2026年 特許公開件数ランキング 39位 387件(※)
2026年 特許取得件数ランキング 25位 471件(※)
2026年 特許公開件数ランキング 593位 47件(※)
2026年 特許取得件数ランキング 1206位 20件(※)
2026年 特許公開件数ランキング 982位 21件(※)
2026年 特許取得件数ランキング 1035位 20件(※)
公報発行日 2026年7月6
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2026-112232 ログイン済みの方はこのURLへ
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【課題】歩留まり率が高い積層体の解体装置及び積層体の解体方法を提供する。
【解決手段】積層体の解体装置100は、薄膜2と薄膜2の表面に結着した結着層3とを含む積層体1の解体装置であって、積層体1に接触可能な正電極10及び負電極11と、積層体1、正電極10及び負電極11の周囲の空間を真空環境とする排気部22と、真空環境にある正電極10及び負電極11間に電気パルスを印加する電気パルス印加部12と、少なくとも排気部22及び電気パルス印加部12の一方を制御するコントローラ40と、を備える。
【選択図】図1
本発明によれば、歩留まり率が高い積層体の解体装置及び積層体の解体方法を提供することができる。
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