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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2025024618
(43)【公開日】2025-02-20
(54)【発明の名称】２－ナフタレン誘導体の製造方法
(51)【国際特許分類】
C07C 1/32 20060101AFI20250213BHJP
C07C 15/24 20060101ALI20250213BHJP
C07C 43/18 20060101ALI20250213BHJP
C07C 41/30 20060101ALI20250213BHJP
C07B 61/00 20060101ALN20250213BHJP
【ＦＩ】
C07C1/32
C07C15/24
C07C43/18 A
C07C41/30
C07B61/00 300
【審査請求】未請求
【請求項の数】7
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023128857
(22)【出願日】2023-08-07
(71)【出願人】
【識別番号】000113780
【氏名又は名称】マナック株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001508
【氏名又は名称】弁理士法人 津国
(72)【発明者】
【氏名】村上 聡
【テーマコード（参考）】
4H006
4H039
【Ｆターム（参考）】
4H006AA02
4H006AC29
4H006BA21
4H006BA48
4H006BB11
4H006BC19
4H006BD80
4H039CA41
4H039CL25
(57)【要約】
【課題】
除去が困難な不純物を制御し、選択的に２－ナフタレン誘導体を高純度で得られる製造方法を提供すること。
【解決手段】
スルホニルオキシ化合物を、ニッケル化合物の存在下、有機金属ハロゲン化物と、溶媒中で反応させることを特徴とする、２－ナフタレン誘導体の製造方法であって、前記反応における反応液の滞留時間が１分以内であることを特徴とする、製造方法を提供する。
【選択図】なし
除去が困難な不純物を制御し、選択的に２－ナフタレン誘導体を高純度で得られる製造方法を提供すること。
【解決手段】
スルホニルオキシ化合物を、ニッケル化合物の存在下、有機金属ハロゲン化物と、溶媒中で反応させることを特徴とする、２－ナフタレン誘導体の製造方法であって、前記反応における反応液の滞留時間が１分以内であることを特徴とする、製造方法を提供する。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
一般式（１）：
（式中、Ｒ１は、水素原子、Ｃ１～６アルキル基、Ｃ１～６アルコキシ基、Ｃ２～６アルケニル基、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、アミノ基、ヒドロキシル基、チオール基、スルホ基、スルホンアミド基、又はカルボキシル基もしくはそのエステル基を表し、Ａは、Ｃ１～６アルキル基、モノもしくはジＣ１～６アルキルアミノ基、Ｃ１～６アルキル基及びニトロ基からなる群より選択される１もしくは２個の置換基で置換されていてもよいフェニル基、又はハロＣ１～３アルキル基を表す）
で表されるスルホニルオキシ化合物を、ニッケル化合物の存在下、一般式（２）：
（式中、Ａｒは、Ｃ６～２０アリール基であり、Ｍは、ＭｇＸ又はＭｇＸ ＬｉＣｌであり、そして、Ｘは塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表す）
で表される有機金属ハロゲン化物と、溶媒中で反応させることによる、一般式（３）：
（式中、Ｒ１及びＡｒは、前記と同義である）で表される２－ナフタレン誘導体の製造方法であって、前記反応における反応液の滞留時間が１分以内であることを特徴とする、製造方法。
【化1】
（式中、Ｒ１は、水素原子、Ｃ１～６アルキル基、Ｃ１～６アルコキシ基、Ｃ２～６アルケニル基、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、アミノ基、ヒドロキシル基、チオール基、スルホ基、スルホンアミド基、又はカルボキシル基もしくはそのエステル基を表し、Ａは、Ｃ１～６アルキル基、モノもしくはジＣ１～６アルキルアミノ基、Ｃ１～６アルキル基及びニトロ基からなる群より選択される１もしくは２個の置換基で置換されていてもよいフェニル基、又はハロＣ１～３アルキル基を表す）
で表されるスルホニルオキシ化合物を、ニッケル化合物の存在下、一般式（２）：
【化2】
（式中、Ａｒは、Ｃ６～２０アリール基であり、Ｍは、ＭｇＸ又はＭｇＸ ＬｉＣｌであり、そして、Ｘは塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表す）
で表される有機金属ハロゲン化物と、溶媒中で反応させることによる、一般式（３）：
【化3】
（式中、Ｒ１及びＡｒは、前記と同義である）で表される２－ナフタレン誘導体の製造方法であって、前記反応における反応液の滞留時間が１分以内であることを特徴とする、製造方法。
【請求項2】
前記製造方法が、（１）一般式（１）：
式中、Ｒ１及びＡは、請求項１と同義である）
で表されるスルホニルオキシ化合物及びニッケル化合物を含む溶液を調製する工程；
（２）一般式（２）：
（式中、Ａｒ及びＭは、請求項１と同義である）
で表される有機金属ハロゲン化物を含む溶液を調製する工程；及び
（３）工程（１）の溶液と工程（２）の溶液を混合し、反応させる工程
を含むことを特徴とする、請求項１に記載の製造方法。
【化4】
式中、Ｒ１及びＡは、請求項１と同義である）
で表されるスルホニルオキシ化合物及びニッケル化合物を含む溶液を調製する工程；
（２）一般式（２）：
【化5】
（式中、Ａｒ及びＭは、請求項１と同義である）
で表される有機金属ハロゲン化物を含む溶液を調製する工程；及び
（３）工程（１）の溶液と工程（２）の溶液を混合し、反応させる工程
を含むことを特徴とする、請求項１に記載の製造方法。
【請求項3】
前記一般式（２）中のＡｒがフェニル基であり、ＭがＭｇＸであり、Ｘが臭素原子、塩素原子又はヨウ素原子である、請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項4】
前記ニッケル化合物が２座ホスフィン系配位子を形成する化合物である、請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項5】
