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特開2025-104414転写シート、転写用基材付き樹脂成形品、及び樹脂成形品
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2025104414
(43)【公開日】2025-07-10
(54)【発明の名称】転写シート、転写用基材付き樹脂成形品、及び樹脂成形品
(51)【国際特許分類】
B44C 1/17 20060101AFI20250703BHJP
B32B 7/06 20190101ALI20250703BHJP
B32B 7/022 20190101ALI20250703BHJP
【ＦＩ】
B44C1/17 G
B44C1/17 L
B32B7/06
B32B7/022
【審査請求】未請求
【請求項の数】10
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023222191
(22)【出願日】2023-12-28
(71)【出願人】
【識別番号】000002897
【氏名又は名称】大日本印刷株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100124431
【弁理士】
【氏名又は名称】田中 順也
(74)【代理人】
【識別番号】100174160
【弁理士】
【氏名又は名称】水谷 馨也
(72)【発明者】
【氏名】峪中 一行
(72)【発明者】
【氏名】熊谷 勇樹
(72)【発明者】
【氏名】齋藤 昂秀
【テーマコード（参考）】
3B005
4F100
【Ｆターム（参考）】
3B005EA07
3B005EB01
3B005EB09
3B005EC01
3B005FA04
3B005FA17
3B005FB03
3B005FB13
3B005FB23
3B005FC02Z
3B005FC08X
3B005FC08Y
3B005FC08Z
3B005FC09X
3B005FE04
3B005FE22
3B005FE39
3B005FF06
3B005FG04X
3B005FG08Y
3B005FG09Y
3B005FG10Y
3B005FG20Y
3B005GA06
3B005GB01
4F100AA20
4F100AA20B
4F100AK25
4F100AK25B
4F100AK42
4F100AK42A
4F100AR00B
4F100AT00A
4F100BA02
4F100BA07
4F100DD07
4F100DD07B
4F100DE01
4F100DE01B
4F100EC04
4F100EC04B
4F100EH46
4F100EH46B
4F100EJ53
4F100EJ53B
4F100GB08
4F100GB33
4F100JK06
4F100JK15
4F100JK15B
4F100JL14
4F100JL14B
4F100JN21
(57)【要約】
【課題】樹脂成形品の表面に対して、耐指紋性に優れ、かつ、優れた艶消し調の意匠を付与し得る、転写シートを提供する。
【解決手段】少なくとも、転写用基材と、転写層とが積層された転写シートであって、
前記転写層の前記転写用基材側の表面の少なくとも一部に、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大山の高さＳｐに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｐ）が、０．６０以上であり、かつ、算術平均高さＳａが、０．１０以上である表面形状を有する、転写シート。
【選択図】なし
【解決手段】少なくとも、転写用基材と、転写層とが積層された転写シートであって、
前記転写層の前記転写用基材側の表面の少なくとも一部に、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大山の高さＳｐに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｐ）が、０．６０以上であり、かつ、算術平均高さＳａが、０．１０以上である表面形状を有する、転写シート。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
少なくとも、転写用基材と、転写層とが積層された転写シートであって、
前記転写層の前記転写用基材側の表面の少なくとも一部に、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大山の高さＳｐに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｐ）が、０．６０以上であり、かつ、算術平均高さＳａが、０．１０以上である表面形状を有する、転写シート。
前記転写層の前記転写用基材側の表面の少なくとも一部に、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大山の高さＳｐに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｐ）が、０．６０以上であり、かつ、算術平均高さＳａが、０．１０以上である表面形状を有する、転写シート。
【請求項2】
前記表面形状は、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大高さＳｚに対する最大山の高さＳｐの比（Ｓｐ／Ｓｚ）が、０．３０以上である、請求項１に記載の転写シート。
【請求項3】
前記表面形状は、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大高さＳｚに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｚ）が、０．４０以上である、請求項１又は２に記載の転写シート。
【請求項4】
前記表面形状は、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大高さＳｚが、８．００以上である、請求項１又は２に記載の転写シート。
【請求項5】
前記転写層は、保護層、プライマー層、装飾層、及び接着層からなる群より選択される少なくとも１種の層をさらに含んでいる、請求項１又は２に記載の転写シート。
【請求項6】
前記転写層の前記転写用基材側の表面は、保護層により形成されている、請求項１又は２に記載の転写シート。
【請求項7】
前記転写層と前記転写用基材との間に、離型層が積層されている、請求項１又は２に記載の転写シート。
【請求項8】
前記転写用基材の前記転写層とは反対側に、ブロッキング防止層をさらに備える、請求項１又は２に記載の転写シート。
【請求項9】
少なくとも、成形樹脂層と、転写層と、転写用基材とがこの順に積層された、転写用基材付き樹脂成形品であって、
前記転写層の前記転写用基材側の表面の少なくとも一部に、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大山の高さＳｐに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｐ）が、０．６０以上であり、かつ、算術平均高さＳａが、０．１０以上である表面形状を有する、転写用基材付き樹脂成形品。
前記転写層の前記転写用基材側の表面の少なくとも一部に、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大山の高さＳｐに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｐ）が、０．６０以上であり、かつ、算術平均高さＳａが、０．１０以上である表面形状を有する、転写用基材付き樹脂成形品。
【請求項10】
少なくとも、成形樹脂層と、転写層とが積層された、樹脂成形品であって、
前記転写層の前記成形樹脂層側とは反対側の表面の少なくとも一部に、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大山の高さＳｐに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｐ）が、０．６０以上であり、かつ、算術平均高さＳａが、０．１０以上である表面形状を有する、樹脂成形品。
前記転写層の前記成形樹脂層側とは反対側の表面の少なくとも一部に、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大山の高さＳｐに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｐ）が、０．６０以上であり、かつ、算術平均高さＳａが、０．１０以上である表面形状を有する、樹脂成形品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、転写シート、転写用基材付き樹脂成形品、及び樹脂成形品に関する。
【背景技術】
【0002】
自動車内外装、建材内装材、家電製品などに使用される樹脂成形品や、無機ガラス代替材料として用いられる有機ガラス等に用いられる樹脂成形品などにおいては、表面保護や意匠性の付与などを目的として、加飾シートを用いた積層技術が用いられている。このような技術に使用される加飾シートとしては、ラミネート型の加飾シートと、転写型の加飾シート（すなわち転写シート）とに大別することができる。
【0003】
ラミネート型の加飾シートは、支持基材上に保護層が最表面に位置するように積層されており、支持基材側に成形樹脂を積層することで、樹脂成形品中に支持基材が取り込まれるように用いられる。一方、転写型の加飾シート（転写シート）は、支持基材（転写用基材）上に直接、または必要により設けられる離型層を介して保護層が積層されており、転写用基材とは反対側に成形樹脂層を積層後、転写用基材を剥離することで、樹脂成形品に転写用基材が残らないようにして用いられる。これら２種類の加飾シートは、樹脂成形品の形状や求める機能などに応じて使い分けがなされている。
【0004】
三次元曲面などの複雑な表面形状を有する樹脂成形体の加飾には、射出成形同時加飾方法が用いられてきた。射出成形同時加飾方法とは、射出成形の際にインモールド成形用金型内に挿入された加飾シートを、キャビティ内に射出注入された溶融した射出樹脂と一体化させて、樹脂成形体の表面に加飾を施す方法である。さらに、樹脂成形体と一体化される加飾シートの構成の違い（前述のラミネート型と転写型の加飾シート（転写シート））によって、通常、射出成形同時ラミネート加飾法と、射出成形同時転写加飾法とに大別される。
【0005】
射出成形同時転写加飾法においては、転写シートの転写層側を金型の内側に向けて転写シートを配置し、転写層側から熱盤によって加熱し、該転写シートが金型内形状に沿うように成形する。次いで、キャビティ内に溶融した射出樹脂を射出し、射出樹脂を冷却することで成形樹脂層とし、転写シートと成形樹脂層とを一体化する。そして、転写シートが成形樹脂層と一体化された積層体を金型から取り出した後、転写用基材を剥離することにより、転写層を含む樹脂成形品が得られる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【特許文献1】特開２０１５－１６３４３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
転写シートによって製造される樹脂成形品の表面の意匠性を向上させるために、樹脂成形品の表面の少なくとも一部を、艶消し調とする技術が知られている。樹脂成形品の表面を艶消し調とする方法としては、例えば、樹脂成形品の表面に微細な凹凸形状を形成する方法が知られている。
【0008】
しかしながら、このような艶消し調の意匠を備える樹脂成形品の表面を手指で触れた場合に、表面に指紋が付きやすいという問題がある。
【0009】
また、転写シートが三次元成形に供される際には、転写シートは、高温高圧環境で成形樹脂層と一体化されて樹脂成形品（加飾樹脂成形品）が製造される。転写層に艶消し調の意匠を備える転写シートが高温高圧環境に曝されることにより、転写層表面の艶消し調の意匠が劣化し、樹脂成形品の表面に対して、優れた艶消し調の意匠を付与することが困難という問題もある。
【0010】
このような状況下、本開示は、樹脂成形品の表面に対して、耐指紋性に優れ、かつ、優れた艶消し調の意匠を付与し得る、転写シートを提供することを主な目的とする。さらに、本開示は、当該転写シートを利用した、転写用基材付き樹脂成形品、及び転写用基材が剥離されてなる樹脂成形品を提供することも目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0011】
本開示の発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討を行った。その結果、少なくとも、転写用基材と、転写層とがこの順に積層された転写シートにおいて、転写層の転写用基材側の表面の少なくとも一部の表面形状を、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大山の高さＳｐに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｐ）が所定値以上となるように調整することで、樹脂成形品の表面に対して、耐指紋性に優れ、かつ、優れた艶消し調の意匠を付与し得る、転写シートが得られることを見出した。本開示は、かかる知見に基づいて、更に検討を重ねることにより完成したものである。
【0012】
即ち、本開示は、下記に掲げる態様の発明を提供する。
項１． 少なくとも、転写用基材と、転写層とが積層された転写シートであって、
前記転写層の前記転写用基材側の表面の少なくとも一部に、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大山の高さＳｐに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｐ）が、０．６０以上であり、かつ、算術平均高さＳａが、０．１０以上である表面形状を有する、転写シート。
項２． 前記表面形状は、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大高さＳｚに対する最大山の高さＳｐの比（Ｓｐ／Ｓｚ）が、０．３０以上である、項１に記載の転写シート。
項３． 前記表面形状は、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大高さＳｚに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｚ）が、０．４０以上である、項１又は２に記載の転写シート。
項４． 前記表面形状は、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大高さＳｚが、８．００以上である、項１～３に記載の転写シート。
項５． 前記転写層は、保護層、プライマー層、装飾層、及び接着層からなる群より選択される少なくとも１種の層をさらに含んでいる、項１～４のいずれか１項に記載の転写シート。
項６． 前記転写層の前記転写用基材側の表面は、保護層により形成されている、項１～５のいずれか１項に記載の転写シート。
項７． 前記転写層と前記転写用基材との間に、離型層が積層されている、項１～５のいずれか１項に記載の転写シート。
項８． 前記転写用基材の前記転写層とは反対側に、ブロッキング防止層をさらに備える、項１～７のいずれか１項に記載の転写シート。
項９． 少なくとも、成形樹脂層と、転写層と、転写用基材とがこの順に積層された、転写用基材付き樹脂成形品であって、
前記転写層の前記転写用基材側の表面の少なくとも一部に、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大山の高さＳｐに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｐ）が、０．６０以上であり、かつ、算術平均高さＳａが、０．１０以上である表面形状を有する、転写用基材付き樹脂成形品。
項１０． 少なくとも、成形樹脂層と、転写層とが積層された、樹脂成形品であって、
前記転写層の前記成形樹脂層側とは反対側の表面の少なくとも一部に、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大山の高さＳｐに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｐ）が、０．６０以上であり、かつ、算術平均高さＳａが、０．１０以上である表面形状を有する、樹脂成形品。
項１． 少なくとも、転写用基材と、転写層とが積層された転写シートであって、
前記転写層の前記転写用基材側の表面の少なくとも一部に、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大山の高さＳｐに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｐ）が、０．６０以上であり、かつ、算術平均高さＳａが、０．１０以上である表面形状を有する、転写シート。
項２． 前記表面形状は、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大高さＳｚに対する最大山の高さＳｐの比（Ｓｐ／Ｓｚ）が、０．３０以上である、項１に記載の転写シート。
項３． 前記表面形状は、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大高さＳｚに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｚ）が、０．４０以上である、項１又は２に記載の転写シート。
項４． 前記表面形状は、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大高さＳｚが、８．００以上である、項１～３に記載の転写シート。
項５． 前記転写層は、保護層、プライマー層、装飾層、及び接着層からなる群より選択される少なくとも１種の層をさらに含んでいる、項１～４のいずれか１項に記載の転写シート。
項６． 前記転写層の前記転写用基材側の表面は、保護層により形成されている、項１～５のいずれか１項に記載の転写シート。
項７． 前記転写層と前記転写用基材との間に、離型層が積層されている、項１～５のいずれか１項に記載の転写シート。
