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特開2025-5134ガソリンエンジン用排ガス浄化触媒装置
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  • 特開-ガソリンエンジン用排ガス浄化触媒装置 図1
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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2025005134
(43)【公開日】2025-01-16
(54)【発明の名称】ガソリンエンジン用排ガス浄化触媒装置
(51)【国際特許分類】
   B01J 35/57 20240101AFI20250108BHJP
   B01J 35/60 20240101ALI20250108BHJP
   B01J 29/74 20060101ALI20250108BHJP
   B01D 53/94 20060101ALI20250108BHJP
   B01J 20/18 20060101ALI20250108BHJP
   B01J 20/28 20060101ALI20250108BHJP
   F01N 3/10 20060101ALI20250108BHJP
   F01N 3/24 20060101ALI20250108BHJP
【FI】
B01J35/04 301L
B01J35/10 301F
B01J29/74 A ZAB
B01D53/94 222
B01D53/94 245
B01D53/94 280
B01J20/18 B
B01J20/28 Z
F01N3/10 A
F01N3/24 C
【審査請求】有
【請求項の数】11
【出願形態】OL
(21)【出願番号】P 2023105178
(22)【出願日】2023-06-27
(11)【特許番号】
(45)【特許公報発行日】2025-01-06
(71)【出願人】
【識別番号】000104607
【氏名又は名称】株式会社キャタラー
(74)【代理人】
【識別番号】100099759
【弁理士】
【氏名又は名称】青木 篤
(74)【代理人】
【識別番号】100123582
【弁理士】
【氏名又は名称】三橋 真二
(74)【代理人】
【識別番号】100123593
【弁理士】
【氏名又は名称】関根 宣夫
(74)【代理人】
【識別番号】100208225
【弁理士】
【氏名又は名称】青木 修二郎
(74)【代理人】
【識別番号】100217179
【弁理士】
【氏名又は名称】村上 智史
(74)【代理人】
【識別番号】100122404
【弁理士】
【氏名又は名称】勝又 秀夫
(72)【発明者】
【氏名】高須 亮佑
(72)【発明者】
【氏名】菅原 康
(72)【発明者】
【氏名】白山 陽大
(72)【発明者】
【氏名】伊藤 雅也
(72)【発明者】
【氏名】山▲崎▼ 祐哉
【テーマコード(参考)】
3G091
4D148
4G066
4G169
【Fターム(参考)】
3G091AA17
3G091AB03
3G091BA03
3G091FC07
3G091GB06
3G091GB09
3G091HA08
4D148AA06
4D148AA08
4D148AA13
4D148AA18
4D148AB01
4D148AB09
4D148BA02Y
4D148BA03X
4D148BA08X
4D148BA11X
4D148BA14Y
4D148BA15X
4D148BA18X
4D148BA19X
4D148BA30X
4D148BA31X
4D148BA33X
4D148BA41X
4D148BA42X
4D148BB02
4D148BB15
4D148BB16
4D148DA03
4D148DA11
4D148DA20
4D148EA04
4G066BA07
4G066BA23
4G066DA02
4G169AA03
4G169BA01B
4G169BA05B
4G169BA07A
4G169BA07B
4G169BA13B
4G169BB04A
4G169BB06B
4G169BC13B
4G169BC42B
4G169BC43A
4G169BC43B
4G169BC44B
4G169BC71A
4G169BC71B
4G169BC72A
4G169BC75A
4G169BC75B
4G169CA03
4G169CA09
4G169DA06
4G169EA19
4G169EB12Y
4G169EB14Y
4G169EC11X
4G169EC12X
4G169EC28
4G169EC29
4G169EE06
4G169EE09
4G169ZA14A
4G169ZA14B
4G169ZA32A
4G169ZC07
4G169ZF07A
(57)【要約】
【課題】エンジン始動時等の低温状態においても、アンモニアエミッションが低減された、ガソリンエンジン用の排ガス浄化触媒装置を提供すること。
【解決手段】基材と、プロトン型ゼオライトを含有するNH吸着層と、Pd、Pt、及びRhから選択される触媒貴金属を含有するPGM層と、を有する、ガソリンエンジン用排ガス浄化触媒装置であって、NH吸着層に含まれるプロトン型ゼオライトは、平均細孔径が0.60nm以下であり、NH吸着層は、PGM層よりも基材側に配置されており、基材の排ガス流れ上流端から、基材の全長よりも短い長さで配置されており、かつ、PGM層は、基材の排ガス流れ上流端から、NH吸着層よりも長い長さで配置されており、PGM層が、Pd及びPtから選択される触媒貴金属を含有する第1のPGM層と、Rhを含有する第2のPGM層とを有し、第1のPGM層がセリアを含む、排ガス浄化触媒装置。
【選択図】図1
【特許請求の範囲】
【請求項1】
基材と、
プロトン型ゼオライトを含有するNH吸着層と、
Pd、Pt、及びRhから選択される触媒貴金属を含有するPGM層と、
を有する、ガソリンエンジン用排ガス浄化触媒装置であって、
前記NH吸着層に含まれる前記プロトン型ゼオライトは、平均細孔径が0.60nm以下であり、
前記NH吸着層は、
前記PGM層よりも前記基材側に配置されており、
前記基材の排ガス流れ上流端から、前記基材の全長よりも短い長さで配置されており、かつ、
前記PGM層は、前記基材の排ガス流れ上流端から、前記NH吸着層よりも長い長さで配置されており、
前記PGM層が、Pd及びPtから選択される触媒貴金属を含有する第1のPGM層と、Rhを含有する第2のPGM層とを有し、
前記第1のPGM層がセリアを含む、
排ガス浄化触媒装置。
【請求項2】
前記プロトン型ゼオライトが、基本骨格が4、6、及び8員環から選ばれる環のみから構成されている少員環プロトン型ゼオライトを、前記プロトン型ゼオライトの全質量に対して80質量%以上含む、請求項1に記載の排ガス浄化触媒装置。
【請求項3】
前記少員環プロトン型ゼオライトが、H-ACO、H-AEI、H-AEN、H-AFN、H-AFT、AFX、H-ANA、H-APC、H-APD、H-ATT、H-CDO、H-CHA、H-DDR、H-DFT、H-EAB、H-EDI、H-EPI、H-ERI、H-GIS、H-GOO、H-IHW、H-ITE、H-ITW、H-LEV、H-LTA、H-KFI、H-MER、H-MON、H-NSI、H-OWE、H-PAU、H-PHI、H-RHO、H-RTH、H-SAT、H-SAV、H-SIV、H-THO、H-TSC、H-UEI、H-UFI、H-VNI、H-YUG、及びH-ZONから選択される1種又は2種以上である、請求項2に記載の排ガス浄化触媒装置。
