特許 6998965 フォトマスクまたはペリクル付きフォトマスクの一面を収容し、洗浄媒体から保護するためのホルダ、フォトマスクまたはペリクル付きフォトマスクを洗浄する方法、およびホルダを開閉する装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】

(24)【登録日】2021-12-23

(45)【発行日】2022-01-18

(54)【発明の名称】フォトマスクまたはペリクル付きフォトマスクの一面を収容し、洗浄媒体から保護するためのホルダ、フォトマスクまたはペリクル付きフォトマスクを洗浄する方法、およびホルダを開閉する装置

(51)【国際特許分類】

   G03F 1/66 20120101AFI20220111BHJP

   G03F 1/82 20120101ALI20220111BHJP

【ＦＩ】

G03F1/66

G03F1/82

【請求項の数】 33

(21)【出願番号】P 2019547187

(86)(22)【出願日】2017-11-16

(65)【公表番号】

(43)【公表日】2019-12-12

(86)【国際出願番号】 EP2017079497

(87)【国際公開番号】W WO2018091601

(87)【国際公開日】2018-05-24

【審査請求日】2020-09-01

(31)【優先権主張番号】2017806

(32)【優先日】2016-11-16

(33)【優先権主張国・地域又は機関】NL

(73)【特許権者】

【識別番号】507146108

【氏名又は名称】ズース マイクロテク フォトマスク エクイップメント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト

【氏名又は名称原語表記】Ｓｕｓｓ ＭｉｃｒｏＴｅｃ Ｐｈｏｔｏｍａｓｋ Ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ． ＫＧ

【住所又は居所原語表記】Ｆｅｒｄｉｎａｎｄ－ｖｏｎ－Ｓｔｅｉｎｂｅｉｓ－Ｒｉｎｇ １０， Ｄ－７５４４７ Ｓｔｅｒｎｅｎｆｅｌｓ， Ｇｅｒｍａｎｙ

(74)【代理人】

【識別番号】100118500

【弁理士】

【氏名又は名称】廣澤 哲也

(74)【代理人】

【識別番号】100091498

【弁理士】

【氏名又は名称】渡邉 勇

(74)【代理人】

【識別番号】100174089

【弁理士】

【氏名又は名称】郷戸 学

(74)【代理人】

【識別番号】100186749

【弁理士】

【氏名又は名称】金沢 充博

(72)【発明者】

【氏名】クルムベルク、イェンス

(72)【発明者】

【氏名】ベサー、アデム

(72)【発明者】

【氏名】ディーツェ、ウーヴェ

【審査官】田中 秀直

(56)【参考文献】

【文献】特開２００４－３５４６５６（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開平０９－２４６２３５（ＪＰ，Ａ）

【文献】実開平０４－１３７０３５（ＪＰ，Ｕ）

【文献】実開昭５６－０９６４４２（ＪＰ，Ｕ）

【文献】特開平０５－２８１７０７（ＪＰ，Ａ）

【文献】米国特許出願公開第２０１０／００２８８１３（ＵＳ，Ａ１）

(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)

Ｇ０３Ｆ １／００－１／８８

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

フォトマスクまたはペリクル付きフォトマスクの一方の面を収容し、洗浄媒体から保護するためのホルダであって、
少なくとも３つの支持要素を有するベースと、
上面と下面とを有するシールフレームと、
前記シールフレームに配置された外周弾性シール要素と、を備え、
前記少なくとも３つの支持要素は、前記ベースの底面から間隔を開けた状態で前記フォトマスクまたは前記ペリクル付きフォトマスクを受け取り、かつ保持するように構成され、
前記シールフレームの前記下面は、前記ベース上に置かれ、
前記シールフレームは、該シールフレームと前記フォトマスクとの間に間隔を開けた状態で前記フォトマスクを収容できるように寸法設定された中央開口を備えており、
前記外周弾性シール要素は、前記中央開口の内周から該中央開口内へ、前記シールフレームの前記上面に向かって傾斜して延びており、
無負荷状態の前記外周弾性シール要素は、前記フォトマスクの外周よりも小さい内周を有しており、負荷状態の前記外周弾性シール要素は、前記中央開口に収容されたフォトマスクの側面に周方向に接触する、ホルダ。

【請求項2】

前記支持要素は、フォトマスクのエッジ部でのみ、特に、フォトマスクの角部でのみ、該フォトマスクに接触するように配置されている、請求項１に記載のホルダ。

【請求項3】

前記支持要素は、それぞれ、１つまたは２つの傾斜支持面を有する、請求項１または２に記載のホルダ。

【請求項4】

無負荷状態の前記外周弾性シール要素は、前記中央開口の前記内周から該中央開口内に均一に２．５ｍｍ～３．５ｍｍの距離、好ましくは、約２．９ｍｍの距離だけ延びている、請求項１乃至３のいずれか一項に記載のホルダ。

【請求項5】

無負荷状態の前記外周弾性シール要素は、該外周弾性シール要素と中心合わせされたフォトマスクのエッジ領域と約０．４～１ｍｍ、好ましくは、０．６～０．８ｍｍ重なるように寸法設定されている、請求項１乃至４のいずれか一項に記載のホルダ。

【請求項6】

前記外周弾性シール要素は、１～３ｍｍの範囲の、好ましくは、１．５～２．５ｍｍの範囲の厚さと、２５°～７５°の範囲のショアＡ硬度を有する、請求項１乃至５のいずれか一項に記載のホルダ。

【請求項7】

前記外周弾性シール要素は、無負荷状態で、かつ該外周弾性シール要素を前記シールフレームに取り付ける前は実質的に平坦な形状を有している、請求項１乃至６のいずれか一項に記載のホルダ。

【請求項8】

前記外周弾性シール要素は、実質的に矩形の内周を有しており、前記内周の角部は、丸められており、好ましくは、２～４ｍｍの範囲にある半径、特に、約３ｍｍの半径を有する、請求項１乃至７のいずれか一項に記載のホルダ。

【請求項9】

前記外周弾性シール要素は、実質的に矩形状を有しており、少なくとも２つの両側のエッジ領域における外周に取付突起を有している、請求項１乃至８のいずれか一項に記載のホルダ。

【請求項10】

前記外周弾性シール要素は、使用される前記洗浄媒体および／または紫外線に耐性がある、請求項１乃至９のいずれか一項に記載のホルダ。

【請求項11】

前記シールフレームは、互いに着脱可能に取り付けられた上部と下部とを有しており、前記外周弾性シール要素は、前記上部と前記下部との間に挟まれている、請求項１乃至１０のいずれか一項に記載のホルダ。

【請求項12】

前記上部と前記下部とは、前記外周弾性シール要素のための外周収容空間を形成し、該外周収容空間は、前記中央開口を向いて開口し、前記中央開口に向かって漸減し、かつ前記シールフレームの上面に向かって傾斜しつつ前記中央開口に向かって延びている、請求項１１に記載のホルダ。

【請求項13】

前記外周弾性シール要素のための前記収容空間は、前記シールフレームの上面に向かって、平均して約２９°傾斜している、請求項１２に記載のホルダ。

【請求項14】

前記収容空間は、前記中央開口に面する端部において、前記外周弾性シール要素の厚さよりも小さい高さを有する、請求項１２または１３に記載のホルダ。

【請求項15】

前記中央開口に面する前記収容空間の前記端部は、前記外周弾性シール要素の厚さよりも１０％～２０％小さい高さを有する、請求項１４に記載のホルダ。

【請求項16】

前記シールフレームは、前記外周弾性シール要素の取付位置の上方の領域に傾斜部を有しており、該傾斜部は、前記シールフレームの径方向周囲に向かって広がっている、請求項１乃至１５のいずれか一項に記載のホルダ。

