図
【図7】ヘッドチップの背面を示す図
【図8】ヘッドチップと配線基板との接合状態を配線基板側から見た図
【図9】液体吐出ヘッド製造処理の一例を示すフローチャート
【図10】第１のノズルプレート製造処理を示すフローチャート
【図11A】ノズル加工前の基材を模式的に示す断面図
【図11B】プライマー層が形成された基材を模式的に示す断面図
【図11C】撥液膜が形成された基材を模式的に示す断面図
【図11D】保護シートが貼付された基材を模式的に示す断面図
【図11E】ノズル孔が形成された基材を模式的に示す断面図
【図11F】保護シート剥離後のノズル孔が形成された基材を模式的に示す断面図
【図12】第２のノズルプレート製造処理を示すフローチャート
【図13A】ノズル孔が形成された基材を模式的に示す断面図
【図13B】プライマー層が形成された基材を模式的に示す断面図
【図13C】撥液膜が形成されたノズルプレートを模式的に示す断面図
【図14】ノズルプレートの模式的な断面図
【発明を実施するための形態】
【0035】
本発明の液体吐出ヘッドは、撥液膜、基材及び接着層をこの順に有するノズルプレートを備えた液体吐出ヘッドであって、
前記基材の液体吐出側の表面に前記撥液膜を有し、
当該撥液膜が、フッ素系化合物を含有し、かつ、
前記基材の前記接着層側表面に、前記フッ素系化合物を有する
ことを特徴とする。
この特徴は、下記各実施形態（態様）に共通する又は対応する技術的特徴である。
前記基材の液体吐出側の表面に前記撥液膜を有し、
当該撥液膜が、フッ素系化合物を含有し、かつ、
前記基材の前記接着層側表面に、前記フッ素系化合物を有する
ことを特徴とする。
この特徴は、下記各実施形態（態様）に共通する又は対応する技術的特徴である。
【0036】
前記接着層が、固形粒子を含有することが、接着層の厚さを確保する観点から好ましい。
【0037】
本発明の実施態様としては、フッ素元素の原子濃度が、前記基材の前記撥液膜側より前記接着層側の方が低いことが、本発明の効果発現の観点から好ましい。
【0038】
前記固形粒子の体積存在比率が、前記接着層全体に対して０．１～１０．０％の範囲内であることが、接着剤のノズル穴近傍又は基材端部への流れ込み防止と接着性の両立の観点から好ましい。
【0039】
前記固形粒子の体積平均粒径が、０．２～５．０μｍの範囲内であることが、接着剤のノズル穴近傍又は基材端部への流れ込み防止と当該接着剤の過剰な流動性を抑制する観点から好ましい。
【0040】
前記固形粒子が、シリカ粒子であることが、粒子径制御の精度向上及び接着層の厚さ確保の観点から好ましい。
【0041】
前記固形粒子が、球形粒子であることが、接着層の形状を一定に保ち、接着剤のノズル穴近傍又は基材端部への流れ込み防止の観点から好ましい。
【0042】
前記撥液膜が、蒸着膜であることが、前記撥液膜と基材との接着性及び製造性の観点から好ましい。
【0043】
前記基材の前記接着層側表面における前記フッ素元素の存在範囲が、前記基材の各端部からの距離が、２０～１００μｍの範囲内であることが、本発明の効果発現の観点から好ましい。
【0044】
前記基材の前記接着層側表面の前記フッ素元素の原子濃度が、１．０～５０．０ａｔｍ％の範囲内であることが、不要な接着剤の流れ込み防止の観点から好ましい。
【0045】
前記基材の前記接着層側のノズル穴近傍にも撥液膜が付着していることが、本発明の効果発現の観点から好ましい。
【0046】
本発明の液体吐出ヘッドを製造する液体吐出ヘッドの製造方法は、前記ノズルプレートをレーザー加工することを特徴とし、これによりアブレーションによって生じるフッ素系化合物の裏回りの効果が向上する。
【0047】
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「～」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
【0048】
［I． 液体吐出ヘッド ］
本発明の液体吐出ヘッドは、撥液膜、基材及び接着層をこの順に有するノズルプレートを備えた液体吐出ヘッドであって、
前記基材の液体吐出側の表面に前記撥液膜を有し、
当該撥液膜が、フッ素系化合物を含有し、かつ、
前記基材の前記接着層側表面に、前記フッ素系化合物を有する
ことを特徴とする。
本発明の液体吐出ヘッドは、撥液膜、基材及び接着層をこの順に有するノズルプレートを備えた液体吐出ヘッドであって、
前記基材の液体吐出側の表面に前記撥液膜を有し、
当該撥液膜が、フッ素系化合物を含有し、かつ、
前記基材の前記接着層側表面に、前記フッ素系化合物を有する
ことを特徴とする。
【0049】
はじめに、本発明の液体吐出ヘッドの基本的構成例について、図を参照して説明する。
【0050】
図１は液体吐出ヘッドの一例を示す分解斜視図である。
【0051】
図１に示すように、液体吐出ヘッド１００は、せん断モード（シェアモード）型の液体吐出ヘッドである。
【0052】
液体吐出ヘッド１００は、Ｚ方向に順に積層され、ヘッドチップ２の前面２ａに接合されるノズル基板であるノズルプレート１、ヘッドチップ２、ヘッドチップ２の後面２ｂに接合される配線基板３、配線基板３の端部３ａに接続されるＦＰＣ（Flexible Printed Circuit：フレキシブル基板）４、配線基板３の後面に接合される液体マニホールド（共通液体室）（図示略）などを備える。
【0053】
なお、本明細書においては、ヘッドチップ２のノズルプレート側にあたる液体が吐出される側の面を「ヘッドチップの吐出口面」といい、その反対側の面を「ヘッドチップの背面」という。
【0054】
１．ノズルプレート
本発明に係るノズルプレート１は、前面から後面へのＺ方向に、撥液膜１３、基材１２及び接着層１１をこの順に有している。
本発明に係るノズルプレート１は、前面から後面へのＺ方向に、撥液膜１３、基材１２及び接着層１１をこの順に有している。
【0055】
前記ノズルプレート１には、液体吐出性を向上させるため、前記基材１２の液体吐出側の表面に前記撥液膜１３が形成される。
【0056】
また、上記撥液膜１３は、フッ素系化合物を含有しているため、上記ノズルプレート１の形成時に当該撥液膜１３が含有するフッ素系化合物の一部が前記基材１２の表面又はノズル孔１４から裏回りすることで当該基材１２の前記接着層１１側表面に付着する。
【0057】
また、ノズルプレート１には、Ｘ方向に沿って、ヘッドチップ２の駆動流路（２１Ａ、２１Ｂ）の出口に対応する位置に液体を吐出するための微細なノズル孔１４が微小な間隔を隔てて複数形成されており、ヘッドチップ２に配線基板３が接合された後、ヘッドチップ２の吐出口面に接着剤を用いて接合される。
【0058】
なお、本明細書において上記のようにノズルプレートとヘッドチップを接着する際に用いられる接着剤を「接着剤１１ａ」とし、当該接着剤１１ａによって形成される接着層を接着層１１とする。
【0059】
従って、各駆動流路（２１Ａ、２２Ｂ）の入口、出口及びノズル孔１４が直線状に配置される。
【0060】
そして、上記接着剤１１ａが硬化又は乾燥することにより前記接着層１１が形成される。
【0061】
（１．１）撥液膜
本発明に係る撥液膜１３は、前記基材１２の液体吐出側の表面に形成され、また、フッ素系化合物を含有することを特徴とする。
本発明に係る撥液膜１３は、前記基材１２の液体吐出側の表面に形成され、また、フッ素系化合物を含有することを特徴とする。
【0062】
図２は、本発明に係るノズルプレート１が有する撥液膜１３、基材１２及び接着層１１の位置関係を表す一例の概念図である。
【0063】
上記撥液膜１３は、例えばパーフルオロ系炭素鎖を有する構造を有し、撥液性（撥水性）を有する。
【0064】
本発明に係る撥液膜の厚さは、１ｎｍ～３．００μｍの範囲内であることが好ましいが、レーザー等によりノズル孔の形成を行う場合には、１５００ｎｍ以下であることがより好ましい。
【0065】
（１．１．１）撥液剤
本発明に係る撥液膜は、撥液剤としてフッ素系シランカップリング剤を塗布、又は蒸着することにより形成されることが好ましい。
本発明に係る撥液膜は、撥液剤としてフッ素系シランカップリング剤を塗布、又は蒸着することにより形成されることが好ましい。
【0066】
「フッ素系シランカップリング剤」とは、ＹｎＳｉＸ４－ｎ（ｎ＝１～３）で表されるケイ素化合物において、Ｙがフッ化アルキル基などのフッ素を含む基であり、Ｘがハロゲン、メトキシ基、エトキシ基、又はアセトキシ基など基質表面のヒドロキシ基あるいは吸着水との縮合により結合可能な基からなるものである。
【0067】
具体的には、パーフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリプロポキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリアミノシラン、パーフルオロオクチルエチルトリクロロシラン等が挙げられる。
【0068】
シランカップリング剤を用いて本発明に係る撥液膜を形成する方法としては、シランカップリング剤の溶液を塗布するか、又はシランカップリング剤の溶液中に浸漬した後、乾燥する方法や、シランカップリング剤を噴霧する方法が用いられる。
【0069】
フッ素系シランカップリング剤の溶剤としては、イソプロピルアルコール、アセトンや、ハイドロフルオロエーテル、パーフルオロポリエーテル、ハイドロフルオロカーボン、パーフルオロカーボン、ハイドロフルオロポリエーテルなどフッ素系アルコールよりなる群から選ばれるものが用いられる。
【0070】
シランカップリング剤としては、具体的にはダイキン工業社製オプツール、メルク社製ＷＲ４、フロロテクノロジー社製ＦＧ－５０８０、ＦＧ－５０１０などを用いることができる。
【0071】
乾燥後のシランカップリング剤からなる撥液膜は、例えば後述するプライマー層の密着力により、その表面に強固に固定される。
【0072】
（１．１．２）フッ素系化合物
本発明に係る撥液膜は、フッ素系化合物を含有する。
上記のフッ素系化合物としては、例えば（１）少なくともアルコキシシリル基、ホスホン酸基若しくはヒドロキシ基を含有するパーフルオロアルキル基を有する化合物、又はアルコキシシリル基、ホスホン酸基若しくはヒドロキシ基を含有するパーフルオロポリエーテル基を有する化合物、又は、（２）パーフルオロアルキル基を有する化合物を含む混合物、又はパーフルオロポリエーテル基を有する化合物を含む混合物であることが好ましい。
本発明に係る撥液膜は、フッ素系化合物を含有する。
上記のフッ素系化合物としては、例えば（１）少なくともアルコキシシリル基、ホスホン酸基若しくはヒドロキシ基を含有するパーフルオロアルキル基を有する化合物、又はアルコキシシリル基、ホスホン酸基若しくはヒドロキシ基を含有するパーフルオロポリエーテル基を有する化合物、又は、（２）パーフルオロアルキル基を有する化合物を含む混合物、又はパーフルオロポリエーテル基を有する化合物を含む混合物であることが好ましい。
【0073】
フッ素系化合物は、市販品としても入手が可能であり、例えば東レ・ダウコーニングシリコーン（株）、信越化学工業（株）、ダイキン工業（株）（例えばオプツールＤＳＸ）、旭ガラス社（例えばサイトップ）、また、（株）セコ（例えばＴｏｐ ＣｌｅａｎＳａｆｅ（登録商標））、（株）フロロテクノジー（例えばフロロサーフ）、Ｇｅｌｅｓｔ Ｉｎｃ．ソルベイ ソレクシス（株）（例えばＦｌｕｏｒｏｌｉｎｋ Ｓ１０）等により市販されており、容易に入手することができる。
【0074】
その他、例えばＪ．Ｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｃｈｅｍ．，７９（１）．８７（１９９６）、材料技術，１６（５），２０９（１９９８）、Ｃｏｌｌｅｃｔ．Ｃｚｅｃｈ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，４４巻，７５０～７５５頁、Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９９０年，１１２巻，２３４１～２３４８頁、Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１０巻，８８９～８９２頁，１９７１年、米国特許第３，６６８，２３３号明細書等、また、特開昭５８－１２２９７９号、特開平７－２４２６７５号、特開平９－６１６０５号、同１１－２９５８５号、特開２０００－６４３４８号、同２０００－１４４０９７号の各公報等に記載の合成方法、又はこれに準じた合成方法により製造することができる。
【0075】
具体的には、シラン基末端パーフルオロポリエーテル基を有する化合物としては、例えば上記に示したダイキン工業（株）製の「オプツールＤＳＸ」、シラン基末端フルオロアルキル基を有する化合物としては、例えばフロロサーフ社製の「ＦＧ－５０１０Ｚ１３０－０．２」等、パーフルオロアルキル基を有するポリマーとしては、例えばＡＧＣセイミケミカル社製の「エスエフコートシリーズ」、主鎖に含フッ素ヘテロ環状構造を有するポリマーとしては、例えば上記旭ガラス社製の「サイトップ」等を挙げることができる。
