(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2025013772
(43)【公開日】2025-01-28
(54)【発明の名称】空気汚染及び処理健全性のインラインモニタのためのシステム及び方法
(51)【国際特許分類】
G01N 1/00 20060101AFI20250121BHJP
G01N 1/26 20060101ALI20250121BHJP
【FI】
G01N1/00 101R
G01N1/26
【審査請求】有
【請求項の数】75
【出願形態】OL
【外国語出願】
(21)【出願番号】P 2024165048
(22)【出願日】2024-09-24
(62)【分割の表示】P 2021128050の分割
【原出願日】2017-04-26
(31)【優先権主張番号】62/329,791
(32)【優先日】2016-04-29
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(31)【優先権主張番号】15/496,931
(32)【優先日】2017-04-25
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(71)【出願人】
【識別番号】519173325
【氏名又は名称】トライコーンテック コーポレイション
(74)【代理人】
【識別番号】100103610
【弁理士】
【氏名又は名称】▲吉▼田 和彦
(74)【代理人】
【識別番号】100109070
【弁理士】
【氏名又は名称】須田 洋之
(74)【代理人】
【識別番号】100119013
【弁理士】
【氏名又は名称】山崎 一夫
(74)【代理人】
【識別番号】100067013
【弁理士】
【氏名又は名称】大塚 文昭
(74)【代理人】
【識別番号】100120525
【弁理士】
【氏名又は名称】近藤 直樹
(74)【代理人】
【識別番号】100139712
【弁理士】
【氏名又は名称】那須 威夫
(74)【代理人】
【識別番号】100141553
【弁理士】
【氏名又は名称】鈴木 信彦
(72)【発明者】
【氏名】チョウ ツォン-クァン エイ
(72)【発明者】
【氏名】チュン ペイ-ウェン
(72)【発明者】
【氏名】ワン リ-ペン
(57)【要約】 (修正有)
【課題】空気汚染及び処理健全性のインラインモニタのためのシステム及び方法の提供。
【解決手段】本発明の開示は、空中分子汚染(AMC)モニタ装置の実施形態を説明する。AMC装置は、複数の入口と1又は2以上の出口とを有するマニホルドを含む。サンプリングチューブバスが、マニホルドに流体的に結合され、サンプリングチューブバスは、複数の個々のサンプリングチューブを含み、各個々のサンプリングチューブは、複数の入口のうちの1つに流体的に結合されている。1又は2以上のアナライザの各々が、複数の個々のサンプリングチューブのうちの1又は2以上を通ってマニホルドに引き込まれる流体を分析するためにマニホルドの1又は2以上の出口のうちの1つに流体的に結合される。制御及び通信システムは、1又は2以上のアナライザに結合される。
【選択図】
図2
【特許請求の範囲】
【請求項1】
複数の入口と1又は2以上の出口とを有するマニホルドと、
前記マニホルドに流体的に結合され、複数の個々のサンプリングチューブを含み、各個々のサンプリングチューブが前記複数の入口のうちの1つに流体的に結合されているサンプリングチューブバスと、
前記複数の個々のサンプリングチューブのうちの1又は2以上を通って前記マニホルドに引き込まれる流体を分析するために該マニホルドの前記1又は2以上の出口のうちの1つに各々が流体的に結合された1又は2以上のアナライザと、
前記1又は2以上のアナライザに結合された制御及び通信システムと、
を含むことを特徴とする空中分子汚染(AMC)モニタ装置。
【請求項2】
各個々のサンプリングチューブが、処理機器ステーションのチャンバに結合されることを特徴とする請求項1に記載のAMCモニタ装置。
【請求項3】
1又は2以上のセンサが、個々の又は全体的な揮発性有機化合物(VOC)検出器、酸化合物検出器、塩基化合物検出器、硫化物系化合物検出器、アミン化合物検出器、空気粒子又はエアロゾル計数検出器、湿度検出器、温度検出器、化学冷却剤検出器、アニオン検出器、カチオン検出器、金属イオン検出器、又はドープイオン検出器を含むことができることを特徴とする請求項1に記載のAMCモニタ装置。
【請求項4】
前記マニホルドは、
入口チューブであって、前記複数の個々のサンプリングチューブの各々が三方バルブによって該入口チューブに流体的に結合される前記入口チューブと、
三方バルブを通じて前記入口チューブに流体的に結合されたバッファタンクと、
各出口チューブが前記バッファタンクに流体的に結合され、かつ各出口チューブが三方バルブを通じてアナライザに流体的に結合されている複数の出口チューブと、
前記バッファタンクの内部を洗い流すために該バッファタンクに結合された清浄空気流入及び清浄空気流出と、
を含む、
ことを特徴とする請求項1に記載のAMCモニタ装置。
【請求項5】
前記マニホルドは、前記バッファタンクの前記内部に流体的に結合されたポンプを更に含むことを特徴とする請求項4に記載のAMCモニタ装置。
【請求項6】
前記入口チューブを前記バッファタンクに結合する前記三方バルブの上流で該入口チューブに結合された1又は2以上のアナライザを更に含むことを特徴とする請求項5に記載のAMCモニタ装置。
【請求項7】
前記三方バルブの上流で前記入口チューブに結合された前記1又は2以上のアナライザは、温度アナライザ又は湿度アナライザを含むことを特徴とする請求項6に記載のAMCモニタ装置。
【請求項8】
前記入口チューブを前記バッファタンクに結合する前記三方バルブに流体的に結合されたポンプを更に含むことを特徴とする請求項4に記載のAMCモニタ装置。
【請求項9】
前記制御及び通信システムは、遠隔サーバに、処理機器モジュールに、又は遠隔サーバ及び処理機器モジュールの両方に無線又は有線で通信的に結合されることを特徴とする請求項1に記載のAMCモニタ装置。
【請求項10】
AMCモニタ装置に取り付けられ、かつ少なくとも1つの個々のサンプリングチューブに流体的に結合されたロードポートを更に含むことを特徴とする請求項1に記載のAMCモニタ装置。
【請求項11】
少なくとも1つの処理機器モジュールの1又は2以上のチャンバに各サンプリングチューブが流体的に結合されるようになった複数のサンプリングチューブを含むサンプリングバスと、
前記サンプリングバスに流体的に結合された1又は2以上の空中分子汚染(AMC)装置であって、
複数の入口と1又は2以上の出口とを有するマニホルド、
前記マニホルドに流体的に結合され、複数の個々のサンプリングチューブを含み、各個々のサンプリングチューブが前記複数の入口のうちの1つに流体的に結合されているサンプリングチューブバス、
前記複数の個々のサンプリングチューブのうちの1又は2以上を通って前記マニホルドに引き込まれる流体を分析するために該マニホルドの前記1又は2以上の出口のうちの1つに各々が流体的に結合された1又は2以上のアナライザ、及び
前記1又は2以上のアナライザに結合された制御及び通信システム、
を含む前記空中分子汚染(AMC)装置と、
前記制御及び通信システムに無線又は有線で通信的に結合された遠隔サーバと、
を含むことを特徴とする環境モニタシステム。
【請求項12】
各処理機器モジュールが、製造されている品目を該処理機器モジュールの前記1又は2以上のチャンバの中に移動することができるように、該製造されている品目を運ぶ可動キャリアを受け入れるためのロードポートを含むことを特徴とする請求項11に記載のシステム。
【請求項13】
少なくとも1つの個々のサンプリングチューブが、前記可動キャリアが前記ロードポート上に置かれた時に該可動キャリアの内側の環境をサンプリングするために各ロードポートに流体的に結合されることを特徴とする請求項12に記載のシステム。
【請求項14】
個々のサンプリングチューブが、各チャンバ内の環境をサンプリングするためにインタフェースチャンバと、ロードロックチャンバと、前記処理機器モジュールの処理チャンバとに流体的に結合されるようになっていることを特徴とする請求項12に記載のシステム。
【請求項15】
前記少なくとも1つの処理機器モジュールは、各組がそれ自体のサンプリングバスと該サンプリングバスに結合されたそれ自体のAMC装置とを有する2又は3以上の組にグループ分けされた複数の処理機器モジュールを含むことを特徴とする請求項11に記載のシステム。
【請求項16】
前記少なくとも1つの処理機器モジュールは、各組がそれ自体のサンプリングバスを有する2又は3以上の組にグループ分けされた複数の処理機器モジュールを含み、
単一可動AMC装置が、各組をモニタするために各サンプリングバスに接続され、かつそこから切断されるようになっている、
ことを特徴とする請求項11に記載のシステム。
【請求項17】
前記少なくとも1つの処理機器モジュールは、複数の処理機器モジュールを含み、
各処理機器モジュールが、1対のサンプリングバスに結合され、
前記対のサンプリングバスの各々が、それ自体の環境モニタ装置に接続される、
ことを特徴とする請求項11に記載のシステム。
【請求項18】
前記制御及び通信システムは、遠隔サーバに、前記少なくとも1つの処理機器モジュールに、又は該遠隔サーバ及び該少なくとも1つの処理機器モジュールの両方に無線又は有線で通信的に結合されることを特徴とする請求項11に記載のシステム。
【請求項19】
前記1又は2以上のAMC装置のうちの少なくとも1つに取り付けられ、かつロードポートが取り付けられた該AMC装置の少なくとも1つの個々のサンプリングチューブに流体的に結合されたロードポートを更に含むことを特徴とする請求項11に記載のシステム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
〔関連出願への相互参照〕
この出願は、2017年4月25日出願の米国特許出願第15/496931号及び2016年4月29日出願の米国仮特許出願第62/329791号に対する特許協力条約(PCT)の条項8の下での優先権を主張するものである。
【0002】
