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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024095118
(43)【公開日】2024-07-10
(54)【発明の名称】蒸着マスク、および、蒸着マスクの製造方法
(51)【国際特許分類】
C23C 14/04 20060101AFI20240703BHJP
【ＦＩ】
C23C14/04 A
【審査請求】未請求
【請求項の数】9
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022212159
(22)【出願日】2022-12-28
(71)【出願人】
【識別番号】000003193
【氏名又は名称】ＴＯＰＰＡＮホールディングス株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100105957
【弁理士】
【氏名又は名称】恩田 誠
(74)【代理人】
【識別番号】100068755
【弁理士】
【氏名又は名称】恩田 博宣
(72)【発明者】
【氏名】樋口 宏和
(72)【発明者】
【氏名】寺田 玲爾
(72)【発明者】
【氏名】小林 昭彦
(72)【発明者】
【氏名】碓氷 数馬
【テーマコード（参考）】
4K029
【Ｆターム（参考）】
4K029AA09
4K029AA24
4K029BA62
4K029BB03
4K029CA01
4K029HA02
4K029HA03
(57)【要約】
【課題】蒸着マスクにおける機械的な強度の低下を抑え、かつ、蒸着マスクを用いて形成した蒸着パターンの厚さにおけるばらつきを抑えることを可能とした蒸着マスク、および、蒸着マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】蒸着マスクの厚さ方向と長軸方向とによって規定される第１平面に沿う断面において、第２開口１１Ｂと第３開口１１Ｃとの間の距離が、第１高さである。蒸着マスクの厚さ方向と短軸方向とによって規定される第２平面に沿う断面において、第２開口１１Ｂと第３開口１１Ｃとの間の距離が、第２高さである。第１高さが第２高さよりも高く、第１高さが０μｍよりも大きく３μｍ以下であり、第２高さが、０μｍよりも大きく２μｍ以下である。
【選択図】図２
【解決手段】蒸着マスクの厚さ方向と長軸方向とによって規定される第１平面に沿う断面において、第２開口１１Ｂと第３開口１１Ｃとの間の距離が、第１高さである。蒸着マスクの厚さ方向と短軸方向とによって規定される第２平面に沿う断面において、第２開口１１Ｂと第３開口１１Ｃとの間の距離が、第２高さである。第１高さが第２高さよりも高く、第１高さが０μｍよりも大きく３μｍ以下であり、第２高さが、０μｍよりも大きく２μｍ以下である。
【選択図】図２
【特許請求の範囲】
【請求項1】
表面と、
前記表面とは反対側の面である裏面と、
複数のマスク孔であって、各マスク孔の第１開口が前記表面に位置し、かつ、各マスク孔の第２開口が前記裏面に位置する前記複数のマスク孔と、を備える蒸着マスクであって、
前記表面は、複数の未エッチング部であって、各未エッチング部は正方格子の格子点上に位置する前記複数の未エッチング部を含み、
各第１開口は、前記複数の未エッチング部に囲まれ、
各第２開口は、前記第１開口よりも小さく、前記表面と対向する視点から見て前記第１開口内に位置し、
各マスク孔は、前記蒸着マスクの厚さ方向において前記第１開口と前記第２開口との間に位置し、前記第２開口よりも小さく、かつ、前記表面と対向する視点から見て、前記第１開口内に位置する第３開口を有し、
各第３開口は、長軸方向に沿って延びる形状を有し、前記長軸方向と直交する方向が短軸方向であり、
前記蒸着マスクの前記厚さ方向と前記長軸方向とによって規定される第１平面に沿う断面において、前記第２開口と前記第３開口との間の距離が、第１高さであり、
前記蒸着マスクの前記厚さ方向と前記短軸方向とによって規定される第２平面に沿う断面において、前記第２開口と前記第３開口との間の距離が、第２高さであり、
前記第１高さが前記第２高さよりも高く、
前記第１高さが、０μｍよりも大きく３μｍ以下であり、
前記第２高さが、０μｍよりも大きく２μｍ以下である
蒸着マスク。
前記表面とは反対側の面である裏面と、
複数のマスク孔であって、各マスク孔の第１開口が前記表面に位置し、かつ、各マスク孔の第２開口が前記裏面に位置する前記複数のマスク孔と、を備える蒸着マスクであって、
前記表面は、複数の未エッチング部であって、各未エッチング部は正方格子の格子点上に位置する前記複数の未エッチング部を含み、
各第１開口は、前記複数の未エッチング部に囲まれ、
各第２開口は、前記第１開口よりも小さく、前記表面と対向する視点から見て前記第１開口内に位置し、
各マスク孔は、前記蒸着マスクの厚さ方向において前記第１開口と前記第２開口との間に位置し、前記第２開口よりも小さく、かつ、前記表面と対向する視点から見て、前記第１開口内に位置する第３開口を有し、
各第３開口は、長軸方向に沿って延びる形状を有し、前記長軸方向と直交する方向が短軸方向であり、
前記蒸着マスクの前記厚さ方向と前記長軸方向とによって規定される第１平面に沿う断面において、前記第２開口と前記第３開口との間の距離が、第１高さであり、
前記蒸着マスクの前記厚さ方向と前記短軸方向とによって規定される第２平面に沿う断面において、前記第２開口と前記第３開口との間の距離が、第２高さであり、
前記第１高さが前記第２高さよりも高く、
前記第１高さが、０μｍよりも大きく３μｍ以下であり、
前記第２高さが、０μｍよりも大きく２μｍ以下である
蒸着マスク。
【請求項2】
前記正方格子において、第１対角線が延びる方向が第１対角方向であり、
前記正方格子において、前記第１対角線に直交する第２対角線が延びる方向が第２対角方向であり、
前記長軸方向は、前記第１対角方向に平行であり、
前記短軸方向は、前記第２対角方向に平行である
請求項１に記載の蒸着マスク。
前記正方格子において、前記第１対角線に直交する第２対角線が延びる方向が第２対角方向であり、
前記長軸方向は、前記第１対角方向に平行であり、
前記短軸方向は、前記第２対角方向に平行である
請求項１に記載の蒸着マスク。
【請求項3】
前記長軸方向は、前記第１対角方向に沿い、
前記短軸方向は、前記第２対角方向に沿う
請求項２に記載の蒸着マスク。
前記短軸方向は、前記第２対角方向に沿う
請求項２に記載の蒸着マスク。
【請求項4】
各未エッチング部は、前記第１対角線を対称軸とする線対称な形状を有する
請求項２または３に記載の蒸着マスク。
請求項２または３に記載の蒸着マスク。
【請求項5】
各マスク孔は、前記第１開口から前記第３開口に向けて先細る形状を有した大孔部を含み、
前記第１平面に沿う前記断面において、前記第１開口の縁と前記第３開口の縁とを最短距離で結ぶ第１直線と、前記第３開口を含む平面に沿う第１基準線とが形成する角度が第１角度であり、
前記第２平面に沿う前記断面において、前記第１開口の前記縁と前記第３開口の前記縁とを最短距離で結ぶ第２直線と、前記第３開口を含む前記平面に沿う第２基準線とが形成する角度が第２角度であり、
前記第１角度が４３°以上５２°以下であり、
前記第２角度が３９°以上５３°以下である
請求項１から３のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
前記第１平面に沿う前記断面において、前記第１開口の縁と前記第３開口の縁とを最短距離で結ぶ第１直線と、前記第３開口を含む平面に沿う第１基準線とが形成する角度が第１角度であり、
前記第２平面に沿う前記断面において、前記第１開口の前記縁と前記第３開口の前記縁とを最短距離で結ぶ第２直線と、前記第３開口を含む前記平面に沿う第２基準線とが形成する角度が第２角度であり、
前記第１角度が４３°以上５２°以下であり、
前記第２角度が３９°以上５３°以下である
請求項１から３のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
【請求項6】
前記第１角度から前記第２角度を減算した差分値の絶対値が、４°以下である
請求項５に記載の蒸着マスク。
請求項５に記載の蒸着マスク。
【請求項7】
前記蒸着マスクの厚さにおける最大値が、１５μｍ以上２５μｍ以下である
請求項１から３のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
請求項１から３のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
【請求項8】
１インチ当たりに含まれる前記マスク孔の個数が、４００個以上６００個以下である
請求項１から３のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
請求項１から３のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
【請求項9】
金属板の表面に第１レジストパターンを形成すること、
前記金属板の裏面に第２レジストパターンを形成すること、
前記第２レジストパターンを用いて前記裏面から前記金属板をウェットエッチングすることによって、前記裏面に位置する第２開口を形成すること、および、
前記第１レジストパターンを用いて前記表面から前記金属板をウェットエッチングすることによって、正方格子の格子点上に位置する未エッチング部によって囲まれ、かつ、前記表面に位置する第１開口と、前記金属板の厚さ方向において前記第１開口と前記第２開口との間に位置する第３開口を形成し、これによって前記金属板を貫通するマスク孔を形成すること、を含み、
