特開 2025-56610 ガラス基板の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2025056610

(43)【公開日】2025-04-08

(54)【発明の名称】ガラス基板の製造方法

(51)【国際特許分類】

   B24B 9/10 20060101AFI20250401BHJP

   B24B 9/00 20060101ALI20250401BHJP

   B24B 41/06 20120101ALI20250401BHJP

   B24B 5/04 20060101ALI20250401BHJP

   C03C 19/00 20060101ALI20250401BHJP

【ＦＩ】

B24B9/10 Z

B24B9/00 601G

B24B41/06 L

B24B5/04

C03C19/00 Z

【審査請求】未請求

【請求項の数】5

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023166191

(22)【出願日】2023-09-27

(71)【出願人】

【識別番号】000232243

【氏名又は名称】日本電気硝子株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110002217

【氏名又は名称】弁理士法人矢野内外国特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】田中 淳

【テーマコード（参考）】

3C034

3C043

3C049

4G059

【Ｆターム（参考）】

3C034AA13

3C034AA19

3C034BB73

3C034DD08

3C043AA01

3C043CC03

3C043CC13

3C043DD02

3C043DD04

3C043DD05

3C043EE04

3C049AA03

3C049AA09

3C049AA14

3C049AA16

3C049AB04

3C049CB01

3C049CB05

4G059AA09

4G059AB03

4G059AC03

(57)【要約】

【課題】円盤形状のガラス基板の周縁端部に端面加工を施す工程を備えた、ガラス基板の製造方法であって、設備コストの増加を伴うことなく、高精度な端面加工の加工精度を長期間に亘って維持することができる、ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】定盤２の上面２２ａに円盤形状のガラス基板Ｇを載置して保持する保持工程Ｓ０１と、定盤２によって保持されたガラス基板Ｇを、当該定盤２とともに軸心Ｚ１を中心にして回転させる回転工程Ｓ０２と、回転するガラス基板Ｇの端面Ｇａに研削ツール３を押し当て、ガラス基板Ｇの端面加工を施す端面加工工程Ｓ０３とを備え、保持工程Ｓ０１において、定盤２は、金属製の部材からなる第１定盤２１と、ガラス製の部材からなり、第１定盤２１の上面２１ａにおいて、着脱可能に積層配置される第２定盤２２とを有する。
【選択図】図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

円盤形状のガラス基板の製造方法であって、
定盤の上面に円盤形状のガラス基板を載置して保持する保持工程と、
前記定盤によって保持された前記ガラス基板を、当該定盤とともに軸心を中心にして回転させる回転工程と、
回転する前記ガラス基板の端面に加工具を押し当て、前記ガラス基板の端面加工を施す端面加工工程とを備え、
前記保持工程において、
前記定盤は、
金属製の部材からなる第１定盤と、
ガラス製の部材からなり、前記第１定盤における前記ガラス基板側の主面において、着脱可能に積層配置される第２定盤とを有する、
ことを特徴とするガラス基板の製造方法。

【請求項2】

前記第２定盤において、
前記第１定盤側との反対側の主面における平坦度（ＴＴＶ）は、３μｍ以下である、
ことを特徴とする、請求項１に記載のガラス基板の製造方法。

【請求項3】

前記第２定盤のビッカース硬さ（ＨＶ１）は、前記ガラス基板のビッカース硬さ（ＨＶ２）以下である、
ことを特徴とする、請求項１または請求項２に記載のガラス基板の製造方法。

【請求項4】

前記第１定盤における前記ガラス基板側の主面は、円形状に形成され、
前記第２定盤は、円盤形状に形成され、
前記第２定盤の直径をＬ２、前記第１定盤における当該主面の直径をＬ１とすると、Ｌ１≦Ｌ２である、
ことを特徴とする、請求項１または請求項２に記載のガラス基板の製造方法。

【請求項5】

前記第１定盤は、
前記ガラス基板側の主面において、
前記第２定盤を吸着可能な吸着手段を有する、
ことを特徴とする、請求項１または請求項２に記載のガラス基板の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、円盤形状のガラス基板の端面加工を施す工程を備えた、ガラス基板の製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