【請求項4】
前記第1のPGM層に含まれるセリアの量が、基材容量1L当たりのセリア質量として、4.0g/L以上45.0g/L以下である、請求項1に記載の排ガス浄化触媒装置。
【請求項5】
前記第1のPGM層に含まれるセリアの量が、基材容量1L当たりのセリア質量として、4.0g/L以上45.0g/L以下である、請求項2に記載の排ガス浄化触媒装置。
【請求項6】
前記第1のPGM層は、前記基材の排ガス流れ上流端から基材全長の10%以上の長さが、排ガスと直接接する最上層となっており、かつ、
前記第2のPGM層は、前記基材の排ガス流れ下流端から基材全長の20%以上の長さが、排ガスと直接接する最上層となっている、
請求項1~5のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
【請求項7】
前記第1のPGM層が、前記基材の排ガス上流端から基材全長の70%超の長さで配置されている、請求項6に記載の排ガス浄化触媒装置。
【請求項8】
前記第2のPGM層が、前記基材の排ガス下流端から基材全長の20%以上90%以下の長さで配置されている、請求項6に記載の排ガス浄化触媒装置。
【請求項9】
前記第1のPGM層が、前記基材の排ガス上流端から基材全長の70%超の長さで配置されており、
前記第2のPGM層が、前記基材の排ガス下流端から基材全長の30%以上90%以下の長さで配置されており、
前記第1のPGM層の長さと前記第2のPGM層の長さとの合計が前記基材の全長を超え、かつ、
前記第1のPGM層と前記第2のPGM層とが重複している領域では、前記第2のPGM層が排ガスと直接接する最上層となっている、
請求項6に記載の排ガス浄化触媒装置。
【請求項10】
ガソリンエンジンの排気系に、請求項1~5のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置を配置して、前記ガソリンエンジンから排出された排ガスを浄化することを含む、排ガス浄化方法。
【請求項11】
ガソリンエンジンの排気系の排ガス流れ上流側に配置された上流側浄化触媒装置と、
前記排気系の排ガス流れ下流側に配置された下流側浄化触媒装置と
を含む、ガソリンエンジン用排ガス浄化触媒システムであって、
前記上流側浄化触媒装置が、白金族の触媒貴金属を含む3元系排ガス浄化触媒装置であり、
前記下流側浄化触媒装置が、請求項1~5のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置である、
排ガス浄化触媒システム。
【請求項12】
ガソリンエンジンの排気系に、請求項11に記載の排ガス浄化触媒システムを配置して、前記ガソリンエンジンから排出された排ガスを浄化することを含む、排ガス浄化方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、ガソリンエンジン用排ガス浄化触媒装置に関する。
【背景技術】
【0002】
ガソリンエンジンから排出される排ガスには、HC(炭化水素)、CO(一酸化炭素)、NOx(窒素酸化物)等が含まれており、これらは、エンジンの排気系に配置された排ガス浄化触媒装置によって浄化された後に大気に排出される。
【0003】
排ガス浄化触媒装置として、HC、CO、及びNOxすべてを浄化することが可能な3元触媒が知られている。例えば、特許文献1には、基材上に多層構造のアルミナ層を備え、内側のアルミナ層にロジウムを担持し、表面側のアルミナ層に、白金及びパラジウムのうちの少なくとも1種を担持した、排ガス浄化用触媒が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開昭63-039633号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
ガソリンエンジンにおいて、ガソリンと空気との混合気がリッチ状態のとき、3元触媒によるNOxの還元によって、アンモニア(NH)が生成し易くなる。特に、エンジン始動時には、アンモニアの生成量が多い傾向にある。
【0006】
生成したアンモニアは、3元触媒によって浄化され得る。しかし、エンジン始動時等、触媒が暖機される前の低温状態では、生成したアンモニアの全量を浄化しきれずに、一部が排出されることがある。
【0007】
EUの次期排ガス規制「Euro7」では、大型車のみならず、乗用車・バンについてもアンモニアのエミッションが規制されることになった。
【0008】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされた。本発明の目的は、エンジン始動時等の低温状態においても、アンモニアエミッションが低減された、ガソリンエンジン用の排ガス浄化触媒装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明は、以下のとおりである。
【0010】
《態様1》基材と、
プロトン型ゼオライトを含有するNH吸着層と、
Pd、Pt、及びRhから選択される触媒貴金属を含有するPGM層と、
を有する、ガソリンエンジン用排ガス浄化触媒装置であって、
前記NH吸着層に含まれる前記プロトン型ゼオライトは、平均細孔径が0.60nm以下であり、
前記NH吸着層は、
前記PGM層よりも前記基材側に配置されており、
前記基材の排ガス流れ上流端から、前記基材の全長よりも短い長さで配置されており、かつ、
前記PGM層は、前記基材の排ガス流れ上流端から、前記NH吸着層よりも長い長さで配置されており、
前記PGM層が、Pd及びPtから選択される触媒貴金属を含有する第1のPGM層と、Rhを含有する第2のPGM層とを有し、
前記第1のPGM層がセリアを含む、
排ガス浄化触媒装置。
《態様2》前記プロトン型ゼオライトが、基本骨格が4、6、及び8員環から選ばれる環のみから構成されている少員環プロトン型ゼオライトを、前記プロトン型ゼオライトの全質量に対して80質量%以上含む、態様1に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様3》前記少員環プロトン型ゼオライトが、H-ACO、H-AEI、H-AEN、H-AFN、H-AFT、AFX、H-ANA、H-APC、H-APD、H-ATT、H-CDO、H-CHA、H-DDR、H-DFT、H-EAB、H-EDI、H-EPI、H-ERI、H-GIS、H-GOO、H-IHW、H-ITE、H-ITW、H-LEV、H-LTA、H-KFI、H-MER、H-MON、H-NSI、H-OWE、H-PAU、H-PHI、H-RHO、H-RTH、H-SAT、H-SAV、H-SIV、H-THO、H-TSC、H-UEI、H-UFI、H-VNI、H-YUG、及びH-ZONから選択される1種又は2種以上である、態様2に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様4》前記第1のPGM層に含まれるセリアの量が、基材容量1L当たりのセリア質量として、4.0g/L以上45.0g/L以下である、態様1に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様5》前記第1のPGM層に含まれるセリアの量が、基材容量1L当たりのセリア質量として、4.0g/L以上45.0g/L以下である、態様2に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様6》前記第1のPGM層は、前記基材の排ガス流れ上流端から基材全長の10%以上の長さが、排ガスと直接接する最上層となっており、かつ、
