特開 2025-103930 塗布装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2025103930

(43)【公開日】2025-07-09

(54)【発明の名称】塗布装置

(51)【国際特許分類】

   B05B 13/04 20060101AFI20250702BHJP

   B05B 12/08 20060101ALI20250702BHJP

   B05B 15/68 20180101ALI20250702BHJP

   B05C 11/10 20060101ALN20250702BHJP

   B05C 11/08 20060101ALN20250702BHJP

【ＦＩ】

B05B13/04

B05B12/08

B05B15/68

B05C11/10

B05C11/08

【審査請求】未請求

【請求項の数】7

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023221684

(22)【出願日】2023-12-27

(71)【出願人】

【識別番号】000003137

【氏名又は名称】マツダ株式会社

(71)【出願人】

【識別番号】395018251

【氏名又は名称】マッスル株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110001427

【氏名又は名称】弁理士法人前田特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】湊 允哉

(72)【発明者】

【氏名】河瀬 英一

(72)【発明者】

【氏名】坂本 健

(72)【発明者】

【氏名】野田 卓哉

(72)【発明者】

【氏名】井川 清朋

(72)【発明者】

【氏名】和田 好隆

(72)【発明者】

【氏名】中西 佑樹

(72)【発明者】

【氏名】朝野 千明

(72)【発明者】

【氏名】重永 勉

(72)【発明者】

【氏名】玉井 博文

【テーマコード（参考）】

4D073

4F035

4F042

【Ｆターム（参考）】

4D073AA01

4D073BB03

4D073CA18

4D073CB03

4D073CB15

4D073CB20

4D073CB21

4D073CB23

4D073CB24

4D073CB26

4D073DA03

4D073DA05

4F035AA03

4F035BB04

4F035BB13

4F035BB32

4F035CA02

4F035CA05

4F035CB04

4F035CB05

4F035CB13

4F035CB24

4F035CB27

4F035CB29

4F035CD06

4F035CD08

4F035CD12

4F035CD15

4F035CD18

4F035CD19

4F042AA02

4F042BA04

4F042BA08

4F042BA10

4F042BA25

4F042BA27

4F042EB08

4F042EB11

4F042EB18

4F042EB19

(57)【要約】

【課題】対象物の回転軸部分及びその周辺において膜厚が厚くなることを抑制する。
【解決手段】被塗布面を上方に指向して対象物Ｗを固定するとともに回転軸２０を中心に対象物Ｗを回転させる基台２と、基台２を指向するスプレー部３と、基台及びスプレー部の少なくとも一方に設けられ、回転する被塗布面に対してスプレー部を相対移動させる移動機構４及びスプレー部３と被塗布面との距離を変更する距離調整機構５と、を備え、距離調整機構は、移動機構によってスプレー部が被塗布面の外周側から回転軸へ近づくほど、被塗布面とスプレー部との距離が長くなるように、基台又はスプレー部を駆動する。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

回転する対象物の被塗布面に塗布材料を吹き付けて塗膜を形成する塗布装置であって、
被塗布面を上方に指向して前記対象物を固定するとともに回転軸を中心に前記対象物を回転させる基台と、
前記基台を指向するスプレー部と、
前記基台及び前記スプレー部の少なくとも一方に設けられ、
回転する被塗布面に対して前記スプレー部を相対移動させる移動機構及び前記スプレー部と被塗布面との距離を変更する距離調整機構と、
を備え、
前記距離調整機構は、前記移動機構によって前記スプレー部が被塗布面の外周側から前記回転軸へ近づくほど、被塗布面と前記スプレー部との距離が長くなるように、前記基台又は前記スプレー部を駆動することを特徴とする塗布装置。

【請求項2】

請求項１に記載の塗布装置において、
前記移動機構は、前記スプレー部が被塗布面の外周側から前記回転軸へ近づくほど、前記相対移動の移動速度が速くなるように前記基台又は前記スプレー部を駆動することを特徴とする塗布装置。

