特開 2025-39069 表面検査装置及び表面検査方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2025039069

(43)【公開日】2025-03-21

(54)【発明の名称】表面検査装置及び表面検査方法

(51)【国際特許分類】

   G01N 21/89 20060101AFI20250313BHJP

【ＦＩ】

G01N21/89 Z

【審査請求】未請求

【請求項の数】7

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023145849

(22)【出願日】2023-09-08

(71)【出願人】

【識別番号】515086908

【氏名又は名称】株式会社トヨタプロダクションエンジニアリング

(74)【代理人】

【識別番号】100114306

【弁理士】

【氏名又は名称】中辻 史郎

(74)【代理人】

【識別番号】100148655

【弁理士】

【氏名又は名称】諏訪 淳一

(72)【発明者】

【氏名】椛島 治樹

【テーマコード（参考）】

2G051

【Ｆターム（参考）】

2G051AA07

2G051AB07

2G051BA01

2G051BA10

2G051BA20

2G051CA04

2G051CC07

2G051EB01

2G051EC10

(57)【要約】

【課題】樹脂製品等の表面の歪みやヒケを効率良く検出することが課題。
【解決手段】表面検査装置１０は、光源装置１４に配設されたラインレーザ光源１５をオンにし、ラインレーザ光を照射する。そして、撮像装置１３を用いて、ラインレーザ光を反射する検査対象物４０ｂの画像を撮像する。その後、表面検査装置１０は、画像におけるラインレーザ光を形成する複数の画素の画素値に基づいてライン毎に回帰直線Ｒを算出し、各ラインを形成する画素の座標と回帰直線Ｒとの残差を算出する。その後、表面検査装置１０は、各ラインを形成する各画素の残差が所定の閾値以内か否かを判定する。表面検査装置１０は、すべてのラインにおいて残差が所定の閾値以内である場合は、検査対象物４０ｂは、良品と判定し、各ラインにおいて残差が所定の閾値以内でない画素が存在する場合は、検査対象物４０ｂは、不良と判定する。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

検査対象物の表面の検査を行う表面検査装置であって、
前記検査対象物に向けてライン光を照射する光源装置と、
前記光源装置から照射された前記ライン光を反射する前記検査対象物の画像を撮像する撮像部と、
前記画像における前記ライン光を形成する複数の画素の画素値に基づいて回帰直線を算出する回帰直線算出手段と、
前記回帰直線算出手段により算出された回帰直線と前記ライン光を形成する各画素との残差に基づいて、前記検査対象物の表面の良否を判定する判定手段と
を備えたこと特徴とする表面検査装置。

【請求項2】

前記判定手段は、
前記回帰直線算出手段により算出された回帰直線と前記ライン光を形成する各画素との残差がそれぞれ所定の閾値以下である場合に、前記検査対象物が良品であると判定することを特徴とする請求項１に記載の表面検査装置。

【請求項3】

前記判定手段は、
前記回帰直線算出手段により算出された回帰直線と前記ライン光を形成する各画素との残差が所定の閾値より大きい画素が存在する場合に、前記検査対象物が不良品であると判定することを特徴とする請求項１に記載の表面検査装置。

【請求項4】

前記判定手段は、
前記回帰直線算出手段により算出された回帰直線と前記ライン光を形成する各画素との残差が所定の閾値より大きい画素が複数連続する場合に、前記検査対象物が不良品であると判定することを特徴とする請求項１に記載の表面検査装置。

【請求項5】

前記検査対象物の反射光のうち所定の波長帯域の光を透過するフィルタ部を備え、
前記撮像部は、
前記フィルタ部を透過した前記所定の波長帯域の光により形成された前記画像を撮像することを特徴とする請求項１に記載の表面検査装置。

【請求項6】

前記光源装置は、
前記検査対象物に向けて複数のライン光を照射し、
前記撮像部は、
前記光源装置から照射された前記複数のライン光を反射する前記検査対象物の前記画像を撮像する
ことを特徴とする請求項１～５のいずれか一つに記載の表面検査装置。

