特開 2024-9437 外観検査装置及び外観検査方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024009437

(43)【公開日】2024-01-23

(54)【発明の名称】外観検査装置及び外観検査方法

(51)【国際特許分類】

   G01N 21/84 20060101AFI20240116BHJP

【ＦＩ】

G01N21/84 Z

【審査請求】未請求

【請求項の数】6

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022110959

(22)【出願日】2022-07-11

(71)【出願人】

【識別番号】000003193

【氏名又は名称】ＴＯＰＰＡＮホールディングス株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100105957

【弁理士】

【氏名又は名称】恩田 誠

(74)【代理人】

【識別番号】100068755

【弁理士】

【氏名又は名称】恩田 博宣

(72)【発明者】

【氏名】小林 峻輔

【テーマコード（参考）】

2G051

【Ｆターム（参考）】

2G051AA37

2G051AB02

2G051AB20

2G051AC15

2G051CA04

2G051DA07

2G051DA08

(57)【要約】

【課題】構成を簡素化しつつ、光学条件を変えた複数の画像を容易に取得可能とした外観検査装置を提供する。
【解決手段】メタルマスクＭが載置されるステージ３０と、ステージ３０を一次元方向に移動させる搬送台２０と、搬送台２０上を移動するメタルマスクＭに対して照明光Ｌを照射するライン照明４２と、メタルマスクＭのうち照明光Ｌが照射された部分を含むように撮像するラインカメラ５２と、搬送台２０、ライン照明４２、及びラインカメラ５２を各別に支持するベース部１０と、を備え、ベース部１０は、ライン照明４２を移動させることでメタルマスクＭに対する照明光Ｌの照射角度を変え、ラインカメラ５２を移動させることでメタルマスクＭに対するラインカメラ５２の撮像角度を変え、回転軸Ｌ１を軸として、ライン照明４２及びラインカメラ５２に対して搬送台２０を回転させる。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

金属板を載置する載置面を備えるステージと、
前記ステージを支持する搬送台であって、前記搬送台の第１位置と第２位置との間を、前記第１位置と前記第２位置との間の撮像位置を通じて、一次元の搬送方向に沿って前記ステージを移動させる搬送部を備える前記搬送台と、
前記撮像位置を通過する前記ステージ上の前記金属板に対して、前記搬送方向と交差する方向に延びるライン状の照明光を照射するライン照明と、
前記撮像位置を通過する前記ステージ上の前記金属板のうち前記照明光が照射された部分を含むように撮像するラインカメラと、
前記搬送台、前記ライン照明、及び前記ラインカメラを各別に支持するベース部と、を備え、
前記ベース部は、
前記ライン照明を移動させることで、前記金属板に対する前記照明光の照射角度を変える照明駆動部と、
前記ラインカメラを移動させることで、前記金属板に対する前記ラインカメラの撮像角度を変えるカメラ駆動部と、
前記撮像位置上の点を通過し、かつ前記載置面に垂直な垂線を回転軸として、前記ライン照明及び前記ラインカメラに対して前記搬送台を回転させる搬送台駆動部と、を備える
外観検査装置。

【請求項2】

前記撮像位置において、前記ステージを下方から支持する支持部をさらに備える
請求項１に記載の外観検査装置。

【請求項3】

前記金属板は、強磁性の金属を含み、
前記ステージは、非磁性であり、
前記支持部は、前記撮像位置において、前記ステージの下方から前記金属板を磁力で下方に引き付ける磁石を備える
請求項２に記載の外観検査装置。

【請求項4】

前記搬送台駆動部は、前記ライン照明と前記ラインカメラとが並ぶ方向と前記搬送方向とがなす角度が、０度以上４５度以下の範囲で前記搬送台を回転させる
請求項１ないし３のうち何れか一項に記載の外観検査装置。

【請求項5】

前記ライン照明は、前記照明光の光量を変更可能に構成される
請求項１ないし３のうち何れか一項に記載の外観検査装置。

【請求項6】

搬送台に支持されるステージが備える載置面に金属板を載置し、
前記搬送台の第１位置から第２位置に向けて、前記第１位置と前記第２位置との間の撮像位置を通じて一次元の搬送方向に沿って前記ステージを移動させ、
前記第１位置から前記撮像位置を通過する前記ステージ上の前記金属板に対して、ライン照明によって前記搬送方向と交差する方向に延びるライン状の照明光を照射するとともに、前記金属板における前記照明光が照射された部分を含むようにラインカメラによって撮像した後、
前記ライン照明を移動させることで、前記金属板に対する前記照明光の照射角度を変えること、
前記ラインカメラを移動させることで、前記金属板に対する前記ラインカメラの撮像角度を変えること、及び、
前記撮像位置上の点を通る前記載置面に垂直な垂線を回転軸として、前記ライン照明及び前記ラインカメラに対して前記搬送台を回転させること、のうちの少なくとも１つを行い、
前記第２位置から前記第１位置に向けて前記撮像位置を通じて前記ステージを移動させ、
前記第２位置から前記撮像位置を通過する前記ステージ上の前記金属板に対して、前記ライン照明によって前記照明光を照射するとともに、前記金属板における前記照明光が照射された部分を含むように前記ラインカメラによって撮像する
外観検査方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、外観検査装置及び外観検査方法に関する。

【背景技術】

【0002】

有機ＥＬディスプレイの製造には、有機ＥＬ材料を基板の表面上に所定の形状で蒸着するためのメタルマスクが用いられる。メタルマスクは、数十μｍの厚さを有した矩形状の金属板である。メタルマスクは、数十μｍの幅を有した貫通孔を備える。有機ＥＬディスプレイの製造において、基板の表面上には、メタルマスクが備える貫通孔の形状に応じた有機ＥＬ材料が形成される。

【0003】

メタルマスクの製造工程では、目視や外観検査装置などによって、疵や変色などの種々の欠陥の有無を確認する外観検査が行われる。例えば、特許文献１には、様々な欠陥を検出するために、光学条件を変えた複数の照明装置及び撮像装置を備える検査装置が記載されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開平７－２１８４５１号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