近年、例えば半導体ウエハーのバックグラインド工程において、半導体ウエハーを支持する支持体の一例として、円盤形状のガラス基板からなる支持体が知られている（例えば、「特許文献１」を参照）。このような円盤形状のガラス基板の製造工程においては、作製されたガラス基板の周縁端部に対して、Ｒ面取りやＣ面取り等に代表される面取り加工（端面加工）を施すのが一般的である。

【0003】

ここで、上記端面加工については、従来より、以下の手順に従い実行されている。即ち、先ず始めに、円盤形状のガラス基板を、水平姿勢の状態で定盤上に載置して固定し、当該定盤とともに軸心を中心として回転させる。次に、同じく軸心を中心にして回転する略円筒形状の研削ツールの外周面を、上記ガラス基板の端面に押し当てる。これにより、上記研削ツールの外周面に形成されている溝部の形状が、ガラス基板の周縁端部に転写され、当該周縁端部に所定の端面加工が施される。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】国際公開第２０１６／０４７２１０号

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

ところで、端面加工が施されたガラス基板の周縁端部の形状が十分に安定していないと、例えば半導体ウエハーの製造工程において、当該ガラス基板からなる支持体に半導体ウエハーを取付けるデボンド作業を精度良く行うことができず、その後実行される各プロセスにおいて不良を誘発する可能性が高まることから、ガラス基板の周縁端部に施される端面加工の要求精度については、近年増々高精度になっている。

【0006】

ここで、前述した従来の端面加工の手法においては、定盤の載置面の平面精度（平坦度等）が、上記端面加工の加工精度に大きく寄与するため、当該載置面の平面精度をより高精度に仕上げることが重要である。即ち、定盤の載置面の平面精度が十分でない場合、当該載置面に載置されたガラス基板は、周縁端部がやや波打つように軸心を中心として回転されることとなる。その結果、研削ツールの外周面を押し当てることで形成される、ガラス基板の周縁端部の形状は、周方向において加工精度のばらつきが大きくなることから、定盤の載置面における平面精度を、より高精度に仕上げることが重要である。

【0007】

一方、一般的に定盤は、例えばアルミニウムやステンレス鋼等の金属製部材からなるため、載置面の平面精度を高精度に仕上げるためには加工コストが嵩むこと、また精度に限界があるという問題があった。また、このような金属製部材からなる定盤においては、たとえ載置面の平面精度を高精度に仕上げたとしても、載置面の形状の経年変化によって平面精度の劣化が進むため、長期間に亘って載置面の平面精度を高精度に維持することが困難であるという問題があった。

【0008】

本発明は、以上に示した現状の問題点に鑑みてなされたものであり、円盤形状のガラス基板の周縁端部に端面加工を施す工程を備えた、ガラス基板の製造方法であって、設備コストの増加を伴うことなく、高精度な端面加工の加工精度を長期間に亘って維持することができる、ガラス基板の製造方法を提供することを課題とする。

【課題を解決するための手段】

【0009】

本発明の解決しようとする課題は以上の如くであり、次にこの課題を解決するための手段を説明する。

【0010】

即ち、本発明の態様１に係るガラス基板の製法方法は、円盤形状のガラス基板の製造方法であって、定盤の上面に円盤形状のガラス基板を載置して保持する保持工程と、前記定盤によって保持された前記ガラス基板を、当該定盤とともに軸心を中心にして回転させる回転工程と、回転する前記ガラス基板の端面に加工具を押し当て、前記ガラス基板の端面加工を施す端面加工工程とを備え、前記保持工程において、前記定盤は、金属製の部材からなる第１定盤と、ガラス製の部材からなり、前記第１定盤における前記ガラス基板側の主面において、着脱可能に積層配置される第２定盤とを有することを特徴とする。このように、本発明に係るガラス基板の製造方法においては、研磨加工を施すことで、高精度な平面精度（平坦度等）を実現可能なガラス製の部材によって、被加工物である円盤形状のガラス基板を定盤上に載置する際に直接接触する第２定盤を形成することから、設備コストの大幅な増加を伴うことなく、当該ガラス基板の周縁端部に対して、高精度な端面加工を行うことができる。また、本発明に係るガラス基板の製造方法によれば、比較的製造コストの低廉なガラス製の部材からなる第２定盤を消耗品として取り扱い、比較的短期間の一定周期毎に、新たな第２定盤に逐次更新することにより、高精度な端面加工の加工精度を、長期間に亘って維持することができる。