前記第２開口は、前記第１開口よりも小さく、かつ、前記表面と対向する視点から見て前記第１開口内に位置し、
前記第３開口は、前記第２開口よりも小さく、かつ、前記表面と対向する視点から見て、前記第１開口内に位置し、
前記第３開口は、長軸方向に沿って延びる形状を有し、前記長軸方向と直交する方向が短軸方向であり、
前記金属板の前記厚さ方向と前記長軸方向とによって規定される第１平面に沿う断面において、前記第２開口と前記第３開口との間の距離が、第１高さであり、
前記金属板の前記厚さ方向と前記短軸方向とによって規定される第２平面に沿う断面において、前記第２開口と前記第３開口との間の距離が、第２高さであり、
前記第１高さが前記第２高さよりも高く、
前記第１高さが、０μｍよりも大きく３μｍ以下であり、
前記第２高さが、０μｍよりも大きく２μｍ以下である
蒸着マスクの製造方法。
前記金属板の裏面に第２レジストパターンを形成すること、
前記第２レジストパターンを用いて前記裏面から前記金属板をウェットエッチングすることによって、前記裏面に位置する第２開口を形成すること、および、
前記第１レジストパターンを用いて前記表面から前記金属板をウェットエッチングすることによって、正方格子の格子点上に位置する未エッチング部によって囲まれ、かつ、前記表面に位置する第１開口と、前記金属板の厚さ方向において前記第１開口と前記第２開口との間に位置する第３開口を形成し、これによって前記金属板を貫通するマスク孔を形成すること、を含み、
前記第２開口は、前記第１開口よりも小さく、かつ、前記表面と対向する視点から見て前記第１開口内に位置し、
前記第３開口は、前記第２開口よりも小さく、かつ、前記表面と対向する視点から見て、前記第１開口内に位置し、
前記第３開口は、長軸方向に沿って延びる形状を有し、前記長軸方向と直交する方向が短軸方向であり、
前記金属板の前記厚さ方向と前記長軸方向とによって規定される第１平面に沿う断面において、前記第２開口と前記第３開口との間の距離が、第１高さであり、
前記金属板の前記厚さ方向と前記短軸方向とによって規定される第２平面に沿う断面において、前記第２開口と前記第３開口との間の距離が、第２高さであり、
前記第１高さが前記第２高さよりも高く、
前記第１高さが、０μｍよりも大きく３μｍ以下であり、
前記第２高さが、０μｍよりも大きく２μｍ以下である
蒸着マスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、蒸着マスク、および、蒸着マスクの製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
有機ＥＬ表示装置が備える画素を形成する方法の一例は、真空蒸着法である。真空蒸着法では、複数の貫通孔を有した金属製の蒸着マスクが用いられる。各貫通孔は、画素の形状に応じた形状を有し、かつ、複数の貫通孔は、画素の配列に応じて配列されている。各貫通孔は、画素を形成するための蒸着材料が通る通路である。蒸着マスクを形成するための材料には、例えば鉄ニッケル系合金製の金属薄板が用いられる。
【0003】
金属薄板から蒸着マスクを製造する際には、まず、金属薄板の表面にレジスト層を形成し、次いで、レジスト層からレジストパターンを形成する。そして、レジストパターンを用いたウェットエッチングによって金属薄板に複数の貫通孔が形成される（例えば、特許文献１を参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開２０２１－１１９２６０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
ところで、貫通孔に進入した蒸着材料の一部は、貫通孔を画定する壁部に付着する。貫通孔の深さが深いほど壁部に付着する蒸着材料が多くなり、かつ、蒸着対象に形成された蒸着パターンのうち、中央部の厚さと外縁部の厚さとの差が大きくなる。そのため、蒸着パターンにおける厚さのばらつきを抑える観点では、蒸着マスクの厚さが薄いことが求められる。一方で、蒸着マスクの厚さを薄くすることは蒸着マスクにおける機械的強度の低下を生じさせ、これによって貫通孔が変形しやすくなる。そのため、蒸着マスクにおける機械的な強度の低下を抑えること、および、蒸着マスクを用いて形成した蒸着パターンの厚さにおけるばらつきを抑えることの両立を可能とする蒸着マスクが求められている。
【課題を解決するための手段】
【0006】
上記課題を解決するための蒸着マスクは、表面と、前記表面とは反対側の面である裏面と、複数のマスク孔であって、各マスク孔の第１開口が前記表面に位置し、かつ、各マスク孔の第２開口が前記裏面に位置する前記複数のマスク孔と、を備える。前記表面は、複数の未エッチング部であって、各未エッチング部は正方格子の格子点上に位置する前記複数の未エッチング部を含む。各第１開口は、前記複数の未エッチング部に囲まれ、各第２開口は、前記第１開口よりも小さく、前記表面と対向する視点から見て前記第１開口内に位置する。各マスク孔は、前記蒸着マスクの厚さ方向において前記第１開口と前記第２開口との間に位置し、前記第２開口よりも小さく、かつ、前記表面と対向する視点から見て、前記第１開口内に位置する第３開口を有する。各第３開口は、長軸方向に沿って延びる形状を有し、前記長軸方向と直交する方向が短軸方向である。前記蒸着マスクの前記厚さ方向と前記長軸方向とによって規定される第１平面に沿う断面において、前記第２開口と前記第３開口との間の距離が、第１高さである。前記蒸着マスクの前記厚さ方向と前記短軸方向とによって規定される第２平面に沿う断面において、前記第２開口と前記第３開口との間の距離が、第２高さである。前記第１高さが前記第２高さよりも高く、前記第１高さが、０μｍよりも大きく３μｍ以下であり、前記第２高さが、０μｍよりも大きく２μｍ以下である。
【0007】
上記課題を解決するための蒸着マスクの製造方法は、金属板の表面に第１レジストパターンを形成すること、前記金属板の裏面に第２レジストパターンを形成すること、前記第２レジストパターンを用いて前記裏面から前記金属板をウェットエッチングすることによって、前記裏面に位置する第２開口を形成すること、および、前記第１レジストパターンを用いて前記表面から前記金属板をウェットエッチングすることによって、正方格子の格子点上に位置する未エッチング部によって囲まれ、かつ、前記表面に位置する第１開口と、前記金属板の厚さ方向において前記第１開口と前記第２開口との間に位置する第３開口を形成し、これによって前記金属板を貫通するマスク孔を形成すること、を含む。前記第２開口は、前記第１開口よりも小さく、かつ、前記表面と対向する視点から見て前記第１開口内に位置し、前記第３開口は、前記第２開口よりも小さく、かつ、前記表面と対向する視点から見て、前記第１開口内に位置する。前記第３開口は、長軸方向に沿って延びる形状を有し、前記長軸方向と直交する方向が短軸方向である。前記金属板の前記厚さ方向と前記長軸方向とによって規定される第１平面に沿う断面において、前記第２開口と前記第３開口との間の距離が、第１高さである。前記金属板の前記厚さ方向と前記短軸方向とによって規定される第２平面に沿う断面において、前記第２開口と前記第３開口との間の距離が、第２高さである。前記第１高さが前記第２高さよりも高く、前記第１高さが、０μｍよりも大きく３μｍ以下であり、前記第２高さが、０μｍよりも大きく２μｍ以下である。
【0008】
上記蒸着マスクによれば、第１高さが第２高さよりも高く、かつ、第１高さおよび第２高さが上述した範囲内に含まれるから、蒸着マスクの機械的な強度の低下が抑えられる。また、第３開口の周方向において、蒸着対象に対する蒸着材料の到達しやすさに差が生じることが抑えられるから、蒸着対象に形成された蒸着パターンの面内における厚さのばらつきが抑えられる。
【0009】
上記蒸着マスクでは、前記正方格子において、第１対角線が延びる方向が第１対角方向であり、前記正方格子において、前記第１対角線に直交する第２対角線が延びる方向が第２対角方向であり、前記長軸方向は、前記第１対角方向に平行であり、前記短軸方向は、前記第２対角方向に平行であってもよい。
【0010】
上記蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法によれば、第３開口の長軸と短軸とがそれぞれ正方格子の対角線に平行である。そのため、第３開口の長軸および短軸と正方格子との間に所定の規則が存在しない場合に比べて、蒸着マスクの厚さ方向に直交する平面において、マスク孔間の距離にばらつきが生じにくい。これにより、複数のマスク孔が位置する領域での機械的な強度のばらつきが生じにくい。このように、複数のマスク孔が位置する領域での機械的な強度のばらつきが抑えられるから、蒸着マスクの一部に応力が集中しにくい。
【0011】
上記蒸着マスクにおいて、前記長軸方向は、前記第１対角方向に沿い、前記短軸方向は、前記第２対角方向に沿ってもよい。
上記蒸着マスクによれば、複数のマスク孔が位置する領域において複数のマスク孔が等配されるから、蒸着マスクの厚さ方向に直交する平面において、マスク孔間の距離にばらつきがさらに生じにくい。そのため、複数のマスク孔が位置する領域での機械的な強度のばらつきがさらに抑えられるから、蒸着マスクの一部に応力がさらに集中しにくい。
