(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2024009991
(43)【公開日】2024-01-23
(54)【発明の名称】鉛フリーはんだ組成物
(51)【国際特許分類】
B23K 35/26 20060101AFI20240116BHJP
C22C 13/00 20060101ALI20240116BHJP
C22C 13/02 20060101ALI20240116BHJP
H01L 21/52 20060101ALI20240116BHJP
【FI】
B23K35/26 310A
C22C13/00
C22C13/02
H01L21/52 E
【審査請求】有
【請求項の数】20
【出願形態】OL
【外国語出願】
(21)【出願番号】P 2023178693
(22)【出願日】2023-10-17
(62)【分割の表示】P 2021536685の分割
【原出願日】2019-12-26
(31)【優先権主張番号】62/785,293
(32)【優先日】2018-12-27
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(31)【優先権主張番号】62/788,169
(32)【優先日】2019-01-04
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(71)【出願人】
【識別番号】598085065
【氏名又は名称】アルファ・アセンブリー・ソリューションズ・インコーポレイテッド
【氏名又は名称原語表記】ALPHA ASSEMBLY SOLUTIONS INC.
(74)【代理人】
【識別番号】100145403
【弁理士】
【氏名又は名称】山尾 憲人
(74)【代理人】
【識別番号】100132263
【弁理士】
【氏名又は名称】江間 晴彦
(72)【発明者】
【氏名】パンダー、ランジット
(72)【発明者】
【氏名】ナガラジャン、ニヴィディータ
(72)【発明者】
【氏名】クマール、アニル
(72)【発明者】
【氏名】リバス、モルガナ ド アヴェリア
(72)【発明者】
【氏名】ダット、ギャン
(72)【発明者】
【氏名】サルカル、スイリ
(72)【発明者】
【氏名】ビルグリエン、カール
(57)【要約】 (修正有)
【課題】マルチレベル相互接続のための鉛フリーはんだ合金を提供する。
【解決手段】1~9重量%のCu、以下のうちの少なくとも1つ:0超~1重量%のNi、0超~10重量%のGe、0超~1重量%のMn、0超~10重量%のAl、0超~10重量%のSi、0超~9重量%のBi、0超~5重量%のIn、0超~1重量%のTi、0超~2重量%のLa、0超~2重量%のNd、任意選択的に以下のうちの1つ以上:最大1重量%のCr、最大1重量%のGa、最大1重量%のCo、最大1重量%のFe、最大1重量%のP、最大1重量%のAu、最大1重量%のTe、最大1重量%のSe、最大1重量%のCa、最大1重量%のV、最大1重量%のMo、最大1重量%のPt、最大1重量%のMg、最大5重量%のAg、最大1重量%のZn、La及びNdを除く最大2重量%の希土類金属、並びに任意の不可避不純物と共に残部のSnを含む、はんだ合金。
【選択図】
図2
【特許請求の範囲】
【請求項1】
鉛フリーはんだ合金であって、
1~9重量%の銅、
以下のうちの少なくとも1つ:
0超~1重量%のニッケル、
0超~10重量%のゲルマニウム、
0超~1重量%のマンガン、
0超~10重量%のアルミニウム、
0超~10重量%のケイ素、
0超~9重量%のビスマス、
0超~5重量%のインジウム、
0超~1重量%のチタン、
0超~2重量%のランタン、
0超~2重量%のネオジム、
任意選択的に以下のうちの1つ以上:
最大1重量%のクロム、
最大1重量%のガリウム、
最大1重量%のコバルト、
最大1重量%の鉄、
最大1重量%のリン、
最大1重量%の金、
最大1重量%のテルル、
最大1重量%のセレン、
最大1重量%のカルシウム、
最大1重量%のバナジウム、
最大1重量%のモリブデン、
最大1重量%の白金、
最大1重量%のマグネシウム、
最大5重量%の銀、
最大1重量%の亜鉛、
ランタン及びネオジムを除く最大2重量%の希土類金属、並びに
任意の不可避不純物と共に残部のスズ、を含む、はんだ合金。
【請求項2】
1.2~7重量%の銅、好ましくは1.5~3.5重量%の銅、より好ましくは2~3重量%の銅を含む、請求項1に記載のはんだ合金。
【請求項3】
0.001~0.2重量%のニッケル、好ましくは0.005~0.02重量%のニッケル、より好ましくは0.01~0.02重量%未満のニッケルを含む、請求項1又は2に記載のはんだ合金。
【請求項4】
0.0005~5重量%のゲルマニウム、好ましくは0.001~4.5重量%のゲルマニウム、より好ましくは0.001~0.005重量%のゲルマニウム、更により好ましくは0.002~0.005重量%未満のゲルマニウムを含む、請求項1~3のいずれか一項に記載のはんだ合金。
【請求項5】
0.005~0.5重量%のマンガン、好ましくは0.01~0.3重量%のマンガン、より好ましくは0.05~0.1重量%のマンガンを含む、請求項1~4のいずれか一項に記載のはんだ合金。
【請求項6】
0.01~5重量%のアルミニウム、好ましくは0.05~2重量%のアルミニウムを含む、請求項1~5のいずれか一項に記載のはんだ合金。
【請求項7】
0.01~8重量%のケイ素、好ましくは0.02~6重量%のケイ素を含む、請求項1~6のいずれか一項に記載のはんだ合金。
【請求項8】
0.01~7重量%のビスマス、好ましくは0.05~6重量%のビスマスを含む、請求項1~7のいずれか一項に記載のはんだ合金。
【請求項9】
