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2026-17828モノフルオロスルホニル化剤組成物、モノフルオロスルホニルオキシ化合物の製造方法、及び、新規化合物
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2026017828
(43)【公開日】2026-02-05
(54)【発明の名称】モノフルオロスルホニル化剤組成物、モノフルオロスルホニルオキシ化合物の製造方法、及び、新規化合物
(51)【国際特許分類】
C07D 233/92 20060101AFI20260129BHJP
C07C 303/24 20060101ALI20260129BHJP
C07C 305/26 20060101ALI20260129BHJP
C07D 233/68 20060101ALI20260129BHJP
C07D 233/64 20060101ALI20260129BHJP
C07D 233/90 20060101ALI20260129BHJP
C07D 235/06 20060101ALI20260129BHJP
C07D 231/56 20060101ALI20260129BHJP
【ＦＩ】
C07D233/92
C07C303/24
C07C305/26
C07D233/68
C07D233/64
C07D233/90 Z
C07D235/06
C07D231/56 Z
【審査請求】未請求
【請求項の数】7
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2024118833
(22)【出願日】2024-07-24
(71)【出願人】
【識別番号】517363366
【氏名又は名称】学校法人神戸薬科大学
(71)【出願人】
【識別番号】000002200
【氏名又は名称】セントラル硝子株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110000914
【氏名又は名称】弁理士法人ＷｉｓｅＰｌｕｓ
(72)【発明者】
【氏名】波多野 学
(72)【発明者】
【氏名】平田 翼
(72)【発明者】
【氏名】秋山 勝宏
(72)【発明者】
【氏名】木村 高岳
(72)【発明者】
【氏名】富田 廉
【テーマコード（参考）】
4H006
【Ｆターム（参考）】
4H006AA02
4H006AC60
(57)【要約】 （修正有）
【課題】フェノール性水酸基等の官能基を含む基質をモノフルオロスルホニル化できるモノフルオロスルホニル化剤組成物、これを用いたモノフルオロスルホニルオキシ化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される化合物を含むモノフルオロスルホニル化剤組成物である。
［式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｙ１及びＹ２は窒素原子又はＣＲであり、ｎは１～３であり、Ｒのうち１個以上はＥＷＧで表される電子求引基である。］
【選択図】なし
【解決手段】一般式（１）で表される化合物を含むモノフルオロスルホニル化剤組成物である。
［式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｙ１及びＹ２は窒素原子又はＣＲであり、ｎは１～３であり、Ｒのうち１個以上はＥＷＧで表される電子求引基である。］
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記一般式（１）で表される化合物を含む、
モノフルオロスルホニル化剤組成物。
一般式（１）中、Ｘ１は、窒素原子又はＣ（Ｒ１）であり、Ｘ２は、窒素原子又はＣ（Ｒ２）であり、Ｙ１は、窒素原子又はＣ（Ｒ３）であり、Ｙ２は、窒素原子又はＣ（Ｒ４）であり、
Ｒ１～Ｒ４は、それぞれ独立に、水素原子又は１価若しくは２価の置換基であり、
Ｒ１～Ｒ４の隣り合う２個が２価の置換基であり、これらが互いに結合して環を形成していてもよく、該環は１価の置換基Ｒ５を有していてもよく、
ｎは１～３の整数であり、
Ｒ１が複数存在する場合のＲ１は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、Ｒ２が複数存在する場合のＲ２は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、Ｒ５が複数存在する場合のＲ５は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、
Ｒ１～Ｒ５の少なくとも１つが１価の置換基として存在し、１価の置換基のうちｐ個は、ＥＷＧで表される電子求引基であり、ｐは１以上の整数である。
モノフルオロスルホニル化剤組成物。
【化1】
Ｒ１～Ｒ４は、それぞれ独立に、水素原子又は１価若しくは２価の置換基であり、
Ｒ１～Ｒ４の隣り合う２個が２価の置換基であり、これらが互いに結合して環を形成していてもよく、該環は１価の置換基Ｒ５を有していてもよく、
ｎは１～３の整数であり、
Ｒ１が複数存在する場合のＲ１は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、Ｒ２が複数存在する場合のＲ２は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、Ｒ５が複数存在する場合のＲ５は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、
Ｒ１～Ｒ５の少なくとも１つが１価の置換基として存在し、１価の置換基のうちｐ個は、ＥＷＧで表される電子求引基であり、ｐは１以上の整数である。
【請求項2】
下記一般式（２ａ）：
（一般式（２ａ）中、Ｘ１１は、窒素原子又はＣ（Ｒ１１）であり、Ｘ１２は、窒素原子又はＣ（Ｒ１２）であり、Ｙ１１は、窒素原子又はＣ（Ｒ１３）であり、Ｙ１２は、窒素原子又はＣ（Ｒ１４）であり、
Ｒ１１～Ｒ１４は、それぞれ独立に、水素原子又は１価の置換基であり、
Ｒ１１～Ｒ１４の少なくとも１つが１価の置換基として存在し、１価の置換基のうちｑ個は、ＥＷＧで表される電子求引基であり、ｑは１～４の整数である。）で表される化合物及び／又は下記一般式（２ｂ）：
（一般式（２ｂ）中、Ｘ２１は、窒素原子又はＣ（Ｒ２１）であり、Ｘ２２は、窒素原子又はＣ（Ｒ２２）であり、Ｘ２３は、窒素原子又はＣ（Ｒ２３）であり、Ｘ２４は、窒素原子又はＣ（Ｒ２４）であり、Ｙ２１は、窒素原子又はＣ（Ｒ２５）であり、Ｙ２２は、窒素原子又はＣ（Ｒ２６）であり、
Ｒ２１～Ｒ２６は、それぞれ独立に、水素原子又は１価若しくは２価の置換基であり、
Ｒ２１～Ｒ２６の隣り合う２個が２価の置換基であり、これらが互いに結合して環を形成していてもよく、該環は１価の置換基Ｒ２７を有していてもよく、
Ｒ２７が複数存在する場合のＲ２７は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、
Ｒ２１～Ｒ２７の少なくとも１つが１価の置換基として存在し、１価の置換基のうちｒ個は、ＥＷＧで表される電子求引基であり、ｒは１以上の整数である。）で表される化合物を含む、
モノフルオロスルホニル化剤組成物。
【化2】
Ｒ１１～Ｒ１４は、それぞれ独立に、水素原子又は１価の置換基であり、
Ｒ１１～Ｒ１４の少なくとも１つが１価の置換基として存在し、１価の置換基のうちｑ個は、ＥＷＧで表される電子求引基であり、ｑは１～４の整数である。）で表される化合物及び／又は下記一般式（２ｂ）：
【化3】
Ｒ２１～Ｒ２６は、それぞれ独立に、水素原子又は１価若しくは２価の置換基であり、
Ｒ２１～Ｒ２６の隣り合う２個が２価の置換基であり、これらが互いに結合して環を形成していてもよく、該環は１価の置換基Ｒ２７を有していてもよく、
Ｒ２７が複数存在する場合のＲ２７は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、
Ｒ２１～Ｒ２７の少なくとも１つが１価の置換基として存在し、１価の置換基のうちｒ個は、ＥＷＧで表される電子求引基であり、ｒは１以上の整数である。）で表される化合物を含む、
モノフルオロスルホニル化剤組成物。
【請求項3】
前記一般式（２ａ）中、Ｘ１１がＣ（Ｒ１１）であり、Ｘ１２がＣ（Ｒ１２）であり、Ｙ１１がＣ（Ｒ１３）であり、Ｙ１２が窒素原子であり、Ｒ１１、Ｒ１２が、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、又は、ＥＷＧで表される電子求引基であり、Ｒ１１、Ｒ１２の少なくとも一方が、ＥＷＧで表される電子求引基であり、Ｒ１３が、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、又は、イソプロピル基であり、
前記一般式（２ｂ）中、Ｘ２１は、Ｃ（Ｒ２１）であり、Ｘ２２は、Ｃ（Ｒ２２）であり、Ｘ２３は、Ｃ（Ｒ２３）であり、Ｘ２４は、Ｃ（Ｒ２４）であり、Ｙ２１は、窒素原子又はＣ（Ｒ２５）であり、Ｙ２２は、窒素原子又はＣ（Ｒ２６）であり、Ｙ２１、Ｙ２２の少なくとも一方が窒素原子であり、Ｒ２２、Ｒ２３の一方がＥＷＧで表される電子求引基であり、他方が水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、又はイソプロピル基であり、Ｒ２１、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６が、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、又はイソプロピル基である請求項２に記載のモノフルオロスルホニル化剤組成物。
前記一般式（２ｂ）中、Ｘ２１は、Ｃ（Ｒ２１）であり、Ｘ２２は、Ｃ（Ｒ２２）であり、Ｘ２３は、Ｃ（Ｒ２３）であり、Ｘ２４は、Ｃ（Ｒ２４）であり、Ｙ２１は、窒素原子又はＣ（Ｒ２５）であり、Ｙ２２は、窒素原子又はＣ（Ｒ２６）であり、Ｙ２１、Ｙ２２の少なくとも一方が窒素原子であり、Ｒ２２、Ｒ２３の一方がＥＷＧで表される電子求引基であり、他方が水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、又はイソプロピル基であり、Ｒ２１、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６が、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、又はイソプロピル基である請求項２に記載のモノフルオロスルホニル化剤組成物。
【請求項4】
前記電子求引基は、ニトロ基、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、トリフルオロメチル基、アルキルカルボニルオキシ基、ホルミル基、アルキルカルボニル基、又は、アルコキシカルボニル基である請求項１～３のいずれか１項に記載のモノフルオロスルホニル化剤組成物。
【請求項5】
請求項１～３のいずれか１項に記載のモノフルオロスルホニル化剤組成物を、
一般式（３）：
Ａｒ－ＯＨ （３）
（一般式（３）中、Ａｒは芳香環基又は置換芳香環基を表す。）
で表される芳香族ヒドロキシル化合物と反応させる、
モノフルオロスルホニルオキシ化合物の製造方法。
一般式（３）：
Ａｒ－ＯＨ （３）
（一般式（３）中、Ａｒは芳香環基又は置換芳香環基を表す。）
で表される芳香族ヒドロキシル化合物と反応させる、
モノフルオロスルホニルオキシ化合物の製造方法。
【請求項6】
非求核性強塩基の存在下で前記モノフルオロスルホニル化剤組成物を前記芳香族ヒドロキシル化合物と反応させる
請求項５に記載のモノフルオロスルホニルオキシ化合物の製造方法。
請求項５に記載のモノフルオロスルホニルオキシ化合物の製造方法。
【請求項7】
下記一般式（４ａ）～（４ｄ）のいずれかで表される化合物。
一般式（４ａ）中、Ｒは、炭素数１～８のアルキル基を表す。ＮＯ２基は、環上の、Ｒが結合していない炭素原子に結合している。一般式（４ｄ）中、ＮＯ２基は、六員環上の、窒素原子が結合していない炭素原子に結合している。
【化4】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、フェノール性水酸基等の官能基を含む基質をモノフルオロスルホニル化できるモノフルオロスルホニル化剤組成物、これを用いたモノフルオロスルホニルオキシ化合物の製造方法、及び、新規化合物に関するものである。
【背景技術】
【0002】
モノフルオロスルホニル基（ＦＳＯ２－）はカップリング反応やコバレントボンドドラッグ等に利用される有用な官能基である。
フェノール性水酸基のモノフルオロスルホニル化は、医薬品や素材開発における重要な反応である。例えば、ＳｈａｒｐｌｅｓｓらがＦＳＯ２－イミダゾリウム－トリフラート塩を用いたフェノールのモノフルオロスルホニル化（ＦＳＯ２化）反応を報告している（非特許文献１）。同様の内容について、中国化学院上海机科学研究所が特許出願を行っている（特許文献１）。
フェノール性水酸基のモノフルオロスルホニル化は、医薬品や素材開発における重要な反応である。例えば、ＳｈａｒｐｌｅｓｓらがＦＳＯ２－イミダゾリウム－トリフラート塩を用いたフェノールのモノフルオロスルホニル化（ＦＳＯ２化）反応を報告している（非特許文献１）。同様の内容について、中国化学院上海机科学研究所が特許出願を行っている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特表２０２１－５０４３５４号公報
【非特許文献】
【0004】
【非特許文献1】Ｔ．Ｇｕｏ，Ｇ．Ｍｅｎｇ，Ｘ．Ｚｈａｎ，Ｑ．Ｙａｎｇ，Ｔ．Ｍａ，Ｌ．Ｘｕ，Ｋ．Ｂ．Ｓｈａｒｐｌｅｓｓ，Ｊ．Ｄｏｎ，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．，２０１８，５７，２６０５－２６１０．
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、上述した特許文献１、非特許文献１記載の手法では、ＦＳＯ２－イミダゾリウム－トリフラート塩を合成するために、アゾール類のモノフルオロスルホニル化反応とメチルトリフラート塩にする反応の計２段階の反応が必要である点、２段階目の反応では発煙性のあるメチルトリフラート（ＭｅＯＴｆ）を使用する点が課題であった。
またモノフルオロスルホニル化試薬について、その経済性や副生成物削減等の観点から、さらなる検討の余地が残されていた。
またモノフルオロスルホニル化試薬について、その経済性や副生成物削減等の観点から、さらなる検討の余地が残されていた。
【0006】
本開示はこのような事情に鑑みてなされたものである。本開示では、簡便に製造できるモノフルオロスルホニル化剤組成物であって、副生成物の生成を抑制しながら、フェノール性水酸基等の官能基を有する基質を収率よくモノフルオロスルホニル化することができるモノフルオロスルホニル化剤組成物を提供することを課題とする。また、上記モノフルオロスルホニル化剤組成物を用いた、モノフルオロスルホニルオキシ化合物の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
そこで本発明者らは、上記課題を鑑み、鋭意検討を行った。その結果、本開示の、アゾール類のモノフルオロスルホニル化反応のみの１段階反応で簡便に製造できるフリー体であるモノフルオロスルホニル化剤を含むモノフルオロスルホニル化剤組成物により、副生成物の生成を抑制しながら、フェノール性水酸基等の官能基を有する基質を収率よくモノフルオロスルホニル化できることを見出した。
【0008】
すなわち、本開示は、以下の［１］－［７］に記載する発明を提供する。
【0009】
［１］
下記一般式（１）で表される化合物を含む、
モノフルオロスルホニル化剤組成物。
一般式（１）中、Ｘ１は、窒素原子又はＣ（Ｒ１）であり、Ｘ２は、窒素原子又はＣ（Ｒ２）であり、Ｙ１は、窒素原子又はＣ（Ｒ３）であり、Ｙ２は、窒素原子又はＣ（Ｒ４）であり、
Ｒ１～Ｒ４は、それぞれ独立に、水素原子又は１価若しくは２価の置換基であり、
Ｒ１～Ｒ４の隣り合う２個が２価の置換基であり、これらが互いに結合して環を形成していてもよく、該環は１価の置換基Ｒ５を有していてもよく、
ｎは１～３の整数であり、
Ｒ１が複数存在する場合のＲ１は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、Ｒ２が複数存在する場合のＲ２は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、Ｒ５が複数存在する場合のＲ５は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、
Ｒ１～Ｒ５の少なくとも１つが１価の置換基として存在し、１価の置換基のうちｐ個は、ＥＷＧで表される電子求引基であり、ｐは１以上の整数である。
下記一般式（１）で表される化合物を含む、
モノフルオロスルホニル化剤組成物。
【化1】
Ｒ１～Ｒ４は、それぞれ独立に、水素原子又は１価若しくは２価の置換基であり、
Ｒ１～Ｒ４の隣り合う２個が２価の置換基であり、これらが互いに結合して環を形成していてもよく、該環は１価の置換基Ｒ５を有していてもよく、
ｎは１～３の整数であり、
Ｒ１が複数存在する場合のＲ１は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、Ｒ２が複数存在する場合のＲ２は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、Ｒ５が複数存在する場合のＲ５は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、
Ｒ１～Ｒ５の少なくとも１つが１価の置換基として存在し、１価の置換基のうちｐ個は、ＥＷＧで表される電子求引基であり、ｐは１以上の整数である。
【0010】
［２］
下記一般式（２ａ）：
（一般式（２ａ）中、Ｘ１１は、窒素原子又はＣ（Ｒ１１）であり、Ｘ１２は、窒素原子又はＣ（Ｒ１２）であり、Ｙ１１は、窒素原子又はＣ（Ｒ１３）であり、Ｙ１２は、窒素原子又はＣ（Ｒ１４）であり、
Ｒ１１～Ｒ１４は、それぞれ独立に、水素原子又は１価の置換基であり、
Ｒ１１～Ｒ１４の少なくとも１つが１価の置換基として存在し、１価の置換基のうちｑ個は、ＥＷＧで表される電子求引基であり、ｑは１～４の整数である。）で表される化合物及び／又は下記一般式（２ｂ）：
（一般式（２ｂ）中、Ｘ２１は、窒素原子又はＣ（Ｒ２１）であり、Ｘ２２は、窒素原子又はＣ（Ｒ２２）であり、Ｘ２３は、窒素原子又はＣ（Ｒ２３）であり、Ｘ２４は、窒素原子又はＣ（Ｒ２４）であり、Ｙ２１は、窒素原子又はＣ（Ｒ２５）であり、Ｙ２２は、窒素原子又はＣ（Ｒ２６）であり、
Ｒ２１～Ｒ２６は、それぞれ独立に、水素原子又は１価若しくは２価の置換基であり、
Ｒ２１～Ｒ２６の隣り合う２個が２価の置換基であり、これらが互いに結合して環を形成していてもよく、該環は１価の置換基Ｒ２７を有していてもよく、
Ｒ２７が複数存在する場合のＲ２７は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、
Ｒ２１～Ｒ２７の少なくとも１つが１価の置換基として存在し、１価の置換基のうちｒ個は、ＥＷＧで表される電子求引基であり、ｒは１以上の整数である。）で表される化合物を含む、
モノフルオロスルホニル化剤組成物。
下記一般式（２ａ）：
【化2】
Ｒ１１～Ｒ１４は、それぞれ独立に、水素原子又は１価の置換基であり、
Ｒ１１～Ｒ１４の少なくとも１つが１価の置換基として存在し、１価の置換基のうちｑ個は、ＥＷＧで表される電子求引基であり、ｑは１～４の整数である。）で表される化合物及び／又は下記一般式（２ｂ）：
【化3】
Ｒ２１～Ｒ２６は、それぞれ独立に、水素原子又は１価若しくは２価の置換基であり、
Ｒ２１～Ｒ２６の隣り合う２個が２価の置換基であり、これらが互いに結合して環を形成していてもよく、該環は１価の置換基Ｒ２７を有していてもよく、
Ｒ２７が複数存在する場合のＲ２７は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、
Ｒ２１～Ｒ２７の少なくとも１つが１価の置換基として存在し、１価の置換基のうちｒ個は、ＥＷＧで表される電子求引基であり、ｒは１以上の整数である。）で表される化合物を含む、
モノフルオロスルホニル化剤組成物。
【0011】
［３］
前記一般式（２ａ）中、Ｘ１１がＣ（Ｒ１１）であり、Ｘ１２がＣ（Ｒ１２）であり、Ｙ１１がＣ（Ｒ１３）であり、Ｙ１２が窒素原子であり、Ｒ１１、Ｒ１２が、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、又は、ＥＷＧで表される電子求引基であり、Ｒ１１、Ｒ１２の少なくとも一方が、ＥＷＧで表される電子求引基であり、Ｒ１３が、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、又は、イソプロピル基であり、
前記一般式（２ｂ）中、Ｘ２１は、Ｃ（Ｒ２１）であり、Ｘ２２は、Ｃ（Ｒ２２）であり、Ｘ２３は、Ｃ（Ｒ２３）であり、Ｘ２４は、Ｃ（Ｒ２４）であり、Ｙ２１は、窒素原子又はＣ（Ｒ２５）であり、Ｙ２２は、窒素原子又はＣ（Ｒ２６）であり、Ｙ２１、Ｙ２２の少なくとも一方が窒素原子であり、Ｒ２２、Ｒ２３の一方がＥＷＧで表される電子求引基であり、他方が水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、又はイソプロピル基であり、Ｒ２１、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６が、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、又はイソプロピル基である［２］に記載のモノフルオロスルホニル化剤組成物。
前記一般式（２ａ）中、Ｘ１１がＣ（Ｒ１１）であり、Ｘ１２がＣ（Ｒ１２）であり、Ｙ１１がＣ（Ｒ１３）であり、Ｙ１２が窒素原子であり、Ｒ１１、Ｒ１２が、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、又は、ＥＷＧで表される電子求引基であり、Ｒ１１、Ｒ１２の少なくとも一方が、ＥＷＧで表される電子求引基であり、Ｒ１３が、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、又は、イソプロピル基であり、