開示する実施形態は、一般的に空気汚染モニタに関し、特に、しかし専らではなく、空気汚染及び処理健全性のインラインモニタのためのシステム及び方法に関する。
【背景技術】
【0003】
空気品質及び空中分子汚染(AMC)は、半導体、メモリ、及び他の同様なハイテク産業(例えば、ディスプレイ)においてそれらの処理が進歩する時に益々注目されている。これらの産業では、取りわけ、AMCが製造不良率に大きく寄与すると認識されており、AMCの製造工程収率への影響は、製造技術がより小さい構成要素サイズを可能にする時に悪化するばかりである。AMCへの長期露出も、人間の健康にリスクになる可能性があると認識されている。
【0004】
製造業者は、オンサイト又はオフラインのAMC感知機器を使用してオンサイト連続モニタ及び施設周囲清浄度の制御にかなりの努力を払っている。汚染源及び防止手順を識別して施設の周囲空気中のAMCを低減するために詳細な研究及び継続的な改善が実施されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかし、施設周囲の空気品質を制御するためにかなりの努力が行われてきたにも関わらず、処理機器モジュール及び可動キャリア(例えば、半導体産業において基板/ウェーハ搬送容器として使用される前開き統合ポッド(FOUP))のような製造機器内部の清浄度は、十分に研究されていない。特定の処理機器モジュール又は可動キャリアもAMCに寄与する可能性があるが、ほとんどの状況では、処理機器モジュール及び基板にはそれ自体の密封された微小環境があり、すなわち、オンサイト施設周囲モニタでは、処理機器モジュール又は可動キャリアに関連付けられたAMC関連の問題を捉えることができない。更に、処理機器モジュール又は可動キャリアが汚染された場合に、AMC二次汚染が製造ライン上で生じる可能性があり、可動キャリアは様々な場所に汚染を広げるAMCキャリアとして寄与する。その結果、後にAMCが可動キャリア又は処理機器モジュールで見出されたとしても、汚染源を辿ることは極めて困難になる。
【0006】
非別途指定されない限り様々な図を通して類似の参照番号が類似の部品を指す以下の図面を参照して、限定的かつ非包括的実施形態を説明する。
【図面の簡単な説明】
【0007】
【
図1A】半導体製造に使用される製造工程の実施形態の図である。
【
図1B】半導体製造に使用される製造工程の実施形態の図である。
【
図2】半導体製造における総合空中分子汚染(TAMC)装置のインラインモニタ用途の実施形態を示す図である。
【
図3A】TAMC装置の実施形態のブロック図である。
【
図3B】
図3Aに示すTAMC装置の実施形態に使用することができるマニホルドの実施形態のブロック図である。
【
図3C】
図3Aに示すTAMC装置の実施形態に使用することができるマニホルドの実施形態のブロック図である。
【
図3D】
図3Aに示すTAMC装置の実施形態に使用することができるマニホルドの実施形態のブロック図である。
【
図4】TAMC装置の実施形態を使用するインラインモニタ用途の別の実施形態のブロック図である。
【
図5】TAMC装置の実施形態を使用するインラインモニタ用途の別の実施形態のブロック図である。
【
図6】TAMC装置の実施形態を使用するインラインモニタ用途の別の実施形態のブロック図である。
【
図7】TAMC装置の実施形態を使用するインラインモニタ用途の別の実施形態のブロック図である。
【
図8】TAMC装置の実施形態を使用するインラインモニタ用途の別の実施形態のブロック図である。
【
図9】TAMC装置の実施形態を使用するインラインモニタ用途の別の実施形態のブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【0008】
空気汚染及び処理健全性のインラインモニタのためのシステム及び方法の実施形態を説明する。実施形態の理解を提供するために具体的な詳細を説明するが、当業者は、説明する詳細の1又は2以上を使用することなく、又は他の方法、構成要素、材料などを使用して本発明が実施可能であることを認識するであろう。一部の事例では、公知の構造、材料、接続、又は作動は、詳細に示されないか又は説明されないが、依然として本発明の範囲に含まれる。
【0009】
本明細書を通して「一実施形態」又は「実施形態」への言及は、説明する特徴、構造、又は特性が少なくとも1つの説明する実施形態に含まれ得ることを意味するので、「一実施形態では」又は「実施形態では」の出現は、必ずしも同じ実施形態を指すとは限らない。更に、特定の特徴、構造、又は特性は、1又は2以上の実施形態であらゆる適切な方法で組み合わせることができる。
【0010】
図1A~1Bは、製造ライン100の実施形態を示している。製造ライン100は、例えば、半導体製造に使用することができるが、他の実施形態では、他の目的のために及び図示とは異なる機器を使用して使用することができる。
【0011】
製造ライン100は、エンクロージャ102内に位置決めされ、そのエンクロージャは、建屋、建屋内の部屋又は隔室、又は何らかの他タイプのエンクロージャとすることができる。1又は2以上の処理機器モジュール104は、エンクロージャ102内に位置決めされる。各処理機器モジュール104は、ロードポートを含み、1又は2以上のチャンバを含むことができ、そのチャンバの各々が、その特定の処理装置モジュールによって実行される製造段階に関連付けられた異なる機能を果たす。
【0012】
製造工程は一般的に多くの段階を伴い、各処理機器モジュールは、製造工程全体の段階のうちの一部のみを実行する。その結果、製造ライン100上で製造される品目、すなわち、半導体製造施設では、プロセッサ、メモリ、MEMSチップ、光学チップなどを有する半導体ウェーハは、処理における全ての段階が実行されるまで1つの処理機器モジュールから別のモジュールに移動しなければならない。製造される品目の移動は、多くの場合に密封された微小環境内で製造される品目を運ぶ可動キャリア106を使用して内部で達成される。図示のような半導体施設の実施形態では、可動キャリア106は、半導体ウェーハを搬送するのに使用されるので、前開き統合ポッド(FOUP)、ウェーハ容器、又は基板容器と呼ばれる。しかし、他の実施形態では、他のタイプの可動キャリアを使用することができる。
【0013】
搬送システムが1つの処理機器モジュール104のロードポートから別のロードポートへ各可動キャリア106を運ぶので、可動キャリアの内側で運ばれる製造品目に対して異なる段階を実行することができる。図示の実施形態では、搬送システムは、オーバヘッド・トラックアンドホイスト・システムである。車輪及びモータ付きのキャリッジ110が軌道108に沿って走行する。ホイスト112は各車輪付きキャリッジ110に搭載され、可動キャリア106をz方向に持ち上げ、更にそれらをy方向に(ページの中に及び外に)移動する潜在機能を有するので、複数のキャリアを受け入れることができるロードポートに可動キャリア106を置くことができる。
【0014】
図1Bで最も良く分るように、軌道108は施設102の中を曲がりくねって進み、可動キャリア106及び従って可動キャリアの内側で運ばれる製造品目を複数の処理機器モジュールに搬送し、図示の実施形態は、7つの処理機器モジュールP1~P7を有するが、他の実施形態は、異なる個数を有することができる。製造される品目が特定のエンクロージャ102内の全ての処理機器モジュール104を通過した後、搬送システムは、可動キャリアと共にエンクロージャ102を出る。
【0015】
エンクロージャ102内の施設周囲の空気品質を制御するためにかなりの努力及び研究が行われてきたが、処理機器モジュール104の内部及び可動キャリア106の内部の環境の清浄度はよく研究されていない。施設周囲の汚染物質、すなわち、換気及び空調のような機器の全体的な空気処理システムに由来する汚染物質に加えて、処理機器モジュール104又は可動キャリア/FOUP106は、空中分子汚染(AMC)の一因になる場合がある。処理機器モジュール104及び可動キャリア106は、それ自体の内部微小環境を有する閉鎖チャンバを含むので、オンサイトの全体的な機器環境モニタは、処理機器モジュール又は可動キャリアに関連付けられたAMC問題を捉えることができない。例えば、処理機器モジュール又は可動キャリアが汚染されている場合に、二次汚染が製造ラインにAMCを撒き散らす場合があり、可動キャリア106は様々な場所にAMCを伝達するAMCキャリアとして寄与する。しかし、既存の全体的な機器環境モニタの場合に、後でAMCが可動キャリア又は処理機器モジュールで見出されたとしても汚染源を辿ることは極めて困難である。
【0016】
代替方法は、オンサイトの可動キャリア専用AMCモニタシステムを設置することである。そのようなシステムでは、ウェーハが1つの処理機器モジュールで仕上げられ、別の処理機器モジュールへ搬送するために可動キャリアに保管された状態で、可動キャリアは通常の処理シーケンスから迂回させられ、内部空気に関する分析のためにオンサイトのAMC可動キャリアモニタシステムに送られる。しかし、そのようなAMCモニタシステムは、オンサイトのモニタツールになり得るにも関わらず、可動キャリアがもはや規則的な処理シーケンスに従わないためにオフプロセスのモニタ方法である。同じく、分析のために可動キャリアを通常の製造から迂回させなければならないので、この手法は、通常処理シーケンスへの妨害に起因して追加の不確実性を持ち込む。更に、そのような手法では、オンサイトの可動キャリア専用AMCモニタシステムは機能が限られており、限られた数の可動キャリアしか検査することができない(同じく、このように処理のスループットにあまり影響を与えない)。同じく、モニタシステムがスクリーニング機能を高めることができたとしても、可動キャリアを迂回させる必要性が依然として製造に対して余分な処理シーケンスを追加し、これは、次に、処理スループットを減速させる。従って、そのような手法は、可動キャリアのスクリーニングにのみ限定される。それは、可動キャリア及び処理機器モジュールのインラインAMCモニタという目的には適していない。
【0017】
