特開2026-162402IP Force 特許公報全文掲載

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技術分野

半導体基板、液晶表示用や有機ＥＬ(Electroluminescence)表示装置などのＦＰＤ(Flat Panel Display)用基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板などの各種基板に所定の処理を行う基板処理装置

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】容器の交換時に気泡が容器内で発生することを防止し、基板処理を確実に行うことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】本発明の基板処理装置は、水平姿勢の基板に処理液を塗布する基板処理チャンバと、処理液を貯留する容器を収容する容器ホルダと、容器ホルダにおける高粘度処理液を基板処理チャンバに送出する配管と、を備え、容器ホルダは、配管に連通され、容器に挿入される給液管と、給液管を上下駆動させるリフト機構と、リフト機構の駆動速度を制御する制御部と、を備える。そして、制御部は、リフト機構を制御して、給液管の下降速度が５ｍｍ／ｓｅｃ以上３０ｍｍ／ｓｅｃ以下となるようにする。
【選択図】図１３

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

従来の基板処理システムは、交換する容器の特定を容易にすることに注力し、容器の交換の際、薬液の状態がどうなるかにについては検討不足である。容器に給液管を差し込む際、容器内の処理液に目に見えないレベルの気泡が発生してしまうことがある。このようにして発生した細かな気泡は、給液管に吸い上げられ、通常は、途中に設けたトラップタンクで除去されるが、薬液が高粘度の場合、トラップタンクで除去されずに処理液と共に基板に塗布される。この様な気泡は、基板処理に悪影響を及ぼす。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明は、課題を解決するために次の様な構成をとる。 すなわち、本発明の基板処理装置は、 基板に所定の液処理を施す基板処理装置であって、 水平姿勢の基板に高粘度処理液を塗布する基板処理チャンバと、 処理液を貯留する容器を収容する容器ホルダと、 前記容器ホルダにおける処理液を前記基板処理チャンバに送出する配管と、を備え、 前記容器ホルダは、 前記配管に連通され・・・　続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明によれば、容器の交換時に気泡が容器内で発生することを防止し、基板処理を確実に行うことができる基板処理装置を提供することができる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 実施例１の基板処理装置を説明する平面図である。
【図2】 実施例１の基板処理装置を説明する側面図である。
【図3】 実施例１の引き出しについて説明する斜視図である。
【図4】 実施例１の引き出しについて説明する斜視図である。
【図5】 実施例１の容器ホルダの構成を説明する斜視図である。
【図6】 実施例１の容器ホルダの構成を説明する断面図である。
【図7】 実施例１の容器ホルダを制御する制御部を説明する断面図である。
【図8】 実施例１の容器ホルダの制御を説明する断面図である。
【図9】 実施例１の容器ホルダの制御を説明する断面図である。
【図10】 実施例１の容器交換の手順を説明するフローチャートである。
【図11】 実施例１の容器交換の手順を説明する断面図である。
【図12】 実施例１の容器交換の手順を説明する断面図である。
【図13】 実施例１の容器交換の手順を説明する断面図である。
【図14】 実施例２に係る容器ホルダを説明する斜視図である。
【図15】 実施例２に係るエアダンパを説明する断面図である。
【図16】 本発明の１変形例の構成について説明する断面図である。
【図17】 本発明の１変形例の構成について説明する断面図である。
【図18】 本発明の１変形例の構成について説明する断面図である。
【図19】 本発明の１変形例の構成について説明する断面図である。
【図20】 本発明の１変形例の構成について説明する断面図である。
【図21】 本発明の１変形例の構成について説明する断面図である。

選択図 図13出願人が指定した本件の代表的な図

１ 基板処理装置 ３ インデクサブロック ５ 第１枚葉処理ブロック ７ 第２枚葉処理ブロック ９ ロードポート １０ 容器ホルダ １１ 筒体 １２ フランジ １３ 蓋体 １４ アーム １５ 止めネジ １６ ネジ孔 １７ 底板 １８ 持ち手 ２１ 給液管 ２２ コネクタ ２３ 中継管 ２４ 第１ジョイント ２５ 湾曲管 ２６ 第２ジョイント ２７ 通液管 ２８ 通気管 ３０ リフト機構 ３１ バー ３２ スライド部材 ３３ シリンダ機構 ３４ スライダー ３５ インデクサロボット ３６ 水平レール ３７ ピストン ３８ エアシリンダ ４１ 第１流量調整器 ４３ 第１逆止弁 ４４ 第１オリフィス ４５ インデクサパス ４７ 第１ニードル弁 ４８ 第２ニードル弁 ５０ 基板処理チャンバ ５１ カップ ５２ スピンチャック ５３ ノズル ５４ ベークチャンバ ５５ 第１センターロボット ５６ 側板 ５７ 開き戸 ５８ 引き出し ６１ 第２流量調整器 ６３ 第２逆止弁 ６４ 第２オリフィス ６５ 補助パス ７０ 基板処理チャンバ ７１ カップ ７２ スピンチャック ７３ ノズル ７４ ベークチャンバ ７５ 第２センターロボット ７６ 側板 ７７ 開き戸 ７８ 引き出し ８１ 切り替え器 ８２ 三方弁 ８３ 排気口 ８４ 三方弁 ８５ 排気口 ９１ エアポンプ ９２ 切り替えスイッチ １００ ポンプ配管 １０１ 上方配管 １０２ 下方配管 １０３ 下方開口 １０４ 上方開口 １１０ 垂直レール １１１ 本体 １１２ シャフト １１３ エアダンパ １２１ モータ １２２ モータ制御部 １２３ 切り替えスイッチ １３１ プーリ １３２ ベルト １３３ ウェイト １４３ 第３逆止弁 １６３ 第４逆止弁 Ｂ ボトル Ｃ キャリア Ｗ 基板

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