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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2025143846
(43)【公開日】2025-10-02
(54)【発明の名称】有機溶剤抽出方法
(51)【国際特許分類】
H01L 21/304 20060101AFI20250925BHJP
【ＦＩ】
H01L21/304 648K
H01L21/304 651B
【審査請求】未請求
【請求項の数】10
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2024043307
(22)【出願日】2024-03-19
(71)【出願人】
【識別番号】000207551
【氏名又は名称】株式会社ＳＣＲＥＥＮホールディングス
(74)【代理人】
【識別番号】100088672
【弁理士】
【氏名又は名称】吉竹 英俊
(74)【代理人】
【識別番号】100088845
【弁理士】
【氏名又は名称】有田 貴弘
(72)【発明者】
【氏名】植村 知浩
(72)【発明者】
【氏名】吉田 幸史
(72)【発明者】
【氏名】南 翔耀
(72)【発明者】
【氏名】上田 悠介
(72)【発明者】
【氏名】岩尾 通矩
【テーマコード（参考）】
5F157
【Ｆターム（参考）】
5F157AB02
5F157AB14
5F157AB33
5F157AB49
5F157AB90
5F157AC03
5F157BB22
5F157CB02
5F157CB14
5F157CD44
5F157CE44
5F157CF42
5F157CF74
5F157DC81
(57)【要約】
【課題】本願明細書に開示される技術は、分離膜の交換頻度を抑制しつつ、混合液から純水と有機溶剤とを分離するための技術である。
【解決手段】本願明細書に開示される技術に関する有機溶剤抽出方法は、基板処理装置から水と有機溶剤との混合液を排出する工程と、混合液に含まれる不純物の多寡を示す清浄度を検出する工程と、清浄度を第１のしきい値と比較する工程と、混合液を分離膜の少なくとも一部に接触させることで混合液から脱水し、有機溶剤を抽出する工程と、清浄度が第１のしきい値未満である場合は、脱水に先立って混合液の不純物を低減する工程と、を備える。
【選択図】図３
【解決手段】本願明細書に開示される技術に関する有機溶剤抽出方法は、基板処理装置から水と有機溶剤との混合液を排出する工程と、混合液に含まれる不純物の多寡を示す清浄度を検出する工程と、清浄度を第１のしきい値と比較する工程と、混合液を分離膜の少なくとも一部に接触させることで混合液から脱水し、有機溶剤を抽出する工程と、清浄度が第１のしきい値未満である場合は、脱水に先立って混合液の不純物を低減する工程と、を備える。
【選択図】図３
【特許請求の範囲】
【請求項1】
基板処理装置から水と有機溶剤との混合液を排出する工程と、
前記混合液に含まれる不純物の多寡を示す清浄度を検出する工程と、
前記清浄度を第１のしきい値と比較する工程と、
前記混合液を分離膜の少なくとも一部に接触させることで前記混合液から脱水し、前記有機溶剤を抽出する工程と、
前記清浄度が前記第１のしきい値未満である場合は、前記脱水に先立って前記混合液の前記不純物を低減する工程と、を備える、
有機溶剤抽出方法。
前記混合液に含まれる不純物の多寡を示す清浄度を検出する工程と、
前記清浄度を第１のしきい値と比較する工程と、
前記混合液を分離膜の少なくとも一部に接触させることで前記混合液から脱水し、前記有機溶剤を抽出する工程と、
前記清浄度が前記第１のしきい値未満である場合は、前記脱水に先立って前記混合液の前記不純物を低減する工程と、を備える、
有機溶剤抽出方法。
【請求項2】
請求項１に記載の有機溶剤抽出方法であって、
前記分離膜は、前記水を透過させ前記有機溶剤を透過させない、
有機溶剤抽出方法。
前記分離膜は、前記水を透過させ前記有機溶剤を透過させない、
有機溶剤抽出方法。
【請求項3】
請求項２に記載の有機溶剤抽出方法であって、
前記分離膜は複数の孔を有し、それぞれの前記孔は前記水を透過させ、かつ、前記有機溶剤を透過させず、
前記第１のしきい値は前記不純物の量に基づき定められ、
前記清浄度が前記第１のしきい値未満である場合は、前記脱水に先立って前記混合液の前記不純物の量を低減し、前記分離膜の前記孔に前記不純物が詰まることを低減する、
有機溶剤抽出方法。
前記分離膜は複数の孔を有し、それぞれの前記孔は前記水を透過させ、かつ、前記有機溶剤を透過させず、
前記第１のしきい値は前記不純物の量に基づき定められ、
前記清浄度が前記第１のしきい値未満である場合は、前記脱水に先立って前記混合液の前記不純物の量を低減し、前記分離膜の前記孔に前記不純物が詰まることを低減する、
有機溶剤抽出方法。
【請求項4】
請求項３に記載の有機溶剤抽出方法であって、
前記第１のしきい値は前記不純物の量および大きさに基づき定められる、
有機溶剤抽出方法。
前記第１のしきい値は前記不純物の量および大きさに基づき定められる、
有機溶剤抽出方法。
【請求項5】
請求項４に記載の有機溶剤抽出方法であって、
前記不純物は、前記混合液中の粒子および金属元素である、
有機溶剤抽出方法。
前記不純物は、前記混合液中の粒子および金属元素である、
有機溶剤抽出方法。
【請求項6】
請求項１乃至５のいずれかに記載の有機溶剤抽出方法であって、
前記有機溶剤は、イソプロピルアルコールである、
有機溶剤抽出方法。
前記有機溶剤は、イソプロピルアルコールである、
有機溶剤抽出方法。
【請求項7】
請求項１乃至５のいずれかに記載の有機溶剤抽出方法であって、
前記分離膜は、ゼオライト膜である、
有機溶剤抽出方法。
前記分離膜は、ゼオライト膜である、
有機溶剤抽出方法。
【請求項8】
請求項１乃至５のいずれかに記載の有機溶剤抽出方法であって、
前記分離膜によって抽出された前記有機溶剤の前記不純物を低減した後に、前記有機溶剤を基板に吐出する工程をさらに備える、
有機溶剤抽出方法。
前記分離膜によって抽出された前記有機溶剤の前記不純物を低減した後に、前記有機溶剤を基板に吐出する工程をさらに備える、
有機溶剤抽出方法。
【請求項9】
請求項１乃至５のいずれかに記載の有機溶剤抽出方法であって、
前記分離膜によって抽出された前記有機溶剤を貯留する工程をさらに備える、
有機溶剤抽出方法。
前記分離膜によって抽出された前記有機溶剤を貯留する工程をさらに備える、
有機溶剤抽出方法。
【請求項10】
請求項１乃至５のいずれかに記載の有機溶剤抽出方法であって、
前記分離膜に前記混合液を接触させる前に、前記混合液を加熱する工程をさらに備える、
有機溶剤抽出方法。
前記分離膜に前記混合液を接触させる前に、前記混合液を加熱する工程をさらに備える、
有機溶剤抽出方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本願明細書に開示される技術は、有機溶剤の濃縮技術に関するものである。
【背景技術】
【0002】
一般的な基板処理では、基板に薬液を吐出する薬液処理と、薬液を純水で流すリンス処理と、純水をＩＰＡ（イソプロピルアルコール）液などの有機溶剤で置換するＩＰＡ処理とが含まれる（たとえば、特許文献１を参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２０１７－４１５０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
ＩＰＡ処理においては、純水とＩＰＡ液との混合液（有機排液）が排出されるが、環境負荷を軽減するため、純水とＩＰＡ液とを分離（脱水）して分けることが望まれる。
【0005】
一方で、分離膜を用いて脱水する場合、混合液中の不純物が分離膜に詰まり、分離膜の交換が高頻度で必要となる場合がある。
【0006】
本願明細書に開示される技術は、以上に記載されたような問題を鑑みてなされたものであり、分離膜の交換頻度を抑制しつつ、分離膜を用いて混合液を脱水するための技術である。本願明細書に記載されている「混合液」とは特に断りがない限りＩＰＡ（有機溶剤）と水の混合液、もしくは、ＩＰＡ（有機溶剤）と純水の混合液、または、ＩＰＡ（有機溶剤）と超純水の混合液のことである。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本願明細書に開示される技術の第１の態様である有機溶剤抽出方法は、基板処理装置から水と有機溶剤との混合液を排出する工程と、前記混合液に含まれる不純物の多寡を示す清浄度を検出する工程と、前記清浄度を第１のしきい値と比較する工程と、前記混合液を分離膜の少なくとも一部に接触させることで前記混合液から脱水し、前記有機溶剤を抽出する工程と、前記清浄度が前記第１のしきい値未満である場合は、前記脱水に先立って前記混合液の前記不純物を低減する工程と、を備える。