外観検査装置に光学条件が異なる複数の照明装置及び撮像装置を設けることは、外観検査装置の大型化や複雑化を招く。

【課題を解決するための手段】

【0006】

上記課題を解決するための外観検査装置は、金属板を載置する載置面を備えるステージと、前記ステージを支持する搬送台であって、前記搬送台の第１位置と第２位置との間を、前記第１位置と前記第２位置との間の撮像位置を通じて、一次元の搬送方向に沿って前記ステージを移動させる搬送部を備える前記搬送台と、前記撮像位置を通過する前記ステージ上の前記金属板に対して、前記搬送方向と交差する方向に延びるライン状の照明光を照射するライン照明と、前記撮像位置を通過する前記ステージ上の前記金属板のうち前記照明光が照射された部分を含むように撮像するラインカメラと、前記搬送台、前記ライン照明、及び前記ラインカメラを各別に支持するベース部と、を備え、前記ベース部は、前記ライン照明を移動させることで、前記金属板に対する前記照明光の照射角度を変える照明駆動部と、前記ラインカメラを移動させることで、前記金属板に対する前記ラインカメラの撮像角度を変えるカメラ駆動部と、前記撮像位置上の点を通過し、かつ前記載置面に垂直な垂線を回転軸として、前記ライン照明及び前記ラインカメラに対して前記搬送台を回転させる搬送台駆動部と、を備える。

【0007】

上記構成によれば、照明駆動部、カメラ駆動部、及び搬送台駆動部の各部の駆動によって、ステージ上に載置された金属板に対する照明光の照射角度、及び、撮像角度といった光学条件を変えることができる。したがって、欠陥の種類に応じて光学条件を変えた複数の画像を容易に取得できる。

【0008】

上記外観検査装置において、前記撮像位置において、前記ステージを下方から支持する支持部をさらに備えてもよい。上記構成によれば、金属板が撮像位置を通過する際に、ステージが支持部によって支持されることで、平坦な状態のステージ上に載置された金属板を撮像することができる。また、高さ方向における金属板の位置を一定に保つことができるため、ラインカメラの焦点をより精度よく合わせることができる。

【0009】

上記外観検査装置において、前記金属板は、強磁性の金属を含み、前記ステージは、非磁性であり、前記支持部は、前記撮像位置において、前記ステージの下方から前記金属板を磁力で下方に引き付ける磁石を備えてもよい。上記構成によれば、撮像位置において、支持部が備える磁石によって、金属板が載置面に向かって引き付けられる。これにより、載置面に対する金属板の浮きを抑制することで、より平坦な状態の金属板を撮像できる。

【0010】

上記外観検査装置において、前記搬送台駆動部は、前記ライン照明と前記ラインカメラとが並ぶ方向と前記搬送方向とがなす角度が、０度以上４５度以下の範囲で前記搬送台を回転させる構成であってもよい。上記構成によれば、搬送台の回転に要する空間を過剰に大きくせずに、ステージ上に載置された金属板に対する光学条件を変えることができる。

【0011】

上記外観検査装置において、前記ライン照明は、前記照明光の光量を変更可能に構成されてもよい。上記構成によれば、欠陥の種類に応じて照明光の光量を変えることができる。照明光の照射角度及び撮像角度と合わせて、照明光の光量を最適な条件に変えることで、欠陥の検出精度をより高めることができる。

【0012】

上記課題を解決するための外観検査方法は、搬送台に支持されるステージが備える載置面に金属板を載置し、前記搬送台の第１位置から第２位置に向けて、前記第１位置と前記第２位置との間の撮像位置を通じて一次元の搬送方向に沿って前記ステージを移動させ、前記第１位置から前記撮像位置を通過する前記ステージ上の前記金属板に対して、ライン照明によって前記搬送方向と交差する方向に延びるライン状の照明光を照射するとともに、前記金属板における前記照明光が照射された部分を含むようにラインカメラによって撮像した後、前記ライン照明を移動させることで、前記金属板に対する前記照明光の照射角度を変えること、前記ラインカメラを移動させることで、前記金属板に対する前記ラインカメラの撮像角度を変えること、及び、前記撮像位置上の点を通る前記載置面に垂直な垂線を回転軸として、前記ライン照明及び前記ラインカメラに対して前記搬送台を回転させること、のうちの少なくとも１つを行い、前記第２位置から前記第１位置に向けて前記撮像位置を通じて前記ステージを移動させ、前記第２位置から前記撮像位置を通過する前記ステージ上の前記金属板に対して、前記ライン照明によって前記照明光を照射するとともに、前記金属板における前記照明光が照射された部分を含むように前記ラインカメラによって撮像する。

【0013】

上記外観検査方法によれば、ステージを第１位置から第２位置に向けて移動させた際の光学条件と、ステージを第２位置から第１位置に向けて移動させた際の光学条件とを容易に変えることができる。したがって、欠陥の種類に応じて光学条件を変えた複数の画像を容易に取得できる。

【発明の効果】

【0014】

本発明によれば、外観検査装置の構成を簡素化しつつ、光学条件を変えた複数の画像を容易に取得できる。

【図面の簡単な説明】

【0015】

【図1】図１は、外観検査装置を模式的に示す側面図である。

【図2】図２は、外観検査装置を模式的に示す上面図である。

【図3】図３は、ベース部に対して搬送台が回転した状態を示す上面図である。

【図4】図４は、ステージを支持する支持部を拡大して示す側面図である。

【図5】図５は、ステージが第１位置に位置する状態の上面図である。

【図6】図６は、ステージが第２位置に位置する状態の上面図である。

【図7】図７は、ステージが第１位置に位置し、かつ、ベース部に対して搬送台が４５度回転した状態の上面図である。

【図8】図８は、ステージを支持する支持部の変更例を示す側面図である。

【図9】図９は、搬送台に支持ローラを設けた構成を示す側面図である。

【図10】図１０は、メタルマスクに対する照明光の入射角と撮像角度とを示す模式図である。

【図11】図１１は、比較例２の斜光照明を用いた構成を示す上面図である。

【図12】図１２は、比較例３のリング照明とエリアカメラとを用いた構成を示す側面図である。

【発明を実施するための形態】

【0016】

以下、本発明の一実施形態について図１～図９を参照して説明する。
［メタルマスク］
図１に示すように、外観検査装置１は、画像検査によってメタルマスクＭの外観検査を行うための装置である。メタルマスクＭは、例えば、有機ＥＬディスプレイの製造に用いられる。メタルマスクＭは、例えば、平面視長方形状のシート状を有する。メタルマスクＭは、金属板の一例であって、１０μｍ以上５０μｍ以下の厚さを有するとともに、矩形状の外形を有する。メタルマスクＭの長辺は、例えば、５３０ｍｍ以上１３００ｍｍ以下である。メタルマスクＭの短辺は、例えば、５０ｍｍ以上３５０ｍｍ以下である。メタルマスクＭの中央部には、所定の形状を有した複数の貫通孔が並ぶ。貫通孔は、円形孔でもよいし、四角形孔でもよいし、楕円形孔でもよい。貫通孔の幅は、例えば２０μｍ以上１００μｍ以下である。

