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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024095020
(43)【公開日】2024-07-10
(54)【発明の名称】表面保護フィルム付光学積層体およびその製造方法
(51)【国際特許分類】
G02B 5/30 20060101AFI20240703BHJP
B32B 27/00 20060101ALI20240703BHJP
B32B 7/023 20190101ALI20240703BHJP
【ＦＩ】
G02B5/30
B32B27/00 B
B32B7/023
B32B27/00 M
【審査請求】未請求
【請求項の数】11
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022211997
(22)【出願日】2022-12-28
(71)【出願人】
【識別番号】000003964
【氏名又は名称】日東電工株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110003845
【氏名又は名称】弁理士法人籾井特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】小野 健太郎
(72)【発明者】
【氏名】麻野井 祥明
(72)【発明者】
【氏名】後藤 周作
【テーマコード（参考）】
2H149
4F100
【Ｆターム（参考）】
2H149AA02
2H149AA18
2H149AB26
2H149DA02
2H149EA02
2H149EA22
2H149FA02X
2H149FA03W
2H149FA05X
2H149FA08Z
2H149FA09Y
2H149FA12Y
2H149FA12Z
2H149FA13Y
2H149FA24Y
2H149FA58Y
2H149FA66
2H149FB01
2H149FB08
2H149FD12
2H149FD44
4F100AK25
4F100AK25B
4F100AK25E
4F100AK42
4F100AK42B
4F100AK42C
4F100AR00B
4F100AR00C
4F100AT00A
4F100AT00D
4F100BA03
4F100BA05
4F100BA07
4F100CB05
4F100CB05E
4F100GB41
4F100JK02
4F100JK06
4F100JL13
4F100JL13E
(57)【要約】
【課題】本発明は、ＶＲゴーグルに適用される光学積層体であって、表面保護と欠点の精密検査とを両立可能な光学積層体の提供を主たる目的とする。
【解決手段】少なくとも１つの光学部材を含み、ディスプレイ付きゴーグルに用いられる、光学積層体と、該光学積層体の一方の面に外方に向かってこの順に貼着されている、第一表面保護フィルムおよび第二表面保護フィルムと、を有する、表面保護フィルム付光学積層体。
【選択図】図１
【解決手段】少なくとも１つの光学部材を含み、ディスプレイ付きゴーグルに用いられる、光学積層体と、該光学積層体の一方の面に外方に向かってこの順に貼着されている、第一表面保護フィルムおよび第二表面保護フィルムと、を有する、表面保護フィルム付光学積層体。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
少なくとも１つの光学部材を含み、ディスプレイ付きゴーグルに用いられる、光学積層体と、
該光学積層体の一方の面に外方に向かってこの順に貼着されている、第一表面保護フィルムおよび第二表面保護フィルムと、
を有する、表面保護フィルム付光学積層体。
該光学積層体の一方の面に外方に向かってこの順に貼着されている、第一表面保護フィルムおよび第二表面保護フィルムと、
を有する、表面保護フィルム付光学積層体。
【請求項2】
前記第一表面保護フィルムのヘイズが５％未満である、請求項１に記載の表面保護フィルム付光学積層体。
【請求項3】
前記第一表面保護フィルムとして、
第一基材と、該第一基材に積層されている第一粘着剤層と、を有し、
該第一粘着剤層における該第一基材と反対側の表面の最大谷深さ（Ｓｖ）の絶対値が５００ｎｍ以下であり、
該第一基材を顕微鏡観察したときに、１００μｍ×１００μｍの観察領域において、最大フェレ径が１０μｍ以上の欠点数が３つ未満である、表面保護フィルムを、前記光学積層体に貼着して得られる、請求項１に記載の表面保護フィルム付光学積層体。
第一基材と、該第一基材に積層されている第一粘着剤層と、を有し、
該第一粘着剤層における該第一基材と反対側の表面の最大谷深さ（Ｓｖ）の絶対値が５００ｎｍ以下であり、
該第一基材を顕微鏡観察したときに、１００μｍ×１００μｍの観察領域において、最大フェレ径が１０μｍ以上の欠点数が３つ未満である、表面保護フィルムを、前記光学積層体に貼着して得られる、請求項１に記載の表面保護フィルム付光学積層体。
【請求項4】
前記第一粘着剤層における前記第一基材と反対側の表面の算術平均高さ（Ｓａ）の絶対値が２５ｎｍ以下である、請求項３に記載の表面保護フィルム付光学積層体。
【請求項5】
前記第一表面保護フィルムとして、
第一基材と、該第一基材に積層されている第一粘着剤層と、を有し、
該第一粘着剤層における該第一基材と反対側の表面は、下記式（１）を満足する、表面保護フィルムを、前記光学積層体に貼着して得られる、請求項１に記載の表面保護フィルム付光学積層体；
（式（１）中、Ｓは下記表面形状評価試験における白色干渉計の測定視野面積を示し；Ｂ－ＢＡは下記表面形状評価試験において得られる二値化前の二次元画像における黒色領域の面積を示し；Ａ－ＷＡは下記表面形状評価試験において得られる二値化後の二次元画像おける白色領域の面積を示す。）
＜表面形状評価試験＞
該第一粘着剤層における該第一基材と反対側の表面を白色干渉計により測定し；
得られた干渉データを、周波数領域解析により、測定面に対して－１０００ｎｍ～－２０００ｎｍの解析範囲で演算して、該当箇所が黒色領域となる二次元画像を得た後；
該二次元画像を、測定面に対して－１００ｎｍを閾値として二値化解析して、－１００ｎｍ以下の部分が白色領域となる二値化画像を得る。
第一基材と、該第一基材に積層されている第一粘着剤層と、を有し、
該第一粘着剤層における該第一基材と反対側の表面は、下記式（１）を満足する、表面保護フィルムを、前記光学積層体に貼着して得られる、請求項１に記載の表面保護フィルム付光学積層体；
【数1】
＜表面形状評価試験＞
該第一粘着剤層における該第一基材と反対側の表面を白色干渉計により測定し；
得られた干渉データを、周波数領域解析により、測定面に対して－１０００ｎｍ～－２０００ｎｍの解析範囲で演算して、該当箇所が黒色領域となる二次元画像を得た後；
該二次元画像を、測定面に対して－１００ｎｍを閾値として二値化解析して、－１００ｎｍ以下の部分が白色領域となる二値化画像を得る。
【請求項6】
前記第一基材を顕微鏡観察したときに、１００μｍ×１００μｍの観測領域において、最大フェレ径が１０μｍ以上の欠点数が３つ未満である、請求項５に記載の表面保護フィルム付光学積層体。
【請求項7】
前記光学積層体が、偏光部材と、第一位相差部材と、保護部材とを、前記第一表面保護フィルムに向かってこの順に有する、請求項１に記載の表面保護フィルム付光学積層体。
【請求項8】
前記保護部材が、表面処理層を含み、
該表面処理層に、前記第一表面保護フィルムが貼着されている、請求項７に記載の表面保護フィルム付光学積層体。
該表面処理層に、前記第一表面保護フィルムが貼着されている、請求項７に記載の表面保護フィルム付光学積層体。
【請求項9】
前記光学積層体が、前記第一表面保護フィルムおよび前記第二表面保護フィルムが貼着されている側と反対側の面に粘着剤層を有する、請求項１に記載の表面保護フィルム付光学積層体。
【請求項10】
表面保護フィルム付光学積層体の製造方法であって、
少なくとも１つの光学部材を有する光学積層体の一方の面に、第一表面保護フィルムおよび第二表面保護フィルムを貼着することを含み、
該第一の表面保護フィルムが、（ｉ）および（ｉｉ）から選択される、製造方法；
（ｉ）第一基材と、該第一基材に積層されている第一粘着剤層と、を有し、
該第一粘着剤層における該第一基材と反対側の表面の最大谷深さ（Ｓｖ）の絶対値が５００ｎｍ以下であり、
該第一基材を顕微鏡観察したときに、１００μｍ×１００μｍの観察領域において、最大フェレ径が１０μｍ以上の欠点数が３つ未満である、表面保護フィルム；
（ｉｉ）第一基材と、該第一基材に積層されている第一粘着剤層と、を有し、
該第一粘着剤層における該第一基材と反対側の表面は、下記式（１）を満足する、表面保護フィルム；
（式（１）中、Ｓは下記表面形状評価試験における白色干渉計の測定視野面積を示し；Ｂ－ＢＡは下記表面形状評価試験において得られる二値化前の二次元画像における黒色領域の面積を示し；Ａ－ＷＡは下記表面形状評価試験において得られる二値化後の二次元画像おける白色領域の面積を示す。）
＜表面形状評価試験＞
該第一粘着剤層における該第一基材と反対側の表面を白色干渉計により測定し；
得られた干渉データを、周波数領域解析により、測定面に対して－１０００ｎｍ～－２０００ｎｍの解析範囲で演算して、該当箇所が黒色領域となる二次元画像を得た後；
該二次元画像を、測定面に対して－１００ｎｍを閾値として二値化解析して、－１００ｎｍ以下の部分が白色領域となる二値化画像を得る。
少なくとも１つの光学部材を有する光学積層体の一方の面に、第一表面保護フィルムおよび第二表面保護フィルムを貼着することを含み、
該第一の表面保護フィルムが、（ｉ）および（ｉｉ）から選択される、製造方法；
（ｉ）第一基材と、該第一基材に積層されている第一粘着剤層と、を有し、
該第一粘着剤層における該第一基材と反対側の表面の最大谷深さ（Ｓｖ）の絶対値が５００ｎｍ以下であり、
該第一基材を顕微鏡観察したときに、１００μｍ×１００μｍの観察領域において、最大フェレ径が１０μｍ以上の欠点数が３つ未満である、表面保護フィルム；
（ｉｉ）第一基材と、該第一基材に積層されている第一粘着剤層と、を有し、
該第一粘着剤層における該第一基材と反対側の表面は、下記式（１）を満足する、表面保護フィルム；
【数2】
＜表面形状評価試験＞
該第一粘着剤層における該第一基材と反対側の表面を白色干渉計により測定し；
得られた干渉データを、周波数領域解析により、測定面に対して－１０００ｎｍ～－２０００ｎｍの解析範囲で演算して、該当箇所が黒色領域となる二次元画像を得た後；
該二次元画像を、測定面に対して－１００ｎｍを閾値として二値化解析して、－１００ｎｍ以下の部分が白色領域となる二値化画像を得る。
【請求項11】
表示システムの製造方法であって、
請求項１から９のいずれか一項に記載の表面保護フィルム付光学積層体の前記第一表面保護フィルムおよび前記第二表面保護フィルムが貼着された側と反対側に、別の部材を貼着して、表面保護フィルム付二次積層体を得ること、
該表面保護フィルム付二次積層体から前記第二表面保護フィルムを剥離すること、
該表面保護フィルム付二次積層体を欠点検査すること、および
該表面保護フィルム付二次積層体から前記第一表面保護フィルムを剥離して、二次積層体を得ること、
をこの順に含み、
該表示システムが、ディスプレイ付きゴーグルである、製造方法。
請求項１から９のいずれか一項に記載の表面保護フィルム付光学積層体の前記第一表面保護フィルムおよび前記第二表面保護フィルムが貼着された側と反対側に、別の部材を貼着して、表面保護フィルム付二次積層体を得ること、
該表面保護フィルム付二次積層体から前記第二表面保護フィルムを剥離すること、
該表面保護フィルム付二次積層体を欠点検査すること、および
該表面保護フィルム付二次積層体から前記第一表面保護フィルムを剥離して、二次積層体を得ること、
をこの順に含み、
該表示システムが、ディスプレイ付きゴーグルである、製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、表面保護フィルム付光学積層体およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
液晶表示装置およびエレクトロルミネセンス（ＥＬ）表示装置（例えば、有機ＥＬ表示装置）に代表される画像表示装置が急速に普及している。画像表示装置においては、画像表示を実現し、画像表示の性能を高めるために、一般的に、偏光部材、位相差部材等の光学部材が用いられている（例えば、特許文献１を参照）。
【0003】
近年、画像表示装置の新たな用途が開発されている。例えば、Ｖｉｒｔｕａｌ Ｒｅａｌｉｔｙ（ＶＲ）を実現するためのディスプレイ付きゴーグル（ＶＲゴーグル）が製品化され始めている。ＶＲゴーグルでは、表示パネルに表示される画像を拡大して視認者に視認させることから、ＶＲゴーグルに適用される光学積層体に対しては、従来の画像表示装置に適用される光学積層体よりも厳しい欠点管理が必要となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開２０２１－１０３２８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
上述のとおり、ＶＲゴーグルに適用される光学積層体に対しては、厳しい欠点管理が必要となるため、微細な欠点まで検出可能な精密な欠点検査が行われる。その一方で、最終的なアセンブリ工程までの間、光学積層体の表面は保護されていることが好ましい。よって、本発明は、ＶＲゴーグルに適用される光学積層体であって、表面保護と精密な欠点検査とを両立可能な光学積層体の提供を主たる目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明の１つの局面によれば、［１］～［９］の表面保護フィルム付光学積層体、［１０］の表面保護フィルム付光学積層体の製造方法、および［１１］の表示システムの製造方法が提供される。
［１］少なくとも１つの光学部材を含み、ディスプレイ付きゴーグルに用いられる、光学積層体と、該光学積層体の一方の面に外方に向かってこの順に貼着されている、第一表面保護フィルムおよび第二表面保護フィルムと、を有する、表面保護フィルム付光学積層体。
［２］上記第一表面保護フィルムのヘイズが５％未満である、［１］に記載の表面保護フィルム付光学積層体。
［３］上記第一表面保護フィルムとして、第一基材と、該第一基材に積層されている第一粘着剤層と、を有し、該第一粘着剤層における該第一基材と反対側の表面の最大谷深さ（Ｓｖ）の絶対値が５００ｎｍ以下であり、該第一基材を顕微鏡観察したときに、１００μｍ×１００μｍの観察領域において、最大フェレ径が１０μｍ以上の欠点数が３つ未満である、表面保護フィルムを、上記光学積層体に貼着して得られる、［１］または［２］に記載の表面保護フィルム付光学積層体。
［４］上記第一粘着剤層における上記第一基材と反対側の表面の算術平均高さ（Ｓａ）の絶対値が２５ｎｍ以下である、［３］に記載の表面保護フィルム付光学積層体。
［５］上記第一表面保護フィルムとして、第一基材と、該第一基材に積層されている第一粘着剤層と、を有し、該第一粘着剤層における該第一基材と反対側の表面は、下記式（１）を満足する、表面保護フィルムを、上記光学積層体に貼着して得られる、［１］または［２］に記載の表面保護フィルム付光学積層体；
（式（１）中、Ｓは下記表面形状評価試験における白色干渉計の測定視野面積を示し；Ｂ－ＢＡは下記表面形状評価試験において得られる二値化前の二次元画像における黒色領域の面積を示し；Ａ－ＷＡは下記表面形状評価試験において得られる二値化後の二次元画像おける白色領域の面積を示す。）
＜表面形状評価試験＞
該第一粘着剤層における該第一基材と反対側の表面を白色干渉計により測定し；
得られた干渉データを、周波数領域解析により、測定面に対して－１０００ｎｍ～－２０００ｎｍの解析範囲で演算して、該当箇所が黒色領域となる二次元画像を得た後；
該二次元画像を、測定面に対して－１００ｎｍを閾値として二値化解析して、－１００ｎｍ以下の部分が白色領域となる二値化画像を得る。
［６］上記第一基材を顕微鏡観察したときに、１００μｍ×１００μｍの観測領域において、最大フェレ径が１０μｍ以上の欠点数が３つ未満である、［５］に記載の表面保護フィルム付光学積層体。
［７］上記光学積層体が、偏光部材と、第一位相差部材と、保護部材とを、上記第一表面保護フィルムに向かってこの順に有する、［１］から［６］のいずれかに記載の表面保護フィルム付光学積層体。
［８］上記保護部材が、表面処理層を含み、該表面処理層に、上記第一表面保護フィルムが貼着されている、［７］に記載の表面保護フィルム付光学積層体。
［９］上記光学積層体が、上記第一表面保護フィルムおよび上記第二表面保護フィルムが貼着されている側と反対側の面に粘着剤層を有する、［１］から［８］のいずれかに記載の表面保護フィルム付光学積層体。
［１０］表面保護フィルム付光学積層体の製造方法であって、少なくとも１つの光学部材を有する光学積層体の一方の面に、第一表面保護フィルムおよび第二表面保護フィルムを貼着することを含み、該第一表面保護フィルムが、（ｉ）および（ｉｉ）から選択される、製造方法；
（ｉ）第一基材と、該第一基材に積層されている第一粘着剤層と、を有し、
該第一粘着剤層における該第一基材と反対側の表面の最大谷深さ（Ｓｖ）の絶対値が５００ｎｍ以下であり、
該第一基材を顕微鏡観察したときに、１００μｍ×１００μｍの観察領域において、最大フェレ径が１０μｍ以上の欠点数が３つ未満である、表面保護フィルム；
（ｉｉ）第一基材と、該第一基材に積層されている第一粘着剤層と、を有し、
該第一粘着剤層における該第一基材と反対側の表面は、下記式（１）を満足する、表面保護フィルム；
（式（１）中、Ｓは下記表面形状評価試験における白色干渉計の測定視野面積を示し；Ｂ－ＢＡは下記表面形状評価試験において得られる二値化前の二次元画像における黒色領域の面積を示し；Ａ－ＷＡは下記表面形状評価試験において得られる二値化後の二次元画像おける白色領域の面積を示す。）
＜表面形状評価試験＞
該第一粘着剤層における該第一基材と反対側の表面を白色干渉計により測定し；
得られた干渉データを、周波数領域解析により、測定面に対して－１０００ｎｍ～－２０００ｎｍの解析範囲で演算して、該当箇所が黒色領域となる二次元画像を得た後；
該二次元画像を、測定面に対して－１００ｎｍを閾値として二値化解析して、－１００ｎｍ以下の部分が白色領域となる二値化画像を得る。
［１１］表示システムの製造方法であって、［１］から［９］のいずれか一つに記載の表面保護フィルム付光学積層体の上記第一表面保護フィルムおよび上記第二表面保護フィルムが貼着された側と反対側に、別の部材を貼着して、表面保護フィルム付二次積層体を得ること、
該表面保護フィルム付二次積層体から上記第二表面保護フィルムを剥離すること、
該表面保護フィルム付二次積層体を欠点検査すること、および
該表面保護フィルム付二次積層体から上記第一表面保護フィルムを剥離して、二次積層体を得ること、
をこの順に含み、
該表示システムが、ディスプレイ付きゴーグルである、製造方法。
［１］少なくとも１つの光学部材を含み、ディスプレイ付きゴーグルに用いられる、光学積層体と、該光学積層体の一方の面に外方に向かってこの順に貼着されている、第一表面保護フィルムおよび第二表面保護フィルムと、を有する、表面保護フィルム付光学積層体。
［２］上記第一表面保護フィルムのヘイズが５％未満である、［１］に記載の表面保護フィルム付光学積層体。