本願明細書に開示される技術の第２の態様である有機溶剤抽出方法は、第１の態様である有機溶剤抽出方法に関連し、前記分離膜は、前記水を透過させ前記有機溶剤を透過させない。
本願明細書に開示される技術の第３の態様である有機溶剤抽出方法は、第２の態様である有機溶剤抽出方法に関連し、前記分離膜は複数の孔を有し、それぞれの前記孔は前記水を透過させ、かつ、前記有機溶剤を透過させず、前記第１のしきい値は前記不純物の量に基づき定められ、前記清浄度が前記第１のしきい値未満である場合は、前記脱水に先立って前記混合液の前記不純物の量を低減し、前記分離膜の前記孔に前記不純物が詰まることを低減する。
本願明細書に開示される技術の第４の態様である有機溶剤抽出方法は、第３の態様である有機溶剤抽出方法に関連し、前記第１のしきい値は前記不純物の量および大きさに基づき定められる。
本願明細書に開示される技術の第５の態様である有機溶剤抽出方法は、第４の態様である有機溶剤抽出方法に関連し、前記不純物は、前記混合液中の粒子および金属元素である。
本願明細書に開示される技術の第６の態様である有機溶剤抽出方法は、第１から５のうちのいずれか１つの態様である有機溶剤抽出方法に関連し、前記有機溶剤は、イソプロピルアルコールである。
本願明細書に開示される技術の第７の態様である有機溶剤抽出方法は、第１から５のうちのいずれか１つの態様である有機溶剤抽出方法に関連し、前記分離膜は、ゼオライト膜である。
本願明細書に開示される技術の第８の態様である有機溶剤抽出方法は、第１から５のうちのいずれか１つの態様である有機溶剤抽出方法に関連し、前記分離膜によって抽出された前記有機溶剤の前記不純物を低減した後に、前記有機溶剤を基板に吐出する工程をさらに備える。
本願明細書に開示される技術の第９の態様である有機溶剤抽出方法は、第１から５のうちのいずれか１つの態様である有機溶剤抽出方法に関連し、前記分離膜によって抽出された前記有機溶剤を貯留する工程をさらに備える。
本願明細書に開示される技術の第１０の態様である有機溶剤抽出方法は、第１から５のうちのいずれか１つの態様である有機溶剤抽出方法に関連し、前記分離膜に前記混合液を接触させる前に、前記混合液を加熱する工程をさらに備える。
本願明細書に開示される技術の第２の態様である有機溶剤抽出方法は、第１の態様である有機溶剤抽出方法に関連し、前記分離膜は、前記水を透過させ前記有機溶剤を透過させない。
本願明細書に開示される技術の第３の態様である有機溶剤抽出方法は、第２の態様である有機溶剤抽出方法に関連し、前記分離膜は複数の孔を有し、それぞれの前記孔は前記水を透過させ、かつ、前記有機溶剤を透過させず、前記第１のしきい値は前記不純物の量に基づき定められ、前記清浄度が前記第１のしきい値未満である場合は、前記脱水に先立って前記混合液の前記不純物の量を低減し、前記分離膜の前記孔に前記不純物が詰まることを低減する。
本願明細書に開示される技術の第４の態様である有機溶剤抽出方法は、第３の態様である有機溶剤抽出方法に関連し、前記第１のしきい値は前記不純物の量および大きさに基づき定められる。
本願明細書に開示される技術の第５の態様である有機溶剤抽出方法は、第４の態様である有機溶剤抽出方法に関連し、前記不純物は、前記混合液中の粒子および金属元素である。
本願明細書に開示される技術の第６の態様である有機溶剤抽出方法は、第１から５のうちのいずれか１つの態様である有機溶剤抽出方法に関連し、前記有機溶剤は、イソプロピルアルコールである。
本願明細書に開示される技術の第７の態様である有機溶剤抽出方法は、第１から５のうちのいずれか１つの態様である有機溶剤抽出方法に関連し、前記分離膜は、ゼオライト膜である。
本願明細書に開示される技術の第８の態様である有機溶剤抽出方法は、第１から５のうちのいずれか１つの態様である有機溶剤抽出方法に関連し、前記分離膜によって抽出された前記有機溶剤の前記不純物を低減した後に、前記有機溶剤を基板に吐出する工程をさらに備える。
本願明細書に開示される技術の第９の態様である有機溶剤抽出方法は、第１から５のうちのいずれか１つの態様である有機溶剤抽出方法に関連し、前記分離膜によって抽出された前記有機溶剤を貯留する工程をさらに備える。
本願明細書に開示される技術の第１０の態様である有機溶剤抽出方法は、第１から５のうちのいずれか１つの態様である有機溶剤抽出方法に関連し、前記分離膜に前記混合液を接触させる前に、前記混合液を加熱する工程をさらに備える。
【発明の効果】
【0008】
本願明細書に開示される技術の少なくとも第１の態様によれば、混合液の清浄度が第１のしきい値未満である場合に、混合液の脱水処理の前に混合液中の不純物を低減することによって、分離膜の交換頻度を抑制しつつ、混合液を脱水することができる。
【0009】
また、本願明細書に開示される技術に関連する目的と、特徴と、局面と、利点とは、以下に示される詳細な説明と添付図面とによって、さらに明白となる。
【図面の簡単な説明】
【0010】
【図1】基板処理装置の一例を模式的に示す平面図である。
【図2】処理ユニットの一例を模式的に示す側面図である。
【図3】第１収容ボックス５０ａ、第２収容ボックス５０ｂの一例を模式的に示す図である。
【図4】ＩＰＡ液の割合が７０ｗｔ％であるＩＰＡ液と純水との混合液の、ＩＰＡ濃度変化量と温度との関係の実験結果を示す図である。
【図5】第１収容ボックス５０ａにおける動作の一例を示すフローチャートである。
【図6】第１収容ボックス５０ａ、第２収容ボックス５０ｂの動作の例を示す図である。
【図7】第１収容ボックス５０ａ、第２収容ボックス５０ｂの動作の例を示す図である。
【図8】第１収容ボックス５０ａ、第２収容ボックス５０ｂの変形例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0011】
以下、添付される図面を参照しながら実施の形態について説明する。以下の実施の形態では、技術の説明のために詳細な特徴なども示されるが、それらは例示であり、実施の形態が実施可能となるために、それらのすべてが必ずしも必須の特徴ではない。
【0012】
なお、図面は概略的に示されるものであり、説明の便宜のため、適宜、構成の省略、または、構成の簡略化などが図面においてなされる。また、異なる図面にそれぞれ示される構成などの大きさおよび位置の相互関係は、必ずしも正確に記載されるものではなく、適宜変更され得るものである。また、断面図ではない平面図などの図面においても、実施の形態の内容を理解することを容易にするために、ハッチングが付される場合がある。
【0013】
また、以下に示される説明では、同様の構成要素には同じ符号を付して図示し、それらの名称と機能とについても同様のものとする。したがって、それらについての詳細な説明を、重複を避けるために省略する場合がある。
【0014】
また、本願明細書に記載される説明において、ある構成要素を「備える」、「含む」または「有する」などと記載される場合、特に断らない限りは、他の構成要素の存在を除外する排他的な表現ではない。
【0015】
また、本願明細書に記載される説明において、「第１の」または「第２の」などの序数が使われる場合があっても、これらの用語は、実施の形態の内容を理解することを容易にするために便宜上使われるものであり、実施の形態の内容はこれらの序数によって生じ得る順序などに限定されるものではない。
【0016】
また、本願明細書に記載される説明において、「上」、「下」、「左」、「右」、「側」、「底」、「表」または「裏」などの特定の位置または方向を意味する用語が使われる場合があっても、これらの用語は、実施の形態の内容を理解することを容易にするために便宜上使われるものであり、実施の形態が実際に実施される際の位置または方向とは関係しないものである。
【0017】
また、本願明細書に記載される説明において、「…の上面」または「…の下面」などと記載される場合、対象となる構成要素の上面自体または下面自体に加えて、対象となる構成要素の上面または下面に他の構成要素が形成された状態も含むものとする。すなわち、たとえば、「Ａの上面に設けられるＢ」と記載される場合、ＡとＢとの間に別の構成要素「Ｃ」が介在することを妨げるものではない。
【0018】
【0019】