【0017】

メタルマスクＭは、磁石に吸着する強磁性の金属を含む。強磁性の金属は、例えば、鉄、コバルト、ニッケル、及び、これらのうち何れかを含む合金からなる群から選択されるいずれか一種である。合金の一例は、鉄及びニッケルを含むインバー材である。

【0018】

［外観検査装置］
外観検査装置１は、ベース部１０と、搬送台２０と、ステージ３０と、照明部４０と、撮像部５０とを備える。ベース部１０は、搬送台２０、照明部４０、及び撮像部５０を支持する。ベース部１０は、Ｘ軸に沿う方向（以下、Ｘ軸方向）が長辺、Ｙ軸に沿う方向（以下、Ｙ軸方向）が短辺となる矩形状の外形を有する。なお、以下では、ベース部１０の長辺が延びる方向をＸ軸、ベース部１０の短辺が延びる方向をＹ軸、高さ方向をＺ軸として説明する。

【0019】

ベース部１０は、回転支持部１１と、軸支部１２とを備える。回転支持部１１は、Ｚ軸と平行な回転軸Ｌ１を軸として回転可能に搬送台２０を支持する。軸支部１２は、照明部４０及び撮像部５０のそれぞれを回動可能に支持する。

【0020】

搬送台２０は、ステージ３０を支持する。搬送台２０は、Ｘ軸方向が長辺、Ｙ軸方向が短辺となる矩形状の外形を有する。回転軸Ｌ１は、一例として、搬送台２０の長辺に対して中央に位置する。搬送台２０は、Ｘ軸方向における中央を境として、一方の側が第１部分２０Ａであり、そして、他方の側が第２部分２０Ｂである。

【0021】

搬送台２０は、レール部２１を備える。レール部２１は、第１部分２０Ａから第２部分２０Ｂに亘って、搬送台２０の長辺（図１ではＸ軸方向）に沿って延びる２つのレール部材２１Ａ，２１Ｂを備える。レール部２１は、ステージ３０の移動経路を構成する。搬送台２０は、例えば、モータを備えた電動アクチュエータ、あるいはシリンダを備えたエアアクチュエータなどの第１駆動機構によって、ステージ３０をレール部２１に沿って移動させる。レール部２１及び第１駆動機構は、ステージ３０を一次元の搬送方向に移動させるための搬送部の一例である。Ｘ軸方向は、搬送台２０がステージ３０を移動させる搬送方向の一例である。搬送方向は、搬送台２０の長辺が延びる方向と一致する。

【0022】

搬送台２０は、第１部分２０Ａにおける所定の第１位置と、第２部分２０Ｂにおける所定の第２位置との間において、ステージ３０を一次元の搬送方向に移動させる。なお、図１では、第１位置に位置するステージ３０、及びメタルマスクＭを実線で示すとともに、第２位置に位置するステージ３０、及びメタルマスクＭを二点鎖線で示す。また、ステージ３０が第１位置から第２位置に向かって移動する場合の第１搬送方向Ｄ１を実線の矢印で示している。ステージ３０が第２位置から第１位置に向かって移動する場合の第２搬送方向Ｄ２を二点鎖線の矢印で示している。

【0023】

ステージ３０は、メタルマスクＭが載置される載置面３１Ｓを備える板状部３１と、レール部２１と係合する係合部３２とを備える。ステージ３０は、レール部２１を構成する２つのレール部材２１Ａ，２１Ｂに跨るように、レール部２１と係合部３２とが係合する。ステージ３０を構成する材料は、磁石に吸着しない非磁性の金属あるいは無機化合物である。非磁性の金属の一例は、アルミニウム、あるいは銅である。非磁性の無機化合物は、酸化珪素、あるいは酸化アルミニウムである。ステージ３０は、自重による中央部の撓みを抑制する観点から、重量当たりの変形抵抗が高いアルミニウムまたはアルミニウム合金が好適である。ステージ３０の厚さは、一例として、２ｍｍ程度である。板状部３１は、載置面３１Ｓを備える。載置面３１Ｓには、メタルマスクＭが載置される。

【0024】

照明部４０及び撮像部５０は、Ｘ軸方向に並ぶ。照明部４０は、第１フレーム部４１と、ライン照明４２とを備える。第１フレーム部４１は、軸支部１２に取り付けられる。第１フレーム部４１は、例えば、モータなどの第２駆動機構によって、Ｙ軸と平行な軸を回転軸として軸支部１２に対して回転する。ライン照明４２は、第１フレーム部４１の先端に取り付けられる。ライン照明４２は、レール部２１に沿って移動するステージ３０に載置されたメタルマスクＭに対して、照明光Ｌをライン状に照射する。ライン照明４２は、例えば、Ｙ軸方向に沿って直線状に配置されたＬＥＤ照明である。第１フレーム部４１及び第２駆動機構は、ライン照明４２を移動させることで、メタルマスクＭに対する照明光Ｌの照射角度を変える照明駆動部の一例である。

【0025】

ライン照明４２は、ライン照明４２が備える発光面４２Ｓに対して照明光Ｌの光軸ＯＡが直角になるように、メタルマスクＭに対して照明光Ｌを集光照射する。ライン照明４２は、照明光Ｌの光量を変更可能に構成される。ライン照明４２は、例えば、印加される電圧の大きさに応じて照明光Ｌの光量を変える。なお、例えば、照明光Ｌの光量を変えるために、メッシュ状のシャッターを用いてもよい。照明光Ｌがメッシュ状のシャッターを通過することで、照明光Ｌの光量が少なくなる。したがって、照明光Ｌの光路上にメッシュ状のシャッターが配置された状態と、照明光Ｌの光路上にメッシュ状のシャッターが配置されていない状態とを切り換えることで、照明光Ｌの光量が変更されてもよい。あるいは、液晶シャッターを用いて照明光Ｌの透過率を切り換えることで、照明光Ｌの光量が変更されてもよい。