項８． 前記転写用基材の前記転写層とは反対側に、ブロッキング防止層をさらに備える、項１～７のいずれか１項に記載の転写シート。
項９． 少なくとも、成形樹脂層と、転写層と、転写用基材とがこの順に積層された、転写用基材付き樹脂成形品であって、
前記転写層の前記転写用基材側の表面の少なくとも一部に、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大山の高さＳｐに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｐ）が、０．６０以上であり、かつ、算術平均高さＳａが、０．１０以上である表面形状を有する、転写用基材付き樹脂成形品。
項１０． 少なくとも、成形樹脂層と、転写層とが積層された、樹脂成形品であって、
前記転写層の前記成形樹脂層側とは反対側の表面の少なくとも一部に、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大山の高さＳｐに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｐ）が、０．６０以上であり、かつ、算術平均高さＳａが、０．１０以上である表面形状を有する、樹脂成形品。
【発明の効果】
【0013】
本開示によれば、樹脂成形品の表面に対して、耐指紋性に優れ、かつ、優れた艶消し調の意匠を付与し得る、転写シートを提供することができる。さらに、本開示によれば、当該転写シートを利用した、転写用基材付き樹脂成形品、及び転写用基材が剥離されてなる樹脂成形品を提供することもできる。
【図面の簡単な説明】
【0014】
【図1】本開示の転写シートの一形態の断面構造の模式図である。
【図2】本開示の転写シートの一形態の断面構造の模式図である。
【図3】本開示の転写シートの一形態の断面構造の模式図である。
【図4】本開示の転写シートの一形態の断面構造の模式図である。
【図5】本開示の転写シートの一形態の断面構造の模式図である。
【図6】本開示の転写シートの一形態の断面構造の模式図である。
【図7】本開示の転写用基材付き樹脂成形品の一形態の断面構造の模式図である。
【図8】本開示の樹脂成形品の一形態の断面構造の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【0015】
本開示の転写シートは、少なくとも、転写用基材と、転写層とが積層された転写シートであって、転写層の転写用基材側の表面の少なくとも一部に、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大山の高さＳｐに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｐ）が、０．６０以上であり、かつ、算術平均高さＳａが、０．１０以上である表面形状を有することを特徴とする。本開示の転写シートは、このような構成を有することにより、樹脂成形品の表面に対して、耐指紋性に優れ、かつ、優れた艶消し調の意匠を付与し得る。さらに、本開示の転写シートを用いて製造された樹脂成形品は、耐指紋性に優れ、かつ、優れた艶消し調の意匠を有する。なお、後述の通り、本開示の転写シートは、装飾層などを有していなくてもよく、例えば透明であってもよい。以下、本開示の転写シートについて詳述する。
【0016】
本明細書において、「以上」、「以下」と明記している箇所を除き、「～」で示される数値範囲は「以上」、「以下」を意味する。例えば、２～１５ｍｍとの表記は、２ｍｍ以上１５ｍｍ以下を意味する。本開示に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、別個に記載された、上限値と上限値、上限値と下限値、又は下限値と下限値を組み合わせて、それぞれ、数値範囲としてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレートまたはメタクリレート」を意味し、他の類似するものも同様の意である。
【0017】
転写シートの積層構造
本開示の転写シート１０は、少なくとも、転写用基材１と、転写層８とをこの順に有する。本開示の転写シート１０において、転写層８の転写用基材１側の表面の少なくとも一部に、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大山の高さＳｐに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｐ）が、０．６０以上であり、かつ、算術平均高さＳａが、０．１０以上である表面形状を有する。当該表面形状は、転写層８の転写用基材１側の表面の少なくとも一部に形成されていればよく、転写層８の当該表面形状を有する部分が、耐指紋性に優れ、かつ、優れた艶消し調の意匠を付与し得る。当該表面形状は、転写層８の転写用基材１側の表面の面積の割合は、好ましくは３０％以上、より好ましくは５０％以上、さらに好ましくは６０％以上、さらに好ましくは８０％以上であり、１００％（すなわち全面に前記表面形状が形成されている）であってもよい。
本開示の転写シート１０は、少なくとも、転写用基材１と、転写層８とをこの順に有する。本開示の転写シート１０において、転写層８の転写用基材１側の表面の少なくとも一部に、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大山の高さＳｐに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｐ）が、０．６０以上であり、かつ、算術平均高さＳａが、０．１０以上である表面形状を有する。当該表面形状は、転写層８の転写用基材１側の表面の少なくとも一部に形成されていればよく、転写層８の当該表面形状を有する部分が、耐指紋性に優れ、かつ、優れた艶消し調の意匠を付与し得る。当該表面形状は、転写層８の転写用基材１側の表面の面積の割合は、好ましくは３０％以上、より好ましくは５０％以上、さらに好ましくは６０％以上、さらに好ましくは８０％以上であり、１００％（すなわち全面に前記表面形状が形成されている）であってもよい。
【0018】
転写層８は、保護層２、接着層３、プライマー層４、装飾層５などのうち少なくとも１層をさらに含むことができる。転写層８は、少なくとも保護層２を含むことが好ましい。保護層２の密着性を向上させる観点から、保護層２の転写用基材１側とは反対側に、プライマー層４を含むことが好ましい。また、本開示の転写シート１０は、転写シート１０に装飾性を付与することなどを目的として、装飾層５を含んでもよい。本開示の転写シート１０において、転写層８が成形樹脂層９に転写されて本開示の樹脂成形品２０となる。本開示の転写シート１０の転写層８を成形樹脂層９に強く密着させる観点から、転写層８の転写用基材１側とは反対側の表面に接着層３を備えていることが好ましい。
【0019】
転写用基材１と転写層８との間には、転写用基材１と転写層８との剥離性を高めることなどを目的として、必要に応じて、離型層６を設けてもよい。後述のように、例えば離型層の転写用基材１側とは反対側の表面に対して、所定の方法で微細な凹凸形状を形成し、さらに当該表面上に、転写層８を積層して、転写層８の転写用基材１側の表面に当該凹凸形状を転写することで、転写層８の転写用基材側の表面の少なくとも一部に、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大山の高さＳｐに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｐ）が、０．６０以上であり、かつ、算術平均高さＳａが、０．１０以上である表面形状を形成できる。なお、この場合、離型層の表面に形成される凹凸形状と、転写層８の表面形状（凹凸形状）とは、反転した構造（いわゆるネガ・ポジの関係）となることから、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される形状（例えば最大山の高さＳｐに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｐ）、算術平均高さＳａ等の形状）は異なる。
【0020】
また、本開示の転写シート１０において、転写用基材１の転写層８とは反対側に、転写シートのブロッキングを防止するため、ブロッキング防止層７を有していてもよい。本開示の転写シート１０においては、転写用基材１、必要に応じて設けられる離型層６、及び、必要に応じて設けられるブロッキング防止層７は、支持体を構成している。当該支持体は、転写シート１０の転写層８を成形樹脂層９に一体化させた後に、剥離除去される。
【0021】
本開示の転写シートの積層構造として、転写用基材／保護層がこの順に積層された積層構造；転写用基材／保護層／接着層がこの順に積層された積層構造；転写用基材／保護層／プライマー層／接着層がこの順に積層された積層構造；転写用基材／保護層／プライマー層／装飾層／接着層がこの順に積層された積層構造；転写用基材／離型層／保護層／プライマー層／装飾層／接着層がこの順に積層された積層構造；ブロッキング防止層／転写用基材／離型層／保護層／プライマー層／装飾層／接着層がこの順に積層された積層構造などが挙げられる。図１に、本開示の転写シートの積層構造の一態様として、転写用基材／保護層がこの順に積層された転写シートの一形態の断面構造の模式図を示す。また、図２に、本開示の転写シートの積層構造の一態様として、転写用基材／保護層／接着層がこの順に積層された転写シートの一形態の断面構造の模式図を示す。また、図３に、本開示の転写シートの積層構造の一態様として、転写用基材／保護層／プライマー層／接着層がこの順に積層された転写シートの一形態の断面構造の模式図を示す。また、図４に、本開示の転写シートの積層構造の一態様として、転写用基材／保護層／プライマー層／装飾層／接着層がこの順に積層された転写シートの一形態の断面構造の模式図を示す。また、図５に、本開示の転写シートの積層構造の一態様として、転写用基材／離型層／保護層／プライマー層／装飾層／接着層がこの順に積層された転写シートの一形態の断面構造の模式図を示す。また、図６に、本開示の転写シートの積層構造の一態様として、ブロッキング防止層／転写用基材／離型層／保護層／プライマー層／装飾層／接着層がこの順に積層された転写シートの一形態の断面構造の模式図を示す。なお、「／」は、層間の区切りを意味している。
【0022】
転写シートを形成する各層
［支持体］
本開示の転写シートは、支持体として、転写用基材１を有している。支持体は、必要に応じて、離型層６、ブロッキング防止層７をさらに有する。転写用基材１の上に形成された、保護層２、接着層３、プライマー層４、装飾層５などの少なくとも１層が、転写層８を構成する。本開示においては、転写シートと成形樹脂を一体成形した後に、支持体と転写層８の界面が引き剥がされて、樹脂成形品が得られる。
［支持体］
本開示の転写シートは、支持体として、転写用基材１を有している。支持体は、必要に応じて、離型層６、ブロッキング防止層７をさらに有する。転写用基材１の上に形成された、保護層２、接着層３、プライマー層４、装飾層５などの少なくとも１層が、転写層８を構成する。本開示においては、転写シートと成形樹脂を一体成形した後に、支持体と転写層８の界面が引き剥がされて、樹脂成形品が得られる。
【0023】
（転写用基材１）
本開示において、転写用基材１は、転写シートにおいて支持部材としての役割を果たす支持体として用いられる。本開示で用いられる転写用基材１は、真空成形適性を考慮して選定され、代表的には熱可塑性樹脂からなる樹脂シートが使用される。該熱可塑性樹脂としては、ポリエステル樹脂；アクリル樹脂；ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィン樹脂；ポリカーボネート樹脂；アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン樹脂（ＡＢＳ樹脂）；塩化ビニル樹脂等が挙げられる。
本開示において、転写用基材１は、転写シートにおいて支持部材としての役割を果たす支持体として用いられる。本開示で用いられる転写用基材１は、真空成形適性を考慮して選定され、代表的には熱可塑性樹脂からなる樹脂シートが使用される。該熱可塑性樹脂としては、ポリエステル樹脂；アクリル樹脂；ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィン樹脂；ポリカーボネート樹脂；アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン樹脂（ＡＢＳ樹脂）；塩化ビニル樹脂等が挙げられる。
【0024】
転写シート１０の転写によって、成形樹脂層９に転写させる転写層８の表面に好適に凹部を賦形する観点から、本開示においては、転写用基材１として、ポリエステルシートを用いることが好ましい。ポリエステルシートを構成するポリエステル樹脂とは、多価カルボン酸と、多価アルコールとから重縮合によって得られるエステル基を含むポリマーを示し、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などを好ましく挙げることができ、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が、耐熱性や寸法安定性の点で特に好ましい。
【0025】
本開示で転写用基材１として好適に用いられるポリエステルシートは、例えば以下のように製造される。まず上記のポリエステル系樹脂とその他の原料をエクストルーダーなどの周知の溶融押出装置に供給し、当該ポリエステル系樹脂の融点以上の温度に加熱し溶融する。次いで溶融ポリマーを押出しながら、回転冷却ドラム上でガラス転移温度以下の温度になるよう急冷固化し、実質的に非晶状態の未配向シートを得る。このシートを２軸方向に延伸してシート化し、熱固定を施すことで得られる。この場合、延伸方法は逐次２軸延伸でも同時２軸延伸でもよい。また、必要に応じ、熱固定を施す前又は後に再度縦及び／又は横方向に延伸してもよい。本開示においては十分な寸法安定性を得るため延伸倍率を面積倍率として７倍以下が好ましく、５倍以下がより好ましく、３倍以下がさらに好ましい。この範囲内であれば、得られるポリエステルシートを転写シートに用いた場合、該転写シートが成形樹脂を射出する際の温度域で再び収縮せず、当該温度域で必要なシート強度が得られる。なお、ポリエステルシートは、上記のように製造してもよいし、市販のものを用いてもよい。
【0026】
また、転写用基材１は、後述する離型層６を設ける場合、当該離型層６との密着性を向上させる目的で、所望により、片面又は両面に酸化法や凹凸化法などの物理的又は化学的表面処理を施すことができる。上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、クロム酸化処理、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線処理法などが挙げられ、凹凸化法としては、例えばサンドブラスト法、溶剤処理法などが挙げられる。これらの表面処理は、転写用基材１の種類に応じて適宜選択されるが、一般にはコロナ放電処理法が効果及び操作性などの面から好ましく用いられる。また、転写用基材１は、転写用基材１とその上に設けられる層との層間密着性の強化などを目的として、易接着層を形成するなどの処理を施してもよい。なお、ポリエステルシートとして市販のものを用いる場合には、該市販品は予め上記したような表面処理が施されたものや、易接着層が設けられたものも用いることができる。
【0027】
転写用基材１の厚みは、好ましくは５０μｍ以上、より好ましくは６０μｍ以上であり、また、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは６０μｍ以下である。転写用基材１の厚みの好ましい範囲は５０μｍ以上１００μｍ以下程度であり、さらに好ましくは６０μｍ以上７５μｍ以下程度である。転写用基材１としては、これら樹脂の単層シート、あるいは同種又は異種樹脂による複層シートを用いることができる。
【0028】
（離型層６）
離型層６は、転写用基材１と転写層８との剥離性を高めることなどを目的として、必要に応じて、転写用基材１の転写層８が積層される側の表面に設けられる。
離型層６は、転写用基材１と転写層８との剥離性を高めることなどを目的として、必要に応じて、転写用基材１の転写層８が積層される側の表面に設けられる。
【0029】
また、離型層６は、転写層８の転写用基材１側の表面の少なくとも一部に対して、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大山の高さＳｐに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｐ）が、０．６０以上であり、かつ、算術平均高さＳａが、０．１０以上である表面形状を形成するためにも、好適に用いることができる。具体的には、離型層６を形成するための未硬化の電離放射線硬化性樹脂組成物を転写用基材１の表面に積層し、未硬化の電離放射線硬化性樹脂組成物の層に対して、エキシマランプ等から短波長紫外線を照射して電離放射線硬化性樹脂組成物を硬化させ、離型層６を形成すると共に表面に微小な凹凸形状を形成する。電離放射線硬化性樹脂組成物の組成、短波長紫外線の照射条件などを調整することにより、離型層の表面に形成される微細な凹凸形状を調整する。電離放射線硬化性樹脂組成物の組成、短波長紫外線の照射条件の具体例については、後述する。離型層６の微細な凹凸形状の上に、転写層８を形成する未硬化の樹脂組成物（例えば保護層２を形成する未硬化の樹脂組成物）を積層させることで、離型層６の凹凸形状が反転した表面形状が、転写層８の転写用基材１側の表面に形成される。離型層６の凹凸形状を調整することによって、転写層８の転写用基材１側の表面を所望の形状に調整することが可能である。なお、前述の通り、離型層６の表面に形成される凹凸形状と、転写層８の表面形状（凹凸形状）とは、反転した構造（いわゆるネガ・ポジの関係）となることから、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される形状（例えば最大山の高さＳｐに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｐ）、算術平均高さＳａ等の形状）は異なる。