また、ＦＥＰ（４フッ化エチレン－６フッ化プロピレン共重合体）分散液とポリアミドイミド樹脂との混合物も挙げることができる。
また、ＦＥＰ（４フッ化エチレン－６フッ化プロピレン共重合体）分散液とポリアミドイミド樹脂との混合物も挙げることができる。
【0076】
その他には、フッ素樹脂を適用することもでき、例えばポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン－パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレン－ヘキサフルオロプロピレン共重合体（ＦＥＰ）、テトラフルオロエチレン－エチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）等を用いることができるが、ＦＥＰは臨界表面張力が低く、撥液性に優れており、また、熱処理温度である３００～４００℃の範囲内における溶融粘度が低く、均一な膜形成が可能な点で好ましい。
【0077】
その他のフッ素系化合物としては、例えば特開２０１７－１５４０５５号公報に記載のフッ素基を含有する加水分解性シラン化合物、国際公開第２００８／１２０５０５号に記載の有機系フッ素化合物、含フッ素有機金属化合物等を挙げることができる。
【0078】
撥液膜をＰＶＤ法により形成する方法としては、フッ素系化合物として、フルオロアルキルシラン混合酸化物であるメルクジャパン社のＥｖａｐｏｒａｔｉｏｎ ｓｕｂｓｔａｎｃｅ ＷＲ１及びＷＲ４を用い、例えばシリコン基板にＷＲ１による撥液膜を形成する場合の下地としてプライマー層又は密着層として酸化シリコン層をあらかじめ形成しておくことが好ましい。
【0079】
ＷＲ１及びＷＲ４により形成される撥液膜は、水以外にエタノール等のアルコール、エチレングリコール（ポリエチレングリコールを含む）、シンナー及び塗料等の有機溶媒に対して撥液性を示す。
【0080】
（フッ素系化合物以外の含有物）
本発明に係る撥液膜は、上記のフッ素系化合物の他、４族又は５族元素、窒素元素及び酸素元素を含有してもよい。
本発明に係る撥液膜は、上記のフッ素系化合物の他、４族又は５族元素、窒素元素及び酸素元素を含有してもよい。
【0081】
前記４族元素としては、チタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ハフニウム（Ｈｆ）等が挙げられる。
【0082】
前記５族元素としては、バナジウム（Ｖ）、ニオブ（Ｎｂ）、タンタル（Ｔａ）等が挙げられ、これらの中でもタンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）が好ましく、タンタル（Ｔａ）が特に好ましい。
【0083】
（１．１．３）撥液膜の形成方法
撥液膜の形成方法としては、例えば湿式法や乾式法等の薄膜形成方法を適宜選択することができる。
撥液膜の形成方法としては、例えば湿式法や乾式法等の薄膜形成方法を適宜選択することができる。
【0084】
湿式法としては、スプレーコーティング、スピンコーティング、はけコーティング、ディップコーティング、ワイヤーバーコーティング等を用いることができる。
【0085】
また、乾式法（真空製膜法の総称）としては、物理気相成長法（ＰＶＤ）及び化学気相成長法（ＣＶＤ）が挙げられる。
【0086】
物理気相成長法（ＰＶＤ）としては、例えば抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法等が挙げられる。
【0087】
化学気相成長法（ＣＶＤ）としては、例えばプラズマＣＶＤ、熱ＣＶＤ、有機金属ＣＶＤ、光ＣＶＤ等を挙げることができる。
【0088】
前記撥液膜が、蒸着膜であることが、前記撥液膜と基材との接着性及び製造性の観点から好ましい。
【0089】
なお、本明細書において、「蒸着膜」とは、蒸着法によって形成された膜、すなわち上記にいう物理気相成長法（ＰＶＤ）又は化学気相成長法（ＣＶＤ）によって形成された膜をいうものとする。
【0090】
また、撥液膜の形成前に、後述のプライマー層を形成してもよく、この場合、当該プライマー層の形成から撥液膜の形成までは、大気雰囲気に暴露させずに連続して処理することが望ましい。
なお、本発明に係る撥液膜には、上記プライマー層が含まれるものとする。
なお、本発明に係る撥液膜には、上記プライマー層が含まれるものとする。
【0091】
大気雰囲気に暴露しないようにすることで、各層界面が汚染されることに起因する各層間の密着性低下、膜質の変化などを避けることができる。
【0092】
（撥液膜の形成前処理）
撥液膜の形成前処理として、プラズマ処理を行ってもよい。
プラズマ処理としては、酸素ガス、又はアルゴンガスやこれらの混合ガスによるプラズマ処理を行うことができる。
撥液膜の形成前処理として、プラズマ処理を行ってもよい。
プラズマ処理としては、酸素ガス、又はアルゴンガスやこれらの混合ガスによるプラズマ処理を行うことができる。
【0093】
プラズマ処理を行うことで、プライマー層の表面の汚染除去効果、又は表面活性化効果が得られ、反応性、密着性が向上し、耐アルカリ性、及び化学機械研磨に対する耐久性を上げることができる。
【0094】
（１．１．４）プライマー層
ノズルプレートの吐出側の表面に形成される撥液膜には、ワイピング（摺動）に対する機械的耐久性が要求されており、特に、基材と形成される撥液膜との密着性は重要である。
ノズルプレートの吐出側の表面に形成される撥液膜には、ワイピング（摺動）に対する機械的耐久性が要求されており、特に、基材と形成される撥液膜との密着性は重要である。
【0095】
そのため、基材と撥液膜との密着性を強化するために、基材表面に設けるプライマー層（「密着層」ともいう。）が形成されることが好ましい。
【0096】
なお、本発明に係る「撥液膜」の概念には、上記の「プライマー層」が含まれるものとする。
【0097】
ここで、「ワイピング」とは、吐出孔から被印刷物に向けて噴出された液体等から発生する微量なミスト等の付着物を除去するために、ブレードや布からなるワイパーをノズルプレートに当接させながら摺動させるメンテナンス処理である。
【0098】
（材料）
プライマー層の材料は、炭化酸化シリコン（炭化酸化シリコン膜）であることが好ましい。
プライマー層の材料は、炭化酸化シリコン（炭化酸化シリコン膜）であることが好ましい。
【0099】
炭化酸化シリコン膜は、共有結合性が高いため、表面にヒドロキシ基を有し、親液性（親インク性、親水性）に優れている。
【0100】
このため、液体吐出ヘッドにインク導入を行う場合など、流路内の気泡が抜け易く、また液体吐出ヘッド動作中にも流路内の気泡が付着し難くなり、ノズルの射出欠などの発生が起き難くなる。
【0101】
プライマー層の材料が、炭化酸化シリコン膜であることにより、ノズル表面でのシランカップリング剤との反応性を保持しながら、アルカリ耐性を向上することができるため、耐アルカリ性、及び化学機械研磨（ＣＭＰ：Chemical Mechanical Polishing）に対する耐久性と、撥液剤の定着性(シロキサン結合が形成可能)と、を両立できる。
【0102】
化学機械研磨に対する耐久性とは、具体的には、クリーニングする際のインクふき取りによるプライマー層の膜減りに対する耐久性である。
【0103】
（結晶性）
プライマー層は、非晶質又は単結晶であることが好ましい。
プライマー層は、非晶質又は単結晶であることが好ましい。
【0104】
多結晶の場合は、アルカリ浸漬時に結晶粒界がエッチングサイトとなり選択的にエッチングが進行してピンホールが形成され、下地の基材にエッチングが進行することがある。
【0105】
一方、非晶質又は単結晶の場合は、エッチングサイトとなる結晶粒界がないため、アルカリ浸漬時にも選択的にエッチングが進行することがなく、よりアルカリ耐性の高いプライマー層（ノズル内壁では流路保護膜）とすることができる。
【0106】
（プライマー層の形成方法）
プライマー層の形成方法としては、例えば以下の３つが挙げられる。
プライマー層の形成方法としては、例えば以下の３つが挙げられる。
【0107】
（１）オルトケイ酸テトラエチル（ＴＥＯＳ）、トリメチルシラン（ＴＭＳ）、シランや、メタン、エタン、アセチレンなどの炭化水素ガス、アルゴン、酸素ガスなどを用いた高周波放電プラズマＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition：化学気相成長）成膜による方法又はＰＩＧ（Penning Ionization Gauge）方式プラズマＣＤＶによる方法。
【0108】
（２）Ｓｉ、ＳｉＣ、ＳｉＯ２ターゲットとし、アルゴンガス、酸素ガス、メタンなどの雰囲気下でのスパッタ成膜による方法。
【0109】
（３）シリカを含んだ溶液材料（ポリシラザン系）を用いた塗布による方法。
【0110】
中でも、上記（１）のプラズマＣＶＤ法は、プラズマプロセスを利用して反応ガスにより形成するものであり、また、形成装置の構造も比較的単純であって、安価である。
【0111】
したがって、本発明の一実施形態においては、プライマー層を形成するために、プラズマＣＶＤ法が好ましく用いられる。
【0112】
〔プライマー層の形成前処理〕
プライマー層の形成前処理として、基材に対してプラズマ処理又は逆スパッタ処理を行ってもよい。
プライマー層の形成前処理として、基材に対してプラズマ処理又は逆スパッタ処理を行ってもよい。
【0113】
プラズマ処理又は逆スパッタ処理としては、酸素ガス、又はアルゴンガスやこれらの混合ガスによるプラズマ処理を行うことができる。
【0114】
プラズマ処理又は逆スパッタ処理を行うことで、基材表面の汚染除去効果、又は表面活性化効果が得られ、プライマー層形成後の基材との密着性を上げることができる。
【0115】
〔プライマー層の形成時又は形成後処理〕
プライマー層形成時に、材料ガスに水素添加を行ってもよく、これにより、応力や膜硬度が向上し、擦過耐性が向上する場合がある。
プライマー層形成時に、材料ガスに水素添加を行ってもよく、これにより、応力や膜硬度が向上し、擦過耐性が向上する場合がある。
【0116】
また、プライマー層形成後、その膜表面に炭素導入を行ってもよく、メタン、エタンなど炭化水素系ガスを含んだプラズマ処理を用いることができる。
また、炭素導入としては、イオンインプラ法、イオンシャワードーピング法なども用いることができる。
また、炭素導入としては、イオンインプラ法、イオンシャワードーピング法なども用いることができる。
【0117】
プライマー層の表面から炭素導入を行うと、炭素組成比の下地膜深さ方向のプロファイルがプライマー層表面からテールを引くが、プライマー層表面（最表面層）が所望の組成比となるように炭化して制御することができる。
【0118】
本発明に係る撥液膜は、プライマー層と撥液剤との定着性をさらに向上させることを目的として、プライマー層の形成中又は形成後に酸化処理などを行って表面のシロキサン結合サイト数(－ＯＨ基)を増加させてもよい。
【0119】
上記の酸化処理としては、例えばプライマー層の形成中に酸素を添加する、又は形成後に酸素プラズマ処理などにより表面を酸化する処理などが挙げられる。
【0120】
上述の形成方法及び前処理方法は、適宜組み合わせて用いてもよく、上記説明の方法に限定されない。
【0121】
（１．２）基材
本発明のノズルプレートが備える基材は、液体吐出側の表面にフッ素系化合物を含有する撥液膜を有し、当該基材の前記接着層側表面に、フッ素系化合物を有する。
本発明のノズルプレートが備える基材は、液体吐出側の表面にフッ素系化合物を含有する撥液膜を有し、当該基材の前記接着層側表面に、フッ素系化合物を有する。
【0122】
基材の厚さは、ノズルプレートの設計に応じて適宜選択され、特に限定されないが、通常、１５０μｍ以下で、５０～７５μｍの範囲内のものがよく用いられる。
【0123】
基材の材料としては、例えばポリイミド（略称：ＰＩ）、ポリフェニレンサルファイド（略称：ＰＰＳ）及びポリエチレンテレフタレート（略称：ＰＥＴ）等の有機樹脂材料やステンレス鋼（略称：ＳＵＳ：steel use stainless）及びシリコン（Ｓｉ）等の無機樹脂材料を用いることができる。
【0124】
耐熱性の観点からはポリイミドが好ましく、プライマー層形成後、あるいは撥液膜形成後などにアニール処理を高温で行うことができる。
【0125】
ポリイミドは、薬品による腐食や変形に対しての耐性を有しており、また、耐熱性の材料であるため、撥液膜を蒸着法により形成する時や、撥液膜を高温処理する時など、高温処理条件下においても、劣化しにくい。
【0126】
そのため、本発明の効果発現の観点からは、特に、ポリイミド（略称：ＰＩ）を用いることが好ましい。
【0127】