前記反応に使用する反応装置がフローリアクターであることを特徴とする、請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項6】
前記フローリアクターが、送液菅、反応槽、及び排出菅を備え、前記一般式（１）で表されるスルホニルオキシ化合物を含む溶液と前記一般式（２）で表される有機ハロゲン化物を含む溶液が、それぞれ別の送液菅から反応槽に送液され、かつ反応液の反応槽における滞留時間が１分以内であることを特徴とする、請求項５に記載の製造方法。
【請求項7】
反応が、一般式（１）で表されるスルホニルオキシ化合物及びニッケル化合物を含む溶液と一般式（２）で表される有機ハロゲン化物を含む溶液の一括投入により実施されることを特徴とする、請求項１又は２に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、２－ナフタレン誘導体を従来法よりも高純度且つ低コストで製造する方法を提供するものである。
【背景技術】
【0002】
２－ナフタレン誘導体は有機エレクトロルミネッセンス（以下、有機ＥＬと称する）材料の製造中間体として汎用されており、極めて有用な化合物である。
【0003】
近年、特にディスプレイ分野において、折り畳むことや丸めることが可能なフレキシブルディスプレイの開発が本格的に進んでいる。フレキシブル化にはガラスに代わるポリマーフィルムが必要とされており、ナフタレン環を有するポリマーフィルムの使用が提案されている。ナフタレン環を持たないポリマーフィルムではディスプレイに加工し使用された際に傷や凹み、さらにはフィルムの割れが生じる場合があったが、ナフタレン環を有するポリマーフィルムは、光学特性、耐熱性、耐屈曲性、ハンドリング性に優れることから、フレキシブルディスプレイの折り曲げや衝撃による破損を防ぐことが期待されている（例えば、特許文献１参照）。
【0004】
２－ナフタレン誘導体の合成方法は鈴木－宮浦カップリング反応を用いる方法が一般的に知られている（例えば、非特許文献１参照）。しかしながら、この製法では、原料である２－ブロモナフタレンや２－ナフタレンボロン酸が非常に高価であることや、品質が不安定であり、安定調達が困難であるという問題がある。また、この製法では、副生物であるビナフチル体が大量に副生し、かつ精製除去することが非常に困難であるため、副反応を制御することは依然として課題であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開２０２１－１９４８１６号公報
【非特許文献】
【0006】
【非特許文献1】Tetrahedron Letters, 2004, Vol. 45, Pages 6527-6530
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
本発明の目的は、上記の問題点を解決し、除去が困難な不純物の副生を制御し、選択的に２－ナフタレン誘導体の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明者らは、上記の課題を解決すべく鋭意検討した結果、スルホニウム化合物とニッケル化合物及び有機金属ハロゲン化物を速やかに液中に拡散させて反応させること、及び反応液の滞留時間を極めて短時間に制御することにより、除去が困難な不純物を制御し、選択的に２－ナフタレン誘導体を高純度で得られる製造方法を見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、以下の通りである。
すなわち、本発明は、以下の通りである。
【0009】
一般式（１）：
（式中、Ｒ１は、水素原子、Ｃ１～６アルキル基、Ｃ１～６アルコキシ基、Ｃ２～６アルケニル基、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、アミノ基、ヒドロキシル基、チオール基、スルホ基、スルホンアミド基、又はカルボキシル基もしくはそのエステル基を表し、Ａは、Ｃ１～６アルキル基、モノもしくはジＣ１～６アルキルアミノ基、Ｃ１～６アルキル基及びニトロ基からなる群より選択される１もしくは２個の置換基で置換されていてもよいフェニル基、又はハロＣ１～３アルキル基を表す）
で表されるスルホニルオキシ化合物を、ニッケル化合物の存在下、一般式（２）：
（式中、Ａｒは、Ｃ６～２０アリール基であり、Ｍは、ＭｇＸ又はＭｇＸ ＬｉＣｌであり、そして、Ｘは塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表す）
で表される有機金属ハロゲン化物と、溶媒中で反応させることにより、一般式（３）：
（式中、Ｒ１及びＡｒは、前記と同義である）で表される２－ナフタレン誘導体の製造方法であって、前記反応における反応液の滞留時間が１分以内であることを特徴とする、製造方法。
【化1】
（式中、Ｒ１は、水素原子、Ｃ１～６アルキル基、Ｃ１～６アルコキシ基、Ｃ２～６アルケニル基、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、アミノ基、ヒドロキシル基、チオール基、スルホ基、スルホンアミド基、又はカルボキシル基もしくはそのエステル基を表し、Ａは、Ｃ１～６アルキル基、モノもしくはジＣ１～６アルキルアミノ基、Ｃ１～６アルキル基及びニトロ基からなる群より選択される１もしくは２個の置換基で置換されていてもよいフェニル基、又はハロＣ１～３アルキル基を表す）
で表されるスルホニルオキシ化合物を、ニッケル化合物の存在下、一般式（２）：
【化2】
（式中、Ａｒは、Ｃ６～２０アリール基であり、Ｍは、ＭｇＸ又はＭｇＸ ＬｉＣｌであり、そして、Ｘは塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表す）
で表される有機金属ハロゲン化物と、溶媒中で反応させることにより、一般式（３）：
【化3】
（式中、Ｒ１及びＡｒは、前記と同義である）で表される２－ナフタレン誘導体の製造方法であって、前記反応における反応液の滞留時間が１分以内であることを特徴とする、製造方法。
【発明の効果】
【0010】
本発明の製造方法によれば、有機ＥＬ分野において、極めて有用な有機合成中間体である２－ナフチル誘導体を選択的かつ効率的に製造することができる。また、本発明の製造方法は除去が困難な不純物の副生を抑制することが可能なため、工業的にも有用であると期待できる。