図2は、処理機器モジュール202に流体的に結合された総合空中分子汚染(TAMC)装置226を使用するインラインモニタシステム200の実施形態を示している。図示の実施形態では、処理機器モジュール202は、1又は2以上の可動キャリア206(この実施形態ではFOUP)を装填することができるロードポート204を含み、図示の実施形態は、4つの可動キャリアを受け入れることができるロードポートを示すが、別の実施形態では、ロードポートは、図示とは異なる数の可動キャリアを収容することができる。処理機器モジュール202は、ロードポート204に加えて3つのチャンバを含み、前部インタフェース208は、ロードポート204に隣接し、処理ロードロックチャンバ210は、前部インタフェース208に隣接し、最後に、製造される品目に対して関連する製造段階が実行される処理チャンバ212は、ロードロックチャンバ210に隣接する。
【0018】
個々のサンプリングチューブが、処理機器モジュール202内の各チャンバに流体的に結合される。本明細書に使用する場合に、構成要素が「流体的に結合される」とは、流体が一方から他方に又は他方を通って流れることができるように結合されることを意味する。個々のサンプリングチューブ216が処理チャンバ212に流体的に結合され、個々のサンプリングチューブ218がロードロックチャンバ210に流体的に結合され、個々のサンプリングチューブ220が前部インタフェース208に流体的に結合される。個々のサンプリングチューブ216、218、及び220は、サンプリングチューブバス214を形成する。個々のサンプリングチューブ222は、ロードポート204に対して、すなわち、より具体的には、可動キャリア206の内部に流体的に結合されたロードポート204内の構成要素に対して流体的に結合される。図示の実施形態では、ロードポート204が4つの可動キャリアを受け入れることができるので、4つの個々のサンプリングチューブ222が存在するが、別の実施形態では、個々のサンプリングチューブの数は、ロードポートが受け入れることができる可動キャリアの数に適合することができる。次に、サンプリングチューブバス214と個々のサンプリングチューブ222とは、TAMC226に流体的に結合された更に別のサンプリングチューブバス224を形成する。
【0019】
TAMC226は、有線又は無線で遠隔データ/制御サーバ228に通信的に結合される。処理機器モジュール202も、有線又は無線で遠隔データ/制御サーバ228に及び/又は直接TAMC226に通信的に結合される。遠隔データ/制御サーバ228も、有線又は無線で直接処理機器モジュール202に通信的に結合することができる。
【0020】
インラインモニタシステム200の作動において、可動キャリア/FOUPがロードポートに移され、それらの底部空気入口及び出口が、可動キャリア206の内部からロードポートの下の排気口へ空気/AMCを洗い流すためにN2又は清浄な空気のいずれかを放出するロードポートの嵌合入口/出口に流体的に結合されるようにする。一実施形態では、個々のサンプリングチューブ222をロードポートパージシステムの排気口に接続することができ、そのシステムでは、次に、各可動キャリア206からパージされた空気の清浄度を収集し、分析し、報告することができる。排気の清浄度は、各可動キャリア内の微小環境の汚染レベルを表し、別の場所におけるそれらの前処理の清浄度に関連付けることができる。短いパージ処理の後、可動キャリアの前部ドアが開かれ、内部のウェーハは、必要とされる製造段階に対して処理機器モジュールの他のチャンバ、すなわち、前部インタフェース208、ロードロック210、及び処理チャンバ212に移される。
【0021】
可動キャリア206内のAMCをモニタすることに加えて、システム200は、これに加えて又は同時に前部インタフェース(FI)チャンバ208、ロードロックチャンバ210、又は処理チャンバ212の内部のAMCをモニタすることができ、それらをTAMC装置226によってサンプリングして分析し、各チャンバの清浄度を認識することができる。処理機器モジュール202のチャンバ内で処理される各ウェーハ(一般的にFOUP内に25枚のウェーハ)を待つ間、TAMC装置226は、各チャネル(すなわち、各個々のサンプリングチューブ)から収集された空気のサンプリング及び分析を続けてAMCレベルの変化を記録する。そのようなAMCモニタ処理は、特定の処理段階及び場所に対してインラインでリアルタイムのAMC結果を提供するが、既存の製造手順を変えることなく提供し、その理由は、通常の製造工程シーケンスを妨げることなく、特定ターゲットからの空気サンプルを対応するチューブチャネルを通してインラインで直接収集することができるからである。システム200の場合に、AMC分析に対して可動キャリア/FOUP206をその通常処理から引き抜く必要はない。
【0022】
TAMC226及び処理機器モジュール202の一方又は両方は、遠隔データ/制御サーバ288と有線又は無線で通信することができるので、サンプリングして分析する時間及びチャネル(すなわち、個々のサンプリングチューブ)に関する指令を受信することができる。その一方、TAMC226は、製造工程制御のためのフィードバックとして検査結果を遠隔サーバ228に報告することができ、このサーバ228は、有線又は無線で処理機器モジュール202と通信して製作レシピの修正のような調整をもたらすことができる。別の実施形態では、有線又は無線で処理機器と直接通信するようにTAMC装置226をプログラムし、TAMC装置によって測定されたインラインのAMC結果に基づいて製造工程を制御することができる。ロードポート204、前部インタフェース208、ロードロック210、又は処理チャンバ212でのサンプリング及び分析は、時系列で又は並行して行うことができ、TAMC装置226に予めプログラムされるか又は遠隔データ/制御サーバ228から指令が送られた場合に行われるかのいずれかとすることができる。
【0023】
図3A~3Cは共に、
図2及び4~9に示すような空気汚染及び処理健全性モニタのためのインラインモニタシステム及び方法に使用することができるTAMC装置300の実施形態を示している。
図3AはTAMC装置300の実施形態のブロック図であり、この装置は、AMC検出結果を収集し、分析し、報告するためにいくつかのデバイスの組合せを有する。
【0024】
TAMC300はハウジング302に収容され、そのハウジングは固定されるか又は移動可能であるものとすることができる。例えば、ハウジング302は、固定式又は可動式のキャビネットとすることができ、実施形態によっては、可動キャリア206のような可動キャリアとすることができる(例えば、
図9参照)。TAMC300は、サンプリングチューブバス224からの個々のサンプリングチューブに流体的に結合された入口を有するマニホルド304を含む(
図3B~3C参照)。マニホルド304はまた、チューブ306を通して様々なアナライザに流体的に結合された1又は2以上の出口を含む。チューブ306はバルブ307を含むので、マニホルドからの出力をあらゆるアナライザ又はアナライザの組合せに選択的に誘導することができる。チューブ306は、全てのAMC化合物に対して不活性であり、AMC化合物を引きつけもしない。それらは、不動態化された又は被覆された金属チューブ、又は不活性プラスチックチューブ(例えば、PFA又はテフロン(登録商標))とすることができる。
【0025】
アナライザ308~328は、それらの特定タイプの検出に対するセンサ又はセンサアレイを含むことができるが、一部の実施形態では、ガスクロマトグラフ、事前濃縮器、トラップ、フィルタ、及びバルブなどを含む追加の構成要素を含むことができる。異なる実施形態では、様々なガスアナライザ(VOC、酸、塩基など)、粒子計数器、湿度センサ、温度センサ、イオンアナライザを使用することができる。TAMC300の実施形態は、とりわけ、かつ列挙するアナライザに限定することなく、以下のタイプのアナライザのうちの1又は2以上を含むことができる:
-IPAのような特定の(個々の)揮発性有機化合物(VOC)を収集してその濃度を分析し、及び/又はVOCの全濃度を検出するアナライザ、
-特定の(個々の)酸化合物(例えば、HF、H2SO4、HClなど)を収集してその濃度を分析し、及び/又は酸の全濃度を検出するアナライザ、
-特定の(個々の)塩基化合物(例えば、NH4OH、NaOHなど)を収集してその濃度を分析し、及び/又は塩基の全濃度を検出するアナライザ、
-特定の(個々の)硫化物系化合物を収集してその濃度を分析し、及び/又は硫化物の全濃度を検出するアナライザ、
-特定の(個々の)アミン化合物を収集してその濃度を分析し、及び/又はアミンの全濃度を検出するアナライザ、
-空中粒子又はエアロゾルの数を検出するためにマニホルド装置に接続したアナライザ、
-サンプル湿度を検出するためのアナライザ、
-サンプル温度を検出するためのアナライザ、
-化学冷却剤(例えば、フッ化炭素化合物(CxF))又はドライエッチング化学物質(例えば、CxFy)のようなフッ化物系化合物を検出し、及び/又はフッ化炭素のような化学的冷却剤の全濃度又はドライエッチング化学物質の全濃度を検出するアナライザ、
-F-、Cl-、PO43-、NOx-、SO22-のような特定の(個々の)アニオン(負に帯電したイオン)を収集し、その濃度を分析し、及び/又はアニオンの全濃度を検出するアナライザ、
-NH4+のような特定の(個々の)カチオン(負に帯電したイオン)を収集し、その濃度を分析し、及び/又はカチオンの全濃度を検出するアナライザ、
-特定の(個々の)金属イオンを収集してその濃度を分析し、及び/又は金属イオンの全濃度を検出するアナライザ、
-特定の(個々の)シリコンドープイオンを収集してその濃度を分析し、及び/又はドーパントの全濃度を検出するアナライザ。
【0026】
アナライザ308~328は、制御及び通信システム332に通信的に結合され、その制御及び通信システム332は、TAMC装置300に含まれる全てのアナライザ及び装置の作動を統括する。制御及び通信システム332を使用してアナライザ308~328からデータを受信し、処理し、及び/又は解釈し、各アナライザ及びその関連するバルブ307は、サンプル分析のために制御及び通信システムによって制御することができる。一実施形態では、制御及び通信システム332のハードウエアは、プロセッサ、メモリ、及びストレージなどをこの列挙したハードウエアに必要とされる機能を実行させる命令を有するソフトウエアと共に含む汎用コンピュータとすることができる。しかし、別の実施形態では、制御及び通信システム332は、特定用途向け集積回路(ASIC)のような専用コンピュータとすることができ、これも、必要とされる機能を実行させる命令を有するソフトウエアを有する。