【0011】

また、本発明の態様２に係るガラス基板の製法方法は、上記態様１において、前記第２定盤における、前記第１定盤側との反対側の主面における平坦度（ＴＴＶ）は、３μｍ以下であることを特徴とする。前記第２定盤がガラスであれば、金属製部材の場合に比べ、ＴＴＶを３μｍ以下に研磨加工し易い。これは、ガラスが非晶質材料であるためである。このような構成を有することにより、第２定盤上において、高精度な水平姿勢を維持した状態でガラス基板を載置することができ、定盤とともに軸心を中心にして回転されるガラス基板の周縁端部が波打つのを抑制し、当該ガラス基板の周縁端部に対して、高精度な端面加工を安定して行うことができる。

【0012】

また、本発明の態様３に係るガラス基板の製法方法は、上記態様１または上記態様２において、前記第２定盤のビッカース硬さ（ＨＶ１）は、前記ガラス基板のビッカース硬さ（ＨＶ２）以下であることを特徴とする。このように、本発明に係るガラス基板の製造方法においては、ガラス基板のビッカース硬さ（ＨＶ２）に比べて、第２定盤のビッカース硬さ（ＨＶ１）が比較的低く設定されていることから、例えば不意に、ガラス基板と第２定盤との間において、破損や傷等を誘発する要因が生じた場合であっても、ビッカース硬さの低い第２定盤に対して優先的に、破損や傷等を発生することとなり、ガラス基板に破損や傷等が生じるのを防止することができる。

【0013】

また、本発明の態様４に係るガラス基板の製法方法は、上記態様１または上記態様２において、前記第１定盤における前記ガラス基板側の主面は、円形状に形成され、前記第２定盤は、円盤形状に形成され、前記第２定盤の直径をＬ２、前記第１定盤における当該主面の直径をＬ１とすると、Ｌ１≦Ｌ２であることを特徴とする。このような構成を有することにより、本願発明に係るガラス基板の製造方法によれば、定盤上に載置された状態において、第１定盤に対して径方向外側に大きく食み出る大型サイズのガラス基板であっても、第２定盤によって保持することにより、定盤から径方向外側に食み出る周縁端部の領域を小さくすることができ、従来に比べて、より大型サイズのガラス基板の周縁端部に対して、高精度に端面加工を行うことができる。

【0014】

また、本発明の態様５に係るガラス基板の製法方法は、上記態様１または上記態様２において、前記第１定盤が、前記ガラス基板側の主面において、前記第２定盤を吸着可能な吸着手段を有することを特徴とする。このような構成を有することにより、例えば、消耗品として取り扱われる第２定盤の交換作業等において、第１定盤に対する第２定盤の着脱作業を、吸着手段を介して容易に行うことができる。

【発明の効果】

【0015】

本発明の効果として、以下に示すような効果を奏する。即ち、本発明に係るガラス基板の製法方法によれば、設備コストの増加を伴うことなく、高精度な端面加工の加工精度を長期間に亘って維持することができる。

【図面の簡単な説明】

【0016】

【図1】本実施形態におけるガラス基板の製造方法の各工程を、経時的に順に示した工程図である。

【図2】端面加工装置の全体的な構成を示した断面図である。

【図3】第１定盤におけるガラス基板側の主面の形状を示した平面図である。

【図4】第２定盤におけるガラス基板側の主面の形状を示した図であって、（ａ）は本実施形態における第２定盤の形状を示した平面図であり、（ｂ）は別実施形態における第２定盤の形状を示した平面図である。

【図5】端面加工工程を実行する際の端面加工装置の状態を示した図であって、研削ツールが当接されたガラス基板の端部付近の領域を示した拡大断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0017】

次に、本発明の一実施形態について、図１乃至図５を用いて説明する。

【0018】

［ガラス基板の製造方法］
先ず、本発明を具現化したガラス基板の製造方法について、図１を用いて説明する。本実施形態におけるガラス基板の製造方法は、円盤形状のガラス基板Ｇ（図２を参照）の製造方法であって、後述する端面加工装置１を用いて、成形されたガラス基板Ｇの端面を加工するための各種工程（保持工程Ｓ０１、回転工程Ｓ０２、及び端面加工工程Ｓ０３）を備えている。