前記一般式（２ｂ）中、Ｘ２１は、Ｃ（Ｒ２１）であり、Ｘ２２は、Ｃ（Ｒ２２）であり、Ｘ２３は、Ｃ（Ｒ２３）であり、Ｘ２４は、Ｃ（Ｒ２４）であり、Ｙ２１は、窒素原子又はＣ（Ｒ２５）であり、Ｙ２２は、窒素原子又はＣ（Ｒ２６）であり、Ｙ２１、Ｙ２２の少なくとも一方が窒素原子であり、Ｒ２２、Ｒ２３の一方がＥＷＧで表される電子求引基であり、他方が水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、又はイソプロピル基であり、Ｒ２１、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６が、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、又はイソプロピル基である［２］に記載のモノフルオロスルホニル化剤組成物。
【0012】
［４］
前記電子求引基は、ニトロ基、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、トリフルオロメチル基、アルキルカルボニルオキシ基、ホルミル基、アルキルカルボニル基、又は、アルコキシカルボニル基である［１］～［３］のいずれか１項に記載のモノフルオロスルホニル化剤組成物。
前記電子求引基は、ニトロ基、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、トリフルオロメチル基、アルキルカルボニルオキシ基、ホルミル基、アルキルカルボニル基、又は、アルコキシカルボニル基である［１］～［３］のいずれか１項に記載のモノフルオロスルホニル化剤組成物。
【0013】
［５］
［１］～［４］のいずれか１項に記載のモノフルオロスルホニル化剤組成物を、
一般式（３）：
Ａｒ－ＯＨ （３）
（一般式（３）中、Ａｒは芳香環基又は置換芳香環基を表す。）
で表される芳香族ヒドロキシル化合物と反応させる、
モノフルオロスルホニルオキシ化合物の製造方法。
［１］～［４］のいずれか１項に記載のモノフルオロスルホニル化剤組成物を、
一般式（３）：
Ａｒ－ＯＨ （３）
（一般式（３）中、Ａｒは芳香環基又は置換芳香環基を表す。）
で表される芳香族ヒドロキシル化合物と反応させる、
モノフルオロスルホニルオキシ化合物の製造方法。
【0014】
［６］
非求核性強塩基の存在下で前記モノフルオロスルホニル化剤組成物を前記芳香族ヒドロキシル化合物と反応させる［５］に記載のモノフルオロスルホニルオキシ化合物の製造方法。
非求核性強塩基の存在下で前記モノフルオロスルホニル化剤組成物を前記芳香族ヒドロキシル化合物と反応させる［５］に記載のモノフルオロスルホニルオキシ化合物の製造方法。
【0015】
［７］
下記一般式（４ａ）～（４ｄ）のいずれかで表される化合物。
一般式（４ａ）中、Ｒは、炭素数１～８のアルキル基を表す。ＮＯ２基は、環上の、Ｒが結合していない炭素原子に結合している。一般式（４ｄ）中、ＮＯ２基は、六員環上の、窒素原子が結合していない炭素原子に結合している。
下記一般式（４ａ）～（４ｄ）のいずれかで表される化合物。
【化4】
【発明の効果】
【0016】
本開示によれば、アゾール類のモノフルオロスルホニル化反応のみの１段階反応で簡便に製造できるフリー体を用いて、副生成物の生成を抑制しながら、フェノール性水酸基等の官能基を有する基質を収率よくモノフルオロスルホニル化することができるモノフルオロスルホニル化剤組成物を提供することができる。また、上記モノフルオロスルホニル化剤組成物を用いたモノフルオロスルホニルオキシ化合物の製造方法を提供することができる。更に、上記フリー体に該当する新規な化合物を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【0017】
本開示において、副生成物の生成が抑制され、収率に優れるが、その理由は以下のように推測される。本開示では、モノフルオロスルホニル化剤組成物として、電子求引基を有するアゾール類由来の化合物を使用することにより、当該化合物からアゾールが脱離し易く、目的物であるモノフルオロスルホニルオキシ化合物が得られやすい。
【0018】
以下、本開示を詳細に説明する。以下、本開示の実施態様について説明するが、本開示は以下の実施の態様に限定されるものではなく、本開示の趣旨を損なわない範囲で、当業者の通常の知識に基づいて、適宜実施することができる。
【0019】
＜モノフルオロスルホニル化剤組成物＞
（モノフルオロスルホニル化剤）
本開示のモノフルオロスルホニル化剤組成物（以下、本開示の組成物ともいう）は、モノフルオロスルホニル化剤として、下記一般式（１）で表される化合物を含む。
（モノフルオロスルホニル化剤）
本開示のモノフルオロスルホニル化剤組成物（以下、本開示の組成物ともいう）は、モノフルオロスルホニル化剤として、下記一般式（１）で表される化合物を含む。
【0020】
【化5】
【0021】
一般式（１）中、Ｘ１は、窒素原子又はＣ（Ｒ１）であり、Ｘ２は、窒素原子又はＣ（Ｒ２）であり、Ｙ１は、窒素原子又はＣ（Ｒ３）であり、Ｙ２は、窒素原子又はＣ（Ｒ４）であり、
Ｒ１～Ｒ４は、それぞれ独立に、水素原子又は１価若しくは２価の置換基であり、
Ｒ１～Ｒ４の隣り合う２個が２価の置換基であり、これらが互いに結合して環を形成していてもよく、該環は１価の置換基Ｒ５を有していてもよく、
ｎは１～３の整数であり、
Ｒ１が複数存在する場合のＲ１は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、Ｒ２が複数存在する場合のＲ２は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、Ｒ５が複数存在する場合のＲ５は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、
Ｒ１～Ｒ５の少なくとも１つが１価の置換基として存在し、１価の置換基のうちｐ個は、ＥＷＧで表される電子求引基であり、ｐは１以上の整数である。
Ｒ１～Ｒ４は、それぞれ独立に、水素原子又は１価若しくは２価の置換基であり、
Ｒ１～Ｒ４の隣り合う２個が２価の置換基であり、これらが互いに結合して環を形成していてもよく、該環は１価の置換基Ｒ５を有していてもよく、
ｎは１～３の整数であり、
Ｒ１が複数存在する場合のＲ１は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、Ｒ２が複数存在する場合のＲ２は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、Ｒ５が複数存在する場合のＲ５は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、
Ｒ１～Ｒ５の少なくとも１つが１価の置換基として存在し、１価の置換基のうちｐ個は、ＥＷＧで表される電子求引基であり、ｐは１以上の整数である。
【0022】
ＥＷＧで表される電子求引基とは、Ｉ効果（誘起効果（inductive effect））による、イミダゾール部位の電子密度を低下させる性質を有する基のことである。
ＥＷＧで表される電子求引基としては、ニトロ基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、カルボキシル基、トリフルオロメチル基、アルキルカルボニルオキシ基、ホルミル基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基から選択される基が好適なものとして挙げられる。目的物の収率をより高いものとする観点からは、電子求引基は、ニトロ基、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、トリフルオロメチル基、アルコキシカルボニル基から選択される基がより好ましく、ニトロ基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基から選択される基が更に好ましく、ニトロ基、ハロゲン原子から選択される基が特に好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。アルキルカルボニルオキシ基、アルキルカルボニル基におけるアルキル基の炭素数は、１～８が好ましく、１～３がより好ましく、１が更に好ましい。アルコキシカルボニル基におけるアルコキシ基の炭素数は、１～８が好ましく、１～３がより好ましく、１が更に好ましい。
ＥＷＧで表される電子求引基としては、ニトロ基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、カルボキシル基、トリフルオロメチル基、アルキルカルボニルオキシ基、ホルミル基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基から選択される基が好適なものとして挙げられる。目的物の収率をより高いものとする観点からは、電子求引基は、ニトロ基、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、トリフルオロメチル基、アルコキシカルボニル基から選択される基がより好ましく、ニトロ基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基から選択される基が更に好ましく、ニトロ基、ハロゲン原子から選択される基が特に好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。アルキルカルボニルオキシ基、アルキルカルボニル基におけるアルキル基の炭素数は、１～８が好ましく、１～３がより好ましく、１が更に好ましい。アルコキシカルボニル基におけるアルコキシ基の炭素数は、１～８が好ましく、１～３がより好ましく、１が更に好ましい。
【0023】
ｐは、一般式（１）で表される化合物が有する、ＥＷＧで表される電子求引基の数を表し、１以上の整数である。ｐは、１～５の整数であることが好ましく、１～３の整数であることがより好ましく、１又は２であることが更に好ましい。
例えば、Ｒ１、Ｒ２のいずれか１個又はそれぞれ１個ずつが電子求引基であること、又は、Ｒ５の１個が電子求引基であることが特に好ましい。
例えば、Ｒ１、Ｒ２のいずれか１個又はそれぞれ１個ずつが電子求引基であること、又は、Ｒ５の１個が電子求引基であることが特に好ましい。
【0024】
一般式（１）中、Ｘ１、Ｘ２、Ｙ１、Ｙ２のうち、通常は０～３個が窒素原子であり、０～２個が窒素原子であることが好ましく、１個又は２個が窒素原子であることがより好ましく、１個が窒素原子であることが更に好ましい。
例えば、Ｘ１は、Ｃ（Ｒ１）であり、Ｘ２は、Ｃ（Ｒ２）であることが好ましい。また、Ｙ１、Ｙ２の一方又は両方が、窒素原子であることが好ましい。言い換えれば、Ｙ１が窒素原子であり、Ｙ２がＣ（Ｒ４）であるか、Ｙ１がＣ（Ｒ３）であり、Ｙ２が窒素原子であるか、Ｙ１及びＹ２がそれぞれ窒素原子であることが好ましい。中でも、Ｙ１、Ｙ２の一方が、窒素原子であることがより好ましい。
例えば、Ｘ１は、Ｃ（Ｒ１）であり、Ｘ２は、Ｃ（Ｒ２）であることが好ましい。また、Ｙ１、Ｙ２の一方又は両方が、窒素原子であることが好ましい。言い換えれば、Ｙ１が窒素原子であり、Ｙ２がＣ（Ｒ４）であるか、Ｙ１がＣ（Ｒ３）であり、Ｙ２が窒素原子であるか、Ｙ１及びＹ２がそれぞれ窒素原子であることが好ましい。中でも、Ｙ１、Ｙ２の一方が、窒素原子であることがより好ましい。
【0025】
Ｒ１～Ｒ４における１価の置換基は、炭素数１～６の直鎖状の脂肪族炭化水素基、炭素数３～６の分枝状の脂肪族炭化水素基、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基、炭素数４～９の芳香族複素環基、又は、電子求引基であることが好ましい。
【0026】
炭素数１～６の直鎖状の脂肪族炭化水素基としては、炭素数１～６の直鎖状のアルキル基、炭素数２～６の直鎖状のアルケニル基、及び炭素数２～６の直鎖状のアルキニル基が挙げられ、中でも炭素数１～６の直鎖状のアルキル基が好ましい。
炭素数１～６の直鎖状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基等が挙げられる。
炭素数１～６の直鎖状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基等が挙げられる。
【0027】
炭素数３～６の分枝状の脂肪族炭化水素基としては、炭素数３～６の分枝状のアルキル基、炭素数３～６の分枝状のアルケニル基、及び炭素数３～６の分枝状のアルキニル基が挙げられ、中でも炭素数３～６の分枝状のアルキル基が好ましい。
炭素数３～６の分枝状のアルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基等が挙げられる。
炭素数３～６の分枝状のアルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基等が挙げられる。
【0028】
炭素数６～１４の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ベンジル基、ナフチル基、アントリル基等が挙げられる。
炭素数４～９の芳香族複素環基としては、ピロール基、ピラジン基、ピリミジン基、ピリダジン基等が挙げられる。
炭素数４～９の芳香族複素環基としては、ピロール基、ピラジン基、ピリミジン基、ピリダジン基等が挙げられる。
【0029】
Ｒ１～Ｒ４における１価の置換基は、中でも、炭素数１～６の直鎖状のアルキル基、炭素数３～６の分枝状のアルキル基、又は、電子求引基であることが好ましく、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、又は、電子求引基であることがより好ましい。
【0030】
Ｒ１～Ｒ４の隣り合う２個が２価の置換基であり、これらが互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ１～Ｒ４の隣り合う２個としては、Ｒ１とＲ２の隣り合う２個、Ｒ２とＲ４の隣り合う２個、Ｒ３とＲ４の隣り合う２個が挙げられる。Ｒ１～Ｒ４の隣り合う２個が結合して形成される環は、特に限定されないが、例えば、炭素数６～１４の芳香族炭化水素環（例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環）又は炭素数４～９の芳香族複素環（例えば、ピロール環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環）が挙げられる。上記環は、アルキル基等の置換基Ｒ５を有していてもよく、置換基の炭素数は上記の環の炭素数に含めない。
【0031】
Ｒ５は、炭素数１～６の直鎖状のアルキル基、炭素数３～６の分枝状のアルキル基、又は、電子求引基であることが好ましい。
【0032】
炭素数１～６の直鎖状のアルキル基、炭素数３～６の分枝状のアルキル基としては、それぞれ、Ｒ１～Ｒ４における１価の置換基としての炭素数１～６の直鎖状のアルキル基、炭素数３～６の分枝状のアルキル基に記載の例が挙げられる。
【0033】
Ｒ５は、中でも、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、又は、電子求引基であることが好ましい。
【0034】
例えば、Ｒ１とＲ２の隣り合う２個が結合して環を形成することが好ましい。Ｒ１とＲ２の隣り合う２個が結合して形成される環は、特に限定されないが、例えば、置換基Ｒ５を有していてもよい炭素数６～１４の芳香族炭化水素環（例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環）であることが好ましく、置換基Ｒ５を有していてもよい炭素数６～１０の芳香族炭化水素環（例えば、ベンゼン環、ナフタレン環）であることがより好ましく、置換基Ｒ５を有していてもよいベンゼン環であることが更に好ましい。
【0035】
一般式（１）中、ｎは１又は２であることが好ましく、１であることがより好ましい。
【0036】
本開示の組成物は、モノフルオロスルホニル化剤として、下記一般式（２ａ）：
（一般式（２ａ）中、Ｘ１１は、窒素原子又はＣ（Ｒ１１）であり、Ｘ１２は、窒素原子又はＣ（Ｒ１２）であり、Ｙ１１は、窒素原子又はＣ（Ｒ１３）であり、Ｙ１２は、窒素原子又はＣ（Ｒ１４）であり、
Ｒ１１～Ｒ１４は、それぞれ独立に、水素原子又は１価の置換基であり、
Ｒ１１～Ｒ１４の少なくとも１つが１価の置換基として存在し、１価の置換基のうちｑ個は、ＥＷＧで表される電子求引基であり、ｑは１～４の整数である。）で表される化合物及び／又は下記一般式（２ｂ）：
（一般式（２ｂ）中、Ｘ２１は、窒素原子又はＣ（Ｒ２１）であり、Ｘ２２は、窒素原子又はＣ（Ｒ２２）であり、Ｘ２３は、窒素原子又はＣ（Ｒ２３）であり、Ｘ２４は、窒素原子又はＣ（Ｒ２４）であり、Ｙ２１は、窒素原子又はＣ（Ｒ２５）であり、Ｙ２２は、窒素原子又はＣ（Ｒ２６）であり、
Ｒ２１～Ｒ２６は、それぞれ独立に、水素原子又は１価若しくは２価の置換基であり、
Ｒ２１～Ｒ２６の隣り合う２個が２価の置換基であり、これらが互いに結合して環を形成していてもよく、該環は１価の置換基Ｒ２７を有していてもよく、
Ｒ２７が複数存在する場合のＲ２７は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、
Ｒ２１～Ｒ２７の少なくとも１つが１価の置換基として存在し、１価の置換基のうちｒ個は、ＥＷＧで表される電子求引基であり、ｒは１以上の整数である。）で表される化合物を含むことが好ましい。
【化6】
Ｒ１１～Ｒ１４は、それぞれ独立に、水素原子又は１価の置換基であり、
Ｒ１１～Ｒ１４の少なくとも１つが１価の置換基として存在し、１価の置換基のうちｑ個は、ＥＷＧで表される電子求引基であり、ｑは１～４の整数である。）で表される化合物及び／又は下記一般式（２ｂ）：
【化7】
Ｒ２１～Ｒ２６は、それぞれ独立に、水素原子又は１価若しくは２価の置換基であり、
Ｒ２１～Ｒ２６の隣り合う２個が２価の置換基であり、これらが互いに結合して環を形成していてもよく、該環は１価の置換基Ｒ２７を有していてもよく、
Ｒ２７が複数存在する場合のＲ２７は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、
Ｒ２１～Ｒ２７の少なくとも１つが１価の置換基として存在し、１価の置換基のうちｒ個は、ＥＷＧで表される電子求引基であり、ｒは１以上の整数である。）で表される化合物を含むことが好ましい。
【0037】
一般式（２ａ）、（２ｂ）中、ＥＷＧで表される電子求引基は、一般式（１）で上述した電子求引基と同様である。
【0038】
一般式（２ａ）中、ｑは、一般式（２ａ）で表される化合物が有する、ＥＷＧで表される電子求引基の数を表し、１～４の整数である。ｑは、１～３の整数であることが好ましく、１又は２であることがより好ましい。
例えば、Ｒ１１、Ｒ１２のいずれか又はそれぞれが電子求引基であることが更に好ましい。
例えば、Ｒ１１、Ｒ１２のいずれか又はそれぞれが電子求引基であることが更に好ましい。
【0039】
一般式（２ａ）中、Ｘ１１、Ｘ１２、Ｙ１１、Ｙ１２のうち、通常は０～３個が窒素原子であり、０～２個が窒素原子であることが好ましく、１個又は２個が窒素原子であることがより好ましく、１個が窒素原子であることが更に好ましい。
例えば、Ｘ１１は、Ｃ（Ｒ１１）であり、Ｘ１２は、Ｃ（Ｒ１２）であることが好ましい。また、Ｙ１１、Ｙ１２の一方又は両方が、窒素原子であることが好ましい。言い換えれば、Ｙ１１が窒素原子であり、Ｙ１２がＣ（Ｒ１４）であるか、Ｙ１１がＣ（Ｒ１３）であり、Ｙ１２が窒素原子であるか、Ｙ１１及びＹ１２がそれぞれ窒素原子であることが好ましい。中でも、Ｙ１１、Ｙ１２の一方が、窒素原子であることがより好ましく、Ｙ１１がＣ（Ｒ１３）であり、Ｙ１２が窒素原子であることが更に好ましい。
例えば、Ｘ１１は、Ｃ（Ｒ１１）であり、Ｘ１２は、Ｃ（Ｒ１２）であることが好ましい。また、Ｙ１１、Ｙ１２の一方又は両方が、窒素原子であることが好ましい。言い換えれば、Ｙ１１が窒素原子であり、Ｙ１２がＣ（Ｒ１４）であるか、Ｙ１１がＣ（Ｒ１３）であり、Ｙ１２が窒素原子であるか、Ｙ１１及びＹ１２がそれぞれ窒素原子であることが好ましい。中でも、Ｙ１１、Ｙ１２の一方が、窒素原子であることがより好ましく、Ｙ１１がＣ（Ｒ１３）であり、Ｙ１２が窒素原子であることが更に好ましい。
【0040】
また例えば、Ｘ１１は、Ｃ（Ｒ１１）であり、Ｒ１１は、水素原子であり、Ｘ１２は、Ｃ（Ｒ１２）であり、Ｒ１２は、ＥＷＧで表される電子求引基であるニトロ基であり、Ｙ１１がＣ（Ｒ１３）であり、Ｒ１３は、水素原子であり、Ｙ１２が窒素原子であり、ｑは１であることが好ましい。この化合物は、４－ニトロイミダゾールのモノフルオロスルホニル化反応により得られる化合物であり、本明細書中、４－ニトロイミダゾールＳＯ２Ｆともいう。
これにより、副生成物の生成が抑制され、収率に優れる効果が顕著になるが、その理由は以下のように推測される。当該化合物から脱離したアゾールは、極性官能基であるニトロ基を有するため、反応液中で溶解度が低く、析出する結果、目的物のモノフルオロスルホニル基と反応しにくく、副生成物の生成を抑えることができる。
これにより、副生成物の生成が抑制され、収率に優れる効果が顕著になるが、その理由は以下のように推測される。当該化合物から脱離したアゾールは、極性官能基であるニトロ基を有するため、反応液中で溶解度が低く、析出する結果、目的物のモノフルオロスルホニル基と反応しにくく、副生成物の生成を抑えることができる。
【0041】
Ｒ１１～Ｒ１４における１価の置換基は、炭素数１～６の直鎖状の脂肪族炭化水素基、炭素数３～６の分枝状の脂肪族炭化水素基、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基、炭素数４～９の芳香族複素環基、又は、電子求引基であることが好ましい。
炭素数１～６の直鎖状の脂肪族炭化水素基、炭素数３～６の分枝状の脂肪族炭化水素基、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基、炭素数４～９の芳香族複素環基は、それぞれ、一般式（１）において上述した炭素数１～６の直鎖状の脂肪族炭化水素基、炭素数３～６の分枝状の脂肪族炭化水素基、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基、炭素数４～９の芳香族複素環基と同様である。
