2025-25903 表示装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2025025903

(43)【公開日】2025-02-21

(54)【発明の名称】表示装置

(51)【国際特許分類】

   G09F 9/30 20060101AFI20250214BHJP

   H10K 50/844 20230101ALI20250214BHJP

   H10K 59/35 20230101ALI20250214BHJP

   H10K 59/38 20230101ALI20250214BHJP

   G02B 5/20 20060101ALI20250214BHJP

【ＦＩ】

G09F9/30 349B

H10K50/844

H10K59/35

H10K59/38

G02B5/20 101

G09F9/30 365

G09F9/30 309

G09F9/30 349C

G09F9/30 348A

【審査請求】未請求

【請求項の数】6

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023131127

(22)【出願日】2023-08-10

(71)【出願人】

【識別番号】502356528

【氏名又は名称】株式会社ジャパンディスプレイ

(74)【代理人】

【識別番号】110001737

【氏名又は名称】弁理士法人スズエ国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】長澤 順子

(72)【発明者】

【氏名】前出 優次

【テーマコード（参考）】

2H148

3K107

5C094

【Ｆターム（参考）】

2H148BD01

2H148BG06

2H148BH28

3K107AA01

3K107BB01

3K107CC23

3K107CC45

3K107EE22

3K107EE27

3K107FF15

5C094AA43

5C094AA44

5C094BA27

5C094DA07

5C094ED02

5C094ED14

5C094ED15

(57)【要約】

【課題】製造負荷を低減すること、及び、コストを削減することが可能な表示装置を提供する。
【解決手段】複数の画素と、絶縁基板と、前記絶縁基板の上に位置し、有機発光層を含む有機エレクトロルミネッセンス素子と、前記有機エレクトロルミネッセンス素子を封止する封止層と、前記封止層の上に位置し、第１色の第１カラーフィルタと、前記第１色とは異なる色の第２色の第２カラーフィルタと、前記第１色及び前記第２色とは異なる色の第３色の第３カラーフィルタと、を有するカラーフィルタ層と、それぞれの前記画素において、第１画素開口、第２画素開口、及び、第３画素開口と、前記第１画素開口、前記第２画素開口、及び、前記第３画素開口のそれぞれを囲み、前記第１カラーフィルタ、前記第２カラーフィルタ、及び、前記第３カラーフィルタが互いに積層された遮光領域と、を備える、表示装置。
【選択図】 図５

【特許請求の範囲】

【請求項1】

複数の画素と、
絶縁基板と、
前記絶縁基板の上に位置し、有機発光層を含む有機エレクトロルミネッセンス素子と、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子を封止する封止層と、
前記封止層の上に位置し、第１色の第１カラーフィルタと、前記第１色とは異なる色の第２色の第２カラーフィルタと、前記第１色及び前記第２色とは異なる色の第３色の第３カラーフィルタと、を有するカラーフィルタ層と、
それぞれの前記画素において、前記第１カラーフィルタが位置する第１画素開口、前記第２カラーフィルタが位置する第２画素開口、及び、前記第３カラーフィルタが位置する第３画素開口と、
前記第１画素開口、前記第２画素開口、及び、前記第３画素開口のそれぞれを囲み、前記第１カラーフィルタ、前記第２カラーフィルタ、及び、前記第３カラーフィルタが互いに積層された遮光領域と、を備える、表示装置。

【請求項2】

さらに、前記有機エレクトロルミネッセンス素子に対して前記絶縁基板の側とは反対側に表示面を有し、
前記第１カラーフィルタ、前記第２カラーフィルタ、及び、前記第３カラーフィルタは、前記遮光領域において、前記絶縁基板の側から前記表示面の側に向かって積層されている、請求項１に記載の表示装置。

【請求項3】

前記第１カラーフィルタは、前記第３画素開口と重なる位置に第１開口を有し、前記第２画素開口と重なる位置に第２開口を有し、
前記第２カラーフィルタは、前記第３画素開口と重なる位置に第３開口を有し、前記第１画素開口と重なる位置に第４開口を有し、
前記第３カラーフィルタは、前記第１画素開口と重なる位置に第５開口を有し、前記第２画素開口と重なる位置に第６開口を有する、請求項１に記載の表示装置。

【請求項4】

さらに、前記封止層と前記カラーフィルタ層との間に位置するオーバーコート層を備え、
前記オーバーコート層は、前記遮光領域と重なる溝部を有し、
前記第１カラーフィルタ、前記第２カラーフィルタ、及び、前記第３カラーフィルタは、前記溝部と重なる位置において互いに積層され、
前記第１カラーフィルタの一部は、前記溝部の内部に位置する、請求項１に記載の表示装置。

