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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2025093816
(43)【公開日】2025-06-24
(54)【発明の名称】ガラス基板の欠陥検査装置、及びガラス基板の製造方法
(51)【国際特許分類】
G01N 21/958 20060101AFI20250617BHJP
G01N 21/84 20060101ALI20250617BHJP
【ＦＩ】
G01N21/958
G01N21/84 C
【審査請求】未請求
【請求項の数】7
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023209711
(22)【出願日】2023-12-12
(71)【出願人】
【識別番号】000232243
【氏名又は名称】日本電気硝子株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110002217
【氏名又は名称】弁理士法人矢野内外国特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】北村 圭市
【テーマコード（参考）】
2G051
【Ｆターム（参考）】
2G051AA84
2G051AB02
2G051BA20
2G051BB05
2G051DA20
(57)【要約】
【課題】ガラス基板の欠陥を検査するガラス基板の欠陥検査装置、及び当該欠陥検査装置を用いた検査工程を備えるガラス基板の製造方法であって、ガラス基板の外周縁部における欠陥の有無を精度良く検査することができる、ガラス基板の欠陥検査装置、及びガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板Ｇを支持するステージ１０と、当該ガラス基板Ｇを一方の主面（表面Ｇａ）側から撮像する撮像手段２０と、撮像手段２０によって撮像された画像データに基づき、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄの状態を判定する制御部５０とを備え、ステージ１０は、ガラス基板Ｇの他方の主面（裏面Ｇｂ）側よりガラス基板Ｇの外周縁部Ｇｃを支持する支持面１１ａ１を有し、支持面１１ａ１は、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄに沿って設けられ、且つ外周端面Ｇｄに対してガラス基板Ｇの中央側に離れた位置にて、ガラス基板Ｇと接触する接触領域１１ｃを有する。
【選択図】図３
【解決手段】ガラス基板Ｇを支持するステージ１０と、当該ガラス基板Ｇを一方の主面（表面Ｇａ）側から撮像する撮像手段２０と、撮像手段２０によって撮像された画像データに基づき、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄの状態を判定する制御部５０とを備え、ステージ１０は、ガラス基板Ｇの他方の主面（裏面Ｇｂ）側よりガラス基板Ｇの外周縁部Ｇｃを支持する支持面１１ａ１を有し、支持面１１ａ１は、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄに沿って設けられ、且つ外周端面Ｇｄに対してガラス基板Ｇの中央側に離れた位置にて、ガラス基板Ｇと接触する接触領域１１ｃを有する。
【選択図】図３
【特許請求の範囲】
【請求項1】
ガラス基板の欠陥を検査するガラス基板の欠陥検査装置であって、
ガラス基板を支持するステージと、
前記ステージによって支持されたガラス基板を一方の主面側から撮像する撮像手段と、
前記撮像手段によって撮像された画像データに基づき、前記ガラス基板の外周縁部の状態を判定する制御部とを備え、
前記ステージは、
前記ガラス基板の他方の主面側より当該ガラス基板の外周縁部を支持する支持面を有し、
前記支持面は、
前記ガラス基板の外周端面に沿って設けられ、且つ当該外周端面に対してガラス基板の中央側に離れた位置にて、ガラス基板と接触する接触領域を有する、
ことを特徴とするガラス基板の欠陥検査装置。
ガラス基板を支持するステージと、
前記ステージによって支持されたガラス基板を一方の主面側から撮像する撮像手段と、
前記撮像手段によって撮像された画像データに基づき、前記ガラス基板の外周縁部の状態を判定する制御部とを備え、
前記ステージは、
前記ガラス基板の他方の主面側より当該ガラス基板の外周縁部を支持する支持面を有し、
前記支持面は、
前記ガラス基板の外周端面に沿って設けられ、且つ当該外周端面に対してガラス基板の中央側に離れた位置にて、ガラス基板と接触する接触領域を有する、
ことを特徴とするガラス基板の欠陥検査装置。
【請求項2】
前記ステージは、傾斜した縦姿勢の状態で前記ガラス基板を支持する、
ことを特徴とする、請求項１に記載のガラス基板の欠陥検査装置。
ことを特徴とする、請求項１に記載のガラス基板の欠陥検査装置。
【請求項3】
前記ステージによってガラス基板を支持した状態において、
前記支持面は、
前記一方の主面側から見て、前記ガラス基板の外周端面と重なる位置に設けられ、且つ当該外周端面に沿って形成される溝部を有する、
ことを特徴とする、請求項１または請求項２に記載のガラス基板の欠陥検査装置。
前記支持面は、
前記一方の主面側から見て、前記ガラス基板の外周端面と重なる位置に設けられ、且つ当該外周端面に沿って形成される溝部を有する、
ことを特徴とする、請求項１または請求項２に記載のガラス基板の欠陥検査装置。
【請求項4】
前記ステージによってガラス基板を支持した状態において、
前記ガラス基板の一方の主面側から見た、前記ガラス基板の外周端面と、前記接触領域における当該外周端面側の第１端面との間の寸法は、０．５ｍｍ以上３ｍｍ以下である、
ことを特徴とする、請求項１または請求項２に記載のガラス基板の欠陥検査装置。
前記ガラス基板の一方の主面側から見た、前記ガラス基板の外周端面と、前記接触領域における当該外周端面側の第１端面との間の寸法は、０．５ｍｍ以上３ｍｍ以下である、
ことを特徴とする、請求項１または請求項２に記載のガラス基板の欠陥検査装置。
【請求項5】
前記支持面において、
前記接触領域における、前記ガラス基板の外周端面側の第１端面と、前記ガラス基板の中央側の第２端面との間の幅寸法は、０．５ｍｍ以上３ｍｍ以下である、
ことを特徴とする、請求項１または請求項２に記載のガラス基板の欠陥検査装置。
前記接触領域における、前記ガラス基板の外周端面側の第１端面と、前記ガラス基板の中央側の第２端面との間の幅寸法は、０．５ｍｍ以上３ｍｍ以下である、
ことを特徴とする、請求項１または請求項２に記載のガラス基板の欠陥検査装置。
【請求項6】
前記ステージによってガラス基板を支持した状態において、
前記支持面は、
前記一方の主面側から見て、前記ガラス基板の外周端面と重なる位置に設けられ、且つ当該外周端面に沿って形成されるとともに、
前記接触領域に対して、前記ガラス基板の他方の主面側に離間した離間領域を有し、
前記接触領域と前記離間領域との間の離間寸法は、１ｍｍ以上である、
ことを特徴とする、請求項１または請求項２に記載のガラス基板の欠陥検査装置。
前記支持面は、
前記一方の主面側から見て、前記ガラス基板の外周端面と重なる位置に設けられ、且つ当該外周端面に沿って形成されるとともに、
前記接触領域に対して、前記ガラス基板の他方の主面側に離間した離間領域を有し、
前記接触領域と前記離間領域との間の離間寸法は、１ｍｍ以上である、
ことを特徴とする、請求項１または請求項２に記載のガラス基板の欠陥検査装置。
【請求項7】
ガラス基板を成形する成形工程と、
前記成形工程の終了後、請求項１または請求項２に記載の欠陥検査装置を用いて、得られたガラス基板を検査対象物として、当該ガラス基板の欠陥を検査する検査工程とを備える、