【請求項3】

請求項２に記載の塗布装置において、
前記距離調整機構は、前記回転軸に対して交差する方向へ延びる揺動軸と、該揺動軸周りに前記スプレー部を揺動させる揺動機構を含み、前記揺動機構の揺動速度は、前記スプレー部が被塗布面の外周側から前記回転軸へ近づくほど速くなることを特徴とする塗布装置。

【請求項4】

請求項３に記載に塗布装置において、
前記スプレー部は、被塗布面の近傍に揺動中心を有することを特徴とする塗布装置。

【請求項5】

請求項１に記載の塗布装置において、
前記スプレー部は、被塗布面に対する所定方向の相対移動において、被塗布面の一方の外周縁部から他方の外周縁部へ達するまで、塗布材料の吹き付けを継続することを特徴とする塗布装置。

【請求項6】

平面視で円形、かつ、径方向に段差部を有する被塗布面へ塗布材料を吹き付ける、請求項３又は４に記載の塗布装置であって、
前記揺動機構は、段差部における被塗布面の角度に基づいて前記スプレー部の揺動角度を変化させ、径方向内側の段差部に対する揺動角度の変化速度は、径方向外側の段差部に対する揺動角度の変化速度よりも速いことを特徴とする塗布装置。

【請求項7】

請求項１に記載の塗布装置において、
前記スプレー部は、前記回転軸の直上を通過可能に配置されることを特徴とする塗布装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

ここに開示された技術は、塗布装置に関する技術分野に属する。

【背景技術】

【0002】

回転する対象物に対して塗布材料を吹き付ける塗布装置は様々なものが知られている。例えば、特許文献１には、回転している基板の内周側上方から塗布材料を噴霧し、回転による遠心力によって基板の内周側から外周側へ流延させる塗布装置が開示されている。このような構成に加え、特許文献２には、対象物の回転速度を第１の塗布材料の吐出時と第２の塗布材料の吐出時とで相違させる塗布方法が開示されている。また、特許文献３には、対象物が固定されるテーブルをＸ軸移動及びＹ軸移動可能とし、塗布材料を吐出するノズルをＺ軸方向に移動可能とし、塗布材料によりパターンを形成するパターン膜の製造方法が開示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０００－３３３１８号公報

【特許文献2】特許第７０９２５０８号公報

【特許文献3】特開平１１－３４７４７８号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

ところで、このような塗布装置において、対象物の回転軸に近い内周側と回転軸から遠い外周側とでは、慣性モーメントの違いから、内周側ほど厚く塗布されるという問題がある。しかしながら、上記の特許文献には、これを課題として解決する手段は開示されていない。

【0005】

ここに開示された技術は斯かる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、対象物の回転軸部分及びその周辺において膜厚が厚くなることを抑制した塗布装置及び塗布方法を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0006】

前記課題を解決するために、ここに開示された技術は、回転する対象物の被塗布面に塗布材料を吹き付けて塗膜を形成する塗布装置であって、被塗布面を上方に指向して前記対象物を固定するとともに回転軸を中心に前記対象物を回転させる基台と、前記基台を指向するスプレー部と、前記基台及び前記スプレー部の少なくとも一方に設けられ、回転する被塗布面に対して前記スプレー部を相対移動させる移動機構及び前記スプレー部と被塗布面との距離を変更する距離調整機構と、を備え、前記距離調整機構は、前記移動機構によって前記スプレー部が被塗布面の外周側から前記回転軸へ近づくほど、被塗布面と前記スプレー部との距離が長くなるように、前記基台又は前記スプレー部を駆動する、という構成とした。

【0007】

上記の構成によれば、スプレー部が被塗布面の外周側から内周側へ相対移動し、回転軸へ近づくほど被塗布面から離れることで、被塗布面における回転軸及びその周辺において、塗布範囲が広くなり、塗布材料が分散する。そのため、被塗布面における回転軸及びその周辺が外周側よりも厚く塗布されることを抑制し、膜厚を均一化できる。

