特開 2025-9462 積層体、化粧材、転写シート及び積層体の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2025009462

(43)【公開日】2025-01-20

(54)【発明の名称】積層体、化粧材、転写シート及び積層体の製造方法

(51)【国際特許分類】

   B32B 3/30 20060101AFI20250110BHJP

   B32B 27/00 20060101ALI20250110BHJP

【ＦＩ】

B32B3/30

B32B27/00 E

【審査請求】未請求

【請求項の数】10

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2023112483

(22)【出願日】2023-07-07

(71)【出願人】

【識別番号】000002897

【氏名又は名称】大日本印刷株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100120031

【弁理士】

【氏名又は名称】宮嶋 学

(74)【代理人】

【識別番号】100127465

【弁理士】

【氏名又は名称】堀田 幸裕

(74)【代理人】

【識別番号】100196047

【弁理士】

【氏名又は名称】柳本 陽征

(72)【発明者】

【氏名】西垣 亮介

(72)【発明者】

【氏名】桜井 玲子

(72)【発明者】

【氏名】西根 祥太

(72)【発明者】

【氏名】良波 梨紗

(72)【発明者】

【氏名】熊谷 勇樹

(72)【発明者】

【氏名】小紫 真友子

(72)【発明者】

【氏名】中村 晴香

(72)【発明者】

【氏名】岩田 真次

(72)【発明者】

【氏名】松村 夏美

【テーマコード（参考）】

4F100

【Ｆターム（参考）】

4F100AA20A

4F100AA20H

4F100AK01D

4F100AK01E

4F100AK07B

4F100AK25A

4F100AR00A

4F100AR00B

4F100AR00C

4F100AT00D

4F100BA02

4F100BA03

4F100BA04

4F100BA10D

4F100BA10E

4F100DD01B

4F100DD07A

4F100DD07E

4F100DD11A

4F100EH462

4F100EH46A

4F100EJ08E

4F100EJ391

4F100EJ54A

4F100GB07

4F100HB00C

4F100JB12E

4F100JB14A

4F100JN26A

4F100YY00

4F100YY00A

(57)【要約】      （修正有）

【課題】手で触れることにより知覚できる凹部を有しながらも全体として滑らかな触感を有する艶消物品を提供する。
【解決手段】積層体２０は、第１面２０ａ及び第２面２０ｂを含み、第２面から第１面に向けてベース層３０及び艶消層４０をこの順に備え、艶消層は、第１面を構成するシワ構造４５を有し、ベース層は、艶消層を向く面に凹部３２を有し、凹部と重なる位置における第１面に表面凹部４９が形成され、第１面は、表面凹部が位置する第１領域Ａ１と、表面凹部が位置しない第２領域Ａ２とを含み、第１領域Ａ１における、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２０１３に規定される平均長さＲＳｍの値をＲＳｍ１とし、第２領域Ａ２における平均長さの値をＲＳｍ２としたときに、ＲＳｍ１のＲＳｍ２に対する比（ＲＳｍ１／ＲＳｍ２）の値の最大値およびＲＳｍ２のＲＳｍ１に対する比（ＲＳｍ２／ＲＳｍ１）の値の最大値は１．５以下である。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

第１面及び第２面を含み、前記第２面から前記第１面に向けてベース層及び艶消層をこの順に備えた積層体であって、
前記艶消層は、前記第１面を構成するシワ構造を有し、
前記ベース層は、前記艶消層を向く面に凹部を有し、
前記凹部と重なる位置における前記第１面に表面凹部が形成され、
前記第１面は、前記表面凹部が位置する第１領域と、前記表面凹部が位置しない第２領域とを含み、
前記第１領域における、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２０１３に規定される平均長さＲＳｍの値をＲＳｍ１とし、前記第２領域における、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２０１３に規定される平均長さＲＳｍの値をＲＳｍ２としたときに、
ＲＳｍ１のＲＳｍ２に対する比（ＲＳｍ１／ＲＳｍ２）の値の最大値およびＲＳｍ２のＲＳｍ１に対する比（ＲＳｍ２／ＲＳｍ１）の値の最大値は１．５以下である、積層体。

【請求項2】

前記第１領域と前記第２領域の高低差が１０μｍ以上である、請求項１に記載の積層体。

【請求項3】

１０ｍｍの間隔をあけて一直線上に並ぶ２０の測定位置にて測定された、ＪＩＳ Ｚ８７４１：１９９７に規定される６０°鏡面光沢度の２０の測定値のうちの、最も大きい方から５つの測定値及び最も小さい方から５つの測定値を除いた１０の測定値の標準偏差は０．５以下である、請求項１に記載の積層体。

【請求項4】

絵柄を有する絵柄層を更に備え、
前記第１領域及び前記第２領域は、前記絵柄に応じて配置される、請求項１に記載の積層体。

【請求項5】

請求項１～４のいずれか一項に記載の積層体と、
前記積層体と積層された支持材と、を備える、化粧材。

【請求項6】

前記支持材は建築材である、請求項５に記載の化粧材。

【請求項7】

請求項１～４のいずれか一項に記載の積層体と、
前記積層体と積層された成形樹脂部と、を備える、化粧材。

【請求項8】

請求項１～３のいずれか一項に記載の積層体と、
電離放射線硬化型樹脂の硬化物を含む硬化樹脂層と、を備え、
前記硬化樹脂層は、前記第１面に接触してシワ構造を有する、転写シート。

【請求項9】

絵柄を有する絵柄層を更に備え、
前記硬化樹脂層は、前記絵柄層及び前記積層体の間に位置する、請求項８に記載の転写シート。

【請求項10】

凹部を有する第１面を有するベース層と、前記第１面と対面して配置された艶消層とを備えた積層体の製造方法であって、
前記凹部を覆うように前記ベース層に前記艶消層を積層する工程であって、前記凹部と重なる位置における前記ベース層と反対に位置する面に表面凹部が形成される工程と、
前記艶消層に、１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の波長を有する光を照射する工程と、を備える、積層体の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、積層体、化粧材、転写シート及び積層体の製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

艶消物品を作製する方法として、エキシマ光等の光を用いて樹脂の表面にシワ構造を有する凹凸面を形成する方法が提案されている。このような凹凸面の製造方法の一例が、特許文献１に開示されている。特許文献１では、まず、光硬化性を有する樹脂からなる塗膜の表面にエキシマ光を照射する。その後、当該塗膜に紫外線を照射して塗膜の全体を硬化させる。これにより、塗膜の表面にシワ構造が形成される。特許文献１では、このようにして形成されたシワ構造により、低光沢性を有する塗膜が得られる。また、表面にこのような凹凸面を有する艶消物品は、滑らかな触感を提供する。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０２１－２４１０２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

人が触れることができる箇所で用いられる艶消物品では、手で触れることにより知覚できる凹部を当該艶消物品に形成したいというニーズがある。このような艶消物品では、凹部の存在により所望の触感を提供できる。艶消剤を用いて艶消しされた従来の艶消物品は、全体的に荒い触感を有している。すなわち、従来の艶消物品では、凹部により所望の触感を提供できたとしても、滑らかな触感を提供することはできない。

【0005】

エキシマ光等の光を用いて表面にシワ構造が形成された艶消物品に凹部を形成することも考えられる。しかし、シワ構造を有する表面にエンボスなどの手法により凹部を形成すると、シワ構造が潰れるおそれがある。この場合、シワ構造が潰れた部分の艶消効果が低減する。これにより、所望の意匠が得られなくなる。したがって、表面に手で触れることにより知覚できる凹部を形成しながらも、全体として滑らかな触感を有する艶消物品を作製することは困難である。

【0006】

本開示の実施形態は、手で触れることにより知覚できる凹部を有しながらも全体として滑らかな触感を有する艶消物品を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本開示の一実施形態による積層体は、
［１］ 第１面及び第２面を含み、前記第２面から前記第１面に向けてベース層及び艶消層をこの順に備えた積層体であって、
前記艶消層は、前記第１面を構成するシワ構造を有し、
前記ベース層は、前記艶消層を向く面に凹部を有し、
前記凹部と重なる位置における前記第１面に表面凹部が形成され、
前記第１面は、前記表面凹部が位置する第１領域と、前記表面凹部が位置しない第２領域とを含み、
前記第１領域における、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２０１３に規定される平均長さＲＳｍの値をＲＳｍ１とし、前記第２領域における、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２０１３に規定される平均長さＲＳｍの値をＲＳｍ２としたときに、
ＲＳｍ１のＲＳｍ２に対する比（ＲＳｍ１／ＲＳｍ２）の値の最大値およびＲＳｍ２のＲＳｍ１に対する比（ＲＳｍ２／ＲＳｍ１）の値の最大値は１．５以下である、積層体、である。

【0008】

本開示の一実施形態による積層体は、
［２］ 前記第１領域と前記第２領域の高低差が１０μｍ以上である、［１］に記載の積層体、である。

【0009】

本開示の一実施形態による積層体は、
［３］ １０ｍｍの間隔をあけて一直線上に並ぶ２０の測定位置にて測定された、ＪＩＳ Ｚ８７４１：１９９７に規定される６０°鏡面光沢度の２０の測定値のうちの、最も大きい方から５つの測定値及び最も小さい方から５つの測定値を除いた１０の測定値の標準偏差は０．５以下である、［１］又は［２］に記載の積層体、である。

