2025-177795 光源装置及びエネルギービーム導入部材

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2025177795

(43)【公開日】2025-12-05

(54)【発明の名称】光源装置及びエネルギービーム導入部材

(51)【国際特許分類】

   G03F 7/20 20060101AFI20251128BHJP

   H05G 2/00 20060101ALI20251128BHJP

【ＦＩ】

G03F7/20 503

H05G2/00 K

【審査請求】未請求

【請求項の数】14

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2024084901

(22)【出願日】2024-05-24

(71)【出願人】

【識別番号】000102212

【氏名又は名称】ウシオ電機株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110003339

【氏名又は名称】弁理士法人南青山国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】寺本 雄介

【テーマコード（参考）】

2H197

4C092

【Ｆターム（参考）】

2H197CA10

2H197CA17

2H197DB16

2H197GA01

2H197GA05

2H197GA12

2H197GA16

2H197GA20

2H197GA24

4C092AA06

4C092AB10

4C092AB19

4C092AC09

4C092BD18

(57)【要約】

【課題】エネルギービームを、進行を阻害することなく発光点まで安定的に導入することを可能とする光源装置、及びエネルギービーム導入部材を提供すること。
【解決手段】エネルギービーム導入部材は、筐体部と、第１の窓部材と、治具と、第２の窓部材と、ガス導入部とを有する。筐体部は、エネルギービームの入射孔及び出射孔と、エネルギービームが通過する内部空間とを有する。第１の窓部材は、エネルギービームが通過可能であり、入射孔を閉塞するように設けられる。治具は、筐体部に固定され、内部空間に位置する。第２の窓部材は、エネルギービームが通過可能であり、治具に固定され、内部空間に位置する。ガス導入部は、内部空間のうち、第２の窓部材を基準として入射孔側の空間を第１の空間、出射孔側の空間を第２の空間とした場合に、第１の空間にガスを導入する。治具は、ガスを第１の空間から第２の空間に導通させるガス導通孔を有する。
【選択図】図３

【特許請求の範囲】

【請求項1】

エネルギービームの照射を利用して液体原料をプラズマ化して放射線を取り出す光源装置であって、
前記エネルギービームの入射孔及び出射孔と、前記エネルギービームが通過する内部空間とを有する筐体部と、
前記エネルギービームが通過可能であり、前記入射孔を閉塞するように設けられた第１の窓部材と、
前記筐体部に固定され、前記内部空間に位置する治具と、
前記エネルギービームが通過可能であり、前記治具に固定され、前記内部空間に位置する第２の窓部材と、
前記内部空間のうち、前記第２の窓部材を基準として前記入射孔側の空間を第１の空間、前記出射孔側の空間を第２の空間とした場合に、前記第１の空間にガスを導入するガス導入部とを有し、
前記治具は、前記ガスを前記第１の空間から前記第２の空間に導通させるガス導通孔を有する
エネルギービーム導入部材を具備する
光源装置。

【請求項2】

請求項１に記載の光源装置であって、さらに、
前記筐体部の前記出射孔の近傍を加熱する加熱機構を具備する
光源装置。

【請求項3】

請求項２に記載の光源装置であって、
前記加熱機構は、前記プラズマから発生するデブリを捕捉するデブリ低減機構である
光源装置。

【請求項4】

請求項１又は２に記載の光源装置であって、
前記治具は、前記第２の窓部材を基準として前記入射孔側の第１の治具、及び前記出射孔側の第２の治具からなり、
前記第２の窓部材は、前記第１の治具及び前記第２の治具により挟み込まれることで固定される
光源装置。

【請求項5】

請求項４に記載の光源装置であって、
前記第１の治具はリング形状を有し、
前記第２の窓部材は円盤形状を有し、径が前記第１の治具の内径よりも大きく、外径よりも小さい
光源装置。

【請求項6】

請求項１又は２に記載の光源装置であって、
前記第２の窓部材の少なくとも前記出射孔側の面は、反射防止膜を有さない
光源装置。

【請求項7】

請求項１又は２に記載の光源装置であって、
前記第２の窓部材は、フッ化カルシウム又はフッ化マグネシウムの少なくとも一方を含む材料により構成される
光源装置。

【請求項8】

請求項１又は２に記載の光源装置であって、
前記第２の窓部材は、低膨張率の材料又はガラスの少なくとも一方により構成される
光源装置。

【請求項9】

請求項１又は２に記載の光源装置であって、
前記ガス導入部は、前記筐体部に構成される孔である
光源装置。

【請求項10】

請求項１又は２に記載の光源装置であって、
前記エネルギービーム導入部材は、前記プラズマから発生し前記出射孔から前記内部空間に進入するデブリを、前記第２の窓部材とは異なる位置に誘導するデブリ誘導手段を有する
光源装置。

【請求項11】

請求項１０に記載の光源装置であって、
前記デブリ誘導手段は、前記第２の窓部材とは異なる位置に構成された空間であるバッファ空間に前記デブリを誘導する手段である
光源装置。

【請求項12】

請求項１０に記載の光源装置であって、
前記デブリ誘導手段は、前記内部空間を排気することにより前記デブリを誘導する手段である
光源装置。

【請求項13】

請求項１０に記載の光源装置であって、
前記デブリ誘導手段は、前記エネルギービーム導入部材の外部から前記内部空間に向かってガスを吹き付けることにより前記デブリを誘導する手段である
光源装置。

【請求項14】

エネルギービームの照射を利用して液体原料をプラズマ化して放射線を取り出す光源装置において用いられるエネルギービーム導入部材であって、
前記エネルギービームの入射孔及び出射孔と、前記エネルギービームが通過する内部空間とを有する筐体部と、
前記エネルギービームが通過可能であり、前記入射孔を閉塞するように設けられた第１の窓部材と、
前記筐体部に固定され、前記内部空間に位置する治具と、
前記エネルギービームが通過可能であり、前記治具に固定され、前記内部空間に位置する第２の窓部材と、
前記内部空間のうち、前記第２の窓部材を基準として前記入射孔側の空間を第１の空間、前記出射孔側の空間を第２の空間とした場合に、前記第１の空間にガスを導入するガス導入部とを具備し、
前記治具は、前記ガスを前記第１の空間から前記第２の空間に導通させるガス導通孔を有する
エネルギービーム導入部材。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、Ｘ線や極端紫外光等を発生させる光源装置、及び当該光源装置に用いられるエネルギービーム導入部材に関する。

【背景技術】

【0002】

Ｘ線のうち極端紫外光（以下、「ＥＵＶ（Extreme Ultra Violet）光」ともいう）は、近年露光光として使用されている。ＥＵＶリソグラフィ用のマスクの基材は、ＥＵＶ光を反射させるための多層膜（例えば、モリブデンとシリコン）上にＥＵＶリソグラフィ用の放射線を吸収する材料をパターニングすることで、ＥＵＶマスクが構成される。

