知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024095149
(43)【公開日】2024-07-10
(54)【発明の名称】光学積層体および表示システム
(51)【国際特許分類】
G02B 5/30 20060101AFI20240703BHJP
G02B 1/14 20150101ALI20240703BHJP
H10K 50/858 20230101ALI20240703BHJP
H10K 50/856 20230101ALI20240703BHJP
H10K 59/10 20230101ALI20240703BHJP
G02B 27/02 20060101ALI20240703BHJP
C09J 7/38 20180101ALI20240703BHJP
C09J 133/00 20060101ALI20240703BHJP
H04N 5/64 20060101ALI20240703BHJP
H10K 50/86 20230101ALI20240703BHJP
【ＦＩ】
G02B5/30
G02B1/14
H10K50/858
H10K50/856
H10K59/10
G02B27/02 Z
C09J7/38
C09J133/00
H04N5/64 511A
H10K50/86
【審査請求】未請求
【請求項の数】9
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022212221
(22)【出願日】2022-12-28
(71)【出願人】
【識別番号】000003964
【氏名又は名称】日東電工株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110003845
【氏名又は名称】弁理士法人籾井特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】小野 健太郎
(72)【発明者】
【氏名】後藤 周作
【テーマコード（参考）】
2H149
2H199
2K009
3K107
4J004
4J040
【Ｆターム（参考）】
2H149AA17
2H149AB11
2H149BA02
2H149BA13
2H149CA02
2H149DA04
2H149DA12
2H149EA02
2H149EA12
2H149EA22
2H149FA02X
2H149FA03W
2H149FA08Z
2H149FA12Z
2H149FA13Y
2H149FA66
2H149FC03
2H149FD22
2H149FD31
2H149FD47
2H199CA04
2H199CA42
2H199CA45
2H199CA46
2H199CA47
2H199CA63
2H199CA64
2H199CA65
2H199CA87
2K009AA15
2K009BB14
2K009CC24
3K107AA01
3K107BB01
3K107BB02
3K107CC32
3K107CC33
3K107EE26
3K107EE29
3K107FF02
3K107FF05
3K107FF15
3K107FF18
4J004AA10
4J004AB01
4J004BA02
4J004CA06
4J004CB03
4J004CC02
4J004DB02
4J004EA05
4J004FA08
4J040DF021
4J040DF031
4J040DF061
4J040EF282
4J040GA05
4J040HD32
4J040JA09
4J040JB09
4J040KA16
4J040KA23
(57)【要約】
【課題】過酷な環境下でも光学特性が安定した光学積層体を提供すること。
【解決手段】少なくとも１つの光学部材と少なくとも１つの粘着剤層とを含む、光学積層体であって、前記光学積層体に含まれる前記粘着剤層の総数をＮとしたときに、Ｎ／２以上の粘着剤層が、２０℃から３０℃まで昇温した際の線膨張係数α１と３０℃から２０℃まで降温した際の線膨張係数α２とが０．８≦α１／α２≦１．２の関係を満たす粘着剤層Ａである、光学積層体。
【選択図】図２
【解決手段】少なくとも１つの光学部材と少なくとも１つの粘着剤層とを含む、光学積層体であって、前記光学積層体に含まれる前記粘着剤層の総数をＮとしたときに、Ｎ／２以上の粘着剤層が、２０℃から３０℃まで昇温した際の線膨張係数α１と３０℃から２０℃まで降温した際の線膨張係数α２とが０．８≦α１／α２≦１．２の関係を満たす粘着剤層Ａである、光学積層体。
【選択図】図２
【特許請求の範囲】
【請求項1】
少なくとも１つの光学部材と少なくとも１つの粘着剤層とを含む、光学積層体であって、
前記光学積層体に含まれる前記粘着剤層の総数をＮとしたときに、Ｎ／２以上の粘着剤層が、２０℃から３０℃まで昇温した際の線膨張係数α１と３０℃から２０℃まで降温した際の線膨張係数α２とが０．８≦α１／α２≦１．２の関係を満たす粘着剤層Ａである、光学積層体。
前記光学積層体に含まれる前記粘着剤層の総数をＮとしたときに、Ｎ／２以上の粘着剤層が、２０℃から３０℃まで昇温した際の線膨張係数α１と３０℃から２０℃まで降温した際の線膨張係数α２とが０．８≦α１／α２≦１．２の関係を満たす粘着剤層Ａである、光学積層体。
【請求項2】
前記粘着剤層Ａの厚みが、１μｍ以上１５μｍ以下である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項3】
厚みが、１００μｍ以上３００μｍ以下である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項4】
前記光学積層体が、第一粘着剤層と、偏光部材と、第二粘着剤層と、第一位相差部材と、第三粘着剤層と、保護部材と、を、この順に有し、
前記第一、第二、および第三粘着剤層から選択される２つ以上が、前記粘着剤層Ａである、請求項１に記載の光学積層体。
前記第一、第二、および第三粘着剤層から選択される２つ以上が、前記粘着剤層Ａである、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項5】
前記第一位相差部材が、λ／４部材を含む、請求項４に記載の光学積層体。
【請求項6】
前記保護部材が、表面処理層を有する、請求項４に記載の光学積層体。
【請求項7】
前記粘着剤層Ａを構成する粘着剤組成物が、１５０万以上の重量平均分子量を有する（メタ）アクリル系ポリマーを含む、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項8】
請求項１から７のいずれかに記載の光学積層体を含む、表示システム。
【請求項9】
偏光部材を介して画像を表す光を前方に出射する表示面を有する表示素子と、
前記表示素子の前方に配置され、前記表示素子から出射された光を反射する反射型偏光部材と、
前記表示素子と前記反射型偏光部材との間の光路上に配置される第一レンズ部と、
前記表示素子と前記第一レンズ部との間に配置され、前記表示素子から出射された光を透過させ、前記反射型偏光部材で反射された光を前記反射型偏光部材に向けて反射させるハーフミラーと、
前記表示素子と前記ハーフミラーとの間の光路上に配置される第１のλ／４部材と、
前記ハーフミラーと前記反射型偏光部材との間の光路上に配置される第２のλ／４部材と、
を備え、
請求項５に記載の光学積層体が、前記表示素子と前記第１のλ／４板とが一体に設けられるように、前記ハーフミラーの前記表示素子側に配置されている、請求項８に記載の表示システム。
前記表示素子の前方に配置され、前記表示素子から出射された光を反射する反射型偏光部材と、
前記表示素子と前記反射型偏光部材との間の光路上に配置される第一レンズ部と、
前記表示素子と前記第一レンズ部との間に配置され、前記表示素子から出射された光を透過させ、前記反射型偏光部材で反射された光を前記反射型偏光部材に向けて反射させるハーフミラーと、
前記表示素子と前記ハーフミラーとの間の光路上に配置される第１のλ／４部材と、
前記ハーフミラーと前記反射型偏光部材との間の光路上に配置される第２のλ／４部材と、
を備え、
請求項５に記載の光学積層体が、前記表示素子と前記第１のλ／４板とが一体に設けられるように、前記ハーフミラーの前記表示素子側に配置されている、請求項８に記載の表示システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光学積層体および当該光学積層体を用いた表示システムに関する。
【背景技術】
【0002】
液晶表示装置およびエレクトロルミネセンス（ＥＬ）表示装置（例えば、有機ＥＬ表示装置）に代表される画像表示装置が急速に普及している。画像表示装置においては、画像表示を実現し、画像表示の性能を高めるために、一般的に、偏光部材、位相差部材等の光学部材が用いられている（例えば、特許文献１を参照）。
【0003】
近年、画像表示装置の新たな用途が開発されている。例えば、Ｖｉｒｔｕａｌ Ｒｅａｌｉｔｙ（ＶＲ）を実現するためのディスプレイ付きゴーグル（ＶＲゴーグル）が製品化され始めている。ＶＲゴーグルは様々な場面での利用が検討されていることから、高温および／または高湿環境等の過酷な環境下での安定性の点においても、従来の画像表示装置に適用される光学積層体よりも高い要求がなされる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開２０２１－１０３２８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明は、過酷な環境下でも光学特性が安定した光学積層体を提供することを主たる目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
［１］本発明の実施形態による光学積層体は、少なくとも１つの光学部材と少なくとも１つの粘着剤層とを含む、光学積層体であって、上記光学積層体に含まれる上記粘着剤層の総数をＮとしたときに、Ｎ／２以上の粘着剤層が、２０℃から３０℃まで昇温した際の線膨張係数α１と３０℃から２０℃まで降温した際の線膨張係数α２とが０．８≦α１／α２≦１．２の関係を満たす粘着剤層Ａである。
［２］上記［１］に記載の光学積層体において、上記粘着剤層Ａの厚みが、１μｍ以上１５μｍ以下であってよい。
［３］上記［１］または［２］に記載の光学積層体の厚みが、１００μｍ以上３００μｍ以下であってよい。
［４］上記［１］から［３］のいずれかに記載の光学積層体が、第一粘着剤層と、偏光部材と、第二粘着剤層と、第一位相差部材と、第三粘着剤層と、保護部材と、を、この順に有し、上記第一、第二、および第三粘着剤層から選択される２つ以上が、上記粘着剤層Ａであってよい。
［５］上記［４］に記載の光学積層体において、上記第一位相差部材が、λ／４部材を含んでよい。
［６］上記［４］または［５］に記載の光学積層体において、上記保護部材が、表面処理層を有してよい。
［７］上記［１］から［６］のいずれかに記載の光学積層体において、上記粘着剤層Ａを構成する粘着剤組成物が、１５０万以上の重量平均分子量を有する（メタ）アクリル系ポリマーを含んでよい。
［８］本発明の実施形態による表示システムは、上記［１］から［７］のいずれかに記載の光学積層体を含む。
［９］上記［８］に記載の表示システムは、偏光部材を介して画像を表す光を前方に出射する表示面を有する表示素子と、上記表示素子の前方に配置され、上記表示素子から出射された光を反射する反射型偏光部材と、上記表示素子と上記反射型偏光部材との間の光路上に配置される第一レンズ部と、上記表示素子と上記第一レンズ部との間に配置され、上記表示素子から出射された光を透過させ、上記反射型偏光部材で反射された光を上記反射型偏光部材に向けて反射させるハーフミラーと、上記表示素子と上記ハーフミラーとの間の光路上に配置される第１のλ／４部材と、上記ハーフミラーと上記反射型偏光部材との間の光路上に配置される第２のλ／４部材と、を備え、上記［５］に記載の光学積層体が、上記表示素子と上記第１のλ／４板とが一体に設けられるように、上記ハーフミラーの上記表示素子側に配置されてよい。
［２］上記［１］に記載の光学積層体において、上記粘着剤層Ａの厚みが、１μｍ以上１５μｍ以下であってよい。
［３］上記［１］または［２］に記載の光学積層体の厚みが、１００μｍ以上３００μｍ以下であってよい。
［４］上記［１］から［３］のいずれかに記載の光学積層体が、第一粘着剤層と、偏光部材と、第二粘着剤層と、第一位相差部材と、第三粘着剤層と、保護部材と、を、この順に有し、上記第一、第二、および第三粘着剤層から選択される２つ以上が、上記粘着剤層Ａであってよい。
［５］上記［４］に記載の光学積層体において、上記第一位相差部材が、λ／４部材を含んでよい。
［６］上記［４］または［５］に記載の光学積層体において、上記保護部材が、表面処理層を有してよい。
［７］上記［１］から［６］のいずれかに記載の光学積層体において、上記粘着剤層Ａを構成する粘着剤組成物が、１５０万以上の重量平均分子量を有する（メタ）アクリル系ポリマーを含んでよい。
［８］本発明の実施形態による表示システムは、上記［１］から［７］のいずれかに記載の光学積層体を含む。
［９］上記［８］に記載の表示システムは、偏光部材を介して画像を表す光を前方に出射する表示面を有する表示素子と、上記表示素子の前方に配置され、上記表示素子から出射された光を反射する反射型偏光部材と、上記表示素子と上記反射型偏光部材との間の光路上に配置される第一レンズ部と、上記表示素子と上記第一レンズ部との間に配置され、上記表示素子から出射された光を透過させ、上記反射型偏光部材で反射された光を上記反射型偏光部材に向けて反射させるハーフミラーと、上記表示素子と上記ハーフミラーとの間の光路上に配置される第１のλ／４部材と、上記ハーフミラーと上記反射型偏光部材との間の光路上に配置される第２のλ／４部材と、を備え、上記［５］に記載の光学積層体が、上記表示素子と上記第１のλ／４板とが一体に設けられるように、上記ハーフミラーの上記表示素子側に配置されてよい。
【発明の効果】
【0007】
本発明の実施形態においては、２０℃～３０℃の範囲で昇温した際の線膨張係数α１と降温した際の線膨張係数α２とが０．８≦α１／α２≦１．２の関係を満たす粘着剤層Ａを、光学積層体に含まれる粘着剤層の半数以上に用いる。これにより、過酷な環境下でも光学特性が安定した光学積層体を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【0008】