寸法安定性の観点からはポリフェニレンサルファイドが好ましく、液体吐出ヘッド２４１のノズル列長バラツキを低減することができる。
【0128】
より具体的には、Ｄｕｐｏｎ社製カプトンフィルム、宇部興産社製Ｕｐｉｌｅｘ７５Ｓ、ＴＯＲＡＹ社製トレリナ等が挙げられる。
【0129】
基材としては、ケイ素又は金属材料等その他のものを用いることもできる。
基材が、ケイ素（シリコン）からなることにより、ノズル加工にフォトリソプロセスなどを用いることができ、これにより高精度なノズル孔１４の加工が可能となる。
また、射出角バラツキが非常に少なく、良好な描画品質を有する液体吐出ヘッドを作製できる。
基材が、ケイ素（シリコン）からなることにより、ノズル加工にフォトリソプロセスなどを用いることができ、これにより高精度なノズル孔１４の加工が可能となる。
また、射出角バラツキが非常に少なく、良好な描画品質を有する液体吐出ヘッドを作製できる。
【0130】
金属材料がステンレス鋼であることで、ポンチ加工、レーザー加工、又は電鋳によりノズル孔１４を容易に形成できる。
【0131】
（撥液膜側と接着層側のフッ素元素の原子濃度）
本発明に係るノズルプレートが有する基材は、当該基材の接着層側表面にフッ素系化合物を有する。
本発明に係るノズルプレートが有する基材は、当該基材の接着層側表面にフッ素系化合物を有する。
【0132】
図３は、本発明に係る基材１２の接着層１１側表面を表す簡略図である。
【0133】
なお、本明細書において、「基材の接着層側表面」とは、基材１２と接着層１１とが接する当該基材１２の接着層１１側の面で、当該基材１２が当該接着層１１と接する面より基材１２方向に深さで５ｎｍまでの領域をいう（図３参照。）。
【0134】
ただし、後述するフッ素系化合物の原子濃度の測定において液体吐出ヘッド１００からノズルプレート１を剥がした際には、上記の「基材の接着層側表面」には、当該ノズルプレート１を剥がした際に付着した接着層１１の一部である接着剤１１ａを含むものとする。
【0135】
前記基材の前記接着層側表面における前記フッ素元素の存在範囲が、前記基材の各端部からの距離が、２０～１００μｍの範囲内であることが、本発明の効果発現の観点から好ましい。
【0136】
また、前記基材の前記接着層側表面の前記フッ素元素の原子濃度が、１．０～５０．０ａｔｍ％の範囲内であることが、不要な接着剤の流れ込み防止の観点から好ましい。
【0137】
前記フッ素元素の原子濃度が、前記基材の前記撥液膜側より前記接着層側の方が低いことが、本発明の効果発現の観点から好ましい。
【0138】
【0139】
本発明に係る基材の接着層側のノズル穴近傍にも撥液膜が付着していることが、本発明の効果発現の観点の観点から好ましい。
【0140】
【0141】
なお、本発明において、「ノズル穴近傍」とは、基材の表裏両面の表面のノズル穴の淵を０μｍとし、当該ノズル穴の淵から外側に向かって１０μｍの範囲内の領域をいうものとする。
【0142】
（フッ素元素の存在範囲と原子濃度の算出方法）
本明細書において、フッ素元素の原子濃度とは、ＸＰＳにより測定される炭素原子の原子番号以上の原子番号を持つ全ての原子数定量値の合計を１００ａｔｍ％としたときのフッ素元素の原子数の比率を表したものである。
本明細書において、フッ素元素の原子濃度とは、ＸＰＳにより測定される炭素原子の原子番号以上の原子番号を持つ全ての原子数定量値の合計を１００ａｔｍ％としたときのフッ素元素の原子数の比率を表したものである。
【0143】
本発明において、フッ素元素の層厚方向における存在範囲と原子濃度［ａｔｍ％］を算出する方法は、特に限定されないが、例えば本発明に係る基材の接着層側表面のフッ素元素の原子濃度を算出する場合には、以下のような方法が挙げられる。
【0144】
なお、フッ素元素の撥液膜側の原子濃度を算出する方法は、下記の操作を撥液膜側からすることによって行うことができる。
【0145】
液体吐出ヘッドからノズルプレートを剥がし、トリミング用のガラスナイフなどを用いて当該ノズルプレートが有する基材の接着層側の最表面から１００ｎｍの領域を削って、当該切片部位を構成する材料の組成を定量分析する方法や、基材の接着層側の最表面から当該基材の厚さ方向の化合物の質量を赤外分光法（ＩＲ）や原子吸光などでスキャンする方法などを用いて定量化する方法、また、ＸＰＳ（Ｘ線光電子分光：Ｘ－ｒａｙ Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）分析法によって定量化することできる。
【0146】
Ｘ線光電子分光分析法とは、ＸＰＳ（Ｘ－ｒａｙ Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）、又はＥＳＣＡ（ＥｌｅｃｔｒｏｎＳｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ ｆｏｒ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｎａｌｙｓｉｓ，エスカ）と呼ばれている光電子分光の一種で、サンプル表面からある特定の深さまでの表面部に存在する構成元素とその電子状態を分析する方法である。
【0147】
中でも、ＸＰＳ分析法を用いることが、原子濃度分布曲線（以下、「デプスプロファイル」という。）測定によって、ノズルプレート全体の層厚方向での組成分布プロファイルを測定できる観点から、好ましい方法である。
【0148】
本発明に係るフッ素元素の層厚方向における存在範囲と原子濃度［ａｔｍ％］は、原子濃度分布曲線（以下、「デプスプロファイル」という。）を作成することにより算出することができる。
【0149】
上記の原子濃度分布曲線を作成することによるフッ素元素の層厚方向における存在範囲と原子濃度［ａｔｍ％］は、フッ素元素の原子濃度等を、Ｘ線光電子分光法の測定と希ガス等によるイオンスパッタとを併用することにより、基材の接着層側又は撥液膜側の最表面より基材の厚さ方向に向かって露出させつつ順次、基材の接着層側又は撥液膜側の最表面から基材側の面の表面組成分析を行うことにより算出することができる。
【0150】
このようなＸＰＳデプスプロファイル測定により得られる分布曲線は、例えば縦軸を各元素の濃度（単位：ａｔｍ％）とし、横軸をエッチング時間（スパッタ時間）として作成することができる。
【0151】
なお、このように横軸をエッチング時間とする原子濃度分布曲線においては、エッチング時間は基材の厚さ方向における接着層側又は撥液膜側の最表面からの距離におおむね相関することから、「基材の厚さ方向における接着層側又は撥液膜側の最表面からの距離」として、ＸＰＳデプスプロファイル測定の際に採用したエッチング速度とエッチング時間との関係から算出される接着層側又は撥液膜側の最表面からの距離として採用することができる。
【0152】
また、このようなＸＰＳデプスプロファイル測定に際して採用するスパッタ法としては、エッチングイオン種としてアルゴン（Ａｒ）を用いた希ガスイオンスパッタ法を採用することができる。
【0153】
エッチング速度（エッチングレート）は、あらかじめ膜厚がわかっているＳｉＯ２熱酸化膜で計測することができ、エッチング深さを、ＳｉＯ２熱酸化膜換算値で表記することが多い。
【0154】
以下に、本発明に係るノズルプレートが備える基材の接着層側表面又は撥液膜側のフッ素元素の層厚方向における組成分析に適用可能なＸＰＳ分析の具体的な条件の一例を示す。
【0155】
・分析装置：アルバック・ファイ社製ＱＵＡＮＴＥＲＡ ＳＸＭ
・Ｘ線源：単色化Ａｌ－Ｋα １５ｋＶ ２５Ｗ
・スパッタイオン：Ａｒ（１ｋｅＶ）
・デプスプロファイル：ＳｉＯ２換算スパッタ厚さで、所定の厚さ間隔で測定を繰り返し、深さ方向のデプスプロファイルを求める。この厚さ間隔は、２．６ｎｍとした（深さ方向に２．６ｎｍごとのデータが得られる）
・定量：バックグラウンドをＳｈｉｒｌｅｙ法で求め、得られたピーク面積から相対感度係数法を用いて定量した。データ処理は、アルバック・ファイ社製のＭｕｌｔｉＰａｋを用いる。
・Ｘ線源：単色化Ａｌ－Ｋα １５ｋＶ ２５Ｗ
・スパッタイオン：Ａｒ（１ｋｅＶ）
・デプスプロファイル：ＳｉＯ２換算スパッタ厚さで、所定の厚さ間隔で測定を繰り返し、深さ方向のデプスプロファイルを求める。この厚さ間隔は、２．６ｎｍとした（深さ方向に２．６ｎｍごとのデータが得られる）
・定量：バックグラウンドをＳｈｉｒｌｅｙ法で求め、得られたピーク面積から相対感度係数法を用いて定量した。データ処理は、アルバック・ファイ社製のＭｕｌｔｉＰａｋを用いる。
【0156】
（１．３）接着層
ヘッドチップの吐出口面とノズルプレート１は、接着剤１１ａによって接着され、当該接着剤１１ａが乾燥及び硬化することにより、本発明に係る接着層１１が形成される。
ヘッドチップの吐出口面とノズルプレート１は、接着剤１１ａによって接着され、当該接着剤１１ａが乾燥及び硬化することにより、本発明に係る接着層１１が形成される。
【0157】
本発明に係る接着層１１が、固形粒子を含有することが、接着層１１の厚さを確保する観点から好ましい。
【0158】
上記接着層１１を形成するもととなる接着剤１１ａは硬化性樹脂を含有することが好ましく、当該硬化性樹脂は、エポキシ樹脂からなる主剤と硬化剤を含有することが好ましい。
また、固形粒子を含有していることが好ましい。
また、固形粒子を含有していることが好ましい。
【0159】
この接着剤１１ａは、液状で塗布して加熱や紫外線照射によって硬化が可能な接着剤であり得る。
【0160】
エポキシ樹脂は、エポキシ基を有する化合物のモノマー及びそのオリゴマーのいずれも使用して生成できる。
【0161】
具体的には、従来公知の芳香族エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物及び脂肪族エポキシ化合物が挙げられる。
【0162】
なお、以下エポキシ化合物とは、モノマー又はそのオリゴマーを意味する。
【0163】
（１．３．１）固形粒子
前記固形粒子としては、無機化合物及び有機ポリマーが挙げられるが、無機化合物であることが好ましい。
前記固形粒子としては、無機化合物及び有機ポリマーが挙げられるが、無機化合物であることが好ましい。
【0164】
上記の無機化合物としては、例えばシリカ、ガラス及びジルコニア等の金属酸化物が挙げられるが、粒子径制御の精度向上及び接着層の厚さ確保の観点向上の観点からシリカであることが好ましい。
【0165】
また、上記の固形粒子は、球形粒子であることが、接着層の形状を一定に保ち、接着剤１１ａのノズル穴近傍又は基材端部への流れ込み防止の観点から好ましい。
【0166】
上記の球形粒子としては、例えばシリカを材料とするハイプレシカＴＳ Ｎ３Ｎ（体積平均粒径３～１２μｍ（０．１μｍ間隔で指定可能）、１３～２０μｍ（１μｍ間隔で指定可能）、２５μｍ、３０μｍ、宇部日東化成製）、ハイプレシカＢＳ（体積平均粒径１２～６０μｍ、宇部日東化成製）、ガラスを材料とするＱ－ＣＥＬ５０７０ｓ（平均粒径４０μｍ、比重０．２の中空粒子、ポッターズ・バロティー二株式会社製）、Ｑ－ＣＥＬ５０２０ＦＰＳ（平均粒径６０μｍ、比重０．２中空粒子、ポッターズ・バロティー二株式会社製）、富士シリシア化学（株）製の中空ガラス粒子フジバルーンＨ３０（平均粒径４０μｍ、比重０．２０）、Ｓ－３５（平均粒径４０μｍ、比重０．２４）、Ｓ－４０（平均粒径４０μｍ、比重０．２６）、Ｓ－４５（平均粒径４０μｍ、比重０．２８）、スフェリセル１１０Ｐ８（平均粒径１２μｍ、比重１．１の中空ガラス粒子、ポッターズ・バロティー二株式会社製）、スフェリセル６０Ｐ１８（平均粒径１８μｍ、比重０．６の中空ガラス粒子、ポッターズ・バロティー二株式会社製）等が市販されている。
【0167】
（体積存在比率）
前記固形粒子の体積存在比率が、前記接着層全体に対して０．１～１０．０％の範囲内であることが、接着剤１１ａのノズル穴近傍又は基材端部への流れ込み防止と接着性の両立の観点から好ましい。
前記固形粒子の体積存在比率が、前記接着層全体に対して０．１～１０．０％の範囲内であることが、接着剤１１ａのノズル穴近傍又は基材端部への流れ込み防止と接着性の両立の観点から好ましい。
【0168】
上記体積存在比率が、前記接着層全体に対して０．１％以上であることで本発明の効果が安定して得られる。
また、１０％以下であることで接着効果が十分に得られる。
また、１０％以下であることで接着効果が十分に得られる。
【0169】
前記固形粒子の体積存在比率は、例えば以下のようにして求める。
【0170】
接着剤１１ａによって接着されたノズルプレート１とヘッドチップ２とを引き剥がした場合、当該接着剤１１ａがノズルプレート１に付着したまま残り、また、ヘッドチップ２にも付着したまま残る。
【0171】
したがって、これらの表面を観察することで前記固形粒子の体積存在比率を算出する。
なお、観察面は界面破壊している個所で測定する。
なお、観察面は界面破壊している個所で測定する。
【0172】
接着剤１１ａを上記固形粒子の体積平均粒径に相当する厚さで後述するヘッドチップ２に転写塗布し、光学顕微鏡で観察しながらノズルプレート１を所定の位置に接合する。