前記第2のPGM層は、前記基材の排ガス流れ下流端から基材全長の20%以上の長さが、排ガスと直接接する最上層となっている、
態様1~5のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様7》前記第1のPGM層が、前記基材の排ガス上流端から基材全長の70%超の長さで配置されている、態様6に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様8》前記第2のPGM層が、前記基材の排ガス下流端から基材全長の20%以上90%以下の長さで配置されている、態様6に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様9》前記第1のPGM層が、前記基材の排ガス上流端から基材全長の70%超の長さで配置されており、
前記第2のPGM層が、前記基材の排ガス下流端から基材全長の30%以上90%以下の長さで配置されており、
前記第1のPGM層の長さと前記第2のPGM層の長さとの合計が前記基材の全長を超え、かつ、
前記第1のPGM層と前記第2のPGM層とが重複している領域では、前記第2のPGM層が排ガスと直接接する最上層となっている、
態様6に記載の排ガス浄化触媒装置。
《態様10》ガソリンエンジンの排気系に、態様1~5のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置を配置して、前記ガソリンエンジンから排出された排ガスを浄化することを含む、排ガス浄化方法。
《態様11》ガソリンエンジンの排気系の排ガス流れ上流側に配置された上流側浄化触媒装置と、
前記排気系の排ガス流れ下流側に配置された下流側浄化触媒装置と
を含む、ガソリンエンジン用排ガス浄化触媒システムであって、
前記上流側浄化触媒装置が、白金族の触媒貴金属を含む3元系排ガス浄化触媒装置であり、
前記下流側浄化触媒装置が、態様1~5のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置である、
排ガス浄化触媒システム。
《態様12》ガソリンエンジンの排気系に、態様11に記載の排ガス浄化触媒システムを配置して、前記ガソリンエンジンから排出された排ガスを浄化することを含む、排ガス浄化方法
【発明の効果】
【0011】
本発明によると、エンジン始動時等の低温状態においても、アンモニアエミッションが低減された、ガソリンエンジン用の排ガス浄化触媒装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【0012】
図1図1は、本発明のある実施形態における排ガス浄化触媒装置の構成を示す、概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0013】
《排ガス浄化触媒装置》
本発明の排ガス浄化触媒装置は、
基材と、
プロトン型ゼオライトを含有するNH吸着層と、
Pd、Pt、及びRhから選択される触媒貴金属を含有するPGM層と、
を有する、ガソリンエンジン用排ガス浄化触媒装置であって、
前記NH吸着層に含まれる前記プロトン型ゼオライトは、平均細孔径が0.60nm以下であり、
前記NH吸着層は、
前記PGM層よりも前記基材側に配置されており、
前記基材の排ガス流れ上流端から、前記基材の全長よりも短い長さで配置されており、かつ、
前記PGM層は、前記基材の排ガス流れ上流端から、前記NH吸着層よりも長い長さで配置されており、
前記PGM層が、Pd及びPtから選択される触媒貴金属を含有する第1のPGM層と、Rhを含有する第2のPGM層とを有し、
前記第1のPGM層がセリアを含む、
排ガス浄化触媒装置である。
【0014】
図1に、本発明のある実施形態における排ガス浄化触媒装置の構成を示す。図1において、太線の矢印は、排ガス流れの方向を示す。
【0015】
図1の排ガス浄化触媒装置(100)は、基材(10)とNH吸着層(20)とPGM層(30)とを有する。PGM層(30)は、第1のPGM層(31)と第2のPGM層(32)とを含む。
【0016】
排ガス浄化触媒装置(100)において、NH吸着層(20)は、PGM層(30)よりも基材(10)の側に、基材(10)の排ガス流れ上流端から基材(10)の全長よりも短い長さで配置されている。また、PGM層(30)(すなわち、第1のPGM層(31)及び第2のPGM層(32)の積層体)は、基材(10)の排ガス流れ上流端から、NH吸着層(20)よりも長い長さで配置されており、NH吸着層(20)を被覆している。
【0017】
このような構成の排ガス浄化触媒装置(100)では、エンジン始動時等の、触媒装置が暖機される前の低温状態において、上層のPGM層(30)によるNOxの還元によってアンモニアが生成し易くなる。発生したアンモニアは、低温状態では、PGM層(30)と直接接するNH吸着層(20)に吸着されて、外部への排出が抑制される。
【0018】
触媒装置が暖機されると、NH吸着層(20)に吸着されたアンモニアは、NH吸着層(20)から脱離する。NH吸着層(20)から脱離したアンモニアは、NH吸着層(20)を被覆するPGM層(30)と接触して、浄化されたうえで、大気に放出される。
【0019】
本発明の排ガス浄化触媒装置では、このような作用機構によって、暖機前及び暖機後の双方において、アンモニアのエミッションが低減されるのである。
【0020】
以下、本発明の排ガス浄化触媒装置を構成する要素について、順に説明する。
【0021】
〈基材〉
本発明の排ガス浄化触媒装置における基材は、隔壁によって区分された複数のセル流路を有する基材であってよく、従来技術の排ガス浄化触媒装置に用いられているハニカム基材であってよい。基材の隔壁は、隣接する排ガス流路間を流体的に連通する細孔を有していてもよいし、このような細孔を有していなくてもよい。
【0022】
基材の構成材料は、例えば、コージェライト等の耐火性無機酸化物であってよいし、金属であってもよい。基材は、ストレートフロー型であっても、ウォールフロー型であってもよい。
【0023】
本発明の排ガス浄化触媒装置の製造方法における基材は、典型的には、例えば、コージェライト製のストレートフロー型のモノリスハニカム基材、コージェライト製のウォールフロー型のモノリスハニカム基材、メタルハニカム基材等であってよい。
【0024】
基材の形状は、円柱形、楕円柱形、多角柱等であってよい。
【0025】