【0010】

本開示の一実施形態による積層体は、
［４］ 絵柄を有する絵柄層を更に備え、
前記第１領域及び前記第２領域は、前記絵柄に応じて配置される、［１］～［３］のいずれか１つに記載の積層体、である。

【0011】

本開示の一実施形態による化粧材は、
［５］ ［１］～［４］のいずれか１つに記載の積層体と、
前記積層体と積層された支持材と、を備える、化粧材、である。

【0012】

本開示の一実施形態による化粧材は、
［６］ 前記支持材は建築材である、［５］に記載の化粧材、である。

【0013】

本開示の一実施形態による化粧材は、
［７］ ［１］～［４］のいずれか１つに記載の積層体と、
前記積層体と積層された成形樹脂部と、を備える、化粧材、である。

【0014】

本開示の一実施形態による転写シートは、
［８］ ［１］～［３］のいずれか１つに記載の積層体と、
電離放射線硬化型樹脂の硬化物を含む硬化樹脂層と、を備え、
前記硬化樹脂層は、前記第１面に接触してシワ構造を有する、転写シート、である。

【0015】

本開示の一実施形態による転写シートは、
［９］ 絵柄を有する絵柄層を更に備え、
前記硬化ベース層は、前記絵柄層及び前記積層体の間に位置する、［８］に記載の転写シート、である。

【0016】

本開示の一実施形態による積層体の製造方法は、
［１０］ 凹部を有する第１面を有するベース層と、前記第１面と対面して配置された艶消層とを備えた積層体の製造方法であって、
前記凹部を覆うように前記ベース層に前記艶消層を積層する工程であって、前記凹部と重なる位置における前記ベース層と反対に位置する面に表面凹部が形成される工程と、
前記艶消層に、１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の波長を有する光を照射する工程と、を備える、積層体の製造方法、である。

【発明の効果】

【0017】

本開示の一実施形態によれば、手で触れることにより知覚できる凹部を有しながらも全体として滑らかな触感を有する艶消物品を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【0018】

【図1】図１は、本開示の一実施形態を説明する図であって、積層体を備えた化粧材の一例を示す断面図である。

【図2】図２は、積層体のシワ構造の一例を示す平面写真である。

【図3】図３は、積層体の製造方法の一例を説明する断面図である。

【図4】図４は、積層体の製造方法の一例を説明する断面図である。

【図5】図５は、積層体の製造方法の一例を説明する断面図である。

【図6】図６は、積層体の製造方法の一例を説明する断面図である。

【図7】図７は、積層体を備えた化粧材の他の例を示す断面図である。

【図8】図８は、転写シートの製造方法の一例を示す断面図である。

【図9】図９は、積層体を有する転写シートの一例を示す断面図である。

【図10】図１０は、転写シートを用いて製造された転写済みシートの一例を示す断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0019】

以下、図面を参照して本開示の実施形態について説明する。本明細書に添付する図面における縦横の寸法比等は、実物の寸法比等から変更されている。なお、以下に示す実施形態は、本開示の実施形態の一例である。したがって、本開示はこれらの実施形態に限定して解釈されるべきではない。

【0020】

本明細書において、「板」、「シート」、「フィルム」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されない。例えば、「シート」は、「板」又は「フィルム」と呼ばれる部材も含む。

【0021】

また、「シート面」とは、対象となるシート状の部材を全体的に見た場合に、対象となるシート状の部材が延びる方向と一致する面を指す。また、シート状の部材に対して用いる法線方向とは、当該部材のシート面に対する法線が延びる方向を指す。「板面」、「フィルム面」等の用語についても同様である。

【0022】

本明細書において、「平面視」とは、対象となるシート状（板状、フィルム状）の部材を当該部材の法線方向から見た状態を指す。例えば、ある板状の部材が「平面視において矩形状の形状を有する」とは、当該部材をその板面に対する法線方向から見たときに、当該部材が矩形状の形状を有することを意味する。

【0023】

本明細書において用いる、形状、幾何学的条件及び物理的特性並びにそれらの程度を特定する用語は、厳密にその範囲に限定されず、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含む。これらの用語には、例えば、「平行」、「直交」、「同一」等の用語が含まれる。長さ、角度、面積、体積、重さ及び物理的特性の値が指す範囲は、厳密にその範囲に限定されず、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含む。ただし、特に厳格に解釈すべき旨の記載がある場合を除く。

【0024】

本開示の実施形態の積層体２０は、例えば、建築物の内装及び外装、建具、家具及び家電等の表面、車両の内装等の最表層を構成する部材として用いられる。より詳細には、積層体２０は、例えば、壁、天井、床等の建築物の内装用部材、外壁、軒天井、屋根、塀、柵等の外装用部材、窓枠、扉、扉枠、手すり、幅木、廻り縁、モール等の建具又は造作部材、箪笥、棚、机等の一般家具、食卓、流し台等の厨房家具、家電、ＯＡ機器等のキャビネット等の表面化粧板、車両の内装、外装用部材に用いられてもよい。また、積層体２０は、包装材料、ディスプレイ用防眩フィルム、白板（ホワイトボード）又は黒板、クレジットカード、キャッシュカード、テレフォンカード、各種証明書類等の各種カード、各種キーボードの鍵盤、窓、扉、間仕切り等の透明板（窓硝子等）、人工皮革等に用いられてもよい。なお、積層体２０の用途は、ここに挙げたものに限られない。

【0025】

図１は、本開示の一実施形態を説明する図であって、積層体２０を備えた化粧材１０の一例を示す断面図である。本実施形態の化粧材１０は、支持材１２と、積層体２０とを含む。積層体２０は、支持材１２に積層されている。積層体２０は、第１面２０ａと第２面２０ｂとを含んでいる。第２面２０ｂは、支持材１２と対面する。第１面２０ａは、支持材１２と反対に位置する。第１面２０ａは、積層体２０の表面及び化粧材１０の表面を構成する。

【0026】

支持材１２は、積層体２０を支持する。支持材１２は、積層体２０の第２面２０ｂと対面して配置されている。支持材１２は、シート状の部材であってもよい。支持材１２の厚さは、１０μｍ以上１ｍｍ以下であってもよい。好ましくは、支持材１２の厚さは、２０μｍ以上３００μｍ以下であってもよい。支持材１２は、建築材であってもよい。建築材は、例えば、壁、天井、床等の建築物の内装用部材、外壁、軒天井、屋根、塀、柵等の外装用部材、窓枠、扉、扉枠、手すり、幅木、廻り縁、モール等の建具又は造作部材であってもよい。

【0027】

支持材１２の材料として、例えば、樹脂材料、金属材料、繊維質材料を用いてもよい。樹脂材料は、例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のオレフィン樹脂、ポリ塩化ビニル等の塩化ビニル樹脂、アクリル樹脂であってもよい。金属材料は、例えば、アルミニウム、鉄、銅、金、銀、クロム、ニッケル、コバルト、錫、チタニウム又はこれらの合金であってもよい。繊維質材料は、例えば、紙、織布、不織布又はこれらに樹脂を含侵させたものであってもよい。支持材１２は、これらの材料により構成される１層のみを含んでもよい。また、支持材１２は、これらの材料により構成される複数の層を含んでもよい。支持材１２が複数の層を含む場合、互いに異なる材料からなる複数の層を含んでもよい。

【0028】

積層体２０は、第２面２０ｂから第１面２０ａに向けてベース層３０及び艶消層４０をこの順に備えている。とりわけ、本実施形態では、積層体２０は、意匠層５０と、接着層５８とをさらに備えている。図１に示された例では、第２面２０ｂから第１面２０ａに向けて、意匠層５０、接着層５８、ベース層３０及び艶消層４０をこの順に備えている。なお、意匠層５０及び接着層５８は、いずれも積層体２０に不可欠の構成要素ではない。積層体２０は、意匠層５０及び接着層５８の１つ以上を有しなくてもよい。また、積層体２０は、特定の機能を発揮することが意図された他の部材（層）を有してもよい。

【0029】

意匠層５０は、積層体２０を観察する観察者から視認されるべき意匠を表示する機能を有する。この意匠としては、例えば、絵、写真、図形、模様、マーク、文字、色彩等の絵柄であってもよい。意匠層５０は、単色の色彩の絵柄を意匠として表示するものであってもよい。一例として、意匠層５０が表示する意匠は、木目柄であってもよい。意匠層５０は、艶消層４０の第２面４０ｂと対面して配置されている。本実施形態では、意匠層５０は、支持材１２と艶消層４０との間に配置されている。意匠層５０の厚さは、０．５μｍ以上２０μｍ以下であってもよい。好ましくは、意匠層５０の厚さは、１μｍ以上１０μｍ以下であってもよい。さらに好ましくは、意匠層５０の厚さは、２μｍ以上５μｍ以下であってもよい。

【0030】

意匠層５０は、着色層５２と、絵柄層５４とを含んでもよい。着色層５２は、支持材１２の表面の全面に所望の色彩を付与する層である。着色層５２は、いわゆるベタ層であってもよい。着色層５２は、単一の色彩を有してもよい。また、着色層５２は、複数の色で構成される模様を有してもよい。絵柄層５４は、意匠層５０が表示すべき意匠を構成する層である。着色層５２及び絵柄層５４は、それぞれインキを用いて、塗布、印刷等により形成され得る。インキとしては、例えば、バインダー樹脂と、顔料、染料等の着色剤とを含むものが使用され得る。なお、意匠層５０は、着色層５２及び絵柄層５４のいずれか一方のみを有してもよい。すなわち、意匠層５０は、着色層５２のみを有してもよく、絵柄層５４のみを有してもよい。