【0027】
制御及び通信システム332は、有線又は無線で1又は2以上の処理機器モジュールに対して、及び/又は各TAMCからデータを集め、各TAMCとそれが結合された処理機器とを制御することができる遠隔データ/制御サーバ(例えば、
図2参照)に対して通信的に結合することができる。従って、TAMCシステムは、リアルタイムの検査結果更新を受信して送信し、又はインラインAMC分析を実行すべき特定のサンプリングチャネル(すなわち、特定の個々のサンプリングチューブ)のようなサーバから作動指令を受信することができる。
【0028】
他所に示して説明するように(
図2及び4~9参照)、1又は2以上のTAMC300を使用して、複数の可動キャリア/FOUP、1又は2以上の処理機器モジュール内の複数のチャンバ、又は可動キャリア及び処理機器モジュールの組合せをモニタすることができる。TAMC300の使用により、通常の製造工程を妨げることなく、直接的なインラインモニタの方法を提供する。
【0029】
図3Bは、TAMCシステム300に使用可能なマニホルド350の実施形態を示している。マニホルド350は、三方バルブ356を通して個々のサンプリングチューブ352に流体的に結合された1又は2以上の入口チューブ354を含む。図示の実施形態は、対応するバルブ356a~356eを有する5つの個々のサンプリングチューブ352a~352eを有するが、別の実施形態は、異なる数の個々のサンプリングチューブと異なる数のバルブとで構成することができ、全てのサンプリングチューブがバルブを有する必要がある訳ではない。
【0030】
図示の実施形態では、入口チューブ354は、入口チューブ内の汚染物質を捕捉する可能性があるデッドスペースを排除する設計を有する。各三方バルブ356は、個々のサンプリングチューブのための洗浄ポートとして使用可能な追加のポートを有するが、別の実施形態では、三方バルブ356の代わりに他のタイプのバルブを使用することができる。
【0031】
バッファタンク360は、三方バルブ358を通して入口チューブ354に流体的に結合される。バッファタンクは、TAMCシステム300が短時間に大量のサンプル(例えば、5秒以内に20リットル)を収集することを可能にする。状況により、AMC汚染レベルは10秒未満で変化する場合がある。バルブ358及び270(三方バルブ又は切り換えバルブとすることができる)は、バッファタンク360の入口及び出口に位置決めされ、これらのバルブは、空気サンプリングを必要とする時に開き、空気サンプルが収集された時に閉じる。バッファタンク360はまた、アナライザが後で汚染レベルを測定するための特定位置の出口からの過渡的AMCの収集を可能にする。
【0032】
バッファタンク360は、圧力コントローラ362及びバルブ364を通してその内部に流体的に結合された清浄空気入口、及びバルブ366によってバッファタンク360の内部に流体的に結合された清浄空気出口を有する。清浄空気入口及び清浄空気出口は、バッファタンク360の内部を洗い流して、バッファタンク又はサンプリングチューブの内部に残るあらゆるサンプルを洗浄する機能を提供する。バッファタンク360はまた、必要に応じて、バルブ374によってバッファタンク360の内部に流体的に結合された周囲空気入口372を有することができる。
【0033】
任意的なサンプリングポンプ368は、バルブ370を通してバッファタンク360の内部に流体的に結合させることができる。存在する場合に、サンプリングポンプ368を使用して、入口チューブ354で受け入れたサンプルをバッファタンク360の内部に引き込むことができる。サンプリングポンプ368は、バッファタンク360内の圧力を低減してロードポート排気口、FI、ロードロック、又は処理チャンバの出口から空気を取り出す。ロードポート排気、FIチャンバ、ロードロックチャンバ、又は処理チャンバの出力及び従って個々のサンプリングチューブ352の出力が正の圧力/流れを有する実施形態では、サンプリングポンプ368を必要としない場合がある。
【0034】
Nアナライザまでの1又は2以上のアナライザは、バルブ376を通してバッファタンク360の出口に流体的に結合することができ、これらのアナライザは、
図3Aに示すアナライザ308~328に対応する。異なる実施形態に使用可能なアナライザのタイプの非限定的なリストは、
図3Aに関連して上記に与えている。
【0035】
図3Cは、TAMC300に使用可能なマニホルド375の実施形態を示している。マニホルド375は、ほとんどの点でマニホルド350と類似する。マニホルド375と350の主な違いは、場合によりバッファタンク360に入る前にサンプルを分析することが有用であるということである。一部のアナライザ/センサは、高速の感知応答を有するか、又は収集されたサンプルを分け合うためにバッファタンクに接続する必要のない内部高速サンプリングモジュールを含む。これに適応するように、マニホルド375は、三方バルブ358の上流側でチューブ354に流体的に結合された分流器380を有する。分流器380は、温度/湿度アナライザ382又は他タイプのアナライザ384のような1又は2以上のアナライザに流体的に結合される。そのような実施形態では、アナライザ/センサは、バッファタンク360内に収集されたサンプルを消費しない。
【0036】
図3Dは、マニホルド390の別の実施形態を示している。マニホルド390は、ほとんどの点でマニホルド350及び370と類似する。主な違いは、マニホルド390がバッファタンク360を含まないことである。大きいサンプル体積を収集して保存するためのバッファタンクが必要とされない実施形態では、バッファタンク360は、個々のアナライザへの流体結合を有するチューブ392で置換することができる。例えば、実施形態では、チューブ392に直列に接続された複数の分流器(例えば、実施形態では分流器380のような)を使用してチューブ392をNアナライザに結合し、N個の個々のアナライザのうちの1又は2以上にサンプル流体を向けることができる。
【0037】
図4は、TAMC300のようなTAMC装置の実施形態を使用するインラインモニタシステム400の実施形態を示している。モニタシステム400では、1又は2以上の処理機器モジュールが製造機器に位置決めされる。図示の実施形態は、2つの処理機器モジュール402及び404を有するが、別の実施形態は、図示よりも多い又は少ない処理機器モジュールを含むことができる。搬送システムは、可動キャリア、この実施形態ではFOUPを一方の処理機器モジュールから他方の処理機器モジュールに移動する。
【0038】
処理機器モジュール402は、そのチャンバのうちの1又は2以上に結合されたサンプリングチューブバス408を有し、処理機器モジュール404も同様に、そのチャンバのうちの1又は2以上に結合されたサンプリングチューブバス410を有する。図を乱雑にしないように、サンプリングチューブバス408及び410を簡略化された形態に示すが、実施形態では、サンプリングチューブバス408及び410の各々は、
図2に示す処理機器モジュール402に流体的に結合された1組の個々のサンプリングチューブ及びチューブバスを含むことができる。
【0039】
TAMC406は移動可能であり、サンプリングチューブバス408及び410に対して迅速に接続及び切断を行うことができる。チューブバス408及び410に対して迅速に接続及び切断を行う機能を使用して、TAMC406は、例えば、ローリングキャビネットに収容することにより、処理機器モジュール402と処理機器モジュール404との間で容易に移動することができる。TAMC装置406は、最初に特定の時間だけ処理機器モジュール402に流体的に結合され、処理機器の清浄度をインラインでモニタし、かつ処理機器に移送されたFOUPをモニタすることもできる。次に、TAMCシステムを移動して処理機器モジュール404に流体的に結合させ、その清浄度及びそれに移送されたFOUP内の清浄度を引き続きモニタすることができる。
【0040】
図5は、インラインモニタシステム500の別の実施形態を示している。システム500では、複数のTAMCを処理機器モジュール502に接続して、処理機器モジュール内の特定チャンバを独立してモニタすることに集中することができる。
【0041】
図示の実施形態では、処理機器モジュール502は、複数のチャンバを有し、以前と同様に、それは、FOUPのような1又は2以上の可動キャリアが嵌合可能なロードポートを有し、図示の実施形態では、前部インタフェース、処理ロードロックチャンバ、及び処理チャンバも有する。異なるTAMCは、処理機器モジュール502内の異なるチャンバに流体的に結合され、図示の実施形態では、1つのTAMC504がロードポートに流体的に結合され、別のTAMC506が前部インタフェースに流体的に結合され、第3のTAMC508がロードロックチャンバ及び処理チャンバに流体的に結合される。別の実施形態では、流体結合は、図示のものとは異なる場合がある。図には示さないが、TAMC504~508及び処理機器モジュール502は、
図2に示すように有線又は無線で相互に中央サーバに又は相互にかつ中央サーバに通信的に結合することができる。
【0042】
図6は、インラインモニタシステム600の別の実施形態を示している。システム600は、複数の処理機器モジュールを含み、図示の実施形態は、L1~L16とラベル付けされた16個の処理機器モジュールを有するが、別の実施形態は、図示よりも多い又は少ない処理機器モジュールを有することができる。このシステムは、2つの別々のサンプリングチューブバス602及び604を含む。サンプリングチューブバス602は、全ての処理機器モジュールL1~L16に流体的に結合された1又は2以上の個々のサンプリングチューブを有し、サンプリングチューブバス604も、全ての処理機器モジュールL1~L16に流体的に結合された1又は2以上の個々のサンプリングチューブを有する。
【0043】
