2025-28472 ガラス基板及びその製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2025028472

(43)【公開日】2025-03-03

(54)【発明の名称】ガラス基板及びその製造方法

(51)【国際特許分類】

   C03C 19/00 20060101AFI20250221BHJP

   C03C 3/091 20060101ALI20250221BHJP

【ＦＩ】

C03C19/00 A

C03C3/091

【審査請求】未請求

【請求項の数】10

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023133307

(22)【出願日】2023-08-18

(71)【出願人】

【識別番号】000232243

【氏名又は名称】日本電気硝子株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110001232

【氏名又は名称】弁理士法人大阪フロント特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】岩尾 克

(72)【発明者】

【氏名】田中 宏和

【テーマコード（参考）】

4G059

4G062

【Ｆターム（参考）】

4G059AA01

4G059AC01

4G062AA01

4G062BB01

4G062BB05

4G062BB06

4G062DA05

4G062DA06

4G062DB04

4G062DC02

4G062DC03

4G062DD01

4G062DE01

4G062DF01

4G062EA01

4G062EB03

4G062EB04

4G062EC03

4G062EC04

4G062ED02

4G062ED03

4G062ED04

4G062EE01

4G062EF01

4G062EG01

4G062FA10

4G062GA10

4G062HH01

4G062HH03

4G062HH05

4G062HH07

4G062HH09

4G062HH11

4G062HH13

4G062HH15

4G062HH17

4G062HH20

4G062JJ01

4G062JJ03

4G062JJ05

4G062JJ07

4G062JJ10

4G062KK01

4G062KK03

4G062KK05

4G062KK07

4G062KK10

4G062LA01

4G062LB01

4G062LC01

(57)【要約】

【課題】表面の触り心地やペンによる書き心地がよく、しかも表示される映像の視認性に優れる、ガラス基板を提供する。
【解決手段】アルカリ含有シリケートガラスにより構成される、ガラス基板１であって、ガラス基板１の第１の主面１ａは、凹凸部２と、凹凸部２を設けるための加工がなされていない非加工部３とを有し、凹凸部２は、７４μｍ×５５μｍの領域において、高域フィルタλｃのカットオフ値を１４μｍとし、低域フィルタλｓのカットオフ値を０．３５μｍとしたときに、算術平均高さＳａが、１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であり、任意の１００μｍ四方の領域におけるＮａ及びＫの合計の質量割合をアルカリ含有量としたときに、凹凸部２のアルカリ含有量が、非加工部３のアルカリ含有量より少ない、ガラス基板１。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

アルカリ含有シリケートガラスにより構成される、ガラス基板であって、
前記ガラス基板の表面は、凹凸部と、前記凹凸部を設けるための加工がなされていない非加工部とを有し、
前記凹凸部は、７４μｍ×５５μｍの領域において、高域フィルタλｃのカットオフ値を１４μｍとし、低域フィルタλｓのカットオフ値を０．３５μｍとしたときに、算術平均高さＳａが、１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であり、
任意の１００μｍ四方の領域におけるＮａ及びＫの合計の質量割合をアルカリ含有量としたときに、前記凹凸部のアルカリ含有量が、前記非加工部のアルカリ含有量より少ない、ガラス基板。

【請求項2】

前記凹凸部の前記非加工部に対するアルカリ含有量比が、０．５以上、１．０未満である、請求項１に記載のガラス基板。

【請求項3】

前記ガラス基板の一方側主面に、前記凹凸部と、前記非加工部との双方が設けられている、請求項１又は２に記載のガラス基板。

【請求項4】

前記ガラス基板が、対向している第１の主面及び第２の主面を有し、
前記ガラス基板の前記第１の主面に、前記凹凸部が設けられており、
前記ガラス基板の前記第２の主面に、前記非加工部が設けられている、請求項３に記載のガラス基板。

【請求項5】

前記アルカリ含有シリケートガラスが、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ３０％～７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ １０％～２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０％～１０％、Ｎａ_２Ｏ １％～２０％、Ｋ_２Ｏ １％～２０％、及びＭｇＯ ０％～２０％を含有する、請求項１又は２に記載のガラス基板。

【請求項6】

請求項１又は２に記載のガラス基板の製造方法であって、
元ガラス基板を準備する工程と、
砥粒を含有し、かつｐＨが、５．０以上、９．０以下である、スラリーを用いて、前記元ガラス基板の少なくとも一方側の主面にウェットブラスト処理を施す工程と、
を備える、ガラス基板の製造方法。

【請求項7】

前記スラリーのｐＨが、７．０以上、８．０以下である、請求項６に記載のガラス基板の製造方法。

【請求項8】

前記砥粒が、アルミナ粒子である、請求項６に記載のガラス基板の製造方法。

【請求項9】

前記スラリー中の前記砥粒の濃度が、１質量％以上、３０質量％以下である、請求項６に記載のガラス基板の製造方法。

【請求項10】

前記スラリーの噴射圧力が、０．１ＭＰａ以上、３．０ＭＰａ以下である、請求項６に記載のガラス基板の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、表面に凹凸部を有する、ガラス基板及び該ガラス基板の製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