【0031】

接着層５８は、意匠層５０とベース層３０とを互いに接着する機能を有する。積層体２０が意匠層５０を有しない場合には、接着層５８は、支持材１２とベース層３０とを互いに接着してもよい。接着層５８の材料として、例えば、ウレタン系接着剤、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、ゴム系接着剤等の接着剤を用いてもよい。接着層５８の厚さは、０．１μｍ以上３０μｍ以下であってもよい。好ましくは、接着層５８の厚さは、１μｍ以上１５μｍ以下であってもよい。さらに好ましくは、接着層５８の厚さは、２μｍ以上１０μｍ以下であってもよい。

【0032】

ベース層３０は、艶消層４０を支持する。ベース層３０は、艶消層４０の第２面４０ｂと対面して配置されている。本実施形態では、ベース層３０は、意匠層５０と艶消層４０との間に配置されている。ベース層３０は、艶消層４０を向く第１面３０ａと、艶消層４０と反対を向く第２面３０ｂとを含んでいる。図１に示された例では、艶消層４０の第２面４０ｂとベース層３０の第１面３０ａとが互いに対面している。

【0033】

ベース層３０は、樹脂材料で形成されてもよい。樹脂材料は、例えば、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン樹脂（ＡＢＳ樹脂）、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂等であってもよい。ベース層３０は、紫外線吸収剤、光安定剤等の耐候剤、また着色剤等の添加剤を含有してもよい。ベース層３０の厚さは、１０μｍ以上３００μｍ以下であってもよい。好ましくは、ベース層３０の厚さは、２０μｍ以上２００μｍ以下であってもよい。さらに好ましくは、ベース層３０の厚さは、３０μｍ以上１５０μｍ以下であってもよい。

【0034】

ベース層３０のＪＩＳ Ｋ７３７５：２００８に規定される全光線透過率は、５０％以上であってもよい。好ましくは、ベース層３０の可視光透過率は、８０％以上であってもよい。

【0035】

図１に示されているように、ベース層３０の第１面３０ａには、凹部３２が形成されている。後述するように、凹部３２と重なる位置における積層体２０の第１面２０ａには、表面凹部４９が形成される。表面凹部４９に手で触れた人は、当該表面凹部４９の存在を知覚できる。したがって、凹部３２は、積層体２０の第１面２０ａに触れた人に対して表面凹部４９の存在を知覚させることが意図された部分に配置される。例えば、意匠層の絵柄が木目模様を形成している場合、導管に対応する部分に凹部３２が形成されてもよい。

【0036】

凹部３２の深さＤ３２は１０μｍ以上１５０μｍ以下であってもよい。好ましくは、深さＤ３２は、２０μｍ以上１００μｍ以下であってもよい。さらに好ましくは、深さＤ３２は、３０μｍ以上８０μｍ以下であってもよい。深さＤ３２は、以下のように測定される。ベース層３０の厚さ方向に沿った断面において、光学顕微鏡を用いてベース層３０を観察する。測定対象となる凹部３２に隣接した、凹部３２が存在しない領域における第１面３０ａから、凹部３２における最も深さの大きい箇所までの、ベース層３０の法線方向に沿った長さを深さＤ３２とする。凹部３２の深さＤ３２が１０μｍ以上であることにより、積層体２０の第１面２０ａに手で触れた際に凹部３２の存在が適切に知覚される。

【0037】

凹部３２の幅Ｗ３２は５０μｍ以上１０００μｍ以下であってもよい。好ましくは、幅Ｗ３２は、１００μｍ以上８００μｍ以下であってもよい。さらに好ましくは、幅Ｗ３２は、２００μｍ以上６００μｍ以下であってもよい。

【0038】

ベース層３０の平面視において、凹部３２が線状に延びている場合、すなわち凹部３２が明確な長手方向を有する場合、幅Ｗ３２は、凹部３２の延びる方向と直交し且つベース層３０のシート面に平行な方向に沿って測定される。凹部３２の幅がベース層３０の厚さ方向に沿って変化している場合には、厚さ方向に沿って変化する幅の値のうち最大の幅の値を、凹部３２の幅Ｗ３２とする。

【0039】

ベース層３０の平面視において、凹部３２が明確な長手方向を有しない場合には、幅Ｗ３２は、以下のように測定される。ベース層３０の平面視において、凹部３２を任意の互いに平行な２本の直線で挟んで、その２本の直線間の距離を測定する。２本の直線間の距離は、２本の直線間の最短距離である。ベース層３０のシート面内において２本の直線の角度を変更して、その２本の直線間の距離を測定し、２本の直線間の距離の最大値を、凹部３２の幅Ｗ３２とする。

【0040】

凹部３２は、例えば、エンボス加工、賦形、サンドブラスト、エッチング等によって、形成される。

【0041】

ベース層３０と艶消層４０との間の密着性を向上させるために、ベース層３０と艶消層４０との間にプライマー層が設けられてもよい。プライマー層は、例えば、樹脂材料で形成される。樹脂材料は、ウレタン樹脂、アクリルポリオール樹脂、アクリル樹脂、エステル樹脂、アミド樹脂、ブチラール樹脂、スチレン樹脂、ウレタン－アクリル共重合体、ポリカーボネート系ウレタン－アクリル共重合体、塩化ビニル－酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル－酢酸ビニル－アクリル共重合体樹脂、塩素化プロピレン樹脂、ニトロセルロース樹脂、酢酸セルロース樹脂等の樹脂であってもよい。プライマー層は、必要に応じて、紫外線吸収剤、光安定剤等の添加剤を含有してもよい。プライマー層の厚さは、０．１μｍ以上１０μｍ以下であってもよい。好ましくは、プライマー層の厚さは、１μｍ以上８μｍ以下であってもよい。さらに好ましくは、プライマー層の厚さは、２μｍ以上６μｍ以下であってもよい。

【0042】

艶消層４０は、積層体２０の表面（第１面２０ａ）における艶消効果を発揮する層である。艶消層４０は、第１面４０ａと、第２面４０ｂとを含む。第１面４０ａ及び第２面４０ｂは、互いに反対を向く。積層体２０が支持材１２を有している場合、第１面４０ａは支持材１２と反対に向き、第２面４０ｂは支持材１２に向く。第１面４０ａは、艶消層４０の表面を構成するとともに、積層体２０の第１面２０ａを構成する。第１面４０ａは、微細な凹凸を有する面、いわゆるマット面である。艶消層４０に入射した光は、この第１面４０ａで乱反射して拡散する。これにより、艶消層４０の表面における光沢が減少する。すなわち、艶消層４０において艶消効果が発揮される。

【0043】

本実施形態では、艶消層４０は、樹脂層４１と、複数の粒子４７とを含む。樹脂層４１は、艶消層４０の本体部分を構成する。第１面４０ａは、樹脂層４１の表面に形成される。すなわち、樹脂層４１が第１面４０ａを有する。第１面４０ａは、シワ構造４５を有する。複数の粒子４７は、第１面４０ａに特定のシワ構造４５を付与するためのシワ形成剤として機能する。

【0044】

シワ構造４５は、筋状の凹凸構造を含む構造である（図２を参照）。とりわけ、本実施形態のシワ構造４５は、筋状の凸部及び／又は筋状の凹部を含む。筋状の凸部及び／又は筋状の凹部は、平面視において不規則な形状を有して不規則に配置される。シワ構造４５は、湾曲した複数の筋状の凸部と、複数の凸部により囲まれて形成される凹部とを含んでもよい。また、シワ構造４５は、湾曲した複数の筋状の凹部と、複数の凹部により囲まれて形成される凸部とを含んでもよい。「湾曲」とは、平面視において、１つの筋状の凸部又は凹部の延びる方向が一方側から他方側に反転する反転部分を有することを意味する。シワ構造４５は、蛇行する筋状の凸部と、この蛇行する筋状の凸部に囲まれて形成される凹部とを含んでもよい。また、シワ構造４５は、蛇行する筋状の凹部と、この蛇行する筋状の凹部に囲まれて形成される凸部とを含んでもよい。「蛇行」とは、平面視において、１つの筋状の凸部又は凹部が２つ以上の反転部分を含み、１つの凸部又は凹部における隣り合う２つの反転部分において、凸部又は凹部の延びる方向が互いに逆向きに反転することを意味する。

【0045】

ベース層３０の凹部３２と重なる位置における、艶消層４０の第１面４０ａには、表面凹部４９が形成されている。上述のように、艶消層４０の第１面４０ａが積層体２０の第１面２０ａを構成する。本明細書において、艶消層４０の第１面４０ａ及び積層体２０の第１面２０ａを、まとめて第１面２０ａ，４０ａと記載することもある。表面凹部４９は、凹部３２の段差に追従して形成される凹部である。第１面２０ａ，４０ａは、表面凹部４９が位置する第１領域Ａ１と、表面凹部４９が位置しない第２領域Ａ２とを含む（図１参照）。シワ構造４５は、第１領域Ａ１及び第２領域Ａ２の全域にわたって形成されている。すなわち、第１領域Ａ１及び第２領域Ａ２には、シワ構造４５が形成されていない領域は含まない。

