特開 2025-106805 マスク組立体およびそれを用いた有機発光素子の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2025106805

(43)【公開日】2025-07-16

(54)【発明の名称】マスク組立体およびそれを用いた有機発光素子の製造方法

(51)【国際特許分類】

   C23C 14/04 20060101AFI20250709BHJP

   H10K 59/10 20230101ALI20250709BHJP

   H10K 71/16 20230101ALI20250709BHJP

【ＦＩ】

C23C14/04 A

H10K59/10

H10K71/16 166

【審査請求】未請求

【請求項の数】24

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2024228589

(22)【出願日】2024-12-25

(31)【優先権主張番号】10-2024-0001342

(32)【優先日】2024-01-04

(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR

(71)【出願人】

【識別番号】512187343

【氏名又は名称】三星ディスプレイ株式會社

【氏名又は名称原語表記】Ｓａｍｓｕｎｇ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．

【住所又は居所原語表記】１， Ｓａｍｓｕｎｇ－ｒｏ， Ｇｉｈｅｕｎｇ－ｇｕ， Ｙｏｎｇｉｎ－ｓｉ， Ｇｙｅｏｎｇｇｉ－ｄｏ， Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ Ｋｏｒｅａ

(74)【代理人】

【識別番号】100121382

【弁理士】

【氏名又は名称】山下 託嗣

(72)【発明者】

【氏名】ジョン，ダ フィ

(72)【発明者】

【氏名】パク，サン ハ

【テーマコード（参考）】

3K107

4K029

【Ｆターム（参考）】

3K107AA01

3K107BB01

3K107CC45

3K107FF15

3K107GG04

3K107GG33

4K029AA09

4K029AA24

4K029BA62

4K029BB03

4K029BD01

4K029CA01

4K029HA02

4K029HA03

4K029HA04

(57)【要約】

【課題】マスク組立体およびそれを用いた有機発光素子の製造方法が提供される。
【解決手段】一実施形態によるマスク組立体は、マスクフレーム、前記マスクフレーム上に配置され、前記マスクフレームの短辺に沿った方向に配置される複数の短辺スティック、前記複数の短辺スティック上に配置され、前記マスクフレームの長辺に沿った方向に配置される複数の長辺スティック、および前記複数の長辺スティック上に配置される蒸着マスクを含み、前記複数の長辺スティックは前記マスクフレームの前記長辺と隣接するように配置された第１長辺スティック、および前記マスクフレームの前記長辺と離隔するように配置された第２長辺スティックを含み、前記第１長辺スティックは前記蒸着マスクの開口部の一部分をマスキングするように前記マスクフレームの短辺方向に延びた羽根部を含み、前記マスクフレームの長辺は前記羽根部が据え付けられる羽根溝を含む。
【選択図】図１０

【特許請求の範囲】

【請求項1】

マスク組立体において、
マスクフレーム；
前記マスクフレーム上に配置され、前記マスクフレームの短辺に沿った方向に配置される複数の短辺スティック；
前記複数の短辺スティック上に配置され、前記マスクフレームの長辺に沿った方向に配置される複数の長辺スティック；および
前記複数の長辺スティック上に配置される蒸着マスクを含み、
前記複数の長辺スティックは、前記マスクフレームの前記長辺と隣接するように配置された第１長辺スティック、および、前記マスクフレームの前記長辺と離隔するように配置された第２長辺スティックを含み、
前記第１長辺スティックは、前記蒸着マスクの開口部の一部分をマスキングするように前記マスクフレームの短辺への方向へと延びた羽根部を含み、
前記マスクフレームの長辺は、前記羽根部が据え付けられる羽根溝を含む、マスク組立体。

【請求項2】

前記マスクフレームの短辺は、前記複数の長辺スティックのそれぞれの端部が据え付けられる長辺スティック溝を含み、
前記マスクフレームの長辺は、前記複数の短辺スティックのそれぞれの端部が据え付けられる短辺スティック溝を含む、請求項１に記載のマスク組立体。

【請求項3】

前記羽根溝と前記短辺スティック溝とは、互いに重なるように配置される、請求項２に記載のマスク組立体。

【請求項4】

前記短辺スティック溝に、前記短辺スティックの端部が据え付けられ、
前記羽根部は、前記短辺スティック溝の上方に位置した前記羽根溝に据え付けられる、請求項３に記載のマスク組立体。

【請求項5】

前記羽根部は、前記羽根溝に据え付けられる第１羽根部、および、前記長辺スティックの延長方向を基準として前記第１羽根部と線対称に配置される第２羽根部を含む、請求項４に記載のマスク組立体。

【請求項6】

前記長辺スティック溝の高さは、前記羽根溝の高さと同じである、請求項２に記載のマスク組立体。

【請求項7】

前記羽根溝の幅は、前記短辺スティック溝の幅より大きい、請求項２に記載のマスク組立体。

【請求項8】

前記マスクフレームの内側の側面から延びる前記羽根溝の第１長さは、前記マスクフレームの内側の側面から延びる前記長辺スティック溝の第２長さより短い、請求項２に記載のマスク組立体。

【請求項9】

前記蒸着マスクは前記マスクフレームの短辺に沿った方向に配置される、請求項１に記載のマスク組立体。

【請求項10】

前記蒸着マスクは、
前記蒸着マスクの両端部に位置する固定部；
前記固定部の間に位置し、複数のパターン開口を含む少なくとも一つの蒸着パターン部；および
前記蒸着パターン部の周辺に位置するリブ部を含む、請求項１に記載のマスク組立体。

【請求項11】

マスク組立体において、
マスクフレーム；
前記マスクフレーム上に配置され、前記マスクフレームの長辺に沿った方向に配置される複数の長辺スティック；
前記複数の長辺スティック上に配置され、前記マスクフレームの短辺に沿った方向に配置される複数の短辺スティック；および
前記複数の短辺スティック上に配置される蒸着マスクを含み、
前記複数の長辺スティックは、前記マスクフレームの前記長辺と隣接するように配置された第１長辺スティック、および、前記マスクフレームの前記長辺と離隔するように配置された第２長辺スティックを含み、
前記第１長辺スティックは、前記蒸着マスクの開口部の一部分をマスキングするように前記マスクフレームの短辺への方向へと延びた羽根部を含み、
前記マスクフレームの長辺は前記羽根部が据え付けられる羽根溝を含む、マスク組立体。

【請求項12】

前記マスクフレームの短辺は、前記複数の長辺スティックのそれぞれの端部が据え付けられる長辺スティック溝を含み、
前記マスクフレームの長辺は、前記複数の短辺スティックのそれぞれの端部が据え付けられる短辺スティック溝を含む、請求項１１に記載のマスク組立体。

【請求項13】

前記羽根溝と前記短辺スティック溝とは互いに重なるように配置される、請求項１２に記載のマスク組立体。

【請求項14】

前記短辺スティック溝に前記短辺スティックの端部が据え付けられ、
前記羽根部は、前記短辺スティック溝の下方に位置した前記羽根溝に据え付けられる、請求項１３に記載のマスク組立体。

【請求項15】

前記羽根部は、前記羽根溝に据え付けられる第１羽根部、および前記長辺スティックの延長方向を基準として前記第１羽根部と対称に配置される第２羽根部を含む、請求項１４に記載のマスク組立体。

【請求項16】

前記長辺スティック溝の高さは前記羽根溝の高さと同じである、請求項１２に記載のマスク組立体。

【請求項17】

前記羽根溝の幅は、前記短辺スティック溝の幅より大きい、請求項１２に記載のマスク組立体。

【請求項18】

前記マスクフレームの内側の側面から延びる前記羽根溝の第１長さは、前記マスクフレームの内側の側面から延びる前記長辺スティック溝の第２長さより短い、請求項１２に記載のマスク組立体。

【請求項19】

前記蒸着マスクは、前記マスクフレームの短辺に沿った方向に配置される、請求項１１に記載のマスク組立体。

【請求項20】

前記蒸着マスクは、
前記蒸着マスクの両端部に位置する固定部；
前記固定部の間に位置し、複数のパターン開口を含む少なくとも一つの蒸着パターン部；および
前記蒸着パターン部の周辺に位置するリブ部を含む、請求項１１に記載のマスク組立体。

【請求項21】

有機発光素子の製造方法において、
マスク組立体の一面上に基板を配置する段階；
前記マスク組立体の他面と対向するように蒸着源を配置する段階；および
前記蒸着源に収容された蒸着物質を気化し、前記気化した蒸着物質が前記マスク組立体を通過して前記基板に蒸着されるようにする段階を含み、
前記マスク組立体は、
マスクフレーム；
前記マスクフレーム上に配置され、前記マスクフレームの短辺に沿った方向に配置される複数の短辺スティック；
前記複数の短辺スティック上に配置され、前記マスクフレームの長辺に沿った方向に配置される複数の長辺スティック；および
前記複数の長辺スティック上に配置される蒸着マスクを含み、
前記複数の長辺スティックは、前記マスクフレームの前記長辺と隣接するように配置された第１長辺スティック、および、前記マスクフレームの前記長辺と離隔するように配置された第２長辺スティックを含み、
前記第１長辺スティックは、前記蒸着マスクの開口部の一部分をマスキングするように前記マスクフレームの短辺への方向へと延びた羽根部を含み、
前記マスクフレームの長辺は、前記羽根部が据え付けられる羽根溝を含む、有機発光素子の製造方法。

【請求項22】

前記マスクフレームの短辺は、前記複数の長辺スティックのそれぞれの端部が据え付けられる長辺スティック溝を含み、
前記マスクフレームの長辺は、前記複数の短辺スティックのそれぞれの端部が据え付けられる短辺スティック溝を含む、請求項２１に記載の有機発光素子の製造方法。

【請求項23】

前記羽根溝と前記短辺スティック溝とは互いに重なるように配置される、請求項２２に記載の有機発光素子の製造方法。

【請求項24】

前記短辺スティック溝に前記短辺スティックの端部が据え付けられ、
前記羽根部は、前記短辺スティック溝の上方に位置した前記羽根溝に据え付けられる、請求項２３に記載の有機発光素子の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、マスク組立体およびそれを用いた有機発光素子の製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

