特開 2025-20504 組成物、それを用いた膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、及び赤外線センサ

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2025020504

(43)【公開日】2025-02-13

(54)【発明の名称】組成物、それを用いた膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、及び赤外線センサ

(51)【国際特許分類】

   G02B 5/22 20060101AFI20250205BHJP

   G03F 7/004 20060101ALI20250205BHJP

   G02B 5/20 20060101ALI20250205BHJP

   C08F 297/00 20060101ALI20250205BHJP

【ＦＩ】

G02B5/22

G03F7/004 505

G03F7/004 504

G03F7/004 501

G02B5/20 101

C08F297/00

【審査請求】未請求

【請求項の数】10

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023123954

(22)【出願日】2023-07-31

(71)【出願人】

【識別番号】000222118

【氏名又は名称】ａｒｔｉｅｎｃｅ株式会社

(72)【発明者】

【氏名】吉田 寛之

【テーマコード（参考）】

2H148

2H225

4J026

【Ｆターム（参考）】

2H148BE13

2H148BE15

2H148BE22

2H148BE26

2H148BF14

2H148BF16

2H148BG02

2H148BG11

2H148BH15

2H148BH17

2H148CA04

2H148CA12

2H225AC35

2H225AC36

2H225AC43

2H225AC44

2H225AC46

2H225AC47

2H225AC63

2H225AC72

2H225AC75

2H225AE08P

2H225AE12P

2H225AM13P

2H225AM22P

2H225AM23P

2H225AM25P

2H225AM32P

2H225AM39P

2H225AM62P

2H225AM66P

2H225AM68P

2H225AM86P

2H225AM92P

2H225AM95P

2H225AM96P

2H225AN11P

2H225AN34P

2H225AN35P

2H225AN38P

2H225AN39P

2H225AN42P

2H225AN43P

2H225AN56P

2H225AN57P

2H225AN58P

2H225AN59P

2H225AN66P

2H225AN72P

2H225AN82P

2H225AN88P

2H225AN89P

2H225AN92P

2H225AN94P

2H225AN95P

2H225AN96P

2H225AN97P

2H225AN98P

2H225AP01P

2H225BA02P

2H225BA05P

2H225BA10P

2H225BA12P

2H225BA13P

2H225BA16P

2H225BA33P

2H225CA16

2H225CA30

2H225CB02

2H225CC01

2H225CC13

4J026HA12

4J026HA28

4J026HA32

4J026HA38

4J026HA39

4J026HB12

4J026HB28

4J026HB32

4J026HB38

4J026HB39

4J026HB45

4J026HB48

4J026HE01

(57)【要約】      （修正有）

【課題】保存後でも塗工性に優れ、混色の抑制された膜を形成可能な組成物の提供。
【解決手段】上記課題は、顔料（Ａ）、樹脂（Ｂ）、レベリング剤（Ｃ）、及び溶媒（Ｄ）を含む組成物であって、前記レベリング剤（Ｃ）が、下記一般式（１）で表される単量体単位（ｃ１）から形成されるＡブロック、及び前記一般式（１）で表される単量体単位（ｃ１）以外の単量体単位（ｃ２）から形成されるＢブロックを有するブロック共重合体（Ｃ１）を含み、
前記溶媒（Ｄ）が、ハンセン溶解度パラメータの水素結合項が１０ＭＰａ^１／２以上である溶媒（Ｄ１）を含む組成物によって解決できる。
一般式（１）

【選択図】なし

【特許請求の範囲】

【請求項1】

顔料（Ａ）、樹脂（Ｂ）、レベリング剤（Ｃ）、及び溶媒（Ｄ）を含む組成物であって、
前記レベリング剤（Ｃ）は、下記一般式（１）で表される単量体単位（ｃ１）から形成されるＡブロック、及び前記一般式（１）で表される単量体単位（ｃ１）以外の単量体単位（ｃ２）から形成されるＢブロックを有するブロック共重合体（Ｃ１）を含み、
前記溶媒（Ｄ）は、ハンセン溶解度パラメータの水素結合項が１０ＭＰａ^１／２以上である溶媒（Ｄ１）を含む、組成物。
一般式（１）

【化1】

（一般式（１）中、Ｒ_１は、それぞれ独立して炭素数１～６のアルキル基、又は－ＯＳｉ（Ｒ_５）_３で表わされる基（Ｒ_５は、それぞれ独立して炭素数１～３のアルキル基）である。
Ｒ_２は、それぞれ独立して炭素数１～６のアルキル基である。
Ｒ_３は、炭素数１～６のアルキル基である。
Ｒ_４は、水素原子、又はメチル基である。
Ｌ_１は、２価の有機基、又は単結合である。
ｎは、１～７０の整数である。）

【請求項2】

前記一般式（１）で表される単量体単位（ｃ１）以外の単量体単位（ｃ２）は、下記一般式（２）で表される単量体単位（ｃ２－１）、及び下記一般式（３）で表される単量体単位（ｃ２－２）からなる群から選ばれる少なくとも１種を含む、請求項１に記載の組成物。
一般式（２）

【化2】

（一般式（２）中、Ｒ_６は、水素原子、又は炭素数１～１８のアルキル基である。
Ｒ_７は水素原子、又はメチル基である。
ｍは、１～４の整数である。
ｏは、２～２００の整数である。）
一般式（３）

【化43】

（一般式（３）中、Ｒ_８は、炭素数３～２０の脂環式炭化水素基である。
Ｒ_９は、水素原子、又はメチル基である。）

【請求項3】

前記溶媒（Ｄ１）の含有量は、前記組成物１００質量％中、０．０１～２０質量％である、請求項１に記載の組成物。

【請求項4】

前記溶媒（Ｄ１）が、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、乳酸エチル、シクロヘキサノール、３－メトキシ－１－ブタノール、エチレングリコールモノエチルエーテル、１－ブタノール、乳酸メチル、及び水からなる群から選ばれる少なくとも１種を含む、請求項１に記載の組成物。

【請求項5】

更に、重合性化合物（Ｅ）、及び重合開始剤（Ｆ）を含む、請求項１に記載の組成物。

【請求項6】

請求項１～５のいずれか１項に記載の組成物から形成されてなる膜。

【請求項7】

請求項６に記載の膜を有する光学フィルタ。

【請求項8】

請求項７に記載の光学フィルタを有する固体撮像素子。

【請求項9】

請求項７に記載の光学フィルタを有する画像表示装置。

【請求項10】

請求項７に記載の光学フィルタを有する赤外線センサ。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、組成物及びその用途に関する。

【背景技術】

【0002】

近年、液晶表示装置、スマートフォン、赤外線センサ等に使用される光学フィルタの１種であるカラーフィルタは、例えば、以下の工程を経て作製される。カラーフィルタの製造に用いられる組成物を、ガラス等の基板に塗工し、乾燥によって塗膜から溶媒を除去する工程、この塗膜を、所望するパターン形状を有するフォトマスクを介して紫外線を照射・硬化（以下、露光という）する工程、次いで、この塗膜の未露光部を現像液で洗浄・除去（以下、現像という）する工程、その後、膜を十分に硬化させるために加熱処理（以下、ポストベークという）する工程により１色目のパターンを得る。そして、異なる色の組成物を用いて、同様の操作を行うことにより２色目以降のパターンを順次形成してカラーフィルタを作製する。

【0003】

そのため、先に形成したパターン上に、他色の現像残渣の付着を抑制（以下、混色の抑制）することが求められる。特に、ポストベークを低温で行う場合、混色が発生する傾向があり改善が求められている。
また、カラーフィルタは、ピンホールやムラがあると、品質が著しく低下する。そのため、カラーフィルタの製造に用いられる組成物は、優れた塗工性が求められる。そして、その塗工性は、組成物の製造直後と保管してカラーフィルタの製造に使用する時とで同じであることも必要である。
更に、近年、環境面の点から、カラーフィルタの製造に用いられる組成物に使用される成分にフッ素系化合物の使用の抑制が求められている。

【0004】

例えば、特許文献１には、上記「混色の抑制」可能な着色感放射線性組成物として、染料、光重合性化合物、光重合開始剤、及び重量平均分子量２５００以下、かつ、グリフィン法によるＨＬＢ値が９．２～１５．５である特定構造を有するノニオン系界面活性剤を含む着色感放射線性組成物が開示されている。また、上記「混色の抑制」可能な組成物として、１０００質量ｐｐｍプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液での表面張力が２６ｍＮ／ｍ以上であるシリコーン系界面活性剤Ａと、硬化性化合物と、溶剤を含む組成物が開示されている。また、特許文献３には、塗布ムラ及びストリエーションの発生が抑制された膜を製造可能な着色組成物として、着色剤と、樹脂と、硬化性化合物と、界面活性剤と、溶剤とを含み、特定の測定方法による接触角が０度を超え５．５度以下の着色組成物が開示されている。また、特許文献４には、表面粗度が低い着色層を形成することが可能な樹脂組成物として、ポリマーと、重合性化合物と、重合開始剤と、色材と、フルオロカーボン基及び架橋環式脂肪族基を有する化合物を含む樹脂組成物が開示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開２０１４－１９９４３６号公報

【特許文献2】国際公開第２０２３／０２２１２０号

【特許文献3】特開２０１８－５４９１８号公報

【特許文献4】国際公開第２０１７／１６９９５１号

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

しかしながら、特許文献１～４に記載の組成物は、保存後の塗工性、混色の抑制を高いレベルで同時に満たすことはできなかった。

【0007】

本発明は、保存後でも塗工性に優れ、混色の抑制された膜を形成可能な組成物の提供を目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0008】

本発明は、顔料（Ａ）、樹脂（Ｂ）、レベリング剤（Ｃ）、及び溶媒（Ｄ）を含む組成物であって、
前記レベリング剤（Ｃ）は、下記一般式（１）で表される単量体単位（ｃ１）から形成されるＡブロック、及び前記一般式（１）で表される単量体単位（ｃ１）以外の単量体単位（ｃ２）から形成されるＢブロックを有するブロック共重合体（Ｃ１）を含み、
前記溶媒（Ｄ）は、ハンセン溶解度パラメータの水素結合項が１０ＭＰａ^１／２以上である溶媒（Ｄ１）を含む組成物に関する。
一般式（１）

【化1】

【0009】

一般式（１）中、Ｒ_１は、それぞれ独立して炭素数１～６のアルキル基、又は－ＯＳｉ（Ｒ_５）_３で表わされる基（Ｒ_５は、それぞれ独立して炭素数１～３のアルキル基）である。
Ｒ_２は、それぞれ独立して炭素数１～６のアルキル基である。
Ｒ_３は、炭素数１～６のアルキル基である。
Ｒ_４は、水素原子、又はメチル基である。
Ｌ_１は、２価の有機基、又は単結合である。
ｎは、１～７０の整数である。

【発明の効果】

【0010】

上記の本発明によれば、保存後でも塗工性に優れ、混色の抑制された膜を形成可能な組成物を提供できる。また、本発明は、それを用いた膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、及び赤外線センサを提供できる。

【図面の簡単な説明】

【0011】

【図1】図１は、本発明の光学フィルタを有する赤外線センサの概略断面図を示す。

【発明を実施するための形態】

【0012】

以下に、本発明の組成物を実施するための形態について詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施形態に制限されるものではなく、課題を解決可能な範囲内で変形して実施できる。

【0013】

本明細書において、「（メタ）アクリロイル」、「（メタ）アクリル」、「（メタ）アクリル酸」、「（メタ）アクリレート」、又は「（メタ）アクリルアミド」とは、特に説明がない限り、それぞれ、「アクリロイル及び／又はメタクリロイル」、「アクリル及び／又はメタクリル」、「アクリル酸及び／又はメタクリル酸」、「アクリレート及び／又はメタクリレート」、又は「アクリルアミド及び／又はメタクリルアミド」を意味する。また、「Ｃ．Ｉ．」は、カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．；Ｔｈｅ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｄｙｅｒｓ ａｎｄ Ｃｏｌｏｕｒｉｓｔｓ発行）を意味する。
本明細書において、重合性不飽和基は、エチレン性不飽和二重結合である。
本明細書において、単量体は、重合により樹脂を形成する化合物である。単量体は、未反応状態であり、単量体単位は、単量体が重合後に重合体を形成している状態である。
本明細書において、分子量が特定できる低分子化合物については、計算により算出した値、若しくはＥＳＩ－ＭＳ（エレクトロスプレーイオン化質量分析法）により測定した分子量であり、分子量の分布を持つ化合物については、テトラヒドロフランを溶媒とした場合のゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量である。
本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。

【0014】

<組成物>
本発明の一実施形態である組成物は、顔料（Ａ）、樹脂（Ｂ）、レベリング剤（Ｃ）、及び溶媒（Ｄ）を含む組成物であって、
前記レベリング剤（Ｃ）は、下記一般式（１）で表される単量体単位（ｃ１）から形成されるＡブロック、及び前記一般式（１）で表される単量体単位（ｃ１）以外の単量体単位（ｃ２）から形成されるＢブロックを有するブロック共重合体（Ｃ１）を含み、
前記溶媒（Ｄ）は、ハンセン溶解度パラメータの水素結合項が１０ＭＰａ^１／２以上である溶媒（Ｄ１）を含む。
一般式（１）

【化2】

【0015】

一般式（１）中、Ｒ_１は、それぞれ独立して炭素数１～６のアルキル基、又は－ＯＳｉ（Ｒ_５）_３で表わされる基（Ｒ_５は、それぞれ独立して炭素数１～３のアルキル基）である。
Ｒ_２は、それぞれ独立して炭素数１～６のアルキル基である。
Ｒ_３は、炭素数１～６のアルキル基である。
Ｒ_４は、水素原子、又はメチル基である。
Ｌ_１は、２価の有機基、又は単結合である。
ｎは、１～７０の整数である。

【0016】

上記構成の組成物により、本発明の課題を解決できるメカニズムは明らかではないが、以下のように推測している。

【0017】

一般的に、レベリング剤（Ｃ）が表面に配向することで、平滑な膜が得られるが、レベリング剤（Ｃ）は、保存時に組成物に含まれる他の成分、例えば、顔料（Ａ）や樹脂（Ｂ）等に吸着や相溶し、塗工の際に十分な効果が得られないことがある。
しかし、一般式（１）で表される単量体単位（ｃ１）から形成されるＡブロック、及び一般式（１）で表される単量体単位（ｃ１）以外の単量体単位（ｃ２）から形成されるＢブロックを有するブロック共重合体（Ｃ１）（以下、単にブロック共重合体（Ｃ１）ともいう）、並びにハンセン溶解度パラメータの水素結合項が１０ＭＰａ^１／２以上である溶媒（Ｄ１）（以下、単に溶媒（Ｄ１）ともいう）を併用することで、ブロック共重合体（Ｃ１）と他に成分との相互作用を制御することができ、保存後でも優れた塗工性が得られると推測する。
また、ブロック共重合体（Ｃ１）は、側鎖にシリコーン鎖を有するため、膜表面にシリコーン鎖が配向しやすく、現像残渣等の付着を抑制すると推測する。

【0018】

以下、一実施形態の組成物に含まれるか、又は含まれ得る成分を詳細に説明する。

【0019】

［顔料（Ａ）］
本発明の組成物は、顔料（Ａ）を含む。

【0020】

顔料（Ａ）は、特に制限がなく、公知の化合物を使用できる。例えば、有彩色顔料、白色顔料、黒色顔料、及び近赤外線吸収顔料等が挙げられる。また、顔料（Ａ）は、無色であってもよい。本発明において、顔料（Ａ）は、２５℃のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００ｇに対する溶解度が、２ｇ未満であることが好ましく、１ｇ未満であることがより好ましく、０．５ｇ以下であることが特に好ましい。

【0021】

本発明の組成物をカラーフィルタに用いる場合、顔料（Ａ）は、有彩色顔料が好ましい。有彩色顔料は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。本発明の組成物を近赤外線カットフィルタに用いる場合、顔料は、近赤外線吸収顔料が好ましい。近赤外線吸収顔料は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。また、近赤外線透過フィルタに用いる場合、黒色顔料や有彩色顔料を２種以上併用して黒色として用いることが好ましい。更に、近赤外線吸収顔料を併用してもよい。

【0022】

（有彩色顔料）
有彩色顔料は、特に限定されものではなく、公知の有彩色顔料を用いることができる。例えば、カラーインデックスにおいてピグメントに分類されている化合物を挙げることができる。

【0023】

有彩色顔料は、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１，２，３，４，５，６，７，８，９，１２，１４，１５，１６，１７，２１，２２，２３，３１，３２，３７，３８，４１，４７，４８，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５０：１，５２：１，５２：２，５３，５３：１，５３：２，５３：３，５７，５７：１，５７：２，５８：４，６０，６３，６３：１，６３：２，６４，６４：１，６８，６９，８１，８１：１，８１：２，８１：３，８１：４，８３，８８，９０：１，１０１，１０１：１，１０４，１０８，１０８：１，１０９，１１２，１１３，１１４，１２２，１２３，１４４，１４６，１４７，１４９，１５１，１６６，１６８，１６９，１７０，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８１，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，１９３，１９４，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１４，２１６，２２０，２２１，２２４，２３０，２３１，２３２，２３３，２３５，２３６，２３７，２３８，２３９，２４２，２４３，２４５，２４７，２４９，２５０，２５１，２５３，２５４，２５５，２５６，２５７，２５８，２５９，２６０，２６２，２６３，２６４，２６５，２６６，２６７，２６８，２６９，２７０，２７１，２７２，２７３，２７４，２７５，２７６，２７７，２７８，２７９，２８０，２８１，２８２，２８３，２８４，２８５，２８６，２８７，２９１，２９５，２９６、特開２０１４－１３４７１２号公報に記載された顔料、特許第６３６８８４４号公報に記載された顔料等の赤色顔料が挙げられる。

【0024】

Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３６，３８，４３，６４，７１，７３等の橙色顔料が挙げられる。

【0025】

Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１，２，３，４，５，６，１０，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，２４，３１，３２，３４，３５，３５：１，３６，３６：１，３７，３７：１，４０，４２，４３，５３，５５，６０，６１，６２，６３，６５，７３，７４，７７，８１，８３，９３，９４，９５，９７，９８，１００，１０１，１０４，１０６，１０８，１０９，１１０，１１３，１１４，１１５，１１６，１１７，１１８，１１９，１２０，１２３，１２６，１２７，１２８，１２９，１３８，１３９，１４７，１５０，１５１，１５２、１５３，１５４，１５５，１５６，１６１，１６２，１６４，１６６，１６７，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７９，１８０，１８１，１８２，１８５，１８７，１８８，１９２，１９３，１９４，１９６，１９８，１９９，２１３，２１４，２３１，２３３、特開２０１２－２２６１１０号公報に記載された黄色顔料が挙げられる。

【0026】

また、黄色顔料として、下記一般式（４）で表されるアゾ化合物及びそれの互変異性構造のアゾ化合物のモノ、ジ、トリ及びテトラアニオンからなる群から選ばれる１種以上のアニオンと、Ｃｄ，Ｃｏ，Ａｌ，Ｃｒ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｚｎ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｕ及びＭｎから選ばれる少なくとも２種の金属イオンと、下記一般式（５）で表される化合物を含む金属アゾ顔料が挙げられる。

【0027】

一般式（４）

【化3】

【0028】

一般式（４）中、Ｒ_１は、それぞれ独立して－ＯＨ、－ＮＨ_２、－ＮＨ－ＣＮ、アシルアミノ基、アルキルアミノ基、又はアリールアミノ基を表し、Ｒ_２は、それぞれ独立して－ＯＨ、又は－ＮＨ_２を表す。

【0029】

一般式（５）

【化4】

【0030】

一般式（５）中、Ｒ_３は、それぞれ独立して水素原子、又はアルキル基を表す。

【0031】

前記金属アゾ顔料は、例えば、特開２０１４－１２８３８号公報、特開２０１７－１７１９１２号公報、特開２０１７－１７１９１３号公報、特開２０１７－１７１９１４号公報、特開２０１７－１７１９１５号公報、特開２０２２－６１４９４号公報等に記載された金属アゾ顔料が挙げられる。

【0032】

Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン１，２，４，７，８，１０，１３，１４，１５，１７，１８，１９，２６，３６，３７，４５，４８，５０，５１，５４，５５，５８，５９，６２，６３，６４，６５，６６等の緑色顔料が挙げられる。

【0033】

Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１，１：２，９，１４，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，１７，１９，２５，２７，２８，２９，３３，３５，３６，５６，５６：１，６０，６１，６１：１，６２，６３，６６，６７，６８，７１，７２，７３，７４，７５，７６，７８，７９，８０，８７，８８等の青色顔料が挙げられる。

【0034】

Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１，１：１，２，２：２，３，３：１，３：３，５，５：１，１４，１５，１６，１９，２３，２５，２７，２９，３１，３２，３７，３９，４２，４４，４７，４９，５０等の紫色顔料が挙げられる。

【0035】

有彩色顔料は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。例えば、黒色の場合、後述する黒色顔料を使用する以外に、赤色顔料、黄色顔料、緑色顔料、青色顔料、及び紫色顔料からなる群から選ばれる２種以上の有彩色顔料を用いて（組み合わせて）得ることができる。前記組み合わせは、例えば、以下の態様が挙げられる。
（１）黄色顔料、及び紫色顔料を含有する。
（２）赤色顔料、黄色顔料、及び紫色顔料を含有する。
（３）赤色顔料、黄色顔料、及び青色顔料を含有する。
（４）赤色顔料、黄色顔料、及び緑色顔料を含有する。
（５）黄色顔料、青色顔料、及び紫色顔料を含有する。
（６）赤色顔料、黄色顔料、青色顔料、及び紫色顔料を含有する。
（７）黄色顔料、青色顔料、緑色顔料、及び紫色顔料を含有する。

【0036】

上記（１）の態様は、例えば、黄色顔料はＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９，１８５，２３１，２３３から選ばれる１種以上と、紫色顔料はＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３とを含有する態様が挙げられる。
上記（２）の態様は、例えば、赤色顔料はＣ．Ｉ．ピグメントレッド１７７，２５４，２９１，２９５，２９６から選ばれる１種以上と、黄色顔料はＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９，１８５，２３１，２３３から選ばれる１種以上と、紫色顔料はＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３とを含有する態様が挙げられる。
上記（３）の態様は、例えば、赤色顔料はＣ．Ｉ．ピグメントレッド１７７，２５４，２９１，２９５，２９６から選ばれる１種以上と、黄色顔料はＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９，１８５，２３１，２３３から選ばれる１種以上と、青色顔料はＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３，１５：４，１５：６から選ばれる１種以上とを含有する態様が挙げられる。
上記（４）の態様は、例えば、赤色顔料はＣ．Ｉ．ピグメントレッド１７７，２５４，２９１，２９５，２９６から選ばれる１種以上と、黄色顔料はＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９，１８５，２３１，２３３から選ばれる１種以上と、緑色顔料はＣ．Ｉ．ピグメントグリーン７，３６，５８，５９，６３から選ばれる１種以上とを含有する態様が挙げられる。
上記（５）の態様は、例えば、黄色顔料はＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９，１８５，２３１，２３３から選ばれる１種以上と、青色顔料はＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３，１５：４，１５：６から選ばれる１種以上と、紫色顔料はＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３とを含有する態様が挙げられる。
上記（６）の態様は、例えば、赤色顔料はＣ．Ｉ．ピグメントレッド１７７，２５４，２９１，２９５，２９６から選ばれる１種以上と、黄色顔料はＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９，１８５，２３１，２３３から選ばれる１種以上と、青色顔料はＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３，１５：４，１５：６から選ばれる１種以上と、紫色顔料はＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３とを含有する態様が挙げられる。
上記（７）の態様は、例えば、黄色顔料はＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９，１８５，２３１，２３３から選ばれる１種以上と、青色顔料はＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３，１５：４，１５：６から選ばれる１種以上と、緑色顔料はＣ．Ｉ．ピグメントグリーン７，３６，５８，５９，６３から選ばれる１種以上と紫色顔料はＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３とを含有する態様が挙げられる。

【0037】

表１に、各態様の各有彩色顔料の好ましい質量比（質量％）を示す。

【0038】

【表1】

【0039】

これらの上記（１）～（７）の有彩色顔料の組み合わせは、本発明の組成物を近赤外線透過フィルタに用いる場合に好ましい。

【0040】

（白色顔料）
白色顔料は、特に限定されものではなく、公知の白色顔料を用いることができる。例えば、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、シリカ、酸化亜鉛、マイカ、タルク、カオリン、クレー、チタン酸ストロンチウム、タングステン酸バリウム、リン酸亜鉛、水酸化アルミニウム、ケイ酸アルミニウム、中空樹脂粒子、特開２０１１－０７５７８６号公報、国際公開第２０１３／０６１６２１号、特開２０１５－０４７５２０号公報、特開２０１５－１６４８８１号公報に記載の化合物等が挙げられる。
また、カラーインデックスにおいてピグメントに分類されている化合物として、Ｃ．Ｉ．ピグメントホワイト１，２，３，４，５，６，６：１，７，８，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，１８：１，１９，２０，２１，２２，２３，２４，２５，２６，２７，２８，３０，３２，３３等が挙げられる。