0.2~3重量%のインジウム、好ましくは1.5~2.5重量%のインジウム、更により好ましくは1.8~2.2重量%のインジウムを含む、請求項1~8のいずれか一項に記載のはんだ合金。
【請求項10】
0.015~0.5重量%のチタン、好ましくは0.02~0.08重量%のチタンを含む、請求項1~9のいずれか一項に記載のはんだ合金。
【請求項11】
0.05~1重量%のランタン、好ましくは0.1~0.5重量%のランタンを含む、請求項1~10のいずれか一項に記載のはんだ合金。
【請求項12】
0.05~1重量%のネオジム、好ましくは0.1~0.5重量%のネオジムを含む、請求項1~11のいずれか一項に記載のはんだ合金。
【請求項13】
2~3重量%の銅、0.005~0.02重量%のニッケル、0.001~0.005重量%のゲルマニウム、及び任意の不可避不純物と共に残部のスズからなる、請求項1~12のいずれか一項に記載のはんだ合金。
【請求項14】
1~7重量%の銅、0.1~1重量%のニッケル、0.05~0.5重量%のマンガン、及び0.05~0.1重量%のリン、及び不可避不純物と共に残部のスズからなる、請求項1~12のいずれか一項に記載のはんだ合金。
【請求項15】
3~7重量%の銅、0.1~1重量%のアルミニウム、0.1~1重量%のゲルマニウム、0.05~0.1重量%のニッケル、2~5重量%のビスマス、及び不可避不純物と共に残部のスズからなる、請求項1~12のいずれか一項に記載のはんだ合金。
【請求項16】
4~7重量%の銅、0.1~2重量%のインジウム、0.1~0.5重量%のチタン、及び0.1~0.5重量%のランタン、0.1~0.2重量%のニッケル、及び不可避不純物と共に残部のスズからなる、請求項1~12のいずれか一項に記載のはんだ合金。
【請求項17】
バー、ロッド、フラックスを有するか若しくは有さない固体ワイヤ、箔若しくはストリップ、フィルム、プリフォーム、又は粉末若しくはペースト(粉末とフラックスとのブレンド)、又はボールグリッドアレイ接合部に使用するためのはんだ球体、又は予備形成されたはんだピース若しくはリフローされた若しくは固化したはんだ接合部、又は光起電用途のための銅リボンなどの任意のはんだ付け可能な材料に予め適用される形態である、請求項1~16のいずれか一項に記載のはんだ合金。
【請求項18】
請求項1~17のいずれか一項に記載のはんだ合金を含むはんだ接合部。
【請求項19】
はんだ接合部を形成する方法であって、
(i)接合される2つ以上のワークピースを提供することと、
(ii)請求項1~17のいずれか一項で定義されたはんだ合金を提供することと、
(iii)接合される前記ワークピースの近傍で前記はんだ合金を加熱することと、を含む、方法。
【請求項20】
はんだ付け方法における請求項1~17のいずれか一項に記載のはんだ合金の使用であって、好ましくは、前記はんだ付け方法が、表面実装技術(SMT)はんだ付け、ダイアタッチはんだ付け、熱的インターフェースはんだ付け、手はんだ付け、レーザ及びRF誘導はんだ付け、並びにリワークはんだ付けから選択される、使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、概して、冶金の分野に関し、より具体的には、はんだ合金に関する。はんだ合金は、特に限定されるものではないが、ウェーブはんだ付け、表面実装技術、熱風レベリング及びボールグリッドアレイ、ランドグリッドアレイ、底部終端パッケージ、LED及びチップスケールパッケージなどの電子はんだ付け用途での使用に好適である。
【背景技術】
【0002】
LED又は任意の他の半導体デバイスの典型的なパッケージング/アセンブリプロセスは、一連のいくつかの工程を伴う。これらの工程の各々において、いくつかの種類の電気的/熱的相互接続材料が使用される。相互接続に使用される最も一般的な材料は、導電性接着剤、焼結材料、はんだ付け合金、エポキシ、及びポリマーである。これらの中でも、導電性接着剤、焼結材料、エポキシ、及びポリマーは、接触形成プロセス中に不可逆的プロセス相転移を経る。しかしながら、はんだは、処理中に準物理的で主に可逆的相転移を経る。はんだは、エレクトロニクスアセンブリに使用される最も一般的な材料である。はんだの固定及び再現可能な融点は、相互接続の形成に関する限り利点である。しかしながら、アセンブリプロセスが、同じはんだを使用する複数の工程を伴う場合、はんだの同じ特性は、不利になる。第1のアセンブリプロセスで使用されるはんだは、二次、三元などのプロセス工程中、繰り返し溶融及び凝固サイクルを経る。複数の溶融/凝固サイクルを経る相互接続の品質は劣化し、最終製品の低減された寿命、又は損なわれた信頼性を有する製品をもたらす。したがって、異なる溶融/凝固温度を有するはんだ付け材料の必要性が存在する。
【0003】
エレクトロニクス業界がPbフリーはんだに移行する前に、SnPbはんだの異なる組成物を使用して、はんだ付け温度階層を作成した。例えば、10Sn90Pb若しくは05Sn95Pb、又はいくらかのAg添加を有する一部のそれらの変形物を、それらの高い溶融温度(10Sn90Pbについては299℃、05Sn95Pbについては310℃)のため、ダイアタッチ材料(LEDパッケージング及びアセンブリ用語においてレベルI相互接続とも称される)として使用した。
63Sn37Pb又は約183℃の溶融温度を有する一部のその変形物を、回路基板アセンブリ(LED業界においてレベルII~Vとも称される)に使用した。はんだ中のPbの制限後、最も一般的に使用されたPbフリーはんだは、217~228℃の範囲内の溶融温度を有するSnAg又はSnAgCu(SAC)はんだであった。高Pbはんだを置き換えるための高温Pbフリーはんだの唯一の実行可能な選択肢は、80Au20Snであった。80%の金を有する、Au20Snは、最も高価なはんだのうちの1つである。加えて、AuSnは、高応力を有する相互接続をもたらす、高弾性で、比較的脆性の材料である。その上、同様の材料のセットが、他の半導体パッケージング及び電子アセンブリにおいても使用されている。高熱伝導率及び高信頼性などの特性の一部は、パワーダイオード、MOSFET、及びIGBTなどの高電力電子部品のパッケージング及びアセンブリにとって、更により重要である。
