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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2025013808
(43)【公開日】2025-01-28
(54)【発明の名称】日焼け止め組成物
(51)【国際特許分類】
A61K 8/49 20060101AFI20250121BHJP
A61K 8/27 20060101ALI20250121BHJP
A61Q 17/04 20060101ALI20250121BHJP
【ＦＩ】
A61K8/49
A61K8/27
A61Q17/04
【審査請求】有
【請求項の数】1
【出願形態】ＯＬ
【外国語出願】
(21)【出願番号】P 2024173156
(22)【出願日】2024-10-02
(62)【分割の表示】P 2018563115の分割
【原出願日】2017-06-01
(31)【優先権主張番号】62/344,795
(32)【優先日】2016-06-02
(33)【優先権主張国・地域又は機関】US
(71)【出願人】
【識別番号】510270764
【氏名又は名称】コボ プロダクツ インコーポレイテッド
(74)【代理人】
【識別番号】110000671
【氏名又は名称】ＩＢＣ一番町弁理士法人
(72)【発明者】
【氏名】シュロスマン，デーヴィット
(72)【発明者】
【氏名】シャオ，ユン
(72)【発明者】
【氏名】ファシーナ，ルナ
(57)【要約】 （修正有）
【課題】有用な日焼け止め成分であるビス－エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン（ＢＥＭＴ）および酸化亜鉛の両方を、有用な製剤に最良に使用するための日焼け止め組成物を提供する。
【解決手段】ＵＶ保護において相乗効果が得られる比で、非ナノＺｎＯおよびビス－エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン（ＢＥＭＴ）を含む、日焼け止め組成物が提供される。
【選択図】なし
【解決手段】ＵＶ保護において相乗効果が得られる比で、非ナノＺｎＯおよびビス－エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン（ＢＥＭＴ）を含む、日焼け止め組成物が提供される。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
ＵＶ保護において相乗効果が得られる比で、非ナノＺｎＯおよびビス－エチルヘキシル
オキシフェノールメトキシフェニルトリアジン（ＢＥＭＴ）を含む、日焼け止め組成物。
オキシフェノールメトキシフェニルトリアジン（ＢＥＭＴ）を含む、日焼け止め組成物。
【請求項2】
前記相乗効果が、対応する数学的に計算されたＳＰＦ値および／またはＰＦＡ値と比較
して、増加した日焼け止め指数（ＳＰＦ）値、増加したＵＶＡ保護係数（ＰＦＡ）値、ま
たはその両方を含む、請求項１に記載の日焼け止め組成物。
して、増加した日焼け止め指数（ＳＰＦ）値、増加したＵＶＡ保護係数（ＰＦＡ）値、ま
たはその両方を含む、請求項１に記載の日焼け止め組成物。
【請求項3】
少なくとも１５のＳＰＦ値もしくは少なくとも８のＰＦＡ値、またはその両方を有する
、請求項１または２に記載の日焼け止め組成物。
、請求項１または２に記載の日焼け止め組成物。
【請求項4】
少なくとも１６のＳＰＦ値もしくは少なくとも１０のＰＦＡ値、またはその両方を有す
る、請求項１または２に記載の日焼け止め組成物。
る、請求項１または２に記載の日焼け止め組成物。
【請求項5】
少なくとも２０のＳＰＦ値もしくは少なくとも１２のＰＦＡ値、またはその両方を有す
る、請求項１または２に記載の日焼け止め組成物。
る、請求項１または２に記載の日焼け止め組成物。
【請求項6】
少なくとも２５のＳＰＦ値もしくは少なくとも１５のＰＦＡ値、またはその両方を有す
る、請求項１または２に記載の日焼け止め組成物。
る、請求項１または２に記載の日焼け止め組成物。
【請求項7】
前記非ナノＺｎＯは、約１００ｎｍ～約３００ｎｍのメジアン一次粒子径（median pri
mary particle size）を有する、請求項１～６のいずれか１項に記載の日焼け止め組成物
。
mary particle size）を有する、請求項１～６のいずれか１項に記載の日焼け止め組成物
。
【請求項8】
前記ナノＺｎＯは、粒子径１００ｎｍ以下の粒子を１．５％未満有する、請求項１～７
のいずれか１項に記載の日焼け止め組成物。
のいずれか１項に記載の日焼け止め組成物。
【請求項9】
前記非ナノＺｎＯが被覆されていない、請求項１～８のいずれか１項に記載の日焼け止
め組成物。
め組成物。
【請求項10】
前記非ナノＺｎＯが異なる酸化物化合物で被覆されている、請求項１～８のいずれか１
項に記載の日焼け止め組成物。
項に記載の日焼け止め組成物。
【請求項11】
前記異なる酸化物化合物がシリカである、請求項１０に記載の日焼け止め組成物。
【請求項12】
前記非ナノＺｎＯが、シラン類、シリコーン類、有機チタネート類、脂肪酸類、金属石
鹸類、ポリオール類、ジメチコン類、およびこれらの組み合わせからなる群より選択され
る有機材料でさらに被覆されている、請求項１～１１のいずれか１項に記載の日焼け止め
組成物。
鹸類、ポリオール類、ジメチコン類、およびこれらの組み合わせからなる群より選択され
る有機材料でさらに被覆されている、請求項１～１１のいずれか１項に記載の日焼け止め
組成物。
【請求項13】
約０．１重量％および約２５重量％の間のレベルで非ナノＺｎＯを含む、請求項１～１
２のいずれか１項に記載の日焼け止め組成物。
２のいずれか１項に記載の日焼け止め組成物。
【請求項14】
非ナノＺｎＯが約１重量％および約２０重量％の間のレベルである、請求項１３に記載
の日焼け止め組成物。
の日焼け止め組成物。
【請求項15】
非ナノＺｎＯが約２重量％および約１５重量％の間のレベルである、請求項１３に記載
の日焼け止め組成物。
の日焼け止め組成物。
【請求項16】
非ナノＺｎＯが約３重量％および約１０重量％の間のレベルである、請求項１３に記載
の日焼け止め組成物。