【図1A】本発明の１つの実施形態による光学積層体の概略断面図である。
【図1B】本発明の１つの実施形態による光学積層体の概略断面図である。
【図2】本発明の１つの実施形態による表示システムの概略の構成を示す模式図である。
【図3】実施例および比較例で得られた光学積層体の湿熱試験結果を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0009】
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。また、図面は説明をより明確にするため、実施の形態に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書中で、数値範囲を表す「～」は、その上限および下限の数値を含み、「（メタ）アクリル」は、「アクリルおよび／またはメタクリル」を意味する。
【0010】
（用語および記号の定義）
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
（１）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
（２）面内位相差（Ｒｅ）
「Ｒｅ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した面内位相差である。例えば、「Ｒｅ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内位相差である。Ｒｅ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄによって求められる。
（３）厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）
「Ｒｔｈ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。例えば、「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ（λ）＝（ｎｘ－ｎｚ）×ｄによって求められる。
（４）Ｎｚ係数
Ｎｚ係数は、Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅによって求められる。
（５）角度
本明細書において角度に言及するときは、当該角度は基準方向に対して時計回りおよび反時計回りの両方を包含する。したがって、例えば「４５°」は時計回りまたは反時計回りに４５°を意味する。また、本明細書において、「略平行」は、０°±１０°の範囲内である場合を包含し、例えば０°±５°、好ましくは０°±３°、より好ましくは０°±１°の範囲内であり、「略直交」は、９０°±１０°の範囲内である場合を包含し、例えば９０°±５°、好ましくは９０°±３°、より好ましくは９０°±１°の範囲内である。
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
（１）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
（２）面内位相差（Ｒｅ）
「Ｒｅ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した面内位相差である。例えば、「Ｒｅ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内位相差である。Ｒｅ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄによって求められる。
（３）厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）
「Ｒｔｈ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。例えば、「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ（λ）＝（ｎｘ－ｎｚ）×ｄによって求められる。
（４）Ｎｚ係数
Ｎｚ係数は、Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅによって求められる。
（５）角度
本明細書において角度に言及するときは、当該角度は基準方向に対して時計回りおよび反時計回りの両方を包含する。したがって、例えば「４５°」は時計回りまたは反時計回りに４５°を意味する。また、本明細書において、「略平行」は、０°±１０°の範囲内である場合を包含し、例えば０°±５°、好ましくは０°±３°、より好ましくは０°±１°の範囲内であり、「略直交」は、９０°±１０°の範囲内である場合を包含し、例えば９０°±５°、好ましくは９０°±３°、より好ましくは９０°±１°の範囲内である。
【0011】
Ａ．光学積層体
本発明の実施形態による光学積層体は、少なくとも１つの光学部材と少なくとも１つの粘着剤層とを含む。上記光学積層体に含まれる粘着剤層の総数をＮとしたときに、Ｎ／２以上の粘着剤層が、２０℃から３０℃まで昇温した際の線膨張係数α１と３０℃から２０℃まで降温した際の線膨張係数α２とが０．８≦α１／α２≦１．２の関係を満たす粘着剤層Ａである。α１／α２が０．８未満または１．２超である粘着剤層は、昇温時と降温時とで変形率の差が大きい傾向にあり、温度変化を繰り返すことで変形量が大きくなる結果、光学積層体の光学特性が変化する場合があり、結果として、ディスプレイ付きゴーグルの構成部材として適用された場合に、その表示特性に影響を及ぼす場合がある。これに対し、０．８≦α１／α２≦１．２の関係を満たす粘着剤層を所定の割合以上で用いることにより、粘着剤層の変形に起因する光学積層体の光学特性の変化を抑制することができる。
本発明の実施形態による光学積層体は、少なくとも１つの光学部材と少なくとも１つの粘着剤層とを含む。上記光学積層体に含まれる粘着剤層の総数をＮとしたときに、Ｎ／２以上の粘着剤層が、２０℃から３０℃まで昇温した際の線膨張係数α１と３０℃から２０℃まで降温した際の線膨張係数α２とが０．８≦α１／α２≦１．２の関係を満たす粘着剤層Ａである。α１／α２が０．８未満または１．２超である粘着剤層は、昇温時と降温時とで変形率の差が大きい傾向にあり、温度変化を繰り返すことで変形量が大きくなる結果、光学積層体の光学特性が変化する場合があり、結果として、ディスプレイ付きゴーグルの構成部材として適用された場合に、その表示特性に影響を及ぼす場合がある。これに対し、０．８≦α１／α２≦１．２の関係を満たす粘着剤層を所定の割合以上で用いることにより、粘着剤層の変形に起因する光学積層体の光学特性の変化を抑制することができる。
【0012】
光学積層体に含まれる光学部材としては、例えば、吸収型偏光部材、反射型偏光部材、位相差部材等が挙げられる。
【0013】
光学積層体に含まれる粘着剤層の総数Ｎは、１以上であり、好ましくは２以上、より好ましくは３以上であり、例えば６以下である。１つの実施形態において、光学積層体に含まれる粘着剤層の総数Ｎは、２以上５以下であり、好ましくは３または４である。光学積層体は、例えば、最外層に粘着剤層を有し、当該粘着剤層を介して隣接する部材に貼着可能とされている。
【0014】
光学積層体に含まれる粘着剤層の総数に対する粘着剤層Ａの数の比率は、１／２以上であり、好ましくは２／３以上であり、より好ましくは３／４以上であり、１であってもよい。
【0015】
言うまでもないが、粘着剤層Ａの数は整数であることから、粘着剤層の総数Ｎが奇数のときの粘着剤層Ａの数は、Ｎ／２以上Ｎ以下の整数である。具体的には、Ｎが３のとき、粘着剤層Ａの数は２以上３以下の整数、すなわち、２または３であり、Ｎが４のとき、粘着剤層Ａの数は２以上４以下の整数、すなわち、２、３、または４である。なお、本明細書においては、２０℃から３０℃まで昇温した際の線膨張係数α１と３０℃から２０℃まで降温した際の線膨張係数α２とが０．８≦α１／α２≦１．２の関係を満たす粘着剤層全般を粘着剤層Ａと称する。よって、光学積層体に含まれる複数の粘着剤層が粘着剤層Ａである場合、当該複数の粘着剤層は、０．８≦α１／α２≦１．２の関係を満たす限りにおいて、同一の組成を有する粘着剤組成物で同一の厚みに形成されている必要はなく、異なる組成を有する粘着剤組成物で同一または異なる厚みに形成されていてもよい。
【0016】
光学積層体の厚みは、例えば１００μｍ以上３００μｍ以下であり、好ましくは１１０μｍ以上２５０μｍ以下であり、より好ましくは１２０μｍ以上２００μｍ以下である。このように全体としての厚みが小さい光学積層体においては、粘着剤層の変形の影響が大きいことから、昇温時と降温時とにおける変形率の差が小さい粘着剤層を用いることによる本発明の効果が好適に得られ得る。
【0017】
１つの実施形態において、粘着剤層Ａの厚みは、例えば１μｍ以上１５μｍ以下であり、好ましくは２μｍ以上１０μｍ未満、より好ましくは３μｍ以上８μｍ以下である。昇温時と降温時の変形率の差が小さく、かつ、厚みが小さい粘着剤層を用いることにより、光学特性等の安定性に優れた光学積層体を好適に得ることができる。
【0018】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態による光学積層体について具体的に説明する。
【0019】
Ａ－１．実施形態１
図１Ａは、本発明の１つの実施形態による光学積層体の概略断面図である。図１Ａに示す光学積層体１００ａは、第一粘着剤層ａ１と、偏光部材１０と、第二粘着剤層ａ２と、第一位相差部材２０と、第三粘着剤層ａ３と、保護部材３０と、を、この順に有する。具体的には、偏光部材１０と第一位相差部材２０とが第二粘着剤層ａ２を介して貼り合わせられ、第一位相差部材２０と保護部材３０とが第三粘着剤層ａ３を介して貼り合わせられている。第一粘着剤層ａ１は、光学積層体１００ａ自身を隣接する部材（例えば、ディスプレイ付きゴーグルを構成する他の部材）と貼り合わせるための粘着剤層であり、その表面は、使用に供されるまでの間、はく離ライナーによって保護されていてもよい。光学積層体１００ａにおいて、粘着剤層の総数は３であり、その中の２つ以上が上記粘着剤層Ａである。
図１Ａは、本発明の１つの実施形態による光学積層体の概略断面図である。図１Ａに示す光学積層体１００ａは、第一粘着剤層ａ１と、偏光部材１０と、第二粘着剤層ａ２と、第一位相差部材２０と、第三粘着剤層ａ３と、保護部材３０と、を、この順に有する。具体的には、偏光部材１０と第一位相差部材２０とが第二粘着剤層ａ２を介して貼り合わせられ、第一位相差部材２０と保護部材３０とが第三粘着剤層ａ３を介して貼り合わせられている。第一粘着剤層ａ１は、光学積層体１００ａ自身を隣接する部材（例えば、ディスプレイ付きゴーグルを構成する他の部材）と貼り合わせるための粘着剤層であり、その表面は、使用に供されるまでの間、はく離ライナーによって保護されていてもよい。光学積層体１００ａにおいて、粘着剤層の総数は３であり、その中の２つ以上が上記粘着剤層Ａである。
【0020】
光学積層体１００ａの厚みは、例えば１００μｍ以上３００μｍ以下であり、好ましくは１１０μｍ以上２５０μｍ以下であり、より好ましくは１２０μｍ以上２００μｍ以下である。
【0021】
＜粘着剤層＞
光学積層体１００ａは、合計で３つの粘着剤層（第一粘着剤層ａ１、第二粘着剤層ａ２、および第三粘着剤層ａ３）を有し、そのうちの少なくとも２つが粘着剤層Ａであり、好ましくはすべてが粘着剤層Ａである。
光学積層体１００ａは、合計で３つの粘着剤層（第一粘着剤層ａ１、第二粘着剤層ａ２、および第三粘着剤層ａ３）を有し、そのうちの少なくとも２つが粘着剤層Ａであり、好ましくはすべてが粘着剤層Ａである。
【0022】
３つの粘着剤層のうち２つが粘着剤層Ａである場合、第一粘着剤層ａ１および第二粘着剤層ａ２が粘着剤層Ａであることが好ましい。光学積層体をＶＲゴーグルに適用した際に温度変化に対する形状安定性が高い粘着剤層Ａを、表示素子および第一位相差部材２０の近くに配置することにより、本発明の効果を好適に得ることができる。
【0023】
粘着剤層Ａは、上述のとおり、２０℃から３０℃まで昇温した際の線膨張係数α１と３０℃から２０℃まで降温した際の線膨張係数α２とが代表的には０．８≦α１／α２≦１．２の関係を満たし、好ましくは０．８５≦α１／α２≦１．１５、より好ましくは０．９≦α１／α２≦１．１の関係を満たす。このような粘着剤層Ａを用いることにより、過酷な環境下であっても光学特性の安定性に優れた光学積層体が得られ得る。粘着剤層Ａのα１およびα２はそれぞれ、本発明の効果が得られる限りにおいて制限されず、任意の値であってよい。粘着剤層Ａのα１は、例えば５．０×１０－４／℃以上７．０×１０－４／℃以下であり得る。粘着剤層Ａのα２は、例えば５．０×１０－４／℃以上７．０×１０－４／℃以下、また例えば６．０×１０－４／℃以上７．０×１０－４／℃以下であり得る。
【0024】
粘着剤層Ａは、６０℃から７０℃まで昇温した際の線膨張係数β１と７０℃から６０℃まで降温した際の線膨張係数β２とが例えば１．０≦β１／β２≦１．５の関係を満たし、好ましくは１．０５≦β１／β２≦１．４５、より好ましくは１．１≦β１／β２≦１．４の関係を満たす。このような粘着剤層を用いることにより、過酷な環境下であっても光学特性の安定性に優れた光学積層体が得られ得る。粘着剤層Ａのβ１およびβ２はそれぞれ、本発明の効果が得られる限りにおいて制限されず、任意の値であってよい。粘着剤層Ａのβ１は、例えば８．０×１０－４／℃以上９．０×１０－４／℃以下であり得る。粘着剤層Ａのβ２は、例えば６．０×１０－４／℃以上７．０×１０－４／℃以下であり得る。
【0025】