ことを特徴とする、ガラス基板の製造方法。
前記成形工程の終了後、請求項１または請求項２に記載の欠陥検査装置を用いて、得られたガラス基板を検査対象物として、当該ガラス基板の欠陥を検査する検査工程とを備える、
ことを特徴とする、ガラス基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、ガラス基板の欠陥検査装置、及び当該欠陥検査装置を用いた検査工程を備えるガラス基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
従来より、薄板状のガラス基板の製造工程において、作製されたガラス基板の欠陥の有無を検査する、ガラス基板の欠陥検査装置が知られている。
例えば、その一例として、特許文献１においては、やや傾斜させた縦姿勢の状態でガラスワーク（ガラス基板）を支持する支持部（ステージ）と、ステージによって支持されたガラス基板に光を照射して照明する光照射部（照明手段）と、照明手段によって照明されたガラス基板を撮像して画像データを取得する画像情報取得部（撮像手段）と、撮像手段によって取得された画像データに基づきガラス基板の欠陥の有無を検査する判定制御部（制御部）とを備える、検査装置（欠陥検査装置）が開示されている。
例えば、その一例として、特許文献１においては、やや傾斜させた縦姿勢の状態でガラスワーク（ガラス基板）を支持する支持部（ステージ）と、ステージによって支持されたガラス基板に光を照射して照明する光照射部（照明手段）と、照明手段によって照明されたガラス基板を撮像して画像データを取得する画像情報取得部（撮像手段）と、撮像手段によって取得された画像データに基づきガラス基板の欠陥の有無を検査する判定制御部（制御部）とを備える、検査装置（欠陥検査装置）が開示されている。
【0003】
上記の欠陥検査装置において、ガラス基板は、一方の主面（以下、適宜「表面」と記載）を撮像手段に対向させた状態で、ステージによって支持される。
また、ガラス基板は、他方の主面（以下、適宜「裏面」と記載）において、外周縁部の一部をステージに接触させた状態で、当該ステージによって支持される。
また、ガラス基板は、他方の主面（以下、適宜「裏面」と記載）において、外周縁部の一部をステージに接触させた状態で、当該ステージによって支持される。
【0004】
そして、欠陥検査装置は、ガラス基板の外周縁部が撮像された画像データに基づき、例えば二値化処理等を施して当該外周縁部の端面（外周端面）の形状をトレースした輪郭線を抽出し、当該輪郭線上において、破断個所等が確認された場合には、ガラス基板の外周端面に、傷や欠けや汚れ等の欠陥が存在すると判断する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開２０２１－１５６７５６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
前述した従来の欠陥検査装置において、例えば経年変化等によって、ステージにおけるガラス基板の裏面の外周縁部と接触する箇所に、塗装の剥離や細かい傷等の欠陥が生じた場合、撮像手段によってガラス基板を撮像する際に、照明手段から照射された光が当該欠陥に反射し、画像データ上における外周端面と重なる位置に、反射光が予期せず写り込むことがある。
この場合、二値化処理が施された画像データ上において、ガラス基板の外周端面の輪郭線は、上記反射光によって破断された状態で抽出される。
この場合、二値化処理が施された画像データ上において、ガラス基板の外周端面の輪郭線は、上記反射光によって破断された状態で抽出される。
【0007】
その結果、欠陥検査装置は、反射光による輪郭線の破断個所を、ガラス基板の外周端面に生じた欠陥であると誤判断することとなり、ガラス基板の外周縁部における欠陥の有無を、精度良く検査することが困難となる虞があった。
【0008】
本発明は、以上に示した現状の問題点を鑑みてなされたものであり、ガラス基板の欠陥を検査するガラス基板の欠陥検査装置、及び当該欠陥検査装置を用いた検査工程を備えるガラス基板の製造方法であって、ガラス基板の外周縁部における欠陥の有無を、精度良く検査することができる、ガラス基板の欠陥検査装置、及びガラス基板の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明の解決しようとする課題は以上の如くであり、次にこの課題を解決するための手段を説明する。
【0010】
即ち、本発明の態様１に係るガラス基板の欠陥検査装置は、ガラス基板の欠陥を検査するガラス基板の欠陥検査装置であって、ガラス基板を支持するステージと、前記ステージによって支持されたガラス基板を一方の主面側から撮像する撮像手段と、前記撮像手段によって撮像された画像データに基づき、前記ガラス基板の外周縁部の状態を判定する制御部とを備え、前記ステージは、前記ガラス基板の他方の主面側より当該ガラス基板の外周縁部を支持する支持面を有し、前記支持面は、前記ガラス基板の外周端面に沿って設けられ、且つ当該外周端面に対してガラス基板の中央側に離れた位置にて、ガラス基板と接触する接触領域を有することを特徴とする。
このような構成からなる、本発明に係るガラス基板の欠陥検査装置によれば、ガラス基板の外周縁部を支持するステージの支持面において、当該ガラス基板と接触する接触領域が、ガラス基板の外周端面に対して、当該ガラス基板の中央側に離れた位置に設けられることとなり、例えば、経年変化等による塗装の剥離や細かい傷等の欠陥が当該接触領域に生じた場合であっても、画像データ上において、当該欠陥に反射した反射光が、ガラス基板の外周端面と重なる位置に写り込むのを抑制することができる。
従って、例えば二値化処理が施された画像データ上において、抽出されたガラス基板の外周端面の輪郭線上に、反射光を要因とする破断個所が発生するのを防止し、ガラス基板の外周縁部における欠陥の有無を、精度良く検査することができる。
このような構成からなる、本発明に係るガラス基板の欠陥検査装置によれば、ガラス基板の外周縁部を支持するステージの支持面において、当該ガラス基板と接触する接触領域が、ガラス基板の外周端面に対して、当該ガラス基板の中央側に離れた位置に設けられることとなり、例えば、経年変化等による塗装の剥離や細かい傷等の欠陥が当該接触領域に生じた場合であっても、画像データ上において、当該欠陥に反射した反射光が、ガラス基板の外周端面と重なる位置に写り込むのを抑制することができる。
従って、例えば二値化処理が施された画像データ上において、抽出されたガラス基板の外周端面の輪郭線上に、反射光を要因とする破断個所が発生するのを防止し、ガラス基板の外周縁部における欠陥の有無を、精度良く検査することができる。
【0011】
また、本発明の態様２に係るガラス基板の欠陥検査装置は、上記態様１において、前記ステージは、傾斜した縦姿勢の状態で前記ガラス基板を支持することを特徴とする。
このような構成を有することにより、例えば、水平姿勢の状態でガラス基板の外周縁部を支持した場合のように、自重によって下方に突出するようにガラス基板が撓むことを抑制し、当該ガラス基板の外周縁部における欠陥の有無を、より精度良く検査することができる。
このような構成を有することにより、例えば、水平姿勢の状態でガラス基板の外周縁部を支持した場合のように、自重によって下方に突出するようにガラス基板が撓むことを抑制し、当該ガラス基板の外周縁部における欠陥の有無を、より精度良く検査することができる。
【0012】
また、本発明の態様３に係るガラス基板の欠陥検査装置は、上記態様１または上記態様２において、前記ステージによってガラス基板を支持した状態における前記支持面は、前記一方の主面側から見て、前記ガラス基板の外周端面と重なる位置に設けられ、且つ当該外周端面に沿って形成される溝部を有することを特徴とする。
