特開2024-95714ディーゼルエンジンの排気ガスを処理するためのＳＣＲ触媒
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024095714
(43)【公開日】2024-07-10
(54)【発明の名称】ディーゼルエンジンの排気ガスを処理するためのＳＣＲ触媒
(51)【国際特許分類】
B01J 29/76 20060101AFI20240703BHJP
B01J 37/02 20060101ALI20240703BHJP
B01D 53/94 20060101ALI20240703BHJP
F01N 3/28 20060101ALI20240703BHJP
【ＦＩ】
B01J29/76 A ZAB
B01J37/02 301L
B01D53/94 222
F01N3/28 301C
【審査請求】有
【請求項の数】18
【出願形態】ＯＬ
【外国語出願】
(21)【出願番号】P 2024053063
(22)【出願日】2024-03-28
(62)【分割の表示】P 2021504248の分割
【原出願日】2019-07-24
(31)【優先権主張番号】18185261.7
(32)【優先日】2018-07-24
(33)【優先権主張国・地域又は機関】EP
(71)【出願人】
【識別番号】505470786
【氏名又は名称】ビーエーエスエフ コーポレーション
(74)【代理人】
【識別番号】100100354
【弁理士】
【氏名又は名称】江藤 聡明
(72)【発明者】
【氏名】ヒュンネケス，エドガー フィクトール
(72)【発明者】
【氏名】ベアード，ケヴィン
(72)【発明者】
【氏名】コルデス，ペトラ
(72)【発明者】
【氏名】ヴォルフ，リュディガー
(72)【発明者】
【氏名】ベッカー，ヤン マルティン
【テーマコード（参考）】
3G091
4D148
4G169
【Ｆターム（参考）】
3G091AA18
3G091AB05
3G091BA14
3G091GB02X
3G091GB06W
3G091GB07W
3G091GB09X
3G091GB17X
4D148AA07
4D148AB02
4D148BA03X
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4G169AA03
4G169BA01A
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4G169BA04A
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4G169BA05B
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4G169BA07A
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4G169BA13B
4G169BA21C
4G169BB04A
4G169BB04B
4G169BC31A
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4G169BC54A
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4G169BC60A
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4G169BC66A
4G169BE08C
4G169CA08
4G169CA13
4G169DA06
4G169EB12Y
4G169EB14Y
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4G169EC22Y
4G169EC28
4G169EE09
4G169FB15
4G169FB30
4G169FC05
4G169FC08
4G169FC09
4G169ZA07A
4G169ZA14A
4G169ZA14B
4G169ZA32A
4G169ZC04
4G169ZF04A
4G169ZF04B
(57)【要約】 （修正有）
【課題】低いＮ２Ｏ形成を示し、硫黄耐性が高い一方で、低温で優れたｄｅＮＯｘを達成するディーゼルエンジン排気ガス処理用選択的接触還元触媒、排気ガス処理システム、及び前記触媒の製造方法を提供する。
【解決手段】フロースルー基材の内壁の表面に適用された第１コーティングであって、基材軸方向長さの４０～１００％にわたって延び、銅及び鉄の１つ以上を含む８員環の多孔性ゼオライト材料を含む第１コーティングと、前記基材軸方向長さの２０～１００％にわたって延びる、少なくとも７５質量％がチタニアからなり、０～０．０１質量％が、Ｖ２Ｏ５として計算される１種以上の酸化バナジウムからなる、第２コーティングとを含む選択的接触還元触媒である。
【選択図】なし
【解決手段】フロースルー基材の内壁の表面に適用された第１コーティングであって、基材軸方向長さの４０～１００％にわたって延び、銅及び鉄の１つ以上を含む８員環の多孔性ゼオライト材料を含む第１コーティングと、前記基材軸方向長さの２０～１００％にわたって延びる、少なくとも７５質量％がチタニアからなり、０～０．０１質量％が、Ｖ２Ｏ５として計算される１種以上の酸化バナジウムからなる、第２コーティングとを含む選択的接触還元触媒である。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
ディーゼルエンジンの排気ガスを処理するための選択的接触還元触媒であって、
（ｉ）入口端部、出口端部、前記入口端部から前記出口端部まで延びる基材軸方向長さ、及びそれを通って延びるフロースルー基材の内壁によって規定される複数の通路を含む、フロースルー基材；
（ｉｉ）前記内壁と前記通路との間の界面を規定する前記基材の前記内壁の表面に適用された第１コーティングであって、前記第１コーティングが前記基材軸方向長さの４０～１００％にわたって延び、前記第１コーティングが銅及び鉄の１つ以上を含む８員環の多孔性ゼオライト材料を含む、第１コーティング；
（ｉｉｉ）前記基材軸方向長さの２０～１００％にわたって延びる第２コーティングであって、前記第２コーティングがチタニアを含む第１酸化物材料を含み、前記第２コーティングの少なくとも７５質量％が、ＴｉＯ２として計算されるチタニアからなり、前記第２コーティングの０～０．０１質量％が、Ｖ２Ｏ５として計算される１種以上の酸化バナジウムからなる、第２コーティング
を含む、選択的接触還元触媒。
（ｉ）入口端部、出口端部、前記入口端部から前記出口端部まで延びる基材軸方向長さ、及びそれを通って延びるフロースルー基材の内壁によって規定される複数の通路を含む、フロースルー基材；
（ｉｉ）前記内壁と前記通路との間の界面を規定する前記基材の前記内壁の表面に適用された第１コーティングであって、前記第１コーティングが前記基材軸方向長さの４０～１００％にわたって延び、前記第１コーティングが銅及び鉄の１つ以上を含む８員環の多孔性ゼオライト材料を含む、第１コーティング；
（ｉｉｉ）前記基材軸方向長さの２０～１００％にわたって延びる第２コーティングであって、前記第２コーティングがチタニアを含む第１酸化物材料を含み、前記第２コーティングの少なくとも７５質量％が、ＴｉＯ２として計算されるチタニアからなり、前記第２コーティングの０～０．０１質量％が、Ｖ２Ｏ５として計算される１種以上の酸化バナジウムからなる、第２コーティング
を含む、選択的接触還元触媒。
【請求項2】
（ｉｉ）による前記第１コーティングは、前記基材軸方向長さの７５～１００％にわたって、好ましくは前記基材の前記入口端部から前記出口端部に向かって、又は好ましくは前記基材の前記出口端部から前記入口端部に向かって延びる、請求項１に記載の選択的接触還元触媒。
【請求項3】
（ｉｉｉ）による前記第２コーティングは、前記基材軸方向長さの７５～１００％にわたって、好ましくは前記基材の前記入口端部から前記出口端部に向かって延びる、請求項１又は２に記載の選択的接触還元触媒。
【請求項4】
（ｉｉｉ）による前記第２コーティングは、（ｉｉ）による前記第１コーティング上に適用される、請求項１から３のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【請求項5】
前記第１コーティングに含有される前記８員環の多孔性ゼオライト材料は、ＣＨＡ、ＡＥＩ、ＲＴＨ、ＬＥＶ、ＤＤＲ、ＫＦＩ、ＥＲＩ、ＡＦＸ、それらの２種以上の混合物、及びそれらの２種以上の混合型からなる群から選択される、好ましくはＣＨＡ、ＡＥＩ、ＲＴＨ、それらの２種以上の混合物、及びそれらの２種以上の混合型からなる群から選択される、より好ましくはＣＨＡ及びＡＥＩからなる群から選択される骨格型を有し、より好ましくは、前記第１コーティングに含有される前記８員環の多孔性ゼオライト材料は骨格型ＣＨＡを有し、
前記８員環の多孔性ゼオライト材料は、より好ましくはゼオライトＳＳＺ－１３である、請求項１から４のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
前記８員環の多孔性ゼオライト材料は、より好ましくはゼオライトＳＳＺ－１３である、請求項１から４のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【請求項6】
前記第１コーティングに含有される前記ゼオライト材料は銅を含み、ＣｕＯとして計算される前記ゼオライト材料における銅の量は、前記ゼオライト材料の総質量に基づいて、好ましくは０．１～１０質量％の範囲、より好ましくは１．５～５．５質量％の範囲、より好ましくは２．５～４．５質量％の範囲、より好ましくは３．０～４．０質量％の範囲、より好ましくは３．０～３．５質量％の範囲である、請求項１から５のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【請求項7】
前記第１コーティングに含有される前記ゼオライト材料の前記骨格構造において、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３のモル比として計算される、ＳｉとＡｌのモル比は、好ましくは２：１～５０：１の範囲、より好ましくは２：１～４５：１の範囲である、請求項１から６のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【請求項8】
前記第１コーティングは酸化物バインダーをさらに含み、前記触媒において、前記第１コーティングは、好ましくは０．０５～０．１５ｇ／ｉｎ３の範囲、好ましくは０．０８～０．１４ｇ／ｉｎ３の範囲の装填量で前記酸化物バインダーを含む、請求項１から７のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【請求項9】
前記第１コーティングの、０～０．０１質量％、好ましくは０～０．００１質量％、より好ましくは０～０．０００１質量％はチタニアからなり、より好ましくは、前記第１コーティングはチタニアを含まない、請求項１から８のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【請求項10】
前記第２コーティングの前記第１酸化物材料に含まれるチタニアは、正方晶系及び斜方晶系の１つ以上、好ましくは正方晶系、より好ましくはルチル及びアナターゼ構造の１つ以上、より好ましくはアナターゼ構造を有する、請求項１から９のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【請求項11】
前記第２コーティングの前記第１酸化物材料は、酸化セリウム、酸化マグネシウム、酸化ニオブ、酸化ケイ素及び酸化タングステンの１つ以上、好ましくは酸化セリウム及び酸化タングステンの１つ以上をさらに含む、請求項１から１０のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【請求項12】
前記第２コーティングは、シリカ、アルミナ、ジルコニア及びセリアの１つ以上、好ましくはシリカ及びアルミナの１つ以上を含む第２酸化物材料をさらに含む、請求項１から１１のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【請求項13】
前記触媒において、前記第１コーティングは総装填量（ｌ１）を有し、前記第２コーティングは総装填量（ｌ２）を有し、前記第１コーティングの総装填量の前記第２コーティングの総装填量に対する比、（ｌ１）：（ｌ２）は、０．５：１～５：１の範囲、好ましくは０．７５：１～３：１の範囲、より好ましくは１：１～２：１の範囲である、請求項１から１２のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【請求項14】
ディーゼルエンジンから出る排気ガス流を処理するための排気ガス処理システムであって、前記排気ガス処理システムは前記排気ガス流を前記排気ガス処理システムに導入するための上流端部を有し、前記排気ガス処理システムは、
（Ａ）ディーゼル酸化触媒（ＤＯＣ）であって、前記ディーゼル酸化触媒が基材に適用されたコーティングを含み、前記コーティングが、好ましくは、酸化物材料に担持されている、パラジウム、白金及びロジウムの１つ以上、より好ましくはパラジウム及び白金、より好ましくは白金を含む、ディーゼル酸化触媒（ＤＯＣ）、
（Ｂ）１つ以上の請求項１から１３のいずれか一項に記載の選択的接触還元（ＳＣＲ）触媒
を含み、
（Ａ）による前記ディーゼル酸化触媒は、（Ｂ）による前記１つ以上の選択的接触還元触媒の上流に配置され、好ましくは、（Ａ）による前記ディーゼル酸化触媒が、前記排気ガス処理システムの一番目の触媒であり、前記排気ガス処理システムの前記上流端部の下流に配置され、
前記排気ガス処理システムが、任意に、（Ａ）による前記ディーゼル酸化触媒の下流及び（Ｂ）による前記１つ以上の選択的接触還元触媒の上流に配置される、フィルター、好ましくは触媒付すすフィルターをさらに含む、排気ガス処理システム。
（Ａ）ディーゼル酸化触媒（ＤＯＣ）であって、前記ディーゼル酸化触媒が基材に適用されたコーティングを含み、前記コーティングが、好ましくは、酸化物材料に担持されている、パラジウム、白金及びロジウムの１つ以上、より好ましくはパラジウム及び白金、より好ましくは白金を含む、ディーゼル酸化触媒（ＤＯＣ）、
（Ｂ）１つ以上の請求項１から１３のいずれか一項に記載の選択的接触還元（ＳＣＲ）触媒
を含み、
（Ａ）による前記ディーゼル酸化触媒は、（Ｂ）による前記１つ以上の選択的接触還元触媒の上流に配置され、好ましくは、（Ａ）による前記ディーゼル酸化触媒が、前記排気ガス処理システムの一番目の触媒であり、前記排気ガス処理システムの前記上流端部の下流に配置され、
前記排気ガス処理システムが、任意に、（Ａ）による前記ディーゼル酸化触媒の下流及び（Ｂ）による前記１つ以上の選択的接触還元触媒の上流に配置される、フィルター、好ましくは触媒付すすフィルターをさらに含む、排気ガス処理システム。
【請求項15】
ディーゼルエンジンから出る排気ガス流を処理するための排気ガス処理システムであって、前記排気ガス処理システムは前記排気ガス流を前記排気ガス処理システムに導入するための上流端部を有し、前記排気ガス処理システムは、請求項１から１３のいずれか一項に記載の第１選択的接触還元触媒、並びに、ディーゼル酸化触媒、第２選択的接触還元触媒、アンモニア酸化触媒及びフィルターの１つ以上を含み、
前記ディーゼル酸化触媒、第２選択的接触還元触媒、アンモニア酸化触媒及びフィルターの１つ以上は、前記第１選択的接触還元触媒の下流に配置され、好ましくは、前記第１選択的接触還元触媒は、前記排気ガス処理システムの一番目の触媒であり、前記排気ガス処理システムの前記上流端部の下流に配置され、
好ましくは、前記排気ガス処理システムは、前記第１選択的接触還元触媒、及び前記選択的接触還元触媒の下流に配置される、フィルター、より好ましくは触媒付パティキュレートフィルターを含むか、又は
好ましくは、前記排気ガス処理システムは、前記第１選択的接触還元触媒、ディーゼル酸化触媒、及びフィルター、より好ましくは触媒付パティキュレートフィルターを含み、前記ディーゼル酸化触媒は、前記選択的接触還元触媒の下流及び前記フィルターの上流に配置される、排気ガス処理システム。
前記ディーゼル酸化触媒、第２選択的接触還元触媒、アンモニア酸化触媒及びフィルターの１つ以上は、前記第１選択的接触還元触媒の下流に配置され、好ましくは、前記第１選択的接触還元触媒は、前記排気ガス処理システムの一番目の触媒であり、前記排気ガス処理システムの前記上流端部の下流に配置され、
好ましくは、前記排気ガス処理システムは、前記第１選択的接触還元触媒、及び前記選択的接触還元触媒の下流に配置される、フィルター、より好ましくは触媒付パティキュレートフィルターを含むか、又は
好ましくは、前記排気ガス処理システムは、前記第１選択的接触還元触媒、ディーゼル酸化触媒、及びフィルター、より好ましくは触媒付パティキュレートフィルターを含み、前記ディーゼル酸化触媒は、前記選択的接触還元触媒の下流及び前記フィルターの上流に配置される、排気ガス処理システム。
【請求項16】
選択的接触還元触媒、好ましくは請求項１から１３のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒を製造する方法であって、
（ａ）銅及び鉄の１つ以上を含む８員環の多孔性ゼオライト材料の源、及び水を含む第１スラリーを製造する工程と、
（ｂ）基材軸方向長さの４０～１００％にわたってフロースルー基材の内壁の表面に工程（ａ）で得られた前記第１スラリーを適用して、スラリー処理基材を得る工程であって、前記フロースルー基材が、入口端部、出口端部、前記入口端部から前記出口端部まで延びる基材軸方向長さ、及びそれを通って延びる基材の内壁によって規定される複数の通路を含み、前記基材の前記内壁の表面が前記内壁と前記通路との間の界面を規定する、工程と、
（ｃ）工程（ｂ）で得られた前記スラリー処理基材を乾燥させて、それに適用された第１コーティングを有する基材を得る工程と、
（ｄ）任意に、工程（ｃ）で得られたそれに適用された第１コーティングを有する前記基材をか焼する工程と、
（ｅ）チタニアを含む第１酸化物材料、及び水を含む第２スラリーを製造する工程であって、前記第１酸化物材料が任意に、酸化セリウム、酸化マグネシウム、酸化ニオブ、酸化ケイ素及び酸化タングステンの１つ以上、好ましくは酸化タングステンを含み、前記第２スラリーが、好ましくは第２酸化物材料を含む、工程と、
（ｆ）前記基材軸方向長さの２０～１００％にわたって、好ましくは前記基材の前記入口端部から前記基材の前記出口端部に向かって、工程（ｅ）で得られた前記第２スラリーを、工程（ｃ）で得られた、任意に工程（ｄ）で得られたそれに適用された第１コーティングを有する前記基材に適用して、スラリー処理基材を得る工程と、
（ｇ）工程（ｆ）で得られた前記スラリー処理基材を乾燥させて、それに適用された第１コーティング及び第２コーティングを有する基材を得る工程と、
（ｈ）工程（ｇ）で得られたそれに適用された第１コーティング及び第２コーティングを有する前記基材をか焼して、選択的接触還元触媒を得る工程であって、前記第２コーティングの０～０．０１質量％が、Ｖ２Ｏ５として計算される１種以上の酸化バナジウムからなり、前記第２コーティングの少なくとも７５質量％が、ＴｉＯ２として計算されるチタニアからなる、工程と
を含む、方法。
（ａ）銅及び鉄の１つ以上を含む８員環の多孔性ゼオライト材料の源、及び水を含む第１スラリーを製造する工程と、
（ｂ）基材軸方向長さの４０～１００％にわたってフロースルー基材の内壁の表面に工程（ａ）で得られた前記第１スラリーを適用して、スラリー処理基材を得る工程であって、前記フロースルー基材が、入口端部、出口端部、前記入口端部から前記出口端部まで延びる基材軸方向長さ、及びそれを通って延びる基材の内壁によって規定される複数の通路を含み、前記基材の前記内壁の表面が前記内壁と前記通路との間の界面を規定する、工程と、
（ｃ）工程（ｂ）で得られた前記スラリー処理基材を乾燥させて、それに適用された第１コーティングを有する基材を得る工程と、
（ｄ）任意に、工程（ｃ）で得られたそれに適用された第１コーティングを有する前記基材をか焼する工程と、
（ｅ）チタニアを含む第１酸化物材料、及び水を含む第２スラリーを製造する工程であって、前記第１酸化物材料が任意に、酸化セリウム、酸化マグネシウム、酸化ニオブ、酸化ケイ素及び酸化タングステンの１つ以上、好ましくは酸化タングステンを含み、前記第２スラリーが、好ましくは第２酸化物材料を含む、工程と、
（ｆ）前記基材軸方向長さの２０～１００％にわたって、好ましくは前記基材の前記入口端部から前記基材の前記出口端部に向かって、工程（ｅ）で得られた前記第２スラリーを、工程（ｃ）で得られた、任意に工程（ｄ）で得られたそれに適用された第１コーティングを有する前記基材に適用して、スラリー処理基材を得る工程と、
（ｇ）工程（ｆ）で得られた前記スラリー処理基材を乾燥させて、それに適用された第１コーティング及び第２コーティングを有する基材を得る工程と、
（ｈ）工程（ｇ）で得られたそれに適用された第１コーティング及び第２コーティングを有する前記基材をか焼して、選択的接触還元触媒を得る工程であって、前記第２コーティングの０～０．０１質量％が、Ｖ２Ｏ５として計算される１種以上の酸化バナジウムからなり、前記第２コーティングの少なくとも７５質量％が、ＴｉＯ２として計算されるチタニアからなる、工程と
を含む、方法。
【請求項17】
工程（ａ）は、
（ａ．１）酸化物バインダー、好ましくはジルコニルアセテートを、銅及び鉄の１つ以上を含む８員環の多孔性ゼオライト材料及び水と混合して、第１スラリーを得ることと、
（ａ．２）３～１５マイクロメーターの範囲、好ましくは５～１３マイクロメーターの範囲、より好ましくは８～１２マイクロメーターの範囲の粒径Ｄｖ９０に、（ａ．１）で得られた前記第１スラリーを粉砕することと
を含む、請求項１６に記載の方法。
（ａ．１）酸化物バインダー、好ましくはジルコニルアセテートを、銅及び鉄の１つ以上を含む８員環の多孔性ゼオライト材料及び水と混合して、第１スラリーを得ることと、
（ａ．２）３～１５マイクロメーターの範囲、好ましくは５～１３マイクロメーターの範囲、より好ましくは８～１２マイクロメーターの範囲の粒径Ｄｖ９０に、（ａ．１）で得られた前記第１スラリーを粉砕することと
を含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項18】
工程（ｅ）は、
（ｅ．１）チタニアを含み、任意に酸化セリウム、酸化マグネシウム、酸化ニオブ、酸化ケイ素及び酸化タングステンの１つ以上、好ましくは酸化タングステンを含む第１酸化物材料を、好ましくはアルミナ及びシリカの１つ以上を含む第２酸化物材料、有機分散剤及び水と混合することと、
（ｅ．２）水酸化アンモニウム溶液の添加により、ｐＨを、３．０～７．０の範囲、好ましくは５．０～６．０の範囲の値に調整して、第２スラリーを得ることと、
を含む、請求項１６又は１７に記載の方法。
（ｅ．１）チタニアを含み、任意に酸化セリウム、酸化マグネシウム、酸化ニオブ、酸化ケイ素及び酸化タングステンの１つ以上、好ましくは酸化タングステンを含む第１酸化物材料を、好ましくはアルミナ及びシリカの１つ以上を含む第２酸化物材料、有機分散剤及び水と混合することと、
（ｅ．２）水酸化アンモニウム溶液の添加により、ｐＨを、３．０～７．０の範囲、好ましくは５．０～６．０の範囲の値に調整して、第２スラリーを得ることと、
を含む、請求項１６又は１７に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、Ｃｕ及びＦｅの１つ以上を含むゼオライト材料を含む第１コーティング、及びチタニアを含む第２コーティングを含む、ディーゼルエンジンの排気ガスを処理するための選択的接触還元触媒に関する。本発明はさらに、当該選択的接触還元触媒を含む排気ガスを処理するシステムに、この選択的接触還元触媒の製造方法に関する。さらに、本発明は、この選択的接触還元触媒及び当該システムの使用に、及びこの選択的接触還元触媒及び当該システムの使用方法に関する。
【背景技術】
【0002】
