2025-88152 ガス化ガスのガス前処理設備、及びガス前処理方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2025088152

(43)【公開日】2025-06-11

(54)【発明の名称】ガス化ガスのガス前処理設備、及びガス前処理方法

(51)【国際特許分類】

   C10K 1/20 20060101AFI20250604BHJP

   C10L 3/02 20060101ALI20250604BHJP

【ＦＩ】

C10K1/20

C10L3/02

【審査請求】未請求

【請求項の数】8

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023202652

(22)【出願日】2023-11-30

(71)【出願人】

【識別番号】000176752

【氏名又は名称】三菱化工機株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100183357

【弁理士】

【氏名又は名称】小林 義美

(72)【発明者】

【氏名】佐藤 希

(72)【発明者】

【氏名】伊藤 仁志

【テーマコード（参考）】

4H060

【Ｆターム（参考）】

4H060AA01

4H060BB17

4H060DD02

4H060DD22

4H060FF02

(57)【要約】

【課題】ガス化ガスのガス前処理設備、及びガス前処理方法を提供する。
【解決手段】少なくともアセチレンを含む不飽和炭化水素化合物を有するガス化ガスを導入するガス化ガス導入ラインＬ_１と、ガス化ガス導入ラインからのガス化ガスを水素添加処理して水添処理ガスとする貴金属系の触媒を備えた水添処理装置１３と、水添処理ガス１４を改質する改質炉１６と、改質炉で改質された改質ガス１４ｃを後流側に送出する改質ガス送出ラインＬ_４と、を備えた。
【選択図】図１Ａ

【特許請求の範囲】

【請求項1】

少なくともアセチレンを含む不飽和炭化水素化合物を有するガス化ガスを導入するガス化ガス導入ラインと、
前記ガス化ガス導入ラインからのガス化ガスを水素添加処理して水添処理ガスとする貴金属系の触媒を備えた水添処理装置と、
前記水添処理ガスを改質する改質炉と、
前記改質炉で改質された改質ガスを後流側に送出する改質ガス送出ラインと、
を備えたことを特徴とするガス化ガスのガス前処理設備。

【請求項2】

前記水添処理装置からの水添処理ガスを前記ガス化ガス導入ラインにリサイクルするリサイクルラインと、
前記リサイクルラインから水添処理ガスの一部を抜き出すガス抜き出しラインと、を備えたことを特徴とする請求項１記載のガス化ガスのガス前処理設備。

【請求項3】

前記改質炉の前流側に、抜き出された水添処理ガス中に含まれるＣＯを変成する変成触媒を有する変成器を備えることを特徴とする請求項１又は２記載のガス化ガスのガス前処理設備。

【請求項4】

前記改質炉の後流側において、前記改質ガス中の二酸化炭素の含有率を軽減する脱炭酸装置を備えることを特徴とする請求項１又は２記載のガス化ガスのガス前処理設備。

【請求項5】

ガス化設備から排出されるアセチレンを含む不飽和炭化水素化合物を有するガス化ガスを貴金属系触媒により水添処理して水添処理ガスとする水添処理工程と、
前記水添処理ガスを改質する改質工程と、
を有することを特徴とするガス化ガスのガス前処理方法。

【請求項6】

前記水添処理工程からの水添処理ガスをリサイクルするガスリサイクル工程と、
前記リサイクル工程から水添処理ガスの一部を抜き出し、前記改質工程に送るガス抜き出し工程と、
を有することを特徴とする請求項５記載のガス化ガスのガス前処理方法。

【請求項7】

抜き出された水添処理ガス中に含まれるＣＯを変成するＣＯ変成工程を有することを特徴とする請求項５又は６記載のガス化ガスのガス前処理方法。

【請求項8】

前記改質工程からの改質ガス中の二酸化炭素の含有率を軽減する脱炭酸工程を有することを特徴とする請求項５又は６記載のガス化ガスのガス前処理方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ガス化ガスのガス前処理設備、及びガス前処理方法に関する。

【背景技術】

【0002】

従来より、水蒸気改質装置の前工程として、水蒸気改質触媒の触媒毒となる原料ガス中の硫黄分を除去するための設備として水添脱硫（水素化脱硫）反応器を設けている（特許文献１）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２００２－２２６８６７号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