【請求項5】

前記溝部は、前記第１画素開口、前記第２画素開口、及び、前記第３画素開口のそれぞれを囲む、請求項４に記載の表示装置。

【請求項6】

前記第３画素開口は、第１方向に延出し、
前記第１画素開口は、前記第３画素開口の前記第１方向と交差する第２方向に並び、
前記第２画素開口は、前記第３画素開口の前記第２方向に並び、前記第１画素開口の前記第１方向に並ぶ、請求項１に記載の表示装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明の実施形態は、表示装置に関する。

【背景技術】

【0002】

近年、表示素子として有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）を適用した有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置が実用化されている。有機ＥＬ表示装置は、ＯＬＥＤを封止する封止層を備えている。このような有機ＥＬ表示装置において、偏光板が設けられずに、封止層の上にカラーフィルタ層が形成される構成が知られている。
また、赤、緑、青の画素を形成するための各色のカラーフィルタ層を重ね合わせることで遮光層やスペーサを形成したカラーフィルタ形成基板が知られている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】米国特許出願公開第２０２２／０１０２６７４号明細書

【特許文献2】米国特許出願公開第２０２１／０２３４１３４号明細書

【特許文献3】特開２００８－２８１９１９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

本実施形態の目的は、製造負荷を低減すること、及び、コストを削減することが可能な表示装置を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本実施形態によれば、複数の画素と、絶縁基板と、前記絶縁基板の上に位置し、有機発光層を含む有機エレクトロルミネッセンス素子と、前記有機エレクトロルミネッセンス素子を封止する封止層と、前記封止層の上に位置し、第１色の第１カラーフィルタと、前記第１色とは異なる色の第２色の第２カラーフィルタと、前記第１色及び前記第２色とは異なる色の第３色の第３カラーフィルタと、を有するカラーフィルタ層と、それぞれの前記画素において、前記第１カラーフィルタが位置する第１画素開口、前記第２カラーフィルタが位置する第２画素開口、及び、前記第３カラーフィルタが位置する第３画素開口と、前記第１画素開口、前記第２画素開口、及び、前記第３画素開口のそれぞれを囲み、前記第１カラーフィルタ、前記第２カラーフィルタ、及び、前記第３カラーフィルタが互いに積層された遮光領域と、を備える、表示装置が提供される。

【図面の簡単な説明】

【0006】

【図1】図１は、本実施形態に係る表示装置を概略的に示す平面図である。

【図2】図２は、図１に示した表示装置の表示領域を示す断面図である。

【図3】図３は、１つの画素に配置されたカラーフィルタ層のレイアウトを示す平面図である。

【図4】図４は、１つの画素の遮光領域のレイアウトを示す平面図である。

【図5】図５は、図４に示したＡ－Ｂ線に沿った表示パネルの断面図である。

【図6】図６は、図４に示したＣ－Ｄ線に沿った表示パネルの断面図である。

【図7】図７は、図４に示したＥ－Ｆ線に沿った表示パネルの断面図である。

【図8】図８は、１つの画素の遮光領域及び溝部のレイアウトを示す平面図である。

【図9】図９は、図８に示したＡ－Ｂ線に沿った表示パネルの断面図である。

【図10】図１０は、図８に示したＣ－Ｄ線に沿った表示パネルの断面図である。

【図11】図１１は、図８に示したＥ－Ｆ線に沿った表示パネルの断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0007】

以下、本実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。

【0008】

［第１実施形態］
まず、図１乃至図７を参照して、第１実施形態の構成について説明する。

【0009】

図１は、本実施形態に係る表示装置ＤＳＰを概略的に示す平面図である。本実施形態の表示装置ＤＳＰは、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置である。

【0010】

一例では、第１方向Ｘ、第２方向Ｙ、及び、第３方向Ｚは、互いに直交しているが、９０度以外の角度で交差していてもよい。第１方向Ｘ及び第２方向Ｙは、表示装置ＤＳＰを構成する基板の主面と平行な方向に相当し、第３方向Ｚは、表示装置ＤＳＰの厚さ方向に相当する。本明細書において、第３方向Ｚを示す矢印の先端に向かう方向を上とし、矢印の先端から逆に向かう方向を下とする。また、第３方向Ｚを示す矢印の先端側に表示装置ＤＳＰを観察する観察位置があるものとし、この観察位置から、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙで規定されるＸ－Ｙ平面に向かって見ることを平面視という。