【0003】

ＥＵＶマスクにおける許容できない欠陥の大きさは、大幅に小さくなっており検出が困難となっている。そこで、ＥＵＶマスクの検査には、アクティニック検査（Actinic inspection）と呼ばれる、リソグラフィの作業波長と一致する波長の放射線を用いた検査が行われる。

【0004】

一般にＥＵＶ光源装置としては、ＤＰＰ（Discharge Produced Plasma）光源装置、ＬＤＰ（Laser Assisted Discharge Produced Plasma）光源装置、及びＬＰＰ（Laser Produced Plasma）光源装置が挙げられる。

【0005】

ＤＰＰ光源装置は、ＥＵＶ放射種を含む気体状のプラズマ原料（放電ガス）が供給された電極間に高電圧を印加して、放電により高密度高温プラズマを生成し、そこから放射される極端紫外光を利用するものである。

【0006】

ＬＤＰ光源装置は、ＤＰＰ光源装置が改良されたものであり、例えば、放電を発生させる電極（放電電極）表面にＥＵＶ放射種を含む液体状の高温プラズマ原料（例えば、Ｓｎ（スズ）やＬｉ（リチウム）等）を供給し、当該原料に対してレーザビームを照射して当該原料を気化し、その後、放電によって高温プラズマを生成するものである。

【0007】

ＬＰＰ光源装置は、ＥＵＶ放射種をレーザビーム等により励起して高温プラズマを生成するものである。この方式の光源装置としては、微小な液滴状に噴出された高温プラズマ原料のドロップレットに対して、レーザ光を集光することにより当該ターゲット材料を励起してプラズマを発生させるものが知られている。

【0008】

特許文献１では、Ｘ線やＥＵＶ等の放射線を発生させるためのプラズマ原料を回転体に供給し、回転体においてプラズマ原料が供給される領域にエネルギービーム（レーザビーム）を照射して放射線を得る方法が提案されている。一方が開口した円筒状の容器が回転体として用いられ、この容器に液体状のプラズマ原料が供給され、容器の内周面にレーザ光が照射される。

【0009】

この方法は、所謂ＬＰＰ方式に相当するが、回転体の遠心力によりエネルギービームの照射領域へ液体状のプラズマ原料を供給するものであり、液体状のプラズマ原料をドロップレットとして供給する必要がない。このため、ドロップレットにレーザビームを集光する方式等と比べて、比較的簡易な構成で、高輝度の放射線を得ることが可能となる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0010】

【特許文献1】特開２０１４－２１６２８６号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0011】

特許文献１のような光源装置において、エネルギービームを、進行を阻害することなく発光点まで導入することを可能とする技術が求められている。

【0012】

以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、エネルギービームを、進行を阻害することなく発光点まで安定的に導入することを可能とする光源装置、及びエネルギービーム導入部材を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0013】

上記目的を達成するため、本技術の一形態に係る光源装置は、エネルギービームの照射を利用して液体原料をプラズマ化して放射線を取り出す光源装置であって、エネルギービーム導入部材を具備する。
前記エネルギービーム導入部材は、筐体部と、第１の窓部材と、治具と、第２の窓部材と、ガス導入部とを有する。
前記筐体部は、前記エネルギービームの入射孔及び出射孔と、前記エネルギービームが通過する内部空間とを有する。
前記第１の窓部材は、前記エネルギービームが通過可能であり、前記入射孔を閉塞するように設けられる。
前記治具は、前記筐体部に固定され、前記内部空間に位置する。
前記第２の窓部材は、前記エネルギービームが通過可能であり、前記治具に固定され、前記内部空間に位置する。
前記ガス導入部は、前記内部空間のうち、前記第２の窓部材を基準として前記入射孔側の空間を第１の空間、前記出射孔側の空間を第２の空間とした場合に、前記第１の空間にガスを導入する。
前記治具は、前記ガスを前記第１の空間から前記第２の空間に導通させるガス導通孔を有する。

【0014】

この光源装置では、エネルギービームがエネルギービーム導入部材を第１の窓部材、第２の窓部材、出射孔の順に通過する。第１の窓部材は入射孔を閉塞し、第２の窓部材は筐体部に固定された治具に固定される。また入射孔側の空間にはガスが導入され、治具にはガス導通孔が設けられる。これにより、エネルギービームを、進行を阻害することなく発光点まで安定的に導入することが可能となる。

【0015】

前記光源装置は、さらに、前記筐体部の前記出射孔の近傍を加熱する加熱機構を具備してもよい。

【0016】

前記加熱機構は、前記プラズマから発生するデブリを捕捉するデブリ低減機構であってもよい。

【0017】

前記治具は、前記第２の窓部材を基準として前記入射孔側の第１の治具、及び前記出射孔側の第２の治具からなってもよい。この場合、前記第２の窓部材は、前記第１の治具及び前記第２の治具により挟み込まれることで固定されてもよい。

【0018】

前記第１の治具はリング形状を有してもよい。この場合、前記第２の窓部材は円盤形状を有し、径が前記第１の治具の内径よりも大きく、外径よりも小さくてもよい。

【0019】

前記第２の窓部材の少なくとも前記出射孔側の面は、反射防止膜を有さなくてもよい。

【0020】

前記第２の窓部材は、フッ化カルシウム又はフッ化マグネシウムの少なくとも一方を含む材料により構成されてもよい。

【0021】

前記第２の窓部材は、低膨張率の材料又はガラスの少なくとも一方により構成されてもよい。

【0022】

前記ガス導入部は、前記筐体部に構成される孔であってもよい。

【0023】

前記エネルギービーム導入部材は、前記プラズマから発生し前記出射孔から前記内部空間に進入するデブリを、前記第２の窓部材とは異なる位置に誘導するデブリ誘導手段を有してもよい。

【0024】

前記デブリ誘導手段は、前記第２の窓部材とは異なる位置に構成された空間であるバッファ空間に前記デブリを誘導する手段であってもよい。

【0025】

前記デブリ誘導手段は、前記内部空間を排気することにより前記デブリを誘導する手段であってもよい。

【0026】

前記デブリ誘導手段は、前記エネルギービーム導入部材の外部から前記内部空間に向かってガスを吹き付けることにより前記デブリを誘導する手段であってもよい。

【0027】

本技術の一形態に係るエネルギービーム導入部材は、前記筐体部と、前記第１の窓部材と、前記治具と、前記第２の窓部材と、前記ガス導入部とを有する。

【発明の効果】

【0028】

本発明によれば、エネルギービームを、進行を阻害することなく発光点まで安定的に導入することが可能となる。なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれかの効果であってもよい。