上記蒸着マスクによれば、複数のマスク孔が位置する領域において複数のマスク孔が等配されるから、蒸着マスクの厚さ方向に直交する平面において、マスク孔間の距離にばらつきがさらに生じにくい。そのため、複数のマスク孔が位置する領域での機械的な強度のばらつきがさらに抑えられるから、蒸着マスクの一部に応力がさらに集中しにくい。
【0012】
上記蒸着マスクにおいて、各未エッチング部は、前記第１対角線を対称軸とする線対称な形状を有してもよい。
上記蒸着マスクによれば、複数の第１開口によって囲まれる未エッチング部が第１対角線を対称軸とする線対称な形状を有する。そのため、未エッチング部が不規則な形状を有する場合に比べて、未エッチング部が第３開口に到達する蒸着材料の量を減らす割合が第３開口間においてばらつくことが抑えられる。結果として、蒸着対象に形成された蒸着パターン間において蒸着パターンの厚さにばらつきが生じることが抑えられる。
上記蒸着マスクによれば、複数の第１開口によって囲まれる未エッチング部が第１対角線を対称軸とする線対称な形状を有する。そのため、未エッチング部が不規則な形状を有する場合に比べて、未エッチング部が第３開口に到達する蒸着材料の量を減らす割合が第３開口間においてばらつくことが抑えられる。結果として、蒸着対象に形成された蒸着パターン間において蒸着パターンの厚さにばらつきが生じることが抑えられる。
【0013】
上記蒸着マスクにおいて、各マスク孔は、前記第１開口から前記第３開口に向けて先細る形状を有した大孔部を含み、前記第１平面に沿う前記断面において、前記第１開口の縁と前記第３開口の縁とを最短距離で結ぶ第１直線と、前記第３開口を含む平面に沿う第１基準線とが形成する角度が第１角度であり、前記第２平面に沿う前記断面において、前記第１開口の前記縁と前記第３開口の前記縁とを最短距離で結ぶ第２直線と、前記第３開口を含む前記平面に沿う第２基準線とが形成する角度が第２角度であり、前記第１角度が４３°以上５２°以下であり、前記第２角度が３９°以上５３°以下であってもよい。
【0014】
上記蒸着マスクによれば、第１角度と第２角度との差が１３°以下であるから、第３開口の周方向において、蒸着対象に対する蒸着材料の到達しやすさに差が生じることが抑えられる。そのため、蒸着対象に形成された蒸着パターンの面内における厚さのばらつきがさらに抑えられる。
【0015】
上記蒸着マスクにおいて、前記第１角度から前記第２角度を減算した差分値の絶対値が、４°以下であってもよい。
上記蒸着マスクによれば、第１角度から第２角度を減算した差分値の絶対値が４°以下であるから、第３開口の周方向において、蒸着対象に対する蒸着材料の到達しやすさに差が生じることがさらに抑えられる。そのため、蒸着対象に形成された蒸着パターンの面内における厚さのばらつきがさらに抑えられる。
上記蒸着マスクによれば、第１角度から第２角度を減算した差分値の絶対値が４°以下であるから、第３開口の周方向において、蒸着対象に対する蒸着材料の到達しやすさに差が生じることがさらに抑えられる。そのため、蒸着対象に形成された蒸着パターンの面内における厚さのばらつきがさらに抑えられる。
【0016】
上記蒸着マスクにおいて、前記蒸着マスクの厚さにおける最大値が、１５μｍ以上２５μｍ以下であってもよい。
上記蒸着マスクによれば、蒸着マスクを貫通するマスク孔の長さが２５μｍ以下の範囲内に含まれるから、マスク孔を画定する壁部に蒸着材料が付着しにくい。
上記蒸着マスクによれば、蒸着マスクを貫通するマスク孔の長さが２５μｍ以下の範囲内に含まれるから、マスク孔を画定する壁部に蒸着材料が付着しにくい。
【0017】
上記蒸着マスクにおいて、１インチ当たりに含まれる前記マスク孔の個数が、４００個以上６００個以下であってもよい。
上記蒸着マスクによれば、高精細な蒸着パターンを形成することが可能である。
上記蒸着マスクによれば、高精細な蒸着パターンを形成することが可能である。
【発明の効果】
【0018】
上記蒸着マスク、および、蒸着マスクの製造方法によれば、蒸着マスクにおける機械的な強度の低下を抑え、かつ、蒸着マスクを用いて形成した蒸着パターンの厚さにおけるばらつきを抑えることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【0019】
【発明を実施するための形態】
【0020】
【0021】
図１が示すように、蒸着マスク１０は、表面１０Ｆと、表面１０Ｆとは反対側の面である裏面１０Ｒと、複数のマスク孔１１とを備えている。各マスク孔１１は、蒸着マスク１０の厚さ方向において蒸着マスク１０を貫通している。各マスク孔１１は、蒸着対象に蒸着パターンを形成するための蒸着材料の通路である。蒸着マスク１０は、マスク領域１０Ｒ１と周辺領域１０Ｒ２とを備えている。マスク領域１０Ｒ１には、複数のマスク孔１１が位置している。一方で、周辺領域１０Ｒ２には、マスク孔１１が位置していない。
【0022】
蒸着マスク１０の厚さＴにおける最大値は、１５μｍ以上２５μｍ以下であってよい。蒸着マスクを貫通するマスク孔の長さが２５μｍ以下の範囲内に含まれるから、マスク孔を画定する壁部に蒸着材料が付着しにくい。なお、周辺領域１０Ｒ２の厚さにおける最大値は、１５μｍ以上２５μｍ以下であってよい。これに対して、マスク領域１０Ｒ１の厚さにおける最大値は、１５μｍ以上２５μｍ以下であってもよいし、１５μｍ未満であってもよい。
【0023】
蒸着マスク１０において、１インチ当たりに含まれるマスク孔１１の個数が、４００個以上６００個以下であってよい。これにより、蒸着マスク１０を用いて蒸着対象に蒸着パターンを形成した際に、高精細な蒸着パターンを形成することが可能である。
【0024】
図２は、蒸着マスク１０の表面１０Ｆと対向する視点から見た蒸着マスク１０の平面構造を示している。
図２が示すように、各マスク孔１１の第１開口１１Ａが蒸着マスク１０の表面１０Ｆに位置し、かつ、各マスク孔１１の第２開口１１Ｂが蒸着マスク１０の裏面１０Ｒに位置している。
図２が示すように、各マスク孔１１の第１開口１１Ａが蒸着マスク１０の表面１０Ｆに位置し、かつ、各マスク孔１１の第２開口１１Ｂが蒸着マスク１０の裏面１０Ｒに位置している。
【0025】
蒸着マスク１０の表面１０Ｆは、複数の未エッチング部１０Ａを含んでいる。各未エッチング部１０Ａは正方格子の格子点上に位置している。各第１開口１１Ａは、複数の未エッチング部１０Ａに囲まれている。図２において、各第１開口１１Ａは、４つの未エッチング部１０Ａに囲まれている。各第２開口１１Ｂは、第１開口１１Ａよりも小さい。蒸着マスク１０の表面１０Ｆと対向する視点から見て、第２開口１１Ｂは第１開口１１Ａ内に位置している。
【0026】
各マスク孔１１は、第３開口１１Ｃを有している。第３開口１１Ｃは、蒸着マスク１０の厚さ方向において第１開口１１Ａと第２開口１１Ｂとの間に位置している。第３開口１１Ｃは、第２開口１１Ｂよりも小さく、かつ、蒸着マスク１０の表面１０Ｆと対向する視点から見て、第１開口１１Ａ内に位置している。そのため、蒸着マスク１０の表面１０Ｆと対向する視点から蒸着マスク１０を見た場合には、マスク孔１１の第３開口１１Ｃが視認される一方で、第２開口１１Ｂは視認されない。各第３開口１１Ｃは、長軸方向ＤＬ（図３参照）に沿って延びる形状を有している。長軸方向ＤＬと直交する方向が短軸方向ＤＳ（図３参照）である。
【0027】
図３は、第３開口１１Ｃの形状を示す平面図である。
図３が示すように、第３開口１１Ｃは長軸ＡＬと短軸ＡＳとを有している。長軸ＡＬが延びる方向が上述した長軸方向ＤＬであり、かつ、短軸ＡＳが延びる方向が上述した短軸方向ＤＳである。
図３が示すように、第３開口１１Ｃは長軸ＡＬと短軸ＡＳとを有している。長軸ＡＬが延びる方向が上述した長軸方向ＤＬであり、かつ、短軸ＡＳが延びる方向が上述した短軸方向ＤＳである。
【0028】
第３開口１１Ｃは、上述したように長軸方向ＤＬに沿って延びる形状を有している。図３が示す例では、第３開口１１Ｃは略長方形状であって、長方形が有する各角部が同一の曲率を有した形状を有している。各角部の曲率中心は、第３開口１１Ｃ内に位置している。なお、第３開口１１Ｃは、長軸方向ＤＬに沿って延びる形状を有していればよいから、第３開口１１Ｃは、例えば長方形状を有してもよいし、楕円形状を有してもよい。あるいは、第３開口１１Ｃは、２ｎ角形状を有してもよく、この場合には、ｎは２以上である。
【0029】
なお、本実施形態の蒸着マスク１０では、図２が示すように、互いに隣り合う第３開口１１Ｃにおいて、長軸方向ＤＬが互いに直交し、かつ、短軸方向ＤＳが互いに直交するように、複数の第３開口１１Ｃが並んでいる。
【0030】
図４は、蒸着マスク１０の裏面１０Ｒと対向する視点から見た蒸着マスク１０の平面構造を示している。
図４が示すように、各マスク孔１１の第２開口１１Ｂは、蒸着マスク１０の裏面１０Ｒに位置している。各第２開口１１Ｂは、その第２開口１１Ｂを取り囲む第２開口１１Ｂから離れている。第２開口１１Ｂの形状は、第３開口１１Ｃの形状に略相似である。
図４が示すように、各マスク孔１１の第２開口１１Ｂは、蒸着マスク１０の裏面１０Ｒに位置している。各第２開口１１Ｂは、その第２開口１１Ｂを取り囲む第２開口１１Ｂから離れている。第２開口１１Ｂの形状は、第３開口１１Ｃの形状に略相似である。
【0031】
【0032】
図５が示すように、蒸着マスク１０の厚さ方向ＤＴと長軸方向ＤＬとによって規定される平面が第１平面である。第１平面は、第３開口１１Ｃの長軸ＡＬを含んでいる。第１平面に沿う断面において、第２開口１１Ｂと第３開口１１Ｃとの間の距離が、第１高さＨ１である。第１高さＨ１は、０μｍよりも大きく３μｍ以下である。
【0033】