【0008】

一実施形態では、前記移動機構は、前記スプレー部が被塗布面の外周側から前記回転軸へ近づくほど、前記相対移動の移動速度が速くなるように、前記基台又は前記スプレー部を駆動してもよい。

【0009】

この構成によると、スプレー部の移動速度が被塗布面の外周側から回転軸へ近づくほど速くなるように相対移動させることで、被塗布面における回転軸及びその周辺が外周側よりも厚く塗布されることをより効果的に抑制し、膜厚を均一化できる。

【0010】

一実施形態では、前記距離調整機構は、前記回転軸に対して交差する方向へ延びる揺動軸と、該揺動軸周りに前記スプレー部を揺動させる揺動機構を含み、前記揺動機構の揺動速度は、前記スプレー部が被塗布面の外周縁部から前記回転軸へ近づくほど速くなるように構成してもよい。

【0011】

この構成によると、被塗布面が平面のみならず凹凸を有していても、揺動機構が被塗布面の形状に合わせてスプレー部の角度を変更できるため、被塗布面の形状に関わらず膜厚を均一化できる。さらに、揺動速度は被塗布面の外周縁部から回転軸へ近づくほど速くなるため、被塗布面における回転軸及びその周辺が外周側よりも厚く塗布されることをより効果的に抑制し、膜厚を均一化できる。

【0012】

一実施形態では、前記スプレー部は、被塗布面の近傍に揺動中心を有してもよい。

【0013】

この構成によると、スプレー部は、揺動中心を被塗布面の近傍とすることにより、揺動角の変化による被塗布面とスプレー部との距離の変化を抑制することが可能となる。

【0014】

一実施形態では、前記スプレー部は、被塗布面に対する所定方向の相対移動において、被塗布面の一方の外周縁部から他方の外周縁部へ達するまで、塗布材料の吹き付けを継続することが好ましい。

【0015】

この構成によると、スプレー部が被塗布面の途中で吹き付けを停止した場合、膜厚にばらつきが生じるが、被塗布面の一方の外周縁部から他方の外周縁部へ達するまで、塗布材料の吹き付けを継続することで、膜厚の不均一化を防ぐことができる。

【0016】

一実施形態では、平面視で円形、かつ、径方向に段差部を有する被塗布面へ塗布材料を吹き付けるものとし、前記揺動機構は、段差部における被塗布面の角度に基づいて前記スプレー部の揺動角度を変化させ、径方向内側の段差部に対する揺動角度の変化速度は、径方向外側の段差部に対する揺動角度の変化速度よりも速くなるように構成してもよい。