【0011】

表示装置ＤＳＰは、表示パネルＰＮＬと、表示パネルＰＮＬに実装された配線基板１と、を備えている。

【0012】

表示パネルＰＮＬは、有機ＥＬ表示パネルであり、第１基板ＳＵＢ１と、第１基板ＳＵＢ１と対向する第２基板ＳＵＢ２と、を備えている。第１基板ＳＵＢ１は、第２基板ＳＵＢ２よりも外側に露出した実装部ＭＴを有している。表示パネルＰＮＬは、画像を表示する表示領域ＤＡと、表示領域ＤＡを囲む非表示領域ＮＤＡと、を備えている。表示パネルＰＮＬは、表示領域ＤＡにおいて第１方向Ｘ及び第２方向Ｙにマトリクス状に配置された複数の画素ＰＸを備えている。

【0013】

画素ＰＸは、緑色（Ｇ）を表示する副画素ＳＰＸ１、赤色（Ｒ）を表示する副画素ＳＰＸ２、青色（Ｂ）を表示する副画素ＳＰＸ３によって構成されている。画素ＰＸ内において、副画素ＳＰＸ３は、第１方向Ｘに延出している。副画素ＳＰＸ１は、副画素ＳＰＸ３の第２方向Ｙに並んでいる。副画素ＳＰＸ２は、副画素ＳＰＸ３の第２方向Ｙに並び、副画素ＳＰＸ１の第１方向Ｘに並んでいる。

【0014】

なお、各副画素の大きさ、配置、色は図示した例に限らない。また、図示した例では、同一の副画素のパターンを有する画素ＰＸがマトリクス状に並んでいるが、これに限定されず、それぞれの画素ＰＸにおいて、各副画素の大きさ、配置、色が互いに異なっていてもよい。

【0015】

配線基板１は、フレキシブル基板であり、実装部ＭＴに実装されている。表示パネルＰＮＬ及び配線基板１は、互いに電気的に接続されている。また、配線基板１は、表示パネルＰＮＬを駆動する駆動ＩＣチップ２を備えている。なお、駆動ＩＣチップ２は、実装部ＭＴに実装されても良い。

【0016】

図２は、図１に示した表示装置ＤＳＰの表示領域ＤＡを示す断面図である。
図２に示すように、表示パネルＰＮＬは、絶縁基板１０、スイッチング素子ＳＷ１、ＳＷ２、ＳＷ３、反射層４、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子ＯＬＥＤ１、ＯＬＥＤ２、ＯＬＥＤ３、封止層４１、オーバーコート層ＯＣ、カラーフィルタ層ＣＦ、接着層ＡＤ、封止基板２０等を備えている。

【0017】

絶縁基板１０は、ガラス基板であってもよいし、可撓性を有する樹脂フィルムであってもよい。第１絶縁膜１１は、絶縁基板１０を覆っている。

【0018】

スイッチング素子ＳＷ１、ＳＷ２、ＳＷ３は、第１絶縁膜１１の上に形成されている。図示した例では、スイッチング素子ＳＷ１、ＳＷ２、ＳＷ３はトップゲート型の薄膜トランジスタで構成されているが、ボトムゲート型の薄膜トランジスタで構成されていても良い。スイッチング素子ＳＷ１、ＳＷ２、ＳＷ３は、同一構成であるため、以下、スイッチング素子ＳＷ１に着目してその構造をより詳細に説明する。スイッチング素子ＳＷ１は、第１絶縁膜１１の上に形成された半導体層ＳＣを備えている。半導体層ＳＣは、第２絶縁膜１２によって覆われている。また、第２絶縁膜１２は、第１絶縁膜１１の上にも配置されている。

【0019】

スイッチング素子ＳＷ１のゲート電極ＷＧは、第２絶縁膜１２の上に形成され、半導体層ＳＣの直上に位置している。ゲート電極ＷＧは、第３絶縁膜１３によって覆われている。また、第３絶縁膜１３は、第２絶縁膜１２の上にも配置されている。

【0020】

このような第１絶縁膜１１、第２絶縁膜１２、及び、第３絶縁膜１３は、例えば、シリコン酸化物やシリコン窒化物等の無機系材料によって形成された無機絶縁膜である。

【0021】

スイッチング素子ＳＷ１のソース電極ＷＳ及びドレイン電極ＷＤは、第３絶縁膜１３の上に形成されている。ソース電極ＷＳ及びドレイン電極ＷＤは、それぞれ第２絶縁膜１２及び第３絶縁膜１３を貫通するコンタクトホールを通して半導体層ＳＣと電気的に接続されている。スイッチング素子ＳＷ１は、第４絶縁膜１４によって覆われている。第４絶縁膜１４は、第３絶縁膜１３の上にも配置されている。このような第４絶縁膜１４は、例えば、透明な樹脂等の有機系材料によって形成されている。

