特開2025-175503ポリアセタール系樹脂、リソグラフィー膜形成用組成物、レジスト膜、及びレジストパターンの形成方法

発明の名称　ポリアセタール系樹脂、リソグラフィー膜形成用組成物、レジスト膜、及びレジストパターンの形成方法

出願人　学校法人　関西大学　（識別番号 399030060）

　　　　特許公開件数ランキング 1078 位（34件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 810 位（40件）（共同出願を含む）

出願人　三菱瓦斯化学株式会社　（識別番号 4466）

　　　　特許公開件数ランキング 483 位（62件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 190 位（157件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2025-175503

公報発行日　2025年12月3

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2025-175503

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