【0173】
次いで、１００℃・５時間で硬化させたのち、ヘッドチップ２とノズルプレート１を剥離し、接着剤１１ａの表面（３００μｍ×２３０μｍ）を光学顕微鏡で観察し、固形粒子の直径、個数をカウントする。
【0174】
固形粒子の直径を厚さとし、観察表面の面積、固形粒子の個数から体積存在比率を計算で求める。
なお、固形粒子の個数のカウントは光学顕微鏡でもよいし、画像処理でカウントしてもよい。
なお、固形粒子の個数のカウントは光学顕微鏡でもよいし、画像処理でカウントしてもよい。
【0175】
（体積平均粒径）
前記固形粒子の体積平均粒径が、０．２～５．０μｍの範囲内であることが、接着剤１１ａのノズル穴近傍又は基材端部への流れ込み防止と当該接着剤１１ａの過剰な流動性を抑制する観点から好ましい。
前記固形粒子の体積平均粒径が、０．２～５．０μｍの範囲内であることが、接着剤１１ａのノズル穴近傍又は基材端部への流れ込み防止と当該接着剤１１ａの過剰な流動性を抑制する観点から好ましい。
【0176】
０．２μｍ以上であると接着剤１１ａが硬化しやすく、５．０μｍ以下であることにより、接着剤１１ａが流動しづらく、ノズル詰まりの発生が抑制される。
【0177】
前記固形粒子の体積平均粒径は、マルチサイザーIII（ベックマンコールター製）コールターカウンターと標準粒子１５μｍ（ベックマンコールター製）を用いて、粒径分布を測定することができる。
【0178】
（１．３．１）主剤
（エポキシ樹脂）
〔芳香族エポキシ化合物〕
前記芳香族エポキシ化合物として好ましいものは、少なくとも１個の芳香族核を有する多価フェノールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体とエピクロルヒドリンとの反応によって製造されるジ又はポリグリシジルエーテルである。
（エポキシ樹脂）
〔芳香族エポキシ化合物〕
前記芳香族エポキシ化合物として好ましいものは、少なくとも１個の芳香族核を有する多価フェノールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体とエピクロルヒドリンとの反応によって製造されるジ又はポリグリシジルエーテルである。
【0179】
例えばビスフェノールＡあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールＡあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂並びにノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。
ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド等が挙げられる。
ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド等が挙げられる。
【0180】
〔脂環式エポキシ化合物〕
シクロアルケンオキサイドタイプの脂環式エポキシ化合物としては、少なくとも１個のシクロヘキセン又はシクロペンテン環等のシクロアルケンを有する化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化することによって得られるシクロヘキセンオキサイド又はシクロペンテンオキサイド含有化合物が挙げられる。
シクロアルケンオキサイドタイプの脂環式エポキシ化合物としては、少なくとも１個のシクロヘキセン又はシクロペンテン環等のシクロアルケンを有する化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化することによって得られるシクロヘキセンオキサイド又はシクロペンテンオキサイド含有化合物が挙げられる。
【0181】
具体的には（３，４－エポキシシクロヘキシル）メチル－３′，４′－エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、ビス－（２，３－エポキシシクロペンチル）エーテル等が挙げられる。
【0182】
多価アルコールグリシジルエーテルタイプの脂環式エポキシ化合物としては、例えば１，４－ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、エチレングリコールモノグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールモノグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールモノグリシジルエーテル、グリセロールジグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンモノグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ジグリセロールトリグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグルシジルエーテル、アリルグルシジルエーテル、２－エチルヘキシルグルシジルエーテルなどが挙げられる。
【0183】
（１．３．２）硬化剤
加熱による硬化のための硬化剤としては、ポリアミン、ジシアンジアミド、イミダゾール誘導体、カチオン型硬化剤、ポリチオール化合物等が用いられ、加熱温度がインクジェットの性能に悪影響を及ぼさない程度の温度で、硬化でき、高い耐インク性を有することから、イミダゾール類が好ましい。
これらは単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせてもよい。
加熱による硬化のための硬化剤としては、ポリアミン、ジシアンジアミド、イミダゾール誘導体、カチオン型硬化剤、ポリチオール化合物等が用いられ、加熱温度がインクジェットの性能に悪影響を及ぼさない程度の温度で、硬化でき、高い耐インク性を有することから、イミダゾール類が好ましい。
これらは単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせてもよい。
【0184】
イミダゾール類としては、１－メチルイミダゾール、１－ベンジル－２－メチルイミダゾール、１，２－ジメチルイミダゾール、１－イソブチル－２－メチルイミダゾール、１－メチル－２－エチルイミダゾール、１－エチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－エチル－４－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－メチルイミダゾール、１－（２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピル）－２－エチル－４－メチルイミダゾール、１－（２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピル）－２－メチルイミダゾール、２－メチルイミダゾール、２－エチル－４－メチルイミダゾール等が挙げられる。
【0185】
（１．３．３）シランカップリング剤
前記接着剤１１ａは、接着力の耐久性を向上できる点から、シランカップリング剤を含有することが好ましい。
前記接着剤１１ａは、接着力の耐久性を向上できる点から、シランカップリング剤を含有することが好ましい。
【0186】
シランカップリング剤の好ましい化合物例としては、β－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン等が挙げられる。
【0187】
シランカップリング剤の添加量は、エポキシ樹脂１００質量部に対し０．５～５質量部の範囲内が好ましい。
０．５質量部以上であれば、接着力の耐久性に優れ、５質量部以下であれば、室温保存で粘度上昇が小さく、可使時間を長くできる。
０．５質量部以上であれば、接着力の耐久性に優れ、５質量部以下であれば、室温保存で粘度上昇が小さく、可使時間を長くできる。
【0188】
２．ヘッドチップ
ヘッドチップ２は、各流路列において駆動流路２１Ａ、２１Ｂとダミー流路２２Ａ、２２Ｂとが相互に配置される独立駆動型のヘッドチップであり、各駆動電極２４に所定電圧の駆動信号を印加することによって、一対の駆動電極２４、２４に挟まれた駆動壁２３をせん断変形させる。
ヘッドチップ２は、各流路列において駆動流路２１Ａ、２１Ｂとダミー流路２２Ａ、２２Ｂとが相互に配置される独立駆動型のヘッドチップであり、各駆動電極２４に所定電圧の駆動信号を印加することによって、一対の駆動電極２４、２４に挟まれた駆動壁２３をせん断変形させる。
【0189】
これによって駆動流路２１Ａ、２１Ｂ内に供給された液体に吐出のための圧力変化を与え、ヘッドチップ２の前面２ａに接合されたノズルプレート１のノズル孔１４から液滴として吐出させる。
【0190】
「駆動流路」とは、画像記録時に画像データに応じて液体吐出を行う流路であり、ダミー流路とは、画像データに関わらず常に液体吐出を行わない流路である。
【0191】
ダミー流路２２Ａ、２２Ｂは液体吐出を行う必要がないため、通常、液体が充填されないか、ノズルプレート１にノズル孔１４が形成されない。
【0192】
各駆動流路２１Ａ、２１Ｂに対応する位置のみにノズルプレート１のノズル孔１４が開設されている。
【0193】
【0194】
ヘッドチップ２は、Ｘ方向に沿って、Ａ列の駆動流路２１Ａ及びダミー流路２２Ａが交互に形成され、駆動流路２１Ａ及びダミー流路２２Ａの間の駆動壁２３の両端に、駆動壁２３の圧電素子の駆動電極２４が配置されている。
【0195】
なお、本実施態様においては一例としてダミー流路を有するヘッドチップを例示したが、これに限定されない。
【0196】
例えばダミー流路２２Ａ、２２Ｂに対応する部位に対応して同様に図示しない貫通穴、及び接続電極を設けると共に、該接続電極に電気的な接続を行い、ノズルから液体を吐出するように構成してもよい。
【0197】
各流路列は、それぞれ駆動流路２１Ａ、２１Ｂとダミー流路２２Ａ、２２Ｂとが交互に配置されることによって構成されている。
【0198】
隣り合う駆動流路２１Ａ又は２１Ｂとダミー流路２２Ａ又は２２Ｂとの間の隔壁は、圧電素子からなる駆動壁２３となっている。
駆動壁２３の圧電素子は、例えばＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）である。
駆動壁２３の圧電素子は、例えばＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）である。
【0199】
各駆動流路２１Ａ、２１Ｂ及び各ダミー流路２２Ａ、２２Ｂは、ヘッドチップ２の前面２ａと後面２ｂとにそれぞれ開口しており、前面２ａと後面２ｂとにわたるストレート状に形成されている。
【0200】
各駆動流路２１Ａ、２１Ｂ内及び各ダミー流路２２Ａ、２２Ｂ内に臨んでいる壁面のうちの少なくとも駆動壁２３の表面には、駆動電極２４がそれぞれ形成されている。
【0201】
図１に示すように、液体吐出ヘッド１００において、互いに垂直な３つの軸として、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸をとる。
【0202】
Ｘ軸は、ヘッドチップ２の長手方向のノズル孔１４の配列方向である。
【0203】
ノズル孔１４が記置されて液体が吐出される側のＸＹ平面を「前面（ノズル面）」、その反対側の平面を「後面」と定義する。
【0204】
また、ヘッドチップ２の前面２ａ又は後面２ｂと平行なＸＹ平面上の方向であってヘッドチップ２から離れる方向をヘッドチップ２の「側方」と定義する。
【0205】
ヘッドチップ２の後面２ｂには、駆動流路２１Ａ、２１Ｂ及びダミー流路２２Ａ、２２Ｂに１対１に対応するように接続電極２５Ａ、２５Ｂが形成されている。
【0206】
各接続電極２５Ａ、２５Ｂの一端は、対応する駆動流路２１Ａ、２１Ｂ又はダミー流路２２Ａ、２２Ｂ内の駆動電極２４と電気的に接続している。
【0207】
Ａ列の駆動流路２１Ａ及びダミー流路２２Ａに対応する各接続電極２５Ａの他端は、各流路２１Ａ、２２Ａ内からヘッドチップ２の後面２ｂにおける一方の端縁２ｃに向けて延び、端縁２ｃとの間に２００μｍ程度の間隔をあけて止まっている。
【0208】
また、Ｂ列の駆動流路２１Ｂ及びダミー流路２２Ｂに対応する各接続電極２５Ｂの他端は、各流路２１Ｂ、２２Ｂ内からＡ列側に向けて延び、当該Ａ列の流路列との間に２００μｍ程度の間隔をあけて止まっている。
【0209】
従って、接続電極２５Ａ、２５Ｂのいずれも、各流路２１Ａ、２１Ｂ、２２Ａ、２２Ｂから同一方向に向けて延びている。
【0210】
３．配線基板
配線基板３は、接合領域３１を確保する観点からヘッドチップ２の後面２ｂの面積よりも大きな面積を有する平板状の基板であることが好ましく、接着剤を介してヘッドチップ２の後面２ｂに接合されている。