基材の容量は、底面積×長さで表される見かけ容量として、例えば、500mL以上、800mL以上、1.0L以上、又は1.2L以上であってよく、例えば、5.0L以下、3.0L以下、2.0L以下、1.5L以下、又は1.2L以下であってよい。
【0026】
〈NH吸着層〉
NH吸着層は、プロトン型ゼオライトを含有する。
【0027】
通常のゼオライトは、電荷補償カチオンが金属イオンであるため、耐久後には電荷補償カチオンが溶出して、NH吸着能が損なわれることが多い。これに対して、プロトン型ゼオライトは、ゼオライトの電荷補償カチオンがプロトンであるため、耐熱性が高く、電荷補償カチオンの溶出によるNH吸着能の低下が抑制されている。
【0028】
NH吸着層に含まれるプロトン型ゼオライトの平均細孔径は、0.60nm以下である。ゼオライトの吸着性能は、ゼオライトの細孔径と、吸着物の分子サイズとの関係に依存する。NHの分子サイズは約0.26nmであるため、平均細孔径0.60nm以下のゼオライトに高い効率で吸着され得る。
【0029】
プロトン型ゼオライトの平均細孔径は、0.55nm以下、0.50nm以下、0.45nm以下、0.40nm以下、0.35nm以下、又は0.30nm以下であってよく、例えば、0.25nm以上、0.30nm以上、0.35nm以上、又は0.40nm以上であってよい。
【0030】
プロトン型ゼオライトの細孔径は、結晶構造に応じて、国際ゼオライト学会構造委員会のデータベースの記載により一義的に定まる。プロトン型ゼオライトが複数の結晶構造の混合物である場合、当該プロトン型ゼオライトの平均細孔径は、データベースに示された各結晶構造の細孔径の平均値として定義される。
【0031】
本発明の排ガス浄化触媒装置におけるNH吸着層に含まれるプロトン型ゼオライトは、少員環プロトン型ゼオライトを含んでいてよい。本明細書において、「少員環プロトン型ゼオライト」とは、基本骨格が4、6、及び8員環から選ばれる環のみから構成されている、プロトン型ゼオライトを意味する。
【0032】
少員環プロトン型ゼオライトが、H-ACO、H-AEI、H-AEN、H-AFN、H-AFT、AFX、H-ANA、H-APC、H-APD、H-ATT、H-CDO、H-CHA、H-DDR、H-DFT、H-EAB、H-EDI、H-EPI、H-ERI、H-GIS、H-GOO、H-IHW、H-ITE、H-ITW、H-LEV、H-LTA、H-KFI、H-MER、H-MON、H-NSI、H-OWE、H-PAU、H-PHI、H-RHO、H-RTH、H-SAT、H-SAV、H-SIV、H-THO、H-TSC、H-UEI、H-UFI、H-VNI、H-YUG、H-ZON塔であってよく、これらから選択される1種又は2種以上を使用してよい。
【0033】
本発明におけるNH吸着層中のプロトン型ゼオライトは、NHをより効果的に吸着する観点から、少員環プロトン型ゼオライトを、プロトン型ゼオライトの全質量に対して、80質量%以上、85質量%以上、90質量%以上、95質量%以上、98質量%以上、若しくは99質量%以上含んでいてよく、又はプロトン型ゼオライトの100質量%が少員環プロトン型ゼオライトであってもよい。
【0034】
プロトン型ゼオライトのSiO/Al比(SAR)は、特に限定されず、例えば、5以上、10以上、20以上、30以上、40以上、又は50以上であってよく、例えば、500以下、300以下、200以下、100以下、又は50以下であってよい。
【0035】
NH吸着層は、プロトン型ゼオライト以外の任意成分を含んでいてよい。NH吸着層に含まれる任意成分は、例えば、プロトン型ゼオライト以外のゼオライト、ゼオライト以外の無機酸化物、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素等を含む化合物やバインダー等であってよい。
【0036】
NH吸着層に含まれる任意成分としての、ゼオライト以外の無機酸化物は、例えば、Al、Si、Ti、Zr、Ce、Ce以外の希土類等から選択される1種又は2種以上の元素の酸化物であってよい。バインダーは、例えば、アルミナゾル、ジルコニアゾル、チタニアゾル等から選択されてよい。
【0037】
ここで、NH吸着層は、鉄族元素又は銅族元素(特に鉄及び銅)を、含んでいてもよいし、含まなくてもよい。NH吸着層中に鉄族元素又は銅族元素が含まれると、プロトン型ゼオライトがこれらの元素にイオン交換されることがある。イオン交換されたゼオライトから交換イオンが脱離すると、ゼオライトの骨格崩壊が起こってNH吸着能が損なわれる場合がある。この観点からは、NH吸着層は、鉄族元素又は銅族元素を含まなくてもよい。
【0038】
また、NH吸着層は、触媒貴金属(例えば白金族元素)を、含んでいてもよいし、含まなくてもよい。NH吸着層中の触媒貴金属は、使用中に凝集して触媒性能が損なわれる場合があるため、NH吸着層は、触媒貴金属を含まなくてよい。
【0039】
NH吸着層中のプロトン型ゼオライトの割合は、NHをより効果的に吸着する観点から、NH吸着層の全質量に対するプロトン型ゼオライトの質量割合として、例えば、50質量%以上、60質量%以上、70質量%以上、80質量%以上、90質量%以上、又は95質量%以上であってよく、100質量%未満、98質量%以下、95質量%以下、90質量%以下、又は80質量%以下であってよい。
【0040】
本発明の排ガス浄化触媒装置において、NH吸着層は、後述のPGM層よりも基材側に配置されている。NH吸着層は、例えば、基材の隔壁に接するように配置されて、触媒層の下層を形成していてよい。
【0041】
本発明の排ガス浄化触媒装置において、NH吸着層は、基材の排ガス流れ上流端から、基材の全長よりも短い長さで配置されている。すなわち、NH吸着層は、基材の下流端付近には配置されていない。このような構成により、排ガス浄化触媒装置に流入してきたNHを効率よく吸着することができるとともに、排ガス浄化触媒装置が暖機された後にNH吸着層から脱離したNHが、上層のPGM層と接触せずに排ガス浄化触媒装置から排出される確率を減ずることができるから、NHエミッションを低減する観点から好適である。
【0042】
NHを効率よく吸着する観点から、NH吸着層の長さは、基材の上流端から、基材全長の30%以上、40%以上、50%以上、又は60%以上であってよい。一方、脱離したNHをPGM層と確実に接触させて浄化する観点から、NH吸着層の長さは、基材の上流端から、基材全長の95%以下、90%以下、85%以下、80%以下、75%以下、又は70%以下であってよい。
【0043】
本発明の排ガス浄化触媒装置におけるNH吸着層の配置量は、NH吸着層が配置されていない部分も含めた基材の容量当たりのNH吸着層の質量として、実効的なNHの吸着量を確保するとの観点から、20g/L以上、50g/L以上、80g/L以上、又は100g/L以上であってよく、圧損を過度に上昇させないとの観点から、300g/L以下、250g/L以下、200g/L以下、又は150g/L以下であってよい。
【0044】
〈PGM層〉
PGM層は、Pd及びPtから選択される触媒貴金属を含有する第1のPGM層と、触媒貴金属としてRhを含有する第2のPGM層とを有し、かつ、第1のPGM層がセリア(CeO)を含む。
【0045】