【0030】
なお、支持体に離型層６を設けない場合には、前述の転写用基材１の表面に対して、微細な凹凸形状を形成し、転写層８の転写用基材１側の表面を所望の形状に調整してもよい。
【0031】
離型層６は、全面を被覆（全面ベタ状）しているベタ離型層であってもよいし、一部に設けられるものであってもよい。通常は、剥離性を考慮して、ベタ離型層が好ましい。
【0032】
離型層６は、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、アクリル系樹脂（例えば、アクリル－メラミン系樹脂が含まれる。）、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、セルロース系樹脂、塩化ビニル－酢酸ビニル系共重合体樹脂、硝化綿などの熱可塑性樹脂、該熱可塑性樹脂を形成するモノマーの共重合体、電離放射線硬化性樹脂、あるいはこれらの樹脂を（メタ）アクリル酸やウレタンで変性したものを、単独で又は複数を混合した樹脂組成物を用いて形成できる。なかでも、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、これらの樹脂を形成するモノマーの共重合体、及びこれらをウレタン変性したものが好ましく、より具体的には、アクリル－メラミン系樹脂単独、アクリル－メラミン系樹脂含有組成物、ポリエステル系樹脂とエチレン及びアクリル酸の共重合体をウレタン変性したものとを混合した樹脂組成物、アクリル系樹脂とスチレン及びアクリルとの共重合体のエマルションとを混合した樹脂組成物などが挙げられる。これらの内、アクリル－メラミン系樹脂単独又はアクリル－メラミン系樹脂を５０質量％以上含有する組成物で離型層６を構成することが特に好ましい。
【0033】
（電離放射線硬化性樹脂）
離型層６の形成に使用される電離放射線硬化性樹脂とは、電離放射線を照射することにより、架橋、硬化する樹脂であり、具体的には、分子中に重合性不飽和結合又はエポキシ基を有する、プレポリマー、オリゴマー、及びモノマーなどのうち少なくとも１種を適宜混合したものが挙げられる。ここで、電離放射線とは、後述の［保護層２］の欄に記載の通りである。
離型層６の形成に使用される電離放射線硬化性樹脂とは、電離放射線を照射することにより、架橋、硬化する樹脂であり、具体的には、分子中に重合性不飽和結合又はエポキシ基を有する、プレポリマー、オリゴマー、及びモノマーなどのうち少なくとも１種を適宜混合したものが挙げられる。ここで、電離放射線とは、後述の［保護層２］の欄に記載の通りである。
【0034】
電離放射線硬化性樹脂として使用される上記モノマーとしては、分子中にラジカル重合性不飽和基を持つ（メタ）アクリレートモノマーが好適であり、中でも多官能（メタ）アクリレートモノマーが好ましい。多官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、分子内に重合性不飽和結合を２個以上（２官能以上）、好ましくは３個以上（３官能以上）有する（メタ）アクリレートモノマーであればよい。多官能（メタ）アクリレートモノマーとして、具体的には、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジ（メタ）アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらのモノマーは、１種単独で使用してもよく、また２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【0035】
また、電離放射線硬化性樹脂として使用される上記オリゴマーとしては、分子中にラジカル重合性不飽和基を持つ（メタ）アクリレートオリゴマーが好適であり、中でも分子内に重合性不飽和結合を２個以上（２官能以上）有する多官能（メタ）アクリレートオリゴマーが好ましい。多官能（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、例えば、ポリカーボネート（メタ）アクリレート、アクリルシリコーン（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリブタジエン（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート、分子中にカチオン重合性官能基を有するオリゴマー（例えば、ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、脂肪族ビニルエーテル、芳香族ビニルエーテル等）等が挙げられる。ここで、ポリカーボネート（メタ）アクリレートは、ポリマー主鎖にカーボネート結合を有し、かつ末端または側鎖に（メタ）アクリレート基を有するものであれば特に制限されず、例えば、ポリカーボネートポリオールを（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。ポリカーボネート（メタ）アクリレートは、例えば、ポリカーボネート骨格を有するウレタン（メタ）アクリレートなどであってもよい。ポリカーボネート骨格を有するウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、ポリカーボネートポリオールと、多価イソシアネート化合物と、ヒドロキシ（メタ）アクリレートとを反応させることにより得られる。アクリルシリコーン（メタ）アクリレートは、シリコーンマクロモノマーを（メタ）アクリレートモノマーとラジカル共重合させることにより得ることができる。ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、ポリエーテルポリオールやポリエステルポリオールやカプロラクトン系ポリオールとポリイソシアネート化合物の反応によって得られるポリウレタンオリゴマーを、（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。エポキシ（メタ）アクリレートは、例えば、比較的低分子量のビスフェノール型エポキシ樹脂やノボラック型エポキシ樹脂のオキシラン環に、（メタ）アクリル酸を反応しエステル化することにより得ることができる。また、このエポキシ（メタ）アクリレートを部分的に二塩基性カルボン酸無水物で変性したカルボキシル変性型のエポキシ（メタ）アクリレートも用いることができる。ポリエステル（メタ）アクリレートは、例えば多価カルボン酸と多価アルコールの縮合によって得られる両末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーの水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより、或いは多価カルボン酸にアルキレンオキシドを付加して得られるオリゴマーの末端の水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。ポリエーテル（メタ）アクリレートは、ポリエーテルポリオールの水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。ポリブタジエン（メタ）アクリレートは、ポリブタジエンオリゴマーの側鎖に（メタ）アクリル酸を付加することにより得ることができる。シリコーン（メタ）アクリレートは、主鎖にポリシロキサン結合をもつシリコーンの末端又は側鎖に（メタ）アクリル酸を付加することにより得ることができる。これらの中でも、多官能（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、ポリカーボネート（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレートなどが特に好ましい。これらのオリゴマーは、１種単独で使用してもよく、また２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【0036】
離型層６を形成する電離放射線硬化性樹脂組成物の好ましい組成としては、例えば、多官能（メタ）アクリレートモノマー（好ましくは、２官能（メタ）アクリレートモノマー、３官能（メタ）アクリレートモノマーなど）、多官能ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー（好ましくは、２官能ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、３官能ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーなど）、シリコーン、微粒子（シリカ粒子など）、及び光重合開始剤を含む電離放射線硬化性樹脂組成物が挙げられる。
【0037】
電離放射線硬化性樹脂を用いて離型層６を形成する場合、離型層６の形成は、例えば、電離放射線硬化性樹脂を含む電離放射線硬化性樹脂組成物を調製し、これを塗布し、硬化することにより行われる。なお、電離放射線硬化性樹脂組成物の粘度は、後述の塗布方式により、未硬化樹脂層を形成し得る粘度であればよい。
【0038】
本開示においては、調製された塗布液を、前記厚みとなるように、グラビアコート、バーコート、ロールコート、リバースロールコート、コンマコート等の公知の方式、好ましくはグラビアコートにより塗布し、未硬化樹脂層を形成させる。
【0039】
離型層６を形成するための未硬化の電離放射線硬化性樹脂組成物の層（未硬化樹脂層）に対して、短波長紫外線（少なくとも１００ｎｍ以上２８０ｎｍ以下の波長光）を照射することにより、離型層６の表面に、微細な凹凸形状を形成することができる。離型層６を形成するための未硬化樹脂層の表面に対して、短波長の紫外線を照射すると、当該紫外線のエネルギーが未硬化樹脂層の表面部分のみに浸透し、それより下部分にはエネルギーが到達しにくい。これにより、未硬化樹脂層の表面部分だけが硬化をはじめ、硬化収縮を生じることで、微細な凹凸形状（シワ）が形成するものと考えられる。このように、微細な凹凸形状の形成は、短波長の紫外線の照射により、離型層６形成用の未硬化樹脂層の表面からの一定の厚み方向のみが硬化した状態において生じていると考えられる。
【0040】
離型層６の表面に微小な凹凸形状を形成する際の短波長紫外線の照射条件の具体例については、以下の通りである。
【0041】
短波長紫外線（少なくとも１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の波長光）としては、例えば、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅ、Ｎｅ等の希ガス、Ｆ、Ｃｌ、Ｉ、Ｂｒ等のハロゲンによる希ガスのハロゲン化物等ガス、又はこれらの混合ガスの放電によって形成される励起状態の２量体、すなわちエキシマ（ｅｘｃｉｍｅｒ）からの紫外線波長域の光を含む「エキシマ光」が好ましい。エキシマ光の波長及び光源となるエキシマとしては、例えばＡｒ2のエキシマから輻射される波長１２６ｎｍの光（以下、「１２６ｎｍ（Ａｒ2）」のように略称する。）、１４６ｎｍ（Ｋｒ2）、１５７ｎｍ（Ｆ2）、１７２ｎｍ（Ｘｅ2）、１９３ｎｍ（ＡｒＦ）、２２２ｎｍ（ＫｒＣｌ）、２４７ｎｍ（ＫｒＦ）、３０８ｎｍ（ＸｅＣｌ）、３５１ｎｍ（ＸｅＦ）等の波長光を好ましく採用することができる。エキシマ光としては、自然放出光、誘導放出によるコヒーレンス（可干渉性）の高いレーザ光のいずれを用いることができるが、通常自然放出光を用いれば十分である。なお、当該光（紫外線）を放射する放電ランプは、「エキシマランプ」とも称されている。エキシマ光は波長ピークが単一であり、また通常の紫外線（例えば、メタルハライドランプ、水銀ランプ等から放射される紫外線）と比べて波長の半値幅が狭いことが特徴として挙げられる。このようなエキシマ光を用いることで、離型層６の表面に対して、好適に微細な凹凸形状を形成することができ、転写層８の表面形状を所望の形状となるように好適に調整することができる。
【0042】
離型層６の表面に対して微細な凹凸形状を好適に形成する観点から、波長としては好ましくは１２０ｎｍ以上、より好ましくは１４０ｎｍ以上、更に好ましくは１５０ｎｍ以上、より更に好ましくは１５５ｎｍ以上であり、上限として好ましくは３２０ｎｍ以下、より好ましくは３００ｎｍ以下、更に好ましくは２５０ｎｍ以下、より更に好ましくは２００ｎｍ未満であり、最も好ましくは、１７２ｎｍ（Ｘｅ2）である。このように、本開示においては、離型層６の表面に対して微細な凹凸形状を好適に形成する観点から、より短波長の波長光を用いることが好ましく、中波長紫外線（波長：２８０～３２０ｎｍ）、短波長紫外線（波長：２８０ｎｍ以下）がより好ましく、短波長紫外線が更に好ましい、ともいえる。短波長紫外線は、波長２００ｎｍ未満の領域が好ましい。
【0043】
本開示において、離型層６の表面に対して微細な凹凸形状を好適に形成する観点から、上記波長光の積算光量は、好ましくは１ｍＪ／ｃｍ2以上、より好ましくは１０ｍＪ／ｃｍ2以上、更に好ましくは３０ｍＪ／ｃｍ2以上、より更に好ましくは５０ｍＪ／ｃｍ2以上である。また上限としては特に制限はなく、波長光の照射に必要な灯数を低減し、また生産効率の向上等の生産性の観点から、上限として好ましくは１，０００ｍＪ／ｃｍ2以下、より好ましくは５００ｍＪ／ｃｍ2以下、更に好ましくは３００ｍＪ／ｃｍ2以下である。これと同様の観点から、紫外線出力密度は、好ましくは０．００１Ｗ／ｃｍ以上、より好ましくは０．０１Ｗ／ｃｍ以上、更に好ましくは０．０３Ｗ／ｃｍ以上であり、上限として好ましくは１０Ｗ／ｃｍ以下、より好ましくは５Ｗ／ｃｍ以下、更に好ましくは３Ｗ／ｃｍ以下である。また、上記波長光を照射する際の酸素濃度は、より低いことが好ましく、好ましくは１，０００ｐｐｍ以下、より好ましくは７５０ｐｐｍ以下、更に好ましくは５００ｐｐｍ以下、より更に好ましくは３００ｐｐｍ以下である。
【0044】
離型層６を形成する際、前記の短波長紫外線での照射の他、離型層６を形成するための電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化に寄与する他の処理を行ってもよい。例えば、既述の表面部分と表面から深さ方向に離れた深奥部分の硬化の進行度合いの違いによる凹凸形状を安定させ、かつ深奥部分への硬化の進行を促進する観点から、例えば３８０ｎｍを超える波長光、好ましくは３８５ｎｍ以上４００ｎｍ以下程度の波長光で予め照射して樹脂組成物を全体的に予備硬化させた後に、１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の波長光で照射してもよいし、また１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の波長光での照射後に、樹脂組成物を更に硬化させるために後硬化を行ってもよい。予備硬化、後硬化については、離型層６に求められる所望の性状（例えば、加工特性、耐汚染性等の表面特性）に応じて採用の要否を適宜決めればよい。また、上記波長光は紫外線に属するものであるが、紫外線に限らず他の電離放射線、例えば電子線等を用いることも可能である。例えば、後硬化においては、艶消層の表面特性の向上の観点から、電子線が好ましく用いられ得る。
【0045】
ここで、電離放射線として電子線を用いる場合、その加速電圧については、用いる樹脂や層の厚みに応じて適宜選定し得るが、通常加速電圧７０ｋＶ以上、また、３００ｋＶ以下が挙げられる。
【0046】
なお、電子線の照射において、加速電圧が高いほど透過能力が増加するため、離型層６の下に電子線照射によって劣化しやすい樹脂を使用する場合には、電子線の透過深さと離型層６の厚みが実質的に等しくなるように、加速電圧を選定する。これにより、離型層６の下に位置する層への余分の電子線の照射を抑制することができ、過剰電子線による各層の劣化を最小限にとどめることができる。
【0047】
また、照射線量は、離型層６の架橋密度が飽和する量が好ましく、通常５ｋＧｙ以上（０．５Ｍｒａｄ以上）、好ましくは１０ｋＧｙ以上（１Ｍｒａｄ以上）であり、また、通常３００ｋＧｙ以下（３０Ｍｒａｄ以下）、好ましくは５０ｋＧｙ以下（５Ｍｒａｄ以下）である。照射線量は、通常５ｋＧｙ以上３００ｋＧｙ以下（０．５Ｍｒａｄ以上３０Ｍｒａｄ以下）、好ましくは１０ｋＧｙ以上５０ｋＧｙｋＧｙ以下（１Ｍｒａｄ以上５Ｍｒａｄ以下）の範囲で選定される。
【0048】
更に、電子線源としては、特に制限はなく、例えばコックロフトワルトン型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器を用いることができる。
【0049】
電離放射線として紫外線を用いる場合には、波長１９０ｎｍ以上、３８０ｎｍ以下の紫外線を含む光線を放射すればよい。紫外線源としては、特に制限されないが、例えば、高圧水銀燈、低圧水銀燈、メタルハライドランプ、カーボンアーク燈、紫外線発光ダイオード（ＬＥＤ－ＵＶ）等が挙げられる。
【0050】
離型層６の厚みは、好ましくは０．０１μｍ以上、より好ましくは０．０５μｍ以上であり、また、好ましくは５μｍ以下であり、より好ましくは３μｍ以下である。離型層６の厚みの好ましい範囲は、０．０１μｍ以上好ましくは５μｍ以下であり、より好ましくは０．０５μｍ以上３μｍ以下である。
【0051】
（ブロッキング防止層７）
本開示の転写シートにおいて、ブロッキング防止層７は、転写シートにおけるブロッキングを効果的に抑制するために、転写用基材１の転写層８とは反対側に設けられる層である。ブロッキング防止層７は、粒子と熱可塑性樹脂を含む樹脂組成物により形成することが好ましい。
本開示の転写シートにおいて、ブロッキング防止層７は、転写シートにおけるブロッキングを効果的に抑制するために、転写用基材１の転写層８とは反対側に設けられる層である。ブロッキング防止層７は、粒子と熱可塑性樹脂を含む樹脂組成物により形成することが好ましい。
【0052】
熱可塑性樹脂としては、特に制限されないが、例えば、ポリ（メタ）アクリル酸メチルなどのアクリル樹脂；ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィン系樹脂；ポリカーボネート樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル－酢酸ビニル共重合体などの塩化ビニル系樹脂；ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）；アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン樹脂（ＡＢＳ樹脂）；アクリロニトリル－スチレン－アクリル酸エステル樹脂；などが挙げられる。熱可塑性樹脂は、１種類単独で使用してもよいし、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
