特開 2024-98968 ＣＭＰスラリー供給用マルチノズル及び半導体ＣＭＰ装備

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2024098968

(43)【公開日】2024-07-24

(54)【発明の名称】ＣＭＰスラリー供給用マルチノズル及び半導体ＣＭＰ装備

(51)【国際特許分類】

   B05B 7/04 20060101AFI20240717BHJP

   B05B 1/14 20060101ALI20240717BHJP

   H01L 21/304 20060101ALI20240717BHJP

【ＦＩ】

B05B7/04

B05B1/14 Z

H01L21/304 621D

【審査請求】有

【請求項の数】18

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2024000553

(22)【出願日】2024-01-05

(31)【優先権主張番号】10-2023-0004253

(32)【優先日】2023-01-11

(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR

(71)【出願人】

【識別番号】524008801

【氏名又は名称】エスケー ハイニックス インコーポレーテッド

(71)【出願人】

【識別番号】524008812

【氏名又は名称】ジョンウ ナノ－テクノロジー カンパニー リミテッド

(74)【代理人】

【識別番号】110000660

【氏名又は名称】Ｋｎｏｗｌｅｄｇｅ Ｐａｒｔｎｅｒｓ弁理士法人

(72)【発明者】

【氏名】ハ，ヨン ジョ

(72)【発明者】

【氏名】パク，ジョン ヨル

(72)【発明者】

【氏名】バン，ジュン ホ

(72)【発明者】

【氏名】オ，ヨン ソク

【テーマコード（参考）】

4F033

5F057

【Ｆターム（参考）】

4F033AA14

4F033BA04

4F033BA06

4F033DA05

4F033EA01

4F033LA09

4F033LA12

4F033QA03

4F033QB03X

4F033QB09X

4F033QB15X

4F033QD02

4F033QD11

4F033QE05

4F033QE23

4F033QF01X

4F033QF16X

4F033QK04X

5F057AA12

5F057AA42

5F057BA11

5F057CA11

5F057DA03

5F057FA42

(57)【要約】      （修正有）

【課題】本願は、捨てられるスラリー量を最小化してコスト節減になるＣＭＰスラリー供給用マルチノズルを提供する。
【解決手段】スラリー、及び、超純水供給部に貯蔵した超純水を供給するように連結されるフィッティングユニット１００と、フィッティングユニット１００の先端に結合し、スラリー、又は、超純水を一定に分配して複数個のラインを介して吐出するバッファタンクユニット２００と、バッファタンクユニット２００の先端に連結される複数個のチューブ３００と、各々の前記チューブ３００と連結されてスラリー、又は、超純水を研磨パッドに供給する噴射ノズルユニット４００と、で構成される。本発明によれば、複数個の噴射ノズル４４０を介してスラリーをパッドの中央から外側にドロップすることにより、パッド全体にスラリーを均等に塗布して平坦化工程の効率性を増加させ、捨てられるスラリー量を最小化してコスト節減することができる。
【選択図】図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

スラリー供給部に貯蔵したスラリー、及び、超純水供給部に貯蔵した超純水(Deionized)を供給するように連結されるフィッティングユニット１００と、
前記フィッティングユニット１００の先端に結合し、スラリー、又は、超純水を一定に分配して複数個のラインを介して吐出するバッファタンクユニット２００と、
前記バッファタンクユニット２００の先端に連結される複数個のチューブ３００と、
各々の前記チューブ３００と連結されてスラリー、又は、超純水を研磨パッドに供給する噴射ノズルユニット４００と、で構成される
ことを特徴とするＣＭＰスラリー供給用マルチノズル１。

【請求項2】

前記フィッティングユニット１００は、
スラリーを供給するスラリー供給ライン１１０、及び、超純水を供給する超純水供給ライン１２０と、
前記スラリー供給ライン１１０、及び、前記超純水供給ライン１２０と連結される第１吐出ライン１３０が形成される
ことを特徴とする請求項1に記載のＣＭＰスラリー供給用マルチノズル１。

【請求項3】

前記超純水供給ライン１２０には、
前記スラリー供給ライン１１０を介して供給するスラリーが前記超純水供給ライン１２０側に逆流することを防止するように逆流防止チェックバルブ１４０が形成される
ことを特徴とする請求項２に記載のＣＭＰスラリー供給用マルチノズル１。

【請求項4】

前記バッファタンクユニット２００は、
内側に空間が形成されるカバー部材２１０と、前記カバー部材２１０の空間に停止してスラリー、又は、超純水を分配する分配ハウジング２２０が形成される
ことを特徴とする請求項１に記載のＣＭＰスラリー供給用マルチノズル１。