【図面の簡単な説明】

【0029】

【図1】本実施形態に係る光源装置１００の構成例を示す模式図である。

【図2】チャンバ本体１０９の内部の構成例を示す模式図である。

【図3】レーザポート３の構成例を示す模式図である。

【図4】オサエ９ａの構成例を示す模式図である。

【図5】デブリ誘導手段の一例を示す模式図である。

【図6】デブリ誘導手段の一例を示す模式図である。

【図7】治具のバリエーション例を示す模式図である。

【図8】ガス導通孔１８のバリエーション例を示す模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0030】

＜第１の実施形態＞
以下、本技術に係る第１の実施形態を、図面を参照しながら説明する。

【0031】

［光源装置の基本構成］
図１は、本実施形態に係る光源装置１００の構成例を示す模式図である。光源装置１００は、ＬＰＰ方式の光源装置である。即ち光源装置１００は、プラズマ原料１０１にエネルギービームＥＢを照射することで、プラズマ原料１０１を励起してプラズマＰを発生させ、プラズマＰから放出される放射線Ｒを取り出して光源として用いる装置である。放射線ＲはＥＵＶ光、Ｘ線又はその他の電磁波である。

【0032】

プラズマ原料１０１は溶融した金属又は合金であり、例えば液相状態のスズ（Ｓｎ）、リチウム（Ｌｉ）、ガドリニウム（Ｇｄ）、テルビウム（Ｔｂ）、ガリウム（Ｇａ）、ビスマス（Ｂｉ）、インジウム（Ｉｎ）又はこれらの材料のうちの少なくとも１つを含む合金である。
プラズマ原料１０１は、液体原料の一実施形態に相当する。

【0033】

図１は、光源装置１００を設置面から所定の高さの位置で水平方向に沿って切断した場合の模式的な断面を、鉛直上方から見た場合の図である。図１では、光源装置１００の構成及び動作を理解しやすいように、断面の構成等を説明する必要のない部分については、断面の図示を省略している。以下、Ｘ方向を水平方向のうち左右方向（Ｘ軸の正側が右側、負側が左側）、Ｙ方向を水平方向のうち前後方向（Ｙ軸の正側が前方側、負側が後方側）、Ｚ方向を鉛直方向（Ｚ軸の正側が上方側、負側が下方側）として説明を行う場合がある。もちろん、本技術の適用について、光源装置１００が使用される向き等が限定される訳ではない。

【0034】

図１に示すように光源装置１００は、筐体１０２、真空チャンバ１０３、エネルギービーム入射チャンバ１０４、放射線出射チャンバ１０５、プラズマ生成機構１０６、制御部１０７及びビーム源１０８を備える。

【0035】

図１に示す例では、筐体１０２は、出射孔１０２ａ、入射孔１０２ｂ及び貫通孔１０２ｃを有する。本実施形態では、出射孔１０２ａを通るように、放射線Ｒの出射軸ＥＡが設定されている。放射線Ｒは、出射軸ＥＡに沿って取り出され、出射孔１０２ａから放出される。また本実施形態では、入射孔１０２ｂを通るように、エネルギービームＥＢの入射軸ＩＡが設定されている。

【0036】

図１に示すように、筐体１０２の外部にはエネルギービームＥＢを出射するビーム源１０８が設置されている。ビーム源１０８は、入射軸ＩＡに沿ってエネルギービームＥＢが筐体１０２の内部に入射するように設置されている。エネルギービームＥＢとしては、電子ビームやレーザ光を使用することが可能である。

【0037】

光源装置１００には、複数のチャンバを含むチャンバ部Ｃが設けられている。具体的には、チャンバ部Ｃは、真空チャンバ１０３、エネルギービーム入射チャンバ（以下、単に入射チャンバという）１０４、及び放射線出射チャンバ(以下、単に出射チャンバという)１０５を含む。真空チャンバ１０３と入射チャンバ１０４は互いに連結され、真空チャンバ１０３と出射チャンバ１０５は互いに連結されている。

【0038】

入射チャンバ１０４は、エネルギービームＥＢの入射軸ＩＡ上に位置するように構成され、出射チャンバ１０５は、放射線Ｒの出射軸ＥＡ上に位置するように構成されている。出射チャンバ１０５内には放射線Ｒを導光するコレクタ（集光鏡）１１２が配置されている。また真空チャンバ１０３には、プラズマＰを発生させるプラズマ生成機構１０６が配置されている。

【0039】

出射チャンバ１０５のプラズマ生成機構１０６とは反対側の端部には、マスク検査装置等の利用装置が接続される。図１に示す例では、利用装置の一部をなすチャンバとして、アプリケーションチャンバ１１０が接続されている。アプリケーションチャンバ１１０内の圧力は大気圧であってもよい。また、アプリケーションチャンバ１１０の内部は、必要に応じてガス注入路よりガス（例えば、不活性ガス）を導入してパージし、図示を省略した排気手段により排気されてもよい。アプリケーションチャンバ１１０と出射チャンバ１０５の間には、プラズマＰが生成される領域とアプリケーションチャンバ１１０とを物理的に分離するフィルタ膜１１１や開口が設けられている。

【0040】

チャンバ本体１０９には、入射窓１１４が設けられている。入射窓１１４は、エネルギービームＥＢの入射軸ＩＡ上で入射孔１０２ｂと並ぶ位置に配置されている。また、チャンバ本体１０９には排気用ポンプ１１７が接続されている。

【0041】

また、図１に示すように、出射チャンバ１０５及び入射チャンバ１０４には、ガス注入路１１６ａ及び１１６ｂがそれぞれ設けられ、図示を省略したガス供給装置から、出射チャンバ１０５及び入射チャンバ１０４の内部にガスが供給される。出射チャンバ１０５には、アルゴンやヘリウム等の放射線Ｒに対して透過率の高いガスが供給される。また入射チャンバ１０４には、アルゴンやヘリウム等のエネルギービームＥＢに対して透過率の高いガスが供給される。

【0042】

プラズマ生成機構１０６は、真空チャンバ１０３内にてプラズマＰを生成し、放射線Ｒ（Ｘ線又はＥＵＶ光）を放出するための機構である。プラズマ生成機構１０６は、図１に示すように回転体２０を備え、回転体２０にはエネルギービームＥＢが入射する。回転体２０は、エネルギービームＥＢの照射位置Ｉが入射軸ＩＡと出射軸ＥＡとの交点の位置に配置されるように、真空チャンバ１０３内に配置されている。

【0043】

回転体２０の裏面（Ｙ軸の負側の面）の中央には軸部材７２が接続される。軸部材７２は、チャンバ本体１０９及び筐体１０２を貫通するように配置される。また筐体１０２の外部にはモータ７１が配置され、モータ７１は、軸部材７２の回転体２０に接続されない側の端部に接続される。