有機発光表示装置は、自発光素子である有機発光素子が放出する光を用いて映像表示を実現する。対向する電極層の間に介在する発光層などを含む有機発光素子は正孔と電子が再結合して生成されたエキシトンが励起状態から基底状態に変化して光を放出することができる。

【0003】

前記電極層および／または発光層などを製造する方法としては、蒸着マスクを用いる蒸着工程を例示することができる。例えば、形成しようとする層のパターンと実質的に同じ形状のパターン開口を有する蒸着マスクを基板上に整列し、蒸着用物質を、蒸着マスクの開口部を介して基板上に蒸着して、所望する形状のパターン層を形成することができる。蒸着マスクは、マスクフレームにより支持されて基板上に密着することができる。

【0004】

一方、有機発光表示装置がますます高解像度化されるにつれて、有機発光素子の電極および発光層の大きさが小さくなり、そのため、より精密な蒸着方法が求められる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】韓国公開特許第2019-0142460号公報(KR2019-0142460A)

【特許文献2】韓国公開特許第2017-0086160号公報(KR2017-0086160A)

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

本発明が解決しようとする課題は、蒸着マスクを安定的に支持することによって、蒸着工程の精密度を高めることができるマスク組立体およびそれを用いた有機発光素子の製造方法を提供することにある。

【0007】

本発明の課題は以上で言及した課題に制限されず、言及されていないまた他の技術的課題は以下の記載から当業者に明確に理解されるものである。

【課題を解決するための手段】

【0008】

前記課題を解決するための一実施形態によるマスク組立体は、マスクフレーム、前記マスクフレーム上に配置され、前記マスクフレームの短辺に沿った方向に(延びるように)配置される複数の短辺スティック、前記複数の短辺スティック上に配置され、前記マスクフレームの長辺に沿った方向に(延びるように)配置される複数の長辺スティック、および、前記複数の長辺スティック上に配置される蒸着マスクを含み、前記複数の長辺スティックは前記マスクフレームの前記長辺と隣接するように配置された第１長辺スティック、および前記マスクフレームの前記長辺と離隔するように配置された第２長辺スティックを含み、前記第１長辺スティックは、前記蒸着マスクの開口部の一部分をマスキングするように、前記マスクフレームの短辺への方向へと延びた羽根部を含み、前記マスクフレームの長辺(長辺をなす部分)は、前記羽根部が据え付けられる羽根溝を含む。本願において、「溝」の語は、細長い線状のものに限らず、スティックの端部を組み付けるための凹部または穴を意味するものとする。

【0009】

前記マスクフレームの短辺(長方形フレームの短辺部分)は、前記複数の長辺スティックのそれぞれの端部が据え付けられる長辺スティック溝を含み、前記マスクフレームの長辺(長方形フレームの長辺部分)は前記複数の短辺スティックのそれぞれの端部が据え付けられる短辺スティック溝を含む。

【0010】

前記羽根溝と前記短辺スティック溝とは、互いに重なるように配置される。

【0011】

前記短辺スティック溝に前記短辺スティックの端部が安着し、前記羽根部は、前記短辺スティック溝の上方に位置した前記羽根溝に据え付けられる。

【0012】

前記羽根部は、前記羽根溝に据え付けられる第１羽根部、および、前記長辺スティックの延長方向を基準として前記第１羽根部と線対称に配置される第２羽根部を含む。

【0013】

前記長辺スティック溝の高さは前記羽根溝の高さと同じである。

【0014】

前記羽根溝の幅は、前記短辺スティック溝の幅より大きい。本願において、「溝の幅」の語は、マスクフレームにおける短辺部分上の溝である場合には、この短辺部分に沿った方向の寸法を意味し、マスクフレームにおける短辺部分上の溝である場合には、この短辺部分に沿った方向の寸法を意味するものとする。

【0015】

前記マスクフレームの内側側面から延びる前記羽根溝の第１長さは、前記マスクフレームの内側側面から延びる前記長辺スティック溝の第２長さより短い。

【0016】

前記蒸着マスクは前記マスクフレームの短辺に沿った方向に配置される。

【0017】

前記蒸着マスクは、前記蒸着マスクの両端部に位置する固定部、前記固定部の間に位置し、複数のパターン開口を含む少なくとも一つの蒸着パターン部、および前記蒸着パターン部の周辺に位置するリブ部を含む。

【0018】

前記課題を解決するための一実施形態によるマスク組立体は、マスクフレーム、前記マスクフレーム上に配置され、前記マスクフレームの長辺に沿った方向に配置される複数の長辺スティック、前記複数の長辺スティック上に配置され、前記マスクフレームの短辺に沿った方向に配置される複数の短辺スティック、および前記複数の短辺スティック上に配置される蒸着マスクを含み、前記複数の長辺スティックは前記マスクフレームの前記長辺と隣接するように配置された第１長辺スティック、および前記マスクフレームの前記長辺と離隔するように配置された第２長辺スティックを含み、前記第１長辺スティックは前記蒸着マスクの開口部の一部分をマスキングするように前記マスクフレームの短辺への方向へと延びた羽根部を含み、前記マスクフレームの長辺は前記羽根部が据え付けられる羽根溝を含む。

【0019】

前記マスクフレームの短辺は、前記複数の長辺スティックのそれぞれの端部が据え付けられる長辺スティック溝を含み、前記マスクフレームの長辺は、前記複数の短辺スティックのそれぞれの端部が据え付けられる短辺スティック溝を含む。

【0020】

前記羽根溝と前記短辺スティック溝とは互いに重なるように配置される。

【0021】

前記短辺スティック溝に前記短辺スティックの端部が据え付けられ、前記羽根部は前記短辺スティック溝の下部に位置した前記羽根溝に据え付けられる。

【0022】

前記羽根部は、前記羽根溝に据え付けられる第１羽根部、および前記長辺スティックの延長方向を基準として前記第１羽根部と対称に配置される第２羽根部を含む。

【0023】

前記長辺スティック溝の高さは前記羽根溝の高さと同じである。

【0024】

前記羽根溝の幅は前記短辺スティック溝の幅より大きい。

【0025】

前記マスクフレームの内側の側面から延びる前記羽根溝の第１長さは、前記マスクフレームの内側側面から延びる前記長辺スティック溝の第２長さより短い。

【0026】

前記蒸着マスクは前記マスクフレームの短辺に沿った方向に配置される。

【0027】

前記蒸着マスクは、前記蒸着マスクの両端部に位置する固定部、前記固定部の間に位置し、複数のパターン開口を含む少なくとも一つの蒸着パターン部、および前記蒸着パターン部の周辺に位置するリブ部を含む。

【0028】

前記課題を解決するための一実施形態による有機発光素子の製造方法は、マスク組立体の一面上に基板を配置する段階、前記マスク組立体の他面と対向するように蒸着源を配置する段階、および前記蒸着源に収容された蒸着物質を気化し、前記気化した蒸着物質が前記マスク組立体を通過して前記基板に蒸着されるようにする段階を含み、前記マスク組立体は、マスクフレーム、前記マスクフレーム上に配置され、前記マスクフレームの短辺に沿った方向に配置される複数の短辺スティック、前記複数の短辺スティック上に配置され、前記マスクフレームの長辺に沿った方向に配置される複数の長辺スティック、および前記複数の長辺スティック上に配置される蒸着マスクを含み、前記複数の長辺スティックは前記マスクフレームの前記長辺と隣接するように配置された第１長辺スティック、および前記マスクフレームの前記長辺と離隔するように配置された第２長辺スティックを含み、前記第１長辺スティックは前記蒸着マスクの開口部の一部分をマスキングするように前記マスクフレームの短辺への方向へと延びた羽根部を含み、前記マスクフレームの長辺は前記羽根部が据え付けられる羽根溝を含む。

【0029】

前記マスクフレームの短辺は前記複数の長辺スティックそれぞれの端部が据え付けられる長辺スティック溝を含み、前記マスクフレームの長辺は前記複数の短辺スティックそれぞれの端部が据え付けられる短辺スティック溝を含む。

【0030】

前記羽根溝と前記短辺スティック溝は互いに重なるように配置される。

【0031】

前記短辺スティック溝に前記短辺スティックの端部が据え付けられ、前記羽根部は前記短辺スティック溝の上部に位置した前記羽根溝に据え付けられる。

【0032】

その他実施形態の具体的な内容は、詳細な説明および図面に含まれている。

【発明の効果】

【0033】

実施形態によるマスク組立体およびそれを用いた有機発光素子の製造方法によれば、蒸着マスクを安定的に支持することによって、蒸着工程の精密度を高めることができる。

【0034】

実施形態による効果は以上で例示した内容によって制限されず、より多様な効果が本明細書内に含まれている。

【図面の簡単な説明】

【0035】

【図1】一実施形態による表示装置の平面図である。

【図2】一実施形態による表示装置の断面図である。

【図3】一実施形態による表示装置の平面図である。

【図4】一実施形態による表示パネルの表示領域の一部分を切断した断面構造を示す図である。

【図5】一実施形態によるマスク組立体の斜視図である。

【図6】一実施形態によるマスク組立体の分解斜視図である。

【図7】一実施形態による蒸着マスクの斜視図である。

【図8】比較例によるマスク組立体の平面図である。

【図9】比較例による長辺スティックの反りを説明する図である。

【図10】一実施形態によるマスク組立体の一部分を概略的に示す斜視図である。

【図11】図１０のＡ－Ａ’線に沿ったマスク組立体の断面図である。

【図12】一実施形態による羽根溝の長さを説明する図である。

【図13】一実施形態によるマスク組立体の分解斜視図である。

【図14】図１３に示す一実施形態によるマスク組立体の一部分を概略的に示す斜視図である。

【図15】図１４のＢ－Ｂ’線に沿ったマスク組立体の断面図である。

【図16】一実施形態によるマスク組立体を用いた蒸着工程を示す概略図である。

【発明を実施するための形態】

【0036】

本発明の利点および特徴、並びにこれらを達成する方法は添付する図面と共に詳細に後述する実施形態を参照すると明確になる。しかし、本発明は、以下に開示する実施形態に限定されるものではなく、互いに異なる多様な形態で実現することができ、本実施形態は、単に本発明の開示を完全にし、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に発明の範疇を完全に知らせるために提供するものであり、本発明は請求項の範疇によってのみ定義される。