【発明を実施するための形態】
【0011】
以下に本発明の実施の形態について詳細に説明する。先ず、本明細書及び特許請求の範囲において用いられる用語について説明する。各用語は、他に断りのない限り、以下の意義を有する。
【0012】
本発明において「Ｃ１～６アルキル基」は、単独で又は他の用語との組み合わせにおいて、炭素数１～６の直鎖状又は分岐状の脂肪族飽和炭化水素の１価の基を意味し、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基及びそれらの異性体などが挙げられる。
【0013】
本発明において「Ｃ１～６アルコキシ基」は、単独で又は他の用語との組み合わせにおいて、基ＲＯ－（ここで、Ｒは、前記Ｃ１～６アルキル基である）を意味し、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基及びそれらの異性体などが挙げられる。
【0014】
本発明において「Ｃ２～６アルケニル基」とは、単独で又は他の用語との組み合わせにおいて、少なくとも１個の二重結合を含む、炭素数２～６の直鎖状又は分岐状の脂肪族不飽和炭化水素の１価の基を意味し、例えば、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、１－ブテニル基、２－ブテニル基、１，３－ブタジエニル基、２－ペンテニル基及びそれらの異性体などが挙げられる。
【0015】
本発明において「カルボキシル基もしくはそのエステル基」とは、－ＣＯＯＲ’基（ここで、Ｒ’は、水素原子、前記Ｃ１～６アルキル基、Ｃ６～２０アリール基又はＣ７～２６アラルキル基である）を意味する。
【0016】
本発明において「モノもしくはジＣ１～６アルキルアミノ基」とは、モノＣ１～６アルキルアミノ基及びジＣ１～６アルキルアミノ基を意味する。「モノＣ１～６アルキルアミノ基」とは、１個の前記Ｃ１～６アルキル基がアミノ基に結合した基を意味する。モノＣ１～６アルキルアミノ基としては、例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ｎ－プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ｎ－ブチルアミノ基、ｎ－ペンチルアミノ基、ｎ－ヘキシルアミノ基等が挙げられる。「ジＣ１～６アルキルアミノ基」とは、２個の前記「Ｃ１～６アルキル基」がアミノ基に結合した基を意味する。２個のアルキル基は、同一でも異なっていてもよい。ジＣ１～６アルキルアミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルアミノ基、Ｎ－メチル－Ｎ－エチルアミノ基、Ｎ－イソプロピル－Ｎ－メチルアミノ基、Ｎ－ｎ－ブチル－Ｎ－メチルアミノ基、Ｎ－ｔｅｒｔ－ブチル－Ｎ－メチルアミノ基、Ｎ－メチル－Ｎ－ｎ－ペンチルアミノ基、Ｎ－ｎ－ヘキシル－Ｎ－メチルアミノ基、Ｎ－イソプロピル－Ｎ－エチルアミノ基等が挙げられる。
【0017】
本発明において「ハロＣ１～３アルキル基」は、１個以上のハロゲン原子で置換された、前記Ｃ１～３アルキル基を意味し、例えば、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基などが挙げられる。
【0018】
本発明において「Ｃ６～２０アリール基」は、単独で又は他の用語との組み合わせにおいて、少なくとも１個の芳香環を含む、炭素数６～２０の単環式又は多環式炭化水素化合物の１価の基を意味し、例えば、前者の例としては、フェニルが挙げられ、後者の例としては、ビフェニリル及びテルフェニリルなどの環集合芳香族炭化水素化合物の１価の基や、ナフチル、テトラヒドロナフチル、アントリル、ピレニル、インデニル、フルオレニル、アセナフチレニル、フェナントリル及びフェナレニルなどの縮合多環式芳香族化合物の１価の基が挙げられる。また、これらは、反応に関与しない、一以上の任意の置換基で置換されていてもよい。そのような置換基としては、Ｃ１～６アルキル基、Ｃ１～６アルコキシ基、Ｃ３～６シクロアルキル基、Ｃ６～２０アリール基及びＣ２～２０ヘテロアリール基などが挙げられる。
【0019】
本発明において「Ｃ７～２６アラルキル基」は、前記Ｃ６～２０アリール基で置換されたＣ１～６アルキル基を意味する。「炭素数６～２０のアリール」及び「炭素数１～６のアルキル」は、上記で定義したとおりである。Ｃ７～２６アラルキル基としては、例えば、ベンジル、フェネチル、フェニルプロピル、フェニルブチル、フェニルペンチル、フェニルヘキシル等が挙げられる。
【0020】
本発明において「Ｃ３～６シクロアルキル基」は、炭素数３～６の環状の脂肪族飽和炭化水素の１価の基を意味し、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基及びシクロへキシル基などが挙げられる。
【0021】
本発明において「Ｃ２～２０ヘテロアリール基」は、少なくとも１個の芳香環を含む、炭素数２～２０の単環式又は縮合多環式複素環化合物の１価の基を意味し、例えば、フリル、ベンゾフラニル、ジベンゾフラニル、チエニル、ベンゾチエニル、ジベンゾチエニル、ピロリル、インドリル、カルバゾリル、イミダゾリル、ベンゾイミダゾリル、ピラゾリル、オキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、フラザニル、ピリジル、ピラニル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、トリアジニル、アゼピニル、キノリル、テトラヒドロイソキノリル、インドリジニル、シンノリニル、プリニル、カルボニリル、フェナントロリニル及びイミダゾピリミジニルなどが挙げられる。また、これらは、反応に関与しない、一以上の任意の置換基で置換されていてもよい。そのような置換基としては、Ｃ１～６アルキル基、Ｃ１～６アルコキシ基、Ｃ３～６シクロアルキル基、Ｃ６～２０アリール基及びＣ２～２０ヘテロアリール基などが挙げられる。
【0022】
次に、本発明の製造方法について詳しく述べる。
本発明は、一般式（１）：
（式中、Ｒ１は、水素原子、Ｃ１～６アルキル基、Ｃ１～６アルコキシ基、Ｃ２～６アルケニル基、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、アミノ基、ヒドロキシル基、チオール基、スルホ基、スルホンアミド基、カルボキシル基もしくはそのエステル基を表し、ＡはＣ１～６アルキル基、モノもしくはジＣ１～６アルキルアミノ基、Ｃ１～６アルキル基及びニトロ基からなる群より選択される１もしくは２個の置換基で置換されていてもよいフェニル基、又はハロＣ１～３アルキル基を表す）
