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特開2024-93111光学積層体、表示装置、ディスプレイ、光学積層体の製造方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024093111
(43)【公開日】2024-07-09
(54)【発明の名称】光学積層体、表示装置、ディスプレイ、光学積層体の製造方法
(51)【国際特許分類】
G02B 1/115 20150101AFI20240702BHJP
G02B 1/14 20150101ALI20240702BHJP
C23C 14/10 20060101ALI20240702BHJP
C23C 14/06 20060101ALI20240702BHJP
C23C 14/08 20060101ALI20240702BHJP
C23C 14/34 20060101ALI20240702BHJP
【ＦＩ】
G02B1/115
G02B1/14
C23C14/10
C23C14/06 A
C23C14/08 E
C23C14/08 J
C23C14/34 Z
【審査請求】未請求
【請求項の数】13
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022209277
(22)【出願日】2022-12-27
(71)【出願人】
【識別番号】000108410
【氏名又は名称】デクセリアルズ株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100165179
【弁理士】
【氏名又は名称】田▲崎▼ 聡
(74)【代理人】
【識別番号】100215935
【弁理士】
【氏名又は名称】阿部 茂輝
(74)【代理人】
【識別番号】100141999
【弁理士】
【氏名又は名称】松本 敬一郎
(74)【代理人】
【識別番号】100142424
【弁理士】
【氏名又は名称】細川 文広
(74)【代理人】
【識別番号】100114937
【弁理士】
【氏名又は名称】松本 裕幸
(72)【発明者】
【氏名】渡辺 崚
(72)【発明者】
【氏名】石森 拓
(72)【発明者】
【氏名】徳竹 房重
(72)【発明者】
【氏名】渡辺 廉
(72)【発明者】
【氏名】豊嶋 匡明
(72)【発明者】
【氏名】加藤 裕司
(72)【発明者】
【氏名】鈴木 嗣人
【テーマコード（参考）】
2K009
4K029
【Ｆターム（参考）】
2K009AA02
2K009AA15
2K009BB28
2K009CC02
2K009CC03
2K009CC09
2K009CC24
2K009DD04
4K029AA11
4K029BA43
4K029BA46
4K029BA48
4K029BA60
4K029CA05
4K029CA06
4K029DC03
4K029DC05
4K029DC12
4K029EA01
4K029EA03
4K029EA04
4K029EA05
(57)【要約】
【課題】ディスプレイ消灯時の黒色度を向上させ、また、汎用的な静電容量式のタッチパネルを備えたディスプレイに適用した場合にも、その動作を阻害しない反射防止フィルムとして有用な光学積層体、及び当該光学積層体を備えた表示装置、並びに光学積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】この光学積層体は、透明基材と、第一の高屈折率層と、第一の低屈折率層と、第二の高屈折率層と、第二の低屈折率層とをこの順に備える光学積層体であって、さらに前記第一の高屈折率層に接する位置と、前記第二の高屈折率層に接する位置と、の少なくとも一方に透過率調整層を備え、シート抵抗が１０８Ω／□以上である。
【選択図】図１
【解決手段】この光学積層体は、透明基材と、第一の高屈折率層と、第一の低屈折率層と、第二の高屈折率層と、第二の低屈折率層とをこの順に備える光学積層体であって、さらに前記第一の高屈折率層に接する位置と、前記第二の高屈折率層に接する位置と、の少なくとも一方に透過率調整層を備え、シート抵抗が１０８Ω／□以上である。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
透明基材と、第一の高屈折率層と、第一の低屈折率層と、第二の高屈折率層と、第二の低屈折率層と、をこの順に備える光学積層体であって、
さらに前記第一の高屈折率層に接する位置と、前記第二の高屈折率層に接する位置と、の少なくとも一方に透過率調整層を備え、
シート抵抗が１０８Ω／□以上である、光学積層体。
さらに前記第一の高屈折率層に接する位置と、前記第二の高屈折率層に接する位置と、の少なくとも一方に透過率調整層を備え、
シート抵抗が１０８Ω／□以上である、光学積層体。
【請求項2】
視感反射率が１％以下であり、視感透過率が３０～８５％である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項3】
前記透過率調整層が、前記第一の低屈折率層と、前記第二の高屈折率層と、に挟持されている、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項4】
前記透過率調整層がチタン化合物からなり、
Ｘ線光電分光法のナロースペクトル測定に於ける、前記透過率調整層のＴｉＮとＴｉＯの合計値が５０％以下である、請求項１に記載の光学積層体。
Ｘ線光電分光法のナロースペクトル測定に於ける、前記透過率調整層のＴｉＮとＴｉＯの合計値が５０％以下である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項5】
Ｘ線光電分光法のナロースペクトル測定に於ける、前記透過率調整層のＴｉＯの値が２０％以下である、請求項４に記載の光学積層体。
【請求項6】
前記第一の高屈折率層及び前記第二の高屈折率層は、Ｎｂ２Ｏ５で構成され、
前記第一の低屈折率層及び前記第二の低屈折率層は、ＳｉＯ２で構成されている、請求項１に記載の光学積層体。
前記第一の低屈折率層及び前記第二の低屈折率層は、ＳｉＯ２で構成されている、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項7】
前記透明基材に接するハードコート層をさらに備える、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項8】
前記第一の高屈折率層の前記透明基材に近い側の面に接する密着層をさらに備える、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項9】
請求項１～８のいずれか一項に記載の光学積層体を備えた、表示装置。
【請求項10】
請求項９に記載の表示装置を備え、タッチパネルが搭載されている、ディスプレイ。
【請求項11】
高屈折率層と、低屈折率層と、前記高屈折率層と接する透過率調整層と、を備える光学積層体の製造方法であって、
金属ターゲットを用いて、不活性ガスと酸素と窒素の混合ガス下にてスパッタリングを行なう、透過率調整層形成工程を有する、光学積層体の製造方法。
金属ターゲットを用いて、不活性ガスと酸素と窒素の混合ガス下にてスパッタリングを行なう、透過率調整層形成工程を有する、光学積層体の製造方法。
【請求項12】
前記金属ターゲットとして、チタン、ニオブ、タンタル、クロム、アルミニウム、スズ、マンガン、モリブデン、タングステン、鉄、及びゲルマニウムからなる群から選択されるいずれかの金属又は合金を用いる、請求項１１に記載の光学積層体の製造方法。
【請求項13】
前記透過率調整層形成工程において、不活性ガスと窒素ガスと酸素ガスの合計流量に対する酸素ガスの割合は１．５％以上８．０％以下である、請求項１１に記載の光学積層体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光学積層体、およびこれを備えた表示装置、ディスプレイ、光学積層体の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
フラットパネルディスプレイ等に於いて、表面の反射防止用に光学積層体が設けられる。反射防止用の光学積層体にあっては、透明な基材に、金属酸化物や金属窒化物などの材料からなる高屈折率層と、高屈折率層より低屈折率の材料を用いた低屈折率層を相互に積層した多層膜を備えたものが知られている。
【0003】
ところで、フラットパネルディスプレイの用途として、自動車などの輸送機器のメーターパネルやセンターコンソールに設けられるディスプレイが挙げられる。この用途では、ディスプレイ（表示部）と、ディスプレイの周囲に設けられる額縁部との間で色相の統一感が求められることがある。額縁部の色としては黒が多く用いられ、消灯状態にあるディスプレイも黒いほうが好まれる。この時、額縁部とディスプレイの色の差は小さいほうが好ましい。
【0004】
消灯時のディスプレイの色相を黒に近づけるためには、ディスプレイの透過率を敢えて低下させる方法がある。光学基材に於いて、透過率を低下させるために各種の方法が提案されている（例えば、特許文献１、特許文献２）。
【0005】
特許文献１には、Ｍｏ及びＷからなるＡ群から選択される少なくとも１つの酸化物と、Ｓｉ、Ｎｂ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｔａ、Ａｌ、Ｓｎ及びＩｎからなるＢ群から選択される少なくとも１つの酸化物、の混合酸化物を透過率制御膜として積層させた反射防止膜が記載されている。
特許文献２には、窒化チタン膜を透過率制御膜として積層させた反射防止膜が報告されている。
特許文献２には、窒化チタン膜を透過率制御膜として積層させた反射防止膜が報告されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【特許文献1】特許第７０５２３６１号公報
【特許文献2】特開平１０－１８６１０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
しかしながら、特許文献１のような反射防止膜は、透過率を調整するために、２種類以上の金属元素の化合物からなる層を備えているが、複数種類の金属元素を含有するため、コスト、製造プロセス面で不利である。
【0008】
特許文献２のように窒化チタンからなる層を備える光学基材を特に広く用いられている静電容量型のタッチパネルと組み合わされたディスプレイに用いると、その導電性により接触した際の静電容量の変化が保存されず、タッチパネルが動作しなくなってしまう。
【0009】