【0026】

撮像部５０は、Ｘ軸方向において、軸支部１２に対して照明部４０と反対側に位置する。撮像部５０は、第２フレーム部５１と、ラインカメラ５２とを備える。第２フレーム部５１は、軸支部１２に取り付けられる。第２フレーム部５１は、例えば、モータなどの第３駆動機構によって、Ｙ軸と平行な軸を回転軸として軸支部１２に対して回転する。

【0027】

ラインカメラ５２は、第２フレーム部５１の先端に取り付けられる。ラインカメラ５２は、レール部２１に沿って移動するステージ３０に載置されたメタルマスクＭにおいて、照明光ＬがメタルマスクＭ上で反射した反射光の輝度を取得する。換言すると、ラインカメラ５２は、レール部２１に沿って移動するステージ３０に載置されたメタルマスクＭのうち照明光Ｌが照射された部分を含むように撮像する。Ｘ軸とＺ軸とを含むＸＺ平面において、ラインカメラ５２の撮像軸ＩＡは、ライン照明４２の光軸ＯＡと交点Ｐで交差する。第２フレーム部５１及び第３駆動機構は、ラインカメラ５２を移動させることで、メタルマスクＭに対するラインカメラ５２の撮像角度を変えるカメラ駆動部の一例である。

【0028】

第１フレーム部４１及び第２フレーム部５１は、Ｙ軸と平行、かつ交点Ｐを通過する軸を回転軸として、軸支部１２に対して回転する。すなわち、第１フレーム部４１の回転軸、及び第２フレーム部５１の回転軸は、ＸＺ平面において、交点Ｐと重なる。したがって、ライン照明４２の光軸ＯＡとラインカメラ５２の撮像軸ＩＡと交点Ｐの位置は、第１フレーム部４１及び第２フレーム部５１の回転角度によらず一定である。交点Ｐは、レール部２１に沿って移動するステージ３０に載置されたメタルマスクＭの表面と同じ高さになるように構成される。交点Ｐは、例えば、ＸＺ平面において、回転軸Ｌ１上に位置する。第１フレーム部４１及び第２フレーム部５１は、例えば、ベース部１０となす角度が０度超１８０度未満の範囲になるように、軸支部１２に対して各別に回転する。

【0029】

照明部４０及び撮像部５０のうち少なくとも一方をベース部１０に対して回転させることで、メタルマスクＭが撮像される際の光学条件を変えることができる。例えば、照明光Ｌの反射角度とラインカメラ５２の撮像角度とが一致するとき、ラインカメラ５２が取得する画像は、明視野像となる。また、照明光Ｌの反射角度とラインカメラ５２の撮像角度とが異なるとき、ラインカメラ５２が取得する画像は、暗視野像となる。また、照明光Ｌの光量を変えることによっても、メタルマスクＭが撮像される際の光学条件を変えることができる。

【0030】

外観検査装置１は、制御装置１００を備える。制御装置１００は、例えば、制御部と、記憶部とを備える。制御部は、制御装置１００の各部の動作を制御する。制御部は、一例として、ＣＰＵである。制御部は、例えば、搬送台２０を駆動してステージ３０を移動させる。制御部は、第１フレーム部４１を駆動して照明部４０を軸支部１２に対して回転させる。制御部は、ライン照明４２が照明光Ｌを照射する状態と、ライン照明４２が照明光Ｌを照射しない状態とを切り換える。制御部は、ライン照明４２が照射する照明光Ｌの光量を変える。制御部は、第２フレーム部５１を駆動して撮像部５０を軸支部１２に対して回転させる。制御部は、レール部２１に沿って移動するステージ３０に載置されたメタルマスクＭを、ラインカメラ５２に撮像させる。制御部は、ラインカメラ５２が撮像した画像データを加工する。制御部は、ラインカメラ５２が撮像した画像データから、メタルマスクＭの欠陥の有無を判定する。

【0031】

記憶部は、一例として、ＨＤＤである。記憶部は、一例として、制御装置１００の各部の動作を制御するプログラムや、ラインカメラ５２が撮像した画像データ、当該画像データを加工するプログラム、及び、当該画像データからメタルマスクＭの欠陥の有無を判定するプログラムを記憶する。

【0032】

図２に示すように、メタルマスクＭは、長辺が搬送方向と平行になるように、載置面３１Ｓに載置される。搬送台２０は、レール部２１の中心を通る搬送軸Ｌ２に沿って、第１位置から第２位置に向けて、もしくは第２位置から第１位置に向けてステージ３０を移動させる。このとき、ステージ３０は、第１位置と第２位置との間の撮像位置を通過する。なお、搬送軸Ｌ２は、搬送台２０がステージ３０を移動させる搬送方向と平行である。また、図２では、搬送軸Ｌ２がベース部１０におけるＹ軸方向の中心を通る中心線Ｌ４と重なる場合を図示している。

【0033】

ライン照明４２は、搬送台２０の撮像位置を通過するステージ３０に載置されたメタルマスクＭに照明光Ｌを照射する。搬送台２０における撮像位置は、搬送台２０における第１位置と第２位置との間において、ライン照明４２の照明光Ｌが照射されるとともに、ラインカメラ５２によって撮像される位置である。例えば、撮像位置の中心は、搬送軸Ｌ２と照明光Ｌが照射される領域の中心線Ｌ３との交点である。なお、図２では、ステージ３０が撮像位置を通過する状態において、外観検査装置１のなかで照明光Ｌが照射される領域を二点鎖線で示している。

【0034】

ラインカメラ５２は、搬送台２０における撮像位置を通過するステージ３０に載置されたメタルマスクＭのうち照明光Ｌが照射された部分を含むように、ライン状の撮像領域を撮像する。すなわち、ラインカメラ５２の撮像領域は、ライン照明４２の照明光Ｌが照射される領域と重なる。例えば、Ｘ軸方向において、ラインカメラ５２の撮像領域の中心は、照明光Ｌが照射される領域の中心線Ｌ３と一致する。なお、中心線Ｌ３は、Ｙ軸に平行な直線である。