【0046】

表面凹部４９の深さＤ４９、すなわち、第１領域Ａ１と第２領域Ａ２の高低差は、シワ構造４５の凹部の深さよりも大きい。表面凹部４９の深さＤ４９は、１０μｍ以上１００μｍ以下であってもよい。好ましくは、深さＤ４９は、２０μｍ以上９０μｍ以下であってもよい。さらに好ましくは、深さＤ４９は、３０μｍ以上８０μｍ以下であってもよい。

【0047】

表面凹部４９の深さＤ４９の測定方法として、接触式表面粗さ・形状測定機を用いて、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２０１３の３．２．８に規定される「縦座標値」から算出する方法が用いられる。第２領域Ａ２および第１領域Ａ１内の高さは、当該領域内の皺形状以外に由来する勾配のない領域の縦座標値の平均をその領域の高さとし、この２つの高さの差を表面凹部４９の深さＤ４９として測定する。触針の形状および粗さ曲線の標準カットオフ値は、測定するサンプルの凹凸形状にしたがって適宜選択される。

【0048】

表面凹部４９の幅Ｗ４９は、シワ構造４５の凹部の幅よりも大きい。表面凹部４９の幅Ｗ４９は、５０μｍ以上１０００μｍ以下であってもよい。好ましくは、幅Ｗ４９は、１００μｍ以上８００μｍ以下であってもよい。さらに好ましくは、幅Ｗ４９は、２００μｍ以上６００μｍ以下であってもよい。

【0049】

艶消層４０の平面視において、表面凹部４９が線状に延びている場合、すなわち表面凹部４９が明確な長手方向を有する場合、幅Ｗ４９は、表面凹部４９の延びる方向と直交し且つ艶消層４０のシート面に平行な方向に沿って測定される。表面凹部４９の幅が艶消層４０の厚さ方向に沿って変化している場合には、厚さ方向に沿って変化する幅の値のうち最大の幅の値を、表面凹部４９の幅Ｗ４９とする。

【0050】

艶消層４０の平面視において、表面凹部４９が明確な長手方向を有しない場合には、幅Ｗ４９は、以下のように測定される。艶消層４０の平面視において、表面凹部４９を任意の互いに平行な２本の直線で挟んで、その２本の直線間の距離を測定する。２本の直線間の距離は、２本の直線間の最短距離である。艶消層４０のシート面内において２本の直線の角度を変更して、その２本の直線間の距離を測定し、２本の直線間の距離の最大値を、表面凹部４９の幅Ｗ４９とする。

【0051】

第１領域Ａ１における平均長さＲＳｍの値をＲＳｍ１とする。第２領域Ａ２における平均長さＲＳｍの値をＲＳｍ２とする。本明細書における平均長さＲＳｍは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２０１３の４．３．１に規定される「粗さ曲線要素の平均長さ」である。平均長さＲＳｍは、輪郭曲線の横方向のパラメータであり、基準長さにおける輪郭曲線要素の長さの平均である。平均長さＲＳｍの数値が小さいほど凸部及び凹部の幅が狭くなり、表面形状はより幅が狭い凸部及び凹部を有する傾向があることを示す。平均長さＲＳｍは、レーザー顕微鏡を用いて測定する。エンボスの表面が、錐形、台形のように一部または全域に傾斜した部分を有する場合、エンボス内部での測定は、傾斜した部分を含まず全面が一様に平らな領域を選んで測定を行う。

【0052】

ＲＳｍ１及びＲＳｍ２は、５μｍ以上２００μｍ以下であってもよい。好ましくは、ＲＳｍ１及びＲＳｍ２は、１０μｍ以上１５０μｍ以下であってもよい。さらに好ましくは、ＲＳｍ１及びＲＳｍ２は、２０μｍ以上１００μｍ以下であってもよい。

【0053】

本実施形態では、ＲＳｍ１のＲＳｍ２に対する比（ＲＳｍ１／ＲＳｍ２）の値の最大値およびＲＳｍ２のＲＳｍ１に対する比（ＲＳｍ２／ＲＳｍ１）の値の最大値は、１．５以下である。好ましくは、ＲＳｍ１／ＲＳｍ２の値の最大値およびＲＳｍ２のＲＳｍ１に対する比（ＲＳｍ２／ＲＳｍ１）の値の最大値は、１．４以下である。さらに好ましくは、ＲＳｍ１／ＲＳｍ２の値の最大値およびＲＳｍ２のＲＳｍ１に対する比（ＲＳｍ２／ＲＳｍ１）の値の最大値は、１．３以下である。

【0054】

ＲＳｍ１／ＲＳｍ２の値の最大値およびＲＳｍ２／ＲＳｍ１の値の最大値はそれぞれ、１０°間隔で互いに傾斜した１８の方向に沿って測定された１８のＲＳｍの値の比のうちの最大値である。より詳細には、まず、１０°間隔で互いに傾斜した１８の方向のそれぞれで、第１領域Ａ１のＲＳｍの値（ＲＳｍ１）及び第２領域Ａ２のＲＳｍの値（ＲＳｍ２）を測定する。次に、同一の方向に測定された第１領域Ａ１のＲＳｍ１の第２領域Ａ２のＲＳｍ２に対する比（ＲＳｍ１／ＲＳｍ２）および第２領域Ａ２のＲＳｍ２の第１領域Ａ１のＲＳｍ１に対する比（ＲＳｍ２／ＲＳｍ１）を算出する。これにより、１８のＲＳｍ１／ＲＳｍ２の値および１８のＲＳｍ２／ＲＳｍ１の値が算出される。この１８のＲＳｍ１／ＲＳｍ２の値のうちの最大値を、「ＲＳｍ１のＲＳｍ２に対する比（ＲＳｍ１／ＲＳｍ２）の値の最大値」とする。また、１８のＲＳｍ２／ＲＳｍ１の値のうちの最大値を、「ＲＳｍ２のＲＳｍ１に対する比（ＲＳｍ２／ＲＳｍ１）の値の最大値」とする。なお、第１領域Ａ１のＲＳｍの値は、表面凹部４９の幅方向における中央部分において測定する。第２領域のＲＳｍの値は、表面凹部４９の輪郭から５０μｍ以上離れた箇所において測定する。

【0055】

ＲＳｍ１／ＲＳｍ２の値の最大値およびＲＳｍ２／ＲＳｍ１の値の最大値が１．５以下であることにより、第１領域Ａ１における第１面２０ａ，４０ａの鏡面光沢度と、第２領域Ａ１における第１面２０ａ，４０ａの鏡面光沢度との差を小さくできる。これにより、観察者が積層体２０を観察した際に、第１領域Ａ１と第２領域Ａ１とが互いに区別されづらくなる。すなわち、本実施形態の積層体２０は、手で触れることにより知覚できる表面凹部４９を有しながらも、積層体２０を目視により観察した際には、第１領域Ａ１と第２領域Ａ１とが互いに区別されづらくなっている。

【0056】

本明細書において、第１面２０ａ，４０ａの鏡面光沢度は、ＪＩＳ Ｚ８７４１：１９９７の「方法３」に規定される６０°鏡面光沢度（Ｇ_Ｓ（６０°））を指す。鏡面光沢度（Ｇ_Ｓ（６０°））は、光沢計を用いて測定する。光沢計としては、例えば、ＢＹＫ－Ｇａｒｄｎｅｒ社製ｍｉｃｒｏ－ｇｌｏｓｓ光沢計を用いてもよい。

【0057】

第１領域Ａ１及び第２領域Ａ１における第１面２０ａ，４０ａの鏡面光沢度（Ｇ_Ｓ（６０°））は、０より大きく１０以下であってもよい。好ましくは、第１領域Ａ１及び第２領域Ａ１における第１面２０ａ，４０ａの鏡面光沢度（Ｇ_Ｓ（６０°））は、５以下であってもよい。さらに好ましくは、第１領域Ａ１及び第２領域Ａ１における第１面２０ａ，４０ａの鏡面光沢度（Ｇ_Ｓ（６０°））は、２．５以下であってもよい。

【0058】

本実施形態の積層体２０の第１面２０ａ，４０ａにおいて、１０ｍｍの間隔をあけて一直線上に並ぶ２０の測定位置にて測定された、鏡面光沢度の２０の測定値のうちの、最も大きい方から５つの測定値及び最も小さい方から５つの測定値を除いた１０の測定値の標準偏差は、０．５以下である。この場合、第１面２０ａ，４０ａにおける鏡面光沢度のばらつきが小さくなる。これにより、観察者が積層体２０を観察した際に、第１領域Ａ１と第２領域Ａ１とが、さらに互いに区別されづらくなる。すなわち、本実施形態の積層体２０は、手で触れることにより知覚できる表面凹部４９を有しながらも、積層体２０を目視により観察した際には、第１領域Ａ１と第２領域Ａ１とが、さらに互いに区別されづらくなる。

【0059】

艶消層４０の表面凹部４９の深さＤ４９とベース層３０の第１面３０ａ（艶消層４０を向く面）における凹部３２の深さＤ３２との差の絶対値は、３０μｍ以下であってもよい。好ましくは、深さＤ４９と深さＤ３２との差の絶対値は、２０μｍ以下であってもよい。さらに好ましくは、深さＤ４９と深さＤ３２との差の絶対値は、１０μｍ以下であってもよい。