【0019】

なお、本実施形態において製造されるガラス基板Ｇは、例えば半導体ウエハーのバックグラインド工程において、半導体ウエハーを支持する支持体の一例として採用されるガラス基板である。

【0020】

ガラス基板Ｇは、主にダウンドロー法、特にオーバーフローダウンドロー法によって成形されることが好ましいが、その他の成形方法、例えば、スロットダウン法、リドロー法、フロート法、またはロールアウト法等を採用することも可能である。

【0021】

そして、上記成形方法によって成形された板状のガラス原板は、例えば、切断（割断）工程や研磨工程や表面処理工程等からなる複数の前工程を経て、所定の円盤形状からなるガラス基板Ｇに形成され、その後、端面加工装置１によって端面加工を施される。

【0022】

ガラス基板の製造方法は、主に、経時的に順に行われる保持工程Ｓ０１、回転工程Ｓ０２、及び端面加工工程Ｓ０３等を備えている。

【0023】

保持工程Ｓ０１は、上記複数の前工程を経て作製された円盤形状のガラス基板Ｇを、後述する定盤２の上面（より具体的には、第２定盤２２の上面２２ａ。図２を参照）に載置して保持する工程である。

【0024】

ここで、定盤２の上面２２ａは、水平、且つ円形状に形成されており、当該上面２２ａの直径は、ガラス基板Ｇの直径に比べて小さく設定されている。

【0025】

そして、保持工程Ｓ０１において、ガラス基板Ｇは、定盤２の上面２２ａと同軸上に載置され、当該上面２２ａより周縁端部を食み出した状態で保持される。

【0026】

回転工程Ｓ０２は、定盤２によって保持されたガラス基板Ｇを、当該定盤２とともに軸心Ｚ１（図２を参照）を中心にして回転させる工程である。なお、ガラス基板Ｇの回転速度は、後述する研削ツール３（図２を参照）の回転速度に比べて低速に設定されている。

【0027】

端面加工工程Ｓ０３は、回転するガラス基板Ｇの端面Ｇａに研削ツール３を押し当てることにより、当該ガラス基板Ｇの周縁端部Ｇｂに端面加工を施す工程である。

【0028】

ここで、後述するように、研削ツール３は、ガラス基板Ｇ（または、定盤２）の軸心Ｚ１に対して、当該研削ツール３の軸心Ｚ２（図２を参照）が平行となるように配置されており、研削ツール３の外周面には、所定の形状からなる溝部３１ａが予め設けられている。また、研削ツール３の回転速度は、ガラス基板Ｇの回転速度に比べて高速に設定されている。

【0029】

そして、軸心Ｚ２を中心にして回転する研削ツール３の外周面を、ガラス基板Ｇの端面に押し当てることにより、上記溝部３１ａの形状がガラス基板Ｇの周縁端部Ｇｂに転写され、当該周縁端部Ｇｂに所定の端面加工が施される。

【0030】

［端面加工装置１の構成］
次に、前述したガラス基板の製造方法における各種工程（保持工程Ｓ０１、回転工程Ｓ０２、及び端面加工工程Ｓ０３）を実施するための端面加工装置１の構成について、図２乃至図５を用いて説明する。

【0031】

図２において、端面加工装置１は、主に、加工対象物であるガラス基板Ｇを保持する定盤２と、定盤２によって保持されたガラス基板Ｇに対して端面加工を施す研削ツール３とを備える。

【0032】

定盤２は、平面視円形状の上面２１ａを有する第１定盤２１と、第１定盤２１の上面２１ａに積層配置される第２定盤２２と、これらの第１定盤２１及び第２定盤２２に負圧を発生される負圧発生手段２３とを有する。ここで、負圧発生手段２３は、例えば真空ポンプ等からなり、後述する配管部材（第１配管部材２１ｆ及び第２配管部材２２ｄ）を介して、これらの第１定盤２１及び第２定盤２２と各々連通されている。

【0033】

第１定盤２１は、円盤形状に形成された金属製の部材からなり、軸心Ｚ１の方向を上下方向として配置される。また、第１定盤２１は、下面２１ｂより下方に向かって延出する主軸２１ｃを有し、当該主軸２１ｃは、軸心Ｚ１と同軸上に設けられている。