【0041】

（黒色顔料）
黒色顔料は、特に限定されものではなく、公知の黒色顔料を用いることができる。例えば、カーボンブラック、チタンブラック、アセチレンブラック、ランプブラック、黒鉛、アニリンブラック、シアニンブラック、ペリレンブラック、特開平１－１７０６０１号公報、特開平２－３４６６４号公報、特開２００７－３０２８３６号公報、特表２０１０－５３４７２６号公報、特表２０１２－５１５２３３号公報に記載に化合物等が挙げられる。
また、カラーインデックスにおいてピグメントに分類されている化合物として、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１，６，７，１２，２０，３１等が挙げられる。

【0042】

（近赤外線吸収顔料）
近赤外線吸収顔料は、波長７００～２，０００ｎｍの範囲に極大吸収を有する化合物であり、有機顔料（近赤外線吸収有機顔料ともいう）、無機顔料（近赤外線吸収無機顔料ともいう）のいずれであってもよい。また、近赤外線吸収有機顔料と近赤外線吸収無機顔料を併用してもよい。

【0043】

近赤外線吸収有機顔料は、特に限定されものではなく、公知の近赤外線吸収有機顔料を用いることができる。例えば、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、インジゴ化合物、インモニウム化合物、アントラキノン化合物、ピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物、クロコニウム化合物、ポルフィリン化合物等が挙げられる。これらの中でも、近赤外線吸収性、耐熱性の観点から、ナフタロシアニン化合物、ピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物、インジゴ化合物が好ましく、ナフタロシアニン化合物、スクアリリウム化合物、インジゴ化合物がより好ましい。

【0044】

シアニン化合物は、国際公開第２００６／００６５７３号、国際公開第２０１０／０７３８５７号、特開２０１３－２４１５９８号公報、特開２０１６－１１３５０１号公報、特開２０１６－１１３５０４号公報等；フタロシアニン化合物は、特開平４－２３８６８号公報、特開平０６－１９２５８４号公報、特開２０００－６３６９１号公報、国際公開第２０１４／２０８５１４号、特開２０２２－０２２０７０号公報、特開２０２２－１１０２６２号公報等；ナフタロシアニン化合物は、特開平１１－１５２４１４号公報、特開２０００－８６９１９号公報、特開２００９－２９９５５号公報、国際公開第２０１８／１８６４９０号、特開２０２２－１２３６８９、特開２０２２－０９１０９９号公報等；インジゴ化合物は、特開２０１３－２３０４１２号公報等；インモニウム化合物は、特開２００５－３３６１５０号公報、特開２００７－１９７４９２号公報、特開２００８－８８４２６号公報等；アントラキノン化合物は、特開昭６２－９０３号公報、特開平１－１７２４５８号公報等；ピロロピロール化合物は、特開２００９－２６３６１４号公報、特開２０１０－９０３１３号公報、特開２０１１－０６８７３１号公報、国際公開第２０２１／０３９２０５号；スクアリリウム化合物は、特開２０１１－１３２３６１号公報、特開２０１６－１４２８９１号公報、国際公開第２０１７／１３５３５９号、国際公開第２０１８／２２５８３７号、特開２０１９－００１９８７号公報、国際公開第２０２０／０５４７１８号、国際公開２０２０／１８９４５９号等；クロコニウム化合物は、国際公開第２０１９／０２１７６７号；ポルフィリン化合物は、特開２００６－２０９０５９号公報、国際公開第２０２２／１３１１９１号等に記載の化合物が挙げられる。

【0045】

近赤外線吸収無機顔料は、特に限定されものではなく、公知の近赤外線吸収無機顔料を用いることができる。例えば、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ、酸化亜鉛、Ａｌドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ二酸化スズ、ニオブドープ二酸化チタン、セシウム酸化タングステン、ホウ化ランタン、銅、ニッケル、銀、金等の金属酸化物粒子又は金属粒子が挙げられる。

【0046】

顔料（Ａ）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。

【0047】

顔料（Ａ）の含有量は、組成物の不揮発分１００質量％中、０．５～６０質量％が好ましく、１～５０質量％がより好ましい。

【0048】

顔料（Ａ）は、微細化して用いることが好ましい。微細化方法は、特に限定されるものではなく、例えば、湿式磨砕、乾式磨砕、溶解析出法が挙げられる。これらの中でも、湿式磨砕の１種であるニーダー法によるソルトミリング処理が好ましい。微細化顔料のＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）により求められる平均一次粒子径は、５～９０ｎｍが好ましい。なお、分散性の観点から、平均一次粒子径は１０～７０ｎｍがより好ましい。

【0049】

ソルトミリング処理には、必要に応じて樹脂を添加してもよい。樹脂を添加することにより、顔料（Ａ）が樹脂で被覆され、安定性、耐光性等が向上する。前記樹脂の種類は特に限定されず、天然樹脂、変性天然樹脂、合成樹脂、天然樹脂で変性された合成樹脂等が挙げられる。これらの中でも、室温で固体であり、水不溶性であることが好ましく、かつ有機溶媒に一部可溶であることが好ましい。樹脂の添加量は、顔料（Ａ）１００質量部に対して、２～２００質量部が好ましい。

【0050】

［樹脂（Ｂ）］
本発明の組成物は、樹脂（Ｂ）を含む。

【0051】

樹脂（Ｂ）は、主に顔料（Ａ）を分散させるために用いる樹脂（Ｂ）を分散樹脂、主に膜の耐性を付与させるために用いる樹脂（Ｂ）をバインダー樹脂ともいう。樹脂（Ｂ）は、１種の樹脂で分散樹脂、及びバインダー樹脂の両方の機能を有してもよい。樹脂（Ｂ）のこのような用途は一例であって、それ以外の目的で使用することもできる。但し、樹脂（Ｂ）は、一般式（１）で表される単量体単位（ｃ１）を含まない樹脂である。

【0052】

樹脂（Ｂ）は、特に制限がなく、公知の化合物を使用できる。例えば、（メタ）アクリル樹脂、スチレン樹脂、スチレン／（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ウレタンアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、環状オレフィン樹脂等が挙げられる。

【0053】

樹脂（Ｂ）の重量平均分子量は、３，０００～２００，０００が好ましく、４，０００～１５０，０００がより好ましい。

【0054】

樹脂（Ｂ）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。

【0055】

樹脂（Ｂ）の含有量は、組成物の不揮発分１００質量％中、１～６０質量％が好ましく、５～６０質量％がより好ましい。

【0056】

（樹脂（Ｂ１））
樹脂（Ｂ）は、保存安定性の観点から、分散樹脂として樹脂（Ｂ１）を含むことが好ましい。分散樹脂として樹脂（Ｂ１）を含むことで、塗工性も向上する。

【0057】

樹脂（Ｂ１）は、顔料（Ａ）に親和性が高い吸着基を有している樹脂が好ましい。吸着基は、塩基性基、及び酸性基のうち１種以上有していることが好ましい。

【0058】

塩基性基は、例えば、１級アミノ基、２級アミノ基、３級アミノ基、４級アンモニウム塩基、及び含窒素複素環など窒素原子を含有する基等が挙げられる。

【0059】

酸性基は、例えば、カルボキシル基、リン酸基、及びスルホン酸基等が挙げられる。

【0060】

樹脂（Ｂ１）の樹脂種は、例えば、ウレタン樹脂、ポリアクリレート等のポリカルボン酸エステル、不飽和ポリアミド、ポリカルボン酸、ポリカルボン酸（部分）アミン塩、ポリカルボン酸アンモニウム塩、ポリカルボン酸アルキルアミン塩、ポリシロキサン、長鎖ポリアミノアマイドリン酸塩、水酸基含有ポリカルボン酸エステルや、これらの変性物、ポリ（低級アルキレンイミン）と遊離のカルボキシル基を有するポリエステルとの反応により形成されたアミドやその塩等、（メタ）アクリル酸－スチレン共重合体、（メタ）アクリル酸－（メタ）アクリル酸エステル共重合体、スチレン－マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等の水溶性樹脂や水溶性高分子化合物、ポリエステル系、変性ポリアクリレート系、エチレンオキサイド／プロピレンオキサイド付加化合物、リン酸エステル系等が挙げられる。

【0061】

樹脂（Ｂ１）の構造は、例えば、ランダム構造、ブロック構造、グラフト構造、くし型構造、及び星型構造等が挙げられる。これらの中でも、保存安定性の観点から、グラフト構造、ブロック構造、くし型構造が好ましい。

【0062】

樹脂（Ｂ１）は、例えば、ビックケミー・ジャパン社製のＤｉｓｐｅｒｂｙｋ－１０１，１０３，１０７，１０８，１１０，１１１，１１６，１３０，１４０，１５４，１６１，１６２，１６３，１６４，１６５，１６６，１６７，１６８，１７０，１７１，１７４，１８０，１８１，１８２，１８３，１８４，１８５，１９０，２０００，２００１，２００９，２０１０，２０２０，２０２５，２０５０，２０７０，２０９５，２１５０，２１５５，２１６３，２１６４、またはＡｎｔｉ－Ｔｅｒｒａ－Ｕ２０３，２０４、またはＢＹＫ－Ｐ１０４，Ｐ１０４Ｓ，２２０Ｓ、またはＬａｃｔｉｍｏｎ、Ｌａｃｔｉｍｏｎ－ＷＳ、またはＢｙｋｕｍｅｎ等、日本ルーブリゾール社製のＳＯＬＳＰＥＲＳＥ－３０００，９０００，１３０００，１３２４０，１３６５０，１３９４０，１６０００，１７０００，１８０００，２００００，２１０００，２４０００，２６０００，２７０００，２８０００，３１８４５，３２０００，３２５００，３２５５０，３３５００，３２６００，３４７５０，３５１００，３６６００，３８５００，４１０００，４１０９０，５３０９５，５５０００，５６０００，７６５００等、ＢＡＳＦジャパンジャパン社製のＥＦＫＡ－４６，４７，４８，４５２，４００８，４００９，４０１０，４０１５，４０２０，４０４７，４０５０，４０５５，４０６０，４０８０，４４００，４４０１，４４０２，４４０３，４４０６，４４０８，４３００，４３１０，４３２０，４３３０，４３４０，４５０，４５１，４５３，４５４０，４５５０，４５６０，４８００，５０１０，５０６５，５０６６，５０７０，７５００，７５５４，１１０１，１２０，１５０，１５０１，１５０２，１５０３等、味の素ファインテクノ社製のアジスーパーＰＡ１１１，ＰＢ７１１，ＰＢ８２１，ＰＢ８２２，ＰＢ８２４等、特開２００８－０２９９０１号公報、特開２００９－１５５４０６号公報、特開２０１０－１８５９３４号公報、特開２０１１－１５７４１６号公報、国際公開第２００８／００７７７６号、特開２００８－０２９９０１号公報、特開２００９－１５５４０６号公報、特開２０１０－１８５９３４号公報、特開２０１１－１５７４１６号公報、特開２０１２－２５５１２８号公報、特開２００９－２５１４８１号公報、特開２００７－２３１９５号公報、特開１９９６－１４３６５１号公報、特開２０１７－２０６６８９号公報、特開２０１９－０９５５４８号公報等に記載の樹脂が挙げられる。

【0063】

樹脂（Ｂ１）の含有量は、樹脂（Ｂ）１００質量％中、１～５０質量％が好ましい。

【0064】

樹脂（Ｂ１）は、現像性の観点から、酸無水物基を２個以上有する芳香族化合物、及び水酸基を２個以上有する化合物の反応生成部位であるエステル結合を有する芳香族カルボン酸エステル部位に基づく主鎖、並びにビニル重合体部位に基づく側鎖を有する樹脂を含むことが好ましい。

【0065】

主鎖の芳香族カルボン酸エステル部位は、酸無水物基を２つ以上有する芳香族化合物と、水酸基を２つ以上有する化合物との開環反応により得られ、エステル結合が生成すると同時に芳香族カルボキシル基が生成する。芳香族カルボキシル基は、顔料（Ａ）への吸着部位及び現像液への溶解部位として作用する。

【0066】

側鎖のビニル重合体部位は、立体反発部位として作用し、顔料（Ａ）の会合・凝集を抑制する。側鎖のビニル重合体部位は、例えば、下記の２つの方法で得ることができる。
１つ目の方法は、水酸基を２つ以上有する化合物の存在下に、単量体を共重合する方法である。水酸基を２つ以上有する化合物は、分子内に２つの水酸基と１つのチオール基とを有する化合物が好ましい。
２つ目の方法は、酸無水物基を２つ以上有する芳香族化合物と、水酸基を２つ以上有する化合物の水酸基との反応生成物の存在下に、単量体を共重合する方法である。
上記２つの方法は、単量体を共重合したビニル重合体部位の導入を先に行うか後で行うかの違いである。諸条件により分子量等が若干異なる場合があるが、原料と反応条件が同じであれば、理論上は同じ化合物が合成できる。

【0067】

以下、主鎖、及び側鎖について詳細に説明する。

【0068】

〔主鎖〕
芳香族カルボン酸エステル部位は、酸無水物基を２つ以上有する芳香族化合物の無水物基は、水酸基を２つ以上有する化合物との開環反応によって得られる。

【0069】

酸無水物基を２つ以上有する芳香族化合物は、例えば、下記一般式（６）、一般式（７）で表される化合物が挙げられる。

【0070】

【化5】

【0071】

一般式（６）中、ｎは１又は２を表す。
一般式（７）中、Ｑは直接結合、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯ－、－ＳＯ_２－、－Ｃ（ＣＦ_３）_２－、下記一般式（８）で表される基、又は下記一般式（９）で表される基を表す。

【0072】

【化6】

【0073】

酸無水物基を２つ以上有する芳香族化合物は、具体的には、ピロメリット酸二無水物、エチレングリコールジ無水トリメリット酸エステル、プロピレングリコールジ無水トリメリット酸エステル、ブチレングリコールジ無水トリメリット酸エステル、３，３'，４，４'－ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'－ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８－ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７－ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'－ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'－ジメチルジフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'－テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４－フランテトラカルボン酸二無水物、４，４'－ビス（３，４－ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルフィド二無水物、４，４'－ビス（３，４－ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルホン二無水物、４，４'－ビス（３，４－ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルプロパン二無水物、３，３'，４，４'－パーフルオロイソプロピリデンジフタル酸二無水物、３，３'，４，４'－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス（フタル酸）フェニルホスフィンオキサイド二無水物、ｐ－フェニレン－ビス（トリフェニルフタル酸）二無水物、ｍ－フェニレン－ビス（トリフェニルフタル酸）二無水物、ビス（トリフェニルフタル酸）－４，４'－ジフェニルエーテル二無水物、ビス（トリフェニルフタル酸）－４，４'－ジフェニルメタン二無水物、９，９－ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）フルオレン二無水物、９，９－ビス［４－（３，４－ジカルボキシフェノキシ）フェニル］フルオレン二無水物、３，４－ジカルボキシ－１，２，３，４－テトラヒドロ－１－ナフタレンコハク酸二無水物、又は３，４－ジカルボキシ－１，２，３，４－テトラヒドロ－６－メチル－１－ナフタレンコハク酸二無水物等が挙げられる。これらの中でも、芳香族テトラカルボン酸二無水物が好ましく、ピロメリット酸二無水物がより好ましい。

【0074】

水酸基を２個以上有する化合物は、上記の通り、分子内に２つの水酸基と１つのチオール基とを有する化合物が好ましい。

【0075】

分子内に２つの水酸基と１つのチオール基を有する化合物は、例えば、１－メルカプト－１，１－メタンジオール、１－メルカプト－１，１－エタンジオール、３－メルカプト－１，２－プロパンジオール（チオグリセリン）、２－メルカプト－１，２－プロパンジオール、２－メルカプト－２－メチル－１，３－プロパンジオール、２－メルカプト－２－エチル－１，３－プロパンジオール、１－メルカプト－２，２－プロパンジオール、２－メルカプトエチル－２－メチル－１，３－プロパンジオール、又は２－メルカプトエチル－２－エチル－１，３－プロパンジオール等が挙げられる。

【0076】

芳香族カルボン酸エステル部位は、水酸基を２個以上有する化合物１モルに対して、酸無水物基を２個以上有する芳香族化合物０．９～１．５モルの反応生成部位であることが好ましい。より好ましくは、水酸基を２個以上有する化合物１モルに対して、酸無水物基を２個以上有する芳香族化合物１．０～１．３モルの反応生成部位である。顔料（Ａ）への吸着部位である芳香族カルボキシル基の割合が増えることで保存安定性が向上する。理論上、酸無水物基を２個以上有する芳香族化合物が１モルを超える場合、末端は酸無水物基となる。

【0077】

また、芳香族カルボン酸エステル部位の末端に存在する酸無水物基は、モノアルコールと反応させてもよい。すなわち、酸無水物基がモノアルコールで開環し、アルコールエステル及びカルボキシル基が生成する。これにより、現像液への溶解性が向上し、現像性が向上する。

【0078】

前記モノアルコールは、例えば、メタノール、エタノール、１－ブタノール、２－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、１－ペンタノール、イソペンチルアルコール、ｔｅｒｔ－ペンチルアルコール、シクロペンタノール、１－ヘキサノール、シクロヘキサノール、１－ヘプタノール、１－オクタノール、２－エチル－１－ヘキサノール、イソノニルアルコール、１－ノニルアルコール、アミルアルコール、ラウリルアルコール、ｎ－ブチルアルコール、イソブチルアルコール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、メチルシクロヘキサノール等のモノアルコール；
３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノール、３－メトキシブタノール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノターシャリーブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル基を有するモノアルコール；
乳酸メチル、乳酸エチル、ダイアセトンアルコール等のカルボニル基を有するモノアルコール等が挙げられる。
これらの中でも、現像性の観点から、エーテル基又はカルボニル基を有する化合物であることが好ましく、３－メトキシブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ダイアセトンアルコールがより好ましい。モノアルコールは、単独又は２種類以上を使用できる。

【0079】

酸無水物基に対するモノアルコールの使用量は、主鎖の酸無水物基１当量に対して１～３０当量が好ましく、１．５～２０当量がより好ましい。

【0080】

〔側鎖〕
ビニル重合体部位は、上述したように、水酸基を２つ以上有する化合物の存在下に、単量体を共重合する方法、酸無水物基を２つ以上有する芳香族化合物と、水酸基を２つ以上有する化合物の水酸基との反応生成物の存在下に、単量体を共重合する方法で合成できる。

【0081】

前記単量体は、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ターシャリブチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、イソミリスチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、又はイソステアリル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート、又はメトキシポリエチレングリコールポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート等の直鎖又は分岐アルキル（メタ）アクリレート；
シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ターシャリブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、又はイソボルニル（メタ）アクリレート等の環状アルキル（メタ）アクリレート；
トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレート、又はテトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート等のフルオロアルキル（メタ）アクリレート；
（メタ）アクリロキシ変性ポリジメチルシロキサン（シリコーンマクロマー）類；
テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、又は３－メチル－３－オキセタニル（メタ）アクリレート等の複素環を有する（メタ）アクリレート；
ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、パラクミルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、パラクミルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、又はノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等の芳香族環を有する（メタ）アクリレート；
（メタ）アクリル酸、アクリル酸ダイマー、２－（メタ）アクリロイロキシエチルフタレート、２－（メタ）アクリロイロキシプロピルフタレート、２－（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタレート、２－（メタ）アクリロイロキシプロピルヘキサヒドロフタレート、エチレンオキサイド変性コハク酸（メタ）アクリレート、β－カルボキシエチル（メタ）アクリレート、又はω－カルボキシポリカプロラクトン（メタ）アクリレート等のカルボキシル基を有する（メタ）アクリレート；
スチレン、α－メチルスチレン、酢酸ビニル、（メタ）アクリル酸ビニル、又は（メタ）アクリル酸アリル等のビニル；
（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－イソプロピル（メタ）アクリルアミド、ダイアセトン（メタ）アクリルアミド、又はアクリロイルモルホリン等のＮ置換型（メタ）アクリルアミド；
Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、又はＮ，Ｎ－ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート等のアミノ基含有（メタ）アクリレート；
（メタ）アクリロニトリル等のニトリル；
スチレン、α－メチルスチレン等のスチレン類、エチルビニルエーテル、ｎ－プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ－ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル等のビニルエーテル類；
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等の脂肪酸ビニル類；
アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸等の酸性基含有単量体が挙げられる。

【0082】

ビニル重合体部位は、低温ポストベーク後の膜耐性の観点から、熱架橋性基及び／又は重合性不飽和基を有することが好ましい。熱架橋性基は、例えば、水酸基、エポキシ基、オキセタニル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、及びブロックイソシアネート基等が挙げられる。
熱架橋性基を導入するには、水酸基、エポキシ基、オキセタニル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、及びブロックイソシアネート基等を有する単量体を使用することで導入できる。
重合性不飽和基を導入するには、例えば、ビニル重合体部位に存在する水酸基に、イソシアネート基を有する単量体のイソシアネート基を反応させることで導入できる。

【0083】

合成方法は、例えば、水酸基を２個以上有する化合物である片末端に２つの水酸基と１つのチオール基を有する化合物（ａ）の存在下、単量体をラジカル重合し、片末端に２つの水酸基を有するビニル重合体を生成させ、酸無水物基を２個以上有する芳香族化合物であるテトラカルボン酸二無水物（ｂ）と反応させることが好ましい。更に、樹脂の末端が酸無水物基の場合、モノアルコールと反応させれば、モノアルコールに由来する封止部位を導入できる。

【0084】

【化7】

【0085】

（ｃ）中、Ｘは、テトラカルボン酸二無水物（ｂ）が水酸基と反応した後の反応残基、Ｚは、２つの水酸基を持つ化合物が酸無水物基と反応した後の反応残基、Ｒは、モノアルコールの残基である。

【0086】

ビニル重合体部位の重合温度は、４０～１５０℃が好ましく、５０～１１０℃がより好ましい。４０℃以上であれば重合が進行し易く、１５０℃以下であれば分子量の制御が容易になる。

【0087】

ビニル重合体部位の重合の際、単量体の全単量体質量を基準として、０．００１～５質量％の重合開始剤を使用できる。重合開始剤は、アゾ系化合物及び有機過酸化物が挙げられる。

【0088】

アゾ系化合物は、例えば、２，２'－アゾビスイソブチロニトリル、２，２'－アゾビス（２－メチルブチロニトリル）、１，１'－アゾビス（シクロヘキサン１－カルボニトリル）、２，２'－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）、２，２'－アゾビス（２，４－ジメチル－４－メトキシバレロニトリル）、ジメチル２，２'－アゾビス（２－メチルプロピオネート）、４，４'－アゾビス（４－シアノバレリック酸）、２，２'－アゾビス（２－ヒドロキシメチルプロピオニトリル）、又は２，２'－アゾビス［２－（２－イミダゾリン－２－イル）プロパン］等が挙げられる。
有機過酸化物は、例えば、過酸化ベンゾイル、ｔｅｒｔ－ブチルパーベンゾエイト、クメンヒドロパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ－ｎ－プロピルパーオキシジカーボネート、ジ（２－エトキシエチル）パーオキシジカーボネート、ｔ－ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシビバレート、（３，５，５－トリメチルヘキサノイル）パーオキシド、ジプロピオニルパーオキシド、又はジアセチルパーオキシド等が挙げられる。重合開始剤は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。

【0089】

ビニル重合体部位は、塊状重合又は溶液重合で合成することが好ましい。溶液重合の重合溶媒は、例えば、酢酸エチル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸イソブチル、トルエン、キシレン、アセトン、ヘキサン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、又はジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等が挙げられるが特にこれらに限定されるものではない。重合溶媒は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。

【0090】

芳香族カルボン酸エステル部位の合成には、反応触媒を使用できる。反応触媒は、３級アミン系化合物が好ましい。３級アミン系化合物は、例えば、トリエチルアミン、トリエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルベンジルアミン、Ｎ－メチルモルホリン、１，８－ジアザビシクロ－［５．４．０］－７－ウンデセン、又は１，５－ジアザビシクロ－［４．３．０］－５－ノネン等が挙げられる。

【0091】

芳香族カルボン酸エステル部位の合成には、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、キシレン、アセトニトリル、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の溶媒を使用できる。

【0092】

芳香族カルボン酸エステル部位の合成温度は、５０～１８０℃が好ましく、８０～１４０℃がより好ましい。

【0093】

酸無水物基を２個以上有する芳香族化合物、及び水酸基を２個以上有する化合物の反応生成部位であるエステル結合を有する芳香族カルボン酸エステル部位に基づく主鎖、並びにビニル重合体部位に基づく側鎖を有する樹脂の酸価は、２０～２５０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、３０～２００ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましい。

【0094】

酸無水物基を２個以上有する芳香族化合物、及び水酸基を２個以上有する化合物の反応生成部位であるエステル結合を有する芳香族カルボン酸エステル部位に基づく主鎖、並びにビニル重合体部位に基づく側鎖を有する樹脂の重量平均分子量は、２，０００～４０，０００が好ましく、４，０００～３０，０００がより好ましい。

