(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2021-12-08
(45)【発行日】2022-01-12
(54)【発明の名称】蛍光X線分析装置、判定方法及び判定プログラム
(51)【国際特許分類】
G01N 23/223 20060101AFI20220104BHJP
G01N 23/2209 20180101ALI20220104BHJP
【FI】
G01N23/223
G01N23/2209
(21)【出願番号】P 2020105825
(22)【出願日】2020-06-19
【審査請求日】2021-09-17
【早期審査対象出願】
(73)【特許権者】
【識別番号】000250339
【氏名又は名称】株式会社リガク
(74)【代理人】
【識別番号】110000154
【氏名又は名称】特許業務法人はるか国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】原 真也
(72)【発明者】
【氏名】山田 康治郎
(72)【発明者】
【氏名】山本 悦久
(72)【発明者】
【氏名】本間 寿
【審査官】佐藤 仁美
(56)【参考文献】
【文献】特開2000-121583(JP,A)
【文献】特開昭53-7394(JP,A)
【文献】特開平8-285798(JP,A)
【文献】特開2008-203245(JP,A)
【文献】特開平8-184573(JP,A)
【文献】特開平10-48161(JP,A)
【文献】特開2010-25868(JP,A)
【文献】特開2000-346816(JP,A)
【文献】特開平11-174007(JP,A)
【文献】米国特許出願公開第2016/0341677(US,A1)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
IPC
G01B 15/00-G01B 15/08,
G01N 23/00-G01N 23/2276,
G21K 1/00-G21K 3/00,
G21K 5/00-G21K 7/00
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
試料に1次X線を照射するX線源と、
試料から生じる蛍光X線を平行線束として通過させるソーラスリットと、
前記ソーラスリットを通過した蛍光X線を分光する分光素子と、
前記分光素子で分光された蛍光X線の強度を測定する検出器と、を備えた蛍光X線分析装置であって、
試料に対する1次X線の照射を遮るように試料と前記X線源の間に配置されるとともに、1次X線が照射された際に所定のエネルギーの蛍光X線を生じる元素を含む判定用部品と、
着脱可能な構成であって、試料及び前記判定用部品から生じる蛍光X線のうち前記検出器に入射する蛍光X線を制限する視野制限部と、
前記視野制限部が正常に取り付けられている場合に、前記判定用部品から生じる前記所定のエネルギーの蛍光X線の強度を予め記憶する記憶部と、
前記記憶部に記憶された強度と、前記検出器が測定する強度と、に基づいて、前記視野制限部が正常に取り付けられているか否か判定する判定部と、
を有することを特徴とする蛍光X線分析装置。
【請求項2】
前記視野制限部は、大きさが異なる複数の開口を設定でき、
前記記憶部は、前記開口の大きさごとに、前記判定用部品から生じる前記所定のエネルギーの蛍光X線の強度を予め記憶し、
前記判定部は、前記記憶部に記憶された強度と、前記検出器が測定する強度と、に基づいて、前記視野制限部の開口の大きさを判定する、
ことを特徴とする請求項1に記載の蛍光X線分析装置。
【請求項3】
前記判定部は、前記X線源が1次X線の照射を開始するごとに、または分析対象である試料の測定を開始する前に、前記判定を行うことを特徴とする請求項1または2に記載の蛍光X線分析装置。
【請求項4】
前記判定用部品は、1次X線が照射される面に、前記視野制限部の開口に応じた形状で前記元素が定着されている、ことを特徴とする請求項1乃至3に記載の蛍光X線分析装置。
【請求項5】
前記判定用部品は
、開閉可能なシャッターであることを特徴とする請求項1乃至4に記載の蛍光X線分析装置。
【請求項6】