【請求項5】

前記分配ハウジング２２０は、末端中央に円錐形態の流体引込溝２２１と、
前記流体引込溝２２１の表面の周囲に形成される複数個の流体移動孔２２２と、各々の前記流体移動孔２２２と連結される複数個の第２吐出ライン２２３が形成される
ことを特徴とする請求項４に記載のＣＭＰスラリー供給用マルチノズル１。

【請求項6】

前記フィッティングユニット１００と前記分配ハウジング２２０の間には、
スラリー供給ライン１１０、及び、第１吐出ライン１３０を介してスラリーを前記分配ハウジング２２０側に供給する過程でスラリーをスプレッドさせるとか、スラリーに含まれた異物が濾過されるようにメッシュプレート２３０が形成される
ことを特徴とする請求項４に記載のＣＭＰスラリー供給用マルチノズル１。

【請求項7】

前記第２吐出ライン２２３は、
前記分配ハウジング２２０の水平軸を中心に円形に配置される
ことを特徴とする請求項５に記載のＣＭＰスラリー供給用マルチノズル１。

【請求項8】

前記チューブ３００は前記第２吐出ライン２２３と連結され、
前記チューブ３００と前記第２吐出ライン２２３は連結ニップル２４０を介して連結される
ことを特徴とする請求項５に記載のＣＭＰスラリー供給用マルチノズル１。

【請求項9】

前記噴射ノズルユニット４００は、
前記バッファタンクユニット２００と結合する連結プレート４１０と、
前記連結プレート４１０の先端に結合するベースプレート４２０と、
前記ベースプレート４２０の先端に作業者の操作可否によって角度が調節されるノズルブロック４３０と、
前記ノズルブロック４３０に結合し、前記チューブ３００と連結される噴射ノズル４４０から形成される
ことを特徴とする請求項１に記載のＣＭＰスラリー供給用マルチノズル１。

【請求項10】

前記ノズルブロック４３０は、前記ベースプレート４２０に形成されるヒンジ部４３１と、
前記ヒンジ部４３１と結合して、前記ヒンジ部４３１を中心に回転し、複数個の角度調節孔４３３と複数個の噴射ノズル停止孔４３４が各々形成される回転ブロック部材４３２と、
前記ベースプレート４２０に回転可能に形成され挿入される前記角度調節孔４３３によって前記回転ブロック部材４３２の角度を調節することができる固定部材４３５で形成される
ことを特徴とする請求項９に記載のＣＭＰスラリー供給用マルチノズル１。

【請求項11】

前記噴射ノズル４４０は、
前記チューブ３００が挿入されるフィッティングヘッド４４１と、スラリー、又は、超純水を噴射するノズル管４４２で形成される
ことを特徴とする請求項９に記載のＣＭＰスラリー供給用マルチノズル１。

【請求項12】

前記噴射ノズル４４０は、８個で形成される
ことを特徴とする請求項９に記載のＣＭＰスラリー供給用マルチノズル１。

【請求項13】

前記ベースプレート４２０の側面にはバンパー溝４２１が陥没し形成され、前記回転ブロック部材４３２の側面には、前記回転ブロック部材４３２が前記ヒンジ部４３１を中心に回転する過程で、前記回転ブロック部材４３２の最大回転が行われると、前記バンパー溝４２１に挿入されるようにバンパーストッパ４３６が形成される
ことを特徴とする請求項１０に記載のＣＭＰスラリー供給用マルチノズル１。

【請求項14】

前記ヒンジ部４３１の末端には昇降突起４３１ａが突出し形成され、
前記ベースプレート４２０には、前記昇降突起４３１ａが挿入されて、前記ヒンジ部４３１が上昇、又は、下降するように昇降ガイド溝４２２が打孔し形成される
ことを特徴とする請求項１０に記載のＣＭＰスラリー供給用マルチノズル１。

【請求項15】

前記チューブ３００の外側面には菱形形状の固定シール部材３１０を具備し、
前記フィッティングヘッド４４１の内側面には前記固定シール部材３１０が挿入され、固定されるように菱形形状の結合溝４４３が形成される
ことを特徴とする請求項１１に記載のＣＭＰスラリー供給用マルチノズル1。

【請求項16】

前記フィッティングユニット１００の末端には、
前記スラリー供給ライン１１０と連結されて、成分が異なるスラリーを混合して供給できるようにスラリー混合ユニット５００が形成される
ことを特徴とする請求項２に記載のＣＭＰスラリー供給用マルチノズル１。