基板処理装置１００は、処理対象である基板Ｗを１枚ずつ処理する、いわゆる枚葉式の処理装置である。基板処理装置１００で処理対象とされる基板Ｗは、例えば、半導体基板である。また、処理対象とされる基板Ｗの形状は、例えば、円板形状である。処理対象となる基板には、たとえば、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、有機ＥＬ（ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示装置などのｆｌａｔ ｐａｎｅｌ ｄｉｓｐｌａｙ（ＦＰＤ）用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用ガラス基板、セラミック基板、電界放出ディスプレイ（ｆｉｅｌｄ ｅｍｉｓｓｉｏｎ ｄｉｓｐｌａｙ、すなわち、ＦＥＤ）用基板、または、太陽電池用基板などが含まれる。
【0020】
基板処理装置１００は、ロードポート１、インデクサロボット２、主搬送ロボット３、処理ユニット４、第１収容ボックス５０ａ、第２収容ボックス５０ｂ、および、制御部６を備える。
【0021】
ロードポート１は、複数の基板を収容する収容容器の一種であるキャリアＣに対する基板Ｗの出し入れを行うためのインターフェイスである。ロードポート１は、例えば、複数（図の例では３個）設けられる。複数のロードポート１は、例えば、水平方向に一列に並んで配列される。キャリアＣは、基板Ｗを密閉空間に収納するタイプのもの（例えば、ＦＯＵＰ（Ｆｒｏｎｔ Ｏｐｅｎｉｎｇ Ｕｎｉｆｉｅｄ Ｐｏｄ）、ＳＭＩＦ（Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｉｎｔｅｒ Ｆａｃｅ）ポッド、など）であってもよいし、基板Ｗを外気にさらすタイプのもの（例えば、ＯＣ（Ｏｐｅｎ Ｃａｓｓｅｔｔｅ）、など）であってもよい。
【0022】
インデクサロボット２は、基板Ｗを搬送する搬送装置である。一例として、インデクサロボット２は、水平多関節ロボットであり、基板Ｗを保持する一対のハンド２１および各ハンド２１に接続されたアーム２２を備える。また、インデクサロボット２は、各ハンド２１を旋回させ、各アーム２２を屈伸、旋回、および、昇降させるための駆動機構（図示省略）を備える。インデクサロボット２は、ロードポート１に載置されたキャリアＣと、主搬送ロボット３との間で基板Ｗを搬送する。すなわち、インデクサロボット２は、ロードポート１に載置されているキャリアＣにアクセスして、搬出動作（すなわち、キャリアＣに収容されている基板Ｗをハンド２１で取り出す動作）、および、搬入動作（すなわち、ハンド２１に保持されている基板ＷをキャリアＣに収容する動作）を行う。また、インデクサロボット２は、受け渡し位置４０にアクセスして、主搬送ロボット３との間で基板Ｗの受け渡しを行う。
【0023】
主搬送ロボット３は、基板Ｗを搬送する搬送装置である。一例として、主搬送ロボット３は、水平多関節ロボットであり、基板Ｗを保持する一対のハンド３１および各ハンド３１に接続されたアーム３２を備える。また、主搬送ロボット３は、各ハンド３１を旋回させ、各アーム３２を屈伸、旋回、および、昇降させるための駆動機構（図示省略）を備える。主搬送ロボット３は、インデクサロボット２と各処理ユニット４との間で基板Ｗを搬送する。すなわち、主搬送ロボット３は、受け渡し位置４０にアクセスして、インデクサロボット２との間で基板Ｗの受け渡しを行う。また、主搬送ロボット３は、処理ユニット４にアクセスして、搬入動作（すなわち、ハンド３１に保持されている基板Ｗを処理ユニット４に搬入する動作）、および、搬出動作（すなわち、処理ユニット４内の基板Ｗをハンド３１で搬出する動作）、を行う。
【0024】
処理ユニット４は、基板Ｗに対して処理液（例えば、薬液、リンス液、および、ＩＰＡ液）を用いた所定の処理を行う。ここでは例えば、鉛直方向に積層された複数（例えば３個）の処理ユニット４が、１個のタワーを構成しており、該タワーが、主搬送ロボット３を取り囲むようにして、複数（図の例では４個）設けられる。処理ユニット４の具体的な構成は、後に説明する。
【0025】
第１収容ボックス５０ａでは、純水と混合している有機溶剤（本実施の形態ではＩＰＡ液）を処理ユニット４から回収するとともに、回収した有機溶剤を濃縮および浄化して第２収容ボックス５０ｂさらには処理ユニット４に供給する。供給された有機溶剤は、再び基板処理に用いることができる。一例として、複数のタワーの各々に１対１で対応づけられて第１収容ボックス５０ａが設けられ、各第１収容ボックス５０ａで、対応するタワーに含まれる各処理ユニット４に対して、ＩＰＡ液の回収および供給を行ってもよい。第１収容ボックス５０ａ内の具体的な構成は、後に説明する。
【0026】
制御部６は、基板処理装置１００が備える各部（ロードポート１、インデクサロボット２、主搬送ロボット３、処理ユニット４、および、第１収容ボックス５０ａ内の各部）の動作を制御する。制御部６は、例えば、電気回路を有する一般的なコンピュータによって構成される。一例として、制御部６は、各種の演算処理（データ処理）を行う中央演算装置としてのＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｏｒ Ｕｎｉｔ）、基本プログラムなどが格納されるＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）、ＣＰＵが所定の処理（データ処理）を行う際の作業領域として用いられるＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）、フラッシュメモリ、ハードディスク装置、などの不揮発性記憶装置によって構成される記憶装置、これらを相互に接続するバスライン、などを含んで構成される。記憶装置あるいはＲＡＭなどには、制御部６が実行する処理を規定するプログラムが格納されてもよい。この場合に、例えば、ＣＰＵが該プログラムを実行することによって、基板処理装置１００の各部が制御部６に制御され、プログラムによって規定された処理が基板処理装置１００において実行されてもよい。すなわち、ＣＰＵがプログラムを実行することによって、プログラムによって規定された処理を行う回路が制御部６において実現されてもよい。もっとも、制御部６が行う制御の一部または全部（制御部６で実現される回路の一部または全部）が、専用の論理回路などのハードウェアによって実行（実現）されてもよい。
【0027】
【0028】
＜処理ユニットの構成＞
処理ユニット４は、基板Ｗに対して処理液（例えば、薬液、リンス液、および、ＩＰＡ液）を用いた所定の処理を行う。リンス液は例えば水もしくは、純水、超純水である。処理ユニット４は、例えば、スピンチャック４１、カップ４２、および、ノズル４３を備える。スピンチャック４１、カップ４２、および、ノズル４３は、処理チャンバー４４に収容される。
処理ユニット４は、基板Ｗに対して処理液（例えば、薬液、リンス液、および、ＩＰＡ液）を用いた所定の処理を行う。リンス液は例えば水もしくは、純水、超純水である。処理ユニット４は、例えば、スピンチャック４１、カップ４２、および、ノズル４３を備える。スピンチャック４１、カップ４２、および、ノズル４３は、処理チャンバー４４に収容される。
【0029】
スピンチャック４１は、基板Ｗを水平姿勢（基板Ｗの厚み方向が上下方向（鉛直方向）に沿うような姿勢）で保持しつつ、基板Ｗをその主面の中心を通って上下に延びる軸線（回転軸線）Ａのまわりで回転させる。スピンチャック４１は、具体的には例えば、スピンベース４１１を備える。スピンベース４１１は、円板形状の部材であり、厚み方向が上下方向に沿うような姿勢で配置される。スピンベース４１１の上面には、複数のチャックピン４１２が設けられる。複数のチャックピン４１２は、基板Ｗの周縁に対応する円周に沿って等間隔に配置される。複数のチャックピン４１２には、これらを当接位置と開放位置との間で移動させるリンク機構（図示省略）が接続される。「当接位置」とは、チャックピン４１２が、基板Ｗの周縁に当接（接触）する位置である。「開放位置」は、チャックピン４１２が、基板Ｗの周縁から離れた位置である。複数のチャックピン４１２の各々が当接位置に配置されると、基板Ｗが、スピンベース４１１の上方に、水平姿勢で保持（チャック）される。また、複数のチャックピン４１２の各々が開放位置に配置されると、基板Ｗの保持が解除される。リンク機構は、制御部６からの指示に応じて、チャックピン４１２の位置を切り替える。すなわち、基板Ｗを保持するタイミング、基板Ｗの保持を解除するタイミング、などは、制御部６によって制御される。また、スピンベース４１１は、回転軸線Ａと同軸に設けられたシャフト部４１３を介して、スピンモータ４１４と接続される。シャフト部４１３およびスピンモータ４１４は、カバー４１５に収容される。スピンモータ４１４は、シャフト部４１３を回転軸線Ａのまわりで回転させる。これにより、スピンベース４１１、ひいては、その上方に保持される基板Ｗが、回転軸線Ａのまわりで回転する。スピンモータ４１４は、制御部６からの指示に応じて、スピンベース４１１を回転させる。すなわち、スピンベース４１１（ひいては、基板Ｗ）の回転数、回転の開始タイミング、回転の終了タイミング、などは、制御部６によって制御される。