［３］上記第一表面保護フィルムとして、第一基材と、該第一基材に積層されている第一粘着剤層と、を有し、該第一粘着剤層における該第一基材と反対側の表面の最大谷深さ（Ｓｖ）の絶対値が５００ｎｍ以下であり、該第一基材を顕微鏡観察したときに、１００μｍ×１００μｍの観察領域において、最大フェレ径が１０μｍ以上の欠点数が３つ未満である、表面保護フィルムを、上記光学積層体に貼着して得られる、［１］または［２］に記載の表面保護フィルム付光学積層体。
［４］上記第一粘着剤層における上記第一基材と反対側の表面の算術平均高さ（Ｓａ）の絶対値が２５ｎｍ以下である、［３］に記載の表面保護フィルム付光学積層体。
［５］上記第一表面保護フィルムとして、第一基材と、該第一基材に積層されている第一粘着剤層と、を有し、該第一粘着剤層における該第一基材と反対側の表面は、下記式（１）を満足する、表面保護フィルムを、上記光学積層体に貼着して得られる、［１］または［２］に記載の表面保護フィルム付光学積層体；
【数1】
＜表面形状評価試験＞
該第一粘着剤層における該第一基材と反対側の表面を白色干渉計により測定し；
得られた干渉データを、周波数領域解析により、測定面に対して－１０００ｎｍ～－２０００ｎｍの解析範囲で演算して、該当箇所が黒色領域となる二次元画像を得た後；
該二次元画像を、測定面に対して－１００ｎｍを閾値として二値化解析して、－１００ｎｍ以下の部分が白色領域となる二値化画像を得る。
［６］上記第一基材を顕微鏡観察したときに、１００μｍ×１００μｍの観測領域において、最大フェレ径が１０μｍ以上の欠点数が３つ未満である、［５］に記載の表面保護フィルム付光学積層体。
［７］上記光学積層体が、偏光部材と、第一位相差部材と、保護部材とを、上記第一表面保護フィルムに向かってこの順に有する、［１］から［６］のいずれかに記載の表面保護フィルム付光学積層体。
［８］上記保護部材が、表面処理層を含み、該表面処理層に、上記第一表面保護フィルムが貼着されている、［７］に記載の表面保護フィルム付光学積層体。
［９］上記光学積層体が、上記第一表面保護フィルムおよび上記第二表面保護フィルムが貼着されている側と反対側の面に粘着剤層を有する、［１］から［８］のいずれかに記載の表面保護フィルム付光学積層体。
［１０］表面保護フィルム付光学積層体の製造方法であって、少なくとも１つの光学部材を有する光学積層体の一方の面に、第一表面保護フィルムおよび第二表面保護フィルムを貼着することを含み、該第一表面保護フィルムが、（ｉ）および（ｉｉ）から選択される、製造方法；
（ｉ）第一基材と、該第一基材に積層されている第一粘着剤層と、を有し、
該第一粘着剤層における該第一基材と反対側の表面の最大谷深さ（Ｓｖ）の絶対値が５００ｎｍ以下であり、
該第一基材を顕微鏡観察したときに、１００μｍ×１００μｍの観察領域において、最大フェレ径が１０μｍ以上の欠点数が３つ未満である、表面保護フィルム；
（ｉｉ）第一基材と、該第一基材に積層されている第一粘着剤層と、を有し、
該第一粘着剤層における該第一基材と反対側の表面は、下記式（１）を満足する、表面保護フィルム；
【数2】
＜表面形状評価試験＞
該第一粘着剤層における該第一基材と反対側の表面を白色干渉計により測定し；
得られた干渉データを、周波数領域解析により、測定面に対して－１０００ｎｍ～－２０００ｎｍの解析範囲で演算して、該当箇所が黒色領域となる二次元画像を得た後；
該二次元画像を、測定面に対して－１００ｎｍを閾値として二値化解析して、－１００ｎｍ以下の部分が白色領域となる二値化画像を得る。
［１１］表示システムの製造方法であって、［１］から［９］のいずれか一つに記載の表面保護フィルム付光学積層体の上記第一表面保護フィルムおよび上記第二表面保護フィルムが貼着された側と反対側に、別の部材を貼着して、表面保護フィルム付二次積層体を得ること、
該表面保護フィルム付二次積層体から上記第二表面保護フィルムを剥離すること、
該表面保護フィルム付二次積層体を欠点検査すること、および
該表面保護フィルム付二次積層体から上記第一表面保護フィルムを剥離して、二次積層体を得ること、
をこの順に含み、
該表示システムが、ディスプレイ付きゴーグルである、製造方法。
【発明の効果】
【0007】
本発明の実施形態による表面保護フィルム付光学積層体は、光学積層体の表面に２つの表面保護フィルムが貼着された構成を有する。よって、欠点検査前に外側の表面保護フィルムを剥離除去しても、内側の表面保護フィルムで表面が保護された状態で光学積層体を欠点検査することができ、アセンブリ工程の直前までキズ付き等を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【0008】
【図1】本発明の１つの実施形態による表面保護フィルム付光学積層体の概略断面図である。
【図2】本発明の実施形態による表面保護フィルム付光学積層体に用いられ得る表面保護フィルムを説明する概略断面図である。
【図3】本発明の１つの実施形態に係る表示システムの概略の構成を示す模式図である。
【図6A】本発明の１つの実施形態による表示システムの製造方法を説明する概略図である。
【発明を実施するための形態】
【0009】
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。また、図面は説明をより明確にするため、実施の形態に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。
【0010】
（用語および記号の定義）
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
（１）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
（２）面内位相差（Ｒｅ）
「Ｒｅ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した面内位相差である。例えば、「Ｒｅ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内位相差である。Ｒｅ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄによって求められる。
（３）厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）
「Ｒｔｈ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。例えば、「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ（λ）＝（ｎｘ－ｎｚ）×ｄによって求められる。
（４）Ｎｚ係数
Ｎｚ係数は、Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅによって求められる。
（５）角度
本明細書において角度に言及するときは、当該角度は基準方向に対して時計回りおよび反時計回りの両方を包含する。したがって、例えば「４５°」は時計回りまたは反時計回りに４５°を意味する。また、本明細書において、「略平行」は、０°±１０°の範囲内である場合を包含し、例えば０°±５°、好ましくは０°±３°、より好ましくは０°±１°の範囲内であり、「略直交」は、９０°±１０°の範囲内である場合を包含し、例えば９０°±５°、好ましくは９０°±３°、より好ましくは９０°±１°の範囲内である。
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
（１）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
（２）面内位相差（Ｒｅ）
「Ｒｅ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した面内位相差である。例えば、「Ｒｅ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内位相差である。Ｒｅ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄによって求められる。
（３）厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）
「Ｒｔｈ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。例えば、「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ（λ）＝（ｎｘ－ｎｚ）×ｄによって求められる。
（４）Ｎｚ係数
Ｎｚ係数は、Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅによって求められる。
（５）角度
本明細書において角度に言及するときは、当該角度は基準方向に対して時計回りおよび反時計回りの両方を包含する。したがって、例えば「４５°」は時計回りまたは反時計回りに４５°を意味する。また、本明細書において、「略平行」は、０°±１０°の範囲内である場合を包含し、例えば０°±５°、好ましくは０°±３°、より好ましくは０°±１°の範囲内であり、「略直交」は、９０°±１０°の範囲内である場合を包含し、例えば９０°±５°、好ましくは９０°±３°、より好ましくは９０°±１°の範囲内である。
【0011】
Ａ．表面保護フィルム付光学積層体
図１は、本発明の１つの実施形態による表面保護フィルム付光学積層体の概略断面図である。表面保護フィルム付光学積層体２００は、少なくとも１つの光学部材を含み、ディスプレイ付きゴーグルに用いられる、光学積層体１００と、光学積層体１００の一方の面に外方に向かってこの順に貼着されている、第一表面保護フィルム１１０および第二表面保護フィルム１２０と、を有する。光学積層体１００は、第一表面保護フィルム１１０および第二表面保護フィルム１２０が貼着されている側と反対側の面に粘着剤層を有し得る。この場合、粘着剤層は、はく離ライナーで保護されていてもよい。第一表面保護フィルム１１０、第二表面保護フィルム１２０、およびはく離ライナーは、光学積層体１００に一時的に貼着（仮着）される工程用部材であり、光学積層体１００が使用に供される際には剥離除去される。
図１は、本発明の１つの実施形態による表面保護フィルム付光学積層体の概略断面図である。表面保護フィルム付光学積層体２００は、少なくとも１つの光学部材を含み、ディスプレイ付きゴーグルに用いられる、光学積層体１００と、光学積層体１００の一方の面に外方に向かってこの順に貼着されている、第一表面保護フィルム１１０および第二表面保護フィルム１２０と、を有する。光学積層体１００は、第一表面保護フィルム１１０および第二表面保護フィルム１２０が貼着されている側と反対側の面に粘着剤層を有し得る。この場合、粘着剤層は、はく離ライナーで保護されていてもよい。第一表面保護フィルム１１０、第二表面保護フィルム１２０、およびはく離ライナーは、光学積層体１００に一時的に貼着（仮着）される工程用部材であり、光学積層体１００が使用に供される際には剥離除去される。
【0012】
表面保護フィルム付光学積層体は、光学積層体の一方の面に、第一表面保護フィルムおよび第二表面保護フィルムを貼着することによって製造され得る。光学積層体の一方の面に第一表面保護フィルムおよび第二表面保護フィルムをこの順に貼着してもよく、第一表面保護フィルムと第二表面保護フィルムとの積層体を光学積層体に積層してもよい。
【0013】
Ａ－１．第一表面保護フィルム
図１および図２に示されるように、第一表面保護フィルム１１０は、第一基材１１２と、第一基材１１２に積層されている第一粘着剤層１１４と、を有する。第一表面保護フィルム１１０が使用に供されるまでの間、第一粘着剤層１１４には、はく離ライナー１１６が貼着（仮着）されており、第一粘着剤層１１４を保護している。
図１および図２に示されるように、第一表面保護フィルム１１０は、第一基材１１２と、第一基材１１２に積層されている第一粘着剤層１１４と、を有する。第一表面保護フィルム１１０が使用に供されるまでの間、第一粘着剤層１１４には、はく離ライナー１１６が貼着（仮着）されており、第一粘着剤層１１４を保護している。
【0014】
第一表面保護フィルムのヘイズは、例えば５％以下、好ましくは４％以下、より好ましく３％以下、さらに好ましくは２％以下、さらにより好ましくは１．５％以下であり、代表的には０．０５％以上である。第一表面保護フィルムのヘイズが上記範囲内であれば、光学積層体の表面が第一表面保護フィルムで保護された状態であっても精密な欠点検査を行うことができる。上記範囲のヘイズを有する表面保護フィルムは、例えば、低ヘイズの基材および／または粘着剤層を用いることによって得ることができる。
【0015】
第一表面保護フィルムの光学積層体に対する９０°きっかけ剥離力（Ｐ１）は、例えば０．０５Ｎ～０．２５Ｎ、好ましくは０．０８Ｎ～０．２Ｎ、より好ましくは０．１０Ｎ～０．１５Ｎである。第一表面保護フィルムの光学積層体に対する１８０°きっかけ剥離力（Ｐ１’）は、例えば０．０５Ｎ～０．２５Ｎ、好ましくは０．０８Ｎ～０．２Ｎ、より好ましくは０．１０Ｎ～０．１５Ｎである。一般的に、フィルムを端部から一定の剥離速度で剥離する場合、フィルムの剥離力は、剥離開始直後は剥離長さに応じて増大し、ピークを迎えて減少し、所定時間経過後に一定の値で安定化する。本明細書において、きっかけ剥離力とは剥離開始直後における剥離力のピーク値（最大値）を意味し、通常剥離力とは剥離開始から所定時間経過後の安定化した剥離力を意味するものとする。
【0016】
第一表面保護フィルムの光学積層体に対する９０°きっかけ剥離力（Ｐ１）と第二表面保護フィルムの第一表面保護フィルム（第一表面保護フィルムの第一基材側表面）に対する９０°きっかけ剥離力（Ｐ２）との比（Ｐ２／Ｐ１）は、例えば０．１～２．０、好ましくは０．３～１．５、より好ましくは０．５～１．０、さらに好ましくは０．５～０．９である。また、第一表面保護フィルムの光学積層体に対する１８０°きっかけ剥離力（Ｐ１’）と第二表面保護フィルムの第一表面保護フィルム（第一表面保護フィルムの第一基材側表面）に対する１８０°きっかけ剥離力（Ｐ２’）との比（Ｐ２’／Ｐ１’）は、例えば０．１～１．５、好ましくは０．３～１．２、より好ましくは０．５～１．０、さらに好ましくは０．５～０．９である。
【0017】
第一表面保護フィルムの光学積層体に対する通常剥離力（剥離角度１８０°、引張速度３００ｍｍ／分）は、例えば０．０１Ｎ／２５ｍｍ～０．２Ｎ／２５ｍｍ、好ましくは０．０２Ｎ／２５ｍｍ～０．１２Ｎ／２５ｍｍ、より好ましくは０．０３Ｎ／２５ｍｍ～０．０８Ｎ／２５ｍｍである。
【0018】
第一表面保護フィルムの光学積層体に対する通常剥離力（Ｐ１’’）と第二表面保護フィルムの第一表面保護フィルム（第一表面保護フィルムの第一基材側表面）に対する通常剥離力（Ｐ２’’）との比（Ｐ２’’／Ｐ１’’）は、例えば０．１～３．０、好ましくは０．５～２．５、より好ましくは１．０～２．０である。
【0019】
１つの実施形態において、第一表面保護フィルム（はく離ライナーが剥離除去された状態）を顕微鏡観察したときに、１００μｍ×１００μｍの観察領域において、最大フェレ径が１０μｍ以上の欠点数が、好ましくは３つ未満であり、より好ましくは１つ以下、さらに好ましくは０である。表面保護フィルムの顕微鏡観察の１０μｍ以上の欠点数が上記上限以下であると、異物検査において表面保護フィルムに起因する誤検出をより安定して低減できる。
【0020】
１つの実施形態において、第一表面保護フィルム（はく離ライナーが剥離除去された状態）を顕微鏡観察したときに、１００μｍ×１００μｍの観察領域において、最大フェレ径が１０μｍ未満の欠点数は、例えば１０以下、好ましくは５つ以下、さらに好ましくは３つ以下、より好ましくは１つ以下である。表面保護フィルムの顕微鏡観察において欠点が観測されても、最大フェレ径が１０μｍ未満であり、かつ、個数が上記上限以下であれば、異物検査において当該欠点が誤検出されることを抑制できる。
【0021】
＜第一基材＞
第一基材１１４を顕微鏡観察したときに、１００μｍ×１００μｍの観測領域において、最大フェレ径が１０μｍ以上の欠点数は、好ましくは３つ未満であり、より好ましくは１つ以下、さらに好ましくは０である。基材における欠点数が上記上限以下であれば、異物検査において表面保護フィルムに起因する誤検出を低減できる。なお、顕微鏡観察の詳細については、後述する実施例で説明する。
第一基材１１４を顕微鏡観察したときに、１００μｍ×１００μｍの観測領域において、最大フェレ径が１０μｍ以上の欠点数は、好ましくは３つ未満であり、より好ましくは１つ以下、さらに好ましくは０である。基材における欠点数が上記上限以下であれば、異物検査において表面保護フィルムに起因する誤検出を低減できる。なお、顕微鏡観察の詳細については、後述する実施例で説明する。
【0022】
第一基材の引裂強さは、例えば０．５Ｎ／ｍｍ以上、好ましくは１Ｎ／ｍｍ以上、より好ましくは２Ｎ／ｍｍ以上である。第一基材の引裂強さが上記下限以上であれば、異物検査において表面保護フィルムに起因する誤検出をより一層低減できる。第一基材の引裂強さは、代表的には２００Ｎ／ｍｍ以下である。なお、第一基材の引裂強さは、ＪＩＳ Ｋ７１２８－１：１９９８に準拠して測定できる。
【0023】
第一基材は、表面保護フィルムとして使用できる任意の適切な樹脂フィルムで形成される。当該樹脂フィルムの主成分となる材料の具体例としては、ポリノルボルネン系等のシクロオレフィン（ＣＯＰ）系、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）系等のポリエステル系、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）系、（メタ）アクリル系、ポリビニルアルコール系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリオレフィン系、アセテート系等の透明樹脂が挙げられる。また、（メタ）アクリル系、ウレタン系、（メタ）アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。なお、「（メタ）アクリル系樹脂」とは、アクリル系樹脂および／またはメタクリル系樹脂をいう。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開２００１－３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムも使用できる。このフィルムの材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ－メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。当該ポリマーフィルムは、例えば、上記樹脂組成物の押出成形物であり得る。樹脂フィルムの材料は、単独でまたは組み合わせて使用できる。
【0024】
第一基材は、好ましくは、ＣＯＰ系、ＰＥＴ系、ＴＡＣ系、ＰＣ系および（メタ）アクリル系からなる群から選択される少なくとも１種の透明樹脂を含み、より好ましくは、ＣＯＰ系、ＰＥＴ系、ＰＣ系および（メタ）アクリル系からなる群から選択される少なくとも１種の透明樹脂を含み、さらに好ましくは、ＣＯＰ系、ＰＥＴ系およびＰＣ系からなる群から選択される少なくとも１種の透明樹脂を含む。第一基材が上記の透明樹脂を含むと、異物検査および気泡検査において表面保護フィルムに起因する誤検出をより安定して低減できる。また、第一基材がＣＯＰ系、ＰＥＴ系、ＰＣ系および（メタ）アクリル系のいずれかの透明樹脂を含むと、第一基材がＴＡＣ系樹脂を含む場合と比較して、異物検査における表面保護フィルムに起因する誤検出を低減できる。特に、第一基材がＣＯＰ系、ＰＥＴ系およびＰＣ系のいずれかの透明樹脂を含むと、異物検査において表面保護フィルムに起因する誤検出をより一層安定して低減できる。