【0022】

反射層４は、第４絶縁膜１４の上に形成されている。反射層４は、アルミニウムや銀等の光反射率が高い金属材料で形成される。なお、反射層４の上面は、平坦面であっても良いし、光散乱性を付与するための凹凸面であっても良い。

【0023】

有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３は、第４絶縁膜１４の上に形成されている。すなわち、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３は、絶縁基板１０の上に位置している。図示した例では、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１はスイッチング素子ＳＷ１と電気的に接続され、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ２はスイッチング素子ＳＷ２と電気的に接続され、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ３はスイッチング素子ＳＷ３と電気的に接続されている。有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３は、それぞれ封止基板２０の側に向かって緑色光、赤色光、青色光を放射するトップエミッションタイプとして構成されている。このような有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３は、いずれも同一構造である。図示した例では、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３は、それぞれリブ１５によって区画されている。

【0024】

有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１は、反射層４の上に形成された画素電極ＰＥ１を備えている。画素電極ＰＥ１は、スイッチング素子ＳＷ１のドレイン電極ＷＤとコンタクトし、スイッチング素子ＳＷ１と電気的に接続されている。同様に、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ２はスイッチング素子ＳＷ２と電気的に接続された画素電極ＰＥ２を備え、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ３はスイッチング素子ＳＷ３と電気的に接続された画素電極ＰＥ３を備えている。画素電極ＰＥ１、ＰＥ２、ＰＥ３は、例えば、インジウム・ティン・オキサイド（ＩＴＯ）やインジウム・ジンク・オキサイド（ＩＺＯ）等の透明な導電材料によって形成されている。

【0025】

例えば、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１は緑色に発光する有機発光層ＯＲＧＧを備え、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ２は赤色に発光する有機発光層ＯＲＧＲを備え、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ３は青色に発光する有機発光層ＯＲＧＢを備えている。有機発光層ＯＲＧＧは、画素電極ＰＥ１の上に位置し、有機発光層ＯＲＧＲは、画素電極ＰＥ２の上に位置し、有機発光層ＯＲＧＢは、画素電極ＰＥ３の上に位置している。

【0026】

有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３は、共通電極ＣＥを備えている。共通電極ＣＥは、有機発光層ＯＲＧＧ、ＯＲＧＲ、ＯＲＧＢの上に位置している。共通電極ＣＥは、リブ１５の上にも位置している。画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥのうち、一方が陽極であり、他方が陰極である。共通電極ＣＥは、例えば、ＭｇＡｇ合金によって形成されている。

【0027】

封止層４１は、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１、ＯＬＥＤ２、ＯＬＥＤ３を封止している。また、封止層４１は、絶縁基板１０との間に配置された部材を封止している。封止層４１は、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１、ＯＬＥＤ２、ＯＬＥＤ３への酸素や水分の侵入を抑制し、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１、ＯＬＥＤ２、ＯＬＥＤ３の劣化を抑制する。例えば、封止層４１は、無機膜、有機膜、無機膜の積層体によって構成されている。封止層４１を構成する無機膜は、例えば、シリコン窒化物を用いて形成されている。

【0028】

オーバーコート層ＯＣは、封止層４１を覆っている。オーバーコート層ＯＣは、封止層４１とカラーフィルタ層ＣＦとの間に位置している。オーバーコート層ＯＣは、例えば、透明な樹脂等の有機系材料によって形成されている。

【0029】

カラーフィルタ層ＣＦは、オーバーコート層ＯＣを覆っている。すなわち、カラーフィルタ層ＣＦは、封止層４１の上に位置している。カラーフィルタ層ＣＦは、第１色の第１カラーフィルタＣＦ１と、第１色とは異なる色の第２色の第２カラーフィルタＣＦ２と、第１色及び第２色とは異なる色の第３色の第３カラーフィルタＣＦ３と、を有している。

【0030】

第１色の第１カラーフィルタＣＦ１は、例えば、緑色のカラーフィルタである。第２色の第２カラーフィルタＣＦ２は、例えば、赤色のカラーフィルタである。第３色の第３カラーフィルタＣＦ３は、例えば、青色のカラーフィルタである。

【0031】

第１カラーフィルタＣＦ１は、緑色光を放射する有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１と重なっている。第２カラーフィルタＣＦ２は、赤色光を放射する有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ２と重なっている。第３カラーフィルタＣＦ３は、青色光を放射する有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ３と重なっている。
なお、第１カラーフィルタＣＦ１、第２カラーフィルタＣＦ２、及び、第３カラーフィルタＣＦ３の色は、上記した例に限定されず、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３の発光色に応じて適宜変更可能である。