【0030】
カップ４２は、スピンチャック４１に保持されて回転される基板Ｗから排出された処理液を、受け止める。カップ４２は、具体的には例えば、回転軸線Ａと同軸に配置された円筒状の案内部４２１、案内部４２１の上端に連なって上方に向かうにつれて縮径する（スピンチャック４１の径方向内側に近づく）傾斜部４２２、および、案内部４２１の下端に連なって上向きに開いた環状の溝を形成する液受部４２３を備える。液受部４２３には、ここで受け止められた液を回収するカップ側回収管（具体的には例えば、薬液用のカップ側回収管（図示省略）、および、ＩＰＡ用のカップ側回収管４２４）が設けられる。また、カップ４２には、これを下位置と上位置との間で昇降させるカップ昇降機構４２５が接続される。「下位置」は、カップ４２の上端（具体的には、傾斜部４２２の上端）がスピンチャック４１に保持される基板Ｗよりも下方に配置されるような位置である。「上位置」は、カップ４２の上端が、スピンチャック４１に保持される基板Ｗよりも上方に配置されるような位置である。カップ昇降機構４２５は、制御部６からの指示に応じて、カップ４２を昇降させる。すなわち、カップ４２の位置は、制御部６によって制御される。
【0031】
ノズル４３は、スピンチャック４１に保持される基板Ｗの上面に向けて、処理液を吐出する。ここでは例えば、処理液の種類ごとに個別のノズル４３が設けられる。すなわち、薬液を吐出するノズル４３（以下「薬液ノズル４３ａ」とも呼ぶ）、リンス液を吐出するノズル４３（以下「リンス液ノズル４３ｂ」とも呼ぶ）、および、ＩＰＡ液を吐出するノズル４３（以下「ＩＰＡノズル４３ｃ」とも呼ぶ）が設けられる。
【0032】
薬液ノズル４３ａは、スピンチャック４１に保持されている基板Ｗの上面に向けて、薬液を吐出する。薬液ノズル４３ａは、薬液バルブ４３１ａが介挿された薬液配管４３２ａを介して、薬液供給源４３３ａに接続される。薬液バルブ４３１ａが開かれると、薬液配管４３２ａを通じて薬液ノズル４３ａに薬液が供給され、薬液ノズル４３ａから薬液が吐出される。薬液バルブ４３１ａは、制御部６からの指示に応じて開閉される。すなわち、薬液ノズル４３ａからの薬液の吐出タイミングは、制御部６によって制御される。薬液は、例えば、フッ酸である。もっとも、薬液は、フッ酸に限られるものではなく、硫酸、酢酸、硝酸、塩酸、フッ酸、リン酸、アンモニア水、過酸化水素水、有機酸（例えば、クエン酸、蓚酸、など）、有機アルカリ（例えば、ＴＭＡＨ：テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、など）、界面活性剤、および、腐食防止剤のうちの少なくとも１つを含む液であってもよい。
【0033】
リンス液ノズル４３ｂは、スピンチャック４１に保持されている基板Ｗの上面に向けて、リンス液を吐出する。リンス液ノズル４３ｂは、リンス液バルブ４３１ｂが介挿されたリンス液配管４３２ｂを介して、リンス液供給源４３３ｂに接続される。リンス液バルブ４３１ｂが開かれると、リンス液配管４３２ｂを通じてリンス液ノズル４３ｂにリンス液が供給され、リンス液ノズル４３ｂからリンス液が吐出される。リンス液バルブ４３１ｂは、制御部６からの指示に応じて開閉される。
【0034】
ＩＰＡノズル４３ｃは、スピンチャック４１に保持されている基板Ｗの上面に向けて、ＩＰＡ液（すなわち、ＩＰＡを主成分とする液体）を吐出する。ＩＰＡノズル４３ｃは、ＩＰＡバルブ４３１ｃが介挿されたＩＰＡ配管４３２ｃを介して、第２収容ボックス５０ｂに接続される。ＩＰＡバルブ４３１ｃが開かれると、ＩＰＡ配管４３２ｃを通じてＩＰＡノズル４３ｃにＩＰＡ液が供給され、ＩＰＡノズル４３ｃからＩＰＡ液が吐出される。ＩＰＡバルブ４３１ｃは、制御部６からの指示に応じて開閉される。すなわち、ＩＰＡノズル４３ｃからのＩＰＡ液の吐出タイミングは、制御部６によって制御される。
【0035】
なお、薬液ノズル４３ａ、リンス液ノズル４３ｂ、および、ＩＰＡノズル４３ｃのうちの少なくとも一つに、これを処理位置と退避位置との間で移動させるノズル移動機構が接続されてもよい。「処理位置」は、ノズル４３ａ，４３ｂ，４３ｃから吐出された処理液が、スピンチャック４１に保持されている基板Ｗに供給される位置である。「退避位置」とは、ノズル４３ａ，４３ｂ，４３ｃが、上方から見て、スピンチャック４１に保持されている基板Ｗの周縁よりも外側（径方向の外方）にある位置である。この場合、ノズル移動機構は、制御部６からの指示に応じて、ノズル４３ａ，４３ｂ，４３ｃを移動させる。すなわち、ノズル４３ａ，４３ｂ，４３ｃの位置は、制御部６によって制御される。
【0036】
＜処理ユニットの動作＞
処理ユニット４の動作の一例について説明する。処理ユニット４で行われる動作は、制御部６の制御下で（すなわち、制御部６が、チャックピン４１２、スピンモータ４１４、カップ昇降機構４２５、薬液バルブ４３１ａ、リンス液バルブ４３１ｂ、ＩＰＡバルブ４３１ｃ、などを制御することによって）行われる。
処理ユニット４の動作の一例について説明する。処理ユニット４で行われる動作は、制御部６の制御下で（すなわち、制御部６が、チャックピン４１２、スピンモータ４１４、カップ昇降機構４２５、薬液バルブ４３１ａ、リンス液バルブ４３１ｂ、ＩＰＡバルブ４３１ｃ、などを制御することによって）行われる。
【0037】
主搬送ロボット３によって処理チャンバー４４内に基板Ｗが搬入されると、スピンチャック４１が基板Ｗを保持する。続いて、スピンチャック４１が、回転を開始する。
【0038】
この状態で、薬液バルブ４３１ａが開かれる。すると、薬液ノズル４３ａから、スピンチャック４１に保持されて回転される基板Ｗの上面に向けて、薬液が吐出される。これにより、基板Ｗの上面の全域に薬液が供給され、基板Ｗが薬液によって処理される（薬液処理工程）。例えば、薬液としてフッ酸が用いられる場合、基板Ｗからパーティクル等の異物が除去される。薬液処理工程が行われる間、カップ４２は上位置に配置されている。したがって、基板Ｗの周囲に飛散した薬液は、カップ４２で受け止められる。すなわち、基板Ｗの周囲に飛散した薬液は、傾斜部４２２で受け止められ、案内部４２１によって下方に案内されて、液受部４２３に集められる。カップ４２で受け止められた薬液（すなわち、液受部４２３に集められた薬液）は、薬液用のカップ側回収管（図示省略）を通じて回収される。
【0039】
薬液の吐出が開始されてから所定時間が経過した時点で、薬液バルブ４３１ａが閉じられる。すると、薬液ノズル４３ａからの薬液の吐出が停止される。続いて、リンス液バルブ４３１ｂが開かれる。すると、リンス液ノズル４３ｂから、スピンチャック４１に保持されて回転される基板Ｗの上面に向けて、リンス液が吐出される。これにより、基板Ｗの上面の全域にリンス液が供給され、基板Ｗに付着している薬液がリンス液によって洗い流される（リンス処理工程）。リンス処理工程が行われる間も、カップ４２は上位置に配置されている。したがって、基板Ｗの周囲に飛散した薬液およびリンス液は、カップ４２で受け止められる。カップ４２で受け止められた薬液およびリンス液は、薬液用のカップ側回収管（図示省略）を通じて回収される。
【0040】
リンス液の吐出が開始されてから所定時間が経過した時点で、リンス液バルブ４３１ｂが閉じられる。すると、リンス液ノズル４３ｂからのリンス液の吐出が停止される。続いて、ＩＰＡバルブ４３１ｃが開かれる。すると、ＩＰＡノズル４３ｃから、スピンチャック４１に保持されて回転される基板Ｗの上面に向けて、ＩＰＡ液が吐出される。これにより、基板Ｗの上面の全域にＩＰＡ液が供給され、基板Ｗに付着しているリンス液がＩＰＡ液に置換される（ＩＰＡ供給工程）。ＩＰＡ供給工程が行われる間も、カップ４２は上位置に配置されている。したがって、基板Ｗの周囲に飛散したリンス液およびＩＰＡ液の混合液は、カップ４２で受け止められる。カップ４２で受け止められたリンス液およびＩＰＡ液は、ＩＰＡ用のカップ側回収管４２４を通じて回収される。