ところで、廃棄物やバイオマス等をガス化炉で部分酸化処理して製造または生成されたガス化ガスを有効利用する際、改質装置の前処理として、水添（「水素化」ともいう）反応器を設ける際、ガス化ガス中に、例えばエチレン、アセチレン、プロピレン、ブテン等の不飽和炭化水素を多く含む場合、不飽和炭化水素の水添（水素化）反応による発熱により著しい温度上昇が発生し、水添反応器の運転温度範囲を逸脱してしまうため、原料ガスとして使用できない、という問題がある。併せて使用する水添触媒や反応条件によっては、ガス化ガス中の炭酸ガスや一酸化炭素の水素化（メタネーション）による著しい温度上昇を発生してしまう問題がある。

【0005】

また、ガス化ガス中に一酸化炭素（ＣＯ）を多く含むような場合、改質触媒上で、ブーダード反応（２ＣＯ→ＣＯ_２＋Ｃ）により炭素が析出し、改質触媒の割れや粉化、活性低下と、析出した炭素粉により触媒層を閉塞する、という問題がある。

【0006】

また、特に不飽和炭化水素の中でも特にアセチレンは反応性が高く、高温での水添反応の場合、アセチレン同士が重合した重質油成分が発生しやすく、これは改質触媒上で炭素析出を起こし触媒層を閉塞させてしまう問題がある。アセチレンは水添処理しないで改質触媒上に導入した場合、その反応性の高さから改質触媒上に炭素析出を起こし触媒層を閉塞させてしまうという問題もある。

【0007】

本発明は、例えばアセチレンを含む不飽和化合物の含有量が多いガス化ガスを有価物製造用の原料ガスとして有効活用することができるガス化ガスのガス前処理設備、及びガス前処理方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0008】

本発明の第１態様に係るガス化ガスのガス前処理設備は、少なくともアセチレンを含む不飽和炭化水素化合物を有するガス化ガスを導入するガス化ガス導入ラインと、前記ガス化ガス導入ラインからのガス化ガスを水素添加処理して水添処理ガスとする貴金属系の触媒を備えた水添処理装置と、前記水添処理ガスを改質する改質炉と、前記改質炉で改質された改質ガスを後流側に送出する改質ガス送出ラインと、を備えたことを特徴とする。

【0009】

本発明の第２態様に係るガス化ガスのガス前処理方法は、ガス化設備から排出されるアセチレンを含む不飽和炭化水素化合物を有するガス化ガスを貴金属系触媒により水添処理して水添処理ガスとする水添処理工程と、前記水添処理ガスを改質する改質工程と、を有することを特徴とする。

【発明の効果】

【0010】

本発明によれば、ガス化設備から生成されたアセチレンを含むガス化ガスの前処理を効率よく行え、前処理ガスを有価物の原料ガスとして有効活用することができる。

【図面の簡単な説明】

【0011】

【図1A】実施形態１のガス化ガスのガス前処理装置の概略図である。

【図1B】実施形態１のガス化ガスのガス前処理装置の概略図である。

【図2】実施形態２のガス化ガスのガス前処理装置の概略図である。

【図3】実施形態３のガス化ガスのガス前処理装置の概略図である。

【図4】実施形態４のガス化ガスのガス前処理装置の概略図である。

【図5】試験例の試験結果を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0012】

以下、本発明につき図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、下記の発明を実施するための形態（以下、実施形態という）により本発明が限定されるものではない。また、下記実施形態における構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のもの、いわゆる均等の範囲のものが含まれる。さらに、下記実施形態で開示した構成要素は適宜組み合わせることが可能である。

【0013】

［実施形態１］
図１Ａ、図１Ｂは、実施形態１にかかるガス化ガスのガス前処理装置の概略図である。図１に示すように、本実施形態１にかかるガス化ガスのガス前処理装置１００Ａ－１は、少なくともアセチレンを含む不飽和炭化水素を有するガス化ガス（原料ガス）１２を導入するガス化ガス導入ラインＬ_１と、ガス化ガス導入ラインＬ_１からのガス化ガス（原料ガス）１２を水素添加処理（以下「水添処理」という）して水添処理ガスとする水添処理装置１３と、水添処理装置１３からの水素添加処理ガス（以下「水添処理ガス」という）１４を送給する水添処理ガス送給ラインＬ_２と、水添処理ガス送給ラインＬ_２に介装され、水添処理ガス１４を圧縮する昇圧機１５と、圧縮された圧縮ガス１４ｂを改質する改質炉１６と、改質炉１６で改質された改質ガス１４ｃを後流側に有価物１７の原料ガスとして送出する改質ガス送出ラインＬ_４と、を備えるものである。なお、図１中、符号２０は水蒸気、２１はブロワ、Ｆは改質炉１６に供給される燃料（油でもガスでも可）を図示する。