【0060】

深さＤ４９と深さＤ３２との差の絶対値が３０μｍ以下であることにより、第１領域Ａ１における艶消層４０の厚さと第２領域Ａ１における艶消層４０の厚さとの差が小さくなる。これにより、後述の製造方法により形成される第１領域Ａ１のシワ構造４５と第２領域Ａ２のシワ構造４５との間の全体的な凹凸形状の差が小さくなる。具体的には、ＲＳｍ１／ＲＳｍ２の値の最大値およびＲＳｍ２／ＲＳｍ１の値の最大値が小さくなる。これにより、観察者が積層体２０を観察した際に、第１領域Ａ１と第２領域Ａ１とが、さらに互いに区別されづらくなる。すなわち、本実施形態の積層体２０は、手で触れることにより知覚できる表面凹部４９を有しながらも、積層体２０を目視により観察した際には、第１領域Ａ１と第２領域Ａ１とが、さらに互いに区別されづらくなる。

【0061】

本実施形態では、第１領域Ａ１及び第２領域Ａ２は、意匠層５０が有する絵柄に応じて配置される。例えば、第１領域Ａ１及び第２領域Ａ２は、意匠層５０の絵柄層５４の配置に応じて配置される。第１領域Ａ１及び第２領域Ａ２が絵柄に応じて配置されるとは、第１領域Ａ１が絵柄層５４と重なるように配置される場合、及び、第２領域Ａ２が絵柄層５４と重なるように配置される場合を含む。このとき、第１領域Ａ１又は第２領域Ａ２の全ての領域が絵柄層５４と重なる必要はない。積層体２０の平面視において、第１領域Ａ１と第２領域Ａ２との間の境界線のうちの５０％以上が、絵柄層５４の輪郭線と重なる場合、第１領域Ａ１及び第２領域Ａ２が絵柄に応じて配置されているものとする。好ましくは、積層体２０の平面視において、第１領域Ａ１と第２領域Ａ２との間の境界線のうちの７０％以上が、絵柄層５４の輪郭線と重なってもよい。さらに好ましくは、積層体２０の平面視において、第１領域Ａ１と第２領域Ａ２との間の境界線のうちの８０％以上が、絵柄層５４の輪郭線と重なってもよい。

【0062】

艶消層４０の厚さは、１μｍ以上であってもよい。好ましくは、艶消層４０の厚さは、２μｍ以上であってもよい。より好ましくは、艶消層４０の厚さは、３μｍ以上であってもよい。さらに好ましくは、艶消層４０の厚さは、４μｍ以上であってもよい。また、艶消層４０の厚さは、３００μｍ以下であってもよい。好ましくは、艶消層４０の厚さは、２００μｍ以下であってもよい。より好ましくは、艶消層４０の厚さは、１００μｍ以下であってもよい。さらに好ましくは、艶消層４０の厚さは、５０μｍ以下であってもよい。なお、本実施形態において、艶消層４０の厚さは、第２領域Ａ２における艶消層４０の厚さを意味する。また、艶消層４０の厚さは、艶消層４０のうち粒子４７が存在しない部分の厚さを意味する。すなわち、艶消層４０の厚さは、樹脂層４１の厚さである。樹脂層４１の厚さは、樹脂層４１の法線方向に平行な断面について、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて撮影した画像から２０箇所の厚さを測定し、２０箇所の厚さの値の相加平均の値とする。なお、ＳＥＭの加速電圧は３ｋＶ、倍率は厚さに応じて設定する。

【0063】

樹脂層４１は、樹脂組成物を含む。樹脂層４１に用いられる樹脂組成物は、電離放射線硬化性樹脂を含んでもよい。電離放射線硬化性樹脂は、電離放射線硬化性官能基を有する樹脂である。電離放射線硬化性官能基は、電離放射線の照射によって架橋する基である。電離放射線硬化性官能基は、例えば（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基などのエチレン性二重結合を有する官能基であってもよい。なお、本明細書において、（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基又はメタクロイル基を示す。また、本明細書において、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを示す。また、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合及び／又は架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味する。電離放射線としては、紫外線（ＵＶ）、電子線（ＥＢ）、Ｘ線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線を用いてもよい。

【0064】

電離放射線硬化性樹脂としては、電子線硬化性樹脂又は紫外線硬化性樹脂を用いてもよい。電離放射線硬化性樹脂は、従来電離放射線硬化性樹脂として慣用されている重合性モノマー、重合性オリゴマーの中から適宜選択して用いてもよい。

【0065】

重合性モノマーとしては、分子中にラジカル重合性不飽和基を持つ（メタ）アクリレート系モノマーが好ましい。とりわけ、重合性モノマーとしては、多官能性（メタ）アクリレートモノマーが好ましい。多官能性（メタ）アクリレートモノマーは、分子中に２つ以上の電離放射線硬化性官能基を有し、かつ該官能基として少なくとも（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレートモノマーであってもよい。多官能性（メタ）アクリレートモノマーの官能基数は、２以上８以下であってもよい。好ましくは、多官能性（メタ）アクリレートモノマーの官能基数は、２以上６以下であってもよい。これらの多官能性（メタ）アクリレートは、単独で、又は複数種を組み合わせて用いてもよい。

【0066】

重合性オリゴマーは、例えば、分子中に２つ以上の電離放射線硬化性官能基を有し、かつ該官能基として少なくとも（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレートオリゴマーであってもよい。重合性オリゴマーは、例えば、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、エポキシ（メタ）アクリレートオリゴマー、ポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマー、ポリエーテル（メタ）アクリレートオリゴマー、ポリカーボネート（メタ）アクリレートオリゴマー、アクリル（メタ）アクリレートオリゴマー等であってもよい。さらに、重合性オリゴマーは、他にポリブタジエンオリゴマーの側鎖に（メタ）アクリレート基をもつ疎水性の高いポリブタジエン（メタ）アクリレート系オリゴマー、主鎖にポリシロキサン結合をもつシリコーン（メタ）アクリレート系オリゴマー、小さな分子内に多くの反応性基をもつアミノプラスト樹脂を変性したアミノプラスト樹脂（メタ）アクリレート系オリゴマー、及びノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、脂肪族ビニルエーテル、芳香族ビニルエーテル等の分子中にカチオン重合性官能基を有するオリゴマー等であってもよい。

【0067】

これらの重合性オリゴマーは、単独で、又は複数種を組み合わせて用いてもよい。重合性オリゴマーは、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、エポキシ（メタ）アクリレートオリゴマー、ポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマー、ポリエーテル（メタ）アクリレートオリゴマー、ポリカーボネート（メタ）アクリレートオリゴマー、アクリル（メタ）アクリレートオリゴマーであってもよい。好ましくは、重合性オリゴマーは、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、ポリカーボネート（メタ）アクリレートオリゴマーであってもよい。さらに好ましくは、重合性オリゴマーは、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーであってもよい。

【0068】

これらの重合性オリゴマーの官能基数は、２以上８以下であってもよい。好ましくは、重合性オリゴマーの官能基数は、２以上６以下であってもよい。重合性オリゴマーの重量平均分子量は、２５００以上７５００以下であってもよい。好ましくは、重合性オリゴマーの重量平均分子量は、３０００以上７０００以下であってもよい。さらに好ましくは、重合性オリゴマーの重量平均分子量は、３５００以上６０００以下であってもよい。ここで、重量平均分子量は、ＧＰＣ分析によって測定され、かつ標準ポリスチレンで換算された平均分子量である。

【0069】

本実施形態において、樹脂層４１を形成する樹脂として、重合性オリゴマーと重合性モノマーとが組み合わされて用いられてもよい。重合性オリゴマーは、多官能性ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーであってもよい。好ましくは、重合性オリゴマーは、多官能性ウレタンアクリレートオリゴマーであってもよい。重合性モノマーは、多官能の重合性モノマーであってもよい。好ましくは、重合性モノマーは、多官能性(メタ)アクリレートモノマーであってもよい。さらに好ましくは、重合性モノマーは、多官能アクリレートモノマーであってもよい。重合性オリゴマーと重合性モノマーとが組み合わされて用いられる場合、重合性オリゴマーと重合性モノマーとの合計１００質量部に対する重合性オリゴマーの含有量は、４０質量部以上であってもよい。好ましくは、重合性オリゴマーの含有量は、５０質量部以上であってもよい。さらに好ましくは、重合性オリゴマーの含有量は、６０質量部以上であってもよい。さらに好ましくは、重合性オリゴマーの含有量は、７０質量部以上であってもよい。さらに好ましくは、重合性オリゴマーの含有量は、８０質量部以上であってもよい。重合性オリゴマーの含有量は、９８質量部以下であってもよい。好ましくは、重合性オリゴマーの含有量は、９５質量部以下であってもよい。さらに好ましくは、重合性オリゴマーの含有量は、９２質量部以下であってもよい。

【0070】

樹脂層４１に用いられる樹脂組成物は、上述の樹脂の他、所望の性能等に応じて、他の成分を含んでもよい。例えば、樹脂層４１に用いられる樹脂組成物は、その粘度を低下させる等の目的で、単官能性（メタ）アクリレートを含有してもよい。これらの単官能性（メタ）アクリレートは、単独で、又は複数種を組み合わせて用いてもよい。