【0004】
マルチレベル相互接続のためのエレクトロニクス業界において現在使用されている鉛フリー合金の組み合わせのうちの1つは、共晶Sn-Cu合金(Sn-0.7Cu)及びSn-Ag-Cu合金(SAC305)系である。しかしながら、いくつかの欠点は、上記の合金の組み合わせと本質的に関連する。典型的な第2のリフロー温度は、約240~250℃であり、これは、Sn-0.7Cu系の溶融ピーク、すなわち、232℃よりも高い。Sn-0.7Cuはんだ接合部は、第2のリフロー中に液相線状態にあるため、第1のレベルの相互接続の信頼性に伴う信頼性の問題をもたらし得る。また、この場合、二次リフロー中、又ははんだ接合部のリワーク処理中にも、ダイ傾斜又は移動が起こり得る。したがって、上記の全ての欠点を潜在的に克服し、信頼性リスクを部分的又は完全に軽減し得る合金の必要性が存在する。
【発明の概要】
【0005】
本発明は、先行技術に関連する問題の少なくとも一部を解決すること、又は商業的に許容可能な代替策を提供することを目的とする。
【0006】
したがって、第1の態様では、本発明は、鉛フリーはんだ合金であって、
1~9重量%の銅、
以下のうちの少なくとも1つ:
0超~1重量%のニッケル、
0超~10重量%のゲルマニウム、
0超~1重量%のマンガン、
0超~10重量%のアルミニウム、
0超~10重量%のケイ素、
0超~9重量%のビスマス、
0超~5重量%のインジウム、
0超~1重量%のチタン、
0超~2重量%のランタン、
0超~2重量%のネオジム、
任意選択的に以下のうちの1つ以上:
最大1重量%のクロム、
最大1重量%のガリウム、
最大1重量%のコバルト、
最大1重量%の鉄、
最大1重量%のリン、
最大1重量%の金、
最大1重量%のテルル、
最大1重量%のセレン、
最大1重量%のカルシウム、
最大1重量%のバナジウム、
最大1重量%のモリブデン、
最大1重量%の白金、
最大1重量%のマグネシウム、
最大5重量%の銀、
最大1重量%の亜鉛、
ランタン及びネオジムを除く最大2重量%の希土類金属、並びに
任意の不可避不純物と共に残部のスズ、を含む、はんだ合金を提供する。
【0007】
ここで、本発明を更に説明する。以下の節では、本発明の異なる態様が、より詳細に定義される。そのように定義される各態様は、別途明確に示されない限り、任意の他の態様又は複数の態様と組み合わせることができる。特に、好ましい又は有利であると示される任意の特徴は、好ましい又は有利であると示される任意の他の特徴又は複数の特徴と組み合わされてもよい。
【0008】
本明細書で使用される用語「はんだ合金」は、90~400℃の範囲の融点を有する可融性金属合金を包含する。合金は、鉛フリーであり、これは、鉛が意図的に添加されていないことを意味する。したがって、鉛の含有量は、ゼロであるか、又は偶発的不純物レベル以下である。合金はまた、典型的には、アンチモンフリーであり、これは、アンチモンが意図的に添加されていないことを意味する。したがって、アンチモンの含有量は、典型的には、ゼロであるか、又は偶発的不純物レベル以下である。
【0009】
はんだ合金は、232℃以上の溶融ピークを有し得、堅牢な第1のレベルの相互接続(ダイアタッチ)を形成し得る可能性があり、二次リフロー中のダイ傾斜又は移動のリスクを低減し得る。
【0010】
はんだ合金は、マルチレベル、マルチ工程エレクトロニクスアセンブリのPbフリーはんだ付け階層において好適に使用され得る。合金は、第1のリフロー合金又はIレベルの相互接続合金としてリフローするのに好適であり得、Sn-Cu、SAC、又はSnAg共晶合金のより良好な代替であり得る。ダイアタッチプロセスでは、二次リフロー処理温度における流動性の低下に起因して、はんだ合金は、半導体ダイアタッチ層に安定性を提供し得る。
【0011】
理論に束縛されるものではないが、異なるタイプの金属間化合物及び他の合金添加の最適体積分率の存在は、レベルIダイアタッチプロセス中のはんだ付け性を損なうことなく、プリント回路基板(printed circuit board,PCB)のレベルIIリフロー処理中のはんだ溶融物の粘度を向上させると考えられる。結果として、ダイ傾斜が低減され得る。
【0012】
有利なことには、はんだ合金は、225℃~260℃の温度範囲内で溶融し得、それによって、典型的な電子アセンブリプロセスにおけるリフローに好適になる。
【0013】
はんだ合金は、例えば、SnCu、SAC、及びSnAgなどの従来の鉛フリーはんだ合金と比較して、同様又は改善された熱機械的信頼性を示し得る。はんだ合金は、例えば、SnCu、SAC、及びSnAgなどの従来の鉛フリーはんだ合金と比較して、同様又は改善された機械的特性を示し得る。
【0014】
はんだ合金は、有利な湿潤特性、例えば、SACはんだ合金及びSn0.7Cuはんだ合金などの、例えば、従来のはんだ合金の湿潤特性と実質的に同様、又はそれよりも良好な湿潤特性を示し得る。
【0015】
はんだは、1~9重量%の銅を含む。好ましくは、はんだ合金は、1.2~7重量%の銅、より好ましくは1.5~3.5重量%の銅、更により好ましくは2~3重量%の銅を含む。特に好ましい実施形態では、はんだ合金は、約2.5重量%の銅を含む。スズ中の銅の溶解度は、限定される。Sn-0.7重量%Cuは、共晶相を形成する。0.7重量%を超える銅のいかなる更なる添加も、例えばCu3Sn及びCu6Sn5などの金属間化合物の体積分率を増加させる。これらの金属間化合物は、所与の温度における合金の粘度を増加させるのに役立ち得る。これらの金属間化合物はまた、合金の機械的及び熱的信頼性を向上させ得る。