【0044】

モータ７１が駆動すると、軸部材７２及び回転体２０が一体的に回転する。図１にはこれらの回転の向きが矢印で示されている。本例では、回転体２０がＹ軸の正側から見て反時計回りに回転しているが、時計回りの回転であってもよい。また本例では、チャンバ本体１０９における軸部材７２の貫通部分に、メカニカルシール７３が設けられている。これにより、真空チャンバ１０３の気密性を維持しつつ、スムーズな回転が実現される。

【0045】

また、プラズマ生成機構１０６は原料コンテナ２１を有する。原料コンテナ２１にはプラズマ原料１０１が貯留され、貯留されたプラズマ原料１０１に回転体２０の下側が浸漬される。

【0046】

回転体２０が回転すると、プラズマ原料１０１が回転体２０に付着した状態で持ち上げられる。これにより、回転体２０の表面に常にプラズマ原料１０１が付着した状態となる。さらに付着したプラズマ原料１０１に対して、ビーム源１０８によりエネルギービームＥＢが照射される。これにより、照射位置ＩにおいてプラズマＰが発生する。

【0047】

制御部１０７は、光源装置１００が有する各構成要素の動作を制御する。例えば、制御部１０７により、ビーム源１０８や排気用ポンプ１１７の動作が制御される。図１では、制御部１０７は機能ブロックとして模式的に図示されているが、制御部１０７が構成される位置等は任意に設計されてよい。

【0048】

また、図１に示すように、本実施形態では、チャンバ本体１０９に放射線診断部１１９が接続されている。放射線診断部１１９は放射線Ｒの出射軸ＥＡとは異なる方向に放射される放射線Ｒが入射する位置に配置され、プラズマＰから放出される放射線Ｒの状態を測定する。

【0049】

［真空チャンバ］
図２は、チャンバ本体１０９の内部の構成例を示す模式図である。
図２には、チャンバ本体１０９の内部を上側から、図１の右側を下にして見た状態を示している。チャンバ本体１０９の内部には、回転体２０、軸部材７２、光源カバー１、ＤＭＴ２、及びレーザポート３が配置される。なお図１では、このうち光源カバー１、ＤＭＴ２、及びレーザポート３の図示を省略している。また図２では、図１に記載されている原料コンテナ２１及びメカニカルシール７３等の図示を省略している。

【0050】

光源カバー１は、回転体２０の周りを覆うカバーである。光源カバー１の面のうち、図２の右側の面の照射位置Ｉに対向する部分には開口４が設けられ、照射位置Ｉにおいて発生した放射線Ｒの一部が開口４を通過する。図２には放射線Ｒの進路が矢印で模式的に示されている。

【0051】

また、光源カバー１の左側の面の中央にも開口が設けられ、当該開口を軸部材７２が貫通する。光源カバー１が設けられることにより、照射位置Ｉにおいて発生したデブリの、光源カバー１の外部への飛散が抑制される。

【0052】

ＤＭＴ２（Debris Mitigation Tool、デブリ低減機構）は、デブリを捕捉する機構である。照射位置ＩでプラズマＰから発生したデブリの一部は、光源カバー１の開口４を通過し、右側に向かって飛散する。本例では開口４の右側にＤＭＴ２が配置され、このようなデブリが捕捉される。

【0053】

本実施形態では、ＤＭＴ２として回転式や固定式のホイルトラップが用いられる。またＤＭＴ２が加熱され、捕捉されたデブリが溶融することにより液状となって回収される。また、ホイルトラップ内に圧力差を作るためにガスが導入されてもよい。その他、ＤＭＴ２の具体的な種類は限定されない。
ＤＭＴ２は、本技術に係るデブリ低減機構の一実施形態に相当する。

【0054】

レーザポート３は概ね円錐形状を有し、チャンバ本体１０９及び光源カバー１を貫通するように配置される。レーザポート３は、図２の右下から左上に渡って配置されるが、これは図１の右上から左下に相当する。図１のチャンバ本体１０９の右上部分には、入射窓１１４、エネルギービーム入射チャンバ１０４、ガス注入路１１６ｂが設けられているが、レーザポート３はこれらの機構と共に、あるいはこれらの機構に代えて設けられる。

【0055】

ビーム源１０８により出射されたエネルギービームＥＢは、レーザポート３の内部を通過し、回転体２０の表面（照射位置Ｉ）に到達する。すなわちレーザポート３は、回転体２０の表面にエネルギービームＥＢを導入するエネルギービーム導入部材であるとも言える。

【0056】

また本実施形態では、ＤＭＴ２及びレーザポート３の先端が近接するように、ＤＭＴ２及びレーザポート３の配置や形状が調整される。

【0057】

［レーザポート］
図３は、レーザポート３の構成例を示す模式図である。
図３には、レーザポート３の中央部分をＸＹ平面で切った場合の断面を、上側から見た状態が示されている。以降説明のために、図３に示すように新たにＸＹＺ座標系を規定する。すなわち、実際には図２の右側（Ｙ軸の正側）は図３の左斜め下側に、図２の下側（Ｘ軸の正側）は図３の左斜め上側に相当するが、便宜上これと異なる座標系を規定する。

【0058】

レーザポート３は、筐体７、２つの窓８（８ａ、８ｂ）、及び２つのオサエ９（９ａ、９ｂ）を有する。筐体７は概ね円錐形状の部材であり、図３では頂点が右側を向いている。筐体７の側部１１は、円錐の筒形状を有する。また、筐体７の底面に相当する部分（左側）は、概ね全面が円形状の開口１０ａとなっている。また頂点に相当する部分（右側）は、径の小さい開口１０ｂとなっている。

【0059】

なお、筐体７の具体的な形状は限定されず、本技術が実現可能な範囲内で適宜変更されてよい。例えば筐体７が円柱の筒形状を有し、左側の全面が円形状の開口１０ａとなっており、右側にはエネルギービームＥＢが通過可能である小さな開口１０ｂが構成されてもよい。
筐体７は、本技術に係る筐体部の一実施形態に相当する。

【0060】

窓８ａは、筐体７の開口１０ａと同一の形状である、円盤形状を有する部材である。窓８ａは開口１０ａに嵌め込まれて配置される。すなわち窓８ａは、窓８ａと開口１０ａとの間に隙間が生じないように、開口１０ａを閉塞するように設けられる。以下、側部１１及び窓８ａにより囲まれた空間を内部空間Ｓと呼称する。窓８ａは、エネルギービームＥＢが通過可能であるような材料により構成される。
窓８ａは、本技術に係る第１の窓部材の一実施形態に相当する。