【0037】

素子（ｅｌｅｍｅｎｔｓ）または層が他の素子または層の「上（ｏｎ）」と称される場合は、他の素子のすぐ上または中間に他の層または他の素子が介在する場合をすべて含む。明細書全体にわたって同一参照符号は同一構成要素を指すものとする。実施形態を説明するための図面に開示された形状、大きさ、比率、角度、個数などは例示的なものであるから、本発明が図示された事項に限定されるものではない。

【0038】

第１、第２などが多様な構成要素を叙述するために使われるが、これらの構成要素はこれらの用語によって制限されないのはもちろんである。これらの用語は単に一つの構成要素を他の構成要素と区別するために使用する。したがって、以下で言及される第１構成要素は本発明の技術的思想内で第２構成要素であり得るのはもちろんである。

【0039】

本発明の様々な実施形態のそれぞれ特徴が部分的にまたは全体的に互いに結合または組み合わせることが可能であり、技術的に多様な連動および駆動が可能であり、各実施形態が互いに対して独立して実施することもでき、互いに連携して実施することもできる。

【0040】

以下、添付する図面を参照して具体的な実施形態について説明する。

【0041】

図１は一実施形態による表示装置１の平面図である。図２は一実施形態による表示装置１の断面図である。図３は一実施形態による表示装置１の平面図である。例えば、図３はサブ領域ＳＲがベンディング領域ＢＲの一端部からベンディングされた状態を示す図であり得る。

【0042】

図１の平面図では、説明の便宜上、上、下、左、右の方向が定義されている。上下方向は縦方向または列方向として第１方向ＤＲ１、左右方向は横方向または行方向として第２方向ＤＲ２、垂直方向は第３方向ＤＲ３と定義する。

【0043】

表示装置１は動画や静止映像を表示する装置であり得る。表示装置１は、モバイルフォン、スマートフォン、タブレットＰＣ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ Ｃｏｍｐｕｔｅｒ）、およびスマートウォッチ、ウォッチフォン、移動通信端末機、電子手帳、電子ブック、ＰＭＰ（Ｐｏｒｔａｂｌｅ Ｍｕｌｔｉｍｅｄｉａ Ｐｌａｙｅｒ）、ナビゲーション、ＵＭＰＣ（Ｕｌｔｒａ Ｍｏｂｉｌｅ ＰＣ）などといった携帯用電子機器だけでなくテレビ、ノートパソコン、モニター、広告板、モノのインターネットなどの多様な製品に適用することができる。表示装置１の例としては、有機発光表示装置、液晶表示装置、プラズマ表示装置、電界放出表示装置、電気泳動表示装置、エレクトロウェッティング表示装置、量子ドット発光表示装置、マイクロＬＥＤ表示装置などであり得る。以下では、表示装置１として、有機発光表示装置を例として説明するが、実施形態はそれに制限されるものではない。

【0044】

図１ないし図３を参照すると、一実施形態による表示装置１は表、示パネル１０を含み得る。表示パネル１０はポリイミドなどのような可撓性高分子物質を含む基板ＳＵＢを含み得る。そのため、表示パネル１０は反ったり、折り曲げられたり、折り畳まれたり、丸められたりすることができる。

【0045】

表示パネル１０は、メイン領域ＭＲ、メイン領域ＭＲの一側から延びるベンディング領域ＢＲ、及び、ベンディング領域ＢＲの一側から延びるサブ領域ＳＲを含み得る。ベンディング領域ＢＲは、メイン領域ＭＲとサブ領域ＳＲとの間に配置される領域であり、指定された曲率でベンディングされた状態を有することができる。サブ領域ＳＲは、ベンディング領域ＢＲがベンディングされることにより、メイン領域ＭＲと厚さ方向（例：第３方向ＤＲ３）に重なるように配置され得る。

【0046】

表示パネル１０における画面を表示する表示領域ＤＡは、メイン領域ＭＲ内に配置される。表示パネル１０における画面を表示しない非表示領域ＮＤＡは、表示領域ＤＡを除く残りの領域であり得る。メイン領域ＭＲは、概して、表示装置１の平面上の外形と類似の形状を有することができる。メイン領域ＭＲは、一平面に位置する平坦領域であり得る。

【0047】

表示パネル１０の表示領域ＤＡは、メイン領域ＭＲの中央部に配置され得る。表示領域ＤＡは、複数の画素を含み得る。表示領域ＤＡは、長方形形状または隅角が丸められた長方形形状を有することができる。

【0048】

メイン領域ＭＲにおける表示領域ＤＡの周辺には、非表示領域ＮＤＡが位置し得る。メイン領域ＭＲの非表示領域ＮＤＡは、表示領域ＤＡの外側境界から表示パネル１０のエッジまでの領域に置かれ得る。メイン領域ＭＲの非表示領域ＮＤＡには、表示領域ＤＡに信号を印加するための信号配線や駆動回路が配置され得る。

【0049】

ベンディング領域ＢＲは、メイン領域ＭＲの一端部と連結され得る。ベンディング領域ＢＲの幅は、メイン領域ＭＲの幅（短辺の幅）より小さくてもよい。ベンディング領域ＢＲにて、表示パネル１０は、厚さ方向に下側方向、例えば、表示面の逆方向に曲率を有してベンディングされることができる。

【0050】

サブ領域ＳＲは、ベンディング領域ＢＲの一端部からメイン領域ＭＲと平行な方向に延び得る。サブ領域ＳＲは表示パネル１０の厚さ方向にメイン領域ＭＲと重なり得る。サブ領域ＳＲはメイン領域ＭＲのエッジの非表示領域ＮＤＡと重なり、さらにメイン領域ＭＲの表示領域ＤＡにまで重なり得る。

【0051】

表示パネル１０のサブ領域ＳＲ上には駆動チップ２０が配置され得る。駆動チップ２０は表示パネル１０を駆動する集積回路を含み得る。駆動チップ２０はサブ領域ＳＲで表示パネル１０に実装し得る。

【0052】

駆動チップ２０は異方性導電フィルムにより表示パネル１０上に付着するか、超音波接合ボンディングにより表示パネル１０上に付着し得る。

【0053】

表示パネル１０のサブ領域ＳＲの端部にはパッド部（図示せず）が配置され得る。表示パネル１０はパッド部を介して表示駆動基板３０と連結され得る。表示駆動基板３０はフレキシブル印刷回路基板やフィルムであり得る。

【0054】

サブ領域ＳＲ、ベンディング領域ＢＲおよびメイン領域ＭＲには複数の信号配線が配置され得る。信号配線はメイン領域ＭＲからベンディング領域ＢＲを経てサブ領域ＳＲのパッド部に延び得る。

【0055】

このように、図１ないし図３に示す一実施形態による表示装置１は、表示パネル１０のベンディング領域ＢＲがベンディングされることにより、パッド部および駆動チップ２０が配置されるサブ領域ＳＲが厚さ方向に下側方向に向かうように配置する。

【0056】

図４は一実施形態による表示パネル１０の表示領域ＤＡの一部分を切断した断面構造を示す図である。

【0057】

図４を参照した説明における「～上に」という表現は、表示パネル１０の前面が向かう第３方向ＤＲ３を意味する。表示パネル１０の前面は表示パネル１０に含まれた発光素子が映像を表示するための光を放出する方向を意味する。

【0058】

図４を参照すると、表示パネル１０はフレキシブルな基板ＳＵＢをベース基板とする。基板ＳＵＢは高分子樹脂などの絶縁物質からなる。例えば、基板ＳＵＢはポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）からなる。したがって、基板ＳＵＢは、ベンディング（ｂｅｎｄｉｎｇ）、フォールディング（ｆｏｌｄｉｎｇ）、ローリング（ｒｏｌｌｉｎｇ）などが可能である。基板ＳＵＢは、第１基板ＳＵＢ１および第２基板ＳＵＢ２とそれらの間に配置されたバリア膜ＢＲを含むマルチ層を含み得る。例えば、表示パネル１０の基板ＳＵＢは、第１基板ＳＵＢ１、第１基板ＳＵＢ１上に配置されたバリア膜ＢＲ、及び、バリア膜ＢＲ上に配置された第２基板ＳＵＢ２を含む。第１基板ＳＵＢ１および第２基板ＳＵＢ２は、ポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）といったフレキシブルな材質を含むことができる。

【0059】

バリア膜ＢＲは、浸透する水分から薄膜トランジスタ層ＴＦＴＬのトランジスタと発光素子層ＥＭＬの発光層１７２を保護するための膜である。バリア膜ＢＲは、交互に積層された複数の無機膜９１１からなる。例えば、バリア膜ＢＲは、シリコンナイトライド層、シリコンオキシナイトライド層、シリコンオキシド層、チタンオキシド層、およびアルミニウムオキシド層のうちの一つ以上の無機膜９１１が交互に積層された多重(積層)膜で形成されうる。

【0060】

第２基板ＳＵＢ２上には、薄膜トランジスタを含む薄膜トランジスタ層ＴＦＴＬ、発光素子ＬＥＬを含む発光素子層ＥＭＬ、発光素子ＬＥＬを封止する封止層ＴＦＥＬ、およびタッチ感知部ＴＤＵが順次積層され得る。図示していないが、表示パネル１０の非表示領域ＮＤＡには、図４に示す少なくとも一部の層が配置されなくてもよい。薄膜トランジスタ層ＴＦＴＬ、発光素子層ＥＭＬ、および封止層ＴＦＥＬは、画像を表示するための機能を遂行するため、表示部ＤＵと命名できるが、その名称はこれに制限されない。