の日焼け止め組成物。
【請求項17】
ビス－エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン（ＢＥＭＴ）を約
０．１重量％および約２重量％の間のレベルで含む、請求項１～１３のいずれか１項に記
載の日焼け止め組成物。
０．１重量％および約２重量％の間のレベルで含む、請求項１～１３のいずれか１項に記
載の日焼け止め組成物。
【請求項18】
ＢＥＭＴが約０．２重量％および１．８重量％の間のレベルである、請求項１３に記載
の日焼け止め組成物。
の日焼け止め組成物。
【請求項19】
ＢＥＭＴが約０．５重量％および１．５重量％の間のレベルである、請求項１３に記載
の日焼け止め組成物。
の日焼け止め組成物。
【請求項20】
皮膚、毛髪または爪のケアのために無着色（unpigmented）である、請求項１～１７の
いずれか１項に記載の日焼け止め組成物。
いずれか１項に記載の日焼け止め組成物。
【請求項21】
ローションまたはクリームである、請求項１～２０のいずれか１項に記載の日焼け止め
組成物。
組成物。
【請求項22】
ファンデーション、口紅、マニキュア、およびプレストパウダー（pressed powder）か
らなる群より選択される色彩化粧料（color cosmetic）である、請求項１～１７のいずれ
か１項に記載の日焼け止め組成物。
らなる群より選択される色彩化粧料（color cosmetic）である、請求項１～１７のいずれ
か１項に記載の日焼け止め組成物。
【請求項23】
有機または無機ＵＶフィルターをさらに含む、請求項１～２２のいずれか１項に記載の
日焼け止め組成物。
日焼け止め組成物。
【請求項24】
前記無機ＵＶフィルターは、二酸化チタン、酸化鉄、およびシリカである、請求項２３
に記載の日焼け止め組成物。
に記載の日焼け止め組成物。
【請求項25】
前記有機ＵＶフィルターが、ベンゾフェノン－３（ＢＰ３）およびベンゾフェノン－４
（ＢＰ４）などのベンゾフェノン類；ホモサレート（ＨＭＳ）、２－エチルヘキシルサリ
チレート（ＥＨＳ）などのサリチル酸塩類；エチルヘキシルジメチルＰＡＢＡ（ＯＤ－Ｐ
ＡＢＡ）、４－ｐ－アミノ安息香酸（ＰＡＢＡ）などのｐ－アミノ安息香酸（ＰＡＢＡ）
および誘導体；フェニルベンズイミダゾールスルホン酸（ＰＭＤＳＡ）、フェニルジベン
ズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム（ビスジスチリゾール二ナトリウム）など
のベンズイミダゾール誘導体；エチルヘキシルトリアゾン（ＯＴ）、ジエチルヘキシルブ
タミドトリアゾン（ＤＢＴ）、ベンゾトリアゾール類、ドロメトリゾールトリシロキサン
（ＤＲＴ）、メチレンビス－ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノ（ビスコトリ
アゾール）（ＭＢＰ）などのトリアジン類；ブチルメトキシジベンゾイルメタン（ＢＭ－
ＤＢＭ）などのジベンゾイルメタン誘導体類；エチルヘキシルメトキシシンナメート（Ｏ
ＭＣ）、イソアミルｐ－メトキシシンナメート（ＩＭＣ）などのケイ皮酸エステル類；な
らびにテレフタリデンジカンファースルホン酸（ＰＤＳＡ）、３－ベンジリデンカンファ
ー（３ＢＣ）、ベンジリデンカンファースルホン酸（ＢＣＳＡ）、４－メチルベンジリデ
ンカンファー（４－ＭＢＣ）、ポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー（ＰＢ
Ｃ）、およびカンファーベンザルコニウムメトサルフェート（ＣＢＭ）などのカンファー
誘導体類からなる群より選択される、請求項２３に記載の日焼け止め組成物。
（ＢＰ４）などのベンゾフェノン類；ホモサレート（ＨＭＳ）、２－エチルヘキシルサリ
チレート（ＥＨＳ）などのサリチル酸塩類；エチルヘキシルジメチルＰＡＢＡ（ＯＤ－Ｐ
ＡＢＡ）、４－ｐ－アミノ安息香酸（ＰＡＢＡ）などのｐ－アミノ安息香酸（ＰＡＢＡ）
および誘導体；フェニルベンズイミダゾールスルホン酸（ＰＭＤＳＡ）、フェニルジベン
ズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム（ビスジスチリゾール二ナトリウム）など
のベンズイミダゾール誘導体；エチルヘキシルトリアゾン（ＯＴ）、ジエチルヘキシルブ
タミドトリアゾン（ＤＢＴ）、ベンゾトリアゾール類、ドロメトリゾールトリシロキサン
（ＤＲＴ）、メチレンビス－ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノ（ビスコトリ
アゾール）（ＭＢＰ）などのトリアジン類；ブチルメトキシジベンゾイルメタン（ＢＭ－
ＤＢＭ）などのジベンゾイルメタン誘導体類；エチルヘキシルメトキシシンナメート（Ｏ
ＭＣ）、イソアミルｐ－メトキシシンナメート（ＩＭＣ）などのケイ皮酸エステル類；な
らびにテレフタリデンジカンファースルホン酸（ＰＤＳＡ）、３－ベンジリデンカンファ
ー（３ＢＣ）、ベンジリデンカンファースルホン酸（ＢＣＳＡ）、４－メチルベンジリデ
ンカンファー（４－ＭＢＣ）、ポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー（ＰＢ
Ｃ）、およびカンファーベンザルコニウムメトサルフェート（ＣＢＭ）などのカンファー
誘導体類からなる群より選択される、請求項２３に記載の日焼け止め組成物。
【請求項26】
前記有機ＵＶフィルターが、４－ｔｅｒｔ－ブチル－４’－メトキシジベンゾイルメタ
ン、２－メチルジベンゾイルメタン、４－メチル－ジベンゾイル－エタン、４－イソプロ
ピルジベンゾイル－メタン、４－ｔｅｒｔ－ブチルジベンゾイルメタン、２，４－ジメチ
ルジベンゾイルメタン、２，５－ジメチルジベンゾイルメタン、４，４’－ジイソプロピ
ル－ジベンゾイルメタン、２－メチル－５－イソプロピル－４’－メトキシジベンゾイル
メタン、２－メチル－５－ｔｅｒｔ－ブチル－４’－メトキシ－ジベンゾイルメタン、２
，４－ジメチル－４’－メトキシジベンゾイルメタン、および２，６－ジメチル－４－ｔ
ｅｒｔ－ブチル－４’－メトキシジベンゾイルメタンからなる群より選択されるジベンゾ
イルメタン誘導体である、請求項２３に記載の日焼け止め組成物。