【0017】

この構成によると、被塗布面が径方向に段差部を有していても、揺動角度や揺動角度の変化速度を変化させることにより被塗布面全体の膜厚を均一化することができる。

【0018】

一実施形態では、前記スプレー部は、前記回転軸の直上を通過可能に配置してもよい。

【0019】

この構成によると、スプレー部が回転軸の直上を通過しながら塗布を行うことで、被塗布面の全体において、より効果的に膜厚のばらつきを抑制することが可能となる。

【発明の効果】

【0020】

以上説明したように、ここに開示された塗布装置によると、対象物の回転軸部分及びその周辺において膜厚が厚くなることを抑制できる。

【図面の簡単な説明】

【0021】

【図1】例示的な塗布装置の概略正面図である。

【図2】例示的な塗布装置の概略平面図である。

【図3】例示的な塗布装置の概略側面図である。

【図4】スプレー部を取り外した状態の塗布装置の要部を示す斜視図である。

【図5】例示的な塗布装置の概略ブロック図である。

【図6】スプレー部及び対象物の断面模式図である。

【図7】塗布装置の要部を示す斜視図である。

【図8】塗布装置の要部を示す斜視図である。

【図9】塗布装置の要部を示す斜視図である。

【図10】塗布装置の要部を示す斜視図である。

【図11】塗布装置の要部を示す斜視図である。

【図12】対象物と塗布装置の要部を示す斜視図である。

【図13】スプレー部と対象物を示す断面模式図である。

【図14】対象物と塗布装置の要部を示す斜視図である。

【図15】スプレー部と対象物を示す断面模式図である。

【図16】対象物と塗布装置の要部を示す斜視図である。

【図17】スプレー部と対象物を示す断面模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0022】

以下、例示的な実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。以下の説明では、左右、上下、前後といった方向を示す用語を用いるが、これらの方向を示す用語は構成要素の配置や塗布装置の駆動方向を限定するものではない。

【0023】

図１は、例示的な塗布装置１の概略的な正面図、図２は概略的な平面図、図３は概略的な側面図である。図４はスプレー部を取り外した状態の塗布装置の要部を示す斜視図である。図中に示すＸ，Ｙ及びＺは、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向を示す。下記の実施形態において、Ｘ軸方向は左右方向を示し、Ｙ軸方向は前後方向を示し、Ｚ軸方向は上下方向を示す。これらの方向は実施形態によって変更可能であり、塗布装置の駆動方向を限定するものではない。

【0024】

塗布装置１は、回転する対象物Ｗの被塗布面に塗布材料を吹き付けて塗膜を形成する塗布装置である。塗布装置１は、基台２、スプレー部３、移動機構４、距離調整機構５及び駆動部６を備える。

【0025】

基台２は、Ｚ軸方向に延びる回転軸２０を有する。基台２は、対象物Ｗの被塗布面を上方に指向して対象物Ｗを固定するとともに回転軸２０を中心に対象物Ｗを回転させる。対象物Ｗは、被塗布面の中心が回転軸２０と一直線上に位置するように配置されることが好ましい。基台２には、移動機構４が設けられる。基台２は、移動機構４により、回転軸２０と直交する方向へ移動可能である。基台２は、Ｘ軸方向に移動可能である。移動機構４はＸ軸方向に延びる摺動レール４１を有する。移動機構４が、基台２を摺動レール４１に沿ってＸ軸方向に摺動させることにより、回転する被塗布面に対してスプレー部３が相対移動する。

【0026】

スプレー部３は、筒状部材であり、塗布材料を被塗布面へ吹き付ける部材である。スプレー部３には、距離調整機構５が設けられる。スプレー部３は距離調整機構５を介して、摺動レール４１に隣接して立設する胴部８に支持され、基台２の上部に位置する。スプレー部３は、回転軸２０の直上を通過可能に配置されることが好ましい。スプレー部３は下方へ噴射口を有し、噴射口は基台２を指向する。距離調整機構５は、スプレー部３と被塗布面との相対的な距離を変更する。本実施形態において、距離調整機構５は、Ｚ軸方向におけるスプレー部３と被塗布面との距離を変更する。距離調整機構５は、揺動軸７０と、揺動軸７０周りにスプレー部３を揺動させる揺動機構７を含む。

【0027】

揺動機構７は、揺動軸７０、第１揺動アーム７１、及び第２揺動アーム７２を有する。揺動軸７０は、回転軸２０に対して交差する方向へ延びる。本実施形態においては、揺動軸７０は、回転軸２０及び基台２の移動方向に対して直交し、Ｙ軸方向に延びる。揺動軸７０は胴部８に設けられる。揺動軸７０は、スプレー部３の下端部と基台２の上面との間に設けられる。揺動中心である揺動軸７０は、対象物Ｗの被塗布面の近傍に設けられることが好ましい。第１揺動アーム７１は、一方側端部が揺動軸７０に連結される。