【0061】

側部１１の開口１０ａの近傍には、ガス導入管１２が接続される。ガス導入管１２は内部空間Ｓに連通する管であり、すなわち側部１１に構成される孔であるとも言える。ガス導入管１２の内部空間Ｓ側ではない端部には、図示しないガス導入のための機構が接続される。当該機構が動作することにより、ガス導入管１２を介して内部空間Ｓにガスが流入する。

【0062】

本例では４つのガス導入管１２ａ～１２ｄが等間隔に接続される。図３にはそのうち２つのガス導入管１２ａ及び１２ｂが図示されている。この他、ガス導入管１２ｃ及び１２ｄも設けられるが、図３は断面図であるためこれらは図示されていない。各々のガス導入管１２は側部１１に対して垂直に接続される。しかしながら、このような構成はあくまで一例であり、ガス導入管１２の具体的な数は限定されず、接続される位置や向きも任意であってよい。
ガス導入管１２は、本技術に係るガス導入部の一実施形態に相当する。

【0063】

図４は、オサエ９ａの構成例を示す模式図である。
オサエ９ａは全体として正円のリング形状を有する部材であり、図３に示すように内部空間Ｓに、ＹＺ平面に平行に配置される。なお、図３ではオサエ９ａを模式的に図示しているため、リング形状の内側の開口の図示を省略している。オサエ９ａは、リング部１５及び側部１６を有する。

【0064】

リング部１５はリング形状の平板である。従ってリング部１５は、内側に円形状の開口１９を有する。またリング部１５はその表面に、４つのネジ用孔１７及び４つのガス導通孔１８を有する。図４では、これらのうち１つのネジ用孔１７及び１つのガス導通孔１８にのみ代表して符号を付している。

【0065】

ネジ用孔１７はネジが貫通するための孔である。ネジ用孔１７は、リング部１５の０時、３時、６時、９時の位置にそれぞれ１つずつ、合計４つ設けられる。ガス導通孔１８はリング部１５に沿った形状を有する孔であり、リング部１５の０時～３時、３時～６時、６時～９時、９時～１２時の間に延在するようにそれぞれ１つずつ、合計４つ設けられる。

【0066】

側部１６は円筒形状の平板であり、所定の厚みを有する。なおオサエ９ａは、側部１６を挟んでリング部１５に対向する側には面を有しない。オサエ９ａは、図３においてリング部１５が左側、側部１６が右側に存在するような向きで配置される。以降、リング部１５の内径（開口１９の径）をオサエ９ａの内径、リング部１５の外径（側部１６の径）をオサエ９ａの外径と呼称する場合がある。

【0067】

オサエ９ａは、例えば剛性を有する材料により構成される。その他、オサエ９ａの材料や形状、ネジ用孔１７及びガス導通孔１８の配置や形状は限定されず、本技術を実現可能な範囲内で任意の構成が採用されてよい。
オサエ９ａは、本技術に係る第１の治具の一実施形態に相当する。

【0068】

窓８ｂは円盤形状の部材であり、エネルギービームＥＢが通過可能に構成される。窓８ｂは内部空間Ｓに、オサエ９ａのリング部１５の裏面（側部１６が存在する側の面）に当接するように配置される。言い換えれば、オサエ９ａは窓８ｂを基準として、筐体７の左側の開口１０ａ側に位置する。また窓８ｂは、中心がリング部１５の中心に一致するように配置される。

【0069】

ここで窓８ｂの径は、オサエ９ａの内径よりも大きいが、ネジ用孔１７やガス導通孔１８には達しないものとして設定される。すなわち窓８ｂの径は側部１６の径（オサエ９ａの外径）よりも小さいため、窓８ｂは側部１６に引っかかることなく、リング部１５の裏面に当接することが可能である。さらに、窓８ｂがリング部１５に当接した状態下では、窓８ｂによりリング部１５の開口１９の全面が塞がれるが、ネジ用孔１７やガス導通孔１８が塞がれることはない。
窓８ｂは、本技術に係る第２の窓部材の一実施形態に相当する。

【0070】

オサエ９ｂは円錐の筒形状の部材である。オサエ９ｂの外面の形状と、筐体７の側部１１の内面のうち開口１０ｂの近傍の形状とは概ね同一であり、オサエ９ｂは側部１１の当該部分に当接するようにして固定される。オサエ９ｂを側部１１に固定する方法は限定されない。また、オサエ９ｂ及び側部１１が一体的に形成されてもよい。

【0071】

またオサエ９ｂの厚みは、左側が最も大きく、右側に向かう（開口１０に近づく）につれて徐々に減少していく。オサエ９ｂの内部の空間も、概ね円錐形状を有する。またオサエ９ｂは、図３の左側から見た場合にリング形状となる底面２３を有する。底面２３の内側には、複数の凸部２４が構成される。凸部２４は離散的に構成され、断面図である図３にはそのうち２つの凸部２４ａ及び２４ｂが図示されているが、図示しない他の凸部２４も構成され、その数や具体的な配置は限定されない。

【0072】

また、オサエ９ｂの具体的な形状は限定されず、本技術が実現可能な範囲内で任意の形状が採用されてよい。
オサエ９ｂは、本技術に係る第２の治具の一実施形態に相当する。
オサエ９ａ及び９ｂは、本技術に係る治具の一実施形態に相当する。

【0073】

各々の凸部２４は、窓８ｂの右側の面に当接する。すなわち窓８ｂは、凸部２４に当接できるような十分な大きさの径を有する。この状態下では、図３に示すように、窓８ｂはオサエ９ａ及び９ｂによって挟み込まれた状態となる。オサエ９ｂは、窓８ｂを基準として、右側の開口１０ｂ側に位置するとも言える。

【0074】

さらに、オサエ９ａは筐体７に固定される。具体的には、複数のネジがオサエ９ａの各々のネジ用孔１７を貫通し、筐体７の側部１１にそれぞれ嵌合されることで、オサエ９ａが側部１１にネジ止めされる。

【0075】

これにより、窓８ｂがオサエ９ａ及び９ｂに固定された状態となる。窓８ｂの左側への移動はオサエ９ａにより規制され、右側への移動はオサエ９ｂにより規制され、上下及び前後方向の移動はオサエ９ａ及び９ｂの静止摩擦力により規制される。

【0076】

なお、オサエ９ａがネジ止め以外の方法により側部１１に固定されてもよい。例えばスナップリング等が固定のために用いられてもよい。その他、任意の方法により固定がされてよい。

【0077】

窓８ｂ（及びオサエ９ａ）により、内部空間Ｓは２つの空間に区分けされる。以降内部空間Ｓのうち、窓８ｂを基準として、左側の開口１０ａ側の空間を内部空間Ｓ１、右側の開口１０ｂ側の空間を内部空間Ｓ２と記載する。
内部空間Ｓ１は、本技術に係る第１の空間の一実施形態に相当する。
内部空間Ｓ２は、本技術に係る第２の空間の一実施形態に相当する。