粘着剤層Ａの２５℃での貯蔵弾性率は、例えば５×１０４Ｐａ以上、好ましくは１０×１０４Ｐａ以上、より好ましくは１２×１０４Ｐａ以上であり、例えば２０×１０４Ｐａ以下、好ましくは１５×１０４Ｐａ以下である。昇温時と降温時の変形率の差が小さく、かつ、このような貯蔵弾性率を有する粘着剤層を用いることにより、過酷な環境下であっても光学特性の安定性に優れた光学積層体が得られ得る。貯蔵弾性率は、例えば、動的粘弾性測定測定装置（「Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｒｈｅｏｍｅｔｒｉｃ Ｅｘｐａｎｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍ（ＡＲＥＳ）」、Ｒｈｅｏｍｅｔｒｉｃ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製）を用いた、動的粘弾性測定（例えば、パラレルプレート（８．０ｍｍφ）、ねじりモード、周波数範囲１Ｈｚの測定条件）により求めることができる。
【0026】
粘着剤層Ａは、任意の適切な粘着剤組成物によって形成され得る。粘着剤層Ａを形成する粘着剤組成物としては、アクリル系粘着剤組成物、ゴム系粘着剤組成物、シリコーン系粘着剤組成物、ポリエステル系粘着剤組成物、ウレタン系粘着剤組成物、エポキシ系粘着剤組成物、およびポリエーテル系粘着剤組成物が挙げられる。粘着剤組成物のベース樹脂を形成するモノマーの種類、数、組み合わせおよび配合比、ならびに、架橋剤の配合量、反応温度、反応時間等を調整することにより、目的に応じた所望の特性を有する粘着剤組成物を調製することができる。粘着剤組成物のベースポリマーは、単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。粘着剤層は、好ましくはベースポリマーとして（メタ）アクリル系ポリマーを含むアクリル系粘着剤組成物で構成される。
【0027】
１つの実施形態において、上記（メタ）アクリル系ポリマーを構成するモノマー成分は、一般式ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）ＣＯＯＲ２（ただし、Ｒ１は水素またはメチル基であり、Ｒ２は炭素数２～１４、好ましくは炭素数３～１２、より好ましくは炭素数４～９のアルキル基である）で表される（メタ）アクリル系モノマーを主成分として含む。
【0028】
一般式ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）ＣＯＯＲ２で表される（メタ）アクリル系モノマーとしては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、ｓ－ブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｎ－ペンチル（メタ）アクリレート、イソペンチル（メタ）アクリレート、へキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ－オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ｎ－ノニル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ｎ－デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ｎ－ドデシル（メタ）アクリレート、イソミリスチル（メタ）アクリレート、ｎ－トリデシル（メタ）アクリレート、ｎ－テトラデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。なかでも、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート等が好適に用いられる。一般式ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）ＣＯＯＲ２で表される（メタ）アクリル系モノマーは、単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【0029】
（メタ）アクリル系ポリマーを構成するモノマー成分において、一般式ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）ＣＯＯＲ２で表される（メタ）アクリル系モノマーの含有割合は、例えば５０重量％～９８重量％であり、好ましくは６０重量％～９０重量％であり、より好ましくは７０重量％～８０重量％である。
【0030】
（メタ）アクリル系ポリマーを構成するモノマー成分は、好ましくは窒素含有モノマーをさらに含む。上記モノマー成分において、窒素含有モノマーの含有割合は、例えば０．１重量％～３５重量％であり、好ましくは３重量％～３０重量％であり、より好ましくは５重量％～２５重量％である。窒素含有モノマーの含有割合が上記範囲内であれば、加熱環境下および／または高湿環境下での耐久性に優れる粘着剤層が得られ得る。
【0031】
窒素含有モノマーは、モノマー構造中に１以上の窒素原子を含有する重合性モノマーであり、イミド基含有モノマー、アミド基含有モノマー等を好ましく例示できる。なかでも、アミド基含有モノマーがより好ましい。上記モノマー成分において、アミド基含有モノマーの含有割合は、例えば３重量％～１５重量％、好ましくは５重量％～１０重量％である。窒素含有モノマーは、単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【0032】
イミド基含有モノマーとしては、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド、Ｎ－フェニルマレイミド、Ｎ－メチルマレイミド、Ｎ－エチルマレイミド、Ｎ－プロピルマレイミド、Ｎ－イソプロピルマレイミド、Ｎ－ブチルマレイミド、イタコンイミド等が挙げられる。
【0033】
アミド基含有モノマーとしては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルメタクリルアミド、Ｎ－イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸ｔ－ブチルアミノエチル、ダイアセトン（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ビニルアセトアミド、Ｎ，Ｎ’－メチレンビス（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ビニルカプロラクタム等が挙げられる。
【0034】
その他の窒素含有モノマーとしては、アミノ基含有モノマー、（メタ）アクリロニトリル、Ｎ－（メタ）アクリロイルモルフォリン、Ｎ－ビニル－２－ピロリドン等が挙げられる。
【0035】
モノマー成分は、（メタ）アクリル系ポリマーのガラス転移点や剥離性を調整するためのその他の重合性モノマーを、本発明の効果を損なわない範囲で含むことができる。
【0036】
その他の重合性モノマーとしては、例えば、カルボキシル基含有モノマー、スルホン酸基含有モノマー、リン酸基含有モノマー、ビニルエステルモノマー、芳香族ビニルモノマー等が挙げられ、これらは凝集力、耐熱性等の向上に寄与し得る。また例えば、酸無水物基含有モノマー、ヒドロキシル基含有モノマー、エポキシ基含有モノマー、ビニルエーテルモノマー等が挙げられ、これらは接着力の向上に寄与し得るとともに、架橋化基点として働く官能基を有する。また例えば、炭素数１または炭素数１５以上のアルキル基を有する（メタ）アクリル系モノマー等を用いることができる。これらの重合性モノマーは、単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【0037】
カルボキシル基含有モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、カルボキシエチル（メタ）アクリレート、カルボキシペンチル（メタ）アクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸等が挙げられる。なかでも、アクリル酸およびメタクリル酸が好ましく用いられる。
【0038】
スルホン酸基含有モノマーとしては、スチレンスルホン酸、アリルスルホン酸、２－（メタ）アクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸、（メタ）アクリルアミドプロパンスルホン酸、スルホプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸等が挙げられる。
【0039】
リン酸基含有モノマーとしては、２－ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート等が挙げられる。
【0040】
ビニルエステルモノマーとしては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ビニルピロリドン等が挙げられる。
【0041】
芳香族ビニルモノマーとしては、スチレン、クロロスチレン、クロロメチルスチレン、α－メチルスチレン等が挙げられる。
【0042】
酸無水物基含有モノマーとしては、無水マレイン酸、無水イタコン酸等が挙げられる。
【0043】
ヒドロキシル基含有モノマーとしては、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６－ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、８－ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、１０－ヒドロキシデシル（メタ）アクリレート、１２－ヒドロキシラウリル（メタ）アクリレート、（４－ヒドロキシメチルシクロへキシル）メチルアクリレート、Ｎ－メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシ（メタ）アクリルアミド、ビニルアルコール、アリルアルコール、２－ヒドロキシエチルビニルエーテル、４－ヒドロキシブチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル等が挙げられる。
【0044】
エポキシ基含有モノマーとしては、グリシジル（メタ）アクリレート、アリルグリシジルエーテル等が挙げられる。
【0045】
ビニルエーテルモノマーとしては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル等が挙げられる。
【0046】
炭素数１または炭素数１５以上のアルキル基を有する（メタ）アクリル系モノマーとしては、たとえば、メチル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【0047】
上記モノマー成分において、上記その他の重合性モノマーの含有割合は、例えば０．１重量％～１０重量％であり、好ましくは０．２重量％～７重量％であり、より好ましくは０．５重量％～５重量％である。
【0048】
さらに、上記以外の共重合可能なモノマーとして、ケイ素原子を含有するシラン系モノマー等が挙げられる。シラン系モノマーとしては、３－アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、４－ビニルブチルトリメトキシシラン、４－ビニルブチルトリエトキシシラン、８－ビニルオクチルトリメトキシシラン、８－ビニルオクチルトリエトキシシラン、１０－メタクリロイルオキシデシルトリメトキシシラン、１０－アクリロイルオキシデシルトリメトキシシラン、１０－メタクリロイルオキシデシルトリエトキシシラン、１０－アクリロイルオキシデシルトリエトキシシラン等が挙げられる。シラン系モノマーは、単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【0049】
上記シラン系モノマーの配合量は（メタ）アクリル系ポリマー１００重量部に対して、０．１重量部～３重量部であることが好ましく、０．５重量部～２重量部であることがより好ましい。シラン系モノマーを共重合させることは、耐久性の向上に好ましい。
【0050】
（メタ）アクリル系ポリマーの重量平均分子量は、例えば６０万以上であり、好ましくは１５０万以上であり、より好ましくは１６０万以上であり、さらに好ましくは１８０万以上である。（メタ）アクリル系ポリマーの重量平均分子量は、例えば３００万以下であり、好ましくは２５０万以下である。重量平均分子量が上記範囲内であると、上記α１／α２の関係を満たし、耐久性および作業性に優れる粘着剤層が好適に得られ得る。なお、重量平均分子量は、ＧＰＣ（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー）により測定し、ポリスチレン換算により算出された値をいう。
【0051】
上記（メタ）アクリル系ポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）は、粘着性能のバランスが取りやすいことから、例えば－５℃以下、好ましくは－１０℃以下である。ガラス転移温度が－５℃より高い場合、ポリマーが流動しにくく被着体への濡れが不十分となり、層間に発生するフクレの原因となる場合がある。なお、（メタ）アクリル系ポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）は、用いるモノマー成分や組成比を適宜変えることにより上記範囲内に調整することができる。
【0052】
（メタ）アクリル系ポリマーの製造は、溶液重合、塊状重合、乳化重合、各種ラジカル重合等の公知の製造方法を適宜選択できる。溶液重合においては、重合溶媒として、たとえば、酢酸エチル、トルエン等が用いられる。具体的な溶液重合例としては、反応は窒素等の不活性ガス気流下で、重合開始剤として、たとえば、モノマー全量１００重量部に対して、アゾビスイソブチロニトリル０．０１～０．２重量部加え、通常、５０～７０℃程度で、８～３０時間程度行われる。得られる（メタ）アクリル系ポリマーは、ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体等のいずれであってもよい。
【0053】
重合においては、任意の適切な重合開始剤、連鎖移動剤、乳化剤等を、必要に応じて適宜選択して用いることができる。
【0054】
アクリル系粘着剤組成物は、（メタ）アクリル系ポリマーをベースポリマーとして含み、好ましくは過酸化物およびイソシアネート系架橋剤をさらに含む。
【0055】