1次X線が照射された際に所定のエネルギーの蛍光X線を生じる元素を含む判定用部品を、分析対象である試料の測定を開始する前に、
試料に対する1次X線の照射を遮るように試料とX線源の間に配置するステップと、
試料及び前記判定用部品から生じる蛍光X線のうち検出器に入射する蛍光X線を制限する視野制限部を取り付けるステップと、
前記視野制限部が正常に取り付けられている場合に、前記判定用部品から生じる前記所定のエネルギーの蛍光X線の強度を記憶部に予め記憶するステップと、
前記記憶部に記憶された強度と、前記検出器が測定する強度と、に基づいて、前記視野制限部が正常に取り付けられているか否か判定するステップと、
を有することを特徴とする判定方法。
【請求項7】
試料に対する1次X線の照射を遮るように試料とX線源の間に配置されるとともに、1次X線が照射された際に所定のエネルギーの蛍光X線を生じる元素を含む判定用部品と
、
試料及び前記判定用部品から生じる蛍光X線のうち検出器に入射する蛍光X線を制限する視野制限部と
、
を含む蛍光X線分析装置に用いられる情報処理装置で実行される判定プログラムであって、
前記視野制限部が正常に取り付けられている場合に、前記判定用部品から生じる前記所定のエネルギーの蛍光X線の強度を記憶部に予め記憶するステップと、
前記記憶部に記憶された強度と、前記検出器が測定する強度と、に基づいて、前記視野制限部が正常に取り付けられているか否か判定するステップと、
を前記情報処理装置に実行させることを特徴とする判定プログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、蛍光X線分析装置、判定方法及び判定プログラムに関する。
【背景技術】
【0002】
従来から、1次X線が照射された試料から発生する蛍光X線を検出することで試料に含まれる元素の定性及び定量分析を行う蛍光X線検出装置が広く用いられている。一般的な波長分散型蛍光X線分析装置では、装置内にX線源、ソーラスリット、分光結晶、検出器、試料等が配置される。
【0003】
装置室に配置された各構成に対してメンテナンスや較正を行う場合、安全上、X線をオフする必要がある。X線のオン・オフは段階的に時間をかけて行わなければならず、X線をオンした後、装置温度が安定して精度よく分析できるまでにはかなりの時間を要する。また、真空引きする必要がある場合、操作はさらに煩雑になる。当該時間と手間を軽減するため、例えば、下記特許文献1は、シャッターに設けられた標準試料から得られたX線の検出データを用いて較正を行う点を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
試料上の測定領域を制限するため、検出器に入射する蛍光X線の一部を遮断する視野制限機構(例えば、ダイアフラム)が試料室に配置されることがある。試料上の測定領域を制限するために試料マスクが用いられることもあるが、試料マスクに起因する蛍光X線や散乱線を除くために視野制限機構を併用することが望ましい。試料上の測定領域を変更するため、視野制限機構は着脱可能な構成とされる場合がある。
【0006】
視野制限機構を機械的に着脱または交換させる機構を有する蛍光X線分析装置も存在するが、機械的に着脱または交換させる機構を設けるために装置が複雑化し、コストもかかってしまう。一方、視野制限機構を人為的に交換できる構成とすると、測定領域が異なる視野制限機構を間違って取り付けたり、取り付け位置が正しくないなど、正常に取り付けられていない場合もある。
【0007】
この時、正常に取り付けられているか否か装置の外部から視認することはできないため、確認のためだけにX線をオフし、確認後再度X線をオンする等の必要があり煩雑である。また、視野制限機構を機械的に脱着または交換する機構を有する場合であっても、正常に取り付けられているか否かは外部から視認することはできない。
【0008】
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであって、その目的は、視野制限機構が正常に取り付けられているか簡便に確認することのできる蛍光X線分析装置、判定方法及び判定プログラムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0009】