Ｙｉｓｕｎ Ｃｈｅｎｇら，ディーゼルＳＣＲ触媒の耐硫黄性及びＤｅＳＯｘ研究，ＳＡＥ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｊｏｕｒｎａｌ Ｆｕｅｌｓ ａｎｄ Ｌｕｂｒｉｃａｎｔｓ １（１)，４７１～４７６頁，２００８年（非特許文献１）は、卑金属含有ゼオライト材料、特にＦｅ－ゼオライト及びＣｕ含有ゼオライトを含む触媒に対する硫黄被毒の影響を開示している。硫黄の影響は、特に３００℃未満の温度で、鉄含有ゼオライトよりも銅含有ゼオライトに対してより顕著であることが実証されている。
【0003】
Ｋｒｉｓｈｎａ Ｋａｍａｓａｍｕｄｒａｍら，ディーゼル後処理システムにおけるＮ２Ｏの形成及び緩和，Ｃｕｍｍｉｎｓ Ｉｎｃ．，ＳＡＥ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｊｏｕｒｎａｌ Ｅｎｇｉｎｅｓ ５（２），６８８～６９８頁，２０１２年（非特許文献２）は、触媒とのＳＣＲ反応中の亜酸化窒素（Ｎ２Ｏ）の形成、及び銅含有触媒及びバナジウムベース触媒などのさまざまなＳＣＲ触媒を使用したその可能な制御を研究した。
【0004】
Ａｓｈｏｋ Ｋｕｍａｒら，ゼオライトベースのＳＣＲ触媒の触媒機能及び硫酸化挙動に及ぼす遷移金属イオン特性の影響，ＳＡＥ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｊｏｕｒｎａｌ Ｅｎｇｉｎｅｓ １０（４），１６０４～１６１２頁，２０１７年（非特許文献３）は、銅含有ＢＥＡゼオライト材料、鉄含有ＢＥＡゼオライト材料及びＨ型ＢＥＡゼオライト材料を開示している。これらの材料がテストされ、銅含有ＢＥＡゼオライト材料が、標準及び高速なＳＣＲ反応下でより高いＮ２Ｏ形成を示すことがわかった。したがって、銅含有ゼオライトだけでは、亜酸化窒素（Ｎ２Ｏ）排出を少なくすることができないことが実証されている。
【0005】
ＵＳ５０４７３７８Ｂ（特許文献１）は、定置型発電市場向けの触媒を記載している。ＮＨ３－ＳＣＲに加えて、ＣＯ酸化にも重点が置かれている。当該文献は、チタニア担持のＣｕ又はＣｏ粒子とＣｕ－ゼオライトとの混合物を開示している。ＣＮ１０５９４４７５５ Ａ（特許文献２）は、硫酸化に対する保護を提供するための、Ｃｕ－ＳＡＰＯでＴｉＯ２を沈殿させるプロセスを記載している。しかしながら、これらの文献は、ディーゼルエンジンの排気ガスを処理するためのＳＣＲ触媒における亜酸化窒素排出及び／又は長期硫酸化を低減する方法を教示していない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【特許文献1】ＵＳ５０４７３７８Ｂ
【特許文献2】ＣＮ１０５９４４７５５ Ａ
【非特許文献】
【0007】
【非特許文献1】Ｙｉｓｕｎ Ｃｈｅｎｇら，ディーゼルＳＣＲ触媒の耐硫黄性及びＤｅＳＯｘ研究，ＳＡＥ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｊｏｕｒｎａｌ Ｆｕｅｌｓ ａｎｄ Ｌｕｂｒｉｃａｎｔｓ １（１)，４７１～４７６頁，２００８年
【非特許文献2】Ｋｒｉｓｈｎａ Ｋａｍａｓａｍｕｄｒａｍら，ディーゼル後処理システムにおけるＮ２Ｏの形成及び緩和，Ｃｕｍｍｉｎｓ Ｉｎｃ．，ＳＡＥ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｊｏｕｒｎａｌ Ｅｎｇｉｎｅｓ ５（２），６８８～６９８頁，２０１２年
【非特許文献3】Ａｓｈｏｋ Ｋｕｍａｒら，ゼオライトベースのＳＣＲ触媒の触媒機能及び硫酸化挙動に及ぼす遷移金属イオン特性の影響，ＳＡＥ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｊｏｕｒｎａｌ Ｅｎｇｉｎｅｓ １０（４），１６０４～１６１２頁，２０１７年
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
したがって、本発明の目的は、低いＮ２Ｏ形成を示し、硫黄耐性がより高い一方で、低温においてさえ、優れたｄｅＮＯｘを達成する選択的接触還元触媒を提供することであった。驚いたことには、本発明による選択的接触還元触媒は、低いＮ２Ｏ形成を示し、硫黄耐性がより高い一方で、低温においてさえ、優れたｄｅＮＯｘを達成することを可能にすることが見出された。
【課題を解決するための手段】
【0009】
したがって、本発明は、ディーゼルエンジンの排気ガスを処理するための選択的接触還元触媒に関し、当該選択的接触還元触媒は、
（ｉ）入口端部、出口端部、入口端部から出口端部まで延びる基材軸方向長さ、及びそれを通って延びるフロースルー基材の内壁によって規定される複数の通路を含むフロースルー基材；
（ｉｉ）内壁と通路との間の界面を規定する基材の内壁の表面に適用された第１コーティングであって、第１コーティングが基材軸方向長さの４０～１００％にわたって延び、第１コーティングが銅及び鉄の１つ以上を含むゼオライト材料を含み、このゼオライト材料が、ＡＢＷ、ＡＣＯ、ＡＥＩ、ＡＥＬ、ＡＥＮ、ＡＥＴ、ＡＦＧ、ＡＦＩ、ＡＦＮ、ＡＦＯ、ＡＦＲ、ＡＦＳ、ＡＦＴ、ＡＦＶ、ＡＦＸ、ＡＦＹ、ＡＨＴ、ＡＮＡ、ＡＰＣ、ＡＰＤ、ＡＳＴ、ＡＳＶ、ＡＴＮ、ＡＴＯ、ＡＴＳ、ＡＴＴ、ＡＴＶ、ＡＶＬ、ＡＷＯ、ＡＷＷ、ＢＣＴ、ＢＥＡ、ＢＥＣ、ＢＩＫ、ＢＯＦ、ＢＯＧ、ＢＯＺ、ＢＰＨ、ＢＲＥ、ＢＳＶ、ＣＡＮ、ＣＡＳ、ＣＤＯ、ＣＦＩ、ＣＧＦ、ＣＧＳ、ＣＨＡ、－ＣＨＩ、－ＣＬＯ、ＣＯＮ、ＣＳＶ、ＣＺＰ、ＤＡＣ、ＤＤＲ、ＤＦＯ、ＤＦＴ、ＤＯＨ、ＤＯＮ、ＥＡＢ、ＥＤＩ、ＥＥＩ、ＥＭＴ、ＥＯＮ、ＥＰＩ、ＥＲＩ、ＥＳＶ、ＥＴＲ、ＥＵＯ、＊－ＥＷＴ、ＥＺＴ、ＦＡＲ、ＦＡＵ、ＦＥＲ、ＦＲＡ、ＧＩＳ、ＧＩＵ、ＧＭＥ、ＧＯＮ、ＧＯＯ、ＨＥＵ、ＩＦＯ、ＩＦＲ、－ＩＦＵ、ＩＦＷ、ＩＦＹ、ＩＨＷ、ＩＭＦ、ＩＲＮ、ＩＲＲ、－ＩＲＹ、ＩＳＶ、ＩＴＥ、ＩＴＧ、ＩＴＨ、＊－ＩＴＮ、ＩＴＲ、ＩＴＴ、－ＩＴＶ、ＩＴＷ、ＩＷＲ、ＩＷＳ、ＩＷＶ、ＩＷＷ、ＪＢＷ、ＪＮＴ、ＪＯＺ、ＪＲＹ、ＪＳＮ、ＪＳＲ、ＪＳＴ、ＪＳＷ、ＫＦＩ、ＬＡＵ、ＬＥＶ、ＬＩＯ、－ＬＩＴ、ＬＯＳ、ＬＯＶ、ＬＴＡ、ＬＴＦ、ＬＴＪ、ＬＴＬ、ＬＴＮ、ＭＡＲ、ＭＡＺ、ＭＥＩ、ＭＥＬ、ＭＥＰ、ＭＥＲ、ＭＦＩ、ＭＦＳ、ＭＯＮ、ＭＯＲ、ＭＯＺ、＊ＭＲＥ、ＭＳＥ、ＭＳＯ、ＭＴＦ、ＭＴＮ、ＭＴＴ、ＭＴＷ、ＭＶＹ、ＭＷＦ、ＭＷＷ、ＮＡＢ、ＮＡＴ、ＮＥＳ、ＮＯＮ、ＮＰＯ、ＮＰＴ、ＮＳＩ、ＯＢＷ、ＯＦＦ、ＯＫＯ、ＯＳＩ、ＯＳＯ、ＯＷＥ、－ＰＡＲ、ＰＡＵ、ＰＣＲ、ＰＨＩ、ＰＯＮ、ＰＯＳ、ＰＳＩ、ＰＵＮ、ＲＨＯ、－ＲＯＮ、ＲＲＯ、ＲＳＮ、ＲＴＥ、ＲＴＨ、ＲＵＴ、ＲＷＲ、ＲＷＹ、ＳＡＦ、ＳＡＯ、ＳＡＳ、ＳＡＴ、ＳＡＶ、ＳＢＥ、ＳＢＮ、ＳＢＳ、ＳＢＴ、ＳＥＷ、ＳＦＥ、ＳＦＦ、ＳＦＧ、ＳＦＨ、ＳＦＮ、ＳＦＯ、ＳＦＳ、＊ＳＦＶ、ＳＦＷ、ＳＧＴ、ＳＩＶ、ＳＯＤ、ＳＯＦ、ＳＯＳ、ＳＳＦ、＊－ＳＳＯ、ＳＳＹ、ＳＴＦ、ＳＴＩ、＊ＳＴＯ、ＳＴＴ、ＳＴＷ、－ＳＶＲ、ＳＶＶ、ＳＺＲ、ＴＥＲ、ＴＨＯ、ＴＯＬ、ＴＯＮ、ＴＳＣ、ＴＵＮ、ＵＥＩ、ＵＦＩ、ＵＯＳ、ＵＯＶ、ＵＯＺ、ＵＳＩ、ＵＴＬ、ＵＷＹ、ＶＥＴ、ＶＦＩ、ＶＮＩ、ＶＳＶ、ＷＥＩ、－ＷＥＮ、ＹＵＧ、ＺＯＮ、それらの２種以上の混合物、及びそれらの２種以上の混合型、好ましくはＣＨＡ、ＡＥＩ、ＢＥＡ、ＭＦＩ、ＦＡＵ、ＦＥＲ、ＲＴＨ、
ＬＥＶ、ＤＤＲ、ＫＦＩ、ＥＲＩ、ＡＦＸ、それらの２種以上の混合物、及びそれらの２種以上の混合型からなる群から選択される骨格型を有する、第１コーティング；
（ｉｉｉ）基材軸方向長さの２０～１００％にわたって延びる第２コーティングであって、第２コーティングがチタニアを含む第１酸化物材料を含み、第２コーティングの少なくとも７５質量％がチタニアからなり、第２コーティングの０～０．０１質量％が、Ｖ２Ｏ５として計算される１種以上の酸化バナジウムからなる、第２コーティング
を含む。
（ｉ）入口端部、出口端部、入口端部から出口端部まで延びる基材軸方向長さ、及びそれを通って延びるフロースルー基材の内壁によって規定される複数の通路を含むフロースルー基材；
（ｉｉ）内壁と通路との間の界面を規定する基材の内壁の表面に適用された第１コーティングであって、第１コーティングが基材軸方向長さの４０～１００％にわたって延び、第１コーティングが銅及び鉄の１つ以上を含むゼオライト材料を含み、このゼオライト材料が、ＡＢＷ、ＡＣＯ、ＡＥＩ、ＡＥＬ、ＡＥＮ、ＡＥＴ、ＡＦＧ、ＡＦＩ、ＡＦＮ、ＡＦＯ、ＡＦＲ、ＡＦＳ、ＡＦＴ、ＡＦＶ、ＡＦＸ、ＡＦＹ、ＡＨＴ、ＡＮＡ、ＡＰＣ、ＡＰＤ、ＡＳＴ、ＡＳＶ、ＡＴＮ、ＡＴＯ、ＡＴＳ、ＡＴＴ、ＡＴＶ、ＡＶＬ、ＡＷＯ、ＡＷＷ、ＢＣＴ、ＢＥＡ、ＢＥＣ、ＢＩＫ、ＢＯＦ、ＢＯＧ、ＢＯＺ、ＢＰＨ、ＢＲＥ、ＢＳＶ、ＣＡＮ、ＣＡＳ、ＣＤＯ、ＣＦＩ、ＣＧＦ、ＣＧＳ、ＣＨＡ、－ＣＨＩ、－ＣＬＯ、ＣＯＮ、ＣＳＶ、ＣＺＰ、ＤＡＣ、ＤＤＲ、ＤＦＯ、ＤＦＴ、ＤＯＨ、ＤＯＮ、ＥＡＢ、ＥＤＩ、ＥＥＩ、ＥＭＴ、ＥＯＮ、ＥＰＩ、ＥＲＩ、ＥＳＶ、ＥＴＲ、ＥＵＯ、＊－ＥＷＴ、ＥＺＴ、ＦＡＲ、ＦＡＵ、ＦＥＲ、ＦＲＡ、ＧＩＳ、ＧＩＵ、ＧＭＥ、ＧＯＮ、ＧＯＯ、ＨＥＵ、ＩＦＯ、ＩＦＲ、－ＩＦＵ、ＩＦＷ、ＩＦＹ、ＩＨＷ、ＩＭＦ、ＩＲＮ、ＩＲＲ、－ＩＲＹ、ＩＳＶ、ＩＴＥ、ＩＴＧ、ＩＴＨ、＊－ＩＴＮ、ＩＴＲ、ＩＴＴ、－ＩＴＶ、ＩＴＷ、ＩＷＲ、ＩＷＳ、ＩＷＶ、ＩＷＷ、ＪＢＷ、ＪＮＴ、ＪＯＺ、ＪＲＹ、ＪＳＮ、ＪＳＲ、ＪＳＴ、ＪＳＷ、ＫＦＩ、ＬＡＵ、ＬＥＶ、ＬＩＯ、－ＬＩＴ、ＬＯＳ、ＬＯＶ、ＬＴＡ、ＬＴＦ、ＬＴＪ、ＬＴＬ、ＬＴＮ、ＭＡＲ、ＭＡＺ、ＭＥＩ、ＭＥＬ、ＭＥＰ、ＭＥＲ、ＭＦＩ、ＭＦＳ、ＭＯＮ、ＭＯＲ、ＭＯＺ、＊ＭＲＥ、ＭＳＥ、ＭＳＯ、ＭＴＦ、ＭＴＮ、ＭＴＴ、ＭＴＷ、ＭＶＹ、ＭＷＦ、ＭＷＷ、ＮＡＢ、ＮＡＴ、ＮＥＳ、ＮＯＮ、ＮＰＯ、ＮＰＴ、ＮＳＩ、ＯＢＷ、ＯＦＦ、ＯＫＯ、ＯＳＩ、ＯＳＯ、ＯＷＥ、－ＰＡＲ、ＰＡＵ、ＰＣＲ、ＰＨＩ、ＰＯＮ、ＰＯＳ、ＰＳＩ、ＰＵＮ、ＲＨＯ、－ＲＯＮ、ＲＲＯ、ＲＳＮ、ＲＴＥ、ＲＴＨ、ＲＵＴ、ＲＷＲ、ＲＷＹ、ＳＡＦ、ＳＡＯ、ＳＡＳ、ＳＡＴ、ＳＡＶ、ＳＢＥ、ＳＢＮ、ＳＢＳ、ＳＢＴ、ＳＥＷ、ＳＦＥ、ＳＦＦ、ＳＦＧ、ＳＦＨ、ＳＦＮ、ＳＦＯ、ＳＦＳ、＊ＳＦＶ、ＳＦＷ、ＳＧＴ、ＳＩＶ、ＳＯＤ、ＳＯＦ、ＳＯＳ、ＳＳＦ、＊－ＳＳＯ、ＳＳＹ、ＳＴＦ、ＳＴＩ、＊ＳＴＯ、ＳＴＴ、ＳＴＷ、－ＳＶＲ、ＳＶＶ、ＳＺＲ、ＴＥＲ、ＴＨＯ、ＴＯＬ、ＴＯＮ、ＴＳＣ、ＴＵＮ、ＵＥＩ、ＵＦＩ、ＵＯＳ、ＵＯＶ、ＵＯＺ、ＵＳＩ、ＵＴＬ、ＵＷＹ、ＶＥＴ、ＶＦＩ、ＶＮＩ、ＶＳＶ、ＷＥＩ、－ＷＥＮ、ＹＵＧ、ＺＯＮ、それらの２種以上の混合物、及びそれらの２種以上の混合型、好ましくはＣＨＡ、ＡＥＩ、ＢＥＡ、ＭＦＩ、ＦＡＵ、ＦＥＲ、ＲＴＨ、
ＬＥＶ、ＤＤＲ、ＫＦＩ、ＥＲＩ、ＡＦＸ、それらの２種以上の混合物、及びそれらの２種以上の混合型からなる群から選択される骨格型を有する、第１コーティング；
（ｉｉｉ）基材軸方向長さの２０～１００％にわたって延びる第２コーティングであって、第２コーティングがチタニアを含む第１酸化物材料を含み、第２コーティングの少なくとも７５質量％がチタニアからなり、第２コーティングの０～０．０１質量％が、Ｖ２Ｏ５として計算される１種以上の酸化バナジウムからなる、第２コーティング
を含む。
【0010】
好ましくは、第１コーティングに含まれるゼオライト材料は、ＣＨＡ、ＡＥＩ、ＢＥＡ、ＭＦＩ、ＦＥＲ、それらの２種以上の混合物、及びそれらの２種以上の混合型からなる群から選択される骨格型を有する。より好ましくは、第１コーティングに含まれるゼオライト材料は骨格型ＣＨＡを有する。あるいは、より好ましくは、第１コーティングに含まれるゼオライト材料は骨格型ＢＥＡを有する。
【0011】
したがって、本発明はさらに、ディーゼルエンジンの排気ガスを処理するための選択的接触還元触媒に関し、当該選択的接触還元触媒は、
（ｉ）入口端部、出口端部、入口端部から出口端部まで延びる基材軸方向長さ、及びそれを通って延びるフロースルー基材の内壁によって規定される複数の通路を含むフロースルー基材；
（ｉｉ）内壁と通路との間の界面を規定する基材の内壁の表面に適用された第１コーティングであって、第１コーティングが基材軸方向長さの４０～１００％にわたって延び、第１コーティングが銅及び鉄の１つ以上を含む８員環の多孔性ゼオライト材料を含む、第１コーティング；
（ｉｉｉ）基材軸方向長さの２０～１００％にわたって延びる第２コーティングであって、第２コーティングがチタニアを含む第１酸化物材料を含み、第２コーティングの少なくとも７５質量％が、ＴｉＯ２として計算されるチタニアからなり、第２コーティングの０～０．０１質量％が、Ｖ２Ｏ５として計算される１種以上の酸化バナジウムからなる、第２コーティング
を含む。
（ｉ）入口端部、出口端部、入口端部から出口端部まで延びる基材軸方向長さ、及びそれを通って延びるフロースルー基材の内壁によって規定される複数の通路を含むフロースルー基材；
（ｉｉ）内壁と通路との間の界面を規定する基材の内壁の表面に適用された第１コーティングであって、第１コーティングが基材軸方向長さの４０～１００％にわたって延び、第１コーティングが銅及び鉄の１つ以上を含む８員環の多孔性ゼオライト材料を含む、第１コーティング；
（ｉｉｉ）基材軸方向長さの２０～１００％にわたって延びる第２コーティングであって、第２コーティングがチタニアを含む第１酸化物材料を含み、第２コーティングの少なくとも７５質量％が、ＴｉＯ２として計算されるチタニアからなり、第２コーティングの０～０．０１質量％が、Ｖ２Ｏ５として計算される１種以上の酸化バナジウムからなる、第２コーティング
を含む。
【図面の簡単な説明】
【0012】
【図1】図１は、実施例１及び比較例１～２の触媒におけるＮＯｘ変換及びＮ２Ｏ生成が測定及び計算されたＷＨＴＣ試験サイクル（世界調和試験サイクル－高温相）で３０分間動作した、ＳＣＲの入口温度及び出口温度、並びに排気マスフローを示す。
【発明を実施するための形態】
【0013】
好ましくは、（ｉｉ）による第１コーティングは、入口端部から出口端部に向かって延びる。あるいは、好ましくは、第１コーティングは、出口端部から入口端部に向かって延びる。
【0014】
好ましくは、（ｉｉ）による第１コーティングは、基材軸方向長さの、５０～１００％にわたって、より好ましくは７５～１００％にわたって、より好ましくは９５～１００％にわたって、より好ましくは９８～１００％にわたって、より好ましくは９９～１００％にわたって延びる。より好ましくは、（ｉｉ）による第１コーティングは、基材軸方向長さの９９～１００％にわたって、基材の入口端部から出口端部に向かって延びる。
【0015】
好ましくは、（ｉｉｉ）による第２コーティングは、基材の入口端部から出口端部に向かって延びる。
【0016】
本発明によれば、好ましくは、（ｉｉｉ）による第２コーティングは、基材軸方向長さの、５０～１００％にわたって、より好ましくは７５～１００％にわたって、より好ましくは９５～１００％にわたって、より好ましくは９８～１００％にわたって、より好ましくは９９～１００％にわたって延びる。
【0017】
より好ましくは、（ｉｉ）による第１コーティングは基材軸方向長さの９９～１００％にわたって延び、（ｉｉｉ）による第２コーティングは基材軸方向長さの９９～１００％にわたって延びる。
【0018】
より好ましくは、（ｉｉ）による第１コーティングは、基材軸方向長さの７５～１００％にわたって、より好ましくは基材の入口端部から出口端部に向かって又はより好ましくは出口端部から入口端部に向かって延びる。より好ましくは、（ｉｉｉ）による第２コーティングは、基材軸方向長さの７５～１００％にわたって、より好ましくは基材の入口端部から出口端部に向かって延びる。
【0019】
したがって、本発明は、好ましくは、ディーゼルエンジンの排気ガスを処理するための選択的接触還元触媒に関し、当該選択的接触還元触媒は、
（ｉ）入口端部、出口端部、入口端部から出口端部まで延びる基材軸方向長さ、及びそれを通って延びるフロースルー基材の内壁によって規定される複数の通路を含むフロースルー基材；
（ｉｉ）内壁と通路との間の界面を規定する基材の内壁の表面に適用された第１コーティングであって、第１コーティングが基材軸方向長さの９９～１００％にわたって延び、第１コーティングが銅及び鉄の１つ以上を含む８員環の多孔性ゼオライト材料を含む、第１コーティング；
（ｉｉｉ）基材軸方向長さの９９～１００％にわたって延びる第２コーティングであって、第２コーティングがチタニアを含む第１酸化物材料を含み、第２コーティングの少なくとも７５質量％が、ＴｉＯ２として計算されるチタニアからなり、第２コーティングの０～０．０１質量％が、Ｖ２Ｏ５として計算される１種以上の酸化バナジウムからなる、第２コーティング
を含む。
（ｉ）入口端部、出口端部、入口端部から出口端部まで延びる基材軸方向長さ、及びそれを通って延びるフロースルー基材の内壁によって規定される複数の通路を含むフロースルー基材；
（ｉｉ）内壁と通路との間の界面を規定する基材の内壁の表面に適用された第１コーティングであって、第１コーティングが基材軸方向長さの９９～１００％にわたって延び、第１コーティングが銅及び鉄の１つ以上を含む８員環の多孔性ゼオライト材料を含む、第１コーティング；
（ｉｉｉ）基材軸方向長さの９９～１００％にわたって延びる第２コーティングであって、第２コーティングがチタニアを含む第１酸化物材料を含み、第２コーティングの少なくとも７５質量％が、ＴｉＯ２として計算されるチタニアからなり、第２コーティングの０～０．０１質量％が、Ｖ２Ｏ５として計算される１種以上の酸化バナジウムからなる、第２コーティング
を含む。
【0020】
本発明によれば、また好ましくは、（ｉｉ）による第１コーティングは、基材軸方向長さの、９８～１００％にわたって、より好ましくは９９～１００％にわたって延び、（ｉｉｉ）による第２コーティングは、基材軸方向長さの、２０～９０％にわたって、より好ましくは３０～８０％にわたって、より好ましくは４０～６０％にわたって、より好ましくは４５～５５％にわたって、より好ましくは４８～５２％にわたって、基材の入口端部から出口端部に向かって延びる。
【0021】
好ましくは、（ｉｉｉ）による第２コーティングは、（ｉｉ）による第１コーティング上に適用される。
【0022】
本発明によれば、また好ましくは、（ｉｉ）による第１コーティングは、基材軸方向長さの、４０～５０％にわたって、より好ましくは４５～５０％にわたって、より好ましくは４８～５０％にわたって、基材の出口端部から入口端部に向かって延び、（ｉｉｉ）による第２コーティングは、基材軸方向長さの、４０～５０％にわたって、より好ましくは４５～５０％にわたって、より好ましくは４８～５０％にわたって、基材の入口端部から出口端部に向かって延びる。
【0023】
本発明の文脈において、好ましくは、第１コーティングに含有される８員環の多孔性ゼオライト材料は、ＣＨＡ、ＡＥＩ、ＲＴＨ、ＬＥＶ、ＤＤＲ、ＫＦＩ、ＥＲＩ、ＡＦＸ、それらの２種以上の混合物、及びそれらの２種以上の混合型からなる群から選択される、より好ましくはＣＨＡ、ＡＥＩ、ＲＴＨ、それらの２種以上の混合物、及びそれらの２種以上の混合型からなる群から選択される、より好ましくはＣＨＡ及びＡＥＩからなる群から選択される骨格型を有する。より好ましくは、第１コーティングに含有される８員環の多孔性ゼオライト材料は骨格型ＣＨＡを有する。より好ましくは、８員環の多孔性ゼオライト材料はゼオライトＳＳＺ－１３である。
【0024】
本発明の文脈において、好ましくは、より好ましくは骨格型ＣＨＡを有する第１コーティングに含まれるゼオライト材料は、走査型電子顕微鏡によって決定された、少なくとも０．５マイクロメーター、好ましくは０．５～１．５マイクロメーターの範囲、より好ましくは０．６～１．０マイクロメーターの範囲、より好ましくは０．６～０．８マイクロメーターの範囲の平均結晶サイズを有する。
【0025】
好ましくは、第１コーティングに含有されるゼオライト材料は銅を含み、ＣｕＯとして計算されるゼオライト材料中の銅の量は、ゼオライト材料の総質量に基づいて、より好ましくは０．１～１０質量％の範囲、より好ましくは１．５～５．５質量％の範囲、より好ましくは２．５～４．５質量％の範囲、より好ましくは３．０～４．０質量％の範囲、より好ましくは３．０～３．５質量％の範囲である。より好ましくは、Ｆｅ２Ｏ３として計算されるゼオライト材料に含まれる鉄の量は、ゼオライト材料の総質量に基づいて、０～０．０１質量％の範囲、より好ましくは１～０．００１質量％の範囲、より好ましくは０～０．０００１質量％の範囲である。
【0026】
第１コーティングに含まれるゼオライト材料の骨格構造の、好ましくは９５～１００質量％、より好ましくは９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％は、Ｓｉ、Ａｌ、Ｏ、及び任意にＨからなる。
【0027】
好ましくは、第１コーティングに含有されるゼオライト材料の骨格構造において、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３のモル比として計算される、ＳｉとＡｌのモル比は、好ましくは２：１～５０：１の範囲、より好ましくは２：１～４５：１の範囲である。より好ましくは、第１コーティングに含有されるゼオライト材料の骨格構造において、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３のモル比として計算される、ＳｉとＡｌのモル比は、１０：１～４０：１の範囲、より好ましくは２０：１～３５：１の範囲、より好ましくは２５：１～３５：１の範囲である。あるいは、より好ましくは、ゼオライト材料の骨格構造において、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３のモル比として計算される、ＳｉとＡｌのモル比は、２：１～１５：１の範囲、より好ましくは２：１～１２：１の範囲、より好ましくは３：１～８：１の範囲である。
【0028】
したがって、本発明は、好ましくは、ディーゼルエンジンの排気ガスを処理するための選択的接触還元触媒に関し、当該選択的接触還元触媒は、
（ｉ）入口端部、出口端部、入口端部から出口端部まで延びる基材軸方向長さ、及びそれを通って延びるフロースルー基材の内壁によって規定される複数の通路を含むフロースルー基材；
（ｉｉ）内壁と通路との間の界面を規定する基材の内壁の表面に適用された第１コーティングであって、第１コーティングが基材軸方向長さの４０～１００％にわたって延び、第１コーティングが銅を含む骨格型ＣＨＡを有するゼオライト材料を含み、第１コーティングに含有されるゼオライト材料の骨格構造において、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３のモル比として計算される、ＳｉとＡｌのモル比が、１０：１～４０：１の範囲、より好ましくは２０：１～３５：１の範囲、より好ましくは２５：１～３５：１の範囲である、第１コーティング；
（ｉｉｉ）基材軸方向長さの２０～１００％にわたって延びる第２コーティングであって、第２コーティングがチタニアを含む第１酸化物材料を含み、第２コーティングの少なくとも７５質量％が、ＴｉＯ２として計算されるチタニアからなり、第２コーティングの０～０．０１質量％が、Ｖ２Ｏ５として計算される１種以上の酸化バナジウムからなる、第２コーティング、
を含み、
ここで、（ｉｉ）による第１コーティングは、より好ましくは、基材軸方向長さの９８～１００％にわたって延び、（ｉｉｉ）による第２コーティングは、より好ましくは、基材軸方向長さの９８～１００％にわたって延びる。
（ｉ）入口端部、出口端部、入口端部から出口端部まで延びる基材軸方向長さ、及びそれを通って延びるフロースルー基材の内壁によって規定される複数の通路を含むフロースルー基材；
（ｉｉ）内壁と通路との間の界面を規定する基材の内壁の表面に適用された第１コーティングであって、第１コーティングが基材軸方向長さの４０～１００％にわたって延び、第１コーティングが銅を含む骨格型ＣＨＡを有するゼオライト材料を含み、第１コーティングに含有されるゼオライト材料の骨格構造において、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３のモル比として計算される、ＳｉとＡｌのモル比が、１０：１～４０：１の範囲、より好ましくは２０：１～３５：１の範囲、より好ましくは２５：１～３５：１の範囲である、第１コーティング；