システム600の異なる実施形態では、様々なサンプリングチューブバスの構成が可能である。一実施形態では、例えば、サンプリングチューブバス602は、その個々のサンプリングチューブの全てが1つのタイプの処理機器モジュールチャンバに結合されるものとすることができ、一方でサンプリングチューブバス604は、その個々のサンプリングチューブが別のタイプのチャンバに結合されるものとすることができる。例えば、サンプリングチューブバス602は、その個々のサンプリングチューブが処理装置モジュールL1~L16のロードポートに結合されるものとすることができ、一方でサンプリングチューブバス604は、その個々のサンプリングチューブが処理装置モジュールL1~L16の処理チャンバに結合されるものとすることができる。別の実施形態では、バス602は、その個々のサンプリングチューブが各処理機器モジュール内のチャンバの1つの組合せに結合されるものとすることができ、一方でバス604は、その個々のサンプリングチューブが各処理機器モジュール内のチャンバの別の組合せに結合されるものとすることができる。更に別の実施形態では、バス602及び604は共に、例えば
図2に示すように、それらの個々のサンプリングチューブの全てが全ての処理装置モジュールの全てのチャンバに結合されるものとすることができる。
【0044】
TAMCを各サンプリングチューブバスに流体的に結合して各個々のサンプリングチューブからサンプルを収集し、収集されたサンプルを分析し、すなわち、TAMC606はサンプリングチューブバス602に結合され、TAMC608はサンプリングチューブバス604に流体的に結合されるので、TAMCのサンプリングチューブバスに対する1対1の対応が存在する。しかし、別の実施形態では、サンプリングチューブバス602及び604を切り離して、図示よりも多い又は少ない数のTAMCに向けることができる。他の図示の実施形態でのように、TAMC602~608及び個々の処理機器モジュールL1~L16は、有線又は無線で相互に及び/又は
図2に示すように中央又は遠隔サーバ/制御センター610に通信的に結合することができる。処理機器モジュールL1~L16とサーバ610の間の通信接続は、図を乱雑にしないように示されていない。
【0045】
インラインモニタシステム600の場合に、異なるインラインTAMCシステムの組合せを使用して同じ処理領域をカバーすることができる。1又は2以上のインラインTAMCシステムを流体的に結合してロードポートFOUP排気をモニタすることに集中することができるが、別のインラインTAMCシステムを流体的に結合してターゲット処理領域内の全機器のFIチャンバをモニタすることに集中することができる。工場内のターゲット処理領域内にある全てのロードロックチャンバ及び/又は処理チャンバに対する追加のインラインTAMCシステムについても同様である。
【0046】
図7は、インラインモニタシステム700の別の実施形態を示している。システム700は、複数の処理機器モジュールを含み、図示の実施形態は、L1~L16とラベル付けされた16個の処理機器モジュールを有するが、別の実施形態は、図示よりも多い又は少ない処理機器モジュールを有することができる。このシステムは、2つの別々のサンプリングチューブバス702及び704を含む。サンプリングチューブバス702は、処理機器モジュールの部分集合、この実施形態ではL1~L4及びL9~L12のチャンバに流体的に結合された1又は2以上の個々のサンプリングチューブを有し、サンプリングチューブバス704も、処理機器モジュールの異なる部分集合、この実施形態ではL5~L8及びL13~L16のチャンバに流体的に結合された1又は2以上の個々のサンプリングチューブを有する。
【0047】
システム700の異なる実施形態では、様々なサンプリングチューブバス構成が可能である。一実施形態では、例えば、サンプリングチューブバス702は、その個々のサンプリングチューブの全てが1つのタイプの処理機器モジュールチャンバに結合されるものとすることができ、一方でサンプリングチューブバス704は、その個々のサンプリングチューブが別のタイプのチャンバに結合されるものとすることができる。例えば、サンプリングチューブバス702は、その個々のサンプリングチューブが処理装置モジュールL1~L4及びL9~L12のロードポートに結合されるものとすることができ、一方でサンプリングチューブバス704は、その個々のサンプリングチューブが処理装置モジュールL5~L8及びL13~L16の処理チャンバに結合されるものとすることができる。別の実施形態では、バス702は、その個々のサンプリングチューブがその部分集合内の各処理機器モジュールにおけるチャンバの1つの組合せに結合されるものとすることができ、一方でバス704は、その個々のサンプリングチューブがその部分集合内の各処理機器モジュールにおけるチャンバの別の組合せに結合されるものとすることができる。更に別の実施形態では、バス702と704は共に、例えば
図2に示すように、それらの個々のサンプリングチューブの全てが全ての処理装置モジュールの全てのチャンバに結合されるものとすることができる。
【0048】
TAMCを各サンプリングチューブバスに流体的に結合して、各個々のサンプリングチューブからサンプルを収集し、収集されたサンプルを分析し、すなわち、TAMC706はサンプリングチューブバス702に結合され、TAMC708はサンプリングチューブバス704に流体的に結合されるが、別の実施形態では、サンプリングチューブバス702及び704を切り離して図示よりも多い又は少ない数のTAMCに向けることができる。他の図示の実施形態でのように、TAMC702~708及び個々の処理機器モジュールL1~L16は、有線又は無線で相互に及び/又は
図2に示すように中央又は遠隔のサーバ/制御センター710に通信的に結合することができる。処理機器モジュールL1~L16とサーバ710の間の通信接続は、図を乱雑にしないように示されていない。
【0049】
インラインモニタシステム700の場合に、製造機器内の特定処理領域をカバーするために、TAMC706及び708を使用して、拡張されたマニホルド設計(すなわち、より多くのサンプリングチャネル)によって複数の処理機器/モジュールに接続することができる。各インラインTAMCは、特定の総数の処理機器(及びFOUP)に対してFOUPロードポート排気、FI、ロードロック、又は処理チャンバをモニタするように構成することができる。
【0050】
図8は、インラインモニタシステム800の別の実施形態を示している。システム800は、複数の処理機器モジュールを含み、図示の実施形態は、L1~L16とラベル付けされた16個の処理機器モジュールを有するが、別の実施形態は、図示よりも多い又は少ない処理機器モジュールを有することができる。このシステムは、2つの別々のサンプリングチューブバス802及び804を含む。サンプリングチューブバス802は、処理機器モジュールの部分集合、この実施形態ではL1~L4及びL9~L12のチャンバに流体的に結合された1又は2以上の個々のサンプリングチューブを有し、サンプリングチューブバス804も、処理機器モジュールの異なる部分集合、この実施形態ではL5~L8及びL13~L16のチャンバに流体的に結合された1又は2以上の個々のサンプリングチューブを有する。
【0051】
システム800の異なる実施形態では、様々なサンプリングチューブバス構成が可能である。一実施形態では、例えば、サンプリングチューブバス802は、その個々のサンプリングチューブの全てが1つのタイプの処理機器モジュールチャンバに結合されるものとすることができ、一方でサンプリングチューブバス804は、その個々のサンプリングチューブが別のタイプのチャンバに結合されるものとすることができる。例えば、サンプリングチューブバス802は、その個々のサンプリングチューブが処理装置モジュールL1~L4及びL9~L12のロードポートに結合されるものとすることができ、一方でサンプリングチューブバス804は、その個々のサンプリングチューブが処理装置モジュールL5~L8及びL13~L16の処理チャンバに結合されるものとすることができる。別の実施形態では、バス802は、その個々のサンプリングチューブがその部分集合内の各処理機器モジュールにおけるチャンバの1つの組合せに結合されるものとすることができ、一方でバス804は、その個々のサンプリングチューブがその部分集合内の各処理機器モジュールにおけるチャンバの別の組合せに結合されるものとすることができる。更に別の実施形態では、バス802と804は共に、例えば
図2に示すように、それらの個々のサンプリングチューブの全てが全ての処理装置モジュールの全てのチャンバに結合されるものとすることができる。
【0052】
図示の実施形態では、可動TAMC806を各サンプリングチューブバスに流体的に結合して、そのバス内の各個々のサンプリングチューブからサンプルを収集し、収集されたサンプルを分析する。サンプリングチューブバス802及び804に対して迅速に接続及び切断を行う機能を使用して、TAMC806は、例えば、ローリングキャビネットに収容することにより、サンプリングチューブバスの間で容易に移動することができる。TAMC806は、最初にサンプリングチューブバス802に結合される。その対応する処理機器モジュールの部分集合のモニタが終了すると、TAMC806は、サンプリングチューブバス802から切り離され、サンプリングチューブバス804に流体的に結合される。他の図示の実施形態でのように、TAMC806及び個々の処理機器モジュールL1~L16は、有線又は無線で相互に及び/又は
図2に示すように中央又は遠隔のサーバ/制御センター810に通信的に結合することができる。処理機器モジュールL1~L16とサーバ810の間の通信接続は、図を乱雑にしないように示されていない。
【0053】
インラインモニタシステム800の場合に、製造機器内の特定処理領域をカバーするために、単一インラインTAMCシステムは、拡張されたマニホルド設計(より多くのサンプリングチャネル)によって複数の処理機器/モジュールに接続することができる。インラインTAMCを場所Aから場所Bに移動して、複数の処理機器を有する場所B領域でAMCモニタをカバーすることができる。別の実施形態では、製造機器内の特定処理領域をカバーするために、拡張されたマニホルド設計(より多くのサンプリングチャネル)によって複数の処理機器/モジュールに接続された単一インラインTAMCシステムは移動可能にすることができる。インラインTAMCを場所Aから場所Bに移動して、複数の処理機器を有する場所B領域でAMCモニタをカバーすることができる。