請求項1に記載の蛍光X線分析装置は、試料に1次X線を照射するX線源と、試料から生じる蛍光X線を平行線束として通過させるソーラスリットと、前記ソーラスリットを通過した蛍光X線を分光する分光素子と、前記分光素子で分光された蛍光X線の強度を測定する検出器と、を備えた蛍光X線分析装置であって、1次X線が照射された際に所定のエネルギーの蛍光X線を生じる元素を含む判定用部品と、着脱可能な構成であって、試料及び前記判定用部品から生じる蛍光X線のうち前記検出器に入射する蛍光X線を制限する視野制限部と、前記視野制限部が正常に取り付けられている場合に、前記判定用部品から生じる前記所定のエネルギーの蛍光X線の強度を予め記憶する記憶部と、前記記憶部に記憶された強度と、前記検出器が測定する強度と、に基づいて、前記視野制限部が正常に取り付けられているか否か判定する判定部と、を有することを特徴とする。
【0010】
請求項2に記載の蛍光X線分析装置は、請求項1に記載の蛍光X線分析装置において、前記視野制限部は、大きさが異なる複数の開口を設定でき、前記記憶部は、前記開口の大きさごとに、前記判定用部品から生じる前記所定のエネルギーの蛍光X線の強度を予め記憶し、前記判定部は、前記記憶部に記憶された強度と、前記検出器が測定する強度と、に基づいて、前記視野制限部の開口の大きさを判定する、ことを特徴とする。
【0011】
請求項3に記載の蛍光X線分析装置は、請求項1または2に記載の蛍光X線分析装置において、前記判定部は、前記X線源が1次X線の照射を開始するごとに、または分析対象である試料の測定を開始する前に、前記判定を行うことを特徴とする。
【0012】
請求項4に記載の蛍光X線分析装置は、請求項1乃至3に記載の蛍光X線分析装置において、前記判定用部品は、1次X線が照射される面に、前記視野制限部の開口に応じた形状で前記元素が定着されている、ことを特徴とする。
【0013】
請求項5に記載の蛍光X線分析装置は、請求項1乃至4に記載の蛍光X線分析装置において、前記判定用部品は、分析対象である試料に対する1次X線の照射を遮るシャッターであることを特徴とする。
【0014】
請求項6に記載の判定方法は、1次X線が照射された際に所定のエネルギーの蛍光X線を生じる元素を含む判定用部品を、分析対象である試料の測定を開始する前に、1次X線が照射される領域に配置するステップと、試料及び前記判定用部品から生じる蛍光X線のうち検出器に入射する蛍光X線を制限する視野制限部を取り付けるステップと、前記視野制限部が正常に取り付けられている場合に、前記判定用部品から生じる前記所定のエネルギーの蛍光X線の強度を記憶部に予め記憶するステップと、前記記憶部に記憶された強度と、前記検出器が測定する強度と、に基づいて、前記視野制限部が正常に取り付けられているか否か判定するステップと、を有することを特徴とする。
【0015】
請求項7に記載の判定プログラムは、1次X線が照射された際に所定のエネルギーの蛍光X線を生じる元素を含む判定用部品と、試料及び前記判定用部品から生じる蛍光X線のうち検出器に入射する蛍光X線を制限する視野制限部と、を含む蛍光X線分析装置に用いられる情報処理装置で実行される判定プログラムであって、前記視野制限部が正常に取り付けられている場合に、前記判定用部品から生じる前記所定のエネルギーの蛍光X線の強度を記憶部に予め記憶するステップと、前記記憶部に記憶された強度と、前記検出器が測定する強度と、に基づいて、前記視野制限部が正常に取り付けられているか否か判定するステップと、を前記情報処理装置に実行させることを特徴とする。
【発明の効果】
【0016】
請求項1乃至7に記載の発明によれば、検出器に入射する蛍光X線の一部を遮断する機構が正常に取り付けられているか簡便に確認することができる。
【図面の簡単な説明】
【0017】
【
図1】本発明の実施形態に係る蛍光X線分析装置を概略的に示す図である。
【
図2】記憶部に記憶されるスペクトルの一例を示す図である。
【
図3】記憶部に記憶されるスペクトルの他の一例を示す図である。
【