図６が示すように、蒸着マスク１０の厚さ方向ＤＴと短軸方向ＤＳとによって規定される平面が第２平面である。第２平面は、第３開口１１Ｃの短軸ＡＳを含んでいる。第２平面に沿う断面において、第２開口１１Ｂと第３開口１１Ｃとの間の距離が、第２高さＨ２である。第２高さＨ２は、０μｍよりも大きく２μｍ以下である。上述した第１高さＨ１が、第２高さＨ２よりも高い。
【0034】
このように、本開示の蒸着マスク１０では、第１高さＨ１および第２高さＨ２が以下の条件を満たす。
（条件１）第１高さＨ１が第２高さＨ２よりも高い。
（条件２）第１高さＨ１は、０μｍよりも大きく３μｍ以下である。
（条件３）第２高さＨ２は、０μｍよりも大きく２μｍ以下である。
（条件１）第１高さＨ１が第２高さＨ２よりも高い。
（条件２）第１高さＨ１は、０μｍよりも大きく３μｍ以下である。
（条件３）第２高さＨ２は、０μｍよりも大きく２μｍ以下である。
【0035】
そのため、蒸着マスク１０の機械的な強度の低下が抑えられる。また、第３開口１１Ｃの周方向において、蒸着対象に対する蒸着材料の到達しやすさに差が生じることが抑えられる。そのため、蒸着対象に形成された蒸着パターンの面内における厚さのばらつきが抑えられる。
【0036】
図７は、正方格子に対する第３開口１１Ｃの位置における複数の例を模式的に示している。
図７が示すように、正方格子ＳＧにおいて、第１対角線Ｄ１が延びる方向が第１対角方向ＤＤ１である。正方格子ＳＧにおいて、第１対角線Ｄ１に直交する第２対角線Ｄ２が延びる方向が第２対角方向ＤＤ２である。
図７が示すように、正方格子ＳＧにおいて、第１対角線Ｄ１が延びる方向が第１対角方向ＤＤ１である。正方格子ＳＧにおいて、第１対角線Ｄ１に直交する第２対角線Ｄ２が延びる方向が第２対角方向ＤＤ２である。
【0037】
第３開口１１Ｃの長軸方向ＤＬは、第１対角方向ＤＤ１に平行であり、かつ、第３開口１１Ｃの短軸方向ＤＳは、第２対角方向ＤＤ２に平行であってよい。図７には、実線で描かれた第３開口１１Ｃ、破線で描かれた第３開口１１Ｃ、および、一点鎖線で描かれた第３開口１１Ｃが示されている。いずれの第３開口１１Ｃについても、長軸方向ＤＬは第１対角方向ＤＤ１に平行であり、かつ、短軸方向ＤＳは第２対角方向ＤＤ２に平行である。
【0038】
第３開口１１Ｃの長軸ＡＬと短軸ＡＳとが、それぞれ正方格子ＳＧの対角線Ｄ１，Ｄ２に平行である。そのため、第３開口１１Ｃの長軸ＡＬおよび短軸ＡＳと正方格子ＳＧとの間に所定の規則が存在しない場合に比べて、蒸着マスク１０の厚さ方向ＤＴに直交する平面において、マスク孔１１間の距離にばらつきが生じにくい。これにより、複数のマスク孔１１が位置するマスク領域１０Ｒ１での機械的な強度のばらつきが生じにくい。このように、マスク領域１０Ｒ１での機械的な強度のばらつきが抑えられるから、蒸着マスク１０の一部に応力が集中しにくい。
【0039】
図７が示す３つの第３開口１１Ｃのうち、破線で描かれる第３開口１１Ｃでは、長軸方向ＤＬが、第１対角方向ＤＤ１に沿い、かつ、短軸方向ＤＳは、第２対角方向ＤＤ２に沿っている。すなわち、破線で描かれる第３開口１１Ｃでは、長軸ＡＬが第１対角線Ｄ１の一部に一致し、かつ、短軸ＡＳが第２対角線Ｄ２の一部に一致している。
【0040】
これにより、複数のマスク孔が位置する領域において複数のマスク孔が等配されるから、蒸着マスクの厚さ方向に直交する平面において、マスク孔間の距離にばらつきがさらに生じにくい。そのため、複数のマスク孔が位置する領域での機械的な強度のばらつきがさらに抑えられるから、蒸着マスクの一部に応力がさらに集中しにくい。
【0041】
図８は、図２が示す蒸着マスク１０の平面構造における一部を拡大して示している。
図８が示すように、各未エッチング部１０Ａは、第１対角線Ｄ１を対称軸とする線対称な形状を有してもよい。これにより、未エッチング部１０Ａが不規則な形状を有する場合に比べて、未エッチング部１０Ａが第３開口１１Ｃに到達する蒸着材料の量を減らす割合が第３開口１１Ｃ間においてばらつくことが抑えられる。結果として、蒸着対象に形成された蒸着パターン間において蒸着パターンの厚さにばらつきが生じることが抑えられる。
図８が示すように、各未エッチング部１０Ａは、第１対角線Ｄ１を対称軸とする線対称な形状を有してもよい。これにより、未エッチング部１０Ａが不規則な形状を有する場合に比べて、未エッチング部１０Ａが第３開口１１Ｃに到達する蒸着材料の量を減らす割合が第３開口１１Ｃ間においてばらつくことが抑えられる。結果として、蒸着対象に形成された蒸着パターン間において蒸着パターンの厚さにばらつきが生じることが抑えられる。
【0042】
図８が示す例では、未エッチング部１０Ａは、例えば略正方形状を有している。未エッチング部１０Ａの各辺は、曲率中心が未エッチング部１０Ａ外に位置するような曲率を有している。複数の未エッチング部１０Ａには、第１の大きさを有した第１の未エッチング部１０Ａと、第１の大きさよりも小さい第２の大きさを有した第２の未エッチング部１０Ａとが含まれている。正方格子において、第１の未エッチング部１０Ａと第２の未エッチング部１０Ａとが交互に並んでいる。
【0043】
図９は、図２が示すＶ‐Ｖ線に沿う断面構造を示している。
図９が示すように、各マスク孔１１は、第１開口１１Ａから第３開口１１Ｃに向けて先細る形状を有した大孔部１１Ｌを含んでいる。各マスク孔１１は、第２開口１１Ｂから第３開口１１Ｃに向けて先細る形状を有した小孔部１１Ｓを含んでいる。大孔部１１Ｌと小孔部１１Ｓとの接続部が第３開口１１Ｃである。
図９が示すように、各マスク孔１１は、第１開口１１Ａから第３開口１１Ｃに向けて先細る形状を有した大孔部１１Ｌを含んでいる。各マスク孔１１は、第２開口１１Ｂから第３開口１１Ｃに向けて先細る形状を有した小孔部１１Ｓを含んでいる。大孔部１１Ｌと小孔部１１Ｓとの接続部が第３開口１１Ｃである。
【0044】
上述した第１平面に沿う断面において、第１開口１１Ａの縁と第３開口１１Ｃの縁とを最短距離で結ぶ直線が第１直線Ｌ１である。第３開口１１Ｃを含む平面に沿う直線が、第１基準線ＲＬ１である。第１直線Ｌ１と第１基準線ＲＬ１とが形成する角度が第１角度θ１である。第１角度θ１は、４３°以上５２°以下であってよい。
【0045】
図１０は、図２が示すＶＩ‐ＶＩ線に沿う断面構造を示している。
図１０が示すように、上述した第２平面に沿う前記断面において、第１開口１１Ａの縁と第３開口１１Ｃの縁とを最短距離で結ぶ直線が、第２直線Ｌ２である。第３開口１１Ｃを含む平面に沿う直線が、第２基準線ＲＬ２である。第２直線Ｌ２と第２基準線ＲＬ２とが形成する角度が第２角度θ２である。第２角度θ２は、３９°以上５３°以下であってよい。
図１０が示すように、上述した第２平面に沿う前記断面において、第１開口１１Ａの縁と第３開口１１Ｃの縁とを最短距離で結ぶ直線が、第２直線Ｌ２である。第３開口１１Ｃを含む平面に沿う直線が、第２基準線ＲＬ２である。第２直線Ｌ２と第２基準線ＲＬ２とが形成する角度が第２角度θ２である。第２角度θ２は、３９°以上５３°以下であってよい。
【0046】
これにより、第１角度θ１と第２角度θ２との差が１３°以下であるから、第３開口１１Ｃの周方向において、蒸着対象に対する蒸着材料の到達しやすさに差が生じることが抑えられる。そのため、蒸着対象に形成された蒸着パターンの面内における厚さのばらつきがさらに抑えられる。
【0047】
蒸着パターンの面内における厚さのばらつきをより抑える観点では、蒸着マスク１０において、第１角度θ１から第２角度θ２を減算した差分値の絶対値が、４°以下であることが好ましい。
【0048】
［蒸着マスクの製造方法］
図１１から図１９を参照して、蒸着マスクの製造方法を説明する。
蒸着マスクの製造方法は、金属板の表面に第１レジストパターンを形成すること、金属板の裏面に第２レジストパターンを形成することを含んでいる。また、蒸着マスクの製造方法は、第２レジストパターンを用いて裏面から金属板をウェットエッチングすることによって、裏面に位置する第２開口を形成することを含んでいる。また、蒸着マスクの製造方法は、金属板を貫通するマスク孔を形成することを含んでいる。マスク孔を形成することでは、第１開口と第３開口とを形成し、これによって、金属板を貫通するマスク孔を形成する。各開口を形成することでは、第１レジストパターンを用いて表面から金属板をウェットエッチングすることによって、正方格子の格子点上に位置する未エッチング部によって囲まれ、かつ、表面に位置する第１開口を形成する。これによって、金属板の厚さ方向において第１開口と第２開口との間に位置する第３開口を形成する。以下、図面を参照して、蒸着マスクの製造方法をより詳しく説明する。
図１１から図１９を参照して、蒸着マスクの製造方法を説明する。
蒸着マスクの製造方法は、金属板の表面に第１レジストパターンを形成すること、金属板の裏面に第２レジストパターンを形成することを含んでいる。また、蒸着マスクの製造方法は、第２レジストパターンを用いて裏面から金属板をウェットエッチングすることによって、裏面に位置する第２開口を形成することを含んでいる。また、蒸着マスクの製造方法は、金属板を貫通するマスク孔を形成することを含んでいる。マスク孔を形成することでは、第１開口と第３開口とを形成し、これによって、金属板を貫通するマスク孔を形成する。各開口を形成することでは、第１レジストパターンを用いて表面から金属板をウェットエッチングすることによって、正方格子の格子点上に位置する未エッチング部によって囲まれ、かつ、表面に位置する第１開口を形成する。これによって、金属板の厚さ方向において第１開口と第２開口との間に位置する第３開口を形成する。以下、図面を参照して、蒸着マスクの製造方法をより詳しく説明する。