【0025】
第一基材には、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、造核剤、充填剤、顔料、界面活性剤、帯電防止剤等が含まれていてもよい。第一基材の表面（第一粘着剤層と反対側の表面）には、易接着層、易滑層、ブロッキング防止層、帯電防止層、反射防止層、オリゴマー防止層等が設けられていてもよい。
【0026】
第一基材の厚みは、代表的には５μｍ以上、好ましくは２０μｍ以上であり、代表的には２００μｍ以下であり、好ましくは１００μｍ以下である。
【0027】
＜第一粘着剤層＞
光学積層体に貼着される前の第一粘着剤層１１４における第一基材１１２と反対側の表面１１４ａの最大谷深さ（Ｓｖ）の絶対値は、例えば５００ｎｍ以下であり、好ましくは３００ｎｍ以下、より好ましくは２５０ｎｍ以下、とりわけ好ましくは２００ｎｍ以下、特に好ましくは１００ｎｍ以下、最も好ましくは５０ｎｍ以下である。該表面１１４ａの最大谷深さ（Ｓｖ）の絶対値は、代表的には５ｎｍ以上である。なお、最大谷深さ（Ｓｖ）は、ＪＩＳ Ｂ０６８１－２：２０１８に準拠して測定できる。光学積層体に貼着される前の第一粘着剤層１１４の表面１１４ａの最大谷深さ（Ｓｖ）の絶対値が上記上限以下であると、表面保護フィルムを光学積層体に貼着した状態で欠点検査（例えば、気泡検査）に供しても、表面保護フィルムに起因する誤検出が低減され得る。
光学積層体に貼着される前の第一粘着剤層１１４における第一基材１１２と反対側の表面１１４ａの最大谷深さ（Ｓｖ）の絶対値は、例えば５００ｎｍ以下であり、好ましくは３００ｎｍ以下、より好ましくは２５０ｎｍ以下、とりわけ好ましくは２００ｎｍ以下、特に好ましくは１００ｎｍ以下、最も好ましくは５０ｎｍ以下である。該表面１１４ａの最大谷深さ（Ｓｖ）の絶対値は、代表的には５ｎｍ以上である。なお、最大谷深さ（Ｓｖ）は、ＪＩＳ Ｂ０６８１－２：２０１８に準拠して測定できる。光学積層体に貼着される前の第一粘着剤層１１４の表面１１４ａの最大谷深さ（Ｓｖ）の絶対値が上記上限以下であると、表面保護フィルムを光学積層体に貼着した状態で欠点検査（例えば、気泡検査）に供しても、表面保護フィルムに起因する誤検出が低減され得る。
【0028】
光学積層体に貼着される前の第一粘着剤層１１４における第一基材１１２と反対側の表面１１４ａの算術平均高さ（Ｓａ）の絶対値は、好ましくは２５ｎｍ以下、より好ましくは１０ｎｍ以下、さらに好ましくは６ｎｍ以下、とりわけ好ましくは５ｎｍ以下である。該表面１１４ａの算術平均高さ（Ｓａ）の絶対値は、代表的には０ｎｍ以上である。なお、算術平均高さ（Ｓａ）は、ＪＩＳ Ｂ０６８１－２：２０１８に準拠して測定できる。光学積層体に貼着される前の第一粘着剤層１１４の表面１１４ａの算術平均高さ（Ｓａ）の絶対値が上記上限以下であれば、欠点検査（例えば、気泡検査）において表面保護フィルムに起因する誤検出を安定して低減できる。
【0029】
光学積層体に貼着される前の第一粘着剤層１１４における第一基材１１２と反対側の表面１１４ａは、好ましくは下記式（１）を満足し、より好ましくは下記式（２）を満足し、さらに好ましくは下記式（３）を満足する。
（式（１）中、Ｓは下記表面形状評価試験における白色干渉計の測定視野面積を示し；Ｂ－ＢＡは下記表面形状評価試験において得られる二値化前の二次元画像における黒色領域の面積を示し；Ａ－ＷＡは下記表面形状評価試験において得られる二値化後の二次元画像おける白色領域の面積を示す。）
＜表面形状評価試験＞
第一粘着剤層における第一基材と反対側の表面を白色干渉計により測定し；
得られた干渉データを、周波数領域解析により、測定面に対して－１０００ｎｍ～－２０００ｎｍの解析範囲で演算して、該当箇所が黒色領域となる二次元画像を得た後；
該二次元画像を、測定面に対して－１００ｎｍを閾値として二値化解析して、－１００ｎｍ以下の部分が白色領域となる二値化画像を得る。なお、表面形状評価試験の詳細については、後述する実施例で説明する。
【数3】
【数4】
【数5】
＜表面形状評価試験＞
第一粘着剤層における第一基材と反対側の表面を白色干渉計により測定し；
得られた干渉データを、周波数領域解析により、測定面に対して－１０００ｎｍ～－２０００ｎｍの解析範囲で演算して、該当箇所が黒色領域となる二次元画像を得た後；
該二次元画像を、測定面に対して－１００ｎｍを閾値として二値化解析して、－１００ｎｍ以下の部分が白色領域となる二値化画像を得る。なお、表面形状評価試験の詳細については、後述する実施例で説明する。
【0030】
二値化前の二次元画像では、第一粘着剤層における第一基材と反対側の表面に存在する凹み部分の内、白色干渉計の検出限界を超えた深さを有する凹みに該当する部分が黒色領域となり、該黒色領域に該当しない部分が白色領域となる。二値化前の二次元画像における黒色領域の面積Ｂ－ＢＡは、白色干渉計の測定視野面積Ｓを１００％としたときに、例えば１．５％以下、好ましくは０．３％以下、より好ましくは０．２％以下、さらに好ましくは０．１％以下であり、代表的には０％以上である。
【0031】
二値化後の二次元画像（以下では二値化画像と称する場合がある。）では、測定面に対して－１００ｎｍ以下に該当する部分が白色領域となり、それ以外の部分（測定面に対して－１００ｎｍを超過する部分）が黒色領域となる。二値化画像における白色領域の面積Ａ－ＷＡは、白色干渉計の測定視野面積Ｓを１００％としたときに、例えば１．３％以下、好ましくは０．２％以下、より好ましくは０．１％以下、さらに好ましくは０．０８％以下であり、代表的には０％以上である。
【0032】
光学積層体に貼着される前の第一粘着剤層における第一基材と反対側の表面が上記式（１）、好ましくは式（２）、より好ましくは式（３）を満足する形状を有していれば、表面保護フィルムを光学積層体に貼着した状態で欠点検査（例えば、気泡検査）に供しても、表面保護フィルムに起因する誤検出が好適に低減され得る。
【0033】
第一粘着剤層は、代表的には、（メタ）アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤およびシリコーン系粘着剤からなる群から選択される少なくとも１種の粘着剤を含有する。好ましくは、第一粘着剤層は、（メタ）アクリル系粘着剤を含有する。
【0034】
（メタ）アクリル系粘着剤は、アルキル（メタ）アクリレートを主成分とするモノマー成分の重合体（以下（メタ）アクリル系ポリマーとする。）を含有する。言い換えれば、（メタ）アクリル系ポリマーは、アルキル（メタ）アクリレート由来の構造単位を含む。アルキル（メタ）アクリレート由来の構造単位の含有割合は、（メタ）アクリル系ポリマーにおいて、代表的には５０質量％以上、好ましくは８０質量％以上、より好ましくは９３質量％以上であり、例えば１００質量％以下、好ましくは９８質量％以下である。
【0035】
アルキル（メタ）アクリレートが有するアルキル基は、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。アルキル基の炭素数は、例えば１以上１８以下である。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、２－エチルヘキシル基、デシル基、イソデシル基、オクタデシル基が挙げられる。アルキル（メタ）アクリレートは、単独でまたは組み合わせて使用できる。アルキル基の平均炭素数は３～１０であることが好ましい。
【0036】
（メタ）アクリル系ポリマーは、アルキル（メタ）アクリレート由来の構造単位以外にも、アルキル（メタ）アクリレートと重合可能な共重合モノマー由来の構造単位を含有してもよい。共重合モノマーとして、例えば、カルボキシル基含有モノマー、ヒドロキシル基含有モノマーが挙げられる。共重合モノマーは、単独でまたは組み合わせて使用できる。
【0037】
カルボキシル基含有モノマーは、その構造中にカルボキシル基を含み、かつ（メタ）アクリロイル基、ビニル基などの重合性不飽和二重結合を含む化合物である。カルボキシル基含有モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸、カルボキシエチル(メタ)アクリレート、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸が挙げられ、好ましくは(メタ)アクリル酸が挙げられる。（メタ）アクリル系ポリマーがカルボキシル基含有モノマー由来の構造単位を含むと、粘着剤層の粘着特性の向上を図り得る。（メタ）アクリル系ポリマーがカルボキシル基含有モノマー由来の構造単位を含む場合、カルボキシル基含有モノマー由来の構造単位の含有割合は、好ましくは０．０１質量％以上１０質量％以下である。
【0038】
ヒドロキシル基含有モノマーは、その構造中にヒドロキシル基を含み、かつ（メタ）アクリロイル基、ビニル基などの重合性不飽和二重結合を含む化合物である。ヒドロキシル基含有モノマーとしては、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、８－ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、１２－ヒドロキシラウリル（メタ）アクリレート、（４－ヒドロキシメチルシクロヘキシル)－メチルアクリレートが挙げられ、好ましくは、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートが挙げられ、より好ましくは、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートが挙げられる。（メタ）アクリル系ポリマーがヒドロキシル基含有モノマー由来の構造単位を含むと、粘着剤層の耐久性の向上を図り得る。（メタ）アクリル系ポリマーがヒドロキシル基含有モノマー由来の構造単位を含む場合、ヒドロキシル基含有モノマー由来の構造単位の含有割合は、（メタ）アクリル系ポリマーにおいて、好ましくは０．０１質量％以上１０質量％以下である。
【0039】
（メタ）アクリル系ポリマーの重量平均分子量Ｍｗは、例えば１０万～２００万であり、好ましくは２０万～１００万である。
【0040】
また、（メタ）アクリル系粘着剤は、架橋剤を含有することができる。架橋剤としては、代表的には、有機系架橋剤および多官能性金属キレートが挙げられ、好ましくは有機系架橋剤が挙げられる。有機系架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤、過酸化物系架橋剤、エポキシ系架橋剤、イミン系架橋剤が挙げられ、より好ましくは、イソシアネート系架橋剤が挙げられる。粘着剤が架橋剤を含有する場合、架橋剤の含有割合は、（メタ）アクリル系ポリマー１００質量部に対して、通常０．０１質量部以上１５質量部以下である。
【0041】
上記粘着剤（（メタ）アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤およびシリコーン系粘着剤）は、必要に応じて、種々の添加剤を適切な割合で含有していてもよい。ベースポリマーの組成（例えば、モノマーの種類、含有割合等、架橋剤の種類、含有割合等）、ベースポリマーの分子量、添加剤の種類または含有割合等を調整することにより、被着体に対して所望の粘着性を有する粘着剤層を得ることができる。
【0042】
添加剤としては、重合開始剤、溶媒、重合触媒、架橋触媒、シランカップリング剤、粘着性付与剤、可塑剤、軟化剤、劣化防止剤、充填剤、着色剤（顔料、染料等）、紫外線吸収剤、酸化防止剤、界面活性剤、帯電防止剤、連鎖移動剤等が挙げられる。
【0043】
第一粘着剤層の厚みは、代表的には１μｍ以上、好ましくは５μｍ以上、より好ましくは１０μｍ以上であり、代表的には３０μｍ以下、好ましくは２０μｍ以下である。
【0044】
第一粘着剤層は、第一基材の表面に直写により形成されてもよく、転写により形成されてもよい。直写の場合、粘着剤を第一基材の表面に直接塗布して第一粘着剤層を形成する。転写の場合、粘着剤をはく離ライナーの表面に塗布して第一粘着剤層を形成した後、当該第一粘着剤層に基材を貼り付ける。特に第一基材が、比較的低いガラス転移温度Ｔｇ（例えば１５０℃以下）を有する非晶性樹脂を含む場合、第一粘着剤層は、好ましくは転写プロセスにより形成される。転写プロセスであれば、第一粘着剤層の形成に必要な乾燥時の高温が、第一基材に影響することを抑制できる。
【0045】
＜はく離ライナー＞
はく離ライナー１１６は、はく離ライナーとして使用できる任意の適切な樹脂フィルムで形成される。当該樹脂フィルムの主成分となる材料の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン、ポリプロピレンが挙げられる。樹脂フィルムの材料は、単独でまたは組み合わせて使用できる。はく離ライナー１１６は、透明であってもよく、透明でなくてもよい。
はく離ライナー１１６は、はく離ライナーとして使用できる任意の適切な樹脂フィルムで形成される。当該樹脂フィルムの主成分となる材料の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン、ポリプロピレンが挙げられる。樹脂フィルムの材料は、単独でまたは組み合わせて使用できる。はく離ライナー１１６は、透明であってもよく、透明でなくてもよい。
【0046】
はく離ライナー１１６における第一粘着剤層１１４の表面１１４ａとの接触面には、離型処理層が設けられていてもよい。離型処理層を形成する離型処理剤としては、例えば、シリコーン系離型処理剤、フッ素系離型処理剤、長鎖アルキルアクリレート系離型処理剤が挙げられ、好ましくはシリコーン系離型処理剤が挙げられ、さらに好ましくはビニル基含有付加型シリコーンが挙げられる。離型処理剤は、単独でまたは組み合わせて使用できる。離型処理層の厚みは、代表的には５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下である。
【0047】
はく離ライナー１１６における第一粘着剤層１１４の表面１１４ａとの接触面は、平滑である。具体的には、はく離ライナー１１６の第一粘着剤層１１４との接触面における最大山高さ（Ｓｐ）の絶対値は、代表的には５００ｎｍ以下、好ましくは４００ｎｍ以下、より好ましくは３００ｎｍ以下、さらに好ましくは１００ｎｍ以下である。接触面における最大山高さ（Ｓｐ）の絶対値が上記上限以下であれば、第一粘着剤層における第一基材と反対側の表面の最大谷深さ（Ｓｖ）を上記上限以下に安定して調整できる。また、接触面における最大山高さ（Ｓｐ）の絶対値が上記上限以下であれば、第一粘着剤層における第一基材と反対側の表面が上記式（１）を満足するように安定して調整できる。接触面における最大山高さ（Ｓｐ）の絶対値は、代表的には１０ｎｍ以上である。なお、最大山高さ（Ｓｐ）は、ＪＩＳ Ｂ０６８１－２：２０１８に準拠して測定できる。
【0048】
はく離ライナー１１６における第一粘着剤層１１４の表面１１４ａとの接触面の算術平均高さ（Ｓａ）の絶対値は、代表的には３０ｎｍ以下、好ましくは２０ｎｍ以下、より好ましくは１０ｎｍ以下、さらに好ましくは５ｎｍ以下である。接触面の算術平均高さ（Ｓａ）の絶対値は、代表的には０ｎｍ以上である。
【0049】
はく離ライナー１１６の厚みは、代表的には５μｍ以上、好ましくは２０μｍ以上であり、代表的には６０μｍ以下、好ましくは４５μｍ以下である。なお、離型処理層が施されている場合、はく離ライナーの厚みは、離型処理層の厚みを含めた厚みである。
【0050】
Ａ－２．第二表面保護フィルム
図１に示されるとおり、第二表面保護フィルム１２０は、第二基材１２２と、第二基材に積層されている第二粘着剤層１２４と、を有する。第一表面保護フィルムと同様に、第二表面保護フィルムが使用に供されるまでの間、第二粘着剤層には、はく離ライナーが貼着（仮着）されており、第二粘着剤層を保護している。
図１に示されるとおり、第二表面保護フィルム１２０は、第二基材１２２と、第二基材に積層されている第二粘着剤層１２４と、を有する。第一表面保護フィルムと同様に、第二表面保護フィルムが使用に供されるまでの間、第二粘着剤層には、はく離ライナーが貼着（仮着）されており、第二粘着剤層を保護している。
【0051】
第二の表面保護フィルムは、透明（例えば、ヘイズ≦５％）であってもよく、不透明であってもよい。
【0052】
第二表面保護フィルムの第一表面保護フィルム（第一表面保護フィルムの第一基材側表面）に対する９０°きっかけ剥離力は、例えば０．０１Ｎ～０．２０Ｎ、好ましくは０．０３Ｎ～０．１５Ｎ、より好ましくは０．０５Ｎ～０．１２Ｎである。第二表面保護フィルムの第一表面保護フィルム（第一表面保護フィルムの第一基材側表面）に対する１８０°きっかけ剥離力は、例えば０．０１Ｎ～０．２０Ｎ、好ましくは０．０３Ｎ～０．１５Ｎ、より好ましくは０．０５Ｎ～０．１２Ｎである。
【0053】
第二表面保護フィルムの第一表面保護フィルム（第一表面保護フィルムの第一基材側表面）に対する通常剥離力（はく離角度１８０°、引張速度３００ｍｍ／分）は、例えば０．０１Ｎ／２５ｍｍ～０．２Ｎ／２５ｍｍ、好ましくは０．０３Ｎ／２５ｍｍ～０．１５Ｎ／２５ｍｍ、より好ましくは０．０５Ｎ／２５ｍｍ～０．１Ｎ／２５ｍｍである。
【0054】
＜第二基材＞
第二基材は、表面保護フィルムとして使用できる任意の適切な樹脂フィルムで形成される。当該樹脂フィルムの主成分となる材料の具体例としては、第一基材に関して上述したとおりである。
第二基材は、表面保護フィルムとして使用できる任意の適切な樹脂フィルムで形成される。当該樹脂フィルムの主成分となる材料の具体例としては、第一基材に関して上述したとおりである。
【0055】
第二基材には、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、造核剤、充填剤、顔料、界面活性剤、帯電防止剤等が含まれていてもよい。第二基材の表面（第二粘着剤層と反対側の表面）には、易接着層、易滑層、ブロッキング防止層、帯電防止層、反射防止層、オリゴマー防止層等が設けられていてもよい。
【0056】
第二基材の厚みは、代表的には５μｍ以上、好ましくは２０μｍ以上であり、代表的には２００μｍ以下であり、好ましくは１００μｍ以下である。
【0057】
＜第二粘着剤層＞
第二粘着剤層は、代表的には、（メタ）アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤およびシリコーン系粘着剤からなる群から選択される少なくとも１種の粘着剤を含有する。好ましくは、第二粘着剤層は、（メタ）アクリル系粘着剤を含有する。（メタ）アクリル系粘着剤の詳細については、第一粘着剤層に関して上述したとおりである。
第二粘着剤層は、代表的には、（メタ）アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤およびシリコーン系粘着剤からなる群から選択される少なくとも１種の粘着剤を含有する。好ましくは、第二粘着剤層は、（メタ）アクリル系粘着剤を含有する。（メタ）アクリル系粘着剤の詳細については、第一粘着剤層に関して上述したとおりである。
【0058】
上記粘着剤（（メタ）アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤およびシリコーン系粘着剤）は、ベースポリマー（またはその構成モノマー成分）、および必要に応じて添加剤を含有し得る。添加剤の具体例は、第一粘着剤層に関して上述したとおりである。
【0059】
第二粘着剤層の厚みは、代表的には１μｍ以上、好ましくは５μｍ以上であり、代表的には３０μｍ以下、好ましくは１５μｍ以下である。
【0060】
第二粘着剤層の形成方法としては、第一粘着剤層の形成方法と同様の方法が挙げられる。