図4】記憶部に記憶される測定強度の測定方法を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【0018】
以下、本発明を実施するための好適な実施の形態(以下、実施形態という)を、図面に従って説明する。また、本実施形態は、主な例として、蛍光X線分析装置100が波長分散型蛍光X線分析装置である場合について説明している。
【0019】
図1は、本発明の実施形態に係る蛍光X線分析装置100の概略を示す図である。
図1に示すように、蛍光X線分析装置100は、試料室101と、管球室102と、分光室103と、に区分される。蛍光X線分析装置100は、X線源104と、判定用部品106と、視野制限部108と、ソーラスリット110と、分光素子112と、検出器114と、計数器116と、制御部118と、を含んで構成されている。試料室101には、試料124が配置される。管球室102には、X線源104と視野制限部108が配置される。分光室103には、ソーラスリット110と、分光素子112と、検出器114と、が配置される。なお、試料124は、試料ホルダ(図示なし)に配置される。
【0020】
X線源104は、1次X線を生成し、判定用部品106または分析対象である試料124に対して照射する。
【0021】
判定用部品106は、1次X線が照射された際に所定のエネルギーの蛍光X線(以下、判定に用いる蛍光X線とする)を生じる元素(以下、判定に用いる元素とする)を含む。具体的には、例えば、判定用部品106は、分析対象である試料124に対する1次X線の照射を遮るシャッターである。シャッターは、試料124とX線源104の間に配置され、開閉可能である。試料124の分析を行う場合シャッターは開かれ、1次X線は試料124に照射される。一方、後述する判定を行う場合シャッターは閉じられ、1次X線はシャッターに照射される。
【0022】
所定のエネルギーの蛍光X線を生じる元素は、後述する判定に適用できる元素であれば任意に設定してよい。判定用部品106がシャッターである場合、所定のエネルギーの蛍光X線を生じる元素は、X線を透過させない元素であることが望ましい。望ましい元素は、例えば、タングステンや鉛であって、タングステンや鉛は、通常シャッターに含まれる元素である。
【0023】
また、本実施形態に係るシャッターは、試料室101と管球室102とを分離するシャッターとしても機能する。シャッターが閉じられた状態では、試料室101と管球室102との間で気体が移動しない。これにより、ある試料124を分析した後、視野制限部108を交換せずに試料のみを交換して分析を行う場合、管球室102及び分光室103を真空状態に維持したまま、分析を続けることができる。なお、試料124に対する1次X線の照射を遮るシャッターと、試料室101と管球室102とを分離するシャッターと、が個別に設けられてもよい。
【0024】
なお、判定用部品106は、シャッターに限られず、1次X線が照射され、発生した蛍光X線が視野制限部108に出射される位置に配置されていればよい。予め試料室101または管球室102に配置されている部品を用いることにより、蛍光X線分析装置100の構成を簡略化できる。
【0025】
視野制限部108は、着脱可能な構成であって、発生した蛍光X線のうち検出器114に入射する蛍光X線を制限する。具体的には、例えば、視野制限部108は、蛍光X線が通過する開口を有するダイアフラムである。
【0026】
また、視野制限部108は、大きさが異なる複数の開口を設定できる。例えば、視野制限部108は、開口の径が30mm、20mm及び10mmの3種のダイアフラムであってもよい。この場合、開口の径が30mmのダイアフラムは管球室102の内部に固定される。開口の径が20mm及び10mmであるダイアフラムは着脱可能であり、開口の径が30mmであるダイアフラムの開口を覆うように取り付けられる。判定用部品106や試料124から出射した蛍光X線の一部は、ダイアフラムの開口を通り、ソーラスリット110等を経て検出器114に到達する。一方、他の一部は、ダイアフラムによって遮断され、検出器114に到達しない。従って、視野制限部108は、検出器114から見て視野を制限する機能を有する。
【0027】