本発明は、上記事情に鑑みてなされた発明であり、ディスプレイ消灯時の黒色度を向上させ、また、汎用的な静電容量式のタッチパネルを備えたディスプレイに適用した場合にも、その動作を阻害しない反射防止フィルムとして有用な光学積層体、及び当該光学積層体を備えた表示装置、ディスプレイ、並びに該光学積層体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0010】
本発明は、上記課題を解決するために、以下の手段を提供する。
【0011】
（１）本発明の一態様に係る光学積層体は、透明基材と、第一の高屈折率層と、第一の低屈折率層と、第二の高屈折率層と、第二の低屈折率層とをこの順に備える光学積層体であって、さらに前記第一の高屈折率層に接する位置と、前記第二の高屈折率層に接する位置と、の少なくとも一方に透過率調整層を備え、シート抵抗が１０８Ω／□以上である。
【0012】
（２）上記（１）の光学積層体は、視感反射率が１％以下であり、視感透過率が３０～８５％であってもよい。
【0013】
（３）上記（１）又は（２）の光学積層体において、前記透過率調整層が、前記第一の低屈折率層と、前記第二の高屈折率層と、に挟持されていてもよい。
【0014】
（４）上記（１）～（３）のいずれかに記載の光学積層体において、前記透過率調整層がチタン化合物からなり、Ｘ線光電分光法のナロースペクトル測定に於ける、前記透過率調整層のＴｉＮとＴｉＯの合計値が５０％以下であってもよい。
【0015】
（５）上記（１）～（４）のいずれかに記載の光学積層体において、Ｘ線光電分光法のナロースペクトル測定に於ける、前記透過率調整層のＴｉＯの値が２０％以下であってもよい。
【0016】
（６）上記（１）～（５）のいずれかに記載の光学積層体において、前記第一の高屈折率層及び前記第二の高屈折率層は、Ｎｂ２Ｏ５で構成され、前記第一の低屈折率層及び前記第二の低屈折率層は、ＳｉＯ２で構成されていてもよい。
【0017】
（７）上記（１）～（６）のいずれかに記載の光学積層体は、前記透明基材に接するハードコート層をさらに備えていてもよい。
【0018】
（８）上記（１）～（７）のいずれかに記載の光学積層体は、前記第一の高屈折率層の前記透明基材に近い側の面に接する密着層をさらに備えていてもよい。
【0019】
（９）本発明の一態様に係る表示装置は、上記態様に係る光学積層体を備える。
【0020】
（１０）本発明の一態様に係るディスプレイは、上記態様に係る表示装置を備え、タッチパネルが搭載されている。
【0021】
（１１）本発明の一態様に係る光学積層体の製造方法は、高屈折率層と、低屈折率層と、前記高屈折率層と接する透過率調整層と、を備える光学積層体の製造方法であって金属ターゲットを用いて、不活性ガスと酸素と窒素の混合ガス下にてスパッタリングを行なう、透過率調整層形成工程を有する。
【0022】
（１２）上記（１１）の光学積層体の製造方法は、前記金属ターゲットとして、チタン、ニオブ、タンタル、クロム、アルミニウム、スズ、マンガン、モリブデン、タングステン、鉄、及びゲルマニウムからなる群から選択されるいずれかの金属又は合金を用いてもよい。
【0023】
（１３）上記（１１）又は（１２）の光学積層体の製造方法は、前記透過率調整層形成工程において、不活性ガスと窒素ガスと酸素ガスの合計流量に対する酸素ガスの割合は１．５％以上８．０％以下であってもよい。
【発明の効果】
【0024】
本発明によれば、ディスプレイ消灯時の黒色度を向上させ、また、汎用的な静電容量式のタッチパネルを備えたディスプレイに適用した場合にも、その動作を阻害しない反射防止フィルムとして有用な光学積層体、及び当該光学積層体を備えた表示装置、ディスプレイ、並びに光学積層体の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0025】
【図1】本発明の一実施形態に係る光学積層体の構成の一例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0026】
以下、本実施形態について、図を適宜参照しながら詳細に説明する。以下の説明で用いる図面は、本発明の特徴をわかりやすくするために便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などは実際とは異なっていることがある。以下の説明において例示される材質、寸法等は一例であって、本発明はそれらに限定されるものではなく、その効果を奏する範囲で適宜変更して実施することが可能である。各図において、同様の構成は、同様の符号を付し、説明を省略する。
【0027】
［光学積層体］
図１は、本発明の一実施形態に係る光学積層体の断面図である。
図１に示される光学積層体１００は、透明基材１１、第一の高屈折率層１４ａ、第一の低屈折率層１５ａ、第二の高屈折率層１４ｂ、第二の低屈折率層１５ｂをこの順に備える光学積層体であって、さらに第一の高屈折率層１４ａに接する位置と、第二の高屈折率層１４ｂに接する位置と、の少なくとも一方に透過率調整層１６を備え、シート抵抗が１０８Ω／□以上である。本実施形態において、第一の高屈折率層１４ａ、第一の低屈折率層１５ａ、第二の高屈折率層１４ｂ、第二の低屈折率層１５ｂをこの順に備えるとは、それぞれの層が直接接するように積層される構成、及び、他の層を介して積層される構成のいずれも包含する。
図１は、本発明の一実施形態に係る光学積層体の断面図である。
図１に示される光学積層体１００は、透明基材１１、第一の高屈折率層１４ａ、第一の低屈折率層１５ａ、第二の高屈折率層１４ｂ、第二の低屈折率層１５ｂをこの順に備える光学積層体であって、さらに第一の高屈折率層１４ａに接する位置と、第二の高屈折率層１４ｂに接する位置と、の少なくとも一方に透過率調整層１６を備え、シート抵抗が１０８Ω／□以上である。本実施形態において、第一の高屈折率層１４ａ、第一の低屈折率層１５ａ、第二の高屈折率層１４ｂ、第二の低屈折率層１５ｂをこの順に備えるとは、それぞれの層が直接接するように積層される構成、及び、他の層を介して積層される構成のいずれも包含する。
【0028】
光学積層体１００において、透過率調整層１６は、第一の低屈折率層１５ａ及び第二の高屈折率層１４ｂに接する位置に配列されている。すなわち、透過率調整層１６は、第一の低屈折率層１５ａ及び第二の高屈折率層１４ｂに挟持されている。第一の低屈折率層１５ａ及び第二の高屈折率層１４ｂに透過率調整層１６が挟持されて光学積層体は、製造プロセスが簡便になるため好ましい。
【0029】
本実施形態では、第一の高屈折率層１４ａ及び第二の高屈折率層１４ｂを含む高屈折率層、第一の低屈折率層１５ａ及び第二の低屈折率層１５ｂを含む低屈折率層、並びに透過率調整層で構成された多層膜を光学機能多層膜２０と呼称する。本実施形態において、第一の高屈折率層１４ａ及び第二の高屈折率層１４ｂを区別しない場合、総称して高屈折率層１４という。同様に、第一の低屈折率層１５ａ及び第二の低屈折率層１５ｂを区別しない場合、総称して低屈折率層１５という。
【0030】
図２は、図１の光学積層体の変形例を示す断面図である。
図２に示される光学積層体１０１は、透明基材１１、ハードコート層１２、密着層１３、第一の高屈折率層１４ａ、第一の低屈折率層１５ａ、透過率調整層１６、第二の高屈折率層１４ｂ、第二の低屈折率層１５ｂ、及び防汚層１７が、この順に積層されてなるものである。
図２に示される光学積層体１０１は、透明基材１１、ハードコート層１２、密着層１３、第一の高屈折率層１４ａ、第一の低屈折率層１５ａ、透過率調整層１６、第二の高屈折率層１４ｂ、第二の低屈折率層１５ｂ、及び防汚層１７が、この順に積層されてなるものである。
【0031】
図３は、図１の光学積層体の変形例を示す断面図である。
図３に示される光学積層体１０２は、光学機能多層膜２０Ｂの配列が、光学積層体１０１の光学機能多層膜２０の配列と異なっている。光学機能多層膜２０Ｂにおいて、透過率調整層１６は、第二の高屈折率層１４ｂ及び第二の低屈折率層１５ｂに挟持されている。
図３に示される光学積層体１０２は、光学機能多層膜２０Ｂの配列が、光学積層体１０１の光学機能多層膜２０の配列と異なっている。光学機能多層膜２０Ｂにおいて、透過率調整層１６は、第二の高屈折率層１４ｂ及び第二の低屈折率層１５ｂに挟持されている。
【0032】
図４は、図１の光学積層体の変形例を示す断面図である。
図４に示される光学積層体１０３は、光学機能多層膜２０Ｃの配列が、光学積層体１０１の光学機能多層膜２０の配列と異なっている。光学機能多層膜２０Ｃにおいて、透過率調整層１６は、第一の高屈折率層１４ａ及び第一の低屈折率層１５ａに挟持されている。
図４に示される光学積層体１０３は、光学機能多層膜２０Ｃの配列が、光学積層体１０１の光学機能多層膜２０の配列と異なっている。光学機能多層膜２０Ｃにおいて、透過率調整層１６は、第一の高屈折率層１４ａ及び第一の低屈折率層１５ａに挟持されている。
【0033】
図５は、図１の光学積層体の変形例を示す断面図である。
図５に示される光学積層体１０４は、光学機能多層膜２０Ｄの配列が、光学積層体１０１の光学機能多層膜２０の配列と異なっている。光学機能多層膜２０Ｄは、第一の高屈折率層１４ａと接する位置に設けられた第一の透過率調整層１６ａ及び第二の高屈折率層１４ｂと接する位置に設けられた第二の透過率調整層１６ｂを備える。第一の透過率調整層１６ａ及び第二の透過率調整層１６ｂは、例えば、同じ材料で構成されている。第二の透過率調整層１６ｂの厚みは、例えば、第一の透過率調整層１６ａの厚み以上であり、第一の透過率調整層１６ａの厚みの倍以上であることが好ましい。本実施形態において、第一の透過率調整層１６ａ及び第二の透過率調整層１６ｂを区別しない場合、総称して透過率調整層１６という。
図５に示される光学積層体１０４は、光学機能多層膜２０Ｄの配列が、光学積層体１０１の光学機能多層膜２０の配列と異なっている。光学機能多層膜２０Ｄは、第一の高屈折率層１４ａと接する位置に設けられた第一の透過率調整層１６ａ及び第二の高屈折率層１４ｂと接する位置に設けられた第二の透過率調整層１６ｂを備える。第一の透過率調整層１６ａ及び第二の透過率調整層１６ｂは、例えば、同じ材料で構成されている。第二の透過率調整層１６ｂの厚みは、例えば、第一の透過率調整層１６ａの厚み以上であり、第一の透過率調整層１６ａの厚みの倍以上であることが好ましい。本実施形態において、第一の透過率調整層１６ａ及び第二の透過率調整層１６ｂを区別しない場合、総称して透過率調整層１６という。
【0034】
図６は、図５の光学積層体の変形例を示す断面図である。
図６に示される光学積層体１０５は、光学機能多層膜２０Ｅの配列が、光学積層体１０４の光学機能多層膜２０Ｄの配列と異なっている。光学機能多層膜２０Ｅにおいて、第二の透過率調整層１６ｂは、第二の高屈折率層１４ｂ及び第二の低屈折率層１５ｂの間に配列されている。
図６に示される光学積層体１０５は、光学機能多層膜２０Ｅの配列が、光学積層体１０４の光学機能多層膜２０Ｄの配列と異なっている。光学機能多層膜２０Ｅにおいて、第二の透過率調整層１６ｂは、第二の高屈折率層１４ｂ及び第二の低屈折率層１５ｂの間に配列されている。