【請求項17】

前記スラリー供給部と連結される供給管には圧力センサを具備し、
前記フィッティングユニット１００、前記バッファタンクユニット２００、前記チューブ３００、又は、前記噴射ノズルユニット４００中のいずれか一つがスラリーが硬化するとか、異物により詰まり現象が発生する場合、前記圧力センサが圧力変差を感知して統制室に感知信号を伝達する
ことを特徴とする請求項1に記載のＣＭＰスラリー供給用マルチノズル１。

【請求項18】

スラリー、又は、超純水を一定に分配して、複数個のラインを介して吐出するバッファタンクユニット２００、及び、前記バッファタンクユニット２００と連結されて分割供給したスラリー、又は、超純水を研磨パッドに噴射する噴射ノズルユニット４００が形成されたＣＭＰスラリー供給用マルチノズル１を含む半導体ＣＭＰ装備。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

発明は、ＣＭＰスラリー供給用マルチノズルに関し、スラリー供給部に貯蔵したスラリー（Ｓｌｕｒｒｙ）、及び、超純水供給部に貯蔵した超純水（Ｄｅｉｏｎｉｚｅｄ）を供給するように連結されるフィッティングユニット１００と、そして、前記フィッティングユニット１００の先端に結合し、スラリー、又は、超純水を一定に分配して複数個のラインを介して吐出するバッファタンクユニット２００と、そして、前記バッファタンクユニット２００の先端に連結される複数個のチューブ３００と、各々の前記チューブ３００と連結されてスラリー、又は、超純水を研磨パッドに供給する噴射ノズルユニット４００と、で構成されることを特徴とするＣＭＰスラリー供給用マルチノズルに関する。

【背景技術】

【0002】

一般的に、化学機械的研磨（CMP, chemical mechanical polishing）工程は半導体製造工程中の一つでシリコンウェーハ(silicon wafer)の表面を平坦化する工程として、平坦化工程は図１に示すように、ウェーハの表面にスクラッチの誘発を防止する機能のコンディショナ３０の先端に具備したヘッド２０にウエハを支持した状態で、ウエハ表面をパッド１０に密着した後、スラリー供給アーム４０に形成されたノズル装備５０を介してスラリーをドロップ(Drop)し、ウエハとパッドの間にスラリーを注入して回転力と移動力によりウエハの表面を平坦化する工程をいう。

【0003】

一方、既存のパッド上にスラリーを供給する装置は、一つのノズルを介してスラリーが噴射されることによって、スラリーがパッド全体に均一に塗布されなくて、平坦化工程の効率が低下し、捨てられるスラリーの量が多く、製造コスト上昇の原因となる問題があった。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】大韓民国登録特許公報第10-1681679号

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

本発明は上述した問題点を解決するために考案されたものであり、本発明の目的は、複数個の噴射ノズルを介してスラリーをパッドの中央から外側にドロップすることにより、パッド全体にスラリーが均一に塗布され、平坦化工程の効率性が増加し、捨てられるスラリー量を最小化してコスト節減になるＣＭＰスラリー供給用マルチノズルを提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0006】

上記のような問題点を解決するために、本発明によるＣＭＰスラリー供給用マルチノズルは、スラリー供給部に貯蔵したスラリー（Ｓｌｕｒｒｙ）、及び、超純水供給部に貯蔵した超純水（Ｄｅｉｏｎｉｚｅｄ）を供給するように連結されるフィッティングユニット１００と、そして、前記フィッティングユニット１００の先端に結合し、スラリー、又は、超純水を一定に分配して複数個のラインを介して吐出するバッファタンクユニット２００と、そして、前記バッファタンクユニット２００の先端に連結される複数個のチューブ３００と、各々の前記チューブ３００と連結されてスラリー、又は、超純水を研磨パッドに供給する噴射ノズルユニット４００と、で構成されることを特徴とする。

【0007】

また、前記フィッティングユニット１００は、スラリーを供給するスラリー供給ライン１１０、及び、超純水を供給する超純水供給ライン１２０と、前記スラリー供給ライン１１０、及び、前記超純水供給ライン１２０と連結される第１吐出ライン１３０が形成されることを特徴とする。

【0008】

また、前記超純水供給ライン１２０には、前記スラリー供給ライン１１０を介して供給するスラリーが前記超純水供給ライン１２０側に逆流されることを防止するように逆流防止チェックバルブ１４０が形成されることを特徴とする。