【0061】

第２基板ＳＵＢ２上には、各画素を駆動するための画素駆動回路の薄膜トランジスタが配置される。図４は、画素駆動回路の薄膜トランジスタのうちの任意の第１薄膜トランジスタＴＦＴ１を示す。例えば、第１薄膜トランジスタＴＦＴ１は、画素駆動回路において駆動トランジスタの役割を果たすことができる。

【0062】

第１薄膜トランジスタＴＦＴ１は、第１アクティブ層ＡＣＴ１と第１ゲート電極Ｇ１を含み得る。第１アクティブ層ＡＣＴ１は、多結晶シリコン、単結晶シリコン、低温多結晶シリコン、非晶質シリコン、または酸化物半導体を含むことができる。

【0063】

第１アクティブ層ＡＣＴ１は、第１ソース領域Ｓ１、および第１ドレイン領域Ｄ１を含み得る。第１チャネル領域ＣＨＡ１は基板ＳＵＢの厚さ方向である第３方向ＤＲ３で第１ゲート電極Ｇ１と重なる領域であり得る。第１ソース領域Ｓ１は第１アクティブ層ＡＣＴ１の一側に配置され、第１ドレイン領域Ｄ１は第１アクティブ層ＡＣＴ１の他側に配置され得る。第１ソース領域Ｓ１と第１ドレイン領域Ｄ１は、第３方向ＤＲ３で第１ゲート電極Ｇ１と重ならない領域であり得る。第１ソース領域Ｓ１と第１ドレイン領域Ｄ１は、シリコン半導体または酸化物半導体にイオンまたは不純物がドープされて導電性を有する領域であり得る。

【0064】

第１薄膜トランジスタＴＦＴ１の第１アクティブ層ＡＣＴ１上にはゲート絶縁膜１３０が配置され得る。ゲート絶縁膜１３０は、無機膜、例えばシリコンナイトライド層、シリコンオキシナイトライド層、シリコンオキシド層、チタンオキシド層、またはアルミニウムオキシド層で形成されることができる。

【0065】

ゲート絶縁膜１３０上には、第１薄膜トランジスタＴＦＴ１の第１ゲート電極Ｇ１と第１キャパシタ電極ＣＡＥ１が配置され得る。第１ゲート電極Ｇ１は第３方向ＤＲ３で第１アクティブ層ＡＣＴ１と重なり得る。図４では、第１ゲート電極Ｇ１と第１キャパシタ電極ＣＡＥ１とが、互いに離れて配置された場合が示されているが、第１ゲート電極Ｇ１と第１キャパシタ電極ＣＡＥ１とは、互いに連結されてもよい。第１ゲート電極Ｇ１と第１キャパシタ電極ＣＡＥ１は、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）、チタン（Ｔｉ）、ニッケル（Ｎｉ）、ネオジム（Ｎｄ）および銅（Ｃｕ）のいずれか一つ、またはこれらの合金からなる単一層または多重層で形成されうる。

【0066】

第１薄膜トランジスタＴＦＴ１の第１ゲート電極Ｇ１と第１キャパシタ電極ＣＡＥ１の上には、層間絶縁膜１４０が配置され得る。具体的には、第１薄膜トランジスタＴＦＴ１の第１ゲート電極Ｇ１と第１キャパシタ電極ＣＡＥ１上には第１層間絶縁膜１４１が配置され得る。第１層間絶縁膜１４１は無機膜、例えばシリコンナイトライド層、シリコンオキシナイトライド層、シリコンオキシド層、チタンオキシド層、またはアルミニウムオキシド層で形成されうる。第１層間絶縁膜１４１は複数の無機膜で形成されうる。

【0067】

第１層間絶縁膜１４１上には第２キャパシタ電極ＣＡＥ２が配置され得る。第２キャパシタ電極ＣＡＥ２は第３方向ＤＲ３で第１薄膜トランジスタＴＦＴ１の第１キャパシタ電極ＣＡＥ１と重なり得る。第１キャパシタ電極ＣＡＥ１が第１ゲート電極Ｇ１と連結された場合、第２キャパシタ電極ＣＡＥ２は第３方向ＤＲ３で第１ゲート電極Ｇ１と重なり得る。第１層間絶縁膜１４１が所定の誘電率を有するので、第１キャパシタ電極ＣＡＥ１、第２キャパシタ電極ＣＡＥ２、およびそれらの間に配置された第１層間絶縁膜１４１によりキャパシタが形成されうる。第２キャパシタ電極ＣＡＥ２は、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）、チタン（Ｔｉ）、ニッケル（Ｎｉ）、ネオジム（Ｎｄ）および銅（Ｃｕ）のいずれか一つまたはこれらの合金からなる単一層または多重層で形成されうる。

【0068】

第２キャパシタ電極ＣＡＥ２上には第２層間絶縁膜１４２が配置され得る。第２層間絶縁膜１４２は無、機膜、例えばシリコンナイトライド層、シリコンオキシナイトライド層、シリコンオキシド層、チタンオキシド層、またはアルミニウムオキシド層で形成されることができる。第２層間絶縁膜１４２は複数の無機膜で形成されうる。

【0069】

第２層間絶縁膜１４２上には第１アノード連結電極ＡＮＤＥ１が配置され得る。第１アノード連結電極ＡＮＤＥ１は、ゲート絶縁膜１３０、第１層間絶縁膜１４１、および第２層間絶縁膜１４２を貫通する第１連結コンタクトホールＡＮＣＴ１を介して第１薄膜トランジスタＴＦＴ１の第１ドレイン領域Ｄ１に連結され得る。第１アノード連結電極ＡＮＤＥ１はモリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）、チタン（Ｔｉ）、ニッケル（Ｎｉ）、ネオジム（Ｎｄ）および銅（Ｃｕ）のいずれか一つまたはこれらの合金からなる単一層または多重層で形成されうる。

【0070】

第１アノード連結電極ＡＮＤＥ１上には、第１薄膜トランジスタＴＦＴ１による段差を平坦化するための第１平坦化膜１６０が配置され得る。第１平坦化膜１６０は、アクリル樹脂（ａｃｒｙｌ ｒｅｓｉｎ）、エポキシ樹脂（ｅｐｏｘｙ ｒｅｓｉｎ）、フェノール樹脂（ｐｈｅｎｏｌｉｃ ｒｅｓｉｎ）、ポリアミド樹脂（ｐｏｌｙａｍｉｄｅ ｒｅｓｉｎ）、ポリイミド樹脂（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ ｒｅｓｉｎ）などの有機膜で形成されうる。

【0071】

第１平坦化膜１６０上には第２アノード連結電極ＡＮＤＥ２が配置され得る。第２アノード連結電極ＡＮＤＥ２は、第１平坦化膜１６０を貫通する第２連結コンタクトホールＡＮＣＴ２を介して、第１アノード連結電極ＡＮＤＥ１に連結され得る。第２アノード連結電極ＡＮＤＥ２は、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）、チタン（Ｔｉ）、ニッケル（Ｎｉ）、ネオジム（Ｎｄ）および銅（Ｃｕ）のいずれか一つまたはこれらの合金からなる単一層または多重層で形成されうる。

【0072】

第２アノード連結電極ＡＮＤＥ２上には第２平坦化膜１８０が配置され得る。第２平坦化膜１８０は、アクリル樹脂（ａｃｒｙｌ ｒｅｓｉｎ）、エポキシ樹脂（ｅｐｏｘｙ ｒｅｓｉｎ）、フェノール樹脂（ｐｈｅｎｏｌｉｃ ｒｅｓｉｎ）、ポリアミド樹脂（ｐｏｌｙａｍｉｄｅ ｒｅｓｉｎ）、ポリイミド樹脂（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ ｒｅｓｉｎ）などの有機膜で形成されることができる。

【0073】

第２平坦化膜１８０上には発光素子ＬＥＬとバンク１９０が配置され得る。発光素子ＬＥＬのそれぞれは、画素電極１７１、発光層１７２、および共通電極１７３を含む。

【0074】

画素電極１７１は第２平坦化膜１８０上に配置され得る。画素電極１７１は、第２平坦化膜１８０を貫通する第３連結コンタクトホールＡＮＣＴ３を介して第２アノード連結電極ＡＮＤＥ２に連結され得る。

【0075】

発光層１７２を基準として共通電極１７３の方向へと発光する上部発光（ｔｏｐ ｅｍｉｓｓｉｏｎ）構造であって、画素電極１７１はアルミニウムとチタンの積層構造（Ｔｉ／Ａｌ／Ｔｉ）、アルミニウムとＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）の積層構造（ＩＴＯ／Ａｌ／ＩＴＯ）、ＡＰＣ合金、およびＡＰＣ合金とＩＴＯの積層構造（ＩＴＯ／ＡＰＣ／ＩＴＯ）のような反射率が高い金属物質で形成されうる。ＡＰＣ合金は、銀（Ａｇ）、パラジウム（Ｐｄ）、および銅（Ｃｕ）の合金である。

【0076】

バンク１９０は、各画素の発光領域、例えば発光部を画定(定義)するために第２平坦化膜１８０上で画素電極１７１を画するように形成されることができる。発光部（例：ＥＡ１，ＥＡ２）は画素電極１７１、発光層１７２、および共通電極１７３が順次積層されて画素電極１７１からの正孔と共通電極１７３からの電子が発光層１７２で再結合することによって発光する領域を示す。

【0077】

図４は、バンク１９０が、互いに隣接する第１画素の第１発光部ＥＡ１と、第２画素の第２発光部ＥＡ２とを区画することを例示的に示している。このようなバンク１９０は、画素電極１７１の縁を覆うように配置され得る。バンク１９０は、アクリル樹脂（ａｃｒｙｌ ｒｅｓｉｎ）、エポキシ樹脂（ｅｐｏｘｙ ｒｅｓｉｎ）、フェノール樹脂（ｐｈｅｎｏｌｉｃ ｒｅｓｉｎ）、ポリアミド樹脂（ｐｏｌｙａｍｉｄｅ ｒｅｓｉｎ）、ポリイミド樹脂（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ ｒｅｓｉｎ）などの有機膜で形成されうる。バンク１９０は、画素画定(定義)膜（ＰＤＬ：Ｐｉｘｅｌ Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ Ｌａｙｅｒ）と命名してもよい。図示していないが、表示パネル１０は、第１画素、第２画素、および第３画素を含む複数の画素を含む。例えば、第１画素は第１カラーを発光する第１発光部を含み、第２画素は第２カラーを発光する第２発光部を含み、第３画素は第３カラーを発光する第３発光部を含み得る。いくつかの実施形態によれば、複数の画素は第４画素をさらに含み得、第４画素は第４カラーを発光する第４発光部を含み得る。