【0035】
上記のように、光学積層体の光学機能多層膜は、複数の高屈折率層、複数の低屈折率層、及び上記複数の高屈折率層のいずれかに接する透過率調整層を備えており、複数の高屈折率層に含まれる高屈折率層及び複数の低屈折率層に含まれる低屈折率層は、直接又は他の層を介して交互に積層されている。高屈折率層及び低屈折率層の積層数は、２層以上の任意の層数である。光学機能多層膜には、少なくとも一つの透過率調整層１６が備えられており、その位置は、高屈折率層と接する位置であれば、任意の位置であり、好ましくは、第一の低屈折率層１５ａ及び第二の高屈折率層１４ｂに挟持される位置に設けられている。
以下、図２に示される光学積層体１０１を例に本実施形態について説明する。なお、以下の記載で、厚みに係る記載は光学厚みでなく物理的な厚みである。
以下、図２に示される光学積層体１０１を例に本実施形態について説明する。なお、以下の記載で、厚みに係る記載は光学厚みでなく物理的な厚みである。
【0036】
透明基材１１は、可視光波長域の光を透過可能な透明材料から形成されればよく、例えば、可視光線の透過率が８８％以上の高分子フィルムが好適に用いられる。高分子フィルムの構成材料の具体例としては、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂、が挙げられる。
【0037】
より具体的には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリアラミド、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリシクロオレフィン（ＣＯＣ、ＣＯＰ）などが挙げられる。
【0038】
透明基材１１の厚みは、特に限定されないが、例えば、２０μｍ以上、１０００μｍ以下の範囲であることが好ましい。透明基材１１の厚みが２０μｍ以上であると、基材自体の剛性が確保され、光学積層体１０１に応力が加わっても皺が発生し難くなる。
【0039】
ロールｔｏロールで光学積層体１０１を製造する場合、透明基材１１の厚みが１０００μｍ以下であると、製造途中の光学積層体１０１および製造後の光学積層体１０１をロール状に巻きつけやすく、効率良く光学積層体１０１を製造できる。また、透明基材１１の厚みが１０００μｍ以下であると、光学積層体１０１の薄膜化、軽量化が可能となる。透明基材１１の厚みが６００μｍ以下であると、より効率良く光学積層体１０１を製造できるとともに、より一層の薄膜化、軽量化が可能となり、好ましい。
【0040】
光学特性を著しく損なわない限りにおいて、透明基材１１には補強材料が含まれていても良く、例えば、セルロースナノファイバー、ナノシリカ等が挙げられる。特に、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂が好適に用いられる。具体的には、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）基材が好適に用いられる。
【0041】
なお、透明基材１１は、光学的機能や物理的機能が付与されたフィルムであっても良い。光学的機能や物理的機能を有する基材の例としては、例えば、偏光板、位相差補償フィルム、熱線遮断フィルム、輝度向上フィルム、バリア性向上フィルムなどが挙げられる。
【0042】
ハードコート層１２は、透明基材１１に接する。ハードコート層１２としては、公知のものを用いることができ、ハードコート層１２が設けられることにより、反射防止フィルムの硬度や弾性率等の機械特性を向上できる。ハードコート層１２は、バインダー樹脂のみからなるものであってもよいし、バインダー樹脂とともに、透明性を損なわない範囲でフィラーを含むものであってもよい。フィラーとしては、有機物からなるものを用いてもよいし、無機物からなるものを用いてもよいし、有機物および無機物からなるものを用いてもよい。
【0043】
ハードコート層１２に用いられるバインダー樹脂としては、透明性のものが好ましく、例えば、紫外線、電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などを用いることができる。
【0044】
ハードコート層１２の厚みは、特に限定されないが、例えば、０．５μｍ以上であることが好ましく、より好ましくは１μｍ以上である。ハードコート層１２の厚みは、１００μｍ以下であることが好ましい。ハードコート層１２の厚みが０．５μｍ以上であると、十分な硬度が得られるため、製造上のひっかき傷が発生し難くなる。また、ハードコート層１２の厚みが１００μｍ以下であると、光学積層体の薄膜化、軽量化が可能となる。また、ハードコート層１２の厚みが１００μｍ以下であると、製造途中の光学積層体が曲がった際に発生するハードコート層１２のマイクロクラックが生じにくく、生産性が良好となる。
【0045】
ハードコート層１２は、単一の層であってもよく、複数の層が積層されたものであってもよい。また、ハードコート層１２には、例えば、紫外線吸収性能、屈折率調整機能、硬度調整機能など公知の機能が更に付与されていてもよい。
また、ハードコート層１２に付与される機能は、単一のハードコート層中に付与されていてもよいし、複数の層に分割して付与されていてもよい。
また、ハードコート層１２に付与される機能は、単一のハードコート層中に付与されていてもよいし、複数の層に分割して付与されていてもよい。
【0046】
密着層１３は、透明基材１１またはハードコート層１２と光学機能多層膜２０との密着性を向上させるために形成する層である。密着層１３は、例えば、第一の高屈折率層１４ａの透明基材１１に近い側の面に接する。密着層１３は、例えば、酸素欠損状態の金属酸化物もしくは金属からなるものであることが好ましい。酸素欠損状態の金属酸化物とは、化学量論組成よりも酸素数が不足した状態の金属酸化物をいう。酸素欠損状態の金属酸化物としては、例えば、ＳｉＯｘ、ＡｌＯｘ、ＴｉＯｘ、ＺｒＯｘ、ＣｅＯｘ、ＭｇＯｘ、ＺｎＯｘ、ＴａＯｘ、ＳｂＯｘ、ＳｎＯｘ、ＭｎＯｘなどが挙げられる。また、金属としては、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｔａ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｍｎ、Ｉｎなどが挙げられる。密着層は、例えば、ＳｉＯｘにおけるｘが、０を超え２．０未満であるものであってもよい。
【0047】
密着層１３の厚みは、透明性を維持し、良好な光学特性を得る観点から、例えば、０．１ｎｍ超え２０ｎｍ以下であることが好ましく、１ｎｍ以上１０ｎｍ以下であることが特に好ましい。
【0048】
光学機能多層膜２０は、光学機能を発現させる層である。ここでいう光学機能とは、光の性質である反射と透過、屈折をコントロールする機能であり、例えば、反射防止機能、選択反射機能、防眩機能、レンズ機能などが挙げられる。
光学機能多層膜２０は、反射防止層、選択反射層、防眩などであればよい。本実施形態においては、光学機能多層膜２０は、反射防止機能を発現させる層である。
光学機能多層膜２０は、反射防止層、選択反射層、防眩などであればよい。本実施形態においては、光学機能多層膜２０は、反射防止機能を発現させる層である。
【0049】
高屈折率層１４としては、例えば、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５、屈折率２．３３）、二酸化チタン（ＴｉＯ２、屈折率２．４９）、酸化タングステン（ＷＯ３、屈折率２．２）、酸化セリウム（ＣｅＯ２、屈折率２．２）、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５、屈折率２．１６）、酸化亜鉛（ＺｎＯ、屈折率２．１）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２、屈折率２．２）などを用いることができる。高屈折率層１４としては、五酸化ニオブまたは二酸化チタンからなる層を用いることが好ましい。汎用性やコストの点では五酸化ニオブからなる層が好ましく、二酸化チタンからなる層であれば、製造過程でターゲットの数を少なくすることが出来るため好ましい。
【0050】
また、高屈折率層１４の膜厚は、例えば、１ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、反射防止機能を必要とする波長域や透過率調整層の構成に応じて適宜選択される。詳細を後述する通り、高屈折率層１４の膜厚は視感透過率の設計値を得るために必要な透過率調整層１６の膜厚に依存する。これは、透過率調整層１６が高屈折率層１４の屈折率を考慮して設計された層であり、高屈折率層１４の屈折率に近い屈折率を有することが好ましく、透過率調整層１６は高屈折率層１４と同じく高屈折率層の膜として機能するためである。
【0051】
第一の高屈折率層１４ａの厚みは、１ｎｍ以上、４０ｎｍ以下であることが好ましく、１ｎｍ以上、３０ｎｍ以下であることがより好ましい。ただし、図５のように第一の高屈折率層１４ａに接して透過率調整層１６が設けられている場合、該第一の高屈折率層１４ａと透過率調整層１６の厚みの合計値が、１ｎｍ以上、４０ｎｍ以下であることが好ましく、２ｎｍ以上、３０ｎｍ以下であることがより好ましい。第二の高屈折率層１４ｂの厚みは視感透過率の設計値を得るために必要な透過率調整層１６の厚みを決定した上で選択され、該第二の高屈折率層１４ｂに接する透過率調整層１６との厚みの合計値が、例えば、５０ｎｍ以上、１４０ｎｍ以下であることが好ましく、６０ｎｍ以上、１３０ｎｍ以下になることがより好ましい。第二の高屈折率層１４ｂと該第二の高屈折率層１４ｂに接する透過率調整層１６の厚みの合計値は、第一の高屈折率層１４ａの厚みより大きいことが好ましく、第一の高屈折率層１４ａの厚みの１．５倍以上であることがより好ましい。
尚、図５、図６のように第一の高屈折率層１４ａに接する第一の透過率調整層１６ａ及び第二の高屈折率層１４ｂに接する第二の透過率調整層１６ｂが設けられている場合、第二の高屈折率層１４ｂと該第二の高屈折率層１４ｂに接する第二の透過率調整層１６ｂの厚みの合計値は、第一の高屈折率層１４ａと第一の透過率調整層１６ａの厚みの合計値の１．５倍以上であることが好ましい。
尚、図５、図６のように第一の高屈折率層１４ａに接する第一の透過率調整層１６ａ及び第二の高屈折率層１４ｂに接する第二の透過率調整層１６ｂが設けられている場合、第二の高屈折率層１４ｂと該第二の高屈折率層１４ｂに接する第二の透過率調整層１６ｂの厚みの合計値は、第一の高屈折率層１４ａと第一の透過率調整層１６ａの厚みの合計値の１．５倍以上であることが好ましい。
【0052】