【請求項17】

前記ベースは、前記シールフレームを前記ベースに解放可能に保持するホルダユニット、特に、真空または負圧ユニットを備える、請求項１乃至１６のいずれか一項に記載のホルダ。

【請求項18】

前記ベースと前記シールフレームのうちの少なくとも一方は、外周シールを備え、該外周シールは、他方の要素、すなわち、前記シールフレームまたは前記ベースを向いている、請求項１乃至１７のいずれか一項に記載のホルダ。

【請求項19】

前記ベースと前記シールフレームは、相補的な案内要素を備え、該案内要素は、前記シールフレームを前記ベース上に配置する際に、これら２つの要素の互いに対する整列を達成する、請求項１乃至１８のいずれか一項に記載のホルダ。

【請求項20】

フォトマスク、特に、ペリクルを有するフォトマスクの一方の面を洗浄する方法であって、
請求項１乃至１９のいずれか一項に記載のホルダにフォトマスクを収容する工程である、最初に、前記フォトマスクを、その洗浄されない面が前記ベースに向くように前記支持要素に置き、次に、前記シールフレームを前記ベース上に置き、前記外周弾性シール要素が前記フォトマスクの側面で周方向に接触して該側面を封止し、前記フォトマスクの洗浄対象面はアクセス可能とする工程と、
少なくとも１つの洗浄媒体を該フォトマスクの前記洗浄対象面に供給して、前記洗浄対象面を洗浄する工程と、
前記フォトマスクを前記支持要素に押し付けつつ、前記シールフレームを、該シールフレームが前記ベースに置かれたときと逆方向に前記ベースから取り外す工程と、
前記フォトマスクを前記支持要素から取り外す工程と、を備えた、方法。

【請求項21】

前記フォトマスクは、そのエッジ部のみ、特に、前記フォトマスクの角部のみが前記支持要素に接触するように、前記支持要素に置かれる、請求項２０に記載の方法。

【請求項22】

前記シールフレームを前記ベースに置く際に、前記外周弾性シール要素は、前記シールフレームの上面に向かって変形し、前記外周弾性シール要素の下面が前記フォトマスクの側面に接触して、該側面を封止する、請求項２０または２１に記載の方法。

【請求項23】

前記洗浄媒体は、液体媒体であり、前記フォトマスクの洗浄された面は、前記シールフレームを前記ベースから取り外す前に乾燥される、請求項２０乃至２２のいずれか一項に記載の方法。

【請求項24】

請求項１乃至１９のいずれか一項に記載のホルダを開閉するための装置であって、
間隔を開けて配置された互いに向き合う少なくとも２つのグリッパと、
少なくとも１つの保持ピンを有するマスク保持ユニットと、
前記グリッパと前記保持ユニットとの両方に連結され、前記グリッパと前記保持ユニットを一体に移動させる移動ユニットと、を備え、
前記少なくとも２つのグリッパは、それらの間に前記シールフレームを自由に受け取ることができる開位置と、前記シールフレームを把持しうる閉位置との間を移動可能であり、
前記少なくとも１つの保持ピンは、前記シールフレームを前記グリッパで受けるときに、前記少なくとも１つの保持ピンが前記シールフレームの前記中央開口と整列されるように、前記グリッパの間で空間的に配置されており、
前記少なくとも１つの保持ピンは、前記グリッパの開閉動作方向と実質的に垂直に延び、かつ前記少なくとも１つの保持ピンの長手方向に移動可能に支持されている、装置。

【請求項25】

前記少なくとも１つの保持ピンは、案内要素内に収容されており、かつ付勢ユニットによって前記案内要素の外へ弾性的に付勢されており、前記案内要素の外への前記保持ピンの移動はストッパによって制限されている、請求項２４に記載の装置。

【請求項26】

前記少なくとも１つの保持ピンは、制御可能な移動機構によってその長手方向に移動可能である、請求項２４に記載の装置。

【請求項27】

前記少なくとも１つの保持ピンは、前記グリッパの間の位置から、保持機能を実行不能な中立位置に移動可能である、請求項２４乃至２６のいずれか一項に記載の装置。

【請求項28】

前記移動ユニットは、間隔を開けて配置された２つのアームを備え、該アームは、それぞれ、少なくとも１つのグリッパを担持し、かつ少なくとも前記グリッパの領域内で、実質的にその長手方向と平行に延びる、請求項２４乃至２７のいずれか一項に記載の装置。

【請求項29】

前記グリッパは、グリッパジョーを有するグリッパジョーホルダを備え、前記グリッパジョーホルダは前記２つのアームのうちの少なくとも一方の上に配置されており、
前記グリッパジョーホルダは、前記アームの長手方向に延びる第１回転軸を中心に回転可能に支持されており、
前記グリッパジョーは、前記アームの長手伸長方向に垂直に延びる第２回転軸を中心に回転可能に、前記グリッパジョーホルダに取り付けられている、請求項２８に記載の装置。

【請求項30】

前記第１および第２回転軸は、実質的に互いに垂直である、請求項２９に記載の装置。

【請求項31】

前記少なくとも一方のアーム上の前記グリッパは、２つのグリッパジョーを有するグリッパジョーホルダを備え、該２つのグリッパジョーは前記グリッパジョーホルダを支持する前記アームの長手方向に間隔を開けて配置されており、
ホームポジションにおける前記グリッパジョーは、前記アームと実質的に平行な線上に整列されており、
前記グリッパジョーホルダは、前記アームの長手方向に垂直な第３回転軸を中心に回転可能に支持されている、請求項２８乃至３０のいずれか一項に記載の装置。

【請求項32】

前記第３回転軸は、他方のアームに向かって延びている、請求項３１に記載の装置。

【請求項33】

前記グリッパジョーホルダをそのホームポジションに向かって付勢する付勢ユニットをさらに備えた、請求項３１または３２に記載の装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、フォトマスクまたはペリクル付きフォトマスクの一面を収容し、洗浄媒体から保護するためのホルダと、フォトマスクまたはペリクル付きフォトマスクの一面を洗浄する方法とに加えて、上記タイプのホルダを開閉するための装置に関する。

【背景技術】

【0002】

特に、半導体技術分野では、フォトリソグラフィープロセスにフォトマスクを用いることが知られている。良好なプロセス結果を得るためには、フォトマスクを定期的に洗浄しなければならない。フォトマスクの特定の面をパーティクルによる汚染から保護するために、所謂ペリクルが用いられることがある。

【0003】

ペリクルは、薄膜またはメンブレンであり、例えば、保護されるべきフォトマスクの面に接着されたフレームによって、保護されるべきフォトマスクの面に対して間隔を開けた状態で保持される。したがって、パーティクルは、フォトマスクの面に到達できない。パーティクルが存在する場合は、それらはペリクルに付着する。ペリクルは、マスク面から十分に離れた距離に配置される。すなわち、該ペリクルに付着した、少なくとも特定のサイズ以下のパーティクルが結像処理を損なうことがないように、ペリクルはフォトマスクの面から十分に離れている。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

これにより、対応する面の洗浄周期を大幅に低減しうる。しかしながら、依然として、ペリクルとは逆側のフォトマスクの面を洗浄する必要がある。従来、ペリクルおよびそのフレームは、該フレームの外側でマスクの周縁エッジ領域が自由なまま残り、シール面として使用できるように、フォトマスクの面に接着されていたが、今日または将来のペリクルのいくつかは、フォトマスクの端部まで延びているか、またはフォトマスクを超えて延びることさえありえる。