【0095】

酸無水物基を２個以上有する芳香族化合物、及び水酸基を２個以上有する化合物の反応生成部位であるエステル結合を有する芳香族カルボン酸エステル部位に基づく主鎖、並びにビニル重合体部位に基づく側鎖を有する樹脂は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。

【0096】

酸無水物基を２個以上有する芳香族化合物、及び水酸基を２個以上有する化合物の反応生成部位であるエステル結合を有する芳香族カルボン酸エステル部位に基づく主鎖、並びにビニル重合体部位に基づく側鎖を有する樹脂は、保存安定性の観点から、樹脂（Ｂ１）１００質量％中、１～６０質量％が好ましく、５～５０質量％がより好ましい。

【0097】

（樹脂（Ｂ２））
樹脂（Ｂ）は、低温ポストベークでの混色の抑制の観点から、バインダー樹脂として熱架橋性基含有単量体単位（ｂ１）を有する樹脂（Ｂ２）（以下、単に樹脂（Ｂ２）ともいう）を含むことが好ましい。熱架橋性基は、加熱により架橋反応を起こし架橋する基である。例えば、環状エーテル基、メチロール基、イソシアネート基、ブロックイソシアネート基、アセトアセトキシ基、アルコキシシリル基、３級アルキル基等が挙げられる。
樹脂（Ｂ２）は、例えば、熱架橋性基含有単量体単位（ｂ１）を形成する単量体、及び任意に共重合可能な他の単量体との共重合体等が挙げられる。

【0098】

〔熱架橋性基含有単量体単位（ｂ１）〕
熱架橋性基含有単量体単位（ｂ１）は、低温ポストベークでの混色の抑制の観点から、下記一般式（１０）～（１４）で表される単量体から形成されることが好ましい。

【0099】

一般式（１０）

【化8】

【0100】

一般式（１０）中、Ｒ^１は、水素原子、又はメチル基を表す。

【0101】

一般式（１０）中、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立して炭素数１～１０のアルキル基を表す。
炭素数１～１０のアルキル基は、直鎖状、分岐状、又はこれらの組合せのアルキル基のいずれであってもよい。例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、イソプロピル基、イソブチル基、アミル基、イソアミル基、ヘプチル基、オクチル基、イソオクチル基、２－エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基等が挙げられる。これらの中でも、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基が好ましい。

【0102】

一般式（１０）中、Ｌ^１は、単結合、又は２価の有機基を表す。
２価の有機基は、炭素数１～２０のアルキレン基、又は炭素数１～２０のアルキレン基の炭素－炭素結合間に－Ｏ－を有する基が挙げられる。
炭素数１～２０のアルキレン基は、直鎖状、分岐状、又はこれらの組合せのアルキレン基のいずれであってもよい。例えば、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチレン基、ｎ－ペンチレン基、ｎ－へキシレン基、ｎ－へプチレン基、ｎ－オクチレン基、イソプロピレン基、２－メチルプロピレン基、２－メチルへキシレン基、テトラメチルエチレン基等が挙げられる。これらの中でも、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基が好ましい。

【0103】

一般式（１０）中、Ｌ^２は、単結合、又は酸素原子を表す。

【0104】

一般式（１０）中、Ｌ^３及びＬ^４は、それぞれ独立して単結合、又は２価の有機基を表す。
２価の有機基は、炭素数１～２０のアルキレン基が挙げられる。
炭素数１～２０のアルキレン基は、直鎖状、分岐状、又はこれらの組合せのアルキレン基のいずれであってもよい。例えば、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチレン基、ｎ－ペンチレン基、ｎ－へキシレン基、ｎ－へプチレン基、ｎ－オクチレン基、イソプロピレン基、２－メチルプロピレン基、２－メチルへキシレン基、テトラメチルエチレン基等が挙げられる。これらの中でも、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基が好ましい。

【0105】

一般式（１０）で表される単量体の製造方法は、特に制限がなく、公知の方法を使用できる。例えば、特開平１０－３１６６４３号公報、国際公開第２０２２／１４５２９８号等に記載の方法が挙げられる。

【0106】

以下、一般式（１０）で表される単量体の具体例である式（１０－１）～（１０－１０）の化合物を示す。なお、本発明はこれらに限定されない。

【0107】

【化9】

【0108】

一般式（１０）で表される単量体は、低温ポストベークでの混色の抑制の観点から、上記式（１０－１）、式（１０－２）、式（１０－３）、式（１０－４）、式（１０－９）、及び式（１０－１０）の化合物から選ばれる少なくとも１種が好ましい。

【0109】

一般式（１０）で表される単量体は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。

【0110】

一般式（１１）

【化10】

【0111】

一般式（１１）中、Ｒ^１は、水素原子、又はメチル基を表す。

【0112】

一般式（１１）中、Ｒ^４～Ｒ^６は、それぞれ独立して水素原子、又は炭素数１～１０のアルキル基を表す。
炭素数１～１０のアルキル基は、直鎖状、分岐状、又はこれらの組合せのアルキル基のいずれであってもよい。例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、イソプロピル基、イソブチル基、アミル基、イソアミル基、ヘプチル基、オクチル基、イソオクチル基、２－エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基等が挙げられる。これらの中でも、Ｒ^４及びＲ^５は、水素原子であることが好ましく、Ｒ^６は、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基であることが好ましい。

【0113】

一般式（１１）中、Ｌ^１は、単結合、又は２価の有機基を表す。
２価の有機基は、炭素数１～２０のアルキレン基、又は炭素数１～２０のアルキレン基の炭素－炭素結合間に－Ｏ－を有する基が挙げられる。
炭素数１～２０のアルキレン基は、直鎖状、分岐状、又はこれらの組合せのアルキレン基のいずれであってもよい。例えば、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチレン基、ｎ－ペンチレン基、ｎ－へキシレン基、ｎ－へプチレン基、ｎ－オクチレン基、イソプロピレン基、２－メチルプロピレン基、２－メチルへキシレン基、テトラメチルエチレン基等が挙げられる。これらの中でも、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基が好ましい。

【0114】

一般式（１１）で表される単量体の製造方法は、特に制限がなく、公知の方法を使用できる。例えば、国際公開第２０２２／１４５２９８号等に記載の方法が挙げられる。

【0115】

以下、一般式（１１）で表される単量体の具体例である式（１１－１）～（１１－６）の化合物を示す。なお、本発明はこれらに限定されない。

【0116】

【化11】

【0117】

一般式（１１）で表される単量体は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。

【0118】

一般式（１２）

【化12】

【0119】

一般式（１２）中、Ｒ^１は、水素原子、又はメチル基を表す。

【0120】

一般式（１２）中、Ｒ^７は、炭素数１～１０のアルキル基を表す。
炭素数１～１０のアルキル基は、直鎖状、分岐状、又はこれらの組合せのアルキル基のいずれであってもよい。例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、イソプロピル基、イソブチル基、アミル基、イソアミル基、ヘプチル基、オクチル基、イソオクチル基、２－エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基等が挙げられる。これらの中でも、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基が好ましい。

【0121】

一般式（１２）中、Ｌ^１は、単結合、又は２価の有機基を表す。
２価の有機基は、炭素数１～２０のアルキレン基、又は炭素数１～２０のアルキレン基の炭素－炭素結合間に－Ｏ－を有する基が挙げられる。
炭素数１～２０のアルキレン基は、直鎖状、分岐状、又はこれらの組合せのアルキレン基のいずれであってもよい。例えば、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチレン基、ｎ－ペンチレン基、ｎ－へキシレン基、ｎ－へプチレン基、ｎ－オクチレン基、イソプロピレン基、２－メチルプロピレン基、２－メチルへキシレン基、テトラメチルエチレン基等が挙げられる。これらの中でも、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基が好ましい。

【0122】

一般式（１２）で表される単量体の製造方法は、特に制限がなく、公知の方法を使用できる。例えば、Ｗｉｔｚｅｍａｎ，Ｊ．Ｓ．、Ｄｅｌｌ Ｒｅｃｔｏｒ，Ｆ．Ｊ．著のＣｏｔａｉｎｇｓ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｖｏｌ．６２等に記載の方法が挙げられる。

【0123】

以下、一般式（１２）で表される単量体の具体例である式（１２－１）～（１２－４）の化合物を示す。なお、本発明はこれらに限定されない。

【0124】

【化13】

【0125】

一般式（１２）で表される単量体は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。

【0126】

一般式（１３）

【化14】

【0127】

一般式（１３）中、Ｒ^１は、水素原子、又はメチル基を表す。

【0128】

一般式（１３）中、Ｒ^８～Ｒ^１０は、それぞれ独立して水素原子、炭素数１～６のアルキル基、又は炭素数１～６のアルコキシ基を表す。ただし、Ｒ^８～Ｒ^１０のうち少なくとも１つは炭素数１～６のアルコキシ基である。
炭素数１～６のアルキル基は、メチル基、エチル基、ブチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、イソプロピル基、イソブチル基等が挙げられる。
炭素数１～６のアルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、イソプロポキシ基等が挙げられる。これらの中でも、メトキシ基、エトキシ基が好ましい。
一般式（１３）中、Ｒ^８～Ｒ^１０のうち少なくとも２つは炭素数１～６のアルコキシ基であることが好ましい。

【0129】

一般式（１３）中、Ｌ^１は、単結合、又は２価の有機基を表す。
２価の有機基は、炭素数１～２０のアルキレン基、又は炭素数１～２０のアルキレン基の炭素－炭素結合間に－Ｏ－を有する基が挙げられる。
炭素数１～２０のアルキレン基は、直鎖状、分岐状、又はこれらの組合せのアルキレン基のいずれであってもよい。例えば、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチレン基、ｎ－ペンチレン基、ｎ－へキシレン基、ｎ－へプチレン基、ｎ－オクチレン基、イソプロピレン基、２－メチルプロピレン基、２－メチルへキシレン基、テトラメチルエチレン基等が挙げられる。これらの中でも、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基が好ましい。

【0130】

以下、一般式（１３）で表される単量体の具体例である式（１３－１）～（１３－６）の化合物を示す。なお、本発明はこれらに限定されない。

【0131】

【化15】

【0132】

一般式（１３）で表される単量体の市販品は、例えば、信越シリコーン社のＫＢＭ－５０２，５０３，５１０３，５８０３、ＫＢＥ－５０２，５０３等が挙げられる。

【0133】

一般式（１３）で表される単量体は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。

【0134】

一般式（１４）

【化16】

【0135】

一般式（１４）中、Ｒ^１は、水素原子、又はメチル基を表す。

【0136】

一般式（１４）中、Ｒ^１１～Ｒ^１３は、それぞれ独立して炭素数１～１０のアルキル基を表す。
炭素数１～１０のアルキル基は、直鎖状、分岐状、又はこれらの組合せのアルキル基のいずれであってもよい。例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、イソプロピル基、イソブチル基、アミル基、イソアミル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、イソオクチル基、２－エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基等が挙げられる。これらの中でも、メチル基が好ましい。

【0137】

一般式（１４）中、Ｌ^１は、単結合、又は２価の有機基を表す。
２価の有機基は、炭素数１～２０のアルキレン基、－ＮＨ－を有する基、又はこれらの組合せが挙げられる。
炭素数１～２０のアルキレン基は、直鎖状、分岐状、又はこれらの組合せのアルキレン基のいずれであってもよい。例えば、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチレン基、ｎ－ペンチレン基、ｎ－へキシレン基、ｎ－へプチレン基、ｎ－オクチレン基、イソプロピレン基、２－メチルプロピレン基、２－メチルへキシレン基、テトラメチルエチレン基等が挙げられる。これらの中でも、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基が好ましい。

【0138】

以下、一般式（１４）で表される単量体の具体例である式（１４－１）～（１４－６）の化合物を示す。なお、本発明はこれらに限定されない。

【0139】

【化17】

【0140】

一般式（１４）で表される単量体は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。

【0141】

熱架橋性基含有単量体単位（ｂ１）は、低温ポストベークでの混色の抑制の観点から、一般式（１０）で表される単量体、及び一般式（１１）で表される単量体のうち１種以上から形成される単量体単位がより好ましい。

【0142】

熱架橋性基含有単量体単位（ｂ１）は、一般式（１０）～（１４）で表される単量体を単独又は２種類以上を併用して形成することができる。

【0143】

熱架橋性基含有単量体単位（ｂ１）は、一般式（１０）～（１４）で表される単量体で形成される単量体単位と、一般式（１０）～（１４）で表される単量体以外の単量体で形成される単量体単位を併用することができる。

【0144】

一般式（１０）～（１４）で表される単量体以外の単量体は、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、２－グリシドキシエチル（メタ）アクリレート、３，４－エポキシブチル（メタ）アクリレート、３，４－エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、３，４－エポキシトリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン－８－イル（メタ）アクリレート、３，４－エポキシトリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン－９－イル（メタ）アクリレート、２－［（３，５－ジメチルピラゾリル）カルボニルアミノ］エチル（メタ）アクリレート、２－［Ｏ－（１'－メチルプロピリデンアミノ）カルボキシアミノ］エチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

【0145】

熱架橋性基含有単量体単位（ｂ１）の含有量は、低温ポストベークでの混色の抑制の観点から、樹脂（Ｂ２）の全単量体単位中、１～８０モル％が好ましく、５～７０モル％がより好ましい。

【0146】

樹脂（Ｂ２）は、熱架橋性基含有単量体単位（ｂ１）以外に、例えば、酸性基含有単量体単位（ｂ２）、水酸基含有単量体単位（ｂ３）、多環脂環式炭化水素基含有単量体単位（ｂ４）、重合性不飽和基含有単量体単位（ｂ５）、その他単量体単位（ｂ６）を含有できる。

【0147】

〔酸性基含有単量体単位（ｂ２）〕
酸性基含有単量体は、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、プロピオール酸、けい皮酸、イタコン酸、無水イタコン酸、マレイン酸、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノイソプロピル、無水マレイン酸、フマル酸、２－メタクリロイロキシエチルコハク酸、２－アクリロイロキシエチルフタル酸、２－アクリロイロキシエチルヘキシルヒドロフタル酸、ｐ－スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸、２－アクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸、ｔｅｒｔ－ブチルアクリルアミドスルホン酸、２－（メタ）アクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェート等が挙げられる。
酸性基含有単量体は、単独又は２種以上併用して使用できる。

【0148】

酸性基含有単量体単位（ｂ２）の含有量は、樹脂（Ｂ２）の全構成単位中、１～４０モル％が好ましく、５～３０モル％がより好ましい。

【0149】

また、樹脂（Ｂ２）に酸性基含有単量体単位（ｂ２）を導入する方法は、熱架橋性基含有単量体と酸性基含有単量体とを共重合する方法以外に、樹脂（前駆体）に含まれる水酸基に、酸無水物（変性化合物）を付加させる方法を用いてもよい。前記酸無水物は、例えば、無水コハク酸、無水フタル酸、１，２，３，６－テトラヒドロ無水フタル酸等が挙げられる。

【0150】

〔水酸基含有単量体単位（ｂ３）〕
水酸基含有単量体は、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２，３－ジヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピルアクリレート、２－アクリロイロキシエチル－２－ヒドロキシエチルフタル酸等が挙げられる。
水酸基含有単量体は、単独又は２種以上併用して使用できる。

【0151】

水酸基含有単量体単位（ｂ３）の含有量は、樹脂（Ｂ２）の全単量体単位中、１～６０モル％が好ましく、５～５０モル％がより好ましい。

【0152】

また、樹脂（Ｂ２）に水酸基含有単量体単位（ｂ３）を導入する方法は、熱架橋性基含有単量体と水酸基含有単量体とを共重合する方法以外に、樹脂（前駆体）に含まれるエポキシ基に、カルボキシル基を有する化合物（変性化合物）を付加させる方法や、樹脂（前駆体）に含まれるカルボキシル基に、エポキシ基を有する化合物（変性化合物）を付加させる方法を用いてもよい。

【0153】

〔多環脂環式炭化水素基含有単量体単位（ｂ４）〕
多環脂環式炭化水素基含有単量体単位は、例えば、イソボロニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの中でも、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレートが好ましい。
多環脂環式炭化水素基含有単量体単位は、単独又は２種以上併用して使用できる。

【0154】

〔重合性不飽和基含有単量体単位（ｂ５）〕
樹脂（Ｂ２）に、重合性不飽和基含有単量体単位（ｂ５）を含有させる方法は、例えば、以下に示す（ｉ）～（ｉｉｉ）の方法が挙げられる。

【0155】

<方法（ｉ）>
方法（ｉ）は、例えば、まず、エポキシ基を有する前駆体を合成する。次いで、前記前駆体のエポキシ基に、酸性基がカルボキシル基である酸性基含有単量体を付加する。

【0156】

前記前駆体のエポキシ基に、カルボキシル基を有する単量体を付加させた部位に、更に、酸無水物を反応させることもできる。

【0157】

酸無水物は、例えば、１，２，３，６－テトラヒドロ無水フタル酸、無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸等が挙げられる。

【0158】

<方法（ｉｉ）>
方法（ｉｉ）は、例えば、まず、酸性基がカルボキシル基である酸性基含有単量体単位（ｂ２）を有する前駆体を合成する。次いで、前記前駆体のカルボキシル基にエポキシ基含有単量体（変性化合物）を付加する。

【0159】

エポキシ基含有単量体は、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、２－グリシドキシエチル（メタ）アクリレート、３，４－エポキシブチル（メタ）アクリレート、及び３，４－エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレートが挙げられる。

【0160】

<方法（ｉｉｉ）>
方法（ｉｉｉ）は、例えば、まず、水酸基含有単量体（ｂ３）を有する前駆体を合成する。次いで、前記前駆体の水酸基に、イソシアネート基含有単量体（変性化合物）のイソシアネート基を反応させる。

【0161】

イソシアネート基含有単量体は、例えば、２－（メタ）アクリロイルエチルイソシアネート、２－（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、１，１－ビス〔メタアクリロイルオキシ〕エチルイソシアネート等が挙げられる。

【0162】

〔その他単量体単位単位（ｂ６）〕
その他単量体は、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ－ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノールのＥＯ変性（メタ）アクリレート、ノニルフェノールのＥＯ又はＰＯ変性（メタ）アクリレート、パラクミルフェノールのＥＯ又はＰＯ変性（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート等のアクリル酸エステル類；
スチレン、α－メチルスチレン、ｐ－ビニルトルエン、ｐ－クロロスチレン、ビニルナフタレン等の芳香族ビニル化合物類；
（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－イソプロピル（メタ）アクリルアミド、ダイアセトン（メタ）アクリルアミド、又はアクリロイルモルホリン等の（メタ）アクリルアミド類；
エチルビニルエーテル、ｎ－プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ－ブチルビニルエーテル、又はイソブチルビニルエーテル等のビニルエーテル類；
酢酸ビニル、又はプロピオン酸ビニル等の脂肪酸ビニル類；
フェニルマレイミド、メチルマレイミド、エチルマレイミド、１，２－ビスマレイミドエタン１，６－ビスマレイミドヘキサン、６，７－メチレンジオキシ－４－メチル－３－マレイミドクマリン、４，４'－ビスマレイミドジフェニルメタン、ビス（３－エチル－５－メチル－４－マレイミドフェニル）メタン、Ｎ，Ｎ'－１，３－フェニレンジマレイミド、Ｎ，Ｎ'－１，４－フェニレンジマレイミド、Ｎ－（１－ピレニル）マレイミド、Ｎ－（２，４，６－トリクロロフェニル）マレイミド、Ｎ－（４－アミノフェニル）マレイミド、Ｎ－（４－ニトロフェニル）マレイミド、Ｎ－ベンジルマレイミド、Ｎ－ブロモメチル－２，３－ジクロロマレイミド、Ｎ－スクシンイミジル－３－マレイミドベンゾエート、Ｎ－スクシンイミジル－３－マレイミドプロピオナート、Ｎ－スクシンイミジル－４－マレイミドブチラート、Ｎ－スクシンイミジル－６－マレイミドヘキサノアート、Ｎ－［４－（２－ベンゾイミダゾリル）フェニル］マレイミド、９－マレイミドアクリジン等のＮ－置換マレイミド類；
ジメチル－２，２'－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジエチル－２，２'－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（ｎ－プロピル）－２，２'－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（イソプロピル）－２，２'－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート、ジ（２－エチルヘキシル）－２，２'－［オキシビス（メチレン）］ビス－２－プロペノエート等が挙げられる。
その他単量体は、単独又は２種以上併用して使用できる。

【0163】

樹脂（Ｂ２）の重量平均分子量は、３，０００～５０，０００が好ましく、３，０００～２０，０００がより好ましい。

【0164】

樹脂（Ｂ２）の分子量分布（重量平均分子量／数平均分子量）は、１．２～３．０が好ましく、１．３～２．８がより好ましい。

【0165】

樹脂（Ｂ２）の酸価は、２０～２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、３０～１８０ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましい。

【0166】

樹脂（Ｂ２）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。

【0167】

樹脂（Ｂ２）の含有量は、樹脂（Ｂ）１００質量％中、１～８０質量％が好ましい。

【0168】

［レベリング剤（Ｃ）］
本発明の組成物は、レベリング剤（Ｃ）を含む。

【0169】

レベリング剤（Ｃ）は、特に制限がなく、公知の化合物を使用できる。例えば、シリコーン系レベリング剤、フッ素系レベリング剤、アクリル系レベリング剤、アセチレンジオール系レベリング剤等が挙げられる。

【0170】

シリコーン系レベリング剤の市販品としては、例えば、ビックケミー社製のＢＹＫ－３００，３０６，３１０，３１３，３１５Ｎ，３２０，３２２，３２３，３３０，３３１，３３３，３４２，３４５，３４６，３４７，３４８，３４９，３７０，３７７，３７８，３４５５，ＵＶ３５１０，３５７０、東レ・ダウコーニング社製のＦＺ－７００２，２１１０，２１２２，２１２３，２１９１，５６０９、信越シリコーン社製のＸ－２２－４９５２、Ｘ－２２－４２７２、Ｘ－２２－６２６６、ＫＦ－３５１Ａ、ＫＦ－３５４Ｌ、ＫＦ－３５５Ａ、ＫＦ－９４５、ＫＦ－６４０、ＫＦ－６４２、ＫＦ－６４３、Ｘ－２２－４５１５、ＫＦ－６００４、ＫＰ－３４１、エボニック社製のＴｅｇｏＧｌｉｄｅ４３２，４４０，４５０、ＴｅｇｏＷｅｔ２５０，２６０，２６５，２７０，２８０等が挙げられる。

【0171】

フッ素系レベリング剤の市販品としては、例えば、ＡＧＣセイミケミカル社製のサーフロンＳ－２４２，２４３，４２０，６１１，６５１，３８６、ＤＩＣ社製のメガファックＦ－２５３，４７７，５５１，５５２，５５５，５５８，５６０，５７０，５７５，５７６、Ｒ－４０－ＬＭ、Ｒ－４１、ＲＳ－７２－Ｋ、ＤＳ－２１、住友スリーエム社製のＦＣ－４４３０，４４３２、三菱マテリアル電子化成社製のＥＦ－ＰＰ３１Ｎ０９、ＥＦ－ＰＰ３３Ｇ１、ＥＦ－ＰＰ３２Ｃ１、ネオス社製フタージェントの６０２Ａ等が挙げられる。

【0172】

アクリル系レベリング剤の市販品は、例えば、ビックケミー社製のＢＹＫ－３５０，３５２，３５４，３５５，３５８，３８０，３８１，３９２，３９４、共栄社化学製のポリフロー５７，７７，９５等が挙げられる。

【0173】

アセチレンジオール系レベリング剤の市販品は、例えば、日信化学工業社製のサーフィノール４２０，４４０，４６５，４８５，ＳＥ，ＤＦ１１０Ｄ，ＤＥ８５、オルフィンＥ１００４，１０１０等が挙げられる。

【0174】

レベリング剤（Ｃ）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。

【0175】

レベリング剤（Ｃ）の含有量は、組成物の不揮発分１００質量％中、０．０１～２．０質量％が好ましく、０．０５～１．０質量％がより好ましい。

【0176】

（ブロック共重合体（Ｃ１））
本発明の組成物は、レベリング剤（Ｃ）として、一般式（１）で表される単量体単位（ｃ１）から形成されるＡブロック、及び一般式（１）で表される単量体単位（ｃ１）以外の単量体単位（ｃ２）（以下、単にその他単量体単位（ｃ２）ともいう）から形成されるＢブロックを有するブロック共重合体（Ｃ１）を含む。

【0177】

一般式（１）

【化18】

【0178】

一般式（１）中、Ｒ_１は、それぞれ独立して炭素数１～６のアルキル基、又は－ＯＳｉ（Ｒ_５）_３で表わされる基（Ｒ_５は、それぞれ独立して炭素数１～３のアルキル基）である。
Ｒ_２は、それぞれ独立して炭素数１～６のアルキル基である。
Ｒ_３は、炭素数１～６のアルキル基である。
Ｒ_４は、水素原子、又はメチル基である。
Ｌ_１は、２価の有機基、又は単結合である。
ｎは、１～７０の整数である。