ン、２－メチルジベンゾイルメタン、４－メチル－ジベンゾイル－エタン、４－イソプロ
ピルジベンゾイル－メタン、４－ｔｅｒｔ－ブチルジベンゾイルメタン、２，４－ジメチ
ルジベンゾイルメタン、２，５－ジメチルジベンゾイルメタン、４，４’－ジイソプロピ
ル－ジベンゾイルメタン、２－メチル－５－イソプロピル－４’－メトキシジベンゾイル
メタン、２－メチル－５－ｔｅｒｔ－ブチル－４’－メトキシ－ジベンゾイルメタン、２
，４－ジメチル－４’－メトキシジベンゾイルメタン、および２，６－ジメチル－４－ｔ
ｅｒｔ－ブチル－４’－メトキシジベンゾイルメタンからなる群より選択されるジベンゾ
イルメタン誘導体である、請求項２３に記載の日焼け止め組成物。
【請求項27】
サンレスタンニング剤、抗菌剤、脱色素剤、老化防止剤、抗真菌剤、防虫剤、およびこ
れらの組み合わせからなる群より選択される局所活性剤をさらに含む、請求項１～２３の
いずれか１項に記載の日焼け止め組成物。
れらの組み合わせからなる群より選択される局所活性剤をさらに含む、請求項１～２３の
いずれか１項に記載の日焼け止め組成物。
【請求項28】
表１に実質的に記載されおよび示される、請求項１に記載の日焼け止め組成物。
【請求項29】
請求項１および２８のいずれか１項に記載の日焼け止め組成物を含む化粧料またはパー
ソナルケア製剤。
ソナルケア製剤。
【請求項30】
請求項１および２８のいずれか１項に記載の日焼け止め組成物を含む物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
（関連出願の相互参照）
この出願は、３５ Ｕ．Ｓ．Ｃ． §１０９（ｅ）の下、２０１６年６月２日に出願さ
れた米国仮出願第６２／３４４，７９５号の優先権を主張するものであり、その全体の内
容が本明細書に参照により組み込まれる。
この出願は、３５ Ｕ．Ｓ．Ｃ． §１０９（ｅ）の下、２０１６年６月２日に出願さ
れた米国仮出願第６２／３４４，７９５号の優先権を主張するものであり、その全体の内
容が本明細書に参照により組み込まれる。
【0002】
（本発明の技術分野）
本発明は、化粧用の日焼け止め組成物および原料用途の技術分野に属し、特に、ビス－
エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン（ＢＥＭＴ）および非ナノ
酸化亜鉛を含有する広域スペクトル日焼け止め組成物に関する。
本発明は、化粧用の日焼け止め組成物および原料用途の技術分野に属し、特に、ビス－
エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン（ＢＥＭＴ）および非ナノ
酸化亜鉛を含有する広域スペクトル日焼け止め組成物に関する。
【背景技術】
【0003】
太陽放射は、約５％の紫外線（ＵＶ）放射を含み、これは２００ｎｍ～４００ｎｍの範
囲の波長を有し、３つの領域に分類することができる：３２０～４００ｎｍ（ＵＶ－Ａ）
、２９０～３２０ｎｍ（ＵＶ－Ｂ）、２００～２９０ｎｍ（ＵＶ－Ｃ）。大部分のＵＶＣ
はオゾン層に吸収されて地球上には到達しないが、ＵＶＡおよびＵＶＢの両方は大気圏を
貫通しうる。かつてはＵＶＢのみが懸念されると考えられていたが、ＵＶＡによって引き
起こされうる人体へのダメージについての行われた研究や得られた知識の増加に伴い、Ｕ
ＶＡおよびＵＶＢの両方がさまざまな健康関連の問題を引き起こすことが認識された。短
時間のＵＶ－ＡおよびＵＶ－Ｂへの曝露は皮膚の赤みおよび刺激を引き起こし、長時間の
曝露は日焼け、早期の皮膚老化、髪の損傷、眼の損傷（白内障を含む）、ならびに黒色腫
および他の皮膚癌を引き起こす可能性がある。したがって、大量のＵＶ－ＡおよびＵＶ－
Ｂ照射からの保護は、パーソナルケアの重要な部分である。
囲の波長を有し、３つの領域に分類することができる：３２０～４００ｎｍ（ＵＶ－Ａ）
、２９０～３２０ｎｍ（ＵＶ－Ｂ）、２００～２９０ｎｍ（ＵＶ－Ｃ）。大部分のＵＶＣ
はオゾン層に吸収されて地球上には到達しないが、ＵＶＡおよびＵＶＢの両方は大気圏を
貫通しうる。かつてはＵＶＢのみが懸念されると考えられていたが、ＵＶＡによって引き
起こされうる人体へのダメージについての行われた研究や得られた知識の増加に伴い、Ｕ
ＶＡおよびＵＶＢの両方がさまざまな健康関連の問題を引き起こすことが認識された。短
時間のＵＶ－ＡおよびＵＶ－Ｂへの曝露は皮膚の赤みおよび刺激を引き起こし、長時間の
曝露は日焼け、早期の皮膚老化、髪の損傷、眼の損傷（白内障を含む）、ならびに黒色腫
および他の皮膚癌を引き起こす可能性がある。したがって、大量のＵＶ－ＡおよびＵＶ－
Ｂ照射からの保護は、パーソナルケアの重要な部分である。
【0004】
ＵＶ照射からの保護における安全な使用のために、多くのＵＶ－Ｂ日焼け止め剤が知ら
れ、承認されている一方、ＵＶＡ照射から保護する新たな方法の探索は、ＵＶ－Ａ照射お
よびＵＶ－Ｂ照射の両方から保護することができる広域スペクトルのサンケア製品を開発
することを目標として、この分野における重要な試みであることが明らかになった。日焼
け止め指数（ＳＰＦ）およびＵＶＡ保護係数（ＰＦＡ）は、一般的に測定される光防護組
成物の性質であり、ＵＶ－Ｂ照射およびＵＶ－Ａ照射の両方の曝露から皮膚が受けるそれ
ぞれの保護を示す。
れ、承認されている一方、ＵＶＡ照射から保護する新たな方法の探索は、ＵＶ－Ａ照射お
よびＵＶ－Ｂ照射の両方から保護することができる広域スペクトルのサンケア製品を開発
することを目標として、この分野における重要な試みであることが明らかになった。日焼
け止め指数（ＳＰＦ）およびＵＶＡ保護係数（ＰＦＡ）は、一般的に測定される光防護組
成物の性質であり、ＵＶ－Ｂ照射およびＵＶ－Ａ照射の両方の曝露から皮膚が受けるそれ
ぞれの保護を示す。
【0005】
酸化亜鉛は、不活性であり、敏感肌の消費者にアレルギーまたは刺痛を引き起こさない
ため、世界的に認可された日焼け止め活性成分であり、日焼け止め製剤に広く使用されて
いる。酸化亜鉛は、主にＵＶＡを吸収するＵＶＡ日焼け止め成分であることが認められて
いる。研究によれば、マイクロＺｎＯは、インビボでの持続型即時黒化（persistent pig