過酸化物としては、加熱または光照射によりラジカル活性種を発生して粘着剤組成物のベースポリマーの架橋を進行させるものであれば適宜使用可能であるが、作業性や安定性を勘案して、１分間半減期温度が８０℃～１６０℃である過酸化物を使用することが好ましく、９０℃～１４０℃である過酸化物を使用することがより好ましい。１分間半減期温度が低すぎると、塗布乾燥する前の保存時に反応が進行し、粘度が高くなり塗布不能となる場合があり、一方、１分間半減期温度が高すぎると、架橋反応時の温度が高くなるため副反応が起こり、また未反応の過酸化物が多く残存して経時での架橋が進行する場合がある。
【0056】
過酸化物としては、ジ（２－エチルヘキシル）パーオキシジカーボネート（１分間半減期温度：９０．６℃）、ジ（４－ｔ－ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（１分間半減期温度：９２．１℃）、ジ－ｓｅｃ－ブチルパーオキシジカーボネート（１分間半減期温度：９２．４℃）、ｔ－ブチルパーオキシネオデカノエート（１分間半減期温度：１０３．５℃）、ｔ－ヘキシルパーオキシピバレート（１分間半減期温度：１０９．１℃）、ｔ－ブチルパーオキシピバレート（１分間半減期温度：１１０．３℃）、ジラウロイルパーオキシド（１分間半減期温度：１１６．４℃）、ジ－ｎ－オクタノイルパーオキシド（１分間半減期温度：１１７．４℃）、１，１，３，３－テトラメチルブチルパーオキシ－２－エチルヘキサノエート（１分間半減期温度：１２４．３℃）、ジ（４－メチルベンゾイル）パーオキシド（１分間半減期温度：１２８．２℃）、ジベンゾイルパーオキシド（１分間半減期温度：１３０．０℃）、ｔ－ブチルパーオキシイソブチレート（１分間半減期温度：１３６．１℃）、１，１－ジ（ｔ－ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン（１分間半減期温度：１４９．２℃）等が挙げられる。なかでも、架橋反応効率が優れることから、ジ（４－ｔ－ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（１分間半減期温度：９２．１℃）、ジラウロイルパーオキシド（１分間半減期温度：１１６．４℃）、ジベンゾイルパーオキシド（１分間半減期温度：１３０．０℃）等が好ましく用いられる。過酸化物は、単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【0057】
なお、過酸化物の半減期とは、過酸化物の分解速度を表す指標であり、過酸化物の残存量が半分になるまでの時間をいう。任意の時間で半減期を得るための分解温度や、任意の温度での半減期時間に関しては、メーカーカタログ等に記載されており、たとえば、日本油脂株式会社の「有機過酸化物カタログ第９版（２００３年５月）」等に記載されている。
【0058】
過酸化物の配合量は、（メタ）アクリル系ポリマー１００重量部に対し、例えば０．０２重量部～２重量部であり、好ましく０．０４重量部～１．５重量部であり、より好ましくは０．０５重量部～１重量部である。過酸化物の配合量が上記範囲内であると、耐久性および接着性に優れた粘着剤層が得られ得る。
【0059】
イソシアネート系架橋剤としては、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート等の芳香族イソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の脂環族イソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族イソシアネート等が挙げられる。イソシアネート系架橋剤は、単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【0060】
より具体的には、ブチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の低級脂肪族ポリイソシアネート類、シクロペンチレンジイソシアネート、シクロヘキシレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の脂環族イソシアネート類、２，４－トリレンジイソシアネート、４，４’－ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニルイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート類、トリメチロールプロパン／トリレンジイソシアネート３量体付加物（日本ポリウレタン工業社製、商品名コロネートＬ）、トリメチロールプロパン／ヘキサメチレンジイソシアネート３量体付加物（日本ポリウレタン工業社製、商品名コロネートＨＬ）、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体（日本ポリウレタン工業社製、商品名コロネートＨＸ）等のイソシアネート付加物、ポリエーテルポリイソシアネート、ポリエステルポリイソシアネート、ならびにこれらと各種のポリオールとの付加物、イソシアヌレート結合、ビューレット結合、アロファネート結合等で多官能化したポリイソシアネート等を挙げることができる。
【0061】
イソシアネート系架橋剤の配合量は、（メタ）アクリル系ポリマー１００重量部に対し、例えば０．０２重量部～２重量部であり、好ましくは０．０４重量部～１．５重量部であり、より好ましくは０．０５重量部～１重量部である。イソシアネート系架橋剤の配合量が上記範囲内であると、凝集力および接着性に優れた粘着剤層が得られ得る。
【0062】
架橋剤（過酸化物およびイソシアネート系架橋剤）の配合量は、架橋された粘着剤層のゲル分率が、例えば４５重量％～９５重量％、好ましくは５０重量％～９０重量％、より好ましくは５５重量％～８５重量％となるように調整される。ゲル分率が上記範囲内である粘着剤層は、耐久性および接着性に優れる。
【0063】
粘着剤層のゲル分率（重量％）は、粘着剤層の乾燥重量Ｗ１（ｇ）を酢酸エチルに約２３℃下で７日間浸漬した後、上記粘着剤層の不溶分を酢酸エチル中から取り出し、乾燥後の重量Ｗ２（ｇ）を測定し、（Ｗ２／Ｗ１）×１００として計算される値であり得る。
【0064】
過酸化物およびイソシアネート系架橋剤の配合量、架橋処理温度、架橋処理時間等を調整することにより、上記ゲル分率を所望の範囲に調整することができる。
【0065】
架橋処理温度や架橋処理時間は、粘着剤組成物に含まれる過酸化物の分解量が５０重量％以上になるように設定することが好ましく、６０重量％以上になるように設定することがより好ましく、７０重量％以上になるように設定することがさらに好ましい。
【0066】
例えば、架橋処理温度が１分間半減期温度では、１分間で過酸化物の分解量は５０重量％であり、２分間で過酸化物の分解量は７５重量％であり、１分間以上の架橋処理時間が必要となる。また、例えば、架橋処理温度における過酸化物の半減期（半減時間）が３０秒であれば、３０秒以上の架橋処理時間が必要となり、また、例えば、架橋処理温度における過酸化物の半減期（半減時間）が５分であれば、５分間以上の架橋処理時間が必要となる。
【0067】
このように、使用する過酸化物によって架橋処理温度や架橋処理時間は、過酸化物が一次比例すると仮定して半減期（半減時間）から理論計算により算出することが可能であり、添加量を適宜調節することができる。一方、より高温にするほど、副反応が生じる可能性が高くなることから、架橋処理温度は１７０℃以下であることが好ましい。
【0068】
架橋処理時間は、通常０．２分～２０分程度であり、好ましくは０．５分～１０分程度である。
【0069】
架橋処理は、粘着剤層の乾燥工程時の温度で行ってもよいし、乾燥工程後に別途架橋処理工程を設けて行ってもよい。
【0070】
粘着剤組成物には、接着力、耐久力を上げる目的でシランカップリング剤を配合してもよい。シランカップリング剤としては、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等のエポキシ基含有シランカップリング剤、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３－トリエトキシシリル－Ｎ－（１，３－ジメチルブチリデン）プロピルアミン等のアミノ基含有シランカップリング剤、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等の（メタ）アクリル基含有シランカップリング剤、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等のインシアネート基含有シランカップリング剤等が挙げられる。シランカップリング剤は単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【0071】
シランカップリング剤の配合量は、（メタ）アクリル系ポリマー１００重量部に対し、例えば０．０１重量部～１重量部、好ましくは０．０２重量部～０．６重量部、より好ましくは０．０５重量部～０．３重量部である。
【0072】
上記粘着剤組成物は、必要に応じて、任意の適切な添加剤をさらに含んでもよい。添加剤としては、界面活性剤、可塑剤、粘着性付与剤、表面潤滑剤、レベリング剤、軟化剤、酸化防止剤、老化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤等が挙げられる。制御できる範囲内で、還元剤を加えてもよい。
【0073】
上記粘着剤組成物を架橋することによって粘着剤層Ａが好適に得られ得る。上記粘着剤組成物を架橋して得られる粘着剤層Ａは、昇温時と降温時の変形率の差が小さく、また、薄層化した場合であっても、高温高湿下での耐久性に優れる。粘着剤組成物は、所望の部材（図１Ａの構成においては、偏光部材、第一位相差部材、または保護部材）の表面に塗布された後に架橋されてもよく、はく離ライナー等の支持体上に塗布され、架橋された後に所望の部材に転写されてもよい。
【0074】
粘着剤層Ａの厚みは、上述のとおり、例えば１μｍ以上１５μｍ以下、好ましくは２μｍ以上１０μｍ未満、より好ましくは３μｍ以上８μｍ以下である。
【0075】
光学積層体は、上記粘着剤層Ａ以外の粘着剤層を含むことができる。このような粘着剤層もまた、任意の適切な粘着剤組成物によって形成され得る。粘着剤層Ａ以外の粘着剤層を形成する粘着剤組成物としては、アクリル系粘着剤組成物、ゴム系粘着剤組成物、シリコーン系粘着剤組成物、ポリエステル系粘着剤組成物、ウレタン系粘着剤組成物、エポキシ系粘着剤組成物、およびポリエーテル系粘着剤組成物が挙げられる。透明性、耐熱性等に優れることから、アクリル系粘着剤組成物が好ましく用いられる。
【0076】
粘着剤層Ａ以外の粘着剤層の２５℃での貯蔵弾性率は、例えば５×１０４Ｐａ以上、好ましくは１０×１０４Ｐａ以上、より好ましくは１４×１０４Ｐａ以上であり、例えば２０×１０４Ｐａ以下、好ましくは１５×１０４Ｐａ以下である。
【0077】
粘着剤層Ａ以外の粘着剤層の厚みは、例えば１２μｍ以上１００μｍ以下、好ましくは１２μｍ以上８０μｍ以下である。
【0078】
＜偏光部材＞
偏光部材１０は、代表的には、二色性物質を含む樹脂フィルム（吸収型偏光膜と称する場合がある）を含む吸収型偏光部材であり、必要に応じて、その片側又は両側に保護層をさらに含み得る。保護層は、代表的には、任意の適切な接着剤層を介して吸収型偏光膜に貼り合わされている。接着剤層を形成する接着剤として、代表的には紫外線硬化型接着剤が挙げられる。
偏光部材１０は、代表的には、二色性物質を含む樹脂フィルム（吸収型偏光膜と称する場合がある）を含む吸収型偏光部材であり、必要に応じて、その片側又は両側に保護層をさらに含み得る。保護層は、代表的には、任意の適切な接着剤層を介して吸収型偏光膜に貼り合わされている。接着剤層を形成する接着剤として、代表的には紫外線硬化型接着剤が挙げられる。
【0079】
偏光部材（吸収型偏光膜）の直交透過率（Ｔｃ）は、０．５％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１％以下であり、さらに好ましくは０．０５％以下である。偏光部材（吸収型偏光膜）の単体透過率（Ｔｓ）は、例えば４１．０％～４５．０％であり、好ましくは４２．０％以上である。偏光部材（吸収型偏光膜）の偏光度（Ｐ）は、例えば９９．０％～９９．９９７％であり、好ましくは９９．９％以上である。
【0080】
上記直交透過率、単体透過率および偏光度は、例えば、紫外可視分光光度計を用いて測定することができる。偏光度Ｐは、紫外可視分光光度計を用いて、単体透過率Ｔｓ、平行透過率Ｔｐおよび直交透過率Ｔｃを測定し、得られたＴｐおよびＴｃから、下記式により求めることができる。なお、Ｔｓ、ＴｐおよびＴｃは、ＪＩＳ Ｚ８７０１の２度視野（Ｃ光源）により測定して視感度補正を行なったＹ値である。
偏光度Ｐ（％）＝｛（Ｔｐ－Ｔｃ）／（Ｔｐ＋Ｔｃ）｝１／２×１００
偏光度Ｐ（％）＝｛（Ｔｐ－Ｔｃ）／（Ｔｐ＋Ｔｃ）｝１／２×１００
【0081】
吸収型偏光膜の厚みは、例えば１μｍ以上２０μｍ以下であり、２μｍ以上１５μｍ以下であってもよく、１２μｍ以下であってもよく、１０μｍ以下であってもよく、８μｍ以下であってもよく、５μｍ以下であってもよい。
【0082】
上記吸収型偏光膜は、単層の樹脂フィルムから作製してもよく、二層以上の積層体を用いて作製してもよい。
【0083】
単層の樹脂フィルムから作製する場合、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡ系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質による染色処理、延伸処理等を施すことにより吸収型偏光膜を得ることができる。中でも、ＰＶＡ系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸して得られる吸収型偏光膜が好ましい。
【0084】
上記ヨウ素による染色は、例えば、ＰＶＡ系フィルムをヨウ素水溶液に浸漬することにより行われる。上記一軸延伸の延伸倍率は、好ましくは３～７倍である。延伸は、染色処理後に行ってもよいし、染色しながら行ってもよい。また、延伸してから染色してもよい。必要に応じて、ＰＶＡ系フィルムに、膨潤処理、架橋処理、洗浄処理、乾燥処理等が施される。