【0014】

ここで、不飽和化合物を含むガス化ガス（原料ガス）１２としては、図示しないガス化設備において、ガス化炉により例えばバイオマス、廃棄物等の被処理物を高温で部分酸化され塩素等ハロゲン化物および硫黄化合物除去処理をしたガス化ガスであり、このガス化ガスには、例えば水素（Ｈ_２）、飽和炭化水素、不飽和化合物（不飽和炭化水素：例えばエチレン、アセチレン、プロピレン、ブテン等）、一酸化炭素（ＣＯ）、二酸化炭素（ＣＯ_２）、窒素（Ｎ_２）、アルゴン(Ａｒ)等を含んでいる。なお、原料ガス中の不飽和化合物の含有量としては、ガス化処理する対象物にもよるが１ＤＲＹｍｏｌ％を超えるものをいう。

【0015】

このガス化ガス１２は、ガス化ガス導入ラインＬ₁を介して、水添処理触媒を有する水添処理装置１３に送られ、ここでガス化ガス１２が水素化処理される。

【0016】

水添処理装置１３の入り口温度が所定の触媒設定温度とならない場合には、必要に応じて水添処理装置１３の入り口側において、電気ヒータや蒸気加熱器等の予熱器を別途設けるようにしてもよい。

【0017】

また、原料ガス中の不飽和化合物として高濃度で加圧すると爆発する可能性のあるアセチレンが多量に含まれているような場合、改質炉１６で改質処理される際には、昇圧機１５で圧縮するので、事前に水添処理装置１３でアセチレンをエチレンやエタンに転化しておくことが望ましい。

【0018】

ここで、水添処理装置１３の水添触媒としては、例えばルテニウム（Ｒｕ）、パラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）、ロジウム（Ｒｈ）等の貴金属系触媒を例示することができるが、本発明はこれに限定されるものではない。

【0019】

ここで、水添触媒として、ルテニウム（Ｒｕ）、パラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）、ロジウム（Ｒｈ）等の触媒の触媒反応温度としては、室温から約２５０℃、好ましくは５０℃から２２０℃、より好ましくは１５０℃から２００℃相当とするのがよい。なお、触媒の加熱（温度保持）方法は特に限定されるものではない。

【0020】

これは、２５０℃を超えての触媒反応の場合、炭酸ガスや一酸化炭素のメタネーションによる急激な発熱が起こるとともに、反応性の高いアセチレン同士が重合し重質油成分が発生する可能性が高まり、好ましくないからである。

【0021】

触媒反応における圧力は大気圧から１ＭＰａ程度の任意の圧力で実施可能であるが、大気圧付近とするのが好ましい。
このように貴金属系触媒を用いることで、炭酸ガス、一酸化炭素のメタネーションによる急激な発熱は起きないようにして、重質油成分の発生を抑制しながら選択的にアセチレンの水素化をすることができる。

【0022】

本実施形態によれば、水添処理装置１３の出口ガス中のアセチレン（Ｃ_２Ｈ_２）濃度はゼロ（検出下限以下）であり、Ｈ_２／ＣＨ_４／ＣＯ_２／ＣＨ_４の組成比率は、水添処理装置１３の入口とほぼ変わらないという性能を有する。

【0023】

ガス化ガスである原料ガス１２中に硫黄成分や塩素等ハロゲン化物成分が存在する場合は、活性成分で修飾した活性炭や、例えばＮａＯ（酸化ナトリウム）触媒等で、事前に吸着除去等されているガスを原料ガスとするのが好ましい。

【0024】

または、図１Ｂのガス前処理装置１００Ａ－２に示すように、導入される原料ガス１２から硫黄成分や塩素成分を除去できない場合には、水添処理装置１３の前において、脱硫処理及び脱塩素化処理を行う脱硫または脱塩素（ハロゲン）化処理装置１８を設置して除去するのが好ましい。