【請求項7】

検査対象物の表面の検査を行う表面検査装置における表面検査方法であって、
所定の光源装置が、前記検査対象物に向けてライン光を照射する照射工程と、
所定の撮像部が、前記光源装置から照射された前記ライン光を反射する前記検査対象物の画像を撮像する撮像工程と、
前記画像における前記ライン光を形成する複数の画素の画素値に基づいて回帰直線を算出する回帰直線算出工程と、
前記回帰直線算出工程により算出された回帰直線と前記ライン光を形成する各画素との残差に基づいて、前記検査対象物の表面の良否を判定する判定工程と
を含むこと特徴とする表面検査方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、樹脂製品等の表面の歪みやヒケを効率良く検出する表面検査装置及び表面検査方法に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、物体表面の不具合を検査する技術が知られている。例えば、特許文献１には、赤外発光するライン状のレーザ光源が、圧延帯鋼のような非鏡面の表面を有する被検査体に対して赤外光を照射し、その反射光を撮像した画像を微分処理及び二値化処理して、線分の一部が消失するか否かによって品質を検査する技術が開示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２００５－１３４３６２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

しかしながら、上記の特許文献１のものは、微分処理後の微分画像を二値化する閾値によっては、物体表面に凹凸が存在していたとしても線分の一部が消失せず、物体表面に凹凸が存在しないと判定されるという問題がある。特に、物体表面が鏡面である場合には、反射波の強度が強くなるため、線分の一部が消失しない可能性が高くなる。

【0005】

本発明は、上記従来技術による問題点（課題）を解決するためになされたものであって、樹脂製品等の表面の歪みやヒケを効率良く検出する表面検査装置及び表面検査方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

上述した課題を解決し、目的を達成するため、本発明は、検査対象物の表面の検査を行う表面検査装置であって、前記検査対象物に向けてライン光を照射する光源装置と、前記光源装置から照射された前記ライン光を反射する前記検査対象物の画像を撮像する撮像部と、前記画像における前記ライン光を形成する複数の画素の画素値に基づいて回帰直線を算出する回帰直線算出手段と、前記回帰直線算出手段により算出された回帰直線と前記ライン光を形成する各画素との残差に基づいて、前記検査対象物の表面の良否を判定する判定手段とを備えた。

【0007】

また、本発明は、上記発明において、前記判定手段は、前記回帰直線算出手段により算出された回帰直線と前記ライン光を形成する各画素との残差がそれぞれ所定の閾値以下である場合に、前記検査対象物が良品であると判定する。

【0008】

また、本発明は、上記発明において、前記判定手段は、前記回帰直線算出手段により算出された回帰直線と前記ライン光を形成する各画素との残差が所定の閾値より大きい画素が存在する場合に、前記検査対象物が不良品であると判定する。

【0009】

また、本発明は、上記発明において、前記判定手段は、前記回帰直線算出手段により算出された回帰直線と前記ライン光を形成する各画素との残差が所定の閾値より大きい画素が複数連続する場合に、前記検査対象物が不良品であると判定する。

【0010】

また、本発明は、上記発明において、前記検査対象物の反射光のうち所定の波長帯域の光を透過するフィルタ部を備え、前記撮像部は、前記フィルタ部を透過した前記所定の波長帯域の光により形成された前期画像を撮像する。

【0011】

また、本発明は、上記発明において、前記光源装置は、前記検査対象物に向けて複数のライン光を照射し、前記撮像部は、前記光源装置から照射された前記複数のライン光を反射する前記検査対象物の前記画像を撮像する。

【0012】

また、本発明は、検査対象物の表面の検査を行う表面検査装置における表面検査方法であって、所定の光源装置が、前記検査対象物に向けてライン光を照射する照射工程と、所定の撮像部が、前記光源装置から照射された前記ライン光を反射する前記検査対象物の画像を撮像する撮像工程と、前記画像における前記ライン光を形成する複数の画素の画素値に基づいて回帰直線を算出する回帰直線算出工程と、前記回帰直線算出工程により算出された回帰直線と前記ライン光を形成する各画素との残差に基づいて、前記検査対象物の表面の良否を判定する判定工程とを含む。