このような構成を有することにより、上記一方の主面側から見て、ステージの支持面における接触領域がガラス基板の外周端面と重なるのを、溝部を介してより確実に回避することができる。
従って、本発明に係る欠陥検査装置によれば、撮像手段によって撮像された画像データ上において、上記接触領域に生じた欠陥に反射した反射光が、ガラス基板の外周端面と重なる位置に写り込むのを、より確実に抑制することができ、当該ガラス基板の外周縁部における欠陥の有無を、安定して精度良く検査することができる。
このような構成を有することにより、上記一方の主面側から見て、ステージの支持面における接触領域がガラス基板の外周端面と重なるのを、溝部を介してより確実に回避することができる。
従って、本発明に係る欠陥検査装置によれば、撮像手段によって撮像された画像データ上において、上記接触領域に生じた欠陥に反射した反射光が、ガラス基板の外周端面と重なる位置に写り込むのを、より確実に抑制することができ、当該ガラス基板の外周縁部における欠陥の有無を、安定して精度良く検査することができる。
【0013】
また、本発明の態様４に係るガラス基板の欠陥検査装置は、上記態様１から上記態様３の何れか１つの態様において、前記ステージによってガラス基板を支持した状態における、前記ガラス基板の一方の主面側から見た、前記ガラス基板の外周端面と、前記接触領域における当該外周端面側の第１端面との間の寸法は、０．５ｍｍ以上３ｍｍ以下であることを特徴とする。
このような構成を有することにより、本発明に係る欠陥検査装置によれば、撮像手段によって撮像された画像データ上において、上記接触領域に生じた欠陥に反射した反射光が、ガラス基板の外周端面と重なる位置に写り込むのを、より確実に抑制しつつ、ステージによってガラス基板を安定して支持することができ、当該ガラス基板の外周縁部における欠陥の有無を、より安定して精度良く検査することができる。
このような構成を有することにより、本発明に係る欠陥検査装置によれば、撮像手段によって撮像された画像データ上において、上記接触領域に生じた欠陥に反射した反射光が、ガラス基板の外周端面と重なる位置に写り込むのを、より確実に抑制しつつ、ステージによってガラス基板を安定して支持することができ、当該ガラス基板の外周縁部における欠陥の有無を、より安定して精度良く検査することができる。
【0014】
また、本発明の態様５に係るガラス基板の欠陥検査装置は、上記態様１から上記態様４の何れか１つの態様において、前記支持面の前記接触領域における、前記ガラス基板の外周端面側の第１端面と、前記ガラス基板の中央側の第２端面との間の幅寸法は、０．５ｍｍ以上３ｍｍ以下であることを特徴とする。
このような構成を有することにより、本発明に係る欠陥検査装置によれば、ステージによってガラス基板を安定して支持しつつ、撮像手段によって撮像された画像データ上において、上記接触領域に生じた欠陥に反射した反射光が、ガラス基板の外周端面と重なる位置に写り込むのを、より確実に抑制することができ、当該ガラス基板の外周縁部における欠陥の有無を、より安定して精度良く検査することができる。
このような構成を有することにより、本発明に係る欠陥検査装置によれば、ステージによってガラス基板を安定して支持しつつ、撮像手段によって撮像された画像データ上において、上記接触領域に生じた欠陥に反射した反射光が、ガラス基板の外周端面と重なる位置に写り込むのを、より確実に抑制することができ、当該ガラス基板の外周縁部における欠陥の有無を、より安定して精度良く検査することができる。
【0015】
また、本発明の態様６に係るガラス基板の欠陥検査装置は、上記態様１から上記態様５の何れか１つの態様において、前記ステージによってガラス基板を支持した状態における前記支持面は、前記一方の主面側から見て、前記ガラス基板の外周端面と重なる位置に設けられ、且つ当該外周端面に沿って形成されるとともに、前記接触領域に対して、前記ガラス基板の他方の主面側に離間した離間領域を有し、前記接触領域と前記離間領域との間の離間寸法は、１ｍｍ以上であることを特徴とする。
このような構成を有することにより、本発明に係る欠陥検査装置によれば、撮像手段によって撮像された画像データ上において、上記離間領域に生じた欠陥に反射した反射光が、ガラス基板の外周端面と重なる位置に写り込むのを、より確実に抑制することができ、当該ガラス基板の外周縁部における欠陥の有無を、より安定して精度良く検査することができる。
このような構成を有することにより、本発明に係る欠陥検査装置によれば、撮像手段によって撮像された画像データ上において、上記離間領域に生じた欠陥に反射した反射光が、ガラス基板の外周端面と重なる位置に写り込むのを、より確実に抑制することができ、当該ガラス基板の外周縁部における欠陥の有無を、より安定して精度良く検査することができる。
【0016】
また、本発明の態様７に係るガラス基板の製造方法は、ガラス基板を成形する成形工程と、前記成形工程の終了後、上記態様１から上記態様６の何れか１つの態様に記載の欠陥検査装置を用いて、得られたガラス基板を検査対象物として、当該ガラス基板の欠陥を検査する検査工程とを備えることを特徴とする。
このような構成を有することにより、本発明に係るガラス基板の製造方法によれば、ガラス基板の外周縁部における欠陥の有無を、精度良く検査することができ、高品質なガラス基板を得ることができる。
このような構成を有することにより、本発明に係るガラス基板の製造方法によれば、ガラス基板の外周縁部における欠陥の有無を、精度良く検査することができ、高品質なガラス基板を得ることができる。
【発明の効果】
【0017】
本発明の効果として、以下に示すような効果を奏する。
即ち、本発明に係るガラス基板の欠陥検査装置、及びガラス基板の製造方法によれば、ガラス基板の外周縁部における欠陥の有無を、精度良く検査することができる。
即ち、本発明に係るガラス基板の欠陥検査装置、及びガラス基板の製造方法によれば、ガラス基板の外周縁部における欠陥の有無を、精度良く検査することができる。
【図面の簡単な説明】
【0018】
【図1】本発明の一実施形態に係るガラス基板の欠陥検査装置の全体的な構成を示した側面図である。
【図2】ガラス基板を支持した状態におけるステージの構成を示した正面図である。
【図4】欠陥検査装置の撮像手段によって得られた画像データの一例を示した図であって、（ａ）は従来のステージを用いた場合の概略図であり、（ｂ）は本発明に係る実施例のステージを用いた場合における概略図である。
【図5】本発明の一実施形態に係るガラス基板の製造方法の手順を経時的に示した工程図である。
【発明を実施するための形態】
【0019】
次に、本発明の一実施形態について、図１乃至図５を用いて説明する。
なお、以下の説明においては便宜上、図１乃至図３中に示す矢印の方向によって、ガラス基板Ｇの欠陥検査装置１の前後方向、左右方向、及び上下方向を規定して記述する。
なお、以下の説明においては便宜上、図１乃至図３中に示す矢印の方向によって、ガラス基板Ｇの欠陥検査装置１の前後方向、左右方向、及び上下方向を規定して記述する。
【0020】
【0021】
欠陥検査装置１は、薄板状のガラス基板Ｇの製造工程に設けられ、作製されたガラス基板Ｇの欠陥の有無を検査する装置である。
【0022】
ここで、ガラス基板Ｇの形状については、円盤形状や楕円形状、或いは矩形状や多角形状など、特に限定されるものではないが、本実施形態においては、例えば、円盤形状のガラス基板である。
また、ガラス基板の厚みについては、例えば、０．２ｍｍ以上１．０ｍｍ以下の範囲内に設定されるのが好ましい。
また、ガラス基板の厚みについては、例えば、０．２ｍｍ以上１．０ｍｍ以下の範囲内に設定されるのが好ましい。
【0023】