【0049】
図１１が示すように、蒸着マスク１０を形成する際には、まず、蒸着マスク１０を形成するための金属板１０Ｍを準備する。金属板１０Ｍは、例えば、鉄ニッケル系合金から形成される。鉄ニッケル合金は、例えば、３６質量％のニッケルを含むことが可能である。鉄ニッケル系合金は、インバーであってよい。また、金属板１０Ｍは、鉄ニッケルコバルト系合金から形成されてもよい。鉄ニッケルコバルト系合金は、例えば、３２質量％のニッケルと４質量％以上５質量％以下のコバルトを含むことが可能である。鉄ニッケルコバルト系合金合金は、スーパーインバーであってよい。金属板１０Ｍの厚さは、例えば１５μｍ以上２５μｍ以下であってよい。これにより、蒸着マスク１０を形成するための金属板に対するウェットエッチングが行いやすくなる。金属板１０Ｍは、表面１０ＭＦと、表面１０ＭＦに対向する裏面１０ＭＲとを含んでいる。
【0050】
次いで、金属板１０Ｍの表面１０ＭＦに第１レジスト層２１Ｆを形成し、金属板１０Ｍの裏面１０ＭＲに第２レジスト層２１Ｒを形成する。各レジスト層２１Ｆ，２１Ｒは、例えばネガ型のレジスト材料によって形成される。なお、各レジスト層２１Ｆ，２１Ｒは、ポジ型のレジスト材料によって形成されてもよい。各レジスト層２１Ｆ，２１Ｒは、ドライフィルムレジストの貼り付けによって形成される。各レジスト層２１Ｆ，２１Ｒは、レジスト材料を含む塗液の塗布によって形成されてもよい。なお、ドライフィルムレジストの厚さは、１μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましい。
【0051】
図１２が示すように、レジスト層２１Ｆ，２１Ｒに対する露光と現像とを行うことによって、レジストマスク２３Ｆ，２３Ｒを形成する。この際に、第１レジスト層２１Ｆの露光および現像によって、金属板１０Ｍの表面１０ＭＦに第１レジストマスク２３Ｆを形成する。第２レジスト層２１Ｒの露光および現像によって、金属板１０Ｍの裏面１０ＭＲに第２レジストマスク２３Ｒを形成される。
【0052】
第１レジストマスク２３Ｆは、第１マスク孔２３ＦＡを有している。第１マスク孔２３ＦＡは、蒸着マスク１０のマスク孔１１における大孔部１１Ｌを形成するための孔である。第２レジストマスク２３Ｒは、第２マスク孔２３ＲＡを有している。第２マスク孔２３ＲＡは、蒸着マスク１０のマスク孔１１における小孔部１１Ｓを形成するための孔である。
【0053】
図１３は、第２レジストマスク２３Ｒと対向する視点から見た第２レジストマスク２３Ｒの平面構造を示している。
図１３が示すように、第２レジストマスク２３Ｒにおいて、第２マスク孔２３ＲＡは、例えば１つの方向に沿って延びる８角形状を有してよい。第２マスク孔２３ＲＡの形状が８角形状であることによって、図３を用いて先に説明したように、略長方形状を有した第３開口１１Ｃを形成することが可能である。
図１３が示すように、第２レジストマスク２３Ｒにおいて、第２マスク孔２３ＲＡは、例えば１つの方向に沿って延びる８角形状を有してよい。第２マスク孔２３ＲＡの形状が８角形状であることによって、図３を用いて先に説明したように、略長方形状を有した第３開口１１Ｃを形成することが可能である。
【0054】
なお、第２マスク孔２３ＲＡの形状は、例えば図１４が示すように１つの方向に沿って延びる１２角形状を有してもよい。あるいは、第２マスク孔２３ＲＡの形状は、例えば図１５が示すように１つの方向に沿って延びる１６角形状を有してもよい。第２マスク孔２３ＲＡの形状における角の数が多いほど、第２レジストマスク２３Ｒを用いたウェットエッチングによって形成された第３開口１１Ｃの形状を楕円形状に近付けることが可能である。
【0055】
図１６が示すように、金属板１０Ｍにマスク孔１１を形成する際には、まず、第２レジストマスク２３Ｒを用いて、金属板１０Ｍの裏面１０ＭＲから金属板１０Ｍをウェットエッチングする。金属板１０Ｍをエッチングする前に、金属板１０Ｍの表面１０ＭＦを覆う第１保護層２４Ｆを形成する。これにより、金属板１０Ｍの表面１０ＭＦが裏面１０ＭＲとともにエッチングされることがない。金属板１０Ｍが裏面１０ＭＲからエッチングされることによって、金属板１０Ｍの裏面１０ＭＲに第２レジストマスク２３Ｒが有する第２マスク孔２３ＲＡに応じた形状を有する第２開口Ａ２（図１９参照）が形成される。また、金属板１０Ｍに小孔部１０ＭＳが形成される。
【0056】
金属板１０Ｍがインバーから形成される場合には、インバーをエッチングすることが可能なエッチング液、すなわち酸性のエッチング液を用いることができる。酸性のエッチング液は、例えば、塩化第二鉄液、過塩素酸第二鉄液、および、過塩素酸第二鉄液と塩化第二鉄液との混合液のいずれかに対して、過塩素酸、塩酸、硫酸、蟻酸、および、酢酸のいずれかを混合した溶液であってよい。金属板１０Ｍをエッチングする方式には、ディップ式、スプレー式、および、スピン式のいずれかを用いることができる。第１保護層２４Ｆは、エッチング液によってエッチングされない材料によって形成されていればよい。なお、金属板１０Ｍがスーパーインバーから形成される場合にも、金属板１０Ｍがインバーから形成される場合と同様のエッチング液を用いることが可能である。
【0057】
図１７が示すように、第１レジストマスク２３Ｆを用いて、金属板１０Ｍの表面１０ＭＦから金属板１０Ｍをウェットエッチングする。金属板１０Ｍをエッチングする前に、第１保護層２４Ｆを第１レジストマスク２３Ｆから除去する。また、金属板１０Ｍをエッチングする前に、第２レジストマスク２３Ｒを除去する。次いで、金属板１０Ｍの裏面１０ＭＲを覆う第２保護層２４Ｒを裏面１０ＭＲ上に形成する。これにより、金属板１０Ｍの裏面１０ＭＲが表面１０ＭＦとともにエッチングされることがない。
【0058】
なお、金属板１０Ｍの裏面１０ＭＲに形成された第２レジストマスク２３Ｒは除去されなくてもよい。この場合には、第２保護層２４Ｒは、第２レジストマスク２３Ｒ上に形成されればよい。
【0059】
図１８が示すように、金属板１０Ｍが表面１０ＭＦからエッチングされることによって、第１レジストマスク２３Ｆが有する第１マスク孔２３ＦＡに応じた形状を有する第１開口Ａ１が形成される。また、金属板１０Ｍに大孔部１０ＭＬが形成される。大孔部１０ＭＬは、金属板１０Ｍの表面１０ＭＦから裏面１０ＭＲに向かう方向に沿って形成されることによって、金属板１０Ｍに形成された小孔部１０ＭＳに接続される。これにより、金属板１０Ｍの厚さ方向における第１開口Ａ１と第２開口Ａ２との間には、第２開口Ａ２が有する形状に略相似な形状を有した第３開口Ａ３が形成される。
【0060】
金属板１０Ｍがインバーから形成される場合には、金属板１０Ｍを裏面１０ＭＲからエッチングする場合と同様に、インバーをエッチングすることが可能なエッチング液、すなわち酸性のエッチング液を用いることができる。酸性のエッチング液は、例えば、塩化第二鉄液、過塩素酸第二鉄液、および、過塩素酸第二鉄液と塩化第二鉄液との混合液のいずれかに対して、過塩素酸、塩酸、硫酸、蟻酸、および、酢酸のいずれかを混合した溶液であってよい。金属板１０Ｍをエッチングする方式には、ディップ式、スプレー式、および、スピン式のいずれかを用いることができる。第２保護層２４Ｒは、エッチング液によってエッチングされない材料によって形成されていればよい。
【0061】
図１９が示すように、金属板１０Ｍの表面１０ＭＦから第１レジストマスク２３Ｆが除去される。また、金属板１０Ｍの裏面１０ＭＲから第２保護層２４Ｒが除去される。金属板１０Ｍから所定の長さを有した部分が断裁されることによって、蒸着マスク１０が形成される。なお、金属板１０Ｍの裏面１０ＭＲを覆う第２保護層２４Ｒが形成される際に、第２レジストマスク２３Ｒが金属板１０Ｍの裏面１０Ｒから取り除かれない場合には、金属板１０Ｍの裏面１０ＭＲから第２保護層２４Ｒ、および、第２レジストマスク２３Ｒが除去される。
【0062】
なお、金属板１０Ｍの表面１０ＭＦが蒸着マスク１０の表面１０Ｆに対応する。金属板１０Ｍの裏面１０ＭＲが蒸着マスク１０の裏面１０Ｒに対応する。金属板１０Ｍの大孔部１０ＭＬが、蒸着マスク１０のマスク孔１１が備える大孔部１１Ｌに対応する。金属板１０Ｍの小孔部１０ＭＳが、蒸着マスク１０のマスク孔１１が備える小孔部１１Ｓに対応する。金属板１０Ｍの第１開口Ａ１がマスク孔１１の第１開口１１Ａに対応し、金属板１０Ｍの第２開口Ａ２がマスク孔１１の第２開口１１Ｂに対応し、かつ、金属板１０Ｍの第３開口Ａ３がマスク孔１１の第３開口１１Ｃに対応する。
【0063】
【0064】
【0065】
図２０は、第２レジストマスク２３Ｒが備える第２マスク孔２３ＲＡの形状を示している。
図２０が示すように、各実施例および各比較例の蒸着マスクを製造する際には、８角形状を有した第２マスク孔２３ＲＡを第２レジスト層に形成した。この際に、各実施例および各比較例において、第２マスク孔２３ＲＡの縁における各第１辺Ｓ１から第８辺Ｓ８の長さを図２１に記載のように設定した。１つの第２マスク孔２３ＲＡは、蒸着マスクが備える１つの画素Ｐに対応している。図２１に記載の画素サイズは、画素Ｐにおける一辺の長さである。
図２０が示すように、各実施例および各比較例の蒸着マスクを製造する際には、８角形状を有した第２マスク孔２３ＲＡを第２レジスト層に形成した。この際に、各実施例および各比較例において、第２マスク孔２３ＲＡの縁における各第１辺Ｓ１から第８辺Ｓ８の長さを図２１に記載のように設定した。１つの第２マスク孔２３ＲＡは、蒸着マスクが備える１つの画素Ｐに対応している。図２１に記載の画素サイズは、画素Ｐにおける一辺の長さである。