【0054】
図9は、インラインモニタシステム900の別の実施形態を示している。モニタシステム900は、ほとんどの点で、
図2に示すモニタシステム200に類似し、TAMC226と実質的に202のような処理機器モジュールの異なるチャンバとの間の流体的に結合は実質的に同じであり、TAMC226、処理機器モジュール202、及び遠隔データ/制御サーバ228の間の通信接続も実質的に同じである。
【0055】
システム900とシステム200の主な違いは、システム900では、可動キャリア904が処理機器モジュール202のロードポート204に嵌合可能であるのと同様に、TAMC226がそれ自体のロードポート902を含み、可動キャリアがそのロードポート902に分析のために嵌合可能であることである。一実施形態では、ロードポート902は、可動キャリア904及び206を分析のためにドッキングさせることができる追加の場所を提供する。別の実施形態では、ロードポート902は、TAMC226が目的別可動キャリア904のベースステーションとして機能することを可能にする。例えば、可動キャリア904は、より詳細なTAMC分析、FOUP洗浄、又はFOUP内バッテリ充電を行うために(通常運ぶ半導体ウェーハの代わりに)FOUP内部にバッテリ駆動センサ又はサンプリング収集器を運ぶ特別な処理健全性モニタFOUPとすることができる。目的別可動キャリア/FOUPも、通常処理FOUPと同じロードポート204に移送することができる。ロードポート902はまた、標準的な可動キャリア又は処理FOUPに対して、内側のウェーハの有無に関わらず、直接的にAMC分析を行うのに使用することができる。
【0056】
要約書に説明するものを含めて、実施形態の以上の説明は、包括的であること又は説明する形態に本発明を限定することを意図したものではない。本発明の特定の実施形態及び本発明に関する実施例を説明目的で本明細書に説明したが、当業者が認識するように、上述の詳細説明に照らして本発明の範囲内で様々な同等な修正が可能である。ロードポートを有するインラインTAMCシステムは、直接FOUPドッキング及び分析に対して設計される。
【0057】
以下の特許請求の範囲に使用する用語は、本明細書及び特許請求の範囲に開示する特定の実施形態に本発明を限定するものと解釈すべきではない。むしろ、本発明の範囲は、確立されたクレーム解釈の教義を使用して解釈されるものとする以下の特許請求の範囲によって全体的に決定されるものとする。
【符号の説明】
【0058】
200 インラインモニタシステム
202 処理機器モジュール
206 可動キャリア(FOUP)
214 サンプリングチューブバス
226 総合空中分子汚染(TAMC)装置
【手続補正書】
【提出日】2024-10-23
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
マニホルドと、
1又は2以上のアナライザと、
前記1又は2以上のアナライザに結合された制御及び通信システムと、
を含む空中分子汚染(AMC)モニタ装置であって、
前記マニホルドは、
サンプリングチューブバスの複数の個々のサンプリングチューブと流体的に結合するようになっている入口チューブであって、前記個々のサンプリングチューブの各々は、第1の多方向バルブによって前記入口チューブに流体的に結合されている、入口チューブと、
第2の多方向バルブによって前記入口チューブに流体的に結合されたバッファタンクであって、前記バッファタンクは、清浄空気入口及び清浄空気出口を含むバッファタンクと、
複数の出口チューブであって、前記出口チューブの各々は、前記バッファタンクに流体的に結合され、前記出口チューブの各々は、バルブを介してアナライザに流体的に結合されている、複数の出口チューブと、
を含み、
前記第1の多方向バルブ、前記第2の多方向バルブ、及び前記出口チューブを前記アナライザに流体的に結合するバルブは、前記清浄空気入口及び前記清浄空気出口が前記バッファタンクを洗い流すために使用できるように構成することができ、
前記1又は2以上のアナライザは、前記複数の個々のサンプリングチューブのうちの1又は2以上を通って前記マニホルドに引き込まれる流体を分析するために、前記マニホルドの1又2の出口のうちの1つに各々が流体的に結合される、AMCモニタ装置。
【請求項2】
個々のサンプリングチューブの各々は、処理機器ステーションのチャンバに結合されている、請求項1に記載のAMCモニタ装置。
【請求項3】
1又は2以上のセンサは、個々の又は全体的な揮発性有機化合物(VOC)検出器、酸化合物検出器、塩基化合物検出器、硫化物系化合物検出器、アミン化合物検出器、空気粒子又はエアロゾル計数検出器、湿度検出器、温度検出器、化学冷却剤検出器、アニオン検出器、カチオン検出器、金属イオン検出器、又はドープイオン検出器を含むことができる、請求項1に記載のAMCモニタ装置。
【請求項4】
前記第1の多方向バルブ、前記第2の多方向バルブ、及び前記出口チューブをアナライザに流体的に結合するバルブは、前記清浄空気入口及び前記清浄空気出口が、前記個々のサンプリングチューブ、前記入口チューブ、又は前記複数の出口チューブの1又は2以上を洗い流すために使用できるように構成することができる、請求項1に記載のAMCモニタ装置。
【請求項5】
前記マニホルドは、前記バッファタンクの内部に流体的に結合されたポンプをさらに含む、請求項4に記載のAMCモニタ装置。
【請求項6】
前記入口チューブを前記バッファタンクに結合する前記多方向バルブの上流で前記入口チューブに結合された1又は2以上のアナライザをさらに含む、請求項5に記載のAMCモニタ装置。
【請求項7】
前記多方向バルブの上流で前記入口チューブに結合された前記1又は2以上のアナライザは、温度アナライザ又は湿度アナライザを含む、請求項6に記載のAMCモニタ装置。
【請求項8】
前記入口チューブを前記バッファタンクに結合する前記多方向バルブに流体的に結合されたポンプをさらに含む、請求項1のAMCモニタ装置。
【請求項9】
各々が複数の個々のサンプリングチューブを含む2又は3以上のサンプリングバスであって、前記サンプリングバスの各々は、処理機器モジュールに対応し、サンプリングバスの個々のサンプリングチューブは、前記対応する処理機器モジュールの1又は2以上のチャンバに流体的に結合されるようになっている、2又は3以上のサンプリングバスと、
前記2又は3以上のサンプリングバスのうちの1つに流体的に結合及び結合解除されるように構成された単一の空中分子汚染(AMC)装置と、
遠隔サーバと、
を含む環境モニタシステムであって、
前記空中分子汚染装置は、
複数の入口を有するマニホルドであって、前記AMC装置が結合される前記サンプリングバスからの前記個々のサンプリングチューブの各々は、前記マニホルドの前記複数の入口の1つに流体的に結合されるようになっている、マニホルドと、
1又は2以上のアナライザと、
前記1又は2以上のアナライザに結合された制御及び通信システムと、
を含み、
前記マニホルドは、
前記複数の個々のサンプリングチューブに流体的に結合されるようになっている入口チューブであって、前記個々のサンプリングチューブの各々は、第1の多方向バルブによって前記入口チューブに流体的に結合されている、入口チューブと、
第2の多方向バルブによって前記入口チューブに流体的に結合されたバッファタンクであって、前記バッファタンクは、清浄空気入口及び清浄空気出口を含むバッファタンクと、
複数の出口チューブであって、前記出口チューブの各々は、前記バッファタンクに流体的に結合され、前記出口チューブの各々は、バルブを介してアナライザに流体的に結合されている、複数の出口チューブと、
を含み、
前記第1の多方向バルブ、前記第2の多方向バルブ、及び前記出口チューブを前記アナライザに流体的に結合するバルブは、前記清浄空気入口及び前記清浄空気出口が前記バッファタンクを洗い流すために使用できるように構成することができ、
前記1又は2以上のアナライザは、前記複数の個々のサンプリングチューブのうちの1又は2以上を通って前記マニホルドに引き込まれる流体を分析するために、前記マニホルドの1又2の出口のうちの1つに各々が流体的に結合され、
前記遠隔サーバは、前記制御及び通信システムに無線又は有線で通信的に結合されており、
前記単一のAMC装置は、移動可能であり、1つのサンプリングバスに流体的に結合される位置から、別のサンプリングバスに流体的に結合され得る位置まで移動することができる、環境モニタシステム。
【請求項10】
前記処理機器モジュールの各々は、製造されている品目を運ぶ可動キャリアを受け入れるロードポートを含み、少なくとも1つの個々のサンプリングチューブは、前記可動キャリアが前記ロードポート上に置かれた時に前記可動キャリアの内側の環境をサンプリングするために前記ロードポートの各々に流体的に結合されている、請求項9に記載のシステム。
【請求項11】
個々のサンプリングチューブは、各チャンバの内の環境をサンプリングするために、前記処理機器モジュールのインターフェイスチャンバ、ロックロードチャンバ、及び処理チャンバに流体的に結合するようになっている、請求項10に記載のシステム。
【請求項12】
前記AMC装置に取り付けられ、前記AMC装置の少なくとも1つの個々のサンプリングチューブに流体的に結合されるロードポートをさらに含む、請求項11に記載のシステム。
【請求項13】
各々が複数の個々のサンプリングチューブを含む2又は3以上のサンプリングバスであって、前記サンプリングバスの各々は、処理機器モジュールの組に対応し、サンプリングバスの個々のサンプリングチューブは、前記対応する処理機器モジュールの組のうちの処理機器モジュールのチャンバに流体的に結合されるようになっている、2又は3以上のサンプリングバスと、
前記2又は3以上のサンプリングバスのうちの1つに流体的に結合及び結合解除されるように構成された単一の空中分子汚染(AMC)装置と、
遠隔サーバと、
を含む環境モニタシステムであって、
前記空中分子汚染装置は、
複数の入口を有するマニホルドであって、前記AMC装置が結合される前記サンプリングバスからの個々のサンプリングチューブの各々は、前記マニホルドの前記複数の入口の1つに流体的に結合されるようになっている、マニホルドと、