【0061】
Ａ－３．光学積層体
光学積層体は、少なくとも１つの光学部材を含み、ディスプレイ付きゴーグルに用いられる。光学部材としては、例えば、偏光部材（吸収型偏光部材、反射型偏光部材）、位相差部材等が挙げられる。
光学積層体は、少なくとも１つの光学部材を含み、ディスプレイ付きゴーグルに用いられる。光学部材としては、例えば、偏光部材（吸収型偏光部材、反射型偏光部材）、位相差部材等が挙げられる。
【0062】
Ａ－３－１．光学積層体が適用され得る表示システム
図３は、光学積層体が適用され得る表示システム（ディスプレイ付きゴーグル）の概略の構成を示す模式図である。図３では、表示システム２の各構成要素の配置および形状等を模式的に図示している。表示システム２は、表示素子１２と、反射型偏光部材１４と、第一レンズ部１６と、ハーフミラー１８と、第一位相差部材２０と、第二位相差部材２２と、第二レンズ部２４とを備えている。反射型偏光部材１４は、表示素子１２の表示面１２ａ側である前方に配置され、表示素子１２から出射された光を反射し得る。第一レンズ部１６は表示素子１２と反射型偏光部材１４との間の光路上に配置され、ハーフミラー１８は表示素子１２と第一レンズ部１６との間に配置されている。第一位相差部材２０は表示素子１２とハーフミラー１８との間の光路上に配置され、第二位相差部材２２はハーフミラー１８と反射型偏光部材１４との間の光路上に配置されている。図示しないが、表示システム２は、反射型偏光部材１４と第二レンズ部２４との間に吸収型偏光部材をさらに備えることができる。
図３は、光学積層体が適用され得る表示システム（ディスプレイ付きゴーグル）の概略の構成を示す模式図である。図３では、表示システム２の各構成要素の配置および形状等を模式的に図示している。表示システム２は、表示素子１２と、反射型偏光部材１４と、第一レンズ部１６と、ハーフミラー１８と、第一位相差部材２０と、第二位相差部材２２と、第二レンズ部２４とを備えている。反射型偏光部材１４は、表示素子１２の表示面１２ａ側である前方に配置され、表示素子１２から出射された光を反射し得る。第一レンズ部１６は表示素子１２と反射型偏光部材１４との間の光路上に配置され、ハーフミラー１８は表示素子１２と第一レンズ部１６との間に配置されている。第一位相差部材２０は表示素子１２とハーフミラー１８との間の光路上に配置され、第二位相差部材２２はハーフミラー１８と反射型偏光部材１４との間の光路上に配置されている。図示しないが、表示システム２は、反射型偏光部材１４と第二レンズ部２４との間に吸収型偏光部材をさらに備えることができる。
【0063】
ハーフミラーから前方に配置される構成要素（図示例では、ハーフミラー１８、第一レンズ部１６、第二位相差部材２２、反射型偏光部材１４および第二レンズ部２４）をまとめてレンズ部（レンズ部４）と称する場合がある。
【0064】
表示素子１２は、例えば、液晶ディスプレイまたは有機ＥＬディスプレイであり、画像を表示するための表示面１２ａを有している。表示面１２ａから出射される光は、例えば、表示素子１２に含まれ得る偏光部材（代表的には、偏光フィルム）１０を通過して出射され、第１の直線偏光とされている。
【0065】
第一位相差部材２０は、第一位相差部材２０に入射した第１の直線偏光を第１の円偏光に変換し得る第１のλ／４部材を含む。第一位相差部材が第１のλ／４部材以外の部材を含まない場合は、第一位相差部材は第１のλ／４部材に相当し得る。第一位相差部材２０は、表示素子１２に一体に設けられてもよい。
【0066】
ハーフミラー１８は、表示素子１２から出射された光を透過させ、反射型偏光部材１４で反射された光を反射型偏光部材１４に向けて反射させる。ハーフミラー１８は、第一レンズ部１６に一体に設けられている。
【0067】
第二位相差部材２２は、反射型偏光部材１４およびハーフミラー１８で反射させた光を、反射型偏光部材１４を透過させ得る第２のλ／４部材を含む。第二位相差部材が第２のλ／４部材以外の部材を含まない場合は、第二位相差部材は第２のλ／４部材に相当し得る。第二位相差部材２２は、第一レンズ部１６に一体に設けられてもよい。
【0068】
第一位相差部材２０に含まれる第１のλ／４部材から出射された第１の円偏光は、ハーフミラー１８および第一レンズ部１６を通過し、第二位相差部材２２に含まれる第２のλ／４部材により第２の直線偏光に変換される。第２のλ／４部材から出射された第２の直線偏光は、反射型偏光部材１４を透過せずにハーフミラー１８に向けて反射される。このとき、反射型偏光部材１４に入射した第２の直線偏光の偏光方向は、反射型偏光部材１４の反射軸と同方向である。そのため、反射型偏光部材１４に入射した第２の直線偏光は、反射型偏光部材１４で反射される。
【0069】
反射型偏光部材１４で反射された第２の直線偏光は第二位相差部材２２に含まれる第２のλ／４部材により第２の円偏光に変換され、第２のλ／４部材から出射された第２の円偏光は第一レンズ部１６を通過してハーフミラー１８で反射される。ハーフミラー１８で反射された第２の円偏光は、第一レンズ部１６を通過し、第二位相差部材２２に含まれる第２のλ／４部材により第３の直線偏光に変換される。第３の直線偏光は、反射型偏光部材１４を透過する。このとき、反射型偏光部材１４に入射した第３の直線偏光の偏光方向は、反射型偏光部材１４の透過軸と同方向である。そのため、反射型偏光部材１４に入射した第３の直線偏光は、反射型偏光部材１４を透過する。
【0070】
反射型偏光部材１４を透過した光は、第二レンズ部２４を通過して、ユーザの目２６に入射する。
【0071】
例えば、表示素子１２に含まれる偏光部材１０の吸収軸と反射型偏光部材１４の反射軸とは、互いに略平行に配置されてもよいし、略直交に配置されてもよい。表示素子１２に含まれる偏光部材１０の吸収軸と第一位相差部材２０に含まれる第１のλ／４部材の遅相軸とのなす角度は、例えば４０°～５０°であり、４２°～４８°であってもよく、約４５°であってもよい。表示素子１２に含まれる偏光部材の吸収軸と第二位相差部材２２に含まれる第２のλ／４部材の遅相軸とのなす角度は、例えば４０°～５０°であり、４２°～４８°であってもよく、約４５°であってもよい。
【0072】
レンズ部４において、第一レンズ部１６と第二レンズ部２４との間には空間が形成され得る。この場合、第一レンズ部１６と第二レンズ部２４との間に配置される部材は、第一レンズ部１６と第二レンズ部２４のいずれかに一体に設けられることが好ましい。例えば、第一レンズ部１６と第二レンズ部２４との間に配置される部材は、接着層を介して第一レンズ部１６と第二レンズ部２４のいずれかに一体化させることが好ましい。このような形態によれば、例えば、各部材の取扱い性に優れ得る。接着層は、接着剤で形成されてもよいし、粘着剤で形成されてもよい。具体的には、接着層は、接着剤層であってもよいし、粘着剤層であってもよい。接着層の厚みは、例えば０．０５μｍ～３０μｍである。
【0073】
Ａ－３－２．光学積層体の構成
図４は、図３に例示する表示システムにおいて用いられ得る光学積層体の概略断面図である。光学積層体１００ａは、粘着剤層３１と、偏光部材１０と、第一位相差部材２０と、第一保護部材４１とをこの順に含む。偏光部材１０、第一位相差部材２０、および第一保護部材４１は、接着層５１、５２を介して積層されている。接着層５１、５２は、代表的には、接着剤層または粘着剤層であり、好ましくは粘着剤層である。接着層の厚みは、例えば０．０５μｍ～３０μｍである。粘着剤層３１の表面は、使用に供されるまでの間、はく離ライナー６１によって保護されている。なお、第一表面保護フィルムおよび第二表面保護フィルムは、光学積層体１００ａの第一保護部材４１側表面に貼着される。
図４は、図３に例示する表示システムにおいて用いられ得る光学積層体の概略断面図である。光学積層体１００ａは、粘着剤層３１と、偏光部材１０と、第一位相差部材２０と、第一保護部材４１とをこの順に含む。偏光部材１０、第一位相差部材２０、および第一保護部材４１は、接着層５１、５２を介して積層されている。接着層５１、５２は、代表的には、接着剤層または粘着剤層であり、好ましくは粘着剤層である。接着層の厚みは、例えば０．０５μｍ～３０μｍである。粘着剤層３１の表面は、使用に供されるまでの間、はく離ライナー６１によって保護されている。なお、第一表面保護フィルムおよび第二表面保護フィルムは、光学積層体１００ａの第一保護部材４１側表面に貼着される。
【0074】
図４に示す例では、第一位相差部材２０は、第１のλ／４部材２０ａに加えて、屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を示し得る部材（いわゆる、ポジティブＣプレート）２０ｂを含んでいる。第一位相差部材２０は、第１のλ／４部材２０ａと第１のポジティブＣプレート２０ｂとの積層構造を有している。図示例のように、第１のλ／４部材２０ａが第１のポジティブＣプレート２０ｂよりも偏光部材１０側に位置していることが好ましいが、これらの配置が逆であってもよい。また、第１のポジティブＣプレート２０ｂは省略されてもよい。第１のλ／４部材２０ａと第１のポジティブＣプレート２０ｂとは、例えば、図示しない接着層を介して積層される。また、第一位相差部材２０においては、偏光部材１０の吸収軸と第１のλ／４部材２０ａの遅相軸とのなす角度が、好ましくは４０°～５０°、より好ましくは４２°～４８°、例えば約４５°となるように配置されている。
【0075】
光学積層体１００ａは、例えば、図３に例示する表示システムにおいて、第一位相差部材２０が表示素子１２に一体に設けられた実施形態による表示システムの製造に適用され得る。例えば、光学積層体１００ａからはく離ライナー６１を剥離し、偏光部材１０が液晶セルの前方側（視認側）偏光部材となるように、背面側偏光部材とともに液晶セルに貼り合せることにより、第一位相差部材２０が液晶パネル（表示素子）と一体に設けられた表示システムを製造することができる。また例えば、光学積層体１００ａからはく離ライナー６１を剥離して、粘着剤層３１を介して有機ＥＬパネルの前方に貼り合せることにより、第一位相差部材２０が有機ＥＬパネル（表示素子）と一体に設けられた表示システムを製造することができる。この場合、反射防止の観点から、光学積層体１００ａと有機ＥＬパネルとの間には第３のλ／４部材を含む第三位相差部材が配置され得る。第三位相差部材は、光学積層体に含まれていてもよい。例えば、光学積層体は、粘着剤層、第三位相差部材、偏光部材、第一位相差部材、および保護部材をこの順に有していてもよい。第３のλ／４部材としては、第１のλ／４部材と同様の説明を適用することができる。第三位相差部材は、第３のλ／４部材の遅相軸が偏光部材１０の吸収軸と、例えば４０°～５０°、４２°～４８°、または約４５°の角度をなすように配置され得る。
【0076】
＜偏光部材＞
偏光部材１０は、代表的には、二色性物質を含む樹脂フィルム（吸収型偏光膜と称する場合がある）を含む吸収型偏光部材であり、必要に応じて、その片側又は両側に保護層をさらに含み得る。保護層は、代表的には、任意の適切な接着剤層を介して吸収型偏光膜に貼り合わされている。接着剤層を形成する接着剤として、代表的には紫外線硬化型接着剤が挙げられる。
偏光部材１０は、代表的には、二色性物質を含む樹脂フィルム（吸収型偏光膜と称する場合がある）を含む吸収型偏光部材であり、必要に応じて、その片側又は両側に保護層をさらに含み得る。保護層は、代表的には、任意の適切な接着剤層を介して吸収型偏光膜に貼り合わされている。接着剤層を形成する接着剤として、代表的には紫外線硬化型接着剤が挙げられる。
【0077】
吸収型偏光部材（吸収型偏光膜）の直交透過率（Ｔｃ）は、０．５％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１％以下であり、さらに好ましくは０．０５％以下である。吸収型偏光部材（吸収型偏光膜）の単体透過率（Ｔｓ）は、例えば４１．０％～４５．０％であり、好ましくは４２．０％以上である。吸収型偏光部材（吸収型偏光膜）の偏光度（Ｐ）は、例えば９９．０％～９９．９９７％であり、好ましくは９９．９％以上である。
【0078】
上記直交透過率、単体透過率および偏光度は、例えば、紫外可視分光光度計を用いて測定することができる。偏光度Ｐは、紫外可視分光光度計を用いて、単体透過率Ｔｓ、平行透過率Ｔｐおよび直交透過率Ｔｃを測定し、得られたＴｐおよびＴｃから、下記式により求めることができる。なお、Ｔｓ、ＴｐおよびＴｃは、ＪＩＳ Ｚ８７０１の２度視野（Ｃ光源）により測定して視感度補正を行なったＹ値である。
偏光度Ｐ（％）＝｛（Ｔｐ－Ｔｃ）／（Ｔｐ＋Ｔｃ）｝１／２×１００
偏光度Ｐ（％）＝｛（Ｔｐ－Ｔｃ）／（Ｔｐ＋Ｔｃ）｝１／２×１００
【0079】
吸収型偏光膜の厚みは、例えば１μｍ以上２０μｍ以下であり、２μｍ以上１５μｍ以下であってもよく、１２μｍ以下であってもよく、１０μｍ以下であってもよく、８μｍ以下であってもよく、５μｍ以下であってもよい。
【0080】
上記吸収型偏光膜は、単層の樹脂フィルムから作製してもよく、二層以上の積層体を用いて作製してもよい。
【0081】
単層の樹脂フィルムから作製する場合、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡ系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質による染色処理、延伸処理等を施すことにより吸収型偏光膜を得ることができる。中でも、ＰＶＡ系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸して得られる吸収型偏光膜が好ましい。
【0082】
上記ヨウ素による染色は、例えば、ＰＶＡ系フィルムをヨウ素水溶液に浸漬することにより行われる。上記一軸延伸の延伸倍率は、好ましくは３～７倍である。延伸は、染色処理後に行ってもよいし、染色しながら行ってもよい。また、延伸してから染色してもよい。必要に応じて、ＰＶＡ系フィルムに、膨潤処理、架橋処理、洗浄処理、乾燥処理等が施される。
【0083】
上記二層以上の積層体を用いて作製する場合の積層体としては、樹脂基材と当該樹脂基材に積層されたＰＶＡ系樹脂層（ＰＶＡ系樹脂フィルム）との積層体、あるいは、樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体が挙げられる。樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる吸収型偏光膜は、例えば、ＰＶＡ系樹脂溶液を樹脂基材に塗布し、乾燥させて樹脂基材上にＰＶＡ系樹脂層を形成して、樹脂基材とＰＶＡ系樹脂層との積層体を得ること；当該積層体を延伸および染色してＰＶＡ系樹脂層を吸収型偏光膜とすること；により作製され得る。本実施形態においては、好ましくは、樹脂基材の片側に、ハロゲン化物とポリビニルアルコール系樹脂とを含むポリビニルアルコール系樹脂層を形成する。延伸は、代表的には積層体をホウ酸水溶液中に浸漬させて延伸することを含む。さらに、延伸は、必要に応じて、ホウ酸水溶液中での延伸の前に積層体を高温（例えば、９５℃以上）で空中延伸することをさらに含み得る。加えて、本実施形態においては、好ましくは、積層体は、長手方向に搬送しながら加熱することにより幅方向に２％以上収縮させる乾燥収縮処理に供される。代表的には、本実施形態の製造方法は、積層体に、空中補助延伸処理と染色処理と水中延伸処理と乾燥収縮処理とをこの順に施すことを含む。補助延伸を導入することにより、熱可塑性樹脂上にＰＶＡを塗布する場合でも、ＰＶＡの結晶性を高めることが可能となり、高い光学特性を達成することが可能となる。また、同時にＰＶＡの配向性を事前に高めることで、後の染色工程や延伸工程で水に浸漬された時に、ＰＶＡの配向性の低下や溶解などの問題を防止することができ、高い光学特性を達成することが可能になる。さらに、ＰＶＡ系樹脂層を液体に浸漬した場合において、ＰＶＡ系樹脂層がハロゲン化物を含まない場合に比べて、ポリビニルアルコール分子の配向の乱れ、および配向性の低下が抑制され得る。これにより、染色処理および水中延伸処理など、積層体を液体に浸漬して行う処理工程を経て得られる吸収型偏光膜の光学特性は向上し得る。さらに、乾燥収縮処理により積層体を幅方向に収縮させることにより、光学特性を向上させることができる。得られた樹脂基材／吸収型偏光膜の積層体はそのまま用いてもよく（すなわち、樹脂基材を吸収型偏光膜の保護層としてもよく）、樹脂基材／吸収型偏光膜の積層体から樹脂基材を剥離した剥離面に、もしくは、剥離面とは反対側の面に目的に応じた任意の適切な保護層を積層して用いてもよい。このような吸収型偏光膜の製造方法の詳細は、例えば特開２０１２－７３５８０号公報、特許第６４７０４５５号に記載されている。これらの公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。
【0084】
保護層は、吸収型偏光膜の保護層として使用できる任意の適切なフィルムで形成される。当該フィルムの主成分となる材料の具体例としては、ポリノルボルネン系等のシクロオレフィン（ＣＯＰ）系、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）系等のポリエステル系、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）系、（メタ）アクリル系、ポリビニルアルコール系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリオレフィン系、アセテート系等の透明樹脂が挙げられる。また、（メタ）アクリル系、ウレタン系、（メタ）アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。なお、「（メタ）アクリル系樹脂」とは、アクリル系樹脂および／またはメタクリル系樹脂をいう。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開２００１－３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムも使用できる。このフィルムの材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ－メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。当該ポリマーフィルムは、例えば、上記樹脂組成物の押出成形物であり得る。樹脂フィルムの材料は、単独でまたは組み合わせて使用できる。
【0085】
保護層の厚みは、代表的には１００μｍ以下であり、例えば５μｍ～８０μｍ、好ましくは１０μｍ～５０μｍ、より好ましくは１５μｍ～３５μｍである。
【0086】
＜第１のλ／４部材＞
第１のλ／４部材２０ａの面内位相差Ｒｅ（５５０）は、例えば１００ｎｍ～１９０ｎｍであり、１１０ｎｍ～１８０ｎｍであってもよく、１３０ｎｍ～１６０ｎｍであってもよく、１３５ｎｍ～１５５ｎｍであってもよい。第１のλ／４部材は、好ましくは、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散波長特性を示す。第１のλ／４部材のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、例えば０．７５以上１未満であり、０．８以上０．９５以下であってもよい。