【0025】

この際には、図１Ｂに示すように、ガス前処理装置１００Ａ－２において、ガス化ガス導入ラインＬ_１に原料ガス１２中の成分を計測する計測器１９を設けている。そして、計測器１９において原料ガス１２に硫黄成分や塩素成分があると判断された場合には、切換え弁Ｖを切換えてガス化ガス導入ラインＬ_１ＡからバイパスラインＬ_１Ｂに原料ガス１２の導入を変更し、脱硫または脱塩処理装置１８において脱硫処理または脱塩素化処理するようにすればよい。
なお、脱硫または脱塩前処理装置１８は、脱硫処理または脱塩素（ハロゲン）化処理のいずれか一方の処理のみ、脱硫処理及び脱塩素（ハロゲン）化処理を同時に行うようにしてもよい。

【0026】

水添処理ガス１４を改質炉１６に送る水添処理ガス送給ラインＬ_２には、水添処理ガス１４を圧縮する昇圧機１５が介装されている。なお、昇圧機１５の設置はここに限定されるものではない。

【0027】

昇圧機１５で圧縮された圧縮ガス１４ｂは水蒸気改質する改質触媒を有する改質炉１６に送られ、ここで別途導入される水蒸気２０と共に改質される。ここで改質触媒としては、公知の改質触媒を用いることできる。なお、改質触媒としては、例えばＮｉ／Ａｌ_２Ｏ_３、Ｎｉ／ＭｇＯＡｌ_２Ｏ_３、Ｒｕ／Ａｌ_２Ｏ_３等の触媒が例示されるが、本発明はこれに限定されるものではない。

【0028】

改質炉１６で改質された水蒸気改質ガス１４ｃは改質ガス送出ラインＬ_４を介して後流側に有価物１７の原料ガスとして送られる。
ここで、本実施形態の改質炉１６としては、水蒸気を用いた水蒸気改質炉を例示しているが、ガスを改質する他の改質装置としては、例えばオートサーマルリフォーマを用いるようにしてもよい。

【0029】

また、不飽和炭化水素のアセチレンは、高濃度で加圧すると爆発する可能性のあるガスで取り扱いには注意が必要であるが、昇圧機１５で加圧する前に、常圧に近い低圧で水添反応を行うことにより、例えばアセチレンを含む不飽和炭化水素を水添することができる。

【0030】

＜試験例＞
ガス成分として「Ｈ_２／ＣＯ／ＣＯ_２／ＣＨ_４／Ｃ_２Ｈ_４／Ｃ_２Ｈ_２＝２７．２／３０．３／２２．４／１４．２／２．３／３．６％」の混合模擬ガスを供給した場合に、選択的にアセチレン（Ｃ_２Ｈ_２）を水素化する反応試験を行った。
本試験のアセチレンの選択水素化に対しては、ガンマアルミナの担体に担持した、パラジウム（Ｐｄ）触媒を使用した（試験例１）。
比較触媒として、Ｃｏ－Ｍｏ系触媒（比較例１）、Ｎｉ－Ｍｏ系の水素化脱硫触媒（比較例２）を用いた。
ここで、本試験例１の触媒としては、「エアロナイトｇＡｌ－Ｐｄ００５－ｓｐ２＿４」（商品名：伊藤忠セラテック社 製）を用いた。

【0031】

試験装置の触媒反応部の媒層出口の温度（℃）と、出口アセチレン濃度（ｖｏｌ％）との関係を図５に示す。
図５に示すように、試験例１のＰｄ触媒では経時劣化はほとんどなく触媒反応が進行し、２００℃以下の低温領域においてアセチレンは完全に反応しており、出口においてアセチレンは全く検出されず、その他の成分比には入口と大きな変化がなかった。

【0032】

これに対して、比較例のＣｏ－Ｍｏ系触媒（比較例１）、Ｎｉ－Ｍｏ系の水素化脱硫触媒（比較例２）においては、低温活性は見られず３００℃を超えたあたりからアセチレンは完全に反応していた。ただし両触媒とも若干のアセチレンが重合したためか油状成分（重質油成分と思われる）が発生していた。