【0053】
粒子としては、特に制限されず、ブロッキング防止剤として公知のものを用いることができる。粒子としては、例えば、無機粒子、樹脂粒子などの粒子が挙げられる。
【0054】
無機粒子としては、無機化合物により形成された粒子であれば、特に制限されず、例えば、シリカ粒子、炭酸カルシウム粒子、硫酸バリウム粒子、アルミナ粒子、ガラスバルーン粒子が挙げられ、これらの中でも好ましくはシリカ粒子が挙げられる。無機粒子は、１種類単独で使用してもよいし、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
【0055】
また、樹脂粒子としては、樹脂により形成された粒子であれば、特に制限されず、例えば、ウレタンビーズ、ナイロンビーズ、アクリルビーズ、シリコーンビーズ、スチレンビーズ、メラミンビーズ、ウレタンアクリルビーズ、ポリエステルビーズ、ポリエチレンビーズなどが挙げられる。樹脂粒子は、１種類単独で使用してもよいし、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
【0056】
粒子の粒子径としては、例えば０．５μｍ以上、好ましくは１μｍ以上であり、また、好ましくは２０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以下である。粒子の粒子径の好ましい範囲としては、好ましくは０．５μｍ以上２０μｍ以下、より好ましくは１μｍ以上１０μｍ以下が挙げられる。なお、本開示において、粒子の粒子径は、レーザ回折式粒度分布測定装置を使用し、圧縮空気を利用してノズルから測定対象となる粉体を噴射し、空気中に分散させて測定する、噴射型乾式測定方式により測定される値である。
【0057】
ブロッキング防止層７の粒子の含有量としては、特に制限されないが、好ましくは１質量％以上、より好ましくは３質量％以上であり、また、好ましくは１５質量％以下、より好ましくは１０質量％以下が挙げられる。ブロッキング防止層７の粒子の含有量の好ましい範囲としては、好ましくは１質量％以上１５質量％以下であり、より好ましくは３質量％以上１０質量％以下が挙げられる。
【0058】
また、ブロッキング防止層７の厚みとしては、特に制限されないが、例えば１０μｍ以下、好ましくは５μｍ以下であり、また、好ましくは１μｍ以上、より好ましくは２μｍ以上が挙げられる。ブロッキング防止層７の厚みの好ましい範囲としては、例えば１μｍ以上１０μｍ以下であり、より好ましくは２μｍ以上５μｍ以下である。なお、本開示において、ブロッキング防止層７の厚みは、粒子による凸部が存在していない部分における厚みを意味する。
【0059】
粒子の粒子径は、ブロッキング防止層７の厚みよりも大きいことが好ましい。例えば、粒子の粒子径は、ブロッキング防止層７の厚みの１．１倍以上であることが好ましく、１．３倍以上であることがより好ましく、また、５倍以下であることが好ましく、３倍以下であることがより好ましい。例えば、粒子の粒子径は、ブロッキング防止層７の厚みの１．１倍以上５倍以下であることが好ましく、１．３倍以上３倍以下であることがより好ましい。
【0060】
［転写層８］
本開示の転写シートにおいては、支持体の上に形成された、保護層２、接着層３、プライマー層４、装飾層等のうち少なくとも１層が転写層８を構成している。本開示の転写シートにおいては、転写層８は、保護層２に加えて、接着層３、プライマー層４、装飾層５などのうち少なくとも１層を含むことが好ましい。
本開示の転写シートにおいては、支持体の上に形成された、保護層２、接着層３、プライマー層４、装飾層等のうち少なくとも１層が転写層８を構成している。本開示の転写シートにおいては、転写層８は、保護層２に加えて、接着層３、プライマー層４、装飾層５などのうち少なくとも１層を含むことが好ましい。
【0061】
本開示においては、転写シートと成形樹脂を一体成形した後に、支持体と転写層８の界面が引き剥がされ、転写シートの転写層８が成形樹脂層９に転写された樹脂成形品が得られる。この際、本開示の樹脂成形品において、耐指紋性に優れ、かつ、優れた艶消し調の意匠を有する転写層８の表面形状が露出する。
【0062】
本開示の転写シート１０において、転写層８の転写用基材１側の表面の少なくとも一部に、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大山の高さＳｐに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｐ）が、０．６０以上であり、かつ、算術平均高さＳａが、０．１０以上である表面形状を有する。本開示の加飾シートは、表面形状の凹凸の山と谷のバランスを調整することで、最大山の高さＳｐに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｐ）及び算術平均高さＳａを、それぞれ所定値以上とし、凹凸の溝部分に指紋(皮脂)が入り込みにくくなっていると考えられる。また、凹凸の溝部分に指紋(皮脂)が入ったとしても、凹凸が埋まるほどではないと考えられる。このため、加飾シート表面を手で触る前後において、見た目での変化が少なく、耐指紋性が高められていると考えられる。また、本開示の加飾シートは、最大山の高さＳｐに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｐ）及び算術平均高さＳａを、それぞれ所定値以上にすることで、加飾シート表面を様々な角度（正面方向、斜め方向）から観察した場合に、凹凸を視認しやすく、優れた艶消し調の意匠を発揮していると考えられる。転写層８の転写用基材１側の表面形状の測定方法は、後述の通りである。
【0063】
本開示の発明の効果をより一層好適に発揮する観点から、転写層８の前記表面形状は、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大山の高さＳｐに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｐ）が、好ましくは０．８０以上、さらに好ましくは１．００以上であり、また、好ましくは２．４０以下、より好ましくは２．２０以下、さらに好ましくは２．００以下であり、好ましい範囲としては、０．６０～２．４０、０．６０～２．２０、０．６０～２．００、０．８０～２．４０、０．８０～２．２０、０．８０～２．００、１．００～２．４０、１．００～２．２０、１．００～２．００などが挙げられる。
【0064】
本開示の発明の効果をより一層好適に発揮する観点から、転写層８の前記表面形状は、前記算術平均高さＳａが、好ましくは０．１０以上、より好ましくは０．５０以上、さらに好ましくは０．７０以上、さらに好ましくは１．００以上であり、また、好ましくは２．００以下、より好ましくは１．７０以下、さらに好ましくは１.５０以下であり、好ましい範囲としては、０．１０～２．００、０．１０～１．７０、０．１０～１．５０、０．５０～２．００、０．５０～１．７０、０．５０～１．５０、０．７０～２．００、０．７０～１．７０、０．７０～１．５０、１．００～２．００、１．００～１．７０、１．００～１．５０、などが挙げられる。
【0065】
また、本開示の発明の効果をより一層好適に発揮する観点から、転写層８の前記表面形状は、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大高さＳｚに対する最大山の高さＳｐの比（Ｓｐ／Ｓｚ）が、好ましくは０．３０以上、より好ましくは０．３５以上、さらに好ましくは０．４０以上であり、また、好ましくは０．６０以下、より好ましくは０．５５以下、さらに好ましくは０．５０以下であり、好ましい範囲としては、
０．３０～０．６０、０．３０～０．５５、０．３０～０．５０、０．３５～０．６０、０．３５～０．５５、０．３５～０．５０、０．４０～０．６０、０．４０～０．５５、０．４０～０．５０などが挙げられる。
０．３０～０．６０、０．３０～０．５５、０．３０～０．５０、０．３５～０．６０、０．３５～０．５５、０．３５～０．５０、０．４０～０．６０、０．４０～０．５５、０．４０～０．５０などが挙げられる。
【0066】
また、本開示の発明の効果をより一層好適に発揮する観点から、転写層８の前記表面形状は、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大高さＳｚに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｚ）が、好ましくは０．４０以上、より好ましくは０．４５以上、さらに好ましくは０．５０以上であり、また、好ましくは０．７０以下、より好ましくは０．６５以下、さらに好ましくは０．６０以下であり、好ましい範囲としては、
０．４０～０．７０、０．４０～０．６５、０．４０～０．６０、０．４５～０．７０、０．４５～０．６５、０．４５～０．６０、０．５０～０．７０、０．５０～０．６５、０．５０～０．６０などが挙げられる。
０．４０～０．７０、０．４０～０．６５、０．４０～０．６０、０．４５～０．７０、０．４５～０．６５、０．４５～０．６０、０．５０～０．７０、０．５０～０．６５、０．５０～０．６０などが挙げられる。
【0067】
また、本開示の発明の効果をより一層好適に発揮する観点から、転写層８の前記表面形状は、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大高さＳｚ（表面の最も高い点から最も低い点までの距離であり、Ｓｐ＋Ｓｖに相当）が、好ましくは８．００以上、より好ましくは８．５０以上、さらに好ましくは９．００以上であり、また、好ましくは１６．００以下、より好ましくは１５．００以下、さらに好ましくは１０．００以下であり、好ましい範囲としては、８．００～１６．００、８．００～１５．００、８．００～１０．００、８．５０～１６．００、８．５０～１５．００、８．５０～１０．００、９．００～１６．００、９．００～１５．００、９．００～１０．００などが挙げられる。
【0068】
また、本開示の発明の効果をより一層好適に発揮する観点から、転写層８の前記表面形状は、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大山の高さＳｐが、好ましくは２．００以上、より好ましくは３．００以上、さらに好ましくは４．００以上であり、また、好ましくは１０．００以下、より好ましくは８．００以下、さらに好ましくは６．００以下であり、好ましい範囲としては、２．００～１０．００、２．００～８．００、２．００～６．００、３．００～１０．００、３．００～８．００、３．００～６．００、４．００～１０．００、４．００～８．００、４．００～６．００などが挙げられる。
【0069】
また、本開示の発明の効果をより一層好適に発揮する観点から、転写層８の前記表面形状は、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大谷の深さＳｖが、好ましくは５．２０以上、より好ましくは６．００以上、さらに好ましくは６．５０以上であり、また、好ましくは１０．００以下、より好ましくは９．００以下、さらに好ましくは８．００以下であり、好ましい範囲としては、５．２０～１０．００、５．２０～９．００、５．２０～８．００、６．００～１０．００、６．００～９．００、６．００～８．００、６．５０～１０．００、６．５０～９．００、６．５０～８．００などが挙げられる。
【0070】
また、本開示の発明の効果をより一層好適に発揮する観点から、転写層８の前記表面形状は、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、二乗平均平方根高さＳｑが、好ましくは０．５０以上、より好ましくは０．７５以上、さらに好ましくは１．００以上であり、また、好ましくは２．００以下、より好ましくは１．７５以下、さらに好ましくは１．５０以下であり、好ましい範囲としては、０．５０～２．００、０．５０～１．７５、０．５０～１．５０、０．７５～２．００、０．７５～１．７５、０．７５～１．５０、１．００～２．００、１．００～１．７５、１．００～１．５０などが挙げられる。
【0071】
＜表面形状の測定＞
転写シート及び樹脂成形品の表面の保護層の表面について、それぞれ、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大山の高さＳｐ、最大谷の深さＳｖ、最大高さＳｚ、二乗平均平方根高さＳｑ、及び算術平均高さＳａを測定する。測定領域は、保護層表面の任意の箇所の長方形（１０２４μｍ×７６８μｍ）の領域とする。なお、転写シートについては、支持体（ブロッキング防止層、転写用基材、及び離型層等）を転写層から剥離除去してから、転写層表面（例えば保護層表面）について表面形状の測定を行う。測定装置は、形状解析レーザ顕微鏡を用い、対物レンズ：５０倍、レーザ波長：６５８ｎｍ、測定モード：表面形状モード、測定ピッチ：０．１３μｍ、測定品質：高速モードにて測定した。算術平均粗さＲａのカットオフ値は０．８ｍｍとする。
転写シート及び樹脂成形品の表面の保護層の表面について、それぞれ、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大山の高さＳｐ、最大谷の深さＳｖ、最大高さＳｚ、二乗平均平方根高さＳｑ、及び算術平均高さＳａを測定する。測定領域は、保護層表面の任意の箇所の長方形（１０２４μｍ×７６８μｍ）の領域とする。なお、転写シートについては、支持体（ブロッキング防止層、転写用基材、及び離型層等）を転写層から剥離除去してから、転写層表面（例えば保護層表面）について表面形状の測定を行う。測定装置は、形状解析レーザ顕微鏡を用い、対物レンズ：５０倍、レーザ波長：６５８ｎｍ、測定モード：表面形状モード、測定ピッチ：０．１３μｍ、測定品質：高速モードにて測定した。算術平均粗さＲａのカットオフ値は０．８ｍｍとする。
【0072】
（保護層２）
保護層２は、樹脂成形品の耐傷付き性、耐薬品性などを高めるために、必要に応じて、樹脂成形品の表面に位置するようにして、転写層８に設けられる層である。転写層８の転写用基材１側の表面は、保護層２によって形成されていることが好ましい。すなわち、本開示においては、保護層２の転写用基材１側の表面の少なくとも一部に、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、前記の表面形状を備えていることが好ましい。
保護層２は、樹脂成形品の耐傷付き性、耐薬品性などを高めるために、必要に応じて、樹脂成形品の表面に位置するようにして、転写層８に設けられる層である。転写層８の転写用基材１側の表面は、保護層２によって形成されていることが好ましい。すなわち、本開示においては、保護層２の転写用基材１側の表面の少なくとも一部に、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、前記の表面形状を備えていることが好ましい。
【0073】
保護層２を形成する樹脂としては、特に制限されず、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、電離放射線硬化性樹脂などが挙げられる。これらの中でも、優れた耐傷性と優れた三次元成形性とを両立させる観点からは、電離放射線硬化性樹脂が好ましい。
【0074】
保護層２を形成する熱硬化性樹脂としては、特に制限されず、例えば、アクリルポリオール；ポリエステルポリオール；ポリエステルウレタンポリオール、アクリル－ウレタンポリオールなどのウレタンポリオール；ポリエチレンポリオール、ポリプロピレンポリオール、ポリブタジエンポリオール、ポリイソプレンポリオールなどのポリオレフィンポリオール；などのポリオール樹脂と硬化剤とを含む樹脂が挙げられる。熱硬化性樹脂は、１種類単独で使用してもよいし、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
【0075】
保護層２を形成する熱可塑性樹脂としては、特に制限されず、例えば、ポリメチル（メタ）アクリレート、ポリエチル（メタ）アクリレートなどのアクリル樹脂；ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィン系樹脂；ポリカーボネート樹脂；塩化ビニル系樹脂；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）；アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン樹脂（ＡＢＳ樹脂）；アクリロニトリル－スチレン－アクリル酸エステル樹脂；などが挙げられる。熱可塑性樹脂は、１種類単独で使用してもよいし、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
【0076】
（電離放射線硬化性樹脂）
保護層２の形成に使用される電離放射線硬化性樹脂とは、電離放射線を照射することにより、架橋、硬化する樹脂であり、具体的には、分子中に重合性不飽和結合又はエポキシ基を有する、プレポリマー、オリゴマー、及びモノマーなどのうち少なくとも１種を適宜混合したものが挙げられる。ここで電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋しうるエネルギー量子を有するものを意味し、通常紫外線（ＵＶ）又は電子線（ＥＢ）が用いられるが、その他、Ｘ線、γ線等の電磁波、α線、イオン線等の荷電粒子線も含むものである。電離放射線硬化性樹脂の中でも、電子線硬化性樹脂は、無溶剤化が可能であり、光重合用開始剤を必要とせず、安定な硬化特性が得られるため、保護層２の形成において好適に使用される。