第１のλ／４部材２０ａの面内位相差Ｒｅ（５５０）は、例えば１００ｎｍ～１９０ｎｍであり、１１０ｎｍ～１８０ｎｍであってもよく、１３０ｎｍ～１６０ｎｍであってもよく、１３５ｎｍ～１５５ｎｍであってもよい。第１のλ／４部材は、好ましくは、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散波長特性を示す。第１のλ／４部材のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、例えば０．７５以上１未満であり、０．８以上０．９５以下であってもよい。
【0087】
第１のλ／４部材は、好ましくは、屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの関係を示す。ここで「ｎｙ＝ｎｚ」はｎｙとｎｚが完全に等しい場合だけではなく、実質的に等しい場合を包含する。したがって、本発明の効果を損なわない範囲で、ｎｙ＜ｎｚとなる場合があり得る。第１のλ／４部材のＮｚ係数は、好ましくは０．９～３であり、より好ましくは０．９～２．５であり、さらに好ましくは０．９～１．５であり、特に好ましくは０．９～１．３である。
【0088】
第１のλ／４部材は、上記特性を満足し得る任意の適切な材料で形成される。第１のλ／４部材は、例えば、樹脂フィルムの延伸フィルムまたは液晶化合物の配向固化層であり得る。
【0089】
上記樹脂フィルムに含まれる樹脂としては、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステルカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、環状オレフィン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリル系樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、単独で用いてもよく、組み合わせて用いてもよい。組み合わせる方法としては、例えば、ブレンド、共重合が挙げられる。第１のλ／４部材が逆分散波長特性を示す場合、ポリカーボネート系樹脂またはポリエステルカーボネート系樹脂（以下、単にポリカーボネート系樹脂と称する場合がある）を含む樹脂フィルムが好適に用いられ得る。
【0090】
上記ポリカーボネート系樹脂としては、任意の適切なポリカーボネート系樹脂を用いることができる。例えば、ポリカーボネート系樹脂は、フルオレン系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、イソソルビド系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、脂環式ジオール、脂環式ジメタノール、ジ、トリまたはポリエチレングリコール、ならびに、アルキレングリコールまたはスピログリコールからなる群から選択される少なくとも１つのジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、を含む。好ましくは、ポリカーボネート系樹脂は、フルオレン系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、イソソルビド系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、脂環式ジメタノールに由来する構造単位ならびに／あるいはジ、トリまたはポリエチレングリコールに由来する構造単位と、を含み；さらに好ましくは、フルオレン系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、イソソルビド系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、ジ、トリまたはポリエチレングリコールに由来する構造単位と、を含む。ポリカーボネート系樹脂は、必要に応じてその他のジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含んでいてもよい。なお、第１のλ／４部材に好適に用いられ得るポリカーボネート系樹脂および第１のλ／４部材の形成方法の詳細は、例えば、特開２０１４－１０２９１号公報、特開２０１４－２６２６６号公報、特開２０１５－２１２８１６号公報、特開２０１５－２１２８１７号公報、特開２０１５－２１２８１８号公報に記載されており、これらの公報の記載は本明細書に参考として援用される。
【0091】
樹脂フィルムの延伸フィルムで構成される第１のλ／４部材の厚みは、例えば１０μｍ～１００μｍであり、好ましくは１０μｍ～７０μｍであり、より好ましくは２０μｍ～６０μｍである。
【0092】
上記液晶化合物の配向固化層は、液晶化合物が層内で所定の方向に配向し、その配向状態が固定されている層である。なお、「配向固化層」は、後述のように液晶モノマーを硬化させて得られる配向硬化層を包含する概念である。第１のλ／４部材においては、代表的には、棒状の液晶化合物が第１のλ／４部材の遅相軸方向に並んだ状態で配向している（ホモジニアス配向）。棒状の液晶化合物として、例えば、液晶ポリマーおよび液晶モノマーが挙げられる。液晶化合物は、好ましくは、重合可能である。液晶化合物が重合可能であると、液晶化合物を配向させた後に重合させることで、液晶化合物の配向状態を固定できる。
【0093】
上記液晶化合物の配向固化層（液晶配向固化層）は、所定の基材の表面に配向処理を施し、当該表面に液晶化合物を含む塗工液を塗工して当該液晶化合物を上記配向処理に対応する方向に配向させ、当該配向状態を固定することにより形成され得る。配向処理としては、任意の適切な配向処理が採用され得る。具体的には、機械的な配向処理、物理的な配向処理、化学的な配向処理が挙げられる。機械的な配向処理の具体例としては、ラビング処理、延伸処理が挙げられる。物理的な配向処理の具体例としては、磁場配向処理、電場配向処理が挙げられる。化学的な配向処理の具体例としては、斜方蒸着法、光配向処理が挙げられる。各種配向処理の処理条件は、目的に応じて任意の適切な条件が採用され得る。
【0094】
液晶化合物の配向は、液晶化合物の種類に応じて液晶相を示す温度で処理することにより行われる。このような温度処理を行うことにより、液晶化合物が液晶状態をとり、基材表面の配向処理方向に応じて当該液晶化合物が配向する。
【0095】
配向状態の固定は、１つの実施形態においては、上記のように配向した液晶化合物を冷却することにより行われる。液晶化合物が重合性または架橋性である場合には、配向状態の固定は、上記のように配向した液晶化合物に重合処理または架橋処理を施すことにより行われる。
【0096】
上記液晶化合物としては、任意の適切な液晶ポリマーおよび／または液晶モノマーが用いられる。液晶ポリマーおよび液晶モノマーは、それぞれ単独で用いてもよく、組み合わせてもよい。液晶化合物の具体例および液晶配向固化層の作製方法は、例えば、特開２００６－１６３３４３号公報、特開２００６－１７８３８９号公報、国際公開第２０１８／１２３５５１号公報に記載されている。これらの公報の記載は本明細書に参考として援用される。
【0097】
液晶配向固化層で構成される第１のλ／４部材の厚みは、例えば１μｍ～１０μｍであり、好ましくは１μｍ～８μｍであり、より好ましくは１μｍ～６μｍであり、さらに好ましくは１μｍ～４μｍである。
【0098】
＜第１のポジティブＣプレート＞
第１のポジティブＣプレート２０ｂの厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）は、好ましくは－５０ｎｍ～－３００ｎｍであり、より好ましくは－７０ｎｍ～－２５０ｎｍであり、さらに好ましくは－９０ｎｍ～－２００ｎｍであり、特に好ましくは－１００ｎｍ～－１８０ｎｍである。ここで、「ｎｘ＝ｎｙ」は、ｎｘとｎｙが厳密に等しい場合のみならず、ｎｘとｎｙが実質的に等しい場合も包含する。第１のポジティブＣプレートの面内位相差Ｒｅ（５５０）は、例えば１０ｎｍ未満である。
第１のポジティブＣプレート２０ｂの厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）は、好ましくは－５０ｎｍ～－３００ｎｍであり、より好ましくは－７０ｎｍ～－２５０ｎｍであり、さらに好ましくは－９０ｎｍ～－２００ｎｍであり、特に好ましくは－１００ｎｍ～－１８０ｎｍである。ここで、「ｎｘ＝ｎｙ」は、ｎｘとｎｙが厳密に等しい場合のみならず、ｎｘとｎｙが実質的に等しい場合も包含する。第１のポジティブＣプレートの面内位相差Ｒｅ（５５０）は、例えば１０ｎｍ未満である。
【0099】
第１のポジティブＣプレートは、任意の適切な材料で形成され得る。第１のポジティブＣプレートは、好ましくは、ホメオトロピック配向に固定された液晶材料を含むフィルムから構成される。ホメオトロピック配向させることができる液晶材料（液晶化合物）は、液晶モノマーであってもよいし、液晶ポリマーであってもよい。このような液晶化合物およびポジティブＣプレートの形成方法の具体例としては、特開２００２－３３３６４２号公報の［００２０］～［００２８］に記載の液晶化合物および当該位相差層の形成方法が挙げられる。この場合、第１のポジティブＣプレートの厚みは、好ましくは０．５μｍ～５μｍである。
【0100】
＜第一保護部材＞
第一保護部材４１は、代表的には、基材を含む。基材は、任意の適切なフィルムで構成され得る。基材を構成するフィルムの主成分となる材料としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン等のシクロオレフィン系、ポリオレフィン系、（メタ）アクリル系、アセテート系等の樹脂が挙げられる。基材の厚みは、好ましくは５μｍ～８０μｍであり、より好ましくは１０μｍ～４０μｍであり、さらに好ましくは１５μｍ～３５μｍである。
第一保護部材４１は、代表的には、基材を含む。基材は、任意の適切なフィルムで構成され得る。基材を構成するフィルムの主成分となる材料としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン等のシクロオレフィン系、ポリオレフィン系、（メタ）アクリル系、アセテート系等の樹脂が挙げられる。基材の厚みは、好ましくは５μｍ～８０μｍであり、より好ましくは１０μｍ～４０μｍであり、さらに好ましくは１５μｍ～３５μｍである。
【0101】
第一保護部材は、好ましくは、基材と基材上に形成される表面処理層とを有する。表面処理層を有する第一保護部材は、表面処理層が前方側に位置するように配置され得る。具体的には、表面処理層が光学積層体１００ａの最表面に位置し得る。表面処理層は、任意の適切な機能を有し得る。表面処理層としては、例えば、ハードコート層、反射防止層、スティッキング防止層、アンチグレア層が挙げられる。第一保護部材は、２以上の表面処理層を有していてもよい。表面処理層表面の水接触角は、例えば９０°以上１２５°以下、また例えば、１００°以上１１５°以下であり得る。
【0102】
反射防止層は、外光等の反射を防止するために設けられる。反射防止層としては、例えば、フッ素樹脂層、ナノ粒子（代表的には中空ナノ粒子、例えば中空ナノシリカ粒子）を含む樹脂層、または、ナノ構造（例えばモスアイ構造）を有する反射防止層が挙げられる。反射防止層の厚みは、好ましくは０．０５μｍ～１μｍである。上記樹脂層の形成方法としては、例えば、ゾルゲル法、イソシアネートを用いた熱硬化法、架橋性モノマー（例えば多官能アクリレート）と光重合開始剤とを用いた電離放射線硬化法（代表的には光硬化法）が挙げられる。１つの実施形態において、反射防止層は、第一保護部材の最表面に設けられ、反射防止層表面に第一表面保護フィルムが貼着される。反射防止層が第一保護部材の最表面に設けられる実施形態によれば、ハーフミラー１８と第一位相差部材２０との間に空間が形成されている表示システムにおいて、優れた反射防止効果を得ることができる。
【0103】
ハードコート層は、好ましくは、十分な表面硬度、優れた機械的強度、および優れた光透過性を有する。ハードコート層は、任意の適切な樹脂から形成され得る。ハードコート層は、代表的には紫外線硬化型樹脂から形成される。紫外線硬化型樹脂としては、例えば、ポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、アミド系、シリコーン系、エポキシ系が挙げられる。ハードコート層の厚みは、例えば０．５μｍ以上、好ましくは１μｍ以上、例えば２０μｍ以下、好ましくは１５μｍ以下である。
【0104】
＜粘着剤層＞
粘着剤層３１は、任意の適切な粘着剤で構成され得る。具体例としては、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、エポキシ系粘着剤、およびポリエーテル系粘着剤が挙げられる。粘着剤のベース樹脂を形成するモノマーの種類、数、組み合わせおよび配合比、ならびに、架橋剤の配合量、反応温度、反応時間等を調整することにより、目的に応じた所望の特性を有する粘着剤を調製することができる。粘着剤のベース樹脂は、単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。ベース樹脂としては、アクリル系樹脂が好ましく用いられる。具体的には、粘着剤層は、好ましくはアクリル系粘着剤で構成される。
粘着剤層３１は、任意の適切な粘着剤で構成され得る。具体例としては、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、エポキシ系粘着剤、およびポリエーテル系粘着剤が挙げられる。粘着剤のベース樹脂を形成するモノマーの種類、数、組み合わせおよび配合比、ならびに、架橋剤の配合量、反応温度、反応時間等を調整することにより、目的に応じた所望の特性を有する粘着剤を調製することができる。粘着剤のベース樹脂は、単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。ベース樹脂としては、アクリル系樹脂が好ましく用いられる。具体的には、粘着剤層は、好ましくはアクリル系粘着剤で構成される。
【0105】
粘着剤層の厚みは、代表的には１μｍ以上、好ましくは５μｍ以上、より好ましくは１２μｍ以上であり、代表的には６０μｍ以下、好ましくは３０μｍ以下、より好ましくは２３μｍ以下である。
【0106】
＜はく離ライナー＞
はく離ライナー６１は、任意の適切な樹脂フィルムで形成される。当該樹脂フィルムの主成分となる材料の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン、ポリプロピレンが挙げられる。樹脂フィルムの材料は、単独でまたは組み合わせて使用できる。はく離ライナーは、透明（例えば、ヘイズが５％以下、また例えば３％以下）であってもよく、透明でなくてもよい。
はく離ライナー６１は、任意の適切な樹脂フィルムで形成される。当該樹脂フィルムの主成分となる材料の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン、ポリプロピレンが挙げられる。樹脂フィルムの材料は、単独でまたは組み合わせて使用できる。はく離ライナーは、透明（例えば、ヘイズが５％以下、また例えば３％以下）であってもよく、透明でなくてもよい。
【0107】
はく離ライナー６１における粘着剤層３１との接触面には、離型処理層が設けられていてもよい。離型処理層を形成する離型処理剤としては、例えば、シリコーン系離型処理剤、フッ素系離型処理剤、長鎖アルキルアクリレート系離型処理剤が挙げられる。離型処理剤は、単独でまたは組み合わせて使用できる。離型処理層の厚みは、代表的には５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下である。
【0108】
はく離ライナーの厚みは、代表的には５μｍ以上、好ましくは２０μｍ以上であり、代表的には６０μｍ以下、好ましくは４５μｍ以下である。なお、離型処理層が施されている場合、はく離ライナーの厚みは、離型処理層の厚みを含めた厚みである。
【0109】
図５は、図３に例示する表示システムにおいて用いられ得る別の光学積層体の概略断面図である。光学積層体１００ｂは、粘着剤層３２と、第二位相差部材２２と、第二保護部材４２と、をこの順に含む。第二位相差部材２２および第二保護部材４２は、接着層５３を介して積層されている。接着層５３は、代表的には、接着剤層または粘着剤層であり、好ましくは粘着剤層である。接着層の厚みは、例えば０．０５μｍ～３０μｍである。粘着剤層３２の表面は、使用に供されるまでの間、はく離ライナー６２によって保護されている。第一表面保護フィルムおよび第二表面保護フィルムは、光学積層体１００ｂの第二保護部材４２側に貼着される。
【0110】
図５に示す例では、第二位相差部材２２は、第２のλ／４部材２２ａに加えて、屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を示し得る部材（いわゆる、ポジティブＣプレート）２２ｂを含んでいる。第二位相差部材２２は、第２のλ／４部材２２ａと第２のポジティブＣプレート２２ｂとの積層構造を有している。図示例のように、第２のλ／４部材２２ａが第２のポジティブＣプレート２２ｂよりも第二保護部材４２側に位置していることが好ましいが、これらの配置が逆であってもよい。また、第２のポジティブＣプレート２２ｂは省略されてもよい。第２のλ／４部材２２ａと第２のポジティブＣプレート２２ｂとは、例えば、図示しない接着層を介して積層される。
【0111】
光学積層体１００ｂは、例えば、図３に例示する表示システムにおいて、第二位相差部材２２が第一レンズ部１６に一体に設けられた実施形態における表示システムの製造に適用され得る。具体的には、光学積層体１００ｂからはく離ライナー６２を剥離し、粘着剤層３２を介して第一レンズ部１６に貼り合せることにより、第二位相差部材２２が第一レンズ部１６に一体に設けられた表示システムを製造することができる。
【0112】
＜第２のλ／４部材＞
第２のλ／４部材２２ａの面内位相差Ｒｅ（５５０）は、例えば１００ｎｍ～１９０ｎｍであり、１１０ｎｍ～１８０ｎｍであってもよく、１３０ｎｍ～１６０ｎｍであってもよく、１３５ｎｍ～１５５ｎｍであってもよい。第２のλ／４部材は、好ましくは、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散波長特性を示す。第２のλ／４部材のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、例えば０．７５以上１未満であり、０．８以上０．９５以下であってもよい。
第２のλ／４部材２２ａの面内位相差Ｒｅ（５５０）は、例えば１００ｎｍ～１９０ｎｍであり、１１０ｎｍ～１８０ｎｍであってもよく、１３０ｎｍ～１６０ｎｍであってもよく、１３５ｎｍ～１５５ｎｍであってもよい。第２のλ／４部材は、好ましくは、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散波長特性を示す。第２のλ／４部材のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、例えば０．７５以上１未満であり、０．８以上０．９５以下であってもよい。
【0113】
第２のλ／４部材は、好ましくは、屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの関係を示す。ここで「ｎｙ＝ｎｚ」はｎｙとｎｚが完全に等しい場合だけではなく、実質的に等しい場合を包含する。したがって、本発明の効果を損なわない範囲で、ｎｙ＜ｎｚとなる場合があり得る。第２のλ／４部材のＮｚ係数は、好ましくは０．９～３であり、より好ましくは０．９～２．５であり、さらに好ましくは０．９～１．５であり、特に好ましくは０．９～１．３である。
【0114】