近年、電子機器のディスプレイや、筐体、あるいは扉体等に用いられるガラス基板では、表面に凹凸を付与することにより、表面の触り心地や、ペンによる書き心地を向上させる試みがなされている。

【0003】

例えば、下記の特許文献１には、ペン入力装置におけるディスプレイ装置の前面側に配置されるペン入力装置用ガラス基板が開示されている。特許文献１には、上記ペン入力装置用ガラス基板が、少なくとも一方の主面に凹凸を有し、凹凸を有する主面における、粗さ曲線の最大谷深さＲｖが１０ｎｍ以上かつ４００ｎｍ以下であり、粗さ曲線の平均長さＲＳｍが５００ｎｍ以上かつ２０００ｎｍ以下であることが記載されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２０１８－２０９４２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

しかしながら、特許文献１のように、ガラス基板の表面に凹凸を付与すると、表面の触り心地や、ペンによる書き心地が向上する一方、凹凸による散乱により、光の直線透過率が低下し易いという問題がある。そのため、このようなガラス基板に映像を表示させたときには、映像の視認性が低下するという問題がある。

【0006】

本発明の目的は、表面の触り心地やペンによる書き心地がよく、しかも表示される映像の視認性に優れる、ガラス基板及び該ガラス基板の製造方法を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0007】

上記課題を解決するガラス基板及び該ガラス基板の製造方法の各態様について説明する。

【0008】

本発明の態様１に係るガラス基板は、アルカリ含有シリケートガラスにより構成される、ガラス基板であって、前記ガラス基板の表面は、凹凸部と、前記凹凸部を設けるための加工がなされていない非加工部とを有し、前記凹凸部は、７４μｍ×５５μｍの領域において、高域フィルタλｃのカットオフ値を１４μｍとし、低域フィルタλｓのカットオフ値を０．３５μｍとしたときに、算術平均高さＳａが、１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であり、任意の１００μｍ四方の領域におけるＮａ及びＫの合計の質量割合をアルカリ含有量としたときに、前記凹凸部のアルカリ含有量が、前記非加工部のアルカリ含有量より少ないことを特徴としている。

【0009】

態様２のガラス基板では、態様１において、前記凹凸部の前記非加工部に対するアルカリ含有量比が、０．５以上、１．０未満であることが好ましい。

【0010】

態様３のガラス基板では、態様１又は態様２において、前記ガラス基板の一方側主面に、前記凹凸部と、前記非加工部との双方が設けられていてもよい。

【0011】

態様４のガラス基板では、態様３において、前記ガラス基板が、対向している第１の主面及び第２の主面を有し、前記ガラス基板の前記第１の主面に、前記凹凸部が設けられており、前記ガラス基板の前記第２の主面に、前記非加工部が設けられていてもよい。

【0012】

態様５のガラス基板では、態様１～態様４のいずれか１つの態様において、前記アルカリ含有シリケートガラスが、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ３０％～７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ １０％～２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０％～１０％、Ｎａ_２Ｏ １％～２０％、Ｋ_２Ｏ １％～２０％、及びＭｇＯ ０％～２０％を含有することが好ましい。

【0013】

本発明の態様６に係るガラス基板の製造方法は、態様１～態様５のいずれか１つの態様のガラス基板の製造方法であって、元ガラス基板を準備する工程と、砥粒を含有し、かつｐＨが、５．０以上、９．０以下である、スラリーを用いて、前記元ガラス基板の少なくとも一方側の主面にウェットブラスト処理を施す工程とを備えることを特徴としている。

【0014】

態様７のガラス基板の製造方法では、態様６において、前記スラリーのｐＨが、７．０以上、８．０以下であることが好ましい。

【0015】

態様８のガラス基板の製造方法では、態様６又は態様７において、前記砥粒が、アルミナ粒子であることが好ましい。

【0016】

態様９のガラス基板の製造方法では、態様６～態様８のいずれか１つの態様において、前記スラリー中の前記砥粒の濃度が、１質量％以上、３０質量％以下であることが好ましい。

【0017】

態様１０のガラス基板の製造方法では、態様６～態様９のいずれか１つの態様において、前記スラリーの噴射圧力が、０．１ＭＰａ以上、３．０ＭＰａ以下であることが好ましい。

【発明の効果】

【0018】

本発明によれば、表面の触り心地やペンによる書き心地がよく、しかも表示される映像の視認性に優れる、ガラス基板及び該ガラス基板の製造方法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0019】

【図1】本発明の一実施形態に係るガラス基板を示す模式的断面図である。

【図2】変形例のガラス基板を示す模式的断面図である。

【図3】凹凸の変形例における測定断面曲線を説明するための図である。

【発明を実施するための形態】

【0020】

以下、好ましい実施形態について説明する。但し、以下の実施形態は単なる例示であり、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。また、各図面において、実質的に同一の機能を有する部材は同一の符号で参照する場合がある。

【0021】

［ガラス基板］
図１は、本発明の一実施形態に係るガラス基板を示す模式的断面図である。

【0022】

図１に示すように、ガラス基板１は、矩形平板状の形状を有する。もっとも、ガラス基板１の形状は、特に限定されず、円形又は多角形の輪郭からなる平板状や、平板状のものを全体的に湾曲させた形状、球面、非球面のレンズ形状等であってもよい。

