2025-105014 露光装置、制御方法及び物品の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2025105014

(43)【公開日】2025-07-10

(54)【発明の名称】露光装置、制御方法及び物品の製造方法

(51)【国際特許分類】

   G03F 7/20 20060101AFI20250703BHJP

【ＦＩ】

G03F7/20 521

G03F7/20 501

【審査請求】未請求

【請求項の数】15

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023223262

(22)【出願日】2023-12-28

(71)【出願人】

【識別番号】000001007

【氏名又は名称】キヤノン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110003281

【氏名又は名称】弁理士法人大塚国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】宮本 一輝

【テーマコード（参考）】

2H197

【Ｆターム（参考）】

2H197AA05

2H197BA04

2H197CD12

2H197CD13

2H197EB23

2H197HA03

2H197HA05

2H197HA10

(57)【要約】

【課題】スループットを低下させずに、遮光部材を高精度に位置決めするのに有利な技術を提供する。
【解決手段】原版を介して基板を露光する露光装置であって、駆動部と、設定部と、制御部と、を有し、前記制御部は、前記駆動部により遮光部材を第１分解能で目標位置に向けて駆動する第１駆動制御を行い、目標位置を前記基板上に投影した目標投影位置が、前記投影範囲からの距離が所定の距離以下となる第１領域に位置する場合、第１駆動制御を行った後の遮光部材の位置と目標位置とのずれが閾値を超えていれば、駆動部により遮光部材を第１分解能よりも高い第２分解能で目標位置に向けて駆動する第２駆動制御を行い、目標投影位置が、第１領域以外の第２領域に位置する場合、第１駆動制御を行った後の前記遮光部材の位置にかかわらず、第２駆動制御を行わない。
【選択図】図５

【特許請求の範囲】

【請求項1】

原版を介して基板を露光する露光装置であって、
前記基板に入射する露光光の範囲を制限するための遮光部材を駆動する駆動部と、
前記原版のパターン及び前記基板のショットレイアウトの少なくとも一方に基づいて、前記パターンが投影される前記基板上の投影範囲を設定する設定部と、
前記遮光部材が目標位置に位置するように、前記駆動部の駆動制御を行う制御部と、
を有し、
前記制御部は、
前記駆動部により前記遮光部材を第１分解能で前記目標位置に向けて駆動する第１駆動制御を行い、
前記目標位置を前記基板上に投影した目標投影位置が、前記投影範囲からの距離が所定の距離以下となる第１領域に位置する場合、前記第１駆動制御を行った後の前記遮光部材の位置と前記目標位置とのずれが閾値を超えていれば、前記駆動部により前記遮光部材を前記第１分解能よりも高い第２分解能で前記目標位置に向けて駆動する第２駆動制御を行い、
前記目標投影位置が、前記第１領域以外の第２領域に位置する場合、前記第１駆動制御を行った後の前記遮光部材の位置にかかわらず、前記第２駆動制御を行わない、
ことを特徴とする露光装置。

【請求項2】

前記駆動部は、前記遮光部材を駆動するためのモータを含み、
前記第１分解能及び前記第２分解能は、前記モータによる１パルスあたりの前記遮光部材の駆動量を表す分解能を含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。

【請求項3】

前記制御部は、前記第１領域をユーザが指定するための画面を表示するユーザインタフェースを提供する、ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。

【請求項4】

前記ユーザインタフェースは、前記第１領域に加えて、前記閾値をユーザが指定するための画面を表示する、ことを特徴とする請求項３に記載の露光装置。

【請求項5】

前記第１領域は、前記投影範囲からの距離が前記所定の距離以下となる、互いに異なる複数の第１領域を含む、ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。

【請求項6】

前記制御部は、前記複数の第１領域をユーザが指定するための画面を表示するユーザインタフェースを提供する、ことを特徴とする請求項５に記載の露光装置。

【請求項7】

前記ユーザインタフェースは、前記複数の第１領域に加えて、前記複数の第１領域のそれぞれに対する前記閾値をユーザが指定するための画面を表示する、ことを特徴とする請求項６に記載の露光装置。

【請求項8】

前記投影範囲は、前記原版を介した露光の結果を保証すべき領域を含む、ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。

【請求項9】

前記投影範囲は、前記パターンに応じた回路を転写すべき領域を含む、ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。

【請求項10】

前記第１領域は、前記基板上のアライメントマークが設けられた領域を含む、ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。

【請求項11】

前記第１領域は、前記基板上の互いに隣接するショット領域の間の領域を含む、ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。

【請求項12】

前記第２領域は、前記投影範囲外に位置して前記遮光部材を待機させる領域を含む、ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。

【請求項13】

前記閾値は、前記第１駆動制御を行った後に設定される、ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。

【請求項14】

原版を介して基板を露光する露光装置に用いられる、前記基板に入射する露光光の範囲を制限するための遮光部材を駆動する駆動部を制御する制御方法であって、
前記原版のパターン及び前記基板のショットレイアウトの少なくとも一方に基づいて、前記基板上の前記パターンが投影される投影範囲を設定する第１工程と、
前記遮光部材が目標位置に位置するように、前記駆動部の駆動制御を行う第２工程と、を有し、
前記第２工程では、
前記駆動部により前記遮光部材を第１分解能で前記目標位置に向けて駆動する第１駆動制御を行い、
前記目標位置を前記基板上に投影した目標投影位置が、前記投影範囲からの距離が所定の距離以下となる第１領域に位置する場合、前記第１駆動制御を行った後の前記遮光部材の位置と前記目標位置とのずれが閾値を超えていれば、前記駆動部により前記遮光部材を前記第１分解能よりも高い第２分解能で前記目標位置に向けて駆動する第２駆動制御を行い、
前記目標投影位置が、前記第１領域以外の第２領域に位置する場合、前記第１駆動制御を行った後の前記遮光部材の位置にかかわらず、前記第２駆動制御を行わない、
ことを特徴とする制御方法。