低屈折率層１５は、入手の容易さとコストの点からＳｉの酸化物を含むことが好ましく、ＳｉＯ２（Ｓｉの二酸化物）等を主成分とした層であることが好ましく、ＳｉＯ２で構成されていることが好ましい。ＳｉＯ２単層膜は、無色透明である。例えば、低屈折率層１５は、ＳｉＯ２を５０質量％以上含んでいればよい。
【0053】
低屈折率層１５は、ＳｉＯ２以外にも、例えば、耐久性向上の目的でＮａ、硬度向上の目的でＺｒ、Ａｌ、またＮ、耐アルカリ性向上の目的で、Ｚｒ、Ａｌを含有することも好ましい。
【0054】
低屈折率層１５の屈折率は、好ましくは１．２０～１．６０であり、より好ましくは１．３０～１．５０である。
また、低屈折率層１５の膜厚は、１ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲であればよく、反射防止機能を必要とする波長域に応じて適宜選択される。
また、低屈折率層１５の膜厚は、１ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲であればよく、反射防止機能を必要とする波長域に応じて適宜選択される。
【0055】
第一の低屈折率層１５ａの厚みは、５ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましく、１５ｎｍ以上８０ｎｍ以下であることがより好ましい。第二の低屈折率層１５ｂの厚みは、５０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下であることが好ましく、６０ｎｍ以上１１０ｎｍ以下であることがより好ましい。第二の低屈折率層１５ｂの厚みは、第一の低屈折率層１５ａの厚みより大きいことが好ましく、第一の低屈折率層１５ａの厚みの１．５倍以上であることがより好ましい。
【0056】
光学機能多層膜２０は、上記の通り、高屈折率層１４及び低屈折率層１５が直接又は他の層を介して交互に積層されている構成である。当該構成によって、表層側から入射した光、例えば、外光は、光学機能多層膜２０の内部でその一部が反射し、表面において互いに位相を打ち消すように干渉することで反射が実質的に抑制される。従って、表層側から入射した外光が反射されることを防止する反射防止機能を得られる。
【0057】
透過率調整層１６は、例えば、絶縁性を有し、光吸収作用を持ち、屈折率が当該透過率調整層１６と接する高屈折率層１４に近い材料で構成されている。透過率調整層１６は、例えば、チタン、ニオブ、タンタル、クロム、アルミニウム、スズ、マンガン、モリブデン、タングステン、鉄、及びゲルマニウムからなる群から選択される金属化合物で構成されている。用いることのできる金属化合物は、金属の酸化物、窒化物であり、透過率調整層１６はこれらの混合物で構成される。透過率調整層１６中の金属元素は、Ｔｉ又はＴａであることが、コストと完成物の耐久性の観点で好ましい。以下、上記混合物を総じてＭＮｘＯｙ、ＭＯＮ又はＭＮＯと表すこともあるが、Ｘ線光電分光法のナロースペクトル測定では単一の化合物ではなく、前述の混合物からなる。式中、Ｍは、Ｔｉ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｍｎ，Ｍｏ，Ｗ，Ｆｅ，及びＧｅからなる群から選択されるいずれかの金属元素であり、Ｔｉ又はＴａであることが、コストと完成物の耐久性の観点で好ましい。
【0058】
透過率調整層１６が金属ＭとしてＴｉを含む場合、Ｘ線光電分光法のナロースペクトル測定を行うと、例えば、ＴｉＮ，ＴｉＯ，Ｔｉ２Ｏ３及びＴｉＯ２から選択される組成物が検出される。透過率調整層１６において、上記ナロースペクトル測定におけるＴｉＮとＴｉＯの合計値は、例えば、６０％以下であり、５０％以下であることが好ましく、４５％以下であることがより好ましい。上記ナロースペクトル測定におけるＴｉＮとＴｉＯの合計値が過剰であると、タッチパネルを備えたディスプレイに適用した際、タッチパネルを操作できなくなってしまう。このとき、光学積層体１０１のシート抵抗は、１０８Ω／□よりも大きい値となる。
【0059】
上記ナロースペクトル測定における透過率調整層１６のＴｉＮの値は、例えば、１５％以上４０％以下であり、２０％以上３５％以下であることが好ましい。ＴｉＮは、透過率が低い一方、導電性の高い組成物である。透過率調整層１６においてＴｉＮの含有量を多く含有することで、透過率を小さく抑えることができ、光学積層体１０１が実装される額縁部及びディスプレイの色相差を抑える効果を得られやすい。また、ＴｉＮの含有量が１５％以上であることで、他の層との光学的なバランスを確保しやすい。一方、ＴｉＮの含有量を少なくすることで、当該透過率調整層１６が導電性の低い材料となる。
【0060】
また、上記ナロースペクトル測定における透過率調整層１６のＴｉＯの値は、例えば、２５％以下であり、２０％以下であることが好ましく、１４％以下であることがより好ましい。ＴｉＯは、導電性であり、吸収特性が悪いことから下限に関する測定限界値の規定が難しいが、検出されなくてもよい。またＴｉＯは、成膜時の窒素、酸素、不活性ガスの混合ガスとＴｉとの反応によって生じる副次的な生成物である。ＴｉＯは、ＴｉＮと同様、導電性を有するため、タッチパネルを備えたディスプレイに適用する場合、小さいことが好ましい。
【0061】
上記ナロースペクトル測定における透過率調整層１６のＴｉＯ２及びＴｉ２Ｏ３の合計値は、例えば、４０％以上７０％以下であり、５０％以上６０％以下であることが好ましい。ここで、透過率調整層１６には、ＴｉＯ２及びＴｉ２Ｏ３のいずれか一方が含まれていなくてもよい。Ｔｉ２Ｏ３及びＴｉＯ２は、ＴｉＮ及びＴｉＯと比べ、導電性が低く、これらの含有量を上記範囲内にすることで、光学積層体１０１のシート抵抗を大きくし、光学積層体１０１を静電容量式のタッチパネルに適用した際にタッチパネルとしての動作を阻害しない効果に繋がる。
【0062】
透過率調整層１６の厚みは、例えば、１０ｎｍ以上１６０ｎｍ以下が好ましく、２０ｎｍ以上１４０ｎｍ以下であることがより好ましい。
【0063】
透過率調整層１６の屈折率は、例えば、２．００～３．００の範囲である。透過率調整層１６の屈折率は、隣接する高屈折率層１４に近いことが好ましく、隣接する高屈折率層１４の屈折率との差が０．３以下であることが好ましく、０．２以下であることがより好ましい。このことにより透過率調整層１６は透過率を調整する役割に加えて、高屈折率層１４と同様の役割も担う。
【0064】
透過率調整層１６は、光学機能多層膜２０において、高屈折率層１４と接する位置であれば、積層する位置を任意に選択できるが、第一の低屈折率層１５ａ及び第二の高屈折率層１４ｂの間に設けられることが好ましい。透過率調整層１６が第一の低屈折率層１５ａ及び第二の高屈折率層１４ｂの間に設けられることで、視感反射率低減の効果を高められるとともに、製造プロセスを効率的にできる。
【0065】
また、図５及び図６に示されるような第一の透過率調整層１６ａ及び第二の透過率調整層を含む複数の透過率調整層１６を有する場合、透明基材１１から離れた位置の透過率調整層の厚みほど大きいことがから好ましい。例えば、第一の透過率調整層１６ａの厚みは、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下が好ましく、２ｎｍ以上１０ｎｍ以下であることがより好ましい。第二の透過率調整層１６ｂの厚みは、例えば、１０ｎｍ以上１６０ｎｍ以下が好ましく、２０ｎｍ以上１４０ｎｍ以下であることがより好ましい。第二の透過率調整層１６ｂの厚みは、第一の透過率調整層１６ａの厚みより大きいことが好ましく、第一の透過率調整１６ａの厚みの４倍以上であることがより好ましい。これは、一般的に低屈折率層と高屈折率層が２層ずつ積層した反射防止層の設計において、透明基材１１から離れた高屈折率層の方が厚い膜厚の時、視感反射率が低下しやすいためである。
【0066】
防汚層１７は、例えば、フッ素変性有機鎖を有するアルコキシシラン化合物からなる被覆層である。フッ素変性有機鎖を有するアルコキシラン化合物として、例えば、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物が挙げられる。パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物を用いて、光学機能多層膜２０の表面を被覆することにより、光学積層体１０１の光学機能多層膜２０が設けられた側の表面の水接触角が、例えば１１０度以上の撥水性を示すようになり、防汚性を向上させることができる。
【0067】
防汚層１７は、光学機能多層膜２０の最外面に形成され、光学機能多層膜２０の汚損を防止する。また、防汚層１７は、タッチパネル等に適用される際に、耐摩耗性によって光学機能多層膜２０の損耗を抑制する。
【0068】
本実施形態の光学積層体は、透明基材１１の他面に、選択反射、防眩、偏光、位相差補償、視野角補償又は拡大、導光、拡散、輝度向上、色相調整などの機能を有する層を更に形成しても良い。
【0069】
また、光学機能多層膜２０の表面形状は、平滑な形状以外にも、モスアイ、防眩機能を発現するナノオーダーの凹凸構造を有する形状でもよい。また、レンズ、プリズムなどのマイクロからミリオーダーの幾何学形状であっても良い。形状は、例えば、フォトリソグラフィーとエッチングの組み合わせ、形状転写、熱プレス等によって形成できる。本実施形態においては、真空成膜により成膜するため、基材に例えば凹凸形状がある場合でも、その凹凸形状を維持できる。
【0070】
本実施形態に係る光学積層体は、例えば、視感反射率が２%以下であり、１%以下であることが好ましい。本実施形態に係る光学積層体は、例えば、視感透過率が２０～９０であり、３０～８５％であることが好ましい。
【0071】
本実施形態に係る光学積層体は、液晶表示パネル、有機表示パネル等の表示装置や、窓ガラス、ゴーグル、太陽電池の受光面、スマートホンの画面やパーソナルコンピューターのディスプレイ、情報入力端末、タブレット端末、ＡＲ（拡張現実）デバイス、ＶＲ（仮想現実）デバイス、電光表示板、ガラステーブル表面、遊技機、航空機や電車などの運行支援装置、ナビゲーションシステム、計器盤、光学センサーの表面などに適用可能である。
【0072】
上記光学積層体を備えた表示装置によれば、額縁及びディスプレイの色相差を小さくすることができる。また、上記光学積層体を備えたタッチディスプレイによれば、額縁及びディスプレイの色相差を小さくするとともに、タッチパネルの動作が阻害されず、高い感度を示す。
【0073】
［光学積層体の製造方法］
次に、上記実施形態に係る光学積層体の製造方法について説明する。
本実施形態に係る光学積層体の製造方法は、高屈折率層と、低屈折率層と、該高屈折率層と接する透過率調整層と、を備える光学積層体の製造方法であって、金属ターゲットを用いて、不活性ガスと酸素と窒素の混合ガス下にてスパッタリングを行なう、透過率調整層形成工程を有する。