【0085】
上記二層以上の積層体を用いて作製する場合の積層体としては、樹脂基材と当該樹脂基材に積層されたＰＶＡ系樹脂層（ＰＶＡ系樹脂フィルム）との積層体、あるいは、樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体が挙げられる。樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる吸収型偏光膜は、例えば、ＰＶＡ系樹脂溶液を樹脂基材に塗布し、乾燥させて樹脂基材上にＰＶＡ系樹脂層を形成して、樹脂基材とＰＶＡ系樹脂層との積層体を得ること；当該積層体を延伸および染色してＰＶＡ系樹脂層を吸収型偏光膜とすること；により作製され得る。本実施形態においては、好ましくは、樹脂基材の片側に、ハロゲン化物とポリビニルアルコール系樹脂とを含むポリビニルアルコール系樹脂層を形成する。延伸は、代表的には積層体をホウ酸水溶液中に浸漬させて延伸することを含む。さらに、延伸は、必要に応じて、ホウ酸水溶液中での延伸の前に積層体を高温（例えば、９５℃以上）で空中延伸することをさらに含み得る。加えて、本実施形態においては、好ましくは、積層体は、長手方向に搬送しながら加熱することにより幅方向に２％以上収縮させる乾燥収縮処理に供される。代表的には、本実施形態の製造方法は、積層体に、空中補助延伸処理と染色処理と水中延伸処理と乾燥収縮処理とをこの順に施すことを含む。補助延伸を導入することにより、熱可塑性樹脂上にＰＶＡを塗布する場合でも、ＰＶＡの結晶性を高めることが可能となり、高い光学特性を達成することが可能となる。また、同時にＰＶＡの配向性を事前に高めることで、後の染色工程や延伸工程で水に浸漬された時に、ＰＶＡの配向性の低下や溶解等の問題を防止することができ、高い光学特性を達成することが可能になる。さらに、ＰＶＡ系樹脂層を液体に浸漬した場合において、ＰＶＡ系樹脂層がハロゲン化物を含まない場合に比べて、ポリビニルアルコール分子の配向の乱れ、および配向性の低下が抑制され得る。これにより、染色処理および水中延伸処理等、積層体を液体に浸漬して行う処理工程を経て得られる吸収型偏光膜の光学特性は向上し得る。さらに、乾燥収縮処理により積層体を幅方向に収縮させることにより、光学特性を向上させることができる。得られた樹脂基材／吸収型偏光膜の積層体はそのまま用いてもよく（すなわち、樹脂基材を吸収型偏光膜の保護層としてもよく）、樹脂基材／吸収型偏光膜の積層体から樹脂基材を剥離した剥離面に、もしくは、剥離面とは反対側の面に目的に応じた任意の適切な保護層を積層して用いてもよい。このような吸収型偏光膜の製造方法の詳細は、例えば特開２０１２－７３５８０号公報、特許第６４７０４５５号に記載されている。これらの公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。
【0086】
保護層は、吸収型偏光膜の保護層として使用できる任意の適切なフィルムで形成される。当該フィルムの主成分となる材料の具体例としては、ポリノルボルネン系等のシクロオレフィン（ＣＯＰ）系、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）系等のポリエステル系、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）系、（メタ）アクリル系、ポリビニルアルコール系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリオレフィン系、アセテート系等の透明樹脂が挙げられる。また、（メタ）アクリル系、ウレタン系、（メタ）アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開２００１－３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムも使用できる。このフィルムの材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ－メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。当該ポリマーフィルムは、例えば、上記樹脂組成物の押出成形物であり得る。樹脂フィルムの材料は、単独でまたは組み合わせて使用できる。
【0087】
保護層の厚みは、代表的には１００μｍ以下であり、例えば５μｍ～８０μｍ、好ましくは１０μｍ～５０μｍ、より好ましくは１５μｍ～３５μｍである。
【0088】
＜第一位相差部材＞
第一位相差部材２０は、第１のλ／４部材２０ａを含む。第１のλ／４部材２０ａは、偏光部材１０（吸収型偏光膜）の吸収軸と第１のλ／４部材２０ａの遅相軸とのなす角度が、好ましくは４０°～５０°、より好ましくは４２°～４８°、例えば約４５°となるように配置されている。
第一位相差部材２０は、第１のλ／４部材２０ａを含む。第１のλ／４部材２０ａは、偏光部材１０（吸収型偏光膜）の吸収軸と第１のλ／４部材２０ａの遅相軸とのなす角度が、好ましくは４０°～５０°、より好ましくは４２°～４８°、例えば約４５°となるように配置されている。
【0089】
第１のλ／４部材２０ａの面内位相差Ｒｅ（５５０）は、例えば１００ｎｍ～１９０ｎｍであり、１１０ｎｍ～１８０ｎｍであってもよく、１３０ｎｍ～１６０ｎｍであってもよく、１３５ｎｍ～１５５ｎｍであってもよい。第１のλ／４部材は、好ましくは、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散波長特性を示す。第１のλ／４部材のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、例えば０．７５以上１未満であり、０．８以上０．９５以下であってもよい。
【0090】
第１のλ／４部材は、好ましくは、屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの関係を示す。ここで「ｎｙ＝ｎｚ」はｎｙとｎｚが完全に等しい場合だけではなく、実質的に等しい場合を包含する。したがって、本発明の効果を損なわない範囲で、ｎｙ＜ｎｚとなる場合があり得る。第１のλ／４部材のＮｚ係数は、好ましくは０．９～３であり、より好ましくは０．９～２．５であり、さらに好ましくは０．９～１．５であり、特に好ましくは０．９～１．３である。
【0091】
第１のλ／４部材は、上記特性を満足し得る任意の適切な材料で形成される。第１のλ／４部材は、例えば、樹脂フィルムの延伸フィルムまたは液晶化合物の配向固化層であり得る。
【0092】
上記樹脂フィルムに含まれる樹脂としては、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステルカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、環状オレフィン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリル系樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、単独で用いてもよく、組み合わせて用いてもよい。組み合わせる方法としては、例えば、ブレンド、共重合が挙げられる。第１のλ／４部材が逆分散波長特性を示す場合、ポリカーボネート系樹脂またはポリエステルカーボネート系樹脂（以下、単にポリカーボネート系樹脂と称する場合がある）を含む樹脂フィルムが好適に用いられ得る。
【0093】
上記ポリカーボネート系樹脂としては、任意の適切なポリカーボネート系樹脂を用いることができる。例えば、ポリカーボネート系樹脂は、フルオレン系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、イソソルビド系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、脂環式ジオール、脂環式ジメタノール、ジ、トリまたはポリエチレングリコール、ならびに、アルキレングリコールまたはスピログリコールからなる群から選択される少なくとも１つのジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、を含む。好ましくは、ポリカーボネート系樹脂は、フルオレン系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、イソソルビド系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、脂環式ジメタノールに由来する構造単位ならびに／あるいはジ、トリまたはポリエチレングリコールに由来する構造単位と、を含み；さらに好ましくは、フルオレン系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、イソソルビド系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、ジ、トリまたはポリエチレングリコールに由来する構造単位と、を含む。ポリカーボネート系樹脂は、必要に応じてその他のジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含んでいてもよい。なお、第１のλ／４部材に好適に用いられ得るポリカーボネート系樹脂および第１のλ／４部材の形成方法の詳細は、例えば、特開２０１４－１０２９１号公報、特開２０１４－２６２６６号公報、特開２０１５－２１２８１６号公報、特開２０１５－２１２８１７号公報、特開２０１５－２１２８１８号公報に記載されており、これらの公報の記載は本明細書に参考として援用される。
【0094】
樹脂フィルムの延伸フィルムで構成される第１のλ／４部材の厚みは、例えば１０μｍ～１００μｍであり、好ましくは１０μｍ～７０μｍであり、より好ましくは２０μｍ～６０μｍである。
【0095】
上記液晶化合物の配向固化層は、液晶化合物が層内で所定の方向に配向し、その配向状態が固定されている層である。なお、「配向固化層」は、後述のように液晶モノマーを硬化させて得られる配向硬化層を包含する概念である。第１のλ／４部材においては、代表的には、棒状の液晶化合物が第１のλ／４部材の遅相軸方向に並んだ状態で配向している（ホモジニアス配向）。棒状の液晶化合物として、例えば、液晶ポリマーおよび液晶モノマーが挙げられる。液晶化合物は、好ましくは、重合可能である。液晶化合物が重合可能であると、液晶化合物を配向させた後に重合させることで、液晶化合物の配向状態を固定できる。
【0096】
上記液晶化合物の配向固化層（液晶配向固化層）は、所定の基材の表面に配向処理を施し、当該表面に液晶化合物を含む塗工液を塗工して当該液晶化合物を上記配向処理に対応する方向に配向させ、当該配向状態を固定することにより形成され得る。配向処理としては、任意の適切な配向処理が採用され得る。具体的には、機械的な配向処理、物理的な配向処理、化学的な配向処理が挙げられる。機械的な配向処理の具体例としては、ラビング処理、延伸処理が挙げられる。物理的な配向処理の具体例としては、磁場配向処理、電場配向処理が挙げられる。化学的な配向処理の具体例としては、斜方蒸着法、光配向処理が挙げられる。各種配向処理の処理条件は、目的に応じて任意の適切な条件が採用され得る。
【0097】
液晶化合物の配向は、液晶化合物の種類に応じて液晶相を示す温度で処理することにより行われる。このような温度処理を行うことにより、液晶化合物が液晶状態をとり、基材表面の配向処理方向に応じて当該液晶化合物が配向する。
【0098】
配向状態の固定は、１つの実施形態においては、上記のように配向した液晶化合物を冷却することにより行われる。液晶化合物が重合性または架橋性である場合には、配向状態の固定は、上記のように配向した液晶化合物に重合処理または架橋処理を施すことにより行われる。
【0099】
上記液晶化合物としては、任意の適切な液晶ポリマーおよび／または液晶モノマーが用いられる。液晶ポリマーおよび液晶モノマーは、それぞれ単独で用いてもよく、組み合わせてもよい。液晶化合物の具体例および液晶配向固化層の作製方法は、例えば、特開２００６－１６３３４３号公報、特開２００６－１７８３８９号公報、国際公開第２０１８／１２３５５１号公報に記載されている。これらの公報の記載は本明細書に参考として援用される。
【0100】
液晶配向固化層で構成される第１のλ／４部材の厚みは、例えば１μｍ～１０μｍであり、好ましくは１μｍ～８μｍであり、より好ましくは１μｍ～６μｍであり、さらに好ましくは１μｍ～４μｍである。
【0101】
＜保護部材＞
保護部材３０は、代表的には、基材を含む。基材は、任意の適切なフィルムで構成され得る。基材を構成するフィルムの主成分となる材料としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン等のシクロオレフィン系、ポリオレフィン系、（メタ）アクリル系、アセテート系等の樹脂が挙げられる。基材の厚みは、好ましくは５μｍ～８０μｍであり、より好ましくは１０μｍ～４０μｍであり、さらに好ましくは１５μｍ～３５μｍである。
保護部材３０は、代表的には、基材を含む。基材は、任意の適切なフィルムで構成され得る。基材を構成するフィルムの主成分となる材料としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン等のシクロオレフィン系、ポリオレフィン系、（メタ）アクリル系、アセテート系等の樹脂が挙げられる。基材の厚みは、好ましくは５μｍ～８０μｍであり、より好ましくは１０μｍ～４０μｍであり、さらに好ましくは１５μｍ～３５μｍである。
【0102】
保護部材は、好ましくは、基材と基材上に形成される表面処理層とを有する。表面処理層は、光学積層体１００ａの最表面に位置し得る。表面処理層は、任意の適切な機能を有し得る。表面処理層としては、例えば、ハードコート層、反射防止層、スティッキング防止層、アンチグレア層が挙げられる。保護部材は、２以上の表面処理層を有していてもよい。
【0103】