（ｉｉｉ）基材軸方向長さの２０～１００％にわたって延びる第２コーティングであって、第２コーティングがチタニアを含む第１酸化物材料を含み、第２コーティングの少なくとも７５質量％が、ＴｉＯ２として計算されるチタニアからなり、第２コーティングの０～０．０１質量％が、Ｖ２Ｏ５として計算される１種以上の酸化バナジウムからなる、第２コーティング、
を含み、
ここで、（ｉｉ）による第１コーティングは、より好ましくは、基材軸方向長さの９８～１００％にわたって延び、（ｉｉｉ）による第２コーティングは、より好ましくは、基材軸方向長さの９８～１００％にわたって延びる。
【0029】
好ましくは、第１コーティングに含有されるゼオライト材料は鉄を含み、Ｆｅ２Ｏ３として計算されるゼオライト材料に含まれる鉄の量は、ゼオライト材料の総質量に基づいて、より好ましくは０．１～１０．０質量％の範囲、より好ましくは０．５～７．０質量％の範囲、より好ましくは１．０～５．５質量％の範囲、より好ましくは２．０～５．５質量％の範囲である。ゼオライト材料の骨格構造の、より好ましくは９５～１００質量％、より好ましくは９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％は、Ｓｉ、Ａｌ、Ｏ、及び任意にＨからなり、ここで、骨格構造において、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３のモル比として計算される、ＳｉとＡｌのモル比は、より好ましくは２：１～５０：１の範囲、より好ましくは２：１～４５：１の範囲である。より好ましくは、ゼオライト材料の骨格構造において、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３のモル比として計算される、ＳｉとＡｌのモル比は、１０：１～４０：１の範囲、より好ましくは２０：１～３５：１の範囲、より好ましくは２５：１～３５：１の範囲である。あるいは、より好ましくは、ゼオライト材料の骨格構造において、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３のモル比として計算される、ＳｉとＡｌのモル比は、２：１～１５：１の範囲、より好ましくは２：１～１２：１の範囲、より好ましくは３：１～８：１の範囲である。
【0030】
本発明によれば、好ましくは、触媒において、第１コーティングは、０．５～５ｇ／ｉｎ３の範囲、より好ましくは１～４ｇ／ｉｎ３の範囲、より好ましくは１．５～２．５ｇ／ｉｎ３の範囲の装填量（loading）でゼオライト材料を含む。
【0031】
（ｉｉ）による第１コーティングは、好ましくは、酸化物バインダーをさらに含み、ここで、この酸化物バインダーが、より好ましくはジルコニア、アルミナ、チタニア、シリカ、並びにＺｒ、Ａｌ、Ｔｉ及びＳｉの２つ以上を含む混合酸化物の１つ以上を含み、より好ましくはシリカ、アルミナ及びジルコニアの１つ以上を含み、より好ましくはアルミナ及びジルコニアの１つ以上、より好ましくはジルコニアを含む。より好ましくは、触媒において、第１コーティングは、０．０５～０．１５ｇ／ｉｎ３の範囲、より好ましくは０．０８～０．１４ｇ／ｉｎ３の範囲の装填量で酸化物バインダーを含む。
【0032】
好ましくは、第１コーティングは、装填量（ｌｚ）のゼオライト材料、及び装填量（ｌｂ）の酸化物バインダーを含み、ここで、酸化物バインダーの装填量（ｌｂ）とゼオライト材料の装填量（ｌｚ）との比、（ｌｂ）：（ｌｚ）は、０．０２：１～０．１：１の範囲、より好ましくは０．０３：１～０．８：１の範囲、より好ましくは０．０３：１～０．０７：１の範囲である。
【0033】
第１コーティングの、好ましくは９５～１００質量％、より好ましくは９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％は、銅及び鉄の１つ以上を含む８員環の多孔性ゼオライト材料、及び上記で定義された酸化物バインダーからなる。
【0034】
第１コーティングの、好ましくは０～０．０１質量％、より好ましくは０～０．００１質量％、より好ましくは０～０．０００１質量％はチタニアからなる。より好ましくは、第１コーティングはチタニアを含まない。
【0035】
第１コーティングに含まれるゼオライト材料の骨格構造の、好ましくは０～０．００１質量％、より好ましくは０～０．０００１質量％、より好ましくは０～０．００００１質量％はＰからなる。
【0036】
（ｉｉｉ）による第２コーティングにおいて、好ましくは、第２コーティングの第１酸化物材料に含まれるチタニアは、正方晶系及び斜方晶系の１つ以上、より好ましくは正方晶系、より好ましくはルチル及びアナターゼ構造の１つ以上、より好ましくはアナターゼ構造を有する。
【0037】
第２コーティングの、好ましくは８５～１００質量％、より好ましくは９０～１００質量％、より好ましくは９５～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％はチタニアからなり、ここで、チタニアが、好ましくは正方晶系及び斜方晶系の１つ以上、より好ましくは正方晶系、より好ましくはルチル及びアナターゼ構造の１つ以上、より好ましくはアナターゼ構造を有する。
【0038】
好ましくは、第２コーティングの第１酸化物材料は、酸化セリウム、酸化マグネシウム、酸化ニオブ、酸化ケイ素及び酸化タングステンの１つ以上、より好ましくは酸化セリウム及び酸化タングステンの１つ以上をさらに含む。より好ましくは、第２コーティングの第１酸化物材料は酸化タングステンをさらに含み、より好ましくは、第２コーティングの第１酸化物材料は、チタニアに含浸された酸化タングステンを含み、より好ましくはチタニアに含浸された酸化タングステンからなる。
【0039】
第２コーティングの第１酸化物材料の、好ましくは９０～１００質量％、より好ましくは９５～１００質量％、より好ましくは９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％は、チタニア（ここで、チタニアが、より好ましくは正方晶系及び斜方晶系の１つ以上、より好ましくは正方晶系、より好ましくはルチル及びアナターゼ構造の１つ以上、より好ましくはアナターゼ構造を有する）、及び任意に酸化セリウム、酸化マグネシウム、酸化ニオブ、酸化ケイ素及び酸化タングステンの１つ以上、より好ましくは酸化セリウム及び酸化タングステンの１つ以上、より好ましくは酸化タングステンからなる。より好ましくは、第２コーティングの第１酸化物材料の９９～１００質量％は、８０～９５質量％、より好ましくは８５～９２質量％のチタニア、及び５～２０質量％、より好ましくは８～１５質量％の、酸化セリウム、酸化マグネシウム、酸化ニオブ、酸化ケイ素及び酸化タングステンの１つ以上、より好ましくは酸化タングステンからなる。
【0040】
好ましくは、触媒において、第２コーティングは、１５．２６～３０５．１ｇ／ｌ（０．２５～５．０ｇ／ｉｎ３）の範囲、より好ましくは３０．５１～２４４．１ｇ／ｌ（０．５～４．０ｇ／ｉｎ３）の範囲、より好ましくは４５．８～２１３．６ｇ／ｌ（０．７５～３．５ｇ／ｉｎ３）の範囲、より好ましくは４８．８～１８３．１ｇ／ｌ（０．８～３．０ｇ／ｉｎ３）の範囲、より好ましくは５４．９～１２２．０５ｇ／ｌ（０．９～２．０ｇ／ｉｎ３）の範囲の装填量で第１酸化物材料を含む。
【0041】
好ましくは、第２コーティングは、シリカ、アルミナ、ジルコニア及びセリアの１つ以上、より好ましくはシリカ及びアルミナの１つ以上を含む第２酸化物材料をさらに含む。より好ましくは、第２酸化物材料は、アルミナ及びシリカ、より好ましくはガンマ－アルミナ及びシリカを含み、より好ましくはアルミナ及びシリカ、より好ましくはガンマ－アルミナ及びシリカからなり、ここで、アルミナ、より好ましくはガンマ－アルミナが任意に、シリコンを含有する。あるいは、より好ましくは、第２酸化物材料は、シリカを含み、より好ましくはシリカからなる。
【0042】
好ましくは、触媒において、第２コーティングは、０．６１～３６．６ｇ／ｌ（０．０１～０．６ｇ／ｉｎ３）の範囲、より好ましくは１．２２～２４．４ｇ／ｌ（０．０２～０．４ｇ／ｉｎ３）の範囲、より好ましくは３．０５～２１．３６ｇ／ｌ（０．０５～０．３５ｇ／ｉｎ３）の範囲の装填量で第２酸化物材料を含む。
【0043】
第２コーティングの、好ましくは９０～１００質量％、より好ましくは９５～１００質量％、より好ましくは９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％は、上記で定義された、第１酸化物材料及び第２酸化物材料からなる。
【0044】
第２コーティングの、好ましくは０～０．１質量％、より好ましくは０～０．０１質量％、より好ましくは０～０．００１質量％はゼオライト材料からなる。より好ましくは、第２コーティングはゼオライト材料を含まず、ここで、より好ましくは、ゼオライト材料が銅及び鉄の１つ以上を含む。
【0045】
第２コーティングの、好ましくは０～０．００１質量％、より好ましくは０～０．０００１質量％は、１種以上の酸化バナジウムからなる。より好ましくは、第２コーティングは酸化バナジウムを含まない。
【0046】
第２コーティングの、好ましくは０～０．００１質量％、より好ましくは０～０．０００１質量％は、白金及びパラジウムの１つ以上、より好ましくは白金、パラジウム及びロジウムの１つ以上、より好ましくは１種以上の貴金属からなる。
【0047】
本発明によれば、好ましくは、第１コーティングの、９５～１００質量％、より好ましくは９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％は、骨格型ＣＨＡを有し、かつ銅を含むゼオライト材料、及びより好ましくは上記で定義された酸化物バインダーからなり；第２コーティングの、９０～１００質量％、より好ましくは９５～１００質量％、より好ましくは９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％は、上記で定義された、第１酸化物材料及び第２酸化物材料からなり；ここで、第１酸化物材料の、９５～１００質量％、より好ましくは９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％がチタニアからなり、より好ましくは、チタニアが、正方晶系及び斜方晶系の１つ以上、より好ましくは正方晶系、より好ましくはルチル及びアナターゼ構造の１つ以上、より好ましくはアナターゼ構造を有し、第２酸化物材料が、アルミナ及びシリカの１つ以上を含み、より好ましくはアルミナ及びシリカの１つ以上からなる。
【0048】
あるいは、本発明によれば、より好ましくは、第１コーティングの、９５～１００質量％、より好ましくは９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％は、骨格型ＣＨＡを有し、かつ銅を含むゼオライト材料、及びより好ましくは上記で定義された酸化物バインダーからなり；第２コーティングの、９０～１００質量％、より好ましくは９５～１００質量％、より好ましくは９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％は、上記で定義された、第１酸化物材料及び第２酸化物材料からなり；ここで、第１酸化物材料の、９５～１００質量％、より好ましくは９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％がチタニア及び酸化タングステンからなり、より好ましくは、チタニアが、正方晶系及び斜方晶系の１つ以上、より好ましくは正方晶系、より好ましくはルチル及びアナターゼ構造の１つ以上、より好ましくはアナターゼ構造を有し；より好ましくは第１酸化物材料の９９～１００質量％が、８０～９５質量％、より好ましくは８５～９２質量％のチタニア、及び５～２０質量％、より好ましくは８～１５質量％の酸化タングステンからなり、第２酸化物材料が、アルミナ及びシリカの１つ以上を含み、より好ましくはアルミナ及びシリカの１つ以上からなる。
【0049】
本発明の文脈において、好ましくは、触媒において、第１コーティングは総装填量（ｌ１）を有し、第２コーティングは総装填量（ｌ２）を有し、ここで、第１コーティングの総装填量の第２コーティングの総装填量に対する比、（ｌ１）：（ｌ２）は、０．５：１～５：１の範囲、より好ましくは０．７５：１～３：１の範囲、より好ましくは１：１～２：１の範囲である。
【0050】
フロースルー基材は、好ましくはセラミック物質又は金属物質を含み、より好ましくはセラミック物質又は金属物質からなる。より好ましくは、フロースルー基材は、セラミック物質を含み、より好ましくはセラミック物質からなり、ここで、より好ましくは、セラミック物質が、アルミナ、シリカ、シリケート、アルミノシリケート、より好ましくはコーディエライト又はムライト、アルミノチタネート、シリコンカーバイド、ジルコニア、マグネシア、より好ましくはスピネル、及びチタニアの１つ以上、より好ましくはシリコンカーバイド及びコーディエライトの１つ以上、より好ましくはコーディエライトを含み、より好ましくはそれらからなる。あるいは、より好ましくは、フロースルー基材は、金属物質を含み、より好ましくは金属物質からなり、ここで、より好ましくは、金属物質が、酸素、並びに鉄、クロム及びアルミニウムの１つ以上を含み、より好ましくは酸素、並びに鉄、クロム及びアルミニウムの１つ以上からなる。
【0051】
基材は、好ましくは２．５４～２５．４ｃｍ（１～１０インチ）の範囲、より好ましくは５．０８～２０．３２ｃｍ（２～８インチ）の範囲、より好ましくは１０．１６～１９．０５ｃｍ（４～７．５インチ）の範囲、より好ましくは１２．７～１７．７８ｃｍ（５～７インチ）の範囲の基材長さを有する。
【0052】
基材は、好ましくは１０．１６～４３．１８ｃｍ（４～１７インチ）の範囲、より好ましくは１７．７８～３８．１０ｃｍ（７～１５インチ）の範囲、より好ましくは２０．３２～３５．５６ｃｍ（８～１４インチ）の範囲、より好ましくは２２．８６～３３．０２ｃｍ（９～１３インチ）の範囲、より好ましくは２２．８６～２７．９４ｃｍ（９～１１インチ）の範囲の基材幅を有する。
【0053】
本発明の文脈において、選択的接触還元触媒の、好ましくは９５～１００質量％、より好ましくは９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％は、フロースルー基材、第１コーティング及び第２コーティングからなる。より好ましくは、本発明の選択的接触還元触媒は、フロースルー基材、第１コーティング及び第２コーティングからなる。
【0054】
本発明はさらに、ディーゼルエンジンから出る排気ガス流を処理するための排気ガス処理システムに関し、前記排気ガス処理システムは前記排気ガス流を前記排気ガス処理システムに導入するための上流端部を有し、前記排気ガス処理システムは、
（Ａ）ディーゼル酸化触媒（ＤＯＣ）であって、このディーゼル酸化触媒が基材に適用されたコーティングを含み、このコーティングが、好ましくは、酸化物材料に担持されている、パラジウム、白金及びロジウムの１つ以上、より好ましくはパラジウム及び白金、より好ましくは白金を含む、ディーゼル酸化触媒（ＤＯＣ）、
（Ｂ）１つ以上の本発明による選択的接触還元（ＳＣＲ）触媒
を含み、
（Ａ）によるディーゼル酸化触媒が、（Ｂ）による１つ以上の選択的接触還元触媒の上流に配置され、好ましくは、（Ａ）によるディーゼル酸化触媒が、排気ガス処理システムの一番目の触媒であり、前記排気ガス処理システムの上流端部の下流に配置され、
排気ガス処理システムが、任意に、（Ａ）によるディーゼル酸化触媒の下流及び（Ｂ）による１つ以上の選択的接触還元触媒の上流に配置される、フィルター、好ましくは触媒付すすフィルターをさらに含む。
（Ａ）ディーゼル酸化触媒（ＤＯＣ）であって、このディーゼル酸化触媒が基材に適用されたコーティングを含み、このコーティングが、好ましくは、酸化物材料に担持されている、パラジウム、白金及びロジウムの１つ以上、より好ましくはパラジウム及び白金、より好ましくは白金を含む、ディーゼル酸化触媒（ＤＯＣ）、
（Ｂ）１つ以上の本発明による選択的接触還元（ＳＣＲ）触媒
を含み、
（Ａ）によるディーゼル酸化触媒が、（Ｂ）による１つ以上の選択的接触還元触媒の上流に配置され、好ましくは、（Ａ）によるディーゼル酸化触媒が、排気ガス処理システムの一番目の触媒であり、前記排気ガス処理システムの上流端部の下流に配置され、
排気ガス処理システムが、任意に、（Ａ）によるディーゼル酸化触媒の下流及び（Ｂ）による１つ以上の選択的接触還元触媒の上流に配置される、フィルター、好ましくは触媒付すすフィルターをさらに含む。
【0055】
ディーゼル酸化触媒について、好ましくは、ディーゼル酸化触媒のコーティングに含まれる酸化物材料は、ジルコニア、アルミナ、チタニア及びシリカの１つ以上、より好ましくはジルコニア及びチタニアの１つ以上、より好ましくはチタニアを含む。
【0056】
好ましくは、ディーゼル酸化触媒のコーティングは、アルミナ、シリカ及びジルコニアの１つ以上、より好ましくはアルミナ及びジルコニアの１つ以上、より好ましくはアルミナ及びジルコニアをさらに含む。
【0057】
ディーゼル酸化触媒のコーティングの、好ましくは９０～１００質量％、より好ましくは９５～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％は、酸化物材料、より好ましくはチタニアに担持されているパラジウム、白金及びロジウムの１つ以上、及びより好ましくはアルミナ、シリカ及びジルコニアの１つ以上、より好ましくはアルミナ及びジルコニアの１つ以上、より好ましくはアルミナ及びジルコニアからなる。
【0058】
好ましくは、ディーゼル酸化触媒のコーティングは、０．１１～１．１０ｇ／ｌ（３～３０ｇ／ｆｔ３）の範囲、より好ましくは０．１８～０．７１ｇ／ｌ（５～２０ｇ／ｆｔ３）の範囲、より好ましくは０．２８～０．４２ｇ／ｌ（８～１２ｇ／ｆｔ３）の範囲の前記触媒における装填量で、パラジウム、白金及びロジウムの１つ以上を含む。
【0059】
好ましくは、ディーゼル酸化触媒のコーティングは、３０．５１ｇ／ｌ～３０５．１ｇ／ｌ（０．５～５ｇ／ｉｎ３）の範囲、より好ましくは４５．７７～１２２．０５ｇ／ｌ（０．７５～２ｇ／ｉｎ３）の範囲、より好ましくは４８．８２～９１．５４ｇ／ｌ（０．８０～１．５ｇ／ｉｎ３）の範囲の前記触媒における装填量で、パラジウム、白金及びロジウムの１つ以上を担持する酸化物材料を含む。
【0060】
好ましくは、ディーゼル酸化触媒の基材は、フロースルー基材であり、セラミック物質又は金属物質を含み、より好ましくはセラミック物質又は金属物質からなる。より好ましくは、フロースルー基材は、セラミック物質を含み、より好ましくはセラミック物質からなり、ここで、より好ましくは、セラミック物質が、アルミナ、シリカ、シリケート、アルミノシリケート、より好ましくはコーディエライト又はムライト、アルミノチタネート、シリコンカーバイド、ジルコニア、マグネシア、より好ましくはスピネル、及びチタニアの１つ以上、より好ましくはシリコンカーバイド及びコーディエライトの１つ以上、より好ましくはコーディエライトを含み、より好ましくはそれらからなる。あるいは、より好ましくは、フロースルー基材は、金属物質を含み、より好ましくは金属物質からなり、ここで、より好ましくは、金属物質が、酸素、並びに鉄、クロム及びアルミニウムの１つ以上を含み、より好ましくは酸素、並びに鉄、クロム及びアルミニウムの１つ以上からなる。
【0061】
好ましくは、ディーゼル酸化触媒の基材は、２．５４～２５．４ｃｍ（１～１０インチ）の範囲、より好ましくは５．０８～２０．３２ｃｍ（２～８インチ）の範囲、より好ましくは１０．１６～１９．０５ｃｍ（４～７．５インチ）の範囲、より好ましくは１２．７～１７．７８ｃｍ（５～７インチ）の範囲の基材長さを有する。
【0062】
好ましくは、ディーゼル酸化触媒の基材は、１２．７～４５．７２ｃｍ（５～１８インチ）の範囲、より好ましくは２０．３２～４０．６４ｃｍ（８～１６インチ）の範囲、より好ましくは２５．４～３５．５６ｃｍ（１０～１４インチ）の範囲、より好ましくは２７．９４～３３．０２ｃｍ（１１～１３インチ）の範囲の基材幅を有する。
【0063】
ディーゼル酸化触媒の、好ましくは９０～１００質量％、より好ましくは９５～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％は、コーティング及び基材からなる。
【0064】
好ましくは、排気ガス処理システムはアンモニア酸化触媒をさらに含み、ここで、アンモニア酸化触媒が、１つ以上の選択的接触還元触媒（Ｂ）の下流に配置される。
【0065】
本発明はさらに、ディーゼルエンジンから出る排気ガス流を処理するための排気ガス処理システムに関し、前記排気ガス処理システムは前記排気ガス流を前記排気ガス処理システムに導入するための上流端部を有し、前記排気ガス処理システムは、
本発明による第１選択的接触還元触媒、並びにディーゼル酸化触媒、第２選択的接触還元触媒、アンモニア酸化触媒及びフィルターの１つ以上を含み、
ディーゼル酸化触媒、第２選択的接触還元触媒、アンモニア酸化触媒及びフィルターの１つ以上が、本発明による第１選択的接触還元触媒の下流に配置され、好ましくは、本発明による第１選択的接触還元触媒が、排気ガス処理システムの一番目の触媒であり、前記排気ガス処理システムの上流端部の下流に配置される。
本発明による第１選択的接触還元触媒、並びにディーゼル酸化触媒、第２選択的接触還元触媒、アンモニア酸化触媒及びフィルターの１つ以上を含み、
ディーゼル酸化触媒、第２選択的接触還元触媒、アンモニア酸化触媒及びフィルターの１つ以上が、本発明による第１選択的接触還元触媒の下流に配置され、好ましくは、本発明による第１選択的接触還元触媒が、排気ガス処理システムの一番目の触媒であり、前記排気ガス処理システムの上流端部の下流に配置される。
【0066】
好ましくは、排気ガス処理システムは、本発明による第１選択的接触還元触媒、及び当該選択的接触還元触媒の下流に配置される、フィルター、より好ましくは触媒付パティキュレートフィルターを含む。あるいは、好ましくは、排気ガス処理システムは、好ましくは、本発明による第１選択的接触還元触媒、ディーゼル酸化触媒、及びフィルター、より好ましくは触媒付パティキュレートフィルターを含み、ここで、このディーゼル酸化触媒が、前記選択的接触還元触媒の下流及びフィルターの上流に配置される。
【0067】
本発明はさらに、選択的接触還元触媒、好ましくは本発明による選択的接触還元触媒を製造する方法に関し、この方法は、
（ａ）銅及び鉄の１つ以上を含む８員環の多孔性ゼオライト材料の源、及び水を含む第１スラリーを製造する工程と、
（ｂ）基材軸方向長さの４０～１００％にわたってフロースルー基材の内壁の表面に工程（ａ）で得られた第１スラリーを適用して、スラリー処理基材を得る工程であって、フロースルー基材が、入口端部、出口端部、入口端部から出口端部まで延びる基材軸方向長さ、及びそれを通って延びる基材の内壁によって規定される複数の通路を含み、基材の内壁の表面が内壁と通路との間の界面を規定する、工程と、
（ｃ）工程（ｂ）で得られたスラリー処理基材を乾燥させて、それに適用された第１コーティングを有する基材を得る工程と、
（ｄ）任意に、工程（ｃ）で得られたそれに適用された第１コーティングを有する基材をか焼する工程と、
（ｅ）チタニアを含む第１酸化物材料、及び水を含む第２スラリーを製造する工程であって、第１酸化物材料が任意に、酸化セリウム、酸化マグネシウム、酸化ニオブ、酸化ケイ素及び酸化タングステンの１つ以上、好ましくは酸化タングステンを含み、第２スラリーが、好ましくは第２酸化物材料を含む、工程と、
（ｆ）基材軸方向長さの２０～１００％にわたって、好ましくは基材の入口端部から基材の出口端部に向かって、工程（ｅ）で得られた第２スラリーを、工程（ｃ）で得られた、任意に工程（ｄ）で得られたそれに適用された第１コーティングを有する基材に適用して、スラリー処理基材を得る工程と、
（ｇ）工程（ｆ）で得られたスラリー処理基材を乾燥させて、それに適用された第１コーティング及び第２コーティングを有する基材を得る工程と、
（ｈ）工程（ｇ）で得られたそれに適用された第１コーティング及び第２コーティングを有する基材をか焼して、選択的接触還元触媒を得る工程であって、第２コーティングの０～０．０１質量％が、Ｖ２Ｏ５として計算される１種以上の酸化バナジウムからなり、第２コーティングの少なくとも７５質量％が、ＴｉＯ２として計算されるチタニアからなる、工程と