【0034】

そして、第１定盤２１は、電動モータ等からなる駆動源（図示せず）の駆動力が、主軸２１ｃに伝達されることにより、軸心Ｚ１を中心にして回転駆動される。

【0035】

第１定盤２１の上面２１ａは、定盤２に保持されたガラス基板Ｇ側の主面であり、当該上面２１ａには、第１溝部２１ｄが設けられている。

【0036】

第１溝部２１ｄは、例えば図３に示すように、平面視円形状からなる円状第１溝部２１ｄ１と、平面視円環形状からなり、円状第１溝部２１ｄに対して径方向外側に設けられる環状第１溝部２１ｄ２と、これらの円状第１溝部２１ｄ１及び環状第１溝部２１ｄ２を互いに連通する複数（本実施形態においては４つ）の連通用第１溝部２１ｄ３・２１ｄ３・・・とを有する。また、円状第１溝部２１ｄ１及び環状第１溝部２１ｄ２は、軸心Ｚ１に対して各々同軸上に配置されている。

【0037】

一方、第１定盤２１の上面２１ａにおける、第１溝部２１ｄを除いた複数の領域（図３中において、網掛けによって示された領域）は、第２定盤２２が積層配置される配置面として機能し、各々同一平面上に位置するように形成されている。

【0038】

第１定盤２１における上面２１ａの中心部には、複数（本実施形態においては２つ）の第１貫通孔２１ｅ・２１ｅが設けられている。上記複数（２つ）の第１貫通孔２１ｅ・２１ｅにおいて、一方の第１貫通孔２１ｅ（本実施形態においては、軸心Ｚ１に対してずれた位置に配置される第１貫通孔２１ｅ）には、負圧発生手段２３と連結された第１配管部材２１ｆ（図２を参照）が嵌挿されている。これにより、上記第１溝部２１ｄは、第１配管部材２１ｆを介して負圧発生手段２３と連通される。

【0039】

なお、他方の第１貫通孔２１ｅ（本実施形態においては、軸心Ｚ１と同軸上に配置される第１貫通孔２１ｅ）については、後述する。

【0040】

そして、図２に示すように、第１定盤２１の上面２１ａにおいて、負圧発生手段２３によって第１溝部２１ｄ内に負圧を発生させることにより、当該上面２１ａに積層配置された第２定盤２２は吸着され、第１定盤２１に固定される。
また、負圧発生手段２３による負圧の発生を停止することにより、第１定盤２１の上面２１ａに固定された第２定盤２２は、上記の吸着状態から解放され、当該上面２１ａより脱着可能な状態となる。つまり、第１定盤の上面２１ａにおける第１溝部２１ｄ、第１配管部材２１ｆ、及び負圧発生手段２３は、本発明に係る吸着手段を構成し、当該吸着手段を介して、第２定盤２２は、第１定盤２１の上面２１ａにおいて、着脱可能に積層配置される。

【0041】

このように、本実施形態における第１定盤２１は、ガラス基板Ｇ側の主面である上面２１ａにおいて、第２定盤２２を吸着可能な吸着手段（第１溝部２１ｄ、第１配管部材２１ｆ、及び負圧発生手段２３）を有する構成となっている。

【0042】

このような構成を有することにより、例えば後述するように、消耗品として取り扱われる第２定盤２２の交換作業等において、第１定盤２１に対する第２定盤２２の着脱作業を、上記吸着手段を介して容易に行うことができる。

【0043】

第２定盤２２は、円盤形状に形成されたガラス製の部材からなり、前述したように、第１定盤２１におけるガラス基板Ｇ側の主面（上面２１ａ）において、当該第１定盤２１と同軸上に積層配置される。また、第２定盤２２は、定盤２上にガラス基板Ｇを載置する際に直接接触する部材であり、上面２２ａを介して、当該ガラス基板Ｇを下方から支持する。