【0023】

ガラス基板１は、アルカリ含有シリケートガラスにより構成されている。アルカリ含有シリケートガラスとしては、アルカリ成分として、Ｌｉ、Ｎａ、及びＫを合計で１％以上含有するガラスであれば任意のガラスを採用できるが、アルカリ成分としてＮａ及びＫを合計で１％以上含有するガラスであることが好ましい。アルカリ含有シリケートガラスとしては、例えば、アルカリアルミノシリケートガラス又はアルカリチタニアシリケートガラス等が挙げられる。なお、アルカリ含有シリケートガラスにおけるアルカリ成分の含有量は、２％以上、５％以上、８％以上であってもよく、５０％以下、４５％以下、４０％以下、３０％以下であってもよい。

【0024】

より具体的には、アルカリ含有シリケートガラスは、例えば、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ３０％～７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ １０％～２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０％～１０％、Ｎａ_２Ｏ １％～２０％、Ｋ_２Ｏ １％～２０％、及びＭｇＯ ０％～２０％を含有するガラスを用いることができる。

【0025】

ガラス基板１は、対向している第１の主面１ａ及び第２の主面１ｂを有する。第１の主面１ａ及び第２の主面１ｂは、ガラス基板１の表面である。本実施形態では、ガラス基板１の第１の主面１ａにおける一部に、凹凸部２が設けられている。また、ガラス基板１の第１の主面１ａには、凹凸部２を設けるための加工がなされていない非加工部３も設けられている。なお、本実施形態では、ガラス基板１の第２の主面１ｂ全体も、凹凸部２を設けるための加工がなされていない非加工部３である。もっとも、本発明においては、ガラス基板１の第２の主面１ｂにも凹凸部２が設けられていてもよい。

【0026】

本発明においては、ガラス基板１の第１の主面１ａにおける少なくとも一部に凹凸部２が設けられていればよい。凹凸部２は、ガラス基板１の第１の主面１ａにおける１％以上の領域に設けられていることが好ましく、３０％以上の領域に設けられていることがより好ましく、５０％以上の領域に設けられていることがさらに好ましい。

【0027】

図２は、変形例のガラス基板を示す模式的断面図である。図２に示すガラス基板１０のように、凹凸部２は、ガラス基板１０の第１の主面１ａにおける全面に設けられていてもよい。この場合、ガラス基板１０の第２主面１ｂの少なくとも一部に非加工部３が設けられていればよい。以下、変形例のガラス基板１０も総称して、ガラス基板１と称することとする。

【0028】

ガラス基板１の厚みは、特に限定されず、例えば、３０μｍ以上、５ｍｍ以下とすることができる。

【0029】

本実施形態において、ガラス基板１の凹凸部２は、７４μｍ×５５μｍの領域において、高域フィルタλｃのカットオフ値を１４μｍとし、低域フィルタλｓのカットオフ値を０．３５μｍとしたときに、算術平均高さＳａが、１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下である。本実施形態のガラス基板１は、凹凸部２の算術平均高さＳａが上記範囲内にあるので、表面（凹凸部２）の触り心地やペンによる書き心地に優れている。

【0030】

ガラス基板１の凹凸部２における算術平均高さＳａは、好ましくは２ｎｍ以上、より好ましくは３ｎｍ以上、さらに好ましくは４ｎｍ以上、さらにより好ましくは５ｎｍ以上、さらにより好ましくは１０ｎｍ以上、さらにより好ましくは１５ｎｍ以上、特に好ましくは２０ｎｍ以上であり、好ましくは９８ｎｍ以下、より好ましくは９７ｎｍ以下、さらに好ましくは９６ｎｍ以下、さらにより好ましくは９５ｎｍ以下、さらにより好ましくは９０ｎｍ以下、さらにより好ましくは８５ｎｍ以下、特に好ましくは８０ｎｍ以下である。

【0031】

ガラス基板１の凹凸部２における算術平均高さＳａが上記下限値以上である場合、ガラス基板１の表面の触り心地やペンによる書き心地をより一層向上させることができる。また、ガラス基板１の凹凸部２における算術平均高さＳａが上記上限値以下である場合、ガラス基板１に表示される映像の視認性をより一層向上させることができる。また、この場合、ガラス基板１の凹凸部２がざらざらしすぎず、ガラス基板１の表面の触り心地やペンによる書き心地をより一層向上させることができる。

【0032】

なお、「算術平均高さＳａ」は、ＩＳＯ ２５１７８によって規定されるパラメータであって、凹凸の断面形状を示す測定断面曲線を面に拡張したパラメータである。具体的には、算術平均高さＳａは、所定の三次元領域における表面の平均面に対する各点の高さＺｎの絶対値の平均（Ｓａ＝（Σ｜Ｚｎ｜）／ｎ）から求めることができる。本発明においては、７４μｍ×５５μｍの領域で凹凸部２の測定を行い、高域フィルタλｃのカットオフ値を１４μｍとし、低域フィルタλｓのカットオフ値を０．３５μｍとして、算術平均高さＳａを求めている。

【0033】

また、本実施形態のガラス基板１では、任意の１００μｍ四方の領域におけるＮａ及びＫの合計の質量割合をアルカリ含有量としたときに、凹凸部２のアルカリ含有量が、非加工部３のアルカリ含有量より少ない。

