特開2026-98056IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

微細なナノ粒子(材料粒子)を含むミストをキャリア気体に乗せて被処理基板に噴霧し、被処理基板の表面にナノ粒子による材料物質の膜を堆積させる成膜装置、ミスト成膜装置、および導電膜の製造方法

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】基板に噴霧されるミストの濃度分布をスリット長手方向に良好に均一化する成膜装置を提供する。
【解決手段】ミストを物体の表面に供給して前記物体の表面に前記ミストが含む材料物質の膜を成膜する成膜装置は、前記ミストを発生させるミスト発生部と、前記ミスト発生部で発生した前記ミストを空間に導入する導入口と、前記空間から前記物体の表面に前記ミストを供給する供給口とを有するミスト供給部とを有する。前記供給口は、第1方向と第2方向とが交差する前記供給口を含み、前記ミストが通過する第1所定平面内の前記第1方向において前記導入口と異なる位置に設けられる。
【選択図】図3

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 第1の実施形態によるミスト成膜装置の全体的な構成を概略的に示した図である。
【図2】 図1に示したミスト成膜装置のノズルユニット部の外観構成を示す斜視図である。
【図3】 図2に示したノズルユニット部のYu(Y)方向の一部をXuZu(XZ)面と平行な面で破断した断面図である。
【図4】 図4A~図4Cは、ノズルユニット部内の空間SOの構造の違いによる流速分布の違いをシミュレーションしたときのいくつかのモデル例を示す。
【図5】 図4A~図4Cに示したノズルユニット部MNの各々のスリット開口部APのYu方向の端部付近から噴出されるミスト気体MsfのZu方向の流速の違いをシミュレーションした結果を表すグラフである。
【図6】 図4A(図3)に示したノズルユニット部MNの空間SO内でのミスト気体MsfのYuZu面内での流速分布のシミュレーション結果を表した図である。
【図7】 図7A~図7Cは、ノズルユニット部MN内の空間SOの形状として、特に傾斜内壁面10Aの角度θaを30°以外にした3つのモデル例を示す。
【図8】 図7A~図7Cに示したノズルユニット部MNの各々のスリット開口部APのYu方向の端部付近から噴出されるミスト気体MsfのZu方向の流速の違いをシミュレーションした結果を表すグラフである。
【図9】 図8に示したシミュレーション結果のグラフ中の一部分を拡大して表したグラフである。
【図10】 図10A~図10Dは、シミュレーションの為に、ノズルユニット部MN内の傾斜内壁面10Aの角度θaを変えずに、他の部分の寸法を異ならせたノズルユニット部MNの変形例(変形例1)の部分断面図である。
【図11】 図10A~図10Dに示したノズルユニット部MNの各々のミスト気体MsfのZu方向の流速の違いをシミュレーションした結果を表すグラフである。
【図12】 シミュレーション結果を参酌したノズルユニット部MNの変形例(変形例2)を示す部分断面図である。
【図13】 シミュレーション結果を参酌したノズルユニット部MNの変形例(変形例3)を示す部分断面図である。
【図14】 シミュレーション結果を参酌したノズルユニット部MNの変形例(変形例4)の一部を破断した斜視図である。
【図15】 図14に示したノズルユニット部MNのXuZu面と平行な面で見た部分断面図である。
【図16】 図14、図15のノズルユニット部MNを基板Pの傾斜に合わせて傾けて配置する様子を示す図である。
【図17】 第2の実施の形態によるミスト成膜部のノズルユニット部MN、回収ユニット部DN1、DN2の具体的な構成を表す図である。
【図18】 図17のミスト成膜部の変形例(変形例5)を部分断面で表した斜視図である。
【図19】 図18のミスト成膜部の構成の更なる変形例(変形例6)を示す部分断面図である。
【図20】 図19のミスト成膜部の底面を基板P側から見た平面図である。
【図21】 先の図2、図12、図17~図20の各々で示した電極保持ブロック部材16の構造の変形例(変形例7)を示す斜視図である。
【図22】 図19、図21に示した電極保持ブロック部材16を、-Zu側から+Zu側に見た変形例を示す。
【図23】 図23A~図23Cは、ノズルユニット部MNのブロック部材13に形成される複数の導入口の形状と配置に関する幾つかの変形例(変形例8)を示す平面図である。
【図24】 第3の実施の形態によるミスト成膜装置の概略的な構成を示す図である。
【図25】 ノズルユニット部MN、回収ユニット部DN1、DN2、及び電極保持ブロック部材16が組付けられて、図24のミスト成膜装置に適用されるカバー部CBの変形構造(変形例9)を示す斜視図である。
【図26】 図25のカバー部CBをXuZu面と平行な面で破断した断面図である。

選択図 図3出願人が指定した本件の代表的な図

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