反射防止層は、外光等の反射を防止するために設けられる。反射防止層としては、例えば、フッ素樹脂層、ナノ粒子（代表的には中空ナノ粒子、例えば中空ナノシリカ粒子）を含む樹脂層、または、ナノ構造（例えばモスアイ構造）を有する反射防止層が挙げられる。反射防止層の厚みは、好ましくは０．０５μｍ～１μｍである。上記樹脂層の形成方法としては、例えば、ゾルゲル法、イソシアネートを用いた熱硬化法、架橋性モノマー（例えば多官能アクリレート）と光重合開始剤とを用いた電離放射線硬化法（代表的には光硬化法）が挙げられる。
【0104】
ハードコート層は、好ましくは、十分な表面硬度、優れた機械的強度、および優れた光透過性を有する。ハードコート層は、任意の適切な樹脂から形成され得る。ハードコート層は、代表的には紫外線硬化型樹脂から形成される。紫外線硬化型樹脂としては、例えば、ポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、アミド系、シリコーン系、エポキシ系が挙げられる。ハードコート層の厚みは、例えば０．５μｍ以上、好ましくは１μｍ以上、例えば２０μｍ以下、好ましくは１５μｍ以下である。
【0105】
Ａ－２．実施形態２
図１Ｂは、本発明の１つの実施形態による光学積層体の概略断面図である。図１Ｂに示す光学積層体１００ｂは、第一粘着剤層ａ１と、偏光部材１０と、第二粘着剤層ａ２と、第１のλ／４部材２０ａを含む第一位相差部材２０と、第三粘着剤層ａ３と、保護部材３０と、を、この順に有し、第一位相差部材２０が第１のλ／４部材２０ａに加えて屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を示し得る部材（いわゆる、ポジティブＣプレート）２０ｂを含んでいる点において光学積層体１００ａと異なっている。偏光部材１０の吸収軸と第１のλ／４部材２０ａの遅相軸とのなす角度は、好ましくは４０°～５０°、より好ましくは４２°～４８°、例えば約４５°となるように配置されている。
図１Ｂは、本発明の１つの実施形態による光学積層体の概略断面図である。図１Ｂに示す光学積層体１００ｂは、第一粘着剤層ａ１と、偏光部材１０と、第二粘着剤層ａ２と、第１のλ／４部材２０ａを含む第一位相差部材２０と、第三粘着剤層ａ３と、保護部材３０と、を、この順に有し、第一位相差部材２０が第１のλ／４部材２０ａに加えて屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を示し得る部材（いわゆる、ポジティブＣプレート）２０ｂを含んでいる点において光学積層体１００ａと異なっている。偏光部材１０の吸収軸と第１のλ／４部材２０ａの遅相軸とのなす角度は、好ましくは４０°～５０°、より好ましくは４２°～４８°、例えば約４５°となるように配置されている。
【0106】
第一位相差部材２０は、第１のλ／４部材２０ａとポジティブＣプレート２０ｂとの積層構造を有している。具体的には、第１のλ／４部材２０ａとポジティブＣプレート２０ｂとは、接着層ｂ１を介して積層されている。図示例のように、第１のλ／４部材２０ａがポジティブＣプレート２０ｂよりも偏光部材１０側に位置していることが好ましいが、これらの配置が逆であってもよい。接着層ｂ１は、代表的には粘着剤層または接着剤層である。接着層ｂ１が接着剤層である場合、光学積層体１００ｂにおける粘着剤層の総数は３であり、そのうちの２つ以上の粘着剤層が粘着剤層Ａであり、好ましくは３つ全てが粘着剤層Ａである。接着層ｂ１が粘着剤層である場合、光学積層体１００ｂにおける粘着剤層の総数は４であり、この場合も２つ以上の粘着剤層が上記粘着剤層Ａであり、好ましくは３つ以上、より好ましくは４つ全ての粘着剤層が粘着剤層Ａである。接着剤層は、例えば紫外線硬化型接着剤で形成され、その厚みは、例えば０．０５μｍ～３０μｍである。
【0107】
光学積層体１００ｂの厚みは、例えば１００μｍ以上３００μｍ以下であり、好ましくは１１０μｍ以上２５０μｍ以下であり、より好ましくは１２０μｍ以上２００μｍ以下である。
【0108】
粘着剤層、偏光部材、第１のλ／４部材、および保護部材については、Ａ－１項において記載したとおりである。
【0109】
＜ポジティブＣプレート＞
ポジティブＣプレート２０ｂの厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）は、好ましくは－５０ｎｍ～－３００ｎｍであり、より好ましくは－７０ｎｍ～－２５０ｎｍであり、さらに好ましくは－９０ｎｍ～－２００ｎｍであり、特に好ましくは－１００ｎｍ～－１８０ｎｍである。ここで、「ｎｘ＝ｎｙ」は、ｎｘとｎｙが厳密に等しい場合のみならず、ｎｘとｎｙが実質的に等しい場合も包含する。ポジティブＣプレートの面内位相差Ｒｅ（５５０）は、例えば１０ｎｍ未満である。
ポジティブＣプレート２０ｂの厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）は、好ましくは－５０ｎｍ～－３００ｎｍであり、より好ましくは－７０ｎｍ～－２５０ｎｍであり、さらに好ましくは－９０ｎｍ～－２００ｎｍであり、特に好ましくは－１００ｎｍ～－１８０ｎｍである。ここで、「ｎｘ＝ｎｙ」は、ｎｘとｎｙが厳密に等しい場合のみならず、ｎｘとｎｙが実質的に等しい場合も包含する。ポジティブＣプレートの面内位相差Ｒｅ（５５０）は、例えば１０ｎｍ未満である。
【0110】
ポジティブＣプレートは、任意の適切な材料で形成され得る。ポジティブＣプレートは、好ましくは、ホメオトロピック配向に固定された液晶材料を含むフィルムから構成される。ホメオトロピック配向させることができる液晶材料（液晶化合物）は、液晶モノマーであってもよいし、液晶ポリマーであってもよい。このような液晶化合物およびポジティブＣプレートの形成方法の具体例としては、特開２００２－３３３６４２号公報の［００２０］～［００２８］に記載の液晶化合物および位相差層の形成方法が挙げられる。この場合、ポジティブＣプレートの厚みは、好ましくは０．５μｍ～５μｍである。
【0111】
Ｂ．表示システム
図２は、Ａ項に記載の光学積層体を含む表示システム（ディスプレイ付きゴーグル）の一例の概略構成を示す模式図である。図２（ａ）では、表示システム２の主要な構成要素の配置および形状等を模式的に図示しており、図２（ｂ）は、図２（ａ）に示す表示システム２が液晶表示システムである場合における上記光学積層体の配置を説明する模式図である。
図２は、Ａ項に記載の光学積層体を含む表示システム（ディスプレイ付きゴーグル）の一例の概略構成を示す模式図である。図２（ａ）では、表示システム２の主要な構成要素の配置および形状等を模式的に図示しており、図２（ｂ）は、図２（ａ）に示す表示システム２が液晶表示システムである場合における上記光学積層体の配置を説明する模式図である。
【0112】
図２（ａ）に示されるとおり、表示システム２は、表示素子１２と、反射型偏光部材１４と、第一レンズ部１６と、ハーフミラー１８と、第一位相差部材２０と、第二位相差部材２２と、第二レンズ部２４とを備えている。反射型偏光部材１４は、表示素子１２の表示面１２’側である前方に配置され、表示素子１２から出射された光を反射し得る。第一レンズ部１６は表示素子１２と反射型偏光部材１４との間の光路上に配置され、ハーフミラー１８は表示素子１２と第一レンズ部１６との間に配置されている。第一位相差部材２０は表示素子１２とハーフミラー１８との間の光路上に配置され、第二位相差部材２２はハーフミラー１８と反射型偏光部材１４との間の光路上に配置されている。図示しないが、表示システム２は、反射型偏光部材１４と第二レンズ部２４との間に吸収型偏光部材をさらに備えることができる。
【0113】
ハーフミラーから前方に配置される構成要素（図示例では、ハーフミラー１８、第一レンズ部１６、第二位相差部材２２、反射型偏光部材１４および第二レンズ部２４）をまとめてレンズ部（レンズ部４）と称する場合がある。
【0114】
表示素子１２は、例えば、液晶ディスプレイまたは有機ＥＬディスプレイであり、画像を表示するための表示面１２’を有している。表示面１２’から出射される光は、例えば、表示素子１２に含まれ得る偏光部材１０を通過して出射され、第１の直線偏光とされている。
【0115】
第一位相差部材２０は、第一位相差部材２０に入射した第１の直線偏光を第１の円偏光に変換し得る第１のλ／４部材を含む。第一位相差部材が第１のλ／４部材以外の部材を含まない場合は、第一位相差部材は第１のλ／４部材に相当し得る。なお、図示例では、説明のため、第一位相差部材２０と表示素子１２との間に空間が介在しているが、後述のとおり、本発明の実施形態による表示システムにおいては、Ａ項に記載されるような偏光部材と第一位相差部材（第１のλ／４部材）とを含む光学積層体を用いることにより、第一位相差部材２０と表示素子１２とが一体に設けられている。
【0116】
ハーフミラー１８は、表示素子１２から出射された光を透過させ、反射型偏光部材１４で反射された光を反射型偏光部材１４に向けて反射させる。ハーフミラー１８は、第一レンズ部１６に一体に設けられている。
【0117】
第二位相差部材２２は、反射型偏光部材１４およびハーフミラー１８で反射させた光を、反射型偏光部材１４を透過させ得る第２のλ／４部材を含む。第二位相差部材が第２のλ／４部材以外の部材を含まない場合は、第二位相差部材は第２のλ／４部材に相当し得る。第二位相差部材２２は、第一レンズ部１６に一体に設けられてもよい。
【0118】
第一位相差部材２０に含まれる第１のλ／４部材から出射された第１の円偏光は、ハーフミラー１８および第一レンズ部１６を通過し、第二位相差部材２２に含まれる第２のλ／４部材により第２の直線偏光に変換される。第２のλ／４部材から出射された第２の直線偏光は、反射型偏光部材１４を透過せずにハーフミラー１８に向けて反射される。このとき、反射型偏光部材１４に入射した第２の直線偏光の偏光方向は、反射型偏光部材１４の反射軸と同方向である。そのため、反射型偏光部材１４に入射した第２の直線偏光は、反射型偏光部材１４で反射される。
【0119】
反射型偏光部材１４で反射された第２の直線偏光は第二位相差部材２２に含まれる第２のλ／４部材により第２の円偏光に変換され、第２のλ／４部材から出射された第２の円偏光は第一レンズ部１６を通過してハーフミラー１８で反射される。ハーフミラー１８で反射された第２の円偏光は、第一レンズ部１６を通過し、第二位相差部材２２に含まれる第２のλ／４部材により第３の直線偏光に変換される。第３の直線偏光は、反射型偏光部材１４を透過する。このとき、反射型偏光部材１４に入射した第３の直線偏光の偏光方向は、反射型偏光部材１４の透過軸と同方向である。そのため、反射型偏光部材１４に入射した第３の直線偏光は、反射型偏光部材１４を透過する。
【0120】
上述のとおり、表示システム２は、反射型偏光部材１４の前方（目に近い側）に吸収型偏光部材（代表的には、吸収型偏光フィルム）を含んでいてもよい。反射型偏光部材１４の反射軸と吸収型偏光部材の吸収軸とは互いに略平行に配置され得、反射型偏光部材の透過軸と吸収型偏光部材の透過軸とは互いに略平行に配置され得る。これにより、反射型偏光部材１４を透過した第３の直線偏光は、そのまま吸収型偏光部材を透過することができる。反射型偏光部材と吸収型偏光部材とは、例えば、接着層を介して積層されていてもよい。
【0121】
反射型偏光部材１４を透過した光は、第二レンズ部２４を通過して、ユーザの目２６に入射する。
【0122】
例えば、表示素子１２に含まれる偏光部材１０の吸収軸と反射型偏光部材１４の反射軸とは、互いに略平行に配置されてもよいし、略直交に配置されてもよい。表示素子１２に含まれる偏光部材１０の吸収軸と第一位相差部材２０に含まれる第１のλ／４部材の遅相軸とのなす角度は、例えば４０°～５０°であり、４２°～４８°であってもよく、約４５°であってもよい。表示素子１２に含まれる偏光部材１０の吸収軸と第二位相差部材２２に含まれる第２のλ／４部材の遅相軸とのなす角度は、例えば４０°～５０°であり、４２°～４８°であってもよく、約４５°であってもよい。偏光部材１０および第１のλ／４部材を含む第一位相差部材２０はそれぞれ、Ａ項に記載のとおりである。
【0123】
第２のλ／４部材の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、例えば１００ｎｍ～１９０ｎｍであり、１１０ｎｍ～１８０ｎｍであってもよく、１３０ｎｍ～１６０ｎｍであってもよく、１３５ｎｍ～１５５ｎｍであってもよい。第２のλ／４部材は、好ましくは、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散波長特性を示す。第２のλ／４部材は、好ましくは、Ｒｅ（４５０）＜Ｒｅ（５５０）＜Ｒｅ（６５０）の関係を満たす。第２のλ／４部材のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、例えば０．７５以上１未満であり、０．８以上０．９５以下であってもよい。
【0124】
図２（ｂ）は、表示システム２が液晶表示システムである場合における光学積層体の配置を示す。光学積層体１００としては、図１Ａまたは図１Ｂに記載の光学積層体１００ａ、１００ｂが好ましく用いられる。図示例において、表示素子１２は、バックライトユニット１２ａと、バックライト側偏光部材１２ｂと、液晶セル１２ｃと、偏光部材１０と、を含む。バックライト側偏光部材１２ｂと偏光部材１０とは、代表的には、吸収軸方向が互いに略直交となるように配置され、液晶セル１２ｃとともに液晶パネルを構成している。光学積層体１００は、ハーフミラー１８の表示素子１２側に配置されており、ここで、偏光部材１０は粘着剤層ａ１を介して液晶セル１２ｃに貼り合わせられており、また、第一位相差部材２０（第１のλ／４部材）は粘着剤層ａ２を介して偏光部材１０と貼り合わせられており、結果として、表示素子１２と第一位相差部材２０（第１のλ／４部材）とが一体に設けられた構成となる。また、表面処理層を有する保護部材３０の当該表面処理層が最表面となるように配置されることにより、ハーフミラー１８と第一位相差部材２０（保護部材３０）との間に空間が形成されている表示システムにおいて、優れた反射防止効果を得ることができる。なお、図示例の実施形態では、光学積層体１００は液晶セルに貼り合わせられているが、本発明の実施形態による光学積層体は有機ＥＬパネルと共に有機ＥＬ表示システムを構成することもできる。この場合、光学積層体１００と有機ＥＬパネルとの間には第３のλ／４部材を含む第三位相差部材が配置され得る。第三位相差部材は、本発明の実施形態による光学積層体に含まれていてもよい。例えば、本発明の実施形態による光学積層体は、第三位相差部材、偏光部材、第一位相差部材、および保護部材を接着層を介してこの順に有していてもよい。具体的には、光学積層体は、［粘着剤層／第三位相差部材／粘着剤層／偏光部材／粘着剤層／第一位相差部材／粘着剤層／保護部材］の構成を有することができ、当該構成においては、少なくとも４つの粘着剤層を含み得る。粘着剤層の総数が４である場合、そのうちの２つ以上、好ましくは３つまたは４つの粘着剤層に粘着剤層Ａが用いられる。第３のλ／４部材の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、例えば１００ｎｍ～１９０ｎｍであり、１１０ｎｍ～１８０ｎｍであってもよく、１３０ｎｍ～１６０ｎｍであってもよく、１３５ｎｍ～１５５ｎｍであってもよい。第３のλ／４部材としては、第１のλ／４部材と同様の説明を適用することができる。第三位相差部材は、第３のλ／４部材の遅相軸が偏光部材１０の吸収軸と、例えば４０°～５０°、４２°～４８°、または約４５°の角度をなすように配置され得る。