を含む。
（ａ）銅及び鉄の１つ以上を含む８員環の多孔性ゼオライト材料の源、及び水を含む第１スラリーを製造する工程と、
（ｂ）基材軸方向長さの４０～１００％にわたってフロースルー基材の内壁の表面に工程（ａ）で得られた第１スラリーを適用して、スラリー処理基材を得る工程であって、フロースルー基材が、入口端部、出口端部、入口端部から出口端部まで延びる基材軸方向長さ、及びそれを通って延びる基材の内壁によって規定される複数の通路を含み、基材の内壁の表面が内壁と通路との間の界面を規定する、工程と、
（ｃ）工程（ｂ）で得られたスラリー処理基材を乾燥させて、それに適用された第１コーティングを有する基材を得る工程と、
（ｄ）任意に、工程（ｃ）で得られたそれに適用された第１コーティングを有する基材をか焼する工程と、
（ｅ）チタニアを含む第１酸化物材料、及び水を含む第２スラリーを製造する工程であって、第１酸化物材料が任意に、酸化セリウム、酸化マグネシウム、酸化ニオブ、酸化ケイ素及び酸化タングステンの１つ以上、好ましくは酸化タングステンを含み、第２スラリーが、好ましくは第２酸化物材料を含む、工程と、
（ｆ）基材軸方向長さの２０～１００％にわたって、好ましくは基材の入口端部から基材の出口端部に向かって、工程（ｅ）で得られた第２スラリーを、工程（ｃ）で得られた、任意に工程（ｄ）で得られたそれに適用された第１コーティングを有する基材に適用して、スラリー処理基材を得る工程と、
（ｇ）工程（ｆ）で得られたスラリー処理基材を乾燥させて、それに適用された第１コーティング及び第２コーティングを有する基材を得る工程と、
（ｈ）工程（ｇ）で得られたそれに適用された第１コーティング及び第２コーティングを有する基材をか焼して、選択的接触還元触媒を得る工程であって、第２コーティングの０～０．０１質量％が、Ｖ２Ｏ５として計算される１種以上の酸化バナジウムからなり、第２コーティングの少なくとも７５質量％が、ＴｉＯ２として計算されるチタニアからなる、工程と
を含む。
【0068】
好ましくは、工程（ａ）は、
（ａ．１）酸化物バインダー、より好ましくはジルコニルアセテートを、銅及び鉄の１つ以上を含む８員環の多孔性ゼオライト材料及び水と混合して、第１スラリーを得ることと、
（ａ．２）３～１５マイクロメーターの範囲、より好ましくは５～１３マイクロメーターの範囲、より好ましくは８～１２マイクロメーターの範囲の、参考例１に記載されているように決定された粒径Ｄｖ９０に、（ａ．１）で得られた第１スラリーを粉砕することと
を含む。
（ａ．１）酸化物バインダー、より好ましくはジルコニルアセテートを、銅及び鉄の１つ以上を含む８員環の多孔性ゼオライト材料及び水と混合して、第１スラリーを得ることと、
（ａ．２）３～１５マイクロメーターの範囲、より好ましくは５～１３マイクロメーターの範囲、より好ましくは８～１２マイクロメーターの範囲の、参考例１に記載されているように決定された粒径Ｄｖ９０に、（ａ．１）で得られた第１スラリーを粉砕することと
を含む。
【0069】
工程（ｃ）によれば、好ましくは、工程（ｂ）で得られたスラリー処理基材は、９０～２００℃の範囲、より好ましくは１００～１５０℃の範囲、より好ましくは１１０～１３０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で乾燥される。
【0070】
工程（ｃ）によれば、好ましくは、工程（ｂ）で得られたスラリー処理基材は、ガス雰囲気中で、５～６０分間の範囲、より好ましくは１０～２０分間の範囲の持続時間で乾燥される。
【0071】
工程（ｃ）によれば、好ましくは、工程（ｂ）で得られたスラリー処理基材は、９０～２００℃の範囲、より好ましくは１３０～１９０℃の範囲、より好ましくは１５５～１７５℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でさらに乾燥される。
【0072】
工程（ｃ）によれば、好ましくは、工程（ｂ）で得られたスラリー処理基材は、ガス雰囲気中で、１０～８０分間の範囲、より好ましくは２０～４０分間の範囲の持続時間でさらに乾燥される。
【0073】
工程（ｃ）において、好ましくは、ガス雰囲気は、空気、希薄空気及び酸素の１つ以上、より好ましくは空気を含み、より好ましくは空気、希薄空気及び酸素の１つ以上、より好ましくは空気である。
【0074】
工程（ｄ）によれば、工程（ｃ）で得られたそれに適用された第１コーティングを有する基材は、好ましくは３００～６００℃の範囲、より好ましくは３５０～５５０℃の範囲、より好ましくは４００～５００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼される。
【0075】
工程（ｄ）によれば、工程（ｃ）で得られたそれに適用された第１コーティングを有する基材は、ガス雰囲気中で、好ましくは１０～８０分間の範囲、より好ましくは２０～４０分間の範囲の持続時間でか焼される。
【0076】
工程（ｄ）において、好ましくは、ガス雰囲気は、空気、希薄空気及び酸素の１つ以上、より好ましくは空気を含み、より好ましくは空気、希薄空気及び酸素の１つ以上、より好ましくは空気である。
【0077】
好ましくは、工程（ｅ）は、
（ｅ．１）チタニアを含み、任意に酸化セリウム、酸化マグネシウム、酸化ニオブ、酸化ケイ素及び酸化タングステンの１つ以上、より好ましくは酸化タングステンを含む第１酸化物材料を、より好ましくはアルミナ及びシリカの１つ以上を含む第２酸化物材料、有機分散剤及び水と混合することと、
（ｅ．２）水酸化アンモニウム溶液の添加により、ｐＨを、３．０～７．０の範囲、より好ましくは５．０～６．０の範囲の値に調整して、第２スラリーを得ることと、
を含む。
（ｅ．１）チタニアを含み、任意に酸化セリウム、酸化マグネシウム、酸化ニオブ、酸化ケイ素及び酸化タングステンの１つ以上、より好ましくは酸化タングステンを含む第１酸化物材料を、より好ましくはアルミナ及びシリカの１つ以上を含む第２酸化物材料、有機分散剤及び水と混合することと、
（ｅ．２）水酸化アンモニウム溶液の添加により、ｐＨを、３．０～７．０の範囲、より好ましくは５．０～６．０の範囲の値に調整して、第２スラリーを得ることと、
を含む。
【0078】
工程（ｇ）によれば、好ましくは、工程（ｆ）で得られたスラリー処理基材は、９０～２００℃の範囲、より好ましくは１００～１５０℃の範囲、より好ましくは１１０～１３０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で乾燥される。
【0079】
工程（ｇ）によれば、好ましくは、工程（ｆ）で得られたスラリー処理基材は、ガス雰囲気中で、５～６０分間の範囲、より好ましくは１０～２０分間の範囲の持続時間で乾燥される。
【0080】
工程（ｇ）によれば、好ましくは、工程（ｆ）で得られたスラリー処理基材は、９０～２００℃の範囲、より好ましくは１３０～１９０℃の範囲、より好ましくは１５５～１７５℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でさらに乾燥される。
【0081】
工程（ｇ）によれば、好ましくは、工程（ｆ）で得られたスラリー処理基材は、ガス雰囲気中で、１０～８０分間の範囲、より好ましくは２０～４０分間の範囲の持続時間でさらに乾燥される。
【0082】
工程（ｇ）において、好ましくは、ガス雰囲気は、空気、希薄空気及び酸素の１つ以上、より好ましくは空気を含み、より好ましくは空気、希薄空気及び酸素の１つ以上、より好ましくは空気である。
【0083】
工程（ｈ）によれば、工程（ｇ）で得られたそれに適用された第１コーティング及び第２コーティングを有する基材は、好ましくは３００～６００℃の範囲、より好ましくは３５０～５５０℃の範囲、より好ましくは４００～５００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼される。
【0084】
工程（ｈ）によれば、工程（ｇ）で得られたそれに適用された第１コーティング及び第２コーティングを有する基材は、ガス雰囲気中で、好ましくは１０～８０分間の範囲、より好ましくは２０～４０分間の範囲の持続時間でか焼される。
【0085】
工程（ｈ）において、好ましくは、ガス雰囲気は、空気、希薄空気及び酸素の１つ以上、より好ましくは空気を含み、より好ましくは空気、希薄空気及び酸素の１つ以上、より好ましくは空気である。
【0086】
本発明による方法において、好ましくは、第１スラリー及び第２スラリーの１つ以上を適用することは、噴霧又は基材を浸漬することによって、より好ましくは基材を浸漬することによって行われる。
【0087】
好ましくは、工程（ａ）で得られた第１スラリーを適用することは、基材軸方向長さの９０～１００％、より好ましくは９５～１００％、より好ましくは９９～１００％にわたって、より好ましくは基材の入口端部から基材の出口端部に向かって又はより好ましくは基材の出口端部から基材の入口端部に向かって行われる。
【0088】
好ましくは、工程（ｆ）で得られた第２スラリーを適用することは、基材軸方向長さの９０～１００％、より好ましくは９５～１００％、より好ましくは９９～１００％にわたって、基材の入口端部から基材の出口端部に向かって行われる。あるいは、好ましくは、工程（ｆ）で得られた第２スラリーを適用することは、基材軸方向長さの２０～９０％、より好ましくは３０～８０％、より好ましくは４０～６０％、より好ましくは４５～５５％、より好ましくは４８～５２％にわたって、基材の入口端部から基材の出口端部に向かって行われる。
【0089】
代替態様として、好ましくは、工程（ａ）で得られた第１スラリーを適用することは、基材軸方向長さの４０～５０％、より好ましくは４５～５０％、より好ましくは４８～５０％にわたって、基材の出口端部から基材の入口端部に向かって行われ、工程（ｆ）で得られた第２スラリーを適用することは、基材軸方向長さの４０～５０％、より好ましくは４５～５０％、より好ましくは４８～５０％にわたって、基材の入口端部から基材の出口端部に向かって行われる。
【0090】
特に好ましくは、本発明の方法は、
（ａ）銅及び鉄の１つ以上を含む８員環の多孔性ゼオライト材料の源、及び水を含む第１スラリーを製造する工程と、
（ｂ）基材軸方向長さの４０～１００％にわたってフロースルー基材の内壁の表面に工程（ａ）で得られた第１スラリーを適用して、スラリー処理基材を得る工程であって、この基材が、入口端部、出口端部、入口端部から出口端部まで延びる基材軸方向長さ、及びそれを通って延びる基材の内壁によって規定される複数の通路を含み、基材の内壁の表面が内壁と通路との間の界面を規定する、工程と、
（ｃ）工程（ｂ）で得られたスラリー処理基材を乾燥させて、それに適用された第１コーティングを有する基材を得る工程と、
（ｄ）任意に、工程（ｃ）で得られたそれに適用された第１コーティングを有する基材をか焼する工程と、
（ｅ）チタニアを含む第１酸化物材料、及び水を含む第２スラリーを製造する工程であって、第１酸化物材料が任意に、酸化セリウム、酸化マグネシウム、酸化ニオブ、酸化ケイ素及び酸化タングステンの１つ以上、好ましくは酸化タングステンを含み、第２スラリーが、好ましくは第２酸化物材料を含む、工程と、
（ｆ）基材軸方向長さの２０～１００％にわたって、好ましくは基材の入口端部から基材の出口端部に向かって、工程（ｅ）で得られた第２スラリーを、工程（ｃ）で得られた、任意に工程（ｄ）で得られたそれに適用された第１コーティングを有する基材に適用して、スラリー処理基材を得る工程と、
（ｇ）工程（ｆ）で得られたスラリー処理基材を乾燥させて、それに適用された第１コーティング及び第２コーティングを有する基材を得る工程と、
（ｈ）工程（ｇ）で得られたそれに適用された第１コーティング及び第２コーティングを有する基材をか焼して、選択的接触還元触媒を得る工程であって、第２コーティングの０～０．０１質量％が、Ｖ２Ｏ５として計算される１種以上の酸化バナジウムからなり、第２コーティングの少なくとも７５質量％が、ＴｉＯ２として計算されるチタニアからなる、工程と
からなる。
（ａ）銅及び鉄の１つ以上を含む８員環の多孔性ゼオライト材料の源、及び水を含む第１スラリーを製造する工程と、
（ｂ）基材軸方向長さの４０～１００％にわたってフロースルー基材の内壁の表面に工程（ａ）で得られた第１スラリーを適用して、スラリー処理基材を得る工程であって、この基材が、入口端部、出口端部、入口端部から出口端部まで延びる基材軸方向長さ、及びそれを通って延びる基材の内壁によって規定される複数の通路を含み、基材の内壁の表面が内壁と通路との間の界面を規定する、工程と、
（ｃ）工程（ｂ）で得られたスラリー処理基材を乾燥させて、それに適用された第１コーティングを有する基材を得る工程と、
（ｄ）任意に、工程（ｃ）で得られたそれに適用された第１コーティングを有する基材をか焼する工程と、
（ｅ）チタニアを含む第１酸化物材料、及び水を含む第２スラリーを製造する工程であって、第１酸化物材料が任意に、酸化セリウム、酸化マグネシウム、酸化ニオブ、酸化ケイ素及び酸化タングステンの１つ以上、好ましくは酸化タングステンを含み、第２スラリーが、好ましくは第２酸化物材料を含む、工程と、
（ｆ）基材軸方向長さの２０～１００％にわたって、好ましくは基材の入口端部から基材の出口端部に向かって、工程（ｅ）で得られた第２スラリーを、工程（ｃ）で得られた、任意に工程（ｄ）で得られたそれに適用された第１コーティングを有する基材に適用して、スラリー処理基材を得る工程と、
（ｇ）工程（ｆ）で得られたスラリー処理基材を乾燥させて、それに適用された第１コーティング及び第２コーティングを有する基材を得る工程と、
（ｈ）工程（ｇ）で得られたそれに適用された第１コーティング及び第２コーティングを有する基材をか焼して、選択的接触還元触媒を得る工程であって、第２コーティングの０～０．０１質量％が、Ｖ２Ｏ５として計算される１種以上の酸化バナジウムからなり、第２コーティングの少なくとも７５質量％が、ＴｉＯ２として計算されるチタニアからなる、工程と
からなる。
【0091】
本発明はさらに、本発明の方法により得ることができる又は得られる、選択的接触還元触媒、好ましくは上記で定義された本発明の選択的接触還元触媒に関する。
【0092】
本発明はさらに、本発明による選択的接触還元触媒を、好ましくはディーゼルエンジンからの排気ガス流に含まれる窒素酸化物の選択的触媒還元に使用する方法に関する。
【0093】
本発明はさらに、本発明による排気ガス処理システムを、ディーゼルエンジンからの排気ガス流の処理に使用する方法に関する。
【0094】
本発明はさらに、窒素酸化物を選択的触媒還元する方法に関し、ここで、窒素酸化物が排気ガス流中に含まれ、前記方法が、
（１）好ましくはディーゼルエンジンからの排気ガス流を提供する工程と、
（２）工程（１）で提供された排気ガス流を、本発明による選択的接触還元触媒に通過させる工程と、
を含む。
（１）好ましくはディーゼルエンジンからの排気ガス流を提供する工程と、
（２）工程（１）で提供された排気ガス流を、本発明による選択的接触還元触媒に通過させる工程と、
を含む。
【0095】
本発明はさらに、ディーゼルエンジンからの排気ガス流を処理する方法に関し、前記方法が、
（１’）前記排気ガス流を提供する工程と、
（２’）工程（１’）で提供された排気ガス流を、本発明による排気ガス処理システムに通過させる工程と、
を含む。
（１’）前記排気ガス流を提供する工程と、
（２’）工程（１’）で提供された排気ガス流を、本発明による排気ガス処理システムに通過させる工程と、
を含む。
【0096】
本発明は、以下の一連の実施態様、及び示されているような従属性及び後方参照から生じる実施態様の組み合わせによって説明される。特に、実施態様の範囲が言及されるそれぞれの場合において、例えば、「実施態様１から３のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒」などの表現の文脈において、この範囲の各実施態様は、当業者にとって明示的に開示されているとみなされる、すなわち、この表現は「実施態様１、２及び３のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒」と同義であるとして当業者によって理解されるべきであることに留意されたい。
【0097】
１ａ．ディーゼルエンジンの排気ガスを処理するための選択的接触還元触媒であって、前記選択的接触還元触媒は、
（ｉ）入口端部、出口端部、前記入口端部から前記出口端部まで延びる基材軸方向長さ、及びそれを通って延びるフロースルー基材の内壁によって規定される複数の通路を含む、フロースルー基材；
（ｉｉ）前記内壁と前記通路との間の界面を規定する前記基材の前記内壁の表面に適用された第１コーティングであって、前記第１コーティングが前記基材軸方向長さの４０～１００％にわたって延び、前記第１コーティングが銅及び鉄の１つ以上を含むゼオライト材料を含み、前記ゼオライト材料が、ＡＢＷ、ＡＣＯ、ＡＥＩ、ＡＥＬ、ＡＥＮ、ＡＥＴ、ＡＦＧ、ＡＦＩ、ＡＦＮ、ＡＦＯ、ＡＦＲ、ＡＦＳ、ＡＦＴ、ＡＦＶ、ＡＦＸ、ＡＦＹ、ＡＨＴ、ＡＮＡ、ＡＰＣ、ＡＰＤ、ＡＳＴ、ＡＳＶ、ＡＴＮ、ＡＴＯ、ＡＴＳ、ＡＴＴ、ＡＴＶ、ＡＶＬ、ＡＷＯ、ＡＷＷ、ＢＣＴ、ＢＥＡ、ＢＥＣ、ＢＩＫ、ＢＯＦ、ＢＯＧ、ＢＯＺ、ＢＰＨ、ＢＲＥ、ＢＳＶ、ＣＡＮ、ＣＡＳ、ＣＤＯ、ＣＦＩ、ＣＧＦ、ＣＧＳ、ＣＨＡ、－ＣＨＩ、－ＣＬＯ、ＣＯＮ、ＣＳＶ、ＣＺＰ、ＤＡＣ、ＤＤＲ、ＤＦＯ、ＤＦＴ、ＤＯＨ、ＤＯＮ、ＥＡＢ、ＥＤＩ、ＥＥＩ、ＥＭＴ、ＥＯＮ、ＥＰＩ、ＥＲＩ、ＥＳＶ、ＥＴＲ、ＥＵＯ、＊－ＥＷＴ、ＥＺＴ、ＦＡＲ、ＦＡＵ、ＦＥＲ、ＦＲＡ、ＧＩＳ、ＧＩＵ、ＧＭＥ、ＧＯＮ、ＧＯＯ、ＨＥＵ、ＩＦＯ、ＩＦＲ、－ＩＦＵ、ＩＦＷ、ＩＦＹ、ＩＨＷ、ＩＭＦ、ＩＲＮ、ＩＲＲ、－ＩＲＹ、ＩＳＶ、ＩＴＥ、ＩＴＧ、ＩＴＨ、＊－ＩＴＮ、ＩＴＲ、ＩＴＴ、－ＩＴＶ、ＩＴＷ、ＩＷＲ、ＩＷＳ、ＩＷＶ、ＩＷＷ、ＪＢＷ、ＪＮＴ、ＪＯＺ、ＪＲＹ、ＪＳＮ、ＪＳＲ、ＪＳＴ、ＪＳＷ、ＫＦＩ、ＬＡＵ、ＬＥＶ、ＬＩＯ、－ＬＩＴ、ＬＯＳ、ＬＯＶ、ＬＴＡ、ＬＴＦ、ＬＴＪ、ＬＴＬ、ＬＴＮ、ＭＡＲ、ＭＡＺ、ＭＥＩ、ＭＥＬ、ＭＥＰ、ＭＥＲ、ＭＦＩ、ＭＦＳ、ＭＯＮ、ＭＯＲ、ＭＯＺ、＊ＭＲＥ、ＭＳＥ、ＭＳＯ、ＭＴＦ、ＭＴＮ、ＭＴＴ、ＭＴＷ、ＭＶＹ、ＭＷＦ、ＭＷＷ、ＮＡＢ、ＮＡＴ、ＮＥＳ、ＮＯＮ、ＮＰＯ、ＮＰＴ、ＮＳＩ、ＯＢＷ、ＯＦＦ、ＯＫＯ、ＯＳＩ、ＯＳＯ、ＯＷＥ、－ＰＡＲ、ＰＡＵ、ＰＣＲ、ＰＨＩ、ＰＯＮ、ＰＯＳ、ＰＳＩ、ＰＵＮ、ＲＨＯ、－ＲＯＮ、ＲＲＯ、ＲＳＮ、ＲＴＥ、ＲＴＨ、ＲＵＴ、ＲＷＲ、ＲＷＹ、ＳＡＦ、ＳＡＯ、ＳＡＳ、ＳＡＴ、ＳＡＶ、ＳＢＥ、ＳＢＮ、ＳＢＳ、ＳＢＴ、ＳＥＷ、ＳＦＥ、ＳＦＦ、ＳＦＧ、ＳＦＨ、ＳＦＮ、ＳＦＯ、ＳＦＳ、＊ＳＦＶ、ＳＦＷ、ＳＧＴ、ＳＩＶ、ＳＯＤ、ＳＯＦ、ＳＯＳ、ＳＳＦ、＊－ＳＳＯ、ＳＳＹ、ＳＴＦ、ＳＴＩ、＊ＳＴＯ、ＳＴＴ、ＳＴＷ、－ＳＶＲ、ＳＶＶ、ＳＺＲ、ＴＥＲ、ＴＨＯ、ＴＯＬ、ＴＯＮ、ＴＳＣ、ＴＵＮ、ＵＥＩ、ＵＦＩ、ＵＯＳ、ＵＯＶ、ＵＯＺ、ＵＳＩ、ＵＴＬ、ＵＷＹ、ＶＥＴ、ＶＦＩ、ＶＮＩ、ＶＳＶ、ＷＥＩ、－ＷＥＮ、ＹＵＧ、ＺＯＮ、それらの２種以上の混合物、及びそれらの２種以上の混合型、好ましくはＣＨＡ、ＡＥＩ、ＢＥＡ、ＭＦＩ、ＦＡＵ、ＦＥＲ、ＲＴＨ、ＬＥＶ、ＤＤＲ、ＫＦＩ、ＥＲＩ、ＡＦＸ、それらの２種以上の混合物、及びそれらの２種以上の混合型からなる群から選択される骨格型を有する、第１コーティング；
（ｉｉｉ）前記基材軸方向長さの２０～１００％にわたって延びる第２コーティングであって、前記第２コーティングがチタニアを含む第１酸化物材料を含み、前記第２コーティングの少なくとも７５質量％がチタニアからなり、前記第２コーティングの０～０．０１質量％が、Ｖ２Ｏ５として計算される１種以上の酸化バナジウムからなる、第２コーティング
を含む、選択的接触還元触媒。
（ｉ）入口端部、出口端部、前記入口端部から前記出口端部まで延びる基材軸方向長さ、及びそれを通って延びるフロースルー基材の内壁によって規定される複数の通路を含む、フロースルー基材；
（ｉｉ）前記内壁と前記通路との間の界面を規定する前記基材の前記内壁の表面に適用された第１コーティングであって、前記第１コーティングが前記基材軸方向長さの４０～１００％にわたって延び、前記第１コーティングが銅及び鉄の１つ以上を含むゼオライト材料を含み、前記ゼオライト材料が、ＡＢＷ、ＡＣＯ、ＡＥＩ、ＡＥＬ、ＡＥＮ、ＡＥＴ、ＡＦＧ、ＡＦＩ、ＡＦＮ、ＡＦＯ、ＡＦＲ、ＡＦＳ、ＡＦＴ、ＡＦＶ、ＡＦＸ、ＡＦＹ、ＡＨＴ、ＡＮＡ、ＡＰＣ、ＡＰＤ、ＡＳＴ、ＡＳＶ、ＡＴＮ、ＡＴＯ、ＡＴＳ、ＡＴＴ、ＡＴＶ、ＡＶＬ、ＡＷＯ、ＡＷＷ、ＢＣＴ、ＢＥＡ、ＢＥＣ、ＢＩＫ、ＢＯＦ、ＢＯＧ、ＢＯＺ、ＢＰＨ、ＢＲＥ、ＢＳＶ、ＣＡＮ、ＣＡＳ、ＣＤＯ、ＣＦＩ、ＣＧＦ、ＣＧＳ、ＣＨＡ、－ＣＨＩ、－ＣＬＯ、ＣＯＮ、ＣＳＶ、ＣＺＰ、ＤＡＣ、ＤＤＲ、ＤＦＯ、ＤＦＴ、ＤＯＨ、ＤＯＮ、ＥＡＢ、ＥＤＩ、ＥＥＩ、ＥＭＴ、ＥＯＮ、ＥＰＩ、ＥＲＩ、ＥＳＶ、ＥＴＲ、ＥＵＯ、＊－ＥＷＴ、ＥＺＴ、ＦＡＲ、ＦＡＵ、ＦＥＲ、ＦＲＡ、ＧＩＳ、ＧＩＵ、ＧＭＥ、ＧＯＮ、ＧＯＯ、ＨＥＵ、ＩＦＯ、ＩＦＲ、－ＩＦＵ、ＩＦＷ、ＩＦＹ、ＩＨＷ、ＩＭＦ、ＩＲＮ、ＩＲＲ、－ＩＲＹ、ＩＳＶ、ＩＴＥ、ＩＴＧ、ＩＴＨ、＊－ＩＴＮ、ＩＴＲ、ＩＴＴ、－ＩＴＶ、ＩＴＷ、ＩＷＲ、ＩＷＳ、ＩＷＶ、ＩＷＷ、ＪＢＷ、ＪＮＴ、ＪＯＺ、ＪＲＹ、ＪＳＮ、ＪＳＲ、ＪＳＴ、ＪＳＷ、ＫＦＩ、ＬＡＵ、ＬＥＶ、ＬＩＯ、－ＬＩＴ、ＬＯＳ、ＬＯＶ、ＬＴＡ、ＬＴＦ、ＬＴＪ、ＬＴＬ、ＬＴＮ、ＭＡＲ、ＭＡＺ、ＭＥＩ、ＭＥＬ、ＭＥＰ、ＭＥＲ、ＭＦＩ、ＭＦＳ、ＭＯＮ、ＭＯＲ、ＭＯＺ、＊ＭＲＥ、ＭＳＥ、ＭＳＯ、ＭＴＦ、ＭＴＮ、ＭＴＴ、ＭＴＷ、ＭＶＹ、ＭＷＦ、ＭＷＷ、ＮＡＢ、ＮＡＴ、ＮＥＳ、ＮＯＮ、ＮＰＯ、ＮＰＴ、ＮＳＩ、ＯＢＷ、ＯＦＦ、ＯＫＯ、ＯＳＩ、ＯＳＯ、ＯＷＥ、－ＰＡＲ、ＰＡＵ、ＰＣＲ、ＰＨＩ、ＰＯＮ、ＰＯＳ、ＰＳＩ、ＰＵＮ、ＲＨＯ、－ＲＯＮ、ＲＲＯ、ＲＳＮ、ＲＴＥ、ＲＴＨ、ＲＵＴ、ＲＷＲ、ＲＷＹ、ＳＡＦ、ＳＡＯ、ＳＡＳ、ＳＡＴ、ＳＡＶ、ＳＢＥ、ＳＢＮ、ＳＢＳ、ＳＢＴ、ＳＥＷ、ＳＦＥ、ＳＦＦ、ＳＦＧ、ＳＦＨ、ＳＦＮ、ＳＦＯ、ＳＦＳ、＊ＳＦＶ、ＳＦＷ、ＳＧＴ、ＳＩＶ、ＳＯＤ、ＳＯＦ、ＳＯＳ、ＳＳＦ、＊－ＳＳＯ、ＳＳＹ、ＳＴＦ、ＳＴＩ、＊ＳＴＯ、ＳＴＴ、ＳＴＷ、－ＳＶＲ、ＳＶＶ、ＳＺＲ、ＴＥＲ、ＴＨＯ、ＴＯＬ、ＴＯＮ、ＴＳＣ、ＴＵＮ、ＵＥＩ、ＵＦＩ、ＵＯＳ、ＵＯＶ、ＵＯＺ、ＵＳＩ、ＵＴＬ、ＵＷＹ、ＶＥＴ、ＶＦＩ、ＶＮＩ、ＶＳＶ、ＷＥＩ、－ＷＥＮ、ＹＵＧ、ＺＯＮ、それらの２種以上の混合物、及びそれらの２種以上の混合型、好ましくはＣＨＡ、ＡＥＩ、ＢＥＡ、ＭＦＩ、ＦＡＵ、ＦＥＲ、ＲＴＨ、ＬＥＶ、ＤＤＲ、ＫＦＩ、ＥＲＩ、ＡＦＸ、それらの２種以上の混合物、及びそれらの２種以上の混合型からなる群から選択される骨格型を有する、第１コーティング；
（ｉｉｉ）前記基材軸方向長さの２０～１００％にわたって延びる第２コーティングであって、前記第２コーティングがチタニアを含む第１酸化物材料を含み、前記第２コーティングの少なくとも７５質量％がチタニアからなり、前記第２コーティングの０～０．０１質量％が、Ｖ２Ｏ５として計算される１種以上の酸化バナジウムからなる、第２コーティング
を含む、選択的接触還元触媒。
【0098】
１．ディーゼルエンジンの排気ガスを処理するための選択的接触還元触媒、好ましくは実施態様１ａに記載の選択的接触還元触媒であって、前記選択的接触還元触媒は、
（ｉ）入口端部、出口端部、前記入口端部から前記出口端部まで延びる基材軸方向長さ、及びそれを通って延びるフロースルー基材の内壁によって規定される複数の通路を含むフロースルー基材；
（ｉｉ）前記内壁と前記通路との間の界面を規定する前記基材の前記内壁の表面に適用された第１コーティングであって、前記第１コーティングが前記基材軸方向長さの４０～１００％にわたって延び、前記第１コーティングが銅及び鉄の１つ以上を含む８員環の多孔性ゼオライト材料を含む、第１コーティング；
（ｉｉｉ）前記基材軸方向長さの２０～１００％にわたって延びる第２コーティングであって、前記第２コーティングがチタニアを含む第１酸化物材料を含み、前記第２コーティングの少なくとも７５質量％が、ＴｉＯ２として計算されるチタニアからなり、前記第２コーティングの０～０．０１質量％が、Ｖ２Ｏ５として計算される１種以上の酸化バナジウムからなる、第２コーティング
を含む、選択的接触還元触媒。