配線基板３は、接合領域３１を確保する観点からヘッドチップ２の後面２ｂの面積よりも大きな面積を有する平板状の基板であることが好ましく、接着剤を介してヘッドチップ２の後面２ｂに接合されている。
【0211】
なお、本明細書において上記のように配線基板とヘッドチップを接着する際に用いられる接着剤を「接着剤３４ａ」とし、当該接着剤３４ａによって形成される接着層を接着層３４とする。
【0212】
接合後の配線基板３の少なくとも一つの端部３ａは、ヘッドチップ２が接合される接合領域３１（図１中に一点鎖線で示す）の外側に延びており、ヘッドチップ２の流路列の並び方向に沿う側方に大きく張り出していることが好ましい。
【0213】
なお、この接合領域３１は、配線基板３の表面が、接合されたヘッドチップ２によって覆われる領域であり、ヘッドチップ２の後面２ｂの外周縁から配線基板３に垂下した線によって規定される。
【0214】
配線基板３の材質は、ガラス、セラミックス、シリコン、プラスチックなどの適宜の材料を用いることができる。
中でも適度に剛性を備え、安価で加工も容易である点でガラスが好ましい。
中でも適度に剛性を備え、安価で加工も容易である点でガラスが好ましい。
【0215】
配線基板３は、ヘッドチップ２の後面２ｂに配置される全ての流路を覆うように接合されるが、この配線基板３におけるヘッドチップ２の接合領域３１内には、ヘッドチップ２の駆動流路２１Ａ、２１Ｂに対応する位置のみに、配線基板３の背面側から液体を各駆動流路２１Ａ、２１Ｂに供給するための貫通穴３２Ａ、３２Ｂがそれぞれ個別に開設されている。
【0216】
各貫通穴３２Ａ、３２Ｂは、ヘッドチップ２側の閉口部が、各駆動流路２１Ａ、２１Ｂの後面２ｂ側の開口部と同一形状となるように形成されている。
【0217】
一方、配線基板３におけるダミー流路２２Ａ、２２Ｂに対応する部位にはこのような貫通穴が形成されていない。
このため、ダミー流路２２Ａ、２２Ｂは配線基板３によって塞がれている。
このため、ダミー流路２２Ａ、２２Ｂは配線基板３によって塞がれている。
【0218】
配線基板３のヘッドチップ２との接合面となる表面には、ヘッドチップ２の後面２ｂに配列されている各接続電極２５Ａ、２５Ｂに１対１に対応するように配線電極３３Ａ、３３Ｂが形成されている。
【0219】
配線電極３３ＡはＡ列の流路列の各接続電極２５Ａに対応し、配線電極３３ＢはＢ列の流路列の各接続電極２５Ｂに対応している。
【0220】
図８は、ヘッドチップと配線基板との接合状態を配線基板側から見た図である。
図８に示すように、配線電極３３Ａの一端は、対応する駆動流路２１Ａ及びダミー流路２２Ａの近傍に達し、対応する接続電極２５Ａと重なり合っていると共に、他端は、ヘッドチップ２の側方へ張り出した配線基板３の同一の端部３ａに向けて延びている。
図８に示すように、配線電極３３Ａの一端は、対応する駆動流路２１Ａ及びダミー流路２２Ａの近傍に達し、対応する接続電極２５Ａと重なり合っていると共に、他端は、ヘッドチップ２の側方へ張り出した配線基板３の同一の端部３ａに向けて延びている。
【0221】
また、配線電極３３Ｂの一端は、対応する駆動流路２１Ｂ及びダミー流路２２Ｂの近傍に達し、対応する接続電極２５Ｂと重なり合っていると共に、他端は、Ａ列の流路列の隣り合う駆動流路２１Ａ、２１Ａ間を通ってＡ列の流路列を跨ぎ、配線電極３３Ａと同様に、配線基板３の端部３ａに向けて延びている。
【0222】
このため、ヘッドチップ２の側方に張り出した配線基板３の表面には、接合領域３１の内側から端部３ａにかけて、配線電極３３Ａ、３３Ｂが交互となるように並設されている。
【0223】
配線電極３３Ａ、３３Ｂ、駆動電極２４、接続電極２５Ａ、２５Ｂは、アルミ製であるものとするが、これに限定されるものではなく、銅など、他の金属製としてもよい。
【0224】
配線基板３の端部３ａには、外部配線部材の一例であるフレキシブル基板４が、例えばＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film：異方性導電フィルム）などを介して接続され、不図示の駆動回路との間を電気的に接続している。
【0225】
これにより、駆動回路からの所定電圧の駆動信号が、フレキシブル基板４、配線基板３の各配線電極３３Ａ、３３Ｂ、ヘッドチップ２の接続電極２５Ａ、２５Ｂを介して、各流路２１Ａ、２１Ｂ、２２Ａ、２２Ｂ内の駆動電極２４に印加されるようになっている。
【0226】
（ヘッドチップと配線基板との接合に使用される接着剤）
ヘッドチップ２と配線基板３との接合に使用される接着剤３４ａは、例えばＡｕ、Ｎｉなどの金属粒子や、樹脂粒子の表面に金属膜を被覆した粒子などの導電性粒子を含有させた導電性接着剤である。
ヘッドチップ２と配線基板３との接合に使用される接着剤３４ａは、例えばＡｕ、Ｎｉなどの金属粒子や、樹脂粒子の表面に金属膜を被覆した粒子などの導電性粒子を含有させた導電性接着剤である。
【0227】
接着剤３４ａとしては常温で硬化させる常温硬化型接着剤、加熱によって重合を促進させて硬化させる熱硬化型接着剤、紫外線などの活性エネルギー線の照射によって重合を促進させて硬化させる活性エネルギー線硬化型接着剤などを用いることができる。
【0228】
本実施の形態では、ヘッドチップ２と配線基板３との接合に用いる接着剤３４ａは、例えばフッ素系樹脂を用いた導電性接着剤とするが、エポキシ樹脂、ポリイミド（ＰＩ）樹脂などを用いた導電性接着剤としてもよい。
【0229】
配線基板３は、Ｘ方向に沿って、駆動流路２１Ａに対応する位置に形成された貫通穴３２Ａを有し、貫通穴３２Ａの周囲に、遮蔽部としての庇形状のテーパー部３２１を有する。
【0230】
テーパー部３２１は、後面から前面の－Ｚ方向に沿って、貫通穴３２Ａの開口面積が小さくなるように構成されている。
【0231】
これにより、貫通穴３２Ａの開口面積は、駆動流路２１Ａの開口面積よりも小さくされている。
【0232】
また、配線基板３とヘッドチップ２との間に、有機物からなる接着層３４が形成されている。
なお、上記の接着層３４は、本発明に係る前述の接着層１１とは異なり、フッ素化合物等を含有していなくともよい。
また、上記の接着層３４を形成する際に用いられる接着剤３４ａは導電性接着剤である。
液体吐出ヘッド１００のＡ列についての上記構成は、Ｂ列についても同様の構成とする。
なお、上記の接着層３４は、本発明に係る前述の接着層１１とは異なり、フッ素化合物等を含有していなくともよい。
また、上記の接着層３４を形成する際に用いられる接着剤３４ａは導電性接着剤である。
液体吐出ヘッド１００のＡ列についての上記構成は、Ｂ列についても同様の構成とする。
【0233】
例えば配線基板３の後面にプラズマ処理が施されてから、プラズマ処理された当該後面に液体マニホールド（図示略）が接合される。
ただし、本発明においては、上記配線基板３の後面へプラズマ処理が施されていなくてもよい。
ただし、本発明においては、上記配線基板３の後面へプラズマ処理が施されていなくてもよい。
【0234】
［II． 液体吐出ヘッドの製造方法 ］
本発明の液体吐出ヘッドを製造する液体吐出ヘッドの製造方法は、前記ノズルプレートをレーザー加工することを特徴とし、これによりアブレーションによって生じるフッ素系化合物の裏回りの効果が向上する。
本発明の液体吐出ヘッドを製造する液体吐出ヘッドの製造方法は、前記ノズルプレートをレーザー加工することを特徴とし、これによりアブレーションによって生じるフッ素系化合物の裏回りの効果が向上する。
【0235】
前記液体吐出ヘッドの製造方法としては、まず、ノズルプレートを作製し、その後当該ノズルプレートに流路部材等を接着剤１１ａにより接着する。
【0236】
上記のノズルプレートを加工する方法としては、例えば本発明に係る撥液膜の形成後にノズル孔を加工する方法と当該撥液膜の形成前にノズル孔を加工する方法とが挙げられる（以下、「ノズル孔を加工する」ことを単に、「ノズル加工」ともいう。）。
【0237】
以下、本明細書において、「撥液膜の形成後にノズル孔を加工する方法」を単に、「後穴加工」ともいい、「撥液膜の形成前にノズル孔を加工する方法」を単に、「先穴加工」ともいう。
【0238】
（レーザー加工）
レーザー光としては、例えばエキシマレーザー光等を好ましく例示できる。
エキシマレーザー光は、波長が短く、好ましい微細加工が可能であるからである。エキシマレーザー光の波長は１９０ｎｍ～３５５ｎｍの範囲であり、具体的には、例えばＡｒＦ（波長１９３ｎｍ）、ＫｒＦ（２４８ｎｍ）、ＸｅＣｌ（波長３０８ｎｍ）、ＸｅＦ（波長３５１ｎｍ）等を好ましく挙げられる。
レーザー光としては、例えばエキシマレーザー光等を好ましく例示できる。
エキシマレーザー光は、波長が短く、好ましい微細加工が可能であるからである。エキシマレーザー光の波長は１９０ｎｍ～３５５ｎｍの範囲であり、具体的には、例えばＡｒＦ（波長１９３ｎｍ）、ＫｒＦ（２４８ｎｍ）、ＸｅＣｌ（波長３０８ｎｍ）、ＸｅＦ（波長３５１ｎｍ）等を好ましく挙げられる。
【0239】
なお、エキシマレーザー光は、上述のように波長が短く、エネルギーが非常に高いため、エキシマレーザー光を、例えばポリイミド等の樹脂からなる被加工物に照射することで、ノズル等を貫通形成する加工作業を好適に行うことができる。
【0240】
４．ノズルプレートの作製
（４．１）第１のノズルプレートの作製：後穴加工
まず、本発明の液体吐出ヘッドが備えるノズルプレートの製造方法の一例として、まず、後穴加工について説明する。
（４．１）第１のノズルプレートの作製：後穴加工
まず、本発明の液体吐出ヘッドが備えるノズルプレートの製造方法の一例として、まず、後穴加工について説明する。
【0241】
後穴加工の特徴は、撥液膜を形成した後にノズル孔を加工するため、レーザー加工によるアブレーション効果がより高く、当該撥液膜が含有するフッ素系化合物の裏回りが促進される。
【0242】
【0243】
【0244】
＜ステップＳＴ１２＞
図１１Ｂは、プライマー層１３ａが形成された基材１２を模式的に示す断面図である。
図１１Ｂに示すように、ステップＳＴ１２では、ステップＳＴ１１で準備された基材１２の液体吐出側に、プライマー層１３ａを形成する。
図１１Ｂは、プライマー層１３ａが形成された基材１２を模式的に示す断面図である。
図１１Ｂに示すように、ステップＳＴ１２では、ステップＳＴ１１で準備された基材１２の液体吐出側に、プライマー層１３ａを形成する。
【0245】
＜ステップＳＴ１３＞
図１１Ｃは、撥液膜１３が形成された基材１２を模式的に示す断面図である。
図１１Ｃに示すように、ステップＳＴ１３では、ステップＳＴ１２で形成されたプライマー層１３ａの液体吐出側に、撥液剤を塗布し、蒸着することで撥液膜１３を形成する。
図１１Ｃは、撥液膜１３が形成された基材１２を模式的に示す断面図である。
図１１Ｃに示すように、ステップＳＴ１３では、ステップＳＴ１２で形成されたプライマー層１３ａの液体吐出側に、撥液剤を塗布し、蒸着することで撥液膜１３を形成する。
【0246】
なお、図１１Ｃにおける１３ｂは、撥液剤によって形成された上記撥液膜の上層であり、当該撥液膜１３は、下層のプライマー層１３ａと上層１３ｂの二つの層によって形成されている。
【0247】
＜ステップＳＴ１４＞
図１１Ｄは、保護シート１５が貼付された基材１２を模式的に示す断面図である。
図１１Ｄに示すように、ステップＳＴ１４では、ステップＳＴ１３で形成された撥液膜１３の液体吐出側の表面に、保護シート１５を貼付する。
図１１Ｄは、保護シート１５が貼付された基材１２を模式的に示す断面図である。
図１１Ｄに示すように、ステップＳＴ１４では、ステップＳＴ１３で形成された撥液膜１３の液体吐出側の表面に、保護シート１５を貼付する。
【0248】
（保護シート）
保護シート１５は、基材シート１５ａと、基材シート１５ａ上の粘着層１５ｂと、を有する。
保護シート１５は、基材シート１５ａと、基材シート１５ａ上の粘着層１５ｂと、を有する。
【0249】
〔基材シート〕
基材シート１５ａとしては、例えばポリイミド、ＰＥＴ、ＰＰＳなどを用いることができる。
基材シート１５ａとしては、例えばポリイミド、ＰＥＴ、ＰＰＳなどを用いることができる。
【0250】
〔粘着層〕
粘着層１５ｂが撥液膜１３の液体吐出側に粘着される。
粘着層１５ｂが撥液膜１３の液体吐出側に粘着される。
【0251】
保護シート１５の粘着層１５ｂは、保護シート１５と撥液膜１３表面との粘着力が、保護シート１５と基材１２とを１８０度反対方向に引っ張った場合に、０．１～０．７Ｎ／１０ｍｍの範囲内、より好ましくは０．１５～０．６４Ｎ／１０ｍｍの範囲内とすればよい。
【0252】
このような粘着層１５ｂを用いることで、例えばノズル孔の形成においてレーザー加工を行った時のワークの取り回しで保護シート１５と撥液膜１３表面とが剥離することなくノズル加工をすることが可能となり、バリ発生などを抑制することができる。
【0253】
また、後述するステップＳＴ１６において保護シート１５を剥離する場合に、基材１２に寸法歪みが生じるような応力を印加することなく、剥離することができる。