【0034】

なお、任意の１００μｍ四方の領域におけるＮａ及びＫの合計の質量割合は、例えば、走査型電子顕微鏡エネルギー分散型Ｘ線分光法（ＳＥＭ－ＥＤＸ）により、任意の１００μｍ四方の領域において元素分析を行うことにより求めることができる。なお、任意の１００μｍ四方の領域における元素分析は、複数の測定箇所において行い、その平均値から各成分の質量割合を求めることが望ましい。後述の実施例では、凹凸部（加工部）及び非加工部につき、それぞれ任意の５カ所において、１００μｍ四方の領域における元素分析を行い、その平均値を各成分の質量割合としている。

【0035】

本実施形態のガラス基板１は、上記の構成を備えるので、ガラス基板１の表面の触り心地や、ペンによる書き心地に優れ、しかも表示される映像の視認性を高めることができる。

【0036】

従来、ガラス基板の表面に凹凸を付与すると、指による触り心地や、ペンによる書き心地が向上する一方、凹凸による散乱により、光の直線透過率が低下し易いという問題があった。そのため、このようなガラス基板に映像を表示させたときには、映像の視認性が低下することがあった。

【0037】

これに対して、本実施形態のガラス基板１では、凹凸部２のアルカリ含有量が、非加工部３のアルカリ含有量よりも少ないので、凹凸部２の屈折率が非加工部３の屈折率よりも低くなり、凹凸部２の反射率が低下することで、凹凸部２における光の直線透過率を高めることができる。これにより、ガラス基板１では、表示される映像の視認性を高めることができる。

【0038】

従って、ガラス基板１では、凹凸部２の算術平均高さＳａを、１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下とすることにより、表面の触り心地やペンによる書き心地を向上させつつ、一方で凹凸部２のアルカリ含有量を、非加工部３のアルカリ含有量よりも少なくすることにより、表示される映像の視認性を向上させることができる。

【0039】

本実施形態において、凹凸部２の非加工部３に対するアルカリ含有量比（凹凸部２／非加工部３）は、好ましくは０．５以上、より好ましくは０．５５以上、さらに好ましくは０．６以上であり、好ましくは１．０未満、より好ましくは０．９９以下、さらに好ましくは０．９８以下、さらにより好ましくは０．９７以下、さらにより好ましくは０．９６以下、さらにより好ましくは０．９５以下、さらにより好ましくは０．９４以下である。

【0040】

凹凸部２の非加工部３に対するアルカリ含有量比が上記範囲内にある場合、ガラス基板１に表示される映像の視認性をより一層向上させることができる。

【0041】

なお、凹凸部２の非加工部３に対するアルカリ含有量比は、凹凸部２の任意の１００μｍ四方の領域におけるＮａ及びＫの合計の質量割合と、非加工部３の任意の１００μｍ四方の領域におけるＮａ及びＫの合計の質量割合との比から求めることができる。

【0042】

凹凸部２の任意の１００μｍ四方の領域におけるＮａ及びＫの合計の質量割合は、好ましくは１質量％以上、より好ましくは３質量％以上、さらに好ましくは５質量％以上であり、好ましくは５０質量％以下、より好ましくは４５質量％以下、さらに好ましくは４０質量％以下である。

【0043】

凹凸部２の任意の１００μｍ四方の領域におけるＮａ及びＫの合計の質量割合が上記範囲内にある場合、ガラス基板１に表示される映像の視認性をより一層向上させることができる。

【0044】

本実施形態において、ガラス基板１の凹凸部２における粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍは、好ましくは５ｎｍ以上、より好ましくは１０ｎｍ以上、さらに好ましくは５０ｎｍ以上、さらにより好ましくは１００ｎｍ以上、さらにより好ましくは２００ｎｍ以上、さらにより好ましくは５００ｎｍ以上であり、好ましくは１００００ｎｍ以下、より好ましくは８０００ｎｍ以下、さらに好ましくは５０００ｎｍ以下、さらにより好ましくは３０００ｎｍ以下、さらにより好ましくは２０００ｎｍ以下である。ガラス基板１の凹凸部２における平均長さＲＳｍが上記下限値以上である場合、ガラス基板１の表面の触り心地や、ペンによる書き心地をより一層効果的に向上させることができる。また、ガラス基板１の凹凸部２における平均長さＲＳｍが上記上限値以下である場合、ガラス基板１に表示される映像の視認性をより一層向上させることができる。

【0045】

本実施形態において、ガラス基板１の凹凸部２における最大谷深さＲｖは、好ましくは０．３ｎｍ以上、より好ましくは１ｎｍ以上、さらに好ましくは１０ｎｍ以上、特に好ましくは５０ｎｍ以上であり、好ましくは１００００ｎｍ以下、より好ましくは８０００ｎｍ以下、さらに好ましくは５０００ｎｍ以下、さらにより好ましくは３０００ｎｍ以下、特に好ましくは１０００ｎｍ以下である。ガラス基板１の凹凸部２における最大谷深さＲｖが上記下限値以上である場合、ガラス基板１の表面の触り心地や、ペンによる書き心地をより一層効果的に向上させることができる。また、ガラス基板１の凹凸部２における最大谷深さＲｖが上記上限値以下である場合、ガラス基板１に表示される映像の視認性をより一層向上させることができる。