【0033】

これに対して、試験例１のＰｄ触媒では液状成分の発生は認められなかった。

【0034】

すべての触媒に関して、メタネーションにより顕著な発熱やメタン濃度が増加は見られなかった。

【0035】

いずれの触媒もＣ₄化合物（例えばＣ_４Ｈ_８）が１％程度生成していた。これはアセチレン同士が反応しているためと考える。

【0036】

これらの水添化ガスを水蒸気改質反応工程に導入してみたところ、（すべて同じ水蒸気改質触媒を使用）試験例１のパラジウム（Ｐｄ）触媒通過ガスにおいては、改質触媒に劣化は認められずに反応を継続し、炭素粉の析出は認められなかった。

【0037】

これに対して、比較例１及び２の触媒通過ガスにおいては、アセチレン有無にかかわらず数時間で水蒸気改質触媒の圧損が上昇し、水蒸気改質触媒上に炭素粉が析出していた。
この結果、アセチレンおよび重質油成分が改質触媒に悪影響を及ぼしているが、Ｃ4化合物は水蒸気改質反応に影響を及ぼさないと推測される。

【0038】

以上より、アセチレン含有ガスに関して、水蒸気改質等を行うことで有用物を生成する場合、本発明のように、前処理プロセスとして貴金属系触媒を使用した水素化を行うことにより、後流の改質工程プロセスの触媒保護、長寿命化につながり、安定した装置運転が期待されることが判明した。

【0039】

［実施形態２］
図２は、実施形態２にかかるガス化ガスのガス前処理装置の概略図である。なお、実施形態１の構成と同一構成については、同一符号を付して、重複した説明は省略する。
本実施形態２にかかるガス化ガスのガス前処理装置１００Ｂは、水素添加処理ガス（以下「水添処理ガス」という）１４の一部をリサイクルするリサイクルラインＬ_３－１と、リサイクルラインＬ_３－１から水添処理ガス１４の一部１４ａを抜き出すガス抜き出しラインＬ_３－２と、を備えている。これはガス化ガスである原料ガス１２中のアセチレン濃度が想定よりも増加し、水素化反応の発熱により反応器１３内の温度が設定温度よりも上がり続けた場合に、冷却した水添処理ガス１４の一部を循環することにより反応器内を一定に保つ効果がある。

【0040】

本実施形態のガス化ガスのガス前処理装置１００Ｂでは、水添処理装置１３において水添処理ガス１４は、水添処理装置１３の入り口側にリサイクルするリサイクルラインＬ_３－１が形成されている。このリサイクルラインＬ_３－１には、熱交換器２２が設けられており、ガス化ガス導入ラインＬ₁のガス化ガス１２と水添処理ガス１４とを熱交換している。熱交換後の水添処理ガス１４は冷却器２３により所定の温度となるように冷却されている。リサイクル比率は０（リサイクルしない）から１０倍とすることが望ましい。

【0041】

［実施形態３］
図３は、実施形態３にかかるガス化ガスのガス前処理装置の概略図である。なお、実施形態１、２の構成と同一構成については、同一符号を付して、重複した説明は省略する。
本実施形態３にかかるガス化ガスのガス前処理装置１００Ｃは、図２に示すガス化ガスのガス前処理装置１００Ｂにおいて、さらにガス抜き出しラインＬ_３―２のガス昇圧機１５の後流側に介装され、圧縮された圧縮ガス１４ｂ中に含まれるＣＯを変成する変成触媒を有する変成器３０を備えている。ここでＣＯ変成触媒としては、公知の変成触媒を用いることでき、限定されるものではない。ここで、変成触媒としてはＦｅ－Ｃｒ触媒を例示することができるが、本発明はこれに限定されるものではない。

【0042】

ここで、水蒸気改質部に供給するガス中のＣＯ濃度が高い場合、改質触媒の触媒上でブーダード反応（２ＣＯ→ＣＯ_２＋Ｃ）が進行して、炭素析出が生じ、水蒸気改質触媒の活性が低下したり、触媒層を閉塞させてしまうという問題がある。

【0043】

本実施形態のように、ＣＯ変成触媒を有するＣＯ変成装置（変成装置）３０を、ガス抜き出しラインＬ_３－２の昇圧機１５の後流側で改質炉１６の前段に配置することで、変成触媒によりシフト反応（ＣＯ＋Ｈ_２Ｏ→ＣＯ_２＋Ｈ_２)を進行させて、ＣＯ濃度を低減（例えばＣＯ濃度２３ ＤＲＹ ｍｏｌ％→２ ＤＲＹ ｍｏｌ％に低減）させている。改質炉１６に導入される圧縮ガス１４ｂ中のＣＯ濃度を低減した後、水蒸気改質触媒へ供給することにより、高濃度のＣＯを含む原料ガス１２であっても、水蒸気改質の原料ガスとして使用することが可能となる。