で表されるスルホニルオキシ化合物を、ニッケル化合物の存在下、一般式（２）：
（式中、Ａｒは、Ｃ６～２０のアリール基であり、Ｍは、ＭｇＸ又はＭｇＸ ＬｉＣｌであり、そして、Ｘは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を表す）
で表される有機金属ハロゲン化物と、溶媒中で反応させることによる、一般式（３）：
（式中、Ｒ１及びＡｒは、前記と同義である）で表される２－ナフタレン誘導体の製造方法であって、前記反応における反応液の滞留時間が１分以内であることを特徴とする、製造方法に関するものである。
本発明は、一般式（１）：
【化4】
（式中、Ｒ１は、水素原子、Ｃ１～６アルキル基、Ｃ１～６アルコキシ基、Ｃ２～６アルケニル基、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、アミノ基、ヒドロキシル基、チオール基、スルホ基、スルホンアミド基、カルボキシル基もしくはそのエステル基を表し、ＡはＣ１～６アルキル基、モノもしくはジＣ１～６アルキルアミノ基、Ｃ１～６アルキル基及びニトロ基からなる群より選択される１もしくは２個の置換基で置換されていてもよいフェニル基、又はハロＣ１～３アルキル基を表す）
で表されるスルホニルオキシ化合物を、ニッケル化合物の存在下、一般式（２）：
【化5】
（式中、Ａｒは、Ｃ６～２０のアリール基であり、Ｍは、ＭｇＸ又はＭｇＸ ＬｉＣｌであり、そして、Ｘは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を表す）
で表される有機金属ハロゲン化物と、溶媒中で反応させることによる、一般式（３）：
【化6】
（式中、Ｒ１及びＡｒは、前記と同義である）で表される２－ナフタレン誘導体の製造方法であって、前記反応における反応液の滞留時間が１分以内であることを特徴とする、製造方法に関するものである。
【0023】
本発明の一実施態様では、前記製造方法は、
（１）前記一般式（１）で表されるスルホニルオキシ化合物及びニッケル化合物を含む溶液を調製する工程；
（２）前記一般式（２）で表される有機金属ハロゲン化物を含む溶液を調製する工程；及び
（３）工程（１）の溶液と工程（２）の溶液を混合し、反応させる工程
を含むことを特徴とする。
（１）前記一般式（１）で表されるスルホニルオキシ化合物及びニッケル化合物を含む溶液を調製する工程；
（２）前記一般式（２）で表される有機金属ハロゲン化物を含む溶液を調製する工程；及び
（３）工程（１）の溶液と工程（２）の溶液を混合し、反応させる工程
を含むことを特徴とする。
【0024】
前記一般式（１）の化合物において、Ｒ１は、水素原子、Ｃ１～６のアルキル基、Ｃ１～６アルコキシ基、Ｃ２～６のアルケニル基、ニトロ基、シアノ基、アルデヒド基、アミノ基、ヒドロキシル基、チオール基、スルホ基、スルホンアミド基、カルボキシル基もしくはそのエステル基である。Ｒ１は好ましくは、水素原子、Ｃ１～６アルキル、Ｃ１～６アルコキシ基、カルボキシル基もしくはそのエステル基であり、より好ましくは、水素原子、Ｃ１～４アルキル、Ｃ１～４アルコキシ基、カルボキシル基もしくはそのエステル基である。
【0025】
前記一般式（１）の化合物において、ＡはＣ１～６のアルキル基、モノもしくはジＣ１～６アルキルアミノ基、Ｃ１～６アルキル基及びニトロ基からなる群より選択される１もしくは２個の置換基で置換されていてもよいフェニル基、又はハロＣ１～３アルキル基である。Ａは好ましくは炭素数１～３のアルキル基、モノもしくはジＣ１～３のアルキルアミノ基、Ｃ１～３アルキル基及びニトロ基からなる群より選択される１もしくは２個の置換基で置換されていてもよいフェニル基、又はハロＣ１～３アルキル基である。
【0026】
本発明に用いるニッケル化合物は、特に限定されるものではないが、目的とする化合物に対して、適宜選択することができる。反応性向上や入手のしやすさから、多座ホスフィン系配位子を含むニッケル化合物が好ましく、２座ホスフィン系配位子とのニッケル（II）錯体がより好ましい。例えば、１，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）エタンニッケル（II）クロリド、１，３－ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパンニッケル（II）クロリド、１，４－ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタンニッケル（II）クロリド、１，５－ビス（ジフェニルホスフィノ）ペンタンニッケル（II）クロリド、１，３－ビス（ジシクロヘキシルホスフィノ）プロパンニッケル（II）クロリド、１，４－ビス（ジシクロヘキシルホスフィノ）ブタンニッケル（II）クロリド、１，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）エタンニッケル（II）ブロミド、１，３－ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパンニッケル（II）ブロミド、１，４－ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタンニッケル（II）ブロミド 、１，５－ビス（ジフェニルホスフィノ）ペンタンニッケル（II）ブロミド、１，３－ビス（ジシクロヘキシルホスフィノ）プロパンニッケル（II）ブロミド、１，４－ビス（ジシクロヘキシルホスフィノ）ブタンニッケル（II）ブロミド等が挙げられる。ただし、鉄を含む［１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］ジクロロニッケル（II）等は収率や反応制御の観点から除いた方が好ましい。
【0027】
本発明において、前記ニッケル化合物の使用量は、特に限定されないが、前記一般式（１）で表される化合物に対して、通常０．０１～１０ｍｏｌ％の範囲であり、反応の観点から、０．１～６．０ｍｏｌ％の範囲が好ましい。
【0028】
本発明において、前記一般式（２）で表される有機金属ハロゲン化物は、いわゆるグリニャール（Ｇｒｉｇｎａｒｄ）試薬及びターボグリニャール（Ｔｕｒｂｏ Ｇｒｉｇｎａｒｄ）試薬のことを表し、公知のグリニャール試薬と同様の調製法に従って、具体的には、対応するハロゲノ芳香族化合物（Ａｒ－Ｘ：ここで、Ａｒ及びＸは、前記と同義である）にマグネシウムを作用させて得ることができる。