ソーラスリット110は、試料124から生じる蛍光X線を平行線束として通過させる。具体的には、ソーラスリット110は、平板が平行に並べられた構成であって、制御部118の開口を通った蛍光X線のうち、当該平板に平行な蛍光X線のみを通過させる。
【0028】
分光素子112は、ソーラスリット110を通過した蛍光X線を分光する。具体的には、例えば、分光素子112は、試料124や判定用部品106から発生し、ソーラスリット110を通過した複数の波長の蛍光X線のうち、ブラッグの条件式を満たす特定の波長の蛍光X線を分光する。
【0029】
検出器114は、分光素子112で分光された蛍光X線の強度を測定する。検出器114及び分光素子112は、図示しない走査機構によって、駆動される。例えば、走査機構はゴニオメータである。走査機構は、蛍光X線が分光素子112に入射する入射角度を変更するとともに、分光された蛍光X線が出射された方向に検出器114の位置を走査する。検出器114は、判定に用いる蛍光X線のピークが観測されるピーク角度を含む角度範囲で蛍光X線の強度を測定する。検出器114は、例えば、従来から知られている比例計数管や、シンチレーション計数管等である。
【0030】
計数器116は、検出器114の測定強度として出力されるパルス信号を波高値に応じて計数し、蛍光X線強度として制御部118に出力する。
【0031】
制御部118は、試料室101、管球室102及び分光室103に配置される各構成の動作を制御するとともに、視野制限部108が正常に取り付けられているか否かの判定を行う。制御部118は、例えば、蛍光X線分析装置100に用いられる情報処理装置であって、例えばパーソナルコンピュータである。制御部118は、機能的に、記憶部122と、判定部120とを含む。
【0032】
記憶部122は、視野制限部108が正常に取り付けられている場合に、判定用部品106から生じる所定のエネルギーの蛍光X線の強度を予め記憶する。具体的には、記憶部122は、パーソナルコンピュータに含まれるHDDや
SSDである。記憶部122は、視野制限部108が正常に取り付けられた状態で測定され、判定に用いられる蛍光X線の強度を予め記憶する。開口
の径が30mm、20mm及び10mmの3種のダイアフラムを用いる場合、記憶部122は、開口の径ごとに、判定用部品106から生じる所定のエネルギーの蛍光X線の強度を予め記憶する。記憶部122は、例えば、表1に表される蛍光X線の強度と、基準値との比率を記憶する。
【表1】
【0033】
なお、表1に示す各測定強度は、判定に用いる元素がシャッターに含まれるタングステンである場合に4秒間測定されたW-Lα線のピーク強度である。また、表1では、開口の径が30mmである場合における測定強度を基準値としている。
【0034】
理論標準偏差は、各測定強度と測定時間から算出される。具体的には、例えば、理論標準偏差は、数1を用いて算出される。なお、数1において、Iは測定強度(kcps)、tは測定時間である。
【数1】
【0035】
記憶部122は、表1に代えて、
図2に示すスペクトルを記憶してもよい。
図2は、W-Lα線が表れる2θ角度の前後において測定されたスペクトルである。記憶部122は、表1に示すピーク角度ではなく、スペクトル及びスペクトルから得られるグロス強度またはネット強度を記憶してもよい。また、判定に用いる蛍光X線をW-Mα線とする場合には、記憶部122は、
図3に示すスペクトルを記憶してもよい。
【0036】
記憶部122に記憶される測定強度の測定方法について、
図4に示すフローを用いて説明する。まず、基準値として用いる開口の径を決定する(S402)。例えば、径が30mmである開口を用いて測定する蛍光X線の強度を基準値として用いることを決定する。
【0037】
次に、決定された径の開口の視野制限部108を管球室102に正常に取り付ける(S404)。具体的には、径が30mmである開口を有するダイアフラムを管球室102に取り付ける。S404のステップでは、ダイアフラムは正常に取り付けられる。
【0038】