【0032】

封止基板２０は、カラーフィルタ層ＣＦの上に位置し、接着層ＡＤを用いてカラーフィルタ層ＣＦに接着されている。すなわち、接着層ＡＤは、カラーフィルタ層ＣＦと封止基板２０との間に位置している。封止基板２０は、ガラス基板であってもよいし、可撓性を有する樹脂フィルムであってもよい。

【0033】

封止基板２０は、接着層ＡＤに接する面とは反対側に表示面２０Ｓを有している。つまり、表示パネルＰＮＬは、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１、ＯＬＥＤ２、ＯＬＥＤ３に対して、絶縁基板１０側とは反対側に表示面２０Ｓを有している。

【0034】

このような表示装置ＤＳＰにおいては、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３のそれぞれが発光した際に、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１は緑色の光を出射し、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ２は赤色の光を出射し、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ３は青色の光を出射する。そのため、表示装置ＤＳＰのカラー表示が実現される。

【0035】

図１に示した画素ＰＸは、例えば、カラー画像を構成する最小単位であり、上記の有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３を備えている。具体的には、副画素ＳＰＸ１は有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１を備え、副画素ＳＰＸ２は有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ２を備え、副画素ＳＰＸ３は有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ３を備えている。

【0036】

なお、上記の構成例では、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３はそれぞれ緑色に発光する有機発光層ＯＲＧＧ、赤色に発光する有機発光層ＯＲＧＲ、青色に発光する有機発光層ＯＲＧＢを備えていたが、これに限定されるものではない。有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３は共通の有機発光層を備えていても良い。このとき、例えば、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３は、白色光を出射する。本実施形態においては、表示パネルＰＮＬがカラーフィルタ層ＣＦを備えるため、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３が白色光を出射する場合にも表示装置ＤＳＰのカラー表示が実現される。

【0037】

また、本実施形態の表示パネルＰＮＬは封止基板２０の上に偏光板を備えず、代わりにカラーフィルタ層ＣＦが封止層４１の上に配置されている。そのため、カラーフィルタ層ＣＦによって共通電極ＣＥや反射層４での外光反射を抑制することができる。偏光板を用いて外光反射を抑制する場合と比較して、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３から出射された光の透過率を向上することができる。そのため、表示輝度の低下を抑制することができ消費電力を低減することができる。また、カラーフィルタ層ＣＦは、偏光板と比較して薄いため、表示パネルＰＮＬを薄型化することができる。さらに、偏光板を用いる場合のコストを削減することができる。

【0038】

図３は、１つの画素ＰＸに配置されたカラーフィルタ層ＣＦのレイアウトを示す平面図である。
図３（ａ）は、１つの画素ＰＸに配置された第１カラーフィルタＣＦ１のレイアウトを示す平面図である。図３（ｂ）は、１つの画素ＰＸに配置された第２カラーフィルタＣＦ２のレイアウトを示す平面図である。図３（ｃ）は、１つの画素ＰＸに配置された第３カラーフィルタＣＦ３のレイアウトを示す平面図である。

【0039】

図３（ａ）に示すように、第１カラーフィルタＣＦ１は、第１開口ＯＰ１及び第２開口ＯＰ２を有している。第１開口ＯＰ１及び第２開口ＯＰ２は、第２方向Ｙに並んでいる。また、第１カラーフィルタＣＦ１は、第１開口ＯＰ１に面する第１内縁ＥＧ１と、第２開口ＯＰ２に面する第２内縁ＥＧ２と、を有している。

【0040】

図３（ｂ）に示すように、第２カラーフィルタＣＦ２は、第３開口ＯＰ３及び第４開口ＯＰ４を有している。第３開口ＯＰ３及び第４開口ＯＰ４は、第２方向Ｙに並んでいる。また、第２カラーフィルタＣＦ２は、第３開口ＯＰ３に面する第３内縁ＥＧ３と、第４開口ＯＰ４に面する第４内縁ＥＧ４と、を有している。

【0041】

図３（ｃ）に示すように、第３カラーフィルタＣＦ３は、第５開口ＯＰ５及び第６開口ＯＰ６を有している。第５開口ＯＰ５及び第６開口ＯＰ６は、第１方向Ｘに並んでいる。また、第３カラーフィルタＣＦ３は、第５開口ＯＰ５に面する第５内縁ＥＧ５と、第６開口ＯＰ６に面する第６内縁ＥＧ６と、を有している。

【0042】

図４は、１つの画素ＰＸの遮光領域ＬＳＡのレイアウトを示す平面図である。図４に示す構成は、図３に示した第１カラーフィルタＣＦ１、第２カラーフィルタＣＦ２、及び、第３カラーフィルタＣＦ３が第３方向Ｚに重なった構成に相当する。