第1のPGM層におけるPd及びPtから選択される触媒貴金属は、無機酸化物に担持された微粒子の形態であってよい。触媒貴金属粒子の平均粒径は、例えば、1nm以上、2nm以上、又は3nm以上であってよく、15nm以下、10nm以下、7nm以下、又は5nm以下であってよい。
【0046】
第1のPGM層における触媒貴金属の含有量は、第1のPGM層が配置されていない部分も含めた基材の容量当たりのPd及びPtの合計質量として、0.05g/L以上、0.10g/L以上、0.20g/L以上、0.30g/L以上、又は0.40g/L以上であってよく、例えば、1.50g/L以下、1.20g/L以下、1.00g/L以下、0.80g/L以下、0.60g/L以下、又は0.50g/L以下であってよい。
【0047】
第1のPGM層中の触媒貴金属は、第1のPGM層に含まれる無機酸化物の1種又は2種以上に担持されていてよい。
【0048】
第1のPGM層は、セリアを含み、これ以外の無機酸化物を含んでいてもよい。第1のPGM層に含まれるセリア以外の無機酸化物は、NH吸着層に含まれる無機酸化物として上記に例示したものの中から適宜に選択されてよい。第1のPGM層は、特に、セリア及びアルミナを含んでいてよく、これら以外の無機酸化物を更に含んでいてよい。
【0049】
セリアは、酸素吸蔵放出能を有する無機酸化物である。セリアは、単体のセリアであっても、Ceと他の無機元素との複合酸化物(例えば、セリア-ジルコニア複合酸化物)に含まれる形態であってもよい。
【0050】
第1のPGM層がセリアを一定量含むことにより、3元触媒能が向上される。第1のPGM層中のセリアの含有量は、PGM層の全質量に対するセリアの質量割合として、5質量%以上、10質量%以上、12質量%以上、又は15質量%以上であってよく、60質量%以下、50質量%以下、40質量%以下、30質量%以下、又は20質量%以下であってよい。セリアがCeと他の無機元素との複合酸化物の形態である場合、上記のセリアの質量割合は、複合酸化物の質量割合をセリア相当量に換算した値である。
【0051】
第1のPGM層に含まれるセリアの量は、リーン時及びリッチ時双方において3元触媒性能を良好に維持する観点から、基材容量1L当たりのセリア質量として、4.0g/L以上、8.0g/L以上、12.0g/L以上、15.0g/L以上、20.0g/L以上、又は30.0g/L以上であってよく、45.0g/L以下、40.0g/L以下、35.0g/L以下、30.0g/L以下、又は25.0g/L以下であってよい。
【0052】
第1のPGM層は、ゼオライトを含んでいてもよいし、含まなくてもよい。しかしながら、第1のPGM層がゼオライトを含むと、NH吸着層とPGM層とを別々の層として配置することにより、NHを効率的に吸着し、脱離したNHの効率的な浄化とを期した本発明の趣旨が損なわれる懸念がある。この観点から、第1のPGM層は、ゼオライトを含まなくてもよい。
【0053】
第1のPGM層は、アルカリ成分を含んでいてよい。このアルカリ成分は、アルカリ金属及びアルカリ土類金属を含む化合物等から選択されてよい。アルカリ金属としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム等を、アルカリ土類金属としては、例えば、カルシウム、ストロンチウム、バリウム等を、それぞれ挙げることができ、これらから選択される1種又は2種以上を使用できる。
【0054】
アルカリ成分は、例えば、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の酸化物、硫酸塩等であってよい。
【0055】
第1のPGM層におけるアルカリ成分の含有量は、第1のPGM層が配置されていない部分も含めた基材の容量当たりの質量として、1.0g/L以上、3.0g/L以上、5.0g/L以上、又は7.5g/L以上であってよく、20.0g/L以下、18.0g/L以下、15.0g/L以下、又は12.0g/L以下であってよい。
【0056】
本発明の排ガス浄化触媒装置における第1のPGM層の配置量は、第1のPGM層が配置されていない部分も含めた基材の容量当たりの第1のPGM層の質量として、実効的な3元触媒能(特に酸化浄化触媒能)を確保するとの観点から、80g/L以上、90g/L以上、100g/L以上、120g/L以上、又は150g/L以上であってよく、圧損を過度に上昇させないとの観点から、300g/L以下、250g/L以下、200g/L以下、180g/L以下、150g/L以下、又は130g/L以下であってよい。
【0057】
第2のPGM層は、触媒貴金属としてRhを含有する。
【0058】
第2のPGM層における触媒貴金属であるRhは、無機酸化物に担持された微粒子の形態であってよい。Rh粒子の平均粒径は、例えば、1nm以上、2nm以上、又は3nm以上であってよく、15nm以下、10nm以下、7nm以下、又は5nm以下であってよい。
【0059】
第2のPGM層におけるRhの含有量は、第2のPGM層が配置されていない部分も含めた基材の容量当たりのRhの質量として、0.05g/L以上、0.10g/L以上、0.15g/L以上、又は0.20g/L以上であってよく、例えば、1.00g/L以下、0.80g/L以下、0.50g/L以下、0.40g/L以下、又は0.30g/L以下であってよい。
【0060】
第2のPGM層中の触媒貴金属は、第2のPGM層に含まれる無機酸化物の1種又は2種以上に担持されていてよい。
【0061】
第2のPGM層に含まれる無機酸化物は、NH吸着層に含まれる無機酸化物として上記に例示したものの中から適宜に選択されてよい。第2のPGM層は、特に、アルミナを含んでいてよく、更にセリアを含んでいてよく、これら以外の無機酸化物を含んでいてもよい。ここで、セリアは、単体のセリアであっても、Ceと他の無機元素との複合酸化物(例えば、セリア-ジルコニア複合酸化物)に含まれる形態であってもよい。
【0062】
第2のPGM層は、セリアを一定量含んでいてよい。第2のPGM層中のセリアの含有量は、第2のPGM層の全質量に対するセリアの質量割合として、1質量%以上、3質量%以上、5質量%以上、又は7質量%以上であってよく、20質量%以下、15質量%以下、10質量%以下、又は8質量%以下であってよい。セリアがCeと他の無機元素との複合酸化物の形態である場合、上記のセリアの質量割合は、複合酸化物の質量割合をセリア相当量に換算した値である。
【0063】
第2のPGM層に含まれるセリアの量は、リーン時及びリッチ時双方において3元触媒性能を良好に維持する観点から、基材容量1L当たりのセリア質量として、2.0g/L以上、4.0g/L以上、5.0g/L以上、6.0g/L以上、又は8.0g/L以上であってよく、20.0g/L以下、20.0g/L以下、15.0g/L以下、12.0g/L以下、又は10.0g/L以下であってよい。
【0064】
第2のPGM層は、ゼオライトを含んでいてもよいし、含まなくてもよい。第2のPGM層は、ゼオライトを含まなくてもよい。
【0065】
第2のPGM層は、アルカリ成分を含んでいてよいし、含まなくてもよい。第2のPGM層は、アルカリ成分を含まなくてもよい。
【0066】