【0028】

第１揺動アーム７１は、揺動軸７０を中心に揺動可能である。第２揺動アーム７２は、第１揺動アーム７１の他方側端部に連結される。第２揺動アーム７２は、第１揺動アーム７１の揺動に伴い揺動する。また、第２揺動アーム７２は、第１揺動アーム７１の延設方向へ摺動可能である。第２揺動アーム７２にはスプレー部３を固定するための固定部７３が設けられる。スプレー部３は、固定部７３を介して第２揺動アーム７２に固定される。スプレー部３は、第２揺動アーム７２とともに第１揺動アーム７１の延設方向へ摺動するとともに揺動軸７０を中心に揺動する。

【0029】

距離調整機構５は、図４に示すように、第１リンク５１、第２リンク５２、及び連結軸５０ａ，５０ｂを有する。連結軸５０ａ，５０ｂはそれぞれＹ軸方向に延びる。第１リンク５１は、一方側端部が揺動軸７０に連結され、揺動軸７０を中心に回動可能である。第２リンク５２の一方側端部は、連結軸５０ａを介して第１リンク５１の他方側端部へ連結される。第２リンク５２の他方側端部は、連結軸５０ｂを介して第２揺動アーム７２に連結される。第２リンク５２は、連結軸５０ａ，５０ｂを中心に回動可能である。

【0030】

第１リンク５１が回動すると、その動きに伴い第２リンク５２が下方へ引き込まれ、又は、上方へ押し出される。第２リンク５２に連結された第２揺動アーム７２は、第２リンク５２の動きに伴い、第１揺動アーム７１に沿って摺動する。距離調整機構５は、第１リンク５１の回転運動を直線運動に変換し、第２揺動アーム７２を第１揺動アーム７１に沿って摺動させる。

【0031】

図５は、例示的な塗布装置の概略ブロック図である。図１及び図５を参照して、塗布装置１を更に説明する。なお、図５において構成要素を結ぶ実線は、信号の伝達経路を示し、破線は動力の伝達経路を示す。

【0032】

駆動部６は、第１駆動部６１、第２駆動部６２、第３駆動部６３及び第４駆動部６４を備える。

【0033】

第１駆動部６１は、距離調整機構５を駆動する。具体的には、第１駆動部６１は、第１リンク５１を駆動する。第１駆動部６１には、第１シャフト６１ａが連結される。第１シャフト６１ａは、第１駆動部６１によって回転駆動され、その動力を揺動軸７０へ入力し、第１リンク５１を回動させる。

【0034】

第２駆動部６２は、揺動機構７を駆動する。具体的には、第２駆動部６２は、第１揺動アーム７１を駆動する。第２駆動部６２には、第２シャフト６２ａが連結される。第２シャフト６２ａは、第２駆動部６２によって回転駆動され、その動力を揺動軸７０へ入力し、第１揺動アーム７１を回動させる。

【0035】

第３駆動部６３は、回転軸２０を回転駆動する。第３駆動部６３には、第３シャフト６３ａが連結される。第３シャフト６３ａは、第３駆動部６３によって回転駆動され、その動力を回転軸２０へ入力し、基台２を回転させる。

【0036】

第４駆動部６４は、移動機構４を駆動する。第４駆動部６４には、第４シャフト６４ａが連結される。第４シャフト６４ａは、第４駆動部６４によって回転駆動され、その動力を移動機構４へ入力し、基台２を摺動レール４１に沿って摺動させる。

【0037】

本実施形態において、距離調整機構５はスプレー部３に設け、移動機構４は基台２に設けたが、このような構成に限定されない。移動機構４及び距離調整機構５は基台２及びスプレー部３の少なくとも一方に設けられていればよい。距離調整機構５は、スプレー部３と被塗布面との相対的な距離を変更可能であればよく、基台２に設けられてもよい。移動機構４は、被塗布面に対してスプレー部３が相対移動するように駆動可能であればよく、スプレー部３に設けられてもよい。