さらに、ガラス基板Ｇの両主面（後述する表面Ｇａ及び裏面Ｇｂ）のうち、少なくとも何れか一方の主面に機能膜が成膜されていてもよい。
上記機能膜の種類としては、例えば、反射防止膜等として利用される誘電体多層膜や、電極等として利用される透明導電膜などが挙げられる。
また、機能膜の膜厚については、例えば、１０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下の範囲内に設定されるのが好ましい。
上記機能膜の種類としては、例えば、反射防止膜等として利用される誘電体多層膜や、電極等として利用される透明導電膜などが挙げられる。
また、機能膜の膜厚については、例えば、１０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下の範囲内に設定されるのが好ましい。
【0024】
ガラス基板Ｇは、図５に示すように、主に、経時的に順に行われる成形工程Ｓ０１及び検査工程Ｓ０２を備える製造工程によって製造される。
【0025】
成形工程Ｓ０１は、ガラス基板Ｇを成形する工程である。
成形工程Ｓ０１においては、例えば、オーバーフローダウンドロー法、スロットダウンドロー法、及びリドロー法に代表されるダウンドロー法を利用して、溶融されたガラス原料からなる溶融ガラスより、長尺帯状のガラスリボンが形成される。
形成されたガラスリボンは、スクライブ切断等によって、矩形板状のガラス原板に一旦切断され、切断されたガラス原板より、所定形状（本実施形態においては、円盤形状）からなる、複数枚または単数枚の一次ガラス基板が切り出される。
その後、切り出された各々の一次ガラス基板は、研磨作業や洗浄作業等を施され、最終製品であるガラス基板Ｇとして仕上げられる。
成形工程Ｓ０１においては、例えば、オーバーフローダウンドロー法、スロットダウンドロー法、及びリドロー法に代表されるダウンドロー法を利用して、溶融されたガラス原料からなる溶融ガラスより、長尺帯状のガラスリボンが形成される。
形成されたガラスリボンは、スクライブ切断等によって、矩形板状のガラス原板に一旦切断され、切断されたガラス原板より、所定形状（本実施形態においては、円盤形状）からなる、複数枚または単数枚の一次ガラス基板が切り出される。
その後、切り出された各々の一次ガラス基板は、研磨作業や洗浄作業等を施され、最終製品であるガラス基板Ｇとして仕上げられる。
【0026】
検査工程Ｓ０２は、成形工程Ｓ０１の終了後、得られたガラス基板Ｇを検査対象物として、当該ガラス基板Ｇの欠陥を検査する工程である。
検査工程Ｓ０２においては、本実施形態における欠陥検査装置１を用いて、得られたガラス基板Ｇの外周縁部Ｇｃの端面（以下、適宜「外周端面Ｇｄ」と記載。図２を参照）等における、傷や欠けや汚れ等の欠陥の有無を検査される。
検査工程Ｓ０２においては、本実施形態における欠陥検査装置１を用いて、得られたガラス基板Ｇの外周縁部Ｇｃの端面（以下、適宜「外周端面Ｇｄ」と記載。図２を参照）等における、傷や欠けや汚れ等の欠陥の有無を検査される。
【0027】
このように、本実施形態において、ガラス基板Ｇを製造する製造工程（製造方法）は、ガラス基板Ｇを成形する成形工程Ｓ０１と、成形工程Ｓ０１の終了後、欠陥検査装置１を用いて、得られたガラス基板Ｇを検査対象物とし、当該ガラス基板Ｇの欠陥を検査する検査工程Ｓ０２とを備える構成となっている。
【0028】
このような構成を有することにより、本実施形態におけるガラス基板Ｇの製造方法によれば、後述するように、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄにおける欠陥の有無を、精度良く検査することができ、高品質なガラス基板Ｇを得ることができる。
【0029】
図１に示すように、欠陥検査装置１は、主に、ガラス基板Ｇを支持するステージ１０と、ステージ１０の一方側（本実施形態においては、前側）に配置される撮像手段２０と、ステージ１０と撮像手段２０との間に配置される第１照明手段３０と、ステージ１０の他方側（本実施形態においては、後側）に配置される第２照明手段４０と、欠陥検査装置１全体の動作を制御する制御部５０とを備える。
【0030】
ステージ１０は、傾斜した縦姿勢の状態で、ガラス基板Ｇを支持するものである。
ここで、「傾斜した縦姿勢の状態」とは、ガラス基板Ｇの自重による最大の撓み量が、０．１ｍｍ以下となるように撓みが抑制された状態であり、仮想水平面に対して、ガラス基板Ｇの主面における鋭角側の角度が７０°以上、好ましくは８０°以上、より好ましくは８５°以上、且つ９０°以下の範囲内となるように、ガラス基板Ｇを起立させた状態を意味する。
ここで、「傾斜した縦姿勢の状態」とは、ガラス基板Ｇの自重による最大の撓み量が、０．１ｍｍ以下となるように撓みが抑制された状態であり、仮想水平面に対して、ガラス基板Ｇの主面における鋭角側の角度が７０°以上、好ましくは８０°以上、より好ましくは８５°以上、且つ９０°以下の範囲内となるように、ガラス基板Ｇを起立させた状態を意味する。
【0031】
ステージ１０は、本体部であるステージ基板１１と、ステージ基板１１の前側に突出させた状態で配置される複数（本実施形態においては、２個。但し、図１においては、側面図であるため１個のみ記載）の支持ピン１２・１２とを備える。
【0032】
そして、ガラス基板Ｇは、縦姿勢の状態で２個の支持ピン１２・１２上に載置されるとともに、他方側（本実施形態においては、後側）の主面（以下、適宜「裏面Ｇｂ」と記載）における外周縁部Ｇｃの複数箇所（本実施形態においては、５個所）において、ステージ基板１１と接触し、ステージ１０によって、所定の角度で傾斜した状態で支持される。
【0033】
なお、ステージ１０によるガラス基板Ｇの支持姿勢については、本実施形態に限定されるものではなく、ガラス基板Ｇの外周縁部Ｇｃを介して支持される限りにおいて、例えば水平姿勢等であってもよい。
しかしながら、本実施形態のように、傾斜させた縦姿勢の状態でガラス基板Ｇを支持することにより、例えば、水平姿勢の状態でガラス基板Ｇの外周縁部Ｇｃを支持した場合のように、自重によって下方に突出するようにガラス基板Ｇが撓むことを抑制し、当該ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄおける欠陥の有無を、より精度良く検査することができる。
しかしながら、本実施形態のように、傾斜させた縦姿勢の状態でガラス基板Ｇを支持することにより、例えば、水平姿勢の状態でガラス基板Ｇの外周縁部Ｇｃを支持した場合のように、自重によって下方に突出するようにガラス基板Ｇが撓むことを抑制し、当該ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄおける欠陥の有無を、より精度良く検査することができる。
【0034】
なお、ステージ１０の構成の詳細については、後述する。
【0035】
撮像手段２０は、ステージ１０によって支持されたガラス基板Ｇを、一方の主面側（本実施形態においては、前方の主面側。以下、前側の主面を適宜「表面Ｇａ」と記載）から撮像して、画像データを取得するものである。
【0036】
撮像手段２０は、例えば、ＣＣＤイメージセンサやＣＭＯＳイメージセンサ等の撮像素子による、いわゆるデジタルカメラなどによって構成することができる。
また、撮像手段２０によって取得される画像データについては、カラーまたはモノクロの何れであってもよい。
また、撮像手段２０によって取得される画像データについては、カラーまたはモノクロの何れであってもよい。
【0037】
撮像手段２０は、ステージ１０側（本実施形態においては後側）に撮像方向を向けた状態で配置される。
また、撮像手段２０は、後述する第１照明手段３０及び第２照明手段４０とともに、当該撮像手段２０が移動することにより、或いは、ステージ１０が移動することにより、当該ステージ１０によって支持されたガラス基板Ｇとの相対位置を、調整可能に構成されている。