炭素数１～６の直鎖状の脂肪族炭化水素基、炭素数３～６の分枝状の脂肪族炭化水素基、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基、炭素数４～９の芳香族複素環基は、それぞれ、一般式（１）において上述した炭素数１～６の直鎖状の脂肪族炭化水素基、炭素数３～６の分枝状の脂肪族炭化水素基、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基、炭素数４～９の芳香族複素環基と同様である。
【0042】
Ｒ１１～Ｒ１４における１価の置換基は、中でも、炭素数１～６の直鎖状のアルキル基、炭素数３～６の分枝状のアルキル基、又は、電子求引基であることが好ましく、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、又は、電子求引基であることがより好ましい。
【0043】
以下に一般式（２ａ）で表される化合物が有する好ましいアゾール骨格を例示するが、これらに限定されるものではない。
【0044】
【化8】
【0045】
一般式（２ａ－２）中、Ｒは、一般式（２ａ）におけるＲ１３と同様である。
中でも、一般式（２ａ）で表される化合物が、一般式（２ａ－１）で表されるアゾール骨格又は一般式（２ａ－２）で表されるアゾール骨格を有することが好ましい。
中でも、一般式（２ａ）で表される化合物が、一般式（２ａ－１）で表されるアゾール骨格又は一般式（２ａ－２）で表されるアゾール骨格を有することが好ましい。
【0046】
一般式（２ｂ）中、ｒは、一般式（２ｂ）で表される化合物が有する、ＥＷＧで表される電子求引基の数を表し、１以上の整数であり、１～５の整数であることが好ましく、１～３の整数であることがより好ましく、１又は２であることが更に好ましく、１であることが一層好ましい。
例えば、Ｒ２２、Ｒ２３のいずれかが電子求引基であることが特に好ましい。
例えば、Ｒ２２、Ｒ２３のいずれかが電子求引基であることが特に好ましい。
【0047】
一般式（２ｂ）中、Ｘ２１、Ｘ２２、Ｘ２３、Ｘ２４、Ｙ２１、Ｙ２２のうち、通常は０～５個が窒素原子であり、０～３個が窒素原子であることが好ましく、０～２個が窒素原子であることがより好ましく、１個又は２個が窒素原子であることが更に好ましく、１個が窒素原子であることが一層好ましい。
例えば、Ｘ２１は、Ｃ（Ｒ２１）であり、Ｘ２２は、Ｃ（Ｒ２２）であり、Ｘ２３は、Ｃ（Ｒ２３）であり、Ｘ２４は、Ｃ（Ｒ２４）であることが好ましい。また、Ｙ２１、Ｙ２２の一方又は両方が、窒素原子であることが好ましい。言い換えれば、Ｙ２１が窒素原子であり、Ｙ２２がＣ（Ｒ２６）であるか、Ｙ２１がＣ（Ｒ２５）であり、Ｙ２２が窒素原子であるか、Ｙ２１及びＹ２２がそれぞれ窒素原子であることが好ましい。中でも、Ｙ２１、Ｙ２２の一方が、窒素原子であることがより好ましく、Ｙ２１が窒素原子であり、Ｙ２２がＣ（Ｒ２６）であることが更に好ましい。
例えば、Ｘ２１は、Ｃ（Ｒ２１）であり、Ｘ２２は、Ｃ（Ｒ２２）であり、Ｘ２３は、Ｃ（Ｒ２３）であり、Ｘ２４は、Ｃ（Ｒ２４）であることが好ましい。また、Ｙ２１、Ｙ２２の一方又は両方が、窒素原子であることが好ましい。言い換えれば、Ｙ２１が窒素原子であり、Ｙ２２がＣ（Ｒ２６）であるか、Ｙ２１がＣ（Ｒ２５）であり、Ｙ２２が窒素原子であるか、Ｙ２１及びＹ２２がそれぞれ窒素原子であることが好ましい。中でも、Ｙ２１、Ｙ２２の一方が、窒素原子であることがより好ましく、Ｙ２１が窒素原子であり、Ｙ２２がＣ（Ｒ２６）であることが更に好ましい。
【0048】
Ｒ２１～Ｒ２６における１価の置換基は、炭素数１～６の直鎖状の脂肪族炭化水素基、炭素数３～６の分枝状の脂肪族炭化水素基、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基、炭素数４～９の芳香族複素環基、又は、電子求引基であることが好ましい。
炭素数１～６の直鎖状の脂肪族炭化水素基、炭素数３～６の分枝状の脂肪族炭化水素基、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基、炭素数４～９の芳香族複素環基は、それぞれ、一般式（１）において上述した炭素数１～６の直鎖状の脂肪族炭化水素基、炭素数３～６の分枝状の脂肪族炭化水素基、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基、炭素数４～９の芳香族複素環基と同様である。
炭素数１～６の直鎖状の脂肪族炭化水素基、炭素数３～６の分枝状の脂肪族炭化水素基、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基、炭素数４～９の芳香族複素環基は、それぞれ、一般式（１）において上述した炭素数１～６の直鎖状の脂肪族炭化水素基、炭素数３～６の分枝状の脂肪族炭化水素基、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基、炭素数４～９の芳香族複素環基と同様である。
【0049】
Ｒ２１～Ｒ２６における１価の置換基は、中でも、炭素数１～６の直鎖状のアルキル基、炭素数３～６の分枝状のアルキル基、又は、電子求引基であることが好ましく、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、又は、電子求引基であることがより好ましい。
【0050】
Ｒ２１～Ｒ２６の隣り合う２個が２価の置換基であり、これらが互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ２１～Ｒ２６の隣り合う２個としては、Ｒ２１とＲ２２の隣り合う２個、Ｒ２２とＲ２３の隣り合う２個、Ｒ２３とＲ２４の隣り合う２個、Ｒ２５とＲ２６の隣り合う２個が挙げられる。Ｒ２１～Ｒ２６の隣り合う２個が結合して形成される環は、特に限定されないが、例えば、炭素数６～１４の芳香族炭化水素環（例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環）又は炭素数４～９の芳香族複素環（例えば、ピロール環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環）が挙げられる。上記環は、アルキル基等の置換基Ｒ２７を有していてもよく、置換基の炭素数は上記の環の炭素数に含めない。
【0051】
Ｒ２７は、炭素数１～６の直鎖状のアルキル基、炭素数３～６の分枝状のアルキル基、又は、電子求引基であることが好ましい。
【0052】
炭素数１～６の直鎖状のアルキル基、炭素数３～６の分枝状のアルキル基としては、それぞれ、一般式（１）において上述した炭素数１～６の直鎖状のアルキル基、炭素数３～６の分枝状のアルキル基に記載の例が挙げられる。
【0053】
Ｒ２７は、中でも、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、又は、電子求引基であることが好ましい。
【0054】
Ｒ２１～Ｒ２６は、水素原子又は１価の置換基であることが好ましい。
【0055】
以下に一般式（２ｂ）で表される化合物が有する好ましいアゾール骨格を例示するが、これらに限定されるものではない。
【0056】
【化9】
【0057】
一般式（２ｂ－１）～（２ｂ－３）中、Ｒは、一般式（２ｂ）におけるＲ２１～Ｒ２４における水素原子又は１価の置換基と同様である。
中でも、一般式（２ｂ）で表される化合物が、一般式（２ｂ－２）で表されるアゾール骨格を有することが好ましい。
中でも、一般式（２ｂ）で表される化合物が、一般式（２ｂ－２）で表されるアゾール骨格を有することが好ましい。
【0058】
目的物の収率をより高いものとする観点からは、本開示の組成物は、上記一般式（２ａ）で表される化合物を含むことが好ましい。
【0059】
上述の一般式（１）で表される化合物（好ましくは、上述の一般式（２ａ）で表される化合物及び／又は一般式（２ｂ）で表される化合物。以下同様。）は、下記反応式で表されるアゾール類のモノフルオロスルホニル化反応により１段階で簡便に製造できる。
【0060】
【化10】
【0061】
モノフルオロスルホニル化反応は、塩基の存在下でおこなうことが好ましい。塩基としては、例えば炭酸ナトリウム等の無機塩基が好適なものとして挙げられる。また、モノフルオロスルホニル化反応は、反応溶媒を用いて行うことが好ましい。反応溶媒としては、特に限定されないが、ニトリル系溶媒、ケトン系溶媒が好ましく、アセトニトリル、アセトンがより好ましい。
【0062】
フッ化スルフリル（ＳＯ２Ｆ２）の使用量としては、特に制限は無いが、一般式（１ａ）で表される原料化合物１モルに対して１～２０モルが好ましく、１．１～５モルがより好ましい。
【0063】
塩基の使用量としては、特に制限は無いが、一般式（１ａ）で表される原料化合物１モルに対して１～２０モルが好ましく、１．５～５モルがより好ましい。
【0064】
モノフルオロスルホニル化反応の反応時間は、例えば１０分～８０時間とすることができ、３～２４時間が好ましい。
【0065】
上述の一般式（１）で表される化合物を含むモノフルオロスルホニル化剤組成物を用いることにより、フェノール性水酸基等を有する基質をモノフルオロスルホニル化することが可能となる。本開示の好ましい態様の１つとして、上述の一般式（１）で表される化合物と、塩基と、を含むモノフルオロスルホニル化剤組成物が挙げられる。塩基は、非求核性強塩基であることが好ましい。
【0066】
特定の塩基を更に含むモノフルオロスルホニル化剤組成物（以下、モノフルオロスルホニル化剤組成物、又は単に組成物ともいう）により、副生成物の生成を抑制しながら、フェノール性水酸基に対して選択的にモノフルオロスルホニル化できる。また、モノフルオロスルホニル化剤組成物が特定の塩基を含むことにより、再現性よく収率に優れる、モノフルオロスルホニルオキシ化合物の製造方法を提供することができる。
【0067】
なお、本明細書において、モノフルオロスルホニル化剤がフェノール性水酸基に対して「選択的に反応する」とは、フェノール性水酸基に対して優先的にモノフルオロスルホニル化反応が進行することを意味する。
本開示の組成物は、一般式（１）で表される化合物を含む。一般式（１）で表される化合物は２種類以上を組み合わせてもよい。
組成物の全質量に対し、一般式（１）で表される化合物が８０％以上含まれることが好ましく、９０％以上含まれることがより好ましい。
本開示の組成物は、一般式（１）で表される化合物を含む。一般式（１）で表される化合物は２種類以上を組み合わせてもよい。
組成物の全質量に対し、一般式（１）で表される化合物が８０％以上含まれることが好ましく、９０％以上含まれることがより好ましい。
【0068】
（塩基）
本開示のモノフルオロスルホニル化剤組成物は、塩基を含んでいてもよい。塩基は、無機塩基であってもよく、有機塩基であってもよい。
無機塩基としては、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩；リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、リチウムエトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、リチウムイソプロポキシド、ナトリウムイソプロポキシド、カリウムイソプロポキシド、リチウムｔｅｒｔ－ブトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ－ブトキシドおよびカリウムｔｅｒｔ－ブトキシド等のアルカリ金属のアルコキシドが挙げられる。
有機塩基としては、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリｎ－プロピルアミン、４－ジメチルアミノピリジン、後述する非求核性強塩基の具体例等が挙げられる。
中でも、塩基としては、非求核性強塩基が好ましい。
なお、塩基は２種類以上を組み合わせてもよい。
本開示のモノフルオロスルホニル化剤組成物は、塩基を含んでいてもよい。塩基は、無機塩基であってもよく、有機塩基であってもよい。
無機塩基としては、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩；リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、リチウムエトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、リチウムイソプロポキシド、ナトリウムイソプロポキシド、カリウムイソプロポキシド、リチウムｔｅｒｔ－ブトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ－ブトキシドおよびカリウムｔｅｒｔ－ブトキシド等のアルカリ金属のアルコキシドが挙げられる。
有機塩基としては、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリｎ－プロピルアミン、４－ジメチルアミノピリジン、後述する非求核性強塩基の具体例等が挙げられる。
中でも、塩基としては、非求核性強塩基が好ましい。
なお、塩基は２種類以上を組み合わせてもよい。
【0069】
本明細書において、非求核性強塩基とは、立体的な障害により窒素原子上の孤立電子対の求核性が弱く、且つ、塩基性度（非求核性強塩基のプロトン付加体のｐＫａＨ）が後述する好ましい数値範囲内の塩基を意味する。
【0070】
非求核性強塩基としては、下記一般式（Ａ）で表される化合物であることが好ましい。
（一般式（Ａ）中、Ｒ１００～Ｒ１０２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～６の直鎖状の脂肪族炭化水素基、炭素数３～６の分枝状の脂肪族炭化水素基、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基、又は炭素数４～９の芳香族複素環基であり、Ｒ１０３は、水素原子、炭素数１～６の直鎖状の脂肪族炭化水素基、炭素数３～６の分枝状の脂肪族炭化水素基、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基、炭素数４～９の芳香族複素環基、又はＮＲ１０４Ｒ１０５であり、Ｒ１０４、Ｒ１０５は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～６の直鎖状の脂肪族炭化水素基、炭素数３～６の分枝状の脂肪族炭化水素基、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基、又は炭素数４～９の芳香族複素環基であり、Ｒ１００とＲ１０１は結合して環を形成していてもよく、Ｒ１０２とＲ１０３は結合して環を形成していてもよい。）
【化11】
【0071】
Ｒ１００～Ｒ１０５の炭素数１～６の直鎖状の脂肪族炭化水素基、炭素数３～６の分枝状の脂肪族炭化水素基、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基、炭素数４～９の芳香族複素環基は、前記一般式（１）で説明したものと同様である。
【0072】
Ｒ１００～Ｒ１０２としては、水素原子、炭素数１～６の直鎖状の脂肪族炭化水素基が好ましく、水素原子、炭素数１～３の直鎖状の脂肪族炭化水素基がより好ましく、水素原子、炭素数１～２の直鎖状の脂肪族炭化水素基が更に好ましい。また、Ｒ１０３は、ＮＲ１０４Ｒ１０５であることが好ましく、当該Ｒ１０４、Ｒ１０５は、水素原子、炭素数１～６の直鎖状の脂肪族炭化水素基が好ましく、水素原子、炭素数１～３の直鎖状の脂肪族炭化水素基がより好ましく、水素原子、炭素数１～２の直鎖状の脂肪族炭化水素基が更に好ましい。なお、直鎖状の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状のアルキル基が好ましい。
【0073】
より好適な態様としては、Ｒ１００とＲ１０１が結合して環を形成、又はＲ１０２とＲ１０３が結合して環を形成していることが好ましく、Ｒ１００とＲ１０１が結合して環を形成、及びＲ１０２とＲ１０３が結合して環を形成していることがより好ましい。Ｒ１００とＲ１０１が結合して環を形成、及びＲ１０２とＲ１０３が結合して環を形成している場合、前記一般式（Ａ）で表される化合物は、下記一般式（Ａ－１）で表される化合物となる。
（一般式（Ａ－１）中、Ｒ１０６、Ｒ１０７は、それぞれ独立に、２価の基である。）
【化12】
【0074】
Ｒ１００とＲ１０１が結合して形成される基（Ｒ１０６）、Ｒ１０２とＲ１０３が結合して形成される基（Ｒ１０７）は、２価の基であれば特に限定されないが、例えば、ヘテロ原子を含んでもよい２価の炭化水素基が挙げられる。該炭化水素基の炭素数は、好ましくは２～１５、より好ましくは３～１０、更に好ましくは３～６である。
【0075】
前記炭化水素基としては、例えば、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基等が挙げられる。なかでも、アルキレン基が好ましい。
【0076】
アルキレン基としては、例えば、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、へプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基等が挙げられる。なかでも、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基が好ましい。
【0077】
アルケニレン基としては、例えば、１－プロペニレン基、２－プロペニレン基、１－ブテニレン基、２－ブテニレン基、１－ペンテニレン基、２－ペンテニレン基、１－ヘキセニレン基、２－ヘキセニレン基、１－オクテニレン基等が挙げられる。
【0078】
アルキニレン基としては、例えば、エチニレン基、プロピニレン基、ブチニレン基、ペンチニレン基、ヘキシニレン基、へプチニレン基、オクチニレン基、ノニニレン基、デシニレン基、ウンデシニレン基、ドデシニレン基等が挙げられる。
【0079】
前記炭化水素基は、ヘテロ原子を含んでもよいがヘテロ原子を含まないことが好ましい。なお、ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、ケイ素原子等が挙げられる。
【0080】
前記一般式（Ａ－１）で表される化合物について、Ｒ１０６、Ｒ１０７の説明を行ったが、前記一般式（Ａ）で表される化合物において、Ｒ１００とＲ１０１が結合して環を形成、又はＲ１０２とＲ１０３が結合して環を形成している場合、すなわち、形成される環が１個の場合についても、Ｒ１０６、Ｒ１０７は、好ましい態様も含めて、前記一般式（Ａ－１）で表される化合物の場合と同様である。
【0081】
前記一般式（Ａ）で表される化合物としては、特に限定されないが、後述する炭素数が４以上である複素環基を有する化合物の他、例えば、１，１，３，３－テトラメチルグアニジン、１，１，３，３－テトラエチルグアニジン、１，１，３，３－テトラプロピルグアニジン、１，１，３－トリメチルグアニジン、１，３，３－トリメチルグアニジン、１，１，３－トリエチルグアニジン、１，３，３－トリエチルグアニジン、１，１，３－トリプロピルグアニジン、１，３，３－トリプロピルグアニジン等が挙げられる。
【0082】
非求核性強塩基としては、有機塩基であることが好ましく、複素環基含有有機塩基であることがより好ましく、炭素数が４以上である複素環基を有する化合物であることが更に好ましく、窒素原子を有し炭素数が４以上である複素環基を有する化合物が特に好ましい。
具体的には、例えば、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン、１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］ノネン、ピリジン、２，３－ルチジン、２，４－ルチジン、２，５－ルチジン、２，６－ルチジン、３，４－ルチジン、３，５－ルチジン、２，３，４－コリジン、２，４，５－コリジン、２，５，６－コリジン、２，４，６－コリジン、３，４，５－コリジン、及び３，５，６－コリジン等が挙げられる。
具体的には、例えば、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン、１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］ノネン、ピリジン、２，３－ルチジン、２，４－ルチジン、２，５－ルチジン、２，６－ルチジン、３，４－ルチジン、３，５－ルチジン、２，３，４－コリジン、２，４，５－コリジン、２，５，６－コリジン、２，４，６－コリジン、３，４，５－コリジン、及び３，５，６－コリジン等が挙げられる。
【0083】
前記複素環基含有有機塩基を用いることにより、より好適に再現性よく収率に優れる、モノフルオロスルホニルオキシ化合物の製造方法を提供することができる傾向がある。
【0084】
非求核性強塩基の塩基性度が高い方が、より好適に再現性よく収率に優れる傾向があるため、非求核性強塩基のプロトン付加体のｐＫａＨは、好ましくは９．０以上、より好ましくは１０．０以上、更に好ましくは１１．０以上、特に好ましくは１２．０以上、最も好ましくは１３．０以上であり、上限は特に限定されないが、例えば、３７以下である。
なお、非求核性強塩基の塩基性度が高い方が、より好適に再現性よく収率に優れる傾向がある理由は、以下のように推測される。塩基性度の高い非求核性強塩基の存在により、酸性度の高い一般式（３）で表される芳香族ヒドロキシル化合物が有する水酸基が脱プロトン化されたフェノキシドイオンが生じて共存しやすくなり、この際、一般式（１）で表される化合物の反応性は比較的低いため、系中に存在する最も求核性の高いフェノキシドイオンによって優先的に反応が進行する。一方、一般式（３）で表される芳香族ヒドロキシル化合物がアミノ基を有する場合には、アミノ基は脱プロトンされず、アミノ基のまま存在し、反応性が比較的低い一般式（１）で表される化合物とは反応できない。このように、塩基性度の高い非求核性強塩基の存在による、一般式（３）で表される芳香族ヒドロキシル化合物が有する水酸基の選択的な脱プロトン化によるフェノキシドイオンの生成により、結果として、水酸基において選択的に反応が進行するためと推測される。
本明細書において、非求核性強塩基のプロトン付加体のｐＫａＨは、非求核性強塩基をジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）に溶解して、２５℃で測定される。