【0005】

ペリクルとは逆側の面を洗浄する間、ペリクルを担持する面は、使用される洗浄媒体から保護される必要がある。これにより、ペリクルの、またはそのフレームの、またはペリクルを担持するフォトマスクの面の損傷および／または汚染が回避されうる。これは、一般に、ペリクルを担持する面の周縁エッジ領域をシールフレーム上に取り付けることにより達成されていた。エッジ領域は、ペリクルとエッジ領域の内側にあるマスク面とが周囲雰囲気に対して、特に、洗浄媒体に対して封止されるように予め構成されていた。フォトマスクのエッジ領域まで達するか、および／またはそれを超えてまで延びるペリクルでは、該ペリクルを担持するフォトマスクの面にフォトマスクの十分な表面領域がないため、これはもはや不可能である。さらに、ペリクル無しのフォトマスクであっても、一方の面の洗浄中に、他方の面に接触しないことは有利でありえる。

【0006】

したがって、フォトマスクの一方の面、特に、ペリクルを担持するフォトマスクの面を洗浄媒体に対して保護しつつ、他方の面をこの洗浄媒体で洗浄することが可能な、代替的な装置および方法を提供する必要がある。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明によれば、請求項１に記載のホルダ、および請求項２０に記載の方法に加えて、上記タイプのホルダを開閉するための、請求項２４に記載の特定の装置が提供される。本発明のさらなる実施形態は、とりわけ、従属請求項に開示されている。

【0008】

特に、フォトマスク、またはペリクル付きフォトマスクを収容し、洗浄媒体から保護するためのホルダが提供され、該ホルダは、少なくとも３つの支持要素を有するベースと、上面と下面とを有するシールフレームと、前記シールフレームに配置された外周弾性シール要素と、を備え、前記少なくとも３つの支持要素は、前記ベースの底面から間隔を開けた状態で前記フォトマスクまたは前記ペリクル付きフォトマスクを受け取り、かつ保持するように構成され、前記シールフレームの前記下面は、前記ベース上に置かれ、前記シールフレームは、該シールフレームと前記フォトマスクとの間に間隔を開けた状態で前記フォトマスクを収容できるように寸法設定された中央開口を備えており、前記外周弾性シール要素は、前記中央開口の内周から該中央開口内へ、前記シールフレームの前記上面に向かって傾斜して延びており、無負荷状態の前記外周弾性シール要素は、前記フォトマスクの外周よりも小さい内周を有しており、負荷状態の前記外周弾性シール要素は、前記中央開口に収容されたフォトマスクの側面に周方向に接触する。そのようなホルダは、フォトマスク、または下向きのペリクルを有するペリクル付きフォトマスクをベース上に受け、その後、上方からシールフレームを取り付けて、特定のシールによって側面を封止するのに適している。シールフレームを反対方向に取り外しうるので、ベースに面するフォトマスクの面および／またはフォトマスクのペリクルとはいかなる時点でも接触しない。

【0009】

好ましくは、前記支持要素は、フォトマスクのエッジ部でのみ、特に、フォトマスクの角部でのみ、該フォトマスクに接触するように配置されている。支持要素は、１つまたは２つの傾斜支持面を有しうる。

【0010】

一実施形態によれば、無負荷状態の前記外周弾性シール要素は、前記中央開口の前記内周から該中央開口内に均一に延び、特に２．５ｍｍ～３．５ｍｍの距離、好ましくは、約２．９ｍｍの距離だけ延びている。この距離は、上面または下面の平面で測定される。さらに、外周弾性シール要素は、無負荷状態では、該外周弾性シール要素と中心合わせされたフォトマスクのエッジ領域と約０．４～１ｍｍ、好ましくは、０．６～０．８ｍｍ重なるように寸法設定されてもよい。開口部への外周弾性シール要素の突出部は、フォトマスクが収容されるときにシールを変形させるのに十分な材料を提供し、一方、フォトマスクの洗浄中に力がそこにかかるときに、外周弾性シール要素が不安定になるほど大きすぎない。この重なりは、また、外周弾性シール要素の十分な変形と、フォトマスクの側面に対する外周弾性シール要素の押圧力を提供する。

【0011】

好ましくは、前記外周弾性シール要素は、１～３ｍｍの範囲の、好ましくは、１．５～２．５ｍｍの範囲の厚さと、２５°～７５°の範囲のショアＡ硬度を有する。これらの数値は、ＦＦＫＭパーフロオロエラストマーゴム、またはＥＰＤＭエチレン－プロピレン－ジエンモノマーゴム製のシールのような耐薬品性のシールがフォトマスクの側面に対して良好な封止を提供するのに特に適していることが分かった。

【0012】

取り付けられていない無負荷の状態では、外周弾性シール要素は、実質的に平坦な形状を有していてもよく、したがって、容易に製造しうる。しかしながら、外周弾性シール要素は、内周に向いているテーパー部を有していてもよい。矩形フォトマスクの側面に対する良好な封止のために、外周弾性シール要素は、実質的に矩形の内周を有し、その内周の角部は丸められ、好ましくは、２～４ｍｍの範囲の、特に、約３ｍｍの半径を有する。

【0013】

一実施形態では、外周弾性シール要素は、実質的に矩形の外周を有しており、その少なくとも２つの両側のエッジ領域に、取付突起を設けてもよい。好ましくは、外周弾性シール要素を構成する材料は、使用される洗浄媒体および／または紫外線に耐性があるように、特定の用途に適合される。

【0014】

シールフレームは、互いに着脱可能に取り付けられた上部と下部とを有していてもよく、外周弾性シール要素は、該上部と下部との間に挟まれている。そうすることで、外周弾性シール要素を確実にシールフレームに取り付け、かつ容易に交換しうる。特に、上部と下部とは、外周弾性シール要素のための外周収容空間を形成してもよく、該外周収容空間は、中央開口を向いて開口している。この収容空間は、中央開口に向かって漸減していてもよく、シールフレームの上面に向かって傾斜した状態で中央開口に向かって延びていてもよい。このような収容空間により、外周弾性シール要素を確実な態様で保持し、かつ該外周弾性シール要素をシールフレームの上面に向かって傾斜させることができる。好ましくは、外周弾性シール要素のための収容空間は、シールフレームの上面に向かって約２９°傾斜している。好ましくは、収容空間は、中央開口に面するその端部で、外周弾性シール要素の厚さよりも小さい高さを有する。特に、中央開口に面する収容空間の端部は、外周弾性シール要素を確実に保持し、さらには、該外周弾性シール要素を付勢するために、外周弾性シール要素の厚さよりも１０％～２０％小さい高さを有する。

【0015】

湿式洗浄で用いるために、シールフレームは、外周弾性シール要素の取付位置の上方の領域に傾斜部を有しており、該傾斜部は、シールフレームの径方向周囲に向かって広がっている。シールフレームの使用中に、該シールフレームをベースに確実に保持するために、ベースは、シールフレームをベースに解放可能に保持するホルダユニット、特に、真空または負圧ユニットを備えてもよい。一実施形態では、ベースとシールフレームのうちの少なくとも一方は、外周シールを備えてもよく、該外周シールは、他方の要素（すなわち、シールフレームまたはベース）に面していて、２つの要素の間の接触領域を封止する。ベースとシールフレームとは、相補的な案内要素を備えていてもよく、該案内要素は、シールフレームをベース上に配置する際に、これら２つの要素の互いに対する整列を達成する。

【0016】

フォトマスク、特に、ペリクルを有するフォトマスクの一方の面を洗浄する方法は、以下の工程、すなわち、上述したタイプのホルダにフォトマスクを収容する工程であって、最初に、前記フォトマスクを、その洗浄されない面が前記ベースに向くように前記支持要素に置き、次に、前記シールフレームを前記ベース上に置き、前記外周弾性シール要素が前記フォトマスクの側面で周方向に接触して該側面を封止し、前記フォトマスクの洗浄対象面はアクセス可能とする工程と、少なくとも１つの洗浄媒体を該フォトマスクの前記洗浄対象面に供給して、前記洗浄対象面を洗浄する工程と、前記フォトマスクを前記支持要素に押し付けつつ、前記シールフレームを、該シールフレームが前記ベースに置かれたときと逆方向に前記ベースから取り外す工程と、前記フォトマスクを前記支持要素から取り外す工程と、を備える。このような方法によって、フォトマスクの側面での封止が可能となり、したがって、このような方法を、ペリクルを有する、および有さないフォトマスクに同様に使用しうる。ベースにシールフレームを置くときと逆方向にシールフレームを取り外すことにより、外周弾性シール要素は、保護されるべきフォトマスクの面から、またはそこに取り付けられたペリクルから常に間隔を開けられているので、該外周弾性シール要素によって、損傷または汚染が引き起こされることはない。シールフレームを取り外す間、フォトマスクを支持要素に押し付けている限りは、フォトマスク自身が移動するかまたはずれること、故に、フォトマスクが損傷される可能性を回避することができる。