【0179】

〔一般式（１）で表される単量体単位（ｃ１）〕
一般式（１）で表される単量体を説明する。

【0180】

一般式（１）中、Ｒ_１は、それぞれ独立して炭素数１～６のアルキル基、又は－ＯＳｉ（Ｒ_５）_３で表わされる基（Ｒ_５は、それぞれ独立して炭素数１～３のアルキル基）である。
炭素数１～６のアルキル基は、直鎖状、分岐状、又はこれらの組合せのアルキル基のいずれであってもよい。例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、イソプロピル基、イソブチル基等が挙げられる。これらの中でも、Ｒ_１は、塗工性、混色の抑制の観点から、メチル基、トリメチルシロキシ基が好ましい。

【0181】

一般式（１）中、Ｒ_２は、それぞれ独立して炭素数１～６のアルキル基である。
炭素数１～６のアルキル基は、直鎖状、分岐状、又はこれらの組合せのアルキル基のいずれであってもよい。例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、イソプロピル基、イソブチル基等が挙げられる。これらの中でも、Ｒ_２は、メチル基が好ましい。

【0182】

一般式（１）中、Ｒ_３は、炭素数１～６のアルキル基である。
炭素数１～６のアルキル基は、直鎖状、分岐状、又はこれらの組合せのアルキル基のいずれであってもよい。例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、イソプロピル基、イソブチル基等が挙げられる。これらの中でも、Ｒ_３は、炭素数１～４のアルキル基が好ましい。

【0183】

一般式（１）中、Ｒ_４は、水素原子、又はメチル基である。

【0184】

一般式（１）中、Ｌ_１は、２価の有機基、又は単結合である。これらの中でも、Ｌ_１は、２価の有機基が好ましく、炭素数１～５０のアルキレン基、又は炭素数１～５０のアルキレンオキシ基がより好ましい。
炭素数１～５０のアルキレン基は、直鎖状、分岐状、又はこれらの組合せのアルキレン基のいずれであってもよい。例えば、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチレン基、ｎ－ペンチレン基、ｎ－へキシレン基、ｎ－へプチレン基、ｎ－オクチレン基、イソプロピレン基、２－メチルプロピレン基、２－メチルへキシレン基、テトラメチルエチレン基等が挙げられる。これらの中でも、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基が好ましい。
炭素数１～５０のアルキレンオキシ基は、例えば、メチレンオキシ基、エチレンオキシ基、プロピレンオキシ基、オキシトリメチレン基、ブチレンオキシ基、オキシテトラメチレン基、ペンチレンオキシ基、へプチレンオキシ基等が挙げられる。

【0185】

前記炭素数１～５０のアルキレン基、又は前記炭素数１～５０のアルキレンオキシ基の－ＣＨ_２－の一部がカルボニル基、フェニレン基、アミド結合、ウレタン結合に置換されてもよく、更に炭素原子に水酸基等が置換されてもよい。

【0186】

一般式（１）中、ｎは、１～７０の整数である。塗工性、混色の抑制の観点から、ｎは、１～５０の整数が好ましく、１～３０の整数がより好ましい。

【0187】

一般式（１）で表される単量体は、例えば、３－（メタクリロイルオキシ）プロピルトリス（トリメチルシロキシ）シラン、α－（３－メタクリロイルオキシ）プロピルポリジメチルシロキサン等が挙げられる。市販品としては、ＪＮＣ社製のサイラプレーンＦＭ－０７１１，ＦＭ－０７２１，ＦＭ－０７２５，ＦＭ－０７０１Ｔ、信越化学工業製のＸ－２２－１７４ＡＳＸ、Ｘ－２２－１７４ＢＸ、Ｘ－２２－２４２６、Ｘ－２２－２４０４等が挙げられる。

【0188】

一般式（１）で表される単量体は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。

【0189】

Ａブロックは、一般式（１）で表される単量体単位（ｃ１）から形成される部位である。
Ａブロックは、本発明の効果を損なわない範囲において、一般式（１）で表される単量体単位（ｃ１）以外のその他単量体単位（ｃ２）を含んでもよい。

【0190】

一般式（１）で表される単量体単位（ｃ１）の含有量は、塗工性、混色の抑制の観点から、Ａブロック１００質量％中、９０～１００質量％が好ましく、９５～１００質量％がより好ましい。

【0191】

Ａブロックの含有量は、塗工性、混色の抑制の観点から、ブロック共重合体（Ｃ１）１００質量％中、２０～９５質量％が好ましく、３０～８５質量％がより好ましい。

【0192】

〔その他単量体単位（ｃ２）〕
その他単量体単位（ｃ２）は、塗工性、混色の抑制の観点から、下記一般式（２）で表される単量体単位（ｃ２－１）、及び下記一般式（３）で表される単量体単位（ｃ２－２）からなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましい。これにより、組成物に含まれる他の成分との相溶性が制御でき、保存後でも塗工性、混色の抑制が維持できる。

【0193】

一般式（２）

【化19】

【0194】

一般式（２）中、Ｒ_６は、水素原子、又は炭素数１～１８のアルキル基である。
Ｒ_７は水素原子、又はメチル基である。
ｍは、１～４の整数である。
ｏは、２～２００の整数である。

【0195】

一般式（３）

【化20】

【0196】

一般式（３）中、Ｒ_８は、炭素数３～２０の脂環式炭化水素基である。
Ｒ_９は、水素原子、又はメチル基である。

【0197】

《一般式（２）で表される単量体単位（ｃ２－１）》
一般式（２）で表される単量体を説明する。

【0198】

一般式（２）中、Ｒ_６は、水素原子、又は炭素数１～１８のアルキル基である。
炭素数１～１８のアルキル基は、直鎖状、分岐状、環状、又はこれらの組合せのアルキル基のいずれであってもよい。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基、アミル基、イソアミル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、イソオクチル基、２－エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基等が挙げられる。これらの中でも、Ｒ_６は、水素原子、又は炭素数１～４のアルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。

【0199】

一般式（２）中、Ｒ_９は、水素原子、又はメチル基である。

【0200】

一般式（２）中、ｍは、１～４の整数である。塗工性、混色の抑制の観点から、ｍは、３、又は４が好ましい。

【0201】

一般式（２）中、ｏは、２～２００の整数である。塗工性、混色の抑制の観点から、ｏは、３～５０の整数が好ましい。

【0202】

一般式（２）で表される単量体は、例えば、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリトリメチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール・プロピレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール・ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール・テトラメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール・ポリテトラメチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（プロピレングリコール・テトラメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール・ポリテトラメチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（プロピレングリコール・１，２－ブチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール・ポリ１，２－ブチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール・１，２－ブチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール・ポリ１，２－ブチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（テトラメチレングリコール・１，２－ブチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリテトラエチレングリコール・ポリ１，２－ブチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ１，２－ブチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール・トリメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール・ポリトリメチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（プロピレングリコール・トリメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリ（１，２－ブチレングリコール・トリメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリ１，２－ブチレングリコール・ポリトリメチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（１，２－ブチレングリコール・テトラメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリ１，２－ブチレングリコール・ポリテトラメチレングリコールモノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。なお、上記「ポリ（エチレングリコール・プロピレングリコール）」は、エチレングリコールとプロピレングリコールとのランダム共重合物を意味し、「ポリエチレングリコール・ポリエチレングリコール」は、エチレングリコールとプロピレングリコールとのブロック共重合物を意味する。市販品としては、新中村化学工業社製のＮＫエステルＭ－２０Ｇ，Ｍ－４０Ｇ，Ｍ－９０Ｇ，Ｍ－１３０Ｇ，Ｍ－２３０Ｇ，ＡＭ－９０Ｇ，ＡＭ－１３０Ｇ，ＡＭ－２３０Ｇ、日油社製のブレンマーＰＥ－９０，ＰＥ－２００，ＰＥ－３５０，ＰＰ－５００，ＰＰ－８００，ＰＰ－１０００，５０ＰＥＰ－３００，５５ＰＥＴ－８００，１０ＰＰＢ－５００Ｂ，ＡＥ－２００，ＡＥ－４００，ＡＰ－４００等が挙げられる。

【0203】

一般式（２）で表される単量体は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。

【0204】

《一般式（３）で表される単量体単位（ｃ２－１）》
一般式（３）で表される単量体を説明する。

【0205】

一般式（３）中、Ｒ_８は、炭素数３～２０の脂環式炭化水素基である。
炭素数３～２０の脂環式炭化水素基は、置換基を有してもよい。置換基としては、アルキル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルコキシ基、ハロゲン原子、及びこれらの組合せ等が挙げられる。
炭素数３～２０の脂環式炭化水素基は、例えば、単環、又は多環脂環式炭化水素基が挙げられる。
単環脂環式炭化水素基は、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等が挙げられる。
多環脂環式炭化水素基は、イソボルニル基、ノルボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデシル基、ジシクロペンタニル基、ジシクロペンテニル基、トリシクロペンテニル基、トリシクロペンタジエン基、ジシクロペンタジエン基等が挙げられる。
これらの中でも、多環脂環式炭化水素基が好ましく、イソボルニル基、ジシクロペンタニル基、アダマンチル基がより好ましく、アダマンチル基がさらに好ましい。

【0206】

一般式（３）中、Ｒ_９は、水素原子、又はメチル基である。

【0207】

一般式（３）で表される単量体は、例えば、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、４－ｔｅｒｔ－ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、１，４―シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、１－アダマンチル（メタ）アクリレート、２－アダマンチル（メタ）アクリレート、２－メチル－２－アダマンチル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシ－１－アダマンチル（メタ）アクリレート、２－イソプロピル－２－アダマンチル（メタ）アクリレート、ジメチルアダマンチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

【0208】

一般式（３）で表される単量体は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。

【0209】

一般式（２）で表される単量体単位（ｃ２－１）、及び一般式（３）で表される単量体単位（ｃ２－２）の単量体単位の合計含有量は、塗工性、混色の抑制の観点から、Ｂブロック１００質量％中、９０～１００質量％が好ましく、９５～１００質量％がより好ましい。

【0210】

Ｂブロックは、その他単量体単位（ｃ２）から形成される部位である。
Ｂブロックは、本発明の効果を損なわない範囲において、一般式（２）で表される単量体単位（ｃ２－１）、及び一般式（３）で表される単量体単位（ｃ２－２）以外のビニル単量体単位を含んでもよい。

【0211】

Ｂブロックの含有量は、塗工性、混色の抑制の観点から、ブロック共重合体（Ｃ１）１００質量％中、５～８０質量％が好ましく、１５～７０質量％がより好ましい。

【0212】

前記ビニル単量体は、特に制限がなく、公知の単量体を用いることができる。例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ－ブチル（メタ）アクリレート、ｎ－ペンチル（メタ）アクリレート、ｎ－ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ－ヘプチル（メタ）アクリレート、ｎ－オクチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシルアクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２，３－ジヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２－フェノキシメチル（メタ）アクリレート、２－フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｎ－プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ－ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、２－ヒドロキシエチルアリルエーテル、４－ヒドロキシブチルアリルエーテル、グリセロールモノアリルエーテル、スチレン、α－メチルスチレン、ｐ－メチルスチレン、ｐ－メトキシスチレン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルアクリルアミド、Ｎ－イソプロピルアクリルアミド、アクロイルモルフォリン、メチルマレイミド、エチルマレイミド、プロピルマレイミド、ブチルマレイミド等が挙げられる。これらは、単独又は２種類以上を併用して使用できる。

【0213】

ブロック共重合体（Ｃ１）の製造方法は、特に制限がなく、公知の方法を用いることができる。例えば、リビングラジカル重合、リビングアニオン重合等のリビング重合法が挙げられる。
リビングラジカル重合は、例えば、特開平９－６２００２号公報、特開２００２－３１７１３号公報や、Ｐ．Ｌｕｔｚ，Ｐ．Ｍａｓｓｏｎ ｅｔ ａｌ，Ｐｏｌｙｍ．Ｂｕｌｌ．１２，７９ （１９８４），Ｂ．Ｃ．Ａｎｄｅｒｓｏｎ，Ｇ．Ｄ．Ａｎｄｒｅｗｓ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１４，１６０１（１９８１），Ｋ．Ｈａｔａｄａ，Ｋ．Ｕｔｅ，ｅｔ ａｌ，Ｐｏｌｙｍ．Ｊ．１７，９７７（１９８５），１８，１０３７（１９８６），右手浩一、畑田耕一、高分子加工、３６，３６６（１９８７），東村敏延、沢本光男、高分子論文集、４６，１８９（１９８９），Ｍ．Ｋｕｒｏｋｉ，Ｔ．Ａｉｄａ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ，１０９，４７３７（１９８７）、相田卓三、井上祥平、有機合成化学、４３，３００（１９８５），Ｄ．Ｙ．Ｓｏｇｏｈ，Ｗ．Ｒ．Ｈｅｒｔｌｅｒ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２０，１４７３（１９８７）等に記載された方法が挙げられる。これらの中でも、可逆的付加開裂連鎖移動重合（以下、ＲＡＦＴ）、原子移動ラジカル重合（以下、ＡＴＲＰ）、ヨウ素化合物を用いたリビングラジカル重合、有機テルル化合物を用いたリビングラジカル重合（以下、ＴＥＲＰ）が好ましい。
具体的には、例えば、国際公開第２０２１／１３１７２６号、国際公開第２０２２／０５００６２号、国際公開第２０２２／２４４５８６号等に記載の方法で合成できる。

【0214】

ブロック共重合体（Ｃ１）のＡブロック、及びＢブロックの数、配置は特に制限されない。例えば、ブロック共重合体（Ｃ１）は、ＡＢブロック共重合体、ＡＢＡブロック共重合体、ＢＡＢブロック共重合体等の配置が挙げられる。
また、本発明の効果を損なわない範囲で、Ａブロック、Ｂブロック以外のブロックを含んでもよい。

【0215】

ブロック共重合体（Ｃ１）の重量平均分子量は、５，０００～４０，０００が好ましい。

【0216】

ブロック共重合体（Ｃ１）の数平均分子量は、２，０００～２０，０００が好ましい。

【0217】

ブロック共重合体（Ｃ１）の平均分子量分布（重量平均分子量／数平均分子量）は、１．０～３．０が好ましい。

【0218】

ブロック共重合体（Ｃ１）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。

【0219】

ブロック共重合体（Ｃ１）の含有量は、レベリング剤（Ｃ）１００質量％中、１０～１００質量％が好ましく、３０～１００質量％がより好ましい。

【0220】

（ブロック共重合体（Ｃ１）以外のレベリング剤（Ｃ２））
本発明の組成物は、ブロック共重合体（Ｃ１）以外のレベリング剤（Ｃ２）（以下、単にその他レベリング剤（Ｃ２）ともいう）を含むことができる。その他レベリング剤（Ｃ２）は、上述したレベリング剤が挙げられる。

【0221】

［溶媒（Ｄ）］
本発明の組成物は、溶媒（Ｄ）を含む。

【0222】

溶媒（Ｄ）は、特に制限がなく、公知の化合物を使用できる。例えば、１，２，３－トリクロロプロパン、１－メトキシ－２－プロパノール、乳酸エチル、乳酸メチル、１，３－ブタンジオール、１，３－ブチレングリコール、１，３－ブチレングリコールジアセテート、１，４－ジオキサン、２－ヘプタノーン、２－メチル－１，３－プロパンジオ－ル、３，５，５－トリメチル－２－シクロヘキセン－１－オン、３，３，５－トリメチルシクロヘキサノン、３－エトキシプロピオン酸エチル、３－メチル－１，３－ブタンジオ－ル、３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノール、３－メトキシ－３－メチルブチルアセテート、３－メトキシブタノール、３－メトキシブチルアセテート、４－ヘプタノーン、ｍ－キシレン、ｍ－ジエチルベンゼン、ｍ－ジクロロベンゼン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ｎ－ブチルアルコール、ｎ－ブチルベンゼン、ｎ－プロピルアセテート、Ｎ－メチルピロリドン、ｏ－キシレン、トルエン、ｏ－クロロトルエン、ベンゼン、ｏ－ジエチルベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン、ｐ－クロロトルエン、ｐ－ジエチルベンゼン、ｓｅｃ－ブチルベンゼン、ｔｅｒｔ－ブチルベンゼン、γ－ブチロラクトン、イソブチルアルコール、イソホロン、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノターシャリーブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジイソブチルケトン、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサノール、シクロヘキサノールアセテート、シクロヘキサノン、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ダイアセトンアルコール、トリアセチン、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールフェニルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、ベンジルアルコール、メチルイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノール、酢酸ｎ－アミル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、酢酸プロピル、二塩基酸エステル、水等が挙げられる。

【0223】

溶媒（Ｄ）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。

【0224】

溶媒（Ｄ）の含有量は、組成物の不揮発分が５～６０質量％となる量が好ましい。

【0225】

（ハンセン溶解度パラメータの水素結合項が１０ＭＰａ^１／２以上である溶媒（Ｄ１））
本発明の組成物は、溶媒（Ｄ）として、ハンセン溶解度パラメータの水素結合項が１０ＭＰａ^１／２以上である溶媒（Ｄ１）（以下、単に溶媒（Ｄ１）ともいう）を含む。

【0226】

ここで、ハンセン溶解度パラメータとは、Ｈｉｌｄｅｂｒａｎｄによって導入された溶解度パラメータを、分散項（以下、δｄともいう）、極性項（以下、δｐともいう）、水素結合項（以下、δｈともいう）の３成分に分割し、３次元空間に表したものである。分散項は分散力による効果、極性項は双極子間力による効果、水素結合項は水素結合力による効果を示す。

【0227】

ハンセン溶解度パラメータの定義と計算は、Ｃｈａｒｌｅｓ Ｍ．Ｈａｎｓｅｎ著「Ｈａｎｓｅｎ Ｓｏｌｉｂｉｌｉｔｙ Ｐａｒａｍｅｔｅｒｓ；Ａ Ｕｓｅｒｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ（ＣＲＣ Ｐｒｅｓｓ，２００７）」に記載されている。また、コンピューターソフトウェア「Ｈａｎｓｅｎ Ｓｏｌｉｂｉｌｉｔｙ Ｐａｒａｍｅｔｅｒｓ ｉｎ Ｐｒａｃｔｉｃｅ（ＨＳＰｉＰ）」を用いることにより、化学構造からハンセン溶解度パラメータを計算することができる。本発明の溶媒（Ｄ１）は、Ｈａｎｓｅｎ Ｓｏｌｉｂｉｌｉｔｙ Ｐａｒａｍｅｔｅｒｓ；Ａ Ｕｓｅｒｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ，Ｓｅｃｏｎｄ Ｅｄｉｔｉｏｎの値を使用し、記載がないものに関しては、「Ｈａｎｓｅｎ Ｓｏｌｉｂｉｌｉｔｙ Ｐａｒａｍｅｔｅｒｓ ｉｎ Ｐｒａｃｔｉｃｅ（ＨＳＰｉＰ）」による計算値を用いる。

【0228】

溶媒（Ｄ１）は、例えば、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル（δｈ＝１０．０）、ジエチレングリコールヘキシルエーテル（δｈ＝１０．０）、乳酸ブチル（δｈ＝１０．２）、プロピレングリコールモノエチルエーテル（δｈ＝１０．５）、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（δｈ＝１０．６）、ダイアセトンアルコール（δｈ＝１０．８）、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル（δｈ＝１１．０）、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル（δｈ＝１１．２）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（δｈ＝１１．６）、ジエチレングリコールモノエチルエーテル（δｈ＝１２．２）、エチレングリコールモノブチルエーテル（δｈ＝１２．３）、３－メチル－１－ブタノール（δｈ＝１３．３）、乳酸エチル（δｈ＝１２．５）、ジエチレングリコールモノメチルエーテル（δｈ＝１２．６）、シクロヘキサノール（δｈ＝１３．５）、３－メトキシ－１－ブタノール（δｈ＝１３．６）、ベンジルアルコール（δｈ＝１３．７）、２－メチル－１－ブタノール（δｈ＝１４．３）、エチレングリコールモノエチルエーテル（δｈ＝１４．３）、２－ブタノール（δｈ＝１４．５）、乳酸メチル（δｈ＝１４．６）、フルフリルアルコール（δｈ＝１５．１）、１－ブタノール（δｈ＝１５．８）、エチレングリコールモノメチルエーテル（δｈ＝１６．４）、エタノール（δｈ＝１９．４）、水（δｈ＝４２．３）等が挙げられる。

【0229】

溶媒（Ｄ１）の水素結合項は、保存後の塗工性、混色の抑制の観点から、１０～４５ＭＰａ^１／２が好ましい。

【0230】

溶媒（Ｄ１）は、保存後の塗工性、混色の抑制の観点から、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、乳酸エチル、シクロヘキサノール、３－メトキシ－１－ブタノール、エチレングリコールモノエチルエーテル、１－ブタノール、乳酸メチル、及び水からなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましい。
より好ましくは、水を含み、更に、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、乳酸エチル、シクロヘキサノール、３－メトキシ－１－ブタノール、エチレングリコールモノエチルエーテル、乳酸メチル、及び１－ブタノールからなる群から選ばれる少なくとも１種を含む。

【0231】

溶媒（Ｄ１）の含有量は、保存後の塗工性、混色の抑制の観点から、組成物１００質量％中、０．０１～２０質量％が好ましく、０．０５～１５質量％がより好ましい。

【0232】

水の含有量は、保存後の塗工性の観点から、組成物１００質量％中、０．０１～２質量％が好ましく、０．０５～１質量％がより好ましい。

【0233】

（溶媒（Ｄ１）以外の溶媒（Ｄ２））
本発明の組成物は、溶媒（Ｄ）として、溶媒（Ｄ１）以外の溶媒（Ｄ２）（以下、単に溶媒（Ｄ２）ともいう）を含有できる。

【0234】

溶媒（Ｄ２）は、特に制限がなく、上述した溶媒を使用できる。

【0235】

溶媒（Ｄ２）は、プロピレングリコールジアセテート、３－メトキシブチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、３－エトキシプロピオン酸エチル、シクロペンタノン、３－メトキシプロピオン酸メチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、及び酢酸ブチルからなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましい。

【0236】

本発明の組成物は、環境面の観点から、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン等）である溶媒は、実質的に含有しないことが好ましい。実質的に含有しないとは、組成物中、５０質量ｐｐｍ以下であり、３０質量ｐｐｍ以下が好ましく、１０質量ｐｐｍ以下がより好ましい。

【0237】

［重合性化合物（Ｅ）］
本発明の組成物は、更に、重合性化合物（Ｅ）を含む。

【0238】

重合性化合物（Ｅ）は、特に制限がなく、公知の化合物を使用できる。例えば、重合性不飽和基を有するモノマー、オリゴマー等が挙げられる。重合性不飽和基は、エチレン性不飽和二重結合のビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基等が挙げられる。

【0239】

重合性化合物（Ｅ）は、例えば、ラクトン変性された重合性化合物、酸性基を有する重合性化合物、水酸基を有する重合性化合物、ウレタン結合を有する重合性化合物、アミン構造を有する重合性化合物、デンドリマー構造又はハイパーブランチ構造を有する重合性化合物、その他重合性化合物が挙げられる。

【0240】

重合性化合物（Ｅ）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。

【0241】

重合性化合物（Ｅ）の含有量は、組成物の不揮発分１００質量％中、１～８０質量％が好ましく、５～７０質量％がより好ましい。

【0242】

（ラクトン変性された重合性化合物）
ラクトン変性された重合性化合物は、分子内にラクトンで変性された構造を有する化合物である。ラクトン変性された重合性化合物は、トリメチロールエタン、ジトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエチスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセロール、トリメトロールメラミン等の多価アルコールと、（メタ）アクリル酸およびε－カプロラクトンもしくはその他のラクトン化合物をエステル化することにより得られる。

【0243】

ラクトン変性された重合性化合物の市販品は、例えば、日本化薬社製のＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡ－２０、ＤＰＣＡ－３０、ＤＰＣＡ－６０等が挙げられる。

【0244】

（酸性基を有する重合性化合物）
酸性基を有する重合性化合物は、例えば、多価アルコールと（メタ）アクリル酸との遊離水酸基含有ポリ（メタ）アクリレート類と、ジカルボン酸類とのエステル化物；多価カルボン酸と、モノヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類とのエステル化物等が挙げられる。

【0245】

上記多価アルコールは、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等が挙げられる。

【0246】

上記ジカルボン酸類は、例えば、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、グルタル酸、フタル酸イタコン酸等が挙げられる。

【0247】

上記多価カルボン酸は、例えば、トリメリット酸、ピロメリット酸等が挙げられる。
モノヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類は、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、２－ヒドロキシ－３－アクリロイロキシプロピルメタクリレート等が挙げられる。