【0035】

ラインカメラ５２は、メタルマスクＭの全体を一度に撮像するようなエリアカメラと比較して、撮像領域が小さい分だけ、ラインカメラ５２とメタルマスクＭとの距離を小さくすることができる。したがって、ラインカメラ５２を用いることで、エリアカメラを用いる場合と比較して、外観検査装置１の外形を小さくすることができる。

【0036】

照明部４０及び撮像部５０は、中心線Ｌ３を回転軸として、軸支部１２に対して回転する。そのため、メタルマスクＭに対する照明光Ｌの照射角度が何れの場合であっても、外観検査装置１のなかで照明光Ｌが照射される領域の位置は一定となる。同様に、メタルマスクＭに対する撮像角度が何れの場合であっても、外観検査装置１のなかで撮像領域の位置は一定となる。なお、中心線Ｌ３は、ＸＺ平面において、図１中の交点Ｐを通過する。

【0037】

図３に示すように、回転支持部１１は、例えば、モータなどの第４駆動機構によって、Ｚ軸と平行な回転軸Ｌ１を中心に搬送台２０をベース部１０に対して回転させる。回転軸Ｌ１は、搬送台２０における撮像位置上の点を通過するＺ軸と平行な軸であって、ＸＹ平面に対する垂線である。回転軸Ｌ１は、載置面３１Ｓに対して垂直である。回転軸Ｌ１は、例えば、撮像位置の中心である搬送軸Ｌ２と中心線Ｌ３との交点を通過する。回転支持部１１及び第４駆動機構は、ベース部１０に取り付けられたライン照明４２及びラインカメラ５２に対して搬送台２０を回転させる搬送台駆動部の一例である。

【0038】

回転支持部１１は、例えば、搬送軸Ｌ２と、ベース部１０におけるＹ軸方向の中心を通る中心線Ｌ４とがなす角度θ１が０度以上４５度以下の範囲になるように、搬送台２０をベース部１０に対して回転させる。中心線Ｌ４は、Ｘ軸と平行な直線である。また、中心線Ｌ４は、ベース部１０において、照明部４０及び撮像部５０が並ぶ方向と一致する。換言すると、回転支持部１１は、搬送方向と平行な搬送軸Ｌ２と照明光Ｌが延びるＹ軸方向と平行な中心線Ｌ３とがなす角度θ２が、４５度以上１３５度以下の範囲になるように、搬送台２０をベース部１０に対して回転させる。

【0039】

搬送台２０をベース部１０に対して回転させることで、搬送台２０がステージ３０を移動させる搬送方向に対して、メタルマスクＭに対して照明光Ｌが照射される方向、及びメタルマスクＭが撮像される方向を変えることができる。すなわち、搬送台２０をベース部１０に対して回転させることで、メタルマスクＭが撮像される際の光学条件を変えることができる。

【0040】

搬送台２０の長辺は、ベース部１０のＹ軸方向に沿う短辺よりも大きい。そのため、搬送台２０の搬送軸Ｌ２とベース部１０の中心線Ｌ４とがなす角度θ１が直角に近づくように大きくなる程、外観検査装置１におけるＹ軸方向の幅が大きくなる。したがって、搬送軸Ｌ２と中心線Ｌ４とがなす角度θ１が０度以上４５度以下であれば、仮に角度θ１が９０度近くになるまで回転する構造と比較して、外観検査装置１におけるＹ軸方向の幅を小さくすることができる。

【0041】

搬送台２０は、支持部２２を備える。支持部２２は、搬送台２０における撮像位置を通過するステージ３０を下方から支持する。支持部２２の中心は、一例として、撮像位置の中心である搬送軸Ｌ２と中心線Ｌ３との交点と一致する。ステージ３０が撮像位置を通過する際に支持部２２によって支持されることで、ステージ３０を平坦な状態に保つことができる。これにより、平坦な状態のステージ３０上に載置されたメタルマスクＭを撮像できる。

【0042】

図４に示すように、支持部２２は、磁石２２Ａと、２つの非磁性部２２Ｂとを備える。なお、図４では、磁石２２Ａにドットを付す。磁石２２Ａ及び非磁性部２２Ｂは、搬送方向と交差する方向に延在する。磁石２２Ａは、搬送方向において、２つの非磁性部２２Ｂの間に位置する。なお、図４では、搬送方向がＸ軸方向と一致する状態を図示している。磁石２２Ａ及び非磁性部２２Ｂは、撮像位置において、ステージ３０の板状部３１が自重及びメタルマスクＭの重量によって撓まないように、板状部３１を下方から支持する。

【0043】

磁石２２Ａは、アルニコ磁石、フェライト磁石、あるいはネオジム磁石等の永久磁石によって構成される。非磁性部２２Ｂは、非磁性の金属、無機材料、あるいはＰＯＭ（ポリアセタール樹脂）などの樹脂材料である。支持部２２は、非磁性部２２Ｂによって撮像位置を通過するステージ３０を支持しつつ、磁石２２Ａの磁力によってメタルマスクＭを載置面３１Ｓに向かって下方から引き付けることができる。これにより、載置面３１Ｓに対するメタルマスクＭの浮きを抑制することで、より平坦な状態のメタルマスクＭを撮像できる。なお、ステージ３０の厚さは、磁石２２Ａの磁力をメタルマスクＭに十分に作用させつつ、機械的強度を維持する観点から、１ｍｍ以上２ｍｍ以下が好ましい。

【0044】

［外観検査方法］
外観検査装置１は、メタルマスクＭの製造過程において、メタルマスクＭの表面に生じた欠陥の有無を検査する。メタルマスクＭに生じる欠陥は、例えば、疵欠陥、シミ欠陥、及び孔部欠陥である。疵欠陥は、製造装置、他の金属板、または異物のエッジとの接触などによって生じるスクラッチや打痕などである。例えば、メタルマスクＭのような長尺なシート状の金属板は、ロール状に捲回された状態から巻き出して加工した後、再びロール状に捲回するロールツーロール方式によって製造される場合がある。ロールツーロール方式では、メタルマスクＭの表面上に、疵欠陥の一例である巻き方向（送り方向）と平行、すなわちメタルマスクＭの長辺と平行なスクラッチが形成されやすい。メタルマスクＭの長辺と平行なスクラッチを検出する場合では、ステージ３０の搬送方向が、ライン照明４２とラインカメラ５２とが並ぶＸ軸に対して平行でない状態、すなわち、角度θ１が０度超４５度以下の状態が好ましい。