【0016】
はんだ合金は、任意選択的に(及び好ましくは)、0超~1重量%のニッケル(例えば、0.001~1重量%のニッケル)を含む。好ましくは、はんだ合金は、0.001~0.2重量%のニッケル、より好ましくは0.005~0.02重量%のニッケル、更により好ましくは0.01~0.02重量%未満のニッケルを含む。ニッケルは、スズを有する固溶体を形成しない。しかしながら、それは、合金の改善された機械的特性をもたらし得る金属間化合物を形成し、所与の温度における合金の粘度を増加させ得る。ニッケルは、銅溶解を低減するのに役立ち得る。
【0017】
はんだ合金は、任意選択的に(及び好ましくは)、0超~10重量%のゲルマニウム(例えば、0.0005~10重量%のゲルマニウム)を含む。好ましくは、合金は、0.0005~5重量%のゲルマニウム、より好ましくは0.001~4.5重量%のゲルマニウム、更により好ましくは0.001~0.005重量%のゲルマニウム、なお更により好ましくは0.002~0.005重量%未満のゲルマニウムを含む。好ましい実施形態では、合金は、0.02~0.08重量%のゲルマニウムを含む。別の好ましい実施形態では、合金は、3.5~4.5重量%のゲルマニウムを含む。ゲルマニウムは、脱酸素剤として機能し得、湿潤性も改善し得る。ゲルマニウムはまた、半導体ダイとの良好な接着特性を有する。好ましい実施形態では、合金は、ニッケル及びゲルマニウムの両方を含む。そのような合金は、高粘度、低銅溶解性、及び良好な湿潤性の有利な組み合わせを提供し得る。
【0018】
はんだ合金は、任意選択的に(及び好ましくは)、0超~1重量%のマンガン(例えば、0.001~1重量%のマンガン)を含む。好ましくは、合金は、0.005~0.5重量%のマンガン、より好ましくは0.01~0.3重量%のマンガン、更により好ましくは0.05~0.1重量%のマンガンを含む。マンガンは、スズ及び銅中で限定された溶解度を有する。マンガンは、スズのみの存在下で、例えばMn3Sn、Mn2Sn、及びMnSn2などの金属間化合物を形成する。銅及びスズの両方の存在下で、マンガンはまた、例えば、MnCu5Sn2、MnCu2Sn、及びMnCu4Snなどの金属間化合物を形成し得る。これらの金属間化合物は、所与の温度におけるSn-Cu合金の粘度を増加させ得る。これらの金属間化合物はまた、合金の機械的及び熱的信頼性を向上させ得る。
【0019】
はんだ合金は、任意選択的に(及び好ましくは)、0超~10重量%のアルミニウム(例えば、0.005~10重量%のアルミニウム)を含む。好ましくは、はんだ合金は、0.01~5重量%のアルミニウム、より好ましくは0.05~2重量%のアルミニウムを含む。好ましい実施形態では、合金は、0.005~0.015重量%のアルミニウムを含む。別の好ましい実施形態では、合金は、0.02~0.08重量%のアルミニウムを含む。別の好ましい実施形態では、合金は、0.8~1.2重量%のアルミニウムを含む。別の好ましい実施形態では、合金は、3.5~4.5湿潤%のアルミニウムを含む。アルミニウムは、脱酸素剤として機能し得、湿潤性も改善し得る。アルミニウムはまた、半導体ダイとの良好な接着特性を有する。合金は、好ましくは、ゲルマニウム及びアルミニウムの両方を含有する。アルミニウム及びゲルマニウムは両方とも、スズ中に非常に限定された溶解度を有するが、アルミニウム及びゲルマニウムは、良好な相互溶解度を有し、28.4原子%(約51.6重量%)のゲルマニウムで共晶混合物を形成する。
【0020】
はんだ合金は、任意選択的に(及び好ましくは)、0超~10重量%のケイ素(例えば、0.005~10重量%のケイ素)を含む。好ましくは、はんだ合金は、0.01~8重量%のケイ素、より好ましくは0.02~6重量%のケイ素を含む。好ましい実施形態では、合金は、0.02~0.08重量%のケイ素を含む。別の好ましい実施形態では、合金は、3.5~4.5重量%のケイ素を含む。ケイ素は、脱酸素剤として機能し得、湿潤性も改善し得る。
【0021】
はんだ合金は、任意選択的に(及び好ましくは)、0超~9重量%のビスマス(例えば、0.005~9重量%のビスマス)を含む。好ましくは、はんだ合金は、0.01~7重量%のビスマス、より好ましくは0.05~6重量%のビスマスを含む。好ましい実施形態では、はんだ合金は、0.07~0.13重量%のビスマスを含む。別の好ましい実施形態では、はんだ合金は、2~5重量%のビスマス、好ましくは3.5~4.5重量%のビスマスを含む。ビスマスは、スズ中でいくらかの溶解度を有し、これは、固溶体強化を介して機械的特性の改善を提供し得る。ビスマスはまた、クリープ抵抗を改善するように作用し得る。ビスマスはまた、湿潤及び拡散を改善することができる。
【0022】
はんだ合金は、任意選択的に(及び好ましくは)、0超~5重量%のインジウムを含む。好ましくは、はんだ合金は、0.2~3重量%のインジウム、より好ましくは1.5~2.5重量%のインジウム、更により好ましくは1.8~2.2重量%のインジウムを含む。インジウムは、スズ中でいくらかの溶解度を有し、これは、固溶体強化を介して改善された機械的特性の機会を提供し得る。加えて、インジウムは、はんだ合金の液相線温度を低減するのに役立ち得、それによって、合金がベース合金よりも低い温度でリフローすることを可能にする。しかしながら、インジウムの量が多いほど、その機械的強度、はんだ付け性、及び長期熱機械的安定性などの、はんだ合金の有利な特性を低下させる場合がある。加えて、インジウムの量が多いほど、はんだ合金は、不利に酸化され易くなる可能性がある。
【0023】