なお、非求核性強塩基の塩基性度が高い方が、より好適に再現性よく収率に優れる傾向がある理由は、以下のように推測される。塩基性度の高い非求核性強塩基の存在により、酸性度の高い一般式（３）で表される芳香族ヒドロキシル化合物が有する水酸基が脱プロトン化されたフェノキシドイオンが生じて共存しやすくなり、この際、一般式（１）で表される化合物の反応性は比較的低いため、系中に存在する最も求核性の高いフェノキシドイオンによって優先的に反応が進行する。一方、一般式（３）で表される芳香族ヒドロキシル化合物がアミノ基を有する場合には、アミノ基は脱プロトンされず、アミノ基のまま存在し、反応性が比較的低い一般式（１）で表される化合物とは反応できない。このように、塩基性度の高い非求核性強塩基の存在による、一般式（３）で表される芳香族ヒドロキシル化合物が有する水酸基の選択的な脱プロトン化によるフェノキシドイオンの生成により、結果として、水酸基において選択的に反応が進行するためと推測される。
本明細書において、非求核性強塩基のプロトン付加体のｐＫａＨは、非求核性強塩基をジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）に溶解して、２５℃で測定される。
【0085】
非求核性強塩基は、２５℃で液状であることが好ましい。２５℃で液状である非求核性強塩基（好ましくは非求核性強有機塩基）を使用することにより、より好適に再現性よく収率に優れる、モノフルオロスルホニルオキシ化合物の製造方法を提供することができる傾向がある。
なお、本明細書において、２５℃で液状とは、２５℃において、流動性を有するもので、クリーム状やペースト状のものも含まれる。
なお、本明細書において、２５℃で液状とは、２５℃において、流動性を有するもので、クリーム状やペースト状のものも含まれる。
【0086】
非求核性強塩基は、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン（ＤＢＵ）（ｐＫａＨ＝１３．９）、１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］ノネン（ＤＢＮ）（ｐＫａＨ＝１３．４）、１，１，３，３－テトラメチルグアニジン（ＴＭＧ）（ｐＫａＨ＝１３．６）、２－ｔｅｒｔ－ブチル－１，１，３，３－テトラメチルグアニジン、１，５，７－トリアザビシクロ［４．４．０］デカ－５－エン（ＴＢＤ）（ｐＫａＨ＝１５．３）、７－メチル－１，５，７－トリアザビシクロ［４．４．０］デカ－５－エン（ＭＴＢＤ）（ｐＫａＨ＝１４．８）、イミノ－トリス（ジメチルアミノ）ホスホラン（ｐＫａＨ＝１６．４）、ホスファゼン塩基Ｐ１－ｔ－Ｂｕ（ｐＫａＨ＝１５．７）、ホスファゼン塩基Ｐ２－ｔ－Ｂｕ、ホスファゼン塩基Ｐ４－ｔ－Ｂｕ（ｐＫａＨ＝３０．２５）、及びリチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）（ｐＫａＨ＝３６、ＴＨＦ）からなる群より選ばれるいずれかであることが好ましい。
中でも、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン（ＤＢＵ）（ｐＫａＨ＝１３．９）、１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］ノネン（ＤＢＮ）（ｐＫａＨ＝１３．４）、又は１，１，３，３－テトラメチルグアニジン（ＴＭＧ）（ｐＫａＨ＝１３．６）が好ましく、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン（ＤＢＵ）（ｐＫａＨ＝１３．９）が特に好ましい。これらの塩基は単独又は組み合わせて使用することができる。
中でも、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン（ＤＢＵ）（ｐＫａＨ＝１３．９）、１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］ノネン（ＤＢＮ）（ｐＫａＨ＝１３．４）、又は１，１，３，３－テトラメチルグアニジン（ＴＭＧ）（ｐＫａＨ＝１３．６）が好ましく、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン（ＤＢＵ）（ｐＫａＨ＝１３．９）が特に好ましい。これらの塩基は単独又は組み合わせて使用することができる。
【0087】
本開示の効果がより好適に得られるという理由から、本開示のモノフルオロスルホニル化剤組成物において、塩基１００モル％中、非求核性強塩基の合計含有率は、好ましくは８０モル％以上、より好ましくは９０モル％以上、更に好ましくは９５モル％以上、特に好ましくは９８モル％以上、最も好ましくは１００モル％である。
【0088】
塩基の使用量としては、特に制限は無いが、後述の被モノフルオロスルホニル化合物１モルに対して通常は０．０１～３０モルが好ましく、０．０１～２５モルがより好ましく、１～２０モルが更に好ましい。なお、後述するように、特定の条件下では、塩基の使用量を触媒量とすることが好ましい場合がある。
【0089】
また、本開示の組成物は、更に溶媒を含んでいても良い。
溶媒としては、上記一般式（１）で表される化合物、上記塩基を溶解するものであれば特に限定されないが、例えば、後述のモノフルオロスルホニル化の反応溶媒を挙げることができる。
溶媒としては、上記一般式（１）で表される化合物、上記塩基を溶解するものであれば特に限定されないが、例えば、後述のモノフルオロスルホニル化の反応溶媒を挙げることができる。
【0090】
＜モノフルオロスルホニルオキシ化合物の製造方法＞
本開示の組成物を用いたモノフルオロスルホニルオキシ化合物の製造方法（以下、製造方法ともいう）は、上述のモノフルオロスルホニル化剤組成物を、下記一般式（３）で表される化合物と反応させる工程を含む。
本開示の組成物を用いたモノフルオロスルホニルオキシ化合物の製造方法（以下、製造方法ともいう）は、上述のモノフルオロスルホニル化剤組成物を、下記一般式（３）で表される化合物と反応させる工程を含む。
【0091】
（被モノフルオロスルホニル化合物）
前記のモノフルオロスルホニル化剤組成物でモノフルオロスルホニル化される化合物（以下、被モノフルオロスルホニル化合物、ともいう）は、下記一般式（３）で表される芳香族ヒドロキシル化合物である。
一般式（３）：
Ａｒ－ＯＨ （３）
一般式（３）中、Ａｒは芳香環基又は置換芳香環基を表す。
前記のモノフルオロスルホニル化剤組成物でモノフルオロスルホニル化される化合物（以下、被モノフルオロスルホニル化合物、ともいう）は、下記一般式（３）で表される芳香族ヒドロキシル化合物である。
一般式（３）：
Ａｒ－ＯＨ （３）
一般式（３）中、Ａｒは芳香環基又は置換芳香環基を表す。
【0092】
一般式（３）で表される芳香環ヒドロキシル化合物のＡｒは、芳香環基又は置換芳香環基を表す。
該芳香環基は、特に限定されないが、単環であっても多環であってもよく、炭素数１～１８の芳香環基が好ましく、例えば、フェニル基、ナフチル基及びアントリル基等の芳香族炭化水素基や、ピロリル基（窒素保護体も含む）、ピリジル基、ピラジル基、ピリミジル基、ピリダジル基、トリアジル基、フリル基、チエニル基、インドリル基（窒素保護体も含む）、インダゾリル基、キノリル基、カルバゾリル基、ピロロピリジル基、ベンゾフリル基及びベンゾチエニル基等の窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子等のヘテロ原子を含む芳香族複素環基が挙げられる。
上記一般式（３）中、Ａｒが芳香環基を表し、前記芳香環基が、芳香族複素環基であることが好ましい。
該芳香環基は、特に限定されないが、単環であっても多環であってもよく、炭素数１～１８の芳香環基が好ましく、例えば、フェニル基、ナフチル基及びアントリル基等の芳香族炭化水素基や、ピロリル基（窒素保護体も含む）、ピリジル基、ピラジル基、ピリミジル基、ピリダジル基、トリアジル基、フリル基、チエニル基、インドリル基（窒素保護体も含む）、インダゾリル基、キノリル基、カルバゾリル基、ピロロピリジル基、ベンゾフリル基及びベンゾチエニル基等の窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子等のヘテロ原子を含む芳香族複素環基が挙げられる。
上記一般式（３）中、Ａｒが芳香環基を表し、前記芳香環基が、芳香族複素環基であることが好ましい。
【0093】
該置換芳香環基は、前記の芳香環基の、任意の炭素原子又は窒素原子上に、任意の数及び任意の組み合わせで、置換基を有する。係る置換基は、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素のハロゲン原子、メチル基、エチル基及びプロピル基等の低級アルキル基、ビニル基、アリル基及びプロパルギル基等の低級不飽和基、フルオロメチル基、クロロメチル基及びブロモメチル基等の低級ハロアルキル基、Ｃ（ＣＦ３）２ＯＨ基（ヒドロキシル基保護体も含む）、メトキシ基、エトキシ基及びプロポキシ基等の低級アルコキシ基、フルオロメトキシ基、クロロメトキシ基及びブロモメトキシ基等の低級ハロアルコキシ基、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基及びブチリルオキシ基等の低級アシルオキシ基、シアノ基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基及びプロポキシカルボニル基等の低級アルコキシカルボニル基、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルエチル基及びプロポキシカルボニルプロピル基等の低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、β－Ｄ－グルコピラノシド基、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ピロリル基（窒素保護体も含む）、ピリジル基、フリル基、チエニル基、インドリル基（窒素保護体も含む）、キノリル基、ベンゾフリル基及びベンゾチエニル基等の芳香環基、カルボキシル基の保護体、アミノ基、アミノ基の保護体、低級アルキルアミノ基、低級アルキルアミノ低級アルキル基、ヒドロキシル基、ヒドロキシル基の保護体、ならびにＸ’－Ａｒ’－ＯＨ基等である。これらの置換基は、更に置換されていてもよく、例えば、前記の“係る置換基は”の置換基により更に置換されていてもよい。
【0094】
上記一般式（３）中、Ａｒが置換芳香環基を表し、前記置換芳香環基が有する置換基が、低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、β－Ｄ－グルコピラノシド基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、又はヒドロキシル基であることが好ましい。
【0095】
Ｘ’－Ａｒ’－ＯＨ基のＸ’は、Ｃ（ＣＨ３）２基、Ｃ（ＣＦ３）２基、酸素原子、窒素原子（窒素保護体も含む）、硫黄原子、ＳＯ基又はＳＯ２基を表し、Ａｒ’は、フェニレン基又は置換フェニレン基を表す。フェニレン基の置換位置は、ヒドロキシル基に対して２位、３位又は４位である。該置換フェニレン基の置換基は、前記の置換芳香環基の置換基と同じである。Ｘ’－Ａｒ’－ＯＨ基が置換した一般式（３）で表される芳香族ヒドロキシル化合物の具体例として、以下の化合物が挙げられる。
【0096】
【化13】
【0097】
なお、本明細書において、低級とは、炭素数１～６の、直鎖状もしくは分枝状の鎖式又は環式（炭素数３以上の場合）であるものを意味する。また、前記の“係る置換基は”の芳香環基には、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級不飽和基、低級ハロアルキル基、Ｃ（ＣＦ３）２ＯＨ基（ヒドロキシル基保護体も含む）、低級アルコキシ基、低級ハロアルコキシ基、ホルミルオキシ基、低級アシルオキシ基、シアノ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、カルボキシル基の保護体、アミノ基の保護体、ヒドロキシル基、ヒドロキシル基の保護体及びＸ’－Ａｒ’－ＯＨ基等が置換することもできる。更に、ピロリル基、インドリル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基及びアミノ基の保護基は、Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｔｈｉｒｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ，１９９９，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．等に記載された保護基である。その中でも芳香環基、ならびに置換基として“ヒドロキシル基”、“芳香環基”及び“Ｘ’－Ａｒ’－ＯＨ基”を除く置換芳香環基が好ましく、芳香族炭化水素基、ならびに置換基として“ヒドロキシル基”、“芳香環基”及び“Ｘ’－Ａｒ’－ＯＨ基”を除く置換芳香族炭化水素基（置換基を有する芳香族炭化水素基）が特に好ましい。ヒドロキシル基を複数有する芳香環ヒドロキシル化合物では、採用する反応条件により、フルオロスルホニル化が複数進行する場合がある。
【0098】
好ましい一態様として、上記一般式（３）で表される芳香族環ヒドロキシル化合物は、アルコール性水酸基及びアミノ基から選択される少なくとも１つを置換基として有する態様が挙げられる。これらの置換基は、更に置換されていても良く、例えば、前記の“係る置換基は”の置換基により更に置換されていてもよい。
【0099】
以下に一般式（３）で表される化合物を例示するが、これらに限定されるものではない。
【0100】
【化14】
【0101】
モノフルオロスルホニル化反応において、上記一般式（３）で表される芳香族ヒドロキシル化合物は、前記一般式（１）で表されるモノフルオロスルホニル化合物１．０ｍｏｌに対して、０．７ｍｏｌ～１．２ｍｏｌ用いられることが好ましい。より好ましくは０．８ｍｏｌ～１．０ｍｏｌである。
【0102】
（溶媒）
上述のモノフルオロスルホニル化反応は、反応溶媒を用いて行うことが好ましい。
モノフルオロスルホニル化の反応溶媒としては、エーテル系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、エステル系溶媒、アミド系溶媒、ニトリル系溶媒、スルホキシド系溶媒、ケトン系溶媒等が挙げられる。
上述のモノフルオロスルホニル化反応は、反応溶媒を用いて行うことが好ましい。
モノフルオロスルホニル化の反応溶媒としては、エーテル系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、エステル系溶媒、アミド系溶媒、ニトリル系溶媒、スルホキシド系溶媒、ケトン系溶媒等が挙げられる。
【0103】
これらの反応溶媒の具体例としては、エーテル系溶媒としては、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，４－ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル等を例示することができる。
脂肪族炭化水素系溶媒としては、ｎ－ヘキサン、ｎ－ヘプタン、ｎ－ペンタン、ｎ－ノナン、ｎ－デカン等を例示することができる。
芳香族炭化水素系溶媒としては、トルエン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン等を例示することができる。
ハロゲン化炭化水素系溶媒としては、塩化メチレン（ジクロロメタン）、クロロホルム、１，２－ジクロロエタン等を例示することができる。
エステル系溶媒としては、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ－ブチル、γ－ブチロラクトン等を例示することができる。
アミド系溶媒としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等を例示することができる。
ニトリル系溶媒としては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等を例示することができる。
スルホキシド系溶媒としては、ジメチルスルホキシド等を例示することができる。
ケトン系溶媒としては、アセトン等を例示することができる。
これらの中でも、入手しやすく、基質及び本開示のモノフルオロスルホニル化剤の溶解性に優れることより、ニトリル系溶媒が好ましく、アセトニトリルが特に好ましい。
これらの反応溶媒は単独又は組み合わせて使用することができる。
脂肪族炭化水素系溶媒としては、ｎ－ヘキサン、ｎ－ヘプタン、ｎ－ペンタン、ｎ－ノナン、ｎ－デカン等を例示することができる。
芳香族炭化水素系溶媒としては、トルエン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン等を例示することができる。
ハロゲン化炭化水素系溶媒としては、塩化メチレン（ジクロロメタン）、クロロホルム、１，２－ジクロロエタン等を例示することができる。
エステル系溶媒としては、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ－ブチル、γ－ブチロラクトン等を例示することができる。
アミド系溶媒としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等を例示することができる。
ニトリル系溶媒としては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等を例示することができる。
スルホキシド系溶媒としては、ジメチルスルホキシド等を例示することができる。
ケトン系溶媒としては、アセトン等を例示することができる。
これらの中でも、入手しやすく、基質及び本開示のモノフルオロスルホニル化剤の溶解性に優れることより、ニトリル系溶媒が好ましく、アセトニトリルが特に好ましい。
これらの反応溶媒は単独又は組み合わせて使用することができる。
【0104】
モノフルオロスルホニル化の反応溶媒の使用量としては、特に制限は無いが、被モノフルオロスルホニル化合物１モルに対して０．０５Ｌ（リットル）以上使用すれば良く、通常は０．１～２０Ｌが好ましく、特に０．１～１０Ｌがより好ましい。
【0105】
（塩基）
上述のモノフルオロスルホニル化反応は、上述した塩基を用いて行うことが好ましい。
塩基は、本開示のモノフルオロスルホニル化剤組成物に含まれるものであってもよく、反応開始時又は反応途中で反応系に添加されるものであってもよい。
塩基の好ましい使用量は、基本的には上述した通りである。
ただし、一般式（１）で表される化合物が４－ニトロイミダゾールＳＯ２Ｆであり、溶媒としてジクロロメタンを用いる場合、塩基として、触媒量（被モノフルオロスルホニル化合物１モルに対して、好ましくは０．０５～０．５モル、より好ましくは０．１５～０．４モル）のＤＢＵを用いることが特に好ましい。これにより、本開示の効果が特異的に優れたものとなる。
上述のモノフルオロスルホニル化反応は、上述した塩基を用いて行うことが好ましい。
塩基は、本開示のモノフルオロスルホニル化剤組成物に含まれるものであってもよく、反応開始時又は反応途中で反応系に添加されるものであってもよい。
塩基の好ましい使用量は、基本的には上述した通りである。
ただし、一般式（１）で表される化合物が４－ニトロイミダゾールＳＯ２Ｆであり、溶媒としてジクロロメタンを用いる場合、塩基として、触媒量（被モノフルオロスルホニル化合物１モルに対して、好ましくは０．０５～０．５モル、より好ましくは０．１５～０．４モル）のＤＢＵを用いることが特に好ましい。これにより、本開示の効果が特異的に優れたものとなる。
【0106】
（反応温度）
モノフルオロスルホニル化の反応温度は特に制限は無いが、１５０℃以下の反応温度で行うことが好ましく、－１００～１５０℃の範囲がより好ましく、－７８～１００℃が更に好ましく、０～５０℃が特に好ましい。
モノフルオロスルホニル化の反応温度は特に制限は無いが、１５０℃以下の反応温度で行うことが好ましく、－１００～１５０℃の範囲がより好ましく、－７８～１００℃が更に好ましく、０～５０℃が特に好ましい。
【0107】
（反応時間）
モノフルオロスルホニル化の反応時間としては、特に制限は無いが、０．１～７２時間の範囲で行えば良く、原料及び反応条件により異なるため、ガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー、ＮＭＲ等の分析手段により、反応の進行状況を追跡して原料が殆ど消失した時点で終点とすることが好ましい。
モノフルオロスルホニル化の反応時間としては、特に制限は無いが、０．１～７２時間の範囲で行えば良く、原料及び反応条件により異なるため、ガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー、ＮＭＲ等の分析手段により、反応の進行状況を追跡して原料が殆ど消失した時点で終点とすることが好ましい。
【0108】
（後処理操作）
上記反応後、モノフルオロスルホニルオキシ化合物を単離するための後処理操作としては、有機合成における一般的な操作を行えば良い。
例えば、反応を不均一反応液で行った場合は、ろ過をおこなうことが好ましい。
上記反応後、モノフルオロスルホニルオキシ化合物を単離するための後処理操作としては、有機合成における一般的な操作を行えば良い。
例えば、反応を不均一反応液で行った場合は、ろ過をおこなうことが好ましい。
【0109】
得られたモノフルオロスルホニルオキシ化合物は、例えば、遷移金属によるカップリング反応等に適宜好ましく用いることができる。
上述のように、本開示の製造方法により得られるモノフルオロスルホニルオキシ化合物は、カップリング反応生成物を従来の方法に比べて格段に効率よく製造することが可能となる。
上述のように、本開示の製造方法により得られるモノフルオロスルホニルオキシ化合物は、カップリング反応生成物を従来の方法に比べて格段に効率よく製造することが可能となる。
【0110】
＜新規化合物＞
本開示は、下記一般式（４ａ）～（４ｄ）のいずれかで表される化合物でもある。
一般式（４ａ）中、Ｒは、炭素数１～８のアルキル基を表す。Ｒは、メチル基を表すことが好ましい。ＮＯ２基は、環上の、Ｒが結合していない炭素原子に結合しており、環上の４位に結合していることが好ましい。一般式（４ｄ）中、ＮＯ２基は、六員環上の、窒素原子が結合していない炭素原子に結合しており、環上の４位又は５位に結合していることが好ましい。
本開示は、下記一般式（４ａ）～（４ｄ）のいずれかで表される化合物でもある。
【化15】
【実施例0111】