【0254】
＜ステップＳＴ１５＞
図１１Ｅは、ノズル孔１４が形成された基材１２を模式的に示す断面図である。
図１１Ｅに示すように、ステップＳＴ１５では、ステップＳＴ１４で保護シート１５が貼付された基材１２、撥液膜１３の流路側（裏面）に、ノズル加工を行いノズル孔１４を形成する。
図１１Ｅは、ノズル孔１４が形成された基材１２を模式的に示す断面図である。
図１１Ｅに示すように、ステップＳＴ１５では、ステップＳＴ１４で保護シート１５が貼付された基材１２、撥液膜１３の流路側（裏面）に、ノズル加工を行いノズル孔１４を形成する。
【0255】
（ノズル加工）
ノズル加工は、レーザー加工によって行う。
ノズル加工は、レーザー加工によって行う。
【0256】
レーザー光源としては、例えばＫｒＦエキシマレーザーを用いることができ、これによってノズル加工を行う場合、その波長は２４８ｎｍ、すなわち光子エネルギーが５．０ｅＶである。
【0257】
本発明に係る撥液膜は、フッ素系化合物を含有しており、上記のノズル加工時に当該撥液膜の一部が基材の撥液膜が形成されている面とは逆側の面に付着する等、裏回りすることによって本発明の効果が発現する。
【0258】
なお、前述のプライマー層１３ａに炭素導入する場合、ＫｒＦエキシマレーザーの吸収効率が向上し、ノズル加工時にプライマー層１３ａもアブレーションされてバリの発生が抑えられ、ノズル端の加工精度が向上する。
【0259】
また、上記の場合、プライマー層１３ａの厚さは、好ましくは１００ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ以下、さらに好ましくは２０ｎｍ以下である。
【0260】
プライマー層１３ａの厚さが薄いほうが、レーザーアブレーションがしやすく、バリが残り難くなる。
【0261】
また、基材１２がステンレス鋼等の金属材料からなる場合、レーザーでノズル加工する場合はレーザー光源にピコ秒パルスレーザーを用いることが好ましい。
【0262】
ピコ秒パルスレーザーを用いることで、金属に対してバリやドロスの発生を抑制し、良好な形状のノズル孔１４を形成することができる。
【0263】
＜ステップＳＴ１６＞
図１１Ｆは、保護シート１５剥離後のノズル孔１４が形成された基材１２を模式的に示す断面図である。
図１１Ｆに示すように、ステップＳＴ１６では、ステップＳＴ１５でノズル孔１４が形成された基材１２、撥液膜１３及び保護シート１５から、保護シート１５を剥離してノズルプレートＮＡを形成する。
図１１Ｆは、保護シート１５剥離後のノズル孔１４が形成された基材１２を模式的に示す断面図である。
図１１Ｆに示すように、ステップＳＴ１６では、ステップＳＴ１５でノズル孔１４が形成された基材１２、撥液膜１３及び保護シート１５から、保護シート１５を剥離してノズルプレートＮＡを形成する。
【0264】
（４．２）第２のノズルプレートの作製：先穴加工１
本変形例の液体吐出ヘッドは、前述の液体吐出ヘッドと同様であるが、ノズルプレートＮＡをノズルプレートＮＢに代えた構成とする。
本変形例の液体吐出ヘッドは、前述の液体吐出ヘッドと同様であるが、ノズルプレートＮＡをノズルプレートＮＢに代えた構成とする。
【0265】
このため、上記実施の形態と同様の部分については説明を省略し、主として異なる部分を説明する。
【0266】
【0267】
＜ステップＳＴ２１＞
図１３Ａは、ノズル孔１４が形成された基材１２を模式的に示す断面図である。
まず、図１３Ａに示すように、ステップＳＴ２１では、流路側（裏面）にノズル加工してノズル孔１４が形成されたベース部材となる基材１２を形成する。
図１３Ａは、ノズル孔１４が形成された基材１２を模式的に示す断面図である。
まず、図１３Ａに示すように、ステップＳＴ２１では、流路側（裏面）にノズル加工してノズル孔１４が形成されたベース部材となる基材１２を形成する。
【0268】
基材の材料及び厚さ、ノズル加工等については、前述のとおりである。
【0269】
＜ステップＳＴ２２＞
図１３Ｂは、プライマー層１３ｃが形成された基材１２を模式的に示す断面図である。
図１３Ｂに示すように、ステップＳＴ２２では、ステップＳＴ２１で形成された基材１２の液体吐出側の表面及び流路側（裏面）に、プライマー層１３ｃを形成する。
図１３Ｂは、プライマー層１３ｃが形成された基材１２を模式的に示す断面図である。
図１３Ｂに示すように、ステップＳＴ２２では、ステップＳＴ２１で形成された基材１２の液体吐出側の表面及び流路側（裏面）に、プライマー層１３ｃを形成する。
【0270】
（プライマー層）
本発明に係る撥液膜は、プライマー層を有することが好ましい。
上記プライマー層の材料及び形成方法等については前述のとおりである。
本発明に係る撥液膜は、プライマー層を有することが好ましい。
上記プライマー層の材料及び形成方法等については前述のとおりである。
【0271】
＜ステップＳＴ２３＞
図１３Ｃは、撥液膜１３が形成されたノズルプレートＮＢを模式的に示す断面図である。
そして、図１３Ｃに示すように、ステップＳＴ２３では、ステップＳＴ２２でプライマー層１３ｃが形成された基材１２の液体吐出側に、前述の方法で撥液膜１３を形成してノズルプレートＮＢを作製し、第２のノズルプレート製造方法を終了する。
図１３Ｃは、撥液膜１３が形成されたノズルプレートＮＢを模式的に示す断面図である。
そして、図１３Ｃに示すように、ステップＳＴ２３では、ステップＳＴ２２でプライマー層１３ｃが形成された基材１２の液体吐出側に、前述の方法で撥液膜１３を形成してノズルプレートＮＢを作製し、第２のノズルプレート製造方法を終了する。
【0272】
なお、図１３Ｃにおける１３ｄは、撥液剤によって形成された上記撥液膜の上層１３ｄであり、当該撥液膜１３は、下層のプライマー層１３ｃと上層１３ｄの二つの層によって形成されている。
【0273】
また、＜ステップＳＴ２３＞では、ノズル孔１４の内壁及び流路側（裏面）に撥液膜１３が形成され、ノズル孔１４の内壁及び流路側（裏面）の全て又は一部の撥液膜１３が除去されて撥液膜１３が形成されてもよい。
【0274】
除去方法としては、プラズマ処理、薬液処理などを用いることができる。
【0275】
以上、第１の変形例によれば、液体吐出ヘッドのノズルプレートＮＢは、基材１２の液体吐出面側及びノズル孔１４の内壁に形成されるプライマー層１３ｃを有する。
【0276】
このため、耐アルカリ性に優れ、かつ親液性に優れたプライマー層１３ｃにより、液体の流路を保護できる。
【0277】
また、プライマー層１３ｃにより、液体吐出ヘッドに液体導入を行う場合など、流路内の気泡を抜け易くでき、また液体吐出ヘッド動作中にも流路内の気泡を付着し難くでき、ノズル孔１４の射出欠などの発生を低減できる。
【0278】
（４．３）第２のノズルプレートの作製：先穴加工２
本変形例の液体吐出ヘッドは、前述の液体吐出ヘッドと同様であるが、ノズルプレートＮＡをノズルプレートＮＣに代えた構成とする。
本変形例の液体吐出ヘッドは、前述の液体吐出ヘッドと同様であるが、ノズルプレートＮＡをノズルプレートＮＣに代えた構成とする。
【0279】
このため、上記実施の形態と同様の部分については説明を省略し、主として異なる部分を説明する。
【0280】
図１４は、ノズルプレートＮＣの模式的な断面図であり、当該ノズルプレートＮＣは、基材１２と、撥液膜１３と、流路保護膜２２ａと、を有する。
【0281】
（流路保護膜）
流路保護膜２２ａは、基材１２の吐出面側及びノズル孔１４の流路内に設けられ、一部がプライマー層１３ａの基材１２側の下地層となる層（膜）である。流路保護膜２２ａは、耐インク性を有する保護膜である。
流路保護膜２２ａは、基材１２の吐出面側及びノズル孔１４の流路内に設けられ、一部がプライマー層１３ａの基材１２側の下地層となる層（膜）である。流路保護膜２２ａは、耐インク性を有する保護膜である。
【0282】
〔種類〕
流路保護膜２２ａとしては、タンタル、ハフニウム、ニオブ、チタン、ジルコニウムなど、高酸化状態が化学的に安定な金属元素を一種類以上含んだ金属酸化膜を用いるとよい。
このような金属酸化膜は、耐アルカリ性に優れている。
流路保護膜２２ａとしては、タンタル、ハフニウム、ニオブ、チタン、ジルコニウムなど、高酸化状態が化学的に安定な金属元素を一種類以上含んだ金属酸化膜を用いるとよい。
このような金属酸化膜は、耐アルカリ性に優れている。
【0283】
また、流路保護膜４４として、タンタル、ハフニウム、ニオブ、チタン、ジルコニウムなど、高酸化状態が化学的に安定な金属元素を一種類以上含んだ金属酸化膜にシリコンを含有した金属シリケート膜を用いてもよい。
【0284】
このような金属シリケート膜としては、タンタルシリケート、ハフニウムシリケート、ニオブシリケート、チタンシリケート、ジルコニウムシリケートなどが挙げられる。
【0285】
前記金属シリケート膜は、耐アルカリ性を有しつつ、シリコンを含むことでイオン結合性が低下して共有結合性が向上するため、流路保護膜２２ａのヒドロキシル基が増加し、流路保護膜２２ａの表面の親液性が向上する。
【0286】
親液性が向上することで液体吐出ヘッドに液体導入を行う場合など、流路内の気泡が抜けやすく、また液体吐出ヘッド動作中にも流路内の気泡が付着し難くなり、ノズル孔１４の射出欠などの発生が起き難くなる。
【0287】
【0288】
ただし、図１２において、ステップＳＴ２１とステップＳＴ２２との間において、ステップＳＴ２１でノズル孔１４が形成された基材１２の液体吐出側及び流路側に、流路保護膜２２ａを形成する。
【0289】
また、ステップＳＴ２２では、プライマー層１３ｃに代えて、流路保護膜２２ａが形成された基材１２の液体吐出面側にプライマー層１３ａが形成されるものとする。
【0290】
例えば流路保護膜２２ａが形成された基材１２の液体吐出面側及び流路側にプライマー層が形成され、プライマー層が形成された基材１２の液体吐出面側に保護シートが貼られ、エッチング処理やプラズマ処理などにより流路側のプライマー層が除去され、保護シートが剥離されて、プライマー層１３ａが形成される。
そして、ステップＳＴ２３が実行され、ノズルプレートＮＣが製造される。
そして、ステップＳＴ２３が実行され、ノズルプレートＮＣが製造される。
【0291】
５．ヘッドチップの作製及びノズルプレートとの接着及びその他の工程
次に、図９、を参照して、液体吐出ヘッド１００の製造方法の一例を説明する。
図９は、液体吐出ヘッド製造処理の一例を示すフローチャートである。
次に、図９、を参照して、液体吐出ヘッド１００の製造方法の一例を説明する。
図９は、液体吐出ヘッド製造処理の一例を示すフローチャートである。
【0292】
＜ステップＳ３１：ヘッドチップ製造工程＞
まず、ステップＳ３１では、駆動壁２３の材料として圧電素子（ＰＺＴ：チタン酸ジルコン酸鉛）を用いて、せん断モード型のヘッドチップ２を作製する。
まず、ステップＳ３１では、駆動壁２３の材料として圧電素子（ＰＺＴ：チタン酸ジルコン酸鉛）を用いて、せん断モード型のヘッドチップ２を作製する。
【0293】
このとき、ヘッドチップ２の後面に、当該後面に配置される駆動流路２１Ａ、２２Ａ、ダミー流路２２Ａ、２２Ｂを介して、内部の駆動電極２４に電気的に接続する接続電極２５Ａ、２５Ｂが形成される。
【0294】
＜ステップＳ３２：配線基板貼合工程＞
そして、ステップＳ３２では、透明なガラス製などの基板に、ヘッドチップ２の駆動流路２１Ａ、２１Ｂに対応する位置のみに液体流路孔としての貫通穴３２Ａ、３２Ｂをブラスト加工によって形成するとともに、ヘッドチップ２の接続電極２５Ａ、２５Ｂに１対１で対応する配線電極３３Ａ、３３Ｂを形成して、配線基板３を作製し、接着剤３４ａを用いて、ステップＳ３１で作成されたヘッドチップ２に貼り合わせる。
そして、ステップＳ３２では、透明なガラス製などの基板に、ヘッドチップ２の駆動流路２１Ａ、２１Ｂに対応する位置のみに液体流路孔としての貫通穴３２Ａ、３２Ｂをブラスト加工によって形成するとともに、ヘッドチップ２の接続電極２５Ａ、２５Ｂに１対１で対応する配線電極３３Ａ、３３Ｂを形成して、配線基板３を作製し、接着剤３４ａを用いて、ステップＳ３１で作成されたヘッドチップ２に貼り合わせる。
【0295】
このとき、配線基板３にテーパー部３２１が形成され、貫通穴３２Ａ、３２Ｂの開口面積が、必ず駆動流路２１Ａ、２１Ｂの開口面積より狭くなるように形成される。
【0296】
また、ヘッドチップ２と配線基板３とは、接続電極２５Ａ、２５Ｂと配線電極３３Ａ、３３Ｂとの位置が合わせられ、接着剤３４ａとして例えばフッ素系化合物であるフッ素系樹脂としての信越化学工業社製「ＳＩＦＥＬ２６１４」を介して均等な加圧接着により貼り合せられ、接着層３４が形成される。
【0297】
＜ステップＳ３３：ノズルプレート作製工程＞
＜ステップＳ３３＞では、前述の方法によりノズルプレート１を作製する。
＜ステップＳ３３＞では、前述の方法によりノズルプレート１を作製する。
【0298】