次に、上記実施形態に係る光学積層体の製造方法について説明する。
本実施形態に係る光学積層体の製造方法は、高屈折率層と、低屈折率層と、該高屈折率層と接する透過率調整層と、を備える光学積層体の製造方法であって、金属ターゲットを用いて、不活性ガスと酸素と窒素の混合ガス下にてスパッタリングを行なう、透過率調整層形成工程を有する。
【0074】
以下、ロール状に巻き付けられた透明基材を用いて光学積層体を製造してロール状に巻き取る、いわゆるロールｔｏロール方式のものを例に挙げて、本実施形態に係る光学積層体の製造方法を説明するが、バッチ式の製造方法であってもよい。
【0075】
先ず、ロール状に巻き付けられた透明基材を巻き出す。そして、図２～図６に示されるような、ハードコート層を有する光学積層体を形成する場合、公知の方法により透明基材上にハードコート層となる材料を含むスラリーを塗布し、ハードコート層となる材料に対応する公知の方法により硬化させる。このことにより、ハードコート層を形成する（ハードコート層形成工程）。その後、表面にハードコート層の形成された透明基材を、公知の方法によりロール状に巻き取る。
【0076】
次に、ハードコート層上に密着層を形成する密着層形成工程を行う。
次に、密着層上に光学機能多層膜を形成する。光学機能多層膜を形成する工程は、高屈折率層を形成する高屈折率層形成工程、低屈折率層を形成する低屈折率層形成工程、及び透過率調整層を形成する、透過率調整層形成工程を有する。高屈折率層形成工程、低屈折率層形成工程、及び透過率調整工程は、所望の光学機能多層膜の配列に対応した順序で行う。ここで、上記実施形態に係る光学積層体は、透過率調整層が高屈折率層に接する構成であるため、透過率調整層形成工程を高屈折率層形成工程の直前、又は、直後に行う。
次に、光学機能多層膜上に防汚層を形成する、防汚層形成工程を行う。
次に、密着層上に光学機能多層膜を形成する。光学機能多層膜を形成する工程は、高屈折率層を形成する高屈折率層形成工程、低屈折率層を形成する低屈折率層形成工程、及び透過率調整層を形成する、透過率調整層形成工程を有する。高屈折率層形成工程、低屈折率層形成工程、及び透過率調整工程は、所望の光学機能多層膜の配列に対応した順序で行う。ここで、上記実施形態に係る光学積層体は、透過率調整層が高屈折率層に接する構成であるため、透過率調整層形成工程を高屈折率層形成工程の直前、又は、直後に行う。
次に、光学機能多層膜上に防汚層を形成する、防汚層形成工程を行う。
【0077】
本実施形態に係る光学積層体の製造方法において、密着層形成工程、高屈折率層形成工程、低屈折率層形成工程、透過率調整工程は、蒸着やスパッタリング等のドライプロセスによって成膜を行う。例えば、スパッタリング装置を用いて、それぞれの層を構成する材料を含むターゲットに電圧を印加し、所定の反応性ガス及びプラズマを生成するアルゴンガスを所定の流量で供給することにより、それぞれの層を形成することができる。
【0078】
例えば、透過率調整層形成工程では、チタン、ニオブ、タンタル、クロム、アルミニウム、スズ、マンガン、モリブデン、タングステン、鉄、及びゲルマニウムからなる群から選択される金属又は合金をスパッタリングターゲットとし、アルゴン等の不活性ガス、窒素、及び酸素の混合ガス環境下で、スパッタリングを行って成膜を行うことが、形成する透過率調整層が所望の組成となるように制御しやすいため好ましい。透過率調整層形成工程をスパッタリング法により行う場合、混合ガス中の窒素ガスと酸素ガスの合計流量に対する酸素ガスの流量割合は、例えば４％以上、２１％以下であり、５％以上、１６％以下であることが好ましい。このとき、混合ガス中の不活性ガス、窒素ガス及び酸素ガスの合計流量に対する酸素ガスの流量割合は、例えば、１．５％以上、８％以下が好ましく、２．０％以上、６％以下であることがより好ましい。
【0079】
上記工程を経ることにより、上記実施形態に係る光学積層体が製造される。
【0080】
本実施形態に係る光学積層体によれば、透明基材１１と、第一の高屈折率層１４ａ、第一の低屈折率層１５ａ、第二の高屈折率層１４ｂ、及び第二の低屈折率層１５ｂをこの順に備える光学積層体において、さらに第一の高屈折率層１４ａに接する位置と、第二の高屈折率層１４ｂに接する位置と、の少なくとも一方に透過率調整層１６を備え、シート抵抗が１０８Ω／□以上であることで、反射防止膜としての十分な光学特性を得られるとともに、ディスプレイ消灯時の黒色度を向上させ、また、汎用的な静電容量式のタッチパネルを備えたディスプレイに適用した場合にも、その動作を阻害しない反射防止フィルムとして有用なものを提供することができる。
【実施例0081】
以下、本発明の実施例を説明する。本発明は、以下の実施例のみに限定されるものではない。
【0082】
［実施例１］
先ず、厚さ８０μｍの透明基材（ＴＡＣ）に酸化ケイ素微粒子を含むアクリル樹脂製被膜（ハードコート層）を４μｍ厚で形成したロール状の樹脂フィルムを用意した。次いで、ロールｔｏロール方式で、以下に示す方法により、スパッタリング装置を用いてこのハードコート層が形成された透明基材上に、密着層を形成する工程並びに光学機能多層膜を形成する工程を行った。
先ず、厚さ８０μｍの透明基材（ＴＡＣ）に酸化ケイ素微粒子を含むアクリル樹脂製被膜（ハードコート層）を４μｍ厚で形成したロール状の樹脂フィルムを用意した。次いで、ロールｔｏロール方式で、以下に示す方法により、スパッタリング装置を用いてこのハードコート層が形成された透明基材上に、密着層を形成する工程並びに光学機能多層膜を形成する工程を行った。
【0083】
密着層を形成する工程並びに光学機能多層膜を形成する工程で用いたスパッタリング装置は、排気系がターボ分子ポンプとロータリーポンプで構成され、５×１０－４Ｐａ以下にまで排気することが可能である。真空槽（成膜チャンバー）内には４つのカソードが配置されており、それぞれに直径２インチのターゲット材料を設置することが可能である。
【0084】
真空槽にはガス供給配管がつながっており、アルゴンガス、酸素ガス、窒素ガスなどの反応ガス、キャリアガスを供給することができる。各ガスは、ガスボンベと真空槽の間に設置したマスフローメータによって流量を精密に制御することができる。各ターゲット材料による薄膜の厚みは、成膜時の印加電力、ガス流量等で精密に制御し、一定のライン速度で光学機能多層膜を形成することで再現性良く製造が可能である。
【0085】
密着層を形成する工程並びに光学機能多層膜を形成する工程では、透明基材をスパッタリング装置に設置後、５×１０－４Ｐａ以下になるまで排気し、アルゴンガス、窒素ガス及び酸素ガスを必要に応じて導入して反応性スパッタ法により成膜を行った。密着層形成工程では、Ｓｉターゲットを用い、アルゴンガスの流量を４５０ｓｃｃｍとした。また、高屈折率層形成工程においては、Ｎｂ２Ｏ５ターゲットを用い、アルゴンガスを１５０ｓｃｃｍとし、酸素ガスを１５ｓｃｃｍとした。低屈折率層形成工程においては、Ｓｉターゲットを用い、アルゴンガスの流量を１５０ｓｃｃｍとし、酸素ガスの流量は２５ｓｃｃｍとした。透過率調整層形成工程では、Ｔｉターゲットを用い、流量は、アルゴンガス１００ｓｃｃｍ、窒素ガス５０ｓｃｃｍ、酸素ガス３ｓｃｃｍとした。これらのターゲットは、スパッタリング装置内に所望の光学機能多層膜の積層順序に対応するように配列した。
ここで、実施例１の光学機能多層膜の積層順序は、透明基材側から順に以下の通りであり、その詳細な構成、製造条件については、表１に纏める。実施例１において、透過率調整層は、第一の低屈折率層及び第二の高屈折率層に挟持されている。実施例１では、上記手段により、第一の高屈折率層及び第二の高屈折率層として、Ｎｂ２Ｏ５で構成された層を形成し、第一の低屈折率層及び第二の低屈折率層としてＳｉＯ２で構成された層を形成し、透過率調整層として、チタンの酸化物、窒化物の混合物で構成された層を形成した。チタンの窒化物であるＴｉＮの含有量は２９．８％、チタンの酸化物であるＴｉＯは１３．７％、ＴｉＯ２は５６．８％であった。
（透明基材／密着層／）第一の高屈折率層／第一の低屈折率層／透過率調整層／第二の高屈折率層／第二の低屈折率層
ここで、実施例１の光学機能多層膜の積層順序は、透明基材側から順に以下の通りであり、その詳細な構成、製造条件については、表１に纏める。実施例１において、透過率調整層は、第一の低屈折率層及び第二の高屈折率層に挟持されている。実施例１では、上記手段により、第一の高屈折率層及び第二の高屈折率層として、Ｎｂ２Ｏ５で構成された層を形成し、第一の低屈折率層及び第二の低屈折率層としてＳｉＯ２で構成された層を形成し、透過率調整層として、チタンの酸化物、窒化物の混合物で構成された層を形成した。チタンの窒化物であるＴｉＮの含有量は２９．８％、チタンの酸化物であるＴｉＯは１３．７％、ＴｉＯ２は５６．８％であった。
（透明基材／密着層／）第一の高屈折率層／第一の低屈折率層／透過率調整層／第二の高屈折率層／第二の低屈折率層
【0086】
次いで、光学機能多層膜上に、コイルバー（ロッドＮｏ．７、株式会社安田精機製作所製）を用いて塗布液を塗布し、８０℃で２分間乾燥させる方法により、膜厚５ｎｍの防汚層を形成した。塗布液としては、フッ素溶剤（商品名：フロリナートＦＣ－３２８３：スリーエムジャパン株式会社製）中に、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物（商品名：オプツールＤＳＸ、ダイキン工業株式会社製）を０．１質量％含む溶液を用いた。
上記手順により、実施例１の光学積層体を得た。
上記手順により、実施例１の光学積層体を得た。
【0087】
［実施例２］
光学機能多層膜の各層の厚みを変更した点を除き、実施例１と同様の手順で光学積層体を作製した。光学機能多層膜の構成は、表１に纏める。
光学機能多層膜の各層の厚みを変更した点を除き、実施例１と同様の手順で光学積層体を作製した。光学機能多層膜の構成は、表１に纏める。
【0088】
［実施例３］
光学機能多層膜を形成する工程において、ターゲットの配列を変更することにより光学機能多層膜の積層順序を変更した点及び各層の厚みを変更した点を除き、実施例１と同様の手順で光学積層体を作製した。光学機能多層膜の詳細な構成は、表１に纏めるが、実施例３では、透明基材側から以下の順に積層された光学機能多層膜を備える光学積層体を形成した。
（透明基材／密着層／）第一の高屈折率層／第一の低屈折率層／第二の高屈折率層／透過率調整層／第二の低屈折率層
光学機能多層膜を形成する工程において、ターゲットの配列を変更することにより光学機能多層膜の積層順序を変更した点及び各層の厚みを変更した点を除き、実施例１と同様の手順で光学積層体を作製した。光学機能多層膜の詳細な構成は、表１に纏めるが、実施例３では、透明基材側から以下の順に積層された光学機能多層膜を備える光学積層体を形成した。