前記一般式（２）において、ＡｒはＣ６～２０アリール基であり、Ｍは、ＭｇＸ又はＭｇＸ ＬｉＣｌであり、そして、Ｘは塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子である。Ａｒは、例えば、Ｃ１～６アルキル基及びＣ１～６アルコキシ基からなる群より選択される少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい、フェニル基又はナフチル基であり、好ましくはフェニル基、１つ以上のＣ１～６アルキル基又はＣ１～６アルコキシ基で置換されたフェニル基、ナフチル基、又は１つ以上のＣ１～６アルキル基又はＣ１～６アルコキシ基で置換されたナフチル基であり、より好ましくはフェニル基である。Ｘは、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子から選択され、好ましくは塩素原子、臭素原子であり、より好ましくは臭素原子である。
前記一般式（２）において、ＡｒはＣ６～２０アリール基であり、Ｍは、ＭｇＸ又はＭｇＸ ＬｉＣｌであり、そして、Ｘは塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子である。Ａｒは、例えば、Ｃ１～６アルキル基及びＣ１～６アルコキシ基からなる群より選択される少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい、フェニル基又はナフチル基であり、好ましくはフェニル基、１つ以上のＣ１～６アルキル基又はＣ１～６アルコキシ基で置換されたフェニル基、ナフチル基、又は１つ以上のＣ１～６アルキル基又はＣ１～６アルコキシ基で置換されたナフチル基であり、より好ましくはフェニル基である。Ｘは、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子から選択され、好ましくは塩素原子、臭素原子であり、より好ましくは臭素原子である。
【0029】
前記有機金属ハロゲン化物の使用量は、特に限定されないが、混合手法に応じて、適宜選択することができる。例えば、前記一般式（１）で表される化合物１ｍｏｌに対して、通常０．５～３．０ｍｏｌの範囲であり、０．９～１．５ｍｏｌの範囲が好ましい。
【0030】
本発明に用いる溶媒は、反応に関与しないものであれば特に限定されるものではない。例えば、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素系溶媒；トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒；テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒；塩化メチレン等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【0031】
溶媒の使用量は、特に限定されないが、前記一般式（１）で表されるスルホニルオキシ化合物に対して、０．１～５０倍量が好ましく、特に好ましくは、１～２５倍量程度である。
【0032】
本発明の製造方法における反応温度は、０～１００℃の範囲が好ましい。反応を促進するためには、２０～４０℃がより好ましい。反応圧力は、加圧、減圧、大気圧のいずれでもよいが、大気圧が好ましい。反応雰囲気は、空気中又は不活性ガス雰囲気下のいずれでもよいが、窒素又はアルゴン等の不活性ガス雰囲気下が好ましい。
【0033】
本発明の製造方法における滞留時間は、使用する出発物質や溶媒の量や種類、反応温度等の反応条件、使用する反応装置等に応じて適宜設定することができるが、ビナフチル体のような除去が困難な不純物の副生の抑制の観点から、反応液の滞留時間は、好ましくは１分以内、より好ましくは３０秒以内、特に好ましくは１０秒以内である。なお、反応液の滞留時間とは、反応に必要な反応試剤（出発物質、触媒、及び溶媒）の反応容器における滞留時間を意味する。
【0034】
本発明の製造方法における混合手法については、特に問わないが、反応液の滞留時間を極めて短時間に制御することのできる手段が好ましい。例えば、反応装置としてフローリアクターやＣＳＴＲ（連続槽型反応器）を用いることにより、あるいは各反応試剤を一括投入により接触させることにより、速やかに反応することができる。
【0035】
例えば、本発明の製造方法で使用できるフローリアクターは、送液菅、反応槽、及び排出菅を備える。フローリアクターを用いる本発明の製造方法の一実施態様では、前記一般式（１）で表されるスルホニルオキシ化合物を含む溶液と、前記一般式（２）で表される有機ハロゲン化物を含む溶液は、それぞれ別の送液菅から反応槽に送液される。ニッケル化合物はさらに別の送液菅から反応槽に送液されてもよいし、前記一般式（１）で表されるスルホニルオキシ化合物を含む溶液に添加して反応槽に送液されてもよい。また反応槽にそれぞれ送液された反応試剤により形成された反応液は、順次、反応槽から排出菅を通じて排出され、続く後処理（失活）工程に付されるが、反応槽における滞留時間（すなわち、反応試剤が送液菅からの反応槽内へ供給されてから、反応液が反応槽外（排出菅）へ排出されるまでの時間）が１分以内となるよう、流量（ｍＬ／ｍｉｎ）を調節することが好ましい。
【0036】
また本発明の製造方法は、各反応試剤を一括投入により接触させる混合手法により実施してもよい。かかる混合手法は、例えば、一般式（１）で表されるスルホニルオキシ化合物及びニッケル化合物を含む溶液と、一般式（２）で表される有機ハロゲン化物を含む溶液とをそれぞれ調製し、その一方を入れた反応容器に、他方を一括投入することで実施できる。なお本発明において一括投入とは、反応試剤の滴下や分注等の緩徐な混合手法ではなく、極めて短時間（例えば、数秒）に一度に行われる添加混合を意味する。具体的には、一般式（１）で表されるスルホニルオキシ化合物及びニッケル化合物を含む溶液の全量を加えた反応容器に、一般式（２）で表される有機ハロゲン化物を含む溶液の全量を一括投入する混合手法により、本発明の製造方法を実施してもよい。また一括投入により形成された反応液は、速やかに、続く後処理（失活）工程に付されるが、反応容器における滞留時間（すなわち、反応試剤が反応容器外へ排出されるか、反応容器内で失活処理に付されるまでの時間）が１分以内となるように処理することが好ましい。