【請求項15】

請求項１乃至１３のうちいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
露光した前記基板を現像する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、露光装置、制御方法及び物品の製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド、その他のデバイスなどの製造工程の１つであるフォトリソグラフィ工程では、露光装置が用いられている。露光装置は、原版（レチクル、マスク）に形成されたパターンを、投影光学系を介して、レジストなどの感光剤が塗布された基板（ウエハ、ガラスプレート）に投影して転写する。

【0003】

露光装置では、原版のパターンを基板に正確に転写するために、原版と基板とを高い精度で位置合わせ（アライメント）することが求められている。原版と基板とのアライメント精度を向上させるためには、原版や基板に設けられたアライメントマークを専用の位置計測装置で検出（観察）して、原版と基板とをアライメントする必要がある。

【0004】

露光装置では、一般的に、同一の基板に対して複数回のパターンの転写を行うため、照明光学系からの光（照明光）が基板上の所定領域に隣接するパターン（回路パターン）やアライメントマークに照射された場合、製品不良の要因となる。従って、照明光学系と基板との間に設けられた遮光部材を駆動し、照明光を遮光することで、基板上の所定領域以外の領域に照明光が漏れない（照射されない）ようにしている。但し、遮光部材を目標位置からずれた位置に駆動した場合、照明光の漏れが発生してしまうため、遮光部材を目標位置に高精度に位置決めする必要がある。また、遮光部材の駆動速度は、露光装置のスループット（生産性）に影響するため、高速であることが好ましい。

【0005】

そこで、遮光部材などの駆動対象物を、高速、且つ、高精度に駆動するための技術が提案されている（特許文献１及び２参照）。特許文献１には、目標位置までの駆動距離が予め設定された距離よりも大きい場合には、駆動対象物を粗動送りで駆動し、目標位置までの駆動距離が予め設定された距離以下である場合には、駆動対象物を微動送りで駆動する技術が開示されている。かかる技術によれば、駆動対象物を微動送りで駆動する場合においても、駆動時間の増加を抑制することができる。また、特許文献２には、駆動対象物の目標位置までの駆動距離に応じて駆動分解能を選択し、駆動距離に相当するパルス信号の立ち上がり又は立ち下がりエッジ数と、発生したパルス信号のエッジ数とが一致するまでフィードバック制御する技術が開示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【特許文献1】特許第４８６６０４５号公報

【特許文献2】特開２００３－２８９６８６号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

しかしながら、遮光部材を高分解能で駆動することで、位置決め精度を向上させることができるが、遮光部材を高速に駆動しながら、より高分解能で駆動する場合、パルス周波数を増加させなければならない。パルス周波数が増加すると、トルクの低下やノイズの問題が生じるため、遮光部材をより高分解能で駆動する場合には、駆動速度を低下させる必要がある。

【0008】

また、目標位置からのずれ量が予め決められた閾値に到達するまで遮光部材を追加で駆動する処理（追い込み処理）を実施することで、位置決め精度を向上させることも可能である。ここで、遮光部材を高分解能で駆動することで位置決め精度の向上を図る場合、目標位置からのずれ量に対する閾値を低く設定する必要があるため、追い込み処理が発生する（実施される）確率が高まる。追い込み処理が発生すると、全体の処理が終了するまでに時間を要する。特に、複数のユニットが並列に設けられている装置では、所定のユニットにおいて追い込み処理が発生すると、かかる追い込み処理が終了するまで、他のユニットには待機時間を設けなくてはならない。

【0009】

このように、遮光部材を高分解能で駆動することで位置決め精度を向上させる場合には、遮光部材の駆動速度の低下、及び、追い込み処理が発生する確率が高まることに起因するスループットの低下を招く虞がある。

【0010】

本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、スループットを低下させずに、遮光部材を高精度に位置決めするのに有利な技術を提供することを例示的目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0011】

上記目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、原版を介して基板を露光する露光装置であって、前記基板に入射する露光光の範囲を制限するための遮光部材を駆動する駆動部と、前記原版のパターン及び前記基板のショットレイアウトの少なくとも一方に基づいて、前記パターンが投影される前記基板上の投影範囲を設定する設定部と、前記遮光部材が目標位置に位置するように、前記駆動部の駆動制御を行う制御部と、を有し、前記制御部は、前記駆動部により前記遮光部材を第１分解能で前記目標位置に向けて駆動する第１駆動制御を行い、前記目標位置を前記基板上に投影した目標投影位置が、前記投影範囲からの距離が所定の距離以下となる第１領域に位置する場合、前記第１駆動制御を行った後の前記遮光部材の位置と前記目標位置とのずれが閾値を超えていれば、前記駆動部により前記遮光部材を前記第１分解能よりも高い第２分解能で前記目標位置に向けて駆動する第２駆動制御を行い、前記目標投影位置が、前記第１領域以外の第２領域に位置する場合、前記第１駆動制御を行った後の前記遮光部材の位置にかかわらず、前記第２駆動制御を行わない、ことを特徴とする。

【0012】

本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される実施形態によって明らかにされるであろう。

【発明の効果】

【0013】

本発明によれば、例えば、スループットを低下させずに、遮光部材を高精度に位置決めするのに有利な技術を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0014】