【0071】

また、上述の樹脂が紫外線により硬化する紫外線硬化性樹脂である場合、光重合開始剤、光重合促進剤等の添加剤を含んでもよい。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α－ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α－アシルオキシムエステル、チオキサントン類等から選ばれる１種以上を用いてもよい。光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化速度を速めることができるものである。光重合促進剤としては、例えば、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等から選ばれる１種以上を用いてもよい。

【0072】

粒子４７は、第１面４０ａに特定のシワ構造４５を付与するためのシワ形成剤として機能する。エキシマ光等を用いて樹脂の表面にシワ状の凹凸面を形成する従来技術では、凹凸面のシワ構造４５の形状を精密に制御することは困難だった。これについて本件発明者らが鋭意検討を進めたところ、艶消層４０を形成するための樹脂組成物に、さらに粒子４７を添加することにより、第１面４０ａのシワ構造４５の形状を制御できることがわかった。

【0073】

従来、シワ構造４５を有しない樹脂層にシリカ等の粒子を添加して、艶消層を形成する技術が知られている。この技術では、樹脂層の表面から突出する粒子により当該表面に凹凸が形成され、この凹凸が艶消効果を発揮する。これに対して、本実施形態では、第１面４０ａにおける凹凸は、シワ構造４５により実現される。本実施形態の粒子４７は、それ自体が第１面４０ａにおける凹凸を形成することを意図されたものではない。この点において、シワ構造４５を有しない樹脂層に添加された粒子と、本実施形態の粒子４７とは、本質的に異なる。本件発明者らは、後述する製造方法のように樹脂組成物にエキシマ光等を照射した際に、粒子４７が起点となって、シワ構造４５を構成する凸部及び／又は凹部が形成されるものと推測している。これにより、シワ構造４５に、従来技術では形成することが困難だった形状を付与することが可能になったものと考えられる。本実施形態では、艶消層４０が粒子４７を含むことにより、第１面４０ａにおける、平均長さＲＳｍを２５μｍ以上３５μｍ以下とすることができた。以下、このような粒子４７について説明する。

【0074】

粒子４７としては、例えば、有機粒子又は無機粒子を用いてもよい。有機粒子を構成する有機物として、ポリメチルメタクリレート、アクリル－スチレン共重合体樹脂、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル樹脂、ベンゾグアナミン－メラミン－ホルムアルデヒド縮合物、シリコーン、フッ素系樹脂及びポリエステル系樹脂等を用いてもよい。無機粒子を構成する無機物として、シリカ、アルミナ、炭酸カルシウム、アルミノシリケート及び硫酸バリウム等を用いてもよい。この中で、好ましくは、無機粒子を構成する無機物として、シリカを用いてもよい。粒子４７の形状は、例えば、球形、多面体、鱗片状、不定形等であってもよい。

【0075】

粒子４７の平均粒子径は、１μｍ以上であってもよい。好ましくは、粒子４７の平均粒子径は、１．３μｍ以上であってもよい。さらに好ましくは、粒子４７の平均粒子径は、１．５μｍ以上であってもよい。さらに好ましくは、粒子４７の平均粒子径は、１．８μｍ以上であってもよい。粒子４７の平均粒子径は、２０μｍ以下であってもよい。好ましくは、粒子４７の平均粒子径は、１５μｍ以下であってもよい。さらに好ましくは、粒子４７の平均粒子径は、１０μｍ以下であってもよい。なお、本明細書において、粒子４７の平均粒子径は、レーザ光回折法による粒度分布測定における質量平均値ｄ５０として測定したものである。

【0076】

複数の粒子４７は、樹脂層４１の厚さの１／２以上の最大寸法を有する粒子４７を含んでもよい。本件発明者らの検討により、複数の粒子４７が、樹脂層４１の厚さの１／２以上の最大寸法を有する粒子４７を含む場合に、第１面４０ａのシワ構造４５の形状をより適切に制御できることがわかった。好ましくは、複数の粒子４７は、樹脂層４１の厚さ以上の最大寸法を有する粒子４７を含んでもよい。

【0077】

粒子４７の最大寸法は、艶消層４０の法線方向に平行な断面において観察される粒子４７の断面において測定される。粒子４７の断面において、当該粒子を横断する直線のうち、最も長い直線の長さが粒子４７の最大寸法である。粒子４７の最大寸法をこのように測定することにより、艶消層４０に含まれる粒子４７の最大寸法を簡単に測定できる。なお、粒子４７における断面の位置によっては、上述のようにして測定された粒子４７の最大寸法は、当該粒子４７の真の最大寸法とは異なることもあり得る。しかし、上述のようにして測定された粒子４７の最大寸法が、当該粒子４７の真の最大寸法よりも大きくなることはない。したがって、粒子４７の真の最大寸法は、上述のようにして測定された粒子４７の最大寸法と等しいかこれより大きいものと推測できる。

【0078】

樹脂層４１を形成する樹脂１００質量部に対して、粒子４７の含有量は０．５質量部以上であってもよい。好ましくは、粒子４７の含有量は０．７５質量部以上であってもよい。さらに好ましくは、粒子４７の含有量は１．０質量部以上であってもよい。さらに好ましくは、粒子４７の含有量は１．２質量部以上であってもよい。樹脂層４１を形成する樹脂１００質量部に対して、粒子４７の含有量は２５．０質量部以下であってもよい。好ましくは、粒子４７の含有量は１５．０質量部以下であってもよい。さらに好ましくは、粒子４７の含有量は１０．０質量部以下であってもよい。さらに好ましくは、粒子４７の含有量は７．５質量部以下であってもよい。さらに好ましくは、粒子４７の含有量は６．０質量部以下であってもよい。

【0079】

次に、図３～図６を参照して、本実施形態の積層体２０の製造方法の一例について説明する。まず、ベース層３０を準備する（図３参照）。この段階で、ベース層３０は、支持材１２、意匠層５０及び接着層５８と積層されていてもよい。次に、ベース層３０に凹部３２を形成する（図４参照）。凹部３２は、例えば第１面３０ａを介してベース層３０にエンボス加工を行うことにより形成されてもよい。

【0080】

次に、ベース層３０の第１面３０ａ上に、後に樹脂層４１となる樹脂組成物と粒子４７との混合物を配置する（図５参照）。混合物は、第１領域Ａ１及び第２領域Ａ２の全体にわたって配置される。これにより、混合物は、凹部３２を覆うように配置される。混合物は、例えば、流動性を有する状態で第１面３０ａ上に塗布されてもよい。混合物は、例えば、グラビア印刷法、バーコート法、ロールコート法、リバースロールコート法、コンマコート法等により塗布されてもよい。このとき、凹部３２と重なる位置における混合物の表面には、表面凹部４９が形成される。

【0081】

次に、樹脂組成物に、３８０ｎｍを超える波長を有する光を照射して、樹脂組成物の全体を予備硬化させる。好ましくは、この光の波長は、３８５ｎｍ以上４００ｎｍ以下であってもよい。なお、この予備硬化の工程は必須の工程ではなく、省略してもよい。

【0082】

その後、樹脂組成物の表面に、１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の波長を有する光を照射する。これにより、樹脂組成物の表面にシワ構造４５が形成される（図６参照）。このシワ構造４５が形成されるメカニズムは、以下のとおりであると推測される。樹脂組成物の表面に、１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の波長を有する光を照射すると、この光の波長が短いことから、光のエネルギーが表面部分のみに浸透し、それより下層には光のエネルギーが到達しない。このとき、当該樹脂組成物の表面部分だけが硬化を始める。これにより、表面だけが硬化収縮を生じ、樹脂組成物の表面にシワ構造４５が形成される。樹脂組成物における、表面からのある厚さの範囲内の部分のみが硬化した状態において生じていると考えられる。また、このとき、粒子４７がシワ構造４５の形成のきっかけとなる核のような機能を有しているものと考えられる。したがって、粒子４７を中心に樹脂組成物の表面部分の樹脂が集まり、シワ構造４５の凸部及び凹部が形成されるものと推測される。

【0083】

１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の波長を有する光としては、例えば、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅ、Ｎｅ等の希ガス、Ｆ、Ｃｌ、Ｉ、Ｂｒ等のハロゲンによる希ガスのハロゲン化物等ガス、又はこれらの混合ガスの放電によって形成される励起状態の２量体、すなわちエキシマ（ｅｘｃｉｍｅｒ）からの紫外線波長域の光を含む「エキシマ光」を用いてもよい。エキシマ光の波長及び光源となるエキシマは、例えばＡｒ_２のエキシマから輻射される波長１２６ｎｍの光（以下、「１２６ｎｍ（Ａｒ_２）」のように略称する）、１４６ｎｍ（Ｋｒ_２）、１５７ｎｍ（Ｆ_２）、１７２ｎｍ（Ｘｅ_２）、１９３ｎｍ（ＡｒＦ）、２２２ｎｍ（ＫｒＣｌ）、２４７ｎｍ（ＫｒＦ）、３０８ｎｍ（ＸｅＣｌ）、３５１ｎｍ（ＸｅＦ）等であってもよい。エキシマ光としては、自然放出光、誘導放出によるコヒーレンス（可干渉性）の高いレーザ光のいずれでもよい。なお、このような光を放射する放電ランプは、「エキシマランプ」とも称される。エキシマ光は波長ピークが単一であり、また通常の紫外線（例えば、メタルハライドランプ、水銀ランプ等から放射される紫外線）と比べて波長の半値幅が狭い。このようなエキシマ光を用いることで、シワの形成が安定し、安定的に艶消効果が向上する。