（透明基材／密着層／）第一の高屈折率層／第一の低屈折率層／第二の高屈折率層／透過率調整層／第二の低屈折率層
【0089】
［実施例４］
光学機能多層膜を形成する工程において、ターゲットの配列を変更することにより光学機能多層膜の積層順序を変更した点及び各層の厚みを変更した点を除き、実施例１と同様の手順で光学積層体を作製した。光学機能多層膜の詳細な構成は、表１に纏めるが、実施例３では、透明基材側から以下の順に積層された光学機能多層膜を備える光学積層体を形成した。
（透明基材／密着層／）透過率調整層／第一の高屈折率層／第一の低屈折率層／透過率調整層／第二の高屈折率層／第二の低屈折率層
光学機能多層膜を形成する工程において、ターゲットの配列を変更することにより光学機能多層膜の積層順序を変更した点及び各層の厚みを変更した点を除き、実施例１と同様の手順で光学積層体を作製した。光学機能多層膜の詳細な構成は、表１に纏めるが、実施例３では、透明基材側から以下の順に積層された光学機能多層膜を備える光学積層体を形成した。
（透明基材／密着層／）透過率調整層／第一の高屈折率層／第一の低屈折率層／透過率調整層／第二の高屈折率層／第二の低屈折率層
【0090】
［比較例１］
光学機能多層膜を形成する工程において、スパッタ条件を変更して、チタンの窒化物ＴｉＮを増やし、チタンの酸化物ＴｉＯ２を減じたチタン化合物の混合物層を形成した点を除き、実施例１と同様の手順で、光学積層体を作製した。
（透明基材／密着層／）第一の高屈折率層／第一の低屈折率層／混合物層／第二の高屈折率層／第二の低屈折率層
尚、比較例１では、反応ガスのうち酸素ガスの流量のみ変更し、１ｓｃｃｍにした。混合物層に於けるチタンの窒化物であるＴｉＮの含有量は４２．６％、チタンの酸化物であるＴｉＯは３２．０％、Ｔｉ２Ｏ３は５６．８％であった。
光学機能多層膜を形成する工程において、スパッタ条件を変更して、チタンの窒化物ＴｉＮを増やし、チタンの酸化物ＴｉＯ２を減じたチタン化合物の混合物層を形成した点を除き、実施例１と同様の手順で、光学積層体を作製した。
（透明基材／密着層／）第一の高屈折率層／第一の低屈折率層／混合物層／第二の高屈折率層／第二の低屈折率層
尚、比較例１では、反応ガスのうち酸素ガスの流量のみ変更し、１ｓｃｃｍにした。混合物層に於けるチタンの窒化物であるＴｉＮの含有量は４２．６％、チタンの酸化物であるＴｉＯは３２．０％、Ｔｉ２Ｏ３は５６．８％であった。
【0091】
［比較例２］
光学機能多層膜を形成する工程において、及びスパッタ条件を変更して、チタンの窒化物ＴｉＮを増やし、チタンの酸化物ＴｉＯ２を減じたチタン化合物の混合物層を形成した点を除き、実施例１と同様の手順で、透明基材側から以下の順に積層された光学機能多層膜を備える光学積層体を作製した。
（透明基材／密着層／）第一の高屈折率層／第一の低屈折率層／混合物層／第二の高屈折率層／第二の低屈折率層
また、比較例２では、反応ガスのうち酸素ガスの流量のみ変更し、２ｓｃｃｍにした。
光学機能多層膜を形成する工程において、及びスパッタ条件を変更して、チタンの窒化物ＴｉＮを増やし、チタンの酸化物ＴｉＯ２を減じたチタン化合物の混合物層を形成した点を除き、実施例１と同様の手順で、透明基材側から以下の順に積層された光学機能多層膜を備える光学積層体を作製した。
（透明基材／密着層／）第一の高屈折率層／第一の低屈折率層／混合物層／第二の高屈折率層／第二の低屈折率層
また、比較例２では、反応ガスのうち酸素ガスの流量のみ変更し、２ｓｃｃｍにした。
【0092】
［比較例３］
光学機能多層膜を形成する工程において、ターゲットの配列を変更した点及びスパッタ条件を変更した点を除き、実施例１と同様の手順で、透明基材側から以下の順に積層された光学機能多層膜を備える光学積層体を作製した。
（透明基材／密着層／）第一の高屈折率層／第一の低屈折率層／混合物層／第二の高屈折率層／第二の低屈折率層
また、比較例３では、反応ガスのうち酸素ガスの流量のみ変更し、０ｓｃｃｍにした。すなわち、比較例３では、酸素ガスを用いなかった。
光学機能多層膜を形成する工程において、ターゲットの配列を変更した点及びスパッタ条件を変更した点を除き、実施例１と同様の手順で、透明基材側から以下の順に積層された光学機能多層膜を備える光学積層体を作製した。
（透明基材／密着層／）第一の高屈折率層／第一の低屈折率層／混合物層／第二の高屈折率層／第二の低屈折率層
また、比較例３では、反応ガスのうち酸素ガスの流量のみ変更し、０ｓｃｃｍにした。すなわち、比較例３では、酸素ガスを用いなかった。
【0093】
［比較例４］
光学機能多層膜を形成する工程において、透過率調整層形成工程を行わなかった点、及び反応ガスの流量等のスパッタ条件を変更した点を除き、実施例１と同様の手順で、透明基材側から以下の順に積層された光学機能多層膜を備える光学積層体を作製した。
（透明基材／密着層／）第一の高屈折率層／第一の低屈折率層／第二の高屈折率層／第二の低屈折率層
光学機能多層膜を形成する工程において、透過率調整層形成工程を行わなかった点、及び反応ガスの流量等のスパッタ条件を変更した点を除き、実施例１と同様の手順で、透明基材側から以下の順に積層された光学機能多層膜を備える光学積層体を作製した。
（透明基材／密着層／）第一の高屈折率層／第一の低屈折率層／第二の高屈折率層／第二の低屈折率層
【0094】
（反射特性の測定）
実施例１～実施例４及び比較例１～比較例４の光学積層体に対して、それぞれ光学積層体の透明基材側の面にそれぞれアクリル系透明粘着剤を用いて黒色のアクリルパネルの表面に貼付し、裏面反射が除去される試験体とした。そして、各光学積層体の透明基材と反対側の面から、分光光度計（日立ハイテクサイエンス社製、商品名：UH4150）を用いて、分光反射率（測定波長３８０ｎｍ～１０００ｎｍ、入射角５°）を測定した。測定した分光反射率と、ＣＩＥ標準イルミナントＤ６５の相対分光分布を用いて、ＪＩＳ Ｚ８７０１で規定されているＸＹＺ表色系における、反射による物体色の視感反射率Ｙ（三刺激値Ｙ）を算出した。測定した視感反射率を表中に示す。
実施例１～実施例４及び比較例１～比較例４の光学積層体に対して、それぞれ光学積層体の透明基材側の面にそれぞれアクリル系透明粘着剤を用いて黒色のアクリルパネルの表面に貼付し、裏面反射が除去される試験体とした。そして、各光学積層体の透明基材と反対側の面から、分光光度計（日立ハイテクサイエンス社製、商品名：UH4150）を用いて、分光反射率（測定波長３８０ｎｍ～１０００ｎｍ、入射角５°）を測定した。測定した分光反射率と、ＣＩＥ標準イルミナントＤ６５の相対分光分布を用いて、ＪＩＳ Ｚ８７０１で規定されているＸＹＺ表色系における、反射による物体色の視感反射率Ｙ（三刺激値Ｙ）を算出した。測定した視感反射率を表中に示す。
【0095】
（透過特性の測定）
実施例１～実施例４及び比較例１～比較例４の光学積層体に対して、それぞれ光学積層体の透明基材側の面から入射光が透過する向きで分光光度計（日立ハイテクサイエンス社製、商品名：UH4150）を用いて、分光反射率（測定波長３８０ｎｍ～１０００ｎｍ、入射角５°）から分光透過率を測定した。測定した分光透過率と、ＣＩＥ標準イルミナントＤ６５の相対分光分布を用いて、ＪＩＳ Ｚ８７０１で規定されているＸＹＺ表色系における、透過による物体色の視感透過率Ｙ（三刺激値Ｙ）を算出した。測定した分光透過率を表中に視感透過率として示す。
実施例１～実施例４及び比較例１～比較例４の光学積層体に対して、それぞれ光学積層体の透明基材側の面から入射光が透過する向きで分光光度計（日立ハイテクサイエンス社製、商品名：UH4150）を用いて、分光反射率（測定波長３８０ｎｍ～１０００ｎｍ、入射角５°）から分光透過率を測定した。測定した分光透過率と、ＣＩＥ標準イルミナントＤ６５の相対分光分布を用いて、ＪＩＳ Ｚ８７０１で規定されているＸＹＺ表色系における、透過による物体色の視感透過率Ｙ（三刺激値Ｙ）を算出した。測定した分光透過率を表中に視感透過率として示す。
【0096】
（タッチパネルの反応性試験）
実施例１～実施例４及び比較例１～比較例４の光学積層体に対して、光学積層体の透明基材側の面にそれぞれアクリル系透明粘着剤を用いて、市販の静電容量方式型タッチパネル搭載のタブレット端末の表面に貼付し、タッチパネルによる操作が可能であるか否かを評価した。
実施例１～実施例４及び比較例１～比較例４の光学積層体に対して、光学積層体の透明基材側の面にそれぞれアクリル系透明粘着剤を用いて、市販の静電容量方式型タッチパネル搭載のタブレット端末の表面に貼付し、タッチパネルによる操作が可能であるか否かを評価した。
【0097】
（光学積層体のシート抵抗試験）
実施例１～実施例４及び比較例１～比較例４の光学積層体に対して、抵抗率計（三菱化学アナリテック社製、装置名：ハイレスタＵＰ（MCP-HT450型）を用いてシート抵抗値を測定した。光学積層体の防汚層側の表面の平面視中心にプローブをあて、１００Ｖで１０秒間通電して測定した。
実施例１～実施例４及び比較例１～比較例４の光学積層体に対して、抵抗率計（三菱化学アナリテック社製、装置名：ハイレスタＵＰ（MCP-HT450型）を用いてシート抵抗値を測定した。光学積層体の防汚層側の表面の平面視中心にプローブをあて、１００Ｖで１０秒間通電して測定した。
【0098】
（Ｔｉの結合状態解析試験）
実施例１～実施例４及び比較例１～比較例３の光学積層体に対して、走査型Ｘ線光電子分光分析装置（アルバック・ファイ社製、装置名：PHI5000VersaProbe III）を用いてＡｒイオンによる表面エッチングを行いＴｉが検出された深さにおけるＴｉの結合状態をナロースペクトル測定により解析した。測定時の条件は表２のとおりである。
実施例１～実施例４及び比較例１～比較例３の光学積層体に対して、走査型Ｘ線光電子分光分析装置（アルバック・ファイ社製、装置名：PHI5000VersaProbe III）を用いてＡｒイオンによる表面エッチングを行いＴｉが検出された深さにおけるＴｉの結合状態をナロースペクトル測定により解析した。測定時の条件は表２のとおりである。
【0099】
実施例１～実施例４及び比較例１～比較例４の光学積層体の構成及び試験結果を表１に纏める。表中、タッチパネル反応性の項目が○であるデータは、タッチパネルによる操作が可能であったことを意味し、×であるデータは、タッチパネルによる操作を出来なかったことを意味する。
【0100】
【表1】
【0101】
【表2】
【0102】
先ず、実施例１~実施例４及び比較例１～３を比較例４と対比することにより、透明基材、第一の高屈折率層、第一の低屈折率層、第二の高屈折率層、第二の低屈折率層、をこの順に備える光学積層体であって、さらに前記第一の高屈折率層に接する位置と、前記第二の高屈折率層に接する位置と、の少なくとも小さくするとともに一方に透過率調整層を備えることで、視感透過率を小さくできることが確認された。このうち、シート抵抗値が１０８Ω／□未満である比較例１~比較例３では、タッチパネルによる操作を出来なかったのに対し、シート抵抗値が１０８Ω／□以上である実施例１～実施例４は、タッチパネルによる操作が可能であった。