【図1】本発明の一側面としての露光装置の構成を示す概略図である。

【図2】駆動部の構成の一例を示す図である。

【図3】遮光部材が露光光を遮光する様子を示す図である。

【図4】従来技術における駆動部の駆動制御を説明するためのフローチャートである。

【図5】第１実施形態における駆動部の駆動制御を説明するためのフローチャートである。

【図6】ユーザインタフェースの一例を示す図である。

【図7】第２実施形態における駆動部の駆動制御を説明するためのフローチャートである。

【図8】ユーザインタフェースの一例を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0015】

以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。更に、添付図面においては、同一もしくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。

【0016】

図１は、本発明の一側面としての露光装置１０１の構成を示す概略図である。露光装置１０１は、半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド、その他のデバイスなどの物品の製造工程に用いられ、原版を介して基板を露光することで、基板にパターンを形成するリソグラフィ装置である。露光装置１０１は、本実施形態では、原版（マスク又はレチクル）のパターンを、投影光学系を介して基板（ガラス基板やウエハなど）に投影して転写する処理（露光処理）を行う。

【0017】

本明細書及び添付図面では、基板が配置される面に平行な方向をＸＹ平面とするＸＹＺ座標系で方向を示す。ＸＹＺ座標系におけるＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸のそれぞれに平行な方向をＸ方向、Ｙ方向及びＺ方向とし、Ｘ軸周りの回転、Ｙ軸周りの回転及びＺ軸周りの回転のそれぞれをθＸ、θＹ及びθＺとする。

【0018】

露光装置１０１は、図１に示すように、光源からの光で原版１０４を照明する照明光学系１０３と、原版１０４を保持する原版ステージ１０５と、原版１０４のパターンを基板１１１に投影する投影光学系１０８と、を有する。露光装置１０１は、基板１１１を保持する基板ステージ１１２と、遮光部材１０６及び１０９と、駆動部１０７及び１１０と、計測部１１５及び１１７と、制御部１０２と、表示部１１９と、を更に有する。

【0019】

露光装置１０１において、照明光学系１０３からの光は、原版ステージ１０５によって保持された原版１０４のパターンを照明し、投影光学系１０８を介して、基板ステージ１１２によって保持された基板１１１に投影される。

【0020】

遮光部材１０６及び１０９は、照明光学系１０３と基板１１１との間に設けられ、その間を通過する光を部分的に遮光（遮断）することで、投影光学系１０８から基板に入射する光（露光光）の範囲を制限するための板部材（ブレード）である。本実施形態では、遮光部材１０６は、原版１０４と投影光学系１０８との間に配置され、遮光部材１０９は、投影光学系１０８と基板１１１との間に配置されている。

【0021】

駆動部１０７及び１１０は、照明光学系１０３と基板１１１との間に設けられた遮光部材１０６及び１０９を駆動するための機能を有する。駆動部１０７は、原版１０４と投影光学系１０８との間に配置された遮光部材１０６を駆動し、駆動部１１０は、投影光学系１０８と基板１１１との間に配置された遮光部材１０９を駆動する。

【0022】

本実施形態において、駆動部１０７及び１１０は、それぞれ、遮光部材１０６及び１０９を駆動する分解能（駆動分解能）を、第１分解能と、第１分解能よりも高い第２分解能とに切り替え可能に構成されている。図２は、駆動部１０７及び１１０に適用可能な駆動部ＤＵの構成の一例を示す図である。駆動部ＤＵは、図２に示すように、プリント基板６０１と、モータ制御部６０２と、分解能切替部６０３と、分解能設定部６０４と、遮光部材を駆動するためのモータ６０５と、を含む。ここで、分解能とは、モータ６０５による１パルスあたりの遮光部材の駆動量を表すものとする。

【0023】

プリント基板６０１は、モータ制御部６０２に対して、モータ６０５の分解能を切り替えるための指令、本実施形態では、第１分解能又は第２分解能を指定するための指令を与える。モータ制御部６０２は、プリント基板６０１からの指令に基づいて、分解能切替部６０３において、分解能設定部６０４によりモータ６０５に設定すべき分解能を切り替える（スイッチする）。例えば、分解能切替部６０３において、スイッチ６０３Ａをオン（ＯＮ）からオフ（ＯＦＦ）に、スイッチ６０３Ｂをオフからオンに切り替えることで、モータ６０５に設定すべき分解能を第１分解能から第２分解能に切り替える。また、分解能切替部６０３において、スイッチ６０３Ａをオフからオンに、スイッチ６０３Ｂをオンからオフに切り替えることで、モータ６０５に設定すべき分解能を第２分解能から第１分解能に切り替える。分解能設定部６０４は、分解能切替部６０３におけるスイッチ６０３Ａ及び６０３Ｂの切り替えに対応する分解能（第１分解能又は第２分解能）をモータ６０５に設定する。

【0024】

なお、駆動部１０７及び１１０に適用可能な駆動部の構成は、図２に示す駆動部ＤＵの構成に限定されるものではなく、遮光部材１０６及び１０９を駆動する分解能を切り替え可能な構成であればよい。例えば、遮光部材１０６及び１０９を、第１分解能で駆動するための第１モータ及び第２分解能で駆動するための第２モータを含み、遮光部材１０６及び１０９を駆動するモータを第１モータと第２モータとで切り替えるように構成してもよい。

【0025】

計測部１１５及び１１７は、それぞれ、干渉計やエンコーダなどを含み、原版１０４と投影光学系１０８との間に配置された遮光部材１０６の位置、及び、投影光学系１０８と基板１１１との間に配置された遮光部材１０９の位置を計測する。