【発明の効果】

【0013】

本発明によれば、樹脂製品等の表面の歪みやヒケを効率良く検出することができる。

【図面の簡単な説明】

【0014】

【図1】図１は、実施形態に係る表面検査装置の概要を説明するための説明図である。

【図2】図２は、図１に示した表面検査装置の構成を示す機能ブロック図である。

【図3】図３は、表面検査装置の撮像画像の一例を示す図である。

【図4】図４は、表面検査装置の回帰直線の算出を説明するための説明図である。

【図5】図５は、表面検査装置の検査対象物の良否判定を説明するための説明図である。

【図6】図６は、図１に示した表面検査装置の処理手順を示すフローチャートである。

【図7】図７は、変形例に係る表面検査装置の撮像画像の一例を示す図である。

【図8】図８は、変形例に係る表面検査装置の検査対象物の良否判定を説明するための説明図である。

【発明を実施するための形態】

【0015】

以下に、本発明に係る表面検査装置の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。

【0016】

＜表面検査装置１０の概要＞
本実施形態に係る表面検査装置１０の概要について説明する。図１は、実施形態に係る表面検査装置１０の概要を説明するための説明図である。図１に示すように、表面検査装置１０には、撮像装置１３及び光源装置１４が接続されている。また、検査対象物４０ａ、４０ｂ、４０ｃ（以下、「検査対象物４０」と総称する場合がある）は、台座４１ａ、４１ｂ、４１ｃにそれぞれ載せられ、ベルトコンベア５０により矢印の方向に移動する。

【0017】

表面検査装置１０は、光源装置１４に配設されたラインレーザ光源１５をオンにし、ラインレーザ光を照射する（Ｓ１）。表面検査装置１０は、所定位置に検査対象物４０ｂが来たならば、撮像装置１３を用いて、ラインレーザ光を反射する検査対象物４０ｂの画像を撮像する（Ｓ２）。なお、検査対象物４０ｂが所定の位置に来たか否かは、例えば、ベルトコンベア５０の図示しない制御装置から検査対象物４０ｂが所定の位置に来た旨の通知を受信する。そして、表面検査装置１０は、画像におけるラインレーザ光を形成する複数の画素の画素値に基づいてライン毎に回帰直線Ｒを算出する（Ｓ３）。

【0018】

そして、表面検査装置１０は、各ラインを形成する画素の座標と回帰直線との残差を算出する（Ｓ４）。その後、表面検査装置１０は、各ラインの残差が所定の閾値以内か否かを判定する（Ｓ５）。すべてのラインにおいて残差が所定の閾値以内である場合は、検査対象物４０ｂは、良品と判定し、各ラインにおいて残差が所定の閾値より大きい画素が存在する場合は、検査対象物４０ｂは、不良と判定する。

【0019】

＜表面検査装置１０の構成＞
次に、図１に示した表面検査装置１０の構成について説明する。図２は、図１に示した表面検査装置１０の構成を示す機能ブロック図である。図２に示すように、表面検査装置１０は、記憶部１６及び制御部１７を有し、表示部１１、入力部１２、撮像装置１３及び光源装置１４が接続されている。表示部１１は、各種情報を表示する液晶ディスプレイなどの表示デバイスである。入力部１２は、マウスやキーボードなどの入力デバイスである。

【0020】

撮像装置１３は、撮像部１３ａ及びフィルタ１３ｂを有する。撮像部１３ａは、検査対象物４０を撮像するカメラである。ここでは、環境光の影響を受けない近赤外の波長のみを撮像するカメラである。フィルタ１３ｂは、特定の波長帯域の光を透過させ、該波長帯域以外の光を透過させない光学フィルタである。ここでは、該フィルタ１３ｂは、近赤外の波長帯域の光を透過させ、該近赤外の波長帯域以外の光を透過させない光学フィルタである。

【0021】

光源装置１４は、ラインレーザ光源１５ａ、１５ｂ、１５ｃ、１５ｄ、１５ｅ（以下、「ラインレーザ光源１５」と総称する場合がある）を有する。ラインレーザ光源１５は、レーザ光源と光学レンズを用いて、レーザ照射を点ではなく線として投影する光源である。ここでは、５つのラインレーザ光源１５を用いている場合について示しているが、検査対象物４０の大きさにより、例えば３つのラインレーザ光源１５を用いたり、１０個のラインレーザ光源１５を用いたりしてもよい。なお、ラインレーザ光源１５は、ＬＥＤや放電灯と光学レンズを用いてライン状の光を生成してもよい。