第２のλ／４部材は、上記特性を満足し得る任意の適切な材料で形成される。第２のλ／４部材は、例えば、樹脂フィルムの延伸フィルムまたは液晶化合物の配向固化層であり得る。樹脂フィルムの延伸フィルムまたは液晶化合物の配向固化層で構成される第２のλ／４部材については、上記第１のλ／４部材と同様の説明を適用することができる。第１のλ／４部材と第２のλ／４部材とは、構成（例えば、形成材料、厚み、光学特性等）が同じであってもよく、異なる構成であってもよい。
【0115】
＜第２のポジティブＣプレート＞
第２のポジティブＣプレート２２ｂの厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）は、好ましくは－５０ｎｍ～－３００ｎｍであり、より好ましくは－７０ｎｍ～－２５０ｎｍであり、さらに好ましくは－９０ｎｍ～－２００ｎｍであり、特に好ましくは－１００ｎｍ～－１８０ｎｍである。ここで、「ｎｘ＝ｎｙ」は、ｎｘとｎｙが厳密に等しい場合のみならず、ｎｘとｎｙが実質的に等しい場合も包含する。第２のポジティブＣプレートの面内位相差Ｒｅ（５５０）は、例えば１０ｎｍ未満である。
第２のポジティブＣプレート２２ｂの厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）は、好ましくは－５０ｎｍ～－３００ｎｍであり、より好ましくは－７０ｎｍ～－２５０ｎｍであり、さらに好ましくは－９０ｎｍ～－２００ｎｍであり、特に好ましくは－１００ｎｍ～－１８０ｎｍである。ここで、「ｎｘ＝ｎｙ」は、ｎｘとｎｙが厳密に等しい場合のみならず、ｎｘとｎｙが実質的に等しい場合も包含する。第２のポジティブＣプレートの面内位相差Ｒｅ（５５０）は、例えば１０ｎｍ未満である。
【0116】
第２のポジティブＣプレートは、上記特性を満足し得る任意の適切な材料で形成される。第２のポジティブＣプレートの構成材料については、第１のポジティブＣプレートと同様の説明を適用することができる。第１のポジティブＣプレートと第２のポジティブＣプレートとは、構成（例えば、形成材料、厚み、光学特性等）が同じであってもよく、異なる構成であってもよい。
【0117】
＜第二保護部材＞
第二保護部材４２は、代表的には、基材を含み、好ましくは、基材と基材上に形成される表面処理層とを有する。この場合、表面処理層が光学積層体１００ｂの最表面に位置し得る。基材および表面処理層の詳細については、第一保護部材と同様の説明を適用することができる。表面処理層として反射防止層が第二保護部材４２の最表面に設けられる実施形態によれば、第二位相差部材２２が第一レンズ部１６と一体化され、反射型偏光部材１４が第二レンズ部２４と一体化され、これらの間に空間が形成されている表示システムにおいて、優れた反射防止効果を得ることができる。
第二保護部材４２は、代表的には、基材を含み、好ましくは、基材と基材上に形成される表面処理層とを有する。この場合、表面処理層が光学積層体１００ｂの最表面に位置し得る。基材および表面処理層の詳細については、第一保護部材と同様の説明を適用することができる。表面処理層として反射防止層が第二保護部材４２の最表面に設けられる実施形態によれば、第二位相差部材２２が第一レンズ部１６と一体化され、反射型偏光部材１４が第二レンズ部２４と一体化され、これらの間に空間が形成されている表示システムにおいて、優れた反射防止効果を得ることができる。
【0118】
光学積層体１００ｂに用いられる粘着剤層３２およびはく離ライナー６２についてはそれぞれ、光学積層体１００ａに用いられる粘着剤層３１およびはく離ライナー６１と同様の説明を適用することができる。
【0119】
Ｂ．表示システムの製造方法
本発明の別の局面によれば、Ａ項に記載の表面保護フィルム付光学積層体を用いた表示システム（ディスプレイ付きゴーグル）の製造方法が提供される。本発明の実施形態による表示システムの製造方法は、Ａ項に記載の表面保護フィルム付光学積層体から第二表面保護フィルムを剥離して、第一表面保護フィルムのみが貼着された光学積層体を得ること、第一表面保護フィルムのみが貼着された光学積層体が他の部材に貼り合わせられた構成の被検査物を欠点検査することを含む。第二表面保護フィルムの剥離は、被検査物の作製（すなわち、表面保護フィルム付光学積層体と他の部材との貼り合わせ）前であってもよく、作製後であってもよい。
本発明の１つの実施形態による表示システムの製造方法は、
Ａ項に記載の表面保護フィルム付光学積層体の第一表面保護フィルムおよび第二表面保護フィルムが貼着された側と反対側に、別の部材を貼着して、表面保護フィルム付二次積層体を得ること、
該表面保護フィルム付二次積層体から上記第二表面保護フィルムを剥離すること、
該表面保護フィルム付二次積層体を欠点検査すること、および
該表面保護フィルム付二次積層体から上記第一表面保護フィルムを剥離して、二次積層体を得ること、
をこの順に含む。
得られた二次積層体は、アセンブリ工程に供され、他の部材とともに組み立てられて表示システムを構成する。以下、図６を参照しながら、本発明の上記表示システムの製造方法の一例を説明する。
本発明の別の局面によれば、Ａ項に記載の表面保護フィルム付光学積層体を用いた表示システム（ディスプレイ付きゴーグル）の製造方法が提供される。本発明の実施形態による表示システムの製造方法は、Ａ項に記載の表面保護フィルム付光学積層体から第二表面保護フィルムを剥離して、第一表面保護フィルムのみが貼着された光学積層体を得ること、第一表面保護フィルムのみが貼着された光学積層体が他の部材に貼り合わせられた構成の被検査物を欠点検査することを含む。第二表面保護フィルムの剥離は、被検査物の作製（すなわち、表面保護フィルム付光学積層体と他の部材との貼り合わせ）前であってもよく、作製後であってもよい。
本発明の１つの実施形態による表示システムの製造方法は、
Ａ項に記載の表面保護フィルム付光学積層体の第一表面保護フィルムおよび第二表面保護フィルムが貼着された側と反対側に、別の部材を貼着して、表面保護フィルム付二次積層体を得ること、
該表面保護フィルム付二次積層体から上記第二表面保護フィルムを剥離すること、
該表面保護フィルム付二次積層体を欠点検査すること、および
該表面保護フィルム付二次積層体から上記第一表面保護フィルムを剥離して、二次積層体を得ること、
をこの順に含む。
得られた二次積層体は、アセンブリ工程に供され、他の部材とともに組み立てられて表示システムを構成する。以下、図６を参照しながら、本発明の上記表示システムの製造方法の一例を説明する。
【0120】
図６Ａに示される表面保護フィルム付光学積層体２００は、図４に例示する光学積層体１００ａを有し、光学積層体１００ａの第一保護材４１表面に第一表面保護フィルム１１０および第二表面保護フィルム１２０が外方に向かってこの順に貼着されている。１つの実施形態において、光学積層体１００ａは、被貼着体（図６（ｂ）に示す別の部材３００）の形状に対応する形状に加工されている。例えば、表面保護フィルム付光学積層体２００は、切断、打抜き、切削等により、所望の形状に加工されている。
図６Ｂに示されるように、表面保護フィルム付光学積層体２００からはく離ライナー６１を剥離し、露出した粘着剤層３１を介して光学部材（例えば、液晶セル、有機ＥＬパネル）３００の視認側（前方）表面に貼り合わせて、表面保護フィルム付二次積層体４００ａを得る。
次いで、図６Ｃに示されるように、表面保護フィルム付二次積層体４００ａから第二表面保護フィルム１２０を剥離して、表面保護フィルム付二次積層体４００ｂを得る。
次いで、図６Ｄに示されるように、第一表面保護フィルム１１０で表面を保護された状態の表面保護フィルム付二次積層体４００ｂについて欠点検査を実施する。
次いで、図６Ｅに示されるように、欠点検査において良品と判断された表面保護フィルム付二次積層体４００ｂから第一表面保護フィルム１１０を剥離して、二次積層体４００ｃを得る。二次積層体４００ｃは、表示システムの組み立てに供される。
図６Ｂに示されるように、表面保護フィルム付光学積層体２００からはく離ライナー６１を剥離し、露出した粘着剤層３１を介して光学部材（例えば、液晶セル、有機ＥＬパネル）３００の視認側（前方）表面に貼り合わせて、表面保護フィルム付二次積層体４００ａを得る。
次いで、図６Ｃに示されるように、表面保護フィルム付二次積層体４００ａから第二表面保護フィルム１２０を剥離して、表面保護フィルム付二次積層体４００ｂを得る。
次いで、図６Ｄに示されるように、第一表面保護フィルム１１０で表面を保護された状態の表面保護フィルム付二次積層体４００ｂについて欠点検査を実施する。
次いで、図６Ｅに示されるように、欠点検査において良品と判断された表面保護フィルム付二次積層体４００ｂから第一表面保護フィルム１１０を剥離して、二次積層体４００ｃを得る。二次積層体４００ｃは、表示システムの組み立てに供される。
【0121】
上記製造方法によれば、表示システムに組み込む直前まで、光学積層体の表面にキズ、異物、汚れ等が付着することを好適に防止できるとともに、表示システムに組み込む直前の光学部材について精密な欠点検査を行うことができる。このような効果は、光学積層体の製造、表示素子の製造、表示システムの組み立て（アセンブリ）等の工程が別々の場所で行われる場合に特に有利である。１つの実施形態において、光学積層体は、２つの表面保護フィルムが貼着された表面保護フィルム付光学積層体の状態で第１の半製品として表示素子製造業者に出荷され（例えば、図６Ａ）；該表面保護フィルム付光学積層体を、液晶セル、有機ＥＬ素子等の光学部材に貼着することにより、表面保護フィルム付光学積層体が貼着された表示素子（液晶パネル、有機ＥＬパネル等）が得られ（例えば、図６Ｂ）；ここから、第二表面保護フィルムを剥離して、表面が第一表面保護フィルムで保護された状態で、当該表示素子の欠点検査が行われ（例えば、図６ＣおよびＤ）；欠点検査で良品と判定された表示素子は第一表面保護フィルムを貼着した状態で第２の半製品として表示システムの製造業者に出荷され；当該表示素子は、第一表面保護フィルムを剥離した後に、他の部材とのアセンブリに供され得る（例えば、図６Ｅ）。本実施形態の製造方法によれば、第１の半製品を出荷する際の欠点（キズ、異物、汚れ等）の防止、第２の半製品を製造する際の欠点検査、および、第２の半製品を出荷する際の欠点（キズ、異物、汚れ等）の防止を好適に行うことができ、結果として、最終製品の効率的な製造に寄与し得る。
【0122】
表示システムの製造方法は図示例に限定されない。例えば、第二表面保護フィルムの剥離は、はく離ライナーの剥離および光学部材への貼着の前であってもよく、また、欠点検査は、光学部材への貼着前に行われてもよい。例えば、第二表面保護フィルムおよびはく離ライナーを剥離し、第一表面保護フィルムのみが貼着された状態の光学積層体を欠点検査した後に、光学積層体を光学部材に貼り合わせることができる。また例えば、第二表面保護フィルムを剥離し、第一表面保護フィルムとはく離ライナーが貼着された状態の光学積層体を欠点検査した後に、はく離ライナーを剥離して光学積層体を光学部材に貼り合わせることができる。
【0123】
欠点検査は、自動光学検査（ＡＯＩ）、目視検査等によって行われ得る。好ましくは、欠点検査は、自動光学検査（ＡＯＩ）を含む。欠点検査は、目的に応じて、透過光学系で行われてもよく、反射光学系で行われてもよく、これらの組み合わせであってもよい。
【実施例0124】
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。なお、厚みは下記の測定方法により測定した値である。
＜厚み＞
１０μｍ以下の厚みは、走査型電子顕微鏡（日本電子社製、製品名「ＪＳＭ－７１００Ｆ」）を用いて測定した。１０μｍを超える厚みは、デジタルマイクロメーター（アンリツ社製、製品名「ＫＣ－３５１Ｃ」）を用いて測定した。
＜表面保護フィルムのヘイズ＞
各表面保護フィルムにおいて、はく離ライナーを粘着剤層から剥離して、ヘイズメーター（日本電色工業社製「ＮＤＨ－５０００」）により、表面保護フィルムの基材側から光を照射して、ＪＩＳ Ｋ７１３６に準じてヘイズを測定した。
＜厚み＞
１０μｍ以下の厚みは、走査型電子顕微鏡（日本電子社製、製品名「ＪＳＭ－７１００Ｆ」）を用いて測定した。１０μｍを超える厚みは、デジタルマイクロメーター（アンリツ社製、製品名「ＫＣ－３５１Ｃ」）を用いて測定した。
＜表面保護フィルムのヘイズ＞
各表面保護フィルムにおいて、はく離ライナーを粘着剤層から剥離して、ヘイズメーター（日本電色工業社製「ＮＤＨ－５０００」）により、表面保護フィルムの基材側から光を照射して、ＪＩＳ Ｋ７１３６に準じてヘイズを測定した。
【0125】
［製造例１Ａ：表面保護フィルムＡの作製］
＜アクリルポリマーＡ＞
温度計、攪拌機、冷却器および窒素ガス導入管を備える反応容器内に、モノマー成分として、２－エチルヘキシルアクリレート（２ＥＨＡ）９６．２質量部、およびヒドロキシエチルアクリレート（ＨＥＡ）３．８質量部、ならびに重合開始剤として２，２’－アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０．２質量部を酢酸エチル１５０質量部とともに仕込み、２３℃で緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入して窒素置換を行った。その後、液温を６５℃付近に保って６時間重合反応を行い、アクリルポリマーＡの溶液（濃度４０質量％）を調製した。アクリルポリマーＡの重量平均分子量は５４万であった。
＜アクリルポリマーＡ＞
温度計、攪拌機、冷却器および窒素ガス導入管を備える反応容器内に、モノマー成分として、２－エチルヘキシルアクリレート（２ＥＨＡ）９６．２質量部、およびヒドロキシエチルアクリレート（ＨＥＡ）３．８質量部、ならびに重合開始剤として２，２’－アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０．２質量部を酢酸エチル１５０質量部とともに仕込み、２３℃で緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入して窒素置換を行った。その後、液温を６５℃付近に保って６時間重合反応を行い、アクリルポリマーＡの溶液（濃度４０質量％）を調製した。アクリルポリマーＡの重量平均分子量は５４万であった。
【0126】
＜粘着剤組成物Ａ＞
アクリルポリマーＡの溶液に酢酸エチルを加えて濃度２０質量％に希釈した。この溶液５００質量部(固形分１００質量部)に、架橋剤としてヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体（東ソー社製「コロネートＨＸ」）４質量部、および架橋触媒としてジラウリン酸ジブチルスズ（１質量％酢酸エチル溶液）３質量部(固形分０．０３質量部)を加えて攪拌し、粘着剤組成物Ａを調製した。
アクリルポリマーＡの溶液に酢酸エチルを加えて濃度２０質量％に希釈した。この溶液５００質量部(固形分１００質量部)に、架橋剤としてヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体（東ソー社製「コロネートＨＸ」）４質量部、および架橋触媒としてジラウリン酸ジブチルスズ（１質量％酢酸エチル溶液）３質量部(固形分０．０３質量部)を加えて攪拌し、粘着剤組成物Ａを調製した。
【0127】
＜表面保護フィルムＡ＞
基材（ＰＥＴフィルム、ＫＯＬＯＮ社製「ＣＥ９０５－３８」、厚み３８μｍ）の片面に、粘着剤組成物Ａを塗布し、その後乾燥させて粘着剤層（厚み１５μｍ）を形成した。次いで、粘着剤層の基材と反対側の表面に、はく離ライナー（東洋紡社製、品番ＴＧ７０４）を貼り付けた。これにより表面保護フィルムＡを得た。表面保護フィルムＡのヘイズは、１．８％であった。
基材（ＰＥＴフィルム、ＫＯＬＯＮ社製「ＣＥ９０５－３８」、厚み３８μｍ）の片面に、粘着剤組成物Ａを塗布し、その後乾燥させて粘着剤層（厚み１５μｍ）を形成した。次いで、粘着剤層の基材と反対側の表面に、はく離ライナー（東洋紡社製、品番ＴＧ７０４）を貼り付けた。これにより表面保護フィルムＡを得た。表面保護フィルムＡのヘイズは、１．８％であった。
【0128】
［製造例１Ｂ：表面保護フィルムＢの作製］
基材としてＰＥＴフィルム（ＫＯＬＯＮ社製「ＣＥ９０１－３８」、厚み３８μｍ）を用いたこと以外は製造例１Ａと同様にして粘着剤層（厚み１５μｍ）を形成した。次いで、粘着剤層の基材と反対側の表面に、はく離ライナー（東洋紡社製、品番ＴＧ７０４）を貼り付けた。これにより表面保護フィルムＢを得た。表面保護フィルムＢのヘイズは、３．９％であった。
基材としてＰＥＴフィルム（ＫＯＬＯＮ社製「ＣＥ９０１－３８」、厚み３８μｍ）を用いたこと以外は製造例１Ａと同様にして粘着剤層（厚み１５μｍ）を形成した。次いで、粘着剤層の基材と反対側の表面に、はく離ライナー（東洋紡社製、品番ＴＧ７０４）を貼り付けた。これにより表面保護フィルムＢを得た。表面保護フィルムＢのヘイズは、３．９％であった。
【0129】
［製造例１Ｃ：表面保護フィルムＣの作製］
基材としてＰＥＴフィルム（三菱ケミカル社製「品番Ｔ１００Ｃ３８」、厚み３８μｍ）を用い、そのコロナ処理面に粘着剤組成物Ａを塗布して厚み５μｍの粘着剤層を形成したこと以外は製造例１Ａと同様にして表面保護フィルムＣを得た。表面保護フィルムＣのヘイズは、２．６％であった。
基材としてＰＥＴフィルム（三菱ケミカル社製「品番Ｔ１００Ｃ３８」、厚み３８μｍ）を用い、そのコロナ処理面に粘着剤組成物Ａを塗布して厚み５μｍの粘着剤層を形成したこと以外は製造例１Ａと同様にして表面保護フィルムＣを得た。表面保護フィルムＣのヘイズは、２．６％であった。
【0130】
上記表面保護フィルムＢおよびその製造に用いたはく離ライナーに関して、下記（１）～（５）の評価を行った。
（１）粘着剤層の表面形状評価試験
表面保護フィルムにおいて、はく離ライナーを粘着剤層から剥離して、粘着剤層における基材と反対側の表面を露出させた。
次いで、露出させた粘着剤層表面と対物レンズとが向かい合うように、はく離ライナーが除去された表面保護フィルムを白色干渉計（Ｚｙｇｏ社製、商品名 Ｚｙｇｏ ＮｅｗＶｉｅｗ７３００）にセットして、粘着剤層表面の干渉データを下記の条件で測定した。
白色干渉計の測定条件：
対物レンズ；×１０
内部レンズ；×１．０
分解能；１．０９μｍ
測定視野面積（Ｓ）；０．３６４１ｍｍ２
Ｒｅｍｏｖｅｄ；Ｃｙｌｉｎｄｅｒ
得られた干渉データを、周波数領域解析（計算ソフト；ＭｅｔｒｏＰｒｏ）により、測定面（基準面）に対して－１０００ｎｍ～－２０００ｎｍの解析範囲（深さ方向）で演算して、該当箇所が黒色領域となる二次元画像を得た。
なお、測定面（基準面）は、測定視野面積内の平均の高さとなる面に基づいて設定した。二次元画像における黒色領域の面積（Ｂ－ＢＡ）を表２に示す。
次いで、二次元画像を、測定面に対して－１００ｎｍを閾値として二値化解析して、－１００ｎｍ以下の部分が白色領域となる二値化画像を得た。二値化画像における白色領域の面積（Ａ－ＷＡ）を表２に示す。
次いで、白色干渉計の測定視野面積Ｓに対する、二次元画像における黒色領域の面積（Ｂ－ＢＡ）と二値化画像における白色領域の面積（Ａ－ＷＡ）との総和の割合を算出した（上記（式（１）～（３）参照）。その結果を表２に示す。
（１）粘着剤層の表面形状評価試験
表面保護フィルムにおいて、はく離ライナーを粘着剤層から剥離して、粘着剤層における基材と反対側の表面を露出させた。
次いで、露出させた粘着剤層表面と対物レンズとが向かい合うように、はく離ライナーが除去された表面保護フィルムを白色干渉計（Ｚｙｇｏ社製、商品名 Ｚｙｇｏ ＮｅｗＶｉｅｗ７３００）にセットして、粘着剤層表面の干渉データを下記の条件で測定した。
白色干渉計の測定条件：
対物レンズ；×１０
内部レンズ；×１．０
分解能；１．０９μｍ