【0026】

制御部１０２は、例えば、ＣＰＵやメモリなどを含むコンピュータ（情報処理装置）で構成される。制御部１０２は、記憶部などに記憶されたプログラムに従って露光装置１０１の各部を統括的に制御して露光装置１０１を動作させる。制御部１０２は、原版１０４のパターンを、投影光学系１０８を介して基板１１１に投影して転写する露光処理を制御する。また、露光処理において、制御部１０２は、計測部１１５及び１１７による計測結果や各種情報に基づいて、遮光部材１０６及び１０９が目標位置に位置するように、遮光部材１０６及び１０９を駆動する駆動部１０７及び１１０の駆動制御を行う。

【0027】

表示部１１９は、露光装置１０１に関する各種情報を表示するための表示装置である。表示部１１９は、例えば、タッチパネルを含み、各種の画面を含むユーザインタフェースを表示するとともに、ユーザからの操作を受け付ける。なお、表示部１１９は、露光装置１０１と一体で（共通の筐体に）構成してもよいし、露光装置１０１とは別体で（別の筐体に）構成してもよい。例えば、表示部１１９は、露光装置１０１を管理するユーザが駐在する管理室に設けられていてもよい。

【0028】

図３は、遮光部材１０６及び１０９が露光光を遮光する様子を、原版ステージ１０５の側から基板ステージ１１２の側の視点で示す図である。本実施形態において、遮光部材１０６は、Ｙ方向の露光光を遮光することで基板上における露光光のＹ方向の範囲を規制し、遮光部材１０９は、Ｘ方向の露光光を遮光することで基板上における露光光のＸ方向の範囲を規制する。

【0029】

照明光学系１０３からの光が基板ステージ１１２によって保持された基板１１１に照射される過程において、かかる光が基板上の所定領域以外の領域、例えば、隣接するパターンやアライメントマークに照射された（漏れた）場合、製品不良の要因となる。そこで、照明光学系１０３からの光を基板上の所定領域のみに照射するために、遮光部材１０６及び１０９を駆動して目標位置に位置決めし、基板上の所定領域以外の領域に照射される光を遮光する。これにより、照明光学系１０３からの光が基板上の所定領域以外の領域に漏れることを回避することができる。特に、隣接するパターンとの間隔が狭い領域では、遮光部材１０６及び１０９を高精度で位置決めし、照明光学系１０３からの光が基板上の所定領域以外の領域に漏れないようにする必要がある。

【0030】

まず、本実施形態における駆動部１０７及び１１０の駆動制御、具体的には、遮光部材１０６及び１０９を目標位置に位置決めする（位置させる）ための駆動制御を説明する前に、従来技術における駆動部１０７及び１１０の駆動制御について説明する。駆動部１０７及び１１０の駆動制御は、上述したように、制御部１０２によって行われる（制御される）。

【0031】

図４は、従来技術における駆動部１０７及び１１０の駆動制御を説明するためのフローチャートである。Ｓ２０１では、ユーザが設定した露光パターン（露光領域）に基づいて、遮光部材１０６及び１０９を位置決めすべき目標位置を設定する。

【0032】

Ｓ２０２では、遮光部材１０６及び１０９がＳ２０１で設定した目標位置に位置するように、駆動部１０７及び１１０によって遮光部材１０６及び１０９を駆動する。このように、駆動部１０７及び１１０により遮光部材１０６及び１０９を目標位置に向けて駆動する駆動制御を行う。

【0033】

Ｓ２０３では、計測部１１５及び１１７によって計測された遮光部材１０６及び１０９の位置（Ｓ２０２で駆動制御を行った後の遮光部材１０６及び１０９の現在位置）と目標位置とのずれ（位置ずれ量）が閾値を超えているかどうかを判定する。位置ずれ量が閾値を超えていない場合には、遮光部材１０６及び１０９の位置が目標位置から外れていないものとして、駆動部１０７及び１１０の駆動制御を終了（正常終了）する。一方、位置ずれ量が閾値を超えている場合には、Ｓ２０４に移行する。

【0034】

Ｓ２０４では、Ｓ２０３で計測された遮光部材１０６及び１０９の位置に基づいて、遮光部材１０６及び１０９の駆動量を算出する。具体的には、遮光部材１０６及び１０９の現在位置と目標位置との差分、即ち、位置ずれ量を、遮光部材１０６及び１０９の駆動量として算出する。

【0035】

Ｓ２０５では、Ｓ２０４で算出した駆動量に従って、遮光部材１０６及び１０９が目標位置に位置するように、駆動部１０７及び１１０によって遮光部材１０６及び１０９を駆動する。このように、駆動部１０７及び１１０により遮光部材１０６及び１０９を目標位置に向けてＳ２０４で算出した駆動量だけ駆動する追加の駆動制御を行う。

【0036】

Ｓ２０６では、計測部１１５及び１１７によって計測された遮光部材１０６及び１０９の位置（Ｓ２０５で追加の駆動制御を行った後の遮光部材１０６及び１０９の現在位置）と目標位置とのずれ（位置ずれ量）が閾値を超えているかどうかを判定する。位置ずれ量が閾値を超えていない場合には、遮光部材１０６及び１０９の位置が目標位置から外れていないものとして、駆動部１０７及び１１０の駆動制御を終了（正常終了）する。一方、位置ずれ量が閾値を超えている場合には、Ｓ２０７に移行する。

【0037】

Ｓ２０７では、Ｓ２０５で行った追加の駆動制御の回数が所定回数を超えているかどうかを判定する。追加の駆動制御の回数が所定回数を超えていない場合には、追加の駆動制御を更に行うために、Ｓ２０４に移行する。一方、追加の駆動制御の回数が所定回数を超えている場合には、エラーを出力して、駆動部１０７及び１１０の駆動制御を終了（異常終了）する。