はんだ合金は、任意選択的に(及び好ましくは)、0超~1重量%のチタン(例えば、0.01~1重量%のチタン)を含む。好ましくは、はんだ合金は、0.015~0.5重量%のチタン、より好ましくは0.02~0.08重量%のチタンを含む。チタンは、スズ中で限定された溶解度を有し、金属間化合物を形成し得、これは、リフロー処理中のはんだ溶融物の流動性を更に低減し得る。チタンは、強度及び界面反応を改善し得る。チタンはまた、基板/はんだ界面における銅拡散を制御することによって、落下衝撃性能を改善することができる。
【0024】
はんだ合金は、任意選択的に(及び好ましくは)、0超~2重量%のランタン(例えば、0.01~2重量%のランタン)を含む。好ましくは、はんだ合金は、0.05~1重量%のランタン、より好ましくは0.1~0.5重量%のランタンを含む。ランタンは、拡散及び湿潤性を改善するように作用し得る。
【0025】
はんだ合金は、任意選択的に(及び好ましくは)、0超~2重量%のネオジム(例えば、0.01~2重量%のネオジム)を含む。好ましくは、はんだ合金は、0.05~1重量%のネオジム、より好ましくは0.1~0.5重量%のネオジムを含む。ネオジムは、拡散及び湿潤性を改善するように作用し得る。
【0026】
はんだ合金は、ニッケル、ゲルマニウム、マンガン、アルミニウム、ケイ素、ビスマス、インジウム、チタン、ランタン、ネオジムのうちの少なくとも1つを含む。好ましくは、はんだ合金は、これらの元素のうちの少なくとも2つを含む。好ましい実施形態では、はんだ合金は、これらの元素のうちの2つを含む。別の好ましい実施形態では、はんだ合金は、これらの元素のうちの3つを含む。別の好ましい実施形態では、はんだ合金は、これらの元素のうちの4つを含む。別の好ましい実施形態では、はんだ合金は、ニッケル及びゲルマニウムを含む。別の好ましい実施形態では、はんだ合金は、ニッケル、マンガン、及びリンを含む。別の好ましい実施形態では、はんだ合金は、アルミニウム、ゲルマニウム、ニッケル、及びビスマスを含む。別の好ましい実施形態では、はんだ合金は、インジウム、チタン、ランタン、及びニッケルを含む。
【0027】
はんだ合金は、任意選択的に以下のうちの1つ以上:最大1重量%のクロム(例えば、0.01~1重量%のクロム)、最大1重量%のガリウム(例えば、0.01~1重量%のガリウム)、最大1重量%のコバルト(例えば、0.01~1重量%のコバルト)、最大1重量%の鉄(例えば、0.01~1重量%の鉄)、最大1重量%のリン(例えば、0.01~1重量%のリン)、最大1重量%の金(例えば、0.01~1重量%の金)、最大1重量%のテルル(例えば、0.01~1重量%のテルル)、最大1重量%のセレン(例えば、0.01~1重量%のセレン)、最大1重量%のカルシウム(例えば、0.01~1重量%のカルシウム)、最大1重量%のバナジウム(例えば、0.01~1重量%のバナジウム)、最大1重量%のモリブデン(例えば、0.01~1重量%のモリブデン)、最大1重量%の白金(例えば、0.01~1重量%の白金)、最大1重量%のマグネシウム(例えば、0.01~1重量%のマグネシウム)、最大5重量%の銀(例えば、0.01~5重量%の銀)、最大1重量%の亜鉛(例えば、0.01~1重量%の亜鉛)、ランタン及びネオジムを除く最大2重量%の希土類金属(例えば、0.01~2重量%の希土類金属)を含む。ガリウム及び亜鉛は、スズ中でいくらかの溶解度を有し、これは、固溶体強化の機会を提供し得る。しかしながら、亜鉛のレベルが高いほど、はんだ合金のはんだ付け性を低下させ得る。コバルトは、銅溶解を低減するために使用され得る。カルシウム、マグネシウム、リン、及びバナジウムは、湿潤性を改善するためにも使用され得る可能性のある脱酸素剤である。金、クロム、鉄、モリブデン、白金、セレン、及びテルルは、改善された強度及び界面反応に使用され得る。銀及び希土類は、拡散及び湿潤性を改善し得る。本明細書で使用するとき、用語、希土類元素は、Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb及びLuから選択される1つ以上の元素を指す。銀は、より有利な機械的特性を提供するのに役立ち得、金属間化合物の形成を介して、所与の温度におけるはんだ合金の粘度を増加させ得る。
【0028】
合金は、典型的には少なくとも80重量%のスズ、より典型的には少なくとも85重量%のスズ、更により典型的には少なくとも90重量%のスズ、更により典型的には少なくとも95重量%のスズを含む。合金は、典型的には最大98重量%のスズ、より典型的には最大97重量%のスズを含む。
【0029】
本明細書に記載される合金は不可避不純物を含有し得るが、合計で、これらは組成物の1重量%を超える可能性は低いことが理解されるであろう。好ましくは、はんだ合金は、組成物の0.5重量%以下、より好ましくは組成物の0.3重量%以下、更により好ましくは組成物の0.1重量%以下、更により好ましくは組成物の0.05重量%以下、最も好ましくは組成物の0.02重量%以下の量の不可避不純物を含有する。
【0030】
本明細書に記載されるはんだ合金は、列挙された元素からなり得る。あるいは、本明細書に記載されるはんだ合金は、列挙された元素から本質的になり得る。したがって、必須であるこれらの元素(すなわち、スズ、銅、及びニッケル、ゲルマニウム、マンガン、アルミニウム、ケイ素、ビスマス、インジウム、チタン、ランタン、及びネオジムのうちの少なくとも1つ)に加えて、他の非指定元素が、組成物の本質的な特性が他の非指定元素の存在によって実質的に影響を受けないという条件で、組成物中に存在し得ることが理解されるであろう。
【0031】