＜ステップＳ３４：ノズルプレート貼合工程＞
そして、ステップＳ３４では、ステップＳ３２で作製された配線基板３が貼り合わされたヘッドチップ２の前面に、接着剤１１ａを塗布し、ステップＳ３３で作製されたノズルプレート１の後面を位置合わせしながら貼り合わせ、接着剤１１ａを加熱硬化して接合し、液体吐出ヘッド１００を作製する。
そして、ステップＳ３４では、ステップＳ３２で作製された配線基板３が貼り合わされたヘッドチップ２の前面に、接着剤１１ａを塗布し、ステップＳ３３で作製されたノズルプレート１の後面を位置合わせしながら貼り合わせ、接着剤１１ａを加熱硬化して接合し、液体吐出ヘッド１００を作製する。
【0299】
なお、ノズルプレートとヘッドチップを接着するために用いる接着剤１１ａについては前述のとおりである。
【0300】
＜ステップＳ３５：プラズマ処理工程＞
そして、ステップＳ３５では、プラズマ処理装置を用いて、ステップＳ３４で作製された第１の部材としての液体吐出ヘッド１００の配線基板３の後面側から、例えば反応性イオンエッチング（ＲＩＥ（Reactive Ion Etching）モード）によるプラズマ処理を実施する。
そして、ステップＳ３５では、プラズマ処理装置を用いて、ステップＳ３４で作製された第１の部材としての液体吐出ヘッド１００の配線基板３の後面側から、例えば反応性イオンエッチング（ＲＩＥ（Reactive Ion Etching）モード）によるプラズマ処理を実施する。
【0301】
なお、反応性イオンエッチングのプラズマ処理であることにより指向性の高いプラズマ処理を実施できる。
【0302】
なお、プラズマ処理の方法にはいくつかの形態（モード）があるが、本発明の液体吐出ヘッドの製造において、これに限定されることはない。
また、このようなプラズマ処理工程を介さず、前述のステップ３４から直接次のステップＳ３６に移行してもよい。
また、このようなプラズマ処理工程を介さず、前述のステップ３４から直接次のステップＳ３６に移行してもよい。
【0303】
＜ステップＳ３６：フレキシブル基板貼付、接合工程＞
そして、ステップＳ３６では、ステップＳ３５でプラズマ処理された液体吐出ヘッド１００の配線基板３の前面の配線電極３３Ａ、３３Ｂと、第３の部材としてのフレキシブル基板４の配線電極とを位置合わせして、ＡＦＣ（Anisotropic Conductive Film：異方性導電フィルム）を用いた加熱圧着接合を実施し、また配線基板３の後面に第２の部材としての液体マニホールド（図示略）を接合して液体吐出ヘッド１００を作製し、液体吐出ヘッド製造処理を終了する。
そして、ステップＳ３６では、ステップＳ３５でプラズマ処理された液体吐出ヘッド１００の配線基板３の前面の配線電極３３Ａ、３３Ｂと、第３の部材としてのフレキシブル基板４の配線電極とを位置合わせして、ＡＦＣ（Anisotropic Conductive Film：異方性導電フィルム）を用いた加熱圧着接合を実施し、また配線基板３の後面に第２の部材としての液体マニホールド（図示略）を接合して液体吐出ヘッド１００を作製し、液体吐出ヘッド製造処理を終了する。
【実施例0304】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」又は「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」又は「質量％」を表す。
【0305】
Ａ．ノズルプレートの作製
（Ａ．１）ノズルプレート〔１〕の作製
（Ａ．１．１）基材の準備
基材として、ポリイミドフィルム（宇部興産（株）製、ユーピレックス）、フィルム厚７５μｍのものを準備した。
（Ａ．１）ノズルプレート〔１〕の作製
（Ａ．１．１）基材の準備
基材として、ポリイミドフィルム（宇部興産（株）製、ユーピレックス）、フィルム厚７５μｍのものを準備した。
【0306】
（Ａ．１．２）プライマー層の形成
プライマー層の材料として、テトラメチルシランのみのガスを用いてプラズマＣＤＶ法により上記の基材上にプライマー層を形成した。
プライマー層の材料として、テトラメチルシランのみのガスを用いてプラズマＣＤＶ法により上記の基材上にプライマー層を形成した。
【0307】
（Ａ．１．３）撥液膜の形成
ＵＶオゾン装置（テクノビジョン社）で６００ｓｅｃクリーニングを行った後、ｎｏｖｅｃ７１００（スリーエム株式会社製）中に撥水材（オプツールＤＳＸ、ダイキン工業株式会社製）を０．１％添加した溶液を、抵抗加熱の蒸着方式で膜厚が２０ｎｍとなるよう成膜した。
ＵＶオゾン装置（テクノビジョン社）で６００ｓｅｃクリーニングを行った後、ｎｏｖｅｃ７１００（スリーエム株式会社製）中に撥水材（オプツールＤＳＸ、ダイキン工業株式会社製）を０．１％添加した溶液を、抵抗加熱の蒸着方式で膜厚が２０ｎｍとなるよう成膜した。
【0308】
（Ａ．１．４）保護シート貼付
撥液膜〔１〕の液体吐出側の表面に、保護シートを貼付した。
保護シートとしては、厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。
撥液膜〔１〕の液体吐出側の表面に、保護シートを貼付した。
保護シートとしては、厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。
【0309】
（Ａ．１．５）ノズル加工
直径が４０μｍ、テーパー角度３０度、ノズル貫通孔５０μｍのノズル２５６個を４列有するノズルプレートを下記の方法にて作成した。
直径が４０μｍ、テーパー角度３０度、ノズル貫通孔５０μｍのノズル２５６個を４列有するノズルプレートを下記の方法にて作成した。
【0310】
フォトマスクを用いてマスクアライナーで露光した後、現像及びエッチング処理を行って直径２３μｍの穴を１４１μｍ間隔で１列に５１２個並んでおり、そのノズル列が２列存在する厚さ２００μｍのノズル孔を形成した。
【0311】
（Ａ．１．６）保護シート剥離
その後、保護シートを剥離し、ノズルプレート〔１〕を作製した。
その後、保護シートを剥離し、ノズルプレート〔１〕を作製した。
【0312】
（Ａ．２）ノズルプレート〔２〕～〔１８〕の作製
ノズルプレート〔２〕～〔１８〕に関しては、基材の材料、撥液膜の形成方法を表III～Vのように変更したこと以外は、ノズルプレート〔１〕と同様にして作製した。
ノズルプレート〔２〕～〔１８〕に関しては、基材の材料、撥液膜の形成方法を表III～Vのように変更したこと以外は、ノズルプレート〔１〕と同様にして作製した。
【0313】
ただし、ノズルプレート〔６〕、〔８〕及び〔９〕に関してはノズルプレート作製後、裏面側へのプラズマ処理により、裏面撥液膜を除去する作業（以下、「裏面リムーブ」ともいう。）を施した。
【0314】
Ｂ．改良接着剤の調製
（Ｂ．１）ノズルプレート〔１〕とヘッドチップの貼付用の接着剤の調製
表Iに記載の主剤及び硬化剤を含有した接着剤〔Ａ〕に表IIに記載の固形粒子〔１〕を当該接着剤〔Ａ〕全体に対し１．０体積％となるように添加し、分散した。
（Ｂ．１）ノズルプレート〔１〕とヘッドチップの貼付用の接着剤の調製
表Iに記載の主剤及び硬化剤を含有した接着剤〔Ａ〕に表IIに記載の固形粒子〔１〕を当該接着剤〔Ａ〕全体に対し１．０体積％となるように添加し、分散した。
【0315】
なお、以下上記のように調整された「ノズルプレート〔１〕とヘッドチップの貼付用の接着剤」を「改良接着剤〔１〕」とする。
【0316】
なお、上記の改良接着剤〔１〕及び後述する改良接着剤〔２〕～〔１８〕は、前述の接着剤１１ａに相当するものである。
【0317】
【表1】
【0318】
なお混合は、表Iに記載の接着剤〔Ａ〕の主剤及び硬化剤の比重を１．２とし、体積％から主剤及び硬化剤と表IIに記載の固形粒子〔１〕との質量比率を求めて、秤量により両者を混合し、改良接着剤〔１〕を調製した。
【0319】
上記の固形粒子〔１〕としては、体積平均粒径１．００μｍの「ハイプレシカＳＳ Ｎ３Ｎ」（シリカ球形粒子；ＣＶ値２．４９、比重２．０、宇部エクシモ社製）を使用した。
【0320】
なお、固形粒子〔１〕の体積平均粒径及びＣＶ値の測定は下記の方法で行い、測定個数は５００００個とした。
【0321】
（固形粒子の体積平均粒径及びＣＶ値の測定）
マルチサイザーIII（ベックマンコールター製）コールターカウンターと標準粒子１５μｍ（ベックマンコールター製）を用いて、粒径分布を測定し、体積平均粒径及びＣＶ値を求めた。
マルチサイザーIII（ベックマンコールター製）コールターカウンターと標準粒子１５μｍ（ベックマンコールター製）を用いて、粒径分布を測定し、体積平均粒径及びＣＶ値を求めた。
【0322】
（Ｂ．２）ノズルプレート〔２〕～〔１８〕とヘッドチップの貼付用の接着剤の調製
ノズルプレート〔２〕～〔１８〕とヘッドチップの貼付用の接着剤（以下、「改良接着剤〔２〕～〔１８〕」とする。）については、表Iに記載の主剤及び硬化剤を含有した接着剤〔Ａ〕～〔Ｃ〕のいずれかに表III～Vに記載の固形粒子〔１〕～〔５〕と接着剤〔Ａ〕～〔Ｃ〕のいずれかの組合せで、接着剤全体に対し２体積％となるように添加し、分散した。
ノズルプレート〔２〕～〔１８〕とヘッドチップの貼付用の接着剤（以下、「改良接着剤〔２〕～〔１８〕」とする。）については、表Iに記載の主剤及び硬化剤を含有した接着剤〔Ａ〕～〔Ｃ〕のいずれかに表III～Vに記載の固形粒子〔１〕～〔５〕と接着剤〔Ａ〕～〔Ｃ〕のいずれかの組合せで、接着剤全体に対し２体積％となるように添加し、分散した。
【0323】
なお混合は、主剤及び硬化剤の比重を１．２とし、体積％から主剤及び硬化剤と固形粒子との質量比率を求めて、秤量により両者を混合し、改良接着剤〔２〕～〔１８〕を調製した。
【0324】
なお、表III～V中の固形粒子〔１〕～〔５〕についての詳細は、下記の表IIに示す。
【0325】
【表2】
【0326】
Ｃ．ヘッドチップと配線基板の貼付
図９の液体吐出ヘッド製造処理のフローチャートに従ってヘッドチップ〔１〕を作製した。なお、当該ヘッドチップ〔１〕は液体吐出ヘッド〔１〕～〔１８〕の全てに共通して用いた。
図９の液体吐出ヘッド製造処理のフローチャートに従ってヘッドチップ〔１〕を作製した。なお、当該ヘッドチップ〔１〕は液体吐出ヘッド〔１〕～〔１８〕の全てに共通して用いた。
【0327】
駆動壁２３の材料として圧電素子（ＰＺＴ：チタン酸ジルコン酸鉛、厚さ７００μｍ、キュリー温度２１０℃）を用いて、せん断モード型のヘッドチップ〔１〕を作製した。
【0328】
このとき、ヘッドチップ〔１〕の後面に、当該後面に配置される駆動流路２１Ａ、２２Ａ、ダミー流路２２Ａ、２２Ｂを介して、内部の駆動電極２４に電気的に接続する接続電極２５Ａ、２５Ｂが形成されるようにした。
【0329】
透明なガラス製などの基板に、ヘッドチップ〔１〕の駆動流路２１Ａ、２１Ｂに対応する位置のみに液体流路孔としての貫通穴３２Ａ、３２Ｂをブラスト加工によって形成するとともに、ヘッドチップ〔１〕の接続電極２５Ａ、２５Ｂに１対１で対応するアルミの配線電極３３Ａ、３３Ｂを形成して、配線基板３を作製し、フッ素系化合物であるフッ素系樹脂としての信越化学工業社製「ＳＩＦＥＬ２６１４」を介して均等な加圧接着によりヘッドチップ〔１〕に貼り合せた。
【0330】
このとき、配線基板３にテーパー部３２１が形成され、貫通穴３２Ａ、３２Ｂの開口面積が、必ず駆動流路２１Ａ、２１Ｂの開口面積より狭くなるように形成される。
【0331】
Ｄ．ノズルプレートとヘッドチップの接着
（Ｄ．１）ノズルプレート〔１〕とヘッドチップ〔１〕の接着
上記のように作製したヘッドチップ〔１〕の吐出口面に、転写シートから表IIIに記載の改良接着剤〔１〕を１．５μｍの厚さで転写塗布した。
（Ｄ．１）ノズルプレート〔１〕とヘッドチップ〔１〕の接着
上記のように作製したヘッドチップ〔１〕の吐出口面に、転写シートから表IIIに記載の改良接着剤〔１〕を１．５μｍの厚さで転写塗布した。
【0332】
転写によりヘッドチップの吐出口面に塗布される改良接着剤〔１〕の厚さについては、転写シートへの当該改良接着剤〔１〕の塗布量をバーコータによる塗布でコントロールすることより調整し、当該改良接着剤〔１〕が含有する固形粒子〔１〕の体積平均粒径以上になるように設定した。
【0333】
次いで、光学顕微鏡で観察しながら、ヘッドチップ〔１〕の改良接着剤〔１〕を塗布した吐出口面に、ノズルプレート〔１〕の後面を位置合わせしながら貼り合わせた。
【0334】
次いで、１００℃にて１時間加熱することにより改良接着剤〔１〕を硬化させた。
【0335】
これによりノズルプレート〔１〕とヘッドチップ〔１〕との間に、固形粒子〔１〕の体積平均粒径以上の厚さを有する接着層が形成された。
【0336】
その後、ピンセットにてヘッドチップ〔１〕からノズルプレート〔１〕を剥がし、前述の方法により上記固形粒子〔１〕の接着層全体に対する体積存在比率を測定したところ、１．００ｖｏｌ％であった。
【0337】
ノズルプレート〔１〕が備える基材の接着層側の表面のフッ素元素の原子濃度を測定したところ、５８ａｔｍ％であった。