【0038】

このように、従来技術では、遮光部材１０６及び１０９を駆動する際に、その目標位置が位置決め精度を要求されない場合であっても、遮光部材１０６及び１０９の位置と目標位置との差が閾値以内となるまで、追加の駆動制御を繰り返している。また、従来技術では、遮光部材１０６及び１０９を、高速駆動に対応した分解能で駆動している。

【0039】

従来技術において、遮光部材１０６及び１０９の位置決め精度を向上させるために、遮光部材１０６及び１０９をより高い分解能で駆動するには、パルス周波数の増加を抑制して、駆動速度を低下させる必要がある。また、遮光部材１０６及び１０９の位置決め精度を向上させる場合には、Ｓ２０３及びＳ２０６で用いる閾値を低く設定する必要があるため、追加の駆動制御（Ｓ２０５）が発生する確率が高まる。従って、遮光部材１０６及び１０９の目標位置が位置決め精度を要求されない場合であっても、追加の駆動制御が発生する可能性が高まり、全体の処理が終了するまでに時間を要する傾向となる。そのため、従来技術では、遮光部材１０６及び１０９をより高い分解能で駆動することで位置決め精度を向上させる場合、遮光部材１０６及び１０９の駆動速度が低下し、追加の駆動制御が発生する確率が高まることから、スループットが低下してしまう。

【0040】

そこで、本実施形態では、スループットを低下させずに、遮光部材１０６及び１０９を高精度に位置決めすることを可能とする駆動部１０７及び１１０の駆動制御（駆動部１０７及び１１０を制御する制御方法）を提供する。

【0041】

＜第１実施形態＞
図５は、第１実施形態における駆動部１０７及び１１０の駆動制御を説明するためのフローチャートである。Ｓ３０１では、ユーザが設定した露光パターン（露光領域）に基づいて、遮光部材１０６及び１０９を位置決めすべき目標位置を設定する。

【0042】

Ｓ３０２では、原版１０４のパターン及び基板１１１のショットレイアウトの少なくとも一方に基づいて、原版１０４のパターンが投影される基板上の投影範囲（パターン投影露光範囲）を設定する。本実施形態では、原版１０４のパターンの設計情報や基板１１１のショットレイアウトを含む露光レシピなどに基づいて、制御部１０２が投影範囲を設定する設定部として機能する。投影範囲は、原版１０４のパターンや基板１１１のショットレイアウトに応じて、自由に設定することが可能であり、同一の基板上で複数の投影範囲が設定されてもよい。具体的には、原版１０４を介した露光の結果を保証すべき領域や原版１０４のパターンに応じた回路を転写すべき領域を、投影範囲として設定する。投影範囲に関する情報は、原版１０４のパターンや基板１１１のショットレイアウトに関連付けて保持してもよいし、遮光部材１０６及び１０９の駆動可能範囲内における特定の位置情報に関連付けて保持してもよい。

【0043】

Ｓ３０３では、駆動部１０７及び１１０において、遮光部材１０６及び１０９を駆動する分解能として、第１分解能を設定する。なお、第１分解能としては、遮光部材１０６及び１０９を第１分解能で駆動する際において、駆動速度及びトルク条件を満たす分解能であれば、任意の分解能を設定することができる。

【0044】

Ｓ３０４では、遮光部材１０６及び１０９がＳ３０１で設定した目標位置に位置するように、駆動部１０７及び１１０によって遮光部材１０６及び１０９をＳ３０３で設定した第１分解能で駆動する。このように、駆動部１０７及び１１０により遮光部材１０６及び１０９を第１分解能で目標位置に向けて駆動する第１駆動制御を行う。

【0045】

Ｓ３０５では、Ｓ３０１で設定した目標位置を基板上に投影した目標投影位置が、Ｓ３０２で設定した投影範囲の近傍であるかどうか、即ち、投影範囲からの距離が所定の距離以下となる第１領域に位置するかどうかを判定する。目標投影位置が第１領域に位置していない場合には、遮光部材１０６及び１０９の位置（現在位置）を計測したり、遮光部材１０６及び１０９の位置と目標位置とのずれを算出したりせずに、駆動部１０７及び１１０の駆動制御を終了（正常終了）する。換言すれば、目標投影位置が第１領域以外の第２領域に位置する場合には、第１駆動制御を行った後の遮光部材１０６及び１０９の位置にかかわらず、後述する第２駆動制御（Ｓ３０９）を行わずに、駆動部１０７及び１１０の駆動制御を終了する。一方、目標投影位置が第１領域に位置している場合は、Ｓ３０６に移行する。

【0046】

Ｓ３０６では、計測部１１５及び１１７によって計測された遮光部材１０６及び１０９の位置（Ｓ３０４で第１駆動制御を行った後の遮光部材１０６及び１０９の現在位置）と目標位置とのずれ（位置ずれ量）が閾値を超えているかどうかを判定する。位置ずれ量が閾値を超えていない場合には、遮光部材１０６及び１０９の位置が目標位置から外れていないものとして、駆動部１０７及び１１０の駆動制御を終了（正常終了）する。一方、位置ずれ量が閾値を超えている場合には、Ｓ３０７に移行する。

【0047】

Ｓ３０７では、Ｓ３０６で計測された遮光部材１０６及び１０９の位置に基づいて、遮光部材１０６及び１０９の駆動量を算出する。具体的には、遮光部材１０６及び１０９の現在位置と目標位置との差分、即ち、位置ずれ量を、遮光部材１０６及び１０９の駆動量として算出する。