1又は2以上のアナライザと、
前記1又は2以上のアナライザに結合された制御及び通信システムと、
を含み、
前記マニホルドは、
前記複数の個々のサンプリングチューブに流体的に結合されるようになっている入口チューブであって、前記個々のサンプリングチューブの各々は、第1の多方向バルブによって前記入口チューブに流体的に結合されている、入口チューブと、
第2の多方向バルブによって前記入口チューブに流体的に結合されたバッファタンクであって、前記バッファタンクは、清浄空気入口及び清浄空気出口を含むバッファタンクと、
複数の出口チューブであって、前記出口チューブの各々は、前記バッファタンクに流体的に結合され、前記出口チューブの各々は、バルブを介してアナライザに流体的に結合されている、複数の出口チューブと、
を含み、前記第1の多方向バルブ、前記第2の多方向バルブ、及び前記出口チューブを前記アナライザに流体的に結合するバルブは、前記清浄空気入口及び前記清浄空気出口が前記バッファタンクを洗い流すために使用できるように構成することができ、
前記1又は2以上のアナライザは、前記複数の個々のサンプリングチューブのうちの1又は2以上を通って前記マニホルドに引き込まれる流体を分析するために、前記マニホルドの1又2の出口のうちの1つに各々が流体的に結合され、
前記遠隔サーバは、前記制御及び通信システムに無線又は有線で通信的に結合されており、
前記単一のAMC装置は、移動可能であり、1つのサンプリングバスに流体的に結合される位置から、別のサンプリングバスに流体的に結合される位置まで移動することができる、環境モニタシステム。
【請求項14】
前記処理機器モジュールの各々は、製造されている品目を運ぶ可動キャリアを受け入れるロードポートを含み、少なくとも1つの個々のサンプリングチューブは、前記可動キャリアが前記ロードポート上に置かれた時に前記可動キャリアの内側の環境をサンプリングするために前記ロードポートの各々に流体的に結合される、請求項13に記載のシステム。
【請求項15】
個々のサンプリングチューブは、各チャンバの内の環境をサンプリングするために、前記処理機器モジュールのインターフェイスチャンバ、ロックロードチャンバ、及び処理チャンバに流体的に結合するようになっている、請求項14に記載のシステム。
【請求項16】
前記AMC装置に取り付けられ、前記AMC装置の少なくとも1つの個々のサンプリングチューブに流体的に結合されるロードポートをさらに含む、請求項13に記載のシステム。
【請求項17】
前記制御及び通信システムは、無線又は有線で、遠隔サーバ、前記少なくとも1つの処理機器モジュール、又は前記遠隔サーバ及び前記少なくとも1つの処理機器モジュールの両方に通信的に結合されている、請求項13記載のシステム。
【請求項18】
2又は3以上のサンプリングバスのうちの1つに流体的に結合及び結合解除されるように構成された空中分子汚染(AMC)装置と、
遠隔サーバと、
前記AMC装置に取り付けられたAMCロードポートと、
を含む環境モニタシステムであって、
前記空中分子汚染装置は、
複数の入口を有するマニホルドであって、前記マニホルドの前記入口の各々は、少なくとも1つの処理機器モジュールの1又は2以上のチャンバに流体的に結合される複数の個々のサンプリングチューブの1つに流体的に結合されるようになっている、マニホルドと、
1又は2以上のアナライザと、
前記1又は2以上のアナライザに結合された制御及び通信システムと、
を含み、
前記マニホルドは、
前記複数の個々のサンプリングチューブに流体的に結合されるようになっている入口チューブであって、前記個々のサンプリングチューブの各々は、第1の多方向バルブによって前記入口チューブに流体的に結合されている、入口チューブと、
第2の多方向バルブによって前記入口チューブに流体的に結合されたバッファタンクであって、前記バッファタンクは、清浄空気入口及び清浄空気出口を含むバッファタンクと、
複数の出口チューブであって、前記出口チューブの各々は、前記バッファタンクに流体的に結合され、前記出口チューブの各々は、バルブを介してアナライザに流体的に結合されている、複数の出口チューブと、
を含み、
前記第1の多方向バルブ、前記第2の多方向バルブ、及び前記出口チューブを前記アナライザに流体的に結合するバルブは、前記清浄空気入口及び前記清浄空気出口が前記バッファタンクを洗い流すために使用できるように構成することができ、
前記1又は2以上のアナライザは、前記複数の個々のサンプリングチューブのうちの1又は2以上を通って前記マニホルドに引き込まれる流体を分析するために、前記マニホルドの1又2の出口のうちの1つに各々が流体的に結合され、
前記遠隔サーバは、前記制御及び通信システムに無線又は有線で通信的に結合されており、
前記AMCロードポートは、前記マニホルドの少なくとも1つの入口に流体的に結合され、前記ロードポートは、移動可能なキャリアを受け入れることができる、システム。
【請求項19】
前記処理機器モジュールの各々は、製造されている品目を運ぶ可動キャリアを受け入れるロードポートを含み、少なくとも1つの個々のサンプリングチューブは、前記可動キャリアが前記ロードポート上に置かれた時に前記可動キャリアの内側の環境をサンプリングするために前記ロードポートの各々に流体的に結合される、請求項18に記載のシステム。
【請求項20】
個々のサンプリングチューブは、各チャンバの内の環境をサンプリングするために、前記処理機器モジュールのインターフェイスチャンバ、ロックロードチャンバ、及び処理チャンバに流体的に結合するようになっている、請求項19に記載のシステム。
【請求項21】
前記制御及び通信システムは、無線又は有線で、遠隔サーバ、前記少なくとも1つの処理機器モジュール、又は前記遠隔サーバ及び前記少なくとも1つの処理機器モジュールの両方に通信的に結合されている、請求項18記載のシステム。
【請求項22】
デッドスペースを低減又は排除する入口チューブと、前記入口チューブに流体的に結合する複数の出口とを含むマニホルドと、
前記入口チューブに流体的に結合されたサンプリングチューブバスであって、前記サンプリングチューブバスは、複数の個々のサンプリングチューブを含み、前記個々のサンプリングチューブの各々は、多方向バルブによって前記マニホルドの前記入口チューブに流体的に結合されている、サンプリングチューブバスと、
2又は3以上のアナライザであって、前記複数の個々のサンプリングチューブのうちの1又は2以上を通って前記マニホルドに引き込まれる流体の成分を分析するために、バルブによって対応する前記マニホルドの前記複数の出口のうちの1つに各々が流体的に結合される、2又は3以上のアナライザと、
前記2又は3以上のアナライザの上流の前記マニホルドに流体的に結合されたポンプと、
前記2又は3以上のアナライザに結合された制御及び通信システムと、
を含む、空中分子汚染(AMC)モニタ装置。
【請求項23】
前記個々のサンプリングチューブの各々は、処理機器ステーションのチャンバに結合される、請求項22に記載のAMCモニタ装置。
【請求項24】
1又は2以上のセンサは、個々の又は全体的な揮発性有機化合物(VOC)検出器、酸化合物検出器、塩基化合物検出器、硫化物系化合物検出器、アミン化合物検出器、空気粒子又はエアロゾル計数検出器、湿度検出器、温度検出器、化学冷却剤検出器、アニオン検出器、カチオン検出器、金属イオン検出器、又はドープイオン検出器を含むことができる、請求項22に記載のAMCモニタ装置。
【請求項25】
前記マニホルドは、
前記入口チューブの前記1又2以上の出口に多方向バルブによって流体的に結合されたバッファタンクと、
前記バッファタンクの内部を洗い流すために、前記バッファタンクに結合された清浄空気入口及び清浄空気出口と、
をさらに含む、請求項22に記載のAMCモニタ装置
【請求項26】
前記ポンプは、前記バッファタンクの内部に流体的に結合されている、請求項25に記載のAMCモニタ装置。
【請求項27】
前記入口チューブを前記バッファタンクに結合する前記多方向バルブの上流で前記入口チューブに結合された1又は2以上のアナライザをさらに含む、請求項26に記載のAMCモニタ装置。
【請求項28】
前記多方向バルブの上流で前記入口チューブに結合された前記1又は2以上のアナライザは、温度アナライザ又は湿度アナライザを含む、請求項27に記載のAMCモニタ装置。
【請求項29】
前記入口チューブを前記バッファタンクに結合する前記多方向バルブに流体的に結合されたポンプをさらに含む、請求項25のAMCモニタ装置。
【請求項30】
前記制御及び通信システムは、無線又は有線で、遠隔サーバ、処理機器モジュール、又は前記遠隔サーバ及び前記処理機器モジュールの両方に通信的に結合されている、請求項22記載のシステム。
【請求項31】
前記AMCモニタ装置に取り付けられ、少なくとも1つの個々のサンプリングチューブに流体的に結合されたロードポートをさらに含む、請求項22に記載のAMCモニタ装置。
【請求項32】
前記多方向バルブは、サンプルを前記入口チューブに導くように、又はサンプルを前記1又は2以上のサンプリングチューブに導くことなく排出するように選択的に設定することができる、請求項22に記載のAMCモニタ装置。
【請求項33】
複数のサンプリングチューブを含むサンプリングバスであって、前記サンプリングチューブの各々は、少なくとも1つの処理機器モジュールの1又は2以上のチャンバに流体的に結合されている、サンプリングバスと、
前記サンプリングバスに流体的に結合された1又は2以上の空中分子汚染(AMC)装置と、
遠隔サーバと、
を含む環境モニタシステムであって、
前記空中分子汚染装置は、
デッドスペースを低減又は排除する入口チューブと、前記入口チューブに流体的に結合する複数の出口とを含むマニホルドと、
前記入口チューブに流体的に結合されたサンプリングチューブバスであって、前記サンプリングチューブバスは、複数の個々のサンプリングチューブを含み、前記個々のサンプリングチューブの各々は、多方向バルブによって前記マニホルドの前記入口チューブに流体的に結合されている、サンプリングチューブバスと、
2又は3以上のアナライザであって、前記複数の個々のサンプリングチューブのうちの1又は2以上を通って前記マニホルドに引き込まれる流体の成分を分析するために、バルブによって対応する前記マニホルドの前記複数の出口のうちの1つに各々が流体的に結合される、2又は3以上のアナライザと、