ment darkening）法によって測定されるＰＦＡ値によって示されるように、十分なＵＶＡ
保護を提供することができる。しかしながら、ＺｎＯは弱いＵＶＢ保護しか提供できない
（Ｄ．ＳｃｈｌｏｓｓｍａｎおよびＹ．Ｓｈａｏ、「Ｓｕｎｓｃｒｅｅｎｓ：Ｒｅｇｕｌ
ａｔｉｏｎｓ ａｎｄ Ｃｏｍｍｅｒｃｉａｌ Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ、第３版、Ｎ．
Ｓａａｔｈ、ＴａｙｌｏｒおよびＦｒａｎｃｉｓ、２００５年３月」の「無機紫外線フィ
ルター」）。特に、非ナノ領域（Ｄ５０＞１００ｎｍ）のように、ＺｎＯの一次サイズが
大きくなると、ＵＶＡ領域およびＵＶＢ領域の両方における保護効果は、ナノＺｎＯ相当
物よりも効果が小さくなる。したがって、広域スペクトル保護を備えたＳＰＦ３０以上の
性能要求を満たすために、ＺｎＯは、他の有機日焼け止め剤および／または二酸化チタン
と共にしばしば使用される。
ため、世界的に認可された日焼け止め活性成分であり、日焼け止め製剤に広く使用されて
いる。酸化亜鉛は、主にＵＶＡを吸収するＵＶＡ日焼け止め成分であることが認められて
いる。研究によれば、マイクロＺｎＯは、インビボでの持続型即時黒化（persistent pig
ment darkening）法によって測定されるＰＦＡ値によって示されるように、十分なＵＶＡ
保護を提供することができる。しかしながら、ＺｎＯは弱いＵＶＢ保護しか提供できない
（Ｄ．ＳｃｈｌｏｓｓｍａｎおよびＹ．Ｓｈａｏ、「Ｓｕｎｓｃｒｅｅｎｓ：Ｒｅｇｕｌ
ａｔｉｏｎｓ ａｎｄ Ｃｏｍｍｅｒｃｉａｌ Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ、第３版、Ｎ．
Ｓａａｔｈ、ＴａｙｌｏｒおよびＦｒａｎｃｉｓ、２００５年３月」の「無機紫外線フィ
ルター」）。特に、非ナノ領域（Ｄ５０＞１００ｎｍ）のように、ＺｎＯの一次サイズが
大きくなると、ＵＶＡ領域およびＵＶＢ領域の両方における保護効果は、ナノＺｎＯ相当
物よりも効果が小さくなる。したがって、広域スペクトル保護を備えたＳＰＦ３０以上の
性能要求を満たすために、ＺｎＯは、他の有機日焼け止め剤および／または二酸化チタン
と共にしばしば使用される。
【0006】
Ｔｉｎｏｓｏｒｂ（登録商標）Ｓの商品名でのビス－エチルヘキシルオキシフェノール
メトキシフェニルトリアジン（ＢＥＭＴ）は、日焼け止め製剤におけるＵＶＡ保護のため
にＢＡＳＦ（旧称Ｃｉｂａ）によって製造されている。しかしながら、ＢＡＳＦの科学者
による研究（Ｕｌｉ Ｏｓｔｅｒｗａｌｄｅｒら、２００７年４月１７－１９日、パリ、
Ｉｎ－Ｃｏｓｍｅｔｉｃｓ、新規のＵＶＡ保護基準を達成する方法）において、ＢＥＭＴ
の性能は、以下のように平凡なものであった：
アクティブ：ＢＥＭＴ ４％
ＳＰＦ インビボ＝７．３±１．２
ＵＶＡ－ＰＦ インビボ＝７．６±２．２。
メトキシフェニルトリアジン（ＢＥＭＴ）は、日焼け止め製剤におけるＵＶＡ保護のため
にＢＡＳＦ（旧称Ｃｉｂａ）によって製造されている。しかしながら、ＢＡＳＦの科学者
による研究（Ｕｌｉ Ｏｓｔｅｒｗａｌｄｅｒら、２００７年４月１７－１９日、パリ、
Ｉｎ－Ｃｏｓｍｅｔｉｃｓ、新規のＵＶＡ保護基準を達成する方法）において、ＢＥＭＴ
の性能は、以下のように平凡なものであった：
アクティブ：ＢＥＭＴ ４％
ＳＰＦ インビボ＝７．３±１．２
ＵＶＡ－ＰＦ インビボ＝７．６±２．２。
【0007】
したがって、ＢＥＭＴおよび酸化亜鉛の両方が日焼け止め製品の日焼け止め活性成分と
して使用されてきたという事実にもかかわらず、これら二つの一般的に有用な日焼け止め
成分を有用な製剤にいかに最良に使用するかは、特にＺｎＯのサイズが大きい場合におい
て、依然として課題となっている。
して使用されてきたという事実にもかかわらず、これら二つの一般的に有用な日焼け止め
成分を有用な製剤にいかに最良に使用するかは、特にＺｎＯのサイズが大きい場合におい
て、依然として課題となっている。
【発明の概要】
【0008】
本発明は、ＵＶＡ照射およびＵＶＢ照射の両方に対する保護における、ＢＥＭＴおよび
非ナノＺｎＯの間の相乗効果の驚くべき発見に基づく。ＢＥＭＴの使用レベルが２重量％
を超えない場合、その組み合わせは広スペクトルかつ高いＵＶ保護を提供する。特に、本
発明は、ＢＥＭＴの１００ｎｍを超えるメディアン一次粒子径を有する非ナノＺｎＯとの
使用を提供し、非ナノＺｎＯのレベルは２５重量％以下である。
非ナノＺｎＯの間の相乗効果の驚くべき発見に基づく。ＢＥＭＴの使用レベルが２重量％
を超えない場合、その組み合わせは広スペクトルかつ高いＵＶ保護を提供する。特に、本
発明は、ＢＥＭＴの１００ｎｍを超えるメディアン一次粒子径を有する非ナノＺｎＯとの
使用を提供し、非ナノＺｎＯのレベルは２５重量％以下である。
【0009】
したがって、一態様において、本発明は、非ナノＺｎＯおよびビス－エチルヘキシルオ
キシフェノールメトキシフェニルトリアジン、および任意に他の有機または無機ＵＶフィ
ルターを含む日焼け止め組成物を提供する。
キシフェノールメトキシフェニルトリアジン、および任意に他の有機または無機ＵＶフィ
ルターを含む日焼け止め組成物を提供する。
【0010】
別の態様において、本発明の組成物は、本明細書に開示される、いずれかの実施形態に
係る日焼け止め組成物、またはその組み合わせを含む化粧料またはパーソナルケア製剤を
提供する。
係る日焼け止め組成物、またはその組み合わせを含む化粧料またはパーソナルケア製剤を
提供する。
【0011】
別の態様において、本発明の組成物は、本明細書に開示される、いずれかの実施形態に
係る日焼け止め組成物またはその組み合わせを含む物品を提供する。
係る日焼け止め組成物またはその組み合わせを含む物品を提供する。
【0012】
本発明の他の態様または利点は、以下に記載する詳細な説明および特許請求の範囲にお
いてより良く理解されるであろう。
いてより良く理解されるであろう。
【発明を実施するための形態】
【0013】
（発明の詳細な説明）
通常、大粒径のＺｎＯは、効果の低いＵＶ保護を提供するという従来の考えとは対照的
に、非ナノＺｎＯがＢＭＥＴと組み合わされたときに相乗効果が存在することが発見され