【0048】

Ｓ３０８では、駆動部１０７及び１１０において、遮光部材１０６及び１０９を駆動する分解能として、第１分解能よりも高い第２分解能を設定する。

【0049】

Ｓ３０９では、Ｓ３０７で算出した駆動量に従って、遮光部材１０６及び１０９が目標位置に位置するように、駆動部１０７及び１１０によって遮光部材１０６及び１０９をＳ３０８で設定した第２分解能で駆動する。このように、駆動部１０７及び１１０により遮光部材１０６及び１０９を第２分解能で目標位置に向けてＳ３０７で算出した駆動量だけ駆動する第２駆動制御を行う。なお、第２駆動制御は、遮光部材１０６及び１０９をＳ３０８で設定した第２分解能で駆動可能な駆動速度で行う。

【0050】

Ｓ３１０では、計測部１１５及び１１７によって計測された遮光部材１０６及び１０９の位置（Ｓ３０９で第２駆動制御を行った後の遮光部材１０６及び１０９の現在位置）と目標位置とのずれ（位置ずれ量）が閾値を超えているかどうかを判定する。位置ずれ量が閾値を超えていない場合には、遮光部材１０６及び１０９の位置が目標位置から外れていないものとして、駆動部１０７及び１１０の駆動制御を終了（正常終了）する。一方、位置ずれ量が閾値を超えている場合には、Ｓ３１１に移行する。

【0051】

Ｓ３１１では、Ｓ３０９で行った第２駆動制御の回数が所定回数を超えているかどうかを判定する。第２駆動制御の回数が所定回数を超えていない場合には、第２駆動制御を更に行うために、Ｓ３０７に移行する。一方、第２駆動制御の回数が所定回数を超えている場合には、エラーを出力して、駆動部１０７及び１１０の駆動制御を終了（異常終了）する。

【0052】

ここで、Ｓ３０５において、目標投影位置が投影範囲の近傍であるかどうかの判定に用いられる第１領域、即ち、投影範囲からの距離が所定の距離以下となる第１領域の設定について説明する。例えば、基板上の隣接するショット領域の間の間隔が狭く、遮光部材１０６及び１０９を高精度に位置決めしなければ、隣接するショット領域に露光光が照射され、製品不良が発生することが予期される領域を、第１領域として設定する。このように、第１領域として設定する領域は、基板上の互いに隣接するショット領域の間の領域を含む。かかる領域は、スクライブラインとも呼ばれ、一般的には、アライメントマークが設けられている。従って、第１領域として設定する領域は、基板上のアライメントマークが設けられた領域を含むともいえる。また、第１領域として、互いに異なる複数の領域（複数の第１領域）を設定することも可能である。なお、基板上の互いに隣接するショット領域の間の間隔に余裕がある場合には、遮光部材１０６及び１０９を高精度に位置決めする必要はないと考えられるため、このような領域については第１領域として設定しないようにするとよい。これにより、不要な第２駆動制御が発生することを抑制することができる。

【0053】

図６は、投影範囲からの距離が所定の距離以下となる第１領域をユーザが指定（設定）するための画面を表示するユーザインタフェースＵＩＡの一例を示す図である。ユーザインタフェースＵＩＡは、制御部１０２から表示部１１９に提供されて表示される。ユーザインタフェースＵＩＡには、例えば、基板ステージ１１２によって保持された基板１１１に対して設定された基板上の４つの投影範囲５０１が表示されている。この場合、基板上の投影範囲５０１の上下左右の領域Ｒ１～領域Ｒ１２の１２の領域が、投影範囲５０１の近傍の第１領域、即ち、遮光部材１０６及び１０９の高精度な位置決めの要否を設定することが可能な領域として設定可能である。ユーザは、ユーザインタフェースＵＩＡにおいて、領域Ｒ１～領域Ｒ１２から、任意の領域をクリック（選択）することによって、遮光部材１０６及び１０９の高精度な位置決めが必要となる第１領域を自由に設定することができる。また、図６に示すように、ユーザインタフェースＵＩＡに、領域Ｒ１～領域Ｒ１２のそれぞれに対応するチェックボックスを含めてもよい。この場合、ユーザは、任意の領域に対応するチェックボックスをチェック（選択）することによって、遮光部材１０６及び１０９の高精度な位置決めが必要となる第１領域を自由に設定することもできる。図６では、基板上の領域Ｒ１～領域Ｒ１２のうち、領域Ｒ４、領域Ｒ６、領域Ｒ７及び領域Ｒ９が第１領域として設定（指定）されている。

【0054】

また、遮光部材１０６及び１０９を基板上の所定領域外に位置する待機位置などに駆動する（逃げる）場合、目標位置は、投影範囲の近傍とはならないため、第２駆動制御を行う必要はない。従って、投影範囲からの距離が所定の距離以下となる第１領域以外の第２領域には、遮光部材１０６及び１０９の待機位置、即ち、投影範囲外に位置して遮光部材１０６及び１０９を待機させる領域も含まれる。

【0055】

このように、本実施形態では、遮光部材１０６及び１０９を駆動する際に、その目標位置が位置決め精度を要求されない第１領域であれば、目標位置から位置ずれ量が閾値を超えていても、即ち、位置ずれ量にかかわらず、第２駆動制御を行わない。また、本実施形態では、第２駆動制御において、第１駆動制御と比べて、遮光部材１０６及び１０９を高い分解能で駆動するため、遮光部材１０６及び１０９の位置決め精度を向上させることができる。なお、第２駆動制御において遮光部材１０６及び１０９を駆動する分解能によって、遮光部材１０６及び１０９の最終的な位置決め精度が決定されるため、第１駆動制御においては、遮光部材１０６及び１０９を低い分解能で高速駆動することが可能である。