また、撮像手段２０は、後述する第１照明手段３０及び第２照明手段４０とともに、当該撮像手段２０が移動することにより、或いは、ステージ１０が移動することにより、当該ステージ１０によって支持されたガラス基板Ｇとの相対位置を、調整可能に構成されている。
【0038】
そして、撮像手段２０は、上記ガラス基板Ｇの表面Ｇａに対して、当該表面Ｇａとの平行方向（より具体的には、上下方向及び左右方向）に往復走査することにより、当該ガラス基板Ｇの輪郭線を含む全体的な画像データを取得する。
【0039】
第１照明手段３０は、ステージ１０によって支持されたガラス基板Ｇを、表面Ｇａ側（即ち、前側）から照明するものである。
第１照明手段３０は、例えば、白色ＬＥＤ照明からなるリング照明によって構成されており、ステージ１０の前側から、光Ｌａの照射方向を当該ステージ１０側（本実施形態においては後側）に向けた状態で、撮像手段２０の視野を妨げることなく、当該視野が内側の空間部内に収まるように配置される。
第１照明手段３０は、例えば、白色ＬＥＤ照明からなるリング照明によって構成されており、ステージ１０の前側から、光Ｌａの照射方向を当該ステージ１０側（本実施形態においては後側）に向けた状態で、撮像手段２０の視野を妨げることなく、当該視野が内側の空間部内に収まるように配置される。
【0040】
一方、第２照明手段４０は、ステージ１０によって支持されたガラス基板Ｇを、裏面Ｇｂ側（即ち、後側）から照明するものである。
第２照明手段４０も、第１照明手段３０と同様に、例えば、白色ＬＥＤ照明からなるリング照明によって構成されており、ステージ１０の後側から、光Ｌｂの照射方向を当該ステージ１０側（本実施形態においては前側）に向けた状態で配置される。
第２照明手段４０も、第１照明手段３０と同様に、例えば、白色ＬＥＤ照明からなるリング照明によって構成されており、ステージ１０の後側から、光Ｌｂの照射方向を当該ステージ１０側（本実施形態においては前側）に向けた状態で配置される。
【0041】
なお、第１照明手段３０における中心波長と、第２照明手段４０における中心波長との差は、例えば１０ｎｍ以下の範囲内に設定されるのが好ましい。
【0042】
制御部５０は、上述したように、欠陥検査装置１全体の動作を制御するとともに、撮像手段２０によって撮像された画像データに基づき、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄなどの状態を判定するものである。
【0043】
制御部５０は、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）によって構成される演算処理部や、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）・ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）・ＨＤＤ（Ｈａｒｄ Ｄｉｓｋ Ｄｒｉｖｅ）等によって構成される記憶部などを備えている。
また、上記記憶部には、欠陥検査装置１全体の動作を制御するプログラム、及び撮像手段２０によって撮像された画像データに基づき、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄにおける欠陥の有無を検査するためのプログラムなどが、予め格納されている。
さらに、制御部５０には、撮像手段２０、第１照明手段３０、及び第２照明手段４０等と接続されるインターフェースなどが、設けられている。
また、上記記憶部には、欠陥検査装置１全体の動作を制御するプログラム、及び撮像手段２０によって撮像された画像データに基づき、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄにおける欠陥の有無を検査するためのプログラムなどが、予め格納されている。
さらに、制御部５０には、撮像手段２０、第１照明手段３０、及び第２照明手段４０等と接続されるインターフェースなどが、設けられている。
【0044】
なお、制御部５０には、例えばタッチパネル等からなる入力手段や、モニター等からなる出力手段などが、備えられていてもよい。
【0045】
そして、制御部５０は、以下の手順に従い、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄにおける欠陥の有無を検査し、当該外周端面Ｇｄの状態を判定する。
【0046】
即ち、撮像手段２０によって撮像された、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄを含む画像データが制御部５０に送信されると、制御部５０は、当該画像データに二値化処理を施し、当該外周端面Ｇｄの形状をトレースした輪郭線を抽出する。
【0047】
そして、制御部５０は、抽出された輪郭線上において破断個所の有無を確認し、当該破断個所が確認された場合には、ガラス基板の外周端面Ｇｄに傷や欠けや汚れ等の欠陥が存在すると判断し、また、当該破断個所が確認されず輪郭線が連続している場合には、ガラス基板の外周端面Ｇｄに欠陥が存在しないと判断する。
【0048】
【0049】
ステージ１０は、前述したように、傾斜した縦姿勢の状態で、ガラス基板Ｇを支持するものである。
ステージ１０は、図２に示すように、ステージ基板１１と、複数（２個）の支持ピン１２・１２とを備える。
ステージ１０は、図２に示すように、ステージ基板１１と、複数（２個）の支持ピン１２・１２とを備える。
【0050】
ステージ基板１１は、ガラス基板Ｇの主面における有効面（外周縁部Ｇｃを除いた領域）との接触を回避するべく、例えば本実施形態においては、略Ｃ字形状の板状部材からなる。
また、ステージ基板１１は、ステージ１０によって支持されたガラス基板Ｇの外周縁部Ｇｃに向かって突出する、複数（本実施形態においては、５個）の突出部位１１ａ・１１ａ・・・を有する。
また、ステージ基板１１は、ステージ１０によって支持されたガラス基板Ｇの外周縁部Ｇｃに向かって突出する、複数（本実施形態においては、５個）の突出部位１１ａ・１１ａ・・・を有する。
【0051】
なお、ステージ基板１１の形状については、本実施形態に限定されるものではなく、上記複数の突出部位１１ａ・１１ａ・・・を有する形状であれば、何れのような形状であってもよい。
また、突出部位１１ａの個数についても、本実施形態に限定されるものではなく、例えば、分断された複数の突出部位１１ａ・１１ａ・・・を設けることなく、円環形状からなる連続した一つの突出部位を設けることとしてもよい。
また、突出部位１１ａの個数についても、本実施形態に限定されるものではなく、例えば、分断された複数の突出部位１１ａ・１１ａ・・・を設けることなく、円環形状からなる連続した一つの突出部位を設けることとしてもよい。
【0052】
各突出部位１１ａの突出端部は、ガラス基板Ｇの外周縁部Ｇｃに沿って円弧状に形成されている。
また、各突出部位１１ａの一方側（本実施形態においては、前側）の平面は、ステージ１０によって支持されるガラス基板Ｇの他方の主面側（本実施形態においては、後方の主面（裏面Ｇｂ）側。図１を参照）より、当該ガラス基板Ｇの外周縁部Ｇｃを支持する支持面１１ａ１として機能する。
また、各突出部位１１ａの一方側（本実施形態においては、前側）の平面は、ステージ１０によって支持されるガラス基板Ｇの他方の主面側（本実施形態においては、後方の主面（裏面Ｇｂ）側。図１を参照）より、当該ガラス基板Ｇの外周縁部Ｇｃを支持する支持面１１ａ１として機能する。
【0053】
そして、ステージ基板１１は、これら５個の突出部位１１ａ・１１ａ・・・の支持面１１ａ１・１１ａ１・・・（より具体的には、突出端部側の支持面１１ａ１）を、ガラス基板Ｇの裏面Ｇｂにおける外周縁部Ｇｃに各々接触させた状態で、当該ガラス基板Ｇを傾斜した縦姿勢の状態で支持する。