【0017】

保護されるべきフォトマスクの面をあらゆる接触から保護するために、フォトマスクは、好ましくは、そのエッジ部のみ、特に、フォトマスクの角部のみが支持要素に接触するように、支持要素に置かれる。

【0018】

シールフレームをベースに置く際に、外周弾性シール要素は、シールフレームの上面に向かって変形し、外周弾性シール要素の下面がフォトマスクの側面に接触して、該側面を封止する。そうすることで、良好なシール作用が達成される。

【0019】

一実施形態によれば、洗浄媒体は、液体媒体であり、フォトマスクの洗浄された面は、シールフレームをベースから取り外す前に乾燥される。この乾燥を、例えば、ホルダの高速回転によって達成してもよい。

【0020】

上述したホルダを開閉するための装置は、間隔を開けて配置された互いに向き合う少なくとも２つのグリッパと、少なくとも１つの保持ピンを有するマスク保持ユニットと、前記グリッパと前記保持ユニットとの両方に連結され、前記グリッパと前記保持ユニットを一体に移動させる移動ユニットと、を備え、前記少なくとも２つのグリッパは、それらの間に前記シールフレームを自由に受け取ることができる開位置と、前記シールフレームを把持しうる閉位置との間を移動可能であり、前記少なくとも１つの保持ピンは、前記シールフレームを前記グリッパで受けるときに、前記少なくとも１つの保持ピンが前記シールフレームの前記中央開口と整列されるように、前記グリッパの間で空間的に配置されており、前記少なくとも１つの保持ピンは、前記グリッパの開閉動作方向と実質的に垂直に延び、かつ前記少なくとも１つの保持ピンの長手方向に移動可能に取り付けられている。このような装置は、（ホルダの開放中に）シールフレームをベースから取り外し、シールフレームに収容されたフォトマスクをホルダの支持要素に押し付けて、シールフレームを取り外している間に、フォトマスクを移動させずに、シールフレームのみを移動させることを確実にするのに特に適している。

【0021】

好ましくは、少なくとも１つの保持ピンは、案内要素内に収容されており、かつ付勢ユニットによって案内要素の外へ弾性的に付勢されており、案内要素の外への保持ピンの移動はストッパによって制限される。シールフレームが取り外されると、これら取り付けおよび付勢は、フォトマスクに対して所定の力を提供しうる。その代わりに、または追加的に、少なくとも１つの保持ピンは、制御可能な移動機構によってその長手伸長方向に移動可能であってもよい。

【0022】

一実施形態では、前記少なくとも１つの保持ピンは、グリッパの間の位置から、保持機能を実行不能な中立位置に移動可能である。少なくとも１つの保持ピンのそのような位置では、装置は、フォトマスク自体のような他の要素の移送のためにも使用しうる。

【0023】

一実施形態によれば、移動ユニットは、間隔を開けて配置された２つのアームを備え、該アームは、それぞれ、少なくとも１つのグリッパを担持し、かつ少なくとも前記グリッパの領域で、実質的にその長手方向に平行に延びる。好ましくは、グリッパは、グリッパジョーを有するグリッパジョーホルダを備え、グリッパジョーホルダは、２つのアームのうちの少なくとも一方の上に配置され、該グリッパジョーホルダは、アームの長手方向に延びる第１回転軸を中心に回転可能に支持されており、グリッパジョーは、アームの長手伸長方向に垂直に延びる第２回転軸を中心に回転可能に、グリッパジョーホルダに取り付けられている。これにより、グリッパを、適切に整列されていないホルダのシールフレームに合わせうる。特に、第１および第２回転軸を、実質的に、互いに対して垂直に配置してもよい。少なくとも一方のアーム上のグリッパは、２つのグリッパジョーを有するグリッパジョーホルダを備えてもよく、該２つのグリッパ－ジョーはグリッパジョーホルダを支持するアームの長手方向に間隔を開けて配置されており、ホームポジションにおけるグリッパジョーは、アームと実質的に平行な線上に整列されており、グリッパジョーホルダは、対応するアームの長手方向に垂直な第３回転軸を中心に回転可能に支持されている。第３回転軸は他方のアームに向って延びてもよい。好ましくは、グリッパジョーホルダをそのホームポジションに付勢する付勢ユニットが設けられてもよい。

【図面の簡単な説明】

【0024】

本願発明が図面を参照して詳細に説明される。

【図1】図１は、シールを備えていない本発明に係るホルダの概略上面図である。

【図2】図２は、図１のII－II線に沿ったホルダの概略断面図である。

【図3】図３は、図２と類似のホルダの概略断面図であるが、内部にシールが取り付けられている図である。

【図4】図４は、図１に記載のホルダのベースの概略斜視図である。

【図5】図５は、図１に記載のホルダのシールフレームの下部の概略斜視上面図である。

【図6】図６は、図１に記載のホルダのシールフレームの上部の概略斜視底面図である。

【図7】図７は、図１に記載のホルダのシールフレームの概略斜視上面図である。

【図8】図８は、取り付けられたシールを有するシールフレームの上部と下部との間のクランプ領域の拡大概略図である。

【図9】図９は、シールフレームに収容されていない状態のフォトマスクが示されている、図８と類似のクランプ領域の拡大概略図である。

【図10】図１０は、図示されたフォトマスクがシールフレームに収容された状態を示している、図９と類似の拡大概略図である。

【図11】図１１は、シールフレーム内のシールの収容部分のさらなる概略詳細図である。

【図12】図１２は、フォトマスクに対する関係を示す、図１１と類似の図である。

【図13】図１３は、ペリクルを有するフォトマスクに対する関係を示す、図１２と類似の図である。

【図14】図１４は、図１に記載のホルダに取り付け可能な例示的なシールの概略上面図である。

【図15】図１５は、図１に記載のホルダを開閉するための装置の概略正面図である。

【図16】図１６は、図１５に記載の装置の概略正面図であり、装置の保持装置が図１５とは異なる位置に示されている図である。

【図17】図１７は、図１５の概略右側面図であり、図１７ａと図１７ｂは、グリッパジョーホルダの異なる位置を示す図である。

【図18】図１８は、図１７と同様の概略側面図であり、図１７のグリッパジョーホルダが省略されている図である。

【図19】図１９は、図１に記載の装置の部分的な領域の拡大概略正面図であり、図１９ａおよび図１９ｂは、グリッパジョーホルダおよび対応するグリッパの異なる位置を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0025】

以下の説明において、方向の表現、例えば、「上」、「下」、「左」、「右」、「水平」、「鉛直」、およびこれらの派生語などの表現は、図中における表現であり、それらが好ましい向きを言及しているとしても、限定的な意味に理解されるべきではない。

【0026】

図１は、フォトマスク２、またはペリクルを有するフォトマスクの一方の面を収容し、他方の面（すなわち、保護されていないフォトマスク２の面）の洗浄中に、前記一方の面を洗浄媒体から保護するためのホルダ１の概略上面図である。フォトマスク２は、図１で点線のみで示されており、ペリクル無しフォトマスクであってもよいし、ペリクル付きフォトマスクであってもよい。図１に記載の描写では、説明の簡略化のためにシールは示されていない。図２は、図１に記載のホルダ１の概略断面図であり、図３は、内部にシールが取り付けられた図２に対応する断面図である。フォトマスクという用語が用いられる場合、これは、フォトマスクがペリクル付きであるかペリクル無しであるかに関係なく、概してフォトマスクの基体に関するものである。