た。本発明の日焼け止め組成物は、ＺｎＯ、特にメディアン一次粒子径が１００ｎｍを超
える非ナノＺｎＯと、ＢＥＭＴとを含有する。
通常、大粒径のＺｎＯは、効果の低いＵＶ保護を提供するという従来の考えとは対照的
に、非ナノＺｎＯがＢＭＥＴと組み合わされたときに相乗効果が存在することが発見され
た。本発明の日焼け止め組成物は、ＺｎＯ、特にメディアン一次粒子径が１００ｎｍを超
える非ナノＺｎＯと、ＢＥＭＴとを含有する。
【0014】
非ナノＺｎＯを２５重量％まで、およびＢＥＭＴを２重量％まで使用した場合において
、驚くべきことにＺｎＯおよびＢＥＭＴの高い相乗効果が発見された。上記文献に報告さ
れている性能データによれば、計算されたＳＰＦおよびＰＦＡは、それぞれ１５未満およ
び８未満であると予想される。このようなＳＰＦを有する日焼け止め製品は、パッケージ
上に警告ラベルを付けることが要求され、したがって市場性に影響を及ぼす。対照的に、
本発明の非ナノＺｎＯおよびＢＥＭＴの組み合わせは、それぞれ、ＳＰＦが３５より高く
ＰＦＡが２５より高くなるよう試験された。
、驚くべきことにＺｎＯおよびＢＥＭＴの高い相乗効果が発見された。上記文献に報告さ
れている性能データによれば、計算されたＳＰＦおよびＰＦＡは、それぞれ１５未満およ
び８未満であると予想される。このようなＳＰＦを有する日焼け止め製品は、パッケージ
上に警告ラベルを付けることが要求され、したがって市場性に影響を及ぼす。対照的に、
本発明の非ナノＺｎＯおよびＢＥＭＴの組み合わせは、それぞれ、ＳＰＦが３５より高く
ＰＦＡが２５より高くなるよう試験された。
【0015】
したがって、一態様において、本発明は、日焼け止め組成物を製造するためのＺｎＯお
よびＢＥＭＴの組み合わせの適用を目的としている。
よびＢＥＭＴの組み合わせの適用を目的としている。
【0016】
一態様において、本発明は、ＵＶ保護において相乗効果が得られる比で、非ナノＺｎＯ
およびＢＥＭＴを含む日焼け止め組成物を提供する。
およびＢＥＭＴを含む日焼け止め組成物を提供する。
【0017】
一実施形態において、相乗効果は、２つの個々の成分の値に基づく、対応する数学的に
計算されたＳＰＦ値および／またはＰＦＡ値と比較して、インビボで測定される、増加し
た日焼け止め指数（ＳＰＦ）値、増加したＵＶＡ保護係数（ＰＦＡ）値、または両方で表
される。
計算されたＳＰＦ値および／またはＰＦＡ値と比較して、インビボで測定される、増加し
た日焼け止め指数（ＳＰＦ）値、増加したＵＶＡ保護係数（ＰＦＡ）値、または両方で表
される。
【0018】
いくつかの実施形態において、増加したＳＰＦ値は、少なくとも１５、少なくとも１６
、少なくとも１８、少なくとも２０である。いくつかの実施形態において、ＳＰＦ値は少
なくとも２５、少なくとも３０、または少なくとも３５である。
、少なくとも１８、少なくとも２０である。いくつかの実施形態において、ＳＰＦ値は少
なくとも２５、少なくとも３０、または少なくとも３５である。
【0019】
いくつかの実施形態において、増加したＰＦＡ値は、少なくとも８、少なくとも１０、
少なくとも１２、または少なくとも１５である。いくつかの実施形態において、ＰＦＡ値
は、少なくとも１８、少なくとも２０、少なくとも２２、または少なくとも２４である。
少なくとも１２、または少なくとも１５である。いくつかの実施形態において、ＰＦＡ値
は、少なくとも１８、少なくとも２０、少なくとも２２、または少なくとも２４である。
【0020】
当業者は、本開示に基づいて、所望のＳＰＦ値およびＰＦＡ値の組み合わせを達成する
ために、非ナノＺｎＯおよびＢＭＥＴの量および割合を調節することができるであろう。
ために、非ナノＺｎＯおよびＢＭＥＴの量および割合を調節することができるであろう。
【0021】
一実施形態において、ＺｎＯは、約２０～３００ｎｍの範囲のメディアン一次粒子径（
median primary particle size）を有する。
median primary particle size）を有する。
【0022】
別の実施形態において、ＺｎＯは、約２０～１００ｎｍの範囲のメディアン一次粒子径
を有する。
を有する。
【0023】
別の実施形態において、ＺｎＯは、メディアン一次粒子径が約１００ｎｍ以上（「非ナ
ノＺｎＯ」）である。
ノＺｎＯ」）である。
【0024】
別の実施形態において、ＺｎＯは、約１００～３００ｎｍの範囲のメディアン一次粒子
径を有する。
径を有する。
【0025】
別の実施形態において、ＺｎＯは、約１００～２００ｎｍの範囲のメディアン一次粒子
径を有する。
径を有する。
【0026】
別の実施形態において、ＺｎＯは、約２００～３００ｎｍの範囲のメディアン一次粒子
径を有する。
径を有する。
【0027】
一実施形態において、ＺｎＯは被覆されていない。
【0028】
別の実施形態において、ＺｎＯは異なる酸化物化合物で被覆されている。
【0029】
別の実施形態において、前記異なる酸化物化合物はシリカである。
【0030】
別の実施形態において、ＺｎＯは、シラン類、シリコーン類、有機チタネート類、脂肪
酸類、金属石鹸類、ポリオール類、ジメチコン類、およびこれらの組み合わせからなる群
より選択される有機材料でさらに被覆されている。
酸類、金属石鹸類、ポリオール類、ジメチコン類、およびこれらの組み合わせからなる群
より選択される有機材料でさらに被覆されている。
【0031】
別の実施形態において、ＺｎＯ含量は約２５重量％以下のレベルである。
【0032】
別の実施形態において、ＺｎＯ含量は、約０．１重量％～約２５重量％の範囲のレベル
である。
である。
【0033】
別の実施形態において、ＺｎＯ含量は、約１重量％～約２０重量％の範囲のレベルであ
る。
る。
【0034】
別の実施形態において、ＺｎＯ含量は、約２重量％～約１５重量％の範囲のレベルであ
る。
る。
【0035】
別の実施形態において、ＺｎＯ含量は、約３重量％～約１０重量％の範囲のレベルであ
る。
る。
【0036】
別の実施形態において、ビス－エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリ
アジン（ＢＥＭＴ）含量は、約２重量％以下のレベルである。