保護層２の形成に使用される電離放射線硬化性樹脂とは、電離放射線を照射することにより、架橋、硬化する樹脂であり、具体的には、分子中に重合性不飽和結合又はエポキシ基を有する、プレポリマー、オリゴマー、及びモノマーなどのうち少なくとも１種を適宜混合したものが挙げられる。ここで電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋しうるエネルギー量子を有するものを意味し、通常紫外線（ＵＶ）又は電子線（ＥＢ）が用いられるが、その他、Ｘ線、γ線等の電磁波、α線、イオン線等の荷電粒子線も含むものである。電離放射線硬化性樹脂の中でも、電子線硬化性樹脂は、無溶剤化が可能であり、光重合用開始剤を必要とせず、安定な硬化特性が得られるため、保護層２の形成において好適に使用される。
【0077】
なお、本開示の積層体において、保護層２の形成に電離放射線硬化性樹脂を用いる場合、積層体の状態での保護層２は硬化したものであってもよいし、未硬化または半硬化であってもよい。積層体の状態での保護層２が未硬化または半硬化である場合には、積層体を形成した後、保護層２を硬化させる。
【0078】
電離放射線硬化性樹脂として使用される上記モノマーとしては、分子中にラジカル重合性不飽和基を持つ（メタ）アクリレートモノマーが好適であり、中でも多官能（メタ）アクリレートモノマーが好ましい。多官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、分子内に重合性不飽和結合を２個以上（２官能以上）、好ましくは３個以上（３官能以上）有する（メタ）アクリレートモノマーであればよい。多官能（メタ）アクリレートとして、具体的には、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジ（メタ）アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらのモノマーは、１種単独で使用してもよく、また２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【0079】
また、電離放射線硬化性樹脂として使用される上記オリゴマーとしては、分子中にラジカル重合性不飽和基を持つ（メタ）アクリレートオリゴマーが好適であり、中でも分子内に重合性不飽和結合を２個以上（２官能以上）有する多官能（メタ）アクリレートオリゴマーが好ましい。多官能（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、例えば、ポリカーボネート（メタ）アクリレート、アクリルシリコーン（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリブタジエン（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート、分子中にカチオン重合性官能基を有するオリゴマー（例えば、ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、脂肪族ビニルエーテル、芳香族ビニルエーテル等）等が挙げられる。ここで、ポリカーボネート（メタ）アクリレートは、ポリマー主鎖にカーボネート結合を有し、かつ末端または側鎖に（メタ）アクリレート基を有するものであれば特に制限されず、例えば、ポリカーボネートポリオールを（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。ポリカーボネート（メタ）アクリレートは、例えば、ポリカーボネート骨格を有するウレタン（メタ）アクリレートであるポリカーボネート系ウレタン（メタ）アクリレートなどであってもよい。ポリカーボネート骨格を有するウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、ポリカーボネートポリオールと、多価イソシアネート化合物と、ヒドロキシ（メタ）アクリレートとを反応させることにより得られる。アクリルシリコーン（メタ）アクリレートは、シリコーンマクロモノマーを（メタ）アクリレートモノマーとラジカル共重合させることにより得ることができる。ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、ポリエーテルポリオールやポリエステルポリオールやカプロラクトン系ポリオールとポリイソシアネート化合物の反応によって得られるポリウレタンオリゴマーを、（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。エポキシ（メタ）アクリレートは、例えば、比較的低分子量のビスフェノール型エポキシ樹脂やノボラック型エポキシ樹脂のオキシラン環に、（メタ）アクリル酸を反応しエステル化することにより得ることができる。また、このエポキシ（メタ）アクリレートを部分的に二塩基性カルボン酸無水物で変性したカルボキシル変性型のエポキシ（メタ）アクリレートも用いることができる。ポリエステル（メタ）アクリレートは、例えば多価カルボン酸と多価アルコールの縮合によって得られる両末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーの水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより、或いは多価カルボン酸にアルキレンオキシドを付加して得られるオリゴマーの末端の水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。ポリエーテル（メタ）アクリレートは、ポリエーテルポリオールの水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。ポリブタジエン（メタ）アクリレートは、ポリブタジエンオリゴマーの側鎖に（メタ）アクリル酸を付加することにより得ることができる。シリコーン（メタ）アクリレートは、主鎖にポリシロキサン結合をもつシリコーンの末端又は側鎖に（メタ）アクリル酸を付加することにより得ることができる。これらの中でも、多官能（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、ポリカーボネート（メタ）アクリレート（ポリカーボネート系ウレタン（メタ）アクリレートなど）、ウレタン（メタ）アクリレートなどが特に好ましい。これらのオリゴマーは、１種単独で使用してもよく、また２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【0080】
上記した電離放射線硬化性樹脂の中でも、優れた耐傷性と優れた三次元成形性とを両立させる観点からは、ポリカーボネート（メタ）アクリレート（ポリカーボネート系ウレタン（メタ）アクリレートなど）を用いることが好ましく、ポリカーボネート（メタ）アクリレート（ポリカーボネート系ウレタン（メタ）アクリレートなど）と、該ポリカーボネート（メタ）アクリレート以外の多官能（メタ）アクリレートを併用することが特に好ましい。
【0081】
ポリカーボネート（メタ）アクリレートは、例えば、ポリカーボネートポリオールの水酸基の一部又は全てを（メタ）アクリレート（アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステル）に変換して得られる。このエステル化反応は、通常のエステル化反応によって行うことができる。例えば、１）ポリカーボネートポリオールとアクリル酸ハライド又はメタクリル酸ハライドとを、塩基存在下に縮合させる方法、２）ポリカーボネートポリオールとアクリル酸無水物又はメタクリル酸無水物とを、触媒存在下に縮合させる方法、あるいは３）ポリカーボネートポリオールとアクリル酸又はメタクリル酸とを、酸触媒存在下に縮合させる方法などが挙げられる。
【0082】
上記のポリカーボネートポリオールは、ポリマー主鎖にカーボネート結合を有し、末端あるいは側鎖に２個以上、好ましくは２～５０個の、より好ましくは３～５０個の水酸基を有する重合体である。このポリカーボネートポリオールの代表的な製造方法は、ジオール化合物（Ａ）、３価以上の多価アルコール（Ｂ）、及びカルボニル成分となる化合物（Ｃ）とから重縮合反応による方法である。原料として用いられるジオール化合物（Ａ）は、一般式 ＨＯ－Ｒ1－ＯＨで表される。ここで、Ｒ1は、炭素数２～２０の２価炭化水素基であって、基中にエーテル結合を含んでいてもよい。例えば、直鎖、又は分岐状のアルキレン基、シクロヘキシレン基、フェニレン基である。
【0083】
ジオール化合物（Ａ）の具体例としては、エチレングリコール、１，２－プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，３－プロパンジオール、１，４－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、３－メチル－１，５ペンタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、１，８－オクタンジオール、１，３－ビス（２－ヒドロキシエトキシ）ベンゼン、１，４－ビス（２－ヒドロキシエトキシ）ベンゼン、１，４－シクロヘキサンジオール、１，４－シクロヘキサンジメタノールなどが挙げられる。これらジオールは、それを単独で用いても、あるいは２種以上を混合して用いてもよい。
【0084】
また、３価以上の多価アルコール（Ｂ）の例としては、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパン、ジペンタエリスリトール、グリセリン、ソルビトールなどのアルコール類を挙げることができる。さらに、これらの多価アルコールの水酸基に対して、１当量以上、５当量以下のエチレンオキシド、プロピレンオキシド、あるいはその他のアルキレンオキシドを付加させた水酸基を有するアルコール類であってもよい。多価アルコールは、これらを単独で用いても、あるいは２種以上を混合して用いてもよい。
【0085】
カルボニル成分となる化合物（Ｃ）は、炭酸ジエステル、ホスゲン、又はこれらの等価体の中から選ばれるいずれかの化合物である。その具体例としては、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸ジイソプロピル、炭酸ジフェニル、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなどの炭酸ジエステル類、ホスゲン、あるいはクロロギ酸メチル、クロロギ酸エチル、クロロギ酸フェニルなどのハロゲン化ギ酸エステル類などが挙げられる。これらは、単独で用いても、あるいは２種以上を混合して用いてもよい。
【0086】
ポリカーボネートポリオールは、前記したジオール化合物（Ａ）、３価以上の多価アルコール（Ｂ）、及びカルボニル成分となる化合物（Ｃ）とを、一般的な条件下で重縮合反応することにより合成される。例えば、ジオール化合物（Ａ）と多価アルコール（Ｂ）との仕込みモル比（Ｂ／Ａ）は、５０／５０以上、９９／１以下の範囲にあることが好ましく、また、カルボニル成分となる化合物（Ｃ）のジオール化合物（Ａ）と多価アルコール（Ｂ）に対する仕込みモル比は、ジオール化合物及び多価アルコールの持つ水酸基に対して、０．２当量以上、２当量以下であることが好ましい。
【0087】
前記の仕込み割合で重縮合反応した後のポリカーボネートポリオール中に存在する水酸基の当量数（ｅｑ．／ｍｏｌ）は、１分子中に平均して３以上、好ましくは５０以下、より好ましくは２０以下である。この範囲であると、後述するエステル化反応によって必要な量の（メタ）アクリレート基が形成され、またポリカーボネート（メタ）アクリレート樹脂に適度な可撓性が付与される。なお、このポリカーボネートポリオールの末端官能基は、通常はＯＨ基であるが、その一部がカーボネート基であってもよい。
【0088】
以上説明したポリカーボネートポリオールの製造方法は、例えば、特開昭６４－１７２６号公報に記載されている。また、このポリカーボネートポリオールは、特開平３－１８１５１７号公報に記載されているように、ポリカーボネートジオールと３価以上の多価アルコールとのエステル交換反応によっても製造することができる。
【0089】
本開示に用いられるポリカーボネート（メタ）アクリレートの重量平均分子量は、５００以上であることが好ましく、１，０００以上であることがより好ましく、２，０００以上であることがさらに好ましい。ポリカーボネート（メタ）アクリレートの重量平均分子量の上限は特に制限されないが、粘度が高くなり過ぎないように制御する観点から１００，０００以下が好ましく、５０，０００以下がより好ましく、３０，０００以下がさらに好ましい。ポリカーボネート（メタ）アクリレートの重量平均分子量の好ましい範囲は、５００以上１００，０００以下であり、より好ましくは１，０００以上５０，０００以下であり、特に好ましくは、２，０００以上３０，０００以下である。なお、本開示におけるポリカーボネート（メタ）アクリレートの重量平均分子量は、ＧＰＣ分析によって測定され、かつ標準ポリスチレンで換算された平均分子量である。
【0090】
電離放射線硬化性樹脂組成物において、ポリカーボネート（メタ）アクリレートは、該ポリカーボネート（メタ）アクリレート以外の多官能（メタ）アクリレートと共に用いることが好ましい。ポリカーボネート（メタ）アクリレートと該多官能（メタ）アクリレートの質量比（ポリカーボネート（メタ）アクリレート／多官能（メタ）アクリレート）としては、５０／５０以上、９８／２以下であることがより好ましい。ポリカーボネート（メタ）アクリレートと多官能（メタ）アクリレートの質量比が９８／２より小さくなると（即ち、ポリカーボネート（メタ）アクリレートの量が、２成分の合計量に対して９８質量％以下であると）、前述の耐久性、及び耐薬品性がさらに向上する。一方、ポリカーボネート（メタ）アクリレートと多官能（メタ）アクリレートの質量比が５０／５０より大きくなると（即ち、ポリカーボネート（メタ）アクリレートの量が、２成分の合計量に対して５０質量％以上となると）、三次元成形性がさらに向上する。好ましくは、ポリカーボネート（メタ）アクリレートと多官能（メタ）アクリレートの質量比が６０／４０以上、９５／５以下である。
【0091】
本開示においてポリカーボネート（メタ）アクリレートと併用される、該ポリカーボネート（メタ）アクリレート以外の多官能（メタ）アクリレートは、２官能以上の（メタ）アクリレートであればよく、特に制限はない。ここで、２官能とは、分子内にエチレン性不飽和結合｛（メタ）アクリロイル基｝を２個有することをいう。官能基数としては、好ましくは２以上、または、好ましくは６以下が挙げられる。
【0092】
また、ポリカーボネート（メタ）アクリレートと併用される多官能（メタ）アクリレートは、オリゴマー及びモノマーのいずれでもよいが、優れた耐傷性と優れた三次元成形性とを両立させる観点からは、多官能（メタ）アクリレートオリゴマーが好ましい。
【0093】
ポリカーボネート（メタ）アクリレートと併用される上記の多官能（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、例えばウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマー、エポキシ（メタ）アクリレート系オリゴマー、ポリエステル（メタ）アクリレート系オリゴマー、ポリエーテル（メタ）アクリレート系オリゴマーなどが挙げられる。ここで、ウレタン（メタ）アクリレート系オリゴマーは、例えば、ポリエーテルポリオールやポリエステルポリオールとポリイソシアネートの反応によって得られるポリウレタンオリゴマーを、（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。エポキシ（メタ）アクリレート系オリゴマーは、例えば、比較的低分子量のビスフェノール型エポキシ樹脂やノボラック型エポキシ樹脂のオキシラン環に、（メタ）アクリル酸を反応しエステル化することにより得ることができる。また、このエポキシ（メタ）アクリレート系オリゴマーを部分的に二塩基性カルボン酸無水物で変性したカルボキシル変性型のエポキシ（メタ）アクリレートオリゴマーも用いることができる。ポリエステル（メタ）アクリレート系オリゴマーとしては、例えば多価カルボン酸と多価アルコールの縮合によって得られる両末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーの水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより、あるいは、多価カルボン酸にアルキレンオキシドを付加して得られるオリゴマーの末端の水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。ポリエーテル（メタ）アクリレート系オリゴマーは、ポリエーテルポリオールの水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。
【0094】
さらに、ポリカーボネート（メタ）アクリレートと併用される他の多官能（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、ポリブタジエンオリゴマーの側鎖に（メタ）アクリレート基をもつ疎水性の高いポリブタジエン（メタ）アクリレート系オリゴマー、主鎖にポリシロキサン結合をもつシリコーン（メタ）アクリレート系オリゴマー、小さな分子内に多くの反応性基をもつアミノプラスト樹脂を変性したアミノプラスト樹脂（メタ）アクリレート系オリゴマーなどが挙げられる。
【0095】
また、ポリカーボネート（メタ）アクリレートと併用される上記の多官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、具体的にはエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジ（メタ）アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。以上述べた多官能（メタ）アクリレートオリゴマー及び多官能（メタ）アクリレートモノマーは１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【0096】
本開示においては、ポリカーボネート（メタ）アクリレートと併用される前記多官能（メタ）アクリレートとともに、その粘度を低下させるなどの目的で、単官能性（メタ）アクリレートを、本開示の目的を損なわない範囲で適宜併用することができる。単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらの単官能（メタ）アクリレートは１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【0097】