【実施例0125】
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。なお、厚みは下記の測定方法により測定した値である。
＜厚み＞
１０μｍ以下の厚みは、走査型電子顕微鏡（日本電子社製、製品名「ＪＳＭ－７１００Ｆ」）を用いて測定した。１０μｍを超える厚みは、デジタルマイクロメーター（アンリツ社製、製品名「ＫＣ－３５１Ｃ」）を用いて測定した。
＜面内位相差＞
王子計測機器社製「ＫＯＢＲＡ－ＷＰＲ」を用いて、２３℃における面内位相差を測定した。
＜線膨張係数＞
粘着剤層（厚み１ｍｍ）を約５ｍｍ角に切削したものを測定試料として用いた。測定試料を測定装置の試料台に設置して下記条件でＴＭＡ測定を行った。
・測定装置：エスアイアイ・ナノテクノロジー社製「ＴＭＡ／ＳＳ６０００」
・測定モード：圧縮膨張法
・測定荷重：９．８ｍＮ
・プローブ径：３．５ｍｍφ（圧縮膨張法）
・温度プログラム：－６０℃→２１０℃→－７０℃→２００℃
・昇温／降温速度：１０℃／ｍｉｎ
・測定雰囲気：Ｎ２（流量：２００ｍｌ／ｍｉｎ）
＜分子量の測定＞
（メタ）アクリル系ポリマーの重量平均分子量は、ＧＰＣ（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー）により測定し、ポリスチレン換算で算出した。
・分析装置：東ソー社製、ＨＬＣ－８１２０ＧＰＣ
・データ処理装置：東ソー社製、ＧＰＣ－８０２０
・カラム：東ソー社製、Ｇ７０００ＨＸＬ－Ｈ＋ＧＭＨＸＬ＋ＧＭＨＸＬ
・カラムサイズ；各７．８ｍｍφ×３０ｃｍ（計９０ｃｍ）
・流量：０．８ｍｌ／ｍｉｎ
・注入試料濃度：約０．１重量％
・注入量：１００μｌ
・カラム温度：４０℃
・溶離液：テトラヒドロフラン
・検出器：示差屈折計（ＲＩ）
＜厚み＞
１０μｍ以下の厚みは、走査型電子顕微鏡（日本電子社製、製品名「ＪＳＭ－７１００Ｆ」）を用いて測定した。１０μｍを超える厚みは、デジタルマイクロメーター（アンリツ社製、製品名「ＫＣ－３５１Ｃ」）を用いて測定した。
＜面内位相差＞
王子計測機器社製「ＫＯＢＲＡ－ＷＰＲ」を用いて、２３℃における面内位相差を測定した。
＜線膨張係数＞
粘着剤層（厚み１ｍｍ）を約５ｍｍ角に切削したものを測定試料として用いた。測定試料を測定装置の試料台に設置して下記条件でＴＭＡ測定を行った。
・測定装置：エスアイアイ・ナノテクノロジー社製「ＴＭＡ／ＳＳ６０００」
・測定モード：圧縮膨張法
・測定荷重：９．８ｍＮ
・プローブ径：３．５ｍｍφ（圧縮膨張法）
・温度プログラム：－６０℃→２１０℃→－７０℃→２００℃
・昇温／降温速度：１０℃／ｍｉｎ
・測定雰囲気：Ｎ２（流量：２００ｍｌ／ｍｉｎ）
＜分子量の測定＞
（メタ）アクリル系ポリマーの重量平均分子量は、ＧＰＣ（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー）により測定し、ポリスチレン換算で算出した。
・分析装置：東ソー社製、ＨＬＣ－８１２０ＧＰＣ
・データ処理装置：東ソー社製、ＧＰＣ－８０２０
・カラム：東ソー社製、Ｇ７０００ＨＸＬ－Ｈ＋ＧＭＨＸＬ＋ＧＭＨＸＬ
・カラムサイズ；各７．８ｍｍφ×３０ｃｍ（計９０ｃｍ）
・流量：０．８ｍｌ／ｍｉｎ
・注入試料濃度：約０．１重量％
・注入量：１００μｌ
・カラム温度：４０℃
・溶離液：テトラヒドロフラン
・検出器：示差屈折計（ＲＩ）
【0126】
［製造例１Ａ：粘着剤層１の作製］
＜アクリル系ポリマー１＞
攪拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器を備えた４つ口フラスコに、ブチルアクリレート９２重量部、Ｎ－アクリロイルモルフォリン（ＡＣＭＯ）５重量部、アクリル酸２．９重量部、２－ヒドロキシエチルアクリレート０．１重量部、重合開始剤として２，２’－アゾビスイソブチロニトリル０．１重量部、酢酸エチル１００重量部を仕込み、緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入して窒素置換した後、フラスコ内の液温を５５℃付近に保って８時間重合反応を行い、アクリル系ポリマー１の溶液を調製した。アクリル系ポリマー１の重量平均分子量は２００万であった。
＜アクリル系ポリマー１＞
攪拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器を備えた４つ口フラスコに、ブチルアクリレート９２重量部、Ｎ－アクリロイルモルフォリン（ＡＣＭＯ）５重量部、アクリル酸２．９重量部、２－ヒドロキシエチルアクリレート０．１重量部、重合開始剤として２，２’－アゾビスイソブチロニトリル０．１重量部、酢酸エチル１００重量部を仕込み、緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入して窒素置換した後、フラスコ内の液温を５５℃付近に保って８時間重合反応を行い、アクリル系ポリマー１の溶液を調製した。アクリル系ポリマー１の重量平均分子量は２００万であった。
【0127】
＜粘着剤溶液１＞
アクリル系ポリマー１の溶液の固形分１００重量部に対して、架橋剤としてジベンゾイルパーオキシド（１分間半減期：１３０℃）０．１５重量部、およびトリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパン付加物からなるポリイソシアネート系架橋剤（日本ポリウレタン工業社製、コロネートＬ）０．６重量部を混合してアクリル系粘着剤溶液１を調製した。
アクリル系ポリマー１の溶液の固形分１００重量部に対して、架橋剤としてジベンゾイルパーオキシド（１分間半減期：１３０℃）０．１５重量部、およびトリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパン付加物からなるポリイソシアネート系架橋剤（日本ポリウレタン工業社製、コロネートＬ）０．６重量部を混合してアクリル系粘着剤溶液１を調製した。
【0128】
＜粘着剤層１＞
アクリル系粘着剤溶液１を、シリコーン処理を施したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（三菱化学ポリエステルフィルム社製、厚さ：３８μｍ）の片面に塗布し、１５０℃で３分間乾燥・架橋処理を行い、乾燥後の厚さが５μｍの粘着剤層１を形成した。
アクリル系粘着剤溶液１を、シリコーン処理を施したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（三菱化学ポリエステルフィルム社製、厚さ：３８μｍ）の片面に塗布し、１５０℃で３分間乾燥・架橋処理を行い、乾燥後の厚さが５μｍの粘着剤層１を形成した。
【0129】
［製造例１Ｂ：粘着剤層２の作製］
＜アクリル系ポリマー２＞
攪拌羽根、温度計、窒素ガス導入管および冷却器を備えた４つ口フラスコに、ブチルアクリレート９４．９重量部、アクリル酸５重量部および２－ヒドロキシエチルアクリレート０．１重量部を含有するモノマー混合物を仕込んだ。さらに、このモノマー混合物１００重量部に対して、重合開始剤としてジベンゾイルパーオキシド０．３重量部を酢酸エチルと共に仕込み、緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入してフラスコ内を窒素置換した後、フラスコ内の液温を６０℃に保って７時間重合反応を行った。次いで、得られた反応液に酢酸エチルを加えて固形分濃度３０重量％に調整して、アクリル系ポリマー２の溶液を得た。アクリル系ポリマー２の重量平均分子量は２２０万であった。
＜アクリル系ポリマー２＞
攪拌羽根、温度計、窒素ガス導入管および冷却器を備えた４つ口フラスコに、ブチルアクリレート９４．９重量部、アクリル酸５重量部および２－ヒドロキシエチルアクリレート０．１重量部を含有するモノマー混合物を仕込んだ。さらに、このモノマー混合物１００重量部に対して、重合開始剤としてジベンゾイルパーオキシド０．３重量部を酢酸エチルと共に仕込み、緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入してフラスコ内を窒素置換した後、フラスコ内の液温を６０℃に保って７時間重合反応を行った。次いで、得られた反応液に酢酸エチルを加えて固形分濃度３０重量％に調整して、アクリル系ポリマー２の溶液を得た。アクリル系ポリマー２の重量平均分子量は２２０万であった。
【0130】
＜粘着剤溶液２＞
アクリル系ポリマー２の溶液の固形分１００重量部に対して、ポリイソシアネート系架橋剤（トリメチロールプロパン／トリレンジイソシアネート付加物、日本ポリウレタン工業社製、コロネートＬ）０．６重量部およびシランカップリング剤（信越化学工業社製、ＫＢＭ４０３）０．０７５重量部を混合してアクリル系粘着剤溶液２を調製した。
アクリル系ポリマー２の溶液の固形分１００重量部に対して、ポリイソシアネート系架橋剤（トリメチロールプロパン／トリレンジイソシアネート付加物、日本ポリウレタン工業社製、コロネートＬ）０．６重量部およびシランカップリング剤（信越化学工業社製、ＫＢＭ４０３）０．０７５重量部を混合してアクリル系粘着剤溶液２を調製した。
【0131】
＜粘着剤層２＞
アクリル系粘着剤溶液２を、シリコーン処理を施したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（三菱化学ポリエステルフィルム社製、厚さ：３８μｍ）の片面に塗布し、所定の温度で乾燥させて、厚み１２μｍ、１５μｍ、または２０μｍの粘着剤層２を形成した。
アクリル系粘着剤溶液２を、シリコーン処理を施したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（三菱化学ポリエステルフィルム社製、厚さ：３８μｍ）の片面に塗布し、所定の温度で乾燥させて、厚み１２μｍ、１５μｍ、または２０μｍの粘着剤層２を形成した。
【0132】
［製造例２：偏光フィルム１の作製］
厚み３０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂フィルム（クラレ社製、製品名「ＰＥ３０００」）の長尺ロールを、ロール延伸機により長手方向に５．９倍になるように長手方向に一軸延伸しながら同時に膨潤、染色、架橋、洗浄処理を施し、最後に乾燥処理を施すことにより厚み１２μｍの吸収型偏光膜を作製した。
具体的には、膨潤処理は２０℃の純水で処理しながら２．２倍に延伸した。次いで、染色処理は得られる吸収型偏光膜の単体透過率が４５．０％になるようにヨウ素濃度が調整されたヨウ素とヨウ化カリウムの重量比が１：７である３０℃の水溶液中において処理しながら１．４倍に延伸した。更に、架橋処理は、２段階の架橋処理を採用し、１段階目の架橋処理は４０℃のホウ酸とヨウ化カリウムを溶解した水溶液において処理しながら１．２倍に延伸した。１段階目の架橋処理の水溶液のホウ酸含有量は５．０重量％で、ヨウ化カリウム含有量は３．０重量％とした。２段階目の架橋処理は６５℃のホウ酸とヨウ化カリウムを溶解した水溶液において処理しながら１．６倍に延伸した。２段階目の架橋処理の水溶液のホウ酸含有量は４．３重量％で、ヨウ化カリウム含有量は５．０重量％とした。また、洗浄処理は、２０℃のヨウ化カリウム水溶液で処理した。洗浄処理の水溶液のヨウ化カリウム含有量は２．６重量％とした。最後に、乾燥処理は７０℃で５分間乾燥させて吸収型偏光膜を得た。
得られた吸収型偏光膜の両面に、保護層としてのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）系樹脂フィルム（厚み：２２μｍ）を、紫外線硬化型接着剤を介して貼り合わせた。具体的には、紫外線硬化型接着剤の総厚みが約１μｍになるように塗工し、ロール機を使用して貼り合わせた。その後、ＵＶ光線をＴＡＣフィルム側から照射して接着剤を硬化させた。
これにより、［ＴＡＣフィルム（保護層）／吸収型偏光膜／ＴＡＣフィルム（保護層）］の構成を有する偏光フィルム１（厚み５７μｍ）を得た。
厚み３０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂フィルム（クラレ社製、製品名「ＰＥ３０００」）の長尺ロールを、ロール延伸機により長手方向に５．９倍になるように長手方向に一軸延伸しながら同時に膨潤、染色、架橋、洗浄処理を施し、最後に乾燥処理を施すことにより厚み１２μｍの吸収型偏光膜を作製した。
具体的には、膨潤処理は２０℃の純水で処理しながら２．２倍に延伸した。次いで、染色処理は得られる吸収型偏光膜の単体透過率が４５．０％になるようにヨウ素濃度が調整されたヨウ素とヨウ化カリウムの重量比が１：７である３０℃の水溶液中において処理しながら１．４倍に延伸した。更に、架橋処理は、２段階の架橋処理を採用し、１段階目の架橋処理は４０℃のホウ酸とヨウ化カリウムを溶解した水溶液において処理しながら１．２倍に延伸した。１段階目の架橋処理の水溶液のホウ酸含有量は５．０重量％で、ヨウ化カリウム含有量は３．０重量％とした。２段階目の架橋処理は６５℃のホウ酸とヨウ化カリウムを溶解した水溶液において処理しながら１．６倍に延伸した。２段階目の架橋処理の水溶液のホウ酸含有量は４．３重量％で、ヨウ化カリウム含有量は５．０重量％とした。また、洗浄処理は、２０℃のヨウ化カリウム水溶液で処理した。洗浄処理の水溶液のヨウ化カリウム含有量は２．６重量％とした。最後に、乾燥処理は７０℃で５分間乾燥させて吸収型偏光膜を得た。