【0044】

ここで、第２定盤２２のビッカース硬さ（ＨＶ１）は、定盤２上に載置されるガラス基板Ｇのビッカース硬さ（ＨＶ２）以下となるように設定される（ＨＶ１≦ＨＶ２）。具体的には、本実施形態においては、ビッカース硬さ（ＨＶ２）が５５０～８００ＨＶの範囲内（５５０≦ＨＶ２≦８００）である複数種類のガラス基板Ｇを、端万加工装置１による加工対象物としており、これに対して、ビッカース硬さ（ＨＶ１）が５００～７５０ＨＶの範囲内（５００≦ＨＶ１≦７５０）である複数種類の第２定盤２２が、消耗品として予め用意されている。

【0045】

そして、端面加工装置１によってガラス基板Ｇの周縁端部Ｇｂに端面加工を施す際は、当該ガラス基板Ｇのビッカース硬さ（ＨＶ２）に応じて、適宜最適なビッカース硬さ（ＨＶ１）である第２定盤２２を選択し、選択された第２定盤２２を第１定盤２１の上面２１ａに積層配置する構成となっている。

【0046】

このように、本実施形態においては、ガラス基板Ｇのビッカース硬さ（ＨＶ２）に比べて、第２定盤２２のビッカース硬さ（ＨＶ１）が比較的低く設定されていることから、例えば不意に、ガラス基板Ｇと第２定盤２２との間において、破損や傷等を誘発する要因が生じた場合であっても、ビッカース硬さの低い第２定盤２２に対して優先的に、破損や傷等を発生することとなり、ガラス基板Ｇに破損や傷等が生じるのを防止することができる。

【0047】

なお、第２定盤２２を形成する部材の素材については、ガラス製の部材であれば特に限定されることはなく、ガラス基板Ｇの素材と略同等のものであってもよい。

【0048】

第１定盤２１の上面２１ａに積層配置された状態において、第２定盤２２の上面２２ａには、第２溝部２２ｂが設けられている。

【0049】

第２溝部２２ｂは、例えば図４（ａ）に示すように、平面視にて各々直径が異なる円環形状からなり、且つ互いに互いに同心円状に配置される複数の環状第２溝部２２ｂ１・２２ｂ１・・・と、これら複数の環状第２溝部２２ｂ１・２２ｂ１・・・と半径方向に交差し、且つ当該複数の環状第２溝部２２ｂ１・２２ｂ１・・・を互いに連通する複数（本実施形態においては４つ）の連通用第２溝部２２ｂ２・２２ｂ２・・・とを有する。

【0050】

一方、第２定盤２２の上面２２ａにおける、第２溝部２２ｂを除いた複数の領域（図４（ａ）中において、網掛けによって示された領域。以下、適宜「載置面Ｑ」と記載する）は、ガラス基板Ｇが載置される載置面として機能し、各々同一平面上に位置するように形成されている。

【0051】

ここで、本実施形態における第２定盤２２において、ガラス基板Ｇ側、即ち、第１定盤２１側との反対側の主面である上面２２ａの載置面Ｑにおける平坦度（ＴＴＶ）は、３μｍ以下に設定されている。

【0052】

なお、上記平坦度（ＴＴＶ）は、ガラス製の部材からなる円盤形状の第２定盤２２における「全体板厚偏差」を意味する。具体的には、平坦度（ＴＴＶ）は、第２定盤２２の上面２２ａ（より具体的には、載置面Ｑ）における、全体の最大板厚と最少板厚の差であり、例えば、コベルコ科研社製のＢｏｗ／Ｗａｒｐ測定装置 ＳＢＷ－３３１ＭＬ／ｄにより測定可能である。

【0053】

このような構成を有することにより、本実施形態における端面加工装置１によれば、第２定盤２２上において、高精度な水平姿勢を維持した状態でガラス基板Ｇを載置することができ、定盤２とともに軸心Ｚ１を中心にして回転されるガラス基板Ｇの周縁端部Ｇｂが波打つのを抑制し、当該ガラス基板Ｇの周縁端部Ｇｂに対して、高精度な端面加工を安定して行うことができる。

【0054】

第２定盤２２における上面２２ａの中心部には、第２貫通孔２２ｃが、軸心Ｚ１と同軸上に設けられている。また、上記第２貫通孔２２ｃには、上述した第１定盤２１における他方の第１貫通孔２１ｅとともに、負圧発生手段２３と連結された第２配管部材２２ｄ（図２を参照）が嵌挿されている。これにより、上記第２溝部２２ｂは、第２配管部材２２ｄを介して負圧発生手段２３と連通される。