【0248】

酸性基を有する重合性化合物の市販品は、東亞合成社製アロニックスＭ－５３００，Ｍ－５４００，Ｍ－５１０，Ｍ－５２０，Ｍ－５２１、共栄社化学社製のライトアクリレートＨＯＡ－ＭＳ（Ｎ），ＨＯＡ－ＨＨ（Ｎ），ＨＯＡ－ＭＰＥ（Ｎ），Ｐ－１Ａ（Ｎ）、ダイセル・オルネクス社製のβ－ＣＥＡ等が挙げられる。

【0249】

（水酸基を有する重合性化合物）
水酸基を有する重合性化合物は、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２，３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピルアクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ又はＰＯ変性（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ又はＰＯ変性ジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ポリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールＥＯ又はＰＯ変性ペンタ（メタ）アクリレート等のアクリル酸エステル、エポキシ化合物のエポキシ基と（メタ）アクリル酸のカルボキシル基を反応させたエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

【0250】

水酸基を有する重合性化合物の市販品は、例えば、日本化薬社製のＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ－１２８Ｈ，Ｒ－１６７、日油製のブレンマーＧＬＭ，ＧＬＭ－Ｒ，ＧＭＲ－Ｍ，ＧＭＲ－Ｒ，ＧＡＭ，ＧＡＭ－Ｒ，Ｇ－ＦＡ８０、東亞合成社製のアロニックスＭ－５７００，Ｍ－９２０、新中村化学社製のＮＫエステル７０１Ａ、共栄社化学社製のライトエステルＨＯＰ（Ｎ）、ＨＯＡ（Ｎ），ＨＯＰ－Ａ（Ｎ），ＨＯＢ（Ｎ），Ｇ－２０１Ｐ、エポキシエステルＭ－６００Ａ，４０ＥＭ，７０ＰＡ，２００ＰＡ，８０ＭＦＡ，３００２Ｍ（Ｎ），３００２Ａ（Ｎ），３０００Ａ、大阪ガスケミカル社製のＯＧＳＯＬ ＧＡ－５０６０Ｐ，ＧＡ－２８００等が挙げられる。

【0251】

（ウレタン結合を有する重合性化合物）
ウレタン結合を有する重合性化合物は、例えば、水酸基含有（メタ）アクリレートに多官能イソシアネートを反応させて得られるウレタン（メタ）アクリレートや、多価アルコールに多官能イソシアネートを反応させ、さらに水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させて得られるウレタン（メタ）アクリレート等が挙げられる。

【0252】

上記水酸基含有（メタ）アクリレートは、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールエチレンオキサイド（ＥＯ）変性ペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールプロピレンオキサイド（ＰＯ）変性ペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールカプロラクトン変性ペンタ（メタ）アクリレート、グリセロールジメタクリレート、２－ヒドロキシ－３－アクリロイルプロピルメタクリレート、エポキシ基含有化合物とカルボキシ（メタ）アクリレートの反応物、水酸基含有ポリオールポリアクリレート等が挙げられる。

【0253】

上記多官能イソシアネートは、例えば、芳香族ジイソシアネートであるトリレンジイソシアネート、ジフェニルメチレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、脂肪族ジイソシアネートであるトリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、脂環式ジイソシアネートであるイソホロンジイソシアネートや、これらのビュレット体、イソシアヌレート体、トリメチロールプロパンアダクト体等が挙げられる。

【0254】

ウレタン結合を有する重合性化合物は、現像性の観点から、更に、酸性基を有することもできる。酸性基は、例えば、スルホン酸基、カルボキシル基、リン酸基等を挙げられる。なかでも、カルボキシル基が好ましい。

【0255】

ウレタン結合を有する重合性化合物に酸性基を導入する方法は、例えば、まず、上記水酸基含有（メタ）アクリレートと上記多官能イソシアネートとを反応させる。次いで、生成物にカルボキシル基を有するメルカプト化合物を付加させる方法で合成できる。

【0256】

上記カルボキシル基を有するメルカプト化合物は、例えば、メルカプト酢酸、２－メルカプトプロピオン酸、３－メルカプトプロピオン酸、ｏ－メルカプト安息香酸、２－メルカプトニコチン酸、メルカプトコハク酸等が挙げられる。

【0257】

ウレタン結合を有する重合性化合物の市販品は、例えば、共栄社化学社製のＡＨ－６００、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＵＡ－５１０Ｈ、ＵＦ－８００１Ｇ、新中村化学社製のＵＡ－１１００Ｈ、Ｕ－６ＬＰＡ、ＵＡ－３３Ｈ、Ｕ－１０ＨＡ、Ｕ－１５ＨＡ、ダイセル・オルネクス社製のＥＢＥＣＲＹＬ１２９０、ＫＲＭ８４５２等が挙げられる。

【0258】

（アミン構造を有する重合性化合物）
アミン構造を有する重合性化合物が有するアミン構造は、１級アミン、２級アミン、３級アミンのいずれの構造でもよいが、２級又は３級アミンが好ましい。ただし、アミン構造を有する重合性化合物が有するアミン構造は、カルボニル基が窒素原子と直接結合しているアミド構造、イミド構造、及びウレタン構造は含まれない。

【0259】

アミン構造を有する重合性化合物は、例えば、トリス（アクリロイルオキシエチル）アミン、トリス（メタアクリロイルオキシエチル）アミン、トリス（２－ヒドロキシ－３－メタクリロイルオキシプロピル）アミンや、（メタ）アクリレート化合物（Ｘ）とアミン化合物（Ｙ）とのマイケル付加反応生成物等が挙げられる。

【0260】

（メタ）アクリレート化合物（Ｘ）は、例えば、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジグリセリントリ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンアルキレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンアルキレンオキサイド変性トリ及びテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールアルキレンオキサイド変性トリ及びテトラ（メタ）アクリレート、ジグリセリンアルキレンオキサイド変性トリ及びテトラ（メタ）アクリレート、ジペンエリスリトールアルキレンオキサイド変性テトラ、ペンタ及びヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
前記アルキレンオキサイド変性における、アルキレンオキサイド単位は、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド及びブチレンオキサイド等が挙げられる。
また、（メタ）アクリレート化合物（Ｘ）としては、酸性基を有する（メタ）アクリレート化合物も挙げられる。

【0261】

（メタ）アクリレート化合物（Ｘ）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。

【0262】

アミン化合物（Ｙ）は、例えば、ｎ－プロピルアミン、ｎ－ブチルアミン、ｎ－ヘキシルアミン、ベンジルアミン、アミノカプロン酸、モノエタノールアミン、２－（２－アミノエトキシ）エタノール、ｏ－アミノフェノール、ｍ－アミノフェノール、ｐ－アミノフェノール等の１級アミン；
ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン、シクロヘキシルアミン、モルフォリン、ピペリジン、１－メチルピペラジン、プロリン、Ｎ－メリルエタノールアミン、Ｎ－アセチルエタノールアミン、ジエタノールアミン、３－アニリンフェノール、４－アニリンフェノール等の２級アミン等が挙げられる。

【0263】

アミン化合物（Ｙ）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。

【0264】

（メタ）アクリレート化合物（Ｘ）とアミン化合物（Ｙ）とのマイケル付加反応生成物の製造方法は、特に制限はなく、公知の方法を使用できる。例えば、国際公開第２００６／０７５７５４号、特表２００８－５４５８５９号公報、特開２０１７－０６６３４７号公報等に記載の方法が挙げられる。

【0265】

アミン構造を有する重合性化合物は、酸性基又は／及び水酸基を有してもよい。酸性基又は／及び水酸基を導入する方法は、例えば、（メタ）アクリレート化合物（Ｘ）やアミン化合物（Ｙ）に、酸性基又は／及び水酸基を有する化合物を使用する方法や、マイケル付加反応後に、酸無水物を付加させる方法等が挙げられる。

【0266】

アミン構造を有する重合性化合物の市販品は、例えば、東亞合成社製のアロニックスＭＴ－３０４１，３０４２、ダイセル・オルネクス社製のＥＢＥＣＲＹＬ８０，７１００、アルケマ社製のＣＮ３７１ＮＳ，３７２，３７４，３８３，３８６等が挙げられる。

【0267】

アミン構造を有する重合性化合物は、更にウレタン結合を有することもできる。これにより、重合による化学架橋構造とともにウレタン結合同士やウレタン結合と基材の官能基間での分子間水素結合による物理的架橋構造を形成する。このウレタン結合部の分子間水素結合のもつ分子凝集エネルギーは、エーテル結合など他の有機構造がもつ凝集エネルギーに比べて大きい。そのため、膜は、ウレタン結合間の相互作用により柔軟で強固となり、耐性が向上すると推測する。

【0268】

ウレタン結合を導入する方法は、例えば、上述した（メタ）アクリレート化合物（Ｘ）と上述した水酸基を有するアミン化合物（Ｙ）とのマイケル付加反応生成物（前駆体）と、ポリイソシアネート化合物（Ｚ）とのウレタン反応により製造することができる。

【0269】

ポリイソシアネート化合物（Ｚ）は、例えば、ブタン－１，４－ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソプロピレンジイソシアネート、メチレンジイソシアネート、２，２，４－トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族構造を有するポリイソシアネート化合物；
シクロヘキサン－１，４－ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジメチルシクロヘキシルジイソシアネート、メチルシクロヘキシルジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン－４，４'－ジイソシアネート、１，３－ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン等の脂環式構造を有するポリイソシアネート化合物；
１，５－ナフチレンジイソシアネート、４，４'－ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４'－ジフェニルジメチルメタンジイソシアネート、４，４'－ジベンジルイソシアネート、ジアルキルジフェニルメタンジイソシアネート、テトラアルキルジフェニルメタンジイソシアネート、１，３－フェニレンジイソシアネート、１，４－フェニレンジイソシアネート、２，４－トルエンジイソシアネート、２，６－トルエンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ｍ－テトラメチルキシリレンジイソシアネート、４，４－ジフェニルメタンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ビスクロロメチルジフェニルメタンジイソシアネート、２，６－ジイソシアネート－ベンジルクロライド、ビス（イソシアネートメチル）ベンゼン等の芳香族構造を有するポリイソシアネート化合物が挙げられる。
また、これら化合物のビュレット体、イソシアヌレート体、アダクト体、アロファネート体等が挙げられる。

【0270】

ポリイソシアネート化合物（Ｚ）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。

【0271】

前記前駆体とポリイソシアネート化合物（Ｚ）とのウレタン反応の方法は、特に制限はなく、公知の方法を使用できる。例えば、特表２０１８－５１７７９７号公報等に記載の方法が挙げられる。

【0272】

（デンドリマー構造又はハイパーブランチ構造を有する重合性化合物）
デンドリマー構造を有する重合性化合物は、コアを構成する化学構造（以下、コア部ともいう）から、その外側へ規則的に分岐を繰り返し、その末端に重合性不飽和基が結合した化学構造を有するものであり、球状の高度に制御された化学構造及び分子量を有している。ハイパーブランチ構造は、デンドリマー構造と類似の化学構造を有する。

【0273】

デンドリマー構造又はハイパーブランチ構造を有する重合性化合物の市販品は、例えば、大阪有機化学工業社製のビスコート＃１０００ＬＴ（デンドリマー構造、平均アクリロイル基数１４）、Ｍｉｗｏｎ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製のＭｉｒａｍｅｒ ＳＰ－１１０６（デンドリマー構造、平均アクリロイル基数１８）、Ｍｉｒａｍｅｒ ＳＰ－１１０８（デンドリマー構造、平均アクリロイル基数１３）、ＳＡＲＴＯＭＥＲ社製のＣＮ２３０１（ハイパーブランチ構造、平均アクリロイル基数９）、ＣＮ２３０２（ハイパーブランチ構造、平均アクリロイル基数１６）、ＣＮ２３０３（ハイパーブランチ構造、平均アクリロイル基数６）、ＣＮ２３０４（ハイパーブランチ構造、平均アクリロイル基数１８）、Ｅｔｅｒｎａｌ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ社製のＥｔｅｒｃｕｒｅ６３６１－１００（ハイパーブランチ構造、平均アクリロイル基数８）、Ｅｔｅｒｃｕｒｅ６３６２－１００（ハイパーブランチ構造、平均アクリロイル基数１２）、Ｅｔｅｒｃｕｒｅ６３６３（ハイパーブランチ構造、平均アクリロイル基数１６）、ＥｔｅｒｃｕｒｅＤＲ－Ｅ５２２（ハイパーブランチ構造、平均アクリロイル基数１５）等が挙げられる。

【0274】

（その他重合性化合物）
その他重合性化合物は、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＰＯ変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性又はＰＯ変性トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性又はＰＯ変性トリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールＥＯ又はＰＯ変性ヘキサ（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、メチロール化メラミンの（メタ）アクリル酸エステル等の各種アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステル、スチレン、酢酸ビニル、エチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ビニルホルムアミド、アクリロニトリル等が挙げられる。

【0275】

その他重合性化合物の市販品は、例えば、日本化薬社製のＫＡＹＡＲＡＤ ＮＰＧＤＡ，ＰＥＧ４００ＤＡ，ＦＭ－４００，ＨＸ－２００，ＨＸ－６２０，Ｒ－５５１，Ｒ－７１２，Ｒ－６０４，Ｒ－６８４，ＧＰＯＤ－３０３，ＴＭＰＴＡ，Ｔ－１４２０（Ｔ），ＲＰ－１０４０，ＤＰＥＡ－１２，Ｄ－３１０、東亞合成社製のアロニックスＭ－１０１Ａ，Ｍ－１０２，Ｍ－１１１，Ｍ－１１３，Ｍ－１２０，Ｍ－１４０，Ｍ－２０８，Ｍ－２１１Ｂ，Ｍ－２２０，Ｍ－２２５，Ｍ－２７０，Ｍ－２４０，Ｍ－３０９，Ｍ－３１０，Ｍ－３２１，Ｍ－３５０，Ｍ－３６０，Ｍ－４０８，Ｍ－４６０，Ｍ－９３０、大阪有機化学工業社製のビスコート＃１５０，＃１５５，＃１６０，＃１９２，＃ＭＴＧ，＃２００，＃１９６，＃１９５、＃２３０、＃２６０、＃３１０、＃７００ＨＶ、＃２９５、大阪ガスケミカル社製のＯＧＳＯＬ ＥＡ－０２００，ＥＡ－０３００、Ｍｉｗｏｎ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄ社製のＭｉｒａｍｅｒ ＨＲ６０６０，６１００，６２００、新中村化学工業社製のＮＫエステルＡ－ＨＤ－Ｎ，Ａ－ＮＰＧ，Ａ－２００，Ａ－４００，ＡＰＧ－２００，ＡＰＧ－４００，Ａ－ＤＣＰ，ＡＢＥ－３００，Ａ－ＢＰＥ－４，Ａ－ＢＰＥ－１０，Ａ－ＴＭＰＴ，Ａ－ＴＭＰＴ－９ＥＯ，Ａ－ＧＬＹ－３Ｅ，Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ，Ａ－ＴＭＭＴ，ＡＴＭ－３５Ｅ，ＡＤ－ＴＭＰ等が挙げられる。

【0276】

また、水酸基及び酸性基を有する重合性化合物、水酸基及びウレタン結合を有する重合性化合物等も挙げられる。

【0277】

重合性化合物（Ｅ）は、アミン構造を有する重合性化合物、水酸基を有する重合性化合物、及びデンドリマー構造又はハイパーブランチ構造を有する重合性化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましい。

【0278】

アミン構造を有する重合性化合物、水酸基を有する重合性化合物、及びデンドリマー構造又はハイパーブランチ構造を有する重合性化合物の合計含有量は、重合性化合物（Ｅ）１００質量％中、１０～１００質量％が好ましく、２０～１００質量％がより好ましい。

【0279】

［重合開始剤（Ｆ）］
本発明の組成物は、更に、重合開始剤（Ｆ）を含む。

【0280】

重合開始剤（Ｆ）は、特に制限がなく、公知の化合物を用いることができる。例えば、光又は熱の作用によってラジカルを発生させて、ラジカル重合反応を開始又は促進させる化合物が挙げられる。
光によってラジカルを発生させる重合開始剤（以下、単に光重合開始剤ともいう）は、紫外線から可視領域の光線に対してラジカルを発生させる化合物が好ましい。
熱によってラジカルを発生させる重合開始剤（以下、単に熱重合開始剤ともいう）は、熱及び光の作用によってラジカルを発生させる化合物であってもよい。

【0281】

光重合開始剤は、例えば、４－フェノキシジクロロアセトフェノン、４－ｔ－ブチル－ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２－（ジメチルアミノ）－１－［４－（４－モルホリノ）フェニル］－２－（フェニルメチル）－１－ブタノン、２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノン等のアセトフェノン系化合物；
２，４，６－トリクロロ－ｓ－トリアジン、２－フェニル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－メトキシフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－トリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－ピペロニル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－スチリル－ｓ－トリアジン、２－（ナフト－１－イル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－メトキシ－ナフト－１－イル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２，４－トリクロロメチル－（ピペロニル）－６－トリアジン、２，４－トリクロロメチル－（４'－メトキシスチリル）－６－トリアジン等のトリアジン系化合物；
１，２－オクタンジオン，１－〔４－（フェニルチオ）フェニル－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）〕、エタノーン，１－〔９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール３－イル〕－，１－（Ｏ－アセチルオキシム）等のオキシムエステル系化合物；
ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、ジフェニル－２，４，６－トリメチルベンゾイルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィン系化合物；
９，１０－フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアントラキノン等のキノン系化合物；ボレート系化合物；カルバゾール系化合物等が挙げられる。

【0282】

市販品では、アセトフェノン系化合物として、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製のＯｍｎｉｒａｄ９０７，３６９Ｅ，３７９ＥＧ，１２７，１８４，１１７３，２９５９、アシルホスフィン系化合物として、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製のＯｍｎｉｒａｄ８１９，ＴＰＯ、オキシムエステル系化合物として、ＢＡＳＦジャパン社製のＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ－０１，０２，０３，０４，０５、ＡＤＥＫＡ社製のアデカアークルズＮ－１９１９，ＮＣＩ－７３０，８３１Ｅ，９３０、常州強力新材料社製のＴＲＯＮＬＹ ＴＲ－ＰＢＧ－３０１，３０４，３０５，３０９，３１４，３４５，３５８，３８０，３６５，６１０，３０５４，３０５７、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製のＯｍｎｉｒａｄ１３１２，１３１４，１３１６，サムヤンコーポレーション社製のＳＰＩ－０２，０３，０４，０５，０６，０７、ダイトーケミックス社製のＤＦＩ－０２０，３０６，ＥＯＸ－０１等が挙げられる。また、特開２００７－２１０９９１号公報、特開２００９－１７９６１９号公報、特開２０１０－０３７２２３号公報、特開２０１０－２１５５７５号公報、特開２０１１－０２０９９８号公報、国際公開第２０１５／０３６９１０号、特表２０１９－５０７１０８号公報、特表２０１９－５２８３３１号公報、国際公開第２０２１／１７５８５５号、特表２０２２－５１１５５２４号公報、国際公開２０２３／０８５０５６号、国際公開２０２３／０８５０７２号等に記載の化合物も挙げられる。これらの中でも、オキシムエステル系化合物が好ましい。オキシムエステル系化合物は、オキシムエステル基を２つ以上有する化合物がより好ましい。

【0283】

以下、オキシムエステル系化合物の具体例を示す。なお、本発明はこれらに限定されない。

【0284】

【化21】

【0285】

【化22】

【0286】

【化23】

【0287】

熱重合開始剤は、例えば、ベンゾピナコール、１，２－ジメトキシ－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１，２－ジメトキシ－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１，２－ジフェノキシ－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１，２－ジメトキシ－１，１，２，２－テトラ（４－メチルフェニル）エタン、１，２－ジフェノキシ－１，１，２，２－テトラ（４－メトキシフェニル）エタン、１，２－ビス（トリメチルシロキシ）－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１，２－ビス（トリエチルシロキシ）－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１，２－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシロキシ）－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１－ヒドロキシ－２－トリメチルシロキシ－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１－ヒドロキシ－２－トリエチルシロキシ－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１－ヒドロキシ－２－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシロキシ－１，１，２，２－テトラフェニルエタン等のピナコール系化合物；
２，２'－アゾビス（４－メトキシ２，４－ジメチルバレロニトリル）、２，２'－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）、ジメチル－２，２'－アゾビス（２－メチルプロピオネート）、２，２'－アゾビス（２－メチルブチロニトリル）、１，１'－アゾビス（シクロヘキサン－１－カルボニトリル）、２，２'－アゾビス［Ｎ－（２－プロペニル）２－メチルプロピオンアミド］、１－［（１－シアノ－１－メチルエチル）アゾ］ホルムアミド、２，２'－アゾビス（Ｎ－ブチル－２－メチルプロピオンアミド）、２，２'－アゾビス（Ｎ－シクロヘキシル－２－メチルプロピオンアミド）等のアゾ系化合物；
メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、３，３，５－トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、１，１－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシ）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、１，１－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、２，２－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシ）ブタン、過酸化コハク酸、過酸化ベンゾイル等の有機過酸化物等が挙げられる。

【0288】

重合開始剤（Ｆ）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。

【0289】

重合開始剤（Ｆ）の含有量は、組成物の不揮発分１００質量％中、０．１～２０質量％が好ましく、０．５～１０質量％がより好ましい。

【0290】

［熱架橋性化合物（Ｇ）］
本発明の組成物は、熱架橋性化合物（Ｇ）を含むことが好ましい。これにより、加熱で熱架橋性化合物（Ｇ）が架橋し、膜の耐性が向上する。なお、本明細書では、熱架橋性化合物（Ｇ）は、樹脂（Ｂ）、重合性化合物（Ｅ）には含まれない。

【0291】

熱架橋性化合物（Ｇ）は、熱架橋性基を有する化合物であれば、特に制限がなく、公知の化合物を使用できる。例えば、エポキシ基を有する化合物、ブロックイソシアネート基を有する化合物、オキセタニル基を有する化合物、メチロール基を有する化合物、フェノール基を有する化合物、アルコキシアルキル基を有する化合物等が挙げられる。これらの中でも、エポキシ基を有する化合物、及びブロックイソシアネート基を有する化合物からなる群から選ばれる１種以上を含むことが好ましい。

【0292】

熱架橋性化合物（Ｇ）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。

【0293】

熱架橋性化合物（Ｇ）の含有量は、組成物の不揮発分１００質量％中、０．５～４０質量％が好ましく、１～３０質量％がより好ましい。

【0294】

（エポキシ基を有する化合物（Ｇ１））
熱架橋性化合物（Ｇ）は、エポキシ基を有する化合物（Ｇ１）を含むことが好ましい。これにより、加熱でエポキシ基が架橋し、耐性がより向上する。

【0295】

エポキシ基とは、３員環の環状エーテル構造を有する基で、脂環式エポキシ基も含まれる。エポキシ基を有する化合物は、例えば、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル等のビスフェノールのポリグリシジルエーテル化合物；
１，４－ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル化合物；
エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の多価アルコールにアルキレンオキサイドを付加したポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル化合物；
３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４－エポキシ－１－メチルシクロヘキシル－３，４－エポキシ－１－メチルヘキサンカルボキシレート、６－メチル－３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－６－メチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４－エポキシ－３－メチルシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシ－３－メチルシクロヘキサンカルボキシレート、３，４－エポキシ－５－メチルシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシ－５－メチルシクロヘキサンカルボキシレート、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル－５，５－スピロ－３，４－エポキシ）シクロヘキサン－メタジオキサン、ビス（３，４－エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４－エポキシ－６－メチルシクロヘキシルカルボキシレート、メチレンビス（３，４－エポキシシクロヘキサン）、エチレンビス（３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、１－エポキシエチル－３，４－エポキシシクロヘキサン、ブタンテトラカルボン酸テトラ（３，４－エポキシシクロヘキシルメチル）修飾ε－カプロラクトン等の分子内に２個以上の３，４－エポキシシクロヘキシル基を有する化合物；
２，２－ビス（ヒドロキシメチル）－１－ブタノールの１，２－エポキシ－４－（２－オキシラニル）シクロヘキサン付加物等が挙げられる。