【0009】

また、前記バッファタンクユニット２００は、内側に空間が形成されるカバー部材２１０と、前記カバー部材２１０の空間に停止し、スラリー、又は、超純水を分配する分配ハウジング２２０が形成されることを特徴とする。

【0010】

また、前記分配ハウジング２２０は、末端中央に円錐形態の流体引込溝２２１と、前記流体引込溝２２１の表面の周囲に形成される複数個の流体移動孔２２２と、各々の前記流体移動孔２２２と連結される複数個の第２吐出ライン２２３が形成されることを特徴とする。

【0011】

また、前記フィッティングユニット１００と前記分配ハウジング２２０の間には、前記スラリー供給ライン１１０、及び、前記第１吐出ライン１３０を介してスラリーが分配ハウジング２２０側に供給する過程でスラリーをスプレッドさせるとか、スラリーに含まれた異物が濾過されることができるようにメッシュプレート２３０が形成されることを特徴とする。

【0012】

また、前記第２吐出ライン２２３は、前記分配ハウジング２２０の水平軸を中心に円形に配置されることを特徴とする。

【0013】

また、前記チューブ３００は前記第２吐出ライン２２３と連結され、前記チューブ３００と前記第２吐出ライン２２３は連結ニップル２４０を介して連結されることを特徴とする。

【0014】

また、前記噴射ノズルユニット４００は、前記バッファタンクユニット２００と結合される連結プレート４１０と、前記連結プレート４１０の先端に結合するベースプレート４２０と、前記ベースプレート４２０の先端に作業者の操作可否によって角度が調節されるノズルブロック４３０と、前記ノズルブロック４３０に結合し、前記チューブ３００と連結される噴射ノズル４４０で形成されることを特徴とする。

【0015】

また、前記ノズルブロック４３０は、前記ベースプレート４２０に形成されるヒンジ部４３１と、前記ヒンジ部４３１と結合して前記ヒンジ部４３１を中心に回転し、複数個の角度調節孔４３３と複数個の噴射ノズル停止孔４３４が各々形成される回転ブロック部材４３２と、前記ベースプレート４２０に回転可能に形成されて挿入される前記角度調節孔４３３によって、前記回転ブロック部材４３２の角度を調節することができる固定部材４３５で形成されることを特徴とする。

【0016】

また、前記噴射ノズル４４０は、前記チューブ３００が挿入されるフィッティングヘッド４４１と、スラリー、又は、超純水が噴射されるノズル管４４２で形成されることを特徴とする。

【0017】

また、前記噴射ノズル４４０は８個で形成されることを特徴とする。

【0018】

また、前記ベースプレート４２０の側面にはバンパー溝４２１が陥没し形成され、前記回転ブロック部材４３２の側面には、前記回転ブロック部材４３２が前記ヒンジ部４３１を中心に回転する過程で、前記回転ブロック部材４３２の最大回転が行われると、前記バンパー溝４２１に挿入されるようにバンパーストッパ４３６が形成されることを特徴とする。

【0019】

また、前記ヒンジ部４３１の末端には昇降突起４３１ａが突出し形成され、前記ベースプレート４２０には前記昇降突起４３１ａが挿入され、前記ヒンジ部４３１が上昇、又は、下降するように昇降ガイド溝４２２が打孔し形成されることを特徴とする。

【0020】

また、前記チューブ３００の外側面には菱形形状の固定シール部材３１０を具備し、前記フィッティングヘッド４４１の内側面には前記固定シール部材３１０が挿入され固定されるように菱形形状の結合溝４４３が形成されることを特徴とする。

【0021】

また、前記フィッティングユニット１００の末端には、前記スラリー供給ライン１１０と連結されて成分が異なるスラリーを混合して供給することができるようにスラリー混合ユニット５００が形成されることを特徴とする。

【0022】

また、スラリー供給部と連結される供給管には圧力センサを具備し、前記フィッティングユニット１００、前記バッファタンクユニット２００、前記チューブ３００、又は、噴射ノズルユニット４００中のいずれか一つがスラリーが硬化するとか、異物によって詰まり現象が発生する場合、圧力センサが圧力偏差を感知して統制室に感知信号を伝達することを特徴とする。

【発明の効果】

【0023】

以上のように本発明によれば、パッド上にスラリーが均一に塗布されることにより、平坦化工程の効率性が増加し、コスト節減の長所がある。

【0024】

また、メッシュ網が形成されたメッシュプレートの構成によりスラリーが広がり、各吐出ラインに進入し、移動することにより、各噴射ノズルのスラリーが均一に噴射されることをガイドし、スラリー内に存在し得る異物を濾過して噴射ノズルの詰まり現象などを防止することができるという長所がある。