アジン（ＢＥＭＴ）含量は、約２重量％以下のレベルである。
【0037】
別の実施形態において、ＢＥＭＴ含量は、約０．１重量％～約２重量％の範囲のレベル
である。
である。
【0038】
別の実施形態において、ＢＥＭＴ含量は、約０．２重量％～約１．８重量％の範囲のレ
ベルである。
ベルである。
【0039】
別の実施形態において、ＢＥＭＴ含量は、約０．３重量％～約１．６重量％の範囲のレ
ベルである。
ベルである。
【0040】
別の実施形態において、ＢＥＭＴ含量は、約０．５重量％～約１．５重量％の範囲のレ
ベルである。
ベルである。
【0041】
別の実施形態において、日焼け止め組成物は、皮膚、毛髪または爪のケアのために無着
色（unpigmented）である。
色（unpigmented）である。
【0042】
別の実施形態において、日焼け止め組成物は、ファンデーション、口紅、マニキュア、
およびプレストパウダー（pressed powder）などからなる群より選択される色彩化粧料（
a color cosmetic）である。
およびプレストパウダー（pressed powder）などからなる群より選択される色彩化粧料（
a color cosmetic）である。
【0043】
別の実施形態において、日焼け止め組成物は、追加の有機または無機ＵＶフィルターを
さらに含む。
さらに含む。
【0044】
いくつかの実施形態において、日焼け止め組成物は、サンレスタンニング剤、抗菌剤、
脱色素剤、老化防止剤、抗真菌剤、防虫剤、およびこれらの組み合わせからなる群より選
択される局所活性剤をさらに含む。
脱色素剤、老化防止剤、抗真菌剤、防虫剤、およびこれらの組み合わせからなる群より選
択される局所活性剤をさらに含む。
【0045】
別の態様において、本発明は、表１に記載されるように、特に一実施形態において、実
質的に記載されおよび示された日焼け止め組成物を提供する。
質的に記載されおよび示された日焼け止め組成物を提供する。
【0046】
別の態様において、本発明の組成物は、本明細書に開示される、いずれかの実施形態に
係る日焼け止め組成物またはその組み合わせを含む化粧料またはパーソナルケア製剤を提
供する。
係る日焼け止め組成物またはその組み合わせを含む化粧料またはパーソナルケア製剤を提
供する。
【0047】
別の態様において、本発明の組成物は、本明細書に開示される、いずれかの実施形態に
係る日焼け止め組成物またはその組み合わせを含む物品を提供する。物品は、特に制限さ
れないが、チューブ、ボトル、ケース、ボックス、バッグ、噴霧装置などの、日焼け止め
組成物の容器の形態であってもよく、いかなる形状、スタイル、または色であってもよく
、日焼け止め組成物を収容するのに適したいかなる材料で製造されてもよい。
係る日焼け止め組成物またはその組み合わせを含む物品を提供する。物品は、特に制限さ
れないが、チューブ、ボトル、ケース、ボックス、バッグ、噴霧装置などの、日焼け止め
組成物の容器の形態であってもよく、いかなる形状、スタイル、または色であってもよく
、日焼け止め組成物を収容するのに適したいかなる材料で製造されてもよい。
【0048】
別の態様において、本発明の組成物は、本明細書に開示される、いずれかの実施形態に
係る日焼け止め組成物、またはその組み合わせの用途を提供する。
係る日焼け止め組成物、またはその組み合わせの用途を提供する。
【0049】
別の態様において、本発明は、１５より高いＳＰＦを得るための、本発明の第１の態様
の組成物を提供する。ＳＰＦは、好ましくは２０より高く、より好ましくは２５より高く
、さらにより好ましくは３０より高い。実施例の表１で調製される組成物は、３８の高い
ＳＰＦ値を示した。
の組成物を提供する。ＳＰＦは、好ましくは２０より高く、より好ましくは２５より高く
、さらにより好ましくは３０より高い。実施例の表１で調製される組成物は、３８の高い
ＳＰＦ値を示した。
【0050】
したがって、本発明は、比較的少量の日焼け止め化合物および低コスト材料を含む高Ｓ
ＰＦ日焼け止め組成物を提供し、ゆえに低コストで全体の利益を達成する。
ＰＦ日焼け止め組成物を提供し、ゆえに低コストで全体の利益を達成する。
【0051】
本発明の日焼け止め製剤は、当業者が理解するように、非ナノＺｎＯおよびＢＥＭＴの
相乗効果が保持される限り、１以上の他の有機または無機ＵＶフィルターを含むことがで
きる。
相乗効果が保持される限り、１以上の他の有機または無機ＵＶフィルターを含むことがで
きる。
【0052】
無機ＵＶフィルターは、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化鉄（例えば、Ｆｅ２Ｏ３）、
およびシリカなどを含むことができるが、これらに限定されない。
およびシリカなどを含むことができるが、これらに限定されない。
【0053】
数多くの有機ＵＶフィルターが化粧品分野で報告されている。これらに限定されないが
、ベンゾフェノン－３（ＢＰ３）およびベンゾフェノン－４（ＢＰ４）などのベンゾフェ
ノン類；ホモサレート（ＨＭＳ）、２－エチルヘキシルサリチレート（ＥＨＳ）などのサ
リチル酸塩類；エチルヘキシルジメチルＰＡＢＡ（ＯＤ－ＰＡＢＡ）、４－ｐ－アミノ安
息香酸（ＰＡＢＡ）などのｐ－アミノ安息香酸（ＰＡＢＡ）および誘導体；フェニルベン
ズイミダゾールスルホン酸（ＰＭＤＳＡ）、フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホ
ン酸二ナトリウム（ビスジスチリゾール二ナトリウム）などのベンズイミダゾール誘導体
；エチルヘキシルトリアゾン（ＯＴ）、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン（ＤＢＴ）
、ベンゾトリアゾール類、ドロメトリゾールトリシロキサン（ＤＲＴ）、メチレンビス－
ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノ（ビスコトリアゾール）（ＭＢＰ）などの
トリアジン類；ブチルメトキシジベンゾイルメタン（ＢＭ－ＤＢＭ）などのジベンゾイル
メタン誘導体類；エチルヘキシルメトキシシンナメート（ＯＭＣ）、イソアミルｐ－メト