特に好ましい実施形態では、はんだ合金は、2~3重量%の銅、0.005~0.02重量%のニッケル、0.001~0.005重量%のゲルマニウム、及び任意の不可避不純物と共に残部のスズからなる。従来のSAC305及びSn0.7Cuはんだ合金と比較すると、そのようなはんだ合金は、第1のリフローと第4のリフローとの間の最小ダイ傾斜、第1のリフローと第4のリフローとの間の空隙パーセントの低減、増加したダイ剪断強度、及び改善された熱サイクル挙動を示す。
【0032】
特に好ましい実施形態では、はんだ合金は、1~7重量%の銅、0.1~1重量%のニッケル、0.05~0.5重量%のマンガン、及び0.05~0.1重量%のリン、及び不可避不純物と共に残部のスズからなる。そのようなはんだ合金は、有利に、232℃で溶融ピークを有する。従来のSAC305及びSn0.7Cuはんだ合金と比較すると、そのようなはんだ合金は、第1のリフローと第4のリフローとの間の最小ダイ傾斜、第1のリフローと第4のリフローとの間の空隙パーセントの低減、増加したダイ剪断強度、及び改善されたサーモス-サイクル挙動を示す。
【0033】
特に好ましい実施形態では、はんだ合金は、3~7重量%の銅、0.1~1重量%のアルミニウム、0.1~1のゲルマニウム、0.05~0.1重量%のニッケル、2~5重量%のビスマス、及び不可避不純物と共に残部のスズからなる。そのようなはんだ合金は、有利に、232℃で溶融ピークを有する。従来のSAC305及びSn0.7Cuはんだ合金と比較すると、そのようなはんだ合金は、第1のリフローと第4のリフローとの間の最小ダイ傾斜、第1のリフローと第4のリフローとの間の空隙パーセントの低減、増加したダイ剪断強度、及び改善されたサーモス-サイクル挙動を示す。
【0034】
特に好ましい実施形態では、はんだ合金は、4~7重量%の銅、0.1~2重量%のインジウム、0.1~0.5重量%のチタン、0.1~0.5重量%のランタン、0.1~0.2重量%のニッケル、及び不可避不純物と共に残部のスズからなる。そのようなはんだ合金は、有利に、232℃で溶融ピークを有する。従来のSAC305及びSn0.7Cuはんだ合金と比較すると、そのようなはんだ合金は、第1のリフローと第4のリフローとの間の最小ダイ傾斜、第1のリフローと第4のリフローとの間の空隙パーセントの低減、増加したダイ剪断強度、及び改善されたサーモス-サイクル挙動を示す。
【0035】
はんだ合金は、バー、ロッド、フラックスを有するか若しくは有さない固体ワイヤ、箔若しくはストリップ、フィルム、プリフォーム、又は粉末若しくはペースト(粉末とフラックスとのブレンド)、又はボールグリッドアレイ接合部に使用するためのはんだ球体、又は予備形成されたはんだピース若しくはリフローされた若しくは固化したはんだ接合部、又は光起電用途のための銅リボンなどの任意のはんだ付け可能な材料に予め適用される形態であり得る。
【0036】
更なる態様では、本発明は、本明細書に記載されるはんだ合金を含むはんだ接合部を提供する。
【0037】
更なる態様では、本発明は、
本明細書に記載されるはんだ合金、及び
はんだフラックス、を含む、はんだペーストを提供する。
【0038】
更なる態様では、本発明は、はんだ接合の形成方法を提供し、この方法は、
(i)接合される2つ以上のワークピースを提供することと、
(ii)本明細書に記載されるようなはんだ合金を提供することと、
(iii)接合されるワークピースの近傍ではんだ合金を加熱することと、を含む。
【0039】
ワークピースは、基板及びダイなどのプリント回路基板の構成要素であってもよい。
【0040】
更なる態様では、本発明は、はんだ付け方法において、本明細書に記載されるようなはんだ合金の使用を提供する。好ましくは、はんだ付け方法は、表面実装技術(Surface Mount Technology,SMT)はんだ付け、ダイアタッチはんだ付け、熱的インターフェースはんだ付け、手はんだ付け、レーザ及びRF誘導はんだ付け、並びにリワークはんだ付けから選択される。
【0041】
更なる態様では、本発明は、以下のものを含む、はんだ合金又ははんだ接合部を提供する:
(a)1~9重量%の銅
(b)以下のうちの1つ以上
0~1重量%のニッケル
0~1重量%のマンガン
(c)任意選択的に以下の元素のうちの1つ以上
最大1重量%のチタン
最大2重量%の1つ以上の希土類、セリウム、ランタン、
ネオジム
最大1重量%のクロム
最大10重量%のゲルマニウム
最大1重量%のガリウム
最大1重量%のコバルト
最大1重量%の鉄
最大10重量%のアルミニウム
最大1重量%のリン
最大1重量%の金
最大1重量%のテルル
最大1重量%のセレン
最大1重量%のカルシウム
最大1重量%のバナジウム
最大1重量%のモリブデン
最大1重量%の白金
最大1重量%のマグネシウム
最大10重量%のケイ素
最大9重量%のビスマス
最大5重量%の銀
最大5重量%のインジウム
(d)不可避不純物と共に、残部スズ。
【0042】
第1の態様の利点及び好ましい特徴は、この態様に等しく当てはまる。
【0043】
更なる態様では、本発明は、以下のものを含む、はんだ合金又ははんだ接合部を提供する:
(a)1~9重量%の銅
(b)以下のうちの1つ以上
0~10重量%のアルミニウム
0~10重量%のゲルマニウム
0~10重量%のケイ素
0~9重量%のビスマス
(c)任意選択的に以下の元素のうちの1つ以上
最大1重量%のニッケル
最大1重量%のチタン
セリウム、ランタン、ネオジムを除く最大2重量%の希土類
最大1重量%のクロム
最大1重量%のマンガン
最大1重量%のガリウム
最大1重量%のコバルト
最大1重量%の鉄
最大1重量%のリン
最大1重量%の金
最大1重量%のテルル
最大1重量%のセレン
最大1重量%のカルシウム
最大1重量%のバナジウム
最大1重量%のモリブデン
最大1重量%の白金
最大1重量%のマグネシウム
最大5重量%の銀
最大5重量%のインジウム
(d)不可避不純物と共に、残部スズ。