【0027】

ホルダ１は、ベース５と、ベース５上に配置されるシールフレーム７とを有する。ベース５およびシールフレーム７のうちの少なくとも一方には、これらを互いに設置したときに、これら２つの要素を一緒に着脱可能に保持するための保持ユニットが設けられてもよい。特に、シールフレームをベースに保持するために、例えば、ベース５に形成された開口（図示せず）を介してシールフレームの下面に作用する負圧または真空ユニットが設けられてもよい。しかしながら、これら２つの要素を一緒に着脱可能に保持するために、他の保持ユニットを設けてもよい。

【0028】

ベース５は、実質的に、上面１０と下面１１を有する円板要素９と、該板要素９の下面１１から垂直に延びる軸部１３とからなる。板要素９の上面１０および下面１１は、実質的に平坦である。図４の概略斜視図に最もよく示されているように、４つの支持要素１５が板要素９の上面１０に設けられている。４つの支持要素１５は、それらが矩形の、特に正方形のフォトマスク２をその４つの角部において受けるように配置されている。支持要素は、それぞれ、２つの離れた支持体１６を備えており、それらは、フォトマスク２のそれぞれの角部の領域における２つの異なる長手方向エッジ部でフォトマスク２に接触するのに適している。

【0029】

図では、２つの支持面をそれぞれ有する特定の構造を備えた４つの支持要素１５が示されているが、当業者は、支持面を形成するために、より少ない数の支持要素、特に３つの支持要素で十分であり、各支持要素は単一の支持面のみを有していてもよいことを理解可能であろう。支持要素１５は、その上に受けたフォトマスク２が実質的にベースの上面１０と平行となるように寸法設定され配置されている。ペリクルを有するフォトマスクにとっては、ペリクルがベース５の上面１５から間隔を開けて配置されるように、支持要素１５は、下向きのペリクル付きフォトマスクを支持要素１５上で受け取るのに十分な高さを有している。さらに、支持要素１５は、下向きのペリクルを有するフォトマスク２を支持要素１５で受けたときに、該支持要素１５がペリクルおよびそのフレームに接触しないように配置されている。特に、支持要素１５は、フォトマスクとその下向きのエッジ部でのみ接触するように構成される。このために、支持面１６は、それぞれ、傾斜した上面を備えている。

【0030】

軸部１３は、板部９の中心位置にあり、実質的に円形である。図２の描写に示されるように、軸部１３は、少なくとも部分的に中空であってもよく、回転駆動機（図示せず）の軸のための収容空間１８を備えてもよい。代わりに、軸部１３は、図３に示されるように、中実部として形成されてもよく、回転駆動機の軸に接続するための適した他の構造が設けられていてもよい。使用時に、ベース５は、一般的に、回転駆動機の軸によって回転可能に支持される。図２および図３に示される軸Ａは回転軸心を表す。

【0031】

ホルダ１のシールフレーム７は、実質的に、上部２０、下部２１、およびシール２２を有する。図の簡略化のために、シールは、図１および図２では示されていないが図３には示されている。シールフレーム７を形成するために、上部２０および下部２１は、これら要素の非破壊的な分離を可能にする適切な取付け手段、例えば、ねじによって互いに着脱自在に取り付けられ、詳細は後述するが、それらの間には、シール２２が配置されている。

【0032】

シールフレームの上部２０は、図６では下方からの斜視図で示されており、図７では上方からの斜視図で下部２１とともに示されている。上部２０は、実質的に、円板要素を備えており、この円板要素は、上面２４と、下面２５と、上面２４と下面２５との間を延びる中央開口２６を有する。上部２０の上面２４は、実質的に平坦であるが、図８乃至１０に示すように下面に向かって傾斜した、中央開口に隣接する面取り部を有していてもよく、あるいは、丸められたエッジ部を有していてもよい。

【0033】

下面２５も、実質的に平坦であるが、下面に案内構造を設けてもよく、該案内構造によって、上部２０と下部２１とを組み付ける際に、下部２１に対する整列が可能となる。さらに、上部２０の下面２５に、ねじ溝が切られた複数のブラインド孔を設けてもよく、これらによって、例えば、適切なねじによって上部２０と下部２１とを互いに取り付けることができる。しかしながら、上部２０を下部２１に取り付ける、これら２つの部分の非破壊的な分離を可能とする他の手段も可能である。

【0034】

中央開口２６に隣接して、上部２０の下面２５は、該下面２５に対して垂直に延び、かつ上面２４に向かって延びる肩部２８がまずは形成されるように形付けられる。肩部２８は図８の簡略化された描写に最もよく示されており、図８は、シールが取り付けられた、シールフレーム７の上部２０と下部２１との間のシールクランプ領域の拡大概略図を示す。肩部２８は傾斜部２９に結合され、傾斜部２９は、肩部２８の上端から中央開口２６に向かって延び、かつ上面２４に向かって傾斜する。特に、表面または傾斜部２９は、上面２４に向かって約２５度～３２度で傾斜していてもよく、例えば、上部２０の上面２４に対して約２８．５度の斜度を有する。

【0035】

中央開口２６は、矩形形状、特に、丸められた角部を有する正方形状を有し、さらに、フォトマスク２を間隔を開けた状態で収容するように寸法設定されている。

【0036】

下部２１もまた、実質的に、板要素３２を備える。この板要素３２は、上面３３、下面３４、中央開口３５、および外周スカート３６を有する。図５に、下部２１の概略斜視上面図が示される。下部２１の板要素３２は、実質的に、上部２０の板要素２３と同様の外周寸法を有する。下部２１の中央開口３５は、上部２０の中央開口２６と実質的に同じ形状および大きさである。上部２０と下部２１を互いに取り付けると、中央開口２６および３５は一直線上に配列される。図５と図７には示されていないが、ハンドル３７を下部２１に取り付けるか、または下部２１と一体に形成してもよい。以下に詳細に説明されるように、各グリッパと協働しうるハンドル３７は、図１に記載の上面図にのみ示される。ハンドル３７を下部２１にまたはそれに追加して設けるのではなく、ハンドル３７をシールフレーム７の上部２０に設けてもよい。上面図に示されるように、全部で６つのハンドル３７が設けられる。複数のハンドル３７は、３つのハンドル３７のグループに分割され、各グループは、図１のII－II線断面に関して対称的にシールフレームの両側に配置される。当業者には理解されるように、図示された配置とは異なるハンドル３７の配置が提供されてもよい。図１５乃至図１８を参照して以下により詳細に説明されるが、ホルダを開閉するための装置と協働するためには、例えば、３つのハンドル、特に、一方の側の外側ハンドル３７らと、他方の側の中央ハンドル３７の組み合わせで十分でありえる。６つのハンドルの配置を有することにより、シールフレームを、それが１８０度回転された場合でも収容することができる。

【0037】

板要素の上面３３と下面３４は、その大部分が平坦であるが、上面は、上部２０と下部２１とを接合する際にこれらを整列させるための案内構造を備えていてもよい。さらに、板要素３２には、孔または通路（図示せず）が設けられてもよく、これらが上部２０の対応するブラインド孔と位置合わせされることにより、これら２つの要素を例えばねじによって互いに取り付けることができる。各孔および連結具は、図の簡略化のために図示されていない。