【0038】

本実施形態において、塗布装置１は、１組のスプレー部３及び基台２を備えるものとしたが、スプレー部３及び基台２は２組以上を備えてもよい。複数のスプレー部３に対応する複数の基台２は、互いに同期して作動する構成としてもよい。例えば本実施形態において、Ｘ軸方向に複数のスプレー部３及び複数の基台２を設置すれば、第１駆動部６１、第２駆動部６２、第３駆動部６３及び第４駆動部６４によって、複数のスプレー部３及び複数の基台２を同期して作動させる構成とすることができる。

【0039】

制御部９は、駆動部６を制御することにより、回転軸２０、移動機構４、距離調整機構５、及び揺動機構７を制御する。制御部９は、駆動信号を生成し、駆動信号を駆動部６へ出力する。制御部９は、例えば、対象物の形状に基づいてあらかじめ入力されたプログラムに従って、又は、対象物の形状を検出するセンサによって得られた情報に従って、駆動部６を制御する。

【0040】

制御部９の制御によって、距離調整機構５は、例えば、以下のように駆動する。図６は、距離調整機構の作用を説明するための図であって、スプレー部と対象物を模式的に示す断面である。図６において、対象物Ｗの被塗布面は、平面状であり、平面視円形状である。このような被塗布面に対して、距離調整機構５は、移動機構４によってスプレー部３が被塗布面の外周縁部から回転軸２０へ近づくほど、被塗布面とスプレー部３との距離が長くなるよう、スプレー部３を駆動する。本実施形態において、基台２が左から右へ移動することにより、スプレー部３は被塗布面の右側の外周縁部から回転軸２０へ近づき、回転軸２０の直上を通過し、左側の外周縁部へ到達する。スプレー部３は、外周縁部に位置する場合よりも回転軸２０の直上に位置する場合の方が、被塗布面までの距離が長い。

【0041】

制御部９の制御によって、各構成要素は、例えば、以下のように駆動する。移動機構４は、スプレー部３の移動速度が被塗布面の外周縁部から回転軸２０へ近づくほど速くなるよう、基台２を駆動する。揺動機構７は、スプレー部３が被塗布面の外周縁部から回転軸２０へ近づくほど揺動速度が速くなるよう、スプレー部３を駆動する。そして、スプレー部３は、被塗布面に対する所定方向の相対移動において、被塗布面の一方の外周縁部から他方の外周縁部へ達するまで、塗布材料の吹き付けを継続する。

【0042】

距離調整機構５及び揺動機構７によって、スプレー部３は、Ｚ軸方向に移動可能であるとともに、Ｙ軸方向に延びる揺動軸７０を中心に揺動可能である。図７から１１は、塗布装置の要部を示す斜視図である。図７から１１を参照して、距離調整機構５及び揺動機構７の動作を具体的に説明する。

【0043】

図７において、スプレー部３は、基台２の上面に対して垂直に向いており、回転軸２０の直上に配置されている。具体的には、第１リンク５１及び第２リンク５２は一直線上に位置し、揺動軸７０の上方に連結軸５０ａが位置する。このとき、第２揺動アーム７２は、第１揺動アーム７１の上方に位置し、スプレー部３はＺ軸方向において、基台２から最も離れた位置にある。

【0044】

図８では、図７の状態から、スプレー部３が右へ揺動するとともに、下降している。具体的には、第１揺動アーム７１及び第２揺動アーム７２は、揺動軸７０を中心に右へ揺動している。また、第１リンク５１がやや左へ回動して第１リンク５１と第２リンク５２とが屈折することにより、第２揺動アーム７２が揺動軸７０へ近づく方向へ引き込まれている。スプレー部３は、回転軸２０の左側を指向している。

【0045】

図９では、図７の状態から、スプレー部３が下降している。具体的には、第１リンク５１が左へ回動してＸ軸方向と平行となり、第１リンク５１と第２リンク５２とが屈折することにより、第２揺動アーム７２が揺動軸７０へ近づく方向へ引き込まれている。