【0045】

シミ欠陥は、製造装置、他の金属板、または異物に対する面同士での接触や、化学的反応によって生じる。シミ欠陥は、錆や化学反応による変色、表面上のざらつき等を含む。シミ欠陥は、疵欠陥に比べると照明光Ｌの反射の度合いが小さい場合が多い。シミ欠陥を検出する場合では、例えば、暗視野の状態で撮像することが好ましい。

【0046】

孔部欠陥は、メタルマスクＭの中央部に位置する貫通孔の形状不良である。貫通孔は、例えば、化学的なエッチングによって形成される。孔部欠陥は、例えば、貫通孔が一部もしくは全部が形成されていない、または、貫通孔が大きすぎる、もしくは小さすぎる、あるいは、貫通孔の縁部の欠け等である。貫通孔は、メタルマスクＭが厚さ方向に貫通した部分であるから、照明光Ｌを照射した際の反射の態様が他の部分と異なる。そのため、孔部欠陥を検出する場合には、貫通孔の縁部の形状を識別できるように、最適な光量であることが好ましい。また、貫通孔の縁部の形状を鮮明に撮像するために、照明光ＬがメタルマスクＭで正反射した反射光をラインカメラ５２によって撮像することが好ましい。すなわち、図１に示すＸＺ平面において、照明光Ｌの光軸ＯＡと回転軸Ｌ１とがなす入射角と、ラインカメラ５２の撮像軸ＩＡと回転軸Ｌ１とがなす撮像角度とが等しいことが好ましい。

【0047】

以上のように、メタルマスクＭには、照明光Ｌを照射した際の反射の態様が異なる複数種類の欠陥が生じる場合がある。また、欠陥の形状や大きさによっては、特定の照射角度や撮影角度では、画像上で識別しにくい場合がある。すなわち、メタルマスクＭに生じる欠陥を検出するための最適な光学条件は、欠陥の種類、大きさ、形状などによって異なる場合がある。

【0048】

そのため、外観検査装置１で外観検査を行う際には、予め検出したい欠陥の種類及び程度に応じて最適な光学条件を実現するための第１から第５の撮像条件を決定する。撮像条件は、外観検査装置１における各部の設定であって、メタルマスクＭを撮像する際の光学条件を決定する要素である。

【0049】

第１の撮像条件は、メタルマスクＭに対する照明光Ｌの照射角度の大きさ、すなわち、ＸＺ平面におけるベース部１０に対する第１フレーム部４１の角度の大きさである。第２の撮像条件は、メタルマスクＭに対するラインカメラ５２の撮像角度の大きさ、すなわち、ＸＺ平面におけるベース部１０に対する第２フレーム部５１の角度の大きさである。第３の撮像条件は、ライン照明４２とラインカメラ５２とが並ぶＸ軸に対するステージ３０の搬送方向の角度θ１の大きさ、すなわち、Ｘ軸とＹ軸とを含むＸＹ平面におけるベース部１０に対する搬送台２０の角度θ１の大きさである。第４の撮像条件は、撮像位置を通過するメタルマスクＭに対する露光時間である。露光時間は、搬送台２０がステージ３０を搬送する搬送速度に依存する。第５の撮像条件は、撮像位置を通過するメタルマスクＭに対する照明光Ｌの光量である。

【0050】

制御装置１００は、第１から第５の撮像条件の組み合わせである撮像条件パターンを、少なくとも１つ以上記憶する。例えば、制御装置１００は、疵欠陥を検出するために最適な撮像条件の組み合わせを第１の撮像条件パターンとして記憶する。制御装置１００は、シミ欠陥を検出するために最適な撮像条件の組み合わせを第２の撮像条件パターンとして記憶する。制御装置１００は、孔部欠陥を検出するために最適な撮像条件の組み合わせを第３の撮像条件パターンとして記憶する。なお、１つの撮像条件パターンによって、複数種類の欠陥を同時に検知できるのであれば、必ずしも欠陥の種類ごとの撮像条件パターンを記憶させる必要は無い。また、１つの欠陥の種類に対して、検出の精度を上げるために複数の撮像条件パターンを記憶させてもよい。各撮像条件パターンは、第１から第５の撮像条件のうち少なくとも1つの撮像条件が異なればよい。

【0051】

以下、外観検査方法の一例について、図５～図７を参照して説明する。
図５に示すように、まず、搬送台２０における第１位置に位置するステージ３０の載置面３１ＳにメタルマスクＭを載置する。そして、制御装置１００は、外観検査装置１の各部を駆動して、所望の欠陥を検出するための撮像条件パターンを適用する。この状態で、搬送台２０を駆動してステージ３０を第１位置から第２位置に向かう第１搬送方向Ｄ１に沿って移動させる。そして、ステージ３０が第１位置から第２位置に移動する際に、撮像位置を通過するステージ３０に載置されたメタルマスクＭに対してラインカメラ５２によって第１の撮像を行う。

【0052】

図６に示すように、ステージ３０は、第１の撮像が完了した状態で搬送台２０の第２位置に位置する。次いで、制御装置１００は、外観検査装置１の各部を駆動して、第１の撮像で適用した撮像条件パターンとは異なる撮像条件パターンを適用する。例えば、第３から第５の撮像条件を変えずに、第１の撮像条件である照明光Ｌの照射角度、または、第２の撮像条件であるラインカメラ５２の撮像角度の少なくとも一方を変える。この状態で、搬送台２０を駆動してステージ３０を第２位置から第１位置に向かう第２搬送方向Ｄ２に沿って移動させる。そして、ステージ３０が第２位置から第１位置に移動する際に、撮像位置を通過するステージ３０に載置されたメタルマスクＭに対してラインカメラ５２によって第２の撮像を行う。

【0053】

図７に示すように、ステージ３０は、第２の撮像が完了した状態で、再び搬送台２０の第１位置に位置する。そして、制御装置１００は、外観検査装置１の各部を駆動して、第１の撮像及び第２の撮像で適用した撮像条件パターンとは異なる撮像条件パターンを適用する。例えば、第２の撮像で適用した撮像条件パターンから、第３の撮像条件であるベース部１０に対する搬送台２０の角度θ１を４５度に変更しつつ、他の撮像条件を変更しない。この状態で、搬送台２０を駆動してステージ３０を第１位置から第２位置に向かう第１搬送方向Ｄ１に沿って移動させる。そして、ステージ３０が第１位置から第２位置に移動する際に、撮像位置を通過するステージ３０に載置されたメタルマスクＭに対してラインカメラ５２によって第３の撮像を行う。