【0056】

本実施形態によれば、第２駆動制御において、遮光部材１０６及び１０９を高分解能で目標位置に向けて駆動し、目標位置が位置決め精度を要求されない第１領域である場合には、目標位置からの位置ずれ量にかかわらず、第２駆動制御を行わない。これにより、スループットを低下させずに、遮光部材１０６及び１０９を高精度に位置決めすることができる。

【0057】

＜第２実施形態＞
図７は、第２実施形態における駆動部１０７及び１１０の駆動制御を説明するためのフローチャートである。なお、Ｓ４０１乃至Ｓ４０５、及び、Ｓ４０７乃至Ｓ４１２については、図５に示すＳ３０１乃至Ｓ３０５、及び、Ｓ３０６乃至Ｓ３１１と同様であるため、ここでの詳細な説明は省略する。

【0058】

Ｓ４０５では、Ｓ４０７及びＳ４１１で用いられる閾値を設定する。かかる閾値は、第２駆動制御を行うかどうかを判定するために用いられる、Ｓ４０４で第１駆動制御を行った後の遮光部材１０６及び１０９の現在位置と目標位置とのずれ（位置ずれ量）に対する閾値である。このように、本実施形態では、Ｓ４０７及びＳ４１１で用いられる閾値は、Ｓ４０４で第１駆動制御を行った後に設定される。また、Ｓ４０２において、同一の基板上で複数の投影範囲が設定された場合には、複数の投影範囲のそれぞれに対して、詳細には、各投影範囲の近傍に設定される複数の第１領域に対して異なる閾値を設定してもよい。換言すれば、第１領域ごとに閾値を設定（変更）してもよい。このように、第１領域ごとに閾値を設定することで、第１領域の各々に要求される位置決め精度に応じて、不要な第２駆動制御が行われることを低減することができ、スループットの低下の抑制につながる。

【0059】

図８は、投影範囲からの距離が所定の距離以下となる第１領域に加えて、かかる第１領域に対する閾値をユーザが指定（設定）するための画面を表示するユーザインタフェースＵＩＢの一例を示す図である。ユーザインタフェースＵＩＢは、制御部１０２から表示部１１９に提供されて表示される。ユーザインタフェースＵＩＢには、例えば、基板ステージ１１２によって保持された基板１１１に対して設定された基板上の４つの投影範囲５０１が表示されている。この場合、基板上の投影範囲５０１の上下左右の領域Ｒ１～領域Ｒ１２の１２の領域が、投影範囲５０１の近傍の第１領域、即ち、遮光部材１０６及び１０９の高精度な位置決めの要否を設定することが可能な領域として設定可能である。また、図８に示すように、ユーザインタフェースＵＩＢには、領域Ｒ１～領域Ｒ１２のそれぞれに対応するチェックボックスと、領域Ｒ１～領域Ｒ１２のそれぞれに対応する閾値を指定（設定）するための数値欄が含まれる。ユーザは、ユーザインタフェースＵＩＡにおいて、領域Ｒ１～領域Ｒ１２のそれぞれに対応する数値欄に任意の数値を入力することによって、領域Ｒ１～領域Ｒ１２のそれぞれに対する閾値を自由に設定することができる。

【0060】

図８では、領域Ｒ１～領域Ｒ５に対する閾値として１５０μｍが設定され、領域Ｒ６、領域Ｒ７に対する閾値として６０μｍが設定され、領域Ｒ８～領域Ｒ１２に対する閾値として１５０μｍが設定（指定）されている。また、基板上の領域Ｒ１～領域Ｒ１２のうち、領域Ｒ４、領域Ｒ６、領域Ｒ７及び領域Ｒ９が第１領域として設定（指定）されている。従って、遮光部材１０６及び１０９の目標位置が領域Ｒ４、領域Ｒ６、領域Ｒ７及び領域Ｒ９に位置する場合、それぞれの領域に設定された閾値に応じて、第２駆動制御が行われる。なお、第１領域として設定されていない領域Ｒ１～領域Ｒ３、領域Ｒ５、領域Ｒ８、領域Ｒ１０～領域Ｒ１２については、閾値が設定されていても、かかる閾値は参照されることなく、第２駆動制御は行われない。

【0061】

本実施形態によれば、第１実施形態と同様に、スループットを低下させずに、遮光部材１０６及び１０９を高精度に位置決めすることができる。

【0062】

本発明の実施形態における物品の製造方法は、例えば、半導体素子、液晶表示素子、フラットパネルディスプレイ、ＭＥＭＳなどの物品を製造するのに好適である。かかる製造方法は、上述した露光装置１０１を用いて感光剤が塗布された基板を露光する工程と、露光された感光剤を現像する工程とを含む。また、現像された感光剤のパターンをマスクとして基板に対してエッチング工程やイオン注入工程などを行い、基板上に回路パターンが形成される。これらの露光、現像、エッチングなどの工程を繰り返して、基板上に複数の層からなる回路パターンを形成する。後工程で、回路パターンが形成された基板に対してダイシング（加工）を行い、チップのマウンティング、ボンディング、検査工程を行う。また、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、レジスト剥離など）を含みうる。本実施形態における物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。

【0063】

本発明は、上述の実施形態の１つ以上の機能を実現するプログラムを、ネットワーク又は記憶媒体を介してシステム又は装置に供給し、そのシステム又は装置のコンピュータにおける１つ以上のプロセッサがプログラムを読出し実行する処理でも実現可能である。また、１つ以上の機能を実現する回路（例えば、ＡＳＩＣ）によっても実現可能である。