【0037】
反応終了後、得られた反応液は通常の方法で後処理を行うことができる。後処理の方法としては、特に限定されないが、例えば、水又は酸性水溶液（希塩酸など）で得られた反応液中の有機金属ハロゲン化物を失活（クエンチ）させ、次いで洗浄を行い、酸成分及び無機塩などを反応系内から除去する処理などが挙げられる。さらに所望により、目的の前記一般式（３）の化合物の性質に従い、蒸留、再結晶、クロマトグラフィーなどの一般的な方法によりさらに分離、精製してもよい。
【実施例0038】
以下に、本発明を具体的な実施例により示すが、本発明は実施例の内容に制限されるものではない。
【0039】
実施例、比較例で得られた反応液及び目的物の純度は、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）、高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）を用いて測定した。
【0040】
＜ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）＞
ＧＣ装置 ：ＧＣ－２０３０（株式会社島津製作所製）
カラム ：ＨＰ－Ｕｌｔｒａ１（アジレント・テクノロジー社製）
（Ｉ．Ｄ．０．３２ｍｍ×２５ｍ、０．５２μｍ）
カラム温度 ：１００℃→［１０℃／分で昇温］→２８０℃［10分保持］
気化室温度 ：２８０℃
検出器温度 ：３００℃
キャリヤーガス ：ヘリウムガス
検出器 ：水素炎イオン化検出器（ＦＩＤ）
ＧＣ装置 ：ＧＣ－２０３０（株式会社島津製作所製）
カラム ：ＨＰ－Ｕｌｔｒａ１（アジレント・テクノロジー社製）
（Ｉ．Ｄ．０．３２ｍｍ×２５ｍ、０．５２μｍ）
カラム温度 ：１００℃→［１０℃／分で昇温］→２８０℃［10分保持］
気化室温度 ：２８０℃
検出器温度 ：３００℃
キャリヤーガス ：ヘリウムガス
検出器 ：水素炎イオン化検出器（ＦＩＤ）
【0041】
＜高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）＞
検出器 ：ＳＰＤ－２０Ａ（株式会社島津製作所製）
オーブン ：ＣＴＯ－２０Ａ（株式会社島津製作所製）
ポンプ ：ＬＣ－２０ＡＤ（株式会社島津製作所製）
カラム ：ＯＤＳ－８０Ｔｍ（東ソー株式会社製）
カラム温度 ：４０℃
移動相 ：アセトニトリル：水＝７００：３００（０～４０ｍｉｎ）
流速 ：１．０ｍＬ／ｍｉｎ
波長 ：２５４ｎｍ
検出器 ：ＳＰＤ－２０Ａ（株式会社島津製作所製）
オーブン ：ＣＴＯ－２０Ａ（株式会社島津製作所製）
ポンプ ：ＬＣ－２０ＡＤ（株式会社島津製作所製）
カラム ：ＯＤＳ－８０Ｔｍ（東ソー株式会社製）
カラム温度 ：４０℃
移動相 ：アセトニトリル：水＝７００：３００（０～４０ｍｉｎ）
流速 ：１．０ｍＬ／ｍｉｎ
波長 ：２５４ｎｍ
【0042】
（合成例１）
攪拌装置、温度計、Ｕ字管、還流冷却器を備えた１Ｌガラス製フラスコを用いて、アルゴン雰囲気下、２－ナフトール８０．０ｇ（０．５５ｍｏｌ）（富士フイルム和光純薬（株）製）及びｐ－トルエンスルホニルクロリド１１１．９ｇ（０．５８ｍｏｌ）（東京化成工業（株）製）、塩化メチレン８００ｇを加えて、攪拌しながら、１０～２０℃にてトリエチルアミン６１．８ｇ（０．６１ｍｏｌ）（東京化成工業（株）製）を滴下することで反応を進行させた。同温度で１時間反応させた後、１Ｍ塩酸水溶液で酸洗浄し、水層を分離した。得られた有機層は水洗し、常圧下、濃縮操作により溶媒を留去した後、酢酸エチル４０８ｇを注入し、加温にて約７０℃まで昇温して溶解させた。次いで、内温５～１０℃まで徐冷し、析出した結晶をヌッチェにて固液分離した。得られた結晶は、４０℃減圧下で乾燥させて、ＧＣ純度９９．９％のｐ－トルエンスルホン酸２－ナフチル１４４．８ｇを収率８８％で得た。
攪拌装置、温度計、Ｕ字管、還流冷却器を備えた１Ｌガラス製フラスコを用いて、アルゴン雰囲気下、２－ナフトール８０．０ｇ（０．５５ｍｏｌ）（富士フイルム和光純薬（株）製）及びｐ－トルエンスルホニルクロリド１１１．９ｇ（０．５８ｍｏｌ）（東京化成工業（株）製）、塩化メチレン８００ｇを加えて、攪拌しながら、１０～２０℃にてトリエチルアミン６１．８ｇ（０．６１ｍｏｌ）（東京化成工業（株）製）を滴下することで反応を進行させた。同温度で１時間反応させた後、１Ｍ塩酸水溶液で酸洗浄し、水層を分離した。得られた有機層は水洗し、常圧下、濃縮操作により溶媒を留去した後、酢酸エチル４０８ｇを注入し、加温にて約７０℃まで昇温して溶解させた。次いで、内温５～１０℃まで徐冷し、析出した結晶をヌッチェにて固液分離した。得られた結晶は、４０℃減圧下で乾燥させて、ＧＣ純度９９．９％のｐ－トルエンスルホン酸２－ナフチル１４４．８ｇを収率８８％で得た。
【0043】
＜実施例１＞
（Ａ溶液（p－トルエンスルホン酸２－ナフチル＋触媒／トルエン溶液）の調製）
アルゴン雰囲気下、ｐ－トルエンスルホン酸２－ナフチル２０．９ｇ（０．０７ｍｏｌ）（マナック（株）製）、１，３－ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパンニッケル（II）クロリド２．３ｇ（４．２１ｍｍｏｌ）（東京化成工業（株）製）、トルエン３５０ｇを混合したものをＡ溶液とした。
（Ｂ溶液（Ｇｒｉｇｎａｒｄ試薬／テトラヒドロフラン溶液）の調製）
攪拌装置、温度計、Ｕ字管、還流冷却器を備えた１００ｍＬガラス製フラスコを用いて、アルゴン雰囲気下、マグネシウム０．８ｇ（０．０３ｍｏｌ）（山石金属（株）製）、テトラヒドロフラン５３．４ｇを加えて、攪拌しながら、内温２０～３０℃にて、ブロモベンゼン４．７ｇ（０．０３ｍｏｌ）（マナック（株）製）を滴下し、同温度で１時間反応させて、約０．５Ｍフェニルマグネシウムブロミドテトラヒドロフラン溶液を得た。これをＢ溶液とした。
（２－フェニルナフタレンの製造）
Ａ液（４．００ｍＬ／分）、Ｂ液（２．１３ｍＬ／分）を、フローリアクターに備えられた２つの送液管のそれぞれから送液し、２０～３０℃水浴下に固定したＴ字管ミキサー（φ１．５ｍｍ）（ＧＬサイエンス（株）製フランジ型３方ジョイント）に続く排出管（内径１．０ｍｍ、長さ６８ｃｍ）内で混合することにより、反応を行った。反応管及び排出管を通った反応液は、希塩酸を張ったサンプル瓶に直接注入することでクエンチを行った。この時のＨＰＬＣ反応純度は、９６．３％（ビナフチル体０．４１％、目的物／ビナフチル体比率＝２３５）であった。
次いで得られた反応液は、カラムクロマトグラフィーなどの精製手段を用いて、精製してもよい。