【0022】

記憶部１６は、ハードディスク装置や不揮発性メモリなどの記憶デバイスであり、画像データ１６ａと、回帰直線データ１６ｂと、閾値データ１６ｃとを記憶する。画像データ１６ａは、撮像装置１３によりラインレーザ光を反射する検査対象物４０の画像を撮像したデータである。回帰直線データ１６ｂは、画像データ１６ａのライン状の画素の輝度が０から２５５の範囲の中で２４０以上の複数の画素の画素座標を用いて回帰直線のパラメータを算出したデータである。閾値データ１６ｃは、回帰直線からの所定の残差の上限と下限を表わすデータである。

【0023】

制御部１７は、表面検査装置１０の全体を制御する制御部であり、光源制御部１７ａと、撮像処理部１７ｂと、回帰直線算出部１７ｃと、判定部１７ｄと、表示制御部１７ｅとを有する。実際には、これらのプログラムをＣＰＵにロードして実行することにより、光源制御部１７ａと、撮像処理部１７ｂと、回帰直線算出部１７ｃと、判定部１７ｄと、表示制御部１７ｅとにそれぞれ対応するプロセスを実行させることになる。

【0024】

光源制御部１７ａは、検査対象物４０の表面の状態を検査するため、光源装置１４のラインレーザ光源１５をオン／オフ制御を行う制御部である。撮像処理部１７ｂは、光源装置１４からラインレーザが検査対象物４０に照射された後、台座４１に載置された検査対象物４０を撮像装置１３により撮像させるように制御する処理部である。

【0025】

回帰直線算出部１７ｃは、画像データ１６ａから各画素値が所定の閾値より大きな画素を特定し、特定された複数の画素の座標に基づいて回帰直線を算出する処理部である。ここで、所定の閾値は、例えば画素値が０から２５５の範囲であるならば、２４０を閾値とする。

【0026】

判定部１７ｄは、検査対象物４０の表面が良品か否かを判定する処理部である。具体的には、回帰直線算出部１７ｃで特定された各画素値が所定の閾値より大きな画素の画素座標と、回帰直線から計算される座標の残差が、所定の閾値以内である場合は、検査対象物４０は、良品と判定し、所定の閾値より大きい画素が存在する場合は、検査対象物４０は、不良品と判定する。

【0027】

表示制御部１７ｅは、判定部１７ｄにおいて検査対象物４０が良品と判定された場合には、所定の表示部１１に「良品」と表示制御する。また、判定部１７ｄにおいて検査対象物４０が不良品と判定された場合には、所定の表示部１１に「不良品」と表示制御する。

【0028】

＜回帰直線の算出＞
次に表面検査装置１０の撮像画像Ｐ及び回帰直線Ｒの算出について説明する。図３は、表面検査装置１０の撮像画像Ｐの一例を示す図である。図３に示すように、表面検査装置１０は、検査対象物４０が所定の位置に来た場合に、ラインレーザ光を反射する検査対象物４０の画像を撮像する。検査対象物４０に３つのラインレーザ光が照射されている場合は、検査対象物４０の画像にラインレーザのライン光Ｌ１，Ｌ２、Ｌ３が撮像されることとなる。

【0029】

そして、表面検査装置１０は、撮像画像Ｐを形成する画素のうち、ライン光Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３を構成する複数の画素を特定する。具体的には、表面検査装置１０は、撮像画像Ｐを形成するすべての画素において、画素の画素値が所定の閾値以上の画素を特定する。そして、特定した複数の画素のデータを用いて、例えばハフ変換等を行うことにより直線を認識する。その後、認識された直線の座標の複数の画素の座標から回帰直線を算出する。

【0030】

回帰直線Ｒの算出は、図４に示すように、例えば、複数の画素の画素値が所定の閾値以上であるライン光Ｌ３を形成する画素がｘ－ｙ座標軸上に示されており、この画素の座標と回帰直線Ｒとのｙ軸方向の差分を残差Ｅとして、この残差Ｅに基づいて最小二乗法を用いて回帰直線Ｒのパラメータを算出する。なお、残りのライン光Ｌ１，Ｌ２についても同様の処理を行い、それぞれの回帰直線Ｒのパラメータを算出する。

【0031】

＜良否判定について＞
次に、表面検査装置１０の検査対象物４０の良否判定について説明する。図５は、表面検査装置１０の検査対象物４０の良否判定を説明するための説明図である。表面検査装置１０は、回帰直線算出部１７ｃで算出された回帰直線Ｒのパラメータと、あらかじめ設定された回帰直線Ｒからの残差上限値Ｅｕ及び残差下限値Ｅｌとに基づいて、検査対象物４０の良否判定を行う。