測定視野面積（Ｓ）；０．３６４１ｍｍ２
Ｒｅｍｏｖｅｄ；Ｃｙｌｉｎｄｅｒ
得られた干渉データを、周波数領域解析（計算ソフト；ＭｅｔｒｏＰｒｏ）により、測定面（基準面）に対して－１０００ｎｍ～－２０００ｎｍの解析範囲（深さ方向）で演算して、該当箇所が黒色領域となる二次元画像を得た。
なお、測定面（基準面）は、測定視野面積内の平均の高さとなる面に基づいて設定した。二次元画像における黒色領域の面積（Ｂ－ＢＡ）を表２に示す。
次いで、二次元画像を、測定面に対して－１００ｎｍを閾値として二値化解析して、－１００ｎｍ以下の部分が白色領域となる二値化画像を得た。二値化画像における白色領域の面積（Ａ－ＷＡ）を表２に示す。
次いで、白色干渉計の測定視野面積Ｓに対する、二次元画像における黒色領域の面積（Ｂ－ＢＡ）と二値化画像における白色領域の面積（Ａ－ＷＡ）との総和の割合を算出した（上記（式（１）～（３）参照）。その結果を表２に示す。
【0131】
（２）粘着剤層の表面の最大谷深さおよび算術平均高さ測定
前述の白色干渉計の測定から得られた二次元画像の内、測定視野面積内の平均面に対する最小値を最大谷深さ（Ｓｖ）とした。また、Ｒａの値を算術平均高さ（Ｓａ）とした。なお、最大谷深さおよび算術平均高さは、無作為に選んだ３点のデータを平均した値を採用した。その結果を表２に示す。
前述の白色干渉計の測定から得られた二次元画像の内、測定視野面積内の平均面に対する最小値を最大谷深さ（Ｓｖ）とした。また、Ｒａの値を算術平均高さ（Ｓａ）とした。なお、最大谷深さおよび算術平均高さは、無作為に選んだ３点のデータを平均した値を採用した。その結果を表２に示す。
【0132】
（３）はく離ライナーの最大山高さおよび算術平均高さ測定
上記（１）において、粘着剤層から剥離したはく離ライナーを、上記白色干渉計にセットして、はく離ライナーの干渉データを上記の条件で測定し、二次元画像を得た。得られた二次元画像の内、測定視野面積内の平均面に対する最大値を最大山高さ（Ｓｐ）とした。また、Ｒａの値を算術平均高さ（Ｓａ）とした。なお、最大山高さおよび算術平均高さは無作為に選んだ３点のデータを平均した値を採用した。その結果を表１に示す。
上記（１）において、粘着剤層から剥離したはく離ライナーを、上記白色干渉計にセットして、はく離ライナーの干渉データを上記の条件で測定し、二次元画像を得た。得られた二次元画像の内、測定視野面積内の平均面に対する最大値を最大山高さ（Ｓｐ）とした。また、Ｒａの値を算術平均高さ（Ｓａ）とした。なお、最大山高さおよび算術平均高さは無作為に選んだ３点のデータを平均した値を採用した。その結果を表１に示す。
【0133】
（４）基材の顕微鏡観察による欠点数測定
基材の表面を顕微鏡（ＯＬＹＭＰＵＳ社製、商品名ＢＸ５１、接眼レンズ倍率１０×、対物レンズ倍率１０×）にて観察した。次いで、観察視野の中から無作為に０．１ｍｍ×０．１ｍｍの領域を選択し、最大フェレ径が１０μｍ以上の欠点数を目視にて測定した。
その結果を表１に示す。
基材の表面を顕微鏡（ＯＬＹＭＰＵＳ社製、商品名ＢＸ５１、接眼レンズ倍率１０×、対物レンズ倍率１０×）にて観察した。次いで、観察視野の中から無作為に０．１ｍｍ×０．１ｍｍの領域を選択し、最大フェレ径が１０μｍ以上の欠点数を目視にて測定した。
その結果を表１に示す。
【0134】
（５）基材の引裂強さの測定
基本的にはＪＩＳ Ｋ７１２８－１：１９９８に準拠して測定した。
具体的には、基材を、１５０ｍｍ×５０ｍｍのサイズに切断した。次いで、長辺と平行な方向に短辺側の端部中心から７５ｍｍスリットを入れ、サンプル片を準備した。なお、ＭＤ方向の引裂強さは長辺方向がＭＤ方向と平行になる様に、ＴＤ方向の引裂強さは長辺方向がＴＤ方向と平行になる様にサンプルを準備した。
得られた試験片を引張試験機に取り付け、引張速度２００ｍｍ／ｍｉｎ（温度２３℃／相対湿度５０％雰囲気下）にて評価し、引裂力を測定した。得られた引裂力より、引裂強さｆを算出した。（ｆ＝Ｆｔ／ｄ（Ｆｔ：試験片の引裂力［Ｎ］，ｄ：試験片の厚さ［ｍｍ］））その結果を表１に示す。
基本的にはＪＩＳ Ｋ７１２８－１：１９９８に準拠して測定した。
具体的には、基材を、１５０ｍｍ×５０ｍｍのサイズに切断した。次いで、長辺と平行な方向に短辺側の端部中心から７５ｍｍスリットを入れ、サンプル片を準備した。なお、ＭＤ方向の引裂強さは長辺方向がＭＤ方向と平行になる様に、ＴＤ方向の引裂強さは長辺方向がＴＤ方向と平行になる様にサンプルを準備した。
得られた試験片を引張試験機に取り付け、引張速度２００ｍｍ／ｍｉｎ（温度２３℃／相対湿度５０％雰囲気下）にて評価し、引裂力を測定した。得られた引裂力より、引裂強さｆを算出した。（ｆ＝Ｆｔ／ｄ（Ｆｔ：試験片の引裂力［Ｎ］，ｄ：試験片の厚さ［ｍｍ］））その結果を表１に示す。
【0135】
【表1】
【0136】
【表2】
【0137】
［剥離力評価：きっかけ剥離力］
表面保護フィルムＡおよびＢについて、後述の製造例５で作製した保護部材の表面処理層側表面に対する９０°および１８０°きっかけ剥離力を測定した。また、表面保護フィルムＣについて、表面保護フィルムＡまたはＢの基材側表面に対する９０°および１８０°きっかけ剥離力を測定した。測定はＮ＝１０で行い、その平均値をきっかけ剥離力とした。結果を表３に示す。なお、きっかけ剥離力の測定方法は以下のとおりである。
＜きっかけ剥離力の測定方法＞
（１）表面保護フィルムＡおよびＢ
保護部材を長方形状のフィルム片（５０ｍｍ×５０ｍｍ）に切り出し、両面粘着テープ（日東電工社製、「Ｎｏ．５３５Ａ」）を介してＳＵＳ板に貼り合わせた。このとき、アクリルフィルム側がＳＵＳ板側となるように貼り合わせた。次いで、同形状に切り出した表面保護フィルムＡまたはＢを該保護部材の表面処理層面にハンドローラ１往復にて重ねて貼り合わせ、これにより、［ＳＵＳ板／保護部材／表面保護フィルム］の構成を有する積層体を得た。当該積層体の表面保護フィルムの角部から２ｃｍの地点に約１０ｃｍの長さにカットした粘着テープ（日東電工社製、「Ｎｏ．３１５」、幅２５ｍｍ）を置き、２ｋｇローラー１往復で貼り合わせることで測定サンプルを得た。
上記測定サンプルについて、以下の条件で表面保護フィルムを測定サンプルの角部から剥離する際の剥離力を測定し、測定開始直後のピーク値を表面保護フィルムＡまたはＢのきっかけ剥離力とした。
・測定装置：引っ張り試験機（協和界面科学社製、粘着被膜剥離解析装置「ＶＰＡ－２」、電源を立ち上げて３０分以上エージングする。）
・測定環境：２３±５℃、６０±２０ＲＨ％
・剥離速度：３００ｍｍ／分
・剥離角度：９０°または１８０°
（２）表面保護フィルムＣ
表面保護フィルムＡまたはＢを長方形状のフィルム片（５０ｍｍ×５０ｍｍ）に切り出し、はく離ライナーを剥離して露出した粘着剤層を介してＳＵＳ板に貼り合わせ、該表面保護フィルムの基材層表面に表面保護フィルムＣを貼り合わせたこと以外は上記（１）と同様にして、保護フィルムＣのきっかけ剥離力を測定した。
表面保護フィルムＡおよびＢについて、後述の製造例５で作製した保護部材の表面処理層側表面に対する９０°および１８０°きっかけ剥離力を測定した。また、表面保護フィルムＣについて、表面保護フィルムＡまたはＢの基材側表面に対する９０°および１８０°きっかけ剥離力を測定した。測定はＮ＝１０で行い、その平均値をきっかけ剥離力とした。結果を表３に示す。なお、きっかけ剥離力の測定方法は以下のとおりである。
＜きっかけ剥離力の測定方法＞
（１）表面保護フィルムＡおよびＢ
保護部材を長方形状のフィルム片（５０ｍｍ×５０ｍｍ）に切り出し、両面粘着テープ（日東電工社製、「Ｎｏ．５３５Ａ」）を介してＳＵＳ板に貼り合わせた。このとき、アクリルフィルム側がＳＵＳ板側となるように貼り合わせた。次いで、同形状に切り出した表面保護フィルムＡまたはＢを該保護部材の表面処理層面にハンドローラ１往復にて重ねて貼り合わせ、これにより、［ＳＵＳ板／保護部材／表面保護フィルム］の構成を有する積層体を得た。当該積層体の表面保護フィルムの角部から２ｃｍの地点に約１０ｃｍの長さにカットした粘着テープ（日東電工社製、「Ｎｏ．３１５」、幅２５ｍｍ）を置き、２ｋｇローラー１往復で貼り合わせることで測定サンプルを得た。
上記測定サンプルについて、以下の条件で表面保護フィルムを測定サンプルの角部から剥離する際の剥離力を測定し、測定開始直後のピーク値を表面保護フィルムＡまたはＢのきっかけ剥離力とした。
・測定装置：引っ張り試験機（協和界面科学社製、粘着被膜剥離解析装置「ＶＰＡ－２」、電源を立ち上げて３０分以上エージングする。）
・測定環境：２３±５℃、６０±２０ＲＨ％
・剥離速度：３００ｍｍ／分
・剥離角度：９０°または１８０°
（２）表面保護フィルムＣ
表面保護フィルムＡまたはＢを長方形状のフィルム片（５０ｍｍ×５０ｍｍ）に切り出し、はく離ライナーを剥離して露出した粘着剤層を介してＳＵＳ板に貼り合わせ、該表面保護フィルムの基材層表面に表面保護フィルムＣを貼り合わせたこと以外は上記（１）と同様にして、保護フィルムＣのきっかけ剥離力を測定した。
【表3】
【0138】
［剥離力評価：通常剥離力］
表面保護フィルムＡおよびＢについて、後述の実施例１で作製した光学積層体の保護部材の表面処理層側表面に対する通常剥離力を測定した。また、表面保護フィルムＣについて、表面保護フィルムＡまたはＢの基材側表面に対する通常剥離力を測定した。測定はＮ＝３０で行い、その平均値を通常剥離力とした。結果を表４に示す。なお、通常剥離力の測定方法は以下のとおりである。
＜通常剥離力の測定方法＞
表面保護フィルムを幅２５ｍｍ、長さ１００ｍｍのサイズに切り出し、はく離ライナーを粘着剤層から剥離して、被着体に、圧力０．２５ＭＰａ、送り速度０．３ｍ／分でロール圧着した。この試料を、温度２３℃、相対湿度５０％の環境に３０分間静置した後、同環境下で、剥離角度１８０°、引張速度３００ｍｍ／分でピール試験を行い、１８０°剥離力を測定した。
表面保護フィルムＡおよびＢについて、後述の実施例１で作製した光学積層体の保護部材の表面処理層側表面に対する通常剥離力を測定した。また、表面保護フィルムＣについて、表面保護フィルムＡまたはＢの基材側表面に対する通常剥離力を測定した。測定はＮ＝３０で行い、その平均値を通常剥離力とした。結果を表４に示す。なお、通常剥離力の測定方法は以下のとおりである。
＜通常剥離力の測定方法＞
表面保護フィルムを幅２５ｍｍ、長さ１００ｍｍのサイズに切り出し、はく離ライナーを粘着剤層から剥離して、被着体に、圧力０．２５ＭＰａ、送り速度０．３ｍ／分でロール圧着した。この試料を、温度２３℃、相対湿度５０％の環境に３０分間静置した後、同環境下で、剥離角度１８０°、引張速度３００ｍｍ／分でピール試験を行い、１８０°剥離力を測定した。
【表4】
【0139】
［製造例２：偏光フィルムの作製］
厚み３０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂フィルム（クラレ社製、製品名「ＰＥ３０００」）の長尺ロールを、ロール延伸機により長手方向に５．９倍になるように長手方向に一軸延伸しながら同時に膨潤、染色、架橋、洗浄処理を施し、最後に乾燥処理を施すことにより厚み１２μｍの吸収型偏光膜を作製した。
具体的には、膨潤処理は２０℃の純水で処理しながら２．２倍に延伸した。次いで、染色処理は得られる吸収型偏光膜の単体透過率が４５．０％になるようにヨウ素濃度が調整されたヨウ素とヨウ化カリウムの重量比が１：７である３０℃の水溶液中において処理しながら１．４倍に延伸した。更に、架橋処理は、２段階の架橋処理を採用し、１段階目の架橋処理は４０℃のホウ酸とヨウ化カリウムを溶解した水溶液において処理しながら１．２倍に延伸した。１段階目の架橋処理の水溶液のホウ酸含有量は５．０重量％で、ヨウ化カリウム含有量は３．０重量％とした。２段階目の架橋処理は６５℃のホウ酸とヨウ化カリウムを溶解した水溶液において処理しながら１．６倍に延伸した。２段階目の架橋処理の水溶液のホウ酸含有量は４．３重量％で、ヨウ化カリウム含有量は５．０重量％とした。また、洗浄処理は、２０℃のヨウ化カリウム水溶液で処理した。洗浄処理の水溶液のヨウ化カリウム含有量は２．６重量％とした。最後に、乾燥処理は７０℃で５分間乾燥させて吸収型偏光膜を得た。
得られた吸収型偏光膜の一方の面にＨＣ付トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）系樹脂フィルム（ＴＡＣ厚み：２５μｍ、ＨＣ厚み：７μｍ）を、他方の面にシクロオレフィン系樹脂フィルム（厚み：１３μｍ）を、それぞれ保護層として貼り合わせた。具体的には、硬化型接着剤の総厚みが約１μｍになるように塗工し、ロール機を使用して貼り合わせた。その後、ＵＶ光線をＴＡＣフィルム側から照射して接着剤を硬化させた。
これにより、［ＴＡＣフィルム（保護層）／吸収型偏光膜／ＣＯＰフィルム（保護層）］の構成を有する偏光フィルムを得た。
厚み３０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂フィルム（クラレ社製、製品名「ＰＥ３０００」）の長尺ロールを、ロール延伸機により長手方向に５．９倍になるように長手方向に一軸延伸しながら同時に膨潤、染色、架橋、洗浄処理を施し、最後に乾燥処理を施すことにより厚み１２μｍの吸収型偏光膜を作製した。
具体的には、膨潤処理は２０℃の純水で処理しながら２．２倍に延伸した。次いで、染色処理は得られる吸収型偏光膜の単体透過率が４５．０％になるようにヨウ素濃度が調整されたヨウ素とヨウ化カリウムの重量比が１：７である３０℃の水溶液中において処理しながら１．４倍に延伸した。更に、架橋処理は、２段階の架橋処理を採用し、１段階目の架橋処理は４０℃のホウ酸とヨウ化カリウムを溶解した水溶液において処理しながら１．２倍に延伸した。１段階目の架橋処理の水溶液のホウ酸含有量は５．０重量％で、ヨウ化カリウム含有量は３．０重量％とした。２段階目の架橋処理は６５℃のホウ酸とヨウ化カリウムを溶解した水溶液において処理しながら１．６倍に延伸した。２段階目の架橋処理の水溶液のホウ酸含有量は４．３重量％で、ヨウ化カリウム含有量は５．０重量％とした。また、洗浄処理は、２０℃のヨウ化カリウム水溶液で処理した。洗浄処理の水溶液のヨウ化カリウム含有量は２．６重量％とした。最後に、乾燥処理は７０℃で５分間乾燥させて吸収型偏光膜を得た。
得られた吸収型偏光膜の一方の面にＨＣ付トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）系樹脂フィルム（ＴＡＣ厚み：２５μｍ、ＨＣ厚み：７μｍ）を、他方の面にシクロオレフィン系樹脂フィルム（厚み：１３μｍ）を、それぞれ保護層として貼り合わせた。具体的には、硬化型接着剤の総厚みが約１μｍになるように塗工し、ロール機を使用して貼り合わせた。その後、ＵＶ光線をＴＡＣフィルム側から照射して接着剤を硬化させた。
これにより、［ＴＡＣフィルム（保護層）／吸収型偏光膜／ＣＯＰフィルム（保護層）］の構成を有する偏光フィルムを得た。
【0140】
［製造例３：λ／４部材の作製］
撹拌翼および１００℃に制御された還流冷却器を具備した縦型反応器２器からなるバッチ重合装置を用いて重合を行った。ビス［９－（２－フェノキシカルボニルエチル）フルオレン－９－イル］メタン２９．６０質量部（０．０４６ｍｏｌ）、イソソルビド（ＩＳＢ）２９．２１質量部（０．２００ｍｏｌ）、スピログリコール（ＳＰＧ）４２．２８質量部（０．１３９ｍｏｌ）、ジフェニルカーボネート（ＤＰＣ）６３．７７質量部（０．２９８ｍｏｌ）及び触媒として酢酸カルシウム１水和物１．１９×１０－２質量部（６．７８×１０－５ｍｏｌ）を仕込んだ。反応器内を減圧窒素置換した後、熱媒で加温を行い、内温が１００℃になった時点で撹拌を開始した。昇温開始４０分後に内温を２２０℃に到達させ、この温度を保持するように制御すると同時に減圧を開始し、２２０℃に到達してから９０分で１３．３ｋＰａにした。重合反応とともに副生するフェノール蒸気を１００℃の還流冷却器に導き、フェノール蒸気中に若干量含まれるモノマー成分を反応器に戻し、凝縮しないフェノール蒸気は４５℃の凝縮器に導いて回収した。第１反応器に窒素を導入して一旦大気圧まで復圧させた後、第１反応器内のオリゴマー化された反応液を第２反応器に移した。次いで、第２反応器内の昇温および減圧を開始して、５０分で内温２４０℃、圧力０．２ｋＰａにした。その後、所定の攪拌動力となるまで重合を進行させた。所定動力に到達した時点で反応器に窒素を導入して復圧し、生成したポリエステルカーボネート系樹脂を水中に押し出し、ストランドをカッティングしてペレットを得た。
撹拌翼および１００℃に制御された還流冷却器を具備した縦型反応器２器からなるバッチ重合装置を用いて重合を行った。ビス［９－（２－フェノキシカルボニルエチル）フルオレン－９－イル］メタン２９．６０質量部（０．０４６ｍｏｌ）、イソソルビド（ＩＳＢ）２９．２１質量部（０．２００ｍｏｌ）、スピログリコール（ＳＰＧ）４２．２８質量部（０．１３９ｍｏｌ）、ジフェニルカーボネート（ＤＰＣ）６３．７７質量部（０．２９８ｍｏｌ）及び触媒として酢酸カルシウム１水和物１．１９×１０－２質量部（６．７８×１０－５ｍｏｌ）を仕込んだ。反応器内を減圧窒素置換した後、熱媒で加温を行い、内温が１００℃になった時点で撹拌を開始した。昇温開始４０分後に内温を２２０℃に到達させ、この温度を保持するように制御すると同時に減圧を開始し、２２０℃に到達してから９０分で１３．３ｋＰａにした。重合反応とともに副生するフェノール蒸気を１００℃の還流冷却器に導き、フェノール蒸気中に若干量含まれるモノマー成分を反応器に戻し、凝縮しないフェノール蒸気は４５℃の凝縮器に導いて回収した。第１反応器に窒素を導入して一旦大気圧まで復圧させた後、第１反応器内のオリゴマー化された反応液を第２反応器に移した。次いで、第２反応器内の昇温および減圧を開始して、５０分で内温２４０℃、圧力０．２ｋＰａにした。その後、所定の攪拌動力となるまで重合を進行させた。所定動力に到達した時点で反応器に窒素を導入して復圧し、生成したポリエステルカーボネート系樹脂を水中に押し出し、ストランドをカッティングしてペレットを得た。
【0141】
得られたポリエステルカーボネート系樹脂（ペレット）を８０℃で５時間真空乾燥をした後、単軸押出機（東芝機械社製、シリンダー設定温度：２５０℃）、Ｔダイ（幅２００ｍｍ、設定温度：２５０℃）、チルロール（設定温度：１２０～１３０℃）および巻取機を備えたフィルム製膜装置を用いて、厚み１３５μｍの長尺状の樹脂フィルムを作製した。得られた長尺状の樹脂フィルムを、幅方向に、延伸温度１４３℃、延伸倍率２．８倍で延伸し、厚み４７μｍの延伸フィルム（λ／４部材）を得た。得られた延伸フィルムのＲｅ（５５０）は１４３ｎｍであり、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８６であり、Ｎｚ係数は１．１２であった。
【0142】
［製造例４：ポジティブＣプレートの作製］
下記化学式（１）（式中の数字６５および３５はモノマーユニットのモル％を示し、便宜的にブロックポリマー体で表している：重量平均分子量５０００）で示される側鎖型液晶ポリマー２０重量部、ネマチック液晶相を示す重合性液晶（ＢＡＳＦ社製：商品名ＰａｌｉｏｃｏｌｏｒＬＣ２４２）８０重量部および光重合開始剤（チバスペシャリティーケミカルズ社製：商品名イルガキュア９０７）５重量部をシクロペンタノン２００重量部に溶解して液晶塗工液を調製した。そして、垂直配向処理を施したＰＥＴ基材に当該塗工液をバーコーターにより塗工した後、８０℃で４分間加熱乾燥することによって液晶を配向させた。この液晶層に紫外線を照射し、液晶層を硬化させることにより、厚みが４μｍ、Ｒｔｈ（５５０）が－１００ｎｍのポジティブＣプレートを基材上に形成した。