【0078】

［レーザポートにおける作用］
エネルギービームＥＢの進行について説明する。エネルギービームＥＢは、図３に矢印で示すように、左側から開口１０ａに入射する。開口１０ａは窓８ａにより閉塞されているが、窓８ａはエネルギービームＥＢが通過可能に構成されているため、エネルギービームＥＢは窓８ａを通過し、内部空間Ｓ１に進入する。すなわち開口１０ａは、内部空間Ｓ１に対するエネルギービームＥＢの入射孔として機能する。

【0079】

本実施形態では、ビーム源１０８からエネルギービームＥＢが収束光として出射される。例えばビーム源１０８に光学系が設けられ、エネルギービームＥＢが収束される。そのため、エネルギービームＥＢは開口１０ａの全面から入射するが、基本的には側部１１の内面で反射することなく、収束しながら開口１０ｂに向かっていく。

【0080】

エネルギービームＥＢは内部空間Ｓ１を通過し、オサエ９ａの開口１９を通過する。次に窓８ｂに到達するが、窓８ｂはエネルギービームＥＢが通過可能に構成されているため、エネルギービームＥＢは窓８ｂを通過する。その後、エネルギービームＥＢは内部空間Ｓ２を通過し、開口１０ｂから出射される。すなわち開口１０ｂは、エネルギービームＥＢの出射孔として機能する。

【0081】

次に、ガス導入管１２の作用について説明する。ガス導入管１２を介して内部空間Ｓ１にガスが導入されると、内部空間Ｓ１にガスが充満し、内部空間Ｓ１の圧力が上昇する。図３には、内部空間Ｓ１において生じるガスの流れが破線の矢印で模式的に示されているが、必ずしもこのようなガスの流れが発生しなくてもよい。

【0082】

内部空間Ｓ１の左側は窓８ａにより閉塞されているため、ガスが窓８ａの左側に漏れ出ることはない。一方で、内部空間Ｓ１の右側にはオサエ９ａ、窓８ｂ、及びオサエ９ｂが存在するが、オサエ９ａにはガス導通孔１８が構成されており、窓８ｂと側部１１との間には隙間がある。また凸部２４は離散的に構成されるため、窓８ｂとオサエ９ｂとの間にも隙間がある。

【0083】

従って、内部空間Ｓ１に存在するガスは、これらの経路を通って内部空間Ｓ２に流入する。図３には、当該経路を破線の矢印で模式的に示している。ガス導通孔１８及び窓８ｂとオサエ９ｂとの間の隙間は、ガスを内部空間Ｓ１から内部空間Ｓ２に導通させているとも言える。

【0084】

ガスの流入により、内部空間Ｓ２の圧力は上昇する。しかしながら、内部空間Ｓ２に対しては当該経路からしかガスが流入できないため、内部空間Ｓ２の圧力の上昇は内部空間Ｓ１の圧力の上昇に比べて緩やかなものとなる。従って、筐体７の外部の圧力が一番低く、筐体７の外部、内部空間Ｓ２、内部空間Ｓ１の順に圧力が高くなる。

【0085】

［加熱機構］
本技術では、筐体７の開口１０ｂの近傍を加熱する加熱機構が設けられる。特に本実施形態では、図２に示すＤＭＴ２が加熱機構に相当する。ＤＭＴ２は、捕捉されたデブリを溶融するために加熱され、プラズマ原料１０１の融点以上の温度になっている。さらにＤＭＴ２は、図２に示す通り開口１０ｂの近傍に設けられている。

【0086】

従って、ＤＭＴ２の熱が開口１０ｂの近傍に伝わり、開口１０ｂの近傍が常に加熱された状態となる。その他加熱機構の種類は限定されず、ＤＭＴ２とは別の加熱機構が開口１０ｂの近傍に別途構成され、直接的又は間接的に開口１０ｂの近傍が加熱されてもよい。この場合、ＤＭＴ２は開口１０ｂとは離れた位置に設けられてもよい。

【0087】

以上、本実施形態に係る光源装置１００では、エネルギービームＥＢがレーザポート３を窓８ａ、窓８ｂ、開口１０ｂの順に通過する。窓８ａは開口１０ａを閉塞し、窓８ｂは筐体７に固定されたオサエ９ａ及び９ｂに固定される。また開口１０ａ側の空間である内部空間Ｓ１にはガスが導入され、オサエ９ａ及び９ｂにはガス導通孔１８等が設けられる。これにより、エネルギービームＥＢを、進行を阻害することなく発光点まで安定的に導入することが可能となる。

【0088】

ＬＰＰ方式のＥＵＶ光源において、発光点までレーザ光を導入する技術は非常に重要である。しかも、ＥＵＶ光源はコンパクトであることが常に要求されるため、限定されたスペースを有効利用する必要がある。

【0089】

ここで、発光点においては真空を維持する必要があるため、発光点及びレーザ源はレーザ光を透過する窓で隔離される。しかし、発光点においてはデブリが発生するため、当該デブリにより窓が汚染され、レーザ光の進行が阻害される。また窓に付着したデブリがレーザ光を吸収し、それによりデブリが発熱することで窓に熱レンズ効果が発生し、レーザ光の進行方向やビーム形状等の性質に悪影響を与える場合がある。

【0090】

また発光点において熱が発生するため、当該熱により窓の中央部分が局所的に熱されることで、熱膨張による形状変化によりひずみが生じ、割れてしまう。窓は気圧差の大きい２つの空間を隔てているため、窓が割れると破片が大きく飛び散り、他の機構が破損するおそれがある。また窓が割れない場合であっても、当該熱により窓に熱レンズ効果が発生してしまう。

【0091】

窓に対するデブリや熱の影響を抑制する方策としては、当該窓と発光点との間に回転窓を設けることが考えられるが、回転窓を用いた方式は多大なスペースを必要とするため、光源のコンパクト化と相反することになる。

【0092】

本技術では、ビーム源１０８と照射位置Ｉとの間に２枚の窓８ａ及び８ｂが設けられている。そのため、照射位置Ｉにおいて発生するデブリは窓８ｂによりせき止められる。従って、窓８ａに付着するデブリの量を大幅に低減することが可能となる。また内部空間Ｓ１にガスが導入され、これにより内部空間Ｓ２にもガスが流入し、内部空間Ｓ２の圧力はレーザポート３の外部に比べて高くなる。そのためデブリは内部空間Ｓ２に進入しにくくなり、窓８ｂに対するデブリの付着さえも抑制される。