【0046】

図１０では、図９の状態から、スプレー部３が更に下降している。具体的には、第１リンク５１が図７の状態から１８０°回動して、Ｚ軸方向と平行となっている。揺動軸７０の下方に連結軸５０ａが位置し、第１リンク５１と第２リンク５２とが一直線上に重なり合うことにより、第２揺動アーム７２は揺動軸７０へ近づく方向へ更に引き込まれている。

【0047】

図１１は、図１０の状態から、スプレー部３が左へ揺動している。具体的には、第１リンク５１及び第２リンク５２の配置を保ちながら第１揺動アーム７１及び第２揺動アーム７２が揺動軸７０を中心に左へ揺動している。

【0048】

以上のように構成した塗布装置１は、被塗布面における回転軸及びその周辺が外周側よりも厚く塗布されることを抑制し、膜厚を均一化できる。

【0049】

塗布装置１は、対象物Ｗの被塗布面に凹凸がある場合も同様に被塗布面における回転軸及びその周辺が外周側よりも厚く塗布されることを抑制し、膜厚を均一化できる。図１２、１４及び１６は、対象物と塗布装置の要部を示す斜視図であって、段差部を有する被塗布面へ塗布材料を塗布する様子を示す。また、図１３、１５及び１７は、スプレー部と対象物を示す断面模式図である。図１２から図１７に基づいて、被塗布面の段差部とスプレー部３の角度について説明する。

【0050】

図１２から図１７に示す対象物の被塗布面は、平面視で円形、かつ、径方向に段差部を有する。具体的には、被塗布面は、外周側対して内周側が低く形成された複数の段差部を有するとともに、回転軸２０上又は回転軸２０の近傍に位置する中央部において、上方に隆起する湾曲部を有する。

【0051】

図１２から図１７において、基台２はスプレー部３の左側から右側へ向かって移動する。図１２及び図１３に示すように、スプレー部３は、対象物Ｗの右側端部から塗布を始める。対象物Ｗの右側端部における被塗布面は水平面である。スプレー部３は、右側端部における被塗布面に対して略垂直方向に指向する。

【0052】

図１４及び図１５に示すように、基台２が更に右側へ移動すると、スプレー部３は段差部を指向する。このとき、揺動機構７は、被塗布面の段差に基づいてスプレー部３の揺動角度を変化させ、段差部における被塗布面に対して、スプレー部３が略垂直方向に指向するように駆動する。

【0053】

図１６及び図１７に示すように、基台２が更に右側へ移動すると、スプレー部３は略中央部において、上方に隆起する湾曲部を指向する。このとき、揺動機構７は、被塗布面の段差に基づいてスプレー部３の揺動角度を変化させ、段差部における被塗布面に対して、スプレー部３が略垂直方向に指向するように駆動する。また、揺動機構７は、径方向内側の段差部に対する揺動角度の変化速度が、径方向外側の段差部に対する揺動角度の変化速度よりも速くなるようスプレー部３を駆動する。

【0054】

前述の実施形態は単なる例示に過ぎず、本開示の範囲を限定的に解釈してはならない。本開示の範囲は請求の範囲によって定義され、請求の範囲の均等範囲に属する変形や変更は、全て本開示の範囲内のものである。

【産業上の利用可能性】

【0055】

ここに開示された技術は、回転する対象物に対して塗布材料を吹き付ける塗布装置として様々な製造現場に好適に利用される。

【符号の説明】

【0056】

１ 塗布装置
２ 基台
３ スプレー部
４ 移動機構
５ 距離調整機構
６ 駆動部
７ 揺動機構
８ 胴部
９ 制御部
２０ 回転軸
５０ａ 連結軸
５０ｂ 連結軸
５１ 第１リンク
５２ 第２リンク
７０ 揺動軸
７１ 第１揺動アーム
７２ 第２揺動アーム
Ｗ 対象物

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】