【0025】

また、パッドの断面積を考慮して、噴射ノズルの個数を決定して配置することにより、効率的なスラリー供給をすることができるという長所がある。

【0026】

また、平面上の噴射ノズルの角度が調節可能に構成されることにより、ＣＭＰ装備社別の装備仕様に合わせて互換され、噴射ノズルの位置を調節することができるという長所がある。

【図面の簡単な説明】

【0027】

【図1】既存のＣＭＰプロセスを介した平坦化の様子を示す実施例図である。

【図2】本発明の好ましい実施例に係るＣＭＰスラリー供給用マルチノズルの全体的な様子を示す斜視図である。

【図3】本発明の好ましい実施例に係るＣＭＰスラリー供給用マルチノズルの構成中のフィッティングユニットの様子を示す斜視図である。

【図4】本発明の好ましい実施例に係るＣＭＰスラリー供給用マルチノズルの構成中のフィッティングユニット断面の様子を示す断面図である。

【図5】本発明の好ましい実施例に係るＣＭＰスラリー供給用マルチノズルの構成中のバッファタンクユニット、及び、チューブの全体様子を示す斜視図である。

【図6】本発明の好ましい実施例に係るＣＭＰスラリー供給用マルチノズルの構成中のバッファタンクユニットの分解された様子を示す分解斜視図である。

【図7】本発明の好ましい実施例に係るＣＭＰスラリー供給用マルチノズルの構成中の分配ハウジングの様子を示す断面斜視図である。

【図8】本発明の好ましい実施例に係るＣＭＰスラリー供給用マルチノズルの構成中のバッファタンクユニット、及び、チューブ断面の様子を示す断面図、及び、拡大図である。

【図9】本発明の好ましい実施例に係るＣＭＰスラリー供給用マルチノズルの構成中の噴射ノズルユニットの全体様子を示す斜視図である。

【図10】本発明の好ましい実施例に係るＣＭＰスラリー供給用マルチノズルの構成中の噴射ノズルユニットの分解された様子を示す分解斜視図である。

【図11】本発明の好ましい実施例に係るＣＭＰスラリー供給用マルチノズルの構成中の噴射ノズルユニットの回転ブロック部材が回転する様子を示す実施例図である。

【図12】本発明の好ましい実施例に係るＣＭＰスラリー供給用マルチノズルの構成中の噴射ノズルが昇降する様子を示す実施例図である。

【図13】本発明の好ましい実施例に係るＣＭＰスラリー供給用マルチノズルの構成中のチューブ、固定シール部材、及び、噴射ノズルが結合した状態での断面様子を示す断面図である。

【図14】本発明の好ましい実施例に係るＣＭＰスラリー供給用マルチノズルにスラリー混合ユニットが装着された様子を示す斜視図である。

【発明を実施するための形態】

【0028】

以下では、添付の図面を参照して、本発明の一実施例によるＣＭＰスラリー供給用マルチノズル１を詳細に説明する。まず、図面のうち、同一の構成要素、又は、部品は可能な限り同一の参照番号で表されていることに留意しなければならない。 本発明の説明において、関連する公知の機能、又は、構成に関する具体的な説明は、本発明の要旨を曖昧にしないために省略する。

【0029】

図１、図２、又は、図３を参照すると、本発明の一実施例に係るＣＭＰスラリー供給用マルチノズル１は、回転テーブル形状であるプラテン(platen)、研磨を行うパッド（ｐａｄ）、ウェーハ(wafer)を垂直に押す力が作用するウェーハキャリア(wafer carrier)、研磨残留物などを除去し、鈍くなったパッドを元の状態に回復させるコンディショナ(conditioner)、及び、スラリーを供給するスラリー供給装置で構成され、CMP(CMP, chemical mechanical polishing)工程を行うCMP装備の構成中に、スラリー供給装置に形成され、スラリー、又は、超純水をパッドに噴射するものとして、大きく、フィッティングユニット100、バッファタンクユニット200、チューブ３００、及び、噴射ノズルユニット４００で構成される。

【0030】

まず、フィッティングユニット１００について説明する。前記フィッティングユニット１００は、図２、図３、又は、図４に示すように、外部に具備した各々のスラリー供給部、及び、超純水供給部と連結され、工程によりスラリー(Slurry)、又は、超純水（Deionized）が供給され、後述するバッファタンクユニット２００への移動を可能にする構成要素として、スラリー供給ライン１１０、超純水供給ライン１２０、第１吐出ライン１３０、及び、逆流防止チェックバルブ１４０で構成される。