【0054】
ここで、図３（ａ）（ｂ）は、図２中の領域Ａによって示された突出部位１１ａの拡大図であるが、本図に示すように、ステージ１０によってガラス基板Ｇを支持した状態において、各突出部位１１ａの支持面１１ａ１には、当該ガラス基板Ｇの一方の主面側（表面Ｇａ側。図１を参照）から見て、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄと重なる位置に設けられ、且つ当該外周端面Ｇｄに沿って形成される溝部１１ｂが設けられている。
【0055】
その結果、各突出部位１１ａの支持面１１ａ１は、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄに沿って設けられ、且つ当該外周端面Ｇｄに対してガラス基板Ｇの中央側に離れた領域（以下、適宜「接触領域１１ｃ」と記載）を介して、ガラス基板Ｇと接触する。
また、各突出部位１１ａにおける支持面１１ａ１は、ガラス基板Ｇの一方の主面側（表面Ｇａ側）から見て、当該ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄと重なる位置に設けられ、且つ当該外周端面Ｇｄに沿って形成されるとともに、接触領域１１ｃに対して当該ガラス基板Ｇの他方の主面側（裏面Ｇｂ側）に離間した、溝部１１ｂの底面（以下、適宜「離間領域１１ｂ１」と記載）を有する。
また、各突出部位１１ａにおける支持面１１ａ１は、ガラス基板Ｇの一方の主面側（表面Ｇａ側）から見て、当該ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄと重なる位置に設けられ、且つ当該外周端面Ｇｄに沿って形成されるとともに、接触領域１１ｃに対して当該ガラス基板Ｇの他方の主面側（裏面Ｇｂ側）に離間した、溝部１１ｂの底面（以下、適宜「離間領域１１ｂ１」と記載）を有する。
【0056】
このような形状からなる溝部１１ｂを各突出部位１１ａに設けることにより、ガラス基板Ｇの表面Ｇａ側から見て、ステージ１０の支持面１１ａ１における接触領域１１ｃがガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄと重なるのを、当該溝部１１ｂを介してより確実に回避することができる。
【0057】
従って、撮像手段２０（図１を参照）によって撮像された画像データ上において、上記接触領域１１ｃに生じた欠陥に反射した反射光Ｌｃ（図４（ａ）を参考）が、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄと重なる位置に写り込むのを、より確実に抑制することができ、欠陥検査装置１を用いて、当該ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄにおける欠陥の有無を、安定して精度良く検査することができる。
【0058】
例えば、図４（ａ）は、溝部１１ｂが設けられていない従来のステージ１１０において、ガラス基板Ｇを支持した状態における、突出部位１１１ａの突出端部の近傍を撮像した画像データの一例を示したものであるが、本図に示すように、従来のステージ１１０においては、接触領域１１１ｃに生じた欠陥に反射した反射光Ｌｃが、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄと重なる位置に写り込み、当該ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄにおける欠陥の有無を、精度良く検査できない場合があった。
これに対して、図４（ｂ）は、本実施形態のステージ１０において、ガラス基板Ｇを支持した状態における、突出部位１１ａの突出端部の近傍を撮像した画像データの一例を示したものであるが、本図に示すように、溝部１１ｄが設けられているため、接触領域１１ｃに生じた欠陥に反射した反射光Ｌｃが、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄと重なる位置に写り込むこともなく、当該ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄにおける欠陥の有無を、安定して精度良く検査することができる。
これに対して、図４（ｂ）は、本実施形態のステージ１０において、ガラス基板Ｇを支持した状態における、突出部位１１ａの突出端部の近傍を撮像した画像データの一例を示したものであるが、本図に示すように、溝部１１ｄが設けられているため、接触領域１１ｃに生じた欠陥に反射した反射光Ｌｃが、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄと重なる位置に写り込むこともなく、当該ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄにおける欠陥の有無を、安定して精度良く検査することができる。
【0059】
なお、図３（ａ）に示すように、本実施形態においては、ステージ１０によってガラス基板Ｇを支持した状態において、ガラス基板Ｇの一方の主面側（表面Ｇａ側）から見た、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄと、接触領域１１ｃにおける当該外周端面Ｇｄ側の端面（以下、適宜「第１端面１１ｃ１」と記載）との間の寸法ｄ１が、０．５ｍｍ以上３ｍｍ以下に設定されている。
【0060】
ここで、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄと、接触領域１１ｃの第１端面１１ｃ１との間の寸法ｄ１が、０．５ｍｍ未満である場合（ｄ１＜０．５ｍｍ）、上記一方の主面側（表面Ｇａ側）から見て、たとえガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄに対して、接触領域１１ｃが離れた位置に設けられていても、撮像手段２０によって撮像された画像データ上において、当該接触領域１１ｃに生じた欠陥に反射した反射光Ｌｃが、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄと重なる位置に写り込むのを、確実に抑制することは困難である。
【0061】
一方、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄと、接触領域１１ｃの第１端面１１ｃ１との間の寸法ｄ１が、３ｍｍを超える場合（ｄ１＞０．５ｍｍ）、接触領域１１ｃは、ガラス基板Ｇに対して、上記有効面を除いた外周縁部Ｇｃの、限られた範囲内に設けられる必要があることから、接触領域１１ｃの接触面（即ち、ガラス基板Ｇの外周縁部Ｇｃと接触する面）を十分に確保することができず、ステージ１０によってガラス基板Ｇを安定して支持することが困難である。
【0062】
このようなことから、本実施形態においては、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄと、接触領域１１ｃの第１端面１１ｃ１との間の寸法ｄ１が、０．５ｍｍ以上３ｍｍ以下に設定されており（０．５ｍｍ≦ｄ１≦３ｍｍ）、撮像手段２０によって撮像された画像データ上において、当該接触領域１１ｃに生じた欠陥に反射した反射光Ｌｃが、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄと重なる位置に写り込むのを、より確実に抑制しつつ、ステージ１０によってガラス基板Ｇを安定して支持することができ、当該ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄにおける欠陥の有無を、より安定して精度良く検査することができる。