次に、シャッターが閉じられた後、X線源104の電源をオンにする(S406)。S406のステップでは、蛍光X線分析装置100で行われる測定のための準備が行われる。具体的には、試料室101、管球室102及び分光室103の内部の真空引きやX線源104のエージングが行われる。なお、大気環境で分析を行う場合、真空引きは行われない。また、He環境下で分析を行う場合、試料室101、管球室102及び分光室103の内部が真空の状態で、管球室102及び分光室103にHeが導入される。また、試料室101、管球室102及び分光室103の真空引きと同時に、管球室102及び分光室103へのHeの導入が行われてもよい。
【0039】
次に、蛍光X線の強度が測定される(S408)。具体的には、例えば、閉じられたシャッターに1次X線が照射され、シャッターに含まれるタングステンから蛍光X線が発生する。発生した蛍光X線は、一部が視野制限部108の30mmの開口を通り、他の一部は視野制限部108に遮られる。開口を通った蛍光X線はソーラスリット110を通り、分光素子112によってW-Lα線が分光される。分光されたW-Lα線は検出器114に入射し、計数器116及び制御部118は、検出器114の出力に基づいて測定強度を算出する。測定後、X線源104の電源はオフにされる。
【0040】
次に、記憶部122は、測定された蛍光X線強度を、開口の径と関連付けて記憶する(S410)。具体的には、上記表1のように、30mmの開口の径と関連付けて、119.21kcpsという強度を記憶する。また、基準値として用いる開口の径が30mmであるため、当該強度と関連付けて1.0という比率が記憶される。
【0041】
次に、他の径の開口がある場合(S412のY)には、開口の径が変更され(S414)、当該径の開口を有する視野制限部108が管球室102の内部に取り付けられる。例えば、径が20mmである開口を有するダイアフラムが管球室102に取り付けられる。なお、管球室102が真空引きされている場合には、S414からS404のステップにかけて、管球室102は大気に開放される。このステップでは、ダイアフラムは正常に取り付けられる。
【0042】
S404乃至S412のステップは、全ての開口のダイアフラムについて蛍光X線の強度測定が終わるまで繰り返し実行される。これにより、表1に含まれる、20mm及び10mmの開口の径と関連付けられた蛍光X線の強度及び比率が、記憶部122に記憶される。
【0043】
次に、他の径の開口がない場合(S412のN)には、記憶部122に記憶される測定強度の測定フローは終了する。なお、S412の後に、各強度比率と対応する理論標準偏差σが算出され、記憶部122に記憶されてもよい。
【0044】
判定部120は、記憶部122に記憶された強度と、検出器114が測定する強度と、に基づいて、視野制限部108が正常に取り付けられているか否か判定する。具体的には、判定部120は、X線源104がX線の照射を開始するごとに、または分析対象である試料124の測定を開始する前に、上記判定を行う。
図5に示すフローを用いて、判定部120が行う判定について説明する。
【0045】
まず、シャッターが閉じられ、X線源104の電源をオンにする(S502)。具体的には、どの視野制限部108が取り付けられた不明な状態で、蛍光X線を測定するための準備が行われる。当該ステップは、S406と同等である。なお、直前に蛍光X線分析装置100を使用した他のユーザがどの視野制限部108を取り付けていたか、また、正常に取り付けていたか、不明であることがある。そのため、当該ステップでは、どの視野制限部108が取り付けられているか、また、正常に取り付けられているか不明な状態であることを想定している。
【0046】
次に、蛍光X線の強度を測定する(S504)。当該ステップは、S408と同様である。
【0047】
次に、判定部120は、記憶部122に記憶された強度から測定強度と最も近い強度を参照する(S506)。具体的には、例えば、S504で測定された蛍光X線強度が119.35kcpsであった場合、表1の測定強度のうち当該強度と最も近い強度として、119.21kcpsという強度を参照する。
【0048】