【0078】

画素電極１７１とバンク１９０上には発光層１７２が配置され得る。発光層１７２は有機物質を含んで所定の色を発光し得る。例えば、発光層１７２は、正孔輸送層（ｈｏｌｅ ｔｒａｎｓｐｏｒｔｉｎｇ ｌａｙｅｒ）、有機物質層、および電子輸送層（ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｔｒａｎｓｐｏｒｔｉｎｇ ｌａｙｅｒ）を含む。

【0079】

共通電極１７３は発光層１７２上に配置され得る。共通電極１７３は、発光層１７２を覆うように配置され得る。共通電極１７３は第１発光部ＥＡ１、第２発光部ＥＡ２、および第３発光部（図示せず）に共通して配置される共通層であり得る。共通電極１７３上にはキャッピング層（ｃａｐｐｉｎｇ ｌａｙｅｒ）が形成され得る。

【0080】

上部発光構造において共通電極１７３は、光を透過させるＩＴＯ、ＩＺＯといった透明な金属物質（ＴＣＯ，Ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ Ｍａｔｅｒｉａｌ）、または、マグネシウム（Ｍｇ）、銀（Ａｇ）、またはマグネシウム（Ｍｇ）と銀（Ａｇ）の合金といった半透過金属物質（Ｓｅｍｉ－ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｖｅ Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ Ｍａｔｅｒｉａｌ）で形成されうる。共通電極１７３が半透過金属物質で形成される場合、マイクロキャビティ（ｍｉｃｒｏ ｃａｖｉｔｙ）により出光効率が高くなる。

【0081】

バンク１９０上にはスペーサ１９１が配置され得る。スペーサ１９１は、発光層１７２を製造する工程中にマスクを支持する役割をすることができる。スペーサ１９１は、アクリル樹脂（ａｃｒｙｌ ｒｅｓｉｎ）、エポキシ樹脂（ｅｐｏｘｙ ｒｅｓｉｎ）、フェノール樹脂（ｐｈｅｎｏｌｉｃ ｒｅｓｉｎ）、ポリアミド樹脂（ｐｏｌｙａｍｉｄｅ ｒｅｓｉｎ）、ポリイミド樹脂（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ ｒｅｓｉｎ）などの有機膜で形成されうる。

【0082】

共通電極１７３上には、封止層ＴＦＥＬが配置され得る。封止層ＴＦＥＬは、発光素子層ＥＭＬに酸素または水分が浸透することを防止するために、少なくとも一つの無機膜を含む。また、封止層ＴＦＥＬは、ゴミのような異物から発光素子層ＥＭＬを保護するために少なくとも一つの有機膜を含む。例えば、封止層ＴＦＥＬは第１封止無機膜ＴＦＥ１、封止有機膜ＴＦＥ２、および第２封止無機膜ＴＦＥ３を含む。

【0083】

第１封止無機膜ＴＦＥ１は共通電極１７３上に配置され、封止有機膜ＴＦＥ２は第１封止無機膜ＴＦＥ１上に配置され、第２封止無機膜ＴＦＥ３は封止有機膜ＴＦＥ２上に配置され得る。第１封止無機膜ＴＦＥ１と第２封止無機膜ＴＦＥ３は、シリコンナイトライド層、シリコンオキシナイトライド層、シリコンオキシド層、チタンオキシド層、およびアルミニウムオキシド層のうちの一つ以上の無機膜が、交互に積層された多重膜で形成されうる。封止有機膜ＴＦＥ２は、アクリル樹脂（ａｃｒｙｌ ｒｅｓｉｎ）、エポキシ樹脂（ｅｐｏｘｙ ｒｅｓｉｎ）、フェノール樹脂（ｐｈｅｎｏｌｉｃ ｒｅｓｉｎ）、ポリアミド樹脂（ｐｏｌｙａｍｉｄｅ ｒｅｓｉｎ）、ポリイミド樹脂（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ ｒｅｓｉｎ）などの有機膜であり得る。

【0084】

封止層ＴＦＥＬ上にはタッチ感知部ＴＤＵが配置され得る。タッチ感知部ＴＤＵは、相互静電容量方式のタッチセンサであるか、または自己静電容量方式のタッチセンサであり得る。図４は、相互静電容量方式のタッチセンサを示しているが、本発明はこれに制限されない。タッチ感知部ＴＤＵは、第１タッチ絶縁膜ＴＩＮＳ１、連結電極ＢＥ１、第２タッチ絶縁膜ＴＩＮＳ２、駆動電極ＴＥ、感知電極ＲＥ、および第３タッチ絶縁膜ＴＩＮＳ３を含む。

【0085】

第１タッチ絶縁膜ＴＩＮＳ１は、無機膜、例えばシリコンナイトライド層、シリコンオキシナイトライド層、シリコンオキシド層、チタンオキシド層、またはアルミニウムオキシド層で形成さうる。

【0086】

第１タッチ絶縁膜ＴＩＮＳ１上には、連結電極ＢＥ１が配置され得る。連結電極ＢＥ１は、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）、チタン（Ｔｉ）、ニッケル（Ｎｉ）、ネオジム（Ｎｄ）および銅（Ｃｕ）のいずれか一つまたはこれらの合金からなる、単一層または多重層で形成されうる。

【0087】

連結電極ＢＥ１上には、第２タッチ絶縁膜ＴＩＮＳ２が配置される。第２タッチ絶縁膜ＴＩＮＳ２は無機膜、例えばシリコンナイトライド層、シリコンオキシナイトライド層、シリコンオキシド層、チタンオキシド層、またはアルミニウムオキシド層で形成されることができる。または、第２タッチ絶縁膜ＴＩＮＳ２は、アクリル樹脂（ａｃｒｙｌ ｒｅｓｉｎ）、エポキシ樹脂（ｅｐｏｘｙ ｒｅｓｉｎ）、フェノール樹脂（ｐｈｅｎｏｌｉｃ ｒｅｓｉｎ）、ポリアミド樹脂（ｐｏｌｙａｍｉｄｅ ｒｅｓｉｎ）、ポリイミド樹脂（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ ｒｅｓｉｎ）などの有機膜で形成されうる。

【0088】

第２タッチ絶縁膜ＴＩＮＳ２上には、駆動電極ＴＥと感知電極ＲＥが配置され得る。駆動電極ＴＥと感知電極ＲＥはモリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）、チタン（Ｔｉ）、ニッケル（Ｎｉ）、ネオジム（Ｎｄ）および銅（Ｃｕ）のいずれか一つまたはこれらの合金からなる単一層または多重層で形成されうる。

【0089】

駆動電極ＴＥと感知電極ＲＥは第３方向ＤＲ３で連結電極ＢＥ１と重なり得る。駆動電極ＴＥは第１タッチ絶縁膜ＴＩＮＳ１を貫通するタッチコンタクトホールＴＣＮＴ１を介して連結電極ＢＥ１に連結され得る。

【0090】

駆動電極ＴＥと感知電極ＲＥの上には、第３タッチ絶縁膜ＴＩＮＳ３が形成される。第３タッチ絶縁膜ＴＩＮＳ３は、駆動電極ＴＥ、感知電極ＲＥ、および連結電極ＢＥ１により形成された段差を平坦化する役割をすることができる。第３タッチ絶縁膜ＴＩＮＳ３は、アクリル樹脂（ａｃｒｙｌ ｒｅｓｉｎ）、エポキシ樹脂（ｅｐｏｘｙ ｒｅｓｉｎ）、フェノール樹脂（ｐｈｅｎｏｌｉｃ ｒｅｓｉｎ）、ポリアミド樹脂（ｐｏｌｙａｍｉｄｅ ｒｅｓｉｎ）、ポリイミド樹脂（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ ｒｅｓｉｎ）などの有機膜で形成されうる。

【0091】

以下、図５ないし図１６を関連して説明する一実施形態によるマスク組立体５００は、図４を参照して説明した表示パネル１０の発光層１７２の蒸着工程で用いられる。

【0092】

図５は一実施形態によるマスク組立体の斜視図である。図６は一実施形態によるマスク組立体の分解斜視図である。

【0093】

図５および図６を参照すると、一実施形態によるマスク組立体５００は、マスクフレーム６１０と、マスクフレーム６１０上に配置され、マスクフレーム６１０の短辺に沿った方向に配置される複数の短辺スティック６２０と、複数の短辺スティック６２０上に配置され、マスクフレーム６１０の長辺に沿った方向に配置される複数の長辺スティック６３０と、複数の長辺スティック６３０上に配置される蒸着マスク６４０を含む。

【0094】

本明細書では長辺スティックを「第１スティック」と命名し、短辺スティックを「第２スティック」と命名してもよい。または、本明細書では長辺スティックを「第２スティック」と命名し、短辺スティックを「第１スティック」と命名してもよい。

【0095】

マスクフレーム６１０は、蒸着マスク６４０と結合して蒸着マスク６４０を支持し得る。マスクフレーム６１０は、蒸着マスク６４０などを安定的に支持できるように、所定の第３方向Ｚへの厚さを有することができる。

【0096】

マスクフレーム６１０は、一対の長辺と一対の短辺を含み、中央にフレーム開口６１０ｐが形成された四角帯形状であり得る。例えば、一対の長辺は第１方向Ｘに延びて第２方向Ｙに互いに対向し、また、一対の短辺は第２方向Ｙに延びて第１方向Ｘに互いに対向し得る。