【0054】

このように、搬送台２０の第１位置と第２位置との間を、メタルマスクＭを載置したステージ３０を移動させて複数回の撮像を行う。そして、撮像を行うごとに撮像条件パターンを変えることで、光学条件を変えた複数の画像を取得できる。なお、撮像の回数は、３回に限定されず、欠陥を検出するために必要な回数の撮像を行えばよい。また、撮像した画像は、例えば、画像処理によってメタルマスクＭの全体を納めた１つの画像データとして変換される。さらに、変換された画像データに対して、二値化などの処理手法を用いて欠陥の有無を判別してもよい。

【0055】

［実施形態の効果］
上記実施形態によれば、以下に列挙する効果を得ることができる。
（１）メタルマスクＭに対する照明光Ｌの照射角度、メタルマスクＭに対するラインカメラ５２の撮像角度、及びライン照明４２とラインカメラ５２とが並ぶＸ軸とステージ３０の搬送方向とがなす角度θ１のそれぞれが変更可能に構成されている。これにより、外観検査装置１の各部を駆動することで、撮像位置を通過するメタルマスクＭを撮像する際の光学条件を容易に変えることができる。したがって、欠陥の種類に応じて光学条件を変えた複数の画像を容易に取得できる。

【0056】

また、欠陥を検出するための最適な光学条件となる撮像条件パターンを決定する際にも、各撮像条件を容易に変えることができることから、最適な光学条件となる撮像条件パターンを簡便に決定できる。

【0057】

（２）ステージ３０が撮像位置を通過する際に、支持部２２によってステージ３０を支持することで、平坦な状態のステージ３０上に支持されたメタルマスクＭを撮像できる。また、高さ方向であるＺ軸方向におけるメタルマスクＭの位置を一定に保つことができるため、ラインカメラ５２の焦点をより精度よく合わせることができる。

【0058】

（３）支持部２２が磁石２２Ａを備えることで、載置面３１Ｓに対するメタルマスクＭの浮きを抑制できる。そのため、より平坦な状態のメタルマスクＭを撮像できる。
（４）角度θ１が０度以上４５度以下の範囲であることで、搬送台２０の回転に要する空間を過剰に大きくせずに、ステージ３０上に載置されたメタルマスクＭに対する光学条件を変えることができる。特に、検査対象がメタルマスクＭのように長尺である程、角度θ１が直角に近づくにつれて、外観検査装置１におけるＹ軸方向の幅が大きくなる。したがって、検査対象がメタルマスクＭのように長尺である程、上記の効果が大きくなる。

【0059】

（５）ライン照明４２が照明光Ｌの光量を変更可能に構成されることで、欠陥の種類に応じて照明光Ｌの光量を変えることができる。これにより、照明光Ｌの照射角度及びラインカメラ５２の撮像角度と合わせて、照明光Ｌの光量を最適な条件に変えることで、欠陥の検出精度をより高めることができる。

【0060】

（６）搬送台２０がステージ３０を搬送する搬送速度を変えることで、ラインカメラ５２がメタルマスクＭを撮像する際の露光時間を変えることができる。これにより、照明光Ｌの照射角度及びラインカメラ５２の撮像角度と合わせて、露光時間を最適な条件に変えることで、欠陥の検出精度をより高めることができる。

【0061】

［変更例］
なお、上記実施形態は、以下のように変更して実施することができる。
・搬送台２０がステージ３０を搬送する搬送速度が一定であってもよい。この場合では、ラインカメラ５２がメタルマスクＭを撮像する際の露光時間が一定になるものの、上記（１）～（５）に準じた効果を得ることができる。

【0062】

・ライン照明４２が照射する照明光Ｌの光量が一定であってもよい。この場合であっても、上記（１）～（４），（６）に準じた効果を得ることができる。
・外観検査装置１の設置に際して空間的な制約が無いのであれば、ライン照明４２とラインカメラ５２とが並ぶＸ軸とステージ３０の搬送方向とがなす角度θ１が４５度超であってもよい。例えば、ベース部１０を円形にしつつ、搬送台２０が回転軸Ｌ１を軸に３６０度回転する構成であってもよい。このような構成であっても、上記（１）～（３），（５），（６）に準じた効果を得ることができる。

【0063】

・例えば、メタルマスクＭの厚さが大きい場合など、載置面３１Ｓに載置した状態でシワや波打ちが生じにくく、載置面３１Ｓに対して浮きが生じにくいのであれば、支持部２２が磁石２２Ａを備えなくてもよい。例えば、磁石２２Ａに代えて、支持部２２の全体が非磁性部２２Ｂで構成されてもよい。このような構成であっても、上記（１），（２），（４）～（６）に準じた効果を得ることができる。また、支持部２２が磁石２２Ａを備えない場合には、ステージ３０が強磁性の材料で構成されてもよいし、メタルマスクＭが非磁性の材料で構成されてもよい。また、支持部２２に磁石２２Ａを設けるのではなく、ステージ３０における載置面３１Ｓと反対側の面に磁石を設けてもよい。

【0064】

また、図８に示すように、支持部２２がローラであってもよい。このような構成であれば、撮像位置を通過するステージ３０を支持しつつ、ステージ３０を円滑に移動させることができる。また、磁石２２Ａを備えた支持部２２と、ローラ状の支持部２２とを並設してもよい。

【0065】

・ステージ３０の板状部３１が、自重及びメタルマスクＭの重量で撓まない程度の十分な剛性を有しているのであれば、支持部２２は割愛されてもよい。また、支持部２２は搬送台２０に取り付けられるのではなく、ベース部１０に取り付けられてもよい。ステージ３０の板状部３１が撓まないように、アルミニウム等の非磁性の材料で補強してもよい。

【0066】

・図９に示すように、搬送台２０は、支持ローラ２３を備えてもよい。支持ローラ２３は、例えば、搬送台２０における搬送方向（長手方向）の各端において、搬送台２０の下部に設けられる。支持ローラ２３は、搬送台２０がベース部１０に対して回転する際に、ベース部１０上を回転しながら、搬送台２０を下方から支持する。搬送台２０における搬送方向の端部が自由端の場合では、搬送方向の寸法が大きくなる程、自重やステージ３０、及びメタルマスクＭの重量によって撓みやすくなる。支持ローラ２３を設けることで、搬送方向の端部を支持しつつ、ベース部１０に対して搬送台２０を円滑に回転させることができる。