【0041】
ＩＰＡ液の供給開始から所定時間が経過した時点で、ＩＰＡバルブ４３１ｃが閉じられる。すると、ＩＰＡノズル４３ｃからのＩＰＡ液の吐出が停止される。この段階で、基板Ｗ上のリンス液がＩＰＡ液に完全に置換され、基板Ｗの上面の全域を覆うＩＰＡ液の液膜が形成されている。続いて、スピンチャック４１が、高速回転を開始する。これにより、基板Ｗが高速回転され、基板Ｗ上のＩＰＡ液が、遠心力によって基板Ｗの周囲に振り切られていく（スピンドライ工程）。基板Ｗが高速回転される間も、カップ４２は上位置に配置されている。したがって、基板Ｗの周囲に飛散したＩＰＡ液は、カップ４２で受け止められる。カップ４２で受け止められたＩＰＡ液は、ＩＰＡ用のカップ側回収管４２４を通じて回収される。
【0042】
スピンチャック４１の高速回転が開始されてから所定時間が経過すると、スピンチャック４１の回転が停止される。この段階で、ＩＰＡ液が基板Ｗから除去され、基板Ｗは乾燥されている。乾燥された基板Ｗは、主搬送ロボット３によって処理チャンバー４４から搬出される。
【0043】
以上で、１枚の基板Ｗに対する一連の処理が終了する。処理ユニット４では、上記の一連の動作が繰り返されることによって、複数の基板Ｗが１枚ずつ次々に処理されていく。
【0044】
＜第１収容ボックス、第２収容ボックス＞
第１収容ボックス５０ａ、第２収容ボックス５０ｂの構成について、図３を参照しながら説明する。図３は、第１収容ボックス５０ａ、第２収容ボックス５０ｂの一例を模式的に示す図である。
第１収容ボックス５０ａ、第２収容ボックス５０ｂの構成について、図３を参照しながら説明する。図３は、第１収容ボックス５０ａ、第２収容ボックス５０ｂの一例を模式的に示す図である。
【0045】
第１収容ボックス５０ａには、回収タンク５０２と、浄化タンク５０４と、排液タンク１００２とが収容される。また、第２収容ボックス５０ｂには、供給タンク５０６が収容される。一例として、回収タンク５０２および浄化タンク５０４は、第１収容ボックス５０ａに収容され、供給タンク５０６は、第２収容ボックス５０ｂに収容される。一例として、第１収容ボックス５０ａは、基板処理装置１００の外壁１００ａの外側（例えば、基板処理装置１００が設置されるクリーンルームの下（地下））に配置され、第２収容ボックス５０ｂは、基板処理装置１００の外壁１００ａの内側に配置される（図１）。
【0046】
＜回収タンク＞
回収タンク５０２は、分岐する回収配管５１２を通じて、カップ４２に接続される。すなわち、回収配管５１２の一端側（回収配管５１２から分岐した回収配管５１２ａの端部）には回収タンク５０２が接続され、回収配管５１２の他端側には、カップ４２（具体的には、カップ４２に接続されたカップ側回収管４２４）が接続される。ここでは例えば、回収配管５１２は、同じタワーに属する複数の処理ユニット４の各々が備えるカップ４２に接続される。回収配管５１２から分岐する回収配管５１２ａにはバルブ５１１が介挿される。基板処理装置（処理ユニット４）から排出されたＩＰＡ液とリンス液の混合液は、カップ４２から回収された後、回収配管５１２を通って回収タンク５０２に貯留される。
回収タンク５０２は、分岐する回収配管５１２を通じて、カップ４２に接続される。すなわち、回収配管５１２の一端側（回収配管５１２から分岐した回収配管５１２ａの端部）には回収タンク５０２が接続され、回収配管５１２の他端側には、カップ４２（具体的には、カップ４２に接続されたカップ側回収管４２４）が接続される。ここでは例えば、回収配管５１２は、同じタワーに属する複数の処理ユニット４の各々が備えるカップ４２に接続される。回収配管５１２から分岐する回収配管５１２ａにはバルブ５１１が介挿される。基板処理装置（処理ユニット４）から排出されたＩＰＡ液とリンス液の混合液は、カップ４２から回収された後、回収配管５１２を通って回収タンク５０２に貯留される。
【0047】
また、回収タンク５０２は、分岐する第２送液配管５５２を通じて、浄化用循環配管５３８に接続される。すなわち、第２送液配管５５２の一端側（第２送液配管５５２から分岐した第２送液配管５５２ａの端部）には、回収タンク５０２が接続され、第２送液配管５５２の他端側には、浄化用循環配管５３８が接続される。一例として、第２送液配管５５２の他端側は、浄化用循環配管５３８における、温度センサー５４８とメタルフィルター５４４ａとの間の位置に接続される。第２送液配管５５２ａにはバルブ５５４ａが介挿される。
【0048】
回収タンク５０２には、循環配管（脱水用循環配管５１４）が接続される。脱水用循環配管５１４は、回収タンク５０２に貯留されている液体が、回収タンク５０２から流出し、再び、回収タンク５０２に戻るように循環する循環経路を形成する。また、回収タンク５０２には、配管１００３を介して排液タンク１００２が接続される。排液タンク１００２は、制御部６の制御によるバルブ１００３Ａの開動作で回収タンク５０２から排液される液体を貯留する。
【0049】
また、回収配管５１２には、第１計測器５１７ａおよび第２計測器５１７ｂが介挿される。第１計測器５１７ａは、回収配管５１２を流れる混合液中のパーティクル数（粒子計数）とパーティクルの大きさを計測する。パーティクルとは例えばレジストなどの有機残渣である。第１計測器５１７ａは、たとえば光学式のパーティクル検出器であり、回収配管５１２を流れる混合液内に存在するパーティクルからの散乱光に基づきパーティクルの量と大きさを検出する。また、第２計測器５１７ｂは誘導結合プラズマ質量分析法などによって回収配管５１２を流れる流体中の金属元素量や、金属元素の種類を検出する機器である。第１計測器５１７ａおよび第２計測器５１７ｂにより、回収配管５１２を流れる混合液の清浄度が検出される。例えば混合液の清浄度は、パーティクルの量もしくは金属元素量に基づいて定められてもよいし、金属元素の種類やパーティクルの大きさに基づいて定められてもよい。第１計測器５１７ａおよび第２計測器５１７ｂにより計測された清浄度の情報は制御部６に送られ、後述の第１のしきい値と比較されてもよい。第１のしきい値は、例えば制御部６において、分離膜の性能（不純物の量の許容限界値）に基づいて設定されている値である。
【0050】
脱水用循環配管５１４には、脱水器５１６が介挿される。脱水器５１６は、ＩＰＡ液と純水との混合液から純水を分離する分離膜５１６ａと、分離膜５１６ａを収容する脱水ハウジング５１６ｂとを備える。分離膜５１６ａの少なくとも一部に混合液を接触させることで、混合液から脱水を行う。また、脱水器５１６には、混合液から分離された純水（ＤＩＷ）を排出するための排出配管５１５が接続されている。
【0051】
分離膜５１６ａは複数の孔を有しており、ＩＰＡの分子と、水の分子との大きさの違いを利用して脱水を行うことで混合液からＩＰＡ液を抽出する。例えば水の分子は透過できるがＩＰＡの分子は透過できないような複数の孔を有する分離膜を用いることで、混合液から脱水を行うことができる。分離膜５１６ａは、例えば、ゼオライトで形成されたゼオライト膜である。ゼオライトは、例えば、四面体構造の基本単位（例えば、（ＳｉＯ４）４－および（ＡｌＯ４）５－のうちの少なくとも一方を含む基本単位）が相互に連結された結晶構造を有する。分離膜５１６ａは、水分子とＩＰＡ分子との大きさの違いを利用して両者を分離する（水分子のみを透過させる）ものであり、液中のＩＰＡ液の割合が５０ｗｔ％以上で使用することが想定される。ゼオライト膜は、水の分子を透過しＩＰＡの分子を透過しない膜である。
【0052】
なお、分離膜５１６ａは、ゼオライト膜に限られるものではない。例えば、分離膜５１６ａは、有機分離膜であってもよい。有機分離膜は、例えば、ポリビニルアルコール、キトサン、ポリイミド、などで形成される有機膜である。また、分離膜５１６ａは、ＣＮＴ（カーボンナノチューブ）分離膜であってもよい。ＣＮＴ分離膜は、例えば、ポリアミドなどの膜にカーボンナノチューブを添加して得られる膜である。また、分離膜５１６ａは、二次元材料で形成されたものであってもよい。二次元材料は、原子１層分で構成される材料であり、具体的には、硫化モリブデン（ＭｏＳ２）、前周期遷移金属（チタン、バナジウム、など）と軽元素（炭素または窒素）とによる複合原子層化合物、などである。また、分離膜５１６ａは、ＭＯＦ（Ｍｅｔａｌ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｆｒａｍｅｗｏｒｋｓ）材料で形成されたものであってもよいし、炭素材料（例えば、グラフェン、酸化グラフェン、など）で形成されたものであってもよい。