キシシンナメート（ＩＭＣ）などのケイ皮酸エステル類；ならびにテレフタリデンジカン
ファースルホン酸（ＰＤＳＡ）、３－ベンジリデンカンファー（３ＢＣ）、ベンジリデン
カンファースルホン酸（ＢＣＳＡ）、４－メチルベンジリデンカンファー（４－ＭＢＣ）
、ポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー（ＰＢＣ）、カンファーベンザルコ
ニウムメトサルフェート（ＣＢＭ）などのカンファー誘導体類などが挙げられる。
、ベンゾフェノン－３（ＢＰ３）およびベンゾフェノン－４（ＢＰ４）などのベンゾフェ
ノン類；ホモサレート（ＨＭＳ）、２－エチルヘキシルサリチレート（ＥＨＳ）などのサ
リチル酸塩類；エチルヘキシルジメチルＰＡＢＡ（ＯＤ－ＰＡＢＡ）、４－ｐ－アミノ安
息香酸（ＰＡＢＡ）などのｐ－アミノ安息香酸（ＰＡＢＡ）および誘導体；フェニルベン
ズイミダゾールスルホン酸（ＰＭＤＳＡ）、フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホ
ン酸二ナトリウム（ビスジスチリゾール二ナトリウム）などのベンズイミダゾール誘導体
；エチルヘキシルトリアゾン（ＯＴ）、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン（ＤＢＴ）
、ベンゾトリアゾール類、ドロメトリゾールトリシロキサン（ＤＲＴ）、メチレンビス－
ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノ（ビスコトリアゾール）（ＭＢＰ）などの
トリアジン類；ブチルメトキシジベンゾイルメタン（ＢＭ－ＤＢＭ）などのジベンゾイル
メタン誘導体類；エチルヘキシルメトキシシンナメート（ＯＭＣ）、イソアミルｐ－メト
キシシンナメート（ＩＭＣ）などのケイ皮酸エステル類；ならびにテレフタリデンジカン
ファースルホン酸（ＰＤＳＡ）、３－ベンジリデンカンファー（３ＢＣ）、ベンジリデン
カンファースルホン酸（ＢＣＳＡ）、４－メチルベンジリデンカンファー（４－ＭＢＣ）
、ポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー（ＰＢＣ）、カンファーベンザルコ
ニウムメトサルフェート（ＣＢＭ）などのカンファー誘導体類などが挙げられる。
【0054】
有機ＵＶフィルターの中でも、特に有用なジベンゾイルメタンクラスの化合物が存在し
、以下に限定されないが、４－ｔｅｒｔ－ブチル－４’－メトキシジベンゾイルメタン、
２－メチルジベンゾイルメタン、４－メチル－ジベンゾイル－エタン、４－イソプロピル
ジベンゾイル－メタン、４－ｔｅｒｔ－ブチルジベンゾイルメタン、２，４－ジメチルジ
ベンゾイルメタン、２，５－ジメチルジベンゾイルメタン、４，４’－ジイソプロピル－
ジベンゾイルメタン、２－メチル－５－イソプロピル－４’－メトキシジベンゾイルメタ
ン、２－メチル－５－ｔｅｒｔ－ブチル－４’－メトキシ－ジベンゾイルメタン、２，４
－ジメチル－４’－メトキシジベンゾイルメタン、２，６－ジメチル－４－ｔｅｒｔ－ブ
チル－４’－メトキシ－ジベンゾイルメタンなどが挙げられる。
、以下に限定されないが、４－ｔｅｒｔ－ブチル－４’－メトキシジベンゾイルメタン、
２－メチルジベンゾイルメタン、４－メチル－ジベンゾイル－エタン、４－イソプロピル
ジベンゾイル－メタン、４－ｔｅｒｔ－ブチルジベンゾイルメタン、２，４－ジメチルジ
ベンゾイルメタン、２，５－ジメチルジベンゾイルメタン、４，４’－ジイソプロピル－
ジベンゾイルメタン、２－メチル－５－イソプロピル－４’－メトキシジベンゾイルメタ
ン、２－メチル－５－ｔｅｒｔ－ブチル－４’－メトキシ－ジベンゾイルメタン、２，４
－ジメチル－４’－メトキシジベンゾイルメタン、２，６－ジメチル－４－ｔｅｒｔ－ブ
チル－４’－メトキシ－ジベンゾイルメタンなどが挙げられる。
【0055】
本発明では、所望のＵＶ保護効果をさらに高めるまたは調節するために、上記の有機Ｕ
Ｖフィルターなどの全てを用いることができる。
Ｖフィルターなどの全てを用いることができる。
【0056】
また、日焼け止め製剤は、美容のために許容される基剤、界面活性剤、希釈剤、および
その他の任意の成分など、当業者に一般的に知られ、パーソナルケアおよび化粧品産業に
よって受け入れられるような様々な他の成分を含むことができる。例えば、国際公開第９
６／４１６１４号、米国特許出願公開第２０１３／０２６６５２７号、および米国特許第
９６４９２６３号を参照されたい。これらの全ては、参照によりその全体が本明細書に組
み込まれる。
その他の任意の成分など、当業者に一般的に知られ、パーソナルケアおよび化粧品産業に
よって受け入れられるような様々な他の成分を含むことができる。例えば、国際公開第９
６／４１６１４号、米国特許出願公開第２０１３／０２６６５２７号、および米国特許第
９６４９２６３号を参照されたい。これらの全ては、参照によりその全体が本明細書に組
み込まれる。
【0057】
いくつかの好ましい実施形態において、本発明の日焼け止め製剤は、表１に列挙した成
分、またはそれらの機能的等価物および／または変異体を含有する。
分、またはそれらの機能的等価物および／または変異体を含有する。
【0058】
本発明の日焼け止め製剤は、限定しようとするものではないが、好ましくは、使用され
る基剤に応じて、クリーム、ローション、ゲルまたはエマルションの形態で調製される。
組成物の好ましい固体形態は、クリームまたはローションである。クリームは、典型的に
は、逆さまにした際に、２５℃で容器から流出しない組成物として定義される。一方、ロ
ーションは、逆さまにした際に、２５℃で容器から流出する組成物である（例えば、Ｂｒ
ｕｍｍｅｒ，Ｒ．；化粧品および食品エマルションのレオロジーエッセンシャル，Ｓｐｒ
ｉｎｇｅｒ－Ｖｅｒｌａｇ Ｂｅｒｌｉｎｅ Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇ，８１－８３（２０
０６）参照）。
る基剤に応じて、クリーム、ローション、ゲルまたはエマルションの形態で調製される。
組成物の好ましい固体形態は、クリームまたはローションである。クリームは、典型的に