以下、実施例により本開示を詳細に説明するが、本開示はこれらの実施例に限定されるものではない。ここで、実施例、比較例において、ＮＭＲ収率（％）とは、核磁気共鳴スペクトル１Ｈ－ＮＭＲ又は１９Ｆ－ＮＭＲの分析により、内部標準法（１Ｈ－ＮＭＲ分析及び１９Ｆ－ＮＭＲにおいては内部標準物質として１，４－ビストリフルオロメチルベンゼン）で定量することで得られた値である。
【0112】
［実施例１］
基質としての４－ニトロイミダゾール３．１８ｇ（２８．１ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、炭酸ナトリウム７．４６ｇ（７０．３ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ．）、反応溶媒としてアセトニトリル２８ｍＬを採取し、容量２００ｍＬのステンレス鋼（ＳＵＳ）製耐圧容器に仕込んだ。続けてフッ化スルフリルガス７．１８ｇ（７０．３ｍｍｏｌ、２，５ｅｑ．）をボンベより徐々に吹き込み、室温で終夜撹拌した。反応液をアセトニトリル５６ｍＬで洗いこみながらセライトろ過し、ろ液を減圧濃縮した。濃縮によって得られた粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製した後、目的物を含む溶液を濃縮することで、単離収率６４％で４－ニトロイミダゾール－１－スルホニルフルオリドを３．５１ｇ得た。
基質としての４－ニトロイミダゾール３．１８ｇ（２８．１ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、炭酸ナトリウム７．４６ｇ（７０．３ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ．）、反応溶媒としてアセトニトリル２８ｍＬを採取し、容量２００ｍＬのステンレス鋼（ＳＵＳ）製耐圧容器に仕込んだ。続けてフッ化スルフリルガス７．１８ｇ（７０．３ｍｍｏｌ、２，５ｅｑ．）をボンベより徐々に吹き込み、室温で終夜撹拌した。反応液をアセトニトリル５６ｍＬで洗いこみながらセライトろ過し、ろ液を減圧濃縮した。濃縮によって得られた粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製した後、目的物を含む溶液を濃縮することで、単離収率６４％で４－ニトロイミダゾール－１－スルホニルフルオリドを３．５１ｇ得た。
【0113】
［物性値］
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：８．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ）,８．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：５９．２（１Ｆ，ｓ）
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：８．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ）,８．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：５９．２（１Ｆ，ｓ）
【0114】
以下に、実施例１における反応を示す。
【0115】
【化16】
【0116】
［実施例２］
基質としての２－メチル－４－ニトロイミダゾール０．９３ｇ（７．３３ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、炭酸ナトリウム１．９４ｇ（１８．３ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ．）、反応溶媒としてアセトニトリル７．３ｍＬを採取し、容量５０ｍＬのステンレス鋼（ＳＵＳ）製耐圧容器に仕込んだ。続けてフッ化スルフリルガス１．８７ｇ（１８．３ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ．）をボンベより徐々に吹き込み、室温で終夜撹拌した。反応液をアセトニトリル１５ｍＬで洗いこみながらセライトろ過し、ろ液を減圧濃縮した。濃縮によって単離収率８７％で２－メチル－４－ニトロイミダゾールスルホニルフルオリドを１．３７ｇ得た。
基質としての２－メチル－４－ニトロイミダゾール０．９３ｇ（７．３３ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、炭酸ナトリウム１．９４ｇ（１８．３ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ．）、反応溶媒としてアセトニトリル７．３ｍＬを採取し、容量５０ｍＬのステンレス鋼（ＳＵＳ）製耐圧容器に仕込んだ。続けてフッ化スルフリルガス１．８７ｇ（１８．３ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ．）をボンベより徐々に吹き込み、室温で終夜撹拌した。反応液をアセトニトリル１５ｍＬで洗いこみながらセライトろ過し、ろ液を減圧濃縮した。濃縮によって単離収率８７％で２－メチル－４－ニトロイミダゾールスルホニルフルオリドを１．３７ｇ得た。
【0117】
［物性値］
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：２．６２（３Ｈ，ｓ），８．３７（１Ｈ，ｓ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：５８．８（１Ｆ，ｓ）
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：２．６２（３Ｈ，ｓ），８．３７（１Ｈ，ｓ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：５８．８（１Ｆ，ｓ）
【0118】
以下に、実施例２における反応を示す。
【0119】
【化17】
【0120】
［実施例３］
基質としての４，５－ジクロロイミダゾール０．５２ｇ（３．７８ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、炭酸ナトリウム１．００ｇ（９．４４ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ．）、反応溶媒としてアセトニトリル３．８ｍＬを採取し、容量２０ｍＬのステンレス鋼（ＳＵＳ）製耐圧容器に仕込んだ。続けてフッ化スルフリルガス０．９６ｇ（９．４４ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ．）をボンベより徐々に吹き込み、室温で終夜撹拌した。反応液をアセトニトリル１２ｍＬで洗いこみながらセライトろ過し、ろ液を減圧濃縮した。濃縮によって単離収率８２％で４，５－ジクロロイミダゾールスルホニルフルオリドを０．６８ｇ得た。
基質としての４，５－ジクロロイミダゾール０．５２ｇ（３．７８ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、炭酸ナトリウム１．００ｇ（９．４４ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ．）、反応溶媒としてアセトニトリル３．８ｍＬを採取し、容量２０ｍＬのステンレス鋼（ＳＵＳ）製耐圧容器に仕込んだ。続けてフッ化スルフリルガス０．９６ｇ（９．４４ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ．）をボンベより徐々に吹き込み、室温で終夜撹拌した。反応液をアセトニトリル１２ｍＬで洗いこみながらセライトろ過し、ろ液を減圧濃縮した。濃縮によって単離収率８２％で４，５－ジクロロイミダゾールスルホニルフルオリドを０．６８ｇ得た。
【0121】
［物性値］
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：８．４６（１Ｈ，ｓ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：５６．８（１Ｆ，ｓ）
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：８．４６（１Ｈ，ｓ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：５６．８（１Ｆ，ｓ）
【0122】
以下に、実施例３における反応を示す。
【0123】
【化18】
【0124】
［実施例４］
基質としての４－トリフルオロメチルイミダゾール０．３７ｇ（２．７２ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、炭酸ナトリウム０．７２ｇ（６．７９ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ．）、反応溶媒としてアセトニトリル２．７ｍＬを採取し、容量２０ｍＬのステンレス鋼（ＳＵＳ）製耐圧容器に仕込んだ。続けてフッ化スルフリルガス０．６９ｇ（６．７９ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ．）をボンベより徐々に吹き込み、室温で終夜撹拌した。反応液をアセトニトリル８ｍＬで洗いこみながらセライトろ過し、ろ液を減圧濃縮した。濃縮によって単離収率８７％で４－トリフルオロメチルイミダゾールスルホニルフルオリドを０．５２ｇ得た。
基質としての４－トリフルオロメチルイミダゾール０．３７ｇ（２．７２ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、炭酸ナトリウム０．７２ｇ（６．７９ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ．）、反応溶媒としてアセトニトリル２．７ｍＬを採取し、容量２０ｍＬのステンレス鋼（ＳＵＳ）製耐圧容器に仕込んだ。続けてフッ化スルフリルガス０．６９ｇ（６．７９ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ．）をボンベより徐々に吹き込み、室温で終夜撹拌した。反応液をアセトニトリル８ｍＬで洗いこみながらセライトろ過し、ろ液を減圧濃縮した。濃縮によって単離収率８７％で４－トリフルオロメチルイミダゾールスルホニルフルオリドを０．５２ｇ得た。
【0125】
［物性値］
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：８．５４（１Ｈ，ｍ），８．６３（１Ｈ，ｓ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：５８．８（１Ｆ，ｓ），６４．９（３Ｆ，ｓ）
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：８．５４（１Ｈ，ｍ），８．６３（１Ｈ，ｓ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：５８．８（１Ｆ，ｓ），６４．９（３Ｆ，ｓ）
【0126】
以下に、実施例４における反応を示す。
【0127】
【化19】
【0128】
［実施例５］
基質としての１Ｈ－イミダゾール－５－カルボン酸メチル０．５１ｇ（４．０３ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、炭酸ナトリウム１．０７ｇ（１０．１ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ．）、反応溶媒としてアセトニトリル４．０ｍＬを採取し、容量２０ｍＬのステンレス鋼（ＳＵＳ）製耐圧容器に仕込んだ。続けてフッ化スルフリルガス１．０３ｇ（１０．１ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ．）をボンベより徐々に吹き込み、室温で終夜撹拌した。反応液をアセトニトリル１２ｍＬで洗いこみながらセライトろ過し、ろ液を減圧濃縮した。濃縮によって単離収率９６％で１－フルオロスルホニル－イミダゾール－５－カルボン酸メチルを０．８１ｇ得た。
基質としての１Ｈ－イミダゾール－５－カルボン酸メチル０．５１ｇ（４．０３ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、炭酸ナトリウム１．０７ｇ（１０．１ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ．）、反応溶媒としてアセトニトリル４．０ｍＬを採取し、容量２０ｍＬのステンレス鋼（ＳＵＳ）製耐圧容器に仕込んだ。続けてフッ化スルフリルガス１．０３ｇ（１０．１ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ．）をボンベより徐々に吹き込み、室温で終夜撹拌した。反応液をアセトニトリル１２ｍＬで洗いこみながらセライトろ過し、ろ液を減圧濃縮した。濃縮によって単離収率９６％で１－フルオロスルホニル－イミダゾール－５－カルボン酸メチルを０．８１ｇ得た。
【0129】
［物性値］
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：３．８７（３Ｈ，ｓ），８．４４（１Ｈ，ｓ），８．４９（１Ｈ，ｓ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：５８．５（１Ｆ，ｓ）
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：３．８７（３Ｈ，ｓ），８．４４（１Ｈ，ｓ），８．４９（１Ｈ，ｓ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：５８．５（１Ｆ，ｓ）
【0130】
以下に、実施例５における反応を示す。
【0131】
【化20】
【0132】
［実施例６］
基質としての５－ニトロベンゾイミダゾール０．６１ｇ（３．７４ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、炭酸ナトリウム０．９９ｇ（９．３５ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ．）、反応溶媒としてアセトニトリル３．７ｍＬを採取し、容量２０ｍＬのステンレス鋼（ＳＵＳ）製耐圧容器に仕込んだ。続けてフッ化スルフリルガス０．９５ｇ（９．３５ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ．）をボンベより徐々に吹き込み、室温で終夜撹拌した。反応液をアセトニトリル１１ｍＬで洗いこみながらセライトろ過し、ろ液を減圧濃縮した。濃縮によってニトロ基の位置異性体混合物として収率３９％で４（５）－ニトロベンゾイミダゾールスルホニルフルオリドを０．３６ｇ得た（ｍａｊｏｒ：ｍｉｎｏｒ＝５６：４４）。
基質としての５－ニトロベンゾイミダゾール０．６１ｇ（３．７４ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、炭酸ナトリウム０．９９ｇ（９．３５ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ．）、反応溶媒としてアセトニトリル３．７ｍＬを採取し、容量２０ｍＬのステンレス鋼（ＳＵＳ）製耐圧容器に仕込んだ。続けてフッ化スルフリルガス０．９５ｇ（９．３５ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ．）をボンベより徐々に吹き込み、室温で終夜撹拌した。反応液をアセトニトリル１１ｍＬで洗いこみながらセライトろ過し、ろ液を減圧濃縮した。濃縮によってニトロ基の位置異性体混合物として収率３９％で４（５）－ニトロベンゾイミダゾールスルホニルフルオリドを０．３６ｇ得た（ｍａｊｏｒ：ｍｉｎｏｒ＝５６：４４）。
【0133】
［物性値］
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：ｍａｊｏｒ：８．０８～８．１２（１Ｈ，ｍ），８．４８～８．５２（１Ｈ，ｍ），８．７１（２Ｈ，ｓ，Ｊ＝２．９Ｈｚ），８．９２（１Ｈ，ｓ）．ｍｉｎｏｒ：８．０８～８．１２（１Ｈ， ｍ），８．４４～８．４７（１Ｈ，ｍ），８．６５（２Ｈ，ｓ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），９．００（１Ｈ，ｓ）．
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：ｍａｊｏｒ：５７．０（１Ｆ，ｓ）．ｍｉｎｏｒ：５７．４（１Ｆ，ｓ）
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：ｍａｊｏｒ：８．０８～８．１２（１Ｈ，ｍ），８．４８～８．５２（１Ｈ，ｍ），８．７１（２Ｈ，ｓ，Ｊ＝２．９Ｈｚ），８．９２（１Ｈ，ｓ）．ｍｉｎｏｒ：８．０８～８．１２（１Ｈ， ｍ），８．４４～８．４７（１Ｈ，ｍ），８．６５（２Ｈ，ｓ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），９．００（１Ｈ，ｓ）．
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：ｍａｊｏｒ：５７．０（１Ｆ，ｓ）．ｍｉｎｏｒ：５７．４（１Ｆ，ｓ）
【0134】
以下に、実施例６における反応を示す。
【0135】
【化21】
【0136】
［実施例７］
基質としての６－ニトロインダゾール０．４９ｇ（３．００ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、炭酸ナトリウム０．４８ｇ（４．５０ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）、反応溶媒としてアセトニトリル３．０ｍＬを採取し、容量２０ｍＬのステンレス鋼（ＳＵＳ）製耐圧容器に仕込んだ。続けてフッ化スルフリルガス０．３７ｇ（３．６０ｍｍｏｌ、１．２ｅｑ．）をボンベより徐々に吹き込み、室温で終夜撹拌した。反応液をアセトニトリル１０ｍＬで洗いこみながらセライトろ過し、ろ液を減圧濃縮した。濃縮によって単離収率９６％で６－ニトロインダゾールスルホニルフルオリドを０．７１ｇ得た。
基質としての６－ニトロインダゾール０．４９ｇ（３．００ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、炭酸ナトリウム０．４８ｇ（４．５０ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）、反応溶媒としてアセトニトリル３．０ｍＬを採取し、容量２０ｍＬのステンレス鋼（ＳＵＳ）製耐圧容器に仕込んだ。続けてフッ化スルフリルガス０．３７ｇ（３．６０ｍｍｏｌ、１．２ｅｑ．）をボンベより徐々に吹き込み、室温で終夜撹拌した。反応液をアセトニトリル１０ｍＬで洗いこみながらセライトろ過し、ろ液を減圧濃縮した。濃縮によって単離収率９６％で６－ニトロインダゾールスルホニルフルオリドを０．７１ｇ得た。
【0137】
［物性値］
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：８．１４（１Ｈ， ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），８．６８（１Ｈ，ｓ），８．７１（１Ｈ，ｓ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：５４．２（１Ｆ，ｓ）
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：８．１４（１Ｈ， ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），８．６８（１Ｈ，ｓ），８．７１（１Ｈ，ｓ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：５４．２（１Ｆ，ｓ）
【0138】
以下に、実施例７における反応を示す。
【0139】
【化22】
【0140】
［比較例１］
基質としてのイミダゾール２０．４ｇ（３００ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、炭酸ナトリウム７９．４ｇ（７４９ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ．）、反応溶媒としてアセトニトリル３００ｍＬを採取し、容量２Ｌのガラスフラスコに仕込んだ。続けてフッ化スルフリルガス３６．７ｇ（３６０ｍｍｏｌ、１．２ｅｑ．）をバルーンより徐々に吹き込み、室温で終夜撹拌した。反応液にジクロロメタン６００ｍＬ、上水３００ｍＬを加え、分液ロートに移液して分層した。得られた有機層を更に上水３００ｍＬで洗浄し、得られた油層を硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた油層をろ過し、３０℃，１００ｋＰａで減圧濃縮することで目的物の粗体を得た。粗体に対してフラッシュ蒸留を行うことによって、ＧＣ純度９９％の目的物を単離収率６２％でイミダゾールスルホニルフルオリドを２８．０ｇ得た。
基質としてのイミダゾール２０．４ｇ（３００ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、炭酸ナトリウム７９．４ｇ（７４９ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ．）、反応溶媒としてアセトニトリル３００ｍＬを採取し、容量２Ｌのガラスフラスコに仕込んだ。続けてフッ化スルフリルガス３６．７ｇ（３６０ｍｍｏｌ、１．２ｅｑ．）をバルーンより徐々に吹き込み、室温で終夜撹拌した。反応液にジクロロメタン６００ｍＬ、上水３００ｍＬを加え、分液ロートに移液して分層した。得られた有機層を更に上水３００ｍＬで洗浄し、得られた油層を硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた油層をろ過し、３０℃，１００ｋＰａで減圧濃縮することで目的物の粗体を得た。粗体に対してフラッシュ蒸留を行うことによって、ＧＣ純度９９％の目的物を単離収率６２％でイミダゾールスルホニルフルオリドを２８．０ｇ得た。
【0141】
［物性値］