【0097】

フレーム開口６１０ｐの平面上の形状は略長方形であり得る。フレーム開口６１０ｐは、蒸着物質が通過する経路を提供することができる。

【0098】

一実施形態によれば、マスクフレーム６１０は２対の辺の長さがいずれも同じ四角帯形状であり、フレーム開口６１０ｐの平面上の形状は正方形であってもよい。

【0099】

マスクフレーム６１０は、剛性が大きい材料、例えばステンレス鋼などの金属からなる。

【0100】

マスクフレーム６１０は、長辺スティック６３０および短辺スティック６２０と結合して、長辺スティック６３０および短辺スティック６２０を支持し得る。例示的な実施形態で、マスクフレーム６１０は、長辺スティック６３０を少なくとも部分的に収容するための一つ以上の溝６１１，６１２，６１３を含む。

【0101】

短辺スティック６２０は、マスクフレーム６１０の一面（図面上の上面）上に配置される。短辺スティック６２０は、長辺スティック６３０と共に上部に配置される蒸着マスク６４０を付加的に支持するように構成された支持部材であり得る。

【0102】

短辺スティック６２０の一面（図面上の上面）は、上方の蒸着マスク６４０と突き合わされて接することで効果的に支持できるように、所定の面積を有する平坦面であり得る。例示的な実施形態で、短辺スティック６２０の径方向断面の形状は上辺（すなわち、一面）と下辺（すなわち、他面）の長さが長く、両側辺の長さが短い扁平な長方形であり得る。

【0103】

短辺スティック６２０は、第２方向Ｙに延びて長辺スティック６３０と交差してフレーム開口６１０ｐを横断し得る。例えば、短辺スティック６２０は、長さが幅より大きい、概略、棒形状であり得る。

【0104】

長辺スティック６３０は、短辺スティック６２０の一面（図面上の上面）上に配置される。長辺スティック６３０は、上方に配置される蒸着マスク６４０を付加的に支持するように構成された支持部材であり得る。

【0105】

長辺スティック６３０の一面（図面上の上面）は、上方の蒸着マスク６４０と突き合わされて接することで効果的に支持できるように所定の面積を有する平坦面であり得る。例示的な実施形態で、長辺スティック６３０の径方向断面の形状は上辺（すなわち、一面）と下辺（すなわち、他面）の長さが長く、両側辺の長さが短い扁平な長方形であり得る。

【0106】

長辺スティック６３０は、第１方向Ｘに延びてフレーム開口６１０ｐを横断し得る。例えば、長辺スティック６３０は、長さ（例えば、第１方向Ｘへの長さ）が幅（例えば、第２方向Ｙへの幅）より大きい略棒（ｂａｒ）形状であり得る。

【0107】

長辺スティック６３０は第１方向Ｘに延びて両端部６３１がマスクフレーム６１０の短辺に配置された第１溝（例：長辺スティック溝）６１１に挿入配置され得る。長辺スティック６３０は蒸着マスク６４０の蒸着パターン部６４２と重ならないように配置され得る。例えば、長辺スティック６３０は後述する蒸着マスク６４０のリブ部６４３と重なって配置され得る。蒸着工程において熱膨張特性の差異による変形を防止するためにマスクフレーム６１０と長辺スティック６３０は同じ材質からなる。なお、マスクフレーム６１０の第１溝６１１は長辺スティック６３０のうち最外側に配置された第１長辺スティック（図１０の８２０）の羽根部（図１０の８２１ａ）を収容するための羽根溝（例：第３溝，６１３）と重なるように配置され得る。

【0108】

マスクフレーム６１０が、第１方向Ｘの長辺および第２方向Ｙの短辺を含む場合の短辺スティック６２０の長さは、長辺スティック６３０の長さより短くてもよい。後述するように、短辺スティック６２０は、第２方向Ｙに延びて両端部６２１がマスクフレーム６１０の長辺に配置された第２溝（例：短辺スティック溝，６１２）に挿入配置され得る。短辺スティック６２０は、長辺スティック６３０と同様に蒸着マスク６４０の蒸着パターン部６４２と重ならないように配置され得る。例えば、短辺スティック６２０は、互いに隣接して配置された２個の蒸着マスク６４０の境界と、重なって配置され得る。短辺スティック６２０は、長辺スティック６３０と同じ材質からなる。

【0109】

図７は、一実施形態による蒸着マスクの斜視図である。

【0110】

蒸着マスク６４０は、マスクフレーム６１０の短辺に沿った方向に延びるように配置される。蒸着マスク６４０は、長辺スティック６３０の一面および短辺スティック６２０の一面の上に配置され得る。蒸着マスク６４０は、一面（図面上の上面）と他面（図面上の下面）を有する。一面は、蒸着工程の際に基板（図示せず）と接触する面であり、他面は、一面の反対側の面であり、蒸着物質が提供される面であり得る。蒸着マスク６４０の他面は、マスクフレーム６１０、長辺スティック６３０または短辺スティック６２０のうちの一つ以上と突き合わされて接し得る。

【0111】

蒸着マスク６４０は、長さ（例えば、第２方向Ｙへの長さ）が幅（例えば、第１方向Ｘへの幅）より大きい形状であり得る。蒸着マスク６４０は、いずれも第１方向Ｘに延び、複数個が第２方向Ｙに互いに隣接するように配置された、分割マスクであり得る。他の実施形態で、蒸着マスク６４０は、フレーム開口６１０ｐをカバーする平面上の面積を有し、一体に形成された一枚板式のマスク（「マザーマスク」）であり得る。例示的な実施形態で、蒸着マスク６４０は、金属材質からなるファインメタルマスク（Ｆｉｎｅ Ｍｅｔａｌ Ｍａｓｋ）であり得る。蒸着マスク６４０は、ステンレス鋼、ニッケル、コバルト、またはこれらの合金などの金属からなるのでありうる。いくつかの実施形態で、蒸着マスク６４０は磁性を帯びることもできる。

【0112】

蒸着マスク６４０は、その長手方向（すなわち、第２方向）の両端部に位置する固定部６４１、固定部６４１に比べて中央側に位置する複数の蒸着パターン部６４２、および、蒸着パターン部６４２同士の間に位置するリブ部６４３を含み得る。

【0113】

固定部６４１は、マスクフレーム６１０と突き合わされて接して結合する部分である。例えば、固定部６４１は、マスクフレーム６１０に溶接されて結合し得る。溶接方法は、特に制限されないが、レーザ溶接、抵抗加熱溶接などを例示することができる。

【0114】

蒸着パターン部６４２は、蒸着物質が通過する経路を提供する複数のパターン開口６４２ｐが形成された部分である。蒸着パターン部６４２は、蒸着マスクの長手方向（すなわち、第２方向Ｙ）に離隔して複数配置され得る。

【0115】

第２方向Ｙに隣接した蒸着パターン部６４２同士の間には、リブ部６４３が画定(定義)される。すなわち、リブ部６４３は、第２方向Ｙに互いに隣接した蒸着パターン部６４２を区画する基準になりうる。リブ部６４３は、パターン開口６４２ｐが形成されず、蒸着物質が通過することを遮蔽することができる。例示的な実施形態で、リブ部６４３は、第１方向Ｘに延びた長辺スティック６３０と重なり得る。

【0116】

パターン開口６４２ｐは、蒸着マスク６４０の一面と他面とを貫通する開口部である。基板（図示せず）上に整列される蒸着マスク６４０のパターン開口６４２ｐは、基板の蒸着対象領域を露出させ得る。すなわち、パターン開口６４２ｐは、形成しようとする蒸着パターンと実質的に同じである平面上の形状を有することができる。図１などは、パターン開口６４２ｐが、第１方向Ｘおよび第２方向Ｙに互いに離隔され、平面上でドット形状を有することで、略マトリックス状に配列されて蒸着パターン部６４２をなす場合を例示しているのであるが、本発明はこれに制限されるものではなく、パターン開口６４２ｐは、平面上の第１方向Ｘまたは第２方向Ｙに延びたスリット形状であり得る。

【0117】

図８は比較例によるマスク組立体５００の平面図である。図９は比較例による長辺スティック６３０の反りを説明する図である。

【0118】

図８および図９を参照すると、比較例によるマスク組立体５００は、マスクフレーム６１０と結合される複数の長辺スティック６３０を含む。複数の長辺スティック６３０はマスクフレーム６１０の長辺と並んで配置され、蒸着マスクの蒸着パターン部６４２の一部分をマスキングするように配置され得る。例えば、蒸着パターン部６４２の４個の隅角は、平面視で指定された曲率を有するラウンド形状を有することができる。

【0119】

複数の長辺スティック６３０は、蒸着パターン部６４２の隅角をラウンド(丸められた)形状にマスキングするようにマスクフレーム６１０の短辺方向に延びた羽根部８１１，８２１を含み得る。複数の長辺スティック６３０は、マスクフレーム６１０の長辺と隣接するように配置された第１長辺スティック８２０、および、マスクフレーム６１０の長辺と離隔するように配置された第２長辺スティック８１０を含み得る。例えば、第１長辺スティック８２０は、複数の長辺スティック６３０のうちの、最外側に配置された長辺スティック６３０であり得る。第２長辺スティック８１０は、第１長辺スティック８２０の間に配置された長辺スティック６３０であり得る。

【0120】

本明細書において羽根部は、「延長部」または「突出部」などといった用語で命名されうる。

【0121】

比較例によれば、第１長辺スティック８２０は、最外側に配置されることにより、非対称状の羽根部８２１を含む。例えば、第１長辺スティック８２０は、片方向にのみ突出した羽根部８２１（例：非対称状の羽根部）を含む。なお、第２長辺スティック８１０は、両側の第１長辺スティック８２０の間に配置されるのに伴い、長手方向の中心軸に対して線対称状の羽根部８１１を含む。例えば、第２長辺スティック８１０は、両方向（例：図８の上下方向）に突出した羽根部８１１（例：対称形の羽根部）を含む。第２長辺スティック８１０は、羽根部８１１が両方向に突出することにより、平面視で対称的な形状を有する。