【0053】
脱水用循環配管５１４には、回収タンク５０２から脱水用循環配管５１４に沿って、バルブ５２２、脱水側送液ポンプ５１８、冷却性能と加熱性能とを有する機器である温調器５２４、脱水器５１６、バルブ５２０が順に配置される。なお、温調器５２４の代わりにヒーターが設けられていてもよい。
【0054】
ここで、分離膜５１６ａのＩＰＡ液から水分（純水）を分離する度合い（分離性能）は、混合液の温度が高いほど高くなる。本実施の形態においては、分離膜５１６ａに混合液を接触させる前に温調器５２４で混合液を加熱する。混合液の温度はたとえば７０℃とする。図４は、ＩＰＡ液の割合が７０ｗｔ％であるＩＰＡ液と純水との混合液の、ＩＰＡ濃度変化量と温度との関係の実験結果を示す図である。図４において、縦軸はＩＰＡ濃度の変化量［ｗｔ％］を示し、横軸は混合液の温度［ｄｅｇＣ］を示す。図４では、混合液の液量は１０００ｍｌとし、図３に示される脱水用循環配管５１４を１時間循環させた場合の、各温度におけるＩＰＡ濃度変化量が示されている。分離膜５１６ａはゼオライト膜であるものとし、分離膜５１６ａに混合液中のＩＰＡ液が接触するものとする。
【0055】
図４に例が示されるように、循環する混合液の温度が高いほど、ＩＰＡ濃度変化量が大きくなっている。
【0056】
脱水用循環配管５１４には、各種のセンサーが介挿される。例えば、脱水用循環配管５１４には、脱水用循環配管５１４を流れる混合液における有機溶剤（ここでは例えばＩＰＡ液）の濃度を計測する濃度センサー５２６、脱水用循環配管５１４を流れる混合液の流量を計測する流量センサー５３２（流量計）、脱水用循環配管５１４を流れる混合液の圧力を検知する圧力センサー５２８、脱水用循環配管５１４を流れる混合液の温度を検知する温度センサー５３０、などが介挿される。
【0057】
濃度センサー５２６は、例えば、脱水器５１６よりも下流側であって回収タンク５０２よりも上流側の位置に介挿される。流量センサー５３２は、例えば、回収タンク５０２よりも下流側であって脱水側送液ポンプ５１８よりも上流側の位置に介挿される。圧力センサー５２８は、例えば、脱水側送液ポンプ５１８よりも下流側であって温調器５２４よりも上流側の位置に介挿される。温度センサー５３０は、例えば、脱水器５１６よりも上流側であって温調器５２４よりも下流側の位置に介挿される。
【0058】
＜浄化タンク＞
浄化タンク５０４は、分岐する回収配管５１２を通じて、カップ４２に接続される。すなわち、回収配管５１２の一端側（回収配管５１２から分岐した回収配管５１２ｂの端部）には浄化タンク５０４が接続され、回収配管５１２の他端側には、カップ４２（具体的には、カップ４２に接続されたカップ側回収管４２４）が接続される。ここでは例えば、回収配管５１２は、同じタワーに属する複数の処理ユニット４の各々が備えるカップ４２に接続される。
浄化タンク５０４は、分岐する回収配管５１２を通じて、カップ４２に接続される。すなわち、回収配管５１２の一端側（回収配管５１２から分岐した回収配管５１２ｂの端部）には浄化タンク５０４が接続され、回収配管５１２の他端側には、カップ４２（具体的には、カップ４２に接続されたカップ側回収管４２４）が接続される。ここでは例えば、回収配管５１２は、同じタワーに属する複数の処理ユニット４の各々が備えるカップ４２に接続される。
【0059】
また、浄化タンク５０４は、分岐する第１送液配管５３４を通じて、脱水用循環配管５１４に接続される。すなわち、第１送液配管５３４の一端側（第１送液配管５３４から分岐した第１送液配管５３４ａの端部）には、浄化タンク５０４が接続され、第１送液配管５３４の他端側には、脱水用循環配管５１４が接続される。一例として、第１送液配管５３４の他端側は、脱水用循環配管５１４における、温度センサー５３０と脱水器５１６との間の位置に接続される。第１送液配管５３４ａにはバルブ５３６ａが介挿される。
【0060】
浄化タンク５０４には、循環配管（浄化用循環配管５３８）が接続される。浄化用循環配管５３８は、浄化タンク５０４に貯留されている液体が、浄化タンク５０４から流出し、再び、浄化タンク５０４に戻るように循環する循環経路を形成する。
【0061】
浄化用循環配管５３８には、浄化タンク５０４から浄化用循環配管５３８に沿って、浄化側送液ポンプ５４０、温調器５４６、メタルフィルター５４４ａ、パーティクルフィルター５４４ｂ、パーティクル検出器５４３、バルブ５４２が順に配置される。メタルフィルター５４４ａおよびパーティクルフィルター５４４ｂには、エア抜き用の配管５３９が接続される。
【0062】
パーティクル検出器５４３は、たとえば、光学式の検出器であり、浄化用循環配管５３８を流れる濃縮後混合液をサンプリングして、サンプリングされた濃縮後混合液内に存在するパーティクルを、当該濃縮後混合液の測定によって得られた応答波長などに基づいて検出する機器である。メタルフィルター５４４ａは、浄化用循環配管５３８を流れる流体中の金属元素を除去するフィルターである。また、パーティクルフィルター５４４ｂは、浄化用循環配管５３８を流れる流体中のパーティクルを除去するフィルターである。メタルフィルター５４４ａおよびパーティクルフィルター５４４ｂは、たとえば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）で構成される。なお、メタルフィルター５４４ａおよびパーティクルフィルター５４４ｂの配置順序は、図３に示される順序と逆であってもよい。
【0063】
温調器５４６は、冷却性能と加熱性能とを有する機器である。温調器５４６は、例えば、ペルチェ素子を用いた電子的な冷却を行うものであってもよい（いわゆる、電子冷熱ユニット）。
【0064】
また、浄化用循環配管５３８には、パーティクルフィルター５４４ｂよりも下流側であってバルブ５４２よりも上流側の位置に、計測器５４９ａ、計測器５４９ｂが介挿される。計測器５４９ａは、第１計測器５１７ａと同様に浄化用循環配管５３８を流れる流体中のパーティクル数（粒子計数）を計測する機器である。計測器５４９ｂは、第２計測器５１７ｂと同様に誘導結合プラズマ質量分析法などによって浄化用循環配管５３８を流れる流体中の金属元素量を計測する機器である。
【0065】
浄化用循環配管５３８には、各種のセンサーが介挿される。例えば、浄化用循環配管５３８には、浄化用循環配管５３８を流れる流体の温度を検知する温度センサー５４８、浄化用循環配管５３８を流れる流体の圧力を検知する圧力センサー５５０、などが介挿される。温度センサー５４８は、例えば、メタルフィルター５４４ａよりも上流側であって温調器５４６よりも下流側の位置に介挿される。圧力センサー５５０は、例えば、浄化側送液ポンプ５４０よりも下流側であって温調器５４６よりも上流側の位置に介挿される。
【0066】
＜供給タンク＞
供給タンク５０６は、第３送液配管５５３を通じて、脱水用循環配管５１４および浄化用循環配管５３８に接続される。すなわち、第３送液配管５５３の一端側には供給タンク５０６が接続され、第３送液配管５５３の他端側には、脱水用循環配管５１４および浄化用循環配管５３８が接続される。
供給タンク５０６は、第３送液配管５５３を通じて、脱水用循環配管５１４および浄化用循環配管５３８に接続される。すなわち、第３送液配管５５３の一端側には供給タンク５０６が接続され、第３送液配管５５３の他端側には、脱水用循環配管５１４および浄化用循環配管５３８が接続される。
【0067】
第３送液配管５５３の他端側は、分岐する第１送液配管５３４および分岐する第２送液配管５５２に接続されている。具体的には、第３送液配管５５３の他端側は、第１送液配管５３４から分岐した第１送液配管５３４ｂおよび第２送液配管５５２から分岐した第２送液配管５５２ｂに接続されている。第１送液配管５３４ｂには、バルブ５３６ｂが介挿される。第２送液配管５５２ｂには、バルブ５５４ｂが介挿される。第３送液配管５５３には、バルブ５５５が介挿される。
【0068】
一例として、第３送液配管５５３の他端側は、脱水用循環配管５１４においては、温度センサー５３０よりも下流側であって脱水器５１６よりも上流側の位置に接続され、浄化用循環配管５３８においては、メタルフィルター５４４ａよりも上流側であって温調器５４６よりも下流側の位置に接続される。
【0069】