前記2又は3以上のアナライザの上流の前記マニホルドに流体的に結合されたポンプと、
前記2又は3以上のアナライザに結合された制御及び通信システムと、
を含み、
前記遠隔サーバは、前記制御及び通信システムに無線又は有線で通信的に結合されている、環境モニタシステム。
【請求項34】
前記処理機器モジュールの各々は、製造されている品目を運ぶ可動キャリアを受け入れるロードポートを含む、請求項33に記載のシステム。
【請求項35】
少なくとも1つの個々のサンプリングチューブは、前記可動キャリアが前記ロードポート上に置かれた時に前記可動キャリアの内側の環境をサンプリングするために前記ロードポートの各々に流体的に結合されている、請求項34に記載のシステム。
【請求項36】
個々のサンプリングチューブは、各チャンバの内の環境をサンプリングするために、前記処理機器モジュールのインターフェイスチャンバ、ロックロードチャンバ、及び処理チャンバに流体的に結合するようになっている、請求項34に記載のシステム。
【請求項37】
前記少なくとも1つの処理機器モジュールは、各組がそれ自体のサンプリングバスと前記サンプリングバスに結合されたそれ自体のAMC装置とを有する2又は3以上の組にグループ分けされた複数の処理機器モジュールを含む、請求項33に記載のシステム。
【請求項38】
前記少なくとも1つの処理機器モジュールは、各組がそれ自体のサンプリングバスを有する2又は3以上の組にグループ分けされた複数の処理機器モジュールを含み、
単一可動AMC装置が、各組をモニタするために各サンプリングバスに接続され、かつそこから切断される、
請求項33に記載のシステム。
【請求項39】
前記少なくとも1つの処理機器モジュールは、複数の処理機器モジュールを含み、処理機器モジュールの各々が、対のサンプリングバスに結合され、前記対のサンプリングバスの各々が、それ自体の環境モニタ装置に接続されている、請求項33に記載のシステム。
【請求項40】
前記制御及び通信システムは、遠隔サーバに、前記少なくとも1つの処理機器モジュールに、又は前記遠隔サーバ及び前記少なくとも1つの処理機器モジュールの両方に無線又は有線で通信的に結合される、請求項33に記載のシステム。
【請求項41】
前記1又は2以上のAMC装置のうちの少なくとも1つに取り付けられ、ロードポートが取り付けられた前記AMC装置の少なくとも1つの個々のサンプリングチューブに流体的に結合されたロードポートをさらに含む、請求項11に記載のシステム。
【請求項42】
前記多方向バルブは、サンプルを入口チューブに導くように、又はサンプルを1又は2以上のサンプリングチューブに導くことなく排出するように選択的に設定することができる、請求項33に記載のAMCモニタ装置。
【請求項43】
空中分子汚染(AMC)モニタ装置で使用されるようになっているマニホルドであって、
複数の個々のサンプリングチューブを流体的に結合するようになっている入口チューブであって、前記サンプリングチューブの各々は、第1の多方向バルブによって前記入口チューブに流体的に結合される、入口チューブと、
第2の多方向バルブによって前記入口チューブに流体的に結合された複数の出口チューブであって、前記出口チューブの各々は、バルブを介して対応するアナライザに流体的に結合されるようになっている、複数の出口チューブと、
を含み、
前記第1の多方向バルブ、前記第2の多方向バルブ、及び前記複数の出口チューブの各々を前記対応するアナライザに流体的に結合するバルブの各々は、前記マニホルドを洗浄することができるように構成することができる、マニホルド。
【請求項44】
前記複数の出口チューブは、前記第2の多方向バルブに流体的に結合されるバッファタンクによって前記入口チューブに流体的に結合されている、請求項43に記載のマニホルド。
【請求項45】
前記バッファタンクに流体的に結合された清浄空気入口及び清浄空気出口をさらに含む、請求項44に記載のマニホルド。
【請求項46】
前記バッファタンクに流体的に結合された周囲空気入口をさらに含む、請求項45に記載のマニホルド。
【請求項47】
前記バッファタンクに流体的に結合されたポンプをさらに含む、請求項44に記載のマニホルド。
【請求項48】
前記複数の出口チューブは、前記第2の多方向バルブに流体的に結合されたチューブによって前記入口チューブに流体的に結合されている、請求項43に記載のマニホルド。
【請求項49】
前記チューブに流体的に結合された清浄空気入口及び清浄空気出口をさらに含む、請求項48に記載のマニホルド。
【請求項50】
前記チューブに流体的に結合された周囲空気入口をさらに含む、請求項49に記載のマニホルド。
【請求項51】
前記チューブに流体的に結合されたポンプをさらに含む、請求項48に記載のマニホルド。
【請求項52】
前記第2の多方向バルブに流体的に結合されたポンプをさらに含む、請求項43に記載のマニホルド。
【請求項53】
前記入口チューブは、汚染物質を捕捉することができるデッドスペースを排除するようになっている、請求項43に記載のマニホルド。
【請求項54】
空中分子汚染(AMC)モニタ装置で使用されるようになっているマニホルドであって、
サンプリングチューブバスの複数の個々のサンプリングチューブに流体的に結合するようになっている入口チューブであって、前記サンプリングチューブの各々は、第1の多方向バルブによって前記入口チューブに流体的に結合される、入口チューブと、
第2の多方向バルブによって前記入口チューブに流体的に結合された複数の出口チューブであって、前記出口チューブの各々は、バルブを介して対応するアナライザに流体的に結合されるようになっている、出口チューブと、
を含む、マニホルド。
【請求項55】
前記複数の出口チューブは、前記第2の多方向バルブに流体的に結合されるバッファタンクによって前記入口チューブに流体的に結合されている、請求項54に記載のマニホルド。
【請求項56】
前記バッファタンクに流体的に結合された清浄空気入口及び清浄空気出口をさらに含む、請求項55に記載のマニホルド。
【請求項57】
前記バッファタンクに流体的に結合された周囲空気入口をさらに含む、請求項56に記載のマニホルド。
【請求項58】
前記バッファタンクに流体的に結合されたポンプをさらに含む、請求項55に記載のマニホルド。
【請求項59】
前記複数の出口チューブは、前記第2の多方向バルブに流体的に結合されたチューブによって前記入口チューブに流体的に結合されている、請求項54に記載のマニホルド。
【請求項60】
前記チューブに流体的に結合された清浄空気入口及び清浄空気出口をさらに含む、請求項59に記載のマニホルド。
【請求項61】
前記チューブに流体的に結合された周囲空気入口をさらに含む、請求項60に記載のマニホルド。
【請求項62】
前記チューブに流体的に結合されたポンプをさらに含む、請求項59に記載のマニホルド。
【請求項63】
前記第2の多方向バルブに流体的に結合されたポンプをさらに含む、請求項54に記載のマニホルド。
【請求項64】
前記入口チューブは、汚染物質を捕捉することができるデッドスペースを排除するようになっている、請求項54に記載のマニホルド。
【請求項65】
マニホルドと、
2又は3以上のアナライザと、
前記2又は3以上のアナライザに結合された制御及び通信システムと、
を含む、空中分子汚染(AMC)モニタ装置であって、
前記マニホルドは、
複数の個々のサンプリングチューブに流体的に結合するようになっている入口チューブであって、前記個々のサンプリングチューブの各々は、第1の多方向バルブによって前記入口チューブに流体的に結合されている、入口チューブと、
第2の多方向バルブによって前記入口チューブに流体的に結合された複数の出口チューブであって、前記出口チューブの各々は、バルブを介して対応するアナライザに流体的に結合されるようになっている、出口チューブと、
を含み、
前記第1の多方向バルブ、前記第2の多方向バルブ、及び前記複数の出口チューブの各々を前記対応するアナライザに流体的に結合するバルブの各々は、前記マニホルドを洗浄することができるように構成することができ、
前記2又は3以上のアナライザは、前記複数の個々のサンプリングチューブのうちの1又は2以上を通って前記マニホルドに引き込まれる流体を分析するために、対応する出口チューブに各々が流体的に結合されている、AMCモニタ装置。
【請求項66】
前記複数の出口チューブは、前記第2の多方向バルブに流体的に結合されたチューブによって前記入口チューブに流体的に結合されている、請求項65に記載のAMCモニタ装置。
【請求項67】
前記チューブに流体的に結合された清浄空気入口及び清浄空気出口をさらに含む、請求項66に記載のAMCモニタ装置。
【請求項68】
前記チューブに流体的に結合された周囲空気入口をさらに含む、請求項67に記載のAMCモニタ装置。
【請求項69】
前記チューブに流体的に結合されたポンプをさらに含む、請求項66に記載のAMCモニタ装置。
【請求項70】
前記第2の多方向バルブに流体的に結合されたポンプをさらに含む、請求項65に記載のAMCモニタ装置。
【請求項71】
前記入口チューブは、汚染物質を捕捉することができるデッドスペースを排除するようになっている、請求項65に記載のAMCモニタ装置。
【請求項72】
前記個々のサンプリングチューブの各々は、処理機器ステーションのチャンバに結合されている、請求項65に記載のAMCモニタ装置。
【請求項73】
1又は2以上のセンサは、個々の又は全体的な揮発性有機化合物(VOC)検出器、酸化合物検出器、塩基化合物検出器、硫化物系化合物検出器、アミン化合物検出器、空気粒子又はエアロゾル計数検出器、湿度検出器、温度検出器、化学冷却剤検出器、アニオン検出器、カチオン検出器、金属イオン検出器、又はドープイオン検出器を含むことができる、請求項65に記載のAMCモニタ装置。
【請求項74】
前記第2の多方向バルブの上流で前記入口チューブに流体的に結合された1又は2以上のアナライザをさらに含む、請求項65に記載のAMCモニタ装置。
【請求項75】
前記第2の多方向バルブの上流で前記入口チューブに結合された前記1又は2以上のアナライザは、温度アナライザ又は湿度アナライザを含む、請求項74に記載のAMCモニタ装置。
【外国語明細書】