【0296】

エポキシ基を有する化合物（Ｇ１）の市販品は、例えば、油化シェルエポキシ社製のエピコート８０７，８１５，８２５，８２７，８２８，１９０Ｐ，１９１Ｐ、三井化学社製のＴＥＣＨＭＯＲＥ ＶＧ３１０１Ｌ、日本化薬社製のＥＰＰＮ－２０１，５０１Ｈ，５０２Ｈ、ＥＯＣＮ－１０２Ｓ，１０３Ｓ，１０４Ｓ，１０２０、ジャパンエポキシレジン社製のエピコート１００４，１２５６、ＪＥＲ１０３２Ｈ６０，１５７Ｓ６５，１５７Ｓ７０，１５２，１５４、ダイセル化学工業社製のセロキサイド２０２１、ＥＨＰＥ－３１５０、エポリードＧＴ４０１、ナガセケムテックス社製のデナコールＥＸ－２１１，２１２，２５２，３１３，３１４，３２１，４１１，４２１，５１２，５２１，６１１，６１２，６１４，６１４Ｂ，６２２，７１１，７２１、日産化学工業社製のＴＥＰＩＣ－Ｌ，Ｈ，Ｓ、ＤＩＣ社製のＥＰＩＣＬＯＮ ８３０，８４０，８５０，８６０，１０５０，３０５０，４０５０，Ｎ－６６０、Ｎ－６７０，Ｎ－７４０，Ｎ－７７０，Ｎ８６５，ＨＰ－７２００，ＨＰ－４７００，ＨＰ－４７７０，ＨＰ－５０００，ＨＰ－６０００，ＨＰ－９５００等が挙げられる。

【0297】

エポキシ基を有する化合物（Ｇ１）は、分子内に２～５０個のエポキシ基を有する化合物が好ましい。

【0298】

エポキシ基を有する化合物（Ｇ１）のエポキシ当量は、５０～４００ｇ／ｅｑが好ましく、１００～２００ｇ／ｅｑがより好ましい。なお、エポキシ当量とは、１当量のエポキシ基を含むエポキシ化合物の質量で定義される。

【0299】

エポキシ基を有する化合物（Ｇ１）は、下記一般式（１５）で表される化合物を含むことがより好ましい。

【0300】

一般式（１５）

【化24】

【0301】

一般式（１５）中、Ｒはｍ価のアルコールからｍ個の水酸基を除いた基を表し、ｍは１～６、ｎは１～３０の整数を表す。

【0302】

Ｒは、ｍ価のアルコールからｍ個の水酸基を除いた基を表す。
ｍ価のアルコールからｍ個の水酸基を除いた基は、炭素数２～２０のアルキル基が好ましく、直鎖状、分岐状、もしくは環状、又はそれらが結合した基であってもよい。炭素数２～２０のアルキル基は、例えば、エチル基、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、２，２－ジメチルプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、３，３－ジメチルブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、イソオクチル基、２－エチルヘキシル基、ノニル基、イソノニル基、デシル基、イソデシル基、ウンデシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、シクロペンチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルメチル基等が挙げられる。これらの中でも、炭素数３～１２の分岐のアルキル基がより好ましい。
ｍは１～６、ｎは１～３０の整数を表す。
ｍが２以上の場合、一般式（１５）中のそれぞれのカッコ内の基におけるｎは同一でもよく、異なっていてもよい。

【0303】

一般式（１５）で表される化合物は、例えば、２，２－ビス（ヒドロキシメチル）－１－ブタノールの１，２－エポキシ－４－（２－オキシラニル）シクロヘキサン付加物が挙げられる。市販品は、ダイセル社製のＥＨＰＥ－３１５０、ＥＨＰＥ－３１５０ＣＥ等が挙げられる。

【0304】

エポキシ基を有する化合物（Ｇ１）の酸価は、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましい。

【0305】

エポキシ基を有する化合物（Ｇ１）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。

【0306】

エポキシ基を有する化合物（Ｇ１）の含有量は、熱架橋性化合物（Ｇ）１００質量％中、０．５～２０質量％が好ましく、１～１５質量％がより好ましい。

【0307】

（ブロックイソシアネート基を有する化合物（Ｇ２））
熱架橋性化合物（Ｇ）は、ブロックイソシアネート基を有する化合物（Ｇ２）を含むことが好ましい。

【0308】

ブロックイソシアネート基を有する化合物（Ｇ２）は、イソシアネート基を有する化合物のイソシアネート基を、ブロック剤で保護した化合物である。前記ブロックイソシアネート基のブロック剤の脱離温度は、６０～１６０℃が好ましく、７０～１３０℃がより好ましく、８０～１００℃が特に好ましい。

【0309】

ブロックイソシアネート基を有する化合物（Ｇ２）は、イソシアネート基を有する化合物とブロック剤を公知の方法で反応させて合成する。例えば、特開昭５２－１１６４２０号公報、特開昭６０－１４９５７２号公報、特開平７－３１９５３号公報、特開平１０－３０６１３６号公報、特開２０１２－０１２５６７号公報等に記載の方法が挙げられる。

【0310】

ブロック剤は、オキシム化合物、ラクタム化合物、フェノール化合物、アルコール化合物、アミン化合物、活性メチレン化合物、ピラゾール化合物、メルカプタン化合物、イミダゾール化合物、及びイミド化合物からなる群から選ばれる１種以上が好ましく、オキシム化合物、フェノール化合物、活性メチレン化合物、ピラゾール化合物がより好ましく、低温ポストベーク後の膜耐性の観点から、活性メチレン化合物が特に好ましい。活性メチレン化合物の脱離温度、又はエステル交換反応の温度は、８０～１１０℃と低く、低温でも十分に反応し耐性が向上する。
活性メチレン化合物は、例えば、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジブチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセチルアセトン等が挙げられ、マロン酸ジエチル、マロン酸ジブチルが好ましい。

【0311】

イソシアネート基を有する化合物は、例えば、ブタン－１，４－ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソプロピレンジイソシアネート、メチレンジイソシアネート、２，２，４－トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族構造を有する化合物；
シクロヘキサン－１，４－ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジメチルシクロヘキシルジイソシアネート、メチルシクロヘキシルジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン－４，４'－ジイソシアネート、１，３－ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン等の脂環式構造を有する化合物；
１，５－ナフチレンジイソシアネート、４，４'－ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４'－ジフェニルジメチルメタンジイソシアネート、４，４'－ジベンジルイソシアネート、ジアルキルジフェニルメタンジイソシアネート、テトラアルキルジフェニルメタンジイソシアネート、１，３－フェニレンジイソシアネート、１，４－フェニレンジイソシアネート、２，４－トルエンジイソシアネート、２，６－トルエンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ｍ－テトラメチルキシリレンジイソシアネート、４，４－ジフェニルメタンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ビスクロロメチルジフェニルメタンジイソシアネート、２，６－ジイソシアネート－ベンジルクロライド、ビス（イソシアネートメチル）ベンゼン等の芳香族構造を有する化合物が挙げられる。また、これら化合物のビュレット体、イソシアヌレート体、アダクト体、アロファネート体、及びこれら化合物とポリオールの反応物等が挙げられる。

【0312】

イソシアネート基を有する化合物は、脂肪族構造を有する化合物、又は脂環式構造を有する化合物のビュレット体、イソシアヌレート体、アダクト体、アロファネート体が好ましい。

【0313】

ブロックイソシアネート基を有する化合物（Ｇ２）は、例えば、以下の化合物が挙げられる。以下の構造式中、Ｘは、ブロックイソシアネート基を表す。なお、本発明はこれらに限定されない。

【0314】

【化25】

【0315】

上記化合物のＸ（ブロックイソシアネート基）は、例えば、以下の（Ｘ－１）～（Ｘ－６）で示す構造が挙げられる。以下の構造中、＊は結合部を表す。なお、本発明はこれらに限定されない。

【0316】

【化26】

【0317】

ブロックイソシアネート基を有する化合物（Ｇ２）の市販品で脂肪族構造を有する化合物は、例えば、旭化成社製のデュラネートＳＢＮ－７０Ｄ，ＳＢＢ－７０Ｐ，ＳＢＦ－７０Ｅ，ＴＰＡ－Ｂ８０Ｅ，１７Ｂ－６０Ｐ，ＭＦ－Ｂ６０Ｂ，Ｅ４０２－Ｂ８０Ｂ，ＭＦ－Ｋ６０Ｂ，ＷＭ４４－Ｌ７０Ｇ、三井化学社製のタケネートＢ－８８２、Ｂａｘｅｎｄｅｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製のＢＩ７９６０，ＢＩ７９６１，ＢＩ７９８２，ＢＩ７９９１，ＢＩ７９９２等；
脂環式構造を有する化合物は、例えば、三井化学社製のタケネートＢ－８４６Ｎ、東ソー社製のコロネートＢＩ－３０１，２５０７，２５５４、Ｂａｘｅｎｄｅｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製のＢＩ７９５０，ＢＩ７９５１，ＢＩ７９９０等；
芳香族構造を有する化合物は、例えば、三井化学社製のタケネートＢ－８３０，Ｂ－８１５Ｎ等が挙げられる。

【0318】

ブロックイソシアネート基を有する化合物（Ｇ２）のブロックイソシアネート基の数は、１～２０個が好ましく、２～１５個がより好ましい。

【0319】

ブロックイソシアネート基を有する化合物（Ｇ２）の重量平均分子量は、３００～５，０００が好ましく、５００～３，０００がより好ましい。

【0320】

ブロックイソシアネート基を有する化合物（Ｇ２）の酸価は、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましい。

【0321】

ブロックイソシアネート基を有する化合物（Ｇ２）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。

【0322】

ブロックイソシアネート基を有する化合物（Ｇ２）の含有量は、熱架橋性化合物（Ｇ）１００質量％中、０．５～２０質量％が好ましく、１～１５質量％がより好ましい。

【0323】

［シランカップリング剤（Ｈ）］
本発明の組成物は、シランカップリング剤（Ｈ）を含むことが好ましい。これにより、シランカップリング剤（Ｈ）が、基材表面の官能基や組成物に含まれる他の成分の官能基と反応し、膜耐性が向上する。

【0324】

シランカップリング剤（Ｈ）は、加水分解性基及びそれ以外の官能基を有する化合物である。前記加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応及び縮合反応の少なくともいずれかの反応によってシロキサン結合を生じる基である。前記加水分解性基は、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基等が挙げられる。これらの中でも、アルコキシ基が好ましい。アルコキシ基は、反応性の観点から、メトキシ基、エトキシ基が好ましい。
また、前記それ以外の官能基は、例えば、エポキシ基、アミノ基、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、イソシアネート基、イソシアヌレート基、メルカプト基、オキセタニル基、スチリル基、ウレイド基等が挙げられる。
なお、本明細書では、シランカップリング剤（Ｈ）は、樹脂（Ｂ）、重合性化合物（Ｅ）には含まれない。

【0325】

シランカップリング剤（Ｈ）は、例えば、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（ビニルベンジル）－２－アミノエチル－３－アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、トリス－（トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート、３－メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ｐ－スチリルトリメトキシシラン、３－ウレイドプロピルトリアルコキシシラン等が挙げられる。

【0326】

シランカップリング剤（Ｈ）の市販品は、例えば、信越シリコーン社製のＫＢＭ－３０２、ＫＢＭ－４０２、ＫＢＭ－４０３、ＫＢＥ－４０２、ＫＢＥ－４０３、ＫＢＭ－４８０３、ＫＢＭ－６０２、ＫＢＭ－６０３、ＫＢＭ－９０３、ＫＢＥ－９１０３Ｐ、ＫＢＭ－５７３、ＫＢＭ－６８０３、ＫＢＭ－１００３、ＫＢＥ－１００３、ＫＢＭ－５０２、ＫＢＭ－５０３、ＫＢＥ－５０２、ＫＢＥ－５０３、ＫＢＭ－５８０３、Ｘ－１２－１０４８、Ｘ－１２－１０５０、ＫＢＥ－９００７Ｎ、ＫＢＭ－９６５９、ＫＢＭ－８０２、ＫＢＭ－８０３、ＫＢＭ－１０４３、ＫＢＥ－５８５Ａ、Ｘ－１２－１０４８、Ｘ－１２－５０等が挙げられる。

【0327】

また、シランカップリング剤（Ｈ）は、ポリマータイプであってもよい。ポリマータイプは、ポリシロキサンタイプ、有機ポリマータイプが挙げられる。

【0328】

ポリシロキサンタイプは、主鎖にポリシロキサン骨格を有するポリマーに、前記加水分解性基及び前記それ以外の官能基が結合する化合物である。ポリシロキサンタイプの市販品は、信越シリコーン社製のＫＲ－５１３、ＫＲ－５１６、ＫＲ－５１７、Ｘ－４１－１８０５、Ｘ－４１－１８１０等が挙げられる。

【0329】

有機ポリマータイプは、主鎖が有機構造である有機ポリマーに、前記加水分解性基及び前記それ以外の官能基が結合したシランカップリング剤（Ｈ）である。有機ポリマータイプの市販品は、信越シリコーン社製のＸ－１２－９８１５、Ｘ－１２－９８４５、Ｘ－１２－１１５４、Ｘ－１２－９７２Ｆ、Ｘ－１２－１１５９Ｌ等が挙げられる。

【0330】

シランカップリング剤（Ｈ）は、下記一般式（１６）で表される化合物を含むことが好ましい。一般式（１６）で表される化合物は、ウレタン結合を有するため、ウレタン結合間や感光性組成物に含まれる他の成分の官能基と水素結合を形成し、強固な膜を形成する。また、ウレタン結合は柔軟性を有するため、強固でありながらも柔軟性を有する膜となると推測する。

【0331】

一般式（１６）

【化27】

【0332】

一般式（１６）中、３つのＲ_１は、それぞれ独立して水素原子、又は炭素数１～４のアルキル基を表し、Ｒ_２は、炭素数１～８のアルキレン基を表し、Ｑは、下記一般式（Ｑ－１）～（Ｑ－４）のいずれかで表される基であり、ｎは、１～１０の整数を表す。

【0333】

【化28】

【0334】

一般式（Ｑ－１）中、Ｒ_３は、炭素数１～８のアルキレン基を表す。一般式（Ｑ－１）～（Ｑ－４）中、Ｒ_４は、それぞれ独立して水素原子、又はメチル基を表す。＊は、酸素原子との結合手である。

【0335】

一般式（１６）中、３つのＲ_１は、メチル基が好ましい。

【0336】

一般式（１６）中、Ｑは、一般式（Ｑ－１）～（Ｑ－３）が好ましい。

【0337】

シランカップリング剤（Ｈ）の分子量（式量）、又は重量平均分子量は、１００～３，０００が好ましく、１５０～１，５００がより好ましい。

【0338】

シランカップリング剤（Ｈ）の酸価は、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましい。

【0339】

シランカップリング剤（Ｈ）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。

【0340】

シランカップリング剤（Ｈ）の含有量は、組成物の不揮発分１００質量％中、０．１～１０質量％が好ましい。

【0341】

［チオール系連鎖移動剤（Ｉ）］
本発明の組成物は、チオール系連鎖移動剤（Ｉ）を含むことが好ましい。これにより、露光工程で、酸素による重合阻害を受けにくいチイルラジカルが発生し光硬化が進み、向上すると推測する。

【0342】

チオール系連鎖移動剤（Ｉ）は、例えば、チオフェノール、２－メルカプトベンゾチアゾール、２－メルカプトベンゾイミダゾール、２－メルカプトベンゾオキサゾール、２－メルカプト－５－メトキシベンゾチアゾール、２－メルカプト－５－ベンゾイミダゾール、ブタンチオール、オクタンチオール、１－ドデカンチオール、３－メルカプトプロピオン酸メチル、３－メルカプトプロピオン酸エチル、３－メルカプトプロピオン酸オクチル、３－メルカプトプロピオン酸２－エチルヘキシル等の単官能チオール化合物；
２－メルカプトエタノール、１－チオグリセロール、チオグリコール酸、２－メルカプト安息香酸、３－メルカプト安息香酸、４－メルカプトニコチン酸、２－メルカプトプロピオン酸、３－メルカプトプロピオン酸、４－メルカプトブタン酸、チオグリコール酸オクチル、メルカプトこはく酸、１１－メルカプトウンデカン酸、２－メルカプトエタンスルホン酸等の水酸基又は酸性基を有する単官能チオール化合物；
ヘキサンジチオール、デカンジチオール、１，４－ブタンジオールビスチオプロピオネート、１，４－ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）、トリメルカプトプロピオン酸トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシア、１，４－ジメチルメルカプトベンゼン、２、４、６－トリメルカプト－ｓ－トリアジン、２－（Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノ）－４，６－ジメルカプト－ｓ－トリアジン等の多官能チオール化合物が挙げられる。

【0343】

チオール系連鎖移動剤（Ｉ）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。

【0344】

チオール系連鎖移動剤（Ｉ）の含有量は、組成物の不揮発分１００質量％中、０．５～１０質量％が好ましい。

【0345】

［染料（Ｊ）］
本発明の組成物は、染料（Ｊ）を含有できる。

【0346】

染料（Ｊ）は、特に制限はなく、公知の化合物を用いることができる。例えば、酸性染料、直接染料、塩基性染料、造塩染料、油溶性染料、分散染料、反応染料、媒染染料、建染染料、硫化染料等が挙げられる。また、これらの誘導体、レーキ化合物、造塩化合物、多量体等も挙げられる。

【0347】

酸性染料は、スルホン酸やカルボン酸等の酸性基を有することが好ましい。また、酸性染料と、四級アンモニウム塩化合物、三級アミン化合物、二級アミン化合物、又は一級アミン化合物等の含窒素化合物との塩である造塩化合物が好ましい。また、これらの官能基を有する樹脂成分と酸性染料との塩である造塩化合物も好ましい。また、造塩化合物は、スルホンアミド化してスルホン酸アミド化合物に変性することで耐性に優れた感光性組成物を得やすい。
また、酸性染料とオニウム塩基を有する化合物との造塩化合物も、耐性に優れるため好ましい。なお、オニウム塩基を有する化合物は、カチオン性基を有する樹脂が好ましい。

【0348】

塩基性染料は、そのままでも使用できるが、有機酸や過塩素酸又はその金属塩と塩を形成する造塩化合物が好ましい。塩基性染料の造塩化合物は、耐性や、顔料との親和性が優れているため好ましい。また、塩基性染料の造塩化合物で、カウンタイオンとしてはたらくアニオン成分は、有機スルホン酸、有機硫酸、フッ素基含有リンアニオン化合物、フッ素基含有ホウ素アニオン化合物、シアノ基含有窒素アニオン化合物、ハロゲン化炭化水素基を有する有機酸の共役塩基を有するアニオン化合物、酸性染料とを造塩した造塩化合物が好ましい。なお、造塩化合物は、分子中に重合性不飽和基を含有すると耐性がより向上する。

【0349】

染料（Ｊ）の化学構造は、例えば、アゾ系染料、ジスアゾ系染料、アゾメチン系染料（インドアニリン系染料、インドフェノール系染料など）、ジピロメテン系染料、キノン系染料（ベンゾキノン系染料、ナフトキノン系染料、アントラキノン系染料、アントラピリドン系染料など）、カルボニウム系染料（ジフェニルメタン系染料、トリフェニルメタン系染料、キサンテン系染料、アクリジン系染料など）、キノンイミン系染料（オキサジン系染料、チアジン系染料など）、アジン系染料、ポリメチン系染料（オキソノール系染料、メロシアニン系染料、アリーリデン系染料、スチリル系染料、シアニン系染料、スクアリリウム系染料、クロコニウム系染料など）、キノフタロン系染料、フタロシアニン系染料、ナフタロシアニン系染料、サブフタロシアニン系染料、ペリノン系染料、インジゴ系染料、チオインジゴ系染料、キノリン系染料、ニトロ系染料、ニトロソ系染料、ローダミン系染料、及びそれらの金属錯体系染料等から選ばれる染料に由来する色素構造が挙げられる。

【0350】

これらの中でも、色相、色分離性、色むらなどの色特性の観点から、アゾ系染料、キサンテン系染料、シアニン系染料、トリフェニルメタン系染料、アントラキノン系染料、ジピロメテン系染料、スクアリリウム系染料、キノフタロン系染料、フタロシアニン系染料、ナフタロシアニン系染料、サブフタロシアニン系染料から選ばれる色素に由来する色素構造が好ましく、キサンテン系染料、シアニン系染料、トリフェニルメタン系染料、アントラキノン系染料、ジピロメテン系染料、フタロシアニン系染料から選ばれる色素に由来する色素構造がより好ましい。

【0351】

染料（Ｊ）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。

【0352】

染料（Ｊ）の含有量は、組成物の不揮発分１００質量％中、０．５～６０質量％が好ましく、１～５０質量％がより好ましい。

【0353】

［顔料誘導体（Ｋ）］
本発明の組成物は、顔料誘導体（Ｋ）を含有できる。顔料誘導体（Ｋ）を使用すると顔料（Ａ）を安定的に分散できる。

【0354】

顔料誘導体（Ｋ）は、特に制限はなく、公知の化合物を用いることができる。例えば、顔料の一部が、酸性基、塩基性基、中性基等で置換された構造を有する化合物が挙げられる。具体的には、スルホ基、カルボキシ基、リン酸基などの酸性置換基を有する化合物、およびこれらのアミン塩や、スルホンアミド基や末端に３級アミノ基などの塩基性置換基を有する化合物、フェニル基やフタルイミドアルキル基などの中性置換基を有する化合物が挙げられる。
顔料は、例えば、ジケトピロロピロール化合物、フタロシアニン化合物、アントラキノン化合物、キナクリドン化合物、ジオキサジン化合物、ペリノン化合物、ペリレン化合物、チアジンインジゴ化合物、トリアジン化合物、ベンズイミダゾロン化合物、ベンゾイソインドール化合物、イソインドリン化合物、イソインドリノン化合物、キノフタロン化合物、ナフトール化合物、スクアリリウム化合物、スレン化合物、ナフタロシアニン化合物等が挙げられる。

【0355】

顔料誘導体（Ｋ）は、上述した顔料（Ａ）の微細化時に添加するか、後述する顔料（Ａ）の分散処理時に添加することが好ましい。顔料誘導体（Ｋ）の平均一次粒子径は、５～２００ｎｍが好ましい。

【0356】

顔料誘導体（Ｋ）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。

【0357】

顔料誘導体（Ｋ）の含有量は、顔料（Ａ）１００質量部に対して、１～５０質量部が好ましく、２～４０質量部がより好ましい。

【0358】

［紫外線吸収剤（Ｌ）］
本発明の感光性組成物は、紫外線吸収剤（Ｌ）を含有できる。

【0359】

紫外線吸収剤（Ｌ）は、特に制限がなく、公知の化合物を使用できる。例えば、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、トリアジン化合物、共役ジエン化合物、メチルジベンゾイル化合物、クマリン化合物、アクリルニトリル化合物、ベンゾチアゾール化合物、サリシレート化合物等が挙げられる。

【0360】

ベンゾフェノン化合物は、例えば、２，４－ジヒドロキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン－５－スルホン酸三水和物、２－ヒドロキシ－４－オクチロキシベンゾフェノン、４－ベンジロキシ－２－ヒドロキシベンゾフェノン、２，２'－ジヒドロキシ－４，４'－ジメトキシベンゾフェノン、２，２'，４，４'－テトラヒドロキシベンゾフェノン、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、４，４'－ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４'－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２－アミノベンゾフェノン等が挙げられる。市販品は、例えば、ＢＡＳＦジャパン社製のユビナールＡ，３０４９，３０５０、ＵＶＡ－９３５ＬＨ、ＡＤＥＫＡ社製のアデカスタブ１４１３等が挙げられる。
これらの中でも、２，２'，４，４'－テトラヒドロキシベンゾフェノン、４，４'－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましい。

【0361】

ベンゾトリアゾール化合物は、例えば、２－（５－ｔｅｒｔ－ブチル－２－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、ベンゼンプロパン酸及び３－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－５－（１，１－ジメチルエチル）－４－ヒドロキシ（Ｃ７－９側鎖及び直鎖アルキル）のエステル化合物、２－［５－クロロ－（２Ｈ）－ベンゾトリアゾール－２－イル］－４－メチル－６－（ｔｅｒｔ－ブチル）フェノール、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４，６－ビス（１－メチル－１－フェニルエチル）フェノール、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－６－（１－メチル－１－フェニルエチル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール、２－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール、２，２'－メチレンビス［６－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェノール］、２－［２－ヒドロキシ－５－［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］フェニル］－２Ｈ－ベンゾトリアゾール等が挙げられる。市販品は、例えば、ＢＡＳＦジャパン社製のチヌビンＰＳ，９９－２，３２６，３８４－２，９００，９２８，９７０，１１３０、ＵＶＡ－９０３ＫＴ、ＡＤＥＫＡ社製のアデカスタブＬＡ－３１ＲＧ，ＬＡ－３１Ｇ等が挙げられる。

【0362】

トリアジン化合物は、例えば、２－（４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－ヒドロキシフェニルと［（Ｃ１０－Ｃ１６（主としてＣ１２－Ｃ１３）アルキルオキシ）メチル］オキシランとの反応生成物、２，４－ビス［２－ヒドロキシ－４－ブトキシフェニル］－６－（２，４－ジブトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－［４－［（２－ヒドロキシ－３－（２－エチル）ヘキシル）オキシ］－２－ヒドロキシフェニル］－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス－［｛４－（４－エチルヘキシルオキシ）－４－ヒドロキシ｝－フェニル］－６－（４－メトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－［２－（２－エチルヘキサノイルオキシ）エトキシ］－フェノール、２－（２－ヒドロキシ－４－［１－オクチルオキシカルボニルエトキシ］フェニル）－４，６－ビス（４－フェニルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２－イル）－５－［（ヘキシル）オキシ］－フェノール等が挙げられる。市販品は、例えば、ＢＡＳＦジャパン社製のチヌビン４００，４０５，４０６，４７７，４７９、ＡＤＥＫＡ社製のアデカスタブＬＡ－４６，ＬＡ－Ｆ７０等が挙げられる。