【0103】
実施例１～実施例４では、ナロースペクトル測定に於ける透過率調整層のＴｉＮ及びＴｉＯの合計割合が５０％以下であり、上記合計割合の高い比較例１~比較例３と比べてタッチパネル反応性が良好であった。さらに、ナロースペクトル測定における透過率調整層のＴｉＯの割合が１４％以下である実施例１、実施例３及び実施例４は、特にシート抵抗値が高く、タッチパネルディスプレイに適用した場合の操作のしやすさが高いことが期待される。一方、実施例２では、視感透過率を低く抑えることができ、ディスプレイに適用した場合の表示部及び額縁部の色相差を抑えやすいことが期待される。
【0104】
（色相差試験）
実施例１~実施例４の光学積層体が視感透過率低減により、表示装置に適用した場合に表示部及び額縁部における反射色相差を低減できているかを確認するために、実施例１及び比較例４の光学積層体に対して、反射色相差を測定する色相差試験を行った。色相差試験は、光学積層体の透明基材側の面にそれぞれアクリル系透明粘着剤を用いて、表示部（Ｖ／Ａ）及び額縁部（Ｂ／Ｍ）からなる１０インチサイズのディスプレイ表面に貼付した。このディスプレイの表示部（Ｖ／Ａ）における明度及び色度は、L*:28.6, a*:-0.1, b*:-0.2であり、額縁部（Ｂ／Ｍ）における明度及び色度は、L*:28.4,a*:0.1,b*:0.9であった。さらに、上記反射特性の測定の結果を利用し、表示部（Ｖ／Ａ）及び額縁部（Ｂ／Ｍ）における反射色相差ΔE* abを比較した。表示部（Ｖ／Ａ）及び額縁部（Ｂ／Ｍ）における反射色相差ΔE* abは、以下の式を利用して算出した。
ΔE* ab={(L* 2-L* 1)2 +(a* 2-a* 1)2+(b* 2-b* 1)2}1/2
（式中、L* 1: 表示部の明度，L* 2: 額縁部の明度，a* 1: 表示部の色度，a* 2: 額縁部の色度，b* 1: 表示部の色度，b* 2: 額縁部の色度である。）
実施例１~実施例４の光学積層体が視感透過率低減により、表示装置に適用した場合に表示部及び額縁部における反射色相差を低減できているかを確認するために、実施例１及び比較例４の光学積層体に対して、反射色相差を測定する色相差試験を行った。色相差試験は、光学積層体の透明基材側の面にそれぞれアクリル系透明粘着剤を用いて、表示部（Ｖ／Ａ）及び額縁部（Ｂ／Ｍ）からなる１０インチサイズのディスプレイ表面に貼付した。このディスプレイの表示部（Ｖ／Ａ）における明度及び色度は、L*:28.6, a*:-0.1, b*:-0.2であり、額縁部（Ｂ／Ｍ）における明度及び色度は、L*:28.4,a*:0.1,b*:0.9であった。さらに、上記反射特性の測定の結果を利用し、表示部（Ｖ／Ａ）及び額縁部（Ｂ／Ｍ）における反射色相差ΔE* abを比較した。表示部（Ｖ／Ａ）及び額縁部（Ｂ／Ｍ）における反射色相差ΔE* abは、以下の式を利用して算出した。
ΔE* ab={(L* 2-L* 1)2 +(a* 2-a* 1)2+(b* 2-b* 1)2}1/2
（式中、L* 1: 表示部の明度，L* 2: 額縁部の明度，a* 1: 表示部の色度，a* 2: 額縁部の色度，b* 1: 表示部の色度，b* 2: 額縁部の色度である。）
【0105】
図７（ａ）は、実施例１の試験体の色相差を示す図であり、図７（ｂ）は、比較例４の試験体の色相差を示す図である。また、実施例１及び比較例４における透過率及び表示部（Ｖ／Ａ）及び額縁部（Ｂ／Ｍ）の反射色相差ΔE*
abを表３に纏める。
【0106】
図７（ａ）に示される通り、実施例１では、表示部（Ｖ／Ａ）及び額縁部（Ｂ／Ｍ）の反射色相差が小さく、表示部（Ｖ／Ａ）及び額縁部（Ｂ／Ｍ）の境界を識別しづらくすることができた。一方、透過率調整層が設けられていない比較例４では、表示部（Ｖ／Ａ）及び額縁部（Ｂ／Ｍ）の反射色相差ΔE*
abが大きく、表示部（Ｖ／Ａ）及び額縁部（Ｂ／Ｍ）の境界がはっきりと表れた。
【0107】
【表3】
【符号の説明】
【0108】
１００，１０１，１０２，１０３，１０４：光学積層体
１１：透明基材
１２：ハードコート層
１３：密着層
１４ａ：第一の高屈折率層
１４ｂ：第二の高屈折率層
１５ａ：第一の低屈折率層
１５ｂ：第二の低屈折率層
１６：透過率調整層
１６ａ：第一の透過率調整層
１６ｂ：第二の透過率調整層
１７：防汚層
２０，２０Ｂ，２０Ｃ，２０Ｄ，２０Ｅ：光学機能多層膜
１１：透明基材
１２：ハードコート層
１３：密着層
１４ａ：第一の高屈折率層
１４ｂ：第二の高屈折率層
１５ａ：第一の低屈折率層
１５ｂ：第二の低屈折率層
１６：透過率調整層
１６ａ：第一の透過率調整層
１６ｂ：第二の透過率調整層
１７：防汚層
２０，２０Ｂ，２０Ｃ，２０Ｄ，２０Ｅ：光学機能多層膜
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【手続補正書】
【提出日】2023-03-28
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0028】
光学積層体１００において、透過率調整層１６は、第一の低屈折率層１５ａ及び第二の高屈折率層１４ｂに接する位置に配列されている。すなわち、透過率調整層１６は、第一の低屈折率層１５ａ及び第二の高屈折率層１４ｂに挟持されている。第一の低屈折率層１５ａ及び第二の高屈折率層１４ｂに透過率調整層１６が挟持されている光学積層体は、製造プロセスが簡便になるため好ましい。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0052】
低屈折率層１５は、入手の容易さとコストの点からＳｉの酸化物を含むことが好ましく、ＳｉＯ２（Ｓｉの二酸化物）等を主成分とした層であることが好ましく、ＳｉＯ
２
で構成されていることが好ましい。ＳｉＯ２単層膜は、無色透明である。例えば、低屈折率層１５は、ＳｉＯ２を５０質量％以上含んでいればよい。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0058】
透過率調整層１６が金属ＭとしてＴｉを含む場合、Ｘ線光電分光法のナロースペクトル測定を行うと、例えば、ＴｉＮ，ＴｉＯ，Ｔｉ２Ｏ３及びＴｉＯ２から選択される組成物が検出される。透過率調整層１６において、上記ナロースペクトル測定におけるＴｉＮとＴｉＯの合計値は、例えば、６０％以下であり、５０％以下であることが好ましく、４５％以下であることがより好ましい。上記ナロースペクトル測定におけるＴｉＮとＴｉＯの合計値が過剰であると、タッチパネルを備えたディスプレイに適用した際、タッチパネルを操作できなくなってしまう。このとき、光学積層体１０１のシート抵抗は、１０８Ω／□よりも小さい値となる。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0060】
また、上記ナロースペクトル測定における透過率調整層１６のＴｉＯの値は、例えば、２５％以下であり、２０％以下であることが好ましく、１４％以下であることがより好ましい。ＴｉＯは、導電性であり、吸収特性が悪いことから下限に関する測定限界値の規定が難しいが、検出されなくてもよい。またＴｉＯは、成膜時の窒素、酸素、不活性ガスの混合ガスとＴｉとの反応によって生じる副次的な生成物である。ＴｉＯの含有量は、ＴｉＮと同様、導電性を有するため、タッチパネルを備えたディスプレイに適用する場合、少ないことが好ましい。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0065】
また、図５及び図６に示されるような第一の透過率調整層１６ａ及び第二の透過率調整層１６ｂを含む複数の透過率調整層１６を有する場合、透明基材１１から離れた位置の透過率調整層の厚みほど大きいことがから好ましい。例えば、第一の透過率調整層１６ａの厚みは、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下が好ましく、２ｎｍ以上１０ｎｍ以下であることがより好ましい。第二の透過率調整層１６ｂの厚みは、例えば、１０ｎｍ以上１６０ｎｍ以下が好ましく、２０ｎｍ以上１４０ｎｍ以下であることがより好ましい。第二の透過率調整層１６ｂの厚みは、第一の透過率調整層１６ａの厚みより大きいことが好ましく、第一の透過率調整１６ａの厚みの４倍以上であることがより好ましい。これは、一般的に低屈折率層と高屈折率層が２層ずつ積層した反射防止層の設計において、透明基材１１から離れた高屈折率層の方が厚い膜厚の時、視感反射率が低下しやすいためである。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0070】
本実施形態に係る光学積層体は、例えば、視感反射率が２％以下であり、１％以下であることが好ましい。本実施形態に係る光学積層体は、例えば、視感透過率が２０～９０％であり、３０～８５％であることが好ましい。
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0085】
密着層を形成する工程並びに光学機能多層膜を形成する工程では、透明基材をスパッタリング装置に設置後、５×１０－４Ｐａ以下になるまで排気し、アルゴンガス、窒素ガス及び酸素ガスを必要に応じて導入して反応性スパッタ法により成膜を行った。密着層形成工程では、Ｓｉターゲットを用い、アルゴンガスの流量を４５０ｓｃｃｍとした。また、高屈折率層形成工程においては、Ｎｂ２Ｏ５ターゲットを用い、アルゴンガスを１５０ｓｃｃｍとし、酸素ガスを１５ｓｃｃｍとした。低屈折率層形成工程においては、Ｓｉターゲットを用い、アルゴンガスの流量を１５０ｓｃｃｍとし、酸素ガスの流量は２５ｓｃｃｍとした。透過率調整層形成工程では、Ｔｉターゲットを用い、流量は、アルゴンガス１００ｓｃｃｍ、窒素ガス５０ｓｃｃｍ、酸素ガス３ｓｃｃｍとした。これらのターゲットは、スパッタリング装置内に所望の光学機能多層膜の積層順序に対応するように配列した。
ここで、実施例１の光学機能多層膜の積層順序は、透明基材側から順に以下の通りであり、その詳細な構成、製造条件については、表１に纏める。実施例１において、透過率調整層は、第一の低屈折率層及び第二の高屈折率層に挟持されている。実施例１では、上記手段により、第一の高屈折率層及び第二の高屈折率層として、Ｎｂ２Ｏ５で構成された層を形成し、第一の低屈折率層及び第二の低屈折率層としてＳｉＯ２で構成された層を形成し、透過率調整層として、チタンの酸化物、窒化物の混合物で構成された層を形成した。チタンの窒化物であるＴｉＮの含有量は２９．８％、チタンの酸化物であるＴｉＯは１３．７％、ＴｉＯ２は５６．５％であった。
