特許7012719IP Force 特許公報全文掲載

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関連出願の相互参照 本出願は２０１６年１１月１４日出願の米国仮特許出願６２／４２１，９５１の優先権を主張し、該出願の全内容は本明細書に援用される。

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

次にあげる図面は、例示を目的としたものであり、必ずしも一定の縮尺で描かれているわけではない。図面は、本発明の範囲を限定するものではない。
【図1】 一、特徴付け装置及び１つ以上の分析器を含む検査装置の概略平面図。
【図2】 試料の入った試料容器の側面図（その試料又は試料容器あるいはその両方が、一方法と特徴付け装置のいずれか又は両方を使用して特徴付けられる）。
【図3】 試料及びゲルセパレータを含む試料容器の側面図（その試料又は試料容器あるいはその両方が、一方法と特徴付け装置のいずれか又は両方を使用して特徴付けられる）。
【図4A】 一、試料と試料容器のいずれか又は両方の特徴付けをし易くするように構成されたパターンを含む特徴付け装置の斜視図。
【図4B】 一、パターンを生成するように構成された照明パネル装置の斜視図。
【図4C】 一、前面にパターンを生成するように構成された照明パネル装置の各構成要素の分解図。
【図4D】 照明可能な全領域よりも狭い制限照明を有する、一照明パネル装置の前面に表示可能な第１のパターンを示す正面図。
【図4E】 照明可能な全領域よりも狭い制限照明を有すると共に該制限照明の領域の幅が可変であるパターンを備えた、一照明パネル装置の前面に表示可能な第２のパターンオプションを示す正面図。
【図4F】 及び
【図4G】 図４Ｅのパターンと比較して、制限照明の領域を図４Ｆの横方向に距離Ｄだけ移動させることができる（例えば、前面の左又は右のいずれかに再配置可能）、一照明パネル装置の前面に表示可能な第３のパターンオプションを示す正面図。
【図4H】 （例えば、パターンの高さＨを変更することによって）領域の面積を拡大したり縮小したりすることができる制限照明を有するパターンを備えた、一照明パネル装置の前面に表示可能な第４のパターンオプションを示す正面図。
【図4I】 （例えば、パターンの幅Ｗを変更することによって）複数の点灯ストリップの面積を拡大したり縮小したりすることができる変調伝達関数推定パターンのパターンを備えた、一照明パネル装置の前面に表示可能な第５のパターンオプションを示す正面図。
【図4J】 制限照明領域（例えば、ドットパターン）の面積を（例えば、パターンの幅Ｗを変更することによって）拡大したり縮小したりすることができるか、又はその位置Ｌ１，Ｌ２を変更することができる、あるいは、これら両方の調節が可能な制限照明を有するパターンを備えた、一照明パネル装置の前面に表示可能な第６のパターンオプションを示す正面図。
【図4K】 サイズと位置のいずれか又は両方を変更することができるドットマトリックスパターンのある制限照明を有するパターンを備えた、一照明パネル装置の前面に表示可能な第７のパターンオプションを示す正面図。
【図4L】 ～
【図4O】 一照明パネル装置の前面に表示可能な、グレイコード照明シーケンスを含む追加のパターンオプションを示す正面図。
【図5A】 ～
【図5D】 一パターン発生器の様々な形態を示す正面図。
【図6】 一、パターンの画像を生成し取得することのできる照明パネル装置を備えた特徴付け装置を示す（天井を除いた）概略平面図。
【図7A】 一、それぞれがパターンの画像を生成し取得することのできる複数の照明パネル装置を備えた特徴付け装置を示す（天井を除いた）概略平面図。
【図7B】 一、パターンの画像を生成し取得することのできる照明パネル装置を備えた特徴付け装置を示す側面図。
【図8】 一、パターン及び該パターンの屈折を生成する照明パネル装置を備えた特徴付け装置を示す側面図。
【図9】 一特徴付け方法のフローチャート。

代表図 図1本件の代表的な図

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