供給タンク５０６は、ＩＰＡ供給配管５５６を通じて、ＩＰＡ供給源５５８に接続される。すなわち、ＩＰＡ供給配管５５６の一端側には、供給タンク５０６が接続され、ＩＰＡ供給配管５５６の他端側には、ＩＰＡ供給源５５８が接続される。ＩＰＡ供給源５５８は、一度も基板Ｗに供給されていない未使用のＩＰＡ液（例えば、濃度が９９．８ｗｔ％以上であるＩＰＡ液）の供給源である。ＩＰＡ供給配管５５６には、ＩＰＡ供給バルブ５６０が介挿される。
【0070】
供給タンク５０６は、第４送液配管５６２を通じて、ＩＰＡノズル４３ｃに接続される。すなわち、第４送液配管５６２の一端側には、供給タンク５０６が接続され、第４送液配管５６２の他端側には、ＩＰＡノズル４３ｃ（具体的には、ＩＰＡノズル４３ｃに接続されたＩＰＡ配管４３２ｃ）が接続される。ここでは例えば、第４送液配管５６２は、同じタワーに属する複数の処理ユニット４の各々が備えるＩＰＡノズル４３ｃに接続される。
【0071】
第４送液配管５６２には、ポンプ（供給側送液ポンプ５６４）が介挿される。また、第４送液配管５６２には、供給側送液ポンプ５６４よりも下流側の位置に、フィルター５６６が介挿される。また、第４送液配管５６２には、フィルター５６６よりも上流側であって供給側送液ポンプ５６４よりも下流側の位置に、温調器５６８が介挿される。フィルター５６６は、たとえば、第４送液配管５６２を流れる流体中の金属元素を除去するフィルター、または、第４送液配管５６２を流れる流体中のパーティクルを除去するフィルターなどである。フィルター５６６は、たとえば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）で構成される。
【0072】
第４送液配管５６２には、各種のセンサーが介挿される。例えば、第４送液配管５６２には、第４送液配管５６２を流れる流体の温度を検知する温度センサー５７０、第４送液配管５６２を流れる流体の圧力を検知する圧力センサー５７２、などが介挿される。温度センサー５７０は、例えば、フィルター５６６よりも上流側であって温調器５６８よりも下流側の位置に介挿される。圧力センサー５７２は、例えば、供給側送液ポンプ５６４よりも下流側であって温調器５６８よりも上流側の位置に介挿される。
【0073】
＜第１収容ボックス５０ａにおける動作＞
第１収容ボックス５０ａにおける動作の一例について図５を参照しつつ説明する。ここで、図５は、第１収容ボックスにおける動作の一例を示すフローチャートである。第１収容ボックス５０ａで行われる動作は、制御部６の制御下で（すなわち、制御部６が、バルブ５１１、脱水側送液ポンプ５１８、バルブ５２０、バルブ５２２、温調器５２４、バルブ５３６ａ、バルブ５３６ｂ、バルブ５４２、バルブ５５４ａ、バルブ５５４ｂ、バルブ５５５、などを制御することによって）行われる。
第１収容ボックス５０ａにおける動作の一例について図５を参照しつつ説明する。ここで、図５は、第１収容ボックスにおける動作の一例を示すフローチャートである。第１収容ボックス５０ａで行われる動作は、制御部６の制御下で（すなわち、制御部６が、バルブ５１１、脱水側送液ポンプ５１８、バルブ５２０、バルブ５２２、温調器５２４、バルブ５３６ａ、バルブ５３６ｂ、バルブ５４２、バルブ５５４ａ、バルブ５５４ｂ、バルブ５５５、などを制御することによって）行われる。
【0074】
第１収容ボックス５０ａにおける動作としては、まず、第１計測器５１７ａで回収配管５１２を流れる基板処理装置から排出された混合液のパーティクル数を計測する。また、第２計測器５１７ｂで回収配管５１２を流れる混合液の金属元素数を計測する（図５のステップＳＴ１）。第１計測器５１７ａは、回収配管５１２を流れる混合液中のパーティクル数（粒子計数）を計測する機器である。第２計測器５１７ｂは、誘導結合プラズマ質量分析法などによって回収配管５１２を流れる流体中の金属元素量を計測する機器である。回収配管５１２を流れる混合液は、基板処理に用いられた後の有機溶剤であるＩＰＡ液が、同様に基板処理に用いられた純水と混合して生成される液体である。例えば、混合液におけるＩＰＡ液の割合は５０ｗｔ％以上である。
【0075】
第１計測器５１７ａで計測されたパーティクル数、第２計測器５１７ｂで計測された金属元素量のうちの少なくとも一方を用いて求められる清浄度が、あらかじめ定められた第１のしきい値以上であるか否かが制御部６によって判定される（図５のステップＳＴ２）。つまり清浄度と第１のしきい値が比較される。
【0076】
そして、求められた清浄度が第１のしきい値以上である場合（清浄度が高い場合）、脱水用循環配管５１４を通る脱水経路で混合液が脱水される（図５のステップＳＴ４）。ここで、清浄度が高いとは、計測されたパーティクル数が少ない、または、金属元素量が少ないことに相当し、逆に、清浄度が低いとは、計測されたパーティクル数が多い、または、金属元素量が多いことに相当する。
【0077】
一方で、求められた清浄度が第１のしきい値よりも低い場合（清浄度が低い場合）、浄化用循環配管５３８を通る浄化経路で混合液が浄化される（図５のステップＳＴ３）。その後、当該混合液が、脱水用循環配管５１４を通る脱水経路で混合液が脱水される（図５のステップＳＴ４）。
【0078】
次に、混合液が基板処理に用いられるか否かが判定される（図５のステップＳＴ５）。ここで、基板処理に用いられるとは、たとえば、脱水された混合液が基板Ｗの上面に吐出されることに相当する。
【0079】
そして、脱水された混合液が基板処理に用いられる場合、浄化経路で脱水された混合液が浄化される（図５のステップＳＴ６）。脱水された混合液は脱水される前の混合液と比較して、混合液に含まれるＩＰＡ液の濃度が高濃度である。その後、当該脱水された混合液が、供給タンク５０６に貯留されて各処理チャンバー４４において基板Ｗの上面に吐出される（図５のステップＳＴ７）。
【0080】
一方で、混合液が基板処理に用いられない場合、当該混合液が回収タンク５０２から排液タンク１００２へ排液される（図５のステップＳＴ８）。
【0081】
ステップＳＴ１の計測で、混合液の清浄度が第１のしきい値以上である場合、バルブ５１１を開き、かつ、バルブ５１３を閉じて、混合液を回収タンク５０２に貯留する。一方で、混合液の清浄度が第１のしきい値未満である場合、バルブ５１１を閉じ、かつ、バルブ５１３を開いて、混合液を浄化タンク５０４に貯留する。
【0082】
混合液の清浄度が第１のしきい値未満である場合には、脱水器５１６における分離膜５１６ａを通過する金属元素またはパーティクル数が多くなり、分離膜５１６ａへのダメージが大きくなってしまう（すなわち、分離膜５１６ａの劣化が進む）。そのため、混合液の清浄度が第１のしきい値未満である場合には先に浄化用循環配管５３８で混合液を循環させ、混合液の清浄度を高めることが有効である。
【0083】
図６は、第１収容ボックス５０ａ、第２収容ボックス５０ｂの動作の例を示す図である。図６に示される例では、バルブ５１１を開き、かつ、バルブ５１３を閉じて、混合液を回収タンク５０２に貯留する場合が示されている。図６では、黒色に塗られたバルブが開状態であることを示し、黒色に塗られていないバルブが閉状態であることを示す。図３と図６とでは、バルブの開閉状態が異なる。
【0084】
回収タンク５０２では、混合液を脱水用循環配管５１４で循環させて、脱水用循環配管５１４に設けられた脱水器５１６で混合液を脱水する。すなわち、混合液を脱水器５１６における分離膜５１６ａに通すことで、混合液中の有機溶剤であるＩＰＡ液と純水とを分離させる。脱水された混合液は、濃度センサー５２６において濃度が適宜計測され、混合液のＩＰＡ濃度が所望の濃度になるまで脱水用循環配管５１４を循環して繰り返し脱水される。一方で、混合液から分離した純水は、排出配管５１５から排出される。
【0085】
混合液が基板処理に用いられる場合、バルブ５３６ａを開き、かつ、バルブ５３６ｂを閉じて、混合液を浄化タンク５０４に貯留する（図６を参照）。一方で、混合液が基板処理に用いられない場合、バルブ５３６ａを閉じ、かつ、バルブ５３６ｂを閉じて、混合液を回収タンク５０２から排液タンク１００２へ排液する。
【0086】
図７は、第１収容ボックス５０ａ、第２収容ボックス５０ｂの動作の例を示す図である。図７に示される例では、バルブ５１１を閉じ、かつ、バルブ５１３を開いて、混合液を浄化タンク５０４に貯留する場合が示されている。図７では、黒色に塗られたバルブが開状態であることを示し、黒色に塗られていないバルブが閉状態であることを示す。図３と図７とでは、バルブの開閉状態が異なる。
【0087】