【0031】

前記スラリー供給ライン１１０は、スラリーが移動する一種の管路であり、前記フィッティングユニット１００の末端から内側に形成され、末端はスラリー供給部と連結され、先端はＹ字形状で分岐し、後述する第１吐出ライン１３０と連結される。

【0032】

前記超純水供給ライン１２０は超純水が移動する管路であり、前記スラリー供給ライン１１０とは別途に前記フィッティングユニット１００の末端から内側に形成され、末端は超純水供給部と連結され、その先端は前記第１吐出ライン１３０と連結される。

【0033】

前記第１吐出ライン１３０は、スラリー供給ライン１１０、及び、前記超純水供給ライン１２０と各々連結され、工程によりスラリー、又は、超純水が移動する管路であり、末端はＹ字状で分岐してスラリー供給ライン１１０、及び、超純水供給ライン１２０と各々連結されることが好ましい。

【0034】

前記逆流防止チェックバルブ１４０は、前記超純水供給ライン１２０に具備した構成要素であり、スラリーが前記第１吐出ライン１３０を介して前記バッファタンクユニット２００側に移動する過程で、前記スラリー供給ライン１１０を介して供給するスラリーが前記超純水供給ライン１２０側に逆流することを防止する役割をする。

【0035】

このとき、前記逆流防止チェックバルブ１４０は、超純水が移動する方向（図５を基準として左側から右側方向）には開放し、逆方向には閉じるように形成されることが好ましい。

【0036】

一方、図１４に示すように、スラリー供給部と前記スラリー供給ライン１１０の間には、内側に複数個の移動管路が形成されたスラリー混合ユニット５００が形成されることにより、成分が異なるスラリーを混合して供給することができる。

【0037】

次に、バッファタンクユニット２００について説明する。バッファタンクユニット２００は、図２、図５、又は、図６に示すように、前記フィッティングユニット１００の先端に結合し、スラリー、又は、超純水を後述するチューブ３００側に均一に分配して吐出する構成要素として、カバー部材２１０、分配ハウジング２２０、メッシュプレート２３０、及び、連結ニップル２４０で構成される。

【0038】

前記カバー部材２１０は後述する連結プレート４１０の前面側に結合し固定される一種のカバーであり、内側には後述する分配ハウジング２２０、メッシュプレート２３０が停止する空間が形成され、先端には、複数個の前記チューブ３００が挿入される挿入孔（図示せず）が打孔し形成される。

【0039】

前記分配ハウジング２２０は、図７、又は、図８に示すように、前記カバー部材２１０の内側に形成された空間に位置し、前記第１吐出ライン１３０から移動したスラリー、又は、超純水を均一に各チューブ３００に分配する構成要素として、流体引込溝２２１、流体移動孔２２２、及び、第２吐出ライン２２３で構成される。

【0040】

前記流体引込溝２２１は、前記分配ハウジング２２０の末端内側中央に先端方向に円錐形態の溝で陥没し形成される構成要素として、曲面で形成される斜面構造を介して円筒形、角形等で形成されるときよりも、後述する流体移動孔２２２への流体移動角が緩やかで流圧、及び、流速の偏差を減らすことができ、スラリー、又は、超純水が各チューブ３００側に均一な流量で移動することができる。

【0041】

前記流体移動孔２２２は、前記流体引込溝２２１の表面の周囲に複数個が打孔し形成され、前記流体引込溝２２１を介して供給したスラリー、又は、超純水を後述する第２吐出ライン２２３に移動をガイドする流路孔として、前記流体移動孔２２２、前記流体引込溝２２１の形状の特性上、所定の角度で傾斜して形成され、後述する前記第２吐出ライン２２３と連結される。

【0042】

前記第２吐出ライン２２３は、各々の前記流体移動孔２２２と連結され、前記流体移動孔２２２を介して供給されたスラリー、又は、超純水をチューブ３００側へ移動をガイドする構成要素として、前記流体移動孔２２２と第２吐出ライン２２３は同一の個数で形成されることが好ましい。

【0043】

一方、前記第２吐出ライン２２３は、前記分配ハウジング２２０の水平軸を中心に円形で配置されることにより、各前記チューブ３００側に供給するスラリー、又は、超純水の流速、流圧、流量が均一な状態で 移動することをガイドする。