また、撥液膜側のフッ素元素の原子濃度を測定したところ、２９ａｔｍ％であった。
また、撥液膜側のフッ素元素の原子濃度を測定したところ、２９ａｔｍ％であった。
【0338】
また、測定の際に用いたＸ線光電子分光分析装置（アルバック・ファイ株式会社製）、６０μｍごとに測定する装置であり、接着層表面におけるフッ素元素の存在範囲の範囲は２０であると判断した。
【0339】
（Ｄ．２）ノズルプレート〔２〕～〔１８〕とヘッドチップ〔１〕の接着
表III～Vに記載のように改良接着剤〔２〕～〔１８〕の塗布、厚さ等について設定した。
表III～Vに記載のように改良接着剤〔２〕～〔１８〕の塗布、厚さ等について設定した。
【0340】
ヘッドチップの吐出口面へのノズルプレートの接合や及び硬化条件等についてはノズルプレート〔１〕とヘッドチップ〔１〕の接着と同様とした。
【0341】
これによりノズルプレート〔２〕～〔１８〕とヘッドチップ〔１〕との間に、それらを接着する接着剤が含有する固形粒子の体積平均粒径以上の厚さを有する接着層が形成された。
【0342】
改良接着剤〔２〕～〔１８〕が含有する各固形粒子の接着層全体に対する体積存在比率、ノズルプレート〔２〕～〔１８〕が備える基材の接着層側の表面のフッ素元素の原子濃度及び撥液膜側のフッ素元素の原子濃度の測定はノズルプレート〔１〕と同様に行った。測定結果は表III～Vのとおりである。
【0343】
Ｅ．フレキシブル基板貼付、接合工程（液体吐出ヘッド１～１８の作製）
上記のノズルプレート〔１〕～〔１８〕とヘッドチップ〔１〕を接着したまま、両者を剥がさないものを準備した。
上記のノズルプレート〔１〕～〔１８〕とヘッドチップ〔１〕を接着したまま、両者を剥がさないものを準備した。
【0344】
上記のそれぞれの配線基板の前面の配線電極と、フレキシブル基板の配線電極とを位置合わせして、異方性導電フィルム（ＡＦＣ）を用いた加熱圧着接合を実施し、また配線基板の後面に液体マニホールドを接合して液体吐出ヘッド１～１８を作製した。
【0345】
なお、液体吐出ヘッド１～１８の作製において、各ノズルプレートに対応する撥液膜、基材、接着層及び加工方法については表III～Vのとおりである。
また、下記の評価１～５における「接着層」とは前述の「接着層１１」であり、「接着剤」とは前述の「接着剤１１ａ」を指すものとする。
また、下記の評価１～５における「接着層」とは前述の「接着層１１」であり、「接着剤」とは前述の「接着剤１１ａ」を指すものとする。
【0346】
［ 評価１：接着剤はみ出し ］
〔評価方法〕
各ノズルプレートを表III～Vの接着剤の組合せで１００℃にて１時間で硬化させることによってヘッドチップに接着し、液体吐出ヘッド１～１８を作製後、ノズル穴近傍又は基材端部への不要な接着剤のはみ出し（以下、「接着剤のノズルプレート表面へのはみ出し」ともいう。）を目視により観察し、以下の評価基準にて評価した。
〔評価方法〕
各ノズルプレートを表III～Vの接着剤の組合せで１００℃にて１時間で硬化させることによってヘッドチップに接着し、液体吐出ヘッド１～１８を作製後、ノズル穴近傍又は基材端部への不要な接着剤のはみ出し（以下、「接着剤のノズルプレート表面へのはみ出し」ともいう。）を目視により観察し、以下の評価基準にて評価した。
【0347】
なお、液体吐出ヘッドについては、同一のものについて１０個ずつ作製した。
評価結果は表III～Vに示した。また、評価基準については、Ａ及びＢを実用上問題ないものとし、Ｃを実用上問題あるとした。
評価結果は表III～Vに示した。また、評価基準については、Ａ及びＢを実用上問題ないものとし、Ｃを実用上問題あるとした。
【0348】
〔評価基準〕
Ａ ノズルプレート１０個中、０～１個において接着剤のノズルプレート表面へのはみ出しが観察された。
Ｂ ノズルプレート１０個中、２～３個において接着剤のノズルプレート表面へのはみ出しが観察された。
Ｃ ノズルプレート１０個中、４個以上接着剤のノズルプレート表面へのはみ出しが観察された。
Ａ ノズルプレート１０個中、０～１個において接着剤のノズルプレート表面へのはみ出しが観察された。
Ｂ ノズルプレート１０個中、２～３個において接着剤のノズルプレート表面へのはみ出しが観察された。
Ｃ ノズルプレート１０個中、４個以上接着剤のノズルプレート表面へのはみ出しが観察された。
【0349】
［ 評価２：接着層空隙 ］
〔評価方法〕
液体吐出ヘッド１～１８について、当該液体吐出ヘッド１～１８が備えるヘッドチップをノズルプレート側から赤外線顕微鏡により観察し、以下の評価基準で評価した。
〔評価方法〕
液体吐出ヘッド１～１８について、当該液体吐出ヘッド１～１８が備えるヘッドチップをノズルプレート側から赤外線顕微鏡により観察し、以下の評価基準で評価した。
【0350】
なお、液体吐出ヘッドについては、同一のものについて１０個ずつ作製した。
評価結果は表III～Vに示した。また、評価基準については、Ａを実用上問題ないものとし、Ｃを実用上問題あるとした。
評価結果は表III～Vに示した。また、評価基準については、Ａを実用上問題ないものとし、Ｃを実用上問題あるとした。
【0351】
〔評価基準〕
Ａ ヘッドチップ１０個中、０～１個のヘッドチップの吐出口面で、隣り合う流路間又は流路と外部の間を貫通する空隙が存在した。
Ｃ ヘッドチップ１０個中、２個以上のヘッドチップの吐出口面で、隣り合う流路間又は流路と外部の間を貫通する空隙が存在した。
Ａ ヘッドチップ１０個中、０～１個のヘッドチップの吐出口面で、隣り合う流路間又は流路と外部の間を貫通する空隙が存在した。
Ｃ ヘッドチップ１０個中、２個以上のヘッドチップの吐出口面で、隣り合う流路間又は流路と外部の間を貫通する空隙が存在した。
【0352】
［ 評価３：ノズル詰まり ］
〔評価方法〕
液体吐出ヘッド１～１８について、酢酸ブトキシエチルとシクロヘキサノンの７０：３０混合溶液からなるインクを導入し、ヘッドに駆動回路よりパルス信号を送ることによりインクを射出して、ノズル間の射出状態を観察する射出試験を行った。
〔評価方法〕
液体吐出ヘッド１～１８について、酢酸ブトキシエチルとシクロヘキサノンの７０：３０混合溶液からなるインクを導入し、ヘッドに駆動回路よりパルス信号を送ることによりインクを射出して、ノズル間の射出状態を観察する射出試験を行った。
【0353】
上記の射出試験において、各ノズルから射出されるインク滴をビデオカメラで観察した。
射出されないノズルがある場合、射出試験の終了後、顕微鏡で当該ノズルを観察し、ノズルに接着剤が流れ込んでいないかを観察し、接着剤の流れ込みによる不吐出が発生したノズルのある液体吐出ヘッドの数をもとに以下の評価基準で評価した。
射出されないノズルがある場合、射出試験の終了後、顕微鏡で当該ノズルを観察し、ノズルに接着剤が流れ込んでいないかを観察し、接着剤の流れ込みによる不吐出が発生したノズルのある液体吐出ヘッドの数をもとに以下の評価基準で評価した。
【0354】
なお、液体吐出ヘッドについては、同一のものについて１０個ずつ作製した。
評価結果は表III～Vに示した。また、Ａ及びＢを実用上問題ないものとし、Ｃを実用上問題あるとした。
評価結果は表III～Vに示した。また、Ａ及びＢを実用上問題ないものとし、Ｃを実用上問題あるとした。
【0355】
〔評価基準〕
Ａ：１０個の液体吐出ヘッドにおいて、接着剤の流れ込みによる不吐出が発生したノズルがない。
Ｂ：液体吐出ヘッド１０個中、１～３個において、接着剤の流れ込みによる不吐出が発生したノズルがある。
Ｃ：液体吐出ヘッド１０個中、４個以上において、接着剤の流れ込みによる不吐出が発生したノズルがある。
Ａ：１０個の液体吐出ヘッドにおいて、接着剤の流れ込みによる不吐出が発生したノズルがない。
Ｂ：液体吐出ヘッド１０個中、１～３個において、接着剤の流れ込みによる不吐出が発生したノズルがある。
Ｃ：液体吐出ヘッド１０個中、４個以上において、接着剤の流れ込みによる不吐出が発生したノズルがある。
【0356】
［ 評価４：インク漏れ ］
〔評価方法〕
上記の射出試験を行った際に、ヘッドチップ端部からのインク漏れをビデオカメラで観察し、以下の評価基準で評価した。
〔評価方法〕
上記の射出試験を行った際に、ヘッドチップ端部からのインク漏れをビデオカメラで観察し、以下の評価基準で評価した。
【0357】
なお、液体吐出ヘッドについては、同一のものについて１０個ずつ作製した。
評価結果は表III～Vに示した。また、評価基準については、Ａを実用上問題ないものとし、Ｃを実用上問題あるとした。
評価結果は表III～Vに示した。また、評価基準については、Ａを実用上問題ないものとし、Ｃを実用上問題あるとした。
【0358】
〔評価基準〕
Ａ 液体吐出ヘッド１０個において、ヘッドチップ端部からのインク漏れが発生したヘッドがない。
Ｃ 液体吐出ヘッド１０個において、ヘッドチップ端部からのインク漏れが発生したヘッドが１個以上ある。
Ａ 液体吐出ヘッド１０個において、ヘッドチップ端部からのインク漏れが発生したヘッドがない。
Ｃ 液体吐出ヘッド１０個において、ヘッドチップ端部からのインク漏れが発生したヘッドが１個以上ある。
【0359】
［ 評価５：射出安定性 ］
〔評価方法〕
液体吐出ヘッド１～１８について、酢酸ブトキシエチルとシクロヘキサノンの７０：３０混合溶液からなるインクを導入し、ヘッドに駆動回路よりパルス信号を送ることによりインクを射出して、ノズル間の射出状態を観察する射出試験を行った。
〔評価方法〕
液体吐出ヘッド１～１８について、酢酸ブトキシエチルとシクロヘキサノンの７０：３０混合溶液からなるインクを導入し、ヘッドに駆動回路よりパルス信号を送ることによりインクを射出して、ノズル間の射出状態を観察する射出試験を行った。
【0360】
上記の射出試験において、各ノズルから射出されるインク滴をビデオカメラで観察する際にインク曲がりによる射出不良が発生するかどうかを観察し、以下の評価基準で評価した。
【0361】
なお、液体吐出ヘッドについては、同一のものについて１０個ずつ作製した。
評価結果は表III～Vに示した。また、評価基準については、Ａを実用上問題ないものとし、Ｃを実用上問題あるとした。
評価結果は表III～Vに示した。また、評価基準については、Ａを実用上問題ないものとし、Ｃを実用上問題あるとした。
【0362】
〔評価基準〕
Ａ 液体吐出ヘッド１０個中、０～３個において、インク曲がりによる不良が発生した。
Ｃ 液体吐出ヘッド１０個中、インク曲がりによる不良が発生したヘッドが４個以上あった。
Ａ 液体吐出ヘッド１０個中、０～３個において、インク曲がりによる不良が発生した。
Ｃ 液体吐出ヘッド１０個中、インク曲がりによる不良が発生したヘッドが４個以上あった。
【0363】
【表3】
【0364】
【表4】
【0365】
【表5】
【0366】
なお、表III～V中「ＰＩ」はポリイミド、「Ｓｉ」はシリカ、「ＳＵＳ」はステンレス鋼を表す。
以上、表III～Vから明らかなように、実施例では比較例と比べて不要な接着剤の流れ込みがなく、液体射出性に優れていることが分かる。
以上、表III～Vから明らかなように、実施例では比較例と比べて不要な接着剤の流れ込みがなく、液体射出性に優れていることが分かる。
【符号の説明】
【0367】
１、ＮＡ、ＮＢ、ＮＣ ノズルプレート
２ ヘッドチップ
２ａ ヘッドチップの前面
２ｂ ヘッドチップの後面、駆動流路の後面
３ 配線基板
３ａ 配線基板の端部
４ フレキシブル基板（ＦＰＣ）
１１ ノズルプレートとヘッドチップとの間の接着層
１２ 基材
１３ 撥液膜
１３ａ、１３ｃ プライマー層
１３ｂ、１３ｄ 撥液膜の上層
１４ ノズル孔
１５ 保護シート
１５ａ 基材シート
１５ｂ 粘着層
２１Ａ、２１Ｂ 駆動流路
２２Ａ、２２Ｂ ダミー流路
２３ 一対の駆動電極に挟まれた駆動壁
２４ 駆動電極
２５Ａ、２５Ｂ 接続電極
３１ 接合領域
３２Ａ、３２Ｂ 貫通穴
３３Ａ、３３Ｂ 配線電極
３４ 配線基板とヘッドチップとの間に形成される接着層
１００ 液体吐出ヘッド
２ ヘッドチップ
２ａ ヘッドチップの前面
２ｂ ヘッドチップの後面、駆動流路の後面
３ 配線基板
３ａ 配線基板の端部
４ フレキシブル基板（ＦＰＣ）
１１ ノズルプレートとヘッドチップとの間の接着層
１２ 基材
１３ 撥液膜
１３ａ、１３ｃ プライマー層
１３ｂ、１３ｄ 撥液膜の上層
１４ ノズル孔
１５ 保護シート
１５ａ 基材シート
１５ｂ 粘着層
２１Ａ、２１Ｂ 駆動流路
２２Ａ、２２Ｂ ダミー流路
２３ 一対の駆動電極に挟まれた駆動壁
２４ 駆動電極
２５Ａ、２５Ｂ 接続電極
３１ 接合領域
３２Ａ、３２Ｂ 貫通穴
３３Ａ、３３Ｂ 配線電極
３４ 配線基板とヘッドチップとの間に形成される接着層
１００ 液体吐出ヘッド
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11A】
【図11B】
【図11C】
【図11D】
【図11E】
【図11F】
【図12】
【図13A】
【図13B】
【図13C】
【図14】