【0044】
第1の態様の利点及び好ましい特徴は、この態様に等しく当てはまる。
【0045】
更なる態様では、本発明は、以下のものを含む、はんだ合金又ははんだ接合部を提供する:
(a)1~9重量%以下の銅
(b)以下のうちの1つ以上
0~1重量%のニッケル
0~5重量%のインジウム
0~1重量%のチタン
0~2重量%のランタン
0~2重量%のネオジム
(c)任意選択的に以下の元素のうちの1つ以上
最大2重量%の希土類、セリウム
最大1重量%のクロム
最大1重量%のマンガン
最大1重量%のガリウム
最大1重量%のコバルト
最大1重量%の鉄
最大1重量%のリン
最大1重量%の金
最大1重量%のテルル
最大1重量%のセレン
最大1重量%のカルシウム
最大1重量%のバナジウム
最大1重量%のモリブデン
最大1重量%の白金
最大1重量%のマグネシウム
最大10重量%のケイ素
最大10重量%のゲルマニウム
最大9重量%のビスマス
最大5重量%の銀
最大10重量%のアルミニウム
(d)不可避不純物と共に、残部スズ。
【0046】
第1の態様の利点及び好ましい特徴は、この態様に等しく当てはまる。
【図面の簡単な説明】
【0047】
以下の図面を参照して、これらの合金のいくつかの非限定的な例及びそれらの性能の概要により、ここで、本発明を更に説明する。
【
図1】従来のはんだであるSAC305のリフローにおける、ダイ傾斜(μm)対デバイス#のプロットである。
【
図2】実施例3のSnCuNiGeのはんだ合金のリフローにおける、ダイ傾斜(μm)対デバイス#のプロットである。
【
図3】従来のはんだであるSAC305のリフローにおける、BLT(μm)対デバイス#のプロットである。
【
図4】実施例3のSnCuNiGeのはんだ合金のリフローにおける、BLT(μm)対デバイス#のプロットである。
【
図5】従来のはんだであるSAC305(左)及び実施例3のSnCuNiGeのはんだ合金(右)の第1のリフローと第4のリフローとの間の空隙(%)の変化のプロットである。
【
図6】FR4基板上の、従来のはんだ合金SAC305(左)、従来のはんだ合金SnCu0.7(中央)、及び実施例3のSnCuNiGeのはんだ合金(右)に対する剪断力(kgf)対サイクルのボックスプロットである。
【
図7】金属基板上の、従来のはんだ合金SAC305(左)、従来のはんだ合金SnCu0.7(中央)、及び実施例3のSnCuNiGeのはんだ合金(右)に対する剪断力(kgf)対サイクルのボックスプロットである。
【発明を実施するための形態】
【0048】
実施例1
以下の組成を有する合金を調製した:
合金ID-HC1:
Cu:1~7重量%、
Ni:0.1~1重量%、
Mn:0.05~0.5重量%、
P:0.05~0.1重量%、
不可避不純物と共に、残部:Sn。
【0049】
そのようなはんだ合金は、有利に、232℃で溶融ピークを有する。
【0050】
合金ID-HC2:
Cu:3~7重量%、
Al:0.1~1重量%、
Ge:0.1~1重量%、
Ni:0.05~0.1重量%、
Bi:2~5重量%、
不可避不純物と共に、残部:Sn。
【0051】
そのようなはんだ合金は、有利に、232℃で溶融ピークを有する。
【0052】
合金ID-HC3:
Cu:4~7重量%、
In:0.1~2重量%、
Ti:0.1~0.5重量%、
La:0.1~0.5重量%、
Ni:0.1~0.2重量%、
不可避不純物と共に、残部:Sn。
【0053】
そのようなはんだ合金は、有利に、232℃で溶融ピークを有する。
【0054】
実施例2
以下の表1に記載される組成を有する合金を調製した。
【0055】
【0056】
225~280℃の間で、表1の合金は、50%以上の液体分率を有する。液体分率は、理論上、液体分率(%)=100-固体分率(%)として計算される。
【0057】
実施例3
以下の組成を有する合金を調製した。
Cu:2.5重量%
Ni:<0.05重量%
Ge:<0.005重量%
不可避不純物と共に、残部:Sn。
【0058】
ダイ傾斜分析:
合金を従来のSAC305はんだ合金と比較して、ダイ傾斜分析を実施した。結果を、
図1及び
図2に示す。SnCuNiGeは、第1のリフロー(円形)と第4のリフロー(三角形)との間で、ダイ傾斜の最小変化を実証し、一方では、SAC305は、相当な変動を示す。
【0059】
空隙分析:
合金を従来のSAC305はんだ合金と比較して、空隙分析を実施した。結果を、
図3、
図4、及び
図5に示す。
図3及び
図4に示されるように、SAC305とは対照的に、SnCuNiGeは、第1のリフローと第4のリフローとの間で、空隙%の最小変化を実証する。
図5は、SnCuNiGeで、第1のリフローと第4のリフローとの間での空隙パーセントの変化が、SAC305よりも有意ではないことを示す。
【0060】
剪断及び熱的試験:
以下の試験及び条件を用いた。
・はんだペーストの光学的、熱的、及び剪断性能を直接比較するために、選択された中電力Lumileds 3535L LED
・ENIG仕上げを有する接触パッドを有する、選択されたLED用に設計された同一のAl-MCPCB及びFR4-PCB基板
・剪断試験:1833熱的サイクル
【0061】
図6及び
図7に見られるように、SnCuNiGeは、MCPCB及びFR4アセンブリの両方において、熱的サイクルの増加に伴い、最も安定した剪断強度値を示した。
【0062】
前述の詳細な記載は、説明及び図解によって提供されたものであり、添付の特許請求の範囲の範囲を限定することを意図するものではない。本明細書に示される現時点で好ましい実施形態の多くの変形例は、当業者に明らかであり、添付の特許請求の範囲及びそれらの等価物の範囲内に留まる。
【手続補正書】
【提出日】2023-10-23