【0046】

ガラス基板１の凹凸部２における粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ及び最大谷深さＲｖが上記範囲にある場合、ガラス基板１をディスプレイに用いた場合の解像度をより高めることができ、しかもペンによる書き心地をより一層効果的に向上させることができる。また、この場合、形成された凹凸部２によって散乱光が干渉し、スパークリングと呼ばれるギラツキが発生することをより確実に抑制することもできる。

【0047】

「粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ」及び「最大谷深さＲｖ」は、ガラス基板１の凹凸部２の断面形状を示す輪郭曲線から長波長成分を遮断するための高域フィルタλｃのカットオフ値を１４μｍに設定し、かつ凹凸部２の断面形状を示す輪郭曲線から短波長成分を遮断するための低域フィルタλｓのカットオフ値を０．３５μｍに設定した場合に得られる値である。

【0048】

「粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ」は、ＪＩＳＢ０６０１：２００１によって規定されるパラメータであって、凹凸部２の断面形状を示す輪郭曲線において、互いに隣り合う凹部と凸部との平均ピッチを表すパラメータである。なお、以下、「粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ」を、「平均長さＲＳｍ」と称する場合があるものとする。

【0049】

また、「最大谷深さＲｖ」は、ＪＩＳＢ０６０１：２００１によって規定されるパラメータであって、凹凸部２の断面形状を示す輪郭曲線における平均線に対して、最も深い谷の深さを表す。なお、上記「平均線」は、高域フィルタλｃによって遮断される長波長成分を表す曲線を最小二乗法により直線におきかえた線である。

【0050】

なお、ガラス基板１の凹凸部２は、上述した平均長さＲＳｍを有する凹凸を第１の凹凸としたときに、第１の凹凸より粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍの大きい、第２の凹凸をさらに有していてもよい。より具体的には、図３に示すように、凹凸部２の測定断面曲線において、微小凹凸である第１の凹凸と、大きな凹凸である第２の凹凸とを有していてもよい。

【0051】

第２の凹凸の粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ２は、好ましくは２０μｍ以上、より好ましくは３０μｍ以上、さらに好ましくは１００μｍ以上であり、好ましくは１００００μｍ以下、より好ましくは８０００μｍ以下、さらに好ましくは５０００μｍ以下、さらにより好ましくは１０００μｍ以下、特に好ましくは５００μｍ以下である。

【0052】

「粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ２」は、凹凸部２の断面形状を示す輪郭曲線から長波長成分を遮断するための高域フィルタλｃのカットオフ値を第２の凹凸の粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍの４倍の値に設定し、かつ凹凸部２の断面形状を示す輪郭曲線から短波長成分を遮断するための低域フィルタλｓのカットオフ値を０．３５μｍに設定した場合に得られる値である。なお、第２の凹凸の高域フィルタλｃのカットオフ値は、フィルタ無しで仮測定したときに得られる仮の粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍの値を４倍にした値を採用することができる。「粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ２」は、第１の凹凸の粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍと同様にＪＩＳＢ０６０１：２００１に準拠して測定することができる。「粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ２」は、所定の基準長さにおける凹凸の各周期長さＸｓの平均である。

【0053】

ガラス基板１のヘイズは、特に限定されないが、３８０ｎｍ～７８０ｎｍの波長域において、好ましくは０．５％以上、より好ましくは１％以上、さらに好ましくは１．５％以上、さらにより好ましくは２％以上であり、好ましくは４０％以下、より好ましくは３０％以下、さらに好ましくは２０％以下である。ガラス基板１のヘイズが上記範囲内にある場合、ガラス基板１に表示される映像の視認性をより一層向上させることができる。

【0054】

ガラス基板１の凹凸部２における波長５５０ｎｍの光の直線透過率は、好ましくは７０％以上、より好ましくは７５％以上、さらに好ましくは８０％以上であり、好ましくは９９％以下、より好ましくは９８％以下、さらに好ましくは９７％以下である。ガラス基板１の凹凸部２における直線透過率が上記範囲内にある場合、ガラス基板１に表示される映像の視認性をより一層向上させることができる。

【0055】

また、ガラス基板１の非加工部３における波長５５０ｎｍの光の直線透過率は、好ましくは７０％以上、より好ましくは７５％以上、さらに好ましくは８０％以上であり、好ましくは９９％以下、より好ましくは９８％以下、さらに好ましくは９７％以下である。ガラス基板１の非加工部３における直線透過率が上記範囲内にある場合、ガラス基板１に表示される映像の視認性をより一層向上させることができる。

【0056】

なお、ガラス基板１の上記直線透過率は、例えば、透過率測定装置を用いて測定することができる。本実施形態において、ガラス基板１の上記直線透過率は、凹凸部２を含む第１の主面１ａ側から光を入射させ、非加工部３を含む第２の主面１ｂ側から光を出射させて測定するものとする。