【0067】

・外観検査装置１の検査対象は、メタルマスクＭに限定されず、任意の偏平な金属板であればよい。検査対象の金属板は、一例として、強磁性の材料で構成されるが、支持部２２に磁石２２Ａを設けない場合には、非磁性の材料で構成されてもよい。

【0068】

［実施例］
以下、図１０～図１２を参照して、実施例及び比較例について説明する。なお、以下の実施例は、上記実施形態の効果を説明するための一例であって、本発明を限定するものではない。

【0069】

［実施例１］
検査対象として、厚さが３０μｍ程度のメタルマスクＭを用いた。ステージ３０上にメタルマスクＭを設置した。照明光Ｌを集光照射するライン照明４２として使用した。ステージ３０に対するメタルマスクＭの浮きを抑制するために、磁石２２Ａを備える支持部２２を用いた。ステージ３０は、厚さが２ｍｍのアルミニウム板とした。ステージ３０は、十分な剛性を確保するため外周部をアルミフレームで補強しつつ、さらにステージ３０の裏面から支持部２２の一例であるローラで支えた。すなわち、実施例１では、磁石２２Ａを備える支持部２２と、ローラ状の支持部２２とを並設した。この状態で、ラインカメラ５２を用いてメタルマスクＭの外観を撮像した。

【0070】

図１０に示すように、ＸＺ平面において、照明光Ｌの光軸ＯＡと回転軸Ｌ１とがなす入射角をθ３とするとともに、ラインカメラ５２の撮像軸ＩＡと回転軸Ｌ１とがなす撮像角度をθ４とする。実施例１では、搬送軸Ｌ２とベース部１０の中心線Ｌ４とがなす角度θ１を４５度とした。そして、入射角θ３及び撮像角度θ４の両方を３０度とした状態で、第１の撮像を行った。その後、入射角θ３のみを３０度から２４度に変えた状態で、第２の撮像を行った。

【0071】

［比較例１］
ベース部１０が回転支持部１１を備えず、ベース部１０に対して搬送台２０が回転しない点を除き、実施例１と同様にラインカメラ５２による撮像を行った。したがって、比較例１では、角度θ１が０度の状態で固定されている。そして、入射角θ３及び撮像角度θ４の両方を３０度とした状態で、第１の撮像を行った。その後、入射角θ３のみを３０度から２４度に変えた状態で、第２の撮像を行った。

【0072】

［比較例２］
図１１に示すように、ベース部１０が回転支持部１１を備えず、ベース部１０に対して搬送台２０が回転しない点と、ライン照明４２に代えて、斜光照明４３を用いた点を除き、実施例１と同様にラインカメラ５２による撮像を行った。したがって、比較例２では、角度θ１が０度の状態で固定されている。斜光照明４３は、ＸＹ平面と対向する視点から見て、Ｘ軸に対して一定の角度θ５をなすように、照明光Ｌを照射する。角度θ５は、３０度とした。そして、入射角θ３及び撮像角度θ４を両方とも３０度とした状態で、第１の撮像を行った。その後、入射角θ３のみを３０度から２４度に変えた状態で、第２の撮像を行った。

【0073】

［比較例３］
図１２に示すように、ライン照明４２に代えて、環状のリング照明４４を用い、かつ、ラインカメラ５２に代えて、エリアカメラ５３を用いた点を除き、実施例１と同様に撮像を行った。なお、図１２では、リング照明４４をＹ軸方向の中心で切断した状態を模式的に示す。リング照明４４及びエリアカメラ５３は、撮像位置を通過するステージ３０上のメタルマスクＭの直上に配置される。リング照明４４は、メタルマスクＭの全体に向けて、直上から照明光Ｌを照射する。エリアカメラ５３は、メタルマスクＭの全体を直上から一度に撮像する。なお、比較例３の場合では、角度θ１を変えても撮像できる画像に大きな差異は無い。また、リング照明４４の照射角度は一定であり、撮像角度θ４は０度で固定となる。そのため、比較例３では、第１の撮像のみを行った。

【0074】

［評価］
検査対象としたメタルマスクＭに対して目視による外観検査を行うことで予め欠陥の位置を把握した上で、撮像した画像データ上の同じ位置で欠陥が確認できるかどうかを判断した。撮像画像において目視により欠陥が確認できないものを不良（×）とした。撮像画像において目視によりわずかに欠陥が確認できたものを並（△）とした。撮像画像において目視により欠陥がはっきり確認されたものを良（〇）とした。評価は、疵欠陥、シミ欠陥、及び孔部欠陥のそれぞれについて行った。また、実施例１、及び比較例１、２では、各欠陥について、第１の撮像及び第２の撮像で得られた画像データのそれぞれについて評価したうえで、より明確に欠陥が確認できた方の結果を採用した。実施例１、及び比較例１～３の評価結果を表１に示す。

【0075】

【表1】

【0076】

表１に示すように、実施例１では、疵欠陥、シミ欠陥、及び孔部欠陥の全てにおいてコントラストが明瞭な画像を撮像できた。比較例１、比較例２、比較例３では、疵欠陥の一例である打痕やメタルマスクＭの長辺と平行なスクラッチを、コントラストが明瞭な状態で撮影できなかった。また、比較例１、比較例２、比較例３では、シミ欠陥においても、実施例１と比較してコントラストが明瞭な状態で撮影できなかった。比較例１～３では、実施例１と比較して調整可能な撮像条件の要素（可動軸の数）が少ないことから、シミ欠陥を検出するために最適な撮像条件を構築できなかったものと考えられる。

【符号の説明】

【0077】

θ１，θ２…角度
θ３…入射角
θ４…撮像角度
Ｌ…照明光
Ｌ１…回転軸
Ｌ２…搬送軸
１…外観検査装置
１０…ベース部
２０…搬送台
２１…レール部
２２…支持部
２２Ａ…磁石
３０…ステージ
３１…板状部
３１Ｓ…載置面
４０…照明部
４１…第１フレーム
４２…ライン照明
５０…撮像部
５１…第２フレーム
５２…ラインカメラ
１００…制御装置

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】