【0084】

樹脂組成物の表面に照射される光の波長は１２０ｎｍ以上であってもよい。好ましくは、光の波長は１４０ｎｍ以上であってもよい。さらに好ましくは、光の波長は１５０ｎｍ以上であってもよい。さらに好ましくは、光の波長は１５５ｎｍ以上であってもよい。樹脂組成物の表面に照射される光の波長は３２０ｎｍ以下であってもよい。好ましくは、光の波長は３００ｎｍ以下であってもよい。さらに好ましくは、光の波長は２５０ｎｍ以下であってもよい。さらに好ましくは、光の波長は２００ｎｍ以下であってもよい。さらに好ましくは、光の波長は１７２ｎｍ（Ｘｅ_２）であってもよい。

【0085】

樹脂組成物の表面に照射される光の積算露光量は１ｍＪ／ｃｍ^２以上であってもよい。好ましくは、積算露光量は１０ｍＪ／ｃｍ^２以上であってもよい。さらに好ましくは、積算露光量は３０ｍＪ／ｃｍ^２以上であってもよい。さらに好ましくは、積算露光量は５０ｍＪ／ｃｍ^２以上であってもよい。樹脂組成物の表面に照射される光の積算露光量は１０００ｍＪ／ｃｍ^２以下であってもよい。好ましくは、積算露光量は５００ｍＪ／ｃｍ^２以下であってもよい。さらに好ましくは、積算露光量は３００ｍＪ／ｃｍ^２以下であってもよい。

【0086】

樹脂組成物の表面に照射される光の出力密度は０．００１Ｗ／ｃｍ以上であってもよい。好ましくは、出力密度は０．０１Ｗ／ｃｍ以上であってもよい。さらに好ましくは、出力密度は０．０３Ｗ／ｃｍ以上であってもよい。樹脂組成物の表面に照射される光の出力密度は１０Ｗ／ｃｍ以下であってもよい。好ましくは、出力密度は５Ｗ／ｃｍ以下であってもよい。さらに好ましくは、出力密度は３Ｗ／ｃｍ以下であってもよい。

【0087】

樹脂組成物の表面に光を照射する際の酸素濃度は１０００ｐｐｍ以下であってもよい。好ましくは、酸素濃度は７５０ｐｐｍ以下であってもよい。さらに好ましくは、酸素濃度は５００ｐｐｍ以下であってもよい。さらに好ましくは、酸素濃度は３００ｐｐｍ以下であってもよい。

【0088】

上述のように、樹脂組成物の表面に１００ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の波長を有する光を照射した後、樹脂組成物に、当該光の波長よりも長い波長を有する光を照射する。これにより、樹脂組成物の表面から深さ方向に離れた部分における硬化が進行し、樹脂組成物の全体が硬化し、樹脂組成物から樹脂層４１が形成される。このとき、樹脂組成物の表面部分における硬化の進行度合いと、表面から深さ方向に離れた部分における硬化の進行度合いの差により、シワ構造４５の形成がさらに進行する。このように樹脂組成物の全体を硬化させる際に用いられる光として、例えば紫外線（ＵＶ）を用いてもよい。また、樹脂組成物の全体を硬化させる際には、紫外線に代えて他の電離放射線、例えば電子線（ＥＢ）を用いてもよい。

【0089】

図７に示されているように、化粧材１０は、支持材１２の代わりに成形樹脂部１４を有してもよい。この場合、化粧材１０は、積層体２０と、積層体２０と積層された成形樹脂部１４と、を備える。成形樹脂部１４は、所望の形状に成形された樹脂部材である。成形樹脂部１４は、例えば、自動車内装部材、自動車外装部材、樹脂サッシ、手すり、家電製品である。

【0090】

積層体２０の第１面２０ａに形成されるシワ構造４５は、他の部材の表面に転写されてもよい。図８～図１０を参照して、積層体２０を用いたシワ構造４５の転写方法について説明する。

【0091】

まず、図８に示されているように、積層体２０を準備する。積層体２０は、図３～図６を参照して説明した積層体２０の製造方法により製造できる。次に、積層体２０の第１面２０ａ上に未硬化の樹脂層を形成する。樹脂層は、流動性を有した樹脂を第１面２０ａ上に塗布することにより形成されてもよい。樹脂層を構成する樹脂としては、電離放射線硬化型樹脂が用いられる。電離放射線硬化型樹脂としては、樹脂層４１を構成する電離放射線硬化型樹脂と同様の樹脂が用いられてもよい。

【0092】

樹脂層には、接着層６７、意匠層７０及び支持材６５が積層されてもよい。意匠層７０は、着色層７２と絵柄層７４とを含んでもよい。意匠層７０は、図１を参照して説明した例における意匠層５０と同様に形成されてもよい。着色層７２及び絵柄層７４は、図１を参照して説明した例における着色層５２及び絵柄層５４と同様に形成されてもよい。支持材６５は、図１を参照して説明した例における支持材１２と同様に形成されてもよい。接着層６７は、図１を参照して説明した例における接着層５８と同様に形成されてもよい。

【0093】

その後、電離放射線を樹脂層に照射して樹脂層を硬化させ、樹脂層から硬化樹脂層６２を形成する（図９参照）。電離放射線としては、紫外線（ＵＶ）、電子線（ＥＢ）、Ｘ線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線を用いてもよい。

【0094】

図９は、積層体２０を有する転写シート６０の一例を示す断面図である。硬化樹脂層６２における、積層体２０の第１面２０ａと接触する表面には、第１面２０ａのシワ構造４５が転写されている。これにより、硬化樹脂層６２における、第１面２０ａと接触する表面は、第１面２０ａのシワ構造４５の凹凸形状が転写シート６０の法線方向に反転した形状を有するシワ構造が形成される。これにより、図９に示された転写シート６０は、積層体２０と、電離放射線硬化型樹脂の硬化物を含む硬化樹脂層６２と、を備え、硬化樹脂層６２は、積層体２０の第１面２０ａに接触してシワ構造を有する。また、図９に示された例では、転写シート６０は、絵柄を有する絵柄層７４を更に備え、硬化樹脂層６２は、絵柄層７４及び積層体２０の間に位置する。

【0095】

次に、硬化樹脂層６２を積層体２０から剥離する（図１０参照）。これにより、表面にシワ構造を有する硬化樹脂層６２を含む艶消シート８０が得られる。図１０に示された例では、艶消シート８０は、支持材６５と、意匠層７０と、接着層６７とをさらに含んでいる。

【0096】

以下、本件発明者らが実施した実験の一例について説明する。なお、本開示の実施の形態は、以下の実験結果により限定されるものではない。

【0097】

以下のようにして、ベース層及び艶消層を有する積層体を作成した。

【0098】

ポリプロピレン系樹脂のシートを押出しラミネート方式で積層してベース層を形成した。ベース層の厚さは８０μｍであった。

【0099】

実施例１及び２並びに比較例１～４においては、ベース層の第１面にエンボス加工により凹部を形成した後に、当該第１面上に艶消層を形成した。比較例５においては、ベース層の第１面上に艶消層を形成した後に、当該艶消層上からエンボス加工により表面凹部及び凹部を形成した。エンボス加工では、まず、ベース層を赤外線非接触方式のヒーターで加熱し軟化させた。その後、熱圧によりエンボス加工を行うことによりベース層に凹凸模様を賦形した。

【0100】

下記の材料を混合して、樹脂層及び粒子を含む組成物を得た。
＜樹脂層＞
・多官能ウレタンアクリレートオリゴマー ３０質量部
・多官能アクリレートモノマー ５０質量部
・単官能アクリレートモノマー ２０質量部
・光重合開始剤（ベンゾフェノン系） ２．０質量部
＜粒子＞
・シリカ粒子（平均粒子径８μｍ） ３質量部

【0101】

上記の組成物を、グラビアコーティングにより、ベース層上に凸部側から塗布した。第２領域Ａ２における乾燥塗布量は１５ｇ／ｍ^２であった。その後、この塗布層に紫外線を照射して塗布層を予備硬化した。予備硬化では、ＬＥＤから構成されるＵＶ照射装置を用いた。予備硬化における紫外線の照射条件は、波長３９５ｎｍ、最大照度０．６Ｗ／ｃｍ^２、積算光量３０ｍＪ／ｃｍ^２～１００ｍＪ／ｃｍ^２であった。次いで、エキシマ光照射装置を用いて、酸素濃度２００ｐｐｍ以下の窒素雰囲気中で塗布層に紫外線を照射した。このとき、塗布層の表面にシワ構造が形成された。エキシマ光照射装置を用いた紫外線の照射条件は、波長１７２ｎｍ（Ｘｅ２）、紫外線出力密度３０ｍＷ／ｃｍ^２、積算光量５ｍＪ／ｃｍ^２～１００ｍＪ／ｃｍ^２であった。さらに、酸素濃度１００ｐｐｍ以下の窒素雰囲気中で電子線を照射して、艶消層を形成した。電子線の照射条件は、加速電圧１００ｋＶ～１５０ｋＶ、照射線量３０ｋＧｙ～１００ｋＧｙであった。第２領域Ａ２における艶消層の厚さは、１５μｍであった。第１領域Ａ１における艶消層の厚さは、ベース層の凹部の形状（幅、深さ）により変化した。