保護層２を形成する電離放射線硬化性樹脂組成物中におけるポリカーボネート（メタ）アクリレートの含有量としては、特に制限されないが、優れた耐傷性と優れた三次元成形性とを両立させる観点からは、好ましくは９８質量％以下、より好ましくは９０質量％以下であり、また、好ましくは５０質量％以上、より好ましくは６５質量％以上である。保護層２を形成する電離放射線硬化性樹脂組成物中におけるポリカーボネート（メタ）アクリレートの含有量の好ましい範囲としては、好ましくは５０質量％以上９８質量％以下、より好ましくは６５質量％以上９０質量％以下である。
【0098】
電離放射線硬化性樹脂を用いて保護層２を形成する場合、保護層２の形成は、例えば、電離放射線硬化性樹脂組成物を調製し、これを塗布し、架橋硬化することにより行われる。なお、電離放射線硬化性樹脂組成物の粘度は、後述の塗布方式により、未硬化樹脂層を形成し得る粘度であればよい。
【0099】
本開示においては、調製された塗布液を、所望の厚みとなるように、グラビアコート、バーコート、ロールコート、リバースロールコート、コンマコート等の公知の方式、好ましくはグラビアコートにより塗布し、未硬化樹脂層を形成させる。
【0100】
このようにして形成された未硬化樹脂層に、電子線、紫外線等の電離放射線を照射して該未硬化樹脂層を硬化させて保護層２を形成する。ここで、電離放射線として電子線を用いる場合、その加速電圧については、用いる樹脂や層の厚みに応じて適宜選定し得るが、通常加速電圧７０ｋＶ以上、また、３００ｋＶ以下が挙げられる。
【0101】
なお、電子線の照射において、加速電圧が高いほど透過能力が増加するため、保護層２の下に電子線照射によって劣化しやすい樹脂を使用する場合には、電子線の透過深さと保護層２の厚みが実質的に等しくなるように、加速電圧を選定する。また、転写用基材層の上に形成された離型層６と、保護層２と共に電子線によって硬化させる場合には、電子線の透過深さと離型層６及び保護層２の合計厚みが実質的に等しくなるように、加速電圧を選定する。これにより、離型層６の下に位置する転写用基材層への余分の電子線の照射を抑制することができ、過剰電子線による転写用基材層の劣化を最小限にとどめることができる。
【0102】
また、照射線量は、保護層２の架橋密度が十分な値となる量であり、好ましくは３０ｋＧｙ（３Ｍｒａｄ）以上であり、また、好ましくは３００ｋＧｙ（３０Ｍｒａｄ）以下、より好ましくは１００ｋＧｙ（１０Ｍｒａｄ）以下が挙げられる。照射線量は、好ましくは３０ｋＧｙ（３Ｍｒａｄ）以上３００ｋＧｙ（３０Ｍｒａｄ）以下、より好ましくは３０ｋＧｙ（３Ｍｒａｄ）以上１００ｋＧｙ（１０Ｍｒａｄ）以下が挙げられる。照射線量をこのよう範囲に設定することにより、保護層２を透過した電離放射線による保護層２の下に位置する層の劣化を抑制することができる。なお、上記例は多官能（メタ）アクリレートの官能基数を２とした場合であり、官能基数に応じて適切な照射線量が必要である。
【0103】
更に、電子線源としては、特に制限はなく、例えばコックロフトワルトン型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器を用いることができる。
【0104】
電離放射線として紫外線を用いる場合には、波長１９０ｎｍ以上、３８０ｎｍ以下の紫外線を含む光線を放射すればよい。紫外線源としては、特に制限されないが、例えば、高圧水銀燈、低圧水銀燈、メタルハライドランプ、カーボンアーク燈、紫外線発光ダイオード（ＬＥＤ－ＵＶ）等が挙げられる。
【0105】
保護層２の厚みについては、特に制限されないが、好ましくは１μｍ以上、より好ましくは２μｍ以上、さらに好ましくは３μｍ以上であり、また、好ましくは２０μｍ以下、より好ましくは１５μｍ以下が挙げられる。保護層２の厚みの好ましい範囲は１μｍ以上２０μｍ以下、より好ましくは２μｍ以上２０μｍ以下、さらに好ましくは３μｍ以上１５μｍ以下が挙げられる。このような範囲の厚みを満たすと、積層体が優れた耐傷性と優れた三次元成形性とを効果的に発揮し得る。また、保護層２を電離放射線硬化性樹脂により形成する場合、電離放射線硬化性樹脂組成物に対して電離放射線を均一に照射することが可能であるため、均一に硬化することが可能となり、経済的にも有利になる。
【0106】
（接着層３）
接着層３は、転写層８と成形樹脂層９との密着性を向上させることなどを目的として、必要に応じて設けられる層であり、転写層８の転写用基材１側とは反対側の表面を構成する層である。したがって、本開示の転写シートを成形樹脂層９と積層する際、接着層３は成形樹脂層９と接する層となる。
接着層３は、転写層８と成形樹脂層９との密着性を向上させることなどを目的として、必要に応じて設けられる層であり、転写層８の転写用基材１側とは反対側の表面を構成する層である。したがって、本開示の転写シートを成形樹脂層９と積層する際、接着層３は成形樹脂層９と接する層となる。
【0107】
接着層は、被着体の素材に適した接着性を有する樹脂を使用することが好ましい。例えば、被着体の材質がアクリル系樹脂の場合は、アクリル系樹脂を用いることが好ましい。また、被着体の材質がポリフェニレンオキサイド・ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、スチレン系樹脂の場合は、これらの樹脂と親和性のあるアクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂などを使用することが好ましい。さらに、被着体の材質がポリプロピレン樹脂の場合は、塩素化ポリオレフィン樹脂、塩素化エチレン－酢酸ビニル共重合体樹脂、環化ゴム、クマロンインデン樹脂を使用することが好ましい。接着層には、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤等の添加剤を配合してもよい。接着層の厚みは、０．１～１０μｍであることが好ましく、０．５～５μｍであることがより好ましい。
【0108】
接着層は、グラビア印刷方式、オフセット印刷方式、凸版印刷方式、シルクスクリーン印刷方式等の公知の印刷方式で形成することができる。
【0109】
（プライマー層４）
プライマー層４は、保護層２の密着性を向上させることなどを目的として、必要に応じて転写層８に設けられる層である。プライマー層４は、保護層２に隣接するように設けられることが好ましい。プライマー層４は、プライマー層形成用樹脂組成物により形成することができる。
プライマー層４は、保護層２の密着性を向上させることなどを目的として、必要に応じて転写層８に設けられる層である。プライマー層４は、保護層２に隣接するように設けられることが好ましい。プライマー層４は、プライマー層形成用樹脂組成物により形成することができる。
【0110】
プライマー層形成用樹脂組成物に用いる樹脂としては、特に制限されないが、例えば、ポリオール及び／又はその硬化物、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、（メタ）アクリル－ウレタン共重合体樹脂、ポリエステル樹脂、ブチラール樹脂等が挙げられる。これらの樹脂の中でも、好ましくは、ポリオール及び／又はその硬化物、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、及びアクリルウレタン樹脂が挙げられる。これらの樹脂は、１種単独で使用してもよく、また２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【0111】
本開示において、プライマー層４は、ポリオールとウレタン樹脂を含む樹脂組成物により形成することが好ましい。ポリオールとしては、分子中に２個以上の水酸基を有する化合物であればよく、具体的には、ポリエステルポリオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、アクリルポリオール、ポリエーテルポリオール等が挙げられ、好ましくはアクリルポリオールが挙げられる。
【0112】
プライマー層４の形成にポリオールとウレタン樹脂とを使用する場合、これらの質量比（ポリオール／ウレタン樹脂）としては、好ましくは５／５以上、好ましくは７／３以上であり、または、好ましくは９．５／０．５以下、より好ましくは９／１以下が挙げられる。質量比（ポリオール／ウレタン樹脂）の好ましい範囲としては、５／５以上９．５／０．５以下、より好ましくは７／３以上９／１以下が挙げられる。
【0113】
ポリオールの硬化物としては、例えばウレタン樹脂が挙げられる。ウレタン樹脂としては、ポリオール（多価アルコール）を主剤とし、イソシアネートを架橋剤（硬化剤）とするポリウレタンを使用できる。
【0114】
イソシアネートとしては、具体的には、分子中に２個以上のイソシアネート基を有する多価イソシアネート；４，４－ジフェニルメタンジイソシアネート等の芳香族イソシアネート；ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水素添加トリレンジイソシアネート、水素添加ジフェニルメタンジイソシアネート等の脂肪族（又は脂環族）イソシアネートが挙げられる。イソシアネートを硬化剤として用いる場合、プライマー層形成用樹脂組成物におけるイソシアネートの含有量は特に制限されないが、密着性の観点や、後述の装飾層５などを積層する際の印刷適性の観点からは、上記のポリオール１００質量部に対して好ましくは３質量部以上であり、また、好ましくは４５質量部以下、より好ましくは２５質量部以下である。プライマー層形成用樹脂組成物におけるイソシアネートの含有量は上記のポリオール１００質量部に対して好ましくは３質量部以上４５質量部以下であり、より好ましくは３質量部以上２５質量部以下である。
【0115】
上記ウレタン樹脂の中でも、架橋後の密着性の向上等の観点から、好ましくは、ポリオールとしてアクリルポリオール、又はポリエステルポリオールと、架橋剤としてヘキサメチレンジイソシアネート、４，４－ジフェニルメタンジイソシアネートとから組み合わせ；さらに好ましくは、アクリルポリオールとヘキサメチレンジイソシアネートとを組み合わせが挙げられる。
【0116】
上記アクリル樹脂としては、特に制限されないが、例えば、（メタ）アクリル酸エステルの単独重合体、２種以上の異なる（メタ）アクリル酸エステルモノマーの共重合体、又は（メタ）アクリル酸エステルと他のモノマーとの共重合体が挙げられる。（メタ）アクリル樹脂として、より具体的には、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸プロピル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸メチル－（メタ）アクリル酸ブチル共重合体、（メタ）アクリル酸エチル－（メタ）アクリル酸ブチル共重合体、エチレン－（メタ）アクリル酸メチル共重合体、スチレン－（メタ）アクリル酸メチル共重合体等の（メタ）アクリル酸エステル等が挙げられる。
【0117】
アクリルウレタン樹脂としては、特に制限されないが、例えば、アクリル－ウレタンブロック共重合が挙げられ、具体的には例えばアクリル－ポリエステルウレタンブロック共重合体が挙げられる。アクリル－ウレタンブロック共重合体におけるアクリルとウレタン比の比率については、特に制限されないが、例えば、アクリル／ウレタン比（質量比）として、好ましくは９／１以下、より好ましくは８／２以下であり、また、好ましくは１／９以上、より好ましくは２／８以上が挙げられる。アクリル／ウレタン比（質量比）の好ましい範囲は、１／９以上９／１以下、より好ましくは２／８以上８／２以下が挙げられる。
【0118】
プライマー層４の厚みについては、特に制限されないが、例えば０．１μｍ以上、より好ましくは１μｍ以上であり、また、好ましくは１０μｍ以下である。すなわち、塗布量が例えば０．１ｇ／ｍ2以上、好ましくは１ｇ／ｍ2以上、また、好ましくは１０ｇ／ｍ2以下である。プライマー層４の厚みの好ましい範囲は、０．１μｍ以上１０μｍ以下、より好ましくは１μｍ以上１０μｍ以下である。プライマー層４がこのような厚みを充足することにより、保護層２の密着性を効果的に高めることができる。
【0119】
プライマー層４を形成する組成物には、備えさせる所望の物性に応じて、各種添加剤を配合することができる。この添加剤としては、例えば紫外線吸収剤や光安定剤等の耐候性改善剤、耐摩耗性向上剤、重合禁止剤、架橋剤、赤外線吸収剤、帯電防止剤、接着性向上剤、レベリング剤、チクソ性付与剤、カップリング剤、可塑剤、消泡剤、充填剤、溶剤、着色剤、マット剤等が挙げられる。これらの添加剤は、常用されるものから適宜選択して用いることができ、例えばマット剤としてはシリカ粒子や水酸化アルミニウム粒子等が挙げられる。また、紫外線吸収剤や光安定剤として、分子内に（メタ）アクリロイル基等の重合性基を有する反応性の紫外線吸収剤や光安定剤を用いることもできる。
【0120】
プライマー層４は、プライマー層形成用樹脂組成物を用いて、グラビアコート、グラビアリバースコート、グラビアオフセットコート、スピンナーコート、ロールコート、リバースロールコート、キスコート、ホイラーコート、ディップコート、シルクスクリーンによるベタコート、ワイヤーバーコート、フローコート、コンマコート、かけ流しコート、刷毛塗り、スプレーコート等の通常の塗布方法や転写コーティング法により形成される。ここで、転写コーティング法とは、薄いシート（フィルム基材層）にプライマー層４や接着層の塗膜を形成し、その後に積層体中の対象となる層表面に被覆する方法である。
【0121】
転写シートの製造時において、プライマー層４を保護層２の表面に形成する際には、硬化後の保護層２の上に形成してもよい。また、保護層２を形成する電離放射線硬化性樹脂組成物の層の上にプライマー層形成用組成物からなる層を積層してプライマー層４を形成した後、電離放射線硬化性樹脂からなる層に電離放射線を照射し、電離放射線硬化性樹脂からなる層を硬化させて保護層２を形成してもよい。
【0122】
（装飾層５）
装飾層５は、樹脂成形品に装飾性を付与するために、必要に応じて設けられる層である。装飾層５は、例えば、絵柄層及び／又は隠蔽層により構成される。ここで、絵柄層は、模様や文字等とパターン状の絵柄を表現するために設けられる層である。また、隠蔽層は、通常全面ベタ層であり成形樹脂等の着色等を隠蔽するために設けられる層である。隠蔽層は、樹脂成形品において、絵柄層の絵柄を引き立てるために絵柄層の内側に設けてもよく、また隠蔽層単独で装飾層５を形成してもよい。
装飾層５は、樹脂成形品に装飾性を付与するために、必要に応じて設けられる層である。装飾層５は、例えば、絵柄層及び／又は隠蔽層により構成される。ここで、絵柄層は、模様や文字等とパターン状の絵柄を表現するために設けられる層である。また、隠蔽層は、通常全面ベタ層であり成形樹脂等の着色等を隠蔽するために設けられる層である。隠蔽層は、樹脂成形品において、絵柄層の絵柄を引き立てるために絵柄層の内側に設けてもよく、また隠蔽層単独で装飾層５を形成してもよい。
【0123】
絵柄層の絵柄については、特に制限されないが、例えば、木目、石目、布目、砂目、幾何学模様、文字等からなる絵柄が挙げられる。
【0124】
装飾層５は、着色剤、バインダー樹脂、及び溶剤又は分散媒を含む印刷インキを用いて形成される。
【0125】
装飾層５の形成に用いられる印刷インキの着色剤としては、特に制限されないが、例えば、アルミニウム、クロム、ニッケル、錫、チタン、リン化鉄、銅、金、銀、真鍮等の金属、合金、又は金属化合物の鱗片状箔粉からなるメタリック顔料；マイカ状酸化鉄、二酸化チタン被覆雲母、二酸化チタン被覆オキシ塩化ビスマス、オキシ塩化ビスマス、二酸化チタン被覆タルク、魚鱗箔、着色二酸化チタン被覆雲母、塩基性炭酸鉛等の箔粉からなる真珠光沢（パール）顔料；アルミン酸ストロンチウム、アルミン酸カルシウム、アルミン酸バリウム、硫化亜鉛、硫化カルシウム等の蛍光顔料；二酸化チタン、亜鉛華、三酸化アンチモン等の白色無機顔料；亜鉛華、弁柄、朱、群青、コバルトブルー、チタン黄、黄鉛、カーボンブラック等の無機顔料；イソインドリノンイエロー、ハンザイエローＡ、キナクリドンレッド、パーマネントレッド４Ｒ、フタロシアニンブルー、インダスレンブルーＲＳ、アニリンブラック等の有機顔料（染料も含む）等が挙げられる。これらの着色剤は、１種単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【0126】
また、装飾層５の形成に用いられる印刷インキのバインダー樹脂としては、特に制限されないが、例えば、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、塩素化ポリオレフィン系樹脂、塩化ビニル－酢酸ビニル共重合体系樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、アルキド系樹脂、石油系樹脂、ケトン樹脂、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、繊維素誘導体、ゴム系樹脂等が挙げられる。これらのバインダー樹脂は、１種単独で使用してもよく、また２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【0127】
また、装飾層５の形成に用いられる印刷インキの溶剤又は分散媒としては、特に制限されないが、例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の石油系有機溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸－２－メトキシエチル、酢酸－２－エトキシエチル等のエステル系有機溶剤；メチルアルコール、エチルアルコール、ノルマルプロピルアルコール、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール系有機溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系有機溶剤；ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル系有機溶剤、；ジクロロメタン、四塩化炭素、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン等の塩素系有機溶剤；水等が挙げられる。これらの溶剤又は分散媒は、１種単独で使用してもよく、また２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【0128】