（透明基材／密着層／）第一の高屈折率層／第一の低屈折率層／透過率調整層／第二の高屈折率層／第二の低屈折率層
ここで、実施例１の光学機能多層膜の積層順序は、透明基材側から順に以下の通りであり、その詳細な構成、製造条件については、表１に纏める。実施例１において、透過率調整層は、第一の低屈折率層及び第二の高屈折率層に挟持されている。実施例１では、上記手段により、第一の高屈折率層及び第二の高屈折率層として、Ｎｂ２Ｏ５で構成された層を形成し、第一の低屈折率層及び第二の低屈折率層としてＳｉＯ２で構成された層を形成し、透過率調整層として、チタンの酸化物、窒化物の混合物で構成された層を形成した。チタンの窒化物であるＴｉＮの含有量は２９．８％、チタンの酸化物であるＴｉＯは１３．７％、ＴｉＯ２は５６．５％であった。
（透明基材／密着層／）第一の高屈折率層／第一の低屈折率層／透過率調整層／第二の高屈折率層／第二の低屈折率層
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0090】
［比較例１］
光学機能多層膜を形成する工程において、スパッタ条件を変更して、チタンの窒化物ＴｉＮを増やし、チタンの酸化物ＴｉＯ２を減じたチタン化合物の混合物層を形成した点を除き、実施例１と同様の手順で、光学積層体を作製した。
（透明基材／密着層／）第一の高屈折率層／第一の低屈折率層／混合物層／第二の高屈折率層／第二の低屈折率層
尚、比較例１では、反応ガスのうち酸素ガスの流量のみ変更し、１ｓｃｃｍにした。混合物層に於けるチタンの窒化物であるＴｉＮの含有量は４２．６％、チタンの酸化物であるＴｉＯは３２．０％、Ｔｉ２Ｏ３は２５．４％であった。
光学機能多層膜を形成する工程において、スパッタ条件を変更して、チタンの窒化物ＴｉＮを増やし、チタンの酸化物ＴｉＯ２を減じたチタン化合物の混合物層を形成した点を除き、実施例１と同様の手順で、光学積層体を作製した。
（透明基材／密着層／）第一の高屈折率層／第一の低屈折率層／混合物層／第二の高屈折率層／第二の低屈折率層
尚、比較例１では、反応ガスのうち酸素ガスの流量のみ変更し、１ｓｃｃｍにした。混合物層に於けるチタンの窒化物であるＴｉＮの含有量は４２．６％、チタンの酸化物であるＴｉＯは３２．０％、Ｔｉ２Ｏ３は２５．４％であった。
【手続補正9】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0091】
［比較例２］
光学機能多層膜を形成する工程において、スパッタ条件を変更して、チタンの窒化物ＴｉＮを増やし、チタンの酸化物ＴｉＯ２を減じたチタン化合物の混合物層を形成した点を除き、実施例１と同様の手順で、透明基材側から以下の順に積層された光学機能多層膜を備える光学積層体を作製した。
（透明基材／密着層／）第一の高屈折率層／第一の低屈折率層／混合物層／第二の高屈折率層／第二の低屈折率層
また、比較例２では、反応ガスのうち酸素ガスの流量のみ変更し、２ｓｃｃｍにした。
光学機能多層膜を形成する工程において、スパッタ条件を変更して、チタンの窒化物ＴｉＮを増やし、チタンの酸化物ＴｉＯ２を減じたチタン化合物の混合物層を形成した点を除き、実施例１と同様の手順で、透明基材側から以下の順に積層された光学機能多層膜を備える光学積層体を作製した。
（透明基材／密着層／）第一の高屈折率層／第一の低屈折率層／混合物層／第二の高屈折率層／第二の低屈折率層
また、比較例２では、反応ガスのうち酸素ガスの流量のみ変更し、２ｓｃｃｍにした。
【手続補正10】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0092】
［比較例３］
光学機能多層膜を形成する工程において、ターゲットの配列を変更した点及びスパッタ条件を変更した点を除き、実施例１と同様の手順で、透明基材側から以下の順に積層された光学機能多層膜を備える光学積層体を作製した。
（透明基材／密着層／）混合物層／第一の高屈折率層／第一の低屈折率層／第二の高屈折率層／第二の低屈折率層
また、比較例３では、反応ガスのうち酸素ガスの流量のみ変更し、０ｓｃｃｍにした。すなわち、比較例３では、酸素ガスを用いなかった。
光学機能多層膜を形成する工程において、ターゲットの配列を変更した点及びスパッタ条件を変更した点を除き、実施例１と同様の手順で、透明基材側から以下の順に積層された光学機能多層膜を備える光学積層体を作製した。
（透明基材／密着層／）混合物層／第一の高屈折率層／第一の低屈折率層／第二の高屈折率層／第二の低屈折率層
また、比較例３では、反応ガスのうち酸素ガスの流量のみ変更し、０ｓｃｃｍにした。すなわち、比較例３では、酸素ガスを用いなかった。
【手続補正11】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0094】
（反射特性の測定）
実施例１～実施例４及び比較例１～比較例４の光学積層体に対して、それぞれ光学積層体の透明基材側の面にそれぞれアクリル系透明粘着剤を用いて黒色のアクリルパネルの表面に貼付し、裏面反射が除去される試験体とした。そして、各光学積層体の透明基材と反対側の面から、分光光度計（日立ハイテクサイエンス社製、商品名：UH4150）を用いて、分光反射率（測定波長３８０ｎｍ～１０００ｎｍ、入射角５°）を測定した。測定した分光反射率と、ＣＩＥ標準イルミナントＤ６５の相対分光分布を用いて、ＪＩＳ Ｚ８７０１で規定されているＸＹＺ表色系における、反射による物体色の視感反射率Ｙ（三刺激値Ｙ）を算出した。測定した視感反射率を表１中に示す。
実施例１～実施例４及び比較例１～比較例４の光学積層体に対して、それぞれ光学積層体の透明基材側の面にそれぞれアクリル系透明粘着剤を用いて黒色のアクリルパネルの表面に貼付し、裏面反射が除去される試験体とした。そして、各光学積層体の透明基材と反対側の面から、分光光度計（日立ハイテクサイエンス社製、商品名：UH4150）を用いて、分光反射率（測定波長３８０ｎｍ～１０００ｎｍ、入射角５°）を測定した。測定した分光反射率と、ＣＩＥ標準イルミナントＤ６５の相対分光分布を用いて、ＪＩＳ Ｚ８７０１で規定されているＸＹＺ表色系における、反射による物体色の視感反射率Ｙ（三刺激値Ｙ）を算出した。測定した視感反射率を表１中に示す。
【手続補正12】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１００
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0100】
【表1】
【手続補正13】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0102】
先ず、実施例１～実施例４及び比較例１～３を比較例４と対比することにより、透明基材、第一の高屈折率層、第一の低屈折率層、第二の高屈折率層、第二の低屈折率層、をこの順に備える光学積層体であって、さらに前記第一の高屈折率層に接する位置と、前記第二の高屈折率層に接する位置と、の少なくとも一方に透過率調整層を備えることで、視感透過率を小さくできることが確認された。このうち、シート抵抗値が１０８Ω／□未満である比較例１～比較例３では、タッチパネルによる操作を出来なかったのに対し、シート抵抗値が１０８Ω／□以上である実施例１～実施例４は、タッチパネルによる操作が可能であった。
【手続補正14】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0103】
実施例１～実施例４では、ナロースペクトル測定に於ける透過率調整層のＴｉＮ及びＴｉＯの合計割合が５０％以下であり、上記合計割合の高い比較例１～比較例３と比べてタッチパネル反応性が良好であった。さらに、ナロースペクトル測定における透過率調整層のＴｉＯの割合が１４％以下である実施例１、実施例３及び実施例４は、特にシート抵抗値が高く、タッチパネルディスプレイに適用した場合の操作のしやすさが高いことが期待される。一方、実施例２では、視感透過率を低く抑えることができ、ディスプレイに適用した場合の表示部及び額縁部の色相差を抑えやすいことが期待される。
【手続補正15】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0104】
（色相差試験）
実施例１～実施例４の光学積層体が視感透過率低減により、表示装置に適用した場合に表示部及び額縁部における反射色相差を低減できているかを確認するために、実施例１及び比較例４の光学積層体に対して、反射色相差を測定する色相差試験を行った。色相差試験は、光学積層体の透明基材側の面にそれぞれアクリル系透明粘着剤を用いて、表示部（Ｖ／Ａ）及び額縁部（Ｂ／Ｍ）からなる１０インチサイズのディスプレイ表面に貼付した。このディスプレイの表示部（Ｖ／Ａ）における明度及び色度は、L*:28.6, a*:-0.1, b*:-0.2であり、額縁部（Ｂ／Ｍ）における明度及び色度は、L*:28.4,a*:0.1,b*:0.9であった。さらに、上記反射特性の測定の結果を利用し、表示部（Ｖ／Ａ）及び額縁部（Ｂ／Ｍ）における反射色相差ΔE* abを比較した。表示部（Ｖ／Ａ）及び額縁部（Ｂ／Ｍ）における反射色相差ΔE* abは、以下の式を利用して算出した。
ΔE* ab={(L* 2-L* 1)2 +(a* 2-a* 1)2+(b* 2-b* 1)2}1/2
（式中、L* 1: 表示部の明度，L* 2: 額縁部の明度，a* 1: 表示部の色度，a* 2: 額縁部の色度，b* 1: 表示部の色度，b* 2: 額縁部の色度である。）
実施例１～実施例４の光学積層体が視感透過率低減により、表示装置に適用した場合に表示部及び額縁部における反射色相差を低減できているかを確認するために、実施例１及び比較例４の光学積層体に対して、反射色相差を測定する色相差試験を行った。色相差試験は、光学積層体の透明基材側の面にそれぞれアクリル系透明粘着剤を用いて、表示部（Ｖ／Ａ）及び額縁部（Ｂ／Ｍ）からなる１０インチサイズのディスプレイ表面に貼付した。このディスプレイの表示部（Ｖ／Ａ）における明度及び色度は、L*:28.6, a*:-0.1, b*:-0.2であり、額縁部（Ｂ／Ｍ）における明度及び色度は、L*:28.4,a*:0.1,b*:0.9であった。さらに、上記反射特性の測定の結果を利用し、表示部（Ｖ／Ａ）及び額縁部（Ｂ／Ｍ）における反射色相差ΔE* abを比較した。表示部（Ｖ／Ａ）及び額縁部（Ｂ／Ｍ）における反射色相差ΔE* abは、以下の式を利用して算出した。
ΔE* ab={(L* 2-L* 1)2 +(a* 2-a* 1)2+(b* 2-b* 1)2}1/2
（式中、L* 1: 表示部の明度，L* 2: 額縁部の明度，a* 1: 表示部の色度，a* 2: 額縁部の色度，b* 1: 表示部の色度，b* 2: 額縁部の色度である。）