【0057】

ガラス基板１の非加工部３には、表面処理が全く施されていなくてもよく、凹凸部２とは異なる表面処理が施されていてもよい。凹凸部２とは異なる表面処理としては、例えば、凹凸部２とは異なる条件で行うブラスト処理や、ＳｉＯ_２成分を含む成分によるコーティング、フッ素を含む成分によるコーティング、あるいはＨＦエッチング処理による表面処理等が挙げられる。なお、非加工部３には、凹凸部２とは異なる複数の表面処理が施されていてもよい。

【0058】

ガラス基板１の第１の主面１ａ及び第２の主面１ｂには、それぞれ、反射防止膜や、防汚膜、加飾フィルム、あるいは加飾コーティング等が設けられていてもよい。

【0059】

反射防止膜としては、例えば、相対的に屈折率が低い低屈折率膜と相対的に屈折率が高い高屈折率膜とが交互に積層された誘電体多層膜が用いられる。反射防止膜は、スパッタリング法、又はＣＶＤなどにより形成することができる。

【0060】

ガラス基板１の凹凸部２に反射防止膜を有する場合、反射防止膜の表面の凹凸が、凹凸部２の凹凸に対応するように形成される。

【0061】

防汚膜は、指紋の付着を防止し、撥水性、撥油性を付与するための膜である。防汚膜は、主鎖中にケイ素を含む含フッ素重合体を含むことが好ましい。含フッ素重合体としては、例えば、主鎖中に、－Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ－ユニットを有し、かつ、フッ素を含む撥水性の官能基を側鎖に有する重合体を用いることができる。含フッ素重合体は、例えばシラノールの脱水縮合することにより合成することができる。

【0062】

加飾フィルムや加飾コーティングとしては、例えば、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、アクリル、ウレタン、フッ素系樹脂などの樹脂や、金属箔、また、それらの積層体などが挙げられる。

【0063】

本実施形態のガラス基板１は、電子機器のディスプレイや、筐体、あるいは扉体等に好適に用いることができる。なかでも、液晶ディスプレイ等のディスプレイ装置の前面に設けられるカバー部材により好適に用いることができる。この場合、ガラス基板１は、入力ペンや指先などの入力手段を用いて文字及び図形等の入力操作（ポインティング操作）を行うことができるペン入力装置に用いてもよい。

【0064】

［ガラス基板の製造方法］
次に、ガラス基板１の製造方法の一例について説明する。

【0065】

ガラス基板１の凹凸部２は、例えば、元ガラス基板の表面にウェットブラスト処理等の表面処理を施すことにより形成することができる。

【0066】

ウェットブラスト処理は、アルミナなどの固体粒子にて構成される砥粒と、水などの液体とを均一に撹拌してスラリーとしたものを、圧縮エアを用いて噴射ノズルから元ガラス基板からなるワークに対して高速で噴射することにより、ワークに微細な凹凸を形成する処理である。

【0067】

ウェットブラスト処理においては、高速に噴射されたスラリーがワークに衝突した際に、スラリー内の砥粒がワークの表面を削ったり、叩いたり、こすったりすることにより、ワークの表面に微細な凹凸が形成されることとなる。

【0068】

この場合、ワークに噴射された砥粒や、砥粒により削られたワークの破片は、ワークに噴射された液体によって洗い流されるため、ワークに残留する粒子が少なくなる。

【0069】

なお、ウェットブラスト処理においては、スラリーをワークに噴射した場合、液体が砥粒をワークまで運ぶため、乾式サンドブラスト処理に比べて微細な砥粒を使用しやすくなるとともに、砥粒がワークに衝突する際の衝撃が小さくなり、精密な加工を行うことが可能である。

【0070】

ウェットブラスト処理において、ノズルの走査ピッチは、例えば、５０μｍ以上、１００００μｍ以下とすることができる。ノズルの走査回数（同一箇所を走査する回数）は、例えば、１回以上、５回以下とすることができる。また、ノズルの移動速度（処理速度）は、例えば、１ｍｍ／ｓ以上、３００ｍｍ／ｓ以下とすることができる。

【0071】

なお、ウェットブラスト処理における砥粒の粒度を大きくしたり、処理圧力を大きくしたり、ノズルの移動速度を遅くしたり、ノズルの走査回数を増やしたりすることにより、ガラス基板１の凹凸部２における算術平均高さＳａ及び最大谷深さＲｖを大きくすることができる。

【0072】

また、ウェットブラスト処理における砥粒の粒度を小さくしたり、処理圧力を小さくしたり、ノズルの走査速度を速くしたりすることにより、ガラス基板１の凹凸部２における粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍを小さくすることができる。

【0073】

また、本実施形態の製造方法では、ｐＨが、５．０以上、９．０以下のスラリーを用いて、元ガラス基板の少なくとも一方側の主面にウェットブラスト処理を施す。これにより、凹凸部２（ウェットブラスト処理された加工部）においてアルカリが溶出するため、凹凸部２のアルカリ含有量が少なくなる。そのため、凹凸部２のアルカリ含有量を、非加工部３のアルカリ成分の質量割合よりも少なくすることができ、得られるガラス基板１に表示される映像の視認性を向上させることができる。