本発明の排ガス浄化触媒装置における第2のPGM層の配置量は、第2のPGM層が配置されていない部分も含めた基材の容量当たりのNH吸着層の質量として、実効的な3元触媒能(特に還元浄化触媒能)を確保するとの観点から、80g/L以上、90g/L以上、100g/L以上、又は120g/L以上であってよく、圧損を過度に上昇させないとの観点から、200g/L以下、180g/L以下、150g/L以下、又は130g/L以下であってよい。
【0067】
PGM層(第1のPGM層及び第2のPGM層の積層体)は、基材の排ガス流れ上流端から、NH吸着層よりも長い長さで配置されている。この構成によると、NH吸着層は、その全長にわたってPGM層に被覆され、特に、NH吸着層の下流端が、PGM層に被覆されることになる。そのため、NH吸着層から脱離したNHがPGM層と確実に接触して浄化されることになる点で、好適である。
【0068】
PGM層の配置範囲は、基材の排ガス流れ上流端から、NH吸着層の長さの100%超、かつ、基材全長と同じ長さまでの範囲である。PGM層の長さは、基材全長と同じ長さ以下であることを条件に、NH吸着層の長さの、105%以上、110%以上、又は120%以上であってよい。PGM層は、基材の排ガス流れ上流端から、基材全長と同じ長さで配置されていてよい。
【0069】
本発明の排ガス浄化触媒装置において、PGM層は、NH吸着層に対して基材と反対側に配置されている。PGM層は、基材上にNH吸着層が配置されている領域では、該NH吸着層の上に配置されていてよく、基材上にNH吸着層が配置されていない領域では、基材の隔壁に接するように配置されていてよい。
【0070】
第1のPGM層及び第2のPGM層の長さの合計は、基材の全長と同じか、計算上これよりも長くなってもよい。
【0071】
第1のPGM層は、基材の排ガス流れ上流端から、排ガス流れの下流側に向かって延在するように配置されていてよい。第1のPGM層の長さは、基材全長の、70%超、75%以上、80%以上、85%以上、90%以上、又は95%以上であってよく、例えば、100%以下、99%以下、95%以下、90%以下、80%以下、又は75%以下であってよい。
【0072】
第1のPGM層は、基材の排ガス流れ上流端付近で、排ガスと直接接する最上層となっていてよい。この構成によると、排ガス浄化触媒装置が暖機される前でも、HC及びCOを効果的に浄化することができ、好適である。
【0073】
第1のPGM層が、基材の排ガス流れ上流端付近で排ガスと直接接する最上層となっている長さは、例えば、基材全長の、10%以上、20%以上、30%以上、40%以上、又は50%以上であってよく、例えば、80%以下、70%以下、60%以下、又は50%以下であってよい。
【0074】
第2のPGM層は、基材の排ガス流れ下流端から、排ガス流れの上流側に向かって延在するように配置されていてよい。第2のPGM層の長さは、基材全長の、20%以上、30%以上、40%以上、50%以上、又は60%以上であってよく、例えば、90%以下、80%以下、70%以下、又は60%以下であってよい。
【0075】
第2のPGM層は、基材の排ガス流れ下流端付近で、排ガスと直接接する最上層となっていてよい。この構成によると、排ガス浄化触媒装置が暖機される前にはNOxを、排ガス浄化触媒装置が暖機された後には、NOx及びNH吸着層から脱離したNHを、それぞれ、効果的に浄化することができ、好適である。
【0076】
第2のPGM層が、基材の排ガス流れ下流端付近で排ガスと直接接する最上層となっている長さは、例えば、基材全長の、20%以上、30%以上、40%以上、50%以上、又は60%以上であってよく、例えば、90%以下、80%以下、70%以下、又は60%以下であってよい。
【0077】
第1のPGM層及び第2のPGM層の長さの合計が、基材の全長よりも長い場合、基材の中央付近の領域では、第1のPGM層と第2のPGM層とが重複するため、積層して配置されることになる。この場合、両層の重複部分では、第2のPGM層が排ガスと直接接する最上層となっていてよい。
【0078】
ある実施態様において、本発明の排ガス浄化触媒装置におけるPGM層は、
第1のPGM層が、基材の排ガス上流端から基材全長の70%超の長さで配置されており、
第2のPGM層が、基材の排ガス下流端から基材全長の30%以上90%以下の長さで配置されており、
第1のPGM層の長さと第2のPGM層の長さとの合計が基材の全長を超え、かつ、
第1のPGM層と第2のPGM層とが重複している領域では、第2のPGM層が排ガスと直接接する最上層となっている。
【0079】
《排ガス浄化触媒装置の製造方法》
本発明の排ガス浄化触媒装置は、上記の構成を有している限り、どのような方法で製造されてもよい。
【0080】
本発明の排ガス浄化触媒装置の製造方法の一例を、非限定的な例として、以下に説明する。
【0081】
本発明の排ガス浄化触媒装置は、例えば、基材のセル流路を区分する隔壁上に、NH吸着層、第1のPGM層、及び第2のPGM層を、この順に配置する方法によって製造されてよい。
【0082】
NH吸着層は、例えば、基材の隔壁上に、排ガス流れ上流端から所定の長さにわたって、NH吸着層形成用塗工液を塗布し、乾燥及び焼成することにより配置されてよい。
【0083】
基材は、所望の排ガス浄化触媒装置の基材に応じて、適宜に選択されてよく、例えば、コージェライト製のストレートフロー型のモノリスハニカム基材を用いてよい。
【0084】
NH吸着層形成用塗工液は、例えば、所定のプロトン型ゼオライト、及びその他の任意成分の各所定量を、適当な溶媒(典型的には水)中に溶解又は分散した液状物であってよい。NH吸着層形成用塗工液に適当な増粘剤を配合して、塗工液の粘度を調節すると、塗工液の塗工長さの制御が容易化されるために、好適である。増粘剤としては、例えば、ポリビニルアルコール(PVA)系樹脂;メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース(HEC)、カルボキシメチルセルロース等のセルロース系樹脂;ロジン系樹脂、アクリル系樹脂等が挙げられ、これらから選択される1種又は2種以上を使用してよい。
【0085】
塗工液塗布後の乾燥及び焼成は、公知の方法にしたがって、又はこれに当業者による適宜の変更を加えたうえで、行ってよい。
【0086】
次に、第1のPGM層を配置する。
【0087】
第1のPGM層は、例えば、NH吸着層が配置された基材の隔壁上に、排ガス流れ上流端から所定の長さにわたって、第1のPGM層形成用塗工液を塗布し、乾燥及び焼成することにより配置されてよい。
【0088】
第1のPGM層形成用塗工液は、例えば、所定の無機酸化物、並びにPd及びPtから選ばれる触媒貴金属の前駆体、並びにその他の任意成分の各所定量を、適当な溶媒(典型的には水)中に溶解又は分散した液状物であってよい。
【0089】
触媒貴金属前駆体は、所望の触媒貴金属の硝酸塩、硫酸塩、塩化水素酸塩、酢酸塩等であってよい。
【0090】
第1のPGM層形成用塗工液の場合も、NH吸着層形成用塗工液の増粘剤と同様の増粘剤を配合して、塗工液の粘度を調節することにより、塗工液の塗工長さの制御が容易化される。
【0091】
塗工液塗布後の乾燥及び焼成は、公知の方法にしたがって、又はこれに当業者による適宜の変更を加えたうえで、行ってよい。