【0038】

上面３３は、中央開口２６に隣接する突起部を備え、該突起部は傾斜部３８によって形成される。傾斜部３８は、上部２０の板要素２３を延びる傾斜部２９と実質的に同じ距離にわたって下部２１の半径方向に延びる。傾斜部３８は、例えば、板要素３２の平坦な上面３３に対して２８度～３４度の範囲で傾斜しており、例えば、約３０度の斜度を有する。傾斜部２９，３８の角度は異なっており、特に、傾斜部３８の角度は、傾斜部２９の角度よりも約１～２度だけ急勾配である。これにより、シールフレーム７の結合状態では、中央開口２６に向かって漸減する収容空間４０が上部２０と下部２１との間に形成される。この漸減収容空間４０は、図８に特によく示されており、図８では、そこに収容されたシール２２も示されている。漸減収容空間４０の役割については、シール２２を詳細に説明する際に、以下で詳細に説明する。

【0039】

シール２２の角部を上向きに良好に傾かせるために、傾斜部２９，３８は、それぞれの丸められた角部で幾分急勾配、例えば、０．５度だけ急勾配であってもよい。これにより、中央開口２６を向いた収容空間４０の開口は、丸められた角部で他の領域よりもわずかに高い。

【0040】

板要素３２は、さらに外周スカート３６を備えており、該外周スカートは、図２または図３にも示されるように、下面３４から実質的に垂直に下方に延びる。図２から理解しうるように、スカート３６は、シールフレーム７がベース５に設置されたときに、ベース５の板部９を完全に収容するのに適した内部寸法を有する。詳細に図示はしないが、少なくとも１つのシールを下部２１の下面３４と板要素９の上面との間に設けてもよく、該シールは、これら２つの要素の一方に取り付けられうる。

【0041】

図３で最初に示されるシール２２は、図３および図８乃至図１４を参照して以下に説明される。ここで、図１４は、例示的なシール２２の上面図を示している一方で、図８乃至図１３は、シールフレームの上部２０と下部２１との間のシール２２のクランプに加えて、フォトマスクに対するシール２２の関係を概略的に示している。

【0042】

図１４に記載の上面図から理解しうるように、シール２２は、丸められた角部を有する実質的に矩形、特に、実質的に正方形の環状形状を有する。角形状の２つの対向する長手方向側面には、外側を向いた取付け突起４４，４５が設けられる。

【0043】

シール２２は、取り付けられていない状態では、実質的に平坦な形状を有しており、フォトマスク２の洗浄の際に用いられる洗浄媒体に対して耐性を有する適切なシール材料からなる。適切な材料の例としては、ＦＦＫＭパーフロオロエラストマーゴム（FFKM perfluoroelastomer rubber）、またはＥＰＤＭエチレン－プロピレン－ジエンモノマーゴム（EPDM ethylene-propylene-diene-monomer rubber）が挙げられる。シール２２は、１～３ｍｍの範囲、好ましくは、１．５～２．５ｍｍの範囲の厚さと、２５°～７５°の範囲のショアＡ硬度とを有するのが好ましい。シールの実質的に矩形の内周は、丸められた角部を有しており、丸められた角部の半径は、好ましくは、２～４ｍｍの範囲、特に約３ｍｍである。図示はしないが、シールは、中央開口に向かって漸減する中間部分を有していてもよい。

【0044】

取付け突起４４，４５は、それらがシールフレーム７の上部２０の板要素２３の下面２５におけるそれぞれの置き場に嵌合するように寸法設定されており、該置き場は図６で符号４６で示されている。取付け突起４４，４５は、それぞれ、シール２２をシールフレーム７の下部２１に適切な態様で、例えば、板要素３２の上面３３に設けられたピン４７（図５参照）を介して取り付けるために、取付け開口を備える。当然ながら、さらなる取付け突起を設けてもよく、あるいは、取付け突起４４，４５を省略してもよい。

【0045】

図８に最もよく示されているように、シール２２はシールフレーム７の上部２０の下面２５における肩部２８の高さに実質的に対応する厚さを有する。シールフレーム７の下部２１における傾斜部３８によって、シールは、図８に示すように上方向に傾斜される。ここで、図８における点線形状のシール２２は、該シールが下部２１のみによって保持されている状態か、または収容空間４０が漸減していない状態でのシールを示している。実線の形状は、上部２０が下部２１に取り付けられたときのシール２２を示している。収容空間４０の漸減形状により、中央開口２６に隣接する収容空間４０は、シール２２が無負荷状態であるときのシール２２の高さよりも小さい高さを有する。これにより、シール２２は、この領域で押しつぶされ、その一方で、シールを固定し、他方では、さらに上方向に傾かせる。特に、中央開口２６に隣接する端部での収容空間４０の高さは、無負荷状態のシールの厚さよりも１０％～２０％小さい。

【0046】

シール２２は、取付けられた状態において、すなわち、上部２０と下部２１との間に配置されたときに、例えば、図１１に示されるように、中央開口２６の内周から該中央開口内に２．５ｍｍ～３．５ｍｍの距離Ｄ１、好ましくは、約２．９ｍｍの距離だけ上部２０または下部２１の半径方向に、実質的に等しくまたは均一に延びるように寸法設定されている。さらに、フォトマスク２がペリクルを有さないフォトマスクであるか、またはペリクル付きフォトマスクであるか（図１２および図１３参照）にかかわらず、図１３および図１４に最もよく示されるように、シール２２は、無負荷で取り付けられている状態で、シールに対して中心合わせされたフォトマスクのエッジ領域が約０．４～１ｍｍ、好ましくは、０．６～０．８ｍｍの距離Ｄ２だけ半径方向でシールと重なるように寸法設定されている。

【0047】

フォトマスク２がシール２２に下方から接触するように、該フォトマスクがシールフレーム７の中央開口２６に収容されると、シールは、図１０に概略的に示されるようにさらに上方に変形される。シール２２は、フォトマスクとその側面で接触し、該側面を封止する。対応する封止は、シール２２がシールフレーム７の上部２０と下部２１との間に挟まれたときに取るシールの特定の形状によって促進される。封止は、図１０に示されるように、シール２２の下面によって達成される。シール２２の傾斜配置によって、シール２２の下面とフォトマスク２の外周側面との良好な接触が促進される。以下に詳細に説明されるように、傾斜配置は、さらに、シールフレーム７をフォトマスク２に上方から容易に載せ、かつ反対方向にそこから取り外すことを助ける。

【0048】

図１５乃至図１９を参照して、上述のホルダ１を開閉するための具体的な装置５０が詳細に説明される。図１５は、装置５０の概略正面図であり、図１６は、図１５の概略右側面図であり、図１７は、図１６と類似の概略側面図であって、装置の一部が省略された図である。図１９ａおよび図１９ｂは、装置５０の部分的な領域の拡大概略正面図であり、異なる位置にある装置のグリッパジョーを示している。

【0049】

装置５０は、実質的に、主アーム５２と、第１グリッパアーム５４と、第２グリッパアーム５５と、第１グリッパアームにおける第１グリッパ装置５６と、第２グリッパアームにおける第２グリッパ装置５７と、マスク保持装置６０とからなる。

【0050】

主アーム５２は、第１取付端部６２と第２取付端部６４とを有する。第１取付端部６２は、任意の適切な態様で、主アーム５２を空間内で三次元的に移動させることが可能な移動機構と接続されうる。各移動機構は当該技術分野でよく知られているため、したがって、ここでは詳細に説明しない。

【0051】

第２取付端部６４は、第１取付端部６２に強固に接続されており、第１および第２グリッパアーム５４，５５、およびマスク保持装置６０を支持する。

【0052】

さらに、以下に詳細に説明されるように、第２取付端部に駆動装置が設けられ、該駆動装置は、第１および第２グリッパアーム５４，５５を互いに相対的に移動させることができる。