【0093】

また、照射位置Ｉと窓８ａとの間に窓８ｂが存在するため、照射位置Ｉにおける輻射の窓８ａによる吸収が抑制される。加えて、照射位置Ｉにおいて発生したイオンの窓８ａに対する衝突が抑制される。これにより、窓８ａが割れる、劣化する、あるいは窓８ａに熱レンズ効果が発生するといったことが抑制される。

【0094】

なお、窓８ｂは気圧差の比較的小さい内部空間Ｓ１及びＳ２を隔てているものであるため、窓８ｂが割れたとしても破片が飛び散るようなことはなく、基本的にはひびが入る程度である。また仮に破片が飛び散ったとしても、ガスの導入により内部空間Ｓ１は内部空間Ｓ２に比べて高圧となっているため、破片が窓８ａに向かいにくくなっている。

【0095】

また、内部空間Ｓ１に流入したガスにより窓８ｂが冷却され、窓８ｂにおける熱レンズ効果が低減される。

【0096】

また、デブリは開口１０ｂの近傍に付着し、石筍状に成長することによりレーザ光を遮る場合がある。本技術では、加熱機構により開口１０ｂの近傍が加熱されるため、開口１０ｂの近傍に到達したデブリは凝固しない。よって、開口１０ｂの近傍に対するデブリの付着が抑制される。また加熱機構としてＤＭＴ２が用いられるため、別途の加熱機構を設ける必要がなくなり、光源装置１００を小型化することが可能となる。

【0097】

以上により、レーザポート３のメンテナンス回数が少なくなり、長寿命となり、またエネルギービームＥＢを発光点まで安定的に導入することが可能となる。

【0098】

また本技術では、窓８ｂが２つのオサエ９ａ及び９ｂにより挟み込まれることで固定される。これにより、窓８ｂを安定して固定することが可能となる。

【0099】

また、オサエ９ａがリング形状を有し、窓８ｂが円盤形状を有し、窓８ｂの径はオサエ９ａの内径よりも大きく、外径よりも小さい。これにより、エネルギービームＥＢの進行経路及び内部空間Ｓ２に対するガスの導入経路を確保しつつ、窓８ｂを安定して固定することが可能となる。

【0100】

また、筐体７の側部１１に構成された孔からガスが導入される。これにより、内部空間Ｓ１に安定してガスを流入させることが可能となる。

【0101】

＜第２の実施形態＞
本技術に係る光源装置１００について、さらに詳細な実施形態を、第２の実施形態として説明する。これ以降の説明では、上記の実施形態で説明した光源装置１００における構成及び作用と同様な部分については、その説明を省略又は簡略化する。

【0102】

［デブリ誘導手段］
図５は、デブリ誘導手段の一例を示す模式図である。
図５は、レーザポート３をＹ軸の負側から見た場合の断面図である。図３はレーザポート３をＺ軸の正側から見た図であるため、図３及び図５は向きが異なる点に留意されたい。そのため図５には、図３に図示されていないガス導入管１２ｃ及び１２ｄが図示されている。

【0103】

本例では、側部１１のうち開口１０ｂの近傍が下側に開いており、空間が形成されている。以下、当該空間を内部空間Ｓ３と呼称する。図５には、図３の内部空間Ｓ２に相当する部分の概形、及び内部空間Ｓ３の概形が、それぞれ破線の枠で模式的に示している。内部空間Ｓ３は窓８ｂとは離間しているため、窓８ｂとは異なる位置に構成された空間であると言える。
内部空間Ｓ３は、本技術に係るバッファ空間の一実施形態に相当する。

【0104】

また、内部空間Ｓ３の下側には図示しない排気装置が接続され、当該排気装置により内部空間Ｓ３が排気される。

【0105】

これらにより、内部空間Ｓ３が内部空間Ｓ２よりも低圧になり、開口１０ｂから内部空間Ｓ２に侵入したデブリは、低圧側の内部空間Ｓ３に誘導される（実線の矢印の経路）。すなわち、窓８ｂとは異なる位置にデブリが誘導される。従って窓８ｂにデブリが付着しにくくなり、窓８ｂの汚染を抑制することが可能となる。

【0106】

なお、本例では内部空間Ｓ３が設けられ、さらに排気が行われているが、これらの一方のみが行われてもよい。すなわち、内部空間Ｓ３を設けるだけで排気を行わなくとも一定の効果は発揮され、逆に側部１１の下側を開けるだけで内部空間Ｓ３を設けず、内部空間Ｓ２の排気を行う場合にも効果が発揮される。従って、内部空間Ｓ３を設ける手段、及び内部空間Ｓ２又はＳ３を排気する手段は、それぞれがデブリ誘導手段として機能する。

【0107】

本例では内部空間Ｓ３が鉛直下側（Ｚ軸の負側）に設けられているが、内部空間Ｓ３が他の方向に設けられてもよい。一方で本例のように、内部空間Ｓ３を鉛直下側に設けることで、重力の作用により効率的にデブリを誘導することが可能となる。また、レーザポート３には水平方向においてＤＭＴ２等が隣接することが多いため、そのような制約を回避することが可能となる。

【0108】

また本例では、図５に示すようにオサエ９ａ及び窓８ｂの下側からガスが流入していない。具体的には、オサエ９ａ及び９ｂを適宜設計することで、ガスの流入を阻止している。これにより、上側からのみガスが流入した状態となり、内部空間Ｓ２を内部空間Ｓ３に比べてさらに高圧にすることが可能となる。

【0109】

図６は、デブリ誘導手段の一例を示す模式図である。
本例では、開口１０ｂの近傍にガスノズル２７が設けられる。ガスノズル２７は斜め下側を向いており、内部空間Ｓ３に対して斜め下向きにガスが吹き付けられる。

【0110】

これにより、開口１０ｂから侵入したデブリが、ガスの流れに乗って内部空間Ｓ３側に進行し、内部空間Ｓ２側には進行しにくくなる。従って窓８ｂにデブリが付着しにくくなり、窓８ｂの汚染を抑制することが可能となる。

【0111】

すなわち、レーザポート３の外部から内部空間Ｓ３に向かってガスを吹き付ける手段は、デブリ誘導手段として機能する。本例では、図５の例と同様に内部空間Ｓ３の排気が行われているが、排気が行われずに、ガスの吹き付けのみが行われてもよい。

【0112】

また本例では、内部空間Ｓ３が鉛直下側に向かうにつれてすぼんだ形状となっている。これにより、排気の力を強めることが可能となる。一方で、図５の寸胴型の形状を用いた場合には、内部空間Ｓ３が広くなり、内部空間Ｓ３の圧力の上昇を緩和させることが可能となる。設計上いずれの形状を採用してもよい。