【0066】
なお、実施例１から３、および、比較例１から３では、第２マスク孔の長軸が、第２レジストマスクにおいて設定される正方格子の第１対角線に一致し、かつ、第２マスク孔の短軸が、第２レジストマスクにおいて設定される正方格子の第２対角線に一致するように、複数の第２マスク孔を配置した。また、互いに隣り合う２つの第２マスク孔において、第２マスク孔の長軸が互いに直交するように、複数の第２マスク孔を配置した。なお、第２レジストマスクにおいて設定される正方格子は、蒸着マスクにおける画素Ｐの配列に一致する。
【0067】
これに対して、実施例４および比較例４では、図２２が示すように、第２マスク孔の長軸が第１対角線に平行である一方で、第１対角線には一致せず、かつ、第２マスク孔の短軸が第２対角線に平行である一方で、第２対角線には一致しないように、複数の第２マスク孔を配置した。
【0068】
すなわち、図２２が示すように、第１方向ＤＲ１と、第１方向ＤＲ１に直交する第２方向ＤＲ２とにおいて、第２マスク孔２３ＲＡを並べた。この際に、第２方向ＤＲ２における第２マスク孔２３ＲＡ間の距離を一定の距離である第３距離ＤＳ３に設定した。なお、第３距離ＤＳ３を１４．７μｍに設定した。これに対して、第１方向ＤＲ１における第２マスク孔２３ＲＡ間の距離について、第１方向ＤＲ１および第２方向ＤＲ２において、第１距離ＤＳ１と、第１距離ＤＳ１よりも小さい第２距離ＤＳ２とが交互に並ぶように、複数の第２マスク孔２３ＲＡを並べた。
【0069】
なお、第１距離ＤＳ１を１６．４μｍに設定し、かつ、第２距離ＤＳ２を１３．０μｍに設定した。すなわち、第１距離ＤＳ１から第２距離ＤＳ２を減算した差分値を３．４μｍに設定した。そして、図２２に示される３列の第２マスク孔２３ＲＡのうち、第２方向ＤＲ２における中央に位置する第２マスク孔２３ＲＡを、第２方向ＤＲ２における両端に位置する列に含まれる第２マスク孔２３ＲＡに対して、第１方向ＤＲ１において、１．７μｍずらした。これにより、第２レジストマスク２３Ｒにおいて、第２マスク孔の長軸と第１対角線との間の距離を１．２μｍに設定し、かつ、第２マスク孔の短軸と第２対角線との間の距離を１．２μｍに設定した。
【0070】
図２３は、比較例の蒸着マスクを製造するための第１レジストマスク２３Ｆが備える第１マスク孔２３ＦＡの形状を示している。
図２３が示すように、第１レジストマスク２３Ｆが備える第１マスク孔２３ＦＡの縁は、第１レジストマスク２３Ｆが広がる平面と対向する視点から見て、正方形状を有している。第１マスク孔２３ＦＡの縁は、第１マスク孔２３ＦＡと対向する第２マスク孔２３ＲＡの縁に外接している。第１マスク孔２３ＦＡの縁における一辺の長さはＬである。なお、各比較例において、一辺の長さＬを図２５に記載のように設定した。第１マスク孔２３ＦＡの各角部は、曲率中心が第１マスク孔２３ＦＡ内に位置するような曲率を有している。角部の曲率半径は、１μｍ以上３μｍ以下の範囲内に含まれる。
図２３が示すように、第１レジストマスク２３Ｆが備える第１マスク孔２３ＦＡの縁は、第１レジストマスク２３Ｆが広がる平面と対向する視点から見て、正方形状を有している。第１マスク孔２３ＦＡの縁は、第１マスク孔２３ＦＡと対向する第２マスク孔２３ＲＡの縁に外接している。第１マスク孔２３ＦＡの縁における一辺の長さはＬである。なお、各比較例において、一辺の長さＬを図２５に記載のように設定した。第１マスク孔２３ＦＡの各角部は、曲率中心が第１マスク孔２３ＦＡ内に位置するような曲率を有している。角部の曲率半径は、１μｍ以上３μｍ以下の範囲内に含まれる。
【0071】
図２４は、実施例の蒸着マスクを製造するための第１レジストマスク２３Ｆが備える第１マスク孔２３ＦＡの形状を示している。
図２４が示すように、第１レジストマスク２３Ｆが備える第１マスク孔２３ＦＡの縁は、第１レジストマスク２３Ｆが広がる平面と対向する視点から見て、本体部ＦＡ１と、４つの突出部とを備えている。本体部ＦＡ１は、比較例の蒸着マスクを製造するための第１レジストマスク２３Ｆが備える第１マスク孔２３ＦＡと同一の形状を有している。すなわち、本体部ＦＡ１の外形は、第１レジストマスク２３Ｆが広がる平面と対向する視点から見て、正方形状を有している。本体部ＦＡ１の外形は、第１マスク孔２３ＦＡと対向する第２マスク孔２３ＲＡの縁に外接している。本体部ＦＡ１の外形における一辺の長さはＬである。なお、各実施例において、一辺の長さＬを図２５に記載のように設定した。本体部ＦＡ１の各角部は、曲率中心が第１マスク孔２３ＦＡ内に位置するような曲率を有している。角部の曲率半径は、１μｍ以上３μｍ以下の範囲内に含まれる。
図２４が示すように、第１レジストマスク２３Ｆが備える第１マスク孔２３ＦＡの縁は、第１レジストマスク２３Ｆが広がる平面と対向する視点から見て、本体部ＦＡ１と、４つの突出部とを備えている。本体部ＦＡ１は、比較例の蒸着マスクを製造するための第１レジストマスク２３Ｆが備える第１マスク孔２３ＦＡと同一の形状を有している。すなわち、本体部ＦＡ１の外形は、第１レジストマスク２３Ｆが広がる平面と対向する視点から見て、正方形状を有している。本体部ＦＡ１の外形は、第１マスク孔２３ＦＡと対向する第２マスク孔２３ＲＡの縁に外接している。本体部ＦＡ１の外形における一辺の長さはＬである。なお、各実施例において、一辺の長さＬを図２５に記載のように設定した。本体部ＦＡ１の各角部は、曲率中心が第１マスク孔２３ＦＡ内に位置するような曲率を有している。角部の曲率半径は、１μｍ以上３μｍ以下の範囲内に含まれる。
【0072】
第１マスク孔２３ＦＡは、第１突出部ＦＡ２Ａ、第２突出部ＦＡ２Ｂ、第３突出部ＦＡ２Ｃ、および、第４突出部ＦＡ２Ｄを備えている。本体部ＦＡ１の１つの角部に対して１つの突出部が位置している。各突出部は、本体部ＦＡ１の外形よりも外側に向けて突出している。なお、第１突出部ＦＡ２Ａおよび第３突出部ＦＡ２Ｃは、蒸着マスクの第３開口における長軸方向において対向するように位置する突出部である。また、第２突出部ＦＡ２Ｂおよび第４突出部ＦＡ２Ｄは、蒸着マスクの第３開口における短軸方向において対向するように位置する突出部である。
【0073】
なお、実施例１から４では、本体部ＦＡ１の長軸が、第１レジストマスクにおいて設定される正方格子の第１対角線に一致し、かつ、本体部ＦＡ１の短軸が、第１レジストマスクにおいて設定される正方格子の第２対角線に一致するように、複数の第１マスク孔２３ＦＡを配置した。また、比較例１から４では、第１マスク孔２３ＦＡの長軸が、第１レジストマスクにおいて設定される正方格子の第１対角線に一致し、かつ、第１マスク孔２３ＦＡの短軸が、第１レジストマスクにおいて設定される正方格子の第２対角線に一致するように、複数の第１マスク孔２３ＦＡを配置した。なお、第１レジストマスク２３Ｆにおいて設定される正方格子は、蒸着マスクにおける画素Ｐの配列に一致する。
【0074】
［実施例１］
１８μｍの厚さを有したインバー製の金属板を準備した。次いで、金属板の表面に１５μｍの厚さを有したネガ型のドライフィルムレジストを貼り付けた。また、金属板の裏面に、５μｍの厚さを有したネガ型のドライフィルムレジストを貼り付けた。次いで、各ドライフィルムレジストに対して露光および現像を行うことによって、金属板の表面に第１レジストマスクを形成し、かつ、金属板の裏面に第２レジストマスクを形成した。第１レジストマスクおよび第２レジストマスクの形状を、図２１および図２５に記載のように設定した。
１８μｍの厚さを有したインバー製の金属板を準備した。次いで、金属板の表面に１５μｍの厚さを有したネガ型のドライフィルムレジストを貼り付けた。また、金属板の裏面に、５μｍの厚さを有したネガ型のドライフィルムレジストを貼り付けた。次いで、各ドライフィルムレジストに対して露光および現像を行うことによって、金属板の表面に第１レジストマスクを形成し、かつ、金属板の裏面に第２レジストマスクを形成した。第１レジストマスクおよび第２レジストマスクの形状を、図２１および図２５に記載のように設定した。
【0075】
続いて、第１レジストマスクを覆う第１保護層を、エッチング液に対する耐性を有し、かつ、アルカリ液に対する耐性を有した粘着シートを用いて形成した。なお、粘着シートはポリプロピレン製の基材と粘着層とを含む。そして、塩化第二鉄液を用いて金属板をウェットエッチングすることによって、金属板の裏面に第２開口が位置する小孔部を金属板に形成した。次に、第２レジストマスクを金属板から除去した後に、金属板の裏面を覆い、かつ、小孔部を埋める第２保護層を、エッチング液に対する耐性を有し、かつ、アルカリ溶解性を有した紫外線硬化性樹脂を用いて形成した。第２保護層を形成する際には、金属板の裏面に紫外線硬化性樹脂を塗布した後に、紫外線硬化性樹脂に紫外線を照射することによって紫外線硬化性樹脂を硬化させた。そして、第１保護層を金属板から剥がした後に塩化第二鉄液を用いて金属板をエッチングすることによって、金属板の表面に第１開口が位置し、かつ、第３開口において小孔部に接続された大孔部を金属板に形成した。その後、金属板から第２保護層を剥がすことによって、実施例１の蒸着マスクを得た。
【0076】
［実施例２］
実施例１において、金属板の厚さを２０μｍに変更し、第２レジストマスクが備える第２マスク孔の形状、および、１インチ当たりのマスク孔の数を図２１に記載のように変更した。また、第１マスク孔の本体部における長さＬ、および、各突出部の面積を図２５に記載ように変更した。それ以外は、実施例１と同様の方法によって、実施例２の蒸着マスクを得た。