また、装飾層５の形成に使用される印刷インキには、必要に応じて、沈降防止剤、硬化触媒、紫外線吸収剤、酸化防止剤、レベリング剤、増粘剤、消泡剤、滑剤等が含まれていてもよい。
【0129】
装飾層５は、例えば保護層２やプライマー層４上など隣接する層の上に、グラビア印刷、フレキソ印刷、シルクスクリーン印刷、オフセット印刷等の公知の印刷法によって形成することができる。また、装飾層５を絵柄層及び隠蔽層の組み合わせとする場合には、一方の層を積層させて乾燥させた後に、もう一方の層を積層させて乾燥させればよい。
【0130】
装飾層５の厚さについては、特に制限されないが、好ましくは１μｍ以上、より好ましくは３μｍ以上であり、また、好ましくは４０μｍ以下、より好ましくは３０μｍ以下である。装飾層５の厚さの好ましい範囲は１μｍ以上４０μｍ以下であり、より好ましくは３μｍ以上３０μｍ以下である。
【0131】
装飾層５は金属薄膜層であってもよい。金属薄膜層を形成する金属としては、例えば、スズ、インジウム、クロム、アルミニウム、ニッケル、銅、銀、金、白金、亜鉛、及びこれらのうち少なくとも１種を含む合金などが挙げられる。金属薄膜層の形成方法は特に制限されず、例えば上記の金属を用いた、真空蒸着法などの蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などが挙げられる。また、隣接する層との密着性を向上させるため、金属薄膜層の表面や裏面には公知の樹脂を用いたプライマー層を設けてもよい。
【0132】
２．樹脂成形品及びその製造方法
本開示の樹脂成形品は、本開示の転写シートの転写層と成形樹脂層とを一体化させることにより成形されてなるものである。具体的には、当該転写シートの支持体とは反対側に成形樹脂層９を積層することにより、少なくとも成形樹脂層９と、転写層８と、転写用基材１とがこの順に積層された、転写用基材付き樹脂成形品２１が得られる（例えば図７を参照）。次に、転写用基材付き樹脂成形品２１から支持体を剥離することにより、少なくとも成形樹脂層９と転写層８とが積層された本開示の樹脂成形品が得られる（例えば図８を参照）。
本開示の樹脂成形品は、本開示の転写シートの転写層と成形樹脂層とを一体化させることにより成形されてなるものである。具体的には、当該転写シートの支持体とは反対側に成形樹脂層９を積層することにより、少なくとも成形樹脂層９と、転写層８と、転写用基材１とがこの順に積層された、転写用基材付き樹脂成形品２１が得られる（例えば図７を参照）。次に、転写用基材付き樹脂成形品２１から支持体を剥離することにより、少なくとも成形樹脂層９と転写層８とが積層された本開示の樹脂成形品が得られる（例えば図８を参照）。
【0133】
本開示の転写用基材付き樹脂成形品は、少なくとも、成形樹脂層と、転写層と、転写用基材とがこの順に積層された転写用基材付き樹脂成形品であって、本開示の転写シート１０と同じく、転写層８の転写用基材側の表面の少なくとも一部に、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大山の高さＳｐに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｐ）が、０．６０以上であり、かつ、算術平均高さＳａが、０．１０以上である表面形状を有する。また、本開示の樹脂成形品は、少なくとも、成形樹脂層と、転写層とが積層された樹脂成形品であって、本開示の転写シート１０と同じく、前記転写層の前記転写用基材側の表面の少なくとも一部に、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大山の高さＳｐに対する最大谷の深さＳｖの比（Ｓｖ／Ｓｐ）が、０．６０以上であり、かつ、算術平均高さＳａが、０．１０以上である表面形状を有する。
【0134】
本開示の転写用基材付き樹脂成形品及び樹脂成形品において、それぞれ、転写層８の転写用基材１側の好ましい表面形状（ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される前述の各表面形状）については、前述した本開示の転写シート１０と同様であり、記載を省略する。
【0135】
また、本開示の発明の効果をより一層好適に発揮する観点から、本開示の樹脂成形品の表面（転写層８）は、以下の＜艶消し調の意匠性の評価＞に記載の方法によって測定される６０度鏡面光沢度が、好ましくは９以下、より好ましくは５以下、さらに好ましくは４以下であり、下限については、例えば１以上であり、好ましい範囲としては、１～９、１～５、１～４などが挙げられる。
【0136】
また、本開示の発明の効果をより一層好適に発揮する観点から、本開示の樹脂成形品の表面（転写層８）は、以下の＜艶消し調の意匠性の評価＞に記載の方法によって測定される８５度鏡面光沢度が、好ましくは４０以下、より好ましくは３０以下、さらに好ましくは２０以下であり、下限については、例えば９以上であり、好ましい範囲としては、９～４０、９～３０、９～２０などが挙げられる。
【0137】
＜艶消し調の意匠性の評価＞
樹脂成形品の表面の保護層の表面について、３角度表面光沢計を用い、６０度鏡面光沢度及び８５度鏡面光沢度の観点から、艶消し調の意匠性を評価する。６０度鏡面光沢度及び８５度鏡面光沢度が小さい程、優れた艶消し調の意匠性を有していると評価される。
樹脂成形品の表面の保護層の表面について、３角度表面光沢計を用い、６０度鏡面光沢度及び８５度鏡面光沢度の観点から、艶消し調の意匠性を評価する。６０度鏡面光沢度及び８５度鏡面光沢度が小さい程、優れた艶消し調の意匠性を有していると評価される。
【0138】
本開示の樹脂成形品は、以下の工程を備える製造方法により製造することができる。
転写シート１０を金型内に配置し、転写層８側から金型内に流動状態の樹脂を射出し、射出樹脂を固化させて、射出成形と同時に成形樹脂層９の外表面に転写シート１０を一体化させる工程。
前記工程で得られた転写用基材付き樹脂成形品２１から、転写用基材１を剥離する（離型層６、ブロッキング防止層７を有する場合はこれらの層も剥離する）ことにより、表面に転写層８を備える樹脂成形品を得る工程。
転写シート１０を金型内に配置し、転写層８側から金型内に流動状態の樹脂を射出し、射出樹脂を固化させて、射出成形と同時に成形樹脂層９の外表面に転写シート１０を一体化させる工程。
前記工程で得られた転写用基材付き樹脂成形品２１から、転写用基材１を剥離する（離型層６、ブロッキング防止層７を有する場合はこれらの層も剥離する）ことにより、表面に転写層８を備える樹脂成形品を得る工程。
【0139】
転写シートを例えば射出成形同時転写加飾法に適用する場合、本開示の樹脂成形品の製造方法としては、例えば以下の工程（１）～（５）を含む方法が挙げられる。
（１）まず、上記転写用転写シートの転写層８側を金型内に向けて、熱盤によって転写層８側から転写シートを加熱する工程、
（２）該転写シートを金型内形状に沿うように予備成形（真空成形）して金型内面に密着させて型締する工程、
（３）樹脂を金型内に射出する工程、
（４）該射出樹脂を冷却した後に金型から樹脂成形品（転写用基材付き樹脂成形品）を取り出す工程、及び
（５）樹脂成形品から転写用基材（支持体ごと）を剥離する工程。
（１）まず、上記転写用転写シートの転写層８側を金型内に向けて、熱盤によって転写層８側から転写シートを加熱する工程、
（２）該転写シートを金型内形状に沿うように予備成形（真空成形）して金型内面に密着させて型締する工程、
（３）樹脂を金型内に射出する工程、
（４）該射出樹脂を冷却した後に金型から樹脂成形品（転写用基材付き樹脂成形品）を取り出す工程、及び
（５）樹脂成形品から転写用基材（支持体ごと）を剥離する工程。
【0140】
上記両工程（１）及び（２）において、転写シートを加熱する温度は、転写用基材１のガラス転移温度近傍以上で、かつ、溶融温度（又は融点）未満の範囲であることが好ましい。通常はガラス転移温度近傍の温度で行うことが、より好ましい。なお、上記のガラス転移温度近傍とは、ガラス転移温度±５℃程度の範囲を指し、転写用基材１として好適なポリエステルフィルムを使用する場合には、一般に７０～１３０℃程度である。なお、あまり複雑でない形状の金型を用いる場合は、転写シートを加熱する工程や、転写シートを予備成形する工程を省略し、後記する工程（３）において、射出樹脂の熱と圧力によって転写シートを金型の形状に成形してもよい。
【0141】
上記両工程（３）において、後述する成形用樹脂を溶融させて、キャビティ内に射出して該転写シートと成形用樹脂とを一体化させる。成形用樹脂が熱可塑性樹脂の場合は、加熱溶融によって流動状態にして、また、成形用樹脂が熱硬化性樹脂の場合は、未硬化の液状組成物を室温又は適宜加熱して流動状態で射出して、冷却して固化させる。これによって、転写シートが、形成された樹脂成形体と一体化して貼り付き、転写用基材付き樹脂成形品となる。成形用樹脂の加熱温度は、成形用樹脂の種類によるが、一般に１８０℃以上、３２０℃以下である。
【0142】
このようにして得られた転写用基材付き樹脂成形品は、工程（４）において冷却した後に金型から取り出した後、工程（５）において支持体を保護層２から剥離することにより樹脂成形品を得る。また、支持体を保護層２から剥離する工程は、加飾樹脂成形品を金型から取り出す工程と同時に行われてもよい。すなわち、工程（５）は工程（４）に含まれるものであってもよい。
【0143】
本開示の樹脂成形品において、成形樹脂層９は、用途に応じた樹脂を選択して形成すればよい。成形樹脂層９を形成する成形用樹脂としては、熱可塑性樹脂であってもよく、また熱硬化性樹脂であってもよい。
【0144】
熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ＡＢＳ樹脂、スチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル系樹脂等が挙げられる。これらの熱可塑性樹脂は、１種単独で使用してもよく、また２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【0145】
また、熱硬化性樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。これらの熱硬化性樹脂は、１種単独で使用してもよく、また２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【0146】
なお、転写用基材付き樹脂成形品において、転写用基材は、樹脂成形品の保護シートとしての役割を果たすので、転写用基材付き樹脂成形品の製造後に剥離させずにそのまま保管しておき、使用時に支持体を剥がしてもよい。このような態様で使用することにより、輸送時の擦れ等によって樹脂成形品に傷付きが生じるのを防止することができる。
【0147】
本開示の樹脂成形品は、例えば、自動車等の車両の内装材又は外装材；窓枠、扉枠等の建具；壁、床、天井等の建築物の内装材；テレビ受像機、空調機等の家電製品の筐体；容器等として利用することができる。
【実施例0148】
以下に実施例及び比較例を示して本開示を詳細に説明する。但し本開示は実施例に限定されるものではない。
【0149】
＜転写シートの製造＞
［実施例１］
転写用基材として、一方面に易接着剤層が形成されたポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ７５μｍ）を用いた。ポリエチレンテレフタレートフィルムの易接着剤層が形成された面とは反対側の面に、ブロッキング防止層（シリカ粒子１％を含有するアクリル樹脂 厚み１．５μｍ）を塗布した。ポリエチレンテレフタレートフィルムの易接着剤層の面に、後述する樹脂Ａ１（表１）の塗工液をグラビア印刷にて印刷して離型層（厚さ１μｍ）を形成した。
［実施例１］
転写用基材として、一方面に易接着剤層が形成されたポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ７５μｍ）を用いた。ポリエチレンテレフタレートフィルムの易接着剤層が形成された面とは反対側の面に、ブロッキング防止層（シリカ粒子１％を含有するアクリル樹脂 厚み１．５μｍ）を塗布した。ポリエチレンテレフタレートフィルムの易接着剤層の面に、後述する樹脂Ａ１（表１）の塗工液をグラビア印刷にて印刷して離型層（厚さ１μｍ）を形成した。
【0150】
次に、ＬＥＤから構成されるＵＶ照射装置を用いて紫外線を照射し（波長：３９５ｎｍ、紫外線量：６Ｗ／ｃｍ2）、次いでエキシマ光照射装置を用いて紫外線を照射し（波長：１７２ｎｍ（Ｘｅ2）、紫外線出力密度：１Ｗ／ｃｍ、積算光量：１０～１００ｍＪ／ｃｍ2、窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下））、次いで更に高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して（紫外線出力密度：２００Ｗ／ｃｍ）、離型層の表面に微細な凹凸形状を形成した。
【0151】
次いで、微細な凹凸形状を形成した離型層の上に、電離放射線硬化性樹脂組成物を、乾燥塗布量が３．０ｇ／ｍ2となるようにバーコーターにより塗工し、保護層形成用塗布膜を形成した。電離放射線硬化性樹脂組成物は、ウレタンアクリレートである。この塗膜上から加速電圧１６５ｋＶ、照射線量５０ｋＧｙ（５Ｍｒａｄ）の電子線を照射して、保護層形成用塗布膜を硬化させて保護層を形成した。保護層の離型層側の表面形状には、離型層の微細な凹凸形状が転写（ネガ・ポジの関係）された形状となっている。
【0152】
次に、この保護層の上に、プライマー層形成用の樹脂組成物（アクリルポリオール）をグラビア印刷により塗工し、プライマー層（厚み１．５μｍ）を形成した。更に、プライマー層上に、バインダー樹脂（アクリル樹脂５０質量％、塩化ビニル－酢酸ビニル系共重合体樹脂５０質量％）を含む装飾層形成用黒色系インキ組成物を用いて、全面黒単色の装飾層（厚さ５μｍ）をグラビア印刷により形成した。更に、装飾層上に、接着層形成用の樹脂組成物を用いて、接着層（厚さ１．５μｍ）をグラビア印刷により形成することにより、ブロッキング防止層／転写用基材／離型層／保護層／プライマー層／装飾層／接着層が順に積層された積層体からなる転写シートを得た。
【0153】
［実施例２］
離型層の形成において、樹脂Ａ１の代わりに樹脂Ａ２を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、ブロッキング防止層／転写用基材／離型層／保護層／プライマー層／装飾層／接着層が順に積層された積層体からなる転写シートを得た。
離型層の形成において、樹脂Ａ１の代わりに樹脂Ａ２を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、ブロッキング防止層／転写用基材／離型層／保護層／プライマー層／装飾層／接着層が順に積層された積層体からなる転写シートを得た。
【0154】
［実施例３］
離型層の形成において、樹脂Ａ１の代わりに樹脂Ａ３を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、ブロッキング防止層／転写用基材／離型層／保護層／プライマー層／装飾層／接着層が順に積層された積層体からなる転写シートを得た。
離型層の形成において、樹脂Ａ１の代わりに樹脂Ａ３を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、ブロッキング防止層／転写用基材／離型層／保護層／プライマー層／装飾層／接着層が順に積層された積層体からなる転写シートを得た。
【0155】
［実施例４］
離型層の形成において、樹脂Ａ１の代わりに樹脂Ｂを用いたこと以外は、実施例１と同様にして、ブロッキング防止層／転写用基材／離型層／保護層／プライマー層／装飾層／接着層が順に積層された積層体からなる転写シートを得た。
離型層の形成において、樹脂Ａ１の代わりに樹脂Ｂを用いたこと以外は、実施例１と同様にして、ブロッキング防止層／転写用基材／離型層／保護層／プライマー層／装飾層／接着層が順に積層された積層体からなる転写シートを得た。
【0156】
［実施例５］
離型層の形成において、樹脂Ａ１の代わりに樹脂Ｃを用いたこと以外は、実施例１と同様にして、ブロッキング防止層／転写用基材／離型層／保護層／プライマー層／装飾層／接着層が順に積層された積層体からなる転写シートを得た。
離型層の形成において、樹脂Ａ１の代わりに樹脂Ｃを用いたこと以外は、実施例１と同様にして、ブロッキング防止層／転写用基材／離型層／保護層／プライマー層／装飾層／接着層が順に積層された積層体からなる転写シートを得た。
【0157】
［実施例６］
離型層の形成において、樹脂Ａ１の代わりに樹脂Ｄ１を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、ブロッキング防止層／転写用基材／離型層／保護層／プライマー層／装飾層／接着層が順に積層された積層体からなる転写シートを得た。
離型層の形成において、樹脂Ａ１の代わりに樹脂Ｄ１を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、ブロッキング防止層／転写用基材／離型層／保護層／プライマー層／装飾層／接着層が順に積層された積層体からなる転写シートを得た。
【0158】
［実施例７］
離型層の形成において、樹脂Ａ１の代わりに樹脂Ｄ２を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、ブロッキング防止層／転写用基材／離型層／保護層／プライマー層／装飾層／接着層が順に積層された積層体からなる転写シートを得た。
離型層の形成において、樹脂Ａ１の代わりに樹脂Ｄ２を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、ブロッキング防止層／転写用基材／離型層／保護層／プライマー層／装飾層／接着層が順に積層された積層体からなる転写シートを得た。
【0159】
［実施例８］