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：７．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ），７．８２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１．６Ｈｚ），８．３８（１Ｈ，ｓ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：５７．５（１Ｆ，ｓ）
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：７．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ），７．８２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１．６Ｈｚ），８．３８（１Ｈ，ｓ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：５７．５（１Ｆ，ｓ）
【0142】
以下に、比較例１における反応を示す。
【0143】
【化23】
【0144】
［比較例２］
基質としての２－メチルイミダゾール１１．６ｇ（１４１ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、炭酸ナトリウム２２．４ｇ（２１１ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）、反応溶媒としてアセトニトリル１４１ｍＬを採取し、容量５００ｍＬのステンレス鋼（ＳＵＳ）製耐圧容器に仕込んだ。続けてフッ化スルフリルガス１７．３ｇ（１６９ｍｍｏｌ、１．２ｅｑ．）をボンベより徐々に吹き込み、室温で２日間撹拌した。反応液をアセトニトリル２００ｍＬで洗いこみながらセライトろ過し、ろ液を減圧濃縮した。濃縮によって単離収率５８％で２―メチルイミダゾール―１―スルホニルフルオリドを１３．４ｇ得た。
基質としての２－メチルイミダゾール１１．６ｇ（１４１ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、炭酸ナトリウム２２．４ｇ（２１１ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）、反応溶媒としてアセトニトリル１４１ｍＬを採取し、容量５００ｍＬのステンレス鋼（ＳＵＳ）製耐圧容器に仕込んだ。続けてフッ化スルフリルガス１７．３ｇ（１６９ｍｍｏｌ、１．２ｅｑ．）をボンベより徐々に吹き込み、室温で２日間撹拌した。反応液をアセトニトリル２００ｍＬで洗いこみながらセライトろ過し、ろ液を減圧濃縮した。濃縮によって単離収率５８％で２―メチルイミダゾール―１―スルホニルフルオリドを１３．４ｇ得た。
【0145】
［物性値］
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：２．８８（３Ｈ，ｓ），７．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：５６．８（１Ｆ，ｓ）
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：２．８８（３Ｈ，ｓ），７．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：５６．８（１Ｆ，ｓ）
【0146】
以下に、比較例２における反応を示す。
【0147】
【化24】
【0148】
［比較例３］
基質としてのベンゾイミダゾール１０．３ｇ（８４．９ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、炭酸ナトリウム１３．５ｇ（１２７ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）、反応溶媒としてアセトニトリル８５ｍＬを採取し、容量５００ｍＬのステンレス鋼（ＳＵＳ）製耐圧容器に仕込んだ。続けてフッ化スルフリルガス１０．４ｇ（１０２ｍｍｏｌ、１．２ｅｑ．）をボンベより徐々に吹き込み、室温で終夜撹拌した。反応液をアセトニトリル１７０ｍＬで洗いこみながらセライトろ過し、ろ液を減圧濃縮した。濃縮によって単離収率７８％でベンゾイミダゾールスルホニルフルオリドを１３．２ｇ得た。
基質としてのベンゾイミダゾール１０．３ｇ（８４．９ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、炭酸ナトリウム１３．５ｇ（１２７ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）、反応溶媒としてアセトニトリル８５ｍＬを採取し、容量５００ｍＬのステンレス鋼（ＳＵＳ）製耐圧容器に仕込んだ。続けてフッ化スルフリルガス１０．４ｇ（１０２ｍｍｏｌ、１．２ｅｑ．）をボンベより徐々に吹き込み、室温で終夜撹拌した。反応液をアセトニトリル１７０ｍＬで洗いこみながらセライトろ過し、ろ液を減圧濃縮した。濃縮によって単離収率７８％でベンゾイミダゾールスルホニルフルオリドを１３．２ｇ得た。
【0149】
［物性値］
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：７．５６～７．６５（２Ｈ，ｍ），７．８６～７．９０（２Ｈ，ｍ），８．６６（１Ｈ，ｓ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：５５．１（１Ｆ，ｓ）
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：７．５６～７．６５（２Ｈ，ｍ），７．８６～７．９０（２Ｈ，ｍ），８．６６（１Ｈ，ｓ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：５５．１（１Ｆ，ｓ）
【0150】
以下に、比較例３における反応を示す。
【0151】
【化25】
【0152】
［比較例４］
基質としてのインダゾール０．１６ｇ（１．３０ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、炭酸ナトリウム０．２１ｇ（２．００ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）、反応溶媒としてアセトニトリル１．４ｍＬを採取し、容量１０ｍＬのステンレス鋼（ＳＵＳ）製耐圧容器に仕込んだ。続けてフッ化スルフリルガス０．１７ｇ（１．６０ｍｍｏｌ、１．２ｅｑ．）をボンベより徐々に吹き込み、室温で終夜撹拌した。反応液をアセトニトリル１０ｍＬで洗いこみながらセライトろ過し、ろ液を減圧濃縮した。濃縮によって単離収率９６％でインダゾールスルホニルフルオリドを０．２６ｇ得た。
基質としてのインダゾール０．１６ｇ（１．３０ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、炭酸ナトリウム０．２１ｇ（２．００ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）、反応溶媒としてアセトニトリル１．４ｍＬを採取し、容量１０ｍＬのステンレス鋼（ＳＵＳ）製耐圧容器に仕込んだ。続けてフッ化スルフリルガス０．１７ｇ（１．６０ｍｍｏｌ、１．２ｅｑ．）をボンベより徐々に吹き込み、室温で終夜撹拌した。反応液をアセトニトリル１０ｍＬで洗いこみながらセライトろ過し、ろ液を減圧濃縮した。濃縮によって単離収率９６％でインダゾールスルホニルフルオリドを０．２６ｇ得た。
【0153】
［物性値］
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：７．５１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．９１～７．９５（２Ｈ，ｍ），８．５５（１Ｈ，ｓ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：５２．２（１Ｆ，ｓ）
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：７．５１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．９１～７．９５（２Ｈ，ｍ），８．５５（１Ｈ，ｓ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：５２．２（１Ｆ，ｓ）
【0154】
以下に、比較例４における反応を示す。
【0155】
【化26】
【0156】
［実施例８］
基質としての４－ニトロフェノール５６ｍｇ（０．４０ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、反応溶媒としてテトラヒドロフラン２ｍＬを採取し、反応器である容量２０ｍＬの撹拌子入りガラスフラスコに仕込んだ。続けてジアザビシクロウンデセン７０ｍｇ（０．４４ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）をフラスコに加えて室温で１０分間撹拌した後、対応するアゾールモノスルホニルフルオリド（０．６０ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）を加えて室温で３０分撹拌した。得られた反応液の重さを測った後、内部標準物質として１，４－ＢＩＳ－トリフルオロメチルベンゼンを２１ｍｇ加えて混合する。ろ過を行った後、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で４－ニトロフェノールスルホニルモノフルオリドを定量した。
基質としての４－ニトロフェノール５６ｍｇ（０．４０ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、反応溶媒としてテトラヒドロフラン２ｍＬを採取し、反応器である容量２０ｍＬの撹拌子入りガラスフラスコに仕込んだ。続けてジアザビシクロウンデセン７０ｍｇ（０．４４ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）をフラスコに加えて室温で１０分間撹拌した後、対応するアゾールモノスルホニルフルオリド（０．６０ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）を加えて室温で３０分撹拌した。得られた反応液の重さを測った後、内部標準物質として１，４－ＢＩＳ－トリフルオロメチルベンゼンを２１ｍｇ加えて混合する。ろ過を行った後、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で４－ニトロフェノールスルホニルモノフルオリドを定量した。
【0157】
［物性値］
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：７．６６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．４Ｈｚ），８．３４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．４Ｈｚ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：３８．７（１Ｆ，ｓ）
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：７．６６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．４Ｈｚ），８．３４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．４Ｈｚ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：３８．７（１Ｆ，ｓ）
【0158】
以下に、実施例８における反応を示す。
【0159】
【化27】
【0160】
［実施例９－１４、比較例５－８］
次に、アゾールモノスルホニルフルオリド（アゾール化合物）を変えた他は、実施例８と同様の手順でモノフルオロスルホニル化反応を行った。ＮＭＲ収率の結果を、実施例８―１４及び比較例５－８を併せ、以下の表１にまとめる。
次に、アゾールモノスルホニルフルオリド（アゾール化合物）を変えた他は、実施例８と同様の手順でモノフルオロスルホニル化反応を行った。ＮＭＲ収率の結果を、実施例８―１４及び比較例５－８を併せ、以下の表１にまとめる。
【表1】
【0161】
［実施例１５］
基質としての４－アミノフェノール２４ｍｇ（０．２１ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、反応溶媒として重アセトニトリル１ｍＬを採取し、反応器である容量２０ｍＬの撹拌子入りガラスフラスコに仕込んだ。続けてジアザビシクロウンデセン３６ｍｇ（０．２４ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）をフラスコに加えて室温で１０分間撹拌した後、４－ニトロイミダゾールモノスルホニルフルオリド６３ｍｇ（０．３２ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）を加えて室温で３０分撹拌した。得られた反応液の重さを測った後、内部標準物質として１，４－ＢＩＳ－トリフルオロメチルベンゼンを２１ｍｇ加えて混合した。ろ過を行った後、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で４－アミノフェノールスルホニルモノフルオリドを定量し、定量収率７４％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが３１ｍｇ生成していることを確認した。
基質としての４－アミノフェノール２４ｍｇ（０．２１ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、反応溶媒として重アセトニトリル１ｍＬを採取し、反応器である容量２０ｍＬの撹拌子入りガラスフラスコに仕込んだ。続けてジアザビシクロウンデセン３６ｍｇ（０．２４ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）をフラスコに加えて室温で１０分間撹拌した後、４－ニトロイミダゾールモノスルホニルフルオリド６３ｍｇ（０．３２ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）を加えて室温で３０分撹拌した。得られた反応液の重さを測った後、内部標準物質として１，４－ＢＩＳ－トリフルオロメチルベンゼンを２１ｍｇ加えて混合した。ろ過を行った後、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で４－アミノフェノールスルホニルモノフルオリドを定量し、定量収率７４％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが３１ｍｇ生成していることを確認した。
【0162】
［物性値］
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：６．６６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ），７．０９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：３４．８（１Ｆ，ｓ）
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：６．６６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ），７．０９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：３４．８（１Ｆ，ｓ）
【0163】
以下に、実施例１５における反応を示す。
【0164】
【化28】
【0165】
［実施例１６］
基質としての４－ヒドロキシ安息香酸メチル３５ｍｇ（０．２３ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、反応溶媒として重アセトニトリル１ｍＬを採取し、反応器である容量２０ｍＬの撹拌子入りガラスフラスコに仕込んだ。続けてジアザビシクロウンデセン３９ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）をフラスコに加えて室温で１０分間撹拌した後、４－ニトロイミダゾールモノスルホニルフルオリド６７ｍｇ（０．３４ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）を加えて室温で３０分撹拌した。得られた反応液の重さを測った後、内部標準物質として１，４－ＢＩＳ－トリフルオロメチルベンゼンを６０ｍｇ加えて混合した。ろ過を行った後、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で４－フルオロスルホニルオキシ安息香酸メチルを定量し、定量収率７６％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが４１ｍｇ生成していることを確認した。
基質としての４－ヒドロキシ安息香酸メチル３５ｍｇ（０．２３ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、反応溶媒として重アセトニトリル１ｍＬを採取し、反応器である容量２０ｍＬの撹拌子入りガラスフラスコに仕込んだ。続けてジアザビシクロウンデセン３９ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）をフラスコに加えて室温で１０分間撹拌した後、４－ニトロイミダゾールモノスルホニルフルオリド６７ｍｇ（０．３４ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）を加えて室温で３０分撹拌した。得られた反応液の重さを測った後、内部標準物質として１，４－ＢＩＳ－トリフルオロメチルベンゼンを６０ｍｇ加えて混合した。ろ過を行った後、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で４－フルオロスルホニルオキシ安息香酸メチルを定量し、定量収率７６％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが４１ｍｇ生成していることを確認した。
【0166】
［物性値］
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ３－ａｃｅｔｏｎｉｔｒｉｌｅ）δ（ｐｐｍ）：３．８６（３Ｈ，ｓ），７．５２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．１１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ３－ａｃｅｔｏｎｉｔｒｉｌｅ）δ（ｐｐｍ）：３７．８（１Ｆ，ｓ）
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ３－ａｃｅｔｏｎｉｔｒｉｌｅ）δ（ｐｐｍ）：３．８６（３Ｈ，ｓ），７．５２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．１１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ３－ａｃｅｔｏｎｉｔｒｉｌｅ）δ（ｐｐｍ）：３７．８（１Ｆ，ｓ）
【0167】
以下に、実施例１６における反応を示す。
【0168】
【化29】
【0169】
［実施例１７］
基質としての４－クロロフェノール３０ｍｇ（０．２３ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、反応溶媒として重アセトニトリル１ｍＬを採取し、反応器である容量２０ｍＬの撹拌子入りガラスフラスコに仕込んだ。続けてジアザビシクロウンデセン３９ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）をフラスコに加えて室温で１０分間撹拌した後、４－ニトロイミダゾールモノスルホニルフルオリド６７ｍｇ（０．３４ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）を加えて室温で３０分撹拌した。得られた反応液の重さを測った後、内部標準物質として１，４－ＢＩＳ－トリフルオロメチルベンゼンを５０ｍｇ加えて混合した。ろ過を行った後、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で４－クロロフェノールスルホニルモノフルオリドを定量し、定量収率８６％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが４２ｍｇ生成していることを確認した。
基質としての４－クロロフェノール３０ｍｇ（０．２３ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、反応溶媒として重アセトニトリル１ｍＬを採取し、反応器である容量２０ｍＬの撹拌子入りガラスフラスコに仕込んだ。続けてジアザビシクロウンデセン３９ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）をフラスコに加えて室温で１０分間撹拌した後、４－ニトロイミダゾールモノスルホニルフルオリド６７ｍｇ（０．３４ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）を加えて室温で３０分撹拌した。得られた反応液の重さを測った後、内部標準物質として１，４－ＢＩＳ－トリフルオロメチルベンゼンを５０ｍｇ加えて混合した。ろ過を行った後、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で４－クロロフェノールスルホニルモノフルオリドを定量し、定量収率８６％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが４２ｍｇ生成していることを確認した。
【0170】
［物性値］
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ３－ａｃｅｔｏｎｉｔｒｉｌｅ）δ（ｐｐｍ）：７．４２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．５２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ３－ａｃｅｔｏｎｉｔｒｉｌｅ）δ（ｐｐｍ）：３６．９（１Ｆ，ｓ）