（Ａ溶液（p－トルエンスルホン酸２－ナフチル＋触媒／トルエン溶液）の調製）
アルゴン雰囲気下、ｐ－トルエンスルホン酸２－ナフチル２０．９ｇ（０．０７ｍｏｌ）（マナック（株）製）、１，３－ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパンニッケル（II）クロリド２．３ｇ（４．２１ｍｍｏｌ）（東京化成工業（株）製）、トルエン３５０ｇを混合したものをＡ溶液とした。
（Ｂ溶液（Ｇｒｉｇｎａｒｄ試薬／テトラヒドロフラン溶液）の調製）
攪拌装置、温度計、Ｕ字管、還流冷却器を備えた１００ｍＬガラス製フラスコを用いて、アルゴン雰囲気下、マグネシウム０．８ｇ（０．０３ｍｏｌ）（山石金属（株）製）、テトラヒドロフラン５３．４ｇを加えて、攪拌しながら、内温２０～３０℃にて、ブロモベンゼン４．７ｇ（０．０３ｍｏｌ）（マナック（株）製）を滴下し、同温度で１時間反応させて、約０．５Ｍフェニルマグネシウムブロミドテトラヒドロフラン溶液を得た。これをＢ溶液とした。
（２－フェニルナフタレンの製造）
Ａ液（４．００ｍＬ／分）、Ｂ液（２．１３ｍＬ／分）を、フローリアクターに備えられた２つの送液管のそれぞれから送液し、２０～３０℃水浴下に固定したＴ字管ミキサー（φ１．５ｍｍ）（ＧＬサイエンス（株）製フランジ型３方ジョイント）に続く排出管（内径１．０ｍｍ、長さ６８ｃｍ）内で混合することにより、反応を行った。反応管及び排出管を通った反応液は、希塩酸を張ったサンプル瓶に直接注入することでクエンチを行った。この時のＨＰＬＣ反応純度は、９６．３％（ビナフチル体０．４１％、目的物／ビナフチル体比率＝２３５）であった。
次いで得られた反応液は、カラムクロマトグラフィーなどの精製手段を用いて、精製してもよい。
【0044】
＜実施例２＞
Ａ液（４．００ｍＬ／分）、Ｂ液（１．５５ｍＬ／分）とした以外は、実施例１と同様の条件にて反応を実施した。この時のＨＰＬＣ反応純度は、９３．４％（ビナフチル体０．４８％、目的物／ビナフチル体比率＝１９５）であった。
Ａ液（４．００ｍＬ／分）、Ｂ液（１．５５ｍＬ／分）とした以外は、実施例１と同様の条件にて反応を実施した。この時のＨＰＬＣ反応純度は、９３．４％（ビナフチル体０．４８％、目的物／ビナフチル体比率＝１９５）であった。
【0045】
＜実施例３＞
Ａ液（４．００ｍＬ／分）、Ｂ液（２．７６ｍＬ／分）とした以外は、実施例１と同様の条件にて反応を実施した。この時のＨＰＬＣ反応純度は、９５．８％（ビナフチル体０．２０％、目的物／ビナフチル体比率＝４７９）であった。
Ａ液（４．００ｍＬ／分）、Ｂ液（２．７６ｍＬ／分）とした以外は、実施例１と同様の条件にて反応を実施した。この時のＨＰＬＣ反応純度は、９５．８％（ビナフチル体０．２０％、目的物／ビナフチル体比率＝４７９）であった。
【0046】
＜実施例４＞
Ａ液（４．００ｍＬ／分）、Ｂ液（３．８４ｍＬ／分）とした以外は、実施例１と同様の条件にて反応を実施した。この時のＨＰＬＣ反応純度は、９４．９％（ビナフチル体０．１４％、目的物／ビナフチル体比率＝６７８）であった。
Ａ液（４．００ｍＬ／分）、Ｂ液（３．８４ｍＬ／分）とした以外は、実施例１と同様の条件にて反応を実施した。この時のＨＰＬＣ反応純度は、９４．９％（ビナフチル体０．１４％、目的物／ビナフチル体比率＝６７８）であった。
【0047】
＜実施例５＞
Ａ溶液の調製に用いたトルエンを塩化メチレンへ変更した以外は、実施例１と同様の条件にて反応を実施した。この時のＨＰＬＣ純度は、５７．５％（ビナフチル体０．２４％、目的物／ビナフチル比率＝２４０）であった。
Ａ溶液の調製に用いたトルエンを塩化メチレンへ変更した以外は、実施例１と同様の条件にて反応を実施した。この時のＨＰＬＣ純度は、５７．５％（ビナフチル体０．２４％、目的物／ビナフチル比率＝２４０）であった。
【0048】
＜実施例６＞
Ａ溶液の調製に用いたp－トルエンスルホン酸２－ナフチルを２－ナフチルジメチルスルファメートに変更した以外は、実施例１と同様の条件にて反応を実施した。この時のＨＰＬＣ純度は、９０．３％（ビナフチル体０．１４％、目的物／ビナフチル体比率＝６４５）であった。
Ａ溶液の調製に用いたp－トルエンスルホン酸２－ナフチルを２－ナフチルジメチルスルファメートに変更した以外は、実施例１と同様の条件にて反応を実施した。この時のＨＰＬＣ純度は、９０．３％（ビナフチル体０．１４％、目的物／ビナフチル体比率＝６４５）であった。
【0049】
＜実施例７＞
Ｂ溶液の調製に用いたブロモベンゼンを４－ブロモトルエン（マナック（株）製）に変更した以外は、実施例１と同様の条件にて反応させた。この時のＨＰＬＣ反応純度は、９２．０％（ビナフチル体０．２８％、目的物／ビナフチル体比率＝３２９）であった。
Ｂ溶液の調製に用いたブロモベンゼンを４－ブロモトルエン（マナック（株）製）に変更した以外は、実施例１と同様の条件にて反応させた。この時のＨＰＬＣ反応純度は、９２．０％（ビナフチル体０．２８％、目的物／ビナフチル体比率＝３２９）であった。
【0050】
＜実施例８＞
Ｂ溶液の調製に用いたブロモベンゼンを４－ブロモアニソール（マナック（株）製）に変更した以外は、実施例１と同様の条件にて反応させた。この時のＨＰＬＣ反応純度は、９４．７％（ビナフチル体０．２３％、目的物／ビナフチル体比率＝４１２）であった。
Ｂ溶液の調製に用いたブロモベンゼンを４－ブロモアニソール（マナック（株）製）に変更した以外は、実施例１と同様の条件にて反応させた。この時のＨＰＬＣ反応純度は、９４．７％（ビナフチル体０．２３％、目的物／ビナフチル体比率＝４１２）であった。
【0051】
＜実施例９＞
アルゴン置換した試験管へ撹拌子、p－トルエンスルホン酸２－ナフチル２９８ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）、（マナック（株）製）、１，３－ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパンニッケル（II）クロリド３２．５ｍｇ（０．０６ｍｍｏｌ）（東京化成工業（株）製）、ＴＨＦ２５０ｍｇを仕込み、マグネチックスターラーにて撹拌を開始した。次いで、オイルバスにて内温２０～３０度に調温した後、実施例１で調製したＢ液；０．５Ｍフェニルマグネシウムブロミドテトラヒドロフラン溶液６．０ｍＬ（３．０ｍｍｏｌ）をシリンジにて一括注入し、反応させた。反応時は瞬間的に沸騰する様子が確認された。注入して３０秒後、希塩酸を加え、クエンチを行った。この時のＨＰＬＣ純度は、７７．３％（ビナフチル体０．３％、目的物／ビナフチル比率＝２５８）であった。