【0053】

グリッパアーム５４，５５は、それぞれ、実質的にＬ形状を有する。Ｌ形状のそれぞれの第１脚部６６（以下、短脚部６６と称することがある）は主アーム５２の第２取付端部６４内に収容され、その中で、その長手方向に案内される。特に、それぞれの短脚部６６は、それらが実質的に互いに平行であり、かつ第２取付端部６４の両側から延びるように、主アーム５２の第２取付端部６４に配置されている。特に、グリッパアーム５４，５５の短脚部６６は、互いに整列されており、それらが互いに対して接近および離間しうるように支持されている。

【0054】

第２脚部６７（以下では、長脚部６７と称することがある）は、短脚部６６に対して直角に第２取付端部６４の前面に向かって延びており、グリッパアームの長脚部６７は、主アーム５２の前端を越えて延びている。それぞれのグリッパアーム５４，５５の２つの脚部６６，６７は、水平に延びる。グリッパアーム５４，５５の長脚部６７は、実質的に互いに平行に延びる。

【0055】

図１５の両矢印Ｆによって示されるように、長脚部６７は、適切な態様でそれらの間の距離を調整するために、短脚部６６のそれぞれの動作によって互いに接近および離間しうる。脚部６６，６７は、それぞれ、矩形断面を有する。

【0056】

第１グリッパアーム５４は、第１グリッパ装置５６をその長脚部６７で支持しており、第２グリッパアーム５５は、第２グリッパ装置５７をその長脚部６７で支持している。

【0057】

第１グリッパ装置５６は、実質的に、グリッパジョー７０を備えており、このグリッパジョー７０は、２つの第１グリッパ７１と、少なくとも１つの第２グリッパ７２とを有する。

【0058】

グリッパジョー７０は、第１取付脚部７４と、延長脚部７５と、２つのＬ形状グリッパ部７６を有する。取付脚部７４は、実質的に矩形断面を有する細長い形状を有している。取付脚部７４は、第１グリッパアーム５４の長脚部６７に取り付けられている。すなわち、取付脚部７４は、第２グリッパアーム５５を向いた長脚部６７の側面に取り付けられている。特に、取付脚部７４は、回転軸７８を介して回転可能に長脚部６７に取り付けられている。回転軸７８は、第２グリッパアーム５５に向かう方向で長脚部６７の長手伸長方向に対して垂直に延びている。

【0059】

さらに、２つのガイドピン７９が回転軸７８の両側で取付脚部７４に設けられる。これらガイドピンは、第１グリッパアーム５４の長脚部６７の長孔に収容され、該長孔は、回転軸７８の両側に整列される。これにより、グリッパアーム５４の長脚部６７に対する取付脚部７４の相対的な回転が、例えば、図１６ｂに示されるように制限される。取付脚部７４は、例えば、長孔８０内に配置されて、ガイドピン７９に作用する適切な付勢手段によって、または任意の他の適切に配置された付勢手段によって、取付脚部７４の長手伸長方向が第１グリッパアーム５４の長脚部６７の長手伸長方向と実質的に平行になる向きに付勢される。そのような位置合わせは、例えば、図１６ａに示されている。

【0060】

延長脚部７５は、主アーム５２に近接する端部で取付脚部７４の底部に接合され、主アーム５２に向かってそれと実質的に平行に延びる。２つのＬ形状グリッパ部７６のうちの一方は、延長脚部７５の自由端に、すなわち、取付脚部７４から最も離れた端部に取り付けられる。対応するＬ形状グリッパ部７６も、主アーム５２から最も離れた取付脚部７４の端部で該取付脚部７４に設けられる。取付脚部７４、延長脚部７５、およびＬ形状グリッパ部７６は一体に形成されてもよいが、互いに取り付けられる異なる要素から構成してもよい。現在のところ、一体型が好ましい。

【0061】

Ｌ形状グリッパ部７６は、それぞれ、長手方向に延びる第１脚部８２を有し、この第１脚部は、取付脚部７４の下方で、かつ取付脚部７４に対して垂直に延びる。特に、第１脚部は、第１グリッパアーム５４の長脚部６７の下方で、長脚部６７を横切って水平方向に延びる。第１脚部８２の自由端部では、第２脚部８３が下方に垂直に延びる。第１脚部８２は、第２グリッパアーム５５に面する端部に凹部を有しており、該凹部は、第２グリッパ７２を形成するように動作する。

【0062】

下方に延びる第２脚部８３にも、凹部が形成されており、該凹部は、第１グリッパ７１のグリッパジョー７０を形成する。２つのＬ形状グリッパ部７６が設けられるので、対応して２つの第１グリッパ７１も設けられ、これらは、取付脚部７４の長手伸長方向、つまり、第１グリッパアーム５４の長脚部６７の長手方向に間隔を開けて配置される。グリッパ７１，７２は、グリッパジョーのそれぞれの脚部における凹部によって形成される。しかしながら、それらを、異なる態様で、特に、グリッパジョーのそれぞれの脚部に取り付けうる別個の要素として形成してもよい。

【0063】

第２グリッパアーム５５に取り付けられた第２グリッパ装置５７は、実質的に、グリッパジョー８４、グリッパジョー８４に取り付けられた第１グリッパ８７、および第２グリッパ９７によって構成される。グリッパジョー８４は、第１水平脚部８８、鉛直連結脚部８９、および第２水平脚部９０を有する。グリッパジョー８４もまた一体的に形成されてもよいし、いくつかの別個の部品から構成されてもよい。

【0064】

第１水平脚部８８は、第２グリッパアーム５５の長脚部６７の下方で垂直に延びる。第２グリッパアーム５５の長脚部６７の下面には、調整ストッパが設けられ、該調整ストッパに、例えば、図１５に示すように、第１水平脚部８８の上面が当接しうる。第１グリッパアーム５４を向いた第１脚部８８の端部には、第１グリッパジョー７０に第２グリッパ７２が形成されるのと同様の態様で、第２グリッパ９７が凹部によって形成されている。

【0065】

第２グリッパ９７とは反対側の第１水平脚部８８の端部には、鉛直連結脚部８９が設けられており、該脚部８９は対応する端部から下方に垂直に延びている。鉛直連結脚部８９の下端には、第２水平脚部９０が設けられ、該脚部９０もまた鉛直連結脚部８９に対して垂直に延びる。

【0066】

第２水平脚部９０は、第１水平脚部８８と実質的に平行に延びる。第１グリッパ８７は、第１グリッパアーム５４を向く第２水平脚部９０の端部によって支持される。第１グリッパ８７は、第２水平脚部９０と平行に延びる回転軸９６まわりに回転可能なように取り付けられている。回転軸９６は、第１グリッパアーム５４の方に向けられている。

【0067】

グリッパジョー８４は、取付ブラケット９１を介して第２グリッパアーム５５に取り付けられている。特に、取付ブラケット９１は、第１取付アーム５４とは反対側を向く、第２取付アーム５５の長脚部６７の側面に取り付けられる。各取り付けは、任意の適切な態様で実施しうる。取付ブラケット９１は、実質的に、水平脚部９２と鉛直脚部９３とを備えた角のある形状を有しており、鉛直脚部９３は、水平脚部９２の一方の端部から下方に垂直に延びる。取付ブラケット９１の鉛直脚部９３は、その下端で回転軸９４を支持する。回転軸９４は、第２取付アーム５５の長脚部６７と実質的に平行に水平方向に延びる。

【0068】

グリッパジョー８４の第２水平脚部９０は、回転軸９４を介して取付ブラケット９２に回転可能に取り付けられている。取付ブラケット９１には、さらに、下方付勢ピン９９を有する付勢ユニット９８が設けられ、該下方付勢ピンは、任意の適切な態様で下方に付勢されており、第２水平脚部９０の一端に作用する。ピン９９は、第２水平脚部９０が図１５に示すように回転軸を中心に反時計回りに回転するように、該第２水平脚部９０を押す。この回転は、第２取付アーム５５の長脚部６７の下面と接触する第１水平脚部８８上のストッパによって制限される。この位置で、グリッパジョー８４の第１水平脚部８８と第２第２水平脚部９０とは、水平方向に整列される。しかしながら、図１９ｂに示されるように、グリッパジョーは、ピン９９の付勢に抗して回転軸９４を中心に時計回り方向に回転しうる。