【0102】

表１は、各実施例及び比較例における、ベース層の凹部の形状、艶消層の表面（第１面）における各パラメータの値、表面凹部の形状及び評価についてまとめたものである。

【0103】

表１において、「ベース層」の「凹部形状」の「深さ（μｍ）」及び「幅（μｍ）」は、それぞれベース層の凹部の深さＤ３２及び幅Ｗ３２に対応する。「ベース層」の「凹部形成工程」の欄において、「Ａ」は、ベース層の第１面にエンボス加工により凹部を形成した後に、当該第１面上に艶消層を形成したことを示す。同欄において、「Ｂ」は、ベース層の第１面上に艶消層を形成した後に、当該艶消層上からエンボス加工により表面凹部及び凹部を形成したことを示す。

【0104】

「艶消層」の「ＲＳｍ値（μｍ）」は、ＲＳｍ１／ＲＳｍ２の値の最大値またはＲＳｍ２／ＲＳｍ１の値の最大値を与える各領域Ａ１，Ａ２のＲＳｍ値（μｍ）を示す。

【0105】

「艶消層」の「Ｒｚ（μｍ）」は、各領域Ａ１，Ａ２における最大高さＲｚの値を示す。最大高さＲｚは、輪郭曲線の山及び高さパラメータの１つである。とりわけ、最大高さＲｚは、基準長さにおける輪郭曲線の中で、最も高い山の高さと最も深い谷の深さとの和である。最大高さＲｚの数値が大きいほど、山の頂部から見て大きい深さを有する谷が存在し、そのような谷が多く存在する傾向がある。

【0106】

「艶消層」の「Ｒａ（μｍ）」は、各領域Ａ１，Ａ２における算術平均粗さＲａの値を示す。算術平均粗さＲａは、輪郭曲線の高さ方向のパラメータの１つである。とりわけ、算術平均粗さＲａは、基準長さにおける輪郭曲線において、平均面からの高低差の平均値である。算術平均粗さＲａの数値が小さいほど、表面形状における凸部、これに応じて形成する凹部がより小さくなり、より滑らかで均一な形状となる。

【0107】

なお、最大高さＲｚ、算術平均粗さＲａは、キーエンス社製レーザー顕微鏡（型番：ＶＫ－Ｘ１００）を用いて、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２０１３に準拠して測定した。

【0108】

「艶消層」の「Ｓｓｋ」は、第２領域Ａ２におけるスキューネスＳｓｋの値を示す。スキューネスＳｓｋは、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２にて規定される三次元表面性状パラメータの１つである。とりわけ、スキューネスＳｓｋは、平均面からの高さ分布の偏りの度合いを示す指標である。スキューネスＳｓｋが０である場合は表面形状が平均面に対して対称（正規分布）である。スキューネスＳｓｋが０を超えると表面形状が平均面に対して下側、すなわち高さが低い側に偏りがあり、凸部の頂部近傍が鋭く細くなる傾向にある。スキューネスＳｓｋが０未満であると平均面（平均水準面）に対して表面形状が上側、すなわち高さが高い側に偏っていて、凸部の頂部近傍が鈍く太くなる。

【0109】

「艶消層」の「Ｓｋｕ」は、第２領域Ａ２におけるクルトシスＳｋｕの値を示す。クルトシスＳｋｕは、ＩＳＯ２５１７８－２：２０１２にて規定される三次元表面性状パラメータの一つである。とりわけ、クルトシスＳｋｕは、平均面からの高さ分布の尖りの度合いを示す指標である。クルトシスＳｋｕが３である場合は、表面形状が平均面に対して対称（正規分布）である。クルトシスＳｋｕが３を超える場合は、高さ分布が尖った形状を有する。クルトシスＳｋｕが３未満である場合は、高さ分布がつぶれる形状を有する。

【0110】

「艶消層」の「表面凹部の深さ（μｍ）」は、艶消層の表面凹部の深さＤ４９に対応する。この「表面凹部の深さ（μｍ）」は、上述した表面凹部４９の深さＤ４９の測定方法により測定される。

【0111】

意匠の評価は、実施例及び比較例で得られた物品について、２０人の成人の評価者が積層体を視認することにより行った。評価は、照度７００ＬＵＸの光源下において、５０ｃｍ離れた場所から積層体を視認することにより行った。「評価」の「意匠」の欄において、評価「Ａ」は、２０人の評価者のうち、艶消層の表面の面状態が均一であり一様に艶消効果が得られていると判定した評価者が１６人（８０％）以上であったことを示す。評価「Ｂ」は、２０人の評価者のうち、艶消層の表面の面状態が均一であり一様に艶消効果が得られていると判定した評価者が１５人以下であったことを示す。

【0112】

触感の評価は、実施例及び比較例で得られた物品について、２０人の成人の評価者が、積層体の表面（第１面）を触ることにより行った。評価において、８０番手の綿糸を用いたオックスフォード生地を、なめらかな触感の基準とした。「評価」の「触感」の欄において、評価「Ａ」は、２０人の評価者のうち、全体として基準に近い触感であり、かつその中にエンボスに沿った触感を認識できると評価した評価者が１６人（８０％）以上であったことを示す。評価「Ｂ」は、２０人の評価者のうち、全体として基準に近い触感であり、かつその中にエンボスに沿った触感を認識できると評価した評価者が１５人以下であったことを示す。

【0113】

【表1】

【0114】

実施例１及び２では、「ＲＳｍ１／ＲＳｍ２の最大値」及び「ＲＳｍ２／ＲＳｍ１の最大値」がいずれも１．５以下であった。この実施例１及び２においては、「意匠」及び「触感」のいずれにおいても評価は「Ａ」であった。すなわち、実施例１及び２においては、照度７００ＬＵＸの光源下において５０ｃｍ離れた場所から積層体を視認した場合に、艶消層の表面（第１面）における第１領域Ａ１と第２領域Ａ２とを互いに区別できなかった。すなわち、第１領域Ａ１及び第２領域Ａ２の両方にわたって概ね均一な外観が得られた。また、艶消層の表面において、全体として滑らかな触感が得られた。

【0115】

比較例１～４では、「ＲＳｍ１／ＲＳｍ２の最大値」が１．５より大きい１．７２～３．０６であった。比較例５では、表面凹部が位置する第１領域Ａ１におけるシワ構造が破損していた。上述のように、比較例５では、ベース層の第１面上に艶消層を形成した後に、当該艶消層上からエンボス加工により表面凹部を形成した。これにより、第１領域Ａ１では、先に形成された艶消層のシワ構造が、エンボス加工時に潰されたものと考えられる。比較例５では、シワ構造が破損していたことにより、第１領域Ａ１におけるＲＳｍの値（ＲＳｍ１）が測定できなかった。したがって、比較例５では、「ＲＳｍ１／ＲＳｍ２の最大値」及び「ＲＳｍ２／ＲＳｍ１の最大値」も算出できなかった。なお、比較例５では、第１領域Ａ１における最大高さＲｚの値及び算術平均粗さＲａの値も測定できなかった。

【0116】

比較例１～５では、「意匠」の評価は「Ｂ」であった。すなわち、比較例１～５では、照度７００ＬＵＸの光源下において５０ｃｍ離れた場所から積層体を視認した場合に、艶消層の表面における第１領域Ａ１と第２領域Ａ２とが互いに区別できた。すなわち、第１領域Ａ１及び第２領域Ａ２の両方にわたって均一な外観が得られなかった。この理由について、本件発明者は以下のように推測している。例えば、比較例１～３においては、「表面凹部の深さ」が０μｍである。これは、第１領域Ａ１の内部において艶消層を構成する組成物の塗布量が多くなっていることを示す。その結果、第１領域Ａ１において粗いシワ構造が形成される。そのため、この第１領域Ａ１における艶消し効果が小さくなる。これにより、第１領域Ａ１と第２領域Ａ２とが互いに区別して視認されやすくなる。したがって、一様に艶消効果が得られていると判定した評価者が少なくなったものと考えられる。

【0117】

比較例１～３では、「触感」の評価は「Ｂ」であった。すなわち、比較例１～３では、全体として滑らかな触感が得られなかった。この理由について、本件発明者は以下のように推測している。比較例１～３においては、「表面凹部の深さ」が０μｍである。したがって、評価者は、表面凹部に沿った触感を手で知覚できなかったものと考えられる。

【0118】

表１の結果より、「ＲＳｍ１／ＲＳｍ２の最大値」及び「ＲＳｍ２／ＲＳｍ１の最大値」がいずれも１．５以下である場合に、艶消層の表面において、第１領域Ａ１及び第２領域Ａ２の両方にわたって概ね均一な外観が得られるとともに、全体として滑らかな触感が得られることが確認できた。

【符号の説明】

【0119】

１０ 化粧材
１２ 支持材
１４ 成形樹脂部
２０ 積層体
２０ａ 第１面
２０ｂ 第２面
３０ ベース層
３２ 凹部
４０ 艶消層
４１ 樹脂層
４５ シワ構造
４７ 粒子
４９ 表面凹部
５０ 意匠層
５２ 着色層
５４ 絵柄層
５８ 接着層
６０ 転写シート
８０ 艶消シート
Ａ１ 第１領域
Ａ２ 第２領域

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】