【0043】

表示パネルＰＮＬは、それぞれの画素ＰＸにおいて、第１カラーフィルタＣＦ１が位置する第１画素開口ＰＯＰ１、第２カラーフィルタＣＦ２が位置する第２画素開口ＰＯＰ２、及び、第３カラーフィルタＣＦ３が位置する第３画素開口ＰＯＰ３を有している。第１画素開口ＰＯＰ１、第２画素開口ＰＯＰ２、及び、第３画素開口ＰＯＰ３は、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３から出射された光を透過する領域に相当する。

【0044】

第３画素開口ＰＯＰ３は、第１方向Ｘに延出している。第１画素開口ＰＯＰ１は、第３画素開口ＰＯＰ３の第２方向Ｙに並んでいる。第２画素開口ＰＯＰ２は、第３画素開口ＰＯＰ３の第２方向Ｙに並び、第１画素開口ＰＯＰ１の第１方向Ｘに並んでいる。

【0045】

第１画素開口ＰＯＰ１は、第２カラーフィルタＣＦ２の第４開口ＯＰ４、及び、第３カラーフィルタＣＦ３の第５開口ＯＰ５と重なっている。第２画素開口ＰＯＰ２は、第１カラーフィルタＣＦ１の第２開口ＯＰ２、及び、第３カラーフィルタＣＦ３の第６開口ＯＰ６と重なっている。第３画素開口ＰＯＰ３は、第１カラーフィルタＣＦ１の第１開口ＯＰ１、及び、第２カラーフィルタＣＦ２の第３開口ＯＰ３と重なっている。

【0046】

表示パネルＰＮＬは、第１画素開口ＰＯＰ１、第２画素開口ＰＯＰ２、及び、第３画素開口ＰＯＰ３のそれぞれを囲む遮光領域ＬＳＡを有している。遮光領域ＬＳＡは、後述するように、第１カラーフィルタＣＦ１、第２カラーフィルタＣＦ２、及び、第３カラーフィルタＣＦ３が互いに積層されることで構成されている。遮光領域ＬＳＡは、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３から出射された光を遮光する領域に相当する。

【0047】

図５は、図４に示したＡ－Ｂ線に沿った表示パネルＰＮＬの断面図である。図５は、オーバーコート層ＯＣより上層の構成を図示している。
第１カラーフィルタＣＦ１、第２カラーフィルタＣＦ２、及び、第３カラーフィルタＣＦ３は、遮光領域ＬＳＡにおいて、第３方向Ｚに積層されている。つまり、第１カラーフィルタＣＦ１、第２カラーフィルタＣＦ２、及び、第３カラーフィルタＣＦ３は、遮光領域ＬＳＡにおいて、絶縁基板１０側から表示面２０Ｓ側に向かって積層されている。より具体的には、遮光領域ＬＳＡにおいて、第１カラーフィルタＣＦ１がオーバーコート層ＯＣに接し、第２カラーフィルタＣＦ２が第１カラーフィルタＣＦ１の上に位置し、第３カラーフィルタＣＦ３が第２カラーフィルタＣＦ２の上に位置している。

【0048】

第１画素開口ＰＯＰ１において、第１カラーフィルタＣＦ１がオーバーコート層ＯＣに接している。第２画素開口ＰＯＰ２において、第２カラーフィルタＣＦ２がオーバーコート層ＯＣに接している。第２画素開口ＰＯＰ２において、第２カラーフィルタＣＦ２は第２開口ＯＰ２の内部に位置している。

【0049】

第１カラーフィルタＣＦ１の第２内縁ＥＧ２は、第２カラーフィルタＣＦ２によって覆われている。第２カラーフィルタＣＦ２の第４内縁ＥＧ４、第３カラーフィルタＣＦ３の第５内縁ＥＧ５及び第６内縁ＥＧ６は、接着層ＡＤに接している。

【0050】

図６は、図４に示したＣ－Ｄ線に沿った表示パネルＰＮＬの断面図である。
第１カラーフィルタＣＦ１、第２カラーフィルタＣＦ２、及び、第３カラーフィルタＣＦ３は、遮光領域ＬＳＡにおいて、絶縁基板１０側から表示面２０Ｓ側に向かって積層されている。

【0051】

第３画素開口ＰＯＰ３において、第３カラーフィルタＣＦ３がオーバーコート層ＯＣに接している。第３画素開口ＰＯＰ３において、第３カラーフィルタＣＦ３は第１開口ＯＰ１の内部に位置している。

【0052】

第１カラーフィルタＣＦ１の第１内縁ＥＧ１は、第３カラーフィルタＣＦ３によって覆われている。第１カラーフィルタＣＦ１の第２内縁ＥＧ２は、第２カラーフィルタＣＦ２によって覆われている。第２カラーフィルタＣＦ２の第３内縁ＥＧ３は、第３カラーフィルタＣＦ３によって覆われている。第３カラーフィルタＣＦ３の第６内縁ＥＧ６は、接着層ＡＤに接している。