【0069】

第１および第２グリッパ装置５６，５７は、第１および第２グリッパアーム５４，５５上にそれぞれ配置されており、これらグリッパ装置のホームポジションにおいて、グリッパ７１，８７は水平面内に配置され、互いに向き合っている。同様に、これらグリッパ装置のホームポジションにおいて、グリッパ７２，９７は、水平面内に配置され、互いに向き合っている。

【0070】

グリッパ８７の追加の回転装置と組み合わせた、それぞれのグリッパアーム５４，５５に対する第１および第２グリッパジョー７０，８４の可動装置によって、水平方向に整列されていない要素に対してそれぞれのグリッパ８７，７１を適合させることができる。特に、グリッパ８７，７１は、上述したタイプのホルダ１のシールフレーム７のハンドル３７を把持するように構成される。しかしながら、グリッパ７２，９７を、フォトマスクなどの他の要素を把持するために設けてもよい。

【0071】

装置５０のマスク保持装置６０は、実質的に、水平に延びる板要素１００と、それに取り付けられた保持装置１０２を備える。

【0072】

板要素１００の一方の端部は、該板要素がグリッパアーム５４，５５と平行に延びるように、主アーム５２の第２取付端部６４に取り付けられている。板要素１００は、主アーム５２の取付端部６４に強固に取り付けられてもよいが、高さ調整可能な、および／または旋回可能な態様で保持されてもよい。板要素１００を図中に示される位置で固定してもよい。

【0073】

保持装置１０２は、それぞれ、収容スリーブ１０４と、該収容スリーブ１０４内に移動可能に配置された保持ピン１０６を備える。特に、４つの保持装置１０２が板要素１００の下面に配置される。収容スリーブ１０４は、それぞれの収容スリーブ１０４の長手方向軸心が板要素１００に対して垂直に延びるように、板要素１００の下面に適切な態様で取り付けられる。

【0074】

収容スリーブ１０４は、それぞれ、保持ピン１０６を収容するための対応する収容空間（図示せず）をその内部に形成する。保持ピン１０６は、収容空間の長手方向に移動可能に案内される。付勢ユニット（図示せず）が収容スリーブ１０４のそれぞれの収容空間内に設けられる。この付勢ユニットは、保持ピン１０６を収容スリーブ１０４の外側方向に付勢する。収容スリーブ１０４の外への保持ピン１０６の移動は適切な態様で制限される。それぞれの付勢ユニットを、例えば、機械ばね、空気ばね、または他の要素によって構成しうる。図１５は、保持ピン１０６の完全に後退した位置を示している一方で、図１６は、保持ピン１０６の完全に伸長した位置を示している。

【0075】

保持ピン１０６は、それぞれ、収容スリーブ１０４内に収容される案内部（図示せず）と、収容スリーブ１０４から延びる部分を備えている。この収容スリーブ１０４から延びる上記部分の下端は、接触先端部１０８を支持している。当業者には理解されるように、保持ピン１０６は、付勢ユニットの付勢力に抗して収容スリーブ１０４内に移動させ、かつ収容スリープ１０４の外に移動させうる。接触先端部１０８もまた、同様の態様で、保持ピン１０６内部で弾性的に支持されてもよい。収容スリーブ１０４の外側に位置するそれぞれの保持ピン１０６の部分は、対応する収容スリーブ１０４に取り付けられたジャケットに収容される。ジャケットは一種のベローズを形成しており、これによって、保持ピン１０６を収容スリーブ内で案内する際に発生しうるパーティクルが閉じ込められ、該パーティクルがその下に置かれたフォトマスク上に落ちないようになっている。

【0076】

例えば図１６に示すように、マスク保持装置６０の作動位置では、板要素１００は図示される位置にある。この位置では、保持ピン１０６はグリッパアーム５４，５５の間に位置しており、フォトマスクを収容していないシールフレーム７上のハンドル３７をグリッパ８７，７１が把持するときに、少なくとも１つの保持ピン１０６の接触先端部１０８が、シールフレーム７の中央開口２６内に延びる。しかしながら、フォトマスクがシールフレーム７内に収容されると、接触先端部１０８は、フォトマスク２の上面に接触して、保持ピン１０６が収容スリーブ１０４内に弾性的に移動する。

【0077】

以下では、上述のホルダ１と、該ホルダを開閉する装置５０とを用いる洗浄プロセスがより詳細に説明される。最初に、フォトマスク２が、保護されるべき面またはペリクルを有する面が下側を向くように支持要素１５の支持体１６の上に置かれる。次いで、装置５０を用いて、シールフレーム７がベース５の上方に位置決めされ、その後、ベースに向かって移動される。その際、保持ピン１０６の接触先端部がフォトマスク２の上側を向いた面に接触し、フォトマスクを支持体１６に押し付ける。シールフレームはベースに向ってさらに下降し、保持ピンは、それぞれの付勢力に抗して弾性的に収容スリーブ１０４内に移動する。さらに、シールフレームのこの移動の際に、シールフレーム７上の外周シール２２は最初にフォトマスク２の上側を向いた面に接触する。シールフレーム７のさらなる下降動作で、シール２２は上方に変形される。ベース５に向かうシールフレーム７の継続動作で、シール２２の下面がフォトマスク２の側面に接触し、該側面を封止する。シールのこの位置は、シールフレーム７がベース５に当接するまで維持される。シールフレーム７は、その後、例えば、負圧または真空によってベース５に固定され、装置５０は、解放されてホルダ１の直上の領域の外へ移動される。

【0078】

この時点で、フォトマスク２の下面、またはフォトマスク２の下面上のペリクルは、周囲環境に対して封止される。そして、例えば、洗浄流体、ガス、または凍結ＣＯ_２などの固体材料などの洗浄媒体がフォトマスク２の上側を向いた面を洗浄するために、該フォトマスク２の上側を向いた面に供給される。フォトマスク２のその側面での封止によって、フォトマスク２の下面、またはそこに取り付けられたペリクルは洗浄媒体から保護される。

【0079】

液体が供給される場合は、上面への洗浄液の供給と、オプションとしてのリンス液での上面のリンスの後で、フォトマスク２の上面を乾燥してもよい。この乾燥を、例えば、ベース５の、つまり、シールフレーム７とフォトマスク２の高速回転によって達成してもよい。対応する乾燥を、フォトマスク２の上面に向けられたガス流によって達成および／または促進してもよい。

【0080】

次いで、装置５０が再びシールフレーム７の上方の位置に置かれ、グリッパ８７，７１がシールフレーム７のハンドル３７と係合される。対応する把持位置への装置５０の移動の際に、保持ピン１０６の接触先端部１０８は、再び、フォトマスク２の上面に接触し、保持ピン１０６は、再び、収容スリーブ１０４内に弾性的に移動する。装置５０の次の上方移動の際に、シールフレーム７は装置のグリッパ８７，７１を介して上昇される一方で、保持ピン１０６はフォトマスク２を支持要素１５の支持体１６に押し付ける。これにより、保持ピン１０６のストロークに加えて、その対応する付勢もフォトマスク２を支持要素１５の支持体１６に確実に保持するのに十分である。

【0081】

シールフレーム７を上昇させて取り外すと、フォトマスク２もまたベース５の支持要素１５から取り外しうる。

【0082】

本発明が上記の好ましい実施形態に対して説明されたが、特定の実施形態に限定されるべきではない。当業者には、特許請求の範囲内での異なる複数の改変および変更が可能であることが理解されるであろう。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17(a)】

【図17(b)】

【図18】

【図19(a)】

【図19(b)】