【0363】

共役ジエン化合物は、例えば、大東化学社製のＵＶ５０３等が挙げられる。

【0364】

メチルジベンゾイル化合物は、例えば、１，３－ジフェニル－１，３－プロパンジオン、１－（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－３－（４－メトキシフェニル）－１，３－プロパンジオン、１，３－ビス（４－メトキシフェニル）－１，３－プロパンジオン等が挙げられる。

【0365】

クマリン化合物は、例えば、４－ヒドロキシクマリン、７－ヒドロキシクマリン等が挙げられる。

【0366】

紫外線吸収剤（Ｌ）は、単独又は２種類以上を併用して使用できる。

【0367】

紫外線吸収剤（Ｌ）の含有量は、組成物の不揮発分１００質量％中、０．１～５質量％が好ましい。

【0368】

［その他成分（Ｍ）］
本発明の組成物は、上記以外の成分（以下、その他成分（Ｍ）ともいう）を含有できる。その他成分（Ｍ）は、例えば、重合禁止剤、酸化防止剤、貯蔵安定剤、増感剤、酸発生剤、塩発生剤、硬化促進剤、硬化触媒、半導体ナノ結晶、半導体材料、有機エレクトロルミネッセンス材料、絶縁性材料等が挙げられる。その他成分（Ｍ）の含有量は、本発明の効果を損なわない範囲において、適宜設定することができる。

【0369】

［特定金属元素の含有量］
本発明の組成物は、組成物に含まれるＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｆｅ、及びＣｒ（以下、特定金属元素ともいう）の合計含有量が、５００質量ｐｐｍ以下であることが好ましい。

【0370】

特定金属元素の合計量が、上記範囲内の組成物であると、経時保存後でも分散安定性に優れる。特定金属元素の含有量は、誘導結合プラズマ発光分光分析（ＩＣＰ）によって、測定できる。

【0371】

［組成物の製造方法］
本発明の組成物は、上述の各成分を混合して調整できる。調整に際しては、各成分を一括配合してもよいし、各成分を溶媒（Ｄ）や重合性化合物（Ｅ）に溶解や分散した後に逐次配合してもよい。
例えば、顔料（Ａ）、樹脂（Ｂ）、及び溶媒（Ｄ）等を加えて分散処理を行うことで、分散体を製造する。その後、前記分散体に、レベリング剤（Ｃ）、重合性化合物（Ｅ）、重合開始剤（Ｆ）等を配合し混合することで製造できる。なお、各材料を配合するタイミングは、任意である。また、分散工程を複数回行うこともできる。

【0372】

分散処理を行う分散機は、例えば、２本ロールミル、３本ロールミル、ボールミル、横型サンドミル、縦型サンドミル、アニュラー型ビーズミル、又はアトライター等が挙げられる。

【0373】

組成物中の顔料（Ａ）の平均分散粒子径（二次粒子径）は、３０～２００ｎｍが好ましく、４０～２００ｎｍがより好ましい。

【0374】

平均分散粒子径（二次粒子径）の測定方法は、例えば、動的光散乱法（ＦＦＴパワ－スペクトール法）を採用した日機装社のマイクロトラックＵＰＡ－ＥＸ１５０を用い、粒子透過性を吸収モ－ド、粒子形状を非球形とし、Ｄ５０粒子径を平均径とする。測定用の希釈溶剤は分散に使用した有機溶剤をそれぞれ用い、超音波で処理したサンプルについてサンプル調整直後に測定するとバラツキが少ない結果が得られやすく好ましい。

【0375】

組成物は、遠心分離、焼結フィルタやメンブレンフィルタによる濾過等の手段にて、５μｍ以上の粗大粒子、好ましくは１μｍ以上の粗大粒子、さらに好ましくは０．５μｍ以上の粗大粒子、および混入した塵の除去を行うことが好ましい。本発明の組成物は、実質的に０．５μｍ以上の粒子を含まないことが好ましく、０．３μｍ以下の粒子を含まないことがより好ましい。

【0376】

<膜>
本発明の膜は、上述した組成物を用いて形成されたものである。膜はパターンを形成した膜が好ましいが、平坦膜として用いることもできる。

【0377】

［膜の製造方法］
膜の製造方法は、特に限定されず、公知の方法を使用できる。本発明の膜は、環境の観点から、１５０℃以下で形成された膜が好ましく、１３０℃以下がより好ましい。また、加熱を１５０℃以下で行うことにより、画像表示装置の発光光源として有機ＥＬ素子を用いた場合や、イメージセンサの光電変換膜が有機素材の場合、プラスチックフィルム等の熱に弱い基材を用いた場合等に、これらの性能も維持することができる。なお、加熱温度は、５０℃以上が好ましい。

【0378】

〔塗工工程〕
基材は、例えば、ガラス、樹脂、シリコーン等の材質で構成された基板が挙げられる。前記ガラスは、無色透明であってもよく、用途によってはブルーガラスのような着色ガラスを用いてもよい。前記樹脂は、ポリエステルテレフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリプロピレン、ポリエチレンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。基材の厚さは、０．０１～１０ｍｍが好ましい。
これらの基材上には有機発光層が形成されてもよい。また、基材には、ＣＣＤ、ＣＭＯＳ等の撮像素子が形成されていてもよい。また、基材上には、必要に応じて、上部との層との密着改良、物質の拡散防止、表面の平坦化のために下塗り層を設けてもよい。

【0379】

塗工方法は、公知の方法を使用できる。例えば、滴下法、スリットコート法、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法、流延塗布法、インクジェット法、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、オフセット印刷等が挙げられる。

【0380】

膜の厚さは、目的に応じて適宜調節できる。膜の厚さは、０．０５～２０．０μｍが好ましく、０．３～１０．０μｍがより好ましい。

【0381】

〔乾燥工程〕
基材に塗工した膜の乾燥は、特に限定されず、公知の方法を使用できる。例えば、真空乾燥装置を使用した減圧乾燥法、ホットプレート、ＩＲオーブン、コンベクション
オーブン等を使用した加熱乾燥法、及びこれらを組み合わせた方法等が挙げられる。

【0382】

乾燥温度・時間は、適宜調節できる。乾燥温度は５０～１３０℃程度が好ましく、乾燥時間は１０秒～５分程度が好ましい。

【0383】

次に、パターンを形成する。パターンを形成する方法は、フォトリソグラフィー法やドライエッチング法が挙げられ、フォトリソグラフィー法が好ましい。なお、平坦膜として使用する場合は、パターンを形成する工程を行わなくてよく、塗工後、必要に応じて乾燥や全面を露光する。

【0384】

以下、パターンを形成する方法について詳細に説明する。

【0385】

フォトリソグラフィー法でパターンを形成する場合、基板上に本発明の組成物を塗工して形成した層を、乾燥した後、マスクを介してパターン状に露光（露光工程）し、未露光部分をアルカリ現像により除去（現像工程）後、パターンを加熱処理（ポストベーク工程）する。

【0386】

〔露光工程〕
露光工程は、塗工で形成した層を、例えば、ステッパー等の露光装置を用い、マスクを介して特定のパターンを露光する。これにより、露光部分を硬化することができる。露光に用いる活性エネルギー線は、例えば、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）等の紫外線が挙げられる。また、波長３００ｎｍ以下の光を用いることもできる。波長３００ｎｍ以下の光としては、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦ線（波長１９３ｎｍ）などが挙げられる。特定の波長の光を照射して使用する場合には、光学フィルタ利用することもできる。
また、露光に際しては、光を連続的に照射して露光してもよく、短時間（例えば、ミリ秒レベル以下）のサイクルで光の照射と休止を繰り返して露光（パルス露光）してもよい。
また、複数の活性エネルギー線の併用や複数回に分けて露光することもできる。

【0387】

〔現像工程〕
次に、アルカリ現像処理を行うことで、未露光部分の層がアルカリ水溶液に溶出し、硬化部分のみが残りパターン状の膜が得られる。
アルカリ水溶液は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ－〔５．４．０〕－７－ウンデセン等のアルカリ性化合物を含む水溶液が挙げられる。これらのアルカリ性化合物は、２種以上併用することができる。
アルカリ水溶液の濃度は、０．００１～１０質量％が好ましく、０．０１～１質量％がより好ましい。アルカリ現像液のｐＨは、１１～１３が好ましく、１１．５～１２．５がより好ましい。適度なｐＨで使用するとパターンの荒れや剥離を抑制し、現像後の残膜率が向上する。
アルカリ水溶液は、アルカリ性化合物と水以外に、界面活性剤や有機溶剤を含有することもできる。
現像方法は、例えば、ディップ法、スプレー法、パドル法等が挙げられる。現像温度は１５～４０℃が好ましい。なお、アルカリ現像後は、純水で洗浄することが好ましい。

【0388】

〔ポストベーク工程〕
現像後、加熱処理（ポストベーク）を行う。ポストベークにより、膜の耐性が向上する。
加熱温度は、１５０℃以下が好ましく、１３０℃以下がより好ましい。時間は、２分間～２時間程度が好ましい。

【0389】

<光学フィルタ>
本発明の光学フィルタは、上記膜を有する。光学フィルタは、例えば、カラーフィルタ、ブラックマトリックス、遮光フィルタ、反射防止フィルタ、赤外線カットフィルタ、赤外線透過フィルタ、マイクロレンズ等に用いられる。本発明の光学フィルタの製造は、上述の膜と同様の方法で製造できる。

【0390】

<固体撮像素子>
本発明の固体撮像素子は、上記光学フィルタを有する。
固体撮像素子は、本発明の光学フィルタを備え、固体撮像素子として機能すれば特に制限されないが、例えば、以下のような構成が挙げられる。

【0391】

基材上に、固体撮像素子（ＣＣＤイメージセンサ、ＣＭＯＳイメージセンサ等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコーン等からなる転送電極を有し、フォトダイオードおよび転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口した遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面およびフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコーン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、本発明の光学フィルタ（カラーフィルタ）を有する構成である。さらに、デバイス保護膜上であって光学フィルタの下（基材に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、光学フィルタ上に集光手段を有する構成等であってもよい。また、フィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各着色画素を形成する硬化膜が埋め込まれた構造を有していてもよい。この場合の隔壁は、各着色画素に対して低屈折率であることが好ましい。
本発明の固体撮像素子を備えた撮像装置は、例えば、デジタルカメラ、撮像機能を有する電子機器（携帯電話、スマートフォン等）、車載カメラ、監視カメラ等様々な用途に使用できる。

【0392】

<画像表示装置>
本発明の画像表示装置は、上記光学フィルタを有する。画像表示装置は、例えば、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等が挙げられる。
画像表示装置に用いる形態は、画像表示装置として機能すればよく、特に制限されない。例えば、「次世代液晶ディスプレイ技術（内田龍男著、（株）工業調査会、１９９４年発行）」に記載されている構成等が挙げられる。
画像表示装置の定義や各画像表示装置の詳細については、例えば、「電子ディスプレイデバイス（佐々木昭夫著、（株）工業調査会、１９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹順章著、産業図書（株）、平成元年発行）」等に記載されている。

【0393】

<赤外線センサ>
本発明の赤外線センサは、上記光学フィルタを有する。
赤外線センサに用いる形態は、本発明の光学フィルタを備え、赤外線センサとして機能すれば特に制限されないが、例えば、以下のような構成が挙げられる。

【0394】

基板上に、固体撮像素子（ＣＣＤイメージセンサ、ＣＭＯＳイメージセンサ等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコーン等からなる転送電極を有する。これらフォトダイオード及び転送電極上に、フォトダイオードの受光部のみ開口した遮光膜を有する。この遮光膜上に、デバイス保護膜を有し、更にこのデバイス保護膜上に、本発明の光学フィルタを有する。さらに、デバイス保護膜上であって光学フィルタの下（基材に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、光学フィルタ上に集光手段を有する構成等であってもよい。

【0395】

図１は、本発明の光学フィルタを備えた赤外線センサの構成例を示す概略断面図である。図１に示す赤外線センサは１００、固体撮像素子１１０を備える。

【0396】

固体撮像素子１１０上に設けられている撮像領域は、赤外線カットフィルタ１１１とカラーフィルタ１１２とを組み合せて構成されている。

【0397】

赤外線カットフィルタ１１１は、可視光領域の光（例えば、波長４００～７００ｎｍの光）を透過し、赤外領域の光（例えば、波長８００～１，３００ｎｍの光）を遮蔽する。

【0398】

カラーフィルタ１１２は、可視光領域における特定波長の光を透過及び吸収する画素が形成されたカラーフィルタであって、例えば、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の画素が形成されたカラーフィルタ等が用いられる。

【0399】

赤外線透過フィルタ１１３と固体撮像素子１１０との間には、赤外線透過フィルタ１１３を透過した波長の光を透過可能な樹脂膜１１４が配置されている。

【0400】

赤外線透過フィルタ１１３は、可視光遮蔽性を有し、かつ、特定波長の赤外線を透過させるフィルタである。赤外線透過フィルタ１１３は、例えば、波長４００～８３０ｎｍの光を遮光し、波長９００～１，３００ｎｍの光を透過させることが好ましい。

【0401】

カラーフィルタ１１２、及び赤外線透過フィルタ１１３の入射光ｈ側には、マイクロレンズ１１５が配置されている。マイクロレンズ１１５を覆うように平坦化膜１１６が形成されている。

【0402】

図１に示す形態では、樹脂膜１１４が配置されているが、樹脂膜１１４に代えて赤外線透過フィルタ１１３を形成してもよい。

【0403】

この赤外線センサによれば、画像情報を同時に取り込めるため、動きを検知する対象を認識したモーションセンシング等が可能である。また、この赤外線センサによれば、距離情報を取得できるため、３Ｄ情報を含んだ画像の撮影等も可能である。更に、この赤外線センサは、生体認証センサとしても使用できる。

【実施例0404】

以下、実施例で本発明をより具体的に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されない。なお、「部」は「質量部」、「％」は「質量％」である。また、本発明で不揮発分もしくは不揮発分濃度は、１１０℃で３時間オーブン静置後の質量残分をいう。

【0405】

実施例に先立ち、各測定方法について説明する。

【0406】

（樹脂の平均分子量）
樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）は、ＲＩ検出器を装備したゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定した。装置としてＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ（東ソー社製）を用い、分離カラムを２本直列に繋ぎ、両方の充填剤には「ＴＳＫ－ＧＥＬ ＳＵＰＥＲ ＨＺＭ－Ｎ」を２連でつなげて使用し、オーブン温度４０℃、溶離液としてテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶液を用い、流速０．３５ｍｌ／ｍｉｎで測定した。サンプルは１質量％の上記溶離液からなる溶媒に溶解し、２０マイクロリットル注入した。分子量は、ポリスチレン換算値である。

【0407】

（樹脂の酸価）
樹脂溶液０．５～１ｇに、アセトン８０ｍｌ及び水１０ｍｌを加えて攪拌して均一に溶解させ、０．１ｍｏｌ／ＬのＫＯＨ水溶液を滴定液として、自動滴定装置（「ＣＯＭ－５５５」平沼産業社製）を用いて滴定し、酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）を測定した。そして、樹脂溶液の酸価と樹脂溶液の不揮発分濃度から、樹脂の不揮発分あたりの酸価を算出した。

【0408】

（樹脂のアミン価）
樹脂のアミン価は、ＡＳＴＭ Ｄ ２０７４の方法に準拠し、測定した全アミン価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）を不揮発分換算した値である。

【0409】

（水の含有量測定）
カールフィッシャー滴定装置（三菱化学社製 容量滴定式水分測定装置ＫＦ－０６型）を用いて、組成物に含まれる水の含有量を測定した。

【0410】

<顔料（Ａ）の製造>
（近赤外線吸収顔料（Ａ－１３））
トルエン４００部に、１，８－ジアミノナフタレン４０．０部、３，５－ジメチルシクロヘキサノン３２．２部、ｐ－トルエンスルホン酸一水和物０．０８７部を混合し、窒素ガスの雰囲気中で加熱攪拌し、３時間還流させながら反応させた。反応中に生成した水は共沸蒸留により反応系中から除去した。反応終了後、トルエンを蒸留して得られた暗茶色固体をアセトンで抽出し、アセトンとエタノールの混合溶媒から再結晶することにより精製した。得られた茶色固体をトルエン２４０部とｎ－ブタノール１６０部の混合溶媒に溶解させた。次いで、３，４－ジヒドロキシ－３－シクロブテン－１，２－ジオン１３．８部を加えて、窒素ガスの雰囲気中で加熱撹拌し、８時間還流させながら反応させた。反応中に生成した水は共沸蒸留により反応系中から除去した。
反応終了後、溶媒を蒸留し、得られた反応混合物を攪拌しながら、ヘキサン２００部を加えた。得られた黒茶色沈殿物を濾別した後、順次ヘキサン、エタノール、及びアセトンで洗浄を行い、減圧下で乾燥させ、下記化学式（１７）で表される近赤外線吸収顔料（Ａ－１３）を得た。得られた近赤外線吸収顔料（Ａ－１３）５０部、塩化ナトリウム５００部、ジエチレングリコール６０部をステンレス製ガロンニーダー（井上製作所社製）中に仕込み、６０℃で１２時間混練した。次に、混練した混合物を温水に投入し、約８０℃に加熱しながら１時間攪拌してスラリー状として、濾過、及びイオン交換水での洗浄を複数回繰り返した後、８０℃で一昼夜乾燥させ粉砕することにより、微細化した近赤外線吸収顔料（Ａ－１３）を得た。

【0411】

化学式（１７）

【化29】

【0412】

（近赤外線吸収顔料（Ａ－１４））
反応容器中で、フタロニトリル２６部、２，３―ジシアノナフタレン１４３部、ｎ－アミルアルコール８９０部、ＤＢＵ（１，８－Ｄｉａｚａｂｉｃｙｃｌｏ［５．４．０］ｕｎｄｅｃ－７－ｅｎｅ）１３７部と三塩化アルミニウム３４部を混合攪拌し、昇温後１３６℃で５時間還流させながら反応させた。攪拌したまま３０℃まで冷却した反応溶液を、メタノール５，０００部、イオン交換水１０，０００部からなる混合溶媒中へ攪拌しながら注入し、青色のスラリーを得た。このスラリーを濾過し、メタノール２，０００部、イオン交換水４，０００部からなる混合溶媒で洗浄、乾燥して、化合物ａを得た。
次いで、反応容器中、濃硫酸１，５００部に１４０部の化合物ａを氷浴下にて加え、１時間攪拌を行い反応させた。続けて、この硫酸溶液を３℃の冷水１，０００部に注入し、生成した析出物をろ過、水洗、２．５％水酸化ナトリウム水溶液洗浄、水洗の順で処理を行い、乾燥して、化合物ｂを得た。
Ｎ－メチルピロリドン２００部に５部のジフェニルリン酸を添加し、十分に攪拌混合を行った後、５０℃に加熱した。この溶液に、１０部の化合物ｂを少しずつ添加した後、９０℃で１２０分攪拌し反応させた。反応の終点確認は、例えば、濾紙に反応液を滴下して、にじみがなくなったところを終点とした。続けて、この反応溶液をイオン交換水２，０００部に注入し、生成した析出物を濾過およびイオン交換水での洗浄を複数回繰り返した後、乾燥して、下記化学式（１８）で表される化合物の混合物（質量比率は、ｎ１：ｎ２：ｎ３：ｎ４＝７：１９：５９：１５）である近赤外線吸収顔料（Ａ－１４）を得た。次いで近赤外線吸収顔料（Ａ－１３）と同様の方法で、微細化した。

【0413】

化学式（１８）

【化30】

【0414】

（近赤外線吸収顔料（Ａ－１５））
国際公開第２０１９／０５８８８２号の記載に従い、下記化学式（１９）で表される近赤外線吸収顔料（Ａ－１５）を得た。次いで近赤外線吸収顔料（Ａ－１３）と同様の方法で、微細化した。なお、化学式（１９）中、Ｐｈはフェニル基を表す。

【0415】

化学式（１９）

【化31】

【0416】

（近赤外線吸収顔料（Ａ－１６））
反応容器にアニリン１０．７部、ブロモベンゼン１２０部、及びジアザビシクロオクタン２５．７部を加え、攪拌した。その後、四塩化チタンの１ｍｏｌ／ｌトルエン溶液９５．２部を滴下した。滴下後、インジゴ１０．０部を加え、１０時間還流した。反応終了後、メタノールを加え、濾過し、緑色粉末を得た。これをジクロロメタンと水で分液を行い、有機層を濃縮することで、化合物ｃを１４．６部得た。
反応容器中で、化合物ｃを１３．５部、ビス（２、４－ペンタンジオナト）亜鉛（ＩＩ）を９．０部、テトラヒドロフラン１２０部を混合攪拌し、昇温後４０℃で５時間攪拌した。攪拌したまま３０℃まで冷却した反応溶液を、メタノール５００部へ攪拌しながら注入し、青色のスラリーを得た。このスラリーを濾過し、メタノール５００部で洗浄後、イオン交換水５００部で複数回洗浄し、乾燥して、下記化学式（２０）で表される化合物の混合物（質量比率は２量体：３量体：４量体＝８１：１７：２）である近赤外線吸収顔料（Ａ－１６）を得た。次いで近赤外線吸収顔料（Ａ－１３）と同様の方法で、微細化した。

【0417】

化学式（２０）

【化32】

【0418】

<樹脂（Ｂ）の製造>
（樹脂（Ｂ１－１）溶液）
ガス導入管、温度計、コンデンサー、攪拌機を備えた反応容器に、１－チオグリセロール１０８部、ピロメリット酸無水物１７４部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下、ＰＧＭＡｃともいう）６５０部、触媒としてモノブチルスズオキシド０．２部を仕込み、窒素ガスで置換した後、１２０℃で５時間反応させた（第一工程）。酸価の測定で９５％以上の酸無水物がハーフエステル化していることを確認した。次に、第一工程で得られた化合物を不揮発分換算で１６０部、２－ヒドロキシプロピルメタクリレート２００部、エチルアクリレート２００部、ｔｅｒｔ－ブチルアクリレート１５０部、２－メトキシエチルアクリレート２００部、メチルアクリレート２００部、メタクリル酸５０部、ＰＧＭＡｃ６６３部を仕込み、反応容器内を８０℃に加熱して、２，２'－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）１．２部を添加し、１２時間反応した（第二工程）。不揮発分測定によりモノマーが９５％以上反応したことを確認した。最後に、第二工程で得られた化合物の５０％ＰＧＭＡｃ溶液を５００部、２－メタクリロイルオキシエチルイソシアネート２７．０部、ヒドロキノン０．１部を仕込み、反応を行った。ＩＲにてイソシアネート基に基づく２，２７０ｃｍ^－１のピークの消失を確認するまで反応を行った（第三工程）。冷却後、不揮発分が３０質量％となるようにＰＧＭＡｃを添加して、樹脂（Ｂ１－１）溶液を得た。酸価６８ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量１３，０００であった。

【0419】

（樹脂（Ｂ１－２）溶液）
ガス導入管、温度計、コンデンサー、攪拌機を備えた反応容器に、メタクリル酸１０部、メチルメタクリレート１００部、ｉｓｏ－ブチルメタクリレート７０部、ベンジルメタクリレート２０部、ＰＧＭＡｃ５０部を仕込み、窒素ガスで置換した。反応容器内を５０℃に加熱撹拌し、３－メルカプト－１，２－プロパンジオール１２部を添加した。９０℃に昇温し、２，２'－アゾビスイソブチロニトリル０．１部をＰＧＭＡｃ９０部に加えた溶液を添加しながら７時間反応した。不揮発分測定によりモノマーが９５％以上反応したことを確認した。次いで、反応容器にピロメリット酸無水物１９部、ＰＧＭＡｃ５０部、シクロヘキサノン５０部、触媒として１，８－ジアザビシクロ－［５．４．０］－７－ウンデセン０．４部を追加し、１００℃で７時間反応させた。酸価の測定で９８％以上の酸無水物がハーフエステル化していることを確認し反応を終了した。冷却後、不揮発分が３０質量％となるようＰＧＭＡｃを添加して、樹脂（Ｂ１－２）溶液を得た。酸価７０ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量８，５００であった。

