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特開 2026-159904出願番号 特願 2026-178310
原料ガス供給システム
出願人 東京エレクトロン株式会社（識別番号 219967）
2026年 特許公開件数ランキング 36位 490件（※）
2026年 特許取得件数ランキング 25位 521件（※）
公報発行日 2026年10月7
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2026-159904 ログイン済みの方はこのURLへ
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※ 共同出願を含む
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技術分野
要約特許出願時に添付された[要約書]
【課題】固体原料を気化して生成された原料ガスを処理装置に供給する原料ガス供給システムに、処理装置での処理に悪影響を及ぼすおそれがない形態で固体原料を補給することができるようにする。
【解決手段】固体原料を気化して生成された原料ガスを処理装置に供給する原料ガス供給システムであって、前記固体原料を気化して前記原料ガスを生成する気化装置と、前記固体原料が液中に分散した分散系を貯留する貯留容器から前記気化装置へ前記分散系を送出する送出機構と、前記気化装置内において、前記分散系から前記固体原料を分離する分離機構と、前記気化装置の前記分散系の補給口を開閉する補給弁と、前記補給弁のシール面に対し流体を供給し当該シール面を洗浄する洗浄機構と、を備える。
【選択図】図１
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋
本開示によれば、固体原料を気化して生成された原料ガスを処理装置に供給する原料ガス供給システムムから、高流量で原料ガスを供給することができる。
この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図
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