【0074】

スラリーのｐＨは、好ましくは６．０以上、より好ましくは６．５以上、さらに好ましくは７．０以上であり、好ましくは８．５以下、より好ましくは８．０以下である。

【0075】

スラリーのｐＨが上記下限値以上である場合、ガラス基板１の凹凸部２におけるアルカリ含有量をより一層少なくすることができ、ガラス基板１に表示される映像の視認性をより一層向上させることができる。また、スラリーのｐＨが上記上限値以下である場合、ガラス基板１の機械的強度をより一層高めることができ、しかもガラス基板１の透明性をより一層向上させることができる。

【0076】

本実施形態のスラリーに用いる水の電気伝導度は、特に限定されないが、例えば、０．０１ｍＳ／ｍ以上、２０ｍＳ／ｍ以下である。上記水の電気伝導度が２０ｍＳ／ｍより高いと不純物が多いため、アルカリ溶出に時間がかかる場合がある。他方、上記水の電気伝導度が０．０１ｍＳ／ｍより低いと、一般的な方法による水の入手が困難になる場合がある。上記水の電気伝導度は、好ましくは０．０２ｍＳ／ｍ以上、より好ましくは０．０３ｍＳ／ｍ以上、さらに好ましくは０．０４ｍＳ／ｍ以上であり、好ましくは１０ｍＳ／ｍ以下、より好ましくは８ｍＳ／ｍ以下、さらに好ましくは７ｍＳ／ｍ以下である。

【0077】

なお、スラリーのｐＨの調整には、無機酸及び有機酸のいずれを用いてもよい。例えば、ｐＨ≦７に調整する場合、無機酸及び有機酸としては、硫酸、硝酸、リン酸、塩酸、シュウ酸、乳酸、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸、グリセリン酸などのヒドロキシ酸類の酸が挙げられる。また、ｐＨ≧７に調整する場合は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、アンモニア水、炭酸アンモニウム、エチルアミン、メチルアミン、トリエチルアミン、テトラメチルアミンなどのアミン等のアルカリによりｐＨを調整することができる。

【0078】

ガラス基板１の凹凸部２におけるアルカリ含有量は、スラリーのｐＨの他、スラリー中の砥粒の濃度や、砥粒の種類、あるいはスラリーの噴射圧力（処理圧力）や、ノズルの移動速度（処理速度）等によっても調整することができる。

【0079】

スラリー中の砥粒の濃度は、好ましくは１質量％以上、より好ましくは２質量％以上、さらに好ましくは２．５質量％以上であり、好ましくは３０質量％以下、より好ましくは２７質量％以下、さらに好ましくは２５質量％以下である。スラリー中の砥粒の濃度が上記範囲内にある場合、凹凸部２のアルカリ含有量をより一層少なくすることができ、ガラス基板１に表示される映像の視認性をより一層向上させることができる。

【0080】

砥粒としては、特に限定されず、例えば、酸化アルミニウム（アルミナ）、窒化アルミニウム、炭化アルミニウム、ケイ酸アルミニウム、酸化ジルコニウム、イットリア安定化ジルコニア、ジルコン、酸化ケイ素、窒化ケイ素、又は炭化ケイ素等の粒子を用いることができる。なかでも、砥粒としては、アルミナ粒子を用いることが好ましい。この場合、スラリーのｐＨを調整し易く、凹凸部２のアルカリ含有量をより一層確実に少なくすることができる。

【0081】

砥粒の純度は、例えば、９０％以上、１００％以下とすることができる。また、砥粒の平均粒子径Ｄ_５０は、０．１μｍ以上、１０μｍ以下とすることができる。

【0082】

スラリーの噴射圧力は、好ましくは０．１ＭＰａ以上、より好ましくは０．１５ＭＰａ以上、さらに好ましくは０．２ＭＰａ以上であり、好ましくは３．０ＭＰａ以下、より好ましくは２．５ＭＰａ以下、さらに好ましくは２．０ＭＰａ以下である。スラリーの噴射圧力が上記範囲内にある場合、凹凸部２のアルカリ含有量をより一層少なくすることができ、ガラス基板１に表示される映像の視認性をより一層向上させることができる。

【0083】

ノズルの移動速度（処理速度）は、好ましくは１ｍｍ／ｓ以上、より好ましくは５ｍｍ／ｓ以上、さらに好ましくは１０ｍｍ／ｓ以上であり、好ましくは３００ｍｍ／ｓ以下、より好ましくは２５０ｍｍ／ｓ以下、さらに好ましくは２００ｍｍ／ｓ以下である。ノズルの移動速度（処理速度）が上記下限値以上であると、凹凸部２のアルカリ含有量をより一層少なくすることができる。一方、ウェットブラスト処理の時間が上記上限値以下であると、ガラス基板１の機械的強度をより一層高めることができる。

【0084】

以下、本発明について、具体的な実施例に基づいて、さらに詳細に説明する。本発明は、以下の実施例に何ら限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲において適宜変更して実施することが可能である。

【0085】

（実施例１～８）
まず、元ガラス基板として、アルカリアルミノシリケートガラス板を用意した。アルカリアルミノシリケートガラス板としては、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ６２．０％、Ａｌ_２Ｏ_３ １６．０％、Ｂ_２Ｏ_３ ２．０％、Ｎａ_２Ｏ １５．０％、ＭｇＯ ２．０％、Ｋ_２Ｏ ３．０％を含有するガラス（厚み：０．５ｍｍ、波長５５０ｎｍにおける光の直線透過率：９５％、５０ｍｍ角）を用いた。