は、逆さまにした際に、２５℃で容器から流出しない組成物として定義される。一方、ロ
ーションは、逆さまにした際に、２５℃で容器から流出する組成物である（例えば、Ｂｒ
ｕｍｍｅｒ，Ｒ．；化粧品および食品エマルションのレオロジーエッセンシャル，Ｓｐｒ
ｉｎｇｅｒ－Ｖｅｒｌａｇ Ｂｅｒｌｉｎｅ Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇ，８１－８３（２０
０６）参照）。
【0059】
本発明の日焼け止め組成物は、抗酸化剤、結合剤、生物学的添加剤、緩衝剤、着色剤、
増粘剤、ポリマー、収斂剤、香料、湿潤剤、乳白剤、コンディショナー、ピーリング剤、
ｐＨ調整剤、防腐剤、天然抽出物、精油、皮膚感覚物質（skin sensate）、皮膚鎮静剤、
皮膚治癒剤など、広範囲の他の任意成分を含んでもよい。例えば、本発明の組成物に使用
するのに適した、スキンケア産業において一般的に使用される様々な非限定的な化粧品お
よび医薬品成分を記載している、ＣＴＦＡ Ｃｏｓｍｅｔｉｃ Ｉｎｇｒｅｄｉｅｎｔ
Ｈａｎｄｂｏｏｋ、第２版、１９９２年を参照されたい。
増粘剤、ポリマー、収斂剤、香料、湿潤剤、乳白剤、コンディショナー、ピーリング剤、
ｐＨ調整剤、防腐剤、天然抽出物、精油、皮膚感覚物質（skin sensate）、皮膚鎮静剤、
皮膚治癒剤など、広範囲の他の任意成分を含んでもよい。例えば、本発明の組成物に使用
するのに適した、スキンケア産業において一般的に使用される様々な非限定的な化粧品お
よび医薬品成分を記載している、ＣＴＦＡ Ｃｏｓｍｅｔｉｃ Ｉｎｇｒｅｄｉｅｎｔ
Ｈａｎｄｂｏｏｋ、第２版、１９９２年を参照されたい。
【0060】
本明細書で使用される「非ナノＺｎＯ」という用語は、ＺｎＯのメディアン一次粒子径
（median primary particle size）が１００ｎｍよりも大きいことを意味する。粒子径は
、透過型電子顕微鏡または走査型電子顕微鏡を用いて得られた写真の粒子を測定すること
によって算出される。適用可能な場合、最短次元の数加重分布が、本願でのサイズ分析お
よび議論に使用される。
（median primary particle size）が１００ｎｍよりも大きいことを意味する。粒子径は
、透過型電子顕微鏡または走査型電子顕微鏡を用いて得られた写真の粒子を測定すること
によって算出される。適用可能な場合、最短次元の数加重分布が、本願でのサイズ分析お
よび議論に使用される。
【0061】
本明細書で使用する「約」という用語は、数が最大±２０％、好ましくは±１０％以内
、より好ましくは±５％以内で変化し得ることを意味する。範囲の前に使用する「約」は
、範囲の上限と下限の両方に適用される。本明細書で使用される用語「ａ」、「ａｎ」ま
たは「ｔｈｅ」は、単数形および複数形の両方を表す。一般に、名詞の単数形または複数
形のいずれかが使用される場合、名詞の単数形および複数形の両方を意味する。
、より好ましくは±５％以内で変化し得ることを意味する。範囲の前に使用する「約」は
、範囲の上限と下限の両方に適用される。本明細書で使用される用語「ａ」、「ａｎ」ま
たは「ｔｈｅ」は、単数形および複数形の両方を表す。一般に、名詞の単数形または複数
形のいずれかが使用される場合、名詞の単数形および複数形の両方を意味する。
【0062】
以下の非限定的な実施例は、本発明の特定の態様をさらに説明する。
【実施例0063】
驚くべきことに、インビボで試験された７．１５％の非ナノＺｎＯおよび１．４％のＢ
ＥＭＴを含む表１に例示された処方は、３８．８９のＳＰＦ（表２）、２５．２７のＰＦ
Ａおよび３７７ｎｍの臨界波長を示した（表３）。このような日焼け止め製剤は、高いＳ
ＰＦ３０＋であり、すなわち、ＦＤＡおよびＣｏｓｍｅｔｉｃ Ｅｕｒｏｐｅの規定に従
った広スペクトルのＵＶ保護、および日本の規定による＋＋＋＋ ＵＶＡ保護等級を有す
る。
ＥＭＴを含む表１に例示された処方は、３８．８９のＳＰＦ（表２）、２５．２７のＰＦ
Ａおよび３７７ｎｍの臨界波長を示した（表３）。このような日焼け止め製剤は、高いＳ
ＰＦ３０＋であり、すなわち、ＦＤＡおよびＣｏｓｍｅｔｉｃ Ｅｕｒｏｐｅの規定に従
った広スペクトルのＵＶ保護、および日本の規定による＋＋＋＋ ＵＶＡ保護等級を有す
る。
【0064】
【表1】
【0065】
手順：
１．パート１および２を混合し、８０℃に加熱した
２．パート３の成分をスラリー状にし、混合しながらパート１および２に加えた
３．パート４の成分を混合し、８０℃に加熱した
４．ホモジナイズしながら、パート１～３の混合物とパート４の混合物を混合した
５．５０℃に冷却し、パート１～４の混合物にパート５を加えた。
１．パート１および２を混合し、８０℃に加熱した
２．パート３の成分をスラリー状にし、混合しながらパート１および２に加えた
３．パート４の成分を混合し、８０℃に加熱した
４．ホモジナイズしながら、パート１～３の混合物とパート４の混合物を混合した
５．５０℃に冷却し、パート１～４の混合物にパート５を加えた。
【0066】
試験結果の要約：
【0067】
【表2】
【0068】
【表3】
【0069】
前述の実施例または好ましい実施形態は、例示のために提供されたものであり、本発明
を限定するものではない。上記の特徴を有する数多くのバリエーションおよび組み合わせ
は、特許請求の範囲に記載された本発明から逸脱せずに、利用することができる。引用さ
れた全ての文献は、全ての目的のために、その全体が参照により本明細書に組み込まれる
。
を限定するものではない。上記の特徴を有する数多くのバリエーションおよび組み合わせ
は、特許請求の範囲に記載された本発明から逸脱せずに、利用することができる。引用さ
れた全ての文献は、全ての目的のために、その全体が参照により本明細書に組み込まれる
。
【手続補正書】
【提出日】2024-10-22
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
ＵＶ保護において相乗効果が得られる比で、非ナノＺｎＯおよびビス－エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン（ＢＥＭＴ）を含む、日焼け止め組成物。
【外国語明細書】