【0044】

前記メッシュプレート２３０は、前記フィッティングユニット１００と前記分配ハウジング２２０の間に位置する構成要素として、供給するスラリーの流速を遅くし、中央側にメッシュ網を形成してスラリーをスプレッドさせてスラリーが各流体移動孔２２２に均一に移動することをガイドし、スラリー内に含まれた異物等を濾過して、前記チューブ３００、又は、後述する噴射ノズル４４０等の管路構造の構成要素に硬化現象、詰まり現象などが発生することを防止することができる。

【0045】

次に、チューブ３００について説明する。前記チューブ３００は、図２、図５、又は、図６に示すように、末端は第２吐出ライン２２３と連結され、先端は前記バッファタンクユニット２００の先端に形成された挿入孔（図示せず）を介して外部に露出され、スラリー、又は、超純水を前記噴射ノズルユニット４００に移動させる管路として、前記第２吐出ライン２２３と緊密な連結のために、前記チューブ３００と前記第２吐出ライン２２３は、内側に管路が形成された連結ニップル２４０を介して連結されることが好ましい。

【0046】

一方、チューブ３００は、スラリーが堆積、又は、硬化することを防止するために内部面にコーティング処理されたタイゴンチューブ（Ｔｙｇｏｎｔｕｂｅ）で形成されることが好ましい。

【0047】

次に、噴射ノズルユニット４００について説明する。前記噴射ノズルユニット４００は、図９、図１０、又は、図１１に示すように、各々の前記チューブ３００と連結されて、スラリー、又は、超純水を研磨パッドに供給する構成要素として、連結プレート４１０、ベースプレート４２０、ノズルブロック４３０、噴射ノズル４４０で構成される。

【0048】

前記連結プレート４１０は長さ方向に長く形成された構成要素として、前面には前記バッファタンクユニット２００を結合し、後面はスラリー供給アーム４０と結合し、先端には後述するベースプレート４２０を結合する。

【0049】

前記ベースプレート４２０は、前記連結プレート４１０と直交関係で結合する構成要素として、後述するヒンジ部４３１と固定部材４３５が各々結合し、後述するノズルブロック４３０を支持することができる。

【0050】

一方、前記ベースプレート４２０の側面には溝形状のバンパー溝４２１が陥没し形成され、前記回転ブロック部材４３２が前記ヒンジ部４３１を中心に最大回転が行われると、後述するバンパーストッパ４３６が挿入されて支持され、衝撃防止の役割を果たすことができる。

【0051】

また、前記ベースプレート４２０には垂直方向に昇降ガイド溝４２２が打孔し形成される。

【0052】

一方、前記昇降ガイド溝４２２には、後述する前記昇降突起４３１ａが挿入され、上下方向に移動して前記ヒンジ部４３１の昇降移動が可能となることにより、前記噴射ノズル４４０の高さを調節することができる。

【0053】

前記ノズルブロック４３０は、前記ベースプレート４２０の先端に回転可能に結合し、作業者の操作可否によって角度が調節され、後述する噴射ノズル４４０が停止する構成要素として、ヒンジ部４３１、回転ブロック部材４３２、固定部材４３５、及び、バンパーストッパ４３６で構成される。

【0054】

前記ヒンジ部４３１は、前記ベースプレート４２０の先端に結合し、前記ノズルブロック４３０とヒンジ結合する構成要素として、前記ノズルブロック４３０の回転軸の役割を行う。

【0055】

一方、ヒンジ部４３１の末端には、前記昇降ガイド溝４２２に挿入され、作業者の操作可否によって固定、及び、固定解除される昇降突起４３１ａが突出し形成され、前記ヒンジ部４３１の高さを調節することができる。

【0056】

このとき、昇降突起４３１ａは、前記昇降ガイド溝４２２に固定、及び、固定解除が容易になるようにボルト締結のタイプ等で形成されることが好ましい。

【0057】

前記回転ブロック部材４３２は、図１２に示すように、前記ヒンジ部４３１と結合して、前記ヒンジ部４３１を中心に回転し、後述する固定部材４３５により位置が固定される構成要素として、後述する複数個の角度調節孔４３３に挿入される前記固定部材４３５の挿入位置によって、平面上最小0°から最大35°までの回転範囲を持つ。

【0058】

一方、前記回転ブロック部材４３２には、前記固定部材４３５の固定突起（図示せず）が挿入され、前記回転ブロック部材４３２の位置が固定されるように所定の間隔で離間し形成される複数個の角度調節孔４３３が打孔し形成され、前記角度調節孔４３３とは別途に、前記噴射ノズル４４０が挿入されて固定される複数個の噴射ノズル停止孔４３４が打孔し形成される。