（ｉ）入口端部、出口端部、前記入口端部から前記出口端部まで延びる基材軸方向長さ、及びそれを通って延びるフロースルー基材の内壁によって規定される複数の通路を含むフロースルー基材；
（ｉｉ）前記内壁と前記通路との間の界面を規定する前記基材の前記内壁の表面に適用された第１コーティングであって、前記第１コーティングが前記基材軸方向長さの４０～１００％にわたって延び、前記第１コーティングが銅及び鉄の１つ以上を含む８員環の多孔性ゼオライト材料を含む、第１コーティング；
（ｉｉｉ）前記基材軸方向長さの２０～１００％にわたって延びる第２コーティングであって、前記第２コーティングがチタニアを含む第１酸化物材料を含み、前記第２コーティングの少なくとも７５質量％が、ＴｉＯ２として計算されるチタニアからなり、前記第２コーティングの０～０．０１質量％が、Ｖ２Ｏ５として計算される１種以上の酸化バナジウムからなる、第２コーティング
を含む、選択的接触還元触媒。
【0099】
２．（ｉｉ）による前記第１コーティングは、前記基材軸方向長さの、５０～１００％にわたって、好ましくは７５～１００％にわたって、より好ましくは９５～１００％にわたって、より好ましくは９８～１００％にわたって、より好ましくは９９～１００％にわたって、より好ましくは前記基材の前記入口端部から前記出口端部に向かって、又はより好ましくは前記基材の前記出口端部から前記入口端部に向かって延びる、実施態様１に記載の選択的接触還元触媒。
【0100】
３．（ｉｉｉ）による前記第２コーティングは、前記基材の前記入口端部から前記出口端部に向かって延びる、実施態様１又は２に記載の選択的接触還元触媒。
【0101】
４．（ｉｉｉ）による前記第２コーティングは、前記基材軸方向長さの、５０～１００％にわたって、好ましくは７５～１００％にわたって、より好ましくは９５～１００％にわたって、より好ましくは９８～１００％にわたって、より好ましくは９９～１００％にわたって、より好ましくは前記基材の前記入口端部から前記出口端部に向かって延び、
（ｉｉ）による前記第１コーティングは、より好ましくは前記基材軸方向長さの９９～１００％にわたって延び、（ｉｉｉ）による前記第２コーティングは、より好ましくは前記基材軸方向長さの９９～１００％にわたって延びる、実施態様１から３のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
（ｉｉ）による前記第１コーティングは、より好ましくは前記基材軸方向長さの９９～１００％にわたって延び、（ｉｉｉ）による前記第２コーティングは、より好ましくは前記基材軸方向長さの９９～１００％にわたって延びる、実施態様１から３のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【0102】
５．（ｉｉ）による前記第１コーティングは、前記基材軸方向長さの、９８～１００％にわたって、好ましくは９９～１００％にわたって延び、（ｉｉｉ）による前記第２コーティングは、前記基材軸方向長さの、２０～９０％にわたって、好ましくは３０～８０％にわたって、より好ましくは４０～６０％にわたって、より好ましくは４５～５５％にわたって、より好ましくは４８～５２％にわたって、前記基材の前記入口端部から前記出口端部に向かって延びる、実施態様１又は２に記載の選択的接触還元触媒。
【0103】
６．（ｉｉｉ）による前記第２コーティングは、（ｉｉ）による前記第１コーティング上に適用される、実施態様１から５のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【0104】
７．（ｉｉ）による前記第１コーティングは、前記基材軸方向長さの、４０～５０％にわたって、好ましくは４５～５０％にわたって、より好ましくは４８～５０％にわたって、前記基材の前記出口端部から前記入口端部に向かって延び、（ｉｉｉ）による前記第２コーティングは、前記基材軸方向長さの、４０～５０％にわたって、好ましくは４５～５０％にわたって、より好ましくは４８～５０％にわたって、前記基材の前記入口端部から前記出口端部に向かって延びる、実施態様１に記載の選択的接触還元触媒。
【0105】
８．前記第１コーティングに含有される前記８員環の多孔性ゼオライト材料は、ＣＨＡ、ＡＥＩ、ＲＴＨ、ＬＥＶ、ＤＤＲ、ＫＦＩ、ＥＲＩ、ＡＦＸ、それらの２種以上の混合物、及びそれらの２種以上の混合型からなる群から選択される、好ましくはＣＨＡ、ＡＥＩ、ＲＴＨ、それらの２種以上の混合物、及びそれらの２種以上の混合型からなる群から選択される、より好ましくはＣＨＡ及びＡＥＩからなる群から選択される骨格型を有し、より好ましくは、前記第１コーティングに含有される前記８員環の多孔性ゼオライト材料は骨格型ＣＨＡを有し、
前記８員環の多孔性ゼオライト材料は、より好ましくはゼオライトＳＳＺ－１３である、実施態様１から７のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
前記８員環の多孔性ゼオライト材料は、より好ましくはゼオライトＳＳＺ－１３である、実施態様１から７のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【0106】
９．前記第１コーティングに含有される前記ゼオライト材料は銅を含み、ＣｕＯとして計算される前記ゼオライト材料における銅の量は、前記ゼオライト材料の総質量に基づいて、好ましくは０．１～１０質量％の範囲、より好ましくは１．５～５．５質量％の範囲、より好ましくは２．５～４．５質量％の範囲、より好ましくは３．０～４．０質量％の範囲、より好ましくは３．０～３．５質量％の範囲である、実施態様１から８のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【0107】
１０．Ｆｅ２Ｏ３として計算される前記ゼオライト材料に含まれる鉄の量は、前記ゼオライト材料の総質量に基づいて、０～０．０１質量％の範囲、好ましくは０～０．００１質量％の範囲、より好ましくは０～０．０００１質量％の範囲である、実施態様９に記載の選択的接触還元触媒。
【0108】
１１．前記ゼオライト材料の骨格構造の、９５～１００質量％、好ましくは９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％は、Ｓｉ、Ａｌ、Ｏ、及び任意にＨからなり、前記骨格構造において、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３のモル比として計算される、ＳｉとＡｌのモル比は、好ましくは２：１～５０：１の範囲、より好ましくは２：１～４５：１の範囲である、実施態様１から１０のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【0109】
１２．前記ゼオライト材料の前記骨格構造において、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３のモル比として計算される、ＳｉとＡｌのモル比は、１０：１～４０：１の範囲、好ましくは２０：１～３５：１の範囲、より好ましくは２５：１～３５：１の範囲である、実施態様１１に記載の選択的接触還元触媒。
【0110】
１３．前記ゼオライト材料の前記骨格構造において、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３のモル比として計算される、ＳｉとＡｌのモル比は、２：１～１５：１の範囲、好ましくは２：１～１２：１の範囲、より好ましくは３：１～８：１の範囲である、実施態様１１に記載の選択的接触還元触媒。
【0111】
１４．前記第１コーティングに含有される前記ゼオライト材料は鉄を含み、Ｆｅ２Ｏ３として計算される前記ゼオライト材料に含まれる鉄の量は、前記ゼオライト材料の総質量に基づいて、好ましくは０．１～１０．０質量％の範囲、より好ましくは０．５～７．０質量％の範囲、より好ましくは１．０～５．５質量％の範囲、より好ましくは２．０～５．５質量％の範囲であり、前記ゼオライト材料の前記骨格構造の、好ましくは９５～１００質量％、より好ましくは９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％は、Ｓｉ、Ａｌ、Ｏ、及び任意にＨからなり、前記骨格構造において、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３のモル比として計算される、ＳｉとＡｌのモル比は、好ましくは２：１～５０：１の範囲、より好ましくは２：１～４５：１の範囲である、実施態様１から９のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【0112】
１５．前記ゼオライト材料の前記骨格構造において、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３のモル比として計算される、ＳｉとＡｌのモル比は、１０：１～４０：１の範囲、好ましくは２０：１～３５：１の範囲、より好ましくは２５：１～３５：１の範囲である、実施態様１４に記載の選択的接触還元触媒。
【0113】
１６．前記ゼオライト材料の前記骨格構造において、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３のモル比として計算される、ＳｉとＡｌのモル比は、２：１～１５：１の範囲、好ましくは２：１～１２：１の範囲、より好ましくは３：１～８：１の範囲である、実施態様１４に記載の選択的接触還元触媒。
【0114】
１７．前記触媒において、前記第１コーティングは、０．５～５ｇ／ｉｎ３の範囲、好ましくは１～４ｇ／ｉｎ３の範囲、より好ましくは１．５～２．５ｇ／ｉｎ３の範囲の装填量で前記ゼオライト材料を含む、実施態様１から１６のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【0115】
１８．前記第１コーティングは酸化物バインダーをさらに含み、前記酸化物バインダーは、好ましくはジルコニア、アルミナ、チタニア、シリカ、並びにＺｒ、Ａｌ、Ｔｉ及びＳｉの２つ以上を含む混合酸化物の１つ以上を含み、より好ましくはシリカ、アルミナ及びジルコニアの１つ以上を含み、より好ましくはアルミナ及びジルコニアの１つ以上、より好ましくはジルコニアを含む、実施態様１から１７のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【0116】
１９．前記触媒において、前記第１コーティングは、０．０５～０．１５ｇ／ｉｎ３の範囲、好ましくは０．０８～０．１４ｇ／ｉｎ３の範囲の装填量で前記酸化物バインダーを含む、実施態様１８に記載の選択的接触還元触媒。
【0117】
２０．前記第１コーティングの、９５～１００質量％、好ましくは９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％は、銅及び鉄の１つ以上を含む８員環の多孔性ゼオライト材料、及び好ましくは実施態様１８又は１９に記載の酸化物バインダーからなる、実施態様１から１９のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【0118】
２１．前記第１コーティングの、０～０．０１質量％、好ましくは０～０．００１質量％、より好ましくは０～０．０００１質量％はチタニアからなり、より好ましくは、前記第１コーティングはチタニアを含まない、実施態様１から２０のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【0119】
２２．前記第１コーティングに含まれる前記ゼオライト材料の前記骨格構造の、０～０．００１質量％、好ましくは０～０．０００１質量％、より好ましくは０～０．００００１質量％はＰからなる、実施態様１から２０のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【0120】
２３．前記第２コーティングの前記第１酸化物材料に含まれるチタニアは、正方晶系及び斜方晶系の１つ以上、好ましくは正方晶系、より好ましくはルチル及びアナターゼ構造の１つ以上、より好ましくはアナターゼ構造を有する、実施態様１から２２のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【0121】
２４．前記第２コーティングの、８５～１００質量％、好ましくは９０～１００質量％、より好ましくは９５～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％はチタニアからなり、チタニアは、好ましくは正方晶系及び斜方晶系の１つ以上、より好ましくは正方晶系、より好ましくはルチル及びアナターゼ構造の１つ以上、より好ましくはアナターゼ構造を有する、実施態様１から２３のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【0122】
２５．前記第２コーティングの前記第１酸化物材料は、酸化セリウム、酸化マグネシウム、酸化ニオブ、酸化ケイ素及び酸化タングステンの１つ以上、より好ましくは酸化セリウム及び酸化タングステンの１つ以上をさらに含む、実施態様１から２４のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【0123】
２６．前記第２コーティングの前記第１酸化物材料は、酸化タングステンをさらに含み、好ましくは、前記第２コーティングの前記第１酸化物材料は、チタニアに含浸された酸化タングステンを含み、より好ましくはチタニアに含浸された酸化タングステンからなる、実施態様２５に記載の選択的接触還元触媒。
【0124】
２７．前記第２コーティングの前記第１酸化物材料の、９０～１００質量％、好ましくは９５～１００質量％、より好ましくは９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％は、チタニア、及び任意に酸化セリウム、酸化マグネシウム、酸化ニオブ、酸化ケイ素及び酸化タングステンの１つ以上、好ましくは酸化セリウム及び酸化タングステンの１つ以上、より好ましくは酸化タングステンからなり、チタニアは、好ましくは正方晶系及び斜方晶系の１つ以上、より好ましくは正方晶系、より好ましくはルチル及びアナターゼ構造の１つ以上、より好ましくはアナターゼ構造を有する、実施態様２５又は２６に記載の選択的接触還元触媒。
【0125】
２８．前記第２コーティングの前記第１酸化物材料の、９９～１００質量％は、８０～９５質量％、好ましくは８５～９２質量％のチタニア、及び５～２０質量％、好ましくは８～１５質量％の、酸化セリウム、酸化マグネシウム、酸化ニオブ、酸化ケイ素及び酸化タングステンの１つ以上、より好ましくは酸化タングステンからなる、実施態様２７に記載の選択的接触還元触媒。
【0126】
２９．前記触媒において、前記第２コーティングは、１５．２６～３０５．１ｇ／ｌ（０．２５～５．０ｇ／ｉｎ３）の範囲、より好ましくは３０．５１～２４４．１ｇ／ｌ（０．５～４．０ｇ／ｉｎ３）の範囲、より好ましくは４５．８～２１３．６ｇ／ｌ（０．７５～３．５ｇ／ｉｎ３）の範囲、より好ましくは４８．８～１８３．１ｇ／ｌ（０．８～３．０ｇ／ｉｎ３）の範囲、より好ましくは５４．９～１２２．０５ｇ／ｌ（０．９～２．０ｇ／ｉｎ３）の範囲の装填量で前記第１酸化物材料を含む、実施態様１から２８のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【0127】
３０．前記第２コーティングは、シリカ、アルミナ、ジルコニア及びセリアの１つ以上、好ましくはシリカ及びアルミナの１つ以上を含む第２酸化物材料をさらに含む、実施態様１から２９のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【0128】
３１．前記第２コーティングは、アルミナ及びシリカ、好ましくはガンマ－アルミナ及びシリカを含み、好ましくはアルミナ及びシリカ、より好ましくはガンマ－アルミナ及びシリカからなり、アルミナ、好ましくはガンマ－アルミナは任意にシリコンを含有するか、又は前記第２酸化物材料は、シリカを含み、好ましくはシリカからなる、実施態様３０に記載の選択的接触還元触媒。
【0129】
３２．前記触媒において、前記第２コーティングは、０．６１～３６．６ｇ／ｌ（０．０１～０．６ｇ／ｉｎ３）の範囲、より好ましくは１．２２～２４．４ｇ／ｌ（０．０２～０．４ｇ／ｉｎ３）の範囲、より好ましくは３．０５～２１．３６ｇ／ｌ（０．０５～０．３５ｇ／ｉｎ３）の範囲の装填量で前記第２酸化物材料を含む、実施態様３０又は３１に記載の選択的接触還元触媒。
【0130】
３３．前記第２コーティングの、９０～１００質量％、好ましくは９５～１００質量％、より好ましくは９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％は、第１酸化物材料、及び実施態様３０から３２のいずれか一項に記載の第２酸化物材料からなる、実施態様１から３２のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【0131】
３４．前記第２コーティングの、０～０．１質量％、好ましくは０～０．０１質量％、より好ましくは０～０．００１質量％はゼオライト材料からなり、より好ましくは、前記第２コーティングはゼオライト材料を含まない、実施態様１から３３のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【0132】
３５．前記ゼオライト材料は銅及び鉄の１つ以上を含む、実施態様３４に記載の選択的接触還元触媒。
【0133】
３６．前記第２コーティングの、０～０．００１質量％、好ましくは０～０．０００１質量％は１種以上の酸化バナジウムからなり、より好ましくは、前記第２コーティングは酸化バナジウムを含まない、実施態様１から３５のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【0134】
３７．前記第２コーティングの、０～０．００１質量％、好ましくは０～０．０００１質量％は、白金及びパラジウムの１つ以上、より好ましくは白金、パラジウム及びロジウムの１つ以上、より好ましくは１種以上の貴金属からなる、実施態様１から３６のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【0135】
３８．前記第１コーティングの、９５～１００質量％、好ましくは９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％は、骨格型ＣＨＡを有し、かつ銅を含むゼオライト材料、及び好ましくは実施態様１８又は１９に記載の酸化物バインダーからなり、
前記第２コーティングの、９０～１００質量％、好ましくは９５～１００質量％、より好ましくは９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％は、前記第１酸化物材料、及び実施態様３０から３２のいずれか一項に記載の第２酸化物材料からなり、
前記第１酸化物材料の、９５～１００質量％、好ましくは９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％はチタニアからなり、好ましくは、チタニアは、正方晶系及び斜方晶系の１つ以上、より好ましくは正方晶系、より好ましくはルチル及びアナターゼ構造の１つ以上、より好ましくはアナターゼ構造を有し、前記第２酸化物材料は、アルミナ及びシリカの１つ以上を含み、好ましくはアルミナ及びシリカの１つ以上からなる、実施態様１から３７のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
前記第２コーティングの、９０～１００質量％、好ましくは９５～１００質量％、より好ましくは９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％は、前記第１酸化物材料、及び実施態様３０から３２のいずれか一項に記載の第２酸化物材料からなり、
前記第１酸化物材料の、９５～１００質量％、好ましくは９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％はチタニアからなり、好ましくは、チタニアは、正方晶系及び斜方晶系の１つ以上、より好ましくは正方晶系、より好ましくはルチル及びアナターゼ構造の１つ以上、より好ましくはアナターゼ構造を有し、前記第２酸化物材料は、アルミナ及びシリカの１つ以上を含み、好ましくはアルミナ及びシリカの１つ以上からなる、実施態様１から３７のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【0136】
３９．前記第１コーティングの、９５～１００質量％、好ましくは９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％は、骨格型ＣＨＡを有し、かつ銅を含むゼオライト材料、及び好ましくは実施態様１８又は１９に記載の酸化物バインダーからなり、
前記第２コーティングの、９０～１００質量％、好ましくは９５～１００質量％、より好ましくは９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％は、前記第１酸化物材料、及び実施態様３０から３２のいずれか一項に記載の第２酸化物材料からなり、
前記第１酸化物材料の、９５～１００質量％、好ましくは９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％はチタニア及び酸化タングステンからなり、好ましくは、チタニアは、正方晶系及び斜方晶系の１つ以上、より好ましくは正方晶系、より好ましくはルチル及びアナターゼ構造の１つ以上、より好ましくはアナターゼ構造を有し、前記第１酸化物材料の９９～１００質量％は、８０～９５質量％、より好ましくは８５～９２質量％のチタニア、及び５～２０質量％、より好ましくは８～１５質量％の酸化タングステンからなり、前記第２酸化物材料は、アルミナ及びシリカの１つ以上を含み、好ましくはアルミナ及びシリカの１つ以上からなる、実施態様１から３７のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
前記第２コーティングの、９０～１００質量％、好ましくは９５～１００質量％、より好ましくは９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％は、前記第１酸化物材料、及び実施態様３０から３２のいずれか一項に記載の第２酸化物材料からなり、
前記第１酸化物材料の、９５～１００質量％、好ましくは９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％はチタニア及び酸化タングステンからなり、好ましくは、チタニアは、正方晶系及び斜方晶系の１つ以上、より好ましくは正方晶系、より好ましくはルチル及びアナターゼ構造の１つ以上、より好ましくはアナターゼ構造を有し、前記第１酸化物材料の９９～１００質量％は、８０～９５質量％、より好ましくは８５～９２質量％のチタニア、及び５～２０質量％、より好ましくは８～１５質量％の酸化タングステンからなり、前記第２酸化物材料は、アルミナ及びシリカの１つ以上を含み、好ましくはアルミナ及びシリカの１つ以上からなる、実施態様１から３７のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【0137】
４０．前記触媒において、前記第１コーティングは総装填量（ｌ１）を有し、前記第２コーティングは総装填量（ｌ２）を有し、前記第１コーティングの総装填量の前記第２コーティングの総装填量に対する比、（ｌ１）：（ｌ２）は、０．５：１～５：１の範囲、好ましくは０．７５：１～３：１の範囲、より好ましくは１：１～２：１の範囲である、実施態様１から３９のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【0138】
４１．前記フロースルー基材は、セラミック物質又は金属物質を含み、好ましくはセラミック物質又は金属物質からなる、実施態様１から４０のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【0139】