次に、判定部120は、記憶部122に記憶された強度と、検出器114が測定する強度と、に基づいて、判定を行う(S508)。具体的には、例えば、判定部120は、S504で測定された119.35kcpsという強度と、参照された119.21kcpsという測定強度を比較する。判定部120は、比較した強度の差分が予め設定された閾値以下である場合に、参照された強度と対応する開口の径の視野制限部108が正常に取り付けられていると判定する。例えば、判定部120は、比較した強度の差分が理論標準偏差σの3倍以下である場合に、正常に取り付けられていると判定する。上記例では、119.35kcpsと119.21kcpsの差分は、0.17という理論標準偏差σの3倍よりも小さい。従って、判定部120は、径が30mmである開口の視野制限部108が正常に取り付けられていると判定する。
【0049】
S502乃至S508のステップが完了し、視野制限部108が正常に取り付けられていると判定されたのち、分析対象である試料124の分析が行われる。これにより、視野制限部108が正常に取り付けられていない状態で、分析対象である試料124の分析が実行されることを防止できる。また、S504乃至S508のステップは、分析対象となる試料124を交換するごとに実行されてもよい。
【0050】
なお、判定部120は、比較した強度の比率に基づいて上記判定を行ってもよい。例えば、判定部120は、比較した強度の比率が予め設定された閾値(誤差3%)以下である場合に、参照された強度と対応する開口の径の視野制限部108が正常に取り付けられていると判定してもよい。
【0051】
視野制限部108の開口の径や、視野制限部108が正常に取り付けられているかどうかを確認するためだけに、X線源104をオフにし、確認後再度X線源104をオンにすることは煩雑である。X線源104のオン・オフは管電圧・管電流を少しずつ段階的に行う必要があり、時間を要する。また、X線源104は発熱源でもあるため、装置内の温度が安定して精度良い測定を行うには、X線源104をオンにした後、長時間のエージングが必要になる。蛍光X線分析装置100は、管球室102や分光室103の内部が真空に保たれた状態で保持されることが多い。そのため、視野制限部108が正常に取り付けられているかどうかを確認する場合には、管球室102や分光室103を大気に開放し、再度真空状態とする必要があるが、当該作業は煩雑で時間がかかる。以上の方法によれば、X線源104のオフ、オン、エージングや真空引き等の煩雑な作業や時間をかけず、視野制限部108が正常に取り付けられているか容易に判定することができる。
〔変形例〕
【0052】
以下、変形例について説明する。本変形例では、判定用部品106は、1次X線が照射される面に、視野制限部108の開口に応じた形状で所定の元素が定着されている。具体的には、例えば、変形例における判定用部品106は、
図6に示す図形が所定の塗料で塗布されたシャッターである。
【0053】
所定の元素は、上記実施形態と同様に、判定に用いることが出来る元素であれば任意に選択してよいが、判定用部品106にもともと含まれる元素や分析対象とされる頻度の高い元素を避けて選択されることが望ましい。
【0054】
図6に示す例では、シャッターの1次X線が照射される面に、視野制限部108の開口に応じた形状の図形が所定の塗料で塗布される。図形は、視野制限部108が正常に取り付けられた場合に、発生した蛍光X線が検出器114に検出される領域の輪郭に沿って描かれる。すなわち、開口
の径が10mm、20mm及び30mmのダイアフラムが正常に取り付けられた場合に、発生した蛍光X線のうち検出器114に検出される蛍光X線が発生する領域の輪郭が、各径に対応して描かれる。
【0055】
図6に示す図形において、最も小さい円602は、開口
の径が10mmであるダイアフラムに対応する。中間の大きさの円604は、開口
の径が20mmであるダイアフラムに対応する。最も大きい円606は、開口
の径が30mmであるダイアフラムに対応する。
【0056】
所定の元素を含む塗料が塗布されることによって、
図6に示す図形が描かれる。当該所定の元素に特有の蛍光X線(判定に用いる蛍光X線)が発生し、開口の径に応じた強度の蛍光X線が検出器114によって測定される。具体的には、
径が10mm