下記化学式（１）（式中の数字６５および３５はモノマーユニットのモル％を示し、便宜的にブロックポリマー体で表している：重量平均分子量５０００）で示される側鎖型液晶ポリマー２０重量部、ネマチック液晶相を示す重合性液晶（ＢＡＳＦ社製：商品名ＰａｌｉｏｃｏｌｏｒＬＣ２４２）８０重量部および光重合開始剤（チバスペシャリティーケミカルズ社製：商品名イルガキュア９０７）５重量部をシクロペンタノン２００重量部に溶解して液晶塗工液を調製した。そして、垂直配向処理を施したＰＥＴ基材に当該塗工液をバーコーターにより塗工した後、８０℃で４分間加熱乾燥することによって液晶を配向させた。この液晶層に紫外線を照射し、液晶層を硬化させることにより、厚みが４μｍ、Ｒｔｈ（５５０）が－１００ｎｍのポジティブＣプレートを基材上に形成した。
【化1】
【0143】
［製造例５：保護部材の作製］
ラクトン環構造を有するアクリルフィルム（厚み４０μｍ）に、下記に示すハードコート層形成用材料を塗布し、塗布層を乾燥させて厚み０．５μｍのハードコート層を形成した。次いで、ハードコート層表面に下記に示す反射防止層形成材料を塗布して８０℃で１分間加熱し、加熱後の塗布層に高圧水銀ランプにて積算光量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚み０．１μｍの反射防止層が形成した。これにより、［アクリルフィルム／ハードコート層／反射防止層］の構成を有する保護部材を得た。
ラクトン環構造を有するアクリルフィルム（厚み４０μｍ）に、下記に示すハードコート層形成用材料を塗布し、塗布層を乾燥させて厚み０．５μｍのハードコート層を形成した。次いで、ハードコート層表面に下記に示す反射防止層形成材料を塗布して８０℃で１分間加熱し、加熱後の塗布層に高圧水銀ランプにて積算光量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚み０．１μｍの反射防止層が形成した。これにより、［アクリルフィルム／ハードコート層／反射防止層］の構成を有する保護部材を得た。
【0144】
（ハードコート層形成用材料）
アクリル系樹脂原料（大日本インキ社製、商品名：ＧＲＡＮＤＩＣ ＰＣ１０７１）に、レベリング剤０．５重量％を加え、さらに、固形分濃度が５０重量％となるように酢酸エチルで希釈することにより、ハードコート層形成用材料を調製した。なお、レベリング剤は、ジメチルシロキサン：ヒドロキシプロピルシロキサン：６－イソシアネートヘキシルイソシアヌル酸：脂肪族ポリエステル＝６．３：１．０：２．２：１．０のモル比で共重合させた共重合物である。
アクリル系樹脂原料（大日本インキ社製、商品名：ＧＲＡＮＤＩＣ ＰＣ１０７１）に、レベリング剤０．５重量％を加え、さらに、固形分濃度が５０重量％となるように酢酸エチルで希釈することにより、ハードコート層形成用材料を調製した。なお、レベリング剤は、ジメチルシロキサン：ヒドロキシプロピルシロキサン：６－イソシアネートヘキシルイソシアヌル酸：脂肪族ポリエステル＝６．３：１．０：２．２：１．０のモル比で共重合させた共重合物である。
【0145】
（反射防止層形成材料）
ペンタエリストールトリアクリレートを主成分とする多官能アクリレート（大阪有機化学工業株式会社製、商品名「ビスコート＃３００」、固形分１００重量％）１００重量部、中空ナノシリカ粒子（日揮触媒化成工業株式会社製、商品名「スルーリア５３２０」、固形分２０重量％、重量平均粒子径７５ｎｍ）１５０重量部、中実ナノシリカ粒子（日産化学工業株式会社製、商品名「ＭＥＫ－２１４０Ｚ－ＡＣ」、固形分３０重量％、重量平均粒子径１０ｎｍ）５０重量部、フッ素元素含有添加剤（信越化学工業株式会社製、商品名「ＫＹ－１２０３」、固形分２０重量％）１２重量部、および光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名「ＯＭＮＩＲＡＤ９０７」、固形分１００重量％）３重量部を混合した。その混合物に、希釈溶媒としてＴＢＡ（ターシャリーブチルアルコール）、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）およびＰＭＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）を６０：２５：１５重量比で混合した混合溶媒を添加して全体の固形分が４重量％となるようにし、攪拌して反射防止層形成材料を調製した。
ペンタエリストールトリアクリレートを主成分とする多官能アクリレート（大阪有機化学工業株式会社製、商品名「ビスコート＃３００」、固形分１００重量％）１００重量部、中空ナノシリカ粒子（日揮触媒化成工業株式会社製、商品名「スルーリア５３２０」、固形分２０重量％、重量平均粒子径７５ｎｍ）１５０重量部、中実ナノシリカ粒子（日産化学工業株式会社製、商品名「ＭＥＫ－２１４０Ｚ－ＡＣ」、固形分３０重量％、重量平均粒子径１０ｎｍ）５０重量部、フッ素元素含有添加剤（信越化学工業株式会社製、商品名「ＫＹ－１２０３」、固形分２０重量％）１２重量部、および光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名「ＯＭＮＩＲＡＤ９０７」、固形分１００重量％）３重量部を混合した。その混合物に、希釈溶媒としてＴＢＡ（ターシャリーブチルアルコール）、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）およびＰＭＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）を６０：２５：１５重量比で混合した混合溶媒を添加して全体の固形分が４重量％となるようにし、攪拌して反射防止層形成材料を調製した。
【0146】
［製造例６：粘着剤層の作製］
撹拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器を備えた４つ口フラスコに、ブチルアクリレート８０．３部、フェノキシエチルアクリレート１６部、Ｎ－ビニル－２－ピロリドン（ＮＶＰ）３部、アクリル酸０．３部、４－ヒドロキシブチルアクリレート０．４部を含有するモノマー混合物を仕込んだ。さらに、上記モノマー混合物（固形分）１００部に対して、重合開始剤として２，２’－アゾビスイソブチロニトリル０．１部を酢酸エチル１００部と共に仕込み、緩やかに撹拌しながら窒素ガスを導入して窒素置換した。次いで、フラスコ内の液温を５５℃付近に保って８時間重合反応を行い、アクリル系ポリマー溶液を調製した。アクリル系ポリマーの重量平均分子量は１５０万であった。得られたアクリル系ポリマー溶液の固形分１００部に対して、架橋剤としてベンゾイルパーオキサイド（ＢＰＯ：日本油脂社製のナイパーＢＭＴ）を０．３部配合し、アクリル系粘着剤溶液を調製した。
得られた粘着剤組成物を、はく離ライナー（東レ社製、セラピール）の剥離処理層面に塗布し、１５５℃で３分間乾燥させて、厚み２０μｍの粘着剤層を形成した。
撹拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器を備えた４つ口フラスコに、ブチルアクリレート８０．３部、フェノキシエチルアクリレート１６部、Ｎ－ビニル－２－ピロリドン（ＮＶＰ）３部、アクリル酸０．３部、４－ヒドロキシブチルアクリレート０．４部を含有するモノマー混合物を仕込んだ。さらに、上記モノマー混合物（固形分）１００部に対して、重合開始剤として２，２’－アゾビスイソブチロニトリル０．１部を酢酸エチル１００部と共に仕込み、緩やかに撹拌しながら窒素ガスを導入して窒素置換した。次いで、フラスコ内の液温を５５℃付近に保って８時間重合反応を行い、アクリル系ポリマー溶液を調製した。アクリル系ポリマーの重量平均分子量は１５０万であった。得られたアクリル系ポリマー溶液の固形分１００部に対して、架橋剤としてベンゾイルパーオキサイド（ＢＰＯ：日本油脂社製のナイパーＢＭＴ）を０．３部配合し、アクリル系粘着剤溶液を調製した。
得られた粘着剤組成物を、はく離ライナー（東レ社製、セラピール）の剥離処理層面に塗布し、１５５℃で３分間乾燥させて、厚み２０μｍの粘着剤層を形成した。
【0147】
［実施例１］
（１）第一表面保護フィルムとして表面保護フィルムＡを用い、第二表面保護フィルムとして表面保護フィルムＣを用いて表面保護フィルム積層体を得た。具体的には、表面保護フィルムＣからはく離ライナーを剥離し、表面保護フィルムＡの基材面に貼り合わせて、［はく離ライナー／表面保護フィルムＡ／表面保護フィルムＣ］の構成を有する表面保護フィルム積層体を得た。
（２）製造例２で得た偏光フィルムのＣＯＰ保護層側表面に、製造例６で得た粘着剤層をはく離ライナーとともに貼り合せて、粘着剤層付偏光フィルムを得た。
（３）λ／４部材（延伸フィルム）に紫外線硬化型接着剤（硬化後の厚み１μｍ）を介して上記ポジティブＣプレートを転写して、位相差部材を得た。得られた位相差部材のポジティブＣプレート側に別のアクリル系粘着剤層を介して製造例５で得た保護部材を貼り合わせた。このとき、保護部材のアクリルフィルムが位相差部材側に位置するように（換言すると、反射防止層が最表面となるように）貼り合わせた。次いで、はく離ライナー上に形成した別のアクリル系粘着剤層をλ／４部材側表面に貼り合わせた。これにより、［保護部材／ポジティブＣプレート／λ／４部材／アクリル系粘着剤層／はく離ライナー］の構成を有する積層体を得た。
（４）（１）で得た表面保護フィルム積層体を、表面保護フィルムＡ側はく離ライナーを剥離して露出した粘着剤層を介して（３）で得た積層体の保護部材側表面に貼り合わせた。貼り合わせた直後に上から刃を入れることで長方形状のフィルムＡを打ち抜いた。なお、長方形状のフィルムＡはλ／４部材の遅相軸が短手方向に平行になるような刃型で打ち抜いている。同様に、（２）で得た粘着剤層付偏光フィルムに上から刃を入れることで長方形状のフィルムＢを打ち抜いた。なお、長方形状のフィルムＢは吸収型偏光膜の吸収軸が長手方向に対して斜め４５°になるような刃型で打ち抜いている。フィルムＡのはく離ライナーを剥離してテンションをかけずにフィルムＢに長手方向を揃えて貼り合わせた。上記のとおり、フィルムＡはλ／４部材の遅相軸が短手方向と平行となるように、フィルムＢは吸収型偏光膜の吸収軸が斜め４５°になるように打ち抜かれているため、吸収型偏光膜の吸収軸とλ／４部材の遅相軸とのなす角度は４５°になっている。
以上のようにして、［光学積層体（はく離ライナー／粘着剤層／偏光部材／λ／４部材／ポジティブＣプレート／保護部材）／表面保護フィルムＡ／表面保護フィルムＣ］の構成を有する表面保護フィルム付光学積層体を得た。
（１）第一表面保護フィルムとして表面保護フィルムＡを用い、第二表面保護フィルムとして表面保護フィルムＣを用いて表面保護フィルム積層体を得た。具体的には、表面保護フィルムＣからはく離ライナーを剥離し、表面保護フィルムＡの基材面に貼り合わせて、［はく離ライナー／表面保護フィルムＡ／表面保護フィルムＣ］の構成を有する表面保護フィルム積層体を得た。
（２）製造例２で得た偏光フィルムのＣＯＰ保護層側表面に、製造例６で得た粘着剤層をはく離ライナーとともに貼り合せて、粘着剤層付偏光フィルムを得た。
（３）λ／４部材（延伸フィルム）に紫外線硬化型接着剤（硬化後の厚み１μｍ）を介して上記ポジティブＣプレートを転写して、位相差部材を得た。得られた位相差部材のポジティブＣプレート側に別のアクリル系粘着剤層を介して製造例５で得た保護部材を貼り合わせた。このとき、保護部材のアクリルフィルムが位相差部材側に位置するように（換言すると、反射防止層が最表面となるように）貼り合わせた。次いで、はく離ライナー上に形成した別のアクリル系粘着剤層をλ／４部材側表面に貼り合わせた。これにより、［保護部材／ポジティブＣプレート／λ／４部材／アクリル系粘着剤層／はく離ライナー］の構成を有する積層体を得た。
（４）（１）で得た表面保護フィルム積層体を、表面保護フィルムＡ側はく離ライナーを剥離して露出した粘着剤層を介して（３）で得た積層体の保護部材側表面に貼り合わせた。貼り合わせた直後に上から刃を入れることで長方形状のフィルムＡを打ち抜いた。なお、長方形状のフィルムＡはλ／４部材の遅相軸が短手方向に平行になるような刃型で打ち抜いている。同様に、（２）で得た粘着剤層付偏光フィルムに上から刃を入れることで長方形状のフィルムＢを打ち抜いた。なお、長方形状のフィルムＢは吸収型偏光膜の吸収軸が長手方向に対して斜め４５°になるような刃型で打ち抜いている。フィルムＡのはく離ライナーを剥離してテンションをかけずにフィルムＢに長手方向を揃えて貼り合わせた。上記のとおり、フィルムＡはλ／４部材の遅相軸が短手方向と平行となるように、フィルムＢは吸収型偏光膜の吸収軸が斜め４５°になるように打ち抜かれているため、吸収型偏光膜の吸収軸とλ／４部材の遅相軸とのなす角度は４５°になっている。
以上のようにして、［光学積層体（はく離ライナー／粘着剤層／偏光部材／λ／４部材／ポジティブＣプレート／保護部材）／表面保護フィルムＡ／表面保護フィルムＣ］の構成を有する表面保護フィルム付光学積層体を得た。
【0148】
［実施例２］
第一表面保護フィルムとして、上記表面保護フィルムＢを用いたこと以外は実施例１と同様にして、［光学積層体／表面保護フィルムＢ／表面保護フィルムＣ］の構成を有する表面保護フィルム付光学積層体を得た。
第一表面保護フィルムとして、上記表面保護フィルムＢを用いたこと以外は実施例１と同様にして、［光学積層体／表面保護フィルムＢ／表面保護フィルムＣ］の構成を有する表面保護フィルム付光学積層体を得た。
【0149】
［比較例１］
上記実施例１の（３）で得た積層体の保護部材側表面（反射防止層表面）に表面保護フィルムＣのみを貼り合わせたこと以外は実施例１と同様にして、［光学積層体／表面保護フィルムＣ］の構成を有する表面保護フィルム付光学積層体を得た。
上記実施例１の（３）で得た積層体の保護部材側表面（反射防止層表面）に表面保護フィルムＣのみを貼り合わせたこと以外は実施例１と同様にして、［光学積層体／表面保護フィルムＣ］の構成を有する表面保護フィルム付光学積層体を得た。
【0150】
［比較例２］
上記実施例１の（３）で得た積層体の保護部材側表面（反射防止層表面）に表面保護フィルムＡのみを貼り合わせたこと以外は実施例１と同様にして、［光学積層体／表面保護フィルムＡ］の構成を有する表面保護フィルム付光学積層体を得た。
上記実施例１の（３）で得た積層体の保護部材側表面（反射防止層表面）に表面保護フィルムＡのみを貼り合わせたこと以外は実施例１と同様にして、［光学積層体／表面保護フィルムＡ］の構成を有する表面保護フィルム付光学積層体を得た。
【0151】
［比較例３］
上記実施例１の（３）で得た積層体の保護部材側表面（反射防止層表面）に表面保護フィルムＢのみを貼り合わせたこと以外は実施例１と同様にして、［光学積層体／表面保護フィルムＢ］の構成を有する表面保護フィルム付光学積層体を得た。
上記実施例１の（３）で得た積層体の保護部材側表面（反射防止層表面）に表面保護フィルムＢのみを貼り合わせたこと以外は実施例１と同様にして、［光学積層体／表面保護フィルムＢ］の構成を有する表面保護フィルム付光学積層体を得た。
【0152】
［欠点検査］
上記実施例および比較例で得られた表面保護フィルム付光学積層体を３７１．８７ｍｍ×２３６．５８ｍｍサイズに切り出して、被検査サンプルとして用いた。実施例１および２の被検査サンプルは、はく離ライナーおよび第二表面保護フィルムを剥離した状態で、比較例１～３の被検査サンプルは、はく離ライナーを剥離した状態で、欠点検査に供した。具体的には、上記被検査サンプルを、光学式自動外観検査装置のチャッキング部にセットし、当該サンプル中における１００μｍ以上のサイズの欠点（キズ、異物、気泡等）を検出した。次いで、１００μｍ以上のサイズの欠点が検出された箇所を顕微鏡で観察することにより、表面保護フィルムに起因する欠点の誤検出であるか、光学積層体の欠点であるかを確認した。「式：検査不良発生率（％）＝誤検出数／総検出数×１００」に基づいて検査不良発生率を算出し、下記基準に基づいて、検査の実効性評価を行った。また、表面保護フィルム表面における１００μｍ以上のサイズのキズの有無を確認し、下記基準に基づいてキズ評価を行った。結果を表５に示す。
＜検査の実効性評価＞
〇（良）：検査不良発生率：０％
△（可）：検査不良発生率：０％を超え１０％未満
×（不良）：検査不良発生率１０％以上
＜キズ評価＞
〇（良）：１００μｍ以上のキズ無し
×（不良）：１００μｍ以上のキズ有り
上記実施例および比較例で得られた表面保護フィルム付光学積層体を３７１．８７ｍｍ×２３６．５８ｍｍサイズに切り出して、被検査サンプルとして用いた。実施例１および２の被検査サンプルは、はく離ライナーおよび第二表面保護フィルムを剥離した状態で、比較例１～３の被検査サンプルは、はく離ライナーを剥離した状態で、欠点検査に供した。具体的には、上記被検査サンプルを、光学式自動外観検査装置のチャッキング部にセットし、当該サンプル中における１００μｍ以上のサイズの欠点（キズ、異物、気泡等）を検出した。次いで、１００μｍ以上のサイズの欠点が検出された箇所を顕微鏡で観察することにより、表面保護フィルムに起因する欠点の誤検出であるか、光学積層体の欠点であるかを確認した。「式：検査不良発生率（％）＝誤検出数／総検出数×１００」に基づいて検査不良発生率を算出し、下記基準に基づいて、検査の実効性評価を行った。また、表面保護フィルム表面における１００μｍ以上のサイズのキズの有無を確認し、下記基準に基づいてキズ評価を行った。結果を表５に示す。
＜検査の実効性評価＞
〇（良）：検査不良発生率：０％
△（可）：検査不良発生率：０％を超え１０％未満
×（不良）：検査不良発生率１０％以上
＜キズ評価＞
〇（良）：１００μｍ以上のキズ無し
×（不良）：１００μｍ以上のキズ有り
【0153】
【表5】
【0154】
表５に示されるとおり、光学積層体の表面に表面保護フィルムが二重に貼着された構成を有する実施例の表面保護フィルム付光学積層体は、欠点検査前においては外側の表面保護フィルムによってキズ付きが防止される。また、欠点検査の際に外側の表面保護フィルムを剥離除去しても、内側の表面保護フィルムが貼着された状態で光学積層体を欠点検査することができ、アセンブリに供するまでその表面を好適に保護することができる。さらに、内側の表面保護フィルムとしてヘイズが小さいものを用いることにより、表面保護フィルムが貼着された状態で光学積層体の自動検査を好適に行うことができる。
【0155】
本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、上記実施形態で示した構成と実質的に同一の構成、同一の作用効果を奏する構成または同一の目的を達成することができる構成で置き換えることができる。
【産業上の利用可能性】
【0156】
本発明の実施形態に係る保護フィルム付光学積層体は、例えば、ＶＲゴーグル等のディスプレイ付きゴーグルの製造に用いられ得る。
【符号の説明】
【0157】
２ 表示システム
４ レンズ部
１０ 偏光部材
１２ 表示素子
１４ 反射型偏光部材
１６ 第一レンズ部
１８ ハーフミラー
２０ 第一位相差部材
２２ 第二位相差部材
２４ 第二レンズ部
１００ 光学積層体
１１０ 第一表面保護フィルム
１２０ 第二表面保護フィルム
２００ 表面保護フィルム付光学積層体
４ レンズ部
１０ 偏光部材
１２ 表示素子
１４ 反射型偏光部材
１６ 第一レンズ部
１８ ハーフミラー
２０ 第一位相差部材
２２ 第二位相差部材
２４ 第二レンズ部
１００ 光学積層体
１１０ 第一表面保護フィルム
１２０ 第二表面保護フィルム
２００ 表面保護フィルム付光学積層体
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6A】
【図6B】
【図6C】
【図6D】
【図6E】