４２．前記フロースルー基材は、セラミック物質を含み、好ましくはセラミック物質からなり、好ましくは、セラミック物質は、アルミナ、シリカ、シリケート、アルミノシリケート、好ましくはコーディエライト又はムライト、アルミノチタネート、シリコンカーバイド、ジルコニア、マグネシア、好ましくはスピネル、及びチタニアの１つ以上、より好ましくはシリコンカーバイド及びコーディエライトの１つ以上、より好ましくはコーディエライトを含み、より好ましくはアルミナ、シリカ、シリケート、アルミノシリケート、好ましくはコーディエライト又はムライト、アルミノチタネート、シリコンカーバイド、ジルコニア、マグネシア、好ましくはスピネル、及びチタニアの１つ以上、より好ましくはシリコンカーバイド及びコーディエライトの１つ以上、より好ましくはコーディエライトからなる、実施態様４１に記載の選択的接触還元触媒。
【0140】
４３．前記フロースルー基材は、金属物質を含み、好ましくは金属物質からなり、好ましくは、金属物質が、酸素、並びに鉄、クロム及びアルミニウムの１つ以上を含み、より好ましくは酸素、並びに鉄、クロム及びアルミニウムの１つ以上からなる、実施態様４１に記載の選択的接触還元触媒。
【0141】
４４．前記基材は、２．５４～２５．４ｃｍ（１～１０インチ）の範囲、好ましくは５．０８～２０．３２ｃｍ（２～８インチ）の範囲、より好ましくは１０．１６～１９．０５ｃｍ（４～７．５インチ）の範囲、より好ましくは１２．７～１７．７８ｃｍ（５～７インチ）の範囲の基材長さを有する、実施態様１から４３のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【0142】
４５．前記基材は、１０．１６～４３．１８ｃｍ（４～１７インチ）の範囲、好ましくは１７．７８～３８．１０ｃｍ（７～１５インチ）の範囲、より好ましくは２０．３２～３５．５６ｃｍ（８～１４インチ）の範囲、より好ましくは２２．８６～３３．０２ｃｍ（９～１３インチ）の範囲、より好ましくは２２．８６～２７．９４ｃｍ（９～１１インチ）の範囲の基材幅を有する、実施態様１から４４のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【0143】
４６．前記選択的接触還元触媒の、９５～１００質量％、好ましくは９８～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％、より好ましくは９９．５～１００質量％は、前記フロースルー基材、前記第１コーティング及び前記第２コーティングからなる、実施態様１から４５のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【0144】
４７．ディーゼルエンジンから出る排気ガス流を処理するための排気ガス処理システムであって、前記排気ガス処理システムは前記排気ガス流を前記排気ガス処理システムに導入するための上流端部を有し、前記排気ガス処理システムは、
（Ａ）ディーゼル酸化触媒（ＤＯＣ）であって、前記ディーゼル酸化触媒が基材に適用されたコーティングを含み、前記コーティングが、好ましくは、酸化物材料に担持されている、パラジウム、白金及びロジウムの１つ以上、より好ましくはパラジウム及び白金、より好ましくは白金を含む、ディーゼル酸化触媒（ＤＯＣ）、
（Ｂ）１つ以上の実施態様１から４６のいずれか一項に記載の選択的接触還元（ＳＣＲ）触媒
を含み、
（Ａ）による前記ディーゼル酸化触媒は、（Ｂ）による前記１つ以上の選択的接触還元触媒の上流に配置され、好ましくは、（Ａ）によるディーゼル酸化触媒が、前記排気ガス処理システムの一番目の触媒であり、前記排気ガス処理システムの前記上流端部の下流に配置され、
前記排気ガス処理システムが、任意に、（Ａ）による前記ディーゼル酸化触媒の下流及び（Ｂ）による前記１つ以上の選択的接触還元触媒の上流に配置される、フィルター、好ましくは触媒付すすフィルターをさらに含む、排気ガス処理システム。
（Ａ）ディーゼル酸化触媒（ＤＯＣ）であって、前記ディーゼル酸化触媒が基材に適用されたコーティングを含み、前記コーティングが、好ましくは、酸化物材料に担持されている、パラジウム、白金及びロジウムの１つ以上、より好ましくはパラジウム及び白金、より好ましくは白金を含む、ディーゼル酸化触媒（ＤＯＣ）、
（Ｂ）１つ以上の実施態様１から４６のいずれか一項に記載の選択的接触還元（ＳＣＲ）触媒
を含み、
（Ａ）による前記ディーゼル酸化触媒は、（Ｂ）による前記１つ以上の選択的接触還元触媒の上流に配置され、好ましくは、（Ａ）によるディーゼル酸化触媒が、前記排気ガス処理システムの一番目の触媒であり、前記排気ガス処理システムの前記上流端部の下流に配置され、
前記排気ガス処理システムが、任意に、（Ａ）による前記ディーゼル酸化触媒の下流及び（Ｂ）による前記１つ以上の選択的接触還元触媒の上流に配置される、フィルター、好ましくは触媒付すすフィルターをさらに含む、排気ガス処理システム。
【0145】
４８．前記ディーゼル酸化触媒の前記コーティングに含まれる前記酸化物材料は、ジルコニア、アルミナ、チタニア及びシリカの１つ以上、好ましくはジルコニア及びチタニアの１つ以上、より好ましくはチタニアを含む、実施態様４７に記載の排気ガス処理システム。
【0146】
４９．前記ディーゼル酸化触媒の前記コーティングは、アルミナ、シリカ及びジルコニアの１つ以上、好ましくはアルミナ及びジルコニアの１つ以上、より好ましくはアルミナ及びジルコニアをさらに含む、実施態様４７又は４８に記載の排気ガス処理システム。
【0147】
５０．前記ディーゼル酸化触媒の前記コーティングの、９０～１００質量％、好ましくは９５～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％は、酸化物材料、好ましくはチタニアに担持されているパラジウム、白金及びロジウムの１つ以上、並びに、好ましくはアルミナ、シリカ及びジルコニアの１つ以上、好ましくはアルミナ及びジルコニアの１つ以上、より好ましくはアルミナ及びジルコニアからなる、実施態様４７から４９のいずれか一項に記載の排気ガス処理システム。
【0148】
５１．前記ディーゼル酸化触媒の前記コーティングは、０．１１～１．１０ｇ／ｌ（３～３０ｇ／ｆｔ３）の範囲、好ましくは０．１８～０．７１ｇ／ｌ（５～２０ｇ／ｆｔ３）の範囲、より好ましくは０．２８～０．４２ｇ／ｌ（８～１２ｇ／ｆｔ３）の範囲の前記触媒における装填量で、パラジウム、白金及びロジウムの１つ以上を含む、実施態様４７から５０のいずれか一項に記載の排気ガス処理システム。
【0149】
５２．前記ディーゼル酸化触媒の前記コーティングは、３０．５１ｇ／ｌ～３０５．１ｇ／ｌ（０．５～５ｇ／ｉｎ３）の範囲、好ましくは４５．７７～１２２．０５ｇ／ｌ（０．７５～２ｇ／ｉｎ３）の範囲、より好ましくは４８．８２～９１．５４ｇ／ｌ（０．８０～１．５ｇ／ｉｎ３）の範囲の前記触媒における装填量で、パラジウム、白金及びロジウムの１つ以上を担持する前記酸化物材料を含む、実施態様４７から５１のいずれか一項に記載の排気ガス処理システム。
【0150】
５３．前記ディーゼル酸化触媒の前記基材は、フロースルー基材であり、セラミック物質又は金属物質を含み、好ましくはセラミック物質又は金属物質からなる、実施態様４７から５２のいずれか一項に記載の排気ガス処理システム。
【0151】
５４．前記フロースルー基材は、セラミック物質を含み、好ましくはセラミック物質からなり、好ましくは、前記セラミック物質が、好ましくはアルミナ、シリカ、シリケート、アルミノシリケート、好ましくはコーディエライト又はムライト、アルミノチタネート、シリコンカーバイド、ジルコニア、マグネシア、好ましくはスピネル、及びチタニアの１つ以上、より好ましくはシリコンカーバイド及びコーディエライトの１つ以上、より好ましくはコーディエライトを含み、より好ましくはアルミナ、シリカ、シリケート、アルミノシリケート、好ましくはコーディエライト又はムライト、アルミノチタネート、シリコンカーバイド、ジルコニア、マグネシア、好ましくはスピネル、及びチタニアの１つ以上、より好ましくはシリコンカーバイド及びコーディエライトの１つ以上、より好ましくはコーディエライトからなるか、又は
前記フロースルー基材は、金属物質を含み、好ましくは金属物質からなり、好ましくは、前記金属物質が、酸素、並びに鉄、クロム及びアルミニウムの１つ以上を含み、より好ましくは酸素、並びに鉄、クロム及びアルミニウムの１つ以上からなる、実施態様５４に記載の排気ガス処理システム。
前記フロースルー基材は、金属物質を含み、好ましくは金属物質からなり、好ましくは、前記金属物質が、酸素、並びに鉄、クロム及びアルミニウムの１つ以上を含み、より好ましくは酸素、並びに鉄、クロム及びアルミニウムの１つ以上からなる、実施態様５４に記載の排気ガス処理システム。
【0152】
５５．前記ディーゼル酸化触媒の前記基材は、２．５４～２５．４ｃｍ（１～１０インチ）の範囲、好ましくは５．０８～２０．３２ｃｍ（２～８インチ）の範囲、より好ましくは１０．１６～１９．０５ｃｍ（４～７．５インチ）の範囲、より好ましくは１２．７～１７．７８ｃｍ（５～７インチ）の範囲の基材長さを有する、実施態様４７から５４のいずれか一項に記載の排気ガス処理システム。
【0153】
５６．前記ディーゼル酸化触媒の前記基材は、１２．７～４５．７２ｃｍ（５～１８インチ）の範囲、好ましくは２０．３２～４０．６４ｃｍ（８～１６インチ）の範囲、より好ましくは２５．４～３５．５６ｃｍ（１０～１４インチ）の範囲、より好ましくは２７．９４～３３．０２ｃｍ（１１～１３インチ）の範囲の基材幅を有する、実施態様４７から５５のいずれか一項に記載の排気ガス処理システム。
【0154】
５７．前記ディーゼル酸化触媒の、９０～１００質量％、好ましくは９５～１００質量％、より好ましくは９９～１００質量％は、前記コーティング及び前記基材からなる、実施態様４７から５６のいずれか一項に記載の排気ガス処理システム。
【0155】
５８．前記１つ以上の選択的接触還元触媒（Ｂ）の下流に配置されるアンモニア酸化触媒をさらに含む、実施態様４７から５７のいずれか一項に記載の排気ガス処理システム。
【0156】
５９．ディーゼルエンジンから出る排気ガス流を処理するための排気ガス処理システムであって、前記排気ガス処理システムは前記排気ガス流を前記排気ガス処理システムに導入するための上流端部を有し、前記排気ガス処理システムは、実施態様１から４６のいずれか一項に記載の第１選択的接触還元触媒、並びに、ディーゼル酸化触媒、第２選択的接触還元触媒、アンモニア酸化触媒及びフィルターの１つ以上を含み、
前記ディーゼル酸化触媒、第２選択的接触還元触媒、アンモニア酸化触媒及びフィルターの１つ以上は、前記第１選択的接触還元触媒の下流に配置され、好ましくは、前記第１選択的接触還元触媒は、前記排気ガス処理システムの一番目の触媒であり、前記排気ガス処理システムの前記上流端部の下流に配置され、
より好ましくは、前記排気ガス処理システムは、前記第１選択的接触還元触媒、及び前記選択的接触還元触媒の下流に配置される、フィルター、より好ましくは触媒付パティキュレートフィルターを含むか、又は
より好ましくは、前記排気ガス処理システムは、前記第１選択的接触還元触媒、ディーゼル酸化触媒、及びフィルター、より好ましくは触媒付パティキュレートフィルターを含み、前記ディーゼル酸化触媒は、前記選択的接触還元触媒の下流及び前記フィルターの上流に配置される、排気ガス処理システム。
前記ディーゼル酸化触媒、第２選択的接触還元触媒、アンモニア酸化触媒及びフィルターの１つ以上は、前記第１選択的接触還元触媒の下流に配置され、好ましくは、前記第１選択的接触還元触媒は、前記排気ガス処理システムの一番目の触媒であり、前記排気ガス処理システムの前記上流端部の下流に配置され、
より好ましくは、前記排気ガス処理システムは、前記第１選択的接触還元触媒、及び前記選択的接触還元触媒の下流に配置される、フィルター、より好ましくは触媒付パティキュレートフィルターを含むか、又は
より好ましくは、前記排気ガス処理システムは、前記第１選択的接触還元触媒、ディーゼル酸化触媒、及びフィルター、より好ましくは触媒付パティキュレートフィルターを含み、前記ディーゼル酸化触媒は、前記選択的接触還元触媒の下流及び前記フィルターの上流に配置される、排気ガス処理システム。
【0157】
６０．選択的接触還元触媒、好ましくは実施態様１から４６のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒を製造する方法であって、
（ａ）銅及び鉄の１つ以上を含む８員環の多孔性ゼオライト材料の源、及び水を含む第１スラリーを製造する工程と、
（ｂ）基材軸方向長さの４０～１００％にわたってフロースルー基材の内壁の表面に工程（ａ）で得られた前記第１スラリーを適用して、スラリー処理基材を得る工程であって、前記フロースルー基材が、入口端部、出口端部、前記入口端部から前記出口端部まで延びる基材軸方向長さ、及びそれを通って延びる基材の内壁によって規定される複数の通路を含み、前記基材の前記内壁の表面が前記内壁と前記通路との間の界面を規定する、工程と、
（ｃ）工程（ｂ）で得られた前記スラリー処理基材を乾燥させて、それに適用された第１コーティングを有する基材を得る工程と、
（ｄ）任意に、工程（ｃ）で得られたそれに適用された第１コーティングを有する前記基材をか焼する工程と、
（ｅ）チタニアを含む第１酸化物材料、及び水を含む第２スラリーを製造する工程であって、前記第１酸化物材料が任意に、酸化セリウム、酸化マグネシウム、酸化ニオブ、酸化ケイ素及び酸化タングステンの１つ以上、好ましくは酸化タングステンを含み、前記第２スラリーが、好ましくは第２酸化物材料を含む、工程と、
（ｆ）前記基材軸方向長さの２０～１００％にわたって、好ましくは前記基材の前記入口端部から前記基材の前記出口端部に向かって、工程（ｅ）で得られた前記第２スラリーを、工程（ｃ）で得られた、任意に工程（ｄ）で得られたそれに適用された第１コーティングを有する前記基材に適用して、スラリー処理基材を得る工程と、
（ｇ）工程（ｆ）で得られた前記スラリー処理基材を乾燥させて、それに適用された第１コーティング及び第２コーティングを有する基材を得る工程と、
（ｈ）工程（ｇ）で得られたそれに適用された第１コーティング及び第２コーティングを有する前記基材をか焼して、選択的接触還元触媒を得る工程であって、前記第２コーティングの０～０．０１質量％が、Ｖ２Ｏ５として計算される１種以上の酸化バナジウムからなり、前記第２コーティングの少なくとも７５質量％が、ＴｉＯ２として計算されるチタニアからなる、工程と
を含む、方法。
（ａ）銅及び鉄の１つ以上を含む８員環の多孔性ゼオライト材料の源、及び水を含む第１スラリーを製造する工程と、
（ｂ）基材軸方向長さの４０～１００％にわたってフロースルー基材の内壁の表面に工程（ａ）で得られた前記第１スラリーを適用して、スラリー処理基材を得る工程であって、前記フロースルー基材が、入口端部、出口端部、前記入口端部から前記出口端部まで延びる基材軸方向長さ、及びそれを通って延びる基材の内壁によって規定される複数の通路を含み、前記基材の前記内壁の表面が前記内壁と前記通路との間の界面を規定する、工程と、
（ｃ）工程（ｂ）で得られた前記スラリー処理基材を乾燥させて、それに適用された第１コーティングを有する基材を得る工程と、
（ｄ）任意に、工程（ｃ）で得られたそれに適用された第１コーティングを有する前記基材をか焼する工程と、
（ｅ）チタニアを含む第１酸化物材料、及び水を含む第２スラリーを製造する工程であって、前記第１酸化物材料が任意に、酸化セリウム、酸化マグネシウム、酸化ニオブ、酸化ケイ素及び酸化タングステンの１つ以上、好ましくは酸化タングステンを含み、前記第２スラリーが、好ましくは第２酸化物材料を含む、工程と、
（ｆ）前記基材軸方向長さの２０～１００％にわたって、好ましくは前記基材の前記入口端部から前記基材の前記出口端部に向かって、工程（ｅ）で得られた前記第２スラリーを、工程（ｃ）で得られた、任意に工程（ｄ）で得られたそれに適用された第１コーティングを有する前記基材に適用して、スラリー処理基材を得る工程と、
（ｇ）工程（ｆ）で得られた前記スラリー処理基材を乾燥させて、それに適用された第１コーティング及び第２コーティングを有する基材を得る工程と、
（ｈ）工程（ｇ）で得られたそれに適用された第１コーティング及び第２コーティングを有する前記基材をか焼して、選択的接触還元触媒を得る工程であって、前記第２コーティングの０～０．０１質量％が、Ｖ２Ｏ５として計算される１種以上の酸化バナジウムからなり、前記第２コーティングの少なくとも７５質量％が、ＴｉＯ２として計算されるチタニアからなる、工程と
を含む、方法。
【0158】
６１．工程（ａ）は、
（ａ．１）酸化物バインダー、好ましくはジルコニルアセテートを、銅及び鉄の１つ以上を含む８員環の多孔性ゼオライト材料及び水と混合して、第１スラリーを得ることと、
（ａ．２）３～１５マイクロメーターの範囲、好ましくは５～１３マイクロメーターの範囲、より好ましくは８～１２マイクロメーターの範囲の、参考例１に記載されているように決定された粒径Ｄｖ９０に、（ａ．１）で得られた前記第１スラリーを粉砕することと
を含む、実施態様６０に記載の方法。
（ａ．１）酸化物バインダー、好ましくはジルコニルアセテートを、銅及び鉄の１つ以上を含む８員環の多孔性ゼオライト材料及び水と混合して、第１スラリーを得ることと、
（ａ．２）３～１５マイクロメーターの範囲、好ましくは５～１３マイクロメーターの範囲、より好ましくは８～１２マイクロメーターの範囲の、参考例１に記載されているように決定された粒径Ｄｖ９０に、（ａ．１）で得られた前記第１スラリーを粉砕することと
を含む、実施態様６０に記載の方法。
【0159】
６２．工程（ｃ）によれば、工程（ｂ）で得られた前記スラリー処理基材は、９０～２００℃の範囲、好ましくは１００～１５０℃の範囲、より好ましくは１１０～１３０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で乾燥される、実施態様６０又は６１に記載の方法。
【0160】
６３．工程（ｃ）によれば、工程（ｂ）で得られた前記スラリー処理基材は、ガス雰囲気中で、５～６０分間の範囲、好ましくは１０～２０分間の範囲の持続時間で乾燥される、実施態様６０から６２のいずれか一項に記載の方法。
【0161】
６４．工程（ｃ）によれば、工程（ｂ）で得られた前記スラリー処理基材は、９０～２００℃の範囲、好ましくは１３０～１９０℃の範囲、より好ましくは１５５～１７５℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でさらに乾燥される、実施態様６２又は６３に記載の方法。
【0162】
６５．工程（ｃ）によれば、工程（ｂ）で得られた前記スラリー処理基材は、ガス雰囲気中で、１０～８０分間の範囲、好ましくは２０～４０分間の範囲の持続時間でさらに乾燥される、実施態様６２から６４のいずれか一項に記載の方法。
【0163】
６６．工程（ｃ）における前記ガス雰囲気は、空気、希薄空気及び酸素の１つ以上、より好ましくは空気を含み、好ましくは空気、希薄空気及び酸素の１つ以上、より好ましくは空気である、実施態様６２から６５のいずれか一項に記載の方法。
【0164】
６７．工程（ｄ）によれば、工程（ｃ）で得られたそれに適用された第１コーティングを有する前記基材は、３００～６００℃の範囲、好ましくは３５０～５５０℃の範囲、より好ましくは４００～５００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼される、実施態様６０から６６のいずれか一項に記載の方法。
【0165】
６８．工程（ｄ）によれば、工程（ｃ）で得られたそれに適用された第１コーティングを有する前記基材は、ガス雰囲気中で、１０～８０分間の範囲、好ましくは２０～４０分間の範囲の持続時間でか焼される、実施態様６０から６７のいずれか一項に記載の方法。
【0166】
６９．工程（ｄ）における前記ガス雰囲気は、空気、希薄空気及び酸素の１つ以上、より好ましくは空気を含み、好ましくは空気、希薄空気及び酸素の１つ以上、より好ましくは空気である、実施態様６７又は６８に記載の方法。
【0167】
７０．工程（ｅ）は、
（ｅ．１）チタニアを含み、任意に酸化セリウム、酸化マグネシウム、酸化ニオブ、酸化ケイ素及び酸化タングステンの１つ以上、好ましくは酸化タングステンを含む第１酸化物材料を、好ましくはアルミナ及びシリカの１つ以上を含む第２酸化物材料、有機分散剤及び水と混合することと、
（ｅ．２）水酸化アンモニウム溶液の添加により、ｐＨを、３．０～７．０の範囲、好ましくは５．０～６．０の範囲の値に調整して、第２スラリーを得ることと、
を含む、実施態様６０から６９のいずれか一項に記載の方法。
（ｅ．１）チタニアを含み、任意に酸化セリウム、酸化マグネシウム、酸化ニオブ、酸化ケイ素及び酸化タングステンの１つ以上、好ましくは酸化タングステンを含む第１酸化物材料を、好ましくはアルミナ及びシリカの１つ以上を含む第２酸化物材料、有機分散剤及び水と混合することと、
（ｅ．２）水酸化アンモニウム溶液の添加により、ｐＨを、３．０～７．０の範囲、好ましくは５．０～６．０の範囲の値に調整して、第２スラリーを得ることと、
を含む、実施態様６０から６９のいずれか一項に記載の方法。
【0168】
７１．工程（ｇ）によれば、工程（ｆ）で得られた前記スラリー処理基材は、９０～２００℃の範囲、好ましくは１００～１５０℃の範囲、より好ましくは１１０～１３０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で乾燥される、実施態様６０から７０のいずれか一項に記載の方法。
【0169】
７２．工程（ｇ）によれば、工程（ｆ）で得られた前記スラリー処理基材は、ガス雰囲気中で、５～６０分間の範囲、好ましくは１０～２０分間の範囲の持続時間で乾燥される、実施態様６０から７１のいずれか一項に記載の方法。
【0170】
７３．工程（ｇ）によれば、工程（ｆ）で得られた前記スラリー処理基材は、９０～２００℃の範囲、好ましくは１３０～１９０℃の範囲、より好ましくは１５５～１７５℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でさらに乾燥される、実施態様７１又は７２に記載の方法。
【0171】
７４．工程（ｇ）によれば、工程（ｆ）で得られた前記スラリー処理基材は、ガス雰囲気中で、１０～８０分間の範囲、好ましくは２０～４０分間の範囲の持続時間でさらに乾燥される、実施態様７１から７３のいずれか一項に記載の方法。
【0172】
７５．工程（ｇ）における前記ガス雰囲気は、空気、希薄空気及び酸素の１つ以上、より好ましくは空気を含み、好ましくは空気、希薄空気及び酸素の１つ以上、より好ましくは空気である、実施態様７１から７４のいずれか一項に記載の方法。
【0173】
７６．工程（ｈ）によれば、工程（ｇ）で得られたそれに適用された第１コーティング及び第２コーティングを有する前記基材は、３００～６００℃の範囲、好ましくは３５０～５５０℃の範囲、より好ましくは４００～５００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼される、実施態様６０から７５のいずれか一項に記載の方法。
【0174】
７７．工程（ｈ）によれば、工程（ｇ）で得られたそれに適用された第１コーティング及び第２コーティングを有する前記基材は、ガス雰囲気中で、１０～８０分間の範囲、好ましくは２０～４０分間の範囲の持続時間でか焼される、実施態様６０から７６のいずれか一項に記載の方法。
【0175】
７８．工程（ｈ）における前記ガス雰囲気は、空気、希薄空気及び酸素の１つ以上、より好ましくは空気を含み、好ましくは空気、希薄空気及び酸素の１つ以上、より好ましくは空気である、実施態様７６又は７７に記載の方法。
【0176】
７９．噴霧又は前記基材を浸漬することによって、好ましくは前記基材を浸漬することによって、前記第１スラリー及び前記第２スラリーの１つ以上を適用することを含む、実施態様６０から７８のいずれか一項に記載の方法。
【0177】