である開口を有するダイアフラムが取り付けられた場合、
図6に示す最も小さい円602を描く塗料に含まれる元素から発生した蛍光X線のみが、検出器114に検出される。径が20mm
である開口を有するダイアフラムが取り付けられた場合、
図6に示す最も小さい円602及び中間の円604を描く塗料に含まれる元素から発生した蛍光X線が、検出器114に検出される。さらに、
径が30mm
である開口を有するダイアフラムが取り付けられた場合、
図6に示す全ての円を描く塗料に含まれる元素から発生した蛍光X線が、検出器114に検出される。
【0057】
従って、開口の径が異なるダイアフラムが取り付けられると、当該径に応じて異なる蛍光X線の強度が測定される。当該蛍光X線は、塗料に含まれる所定の元素に固有の蛍光X線であって、上記実施形態と同様、判定に用いられる蛍光X線である。視野制限部108が正しく取り付けられていない場合、
図6に示す円の中心からずれた位置を中心とする領域から発生した蛍光Xが検出器に検出される。すなわち、視野制限部108が正しく取り付けられていない場合と、視野制限部108が正しく取り付けられている場合と、では、塗料に含まれる上記元素に固有の蛍光X線の強度は異なる。従って、
図4に示すフローと同様、当該蛍光X線の強度を測定、記憶し、
図5に示すフローで判定を行うことによって、変形例においても、視野制限部108が正常に取り付けられているか判定することができる。
【0058】
本発明は、上記の実施例に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。上記蛍光X線分析装置100の構成は一例であって、これに限定されるものではない。上記の実施例で示した構成と実質的に同一の構成、同一の作用効果を奏する構成または同一の目的を達成する構成で置き換えてもよい。
【0059】
例えば、判定用部品106は、ターレットであってもよい。具体的には、蛍光X線分析装置100は、試料室101に、試料ホルダが配置される複数の穴を有するターレットであってもよい。ターレットは、判定に用いる元素を含んで形成される。この場合、S408及びS504のステップにおいて、シャッターが開いた状態で、ターレットに1次X線が照射される。そして、ターレットから発生する判定に用いる蛍光X線を用いることで、上記と同様の判定を行うことができる。
【0060】
さらに、判定用部品106は、較正用試料であってもよい。具体的には、例えば、判定用部品は、上記ターレットに設けられた複数の穴の一つに配置された試料であって、判定に用いる元素を含む較正用の試料であってもよい。上記と同様、S408及びS504のステップにおいて、シャッターが開いた状態で、較正用試料に1次X線が照射される。そして、較正用試料から発生する判定に用いる蛍光X線を用いることで、上記と同様の判定を行うことができる。較正用試料は、蛍光X線分析装置100に含まれる他の構成を較正するために用いられる試料と共用されてもよい。
【0061】
また、上記実施形態において、3種の開口の大きさを有するダイアフラムを用いる場合について説明したがこれに限られない。開口の大きさの種類は1種、2種または4種以上であってもよい。開口の大きさの種類が1種である場合、判定部120は、いずれの開口の大きさのダイアフラムが取り付けられているかではなく、正常に取り付けられているか否かのみを判定する。
【0062】
また、
図6に示す円形の図形が所定の元素を含む塗料が塗布されることによって描かれる場合について説明したがこれに限られない。例えば、図形の形状は、楕円形や矩形であってもよい。また、
図6に示す図形は、蒸着やスパッタによって描かれてもよいし、判定に用いられる元素が含まれる材料が埋め込まれることで描かれてもよい。
【符号の説明】
【0063】
100 蛍光X線分析装置、101 試料室、102 管球室、103 分光室、104 X線源、106 判定用部品、108 視野制限部、110 ソーラスリット、112 分光素子、114 検出器、116 計数器、118 制御部、120 判定部、122 記憶部、124 試料、602 10mmに対応する図形、604 20mmに対応する図形、606 30mmに対応する図形。