【0113】

その他、デブリを窓８ｂとは異なる位置に誘導するデブリ誘導手段が、具体的にどのような手段であるかは限定されず、任意の手段が用いられてよい。

【0114】

＜その他の実施形態＞
本技術は、以上説明した実施形態に限定されず、他の種々の実施形態を実現することができる。

【0115】

［治具のバリエーション］
図７は、治具のバリエーション例を示す模式図である。
本例では、オサエ９ａ及び９ｂに代えて、ホルダ３０により窓８ｂが固定される。図７には窓８ｂ及びホルダ３０の断面図が示されている。ホルダ３０は窓８ｂよりも厚さの大きいリング形状を有し、その内径は窓８ｂと同一である。
ホルダ３０は、本技術に係る治具の一実施形態に相当する。

【0116】

さらに、窓８ｂの外周部及びホルダ３０のいずれにも当接する、複数のストッパー３１が設けられる。図７では、これら複数のストッパー３１のうちの１つに代表して符号を付している。ストッパー３１のホルダ３０に当接する面にはネジが接続されており、ネジ止めによりストッパー３１がホルダ３０に固定される。

【0117】

また、ホルダ３０にはガス導通孔３２が構成される。ガス導通孔３２の数や配置は限定されないが、本例ではその一部であるガス導通孔３２ａ及び３２ｂが図示されている。左側の例では、ガス導通孔３２がホルダ３０の厚さ方向に延在している。また右側の例では、ガス導通孔３２がＬ字型であり、窓８ｂ側（内側）に向いている。

【0118】

このように、窓８ｂをホルダ３０及びストッパー３１により挟み込むことで、窓８ｂが安定して固定される。また、窓８ｂとストッパー３１との間をロウ付けすることにより、窓８ｂとストッパー３１とを固定してもよい。これにより、窓８ｂがさらに安定して固定される。また熱伝導性が良くなり、窓８ｂの温度上昇が抑制される。

【0119】

図８は、ガス導通孔１８のバリエーション例を示す模式図である。
オサエ９ａにおけるガス導通孔１８の数及び配置について、本例のようなバリエーションを採用することが可能である。

【0120】

上側の例では、外周部の０時、３時、６時、９時の位置にそれぞれ１つずつ、合計４つのガス導通孔１８が設けられている。下側の例では、３時及び９時の位置を除いて、上半分及び下半分にそれぞれ、外周部に沿って延在するようにガス導通孔１８が設けられている。

【0121】

ガス導通孔１８の構成について、他の部材の配置等に合わせて、このような任意のバリエーションを採用することが可能である。また図７のホルダ３０が用いられる場合でも、このようなバリエーションが採用されてよい。

【0122】

図３のオサエ９ｂは開口１０ｂの位置まで延在しているが、側部１１に対してオサエ９ｂを固定することが可能であれば、オサエ９ｂが開口１０ｂの位置まで延在しなくてもよい。その他、治具の構成はオサエ９ａ及び９ｂ、並びにホルダ３０のようなものに限定されず、任意であってよい。

【0123】

［窓のバリエーション］
図３において、窓８ｂの少なくとも右側（開口１０ｂ側）の面は、反射防止膜（ＡＲコート）を有さなくてもよい。右側の面にＡＲコートを行った場合、ＡＲコートが劣化して熱レンズ効果が発生してしまう場合がある。そのため、右側の面にはＡＲコートを行わないことにより、このような不具合を防止することが可能となる。

【0124】

一方で、左側の面に対しては、ＡＲコートを行っても、行わなくてもよい。左側の面にＡＲコートを行うことにより、エネルギービームＥＢの反射を防止することが可能となる。

【0125】

窓８ｂは、例えばフッ化カルシウム又はフッ化マグネシウムの少なくとも一方を含む材料により構成される。これにより、窓８ｂによる紫外線の吸収を少なくすることが可能となる。

【0126】

また、窓８ｂが低膨張率の材料又はガラスの少なくとも一方により構成されてもよい。これらの材料は紫外線を吸収するものの、赤外線の透過率は比較的高いため、窓８ｂの熱膨張が小さい場合には有用である。

【0127】

また、窓８ｂが水冷により冷却されてもよい。あるいは、窓８ａが何らかの手段により冷却されることで、熱伝導により窓８ｂが冷却されてもよい。

【0128】

図３では、窓８ｂがレーザポート３の内部における中央程度の位置に固定されているが、さらに窓８ａに近い位置に窓８ｂが固定されてもよい。これにより、照射位置Ｉ（熱源）と窓８ｂとが離隔され、窓８ｂに対する熱の影響を抑制することが可能となる。

【0129】

その他、窓８ａや８ｂの具体的な構成は限定されず、エネルギービームＥＢが通過可能であるような任意の構成が用いられてよい。

【0130】

［その他の部材のバリエーション］
図３において、オサエ９ｂの凸部２４と窓８ｂとの間に、あるいは凸部２４に代えて、Ｏリングが挿入されてもよい。これにより、窓８ｂをさらに安定して固定することが可能となる。この場合、ガスの導通経路を確保するため、必要に応じてＯリングに孔が設けられてもよい。また図７の例において、窓８ｂとストッパー３１との間にＯリングが挿入されてもよい。あるいはテフロン（登録商標）リング等が用いられてもよい。

【0131】

図３の例では、レーザポート３は円錐形を有する。これにより、内部空間Ｓ１及びＳ２に圧力差が生じやすくなる。また開口１０ａの径は数ｍｍ程度であり、開口１０ｂの径は５０μｍ程度である構成が考えられる。一方で、レーザポート３が円錐形以外の他の形状を有していてもよく、開口１０ａ及び１０ｂの径も限定されない。

【0132】

［プラズマ原料の種類］
プラズマ原料１０１の具体的な種類は限定されない。例えば完全な液体のプラズマ原料１０１のみならず、液体の中に溶融している途中の固体が混ざった状態のプラズマ原料１０１が用いられてもよい。

【0133】

［他の装置への応用］
本例では、本技術がＬＰＰ光源装置に適用される場合について説明したが、これに限定されず、ＤＰＰ方式やＬＤＰ方式の光源装置に本技術が適用されてもよい。

【0134】

以上説明した本技術に係る特徴部分のうち、少なくとも２つの特徴部分を組み合わせることも可能である。また上記で記載した種々の効果は、あくまで例示であって限定されるものではなく、また他の効果が発揮されてもよい。

【符号の説明】

【0135】

ＥＢ…エネルギービーム
Ｓ１～Ｓ３…内部空間
２…ＤＭＴ
３…レーザポート
７…筐体
８ａ、８ｂ…窓
９ａ、９ｂ…オサエ
１０ａ、１０ｂ…開口
１１…側部
１２…ガス導入管
１８、３２…ガス導通孔
２７…ガスノズル
３０…ホルダ
１００…光源装置
１０１…プラズマ原料
１０８…ビーム源

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】