【0063】
また、本実施形態においては、各突出部位１１ａの支持面１１ａ１において、接触領域１１ｃにおける、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄ側の第１端面１１ｃ１と、当該ガラス基板Ｇの中央側の端面（以下、適宜「第２端面１１ｃ２」と記載）との間の幅寸法ｄ２は、０．５ｍｍ以上３ｍｍ以下に設定されている。
【0064】
ここで、接触領域１１ｃにおける第１端面１１ｃ１と第２端面１１ｃ２との間の幅寸法ｄ２が、０．５ｍｍ未満である場合（ｄ２＜０．５ｍｍ）、接触領域１１ｃの接触面（ガラス基板Ｇの外周縁部Ｇｃと接触する面）を十分に確保することができず、ステージ１０によってガラス基板Ｇを安定して支持することが困難である。
【0065】
一方、接触領域１１ｃにおける第１端面１１ｃ１と第２端面１１ｃ２との間の幅寸法ｄ２が、３ｍｍを超える場合（ｄ２＞３ｍｍ）、接触領域１１ｃは、ガラス基板Ｇに対して、上記有効面を除いた外周縁部Ｇｃの、限られた範囲内に設けられる必要があることから、ガラス基板Ｇの表面Ｇａ側から見て、当該ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄに対して、接触領域１１ｃを十分に離れた位置に設けることが困難であり、撮像手段２０によって撮像された画像データ上において、当該接触領域１１ｃに生じた欠陥に反射した反射光Ｌｃが、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄと重なる位置に写り込むのを、確実に抑制することは困難である。
【0066】
このようなことから、本実施形態においては、接触領域１１ｃにおける第１端面１１ｃ１と第２端面１１ｃ２との間の幅寸法ｄ２が、０．５ｍｍ以上３ｍｍ以下に設定されており（０．５ｍｍ≦ｄ２≦３ｍｍ）、ステージ１０によってガラス基板Ｇを安定して支持しつつ、撮像手段２０によって撮像された画像データ上において、当該接触領域１１ｃに生じた欠陥に反射した反射光Ｌｃが、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄと重なる位置に写り込むのを、より確実に抑制することができ、当該ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄにおける欠陥の有無を、より安定して精度良く検査することができる。
【0067】
さらに、図３（ｂ）に示すように、本実施形態においては、ステージ１０によってガラス基板Ｇを支持した状態において、各突出部位１１ａにおける支持面１１ａ１が、ガラス基板Ｇの一方の主面側（表面Ｇａ側）から見て、当該ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄと重なる位置に設けられ、且つ当該外周端面Ｇｄに沿って形成されるとともに、接触領域１１ｃに対して、当該ガラス基板Ｇの他方の主面側（裏面Ｇｂ側）に離間した離間領域１１ｂ１を有し、接触領域１１ｃと離間領域１１ｂ１との間の離間寸法ｈは、１ｍｍ以上に設定されている（Ｈ≦１ｍｍ）。
【0068】
ここで、接触領域１１ｃと離間領域１１ｂ１との間の離間寸法ｈが１ｍｍ未満である場合（ｈ＜１ｍｍ）、たとえガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄに対して、離間領域１１ｂ１がガラス基板Ｇの裏面Ｇｂ側に離れた位置に設けられていても、撮像手段２０によって撮像された画像データ上において、当該離間領域１１ｂ１に生じた欠陥に反射した反射光Ｌｃが、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄと重なる位置に写り込むのを、確実に抑制することは困難である。
【0069】
このようなことから、本実施形態においては、接触領域１１ｃと離間領域１１ｂ１との間の離間寸法ｈが１ｍｍ以上に設定されており（ｈ≦１ｍｍ）、撮像手段２０によって撮像された画像データ上において、当該離間領域１１ｂ１に生じた欠陥に反射した反射光Ｌｃが、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄと重なる位置に写り込むのを、より確実に抑制することができ、当該ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄにおける欠陥の有無を、より安定して精度良く検査することができる。
【0070】
図２において、２個の支持ピン１２・１２は、丸棒部材によって各々形成されており、ステージ１０によって縦姿勢の状態で支持されるガラス基板Ｇに対して、当該ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄの下部側と当接可能に、ステージ基板１１に固定される。
【0071】
以上のように、本実施形態における欠陥検査装置１は、ガラス基板Ｇの欠陥を検査するガラス基板Ｇの欠陥検査装置であって、ガラス基板Ｇを支持するステージ１０と、ステージ１０によって支持されたガラス基板Ｇを一方の主面（表面Ｇａ）側から撮像する撮像手段２０と、撮像手段２０によって撮像された画像データに基づき、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄの状態を判定する制御部５０とを備えている。
また、ステージ１０は、ガラス基板Ｇの他方の主面（裏面Ｇｂ）側より当該ガラス基板Ｇの外周縁部Ｇｃを支持する支持面１１ａ１を有している。
また、ステージ１０は、ガラス基板Ｇの他方の主面（裏面Ｇｂ）側より当該ガラス基板Ｇの外周縁部Ｇｃを支持する支持面１１ａ１を有している。
【0072】
そして、支持面１１ａ１は、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄに沿って設けられ、且つ当該外周端面Ｇｄに対してガラス基板Ｇの中央側に離れた位置にて、ガラス基板Ｇと接触する接触領域１１ｃを有する構成となっている。
【0073】
このような構成からなる、本実施形態における欠陥検査装置１によれば、ガラス基板Ｇの外周縁部Ｇｃを支持するステージ１０の支持面１１ａ１において、当該ガラス基板Ｇと接触する接触領域１１ｃが、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄに対して、当該ガラス基板Ｇの中央側に離れた位置に設けられることとなり、例えば、経年変化等による塗装の剥離や細かい傷等の欠陥が当該接触領域１１ｃに生じた場合であっても、画像データ上において、当該欠陥に反射した反射光Ｌｃが、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄと重なる位置に写り込むのを抑制することができる。
【0074】
従って、例えば二値化処理が施された画像データ上において、抽出されたガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄの輪郭線上に、反射光Ｌｃを要因とする破断個所が発生するのを防止し、ガラス基板Ｇの外周端面Ｇｄにおける欠陥の有無を、精度良く検査することができる。
【実施例0075】
【0076】
［ステージ１０の準備］
先ず始めに、本実施例として、図３（ａ）（ｂ）に示すような、各突出部位１１ａの支持面１１ａ１に溝部１１ｂが設けられたステージ１０を準備した。
上記溝部１１ｂにおいて、前述した寸法ｄ１は約１．５ｍｍに設定し（ｄ１＝１．５ｍｍ）、幅寸法ｄ２は約２．８ｍｍに設定し（ｄ２＝２．８ｍｍ）、離間寸法ｈは６ｍｍに設定することとした（ｈ＝６ｍｍ）。
先ず始めに、本実施例として、図３（ａ）（ｂ）に示すような、各突出部位１１ａの支持面１１ａ１に溝部１１ｂが設けられたステージ１０を準備した。