【0092】
更に、第2のPGM層を配置する。
【0093】
第2のPGM層は、例えば、NH吸着層及び第1のPGM層が配置された基材の隔壁上に、排ガス流れ下流端から所定の長さにわたって、第2のPGM層形成用塗工液を塗布し、乾燥及び焼成することにより配置されてよい。
【0094】
第2のPGM層形成用塗工液は、触媒貴金属前駆体として、Rhの硝酸塩、硫酸塩、塩化水素酸塩、酢酸塩等を使用する他は、第1のPGM層形成用塗工液と同様であってよい。
【0095】
塗工液塗布後の乾燥及び焼成は、公知の方法にしたがって、又はこれに当業者による適宜の変更を加えたうえで、行ってよい。
【0096】
PGM層が第1のPGM層及び第2のPGM層を有する排ガス浄化触媒装置は、以上の方法により、又はこれに当業者による適宜の変更を加えた方法により、製造されてよい。
【0097】
《排ガス浄化触媒システム》
本発明の別の観点によると、排ガス浄化触媒システムが提供される。
【0098】
本発明の排ガス浄化触媒システムは、
ガソリンエンジンの排気系の排ガス流れ上流側に配置された上流側浄化触媒装置と、
前記排気系の排ガス流れ下流側に配置された下流側浄化触媒装置と
を含む、ガソリンエンジン用排ガス浄化触媒システムであって、
前記上流側浄化触媒装置が、白金族の触媒貴金属を含む3元系排ガス浄化触媒装置であり、
前記下流側浄化触媒装置が、上記に説明した本発明の排ガス浄化触媒装置である。
【0099】
上流側浄化触媒装置としての3元系排ガス浄化触媒装置としては、公知のものを用いてよく、特に、Pd及びPtから選択される1種以上と、Rhとを含む、3元系排ガス浄化触媒装置が好適である。
【0100】
《排ガス浄化方法》
本発明の更に別の観点によると、排ガス浄化方法が提供される。
【0101】
本発明の排ガス浄化方法は、
ガソリンエンジンの排気系に、本発明の排ガス浄化触媒装置、又は本発明の排ガス浄化触媒システムを配置して、ガソリンエンジンから排出された排ガスを浄化することを含む、排ガス浄化方法である。
【実施例0102】
1.塗工液の調製
塗工液の調製において、アルミナ,OSC材、及びバインダーとしては、それぞれ、下記のものを用いた。
アルミナ:4.0%のLa及び96.0%のAlを含むアルミナ
第1のPGM層形成用塗工液のOSC材:40.0質量%のCeO、50.0質量%のZrO、5.0量%のPr、及び5.0質量%のLaを含む複合酸化物
第2のPGM層形成用塗工液のOSC材:21.0質量%のCeO、72.0質量%のZrO、5.3量%のNd、及び1.7質量%のLaを含む複合酸化物
バインダー:アルミナバインダー
【0103】
以下の比較例1-1及び実施例1-1~1-7では、第1のPGM層中のOSC材の配合量の影響を調べた。
【0104】
《比較例1-1》
(1)NH吸着層形成用塗工液
イオン交換水中に、106.0g/LのH-CHA、7.0g/Lのアルミナバインダー、及び増粘剤としてのセルロース系樹脂を投入し、撹拌することにより、NH吸着層形成用塗工液を調製した。
【0105】
(2)第1のPGM層形成用塗工液の調製
イオン交換水中に、Pt金属換算1.1g/L相当の硝酸白金、180.0g/Lのアルミナ、10.0g/LのBaSO、4.0g/Lのアルミナバインダー、及び増粘剤としてのセルロース系樹脂を投入し、撹拌することにより、第1のPGM層形成用塗工液を調製した。この比較例1-1の第1のPGM層形成用塗工液には、OSC材を配合しなかった。
【0106】
(3)第2のPGM層形成用塗工液の調製
イオン交換水中に、Rh金属換算0.22g/L相当の硝酸ロジウム、43.0g/LのOSC材(CeO換算8.6g/L)、75.0g/Lのアルミナ、2.0g/Lのアルミナバインダー、及び増粘剤としてのセルロース系樹脂を投入し、撹拌することにより、第2のPGM層形成用塗工液を調製した。
【0107】
2.排ガス浄化触媒装置の製造
コージェライト製のハニカム基材(直径105.7mm、全長114.3mm、見かけ容量1.003L、セル数400cpsi)の、排ガス流れ上流端から基材全長の75%の範囲にわたって、NH吸着層形成用塗工液全量を塗布し、90℃において2時間通風乾燥した後、500℃において2時間焼成して、基材上に、コート量113.0g/Lにて、NH吸着層を形成した。
【0108】
次いで、NH吸着層形成後の基材の排ガス流れ上流端から基材の全長にわたって、第1のPGM層形成用塗工液全量を塗布し、90℃において2時間通風乾燥した後、500℃において2時間焼成して、排ガス流れ上流側に、コート量195.1g/Lにて、第1のPGM層(Pt層)を形成した。
【0109】
更に、NH吸着層及びPt層形成後の排ガス流れ下流端から基材全長の70%の領域にわたって、第2のPGM層形成用塗工液全量を塗布し、90℃において2時間通風乾燥した後、500℃において2時間焼成して、排ガス流れ下流側に、コート量120.22g/Lにて、第2のPGM層(Rh層)を形成することにより、比較例1-1の排ガス浄化触媒装置を製造した。
【0110】
3.排ガス浄化触媒装置の評価
上記で得られた比較例1-1の排ガス浄化触媒装置は、触媒貴金属としてPd及びRhを含む3元系触媒装置(基材の見かけ容量1.003L)と組み合わせた排ガス浄化触媒システムとして、以下の方法によって評価した。
【0111】
(1)耐久
V型8気筒、排気量4,600ccのガソリンエンジンの排気系の上流側に3元系触媒装置を、下流側に比較例1-1の排ガス浄化触媒装置を配置して、排ガス浄化触媒システムを構成した。そして、エンジンを稼働して、平均エンジン回転数3,000rpm、下流側排ガス浄化触媒装置への入りガス温度を850℃にて、46時間にわたって、排ガス浄化触媒システムに、ストイキ雰囲気及びリーン雰囲気の排ガスを一定時間ずつ交互に流通させることによって、排ガス浄化触媒システムの耐久を行った。
【0112】
(2)NHエミッションの測定
排気量1,500ccのガソリンエンジンを備える実車両のエンジン直下に3元系触媒装置を、床下触媒として、上記の耐久を行った後の比較例1-1の排ガス浄化触媒装置を配置して、排ガス浄化触媒システムを構成した。また、比較例1-1の排ガス浄化触媒装置の出側を、FT-IR装置に接続した。この状態の実車両を、シャシダイナモメータ上でRDE(Real Driving Emission)試験を模した運転モードで運転した。そして、FT-IRによって、比較例1-1の排ガス浄化触媒装置から排出される排ガス中のNH濃度を測定し、NHエミッションを求めた。また、市販の自動車排ガス測定器を比較例1-1の排ガス浄化触媒装置の出側に接続して、COエミッション及びTHC(総炭化水素)エミッションを測定した。結果を表1に示す。
【0113】
《実施例1-1~1-7》
「(2)第1のPGM層形成用塗工液の調製」において、OSC材及びアルミナの配合量を、それぞれ、表1に記載のとおりに変更した他は、比較例1-1と同様にして排ガス浄化触媒装置を製造して評価した。結果を表1に示す。
【0114】
【表1】
【0115】
表1から以下のことが理解される。
【0116】