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
鉛フリーはんだ合金であって、
1~9重量%の銅、
0超~1重量%のニッケル、
0超~10重量%のゲルマニウム、
任意選択的に以下のうちの少なくとも1つ:
0超~1重量%のマンガン、
0超~10重量%のアルミニウム、
0超~10重量%のケイ素、
0超~9重量%のビスマス、
0超~5重量%のインジウム、
0超~1重量%のチタン、
0超~2重量%のランタン、
0超~2重量%のネオジム、
任意選択的に以下のうちの1つ以上:
最大1重量%のクロム、
最大1重量%のガリウム、
最大1重量%のコバルト、
最大1重量%の鉄、
最大1重量%のリン、
最大1重量%の金、
最大1重量%のテルル、
最大1重量%のセレン、
最大1重量%のカルシウム、
最大1重量%のバナジウム、
最大1重量%のモリブデン、
最大1重量%の白金、
最大1重量%のマグネシウム、
最大5重量%の銀、
最大1重量%の亜鉛、
ランタン及びネオジムを除く最大2重量%の希土類金属、並びに
任意の不可避不純物と共に残部のスズ、を含む、はんだ合金。
【請求項2】
1.2~7重量%の銅、好ましくは1.5~3.5重量%の銅、より好ましくは2~3重量%の銅を含む、請求項1に記載のはんだ合金。
【請求項3】
0.001~0.2重量%のニッケル、好ましくは0.005~0.02重量%のニッケル、より好ましくは0.01~0.02重量%未満のニッケルを含む、請求項1又は2に記載のはんだ合金。
【請求項4】
0.0005~5重量%のゲルマニウム、好ましくは0.001~4.5重量%のゲルマニウム、より好ましくは0.001~0.005重量%のゲルマニウム、更により好ましくは0.002~0.005重量%未満のゲルマニウムを含む、請求項1~3のいずれか一項に記載のはんだ合金。
【請求項5】
0.005~0.5重量%のマンガン、好ましくは0.01~0.3重量%のマンガン、より好ましくは0.05~0.1重量%のマンガンを含む、請求項1~4のいずれか一項に記載のはんだ合金。
【請求項6】
0.01~5重量%のアルミニウム、好ましくは0.05~2重量%のアルミニウムを含む、請求項1~5のいずれか一項に記載のはんだ合金。
【請求項7】
0.01~8重量%のケイ素、好ましくは0.02~6重量%のケイ素を含む、請求項1~6のいずれか一項に記載のはんだ合金。
【請求項8】
0.01~7重量%のビスマス、好ましくは0.05~6重量%のビスマスを含む、請求項1~7のいずれか一項に記載のはんだ合金。
【請求項9】
0.2~3重量%のインジウム、好ましくは1.5~2.5重量%のインジウム、更により好ましくは1.8~2.2重量%のインジウムを含む、請求項1~8のいずれか一項に記載のはんだ合金。
【請求項10】
0.015~0.5重量%のチタン、好ましくは0.02~0.08重量%のチタンを含む、請求項1~9のいずれか一項に記載のはんだ合金。
【請求項11】
0.05~1重量%のランタン、好ましくは0.1~0.5重量%のランタンを含む、請求項1~10のいずれか一項に記載のはんだ合金。
【請求項12】
0.05~1重量%のネオジム、好ましくは0.1~0.5重量%のネオジムを含む、請求項1~11のいずれか一項に記載のはんだ合金。
【請求項13】
2~3重量%の銅、0.005~0.02重量%のニッケル、0.001~0.005重量%のゲルマニウム、及び任意の不可避不純物と共に残部のスズからなる、請求項1~12のいずれか一項に記載のはんだ合金。
【請求項14】
3~7重量%の銅、0.1~1重量%のアルミニウム、0.1~1重量%のゲルマニウム、0.05~0.1重量%のニッケル、2~5重量%のビスマス、及び不可避不純物と共に残部のスズからなる、請求項1~12のいずれか一項に記載のはんだ合金。
【請求項15】
1~9重量%の銅、
0超~1重量%のニッケル、
0超~10重量%のゲルマニウム、
任意選択的に以下のうちの少なくとも1つ:
0超~1重量%のマンガン、
0超~10重量%のアルミニウム、
0超~10重量%のケイ素、
0超~9重量%のビスマス、
0超~5重量%のインジウム、
0超~1重量%のチタン、
0超~2重量%のランタン、
0超~2重量%のネオジム、および
任意の不可避不純物と共に残部のスズ、から成る、請求項1に記載のはんだ合金。
【請求項16】
1~9重量%の銅、
0超~1重量%のニッケル、
0超~10重量%のゲルマニウム、および
任意の不可避不純物と共に残部のスズ、から成る、請求項1に記載のはんだ合金。
【請求項17】
バー、ロッド、フラックスを有するか若しくは有さない固体ワイヤ、箔若しくはストリップ、フィルム、プリフォーム、又は粉末若しくはペースト(粉末とフラックスとのブレンド)、又はボールグリッドアレイ接合部に使用するためのはんだ球体、又は予備形成されたはんだピース若しくはリフローされた若しくは固化したはんだ接合部、又は光起電用途のための銅リボンなどの任意のはんだ付け可能な材料に予め適用される形態である、請求項1~16のいずれか一項に記載のはんだ合金。
【請求項18】
請求項1~17のいずれか一項に記載のはんだ合金を含むはんだ接合部。
【請求項19】
はんだ接合部を形成する方法であって、
(i)接合される2つ以上のワークピースを提供することと、
(ii)請求項1~17のいずれか一項で定義されたはんだ合金を提供することと、
(iii)接合される前記ワークピースの近傍で前記はんだ合金を加熱することと、を含む、方法。
【請求項20】
はんだ付け方法における請求項1~17のいずれか一項に記載のはんだ合金の使用であって、好ましくは、前記はんだ付け方法が、表面実装技術(SMT)はんだ付け、ダイアタッチはんだ付け、熱的インターフェースはんだ付け、手はんだ付け、レーザ及びRF誘導はんだ付け、並びにリワークはんだ付けから選択される、使用。
【外国語明細書】