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ３－ａｃｅｔｏｎｉｔｒｉｌｅ）δ（ｐｐｍ）：７．４２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．５２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ３－ａｃｅｔｏｎｉｔｒｉｌｅ）δ（ｐｐｍ）：３６．９（１Ｆ，ｓ）
【0171】
以下に、実施例１７における反応を示す。
【0172】
【化30】
【0173】
［実施例１８］
基質としてのチラミン２８ｍｇ（０．２０ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、反応溶媒として重アセトニトリル１ｍＬを採取し、反応器である容量２０ｍＬの撹拌子入りガラスフラスコに仕込んだ。続けてジアザビシクロウンデセン３４ｍｇ（０．２２ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）をフラスコに加えて室温で１０分間撹拌した後、４－ニトロイミダゾールモノスルホニルフルオリド６０ｍｇ（０．３１ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）を加えて室温で３０分撹拌した。得られた反応液の重さを測った後、内部標準物質として１，４－ＢＩＳ－トリフルオロメチルベンゼンを３９ｍｇ加えて混合した。ろ過を行った後、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で４－（２－アミノエチル）フェノールスルホニルモノフルオリドを定量し、定量収率６３％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが２８ｍｇ生成していることを確認した。
基質としてのチラミン２８ｍｇ（０．２０ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、反応溶媒として重アセトニトリル１ｍＬを採取し、反応器である容量２０ｍＬの撹拌子入りガラスフラスコに仕込んだ。続けてジアザビシクロウンデセン３４ｍｇ（０．２２ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）をフラスコに加えて室温で１０分間撹拌した後、４－ニトロイミダゾールモノスルホニルフルオリド６０ｍｇ（０．３１ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）を加えて室温で３０分撹拌した。得られた反応液の重さを測った後、内部標準物質として１，４－ＢＩＳ－トリフルオロメチルベンゼンを３９ｍｇ加えて混合した。ろ過を行った後、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で４－（２－アミノエチル）フェノールスルホニルモノフルオリドを定量し、定量収率６３％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが２８ｍｇ生成していることを確認した。
【0174】
［物性値］
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ３－ａｃｅｔｏｎｉｔｒｉｌｅ）δ（ｐｐｍ）：２．８０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．２５～３．３０（２Ｈ，ｍ），７．３０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．８Ｈｚ），７．３８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ３－ａｃｅｔｏｎｉｔｒｉｌｅ）δ（ｐｐｍ）：３６．４（１Ｆ，ｓ）
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ３－ａｃｅｔｏｎｉｔｒｉｌｅ）δ（ｐｐｍ）：２．８０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．２５～３．３０（２Ｈ，ｍ），７．３０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．８Ｈｚ），７．３８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ３－ａｃｅｔｏｎｉｔｒｉｌｅ）δ（ｐｐｍ）：３６．４（１Ｆ，ｓ）
【0175】
以下に、実施例１８における反応を示す。
【0176】
【化31】
【0177】
［実施例１９］
基質としてのｐ－クレゾール２３ｍｇ（０．２１ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、反応溶媒として重アセトニトリル１ｍＬを採取し、反応器である容量２０ｍＬの撹拌子入りガラスフラスコに仕込んだ。続けてジアザビシクロウンデセン３５ｍｇ（０．２３ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）をフラスコに加えて室温で１０分間撹拌した後、４－ニトロイミダゾールモノスルホニルフルオリド６１ｍｇ（０．３１ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）を加えて室温で３０分撹拌した。得られた反応液の重さを測った後、内部標準物質として１，４－ＢＩＳ－トリフルオロメチルベンゼンを３７ｍｇ加えて混合した。ろ過を行った後、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で４－メチルフェノールスルホニルモノフルオリドを定量し、定量収率８６％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが３４ｍｇ生成していることを確認した。
基質としてのｐ－クレゾール２３ｍｇ（０．２１ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、反応溶媒として重アセトニトリル１ｍＬを採取し、反応器である容量２０ｍＬの撹拌子入りガラスフラスコに仕込んだ。続けてジアザビシクロウンデセン３５ｍｇ（０．２３ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）をフラスコに加えて室温で１０分間撹拌した後、４－ニトロイミダゾールモノスルホニルフルオリド６１ｍｇ（０．３１ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）を加えて室温で３０分撹拌した。得られた反応液の重さを測った後、内部標準物質として１，４－ＢＩＳ－トリフルオロメチルベンゼンを３７ｍｇ加えて混合した。ろ過を行った後、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で４－メチルフェノールスルホニルモノフルオリドを定量し、定量収率８６％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが３４ｍｇ生成していることを確認した。
【0178】
［物性値］
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ３－ａｃｅｔｏｎｉｔｒｉｌｅ）δ（ｐｐｍ）：２．３３（３Ｈ，ｓ），７．２３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．４Ｈｚ），７．８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ３－ａｃｅｔｏｎｉｔｒｉｌｅ）δ（ｐｐｍ）：３６．３（１Ｆ，ｓ）
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ３－ａｃｅｔｏｎｉｔｒｉｌｅ）δ（ｐｐｍ）：２．３３（３Ｈ，ｓ），７．２３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．４Ｈｚ），７．８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ３－ａｃｅｔｏｎｉｔｒｉｌｅ）δ（ｐｐｍ）：３６．３（１Ｆ，ｓ）
【0179】
以下に、実施例１９における反応を示す。
【0180】
【化32】
【0181】
［実施例２０］
基質としてのｍ－クレゾール２２ｍｇ（０．２０ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、反応溶媒として重アセトニトリル１ｍＬを採取し、反応器である容量２０ｍＬの撹拌子入りガラスフラスコに仕込んだ。続けてジアザビシクロウンデセン３４ｍｇ（０．２２ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）をフラスコに加えて室温で１０分間撹拌した後、４－ニトロイミダゾールモノスルホニルフルオリド６１ｍｇ（０．３４ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）を加えて室温で３０分撹拌した。得られた反応液の重さを測った後、内部標準物質として１，４－ＢＩＳ－トリフルオロメチルベンゼンを５４ｍｇ加えて混合した。ろ過を行った後、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で３－メチルフェノールスルホニルモノフルオリドを定量し、定量収率９７％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが３７ｍｇ生成していることを確認した。
基質としてのｍ－クレゾール２２ｍｇ（０．２０ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、反応溶媒として重アセトニトリル１ｍＬを採取し、反応器である容量２０ｍＬの撹拌子入りガラスフラスコに仕込んだ。続けてジアザビシクロウンデセン３４ｍｇ（０．２２ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）をフラスコに加えて室温で１０分間撹拌した後、４－ニトロイミダゾールモノスルホニルフルオリド６１ｍｇ（０．３４ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）を加えて室温で３０分撹拌した。得られた反応液の重さを測った後、内部標準物質として１，４－ＢＩＳ－トリフルオロメチルベンゼンを５４ｍｇ加えて混合した。ろ過を行った後、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で３－メチルフェノールスルホニルモノフルオリドを定量し、定量収率９７％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが３７ｍｇ生成していることを確認した。
【0182】
［物性値］
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ３－ａｃｅｔｏｎｉｔｒｉｌｅ）δ（ｐｐｍ）：２．３６（３Ｈ，ｓ），７．１９～７．４０（４Ｈ，ｍ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ３－ａｃｅｔｏｎｉｔｒｉｌｅ）δ（ｐｐｍ）：３６．７（１Ｆ，ｓ）
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ３－ａｃｅｔｏｎｉｔｒｉｌｅ）δ（ｐｐｍ）：２．３６（３Ｈ，ｓ），７．１９～７．４０（４Ｈ，ｍ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ３－ａｃｅｔｏｎｉｔｒｉｌｅ）δ（ｐｐｍ）：３６．７（１Ｆ，ｓ）
【0183】
以下に、実施例２０における反応を示す。
【0184】
【化33】
【0185】
［実施例２１］
基質としてのｏ－クレゾール２２ｍｇ（０．２０ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、反応溶媒として重アセトニトリル１ｍＬを採取し、反応器である容量２０ｍＬの撹拌子入りガラスフラスコに仕込んだ。続けてジアザビシクロウンデセン３４ｍｇ（０．２２ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）をフラスコに加えて室温で１０分間撹拌した後、４－ニトロイミダゾールモノスルホニルフルオリド６０ｍｇ（０．３４ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）を加えて室温で３０分撹拌した。得られた反応液の重さを測った後、内部標準物質として１，４－ＢＩＳ－トリフルオロメチルベンゼンを３２ｍｇ加えて混合した。ろ過を行った後、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で２－メチルフェノールスルホニルモノフルオリドを定量し、定量収率１００％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが３７ｍｇ生成していることを確認した。
基質としてのｏ－クレゾール２２ｍｇ（０．２０ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、反応溶媒として重アセトニトリル１ｍＬを採取し、反応器である容量２０ｍＬの撹拌子入りガラスフラスコに仕込んだ。続けてジアザビシクロウンデセン３４ｍｇ（０．２２ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）をフラスコに加えて室温で１０分間撹拌した後、４－ニトロイミダゾールモノスルホニルフルオリド６０ｍｇ（０．３４ｍｍｏｌ、１．５ｅｑ．）を加えて室温で３０分撹拌した。得られた反応液の重さを測った後、内部標準物質として１，４－ＢＩＳ－トリフルオロメチルベンゼンを３２ｍｇ加えて混合した。ろ過を行った後、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で２－メチルフェノールスルホニルモノフルオリドを定量し、定量収率１００％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが３７ｍｇ生成していることを確認した。
【0186】
［物性値］
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ３－ａｃｅｔｏｎｉｔｒｉｌｅ）δ（ｐｐｍ）：２．３３（３Ｈ，ｓ），７．３１～７．３８（３Ｈ，ｍ），７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ３－ａｃｅｔｏｎｉｔｒｉｌｅ）δ（ｐｐｍ）：３８．３（１Ｆ，ｓ）
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ３－ａｃｅｔｏｎｉｔｒｉｌｅ）δ（ｐｐｍ）：２．３３（３Ｈ，ｓ），７．３１～７．３８（３Ｈ，ｍ），７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ３－ａｃｅｔｏｎｉｔｒｉｌｅ）δ（ｐｐｍ）：３８．３（１Ｆ，ｓ）
【0187】
以下に、実施例２１における反応を示す。
【0188】
【化34】
【0189】
実施例１５－２１のＮＭＲ収率の結果を、以下の表２にまとめる。
【表2】
【0190】
（４－ニトロイミダゾールＳＯ２Ｆの合成条件検討について）
［実施例２２］
基質としての４－ニトロイミダゾール３．１８ｇ（２８．１ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、炭酸ナトリウム７．４６ｇ（７０．３ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ．）、反応溶媒としてアセトニトリル２８ｍＬを採取し、容量３００ｍＬのステンレス鋼（ＳＵＳ）製耐圧容器に仕込んだ。続けてフッ化スルフリルガス７．１８ｇ（７０．３ｍｍｏｌ、２，５ｅｑ．）をボンベより徐々に吹き込み、室温で終夜撹拌した。反応液をアセトニトリル５６ｍＬで洗いこみながらセライトろ過し、ろ液を減圧濃縮した。濃縮によって得られた粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製した後、目的物を含む溶液を濃縮することで、単離収率６４％で４―ニトロイミダゾール―１―スルホニルフルオリドを３．５１ｇ得た。
［実施例２２］
基質としての４－ニトロイミダゾール３．１８ｇ（２８．１ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、炭酸ナトリウム７．４６ｇ（７０．３ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ．）、反応溶媒としてアセトニトリル２８ｍＬを採取し、容量３００ｍＬのステンレス鋼（ＳＵＳ）製耐圧容器に仕込んだ。続けてフッ化スルフリルガス７．１８ｇ（７０．３ｍｍｏｌ、２，５ｅｑ．）をボンベより徐々に吹き込み、室温で終夜撹拌した。反応液をアセトニトリル５６ｍＬで洗いこみながらセライトろ過し、ろ液を減圧濃縮した。濃縮によって得られた粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製した後、目的物を含む溶液を濃縮することで、単離収率６４％で４―ニトロイミダゾール―１―スルホニルフルオリドを３．５１ｇ得た。
【0191】
［物性値］
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：８．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ），８．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：５９．２（１Ｆ，ｓ）
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：８．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ），８．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：５９．２（１Ｆ，ｓ）
【0192】
以下に、実施例２２における反応を示す。
【0193】
【化35】
【0194】
［実施例２３］
基質としての４－ニトロイミダゾール１．０２ｇ（９．０２ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、炭酸ナトリウム２．３９ｇ（２２．６ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ．）、反応溶媒としてアセトン９ｍＬを採取し、容量２００ｍＬのステンレス鋼（ＳＵＳ）製耐圧容器に仕込んだ。続けてフッ化スルフリルガス２．３０ｇ（２２．６ｍｍｏｌ、２，５ｅｑ．）をボンベより徐々に吹き込み、室温で終夜撹拌した。反応液をアセトン１８ｍＬで洗いこみながらセライトろ過し、ろ液を減圧濃縮した。濃縮によって得られた粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製した後、目的物を含む溶液を濃縮することで、単離収率７４％で４―ニトロイミダゾール―１―スルホニルフルオリドを１．７６ｇ得た。
基質としての４－ニトロイミダゾール１．０２ｇ（９．０２ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）、炭酸ナトリウム２．３９ｇ（２２．６ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ．）、反応溶媒としてアセトン９ｍＬを採取し、容量２００ｍＬのステンレス鋼（ＳＵＳ）製耐圧容器に仕込んだ。続けてフッ化スルフリルガス２．３０ｇ（２２．６ｍｍｏｌ、２，５ｅｑ．）をボンベより徐々に吹き込み、室温で終夜撹拌した。反応液をアセトン１８ｍＬで洗いこみながらセライトろ過し、ろ液を減圧濃縮した。濃縮によって得られた粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製した後、目的物を含む溶液を濃縮することで、単離収率７４％で４―ニトロイミダゾール―１―スルホニルフルオリドを１．７６ｇ得た。
【0195】
以下に、実施例２３における反応を示す。
【0196】
【化36】
【0197】
実施例２２－２３を、以下の表３にまとめる。
【表3】
【0198】
（４－ニトロイミダゾールＳＯ２Ｆを用いたフェノール類のＳＯ２Ｆ化の条件検討について）
［実施例２４］
基質としての４－アミノフェノール１０９ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）を反応器である容量３０ｍＬの撹拌子入りナスフラスコに採取した。続けて４－ニトロイミダゾール－１－スルホニルフルオリド２１５ｍｇ（１．１０ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）とアセトニトリル５ｍＬの両成分から成る組成物およびＤＢＵ１６７ｍｇ（１．１０ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）を反応器に加え、室温（２５℃）で２時間撹拌し反応液を得た。反応液に内部標準としての１，４－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンを加え、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で４－アミノフェノールスルホニルモノフルオリドを定量し、定量収率８３％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが１５９ｍｇ生成していることを確認した。
［実施例２４］