【0086】

次に、準備した元ガラス基板の一方側主面に、ウェットブラスト処理を施すことにより、凹凸部を形成した。なお、ウェットブラスト処理は、砥粒と水とを均一に撹拌することにより調整したスラリーを使用し、ガラス板を載置した処理台に対して、エアを用いて、ノズルを２０ｍｍ／ｓの速度で移動させながら走査させ（走査ピッチ：０．５ｍｍ）、ノズルからスラリーを噴射することにより行った。

【0087】

なお、スラリーに用いる水としては、ｐＨ＝７、電気伝導度０．０５ｍＳ／ｍの純水を用いた。

【0088】

また、実施例１～８におけるウェットブラスト処理において、処理圧力としてのスラリーの噴射圧力は、０．３０ＭＰａとした。砥粒としては、αアルミナ粒子（純度：９６％、平均粒子径Ｄ_５０：２μｍ）を用いた。水としては、純水を用い、塩酸又は水酸化カリウムを加えて、スラリーのｐＨを下記の表１及び表２に示すｐＨに調整した。また、スラリー中における砥粒の濃度は下記の表１及び表２に示す通りである。

【0089】

実施例１～８では、ウェットブラスト処理後の元ガラス基板を純水で洗浄した後、元ガラス基板に１２０℃で３０分間の熱処理を施し、ガラス基板を得た。

【0090】

（比較例１）
実施例１と同様にして準備した元ガラス基板の一方側主面に、実施例１と同様の砥粒を用いて、レギュレータにより低圧力にした乾式のサンドブラスト処理を行い、ガラス基板を得た。

【0091】

（比較例２）
比較例１で得られたガラス基板の他方側主面に、アルカリエッチングを施し、ガラス基板を得た。

【0092】

（比較例３）
スラリーのｐＨ及びスラリー中における砥粒の濃度を下記の表２のように調製したこと以外は、実施例１と同様にしてガラス基板を得た。

【0093】

［評価方法］
（ガラス基板の表面粗さの評価）
実施例１～８及び比較例１～３で得られたガラス基板の凹凸部（加工部）における算術平均高さＳａを測定した。

【0094】

算術平均高さＳａの測定は、白色干渉顕微鏡を用いて行った。用いた白色干渉顕微鏡は、Ｚｙｇｏ社製の白色干渉顕微鏡（製品名：ＮｅｗＶｉｅｗ７３００）である。

【0095】

測定条件は、対物レンズ５０倍、ズームレンズ２倍を使用し、測定エリア７４μｍ×５５μｍの領域に対して、カメラ画素数が６４０×４８０、積算回数１０回となるように、算術平均高さＳａの測定を実施した。凹凸部（表面）の算術平均高さＳａを測定する際の高域フィルタλｃのカットオフ値は、１４μｍに設定し、低域フィルタλｓのカットオフ値は０．３５μｍに設定した。

【0096】

（ガラス基板の表面観察）
実施例１～８及び比較例１～３で得られたガラス基板の凹凸部（加工部）及び非加工部について、走査型電子顕微鏡エネルギー分散型Ｘ線分光法（ＳＥＭ－ＥＤＸ、日立ハイテク社製、品番「Ｓ３４００」）により、それぞれ任意の５カ所において、１００μｍ四方の領域におけるＮａ及びＫの質量割合を求め、その平均値を凹凸部及び非加工部におけるアルカリ含有量とした。そして、凹凸部のアルカリ含有量と、非加工部のアルカリ含有量との比（凹凸部／非加工部）から、アルカリ含有量比を求めた。結果を下記の表１及び表２に示す。

【0097】

（直線透過率）
実施例１～８及び比較例１～３のガラス基板の凹凸部（加工部）について、波長５５０ｎｍにおける光の直線透過率を求めた。ガラス基板の直線透過率は、透過率測定装置（ＪＡＳＣＯ社製、品番「Ｖ６７０」）を用いて測定した。なお、ガラス基板の直線透過率は、凹凸部を含む一方側主面側から光を入射させ、非加工部を含む他方側主面側から光を出射させて測定した。結果を下記の表１及び表２に示す。

【0098】

【表1】

【0099】

【表2】

【0100】

実施例１～８のガラス基板では、凹凸部の算術平均高さＳａが、１ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であり、官能評価により表面の触り心地やペンによる書き心地に優れることが確認できた。また、表１及び表２に示すように、実施例１～８のガラス基板では、アルカリ含有量比が１未満であり、直線透過率が高められていることから、表示される映像の視認性にも優れることが確認できた。一方、比較例１、２のガラス基板では、アルカリ含有量比が１以上であり、直線透過率が低いことから、表示される映像の視認性も十分ではなかった。また、比較例３のガラス基板は、凹凸部の算術平均高さＳａが２０００ｎｍと大きく、結果として直線透過率が著しく低下していることから、表示される映像の視認性も十分ではなかった。

【符号の説明】

【0101】

１，１０…ガラス基板
１ａ…第１の主面
１ｂ…第２の主面
２…凹凸部
３…非加工部

【図1】

【図2】

【図3】