【0122】

比較例によるマスク組立体５００は、第１長辺スティック８２０が非対称状の羽根部８２１を含むことにより、第１長辺スティック８２０に反り（湾曲）が発生し得る。例えば、第１長辺スティック８２０をマスクフレーム６１０と結合する際、第１長辺スティック８２０に加えられる引張力は、第１長辺スティック８２０が特定の方向（例：図９の９０１）に反るようにさせる。このような第１長辺スティック８２０の反りは、第１長辺スティック８２０に含まれた羽根部８２１が非対称の形状を有するからである。第１長辺スティック８２０の反りは蒸着工程で不良を発生させ得る。

【0123】

本発明の一実施形態は、比較例で説明したような第１長辺スティック８２０の反りを防止するように、第１長辺スティック８２０が対称状の羽根部８２１を含むようにする（図１０など）。また、第１長辺スティック８２０の羽根部８２１が挿入されるように、マスクフレーム６１０に羽根溝６１３（例：第３溝）を形成する。マスクフレーム６１０の羽根溝６１３は、短辺スティック６２０が挿入される第２溝６１２と重なるように配置される。したがって、蒸着マスクの端部が溶接されるマスクフレーム６１０の表面は、長辺スティック６３０の羽根部８２１が、その上部に配置されても高さの段差が生じない。このような本発明の一実施形態は、蒸着マスクの破れのような不良を防止して蒸着工程の信頼性を高めることができる。

【0124】

以下、図１０ないし図１６を参照して、本発明の一実施形態によるマスク組立体５００をより具体的に説明する。

【0125】

図１０は、一実施形態によるマスク組立体５００の一部分を概略的に示す斜視図である。図１１は、図１０のＡ－Ａ’線に沿ったマスク組立体５００の断面図である。

【0126】

図１０および図１１に示す本発明の一実施形態は、図８に示す比較例とは異なり、マスクフレーム６１０の長辺と隣接するように配置された第１長辺スティック８２０が、対称状の羽根部８２１を含むのであり、第１長辺スティック８２０の羽根部８２１が挿入されるようにマスクフレーム６１０に、羽根溝６１３（例：第３溝）を形成するという点で差異がある。以下では、図８に示す比較例と異なる本発明の一実施形態のみを説明する。

【0127】

図１０および図１１を参照すると、マスク組立体５００は、マスクフレーム６１０と結合される複数の長辺スティック６３０を含む。複数の長辺スティック６３０は、マスクフレーム６１０の長辺と並んでマスクフレーム６１０の長辺方向（例：図６のＸ方向）に配置され、蒸着マスクの蒸着パターン部６４２の一部分をマスキングするように配置され得る。例えば、各蒸着パターン部６４２の４個の隅角は、平面視で、指定された曲率を有するラウンド形状を有することができる。

【0128】

複数の長辺スティック６３０は、蒸着パターン部６４２の隅角をラウンド形状にマスキングするように、マスクフレーム６１０の短辺方向（例：図６のＹ方向）に延びた羽根部８１１，８２１を含み得る。複数の長辺スティック６３０は、マスクフレーム６１０の長辺と隣接するように配置された第１長辺スティック８２０、およびマスクフレーム６１０の長辺と離隔するように配置された第２長辺スティック８１０を含み得る。例えば、第１長辺スティック８２０は、複数の長辺スティック６３０のうちの最外側に配置された長辺スティック６３０であり得る。第２長辺スティック８１０は、第１長辺スティック８２０の間に配置された長辺スティック６３０であり得る。

【0129】

一実施形態によれば、第１長辺スティック８２０は、対称状の羽根部８２１を含む。例えば、第１長辺スティック８２０は、両方向に突出した羽根部８２１を含む。一方、第２長辺スティック８１０は第１長辺スティック８２０の間に配置され、対称状の羽根部８１１を含む。第１長辺スティック８２０と第２長辺スティック８１０それぞれは羽根部８１１，８２１が両方向に突出することにより、平面視で対称的な形状を有する。

【0130】

マスクフレーム６１０の長辺は、第１長辺スティック８２０の羽根部８２１が据え付けられる羽根溝６１３を含む。ここで、羽根部８２１は羽根溝６１３に据え付けられる第１羽根部８２１ａ、および長辺スティック６３０の延長方向を基準として第１羽根部８２１ａと対称に配置される第２羽根部８２１ｂを含む。マスクフレーム６１０の長辺は、第１長辺スティック８２０の第１羽根部８２１ａおよび第２羽根部８２１ｂのうちの第１羽根部８２１ａが挿入されるように羽根溝６１３を含み得る。

【0131】

マスクフレーム６１０の長辺は複数の短辺スティック６２０のそれぞれの端部が据え付けられる第２溝６１２（例：短辺スティック溝）を含む。羽根溝６１３と第２溝６１２は互いに重なるように配置される。例えば、第１長辺スティック８２０の第１羽根部８２１ａが据え付けられる羽根溝６１３は短辺スティック６２０の端部（図６の６２１）が据え付けられる第２溝６１２の上方に位置し得る。

【0132】

第２溝６１２に短辺スティック６２０の端部（図６の６２１）は据え付けられ、羽根部８２１（すなわち、第１羽根部８２１ａ）は、第２溝６１２の上方に位置した羽根溝６１３に据え付けられる。例えば、第２溝６１２の底面１１１０の高さは、羽根溝６１３の底面１１２０の高さより低くてもよい。

【0133】

羽根溝６１３の幅Ｗ２は、第２溝６１２の幅Ｗ１より大きい。

【0134】

なお、マスクフレーム６１０の短辺には第１溝６１１（例：長辺スティック溝）が配置されるが、第１溝６１１の高さは羽根溝６１３の高さと同じである。

【0135】

一実施形態によれば、長辺スティック６３０は、第１溝６１１に挿入されて溶接工程が行われることにより、マスクフレーム６１０と結合され得る。反面、長辺スティック６３０の第１羽根部８２１ａは、羽根溝６１３に挿入されても、溶接工程が行われなくてもよい。長辺スティック６３０の第１羽根部８２１ａに対する溶接工程を行わないのは、溶接工程による長辺スティック６３０のねじれを防止するためである。例えば、第１羽根部８２１ａに対する溶接を行う場合、溶接が行われていない第２羽根部８２１ｂの浮き上がりが発生し得る。

【0136】

図１２は一実施形態による羽根溝６１３の長さを説明する図である。

【0137】

図１２の実施形態は、図１０の実施形態とは異なり、羽根溝６１３の長さｄ１が第１溝６１１の長さｄ２と異なる点で差異がある。ここで、羽根溝６１３の長さｄ１とは、羽根溝６１３がマスクフレーム６１０の内側の側面から延びる長さを意味する。また、第１溝６１１の長さｄ２とは、第１溝６１１がマスクフレーム６１０の内側の側面から延びる長さを意味する。羽根溝６１３の長さｄ１は、羽根溝６１３がマスクフレーム６１０と重なる長さを意味する。また、第１溝６１１の長さｄ２は、第１溝６１１がマスクフレーム６１０と重なる長さを意味する。

【0138】

図１０の実施形態では、羽根溝６１３の長さｄ１が第１溝６１１の長さｄ２と同一であり得る。反面、図１２の実施形態では、羽根溝６１３の長さｄ１を第１溝６１１の長さｄ２より短くする。例えば、マスクフレーム６１０の内側の側面から延びる羽根溝６１３の第１長さｄ１は、マスクフレーム６１０の内側の側面から延びる第１溝６１１の第２長さｄ２より短い。

【0139】

本発明の一実施形態は、羽根溝６１３の長さｄ１を第１溝６１１の長さｄ２より短くすることによって、マスクフレーム６１０の短辺にて、蒸着マスクが溶接される空間の確保が容易である。例えば、図１２において、点線１２０１は、蒸着マスクが溶接されるマスクフレーム６１０の一領域を示し、蒸着マスクの溶接部は、羽根溝６１３がマスクフレーム６１０の内側の側面から延びる長さｄ１を相対的に短くすることによって確保された領域であり得る。

【0140】

図１３は一実施形態によるマスク組立体５００の分解斜視図である。図１４は図１３に示す一実施形態によるマスク組立体５００の一部分を概略的に示す斜視図である。図１５は図１４のＢ－Ｂ’線に沿ったマスク組立体５００の断面図である。

【0141】

図１３ないし図１５の実施形態は、図６ないし図１２で説明した本発明の一実施形態とは異なり、長辺スティック６３０上に短辺スティック６２０が配置されるという点で差異がある。以下では、図１３ないし図１５の実施形態で変わることとなった特徴のみを説明する。図１３ないし図１５で説明していない特徴は、図６ないし図１２を参照した一実施形態に係る説明で代えることとする。

【0142】

図１３ないし図１５を参照すると、一実施形態によるマスク組立体５００は、マスクフレーム６１０、マスクフレーム６１０上に配置され、マスクフレーム６１０の長辺に沿った方向に配置される複数の長辺スティック６３０、複数の長辺スティック６３０上に配置され、マスクフレーム６１０の短辺に沿った方向に配置される複数の短辺スティック６２０、および、複数の短辺スティック６２０上に配置される蒸着マスクを含む。

【0143】

複数の長辺スティック６３０は、マスクフレーム６１０の長辺と隣接するように配置された第１長辺スティック８２０、および、マスクフレーム６１０の長辺と離隔するように配置された第２長辺スティック８１０を含む。

【0144】

第１長辺スティック８２０は、蒸着マスクの開口部の一部分をマスキングするようにマスクフレーム６１０の短辺への方向へと延びた羽根部８１１，８２１を含む。マスクフレーム６１０の長辺は、羽根部８１１，８２１のうちの一部８２１が据え付けられる羽根溝６１３を含む。

【0145】

マスクフレーム６１０の短辺は、複数の長辺スティック６３０のそれぞれの端部が据え付けられる第１溝６１１を含む。マスクフレーム６１０の長辺は、複数の短辺スティック６２０それぞれの端部が据え付けられる第２溝６１２を含む。

【0146】

マスクフレーム６１０の長辺にて、羽根溝６１３と第２溝６１２とは互いに重なるように配置される。羽根溝６１３の幅は、第２溝６１２の幅と実質的に同一であり得る。例えば、羽根溝６１３と第２溝６１２とは、実質的に一体に形成された溝であり得る。