基質としての４－アミノフェノール１０９ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）を反応器である容量３０ｍＬの撹拌子入りナスフラスコに採取した。続けて４－ニトロイミダゾール－１－スルホニルフルオリド２１５ｍｇ（１．１０ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）とアセトニトリル５ｍＬの両成分から成る組成物およびＤＢＵ１６７ｍｇ（１．１０ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）を反応器に加え、室温（２５℃）で２時間撹拌し反応液を得た。反応液に内部標準としての１，４－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンを加え、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で４－アミノフェノールスルホニルモノフルオリドを定量し、定量収率８３％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが１５９ｍｇ生成していることを確認した。
【0199】
［物性値］
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：６．６６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ），７．０９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：３４．８（１Ｆ，ｓ）
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：６．６６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ），７．０９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ６－ａｃｅｔｏｎｅ）δ（ｐｐｍ）：３４．８（１Ｆ，ｓ）
【0200】
以下に、実施例２４における反応を示す。
【0201】
【化37】
【0202】
［実施例２５］
基質としての４－アミノフェノール１０９ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）を反応器である容量３０ｍＬの撹拌子入りナスフラスコに採取した。続けて４－ニトロイミダゾール－１－スルホニルフルオリド２１５ｍｇ（１．１０ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）とジクロロメタン５ｍＬの両成分から成る組成物およびＤＢＵ１６７ｍｇ（１．１０ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）を反応器に加え、室温（２５℃）で２時間撹拌し反応液を得た。反応液に内部標準としての１，４－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンを加え、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で４－アミノフェノールスルホニルモノフルオリドを定量し、定量収率８３％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが１７１ｍｇ生成していることを確認した。
基質としての４－アミノフェノール１０９ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）を反応器である容量３０ｍＬの撹拌子入りナスフラスコに採取した。続けて４－ニトロイミダゾール－１－スルホニルフルオリド２１５ｍｇ（１．１０ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）とジクロロメタン５ｍＬの両成分から成る組成物およびＤＢＵ１６７ｍｇ（１．１０ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）を反応器に加え、室温（２５℃）で２時間撹拌し反応液を得た。反応液に内部標準としての１，４－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンを加え、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で４－アミノフェノールスルホニルモノフルオリドを定量し、定量収率８３％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが１７１ｍｇ生成していることを確認した。
【0203】
以下に、実施例２５における反応を示す。
【0204】
【化38】
【0205】
［実施例２６］
基質としての４－アミノフェノール１０９ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）を反応器である容量３０ｍＬの撹拌子入りナスフラスコに採取した。続けて４―ニトロイミダゾール－１－スルホニルフルオリド２１５ｍｇ（１．１０ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）とジクロロメタン５ｍＬの両成分から成る組成物およびＤＢＵ３０ｍｇ（０．２０ｍｍｏｌ、０．２ｅｑ．）を反応器に加え、室温（２５℃）で２時間撹拌し反応液を得た。反応液に内部標準としての１，４－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンを加え、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で４－アミノフェノールスルホニルモノフルオリドを定量し、定量収率９７％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが１８６ｍｇ生成していることを確認した。
基質としての４－アミノフェノール１０９ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）を反応器である容量３０ｍＬの撹拌子入りナスフラスコに採取した。続けて４―ニトロイミダゾール－１－スルホニルフルオリド２１５ｍｇ（１．１０ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）とジクロロメタン５ｍＬの両成分から成る組成物およびＤＢＵ３０ｍｇ（０．２０ｍｍｏｌ、０．２ｅｑ．）を反応器に加え、室温（２５℃）で２時間撹拌し反応液を得た。反応液に内部標準としての１，４－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンを加え、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で４－アミノフェノールスルホニルモノフルオリドを定量し、定量収率９７％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが１８６ｍｇ生成していることを確認した。
【0206】
以下に、実施例２６における反応を示す。
【0207】
【化39】
【0208】
［実施例２７］
基質としての４－アミノフェノール１０９ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）を反応器である容量３０ｍＬの撹拌子入りナスフラスコに採取した。続けて４―ニトロイミダゾール－１－スルホニルフルオリド２１５ｍｇ（１．１０ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）とジクロロメタン５ｍＬの両成分から成る組成物およびＤＢＵ１５ｍｇ（０．１０ｍｍｏｌ、０．１ｅｑ．）を反応器に加え、室温（２５℃）で２時間撹拌し反応液を得た。反応液に内部標準としての１，４－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンを加え、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で４－アミノフェノールスルホニルモノフルオリドを定量し、定量収率７９％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが１５２ｍｇ生成していることを確認した。
基質としての４－アミノフェノール１０９ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）を反応器である容量３０ｍＬの撹拌子入りナスフラスコに採取した。続けて４―ニトロイミダゾール－１－スルホニルフルオリド２１５ｍｇ（１．１０ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）とジクロロメタン５ｍＬの両成分から成る組成物およびＤＢＵ１５ｍｇ（０．１０ｍｍｏｌ、０．１ｅｑ．）を反応器に加え、室温（２５℃）で２時間撹拌し反応液を得た。反応液に内部標準としての１，４－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンを加え、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で４－アミノフェノールスルホニルモノフルオリドを定量し、定量収率７９％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが１５２ｍｇ生成していることを確認した。
【0209】
以下に、実施例２７における反応を示す。
【0210】
【化40】
【0211】
［実施例２８］
基質としての４－アミノフェノール１０９ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）を反応器である容量３０ｍＬの撹拌子入りナスフラスコに採取した。続けて４―ニトロイミダゾール－１－スルホニルフルオリド２１５ｍｇ（１．１０ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）とジクロロメタン５ｍＬの両成分から成る組成物およびトリエチルアミン２０ｍｇ（０．２０ｍｍｏｌ、０．２ｅｑ．）を反応器に加え、室温（２５℃）で２時間撹拌し反応液を得た。反応液に内部標準としての１，４－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンを加え、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で４－アミノフェノールスルホニルモノフルオリドを定量し、定量収率７０％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが１３４ｍｇ生成していることを確認した。
基質としての４－アミノフェノール１０９ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）を反応器である容量３０ｍＬの撹拌子入りナスフラスコに採取した。続けて４―ニトロイミダゾール－１－スルホニルフルオリド２１５ｍｇ（１．１０ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）とジクロロメタン５ｍＬの両成分から成る組成物およびトリエチルアミン２０ｍｇ（０．２０ｍｍｏｌ、０．２ｅｑ．）を反応器に加え、室温（２５℃）で２時間撹拌し反応液を得た。反応液に内部標準としての１，４－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンを加え、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で４－アミノフェノールスルホニルモノフルオリドを定量し、定量収率７０％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが１３４ｍｇ生成していることを確認した。
【0212】
以下に、実施例２８における反応を示す。
【0213】
【化41】
【0214】
［実施例２９］
基質としての４－アミノフェノール１０９ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）を反応器である容量３０ｍＬの撹拌子入りナスフラスコに採取した。続けて４―ニトロイミダゾール－１－スルホニルフルオリド２１５ｍｇ（１．１０ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）とジクロロメタン５ｍＬの両成分から成る組成物およびＮ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン２６ｍｇ（０．２０ｍｍｏｌ、０．２ｅｑ．）を反応器に加え、室温（２５℃）で２時間撹拌し反応液を得た。反応液に内部標準としての１，４－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンを加え、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で４－アミノフェノールスルホニルモノフルオリドを定量し、定量収率６７％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが１２８ｍｇ生成していることを確認した。
基質としての４－アミノフェノール１０９ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）を反応器である容量３０ｍＬの撹拌子入りナスフラスコに採取した。続けて４―ニトロイミダゾール－１－スルホニルフルオリド２１５ｍｇ（１．１０ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）とジクロロメタン５ｍＬの両成分から成る組成物およびＮ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン２６ｍｇ（０．２０ｍｍｏｌ、０．２ｅｑ．）を反応器に加え、室温（２５℃）で２時間撹拌し反応液を得た。反応液に内部標準としての１，４－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンを加え、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で４－アミノフェノールスルホニルモノフルオリドを定量し、定量収率６７％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが１２８ｍｇ生成していることを確認した。
【0215】
以下に、実施例２９における反応を示す。
【0216】
【化42】
【0217】
［実施例３０］
基質としての４－アミノフェノール１０９ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）を反応器である容量３０ｍＬの撹拌子入りナスフラスコに採取した。続けて４―ニトロイミダゾール－１－スルホニルフルオリド２１５ｍｇ（１．１０ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）とアセトニトリル５ｍＬの両成分から成る組成物およびＤＢＵ３０ｍｇ（０．２０ｍｍｏｌ、０．２ｅｑ．）を反応器に加え、室温（２５℃）で２時間撹拌し反応液を得た。反応液に内部標準としての１，４－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンを加え、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で４－アミノフェノールスルホニルモノフルオリドを定量し、定量収率４０％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが７６ｍｇ生成していることを確認した。
基質としての４－アミノフェノール１０９ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）を反応器である容量３０ｍＬの撹拌子入りナスフラスコに採取した。続けて４―ニトロイミダゾール－１－スルホニルフルオリド２１５ｍｇ（１．１０ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）とアセトニトリル５ｍＬの両成分から成る組成物およびＤＢＵ３０ｍｇ（０．２０ｍｍｏｌ、０．２ｅｑ．）を反応器に加え、室温（２５℃）で２時間撹拌し反応液を得た。反応液に内部標準としての１，４－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンを加え、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で４－アミノフェノールスルホニルモノフルオリドを定量し、定量収率４０％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが７６ｍｇ生成していることを確認した。
【0218】
以下に、実施例３０における反応を示す。
【0219】
【化43】
【0220】
［実施例３１］
基質としての４－アミノフェノール１０９ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）を反応器である容量３０ｍＬの撹拌子入りナスフラスコに採取した。続けて４―ニトロイミダゾール－１－スルホニルフルオリド２１５ｍｇ（１．１０ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）とテトラヒドロフラン５ｍＬの両成分から成る組成物およびＤＢＵ１６７ｍｇ（１．１ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）を反応器に加え、室温（２５℃）で２時間撹拌し反応液を得た。反応液に内部標準としての１，４－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンを加え、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で４－アミノフェノールスルホニルモノフルオリドを定量し、定量収率４４％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが８４ｍｇ生成していることを確認した。
基質としての４－アミノフェノール１０９ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）を反応器である容量３０ｍＬの撹拌子入りナスフラスコに採取した。続けて４―ニトロイミダゾール－１－スルホニルフルオリド２１５ｍｇ（１．１０ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）とテトラヒドロフラン５ｍＬの両成分から成る組成物およびＤＢＵ１６７ｍｇ（１．１ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）を反応器に加え、室温（２５℃）で２時間撹拌し反応液を得た。反応液に内部標準としての１，４－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンを加え、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で４－アミノフェノールスルホニルモノフルオリドを定量し、定量収率４４％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが８４ｍｇ生成していることを確認した。
【0221】
以下に、実施例３１における反応を示す。
【0222】
【化44】
【0223】
［実施例３２］
基質としての４－アミノフェノール１０９ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）を反応器である容量３０ｍＬの撹拌子入りナスフラスコに採取した。続けて４―ニトロイミダゾール－１－スルホニルフルオリド２１５ｍｇ（１．１０ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）とクロロホルム５ｍＬの両成分から成る組成物およびＤＢＵ１６７ｍｇ（１．１ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）を反応器に加え、室温（２５℃）で２時間撹拌し反応液を得た。反応液に内部標準としての１，４－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンを加え、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で４－アミノフェノールスルホニルモノフルオリドを定量し、定量収率３４％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが６５ｍｇ生成していることを確認した。
基質としての４－アミノフェノール１０９ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ、１．０ｅｑ．）を反応器である容量３０ｍＬの撹拌子入りナスフラスコに採取した。続けて４―ニトロイミダゾール－１－スルホニルフルオリド２１５ｍｇ（１．１０ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）とクロロホルム５ｍＬの両成分から成る組成物およびＤＢＵ１６７ｍｇ（１．１ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）を反応器に加え、室温（２５℃）で２時間撹拌し反応液を得た。反応液に内部標準としての１，４－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンを加え、ＮＭＲで分析することによってＮＭＲ収率で４－アミノフェノールスルホニルモノフルオリドを定量し、定量収率３４％で対応するフェノールのスルホニルフルオリドが６５ｍｇ生成していることを確認した。
【0224】
以下に、実施例３２における反応を示す。
【0225】
【化45】
【表4】
【産業上の利用可能性】
【0226】
本開示のモノフルオロスルホニル化剤組成物は、医薬品や素材開発において、モノフルオロスルホニル化剤組成物として利用できる。
【0227】
本開示を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本開示の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。