得られた吸収型偏光膜の両面に、保護層としてのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）系樹脂フィルム（厚み：２２μｍ）を、紫外線硬化型接着剤を介して貼り合わせた。具体的には、紫外線硬化型接着剤の総厚みが約１μｍになるように塗工し、ロール機を使用して貼り合わせた。その後、ＵＶ光線をＴＡＣフィルム側から照射して接着剤を硬化させた。
これにより、［ＴＡＣフィルム（保護層）／吸収型偏光膜／ＴＡＣフィルム（保護層）］の構成を有する偏光フィルム１（厚み５７μｍ）を得た。
【0133】
［製造例３：λ／４部材１の作製］
撹拌翼および１００℃に制御された還流冷却器を具備した縦型反応器２器からなるバッチ重合装置を用いて重合を行った。ビス［９－（２－フェノキシカルボニルエチル）フルオレン－９－イル］メタン２９．６０質量部（０．０４６ｍｏｌ）、イソソルビド（ＩＳＢ）２９．２１質量部（０．２００ｍｏｌ）、スピログリコール（ＳＰＧ）４２．２８質量部（０．１３９ｍｏｌ）、ジフェニルカーボネート（ＤＰＣ）６３．７７質量部（０．２９８ｍｏｌ）及び触媒として酢酸カルシウム１水和物１．１９×１０－２質量部（６．７８×１０－５ｍｏｌ）を仕込んだ。反応器内を減圧窒素置換した後、熱媒で加温を行い、内温が１００℃になった時点で撹拌を開始した。昇温開始４０分後に内温を２２０℃に到達させ、この温度を保持するように制御すると同時に減圧を開始し、２２０℃に到達してから９０分で１３．３ｋＰａにした。重合反応とともに副生するフェノール蒸気を１００℃の還流冷却器に導き、フェノール蒸気中に若干量含まれるモノマー成分を反応器に戻し、凝縮しないフェノール蒸気は４５℃の凝縮器に導いて回収した。第１反応器に窒素を導入して一旦大気圧まで復圧させた後、第１反応器内のオリゴマー化された反応液を第２反応器に移した。次いで、第２反応器内の昇温および減圧を開始して、５０分で内温２４０℃、圧力０．２ｋＰａにした。その後、所定の攪拌動力となるまで重合を進行させた。所定動力に到達した時点で反応器に窒素を導入して復圧し、生成したポリエステルカーボネート系樹脂を水中に押し出し、ストランドをカッティングしてペレットを得た。
撹拌翼および１００℃に制御された還流冷却器を具備した縦型反応器２器からなるバッチ重合装置を用いて重合を行った。ビス［９－（２－フェノキシカルボニルエチル）フルオレン－９－イル］メタン２９．６０質量部（０．０４６ｍｏｌ）、イソソルビド（ＩＳＢ）２９．２１質量部（０．２００ｍｏｌ）、スピログリコール（ＳＰＧ）４２．２８質量部（０．１３９ｍｏｌ）、ジフェニルカーボネート（ＤＰＣ）６３．７７質量部（０．２９８ｍｏｌ）及び触媒として酢酸カルシウム１水和物１．１９×１０－２質量部（６．７８×１０－５ｍｏｌ）を仕込んだ。反応器内を減圧窒素置換した後、熱媒で加温を行い、内温が１００℃になった時点で撹拌を開始した。昇温開始４０分後に内温を２２０℃に到達させ、この温度を保持するように制御すると同時に減圧を開始し、２２０℃に到達してから９０分で１３．３ｋＰａにした。重合反応とともに副生するフェノール蒸気を１００℃の還流冷却器に導き、フェノール蒸気中に若干量含まれるモノマー成分を反応器に戻し、凝縮しないフェノール蒸気は４５℃の凝縮器に導いて回収した。第１反応器に窒素を導入して一旦大気圧まで復圧させた後、第１反応器内のオリゴマー化された反応液を第２反応器に移した。次いで、第２反応器内の昇温および減圧を開始して、５０分で内温２４０℃、圧力０．２ｋＰａにした。その後、所定の攪拌動力となるまで重合を進行させた。所定動力に到達した時点で反応器に窒素を導入して復圧し、生成したポリエステルカーボネート系樹脂を水中に押し出し、ストランドをカッティングしてペレットを得た。
【0134】
得られたポリエステルカーボネート系樹脂（ペレット）を８０℃で５時間真空乾燥をした後、単軸押出機（東芝機械社製、シリンダー設定温度：２５０℃）、Ｔダイ（幅２００ｍｍ、設定温度：２５０℃）、チルロール（設定温度：１２０～１３０℃）および巻取機を備えたフィルム製膜装置を用いて、厚み１３５μｍの長尺状の樹脂フィルムを作製した。得られた長尺状の樹脂フィルムを、幅方向に、延伸温度１４３℃、延伸倍率２．８倍で延伸した。これにより、厚み５１μｍの延伸フィルム（λ／４部材１）を得た。λ／４部材１のＲｅ（５９０）は１４３ｎｍであり、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８６であり、Ｎｚ係数は１．１２であった。
【0135】
［製造例４：保護部材１の作製］
ラクトン環構造を有するアクリルフィルムに、下記に示すハードコート層形成用材料を塗布し、塗布層を乾燥させて厚み０．５μｍのハードコート層を形成した。次いで、ハードコート層表面に下記に示す反射防止層形成材料を塗布して８０℃で１分間加熱し、加熱後の塗布層に高圧水銀ランプにて積算光量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚み０．１μｍの反射防止層を形成した。これにより、［アクリルフィルム／ハードコート層／反射防止層］の構成を有する保護部材１（厚み４４μｍ）を得た。
ラクトン環構造を有するアクリルフィルムに、下記に示すハードコート層形成用材料を塗布し、塗布層を乾燥させて厚み０．５μｍのハードコート層を形成した。次いで、ハードコート層表面に下記に示す反射防止層形成材料を塗布して８０℃で１分間加熱し、加熱後の塗布層に高圧水銀ランプにて積算光量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚み０．１μｍの反射防止層を形成した。これにより、［アクリルフィルム／ハードコート層／反射防止層］の構成を有する保護部材１（厚み４４μｍ）を得た。
【0136】
（ハードコート層形成用材料）
アクリル系樹脂原料（大日本インキ社製、商品名：ＧＲＡＮＤＩＣ ＰＣ１０７１）に、レベリング剤０．５重量％を加え、さらに、固形分濃度が５０重量％となるように酢酸エチルで希釈することにより、ハードコート層形成用材料を調製した。なお、レベリング剤は、ジメチルシロキサン：ヒドロキシプロピルシロキサン：６－イソシアネートヘキシルイソシアヌル酸：脂肪族ポリエステル＝６．３：１．０：２．２：１．０のモル比で共重合させた共重合物である。
アクリル系樹脂原料（大日本インキ社製、商品名：ＧＲＡＮＤＩＣ ＰＣ１０７１）に、レベリング剤０．５重量％を加え、さらに、固形分濃度が５０重量％となるように酢酸エチルで希釈することにより、ハードコート層形成用材料を調製した。なお、レベリング剤は、ジメチルシロキサン：ヒドロキシプロピルシロキサン：６－イソシアネートヘキシルイソシアヌル酸：脂肪族ポリエステル＝６．３：１．０：２．２：１．０のモル比で共重合させた共重合物である。
【0137】
（反射防止層形成材料）
ペンタエリストールトリアクリレートを主成分とする多官能アクリレート（大阪有機化学工業株式会社製、商品名「ビスコート＃３００」、固形分１００重量％）１００重量部、中空ナノシリカ粒子（日揮触媒化成工業株式会社製、商品名「スルーリア５３２０」、固形分２０重量％、重量平均粒子径７５ｎｍ）１００重量部、中実ナノシリカ粒子（日産化学工業株式会社製、商品名「ＭＥＫ－２１４０Ｚ－ＡＣ」、固形分３０重量％、重量平均粒子径１０ｎｍ）、フッ素含有添加剤（信越化学工業株式会社製、商品名「ＫＹ－１２０３」、固形分２０重量％）１２重量部、および光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名「ＯＭＮＩＲＡＤ９０７」、固形分１００重量％）３重量部を混合した。その混合物に、ターシャリーブチルアルコール、メチルイソブチルケトンおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを６０：２５：１５重量比で混合した混合溶媒を添加し、全体の固形分が４重量％となるようにし、攪拌して反射防止層形成材料を調製した。
ペンタエリストールトリアクリレートを主成分とする多官能アクリレート（大阪有機化学工業株式会社製、商品名「ビスコート＃３００」、固形分１００重量％）１００重量部、中空ナノシリカ粒子（日揮触媒化成工業株式会社製、商品名「スルーリア５３２０」、固形分２０重量％、重量平均粒子径７５ｎｍ）１００重量部、中実ナノシリカ粒子（日産化学工業株式会社製、商品名「ＭＥＫ－２１４０Ｚ－ＡＣ」、固形分３０重量％、重量平均粒子径１０ｎｍ）、フッ素含有添加剤（信越化学工業株式会社製、商品名「ＫＹ－１２０３」、固形分２０重量％）１２重量部、および光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名「ＯＭＮＩＲＡＤ９０７」、固形分１００重量％）３重量部を混合した。その混合物に、ターシャリーブチルアルコール、メチルイソブチルケトンおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを６０：２５：１５重量比で混合した混合溶媒を添加し、全体の固形分が４重量％となるようにし、攪拌して反射防止層形成材料を調製した。
【0138】
［実施例１］
偏光フィルム１の一方の面に粘着剤層１（厚み５μｍ）をＰＥＴフィルムごと貼り合わせ、他方の面に別の粘着剤層１（厚み５μｍ）をＰＥＴフィルムから転写し、その上にλ／４部材１を貼り合わせた。このとき、吸収型偏光膜の吸収軸とλ／４部材１の遅相軸とのなす角度が４５°となるように配置した。
次いで、λ／４部材１の表面に別の粘着剤層１（厚み５μｍ）をＰＥＴフィルムから転写し、その上に保護部材１を貼り合わせた。このとき、保護部材１のアクリルフィルム側表面がλ／４部材１側になるように（換言すると、表面処理層が最表面となるように）貼り合わせた。
以上のようにして、［はく離ライナー（ＰＥＴフィルム）／粘着剤層１／偏光フィルム１／粘着剤層１／λ／４部材１／粘着剤層１／保護部材１］の構成を有する光学積層体を得た。
偏光フィルム１の一方の面に粘着剤層１（厚み５μｍ）をＰＥＴフィルムごと貼り合わせ、他方の面に別の粘着剤層１（厚み５μｍ）をＰＥＴフィルムから転写し、その上にλ／４部材１を貼り合わせた。このとき、吸収型偏光膜の吸収軸とλ／４部材１の遅相軸とのなす角度が４５°となるように配置した。
次いで、λ／４部材１の表面に別の粘着剤層１（厚み５μｍ）をＰＥＴフィルムから転写し、その上に保護部材１を貼り合わせた。このとき、保護部材１のアクリルフィルム側表面がλ／４部材１側になるように（換言すると、表面処理層が最表面となるように）貼り合わせた。
以上のようにして、［はく離ライナー（ＰＥＴフィルム）／粘着剤層１／偏光フィルム１／粘着剤層１／λ／４部材１／粘着剤層１／保護部材１］の構成を有する光学積層体を得た。
【0139】
［実施例２、比較例１－２］
３つの粘着剤層１の１つ以上を粘着剤層２に変えたこと以外は実施例１と同様にして光学積層体を得た。各光学積層体の構成を表１に示す。また、粘着剤層１および２の線膨張係数（Ｎ＝２の平均値）を表２に示す。
３つの粘着剤層１の１つ以上を粘着剤層２に変えたこと以外は実施例１と同様にして光学積層体を得た。各光学積層体の構成を表１に示す。また、粘着剤層１および２の線膨張係数（Ｎ＝２の平均値）を表２に示す。
【0140】
＜湿熱試験＞
実施例および比較例で得た光学積層体からはく離ライナーを剥離し、露出した粘着剤層を介してガラス板に貼り合わせて試験サンプルを得た。試験サンプルを６５℃９０ＲＨ％の湿熱オーブン内に２４０時間放置した。試験前、１２０時間または２４０時間放置した光学積層体の面内位相差を測定した。面内位相差の測定は、オーブンから試験サンプルを取り出し、ガラス板側から測定光を照射して行った。結果を表１および図３に示す。なお、表１中、位相差変化は、試験前の光学積層体のＲｅ（５９０）ｂｅｆｏｒｅと２４０時間放置後の光学積層体のＲｅ（５９０）ａｆｔｅｒとの差（Ｒｅ（５９０）ｂｅｆｏｒｅ－Ｒｅ（５９０）ａｆｔｅｒ）を表す。
実施例および比較例で得た光学積層体からはく離ライナーを剥離し、露出した粘着剤層を介してガラス板に貼り合わせて試験サンプルを得た。試験サンプルを６５℃９０ＲＨ％の湿熱オーブン内に２４０時間放置した。試験前、１２０時間または２４０時間放置した光学積層体の面内位相差を測定した。面内位相差の測定は、オーブンから試験サンプルを取り出し、ガラス板側から測定光を照射して行った。結果を表１および図３に示す。なお、表１中、位相差変化は、試験前の光学積層体のＲｅ（５９０）ｂｅｆｏｒｅと２４０時間放置後の光学積層体のＲｅ（５９０）ａｆｔｅｒとの差（Ｒｅ（５９０）ｂｅｆｏｒｅ－Ｒｅ（５９０）ａｆｔｅｒ）を表す。
【0141】
【表1】
【0142】
【表2】
【0143】
表１および表２に示されるとおり、合計３つの粘着剤層のうち２つ以上の粘着剤層が０．８≦α１／α２≦１．２の関係を満たす実施例の光学積層体は、湿熱条件下での光学特性の安定性に優れる。
【0144】
本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、上記実施形態で示した構成と実質的に同一の構成、同一の作用効果を奏する構成または同一の目的を達成することができる構成で置き換えることができる。
【産業上の利用可能性】
【0145】
本発明の実施形態に係る光学積層体は、例えば、ＶＲゴーグル等のディスプレイ付きゴーグルの製造に用いられ得る。
【符号の説明】
【0146】
２ 表示システム
４ レンズ部
１０ 偏光部材
１２ 表示素子
１４ 反射型偏光部材
１６ 第一レンズ部
１８ ハーフミラー
２０ 第一位相差部材
２２ 第二位相差部材
２４ 第二レンズ部
１００ 光学積層体
４ レンズ部
１０ 偏光部材
１２ 表示素子
１４ 反射型偏光部材
１６ 第一レンズ部
１８ ハーフミラー
２０ 第一位相差部材
２２ 第二位相差部材
２４ 第二レンズ部
１００ 光学積層体
【図1A】
【図1B】
【図2】
【図3】