第1のPGM層にOSC材が存在しない比較例1-1の排ガス浄化触媒装置では、NHエミッションが極めて多かった。これに対して、第1のPGM層中にOSC材を含む、実施例1-1~1-7の排ガス浄化触媒装置では、NHエミッションが抑制されていた。特に、第1のPGM層中にOSC材(CeO)量が5.0g/L以上50.0g/L以下の範囲の実施例1-1~1-6の排ガス浄化触媒装置では、NOxエミッションの抑制効果をさほど損なわずに、NHエミッションを抑制することができた。
【0117】
実施例2-1~2-5では、第2のPGM層中のOSC材の配合量の影響を調べた。
【0118】
《実施例2-1》
(1)NH吸着層形成用塗工液
実施例2-1のNH吸着層形成用塗工液は、比較例1-1のNH吸着層形成用塗工液と同様にして調製した。
【0119】
(2)第1のPGM層形成用塗工液の調製
イオン交換水中に、Pt金属換算1.1g/L相当の硝酸白金、45.0g/LのOSC材(CeO換算18.0g/L)、135.0g/Lのアルミナ、10.0g/LのBaSO、4.0g/Lのアルミナバインダー、及び増粘剤としてのセルロース系樹脂を投入し、撹拌することにより、第1のPGM層形成用塗工液を調製した。
【0120】
(3)第2のPGM層形成用塗工液の調製
イオン交換水中に、Rh金属換算0.22g/L相当の硝酸ロジウム、118.0g/Lのアルミナ、2.0g/Lのアルミナバインダー、及び増粘剤としてのセルロース系樹脂を投入し、撹拌することにより、第2のPGM層形成用塗工液を調製した。この実施例2-1の第2のPGM層形成用塗工液には、OSC材を配合しなかった。
【0121】
2.排ガス浄化触媒装置の製造
「NH吸着層形成用塗工液」、「第1のPGM層形成用塗工液」、及び「第2のPGM層形成用塗工液」として、それぞれ、上記で調製した各塗工液を用いた他は、比較例1-1と同様にして、排ガス浄化触媒装置を製造した。
【0122】
3.排ガス浄化触媒装置の評価
上記で得られた実施例2-1の排ガス浄化触媒装置を用いて、比較例1-1と同様にして評価した。結果を表2に示す。
【0123】
《実施例2-2~2-5》
「(3)第2のPGM層形成用塗工液の調製」において、OSC材及びアルミナの配合量を、それぞれ、表2に記載のとおりに変更した他は、実施例2-1と同様にして排ガス浄化触媒装置を製造して評価した。結果を表2に示す。
【0124】
【表2】
【0125】
表2の結果から、第2のPGM層中のOSC材の存否及び量は、排ガス浄化触媒装置のNHエミッション及びNOxエミッションに、実質的に影響しないことが確認された。
【符号の説明】
【0126】
10 基材
20 NH吸着層
30 PGM層
31 第1のPGM層
32 第2のPGM層
100 排ガス浄化触媒装置
図1
【手続補正書】
【提出日】2024-09-12
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
基材と、
プロトン型ゼオライトを含有するNH吸着層と、
Pd、Pt、及びRhから選択される触媒貴金属を含有するPGM層と、
を有する、ガソリンエンジン用排ガス浄化触媒装置であって、
前記NH吸着層に含まれる前記プロトン型ゼオライトは、平均細孔径が0.60nm以下であり、
前記NH吸着層は、
前記PGM層よりも前記基材側に配置されており、
前記基材の排ガス流れ上流端から、前記基材の全長よりも短い長さで配置されており
前記PGM層は、前記基材の排ガス流れ上流端から、前記NH吸着層よりも長い長さで配置されており、
前記PGM層が、Pd及びPtから選択される触媒貴金属を含有する第1のPGM層と、Rhを含有する第2のPGM層とを有し、
前記第1のPGM層がセリアを含
前記第1のPGM層は、前記基材の排ガス流れ上流端から基材全長の10%以上の長さが、排ガスと直接接する最上層となっており、かつ、
前記第2のPGM層は、前記基材の排ガス流れ下流端から基材全長の20%以上の長さが、排ガスと直接接する最上層となっている、
排ガス浄化触媒装置。
【請求項2】
前記プロトン型ゼオライトが、基本骨格が4、6、及び8員環から選ばれる環のみから構成されている少員環プロトン型ゼオライトを、前記プロトン型ゼオライトの全質量に対して80質量%以上含む、請求項1に記載の排ガス浄化触媒装置。
【請求項3】
前記少員環プロトン型ゼオライトが、H-ACO、H-AEI、H-AEN、H-AFN、H-AFT、AFX、H-ANA、H-APC、H-APD、H-ATT、H-CDO、H-CHA、H-DDR、H-DFT、H-EAB、H-EDI、H-EPI、H-ERI、H-GIS、H-GOO、H-IHW、H-ITE、H-ITW、H-LEV、H-LTA、H-KFI、H-MER、H-MON、H-NSI、H-OWE、H-PAU、H-PHI、H-RHO、H-RTH、H-SAT、H-SAV、H-SIV、H-THO、H-TSC、H-UEI、H-UFI、H-VNI、H-YUG、及びH-ZONから選択される1種又は2種以上である、請求項2に記載の排ガス浄化触媒装置。
【請求項4】
前記第1のPGM層に含まれるセリアの量が、基材容量1L当たりのセリア質量として、4.0g/L以上45.0g/L以下である、請求項1に記載の排ガス浄化触媒装置。
【請求項5】
前記第1のPGM層に含まれるセリアの量が、基材容量1L当たりのセリア質量として、4.0g/L以上45.0g/L以下である、請求項2に記載の排ガス浄化触媒装置。
【請求項6】
前記第1のPGM層が、前記基材の排ガス上流端から基材全長の70%超の長さで配置されている、請求項に記載の排ガス浄化触媒装置。
【請求項7】
前記第2のPGM層が、前記基材の排ガス下流端から基材全長の20%以上90%以下の長さで配置されている、請求項に記載の排ガス浄化触媒装置。
【請求項8】
前記第1のPGM層が、前記基材の排ガス上流端から基材全長の70%超の長さで配置されており、
前記第2のPGM層が、前記基材の排ガス下流端から基材全長の30%以上90%以下の長さで配置されており、
前記第1のPGM層の長さと前記第2のPGM層の長さとの合計が前記基材の全長を超え、かつ、
前記第1のPGM層と前記第2のPGM層とが重複している領域では、前記第2のPGM層が排ガスと直接接する最上層となっている、
請求項に記載の排ガス浄化触媒装置。
【請求項9】
ガソリンエンジンの排気系に、請求項1~のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置を配置して、前記ガソリンエンジンから排出された排ガスを浄化することを含む、排ガス浄化方法。
【請求項10】
ガソリンエンジンの排気系の排ガス流れ上流側に配置された上流側浄化触媒装置と、
前記排気系の排ガス流れ下流側に配置された下流側浄化触媒装置と
を含む、ガソリンエンジン用排ガス浄化触媒システムであって、
前記上流側浄化触媒装置が、白金族の触媒貴金属を含む3元系排ガス浄化触媒装置であり、
前記下流側浄化触媒装置が、請求項1~のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒装置である、
排ガス浄化触媒システム。
【請求項11】
ガソリンエンジンの排気系に、請求項10に記載の排ガス浄化触媒システムを配置して、前記ガソリンエンジンから排出された排ガスを浄化することを含む、排ガス浄化方法。