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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第87位 75件
(
2025年:第149位 230件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第114位 54件
(
2025年:第126位 230件)
(ランキング更新日:2026年3月18日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7831422 | 検出装置 | 2026年 3月17日 | |
| 特許 7831586 | 位相シフトマスクブランクス、位相シフトマスク、及びそれらの製造方法 | 2026年 3月17日 | |
| 特許 7827051 | 成膜装置、導電膜の製造装置、成膜方法および導電膜の製造方法 | 2026年 3月10日 | |
| 特許 7827066 | 露光装置及び計測システム | 2026年 3月10日 | |
| 特許 7827081 | 撮像素子および撮像装置 | 2026年 3月10日 | |
| 特許 7827108 | 顕微鏡 | 2026年 3月10日 | |
| 特許 7827116 | 撮像素子、および撮像装置 | 2026年 3月10日 | |
| 特許 7827212 | 顕微鏡および顕微鏡の制御方法 | 2026年 3月10日 | |
| 特許 7823721 | 撮像装置 | 2026年 3月 4日 | |
| 特許 7823723 | 画像処理方法、画像処理プログラム、及び画像処理装置 | 2026年 3月 4日 | |
| 特許 7823733 | 光学系、光学機器および光学系の製造方法 | 2026年 3月 4日 | |
| 特許 7821409 | 変倍光学系及び光学機器 | 2026年 2月27日 | |
| 特許 7820691 | 露光方法、露光装置、及びデバイス製造方法 | 2026年 2月26日 | |
| 特許 7819705 | 光学系、光学機器および光学系の製造方法 | 2026年 2月25日 | |
| 特許 7819706 | 露光システム、及びデバイス製造方法 | 2026年 2月25日 |
54 件中 1-15 件を表示
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7831422 7831586 7827051 7827066 7827081 7827108 7827116 7827212 7823721 7823723 7823733 7821409 7820691 7819705 7819706
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