８０．前記基材軸方向長さの９０～１００％、好ましくは９５～１００％、より好ましくは９９～１００％にわたって、好ましくは前記基材の前記入口端部から前記基材の前記出口端部に向かって又は好ましくは前記基材の前記出口端部から前記基材の前記入口端部に向かって、工程（ａ）で得られた前記第１スラリーを適用することを含む、実施態様６０から７９のいずれか一項に記載の方法。
【0178】
８１．前記基材軸方向長さの９０～１００％、好ましくは９５～１００％、より好ましくは９９～１００％にわたって、前記基材の前記入口端部から前記基材の前記出口端部に向かって、又は
前記基材軸方向長さの２０～９０％、好ましくは３０～８０％、より好ましくは４０～６０％、より好ましくは４５～５５％、より好ましくは４８～５２％にわたって、前記基材の前記入口端部から前記基材の前記出口端部に向かって、工程（ｆ）で得られた前記第２スラリーを適用することを含む、実施態様６０から８０のいずれか一項に記載の方法。
前記基材軸方向長さの２０～９０％、好ましくは３０～８０％、より好ましくは４０～６０％、より好ましくは４５～５５％、より好ましくは４８～５２％にわたって、前記基材の前記入口端部から前記基材の前記出口端部に向かって、工程（ｆ）で得られた前記第２スラリーを適用することを含む、実施態様６０から８０のいずれか一項に記載の方法。
【0179】
８２．前記基材軸方向長さの４０～５０％、好ましくは４５～５０％、より好ましくは４８～５０％にわたって、前記基材の前記出口端部から前記基材の前記入口端部に向かって、工程（ａ）で得られた前記第１スラリーを適用すること、及び前記基材軸方向長さの４０～５０％、好ましくは４５～５０％、より好ましくは４８～５０％にわたって、前記基材の前記入口端部から前記基材の前記出口端部に向かって、工程（ｆ）で得られた前記第２スラリーを適用することを含む、実施態様６０から７９のいずれか一項に記載の方法。
【0180】
８３．（ａ）銅及び鉄の１つ以上を含む８員環の多孔性ゼオライト材料の源、及び水を含む第１スラリーを製造する工程と、
（ｂ）基材軸方向長さの４０～１００％にわたってフロースルー基材の内壁の表面に工程（ａ）で得られた前記第１スラリーを適用して、スラリー処理基材を得る工程であって、前記基材が、入口端部、出口端部、前記入口端部から前記出口端部まで延びる基材軸方向長さ、及びそれを通って延びる基材の内壁によって規定される複数の通路を含み、前記基材の内壁の表面が前記内壁と前記通路との間の界面を規定する、工程と、
（ｃ）工程（ｂ）で得られた前記スラリー処理基材を乾燥させて、それに適用された第１コーティングを有する基材を得る工程と、
（ｄ）任意に、工程（ｃ）で得られたそれに適用された第１コーティングを有する前記基材をか焼する工程と、
（ｅ）チタニアを含む第１酸化物材料、及び水を含む第２スラリーを製造する工程であって、前記第１酸化物材料が任意に、酸化セリウム、酸化マグネシウム、酸化ニオブ、酸化ケイ素及び酸化タングステンの１つ以上、好ましくは酸化タングステンを含み、前記第２スラリーが、好ましくは第２酸化物材料を含む、工程と、
（ｆ）前記基材軸方向長さの２０～１００％にわたって、好ましくは前記基材の前記入口端部から前記基材の前記出口端部に向かって、工程（ｅ）で得られた前記第２スラリーを、工程（ｃ）で得られた、任意に工程（ｄ）で得られたそれに適用された第１コーティングを有する前記基材に適用して、スラリー処理基材を得る工程と、
（ｇ）工程（ｆ）で得られた前記スラリー処理基材を乾燥させて、それに適用された第１コーティング及び第２コーティングを有する基材を得る工程と、
（ｈ）工程（ｇ）で得られたそれに適用された第１コーティング及び第２コーティングを有する前記基材をか焼して、選択的接触還元触媒を得る工程であって、前記第２コーティングの０～０．０１質量％が、Ｖ２Ｏ５として計算される１種以上の酸化バナジウムからなり、前記第２コーティングの少なくとも７５質量％が、ＴｉＯ２として計算されるチタニアからなる、工程と
からなる、実施態様６０から８２のいずれか一項に記載の方法。
（ｂ）基材軸方向長さの４０～１００％にわたってフロースルー基材の内壁の表面に工程（ａ）で得られた前記第１スラリーを適用して、スラリー処理基材を得る工程であって、前記基材が、入口端部、出口端部、前記入口端部から前記出口端部まで延びる基材軸方向長さ、及びそれを通って延びる基材の内壁によって規定される複数の通路を含み、前記基材の内壁の表面が前記内壁と前記通路との間の界面を規定する、工程と、
（ｃ）工程（ｂ）で得られた前記スラリー処理基材を乾燥させて、それに適用された第１コーティングを有する基材を得る工程と、
（ｄ）任意に、工程（ｃ）で得られたそれに適用された第１コーティングを有する前記基材をか焼する工程と、
（ｅ）チタニアを含む第１酸化物材料、及び水を含む第２スラリーを製造する工程であって、前記第１酸化物材料が任意に、酸化セリウム、酸化マグネシウム、酸化ニオブ、酸化ケイ素及び酸化タングステンの１つ以上、好ましくは酸化タングステンを含み、前記第２スラリーが、好ましくは第２酸化物材料を含む、工程と、
（ｆ）前記基材軸方向長さの２０～１００％にわたって、好ましくは前記基材の前記入口端部から前記基材の前記出口端部に向かって、工程（ｅ）で得られた前記第２スラリーを、工程（ｃ）で得られた、任意に工程（ｄ）で得られたそれに適用された第１コーティングを有する前記基材に適用して、スラリー処理基材を得る工程と、
（ｇ）工程（ｆ）で得られた前記スラリー処理基材を乾燥させて、それに適用された第１コーティング及び第２コーティングを有する基材を得る工程と、
（ｈ）工程（ｇ）で得られたそれに適用された第１コーティング及び第２コーティングを有する前記基材をか焼して、選択的接触還元触媒を得る工程であって、前記第２コーティングの０～０．０１質量％が、Ｖ２Ｏ５として計算される１種以上の酸化バナジウムからなり、前記第２コーティングの少なくとも７５質量％が、ＴｉＯ２として計算されるチタニアからなる、工程と
からなる、実施態様６０から８２のいずれか一項に記載の方法。
【0181】
８４．実施態様６０から８３のいずれか一項に記載の方法、好ましくは実施態様８３に記載の方法により得ることができる又は得られる、選択的接触還元触媒、好ましくは実施態様１から４６のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒。
【0182】
８５．実施態様１から４６及び８４のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒を、好ましくはディーゼルエンジンからの排気ガス流に含まれる窒素酸化物の選択的触媒還元に使用する方法。
【0183】
８６．実施態様４７から５９のいずれか一項に記載の排気ガス処理システムを、ディーゼルエンジンからの排気ガス流の処理に使用する方法。
【0184】
８７．窒素酸化物を選択的触媒還元する方法であって、前記窒素酸化物が排気ガス流に含まれ、前記方法が、
（１）好ましくはディーゼルエンジンからの排気ガス流を提供する工程と、
（２）工程（１）で提供された前記排気ガス流を、実施態様１から４６及び８４のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒に通過させる工程と、
を含む、方法。
（１）好ましくはディーゼルエンジンからの排気ガス流を提供する工程と、
（２）工程（１）で提供された前記排気ガス流を、実施態様１から４６及び８４のいずれか一項に記載の選択的接触還元触媒に通過させる工程と、
を含む、方法。
【0185】
８８．ディーゼルエンジンからの排気ガス流を処理する方法であって、前記方法が、
（１’）前記排気ガス流を提供する工程と、
（２’）工程（１’）で提供された前記排気ガス流を、実施態様４７から５９のいずれか一項に記載の排気ガス処理システムに通過させる工程と、
を含む、方法。
（１’）前記排気ガス流を提供する工程と、
（２’）工程（１’）で提供された前記排気ガス流を、実施態様４７から５９のいずれか一項に記載の排気ガス処理システムに通過させる工程と、
を含む、方法。
【0186】
本発明の文脈において、「内壁の表面」という用語は、壁の「覆いのない」又は「飾りのない」又は「空白の」表面、すなわち、表面を汚染する可能性のある任意の避けられない不純物は別として、壁の材料からなる未処理の状態での壁の表面として理解されるべきである。
【0187】
以下の実施例、参考例及び比較例により、本発明をさらに説明する。
【実施例0188】
参考例１：Ｄｖ９０値の決定
Ｓｙｍｐａｔｅｃ ＨＥＬＯＳ装置を使用して静的光散乱法によって、粒径分布を決定し、ここで、サンプルの光学濃度が５～１０％の範囲であった。
Ｓｙｍｐａｔｅｃ ＨＥＬＯＳ装置を使用して静的光散乱法によって、粒径分布を決定し、ここで、サンプルの光学濃度が５～１０％の範囲であった。
【0189】
参考例２：Ｃｕ－ＣＨＡゼオライトの製造
ＵＳ ８ ２９３ １９９ Ｂ２の教示に従って、Ｃｕを含む骨格構造型ＣＨＡを有し、かつ本明細書の実施例に使用されるゼオライト材料を製造した。特に、ＵＳ ８ ２９３ １９９ Ｂ２，コラム１５，２６～５２頁の実施例２を参照した。
ＵＳ ８ ２９３ １９９ Ｂ２の教示に従って、Ｃｕを含む骨格構造型ＣＨＡを有し、かつ本明細書の実施例に使用されるゼオライト材料を製造した。特に、ＵＳ ８ ２９３ １９９ Ｂ２，コラム１５，２６～５２頁の実施例２を参照した。
【0190】
参考例３：ＤＯＣ触媒の製造
最初に、アルミナ（デルタ及びシータ相；９５ｍ２／ｇのＢＥＴ比表面積、０．４７ｍｌ／ｇの総細孔容積、及び１２５マイクロメーターのＤｖ９０）を、アルミナ量の２質量％に相当する量の硝酸（５０％溶液）と組み合わせて滴下した。硝酸の後、固形分が９３質量％に達するまで蒸留水をアルミナに添加し、アルミナ混合物を形成した。
最初に、アルミナ（デルタ及びシータ相；９５ｍ２／ｇのＢＥＴ比表面積、０．４７ｍｌ／ｇの総細孔容積、及び１２５マイクロメーターのＤｖ９０）を、アルミナ量の２質量％に相当する量の硝酸（５０％溶液）と組み合わせて滴下した。硝酸の後、固形分が９３質量％に達するまで蒸留水をアルミナに添加し、アルミナ混合物を形成した。
【0191】
これとは別に、蒸留水、酢酸（白金前駆体溶液の体積の４倍の量をチタニアに添加した）及び水酸化ジルコニウム（５２質量％の固形分、＞３０ｍ３／ｇのＢＥＴ比表面積、及び４５マイクロメーターのＤｖ９０；ＺｒＯ２として計算されたジルコニアの総質量は、か焼後の触媒の最終質量の１２質量％を示す）を一緒に混合した。酢酸の添加によって、この混合物のｐＨを３．５に調整した。この混合物に、アルミナ混合物をジルコニアアセテート溶液（３０質量％の固形分、ＺｒＯ２として計算されたジルコニアアセテートからのジルコニア総質量は、か焼後の触媒の最終質量の３質量％を示す）と一緒に添加した。酢酸を添加して、得られたスラリーのｐＨを３．５に調整した。次に、本明細書の参考例１に記載されているように決定された得られたＤｖ９０が１０マイクロメーターになるまで、スラリーを粉砕した。
【0192】
これとは別に、蒸留水とモノエタノールアミン（ＭＥＡ）の溶液（チタニアの乾燥量の０．２％）、及び１６．６質量％の固形分を有する白金前駆体、すなわち、アミン安定化ヒドロキソＰｔ（ＩＶ）錯体を混合した。この混合物に、チタニア（ＴｉＯ２、アナターゼ相、１１０ｍ２/ｇのＢＥＴ比表面積及び＞１０ｎｍの平均細孔径を有する）を添加して、スラリーを形成した。か焼後の触媒中の最終的なチタニア装填量は１ｇ／ｉｎ３に相当した。さらに、酢酸と蒸留水との１：１の混合物（白金前駆体溶液の１／５の体積）をこのスラリーに添加した。
【0193】
粉砕したアルミナ－ジルコニアのスラリーをＰｔ－チタニアのスラリーに添加した。その後、蒸留水とスクロースとの１：１の混合物（か焼後の触媒の最終質量の０．６質量％）もスラリーに添加した。この次に、オクタノール（か焼後の触媒の最終質量の２質量％）を添加した。さらに、アルミナバインダー（８０質量％の固形分、１８５ｍ２／ｇのＢＥＴ比表面積、４５マイクロメーターのＤｖ８０）をか焼後の触媒の最終質量の０．１質量％の量で添加した。最後に、モノエタノールアミン（ＭＥＡ）（か焼後の触媒中の最終的なチタニア装填量の１質量％）を再び得られたスラリーに添加し、蒸留水を添加して、４１質量％の最終スラリーの固形分を得た。
【0194】
次に、以下の参考例４に記載されているコーティング方法を使用して、コーティングしていないハニカムコーディエライトモノリス基材（直径３０．４８ｃｍ（１２インチ）×長さ１５．２４ｃｍ（６インチ）、平方センチメートルあたり３００／（２．５４）２セル、及び０．１２７ミリメートル（５ミル）の壁厚を有する円筒形の基材）の全長にわたって、最終スラリーを適用した。その後、基材を、１２５℃の温度で１５分間、１６５℃で３０分間乾燥させ、５９０℃の温度で３０分間か焼した。か焼後の触媒中のウオッシュコート装填量は、１０６．７９ｇ／ｌ（１．７５ｇ／ｉｎ３）であり、６１．０２ｇ／ｌ（１．０ｇ／ｉｎ３）のチタニア、２９．４７ｇ／ｌ（０．４８３ｇ／ｉｎ３）のデルタ／シータアルミナ、１５．２６ｇ／ｌ（０．２５ｇ／ｉｎ３）のジルコニア、及び１．０４ｇ／ｌ（０．０１７ｇ／ｉｎ３）のアルファ－アルミナを含んでいた。か焼後の触媒中の白金含有量は、１０ｇ／ｆｔ３であった。
【0195】
参考例４：一般的なコーティング方法
フロースルー基材を１つ以上のコーティングでコーティングするために、フロースルー基材を、基材の特定の長さで、所定のスラリーの一部に垂直に浸漬した。このようにして、ウォッシュコートは基材の壁に接触した。サンプルを、特定の期間、通常１～１０秒間、スラリー中に放置した。真空を適用して、スラリーを基材中に引き込んだ。次に、基材をスラリーから取り出し、反転させ、基材から排出させることによって過剰なスラリーを基材から除去し、次に、より良好な分布のために圧縮空気を吹き付けた。
フロースルー基材を１つ以上のコーティングでコーティングするために、フロースルー基材を、基材の特定の長さで、所定のスラリーの一部に垂直に浸漬した。このようにして、ウォッシュコートは基材の壁に接触した。サンプルを、特定の期間、通常１～１０秒間、スラリー中に放置した。真空を適用して、スラリーを基材中に引き込んだ。次に、基材をスラリーから取り出し、反転させ、基材から排出させることによって過剰なスラリーを基材から除去し、次に、より良好な分布のために圧縮空気を吹き付けた。
【0196】
実施例１：ＳＣＲ触媒の製造
ａ）本発明による新鮮なＳＣＲ触媒の製造
第１コーティング（底部コーティング）
３０質量％の固形分を有するジルコニル－アセテート混合物を、か焼後の触媒中の最終的なジルコニア装填量（ＺｒＯ２として計算する）が７．０２ｇ／ｌ（０．１１５ｇ／ｉｎ３）であるように、本質的に参考例２のように製造し、１３３．３４ｇ／ｌ（２．１８５ｇ／ｉｎ３）のか焼後の触媒中の最終的なＣｕ－ＣＨＡ装填量に対応するＣｕ－ＣＨＡゼオライト（ＣｕＯとして計算されたＣｕが３．２５質量％、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３モル比が３２）及び脱イオン水と混合した。次に、本明細書の参考例１に記載されているように決定された得られたＤｖ９０が１０マイクロメーターになるまで、得られたスラリーを粉砕した。
ａ）本発明による新鮮なＳＣＲ触媒の製造
第１コーティング（底部コーティング）
３０質量％の固形分を有するジルコニル－アセテート混合物を、か焼後の触媒中の最終的なジルコニア装填量（ＺｒＯ２として計算する）が７．０２ｇ／ｌ（０．１１５ｇ／ｉｎ３）であるように、本質的に参考例２のように製造し、１３３．３４ｇ／ｌ（２．１８５ｇ／ｉｎ３）のか焼後の触媒中の最終的なＣｕ－ＣＨＡ装填量に対応するＣｕ－ＣＨＡゼオライト（ＣｕＯとして計算されたＣｕが３．２５質量％、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３モル比が３２）及び脱イオン水と混合した。次に、本明細書の参考例１に記載されているように決定された得られたＤｖ９０が１０マイクロメーターになるまで、得られたスラリーを粉砕した。
【0197】
次に、参考例４に記載されているコーティング方法を使用して、コーティングしていないハニカムコーディエライトモノリス基材（直径２６．６７ｃｍ（１０．５インチ）×長さ１５．２４ｃｍ（６インチ）、平方センチメートルあたり６００／（２．５４）２セル、及び０．０８６ミリメートル（３．４ミル）の壁厚を有する円筒形の基材）の全長にわたって、スラリーを適用して、第１コーティングを得た。その後、基材を、１２０℃で１５分間、１６５℃で３０分間乾燥させ、次に４５０℃で３０分間か焼した。か焼後の触媒中の第１コーティングのウオッシュコート装填量は、１４０．３５ｇ／ｌ（２．３ｇ／ｉｎ３）であり、１３３．３４ｇ／ｌ（２．１８５ｇ／ｉｎ３）のＣｕ－ＣＨＡ、及び７．０２ｇ／ｌ（０．１１５ｇ／ｉｎ３）のジルコニアを含んでいた。
【0198】
第２コーティング（トップコーティング）
水、及び０．１１ｇ／ｉｎ３のか焼後の触媒中の最終的なＳｉ含有アルミナ装填量に対応するＳｉ含有ガンマ－アルミナ（５質量％のシリカ、１８０ｍ２/ｇのＢＥＴ比表面積、９０マイクロメーターのＤｖ９０、０．６３ｍｌ／ｇの総細孔容積を有するガンマ－Ａｌ２Ｏ３）を用いて、４０質量％の固形分を有する混合物を製造し、本明細書の参考例１に記載されているように決定された得られたＤｖ９０が１２マイクロメーターになるまで粉砕した。
水、及び０．１１ｇ／ｉｎ３のか焼後の触媒中の最終的なＳｉ含有アルミナ装填量に対応するＳｉ含有ガンマ－アルミナ（５質量％のシリカ、１８０ｍ２/ｇのＢＥＴ比表面積、９０マイクロメーターのＤｖ９０、０．６３ｍｌ／ｇの総細孔容積を有するガンマ－Ａｌ２Ｏ３）を用いて、４０質量％の固形分を有する混合物を製造し、本明細書の参考例１に記載されているように決定された得られたＤｖ９０が１２マイクロメーターになるまで粉砕した。
【0199】
これとは別に、蒸留水を、３９質量％の活性含有量及び８のｐＨを有する有機分散剤と混合した。チタニア（ＴｉＯ２として）の乾燥質量に基づいて３質量％として、分散剤の量を計算した。か焼後の触媒中の最終的なチタニア装填量が１．０５ｇ／ｉｎ３になるように、これに、チタニア（ＴｉＯ２－アナターゼ相）を添加してチタニアスラリーを形成した。次に、ガンマ－アルミナ混合物を、０．０１ｇ／ｉｎ３のか焼後の触媒中の最終装填量に対応する量で、チタニアコロイド結合剤（１７質量％の固形分、１のｐＨ、３５マイクロメーターのＤ５０）と共にチタニアスラリーに添加した。
【0200】
水酸化アンモニウム溶液を添加することにより、ｐＨを５．０に設定した。最後に、か焼後の触媒中のシリカの最終装填量が０．０３ｇ／ｉｎ３であるように、コロイド状シリカバインダー（４０質量％の固形分、９．２５のｐＨ、１４２ｍ２／ｇのＢＥＴ比表面積）をスラリーに添加した。蒸留水も添加して、３８質量％の固形分を有する最終スラリーを得た。
【0201】
次に、参考例４に記載されているコーティング方法を使用して、第１コーティングの全長にわたって最終スラリーを適用して、第２コーティングを得た。その後、基材を、１２０℃で１５分間、１６５℃で３０分間乾燥させ、次に４５０℃で３０分間か焼した。か焼後の触媒中の第２コーティングのウオッシュコート装填量は、７３．２３ｇ／ｌ（１．２ｇ／ｉｎ３）であり、６４．６９ｇ／ｌ（１．０６ｇ／ｉｎ３）のチタニア、６．７１ｇ／ｌ（０．１１ｇ／ｉｎ３）のＳｉ安定化ガンマ－アルミナ、及び１．８３ｇ／ｌ（０．０３ｇ／ｉｎ３）のシリカを含んでいた。
【0202】
ｂ） ａ）で得られた触媒のエージング
ａ）で得られた触媒を、空気中６５０℃で５０時間さらにエージングした。
ａ）で得られた触媒を、空気中６５０℃で５０時間さらにエージングした。
【0203】
比較例１：本発明によらないＳＣＲ触媒の製造
第１コーティング（底部コーティング）
３０質量％の固形分を有するジルコニル－アセテート混合物を、触媒中の最終的なジルコニア装填量（ＺｒＯ２として計算する）が３．９７ｇ／ｌ（０．０６５ｇ／ｉｎ３）であるように、本質的に参考例２のように製造し、７５．６７ｇ／ｌ（１．２４ｇ／ｉｎ３）の触媒中の最終的なＣｕ－ＣＨＡ装填量に対応するＣｕ－ＣＨＡゼオライト（ＣｕＯとして計算されたＣｕが３．２５質量％、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３モル比が３２）及び脱イオン水と混合した。次に、本明細書の参考例１に記載されているように決定された得られたＤｖ９０が１０マイクロメーターになるまで、得られたスラリーを粉砕した。
第１コーティング（底部コーティング）
３０質量％の固形分を有するジルコニル－アセテート混合物を、触媒中の最終的なジルコニア装填量（ＺｒＯ２として計算する）が３．９７ｇ／ｌ（０．０６５ｇ／ｉｎ３）であるように、本質的に参考例２のように製造し、７５．６７ｇ／ｌ（１．２４ｇ／ｉｎ３）の触媒中の最終的なＣｕ－ＣＨＡ装填量に対応するＣｕ－ＣＨＡゼオライト（ＣｕＯとして計算されたＣｕが３．２５質量％、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３モル比が３２）及び脱イオン水と混合した。次に、本明細書の参考例１に記載されているように決定された得られたＤｖ９０が１０マイクロメーターになるまで、得られたスラリーを粉砕した。
【0204】
次に、参考例４に記載されているコーティング方法を使用して、コーティングしていないハニカムコーディエライトモノリス基材（直径２６．６７ｃｍ（１０．５インチ）×長さ１５．２４ｃｍ（６インチ）、平方センチメートルあたり６００／（２．５４）２セル、及び０．０８６ミリメートル（３．４ミル）の壁厚を有する円筒形の基材）の全長にわたって、スラリーを適用して、第１コーティングを得た。その後、基材を、１２０℃で１５分間、１６５℃で３０分間乾燥させ、次に４５０℃で３０分間か焼した。か焼後の触媒中の第１コーティングのウオッシュコート装填量は、７９．６３ｇ／ｌ（１．３０５ｇ／ｉｎ３）であり、７５．６７ｇ／ｌ（１．２４ｇ／ｉｎ３）のＣｕ－ＣＨＡ、及び３．９７ｇ／ｌ（０．０６５ｇ／ｉｎ３）のジルコニアを含んでいた。
【0205】
第２コーティング（トップコーティング）
１．５２ｇ／ｉｎ３のか焼後の触媒中の最終的なＦｅ－ＢＥＡ装填量に対応するＦｅ－ＢＥＡゼオライト（Ｆｅ２Ｏ３として計算されたＦｅが１．５質量％、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３モル比が４０）、蒸留水、及び７のｐＨを有する有機分散剤を用いて、４４質量％の固形分を有する混合物を製造した。固形分を４４質量％に固定した。次に、本明細書の参考例１に記載されているように決定された得られたＤｖ９０が５マイクロメーターになるまで、スラリーを粉砕した。その後、１．５２ｇ／ｉｎ３のか焼後の触媒中の最終的なＦｅ－ＭＦＩ装填量に対応するＦｅ－ＭＦＩゼオライト（Ｆｅ２Ｏ３として計算されたＦｅが３．５質量％、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３モル比が２７．５）を、か焼後の触媒中の最終的なシリカ装填量が９．１５ｇ／ｌ（０．１５ｇ／ｉｎ３）であるように、コロイド状シリカバインダー（４０質量％の固形分、９．２５のｐＨ、１４２ｍ２／ｇのＢＥＴ比表面積）と共にスラリーに添加した。か焼後の触媒中の最終的なアルミナ装填量が０．００４ｇ／ｉｎ３であるように、アルファ－アルミナもこれに添加した。次に、本明細書の参考例１に記載されているように決定された得られたＤｖ９０が６マイクロメーターになるまで、得られたスラリーを粉砕した。
１．５２ｇ／ｉｎ３のか焼後の触媒中の最終的なＦｅ－ＢＥＡ装填量に対応するＦｅ－ＢＥＡゼオライト（Ｆｅ２Ｏ３として計算されたＦｅが１．５質量％、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３モル比が４０）、蒸留水、及び７のｐＨを有する有機分散剤を用いて、４４質量％の固形分を有する混合物を製造した。固形分を４４質量％に固定した。次に、本明細書の参考例１に記載されているように決定された得られたＤｖ９０が５マイクロメーターになるまで、スラリーを粉砕した。その後、１．５２ｇ／ｉｎ３のか焼後の触媒中の最終的なＦｅ－ＭＦＩ装填量に対応するＦｅ－ＭＦＩゼオライト（Ｆｅ２Ｏ３として計算されたＦｅが３．５質量％、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３モル比が２７．５）を、か焼後の触媒中の最終的なシリカ装填量が９．１５ｇ／ｌ（０．１５ｇ／ｉｎ３）であるように、コロイド状シリカバインダー（４０質量％の固形分、９．２５のｐＨ、１４２ｍ２／ｇのＢＥＴ比表面積）と共にスラリーに添加した。か焼後の触媒中の最終的なアルミナ装填量が０．００４ｇ／ｉｎ３であるように、アルファ－アルミナもこれに添加した。次に、本明細書の参考例１に記載されているように決定された得られたＤｖ９０が６マイクロメーターになるまで、得られたスラリーを粉砕した。