【0055】

そして、図２に示すように、前述した第１定盤２１と同様に、第２定盤２２の上面２２ａにおいて、負圧発生手段２３によって第２溝部２２ｂ内に負圧を発生させることにより、当該上面２２ａに載置されたガラス基板Ｇは吸着されて固定され、定盤２の上面（より具体的には、上面２２ａ）にて保持される。また、負圧発生手段２３による負圧の発生を停止することにより、第２定盤２２の上面２２ａに固定されたガラス基板Ｇは、上記の吸着状態から解放され、当該上面２２ａより脱着可能な状態となる。

【0056】

なお、第２定盤２２の上面２２ａに設けられる第２溝部２２ｂの形状については、本実施形態に限定されるものではなく、負圧発生手段２３による負圧によって、ガラス基板Ｇを安定して着脱可能に固定可能な構成であれば、何れのような形状であってもよい。

【0057】

例えば図４（ｂ）に示すように、上記第２溝部２２ｂの別実施形態である第３溝部２２ｅは、平面視扇形状からなり、且つ軸心Ｚ１を中心にして放射状に配置される複数の扇状第３溝部２２ｅ１・２２ｅ１・・・と、平面視小円形状からなり、軸心Ｚ１と同軸上に設けられ、且つこれら複数の扇状第３溝部２２ｅ１・２２ｅ１・・・に比べてさらに深く掘り下げられた小円状第３溝部２２ｅ２とを有する。なお、小円状第３溝部２２ｅ２は、複数の扇状第３溝部２２ｅ１・２２ｅ１・・・と重なるように設けられており、当該小円形状第３溝部２２ｅ２と各扇状第３溝部２２ｅ１とは互いに連通されている。

【0058】

このような構成からなる第３溝部２２ｅが、第２定盤２２の上面２２ａに設けられている場合であっても、負圧発生手段２３による負圧によって、ガラス基板Ｇを安定して着脱可能に固定することができる。

【0059】

ところで、本実施形態において、第２定盤２２の直径は、第１定盤２１の上面２１ａにおける直径以上となるように設定されている。

【0060】

具体的には、図５において、第１定盤２１におけるガラス基板Ｇ側の主面（上面２１ａ）は、平面視円形状に形成されており、また、第２定盤２２は、円盤形状に形成されている。そして、第２定盤２２の直径をＬ２とし、且つ第１定盤２１における上記主面（上面２１ａ）の直径をＬ１とした場合、直径Ｌ２が直径Ｌ１以上となるように設定されている（Ｌ１≦Ｌ２）。

【0061】

このような構成を有することにより、本実施形態における端面加工装置１によれば、定盤２上に載置された状態において、第１定盤２１に対して径方向外側に大きく食み出る大型サイズのガラス基板Ｇであっても、第２定盤２２によって保持することにより、定盤２から径方向外側に食み出る周縁端部Ｇｂの領域を小さくすることができる。即ち、ガラス基板Ｇの周縁端部Ｇｂに端面加工を施す際において、当該ガラス基板Ｇの端面Ｇａと当接する研削ツール３に対して、より近接する領域に亘って、第２定盤２によってガラス基板Ｇを保持することが可能となる。その結果、本実施形態における端面加工装置１によれば、従来に比べて、より大型サイズのガラス基板Ｇの周縁端部Ｇｂに対して、高精度に端面加工を行うことができる。

【0062】

研削ツール３は、本発明に係る加工具の一例であって、例えば、略円筒形状の研削砥石３１と、研削砥石３１に対して同軸上に嵌挿される主軸３２とを有する。

【0063】

研削砥石３１は、多数の砥粒が接着剤（例えば、メタボンド等）によって固着されることにより構成されており、当該研削砥石３１の外周面には、複数の環状の溝部３１ａ・３１ａ・・・が、主軸３２における軸心Ｚ２（図２を参照）の方向に沿って形成されている。また、各溝部３１ａにおける周方向の断面は、端面加工後に意図する、ガラス基板Ｇの周縁端部Ｇｂの形状に沿って形成されている。