上記溝部１１ｂにおいて、前述した寸法ｄ１は約１．５ｍｍに設定し（ｄ１＝１．５ｍｍ）、幅寸法ｄ２は約２．８ｍｍに設定し（ｄ２＝２．８ｍｍ）、離間寸法ｈは６ｍｍに設定することとした（ｈ＝６ｍｍ）。
【0077】
一方、比較例として、各突出部位１１ａの支持面１１ａ１に溝部１１ｂが設けられていない、従来のステージを準備した。
【0078】
［検査対象物の準備］
次に、検査対象物として、複数枚のガラス基板Ｇ・Ｇ・・・を準備した。
各ガラス基板Ｇについては、厚みが０．４ｍｍであり、且つ直径が２００ｍｍである、円盤形状のガラス基板を採用することとした。
次に、検査対象物として、複数枚のガラス基板Ｇ・Ｇ・・・を準備した。
各ガラス基板Ｇについては、厚みが０．４ｍｍであり、且つ直径が２００ｍｍである、円盤形状のガラス基板を採用することとした。
【0079】
［欠陥検査の実施］
そして、準備された実施例のステージ１０、及び従来のステージを欠陥検査装置１に各々順に取り付け、下記の要領に従い、複数枚のガラス基板Ｇ・Ｇ・・に対する欠陥検査を行った。
そして、準備された実施例のステージ１０、及び従来のステージを欠陥検査装置１に各々順に取り付け、下記の要領に従い、複数枚のガラス基板Ｇ・Ｇ・・に対する欠陥検査を行った。
【0080】
＜実施例のステージ１０を用いた欠陥検査＞
実施例のステージ１０が取り付けられた欠陥検査装置１においては、サンプル数として１７９０枚のガラス基板Ｇ・Ｇ・・・を用意し、各ガラス基板Ｇにおける外周端面Ｇｄの欠陥の有無を各々検査した。
上記欠陥の有無の検査については、先ず始めに、欠陥検査装置１による画像検査によって行い、その後、画像検査によって欠陥が有りと判定されたガラス基板Ｇに対し、作業者による目視検査により行った。
＜従来のステージを用いた欠陥検査＞
従来のステージが取り付けられた欠陥検査装置１においては、サンプル数として２０９４枚のガラス基板Ｇ・Ｇ・・・を用意し、各ガラス基板Ｇにおける外周端面Ｇｄの欠陥の有無を各々検査した。
上記欠陥の有無の検査については、実施例のステージ１０を用いた場合と同様とした。
実施例のステージ１０が取り付けられた欠陥検査装置１においては、サンプル数として１７９０枚のガラス基板Ｇ・Ｇ・・・を用意し、各ガラス基板Ｇにおける外周端面Ｇｄの欠陥の有無を各々検査した。
上記欠陥の有無の検査については、先ず始めに、欠陥検査装置１による画像検査によって行い、その後、画像検査によって欠陥が有りと判定されたガラス基板Ｇに対し、作業者による目視検査により行った。
＜従来のステージを用いた欠陥検査＞
従来のステージが取り付けられた欠陥検査装置１においては、サンプル数として２０９４枚のガラス基板Ｇ・Ｇ・・・を用意し、各ガラス基板Ｇにおける外周端面Ｇｄの欠陥の有無を各々検査した。
上記欠陥の有無の検査については、実施例のステージ１０を用いた場合と同様とした。
【0081】
［欠陥検査の結果］
実施例のステージ１０を用いた欠陥検査、及び従来のステージを用いた欠陥検査の結果を、表１及び表２に示す。
実施例のステージ１０を用いた欠陥検査、及び従来のステージを用いた欠陥検査の結果を、表１及び表２に示す。
【0082】
【表1】
【0083】
【表2】
【0084】
表１に示すように、実施例のステージ１０を用いた欠陥検査において、欠陥検査装置１による画像検査では、９２６枚のガラス基板Ｇが、外周端面Ｇｄに顕著な欠陥が見受けられず良品であると判定された。
サンプル数全体に対する良品判定数の割合（良品判定率）は５１．７％であった。
サンプル数全体に対する良品判定数の割合（良品判定率）は５１．７％であった。
【0085】
また、従来のステージを用いた欠陥検査において、欠陥検査装置１による画像検査では、４５３枚のガラス基板Ｇが、外周端面Ｇｄに顕著な欠陥が見受けられず良品であると判定された。
サンプル数全体に対する良品判定数の割合（良品判定率）は２１．６％であった。
サンプル数全体に対する良品判定数の割合（良品判定率）は２１．６％であった。
【0086】
一方、表２に示すように、実施例のステージ１０を用いた欠陥検査によって欠陥が有りと判定され、目視検査が行われたガラス基板Ｇの枚数（判定個数）は、８６４枚であった。
上記作業者による目視検査では、７１３枚のガラス基板Ｇが、外周端面Ｇｄに顕著な欠陥が見受けられず良品であると判定された。
サンプル数全体に対する目視検査の良品判定数の割合（良品判定率）は３９．８％であった。
上記作業者による目視検査では、７１３枚のガラス基板Ｇが、外周端面Ｇｄに顕著な欠陥が見受けられず良品であると判定された。
サンプル数全体に対する目視検査の良品判定数の割合（良品判定率）は３９．８％であった。
【0087】
また、従来のステージを用いた欠陥検査によって欠陥が有りと判定され、目視検査が行われたガラス基板Ｇの枚数（判定個数）は、１６４１枚であった。
上記作業者による目視検査では、１４４１枚のガラス基板Ｇが、外周端面Ｇｄに顕著な欠陥が見受けられず良品であると判定された。
サンプル数全体に対する目視検査の良品判定数の割合（良品判定率）は６８．８％であった。
上記作業者による目視検査では、１４４１枚のガラス基板Ｇが、外周端面Ｇｄに顕著な欠陥が見受けられず良品であると判定された。
サンプル数全体に対する目視検査の良品判定数の割合（良品判定率）は６８．８％であった。
【0088】
表１及び表２において、実施例のステージ１０を用いた欠陥検査の場合、画像検査による良品判定率（５１．７％）は、目視検査による良品判定率（３９．８％）に比べて高く、欠陥検査装置１による欠陥検査の精度は高いと言える。
一方、従来のステージを用いた欠陥検査の場合、画像検査による良品判定率（２１．６％）は、目視検査による良品判定率（６８．８％）に比べて低く、欠陥検査装置１による欠陥検査の精度は、実施例のステージ１０を用いた欠陥検査の場合と比べて、やや低いと言える。
そして、実施例のステージ１０を用いた欠陥検査の場合、画像検査による良品判定率は、従来のステージを用いた欠陥検査の場合と比べて、約３０％向上している。
一方、従来のステージを用いた欠陥検査の場合、画像検査による良品判定率（２１．６％）は、目視検査による良品判定率（６８．８％）に比べて低く、欠陥検査装置１による欠陥検査の精度は、実施例のステージ１０を用いた欠陥検査の場合と比べて、やや低いと言える。
そして、実施例のステージ１０を用いた欠陥検査の場合、画像検査による良品判定率は、従来のステージを用いた欠陥検査の場合と比べて、約３０％向上している。
【0089】
以上、本願の実施の形態について説明を行ったが、本願はこうした実施の形態に何等限定されるものではなく、あくまで例示であって、本願の要旨を逸脱しない範囲内において、さらに種々なる形態で実施し得ることは勿論のことであり、本願の範囲は、特許請求の範囲の記載によって示され、さらに特許請求の範囲に記載の均等の意味、及び範囲内のすべての変更を含む。
【符号の説明】
【0090】
１ 欠陥検査装置
１０ ステージ
１１ａ１ 支持面
１１ｂ 溝部
１１ｂ１ 離間領域
１１ｃ 接触領域
１１ｃ１ 第１端面
１１ｃ２ 第２端面
２０ 撮像手段
５０ 制御部
ｄ１ 寸法
ｄ２ 幅寸法
Ｇ ガラス基板
Ｇａ 表面（一方の主面）
Ｇｂ 裏面（他方の主面）
Ｇｃ 外周縁部
Ｇｄ 外周端面
ｈ 離間寸法
Ｓ０１ 成形工程
Ｓ０２ 検査工程
１０ ステージ
１１ａ１ 支持面
１１ｂ 溝部
１１ｂ１ 離間領域
１１ｃ 接触領域
１１ｃ１ 第１端面
１１ｃ２ 第２端面
２０ 撮像手段
５０ 制御部
ｄ１ 寸法
ｄ２ 幅寸法
Ｇ ガラス基板
Ｇａ 表面（一方の主面）
Ｇｂ 裏面（他方の主面）
Ｇｃ 外周縁部
Ｇｄ 外周端面
ｈ 離間寸法
Ｓ０１ 成形工程
Ｓ０２ 検査工程
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】