【0053】

図７は、図４に示したＥ－Ｆ線に沿った表示パネルＰＮＬの断面図である。
第１カラーフィルタＣＦ１、第２カラーフィルタＣＦ２、及び、第３カラーフィルタＣＦ３は、遮光領域ＬＳＡにおいて、絶縁基板１０側から表示面２０Ｓ側に向かって積層されている。

【0054】

第１カラーフィルタＣＦ１の第１内縁ＥＧ１は、第３カラーフィルタＣＦ３によって覆われている。第２カラーフィルタＣＦ２の第３内縁ＥＧ３は、第３カラーフィルタＣＦ３によって覆われている。第２カラーフィルタＣＦ２の第４内縁ＥＧ４、第３カラーフィルタＣＦ３の第５内縁ＥＧ５は、接着層ＡＤに接している。

【0055】

本実施形態の表示パネルＰＮＬは、表示領域ＤＡに遮光層を備えていないが、例えば、有機エレクトロルミネッセンス表示装置が遮光層を備える場合には、遮光層は低温硬化によって形成される。そのため、遮光層を形成した後のカラーフィルタ層ＣＦを形成する工程において、カラーフィルタ層ＣＦの現像の際に、遮光層の未硬化の部分が反応し、遮光層の膜減りが発生する場合がある。特に、カラーフィルタ層ＣＦを形成する工程のうち、第１色目の第１カラーフィルタＣＦ１を形成する際に遮光層の膜減りが発生しやすい。また、遮光層の膜減りを抑制するために、遮光層に後露光の処理が施されるが、高露光量のため高い製造負荷が生じてしまう。

【0056】

本実施形態によれば、第１カラーフィルタＣＦ１、第２カラーフィルタＣＦ２、及び、第３カラーフィルタＣＦ３を積層することによって遮光領域ＬＳＡが形成される。そのため、上述したような遮光層の膜減りの発生を抑制することができ、遮光層を形成する際の製造負荷を無くすことができる。また、遮光層を形成する際のコストを削減することができる。

【0057】

［第２実施形態］
次に、図８乃至図１１を参照して、第２実施形態の構成について説明する。

【0058】

図８は、１つの画素ＰＸの遮光領域ＬＳＡ及び溝部ＧＲのレイアウトを示す平面図である。図８に示す構成は、図４に示した構成と比較して、表示パネルＰＮＬが溝部ＧＲを有している点で相違している。
溝部ＧＲは、遮光領域ＬＳＡと重なっている。溝部ＧＲは、第１画素開口ＰＯＰ１、第２画素開口ＰＯＰ２、及び、第３画素開口ＰＯＰ３のそれぞれを囲んでいる。

【0059】

図９は、図８に示したＡ－Ｂ線に沿った表示パネルＰＮＬの断面図である。図９に示す構成は、図５に示した構成と比較して、オーバーコート層ＯＣが溝部ＧＲを有している点で相違している。

【0060】

オーバーコート層ＯＣは、遮光領域ＬＳＡと重なる位置に溝部ＧＲを有している。溝部ＧＲは、オーバーコート層ＯＣの上面ＯＣＵに形成されている。第１カラーフィルタＣＦ１、第２カラーフィルタＣＦ２、及び、第３カラーフィルタＣＦ３は、溝部ＧＲと重なる位置において互いに積層されている。第１カラーフィルタＣＦ１の一部は、溝部ＧＲの内部に位置している。また、第２カラーフィルタＣＦ２の一部は、溝部ＧＲの内部に位置している。

【0061】

第１画素開口ＰＯＰ１における第１カラーフィルタＣＦ１の上面１Ｕと、第２画素開口ＰＯＰ２における第２カラーフィルタＣＦ２の上面２Ｕと、遮光領域ＬＳＡにおける第３カラーフィルタＣＦ３の上面３Ｕとは、略同一平面上に位置している。
溝部ＧＲの深さＤＰは、例えば、第１カラーフィルタＣＦ１の膜厚ＴＨ１と、第２カラーフィルタＣＦ２の膜厚ＴＨ２の和と略同等である。

【0062】

第１カラーフィルタＣＦ１の第２内縁ＥＧ２は、溝部ＧＲの内部でオーバーコート層ＯＣに接している。第２カラーフィルタＣＦ２の第４内縁ＥＧ４は、第１カラーフィルタＣＦ１に接している。第３カラーフィルタＣＦ３の第５内縁ＥＧ５は、第１カラーフィルタＣＦ１に接している。第３カラーフィルタＣＦ３の第６内縁ＥＧ６は、第２カラーフィルタＣＦ２に接している。

