特開2026-791半導体装置の製造方法

発明の名称　半導体装置の製造方法

出願人　株式会社新川　（識別番号 146722）

　　　　特許公開件数ランキング 865 位（9件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 475 位（17件）（共同出願を含む）

出願人　国立大学法人東北大学　（識別番号 504157024）

　　　　特許公開件数ランキング 314 位（61件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 171 位（100件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2026-791

公報発行日　2026年1月6

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2026-791

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