【0059】

前記固定部材４３５は、前記ベースプレート４２０の上部側に軸回転可能に形成される構成要素として、先端下部には下方向に突出し形成される固定突起（図示せず）が形成されて固定突起（図示せず）が挿入される前記角度調節孔４３３の位置によって、前記回転ブロック部材４３２の角度を調節することができる。

【0060】

前記バンパーストッパ４３６は、前記回転ブロック部材４３２の側面に曲面形状に形成される構成要素として、前記ヒンジ部４３１を中心に回転する過程で前記回転ブロック部材４３２の最大回転が行われると、前記バンパー溝４２１に挿入されて衝撃が発生することを最小限に抑えることができる。

【0061】

前記噴射ノズル４４０は、前記チューブ３００と連結され、前記チューブ３００を介して供給されるスラリー、又は、超純水をパッド上に噴射する構成要素として、前記噴射ノズル停止孔４３４に挿入された状態で、前記回転ブロック部材４３２によって噴射位置を調節することができる。

【0062】

一方、前記噴射ノズル４４０は、図１３に示すように、前記チューブ３００が挿入されるフィッティングヘッド４４１とスラリー、又は、超純水が噴射されるノズル管４４２と、前記フィッティングヘッド４４１の内側面に後述する固定シール部材３１０が挿入され固定される菱形形状の結合溝４４３が形成される。

【0063】

一方、前記チューブ３００の外側面には、前記チューブ３００の外側面と面接触する菱形形状の固定シール部材３１０を具備する。

【0064】

前記固定シール部材３１０は、前記チューブ３００の先端が前記噴射ノズル４４０の内側に一部挿入される過程で、前記結合溝４４３に嵌め込まれ、前記結合溝４４３に嵌め込まれた前記固定シール部材３１０は、前記結合溝４４３に密着した状態となり、前記チューブ３００の外側面を加圧して前記チューブ３００が前記噴射ノズル４４０から任意に分離されるのを防止することができる。

【0065】

一方、前記噴射ノズル４４０は、通常的に使用されるパッド１０の断面積を考慮すると、８個で形成されることが好ましい。また、前記噴射ノズル４４０の個数に合わせて、前記流体移動孔２２２、前記第２吐出ライン２２３、前記チューブ３００、及び、噴射ノズル停止孔４３４も８個で形成されることが好ましい。

【0066】

一方、本発明のＣＭＰスラリー供給用マルチノズル１を介して供給するスラリーの一定の流圧が維持されることを確認するために、スラリー供給部と連結される供給管には圧力センサを具備する。

【0067】

前記圧力センサを介して、前記フィッティングユニット１００、前記バッファタンクユニット２００、前記チューブ３００、又は、噴射ノズルユニット４００中のいずれか一ヶ所にスラリーが硬化されるとか、異物によって圧力変差が発生する場合に、これを感知して統制室に感知信号を伝達することにより、硬化現象や詰まり現象などが発生するときに迅速に対応することができる。

【0068】

図面と明細書で最適の実施例を開示した。ここで特定の用語を用いたが、これは単に本発明を説明するための目的で用いたものであり、意味の限定や特許請求の範囲に記載された本発明の範囲を制限するために用いたものではない。従って、当該技術分野の通常の知識を有する者であれば、多様な変形および均等な他の実施例が可能であることを理解すべきである。また、本発明の真の技術的保護範囲は、添付された特許請求の範囲の技術的思想によって定められる。

【符号の説明】

【0069】

1：CMPスラリー供給用マルチノズル
100：フィッティングユニット
110：スラリー供給ライン
120：超純水供給ライン
130：第1吐出ライン
140：逆流防止チェックバルブ
200：バッファタンクユニット
210：カバー部材
220：分配ハウジング
221：流体引込溝
222：流体移動孔
223：第2吐出ライン
230：メッシュプレート
240：連結ニップル
300：チューブ
310：固定シール部材
400：噴射ノズルユニット
410：連結プレート
420：ベースプレート
421：バンパー溝
422：昇降ガイド溝
430：ノズルブロック
431：ヒンジ部
431a：昇降突起
432：回転ブロック部材
433：角度調節孔
434：噴射ノズル停止孔
435：固定部材
436：バンパーストッパ
440：噴射ノズル
441：フィッティングヘッド
442：ノズル管
443：結合溝
450：ポインタージグ
500：スラリー混合ユニット

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】