【0147】

羽根溝６１３および第２溝６１２で、長辺スティック８２０の第１羽根部８２１ａが据え付けられ、長辺スティック８２０の第１羽根部８２１ａ上には、短辺スティック６２０の端部（図６の６２１）が据え付けられ得る。

【0148】

第１溝６１１の高さは、羽根溝６１３の高さと同じである。ここで、第１溝６１１の高さは、マスクフレーム６１０の上部表面から第１溝６１１の底面に至る深さを意味する。羽根溝６１３の高さは、マスクフレーム６１０の上部表面から羽根溝６１３の底面に至る深さを意味する。

【0149】

マスクフレーム６１０の内側の側面から延びる羽根溝６１３の第１長さ（例：図１２のｄ１）は、マスクフレーム６１０の内側の側面から延びる第１溝６１１の第２長さ（例：図１２のｄ２）より短い。羽根溝６１３の長さｄ１は、羽根溝６１３がマスクフレーム６１０と重なる長さを意味する。また、第１溝６１１の長さｄ２は、第１溝６１１がマスクフレーム６１０と重なる長さを意味する。

【0150】

図１６は、一実施形態によるマスク組立体を用いた蒸着工程を示す概略図である。

【0151】

図１６を参照すると、マスク組立体５００は、フレームホルダ１６１０上に配置されて固定される。フレームホルダ１６１０は、マスクフレーム６１０の外側部の少なくとも一部と重なってマスクフレーム６１０を支持することができる。

【0152】

マスク組立体５００の一面（図面上の上面）、すなわち、蒸着マスク６４０の一面上には基板１６２０が配置される。基板１６２０は蒸着対象であり得る。例えば、基板１６２０は、図１ないし図４を参照して説明した表示パネル１０の基板ＳＵＢであり得る。

【0153】

基板１６２０の他面（図面上の下面）は、蒸着マスク６４０の一面と対向するように配置され得る。例えば、基板１６２０の他面（図面上の下面）は、蒸着マスク６４０の一面と突き合わされて接するように配置され得る。

【0154】

マスク組立体５００の他面（図面上の下面）上には蒸着源１６００が配置される。例えば、蒸着源１６００は、マスク組立体５００の他面（図面上の下面）と対向するように配置され得る。蒸着源１６００は、内部に蒸着物質を収容し、蒸着工程時に蒸着物質を気化して基板１６２０側に提供することができる。

【0155】

蒸着物質は、マスクフレーム６１０のフレーム開口および蒸着マスク６４０のパターン開口（図７の６４２ｐ）を通過し、蒸着マスク６４０のパターン開口６４２ｐにより露出した基板１６２０における他面に蒸着されてパターン化された薄膜層を形成することができる。例えば、基板１６２０に蒸着されるパターン化された薄膜層は、図４を参照して説明した、発光層１７２の少なくとも一部の層であり得る。

【0156】

一実施形態によれば、マスク組立体５００を用いた蒸着工程、例えば有機発光素子の製造方法は次のような段階を含むことができる。例えば、有機発光素子の製造方法は、マスク組立体５００の一面上に基板１６２０を配置する段階、マスク組立体５００の他面と対向するように蒸着源１６００を配置する段階、および蒸着源１６００に収容された蒸着物質を気化し、気化した蒸着物質が、マスク組立体５００を通過して基板１６２０に蒸着されるようにする段階を含むことができる。

【0157】

以上、添付する図面を参照して本発明の実施形態について説明したが、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者は、本発明のその技術的思想や必須の特徴を変更せず、他の具体的な形態で実施できることを理解することができる。したがって、上記一実施形態はすべての面で例示的なものであり、限定的なものではないと理解しなければならない。

【0158】

好ましい一実施形態によると、下記のとおりである。

【0159】

本件の背景は下記(i)～(xii)のとおりである。

【0160】

(i) 有機発光素子(OLED)が配列された有機発光表示パネルが、スマホ、タブレットPC、スマートウォッチなどのモバイル機器に広く用いられている。また、大型テレビなどにも用いられている。

【0161】

(ii) 有機発光表示パネルを製造するにあたり、サブ画素（画素ドット）に対応する領域（特には画素開口）ごとに、所定色に発光させるための、有機発光層を構成する材料物質を蒸着させることが行われている。

【0162】

(iii) この蒸着の工程では、画素ドットごとの開口が備えられた蒸着マスク(640)が用いられている。

【0163】

(iv) この蒸着マスク(640)は、所定の開口が配列されたプレートであり、典型的には、細長い矩形状に形成され、複数の細長いプレート状の蒸着マスク(640)が、矩形状のマスクフレーム(610)に取り付けられる。

【0164】

(v) また、比較的厚みの小さい蒸着マスク(640)が撓むのを防止するために、縦横（長手方向及び幅方向）の桟（さん；長辺スティック(630)及び短辺スティック(620)）が、マスクフレーム(610)と、プレート状の蒸着マスク(640)との間に備え付けられる。

【0165】

(vi) この際、一般に、横桟（短辺スティック(620)）の上に、縦桟（長辺スティック(630)）が重ね合わされた状態で互いに溶接される。また、縦桟（長辺スティック(630)）の両端部、及び、横桟（短辺スティック(620)）の両端部を受け入れるように、マスクフレーム(610)に凹部（「溝」）が備えられる。そして、少なくとも、縦桟（長辺スティック(630)）の両端部が、マスクフレーム(610)に溶接される。

【0166】

(vii) 特許文献１の図３などによると、縦桟（ST1：本願「長辺スティック(630)」）の間に、各表示パネルに対応する領域が配列されるのであり、縦桟（ST1）には、表示パネルの表示領域の隅角部を丸めることなどに対応して、横方向に突き出した部分（本願の羽根部(811,812)に対応）が備えられる。

【0167】

(viii) 特許文献１の図３などによると、プレート状の蒸着マスク(MSK;本願640)は、マスクフレーム(610)における両側の長辺部分の間に掛け渡される短冊状の分割マスクであり、マスクフレーム(610)の長辺方向に互いに突きわされて配列される。
そして、横桟（短辺スティック(620)）は、短冊状の分割マスクの境界部分に位置する。

【0168】

(ix) 特許文献１の図３などによると、さらには、次のとおりである。すなわち、最も外側の２つの縦桟（長辺スティック(630)）は、蒸着領域（画素ドットに対応する開口が配列された領域であって、表示パネルの一つの表示領域に対応する領域）がマトリクス状に配列された領域の両端に位置する。そして、内側に位置する他の縦桟（長辺スティック(630)）は、蒸着領域同士を互いに分離する境界に位置する。

【0169】

(x) このようなマスク組立体は、これを組み立てる工程、または使用中に、縦桟（長辺スティック(630)）が横方向に撓(たわ)むことがある（図９）。

【0170】

(xi) 横方向の撓(たわ)みは、最も外側の縦桟（長辺スティック(630)）、すなわち、マスクフレーム(610)の長辺部分に近接したものに生じている。
(xii) 最も外側の縦桟（長辺スティック(630)）は、横方向に突き出す部分(羽根部821)が、内側にのみ備えられるものである。

【0171】

そこで、特に好ましい一実施形態によると、下記Ａ１～Ａ８少なくともいずれかまたは任意の組み合わせとすることができる。
Ａ１ 最も外側の縦桟（長辺スティック(630)）が、内側のみならず、外側にも、同様に横方向に突き出す部分(羽根部821a)を備え付ける。好ましくは、縦桟（長辺スティック(630)）の中心軸に対して、実質上、線対称をなすように備え付ける。

【0172】

Ａ２ 最も外側の縦桟（長辺スティック(630)）から横方向外側に突き出す部分(羽根部821a)は、その先端部が、横桟（短辺スティック(620)）の端部とともに、マスクフレーム(610)の長辺部分にある受入凹部（「溝」(612,613)）中に受け入れられる。

【0173】

Ａ３ 「羽根部821」の先端部は、横桟（短辺スティック(620)）の端部よりも幅が広い。
特には、横桟（短辺スティック(620)）は、その全長にわたって幅が一定でありうる。
そこで、マスクフレーム(610)の長辺部分にある受入凹部（「溝」(612,613)）は、下部が狭く、上部が広くなっており、両側壁に段部が形成されている。
ここで、この段部までの深さ（「第３溝(613)」の深さ）は、マスクフレーム(610)の短辺部分の受入凹部（「第１溝(611)」）の深さと同じである。

【0174】

Ａ４ 最も外側の縦桟（長辺スティック(630)）は、内側にある他の縦桟（長辺スティック(630)）と同様に、両端部が、マスクフレーム(610)の短辺部分中の受入凹部（「溝」(611)）中に受け入れられた状態で溶接される。

【0175】

Ａ５ 最も外側の縦桟（長辺スティック(630)）は、横桟（短辺スティック(620)）と重なる領域にて、横桟（短辺スティック(620)）の上面に溶接される。

【0176】

Ａ６ 「羽根部821」の先端部は、横桟（短辺スティック(620)）の上面に溶接されるが、マスクフレーム(610)（の段部）には溶接されない。

【0177】

Ａ７ 「羽根部821」の先端部は、マスクフレーム(610)の内側の側面から外側へと延びる寸法が、横桟（短辺スティック(620)）の一端部におけるよりも、小さい。
なお、「羽根部821」が延びる寸法は、表示領域に対応する蒸着領域における角を丸めた部分の寸法に対応する。

【0178】

Ａ８ 上記(vi)及びＡ３に代えて、横桟（短辺スティック(620)）が縦桟（長辺スティック(630)）の上に重ね合わされて、互いに溶接されるのであっても良い（本願図１３～１４）。
その場合、マスクフレーム(610)の長辺部分にある受入凹部（「溝」(612,613)）は、下部及び上部にわたって、「羽根部821」の先端部に対応する同一の幅を有するようにすることができる。

【符号の説明】

【0179】

１０ 表示装置
１００ 表示パネル

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】