【0420】

（樹脂（Ｂ１－３）溶液）
ガス導入管、コンデンサー、攪拌翼、及び温度計を備え付けた反応容器に、メチルメタクリレート４０部、ｎーブチルメタクリレート１０部、触媒としてテトラメチルエチレンジアミン１３．２部を仕込み、窒素を流しながら５０℃で１時間撹拌し、反応容器内を窒素置換した。次に、開始剤としてブロモイソ酪酸エチル９．３部、触媒として塩化第一銅５．６部、ＰＧＭＡｃ１００部を仕込み、窒素気流下で、１１０℃まで昇温して第一ブロック（Ｂブロック）の重合を開始した。４時間重合後、重合溶液をサンプリングして不揮発分測定を行い、不揮発分から換算して重合転化率が９８％以上であることを確認した。次に、この反応装置に、ＰＧＭＡｃ５０部、第二ブロック（Ａブロック）モノマーとしてジメチルアミノエチルメタクリレート４０部、メタクリロイルオキシエチルベンジルジメチルアンモニウムクロライド１０部を投入し、１１０℃・窒素雰囲気下を保持したまま撹拌し、反応を継続した。投入から２時間後、重合溶液をサンプリングして不揮発分測定を行い、不揮発分から換算して第二ブロック（Ａブロック）の重合転化率が９８％以上であることを確認した。冷却後、不揮発分が３０質量％になるようにＰＧＭＡｃを添加して、樹脂（Ｂ１－３）溶液を調製した。アミン価１６９．８ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

【0421】

（樹脂（Ｂ１－４）溶液）
国際公開第２０２２／１７２６０７号の実施例Ａ３に従って、樹脂（Ｂ１－４）を合成し、不揮発分が３０質量％になるようにＰＧＭＡｃを添加した。アミン価６７ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量５，６００であった。

【0422】

（樹脂（Ｂ２－１）溶液）
攪拌装置、滴下ロート、コンデンサー、温度計及びガス導入管を備えた反応容器に、１００部のＰＧＭＡｃを入れた後、窒素置換しながら攪拌し、７８℃に昇温した。次に、カレンズＭＯＩ－ＤＥＭ（昭和電工社製のマロン酸－２－［［［［（２－メチル－１－オキソ－２－プロペニル）オキシ］エチル］アミノ］カルボニル］－１，３－ジエチルエステル）２５．２部、２－ヒドロキシエチルメタクリレート３１．２部、ジシクロペンタニルメタクリレート３７．５部、メタクリル酸２０．７部、及びメチルメタクリレート２７．０部の混合物と、１２．０部の２，２'－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）（重合開始剤）を５０部のＰＧＭＡｃに添加し溶解させたものをそれぞれ滴下ロートから反応容器中に滴下した。滴下終了後、７８℃で３時間攪拌し反応させた。
その後、不揮発分が３０質量％になるようにＰＧＭＡｃを添加して、樹脂（Ｂ２－１）溶液を調整した。酸価７４ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量８，０００であった。

【0423】

（樹脂（Ｂ２－２）溶液）
撹拌装置、温度計、滴下ロート、還流冷却器を備えた反応容器にリンゴ酸ジエチル１９０．２部、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェノール０．１７部、ジラウリン酸ジブチル錫０．３３部を加え撹拌し、１５～２０℃に冷却した。その後、温度を１５～２０℃に維持し、撹拌しながら２－アクリロイルオキシエチルイソシアネート１４１．１部を滴下ロートから滴下した。滴下終了後、２５℃で１３時間撹拌し反応させ、化合物ａを得た。
次に、攪拌装置、滴下ロート、コンデンサー、温度計及びガス導入管を備えた反応容器に、１５０部のＰＧＭＡｃを入れた後、窒素置換しながら攪拌し、７８℃に昇温した。化合物ａ１４８．８部、カレンズＭＯＩ－ＢＰ（昭和電工社製の２－［（３，５－ジメチルピラゾリル）カルボニルアミノ］エチルメタクリレート）２４．７部、２－ヒドロキシエチルメタクリレート２５．５部、２－エチルヘキシルアクリレート８．６部と、１７．４部の２，２'－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）（重合開始剤）を混合し、滴下ロートから反応容器に滴下した。滴下終了後、７８℃で３時間攪拌し反応させた後、０．２部の１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－ウンデセン－７を投入し、更に７８℃で３０分間撹拌した。
次に、無水コハク酸９．９部、ナフテン酸リチウム（触媒）０．５部を投入し、７８℃で１時間撹拌した。
その後、不揮発分が３０質量％になるようにＰＧＭＡｃを添加して、樹脂（Ｂ２－２）溶液を調整した。酸価４４ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量１２，５００であった。

【0424】

（樹脂（Ｂ２－３）溶液）
攪拌装置、滴下ロート、コンデンサー、温度計及びガス導入管を備えた反応容器に、１００部のＰＧＭＡｃを入れた後、窒素置換しながら攪拌し、９０℃に昇温した。次に、２－（アセトアセトキシ）エチルメタクリレート２０．７部、メタクリル酸２６．７部、ジシクロペンタニルメタクリレート５２．６部の混合物と、５．０部の２，２'－アゾビス（イソ酪酸）ジメチルを３０部のＰＧＭＡｃに添加し溶解させたものをそれぞれ滴下ロートから反応容器中に滴下した。滴下終了後、９０℃で６時間攪拌し反応させた。
その後、４０℃まで冷却し、４－メトキシフェノール０．１２部、３，４－エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート１７．６部、トリフェニルホスフィン４．７部を投入し、１１０℃まで昇温させ、１０時間撹拌し反応させた．
その後、不揮発分が３０質量％になるようにＰＧＭＡｃを添加して、樹脂（Ｂ２－３）溶液を調整した。酸価１０３ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量１４，３００であった。

【0425】

（樹脂（Ｂ２－４）溶液）
攪拌装置、滴下ロート、コンデンサー、温度計及びガス導入管を備えた反応容器に、２００部のＰＧＭＡｃを加えた後、窒素置換しながら撹拌し、１０５℃まで昇温した。次に、３－メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン１０６．９部、メタクリル酸４０．８部、及びメチルメタクリレート１２５部の混合物と、２７．３部の２，２'－アゾビス（イソ酪酸）ジメチルを加えたものを、滴下ロートから反応容器中に滴下した。滴下終了後、１０５℃で撹拌しながら２時間反応させた。
その後、不揮発分が３０質量％になるようにＰＧＭＡｃを加え、樹脂（Ｂ２－４）溶液を調整した。酸価９９ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量７，１００であった。

【0426】

（樹脂（Ｂ２－５）溶液）
攪拌装置、滴下ロート、コンデンサー、温度計及びガス導入管を備えた反応容器に、１００部のＰＧＭＡｃを入れた後、窒素置換しながら攪拌し、９０℃に昇温した。次に、ｔｅｒｔ－ブチルメタクリレート３５部、２－（アセトアセトキシ）エチルメタクリレート５部、Ｎ－ベンジルマレイミド１０部、２－ヒドロキシエチルメタクリレート２０部、メタクリル酸１７．１部、及びｔ－ブチルパーオキシ－２－エチルヘキサノエート（重合開始剤）２部の混合物と、０．６部のｎ－ドデシルメルカプタンを２０部のＰＧＭＡｃに混合したものをそれぞれ滴下ロートから反応容器中に滴下した。滴下終了後、３０分間９０℃を保持した後、１１５℃まで昇温し、９０分間攪拌し反応させた。
その後、不揮発分が３０質量％になるようにＰＧＭＡｃを添加して、樹脂（Ｂ２－５）溶液を調整した。酸価９８ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量１９，５００であった。

【0427】

（樹脂（Ｂ３－１）溶液）
温度計、冷却管、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付けた反応容器に、ＰＧＭＡｃ１００部を入れ、容器に窒素ガスを注入しながら１２０℃に加熱して、同温度で滴下管よりグリシジルメタクリレート５６．８６部、ジシクロペンタニルメタクリレート６６．０９部、及びスチレン３１．２５部の混合物と、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル５．０部のＰＧＭＡｃに溶解させたものを２．５時間かけて滴下し重合反応を行った。 滴下終了後、１２０℃で更に２時間撹拌し反応させた。次に、反応容器内を空気置換し、ＡＡ２８．８２部、トリスジメチルアミノメチルフェノール０．３部及びハイドロキノン０．３部を投入し、１２０℃で５時間撹拌し反応させた。
更に、テトラヒドロ無水フタル酸４８．６８部、トリエチルアミン０．５部を投入し、１２０℃で４時間攪拌し反応させた。
その後、不揮発分が３０質量％になるようにＰＧＭＡｃを添加して、樹脂（Ｂ３－１）溶液を調製した。酸価７７ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量１０，０００であった。

【0428】

<レベリング剤（Ｃ）の製造>
（ブロック共重合体（Ｃ１－１）溶液）
窒素置換した反応容器に、３－メタクリロイルオキシプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シラン１５．０部、メチルエチルケトン７９．０部を仕込み、窒素気流下にて撹拌しながら５０℃まで昇温した。次いで、２，２'－ビピリジル４．２部、塩化第一銅１．５部を仕込み、５０℃で３０分撹拌した。その後、２－ブロモイソ酪酸エチル２．７部を加え、窒素気流下、５０℃で３時間反応させて、３－メタクリロイルオキシプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シランの重合体であるＡブロック部分を合成した。
次いで、３－メタクリロイルオキシプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シランの重合体であるＡブロックを含む反応系にポリプロピレングリコールモノメタクリレート（プロピレングリコールの平均繰り返し数４～６）３５．０部加え、５０℃で１８時間反応させ、ポリプロピレングリコールモノメタクリレート（プロピレングリコールの平均繰り返し数４～６）の重合体であるＢブロック部分を合成した。その後、活性アルミナ３０部を加え撹拌した。ろ過後、減圧蒸留してブロック共重合体（Ｃ１－１）を得た。
その後、不揮発分が１質量％になるようにＰＧＭＡｃを添加し、ブロック共重合体（Ｃ１－１）溶液を得た。重量平均分子量１０，３００、数平均分子量９，２００であった。

【0429】

（ブロック共重合体（Ｃ１－２）～（Ｃ１－１２）溶液）
表２の記載の構成・構造となるように単量体の種、量を変え、ブロック共重合体（Ｃ１－１）と同様に、ブロック共重合体（Ｃ１－２）～（Ｃ１－１２）を合成し、ＰＧＭＡｃを添加し不揮発分を１質量％とした。

【0430】

【表2】

【0431】

表２に記載の成分は、以下の通りである。

【0432】

化学式（２１）

【化33】

【0433】

化学式（２２）

【化34】

【0434】

化学式（２３）

【化35】

【0435】

<シランカップリング剤（Ｈ）の製造>
（シランカップリング剤（Ｈ））
撹拌機、還流冷却器、滴下ロート及び温度計を備えた反応容器に、ヒドロキシエチルアクリレートを１１６部仕込み、８０℃に加熱した。その中に３－イソシアネートプロピルトリメトキシシラン２０５部を滴下投入し、８０℃にて４時間撹拌し反応させた。その後、ＩＲ測定により原料のイソシアネート基由来の吸収ピークが完全に消失し、代わりにウレタン結合由来の吸収ピークが生成したことを確認し、主成分が下記化学式（２４）で表されるシランカップリング剤（Ｈ）を得た。なお、副成分として、化学式（２４）の縮合物である２～１０量体が含まれる。

【0436】

化学式（２４）

【化36】

【0437】

<染料（Ｊ）の製造>
（染料（Ｊ－１））
温度計、攪拌機、蒸留管、冷却器を備えた反応容器に、メチルエチルケトン６７．３ 部を仕込み窒素気流下で７５℃に昇温した。別途、メチルメタクリレート３４．０部、ｎ－ブチルメタクリレート２８．０部、２－エチルヘキシルメタクリレート２８．０部、ジメチルアミノエチルメタクリレート１０．０部、２，２'－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）６．５部、及びメチルエチルケトン２５．１部を均一に混合した後、滴下ロートに仕込み、４つ口セパラブル反応容器に取り付け、２時間かけて滴下しながら反応させた。滴下終了２時間反応を継続した。その後、不揮発分から重合収率が９８％以上であり、重量平均分子量が、６，８３０であることを確認し、５０℃へ冷却した。ここへ、塩化メチル３．２部、エタノール２２．０部を追加し、５０℃で２時間反応させた後、１時間かけて８０℃まで昇温し、２時間反応させた後、冷却して樹脂１を得た。
次に、水２，０００部に不揮発分換算で３０部の樹脂１を添加し、十分に攪拌混合を行った後、６０℃に加熱した。一方、９０部の水に１０部のＣ．Ｉ．アシッドレッド５２を溶解させた水溶液を調製し、先ほどの樹脂１溶液に少しずつ滴下した。滴下後、６０℃で１２０分間攪拌しながら反応を行った。反応の終点確認としては濾紙に反応液を滴下して、にじみがなくなったところを終点として、造塩化合物が得られたものと判断した。攪拌しながら室温まで冷却した後、吸引濾過を行い、水洗後、濾紙上に残った造塩化合物を乾燥機にて水分を除去して乾燥し、３２部のＣ．Ｉ．アシッドレッド５２と樹脂１との造塩化合物である染料（Ｊ－１）を得た。このとき染料（Ｊ－１）中のＣ．Ｉ．アシッドレッド５２に由来する成分の含有量は２５質量％であった。

【0438】

（染料（Ｊ－２））
特開平０５－３４５８６１号公報の実施例３０に従い、下記化学式（２５）で表される化合物を得た。化学式（２５）中、Ｅｔはエチル基を表す。

【0439】

化学式（２５）

【化37】

【0440】

<分散体の製造>
（分散体１）
下記の原料を均一になるように攪拌混合した後、直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを用いて、アイガーミル（アイガージャパン社製「ミニモデルＭ－２５０ ＭＫＩＩ」）で３時間分散した後、孔径１．０μｍのフィルタで濾過し、分散体１を作製した。不揮発分は２１．１質量％であった。
顔料（Ａ－１） ：１５．０部
顔料誘導体（Ｋ－１） ： １．０部
樹脂（Ｂ１－１）溶液 ： ８．５部
樹脂（Ｂ１－２）溶液 ： ８．５部
溶媒（Ｄ２－１） ：６７．０部

【0441】

（分散体２～１６）
表３－１、及び表３－２に記載した原料、量を変えた以外は、分散体１と同様にして分散体２～１６を作製した。

【0442】

【表3-1】

【0443】

【表3-2】

【0444】

表３－１、及び表３－２中に記載したそれぞれの成分は、以下の通りである。

【0445】

［顔料（Ａ）］
Ａ－１：Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３
Ａ－２：Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６
Ａ－３：Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３
Ａ－４：Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン５８
Ａ－５：Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６
Ａ－６：Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン６２
Ａ－７：Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７
Ａ－８：Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８
Ａ－９：Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９
Ａ－１０：Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０
Ａ－１１：Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２６４
Ａ－１２：Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４

【0446】

顔料（Ａ－１）～（Ａ－１２）は、いずれもソルトミリング処理による微細化を行い、上述した特定金属量となるように十分にイオン交換水で洗浄後、十分に乾燥した上で使用した。

【0447】

［顔料誘導体（Ｋ）］

【化38】

【0448】

［溶媒（Ｄ）］
（溶媒（Ｄ２））
Ｄ２－１：ＰＧＭＡｃ

【0449】

<組成物の製造>
［実施例１］
十分に乾燥した空気で置換した容器に、以下の原料を投入し、乾燥した空気気流下にて撹拌した。その後、水の含有量が組成物中、０．１質量％となるように水である溶媒（Ｄ１－１０）の量を調整し、組成物の合計量が１００部となるように溶媒（Ｄ２－１）を加え撹拌した後、孔径１．０μｍのフィルタで濾過して組成物１を得た。不揮発分は、１５．０質量％であった。なお、表４では、分散体は各原料に分解し、各原料に含まれる溶媒は溶媒（Ｄ）として記入した。
分散体２ ：１．００部
分散体５ ：２１．００部
分散体９ ：３．００部
樹脂（Ｂ２－１）溶液 ：９．７７部
樹脂（Ｂ３－１）溶液 ：７．３３部
ブロック共重合体（Ｃ１－１）溶液 ：１．００部
ブロック共重合体（Ｃ１－８）溶液 ：１．００部
溶媒（Ｄ１－１） ：３．００部
溶媒（Ｄ１－９） ：０．３０部
溶媒（Ｄ２－１） ：２８．００部
溶媒（Ｄ２－２） ：８．００部
溶媒（Ｄ２－３） ：８．００部
溶媒（Ｄ２－４） ：０．３０部
重合性化合物（Ｅ－１） ：０．５０部
重合性化合物（Ｅ－２） ：２．００部
重合開始剤（Ｆ－１） ：０．１０部
重合開始剤（Ｆ－２） ：０．０５部
エポキシ基を有する化合物（Ｇ１－１） ：０．４０部
シランカップリング剤（Ｈ） ：０．３５部
チオール連鎖移動剤（Ｉ） ：０．３０部
紫外線吸収剤（Ｌ） ：０．３０部

【0450】

［実施例２～５４、及び比較例１、２］
（感光性組成物２～５６）
表４－１～表４－５に記載した原料、量になるように、実施例１と同様にして組成物２～５６を作製した。

【0451】

【表4-1】

【0452】

【表4-2】

【0453】

【表4-3】

【0454】

【表4-4】

【0455】

【表4-5】

【0456】

【表4-6】

表４－１～表４－６に記載したそれぞれの原料については、以下の通りである。

【0457】

［レベリング剤（Ｃ）］
（その他レベリング剤（Ｃ２））
Ｃ２－１：下記構造の化合物（水酸基価８０ｍｇＫＯＨ／ｇ）の１％ＰＧＭＡｃ溶液

【0458】

【化39】

【0459】

Ｃ２－２：ＢＹＫ－３３０（ビックケミー社製）の１％ＰＧＭＡｃ溶液（ブロック共重合体（Ｃ１）に含まれない）

【0460】

［溶媒（Ｄ）］
（溶媒（Ｄ１））
Ｄ１－１：プロピレングリコールモノメチルエーテル（δｈ＝１１．６）
Ｄ１－２：プロピレングリコールモノエチルエーテル（δｈ＝１０．５）
Ｄ１－３：エチレングリコールモノブチルエーテル（δｈ＝１２．３）
Ｄ１－４：乳酸エチル（δｈ＝１２．５）
Ｄ１－５：シクロヘキサノール（δｈ＝１３．５）
Ｄ１－６：３－メトキシ－１－ブタノール（δｈ＝１３．６）
Ｄ１－７：エチレングリコールモノエチルエーテル（δｈ＝１４．３）
Ｄ１－８：乳酸メチル（δｈ＝１４．６）
Ｄ１－９：１－ブタノール（δｈ＝１５．８）
Ｄ１－１０：水（δｈ＝４２．３）

【0461】

（その他溶媒（Ｄ２））
Ｄ２－１：ＰＧＭＡｃ
Ｄ２－２：シクロヘキサノン
Ｄ２－３：３－エトキシプロピオン酸エチル
Ｄ２－４：酢酸ブチル

【0462】

［重合性化合物（Ｅ）］
Ｅ－１：ＣＮ９９０６（アルケマ社製、アミン構造を有する多官能アクリレート）
Ｅ－２：アロニックスＭ－３０６（東亞合成社製、ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物）
Ｅ－３：Ｍｉｒａｍｅｒ ＳＰ－１１０６（Ｍｉｗｏｎ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製、平均アクリロイル基数１８のデンドリマー構造を有する化合物）
Ｅ－４：ジペンタエリスリトールＥＯ変性ヘキサアクリレート

【0463】

［重合開始剤（Ｆ）］
Ｆ－１：上述した（Ｆ－１）の化合物
Ｆ－２：上述した（Ｆ－２）の化合物
Ｆ－３：上述した（Ｆ－３）の化合物
Ｆ－４：下記構造の化合物

【0464】

【化40】

【0465】

［熱架橋性化合物（Ｇ）］
（エポキシ基を有する化合物（Ｇ１））
Ｅ１－１：ＥＨＰＥ－３１５０（ダイセル社製、一般式（１５）で表される化合物、エポキシ基数が平均１５個、エポキシ当量が１７０～１９０ｇ／ｅｑ）

【0466】

（ブロックイソシアネート基を有する化合物（Ｇ２））
Ｅ２－１：デュラネートＭＦ－Ｋ６０Ｂ（旭化成社製、活性メチレン化合物でブロックされた化合物）

【0467】

［チオール系連鎖移動（Ｉ）］
メルカプトこはく酸とペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）の質量比５：５の混合物

【0468】

［紫外線吸収剤（Ｌ）］
４，４'－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンと２，２'，４，４'－テトラヒドロキシベンゾフェノンの質量比５：５の混合物

【0469】

<混色評価用組成物の製造>
分散体４を２４．０部、分散体８を１２．０部、樹脂（Ｂ２－１）溶液を１０．５部、重合性化合物（Ｅ－１）を２．５部、重合開始剤（Ｆ－１）を０．１５部、チオール連鎖移動剤（Ｉ）を０．３部、シランカップリング剤（Ｈ）を０．３部、エポキシ基を有する化合物（Ｇ１）を０．４部、紫外線吸収剤（Ｌ）を０．３部、ＢＹＫ－３３３（ビックケミー社製のシリコーン系レベリング剤）の１％ＰＧＭＡｃ溶液２．０部、及びＰＧＭＡｃを４７．５５部加えて、混合・攪拌し、孔径１．０μｍのフィルタで濾過して混色評価用組成物を得た。なお、ＢＹＫ－３３３は、ブロック共重合体（Ｃ１）に含まれない。

【0470】

<組成物の評価>
得られた組成物１～５６について、製造直後に以下の評価を行った。これを保存前の評価とする。評価結果を表５に示す。

【0471】

［保存前の塗工性評価（１）］
得られた組成物を、スピンコート法により縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ、０．７ｍｍのガラス基板（コーニング社製イーグル２０００）上に、回転数１０００ｒｐｍ、回転時間１０秒で塗工し、９０℃２分間ホットプレートで乾燥した。
ナトリウムランプを照射して、塗膜の状態を目視で観察した。評価基準は、以下の通りであり、３以上を実用可能とする。
５：波状の塗工ムラが、観察されなかった。
４：波状の塗布ムラが、基板端面部のみで僅かに観察された。
３：波状の塗布ムラが、僅かに観察された。
２：波状の塗布ムラが、基板端面部のみではっきりと観察された。
１：波状の塗布ムラが、はっきりと観察された。

【0472】

［保存前の塗工性評価（２）］
得られた組成物を、スピンコート法により縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ、０．７ｍｍのガラス基板（コーニング社製イーグル２０００）上に、回転数２００ｒｐｍ、回転時間１０秒で塗工し、９０℃２分間ホットプレートで乾燥した。
光学顕微鏡を用いてハジキの発生を観察した。なお、ハジキは、ガラス基板上に組成物を塗工し乾燥した後に、塗膜表面に円形状の凹みや穴が生じる現象である。評価基準は、以下の通りであり、３以上を実用可能とする。
５：ハジキの個数が、３個未満であった。
４：ハジキの個数が、３個以上５未満であった。
３：ハジキの個数が、５個以上１５未満であった。
２：ハジキの個数が、１５個以上３０未満であった。
１：ハジキの個数が、３０個以上であった。

【0473】

［保存前の混色評価（１）：２３０℃ポストベーク］
得られた組成物を、スピンコート法により縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ、０．７ｍｍのガラス基板（コーニング社製イーグル２０００）上に、乾燥後の膜厚が２．５μｍとなるように塗工し、９０℃２分間ホットプレートで乾燥した。次いで、この基板を室温に冷却後、超高圧水銀灯を用い、１００μｍ幅のストライプパターンのフォトマスクを介して照度３０ｍＷ／ｃｍ^２、１００ｍＪ／ｃｍ^２で露光した。この基板を２３℃の非イオン系レベリング剤０．１２質量％と水酸化カリウム０．０４質量％とを含む水系現像液を用いてスプレー現像した後、イオン交換水で洗浄、風乾した。その後、クリーンオーブンで２３０℃３０分間ポストベークし、１色のパターンを形成した。走査型電子顕微鏡を用いて、倍率２万倍で、１色目のパターン上に現像残渣がないことを確認した。
次いで、１色目のパターン形成と同様の方法で、混色評価用組成物を用いて、１色目のパターン間（パターンがない部分）に２色目のパターンを形成した。
走査型電子顕微鏡を用いて、倍率２万倍で、１色目のパターン上の現像残渣の量を測定した。評価基準は、以下の通りであり、３以上を実用可能とする。
５：１．０μｍ四方に残渣が、観察されなかった。
４：１．０μｍ四方に残渣が、１～３個観察された。
３：１．０μｍ四方に残渣が、４～７個観察された。
２：１．０μｍ四方に残渣が、７～１０個観察された。
１：１．０μｍ四方に残渣が、１０個以上観察された。

【0474】

［保存前の混色評価（２）：１３０℃ポストベーク］
ポストベーク温度を１３０℃に変え、保存前の混色評価（１）と同様に評価した。

【0475】

［保存後の塗工性評価、及び混色評価］
得られた組成物を別途、密閉した容器に入れ４０℃で１２時間放置し、次いで－１０℃で１２時間放置する温度昇降サイクルを１０サイクル繰り返した。次いで、保存後の組成物の塗工性評価、混色評価を保存前と同様の方法で行った。これを保存後の評価とする。評価結果を表５に示す。

【0476】

【表5】

【図1】