実施例１において、金属板の厚さを２０μｍに変更し、第２レジストマスクが備える第２マスク孔の形状、および、１インチ当たりのマスク孔の数を図２１に記載のように変更した。また、第１マスク孔の本体部における長さＬ、および、各突出部の面積を図２５に記載ように変更した。それ以外は、実施例１と同様の方法によって、実施例２の蒸着マスクを得た。
【0077】
［実施例３］
実施例１において、第２レジストマスクが備える第２マスク孔の形状、および、１インチ当たりのマスク孔の数を、図２１に記載のように変更した。また、第１マスク孔の本体部における長さＬ、および、各突出部の面積を図２５に記載のように変更した。それ以外は、実施例１と同様の方法によって、実施例３の蒸着マスクを得た。
実施例１において、第２レジストマスクが備える第２マスク孔の形状、および、１インチ当たりのマスク孔の数を、図２１に記載のように変更した。また、第１マスク孔の本体部における長さＬ、および、各突出部の面積を図２５に記載のように変更した。それ以外は、実施例１と同様の方法によって、実施例３の蒸着マスクを得た。
【0078】
［実施例４］
実施例１において、第２レジストマスクが備える第２マスク孔の形状、および、１インチ当たりのマスク孔の数を、図２１に記載のように変更し、かつ、第２マスク孔の配置を図２２に記載のように変更した。また、第１マスク孔の本体部における長さＬ、および、各突出部の面積を図２５に記載のように変更した。それ以外は、実施例１と同様の方法によって、実施例４の蒸着マスクを得た。
実施例１において、第２レジストマスクが備える第２マスク孔の形状、および、１インチ当たりのマスク孔の数を、図２１に記載のように変更し、かつ、第２マスク孔の配置を図２２に記載のように変更した。また、第１マスク孔の本体部における長さＬ、および、各突出部の面積を図２５に記載のように変更した。それ以外は、実施例１と同様の方法によって、実施例４の蒸着マスクを得た。
【0079】
［比較例１］
実施例１において、第１マスク孔が突出部を有しない以外は、実施例１と同様の方法によって、比較例１の蒸着マスクを得た。
実施例１において、第１マスク孔が突出部を有しない以外は、実施例１と同様の方法によって、比較例１の蒸着マスクを得た。
【0080】
［比較例２］
実施例２において、第１マスク孔が突出部を有しない以外は、実施例２と同様の方法によって、比較例２の蒸着マスクを得た。
実施例２において、第１マスク孔が突出部を有しない以外は、実施例２と同様の方法によって、比較例２の蒸着マスクを得た。
【0081】
［比較例３］
実施例３において、第１マスク孔が突出部を有しない以外は、実施例３と同様の方法によって、比較例３の蒸着マスクを得た。
実施例３において、第１マスク孔が突出部を有しない以外は、実施例３と同様の方法によって、比較例３の蒸着マスクを得た。
【0082】
［比較例４］
実施例４において、第１マスク孔が突出部を有しない以外は、実施例４と同様の方法によって、比較例４の蒸着マスクを得た。
実施例４において、第１マスク孔が突出部を有しない以外は、実施例４と同様の方法によって、比較例４の蒸着マスクを得た。
【0083】
［評価方法］
［マスク孔の形状］
各実施例および各比較例の蒸着マスクについて、マスク孔の各部における寸法を測定した。この際に、共焦点レーザー顕微鏡（ＯＬＳ‐４０００、オリンパス（株）製）を用いて、蒸着マスクが備えるマスク孔において、第１高さＨ１、第２高さＨ２、第１角度θ１、および、第２角度θ２を測定した。この際に、図２６が示すの第１位置ＰＡ、第２位置ＰＢ、第３位置ＰＣ、および、第４位置ＰＤの各々においてマスク孔の寸法を測定した。第１位置ＰＡおよび第３位置ＰＣは、蒸着マスクの厚さ方向と第３開口１１Ｃの長軸ＡＬとによって規定される第１平面に含まれる。これに対して、第２位置ＰＢおよび第４位置ＰＤは、蒸着マスクの厚さ方向と第３開口１１Ｃの短軸ＡＳとによって規定される第２平面に含まれる。
［マスク孔の形状］
各実施例および各比較例の蒸着マスクについて、マスク孔の各部における寸法を測定した。この際に、共焦点レーザー顕微鏡（ＯＬＳ‐４０００、オリンパス（株）製）を用いて、蒸着マスクが備えるマスク孔において、第１高さＨ１、第２高さＨ２、第１角度θ１、および、第２角度θ２を測定した。この際に、図２６が示すの第１位置ＰＡ、第２位置ＰＢ、第３位置ＰＣ、および、第４位置ＰＤの各々においてマスク孔の寸法を測定した。第１位置ＰＡおよび第３位置ＰＣは、蒸着マスクの厚さ方向と第３開口１１Ｃの長軸ＡＬとによって規定される第１平面に含まれる。これに対して、第２位置ＰＢおよび第４位置ＰＤは、蒸着マスクの厚さ方向と第３開口１１Ｃの短軸ＡＳとによって規定される第２平面に含まれる。
【0084】
なお、実施例１から３および比較例１から３では、１つのマスク孔において、第１高さＨ１および第１角度θ１について第１位置ＰＡでの測定値と第３位置ＰＣでの測定値との平均値を算出した。そして、第１高さＨ１の平均値を各マスク孔での第１高さＨ１に設定し、かつ、第１角度θ１の平均値を各マスク孔での第１角度θ１に設定した。
【0085】
また、１つのマスク孔において、第２高さＨ２および第２角度θ２について、第２位置での測定値と第４位置での測定値との平均値を算出した。そして、第２高さＨ２の平均値を各マスク孔での第２高さＨ２に設定し、かつ、第２角度θ２の平均値を各マスク孔での第２角度θ２に設定した。また、各蒸着マスクが備える３つのマスク孔において第１高さＨ１、第２高さＨ２、第１角度θ１、および、第２角度θ２を上述した方法で算出した。そして、３つのマスク孔での第１高さＨ１の平均値を各蒸着マスクでの第１高さＨ１に設定し、かつ、３つのマスク孔での第２高さＨ２の平均値を各蒸着マスクでの第２高さＨ２に設定した。また、３つのマスク孔での第１角度θ１の平均値を各蒸着マスクでの第１角度θ１に設定し、かつ、３つのマスク孔での第２角度θ２の平均値を各蒸着マスクでの第２角度θ２に設定した。
【0086】
実施例４および比較例４では、１つのマスク孔において、第１位置ＰＡおよび第３位置ＰＣのそれぞれについて第１高さＨ１および第１角度θ１を測定した。また、１つのマスク孔において、第２位置ＰＢおよび第４位置ＰＤのそれぞれについて第２高さＨ２および第２角度θ２を測定した。また、各蒸着マスクが備える３つのマスク孔において第１高さＨ１、第２高さＨ２、第１角度θ１、および、第２角度θ２を測定した。そして、３つのマスク孔での第１高さＨ１の平均値を各蒸着マスクでの第１高さＨ１に設置し、かつ、３つのマスク孔での第２高さＨ２の平均値を各蒸着マスクでの第２高さＨ２に設定した。また、３つのマスク孔での第１角度θ１の平均値を各蒸着マスクでの第１角度θ１に設定し、かつ、３つのマスク孔での第２角度θ２の平均値を各蒸着マスクでの第２角度θ２に設定した。
【0087】
［蒸着マスクの機械的強度］
各実施例および各比較例の蒸着マスクの機械的強度を以下の方法で評価した。
蒸着マスクの製造工程では、蒸着マスクに対応する帯状部と、帯状部を取り囲み、かつ、帯状部を支持する枠状部とが、ウェットエッチングによって金属板に形成される。次いで、帯状部を枠状部から取り外すことによって、帯状部から蒸着マスクが得られる。その後、得られた蒸着マスクは、出荷ケースに収納される。
各実施例および各比較例の蒸着マスクの機械的強度を以下の方法で評価した。
蒸着マスクの製造工程では、蒸着マスクに対応する帯状部と、帯状部を取り囲み、かつ、帯状部を支持する枠状部とが、ウェットエッチングによって金属板に形成される。次いで、帯状部を枠状部から取り外すことによって、帯状部から蒸着マスクが得られる。その後、得られた蒸着マスクは、出荷ケースに収納される。
【0088】
本開示では、枠状部から帯状部が取り外された後、出荷ケースに収納されるまでの一連のハンドリング処理において、蒸着マスクに変形が生じるか否かによって蒸着マスクの機械的強度を判断した。この際に、前述した一連のハンドリング処理において変形が生じた水準を「×」に設定し、かつ、一連のハンドリング処理において変形が生じなかった水準を「○」に設定した。
【0089】
［膜厚のばらつき］
各実施例および各比較例の蒸着マスクについて、各蒸着マスクを用いて形成した蒸着パターンにおける膜厚のばらつきを以下の方法で評価した。なお、各蒸着パターンにおける膜厚の測定には、表面形状測定器（Ｄｅｋｔａｋ ６Ｍ、Ｖｅｅｃо社製）を用いた。
各実施例および各比較例の蒸着マスクについて、各蒸着マスクを用いて形成した蒸着パターンにおける膜厚のばらつきを以下の方法で評価した。なお、各蒸着パターンにおける膜厚の測定には、表面形状測定器（Ｄｅｋｔａｋ ６Ｍ、Ｖｅｅｃо社製）を用いた。
【0090】
蒸着対象としてガラス基板を用い、かつ、蒸着パターンを形成するための蒸着材料として有機発光材料を用いた。各蒸着マスクを用いて、１０行かつ１０列で並ぶ蒸着パターンを形成した。そして、当該蒸着パターンのうち、中央に位置する６行かつ６列の蒸着パターンについて、膜厚のばらつきを算出した。この際に、各蒸着パターンの中央部における膜厚を測定し、当該膜厚を蒸着パターンの膜厚における最大値ＭＭと見なした。また、各蒸着パターンの縁における４箇所の膜厚を測定し、４箇所の膜厚における最小値を蒸着パターンの膜厚における最小値Ｍｍと見なした。なお、膜厚の最小値Ｍｍを特定する際には、蒸着パターンの長軸方向に沿って延びる縁の２箇所において膜厚を測定し、かつ、蒸着パターンの短軸方向に沿って延びる縁の２箇所において膜厚を測定した。
【0091】
そして、以下の式（１）に基づき算出した膜厚のばらつきが５％以下である場合を膜厚のばらつきが抑えられた水準である「○」に設定し、かつ、膜厚のばらつきが５％を超える場合を膜厚のばらつきが抑えられていない水準である「×」に設定した。