浄化タンク５０４では、混合液を浄化用循環配管５３８で循環させて、浄化用循環配管５３８に設けられたメタルフィルター５４４ａおよびパーティクルフィルター５４４ｂで混合液を清浄化する。すなわち、混合液をメタルフィルター５４４ａおよびパーティクルフィルター５４４ｂに通すことで、混合液中の金属元素およびパーティクルを除去する。清浄化された混合液は、計測器５４９ａにおいてパーティクル数が適宜計測される。また、計測器５４９ｂにおいて金属元素量が適宜計測され、混合液の清浄度が所望の値になるまで浄化用循環配管５３８を循環して繰り返し清浄化される。
【0088】
浄化用循環配管５３８から分岐する第２送液配管５５２は、さらに、第２送液配管５５２ａおよび第２送液配管５５２ｂに分岐する。上記の清浄化後、未だ脱水用循環配管５１４における脱水処理が行われていない場合には、バルブ５５４ａを開き、かつ、バルブ５５４ｂを閉じて、混合液を第２送液配管５５２ａを介して回収タンク５０２に貯留する（図７を参照）。混合液を回収タンク５０２に貯留後、混合液を脱水用循環配管５１４で循環させて、脱水用循環配管５１４に設けられた脱水器５１６で混合液を脱水する。
【0089】
ここで、第１計測器５１７ａおよび第２計測器５１７ｂで計測された清浄度が第１のしきい値未満であったために先に浄化用循環配管５３８で循環し、その後脱水用循環配管５１４で循環して濃縮された混合液について、基板処理に用いられる場合には、再度清浄度を高めることが必要となるが、２回目の浄化用循環配管は、１回目の浄化用循環配管５３８とは別の配管（後述の図８を参照）を使用する。１回目の浄化用循環配管５３８には脱水前の混合液が残存しているため、混合液中のＩＰＡ濃度を低下させてしまう可能性があるためである。
【0090】
なお、１回目の浄化用循環配管５３８の循環で通過するメタルフィルター５４４ａおよびパーティクルフィルター５４４ｂと、２回目の浄化用循環配管の循環で通過するメタルフィルターおよびパーティクルフィルターとでは、フィルター径（目開きの大きさ）が同じであってもよいし異なっていてもよい。脱水用循環配管５１４で循環する前後では混合液の不純物の量が異なるため、たとえば、１回目の浄化用循環配管５３８におけるメタルフィルター５４４ａおよびパーティクルフィルター５４４ｂのフィルター径を、２回目の浄化用循環配管におけるメタルフィルターおよびパーティクルフィルターのフィルター径よりも大きくする（粗くする）ことで、フィルターの目詰まりを抑制して、効果的に混合液中の不純物を除去することができる（図８において後述）。
【0091】
図８は、第１収容ボックス、第２収容ボックスの変形例を示す図である。図８では、第１収容ボックス１５０ａが示されている。第１収容ボックス１５０ａでは、第１送液配管５３４ａが浄化タンク１５０４に接続され、浄化用循環配管５３８で浄化タンク５０４を介して浄化された混合液は、第２送液配管５５２ａを介して回収タンク５０２に送液される。そして、脱水用循環配管５１４で回収タンク５０２を介して濃縮された混合液は、第１送液配管５３４ａを介して浄化タンク１５０４に送液される。
【0092】
浄化タンク１５０４には、循環配管（浄化用循環配管１５３８）が接続される。浄化用循環配管１５３８は、浄化タンク１５０４に貯留されている液体が、浄化タンク１５０４から流出し、再び、浄化タンク１５０４に戻るように循環する循環経路を形成する。
【0093】
浄化用循環配管１５３８には、浄化タンク１５０４から浄化用循環配管１５３８に沿って、浄化側送液ポンプ１５４０、温調器１５４６、メタルフィルター５４４ｃ、パーティクルフィルター５４４ｄ、パーティクル検出器１５４３、バルブ１５４２が順に配置される。メタルフィルター５４４ｃおよびパーティクルフィルター５４４ｄには、エア抜き用の配管１５３９が接続される。
【0094】
パーティクル検出器１５４３は、たとえば、光学式の検出器であり、浄化用循環配管１５３８を流れる濃縮後混合液をサンプリングして、サンプリングされた濃縮後混合液内に存在するパーティクルを、当該濃縮後混合液の測定によって得られた応答波長などに基づいて検出する機器である。メタルフィルター５４４ｃは、浄化用循環配管１５３８を流れる流体中の金属元素を除去するフィルターであり、１回目の浄化用循環配管５３８のメタルフィルター５４４ａのフィルター径よりもフィルター径が小さい。また、パーティクルフィルター５４４ｄは、浄化用循環配管１５３８を流れる流体中のパーティクルを除去するフィルターであり、１回目の浄化用循環配管５３８のパーティクルフィルター５４４ｂのフィルター径よりもフィルター径が小さい。メタルフィルター５４４ｃおよびパーティクルフィルター５４４ｄは、たとえば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）で構成される。なお、メタルフィルター５４４ｃおよびパーティクルフィルター５４４ｄの配置順序は、図３に示される順序と逆であってもよい。
【0095】
温調器１５４６は、冷却性能と加熱性能とを有する機器である。温調器１５４６は、例えば、ペルチェ素子を用いた電子的な冷却を行うものであってもよい（いわゆる、電子冷熱ユニット）。
【0096】
また、浄化用循環配管１５３８には、パーティクルフィルター５４４ｄよりも下流側であってバルブ１５４２よりも上流側の位置に、計測器１５４９ａ、計測器１５４９ｂが介挿される。計測器１５４９ａは第１計測器５１７ａと同様に、浄化用循環配管１５３８を流れる流体中のパーティクル数（粒子計数）を計測する機器である。計測器１５４９ｂは、第２計測器５１７ｂと同様に誘導結合プラズマ質量分析法などによって浄化用循環配管１５３８を流れる流体中の金属元素量を計測する機器である。
【0097】
浄化用循環配管１５３８には、各種のセンサーが介挿される。例えば、浄化用循環配管１５３８には、浄化用循環配管１５３８を流れる流体の温度を検知する温度センサー１５４８、浄化用循環配管１５３８を流れる流体の圧力を検知する圧力センサー１５５０、などが介挿される。温度センサー１５４８は、例えば、メタルフィルター５４４ｃよりも上流側であって温調器１５４６よりも下流側の位置に介挿される。圧力センサー１５５０は、例えば、浄化側送液ポンプ１５４０よりも下流側であって温調器１５４６よりも上流側の位置に介挿される。
【0098】
上記の浄化後、バルブ１５５４を開いて、混合液は第２送液配管１５５２および第３送液配管５５３を経由して供給タンク５０６に貯留される。
【0099】
なお、図８に示される構成は、脱水用循環配管５１４における循環の前後で浄化用循環配管における循環がそれぞれ１回ずつ行われる場合に限られない。すなわち、浄化用循環配管５３８における循環が脱水用循環配管５１４における循環の前に１回行われるのみで脱水用循環配管５１４における循環の後に浄化用循環配管１５３８における循環が行われない場合、または、浄化用循環配管１５３８における循環が脱水用循環配管５１４における循環の後に１回行われるのみで浄化用循環配管５３８における循環が脱水用循環配管５１４における循環の前に行われない場合にも、適用可能である。
【0100】
＜以上に記載された実施の形態の変形例について＞
以上に記載された実施の形態では、それぞれの構成要素の寸法、形状、相対的配置関係または実施の条件などについても記載する場合があるが、これらはすべての局面においてひとつの例であって、限定的なものではない。
以上に記載された実施の形態では、それぞれの構成要素の寸法、形状、相対的配置関係または実施の条件などについても記載する場合があるが、これらはすべての局面においてひとつの例であって、限定的なものではない。
【0101】
したがって、例が示されていない無数の変形例と均等物とが、本願明細書に開示される技術の範囲内において想定される。たとえば、少なくとも１つの構成要素を変形する場合、追加する場合または省略する場合が含まれるものとする。
【0102】
また、以上に記載された少なくとも１つの実施の形態において、特に指定されずに材料名などが記載された場合は、矛盾が生じない限り、当該材料に他の添加物が含まれた、たとえば、合金などが含まれるものとする。
【符号の説明】
【0103】
６ 制御部
４３ａ 薬液ノズル
４３ｂ リンス液ノズル
４３ｃ ＩＰＡノズル
５０２ 回収タンク
５０４ 浄化タンク
５０６ 供給タンク
５１６ 脱水器
５１６ａ 分離膜
５６６ フィルター
４３ａ 薬液ノズル
４３ｂ リンス液ノズル
４３ｃ ＩＰＡノズル
５０２ 回収タンク
５０４ 浄化タンク
５０６ 供給タンク
５１６ 脱水器
５１６ａ 分離膜
５６６ フィルター
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】