【0032】

図５（ａ）に示すように、所定のライン光Ｌ３を形成するすべての画素の残差が残差上限値Ｅｕより小さく、残差下限値Ｅｌよりも大きく、他のライン光Ｌ１及びＬ２においても、すべての画素のデータが残差上限値Ｅｕより小さく、残差下限値Ｅｌよりも大きい場合には、表面検査装置１０は、検査対象物４０を良品と判定する。

【0033】

また、図５（ｂ）に示すように、所定のライン光Ｌ３において一部の画素の残差が残差下限値Ｅｌよりも小さい場合には、表面検査装置１０は、検査対象物４０を不良品と判定する。なお、所定のライン光Ｌ３において一部の画素のデータが残差上限値Ｅｕよりも大きい場合にも、表面検査装置１０は、検査対象物４０を不良品と判定する。なお、表面検査装置１０は、ライン光Ｌ１、又は、ライン光Ｌ２においても一部の画素のデータが残差下限値Ｅｌよりも小さい、もしくは、一部の画素のデータが残差上限値Ｅｕよりも大きい場合にも、検査対象物４０を不良品と判定する。

【0034】

＜表面検査装置１０の処理手順＞
次に、表面検査装置１０の処理手順について説明する。図６は、図１に示した表面検査装置１０の処理手順を示すフローチャートである。図６に示すように、表面検査装置１０は、光源装置１４をオンにし、光を照射する（ステップＳ１０１）。

【0035】

表面検査装置１０は、検査対象物４０が所定の位置に来たならば、画像を撮像する（ステップＳ１０２）。そして、表面検査装置１０は、画像を形成する複数の画素のうち、画素値が所定の閾値より大きな画素を特定し、特定された複数の画素から直線を検出する（ステップＳ１０３）。その後、表面検査装置１０は、画像のラインレーザ光を形成する複数の画素の座標に基づいて回帰直線Ｒを算出する（ステップＳ１０４）。

【0036】

そして、表面検査装置１０は、画像のラインレーザ光を形成する複数の画素の座標と回帰直線Ｒとの残差を算出する（ステップS１０５）。その後、表面検査装置１０は、残差が所定の閾値以内か否かを判定する（ステップＳ１０６）。表面検査装置１０は、残差が所定の閾値より大きい、もしくは、小さい画素が存在する場合は（ステップＳ１０６：Ｎｏ）、所定の表示部１１に「不良品」を表示制御する（ステップＳ１１０）。

【0037】

一方、表面検査装置１０は、残差が所定の閾値以内である場合には（ステップＳ１０６：Ｙｅｓ）、選択された直線が最後の直線か否かを判定する（ステップＳ１０７）。表面検査装置１０は、選択された直線が最後の直線でない場合には（ステップＳ１０７：Ｎｏ）、次の直線を選択し（ステップＳ１０８）、ステップＳ１０４に移行する。

【0038】

表面検査装置１０は、選択された直線が最後の直線である場合には（ステップＳ１０７：Ｙｅｓ）、所定の表示部１１に「良品」を表示制御する（ステップＳ１０９）。

【0039】

上述してきたように、本実施形態では、表面検査装置１０は、光源装置１４によりラインレーザ光を検査対象物４０に照射し、撮像装置１３により、ラインレーザ光を反射する検査対象物４０ｂの画像を撮像する。そして、表面検査装置１０は、画像を形成する複数の画素のうち、画素値が所定の閾値より大きい画素を特定する。表面検査装置１０は、特定された複数の画素の画素座標に基づいて回帰直線Ｒを算出し、複数の画素の画素座標と回帰直線Ｒとの残差が所定の閾値上限値より低く、かつ、所定の閾値下限値よりも大きいか否かにより、検査対象物４０の品質を判定するように構成したため、樹脂製品等の表面の歪みやヒケを効率良く検出することができる。

【0040】

＜変形例＞
ところで、上記実施形態では、画像の画素座標と回帰直線Ｒより算出される座標との残差に基づいて検査対象物４０の良否を判定する場合について説明したが、変形例では、残差が所定の回数連続で所定の閾値を越えるか否かで検査対象物４０の良否判定をする場合について説明する。