【0064】

さらに、図２において、研削ツール３は、定盤２の側方において、定盤２（または、ガラス基板Ｇ）の軸心Ｚ１に対して、主軸３２の軸心Ｚ２が平行となるように配置される。また、研削ツール３は、軸心Ｚ２を中心にして回転駆動可能に構成されるとともに、定盤２によって保持されたガラス基板Ｇに対して、近接離間方向に水平移動可能に構成されている。

【0065】

そして、定盤２によって軸心Ｚ１を中心にして回転駆動されるガラス基板Ｇに対して、同じく軸心Ｚ２を中心にして回転駆動される研削ツール３を近接方向に移動させ、所定の溝部３１ａを介して、当該ガラス基板Ｇの端面Ｇａに研削ツール３（より具体的には、研削砥石３１）を押し当てることにより、当該溝部３１ａの形状がガラス基板Ｇの周縁端部Ｇｂに転写され、当該周縁端部Ｇｂに所定の端面加工が施される。

【0066】

なお、研削ツール３は、上下方向に移動（昇降）可能とする昇降手段（図示せず）を有しており、当該昇降手段によって移動することにより、各溝部３１ａの摩耗度合いに応じて、適宜新たな溝部３１ａに変更し、当該新たな溝部３１ａによって、ガラス基板Ｇの周縁端部Ｇｂに端面加工を施す構成となっている。

【0067】

以上のように、本実施形態におけるガラス基板の製造方法は、円盤形状のガラス基板Ｇの製造方法であって、定盤２の上面（第２定盤２２の上面２２ａ）に円盤形状のガラス基板Ｇを載置して保持する保持工程Ｓ０１と、定盤２によって保持されたガラス基板Ｇを、当該定盤２とともに軸心Ｚ１を中心にして回転させる回転工程Ｓ０２と、回転するガラス基板Ｇの端面Ｇａに研削ツール（加工具）３を押し当て、ガラス基板Ｇの端面加工を施す端面加工工程Ｓ０３とを備えている。

【0068】

そして、上記保持工程Ｓ０１において、定盤２は、金属製の部材からなる第１定盤２１と、ガラス製の部材からなり、第１定盤２１におけるガラス基板Ｇ側の主面（上面２１ａ）において、着脱可能に積層配置される第２定盤２２とを有する構成となっている。

【0069】

このように、本実施形態におけるガラス基板の製造方法においては、研磨加工を施すことで比較的容易に高精度な平面精度（平坦度等）を実現可能なガラス製の部材によって、被加工物である円盤形状のガラス基板Ｇを定盤２上に載置する際に直接接触する第２定盤２１を形成することから、設備コストの大幅な増加を伴うことなく、当該ガラス基板Ｇの周縁端部Ｇｂに対して、高精度な端面加工を行うことができる。

【0070】

また、本実施形態におけるガラス基板の製造方法によれば、比較的製造コストの低廉なガラス製の部材からなる第２定盤２２を消耗品として取り扱い、比較的短期間の一定周期毎に、新たな第２定盤２２に逐次更新することにより、高精度な端面加工の加工精度を、長期間に亘って維持することができる。

【0071】

以上、本発明を具現化する一実施形態について説明を行ったが、本発明はこうした実施の形態に何等限定されるものではなく、あくまで例示であって、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において、さらに種々なる形態で実施し得ることは勿論のことであり、本発明の範囲は、特許請求の範囲の記載によって示され、さらに特許請求の範囲に記載の均等の意味、及び範囲内の全ての変更を含む。

【符号の説明】

【0072】

２ 定盤
２１ 第１定盤
２１ａ 上面
２１ｄ 第１溝部（吸着手段）
２１ｆ 第１配管部材（吸着手段）
２２ 第２定盤
２２ａ 上面
２３ 負圧発生手段（吸着手段）
３ 研削ツール
Ｇ ガラス基板
Ｇａ 端面
ＨＶ１ 第２定盤のビッカース硬さ
ＨＶ２ ガラス基板のビッカース硬さ
Ｌ１ 第１定盤における上面の直径
Ｌ２ 第２定盤の直径
Ｓ０１ 保持工程
Ｓ０２ 回転工程
Ｓ０３ 端面加工工程
ＴＴＶ 平坦度
Ｚ１ 軸心

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】