１００×｛（ＭＭ－Ｍｍ）／（ＭＭ＋Ｍｍ）｝／２（％） …式（１）
１００×｛（ＭＭ－Ｍｍ）／（ＭＭ＋Ｍｍ）｝／２（％） …式（１）
【0092】
［評価結果］
図２７および図２８を参照して評価結果を説明する。
各実施例および各比較例の蒸着マスクにおいて、マスク孔の各部における寸法を測定した。なお、図２７および図２８において、実施例４‐１には、実施例４の蒸着マスクが備えるマスク孔の寸法のうち、第１位置ＰＡでの測定結果および第２位置ＰＢでの測定結果が記載されている。また、実施例４‐２には、実施例４の蒸着マスクが備えるマスク孔の寸法のうち、第３位置ＰＣでの測定結果および第４位置ＰＤでの測定結果が記載されている。また、比較例４‐１には、比較例４の蒸着マスクが備えるマスク孔の寸法のうち、第１位置ＰＡでの測定結果および第２位置ＰＢでの測定結果が記載されている。また、比較例４‐２には、比較例４の蒸着マスクが備えるマスク孔の寸法のうち、第３位置ＰＣでの測定結果および第４位置ＰＤでの測定結果が記載されている。
図２７および図２８を参照して評価結果を説明する。
各実施例および各比較例の蒸着マスクにおいて、マスク孔の各部における寸法を測定した。なお、図２７および図２８において、実施例４‐１には、実施例４の蒸着マスクが備えるマスク孔の寸法のうち、第１位置ＰＡでの測定結果および第２位置ＰＢでの測定結果が記載されている。また、実施例４‐２には、実施例４の蒸着マスクが備えるマスク孔の寸法のうち、第３位置ＰＣでの測定結果および第４位置ＰＤでの測定結果が記載されている。また、比較例４‐１には、比較例４の蒸着マスクが備えるマスク孔の寸法のうち、第１位置ＰＡでの測定結果および第２位置ＰＢでの測定結果が記載されている。また、比較例４‐２には、比較例４の蒸着マスクが備えるマスク孔の寸法のうち、第３位置ＰＣでの測定結果および第４位置ＰＤでの測定結果が記載されている。
【0093】
図２７が示すように、実施例１から実施例３の蒸着マスクでは、第１高さＨ１が３．０μｍ以下であることが認められた。また、実施例４の蒸着マスクでは、測定箇所に関わらず、第１高さＨ１が３．０μｍ以下であることが認められた。詳細には、実施例１から実施例４の蒸着マスクでは、第１高さＨ１が１．６１μｍ以上２．９３μｍ以下の範囲内に含まれることが認められた。
【0094】
実施例１から実施例３の蒸着マスクでは、第２高さＨ２が２．０μｍ以下であることが認められた。また、実施例４の蒸着マスクでは、測定箇所にかかわらず、第２高さＨ２が２．０μｍ以下であることが認められた。詳細には、実施例１から実施例４の蒸着マスクでは、第２高さＨ２が１．０７μｍ以上１．６５μｍ以下の範囲内に含まれることが認められた。
【0095】
実施例１から実施例４のいずれにおいても、第１高さＨ１が第２高さＨ２よりも高いことが認められた。第１高さＨ１から第２高さＨ２を減算した差分値が、０．５１μｍ以上１．６３μｍ以下の範囲内に含まれることが認められた。
【0096】
実施例１から実施例４の蒸着マスクでは、第１角度θ１が４３°以上５２°以下の範囲内に含まれることが認められた。詳細には、第１角度θ１が、４３．３°以上５１．５°以下の範囲内に含まれることが認められた。実施例１から実施例４の蒸着マスクでは、第２角度θ２が３９°以上５３°以下の範囲内に含まれることが認められた。詳細には、第２角度θ２が３９．８°以上５２．１°以下の範囲内に含まれることが認められた。
【0097】
また、実施例１から実施例４の蒸着マスクでは、第１角度θ１から第２角度θ２を減算した差分値の絶対値が、４°以下であることが認められた。詳細には、差分値の絶対値が、０．３６°以上３．４４°以下の範囲内に含まれることが認められた。
【0098】
これに対して、比較例１から比較例４の蒸着マスクでは、第１高さＨ１が３．０μｍを超えることが認められた。比較例１から比較例４の蒸着マスクのうち、比較例１，３，４の蒸着マスクでは、第２高さＨ２が２．０μｍを超えることが認められた。一方で、比較例２の蒸着マスクでは、第２高さＨ２が２．０μｍ以下であることが認められた。比較例１から比較例４の蒸着マスクでは、第１高さＨ１が第２高さよりも大きいことが認められた。
【0099】
比較例１から比較例４の蒸着マスクのうち、比較例１の蒸着マスクにおける第１角度θ１が４３°以上５２°以下の範囲内に含まれることが認められた。これに対して、比較例２，３，４の蒸着マスクでは、第１角度θ１が５２°を超えることが認められた。比較例１，２の蒸着マスクでは、第２角度θ２が３９°以上５３°以下の範囲内に含まれる一方で、比較例３，４の蒸着マスクでは、第２角度θ２が５３°を超えることが認められた。
【0100】
また、比較例１，３，４の蒸着マスクでは、第１角度θ１から第２角度θ２を減算した差分値の絶対値が４°以下である一方で、比較例２の蒸着マスクでは、差分値の絶対値が４°を超えることが認められた。
【0101】
そして、実施例１から実施例４の蒸着マスクによれば、蒸着パターンにおける膜厚のばらつきが５％以下であるから、膜厚のばらつきが抑えられた蒸着パターンを形成可能であることが認められた。これに対して、比較例１の蒸着マスクによれば、蒸着パターンにおける膜厚のばらつきが５％を超えるから、膜厚のばらつきを有する蒸着パターンが形成されることが認められた。また、実施例１から実施例４、および、比較例１の蒸着マスクでは、上述した一連のハンドリング処理において蒸着マスクに変形が生じないことが認められた。
【0102】
これに対して、比較例２から比較例４の蒸着マスクには、一連のハンドリング処理において変形が生じたことが認められた。そのため、比較例２から比較例４の蒸着マスクでは、蒸着パターンの膜厚に関する評価を行わなかった。
【0103】
このように、蒸着マスクにおいて上述した条件１から条件３のすべてが満たされることによって、蒸着マスクにおける機械的な強度の低下が抑えられ、かつ、膜厚のばらつきが抑えられることが認められた。
【0104】
以上説明したように、蒸着マスク、および、蒸着マスクの製造方法における一実施形態によれば、以下に記載の効果を得ることができる。
（１）上述した条件１から条件３を満たすから、蒸着マスク１０の機械的な強度の低下が抑えられる。また、第３開口１１Ｃの周方向において、蒸着対象に対する蒸着材料の到達しやすさに差が生じることが抑えられるから、蒸着対象に形成された蒸着パターンの面内における厚さのばらつきがさらに抑えられる。
（１）上述した条件１から条件３を満たすから、蒸着マスク１０の機械的な強度の低下が抑えられる。また、第３開口１１Ｃの周方向において、蒸着対象に対する蒸着材料の到達しやすさに差が生じることが抑えられるから、蒸着対象に形成された蒸着パターンの面内における厚さのばらつきがさらに抑えられる。
【0105】
（２）第３開口１１Ｃの長軸ＡＬと短軸ＡＳとがそれぞれ正方格子ＳＧの対角線Ｄ１，Ｄ２に平行である場合には、蒸着マスク１０の厚さ方向ＤＴに直交する平面において、マスク孔１１間の距離にばらつきが生じにくい。これにより、マスク領域１０Ｒ１での機械的な強度のばらつきが生じにくい。このように、マスク領域１０Ｒ１での機械的な強度のばらつきが抑えられるから、蒸着マスク１０の一部に応力が集中しにくい。
【0106】
（３）マスク領域１０Ｒ１において複数のマスク孔１１が等配される場合には、蒸着マスク１０の厚さ方向ＤＴに直交する平面において、マスク孔１１間の距離にばらつきがさらに生じにくい。そのため、マスク領域１０Ｒ１での機械的な強度のばらつきがさらに抑えられるから、蒸着マスク１０の一部に応力がさらに集中しにくい。
【0107】
（４）複数の第１開口１１Ａによって囲まれる未エッチング部１０Ａが第１対角線Ｄ１を対称軸とする線対称な形状を有する場合には、未エッチング部１０Ａが第３開口１１Ｃに到達する蒸着材料の量を減らす割合が第３開口１１Ｃ間においてばらつくことが抑えられる。結果として、蒸着対象に形成された蒸着パターン間において蒸着パターンの厚さにばらつきが生じることが抑えられる。
【0108】
（５）第１角度θ１と第２角度θ２との差が１３°以下である場合には、第３開口１１Ｃの周方向において、蒸着対象に対する蒸着材料の到達しやすさに差が生じることが抑えられる。そのため、蒸着対象に形成された蒸着パターンの面内における厚さのばらつきがさらに抑えられる。
【0109】
（６）第１角度θ１から第２角度θ２を減算した差分値の絶対値が４°以下である場合には、第３開口１１Ｃの周方向において、蒸着対象に対する蒸着材料の到達しやすさに差が生じることがさらに抑えられる。そのため、蒸着対象に形成された蒸着パターンの面内における厚さのばらつきがさらに抑えられる。
【0110】
（７）蒸着マスク１０を貫通するマスク孔１１の長さが２５μｍ以下の範囲内に含まれるから、マスク孔１１を画定する壁部に蒸着材料が付着しにくい。
（８）蒸着マスク１０によれば、高精細な蒸着パターンを形成することが可能である。
（８）蒸着マスク１０によれば、高精細な蒸着パターンを形成することが可能である。
【符号の説明】
【0111】
１０…蒸着マスク
１０Ａ…未エッチング部
１０Ｆ…表面
１０Ｒ…裏面
１１…マスク孔
１１Ａ…第１開口
１１Ｂ…第２開口
１１Ｃ…第３開口
ＳＧ…正方格子
１０Ａ…未エッチング部
１０Ｆ…表面
１０Ｒ…裏面
１１…マスク孔
１１Ａ…第１開口
１１Ｂ…第２開口
１１Ｃ…第３開口
ＳＧ…正方格子
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27】
【図28】