離型層の形成において、樹脂Ａ１の代わりに樹脂Ｄ３を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、ブロッキング防止層／転写用基材／離型層／保護層／プライマー層／装飾層／接着層が順に積層された積層体からなる転写シートを得た。
離型層の形成において、樹脂Ａ１の代わりに樹脂Ｄ３を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、ブロッキング防止層／転写用基材／離型層／保護層／プライマー層／装飾層／接着層が順に積層された積層体からなる転写シートを得た。
【0160】
［実施例９］
保護層の形成において、電離放射線硬化性樹脂組成物の乾燥塗布量が５．０ｇ／ｍ2となるようにバーコーターにより塗工して、保護層形成用塗布膜を形成したこと以外は、実施例８と同様にして、ブロッキング防止層／転写用基材／離型層／保護層／プライマー層／装飾層／接着層が順に積層された積層体からなる転写シートを得た。
保護層の形成において、電離放射線硬化性樹脂組成物の乾燥塗布量が５．０ｇ／ｍ2となるようにバーコーターにより塗工して、保護層形成用塗布膜を形成したこと以外は、実施例８と同様にして、ブロッキング防止層／転写用基材／離型層／保護層／プライマー層／装飾層／接着層が順に積層された積層体からなる転写シートを得た。
【0161】
［実施例１０］
保護層の形成において、電離放射線硬化性樹脂組成物の乾燥塗布量が２．４ｇ／ｍ2となるようにバーコーターにより塗工して、保護層形成用塗布膜を形成したこと以外は、実施例８と同様にして、ブロッキング防止層／転写用基材／離型層／保護層／プライマー層／装飾層／接着層が順に積層された積層体からなる転写シートを得た。
保護層の形成において、電離放射線硬化性樹脂組成物の乾燥塗布量が２．４ｇ／ｍ2となるようにバーコーターにより塗工して、保護層形成用塗布膜を形成したこと以外は、実施例８と同様にして、ブロッキング防止層／転写用基材／離型層／保護層／プライマー層／装飾層／接着層が順に積層された積層体からなる転写シートを得た。
【0162】
［比較例１］
転写用基材として、一方面に易接着剤層が形成されたポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ７５μｍ）を用いた。ポリエチレンテレフタレートフィルムの易接着剤層が形成された面とは反対側の面に、ブロッキング防止層（シリカ粒子１％を含有するアクリル樹脂 厚み１．５μｍ）を塗布した。ポリエチレンテレフタレートフィルムの易接着剤層の面に、後述する樹脂Ｅ（表１）の塗工液をグラビア印刷にて印刷して離型層（厚さ１μｍ）を形成した。
転写用基材として、一方面に易接着剤層が形成されたポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ７５μｍ）を用いた。ポリエチレンテレフタレートフィルムの易接着剤層が形成された面とは反対側の面に、ブロッキング防止層（シリカ粒子１％を含有するアクリル樹脂 厚み１．５μｍ）を塗布した。ポリエチレンテレフタレートフィルムの易接着剤層の面に、後述する樹脂Ｅ（表１）の塗工液をグラビア印刷にて印刷して離型層（厚さ１μｍ）を形成した。
【0163】
次いで、離型層の上に、電離放射線硬化性樹脂組成物を、乾燥塗布量が３．０ｇ／ｍ2となるようにバーコーターにより塗工し、保護層形成用塗布膜を形成した。電離放射線硬化性樹脂組成物は、ウレタンアクリレートである。この塗膜上から加速電圧１６５ｋＶ、照射線量５０ｋＧｙ（５Ｍｒａｄ）の電子線を照射して、保護層形成用塗布膜を硬化させて保護層を形成した。保護層の離型層側の表面形状には、シリカ粒子の存在に起因する微細な凹凸形状が形成されている。
【0164】
次に、この保護層の上に、プライマー層形成用の樹脂組成物（アクリルポリオール）をグラビア印刷により塗工し、プライマー層（厚み１．５μｍ）を形成した。更に、プライマー層上に、バインダー樹脂（アクリル樹脂５０質量％、塩化ビニル－酢酸ビニル系共重合体樹脂５０質量％）を含む装飾層形成用黒色系インキ組成物を用いて、全面黒単色の装飾層（厚さ５μｍ）をグラビア印刷により形成した。更に、装飾層上に、接着層形成用の樹脂組成物を用いて、接着層（厚さ１．５μｍ）をグラビア印刷により形成することにより、ブロッキング防止層／転写用基材／離型層／保護層／プライマー層／装飾層／接着層が順に積層された積層体からなる転写シートを得た。
【0165】
［比較例２］
樹脂Ｅに含まれるシリカ粒子の添加量を減らしたこと以外は、比較例１と同様にして、ブロッキング防止層／転写用基材／離型層／保護層／プライマー層／装飾層／接着層が順に積層された積層体からなる転写シートを得た。
樹脂Ｅに含まれるシリカ粒子の添加量を減らしたこと以外は、比較例１と同様にして、ブロッキング防止層／転写用基材／離型層／保護層／プライマー層／装飾層／接着層が順に積層された積層体からなる転写シートを得た。
【0166】
＜離型層を形成する樹脂組成物＞
樹脂Ａ１：２官能アクリレートモノマー４０．０質量部、３官能アクリレートモノマー３０．０質量部と重量平均分子量約５，０００の３官能ウレタンアクリレートオリゴマー３０．０質量部に、シリコーン０．１質量％とシリカ粒子６質量％、光重合開始剤を添加した電離放射線硬化性樹脂組成物
樹脂Ａ２： ２官能アクリレートモノマー４０．０質量部、３官能アクリレートモノマー３０．０質量部と重量平均分子量約５，０００の３官能ウレタンアクリレートオリゴマー３０．０質量部に、シリコーン０．５質量％とシリカ粒子６質量％、光重合開始剤を添加した電離放射線硬化性樹脂組成物
樹脂Ａ３：２官能アクリレートモノマー４０．０質量部、３官能アクリレートモノマー３０．０質量部と重量平均分子量約５，０００の３官能ウレタンアクリレートオリゴマー３０．０質量部に、シリコーン１．０質量％とシリカ粒子６質量％、光重合開始剤を添加した電離放射線硬化性樹脂組成物
樹脂Ｂ：２官能アクリレートモノマー７０．０質量部と重量平均分子量約２，５００の３官能ウレタンアクリレートオリゴマー３０．０質量部に、シリコーン０．５質量％とシリカ粒子、光重合開始剤を添加した電離放射線硬化性樹脂組成物
樹脂Ｃ：２官能アクリレートモノマー７０．０質量部と３官能アクリレートモノマー３０．０質量部に、シリコーン０．５質量％とシリカ粒子６質量％、光重合開始剤を添加した電離放射線硬化性樹脂組成物
樹脂Ｄ１：２官能アクリレートモノマー５５．０質量部、３官能アクリレートモノマー１５．０質量部と重量平均分子量約２，５００の３官能ウレタンアクリレートオリゴマー３０．０質量部に、シリコーン０．１質量％とシリカ粒子６質量％、光重合開始剤を添加した電離放射線硬化性樹脂組成物
樹脂Ｄ２：２官能アクリレートモノマー５５．０質量部、３官能アクリレートモノマー１５．０質量部と重量平均分子量約２，５００の３官能ウレタンアクリレートオリゴマー３０．０質量部に、シリコーン０．５質量％とシリカ粒子６質量％、光重合開始剤を添加した電離放射線硬化性樹脂組成物
樹脂Ｄ３：２官能アクリレートモノマー５５．０質量部、３官能アクリレートモノマー１５．０質量部と重量平均分子量約２，５００の３官能ウレタンアクリレートオリゴマー３０．０質量部に、シリコーン１．０質量％とシリカ粒子６質量％、光重合開始剤を添加した電離放射線硬化性樹脂組成物
樹脂Ｅ：２官能アクリレートオリゴマー８５．０質量部、３官能モノマー１５．０質量部にシリコーン１．０質量％とシリカ粒子４．４質量％を添加した電離放射線硬化性樹脂組成物
樹脂Ａ１：２官能アクリレートモノマー４０．０質量部、３官能アクリレートモノマー３０．０質量部と重量平均分子量約５，０００の３官能ウレタンアクリレートオリゴマー３０．０質量部に、シリコーン０．１質量％とシリカ粒子６質量％、光重合開始剤を添加した電離放射線硬化性樹脂組成物
樹脂Ａ２： ２官能アクリレートモノマー４０．０質量部、３官能アクリレートモノマー３０．０質量部と重量平均分子量約５，０００の３官能ウレタンアクリレートオリゴマー３０．０質量部に、シリコーン０．５質量％とシリカ粒子６質量％、光重合開始剤を添加した電離放射線硬化性樹脂組成物
樹脂Ａ３：２官能アクリレートモノマー４０．０質量部、３官能アクリレートモノマー３０．０質量部と重量平均分子量約５，０００の３官能ウレタンアクリレートオリゴマー３０．０質量部に、シリコーン１．０質量％とシリカ粒子６質量％、光重合開始剤を添加した電離放射線硬化性樹脂組成物
樹脂Ｂ：２官能アクリレートモノマー７０．０質量部と重量平均分子量約２，５００の３官能ウレタンアクリレートオリゴマー３０．０質量部に、シリコーン０．５質量％とシリカ粒子、光重合開始剤を添加した電離放射線硬化性樹脂組成物
樹脂Ｃ：２官能アクリレートモノマー７０．０質量部と３官能アクリレートモノマー３０．０質量部に、シリコーン０．５質量％とシリカ粒子６質量％、光重合開始剤を添加した電離放射線硬化性樹脂組成物
樹脂Ｄ１：２官能アクリレートモノマー５５．０質量部、３官能アクリレートモノマー１５．０質量部と重量平均分子量約２，５００の３官能ウレタンアクリレートオリゴマー３０．０質量部に、シリコーン０．１質量％とシリカ粒子６質量％、光重合開始剤を添加した電離放射線硬化性樹脂組成物
樹脂Ｄ２：２官能アクリレートモノマー５５．０質量部、３官能アクリレートモノマー１５．０質量部と重量平均分子量約２，５００の３官能ウレタンアクリレートオリゴマー３０．０質量部に、シリコーン０．５質量％とシリカ粒子６質量％、光重合開始剤を添加した電離放射線硬化性樹脂組成物
樹脂Ｄ３：２官能アクリレートモノマー５５．０質量部、３官能アクリレートモノマー１５．０質量部と重量平均分子量約２，５００の３官能ウレタンアクリレートオリゴマー３０．０質量部に、シリコーン１．０質量％とシリカ粒子６質量％、光重合開始剤を添加した電離放射線硬化性樹脂組成物
樹脂Ｅ：２官能アクリレートオリゴマー８５．０質量部、３官能モノマー１５．０質量部にシリコーン１．０質量％とシリカ粒子４．４質量％を添加した電離放射線硬化性樹脂組成物
【0167】
＜樹脂成形品の製造＞
得られた各転写シートを金型に入れて、赤外線ヒーターで３５０℃、７秒間加熱し、真空成形で金型内の形状（板状）に沿うように予備成形して型締した（最大延伸倍率５０％）。その後、射出樹脂を金型のキャビティ内に射出し、該転写シートと射出樹脂とを一体化成形し、転写用基材付き樹脂成形品を得た。成形樹脂温度は２４０℃とし、射出樹脂としてＡＢＳ樹脂を用いた。転写用基材付き樹脂成形品を金型から取り出すと同時に支持体（ブロッキング防止層、転写用基材、及び離型層）を転写層から剥離除去することにより、樹脂成形品を得た。
得られた各転写シートを金型に入れて、赤外線ヒーターで３５０℃、７秒間加熱し、真空成形で金型内の形状（板状）に沿うように予備成形して型締した（最大延伸倍率５０％）。その後、射出樹脂を金型のキャビティ内に射出し、該転写シートと射出樹脂とを一体化成形し、転写用基材付き樹脂成形品を得た。成形樹脂温度は２４０℃とし、射出樹脂としてＡＢＳ樹脂を用いた。転写用基材付き樹脂成形品を金型から取り出すと同時に支持体（ブロッキング防止層、転写用基材、及び離型層）を転写層から剥離除去することにより、樹脂成形品を得た。
【0168】
＜表面形状の測定＞
転写シート及び樹脂成形品の表面の保護層の表面について、それぞれ、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大山の高さＳｐ、最大谷の深さＳｖ、最大高さＳｚ、二乗平均平方根高さＳｑ、及び算術平均高さＳａを測定した。測定領域は、保護層表面の任意の箇所の長方形（１０２４μｍ×７６８μｍ）の領域とした。なお、転写シートについては、支持体（ブロッキング防止層、転写用基材、及び離型層）を転写層から剥離除去してから、保護層表面について表面形状の測定を行った。測定装置は、形状解析レーザ顕微鏡（「スタンド：ＶＫ－Ｄ１測定部：ＶＫ―Ｘ１０５０」、株式会社キーエンス製）を用い、対物レンズ：５０倍、レーザ波長：６５８ｎｍ、測定モード：表面形状モード、測定ピッチ：０．１３μｍ、測定品質：高速モードにて測定した。算術平均粗さＲａのカットオフ値は０．８ｍｍとした。結果を表１及び表２に示す。
転写シート及び樹脂成形品の表面の保護層の表面について、それぞれ、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２に規定される、最大山の高さＳｐ、最大谷の深さＳｖ、最大高さＳｚ、二乗平均平方根高さＳｑ、及び算術平均高さＳａを測定した。測定領域は、保護層表面の任意の箇所の長方形（１０２４μｍ×７６８μｍ）の領域とした。なお、転写シートについては、支持体（ブロッキング防止層、転写用基材、及び離型層）を転写層から剥離除去してから、保護層表面について表面形状の測定を行った。測定装置は、形状解析レーザ顕微鏡（「スタンド：ＶＫ－Ｄ１測定部：ＶＫ―Ｘ１０５０」、株式会社キーエンス製）を用い、対物レンズ：５０倍、レーザ波長：６５８ｎｍ、測定モード：表面形状モード、測定ピッチ：０．１３μｍ、測定品質：高速モードにて測定した。算術平均粗さＲａのカットオフ値は０．８ｍｍとした。結果を表１及び表２に示す。
【0169】
＜耐指紋性の評価＞
以下の手順により、樹脂成形品の表面の保護層の表面について、耐指紋性を評価した。耐指紋性の評価基準は、以下の通りである。結果を表２に示す。
（ｉ）オレイン酸を染み込ませた不織布ウエス（ベンコット）に、指をつける。
（ｉｉ）未使用の不織布ウエスに指を１０回押しつけ、余分なオレイン酸を除去する。
（ｉｉｉ）樹脂成形品の表面に指を押し付けて、オレイン酸を付着させる。
（ｉｖ）径２．５ｃｍの円筒に未使用の不織布ウエスを四つ折りし、輪ゴムで固定後、３００ｇ荷重下、１０往復で拭き取る。
（ｖ）蛍光灯下、樹脂成形品の表面の拭き取った箇所を目視で確認する。
以下の手順により、樹脂成形品の表面の保護層の表面について、耐指紋性を評価した。耐指紋性の評価基準は、以下の通りである。結果を表２に示す。
（ｉ）オレイン酸を染み込ませた不織布ウエス（ベンコット）に、指をつける。
（ｉｉ）未使用の不織布ウエスに指を１０回押しつけ、余分なオレイン酸を除去する。
（ｉｉｉ）樹脂成形品の表面に指を押し付けて、オレイン酸を付着させる。
（ｉｖ）径２．５ｃｍの円筒に未使用の不織布ウエスを四つ折りし、輪ゴムで固定後、３００ｇ荷重下、１０往復で拭き取る。
（ｖ）蛍光灯下、樹脂成形品の表面の拭き取った箇所を目視で確認する。
【0170】
（耐指紋性の評価基準）
Ａ＋：指紋拭き取り後、指紋の跡が全く観えない
Ａ：指紋ふき取り後、視認する角度を任意に変えると、わずかに観える（跡が１割以下）
Ｂ：指紋ふき取り後、跡が１割超、３割以下、残る。
Ｃ：指紋ふき取り後、跡が３割超、５割以下、残る。
Ｄ：指紋ふき取り後、跡が５割超、残る。
Ａ＋：指紋拭き取り後、指紋の跡が全く観えない
Ａ：指紋ふき取り後、視認する角度を任意に変えると、わずかに観える（跡が１割以下）
Ｂ：指紋ふき取り後、跡が１割超、３割以下、残る。
Ｃ：指紋ふき取り後、跡が３割超、５割以下、残る。
Ｄ：指紋ふき取り後、跡が５割超、残る。
【0171】
＜離型層の剥離強度の測定＞
以下の方法により、前記で得られた転写用基材付き樹脂成形品の表面から支持体を手で剥離する際の剥がれやすさについて、以下の方法で測定した。評価基準は、以下の通りである。結果を表２に示す。
以下の方法により、前記で得られた転写用基材付き樹脂成形品の表面から支持体を手で剥離する際の剥がれやすさについて、以下の方法で測定した。評価基準は、以下の通りである。結果を表２に示す。
【0172】
（剥離強度の評価基準）
Ａ：容易に剥がれる。
Ｂ：剥がれにくいが、転写層側に離型層が残存しない
Ｃ：さらに剥がれにくいが、転写層側に離型層が存在しない
Ｄ：剥がれにくく、転写層側に離型層の残存が認められる
Ｅ：剥がれないもしくは、基材が破断する
Ａ：容易に剥がれる。
Ｂ：剥がれにくいが、転写層側に離型層が残存しない
Ｃ：さらに剥がれにくいが、転写層側に離型層が存在しない
Ｄ：剥がれにくく、転写層側に離型層の残存が認められる
Ｅ：剥がれないもしくは、基材が破断する
【0173】
＜艶消し調の意匠性の評価＞
樹脂成形品の表面の保護層の表面について、ＢＹＫ社マイクロトリグロス３角度表面光沢計を用い、６０度鏡面光沢度及び８５度鏡面光沢度の観点から、艶消し調の意匠性を評価した。６０度鏡面光沢度及び８５度鏡面光沢度が小さい程、優れた艶消し調の意匠性を有していると評価される。結果を表２に示す。
樹脂成形品の表面の保護層の表面について、ＢＹＫ社マイクロトリグロス３角度表面光沢計を用い、６０度鏡面光沢度及び８５度鏡面光沢度の観点から、艶消し調の意匠性を評価した。６０度鏡面光沢度及び８５度鏡面光沢度が小さい程、優れた艶消し調の意匠性を有していると評価される。結果を表２に示す。
【0174】
＜端部密着性の評価＞
樹脂成形品の端部について、以下の方法により、密着性を評価した。ニチバン製セロハンテープ（登録商標）（Ｎｏ．４０５）を用いて、成形品端部の同じ個所で１０回繰り返し９０度剥離試験を行い、密着性を確認する。剥がれが観られた場合は、成形品端部からどれだけ剥がれたかを、物差しで距離を測長し評価を行った。評価基準は、以下の通りである。結果を表２に示す。
樹脂成形品の端部について、以下の方法により、密着性を評価した。ニチバン製セロハンテープ（登録商標）（Ｎｏ．４０５）を用いて、成形品端部の同じ個所で１０回繰り返し９０度剥離試験を行い、密着性を確認する。剥がれが観られた場合は、成形品端部からどれだけ剥がれたかを、物差しで距離を測長し評価を行った。評価基準は、以下の通りである。結果を表２に示す。
【0175】
（端部密着性の評価基準）
Ａ：全く剥がれていない
Ｂ：剥がれが観られ、３ｍｍより小さい
Ｃ：剥がれが観られ、３～５ｍｍ
Ｄ：剥がれが観られ、５ｍｍより大きい
Ａ：全く剥がれていない
Ｂ：剥がれが観られ、３ｍｍより小さい
Ｃ：剥がれが観られ、３～５ｍｍ
Ｄ：剥がれが観られ、５ｍｍより大きい
【0176】
【表1】
【0177】
【表2】
【符号の説明】
【0178】
１ 転写用基材
２ 保護層
３ 接着層
４ プライマー層
５ 装飾層
６ 離型層
７ ブロッキング防止層
８ 転写層
９ 成形樹脂層
１０ 転写シート
２０ 樹脂成形品
２１ 転写用基材付き樹脂成形品
２ 保護層
３ 接着層
４ プライマー層
５ 装飾層
６ 離型層
７ ブロッキング防止層
８ 転写層
９ 成形樹脂層
１０ 転写シート
２０ 樹脂成形品
２１ 転写用基材付き樹脂成形品
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