【0063】

第２実施形態によれば、オーバーコート層ＯＣは溝部ＧＲを有している。そのため、遮光領域ＬＳＡでのカラーフィルタ層ＣＦの段差を軽減することができる。したがって、カラーフィルタ層ＣＦの段差による不所望な光の拡散反射を抑制することができる。

【0064】

また、溝部ＧＲは、底面ＢＳと、底面ＢＳから立ち上がった側面ＳＳと、を有している。底面ＢＳと側面ＳＳとが溝部ＧＲの内部で成す角度は、約９０度である。溝部ＧＲのテーパを高テーパとすることで、遮光領域ＬＳＡにおけるカラーフィルタ層ＣＦの段差をより軽減することができる。

【0065】

図１０は、図８に示したＣ－Ｄ線に沿った表示パネルＰＮＬの断面図である。図１０に示す構成は、図６に示した構成と比較して、オーバーコート層ＯＣが溝部ＧＲを有している点で相違している。
第１カラーフィルタＣＦ１の一部は、溝部ＧＲの内部に位置している。また、第２カラーフィルタＣＦ２の一部は、溝部ＧＲの内部に位置している。

【0066】

第２画素開口ＰＯＰ２における第２カラーフィルタＣＦ２の上面２Ｕと、第３画素開口ＰＯＰ３における第３カラーフィルタＣＦ３の上面３Ｕと、遮光領域ＬＳＡにおける第３カラーフィルタＣＦ３の上面３Ｕとは、略同一平面上に位置している。

【0067】

第１カラーフィルタＣＦ１の第１内縁ＥＧ１は、第２カラーフィルタＣＦ２に接している。第１カラーフィルタＣＦ１の第２内縁ＥＧ２は、第２カラーフィルタＣＦ２に接している。第２カラーフィルタＣＦ２の第３内縁ＥＧ３は、溝部ＧＲの内部でオーバーコート層ＯＣに接している。第３カラーフィルタＣＦ３の第６内縁ＥＧ６は、第２カラーフィルタＣＦ２に接している。

【0068】

図１１は、図８に示したＥ－Ｆ線に沿った表示パネルＰＮＬの断面図である。図１１に示す構成は、図７に示した構成と比較して、オーバーコート層ＯＣが溝部ＧＲを有している点で相違している。
第１カラーフィルタＣＦ１の一部は、溝部ＧＲの内部に位置している。また、第２カラーフィルタＣＦ２の一部は、溝部ＧＲの内部に位置している。

【0069】

第１画素開口ＰＯＰ１における第１カラーフィルタＣＦ１の上面１Ｕと、第３画素開口ＰＯＰ３における第３カラーフィルタＣＦ３の上面３Ｕと、遮光領域ＬＳＡにおける第３カラーフィルタＣＦ３の上面３Ｕとは、略同一平面上に位置している。

【0070】

第１カラーフィルタＣＦ１の第１内縁ＥＧ１は、溝部ＧＲの内部でオーバーコート層ＯＣに接している。第２カラーフィルタＣＦ２の第３内縁ＥＧ３は、第３カラーフィルタＣＦ３に接している。第２カラーフィルタＣＦ２の第４内縁ＥＧ４は、第１カラーフィルタＣＦ１に接している。第３カラーフィルタＣＦ３の第５内縁ＥＧ５は、第１カラーフィルタＣＦ１に接している。

【0071】

以上説明したように、本実施形態によれば、製造負荷を低減すること、及び、コストを削減することが可能な表示装置を得ることができる。

【0072】

なお、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

【符号の説明】

【0073】

ＤＳＰ…表示装置、ＰＸ…画素、１０…絶縁基板、
ＯＲＧＧ、ＯＲＧＲ、ＯＲＧＢ…有機発光層、
ＯＬＥＤ１、ＯＬＥＤ２、ＯＬＥＤ３…有機エレクトロルミネッセンス素子、
４１…封止層、ＣＦ…カラーフィルタ層、ＣＦ１…第１カラーフィルタ、
ＣＦ２…第２カラーフィルタ、ＣＦ３…第３カラーフィルタ、
ＰＯＰ１…第１画素開口、ＰＯＰ２…第２画素開口、ＰＯＰ３…第３画素開口、
ＬＳＡ…遮光領域、２０Ｓ…表示面、ＯＰ１…第１開口、ＯＰ２…第２開口、
ＯＰ３…第３開口、ＯＰ４…第４開口、ＯＰ５…第５開口、ＯＰ６…第６開口、
ＯＣ…オーバーコート層、ＧＲ…溝部。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】