【0064】

本明細書の開示は、以下の露光装置、制御方法及び物品の製造方法を含む。

【0065】

（項目１）
原版を介して基板を露光する露光装置であって、
前記基板に入射する露光光の範囲を制限するための遮光部材を駆動する駆動部と、
前記原版のパターン及び前記基板のショットレイアウトの少なくとも一方に基づいて、前記パターンが投影される前記基板上の投影範囲を設定する設定部と、
前記遮光部材が目標位置に位置するように、前記駆動部の駆動制御を行う制御部と、
を有し、
前記制御部は、
前記駆動部により前記遮光部材を第１分解能で前記目標位置に向けて駆動する第１駆動制御を行い、
前記目標位置を前記基板上に投影した目標投影位置が、前記投影範囲からの距離が所定の距離以下となる第１領域に位置する場合、前記第１駆動制御を行った後の前記遮光部材の位置と前記目標位置とのずれが閾値を超えていれば、前記駆動部により前記遮光部材を前記第１分解能よりも高い第２分解能で前記目標位置に向けて駆動する第２駆動制御を行い、
前記目標投影位置が、前記第１領域以外の第２領域に位置する場合、前記第１駆動制御を行った後の前記遮光部材の位置にかかわらず、前記第２駆動制御を行わない、
ことを特徴とする露光装置。

【0066】

（項目２）
前記駆動部は、前記遮光部材を駆動するためのモータを含み、
前記第１分解能及び前記第２分解能は、前記モータによる１パルスあたりの前記遮光部材の駆動量を表す分解能を含む、
ことを特徴とする項目１に記載の露光装置。

【0067】

（項目３）
前記制御部は、前記第１領域をユーザが指定するための画面を表示するユーザインタフェースを提供する、ことを特徴とする項目１又は２に記載の露光装置。

【0068】

（項目４）
前記ユーザインタフェースは、前記第１領域に加えて、前記閾値をユーザが指定するための画面を表示する、ことを特徴とする項目３に記載の露光装置。

【0069】

（項目５）
前記第１領域は、前記投影範囲からの距離が前記所定の距離以下となる、互いに異なる複数の第１領域を含む、ことを特徴とする項目１又は２に記載の露光装置。

【0070】

（項目６）
前記制御部は、前記複数の第１領域をユーザが指定するための画面を表示するユーザインタフェースを提供する、ことを特徴とする項目５に記載の露光装置。

【0071】

（項目７）
前記ユーザインタフェースは、前記複数の第１領域に加えて、前記複数の第１領域のそれぞれに対する前記閾値をユーザが指定するための画面を表示する、ことを特徴とする項目６に記載の露光装置。

【0072】

（項目８）
前記投影範囲は、前記原版を介した露光の結果を保証すべき領域を含む、ことを特徴とする項目１乃至７のうちいずれか１項目に記載の露光装置。

【0073】

（項目９）
前記投影範囲は、前記パターンに応じた回路を転写すべき領域を含む、ことを特徴とする項目１乃至８のうちいずれか１項目に記載の露光装置。

【0074】

（項目１０）
前記第１領域は、前記基板上のアライメントマークが設けられた領域を含む、ことを特徴とする項目１乃至９のうちいずれか１項目に記載の露光装置。

【0075】

（項目１１）
前記第１領域は、前記基板上の互いに隣接するショット領域の間の領域を含む、ことを特徴とする項目１乃至１０のうちいずれか１項目に記載の露光装置。

【0076】

（項目１２）
前記第２領域は、前記投影範囲外に位置して前記遮光部材を待機させる領域を含む、ことを特徴とする項目１乃至１１のうちいずれか１項目に記載の露光装置。

【0077】

（項目１３）
前記閾値は、前記第１駆動制御を行った後に設定される、ことを特徴とする項目１乃至１２のうちいずれか１項目に記載の露光装置。

【0078】

（項目１４）
原版を介して基板を露光する露光装置に用いられる、前記基板に入射する露光光の範囲を制限するための遮光部材を駆動する駆動部を制御する制御方法であって、
前記原版のパターン及び前記基板のショットレイアウトの少なくとも一方に基づいて、前記基板上の前記パターンが投影される投影範囲を設定する第１工程と、
前記遮光部材が目標位置に位置するように、前記駆動部の駆動制御を行う第２工程と、を有し、
前記第２工程では、
前記駆動部により前記遮光部材を第１分解能で前記目標位置に向けて駆動する第１駆動制御を行い、
前記目標位置を前記基板上に投影した目標投影位置が、前記投影範囲からの距離が所定の距離以下となる第１領域に位置する場合、前記第１駆動制御を行った後の前記遮光部材の位置と前記目標位置とのずれが閾値を超えていれば、前記駆動部により前記遮光部材を前記第１分解能よりも高い第２分解能で前記目標位置に向けて駆動する第２駆動制御を行い、
前記目標投影位置が、前記第１領域以外の第２領域に位置する場合、前記第１駆動制御を行った後の前記遮光部材の位置にかかわらず、前記第２駆動制御を行わない、
ことを特徴とする制御方法。

【0079】

（項目１５）
項目１乃至１３のうちいずれか１項目に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
露光した前記基板を現像する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。

【0080】

発明は上記実施形態に制限されるものではなく、発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、発明の範囲を公にするために請求項を添付する。

【符号の説明】

【0081】

１０１：露光装置 １０２：制御部 １０４：原版 １０６、１０９：遮光部材 １０７、１１０：駆動部 １１１：基板

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】