【0206】
次に、参考例４に記載されているコーティング方法を使用して、第１コーティングの全長にわたって得られたスラリーを適用して、第２コーティングを得た。その後、基材を、１２０℃で１５分間、１６５℃で３０分間乾燥させ、次に４５０℃で３０分間か焼した。か焼後の触媒中の第２コーティングのウオッシュコート装填量は、１９５．２８ｇ／ｌ（３．２ｇ／ｉｎ３）であり、９２．７６ｇ／ｌ（１．５２ｇ／ｉｎ３）のＦｅ－ＢＥＡ、９２．７６ｇ／ｌ（１．５２ｇ／ｉｎ３）のＦｅ－ＭＦＩ、０．２４４ｇ／ｌ（０．００４ｇ／ｉｎ３）のアルファ－アルミナ及び９．１５ｇ／ｌ（０．１５ｇ／ｉｎ３）のシリカを含んでいた。
【0207】
比較例２：本発明によらないＳＣＲ触媒の製造
ａ）本発明によらない新鮮なＳＣＲ触媒の製造
３０質量％の固形分を有するジルコニル－アセテート混合物を、か焼後の触媒中の最終的なジルコニア装填量（ＺｒＯ２として計算する）が０．２２５ｇ／ｉｎ３であるように、本質的に参考例２のように製造し、４．２７５ｇ／ｉｎ３の触媒中の最終的なＣｕ－ＣＨＡ装填量に対応するＣｕ－ＣＨＡゼオライト（ＣｕＯとして計算されたＣｕが３．２５質量％、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３モル比が３２）及び脱イオン水と混合した。次に、本明細書の参考例１に記載されているように決定された得られたＤｖ９０が１０マイクロメーターになるまで、得られたスラリーを粉砕した。
ａ）本発明によらない新鮮なＳＣＲ触媒の製造
３０質量％の固形分を有するジルコニル－アセテート混合物を、か焼後の触媒中の最終的なジルコニア装填量（ＺｒＯ２として計算する）が０．２２５ｇ／ｉｎ３であるように、本質的に参考例２のように製造し、４．２７５ｇ／ｉｎ３の触媒中の最終的なＣｕ－ＣＨＡ装填量に対応するＣｕ－ＣＨＡゼオライト（ＣｕＯとして計算されたＣｕが３．２５質量％、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３モル比が３２）及び脱イオン水と混合した。次に、本明細書の参考例１に記載されているように決定された得られたＤｖ９０が１０マイクロメーターになるまで、得られたスラリーを粉砕した。
【0208】
次に、参考例４に記載されているコーティング方法を使用して、コーティングしていないハニカムコーディエライトモノリス基材（直径２６．６７ｃｍ（１０．５インチ）×長さ１５．２４ｃｍ（６インチ）、平方センチメートルあたり６００／（２．５４）２セル、及び０．０８６ミリメートル（３．４ミル）の壁厚を有する円筒形の基材）の全長にわたって、スラリーを適用して、コーティングを得た。その後、基材を、１２０℃で１５分間、１６５℃で３０分間乾燥させ、次に４５０℃で３０分間か焼した。か焼後の触媒中のウオッシュコート装填量は、２７４．６０ｇ／ｌ（４．５ｇ／ｉｎ３）であり、２６０．８８ｇ／ｌ（４．２７５ｇ／ｉｎ３）のＣｕ－ＣＨＡ、及び１３．７３ｇ／ｌ（０．２２５ｇ／ｉｎ３）のジルコニアを含んでいた。
【0209】
ｂ） ａ）で得られた触媒のエージング
ａ）で得られた触媒を、空気中６５０℃で５０時間エージングした。
ａ）で得られた触媒を、空気中６５０℃で５０時間エージングした。
【0210】
実施例２：実施例１及び比較例１～２のＳＣＲ触媒の使用－ＮＯｘ変換／Ｎ２Ｏ形成
テストのために、平行に配置された２つの実施例１によるＳＣＲ触媒の上流に配置された参考例３に記載のように得られたＤＯＣを含むシステム、及び平行に配置された２つの比較例１によるＳＣＲ触媒の上流に配置された参考例３に記載のように得られたＤＯＣを含むシステム、及び２つの比較例２による触媒を使用するシステムを製造した。実際の排気ガス条件下で、過渡試験サイクル条件下（ＷＨＴＣ－世界調和試験サイクル－高温相）で、これらのシステムを評価した。排気を３０分間蓄積し、高温相サイクルに基づいてＳＣＲ触媒の出口端部で３０分後に変換されたＮＯｘ及び形成されたＮ２Ｏを計算するために統合した。測定条件を図１に示し、結果を図２に示す。
テストのために、平行に配置された２つの実施例１によるＳＣＲ触媒の上流に配置された参考例３に記載のように得られたＤＯＣを含むシステム、及び平行に配置された２つの比較例１によるＳＣＲ触媒の上流に配置された参考例３に記載のように得られたＤＯＣを含むシステム、及び２つの比較例２による触媒を使用するシステムを製造した。実際の排気ガス条件下で、過渡試験サイクル条件下（ＷＨＴＣ－世界調和試験サイクル－高温相）で、これらのシステムを評価した。排気を３０分間蓄積し、高温相サイクルに基づいてＳＣＲ触媒の出口端部で３０分後に変換されたＮＯｘ及び形成されたＮ２Ｏを計算するために統合した。測定条件を図１に示し、結果を図２に示す。
【0211】
図２からわかるように、実施例１の新鮮な触媒で測定されたＮＯｘ変換は５．３２ｇ／ｋＷｈであり、Ｎ２Ｏ形成は０．０５３ｇ/ｋＷｈであった。比較例１の新鮮な触媒で測定されたＮＯｘ変換は４．９４ｇ／ｋＷｈであり、Ｎ２Ｏ形成は０．０５３ｇ/ｋＷｈであった。これは、本発明のＳＣＲ触媒が、その第２コーティング（トップコーティング）にＦｅ－ゼオライトを含む層状ＳＣＲ触媒と比較して、新鮮な条件下で低いＮ２Ｏ生成を維持しながら、改善されたＮＯｘ変換を達成することを示している。さらに、実施例１のエージングした触媒で測定されたＮＯｘ変換は５．３２７ｇ／ｋＷｈであり、Ｎ２Ｏ形成は０．０７６ｇ/ｋＷｈであった。比較例２のエージングした触媒で測定されたＮＯｘ変換は５．４５３ｇ／ｋＷｈであり、Ｎ２Ｏ形成は０．１１５ｇ/ｋＷｈであった。これは、本発明のＳＣＲ触媒が、Ｃｕ－ＣＨＡを含むＳＣＲ触媒と比較して、良好なＮＯｘ変換を示すと同時に、低減されたＮ２Ｏ生成（～３３．６％）を達成することを示している。
【0212】
この実施例は、本発明の触媒が、実際の条件下で低いＮ２Ｏ生成を維持しながら、優れたＮＯｘ変換を示すことを実証している。
【0213】
実施例３：ＳＣＲ触媒の製造
ａ）本発明による新鮮なＳＣＲ触媒の製造
第１コーティング（底部コーティング）
３０質量％の固形分を有するジルコニル－アセテート混合物を、か焼後の触媒中の最終的なジルコニア装填量（ＺｒＯ２として計算する）が６．４１ｇ／ｌ（０．１０５ｇ／ｉｎ３）であるように、本明細書の参考例２に従って製造し、１２１．７４ｇ／ｌ（１．９９５ｇ／ｉｎ３）のか焼後の触媒中の最終的なＣｕ－ＣＨＡ装填量に対応するＣｕ－ＣＨＡゼオライト（ＣｕＯとして計算されたＣｕが３．２５質量％、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３モル比が３２）及び脱イオン水と混合した。次に、本明細書の参考例１に記載されているように決定された得られたＤｖ９０が１０マイクロメーターになるまで、得られたスラリーを粉砕した。
ａ）本発明による新鮮なＳＣＲ触媒の製造
第１コーティング（底部コーティング）
３０質量％の固形分を有するジルコニル－アセテート混合物を、か焼後の触媒中の最終的なジルコニア装填量（ＺｒＯ２として計算する）が６．４１ｇ／ｌ（０．１０５ｇ／ｉｎ３）であるように、本明細書の参考例２に従って製造し、１２１．７４ｇ／ｌ（１．９９５ｇ／ｉｎ３）のか焼後の触媒中の最終的なＣｕ－ＣＨＡ装填量に対応するＣｕ－ＣＨＡゼオライト（ＣｕＯとして計算されたＣｕが３．２５質量％、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３モル比が３２）及び脱イオン水と混合した。次に、本明細書の参考例１に記載されているように決定された得られたＤｖ９０が１０マイクロメーターになるまで、得られたスラリーを粉砕した。
【0214】
次に、参考例４に記載されているコーティング方法を使用して、コーティングしていないハニカムコーディエライトモノリス基材（直径２６．６７ｃｍ（１０．５インチ）×長さ１５．２４ｃｍ（６インチ）、平方センチメートルあたり４００／（２．５４）２セル、及び０．１５２ミリメートル（６ミル）の壁厚を有する円筒形の基材）の全長にわたって、スラリーを適用して、第１コーティングを得た。その後、基材を、１２０℃で１５分間、１６５℃で２０分間乾燥させ、次に４５０℃で３０分間か焼した。か焼後の触媒中の第１コーティングのウオッシュコート装填量は、１２８．１５ｇ／ｌ（２．１ｇ／ｉｎ３）であり、１２１．７４ｇ／ｌ（１．９９５ｇ／ｉｎ３）のＣｕ－ＣＨＡ、及び６．４１ｇ／ｌ（０．１０５ｇ／ｉｎ３）を含んでいた。
【0215】
第２コーティング（トップコーティング）
か焼後の触媒中のチタニア＋タングステンの装填量が１．４３ｇ／ｉｎ３であるように、チタニア（ＴｉＯ２、アナターゼ相、９０質量％、及び１０質量％のＷＯ３として計算されたタングステン、９０ｍ２/ｇのＢＥＴ比表面積、８．６マイクロメーターのＤｖ９０）を、蒸留水、及び３９質量％の活性含有量及び８のｐＨを有する有機分散剤と混合した。有機分散剤の量を、か焼後の触媒中のチタニア＋酸化タングステンの最終装填量の５％に設定し、最終スラリーの固形分を４６質量％に調整した。水酸化アンモニウム溶液を添加することにより、ｐＨを６．３に設定した。最後に、か焼後の触媒中の最終的なシリカ装填量が０．０７ｇ／ｉｎ３であるように、シリカをスラリーに添加した。次に、本明細書の参考例１に記載されているように決定された得られたＤｖ９０が２マイクロメーターになるまで、得られたスラリーを混合した。
か焼後の触媒中のチタニア＋タングステンの装填量が１．４３ｇ／ｉｎ３であるように、チタニア（ＴｉＯ２、アナターゼ相、９０質量％、及び１０質量％のＷＯ３として計算されたタングステン、９０ｍ２/ｇのＢＥＴ比表面積、８．６マイクロメーターのＤｖ９０）を、蒸留水、及び３９質量％の活性含有量及び８のｐＨを有する有機分散剤と混合した。有機分散剤の量を、か焼後の触媒中のチタニア＋酸化タングステンの最終装填量の５％に設定し、最終スラリーの固形分を４６質量％に調整した。水酸化アンモニウム溶液を添加することにより、ｐＨを６．３に設定した。最後に、か焼後の触媒中の最終的なシリカ装填量が０．０７ｇ／ｉｎ３であるように、シリカをスラリーに添加した。次に、本明細書の参考例１に記載されているように決定された得られたＤｖ９０が２マイクロメーターになるまで、得られたスラリーを混合した。
【0216】
次に、参考例４に記載されているコーティング方法を使用して、第１コーティングの全長にわたって得られたスラリーを適用して、第２コーティングを得た。その後、基材を、１２０℃で１５分間、１６５℃で３０分間乾燥させ、４５０℃で３０分間か焼した。か焼後の触媒中の第２コーティングのウオッシュコート装填量は、９１．５３ｇ／ｌ（１．５ｇ／ｉｎ３）であり、８７．２６ｇ／ｌ（１．４３ｇ／ｉｎ３）のチタニア＋酸化タングステン、及び４．２７ｇ／ｌ（０．０７ｇ／ｉｎ３）のシリカを含んでいた。
【0217】
ｂ） ａ）で得られた触媒のエージング
ａ）で得られた触媒を、１０体積％のＨ２Ｏ及び１０体積％のＯ２を有する空気中で、５５０℃で１００時間さらにエージングした。
ａ）で得られた触媒を、１０体積％のＨ２Ｏ及び１０体積％のＯ２を有する空気中で、５５０℃で１００時間さらにエージングした。
【0218】
比較例３：本発明によらないＳＣＲ触媒の製造
ａ）本発明によらない新鮮なＳＣＲ触媒の製造
第１コーティング（底部コーティング）
実施例３の第１コーティングのように、第１コーティングを製造した。
ａ）本発明によらない新鮮なＳＣＲ触媒の製造
第１コーティング（底部コーティング）
実施例３の第１コーティングのように、第１コーティングを製造した。
【0219】
第２コーティング（トップコーティング）
Ｖ２Ｏ５として計算された０．０３７５ｇ／ｉｎ３のか焼後の触媒中の最終的なバナジア装填量に対応するバナジウムオキザラート溶液（３％のバナジウム）を蒸留水と混合し、１．３９２ｇ／ｉｎ３のか焼後の触媒中の最終的なタングステン－チタニア装填量に対応するチタニア（ＴｉＯ２、アナターゼ相、９０質量％、及び１０質量％のＷＯ３、９０ｍ２/ｇのＢＥＴ比表面積、８．６マイクロメーターのＤｖ９０）をゆっくりと添加し、５分間混合した。その後、３９質量％の活性含有量及び８のｐＨを有する有機分散剤を添加した。有機分散剤の量を、か焼後の触媒中の最終的なチタニア＋タングステン装填量の５質量％として計算した。最終スラリーの固形分を４６質量％に設定した。水酸化アンモニウム溶液を添加することにより、ｐＨを５．０に設定した。最後に、か焼後の触媒中の最終的なシリカ装填量が０．０７ｇ／ｉｎ３であるように、シリカをスラリーに添加した。次に、本明細書の参考例１に記載されているように決定された得られたＤｖ９０が２マイクロメーターになるまで、得られたスラリーを混合した。
Ｖ２Ｏ５として計算された０．０３７５ｇ／ｉｎ３のか焼後の触媒中の最終的なバナジア装填量に対応するバナジウムオキザラート溶液（３％のバナジウム）を蒸留水と混合し、１．３９２ｇ／ｉｎ３のか焼後の触媒中の最終的なタングステン－チタニア装填量に対応するチタニア（ＴｉＯ２、アナターゼ相、９０質量％、及び１０質量％のＷＯ３、９０ｍ２/ｇのＢＥＴ比表面積、８．６マイクロメーターのＤｖ９０）をゆっくりと添加し、５分間混合した。その後、３９質量％の活性含有量及び８のｐＨを有する有機分散剤を添加した。有機分散剤の量を、か焼後の触媒中の最終的なチタニア＋タングステン装填量の５質量％として計算した。最終スラリーの固形分を４６質量％に設定した。水酸化アンモニウム溶液を添加することにより、ｐＨを５．０に設定した。最後に、か焼後の触媒中の最終的なシリカ装填量が０．０７ｇ／ｉｎ３であるように、シリカをスラリーに添加した。次に、本明細書の参考例１に記載されているように決定された得られたＤｖ９０が２マイクロメーターになるまで、得られたスラリーを混合した。
【0220】
次に、参考例４に記載されているコーティング方法を使用して、第１コーティングの全長にわたって最終スラリーを適用して、第２コーティングを得た。その後、基材を、１２０℃で１５分間、１６５℃で３０分間乾燥させ、次に４５０℃で３０分間か焼した。か焼後の触媒中の第２コーティングのウオッシュコート装填量は、９２．１４ｇ／ｌ（１．５１ｇ／ｉｎ３）であり、８５．４３ｇ／ｌ（１．４ｇ／ｉｎ３）のチタニア＋酸化タングステン、４．２７ｇ／ｌ（０．０７ｇ／ｉｎ３）のシリカ、及び２．２９ｇ／ｌ（０．０３７５ｇ／ｉｎ３）のバナジウム（Ｖ２Ｏ５として計算する）を含んでいた。
【0221】
ｂ） ａ）で得られた触媒のエージング
ａ）で得られた触媒を、１０体積％のＨ２Ｏ及び１０体積％のＯ２を有する空気中で、５５０℃で１００時間さらにエージングした。
ａ）で得られた触媒を、１０体積％のＨ２Ｏ及び１０体積％のＯ２を有する空気中で、５５０℃で１００時間さらにエージングした。
【0222】
比較例４：本発明によらないＳＣＲ触媒の製造
ａ）本発明によらない新鮮なＳＣＲ触媒の製造
３０質量％の固形分を有するジルコニル－アセテート混合物を、か焼後の触媒中の最終的なジルコニア装填量（ＺｒＯ２として計算する）が６．４１ｇ／ｌ（０．１０５ｇ／ｉｎ３）であるように、本明細書の参考例２に従って製造し、１２１．７４ｇ／ｌ（１．９９５ｇ／ｉｎ３）のか焼後の触媒中の最終的なＣｕ－ＣＨＡ装填量に対応するＣｕ－ＣＨＡゼオライト（ＣｕＯとして計算されたＣｕが３．２５質量％、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３モル比が３２）及び脱イオン水と混合した。次に、本明細書の参考例１に記載されているように決定された得られたＤｖ９０が１０マイクロメーターになるまで、得られたスラリーを粉砕した。
ａ）本発明によらない新鮮なＳＣＲ触媒の製造
３０質量％の固形分を有するジルコニル－アセテート混合物を、か焼後の触媒中の最終的なジルコニア装填量（ＺｒＯ２として計算する）が６．４１ｇ／ｌ（０．１０５ｇ／ｉｎ３）であるように、本明細書の参考例２に従って製造し、１２１．７４ｇ／ｌ（１．９９５ｇ／ｉｎ３）のか焼後の触媒中の最終的なＣｕ－ＣＨＡ装填量に対応するＣｕ－ＣＨＡゼオライト（ＣｕＯとして計算されたＣｕが３．２５質量％、ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３モル比が３２）及び脱イオン水と混合した。次に、本明細書の参考例１に記載されているように決定された得られたＤｖ９０が１０マイクロメーターになるまで、得られたスラリーを粉砕した。
【0223】
次に、参考例４に記載されているコーティング方法を使用して、コーティングしていないハニカムコーディエライトモノリス基材（直径２６．６７ｃｍ（１０．５インチ）×長さ１５．２４ｃｍ（６インチ）、平方センチメートルあたり４００／（２．５４）２セル、及び０．１５２ミリメートル（６ミル）の壁厚を有する円筒形の基材）の全長にわたって、スラリーを適用して、コーティングを得た。その後、基材を、１２０℃で１５分間、１６５℃で２０分間乾燥させ、次に４５０℃で３０分間か焼した。か焼後の触媒中のウオッシュコート装填量は、１２８．１５ｇ／ｌ（２．１ｇ／ｉｎ３）であり、１２１．７４ｇ／ｌ（１．９９５ｇ／ｉｎ３）のＣｕ－ＣＨＡ、及び６．４１ｇ／ｌ（０．１０５ｇ／ｉｎ３）を含んでいた。
【0224】
ｂ） ａ）で得られた触媒のエージング
ａ）で得られた触媒を、１０体積％のＨ２Ｏ及び１０体積％のＯ２を有する空気中で、５５０℃で１００時間エージングした。
ａ）で得られた触媒を、１０体積％のＨ２Ｏ及び１０体積％のＯ２を有する空気中で、５５０℃で１００時間エージングした。
【0225】
実施例４：実施例３及び比較例３～４のＳＣＲ触媒の使用－ＮＯｘ変換及びＮ２Ｏ生成
テストのために、実際の排気ガス条件下で、過渡試験サイクル条件下（ＷＨＴＣ－世界調和試験サイクル）で、実施例３及び比較例３～４のＳＣＲ触媒をそれぞれ評価した。サイクルを３０回繰り返した（ＷＨＴＣ－第１サイクルが低温相で、その後のサイクルが高温相で）。排気を３０分間蓄積し、ＳＣＲ触媒の出口端部で３０分後に変換されたＮＯｘ及び形成されたＮ２Ｏを計算するために統合した。高温相サイクルに基づいて、Ｎ２Ｏ生成のＮＯｘ変換に対する比をさらに計算した。測定条件を図３に示しており、結果を以下の表１～４に示している。
テストのために、実際の排気ガス条件下で、過渡試験サイクル条件下（ＷＨＴＣ－世界調和試験サイクル）で、実施例３及び比較例３～４のＳＣＲ触媒をそれぞれ評価した。サイクルを３０回繰り返した（ＷＨＴＣ－第１サイクルが低温相で、その後のサイクルが高温相で）。排気を３０分間蓄積し、ＳＣＲ触媒の出口端部で３０分後に変換されたＮＯｘ及び形成されたＮ２Ｏを計算するために統合した。高温相サイクルに基づいて、Ｎ２Ｏ生成のＮＯｘ変換に対する比をさらに計算した。測定条件を図３に示しており、結果を以下の表１～４に示している。
【0226】
【表1】
【0227】
【表2】
【0228】
表１及び２からわかるように、実施例３の新鮮な触媒により、実際の排気ガス条件下で、ＮＯｘ変換とＮ２Ｏ生成との間の優れたバランスを得ることができる。特に、これは、０．０２２～０．０３０の亜酸化窒素生成のＮＯｘ変換に対する低い比によって示される。さらに、ＮＯｘ変換、及び０．０２４ｇ／ｋＷｈを超えないＮ２Ｏ生成は、３０サイクル後も安定する。それと比較して、比較例４の新鮮な触媒は、サイクル後に安定性の低いＮＯｘ変換を示し、特に、新鮮な条件下で０．０４２～０．０５４ｇ／ｋＷｈの高いＮ２Ｏ（これは本発明によるＮ２Ｏ生成の２倍である）を示す。亜酸化窒素生成のＮＯｘ変換に対する比は、本発明の触媒で得られた比より約３倍高い。さらに、比較例３の新鮮な触媒は、安定なＮＯｘ変換を示すが、本発明の触媒と比較して低いＮＯｘ変換、及び新鮮な条件下で、特に本発明の触媒と比較して１．５～１．８倍高いＮ２Ｏ生成を示し、亜酸化窒素生成のＮＯｘ変換に対する比は、本発明の触媒で得られた比より約２倍高い。これらの表は、実施例３の新鮮な触媒が、実際の排気ガス条件下で、比較例の触媒と比較して、改善された触媒性能を示すことを実証している。
【0229】
【表3】
【0230】
【表4】
【0231】
表３及び４からわかるように、実施例３のエージングした触媒によっても、実際の排気ガス条件下で、ＮＯｘ変換とＮ２Ｏ生成との間の優れたバランスを得ることができる。特に、これは、０．０２８～０．０３７の亜酸化窒素生成のＮＯｘ変換に対する低い比によって示される。さらに、ＮＯｘ変換、及び０．０１７ｇ／ｋＷｈを超えないＮ２Ｏ生成は、３０サイクル後も安定する。それと比較して、比較例４のエージングした触媒で得られたＮＯｘ変換はサイクル後に約１４％減少し、Ｎ２Ｏ生成は本発明の触媒で得られたものよりも少なくとも２倍高い。したがって、亜酸化窒素生成のＮＯｘ変換に対する比は、本発明の触媒で得られた比より約２倍高い。さらに、比較例３のエージングした触媒は、本発明の触媒よりもわずかに高い安定なＮＯｘ変換を示す。しかしながら、Ｎ２Ｏ生成は、本発明の触媒を使用する場合に測定したＮ２Ｏ生成より約４倍高い。亜酸化窒素生成のＮＯｘ変換に対する比は、本発明の触媒で得られた比より約３．５～３．７倍高い。これらの結果は、実施例３の触媒（新鮮及びエージングした）が、実際の排気ガス条件下で、比較例の触媒と比較して、改善された触媒性能を示すことを実証している。
【0232】
実施例４は、本発明のＳＣＲ触媒（新鮮及びエージングした）の特定の組成が、実際の排気ガス条件下で、Ｎ２Ｏ生成を低減することを可能にすると同時に、優れたＮＯｘ変換を得ることができることを実証している。これは、本発明のＳＣＲ触媒が改善された触媒性能を有し、安定であり、また硫酸化に対してより耐性があることを示している。
【0233】
引用文献
－ Ｙｉｓｕｎ Ｃｈｅｎｇら，ディーゼルＳＣＲ触媒の耐硫黄性及びＤｅＳＯｘ研究，ＳＡＥ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｊｏｕｒｎａｌ Ｆｕｅｌｓ ａｎｄ Ｌｕｂｒｉｃａｎｔｓ １（１)，４７１～４７６頁，２００８年
－ Ｋｒｉｓｈｎａ Ｋａｍａｓａｍｕｄｒａｍら，ディーゼル後処理システムにおけるＮ２Ｏの形成及び緩和，Ｃｕｍｍｉｎｓ Ｉｎｃ．，ＳＡＥ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｊｏｕｒｎａｌ Ｅｎｇｉｎｅｓ ５（２），６８８～６９８頁，２０１２年
－ Ａｓｈｏｋ Ｋｕｍａｒら，ゼオライトベースのＳＣＲ触媒の触媒機能及び硫酸化挙動に及ぼす遷移金属イオン特性の影響，ＳＡＥ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｊｏｕｒｎａｌ Ｅｎｇｉｎｅｓ １０（４），１６０４～１６１２頁，２０１７年
－ ＵＳ ８ ２９３ １９９ Ｂ２
－ ＵＳ ５ ０４７ ３７８ Ｂ
－ ＣＮ １０５ ９４４ ７５５ Ａ
－ Ｙｉｓｕｎ Ｃｈｅｎｇら，ディーゼルＳＣＲ触媒の耐硫黄性及びＤｅＳＯｘ研究，ＳＡＥ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｊｏｕｒｎａｌ Ｆｕｅｌｓ ａｎｄ Ｌｕｂｒｉｃａｎｔｓ １（１)，４７１～４７６頁，２００８年
－ Ｋｒｉｓｈｎａ Ｋａｍａｓａｍｕｄｒａｍら，ディーゼル後処理システムにおけるＮ２Ｏの形成及び緩和，Ｃｕｍｍｉｎｓ Ｉｎｃ．，ＳＡＥ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｊｏｕｒｎａｌ Ｅｎｇｉｎｅｓ ５（２），６８８～６９８頁，２０１２年
－ Ａｓｈｏｋ Ｋｕｍａｒら，ゼオライトベースのＳＣＲ触媒の触媒機能及び硫酸化挙動に及ぼす遷移金属イオン特性の影響，ＳＡＥ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｊｏｕｒｎａｌ Ｅｎｇｉｎｅｓ １０（４），１６０４～１６１２頁，２０１７年
－ ＵＳ ８ ２９３ １９９ Ｂ２
－ ＵＳ ５ ０４７ ３７８ Ｂ
－ ＣＮ １０５ ９４４ ７５５ Ａ
【図1】
【図2】
【図3】
【外国語明細書】