【0041】

図７は、変形例に係る表面検査装置の撮像画像Ｐの一例を示す図である。図７に示すように、表面検査装置は、検査対象物４０に光源装置１４からラインレーザ光を照射し、撮像装置１３を用いて、ラインレーザ光を反射する検査対象物４０ｂの画像を撮像する。ここでは、ライン光Ｌ３に歪み特性が表れている場合について示している。

【0042】

表面検査装置は、撮像画像Ｐを形成する画素のうち、ライン光Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３を構成する複数の画素を特定する。具体的には、表面検査装置は、撮像画像Ｐを形成するすべての画素において、画素の画素値が所定の閾値以上の画素を特定する。そして、特定した複数の画素のデータを用いて、例えばハフ変換等を行うことにより直線を認識する。その後、認識された直線の座標の複数の画素の座標から回帰直線Ｒを算出する。

【0043】

回帰直線Ｒの算出は、図８に示すように、例えば、ライン光Ｌ３を形成する画素の画素値が所定の閾値以上である画素を特定し、この画素の座標と回帰直線Ｒとのｙ軸方向の差分を残差Ｅとして、この残差Ｅに基づいて最小二乗法を用いて回帰直線Ｒのパラメータを算出する。

【0044】

その後、表面検査装置は、ライン光Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３のそれぞれについて、残差の閾値に基づいて検査対象物４０の良否判定を行う。表面検査装置は、例えば、ライン光Ｌ３に対応する画素をｘ－ｙ座標上に示されており、この画素の座標と回帰直線Ｒとのｙ軸方向の差分を残差Ｅとして算出する。そして、この残差Ｅが、図８に示すように、連続して５回、残差下限値Ｅｌを越えている場合に、検査対象物４０は、不良品であると判定する。なお、残差が残差上限値Ｅｕ、又は、残差下限値Ｅｌを連続して越える場合の連続する回数は、５回に限られる訳ではい。

【0045】

なお、上記実施形態では、表面検査装置１０は、回帰直線Ｒと画素の画素値が所定の閾値以上の画素との残差により検査対象物４０の良否判定を行う場合について説明したが、本発明はこれに限定されることはなく、表面検査装置１０が、回帰直線Ｒを算出したならば、画素の画素値が所定の閾値以上の画素の座標と、回帰直線Ｒの法線方向（回帰直線Ｒと垂直の方向）の誤差を算出し、この誤差が所定の閾値以内か否かで良否判定を行ってもよい。

【0046】

また、上記実施形態では、表面検査装置は、画像を形成する画素のうち、ライン光Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３を構成する複数の画素において、それぞれの画素について残差を求めて、良否判断を行っている場合について説明したが、本発明は、これに限定されることはなく、ライン光Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３を構成する複数の画素のうち、連続する画素（例えば、５つの連続する画素）の残差の平均を求め、その平均値が所定の閾値以内か否かにより、検査対象物４０の良否を判定してもよい。

【0047】

上記の実施形態で図示した各構成は機能概略的なものであり、必ずしも物理的に図示の構成をされていることを要しない。すなわち、各装置の分散・統合の形態は図示のものに限られず、その全部又は一部を各種の負荷や使用状況などに応じて、任意の単位で機能的又は物理的に分散・統合して構成することができる。

【産業上の利用可能性】

【0048】

本発明に係る表面検査装置及び表面検査方法は、樹脂製品等の表面の歪みやヒケを効率良く検出する場合に適している。

【符号の説明】

【0049】

１０ 表面検査装置
１１ 表示部
１２ 入力部
１３ 撮像装置
１３ａ 撮像部
１３ｂ フィルタ
１４ 光源装置
１５ａ、１５ｂ、１５ｃ、１５ｄ、１５ｅ ラインレーザ光源
１６ 記憶部
１６ａ 画像データ
１６ｂ 回帰直線データ
１６ｃ 閾値データ
１７ 制御部
１７ａ 光源制御部
１７ｂ 撮像処理部
１７ｃ 回帰直線算出部
１７ｄ 判定部
１７ｅ 表示制御部
４０ａ、４０ｂ、４０ｃ 検査対象物
４１ａ、４１ｂ、４１ｃ 台座
５０ ベルトコンベア
Ｅ 残差
Ｅｕ 残差上限
Ｅｌ 残差下限
Ｌ１，Ｌ２、Ｌ３ ライン光
Ｐ 撮像画像
Ｒ 回帰直線

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】