アルゴン置換した試験管へ撹拌子、p－トルエンスルホン酸２－ナフチル２９８ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）、（マナック（株）製）、１，３－ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパンニッケル（II）クロリド３２．５ｍｇ（０．０６ｍｍｏｌ）（東京化成工業（株）製）、ＴＨＦ２５０ｍｇを仕込み、マグネチックスターラーにて撹拌を開始した。次いで、オイルバスにて内温２０～３０度に調温した後、実施例１で調製したＢ液；０．５Ｍフェニルマグネシウムブロミドテトラヒドロフラン溶液６．０ｍＬ（３．０ｍｍｏｌ）をシリンジにて一括注入し、反応させた。反応時は瞬間的に沸騰する様子が確認された。注入して３０秒後、希塩酸を加え、クエンチを行った。この時のＨＰＬＣ純度は、７７．３％（ビナフチル体０．３％、目的物／ビナフチル比率＝２５８）であった。
【0052】
＜実施例１０＞
ニッケル化合物を１，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）エタンニッケル（II）クロリド３１．６ｍｇ（０．０６ｍｍｏｌ）に変更した以外は、実施例９と同様の条件にて反応させた。この時のＨＰＬＣ反応純度は、８５．６％（ビナフチル体０．４％、目的物／ビナフチル体比率＝２１４）であった。
ニッケル化合物を１，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）エタンニッケル（II）クロリド３１．６ｍｇ（０．０６ｍｍｏｌ）に変更した以外は、実施例９と同様の条件にて反応させた。この時のＨＰＬＣ反応純度は、８５．６％（ビナフチル体０．４％、目的物／ビナフチル体比率＝２１４）であった。
【0053】
＜比較例１＞
撹拌装置、冷却管、温度計、滴下漏斗を備えた１００ｍＬのガラス製四つ口フラスコをアルゴン置換した後、p－トルエンスルホン酸２－ナフチル２９８ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）、（マナック（株）製）、１，３－ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパンニッケル（II）クロリド３２．５ｍｇ（０．０６ｍｍｏｌ）（東京化成工業（株）製）、ＴＨＦ２５０ｍｇを仕込み、撹拌を開始した。次いで、オイルバスにて内温２０～３０℃に調温した後、実施例１で調製したＢ液；０．５Ｍフェニルマグネシウムブロミドテトラヒドロフラン溶液６．０ｍＬ（３．０ｍｍｏｌ）をシリンジポンプにより約３時間で滴下し、反応させた。反応終了後、希塩酸を加え、クエンチを行った。この時のＨＰＬＣ反応純度は、６８．５％（ビナフチル体１２．１％、目的物／ビナフチル体比率＝５．７）であった。
撹拌装置、冷却管、温度計、滴下漏斗を備えた１００ｍＬのガラス製四つ口フラスコをアルゴン置換した後、p－トルエンスルホン酸２－ナフチル２９８ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）、（マナック（株）製）、１，３－ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパンニッケル（II）クロリド３２．５ｍｇ（０．０６ｍｍｏｌ）（東京化成工業（株）製）、ＴＨＦ２５０ｍｇを仕込み、撹拌を開始した。次いで、オイルバスにて内温２０～３０℃に調温した後、実施例１で調製したＢ液；０．５Ｍフェニルマグネシウムブロミドテトラヒドロフラン溶液６．０ｍＬ（３．０ｍｍｏｌ）をシリンジポンプにより約３時間で滴下し、反応させた。反応終了後、希塩酸を加え、クエンチを行った。この時のＨＰＬＣ反応純度は、６８．５％（ビナフチル体１２．１％、目的物／ビナフチル体比率＝５．７）であった。
【0054】
＜比較例２＞
オイルバスを内温６０～６５℃に調温した以外は、比較例１と同様の条件にて反応させた。この時のＨＰＬＣ反応純度は、７６．６％（ビナフチル体６．４％、目的物／ビナフチル体比率＝１２）であった。
オイルバスを内温６０～６５℃に調温した以外は、比較例１と同様の条件にて反応させた。この時のＨＰＬＣ反応純度は、７６．６％（ビナフチル体６．４％、目的物／ビナフチル体比率＝１２）であった。
【0055】
＜比較例３＞
Ａ溶液の調製に用いたトルエンを塩化メチレン（１７０ｍｇ）へ変更し、１，３－ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパンニッケル（II）クロリドの添加量を２．７ｍｇ（０．００５ｍｍｏｌ）に変更した以外は、比較例１と同様の条件にて反応させた。この時のＨＰＬＣ反応純度は、４９．１％（ビナフチル体３．３％、目的物／ビナフチル体比率＝１５）であった。
Ａ溶液の調製に用いたトルエンを塩化メチレン（１７０ｍｇ）へ変更し、１，３－ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパンニッケル（II）クロリドの添加量を２．７ｍｇ（０．００５ｍｍｏｌ）に変更した以外は、比較例１と同様の条件にて反応させた。この時のＨＰＬＣ反応純度は、４９．１％（ビナフチル体３．３％、目的物／ビナフチル体比率＝１５）であった。
【0056】
＜比較例４＞
ニッケル化合物をビス（トリフェニルホスフィン）ニッケル（II）ジクロリド３９．２ｍｇ（０．０６ｍｍｏｌ）に変更した以外は、比較例２と同様の条件にて反応させた。この時のＨＰＬＣ反応純度は、６８．５％（ビナフチル体７．２％、目的物／ビナフチル体比率＝９．５）であった。
ニッケル化合物をビス（トリフェニルホスフィン）ニッケル（II）ジクロリド３９．２ｍｇ（０．０６ｍｍｏｌ）に変更した以外は、比較例２と同様の条件にて反応させた。この時のＨＰＬＣ反応純度は、６８．５％（ビナフチル体７．２％、目的物／ビナフチル体比率＝９．５）であった。
【産業上の利用可能性】
【0057】
本発明の製造方法によれば、有機ＥＬ分野において、有用な有機合成中間体である２－ナフチル誘導体を選択的かつ効率的に製造することができる。特に、実施例１～９で示したように、反応液の滞留時間を、特定の反応装置（フローリアクター）や混合方法（一括投入）を用いて極めて短時間に制御することにより、ビナフチル体のような除去が困難な不純物の副生を抑制することが可能なため、工業的にも有用であると期待できる。