【0044】

本実施形態によれば、高濃度の不飽和炭化水素と高濃度の一酸化炭素とを含む原料ガスであるガス化ガス１２と水添処理装置１３からのリサイクルガスである水添処理ガス１４とを混合して水添処理装置１３へ再度送り、水添することで、発熱を抑えることができる。さらに、変成器３０にてＣＯ濃度を低減することで、その後改質炉１６で改質処理する際に、改質触媒上でブーダード反応により炭素が析出し、改質触媒の割れや粉化、活性低下と、析出した炭素粉による触媒層の閉塞が生じることがなく、水蒸気改質ガス１４ｃを安定して得ることができ、有価物１７の原料ガスを効率よく製造することができる。

【0045】

なお、実施形態１のガス化ガスのガス前処理装置１００Ａ－１、１００Ａ－２においても、本実施形態と同様に、変成器を設置するようにしてもよい。

【0046】

［実施形態４］
図４は、実施形態４にかかるガス化ガスのガス前処理装置の概略図である。なお、実施形態１～３の構成と同一構成については、同一符号を付して、重複した説明は省略する。
本実施形態４にかかるガス化ガスのガス前処理装置１００Ｄは、図３に示すガス化ガスのガス前処理装置１００Ｃにおいて、さらに改質炉１６の後流側において、改質ガス１４ｃ中の二酸化炭素（ＣＯ_２）の含有率を軽減する脱炭酸装置３１を改質ガス送出ラインＬ_４に備えている。

【0047】

本実施形態においては、二酸化炭素（ＣＯ_２）を除去する場合には、例えば水蒸気改質ガス１４ｃ中のＣＯ_２ガス濃度を低減する脱炭酸装置３１を設置している。

【0048】

脱炭酸装置３１としては、アミン吸収法による吸収塔と再生塔とを備えた二酸化炭素回収装置を用いることができる。なお、脱炭酸装置３１のアミン吸収装置以外としては、ＣＯ_２を液体中に溶解させて、分離回収する物理吸着装置、ＣＯ_２の固体吸収材を用いて、分離回収する固体吸着装置、ＣＯ_２分離機能を有する膜を用いて分離回収する膜分離装置等を挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。

【0049】

なお、脱炭酸処理するには、水蒸気改質ガス１４ｃの「ＣＯ／ＣＯ_２／Ｈ_２比率」を、後流側で用いる有価物１７の原料ガスとして最適濃度となるように調整している。

【0050】

以上述べたように、本発明によれば、不飽和炭化水素の濃度が高く、しかもＣＯ濃度が高いガス化ガスを処理することで、ＣＯ、Ｈ_２を主成分とするオキソガス等を用いた化学原料の一般的な合成設備の有価物１７の原料ガスの前処理とすることができる。

【0051】

有価物１７としては、例えばメタノール、エタノール、酢酸、ポリウレタン、合成油等を例示することができるが、本発明はこれに限定されるものではない。

【0052】

なお、実施形態１のガス化ガスのガス前処理装置１００Ａ－１、１００Ａ－２においても、本実施形態と同様に、脱炭酸装置３１を設置するようにしてもよい。

【産業上の利用可能性】

【0053】

本発明は、ガス化炉から排出されるガス化ガスを前処理するガス前処理設備、ガス前処理方法全般に利用可能である。

【符号の説明】

【0054】

１００Ａ－１、１００Ａ－２、１００Ｂ～１００Ｄ ガス前処理装置
１２ ガス化ガス
１３ 水添処理装置
１４ 水添処理ガス
１４ａ 抜き出し水添処理ガス
１４ｂ 圧縮ガス
１４ｃ 水蒸気改質ガス
１５ ガス昇圧機
１６ 改質炉
１７ 有価物
３０ 変成器
３１ 脱炭酸装置
３２ 炭酸ガス
Ｌ_１ ガス化ガス導入ライン
Ｌ_２ 水添処理ガス送給ライン
Ｌ_３－１ リサイクルライン
Ｌ_３－２ ガス抜き出しライン
Ｌ_４ 改質ガス送出ライン
Ｆ 燃料

【図1A】

【図1B】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】