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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2022-01-31
(45)【発行日】2022-02-08
(54)【発明の名称】ビニルフルオロアルカンスルホナート化合物の製造方法
(51)【国際特許分類】
C07C 303/26 20060101AFI20220201BHJP
C07C 309/65 20060101ALI20220201BHJP
【ＦＩ】
C07C303/26
C07C309/65
【請求項の数】
3
(21)【出願番号】P 2017217052
(22)【出願日】2017-11-10
(65)【公開番号】P2019085383
(43)【公開日】2019-06-06
【審査請求日】2020-07-15
(73)【特許権者】
【識別番号】304020177
【氏名又は名称】国立大学法人山口大学
(74)【代理人】
【識別番号】100107984
【弁理士】
【氏名又は名称】廣田 雅紀
(74)【代理人】
【識別番号】100102255
【弁理士】
【氏名又は名称】小澤 誠次
(74)【代理人】
【識別番号】100096482
【弁理士】
【氏名又は名称】東海 裕作
(74)【代理人】
【識別番号】100188352
【弁理士】
【氏名又は名称】松田 一弘
(74)【代理人】
【識別番号】100131093
【弁理士】
【氏名又は名称】堀内 真
(74)【代理人】
【識別番号】100150902
【弁理士】
【氏名又は名称】山内 正子
(74)【代理人】
【識別番号】100141391
【弁理士】
【氏名又は名称】園元 修一
(74)【代理人】
【識別番号】100198074
【弁理士】
【氏名又は名称】山村 昭裕
(74)【代理人】
【識別番号】100145920
【弁理士】
【氏名又は名称】森川 聡
(74)【代理人】
【識別番号】100096013
【氏名又は名称】富田 博行
(72)【発明者】
【氏名】川本 拓治
(72)【発明者】
【氏名】三井 準也
(72)【発明者】
【氏名】上村 明男
【審査官】布川 莉奈
(56)【参考文献】
【文献】Tomita, Ren 他，Photoredox-Catalyzed Stereoselective Conversion of Alkynes into Tetrasubstituted Trifluoromethylated Alkenes，Angewandte Chemie, International Edition ，2015年，54(44)，12923-12927
【文献】Wang, Xi 他，Regio- and Stereoselective Radical Perfluoroalkyltriflation of Alkynes Using Phenyl(perfluoroalkyl)iodonium Triflates，Organic Letters，2017年05月，19(11)，2977-2980
【文献】Nenajdenko, Valentine G. 他，Synthesis of β-dimethylsulfonium- and β-methylthio-substituted vinyl triflates by reaction of acetylenes with dimethyl sulfide ditriflate，Synthesis，1997年，(3)，351-355
(58)【調査した分野】(Int.Cl.，ＤＢ名)
Ｃ０７Ｃ
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
式（Ｉ）【化1】
各Ｒは、それぞれ独立して、
水素原子、
Ｃ１～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル基、
ＣＯ２Ｒ１（式中、Ｒ１は、水素原子、Ｃ１～Ｃ１０アルキル基、Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル基、Ｃ６～Ｃ１０アリール基又はＣ６～Ｃ１０アリールＣ１～Ｃ１０アルキル基を示す）、
ＣＯＲ２（式中、Ｒ２は、水素原子、Ｃ１～Ｃ１０アルキル基、Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル基、Ｃ６～Ｃ１０アリール基又はＣ６～Ｃ１０アリールＣ１～Ｃ１０アルキル基を示す）、
ＣＯＮＲ３Ｒ４（式中、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１～Ｃ１０アルキル基、Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル基又はＣ６～Ｃ１０アリール基を示す）、
Ｃ１～Ｃ１０フルオロアルキル基、
置換基Ａ群から選ばれる少なくとも一つを有していてもよいＣ６～Ｃ１０アリール基、又は
置換基Ａ群から選ばれる少なくとも一つを有していてもよい５～１０員のヘテロアリール基
を示す。
（置換基Ａ：ハロゲン原子、Ｃ１～１０アルキル基、Ｃ１～１０アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、ＣＯ2Ｒ５基（Ｒ５は上記Ｒ１と同じ）、ＣＯＲ６基（Ｒ６は上記Ｒ２と同じ）、ＯＳＯ２Ｒｆ（ＲｆはＣ１～Ｃ１０フルオロアルキル基を示す）及びＮＲ７Ｒ８（Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立して、水素原子又は保護基を示す）］
で表されるアルキン化合物と式（ＩＩ）
（ＲｆＳＯ２）２Ｏ （ＩＩ）
（式中、ＲｆはＣ１～Ｃ１０フルオロアルキル基を示す）
で表されるフルオロアルカンスルホン酸無水物を、次式
【化2】
【化3】
Ｒは式（Ｉ）における定義と同様であり、
ＲｆはＣ１～Ｃ１０フルオロアルキル基を示す。
波線はトランス又はシスのいずれか、あるいはそれらの混合物であることを示す）
で表されるビニルフルオロアルカンスルホナート化合物の製造方法。
【請求項2】
多環式三級アミンが、１－アザビシクロ[２.２.２]オクタン又は１,４－ジアザビシクロ[２.２.２]オクタンである、請求項１に記載の製造方法。
【請求項3】
マイクロリアクターを用いることを特徴とする請求項１又は２に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、アルキン化合物を出発物質とするビニルフルオロアルカンスルホナート化合物の新規な製造方法、特に、アルキン化合物からフルオロアルカンスルホン酸無水物を用いてビニルフルオロアルカンスルホナート化合物を製造する方法に関する。
【背景技術】
【0002】
含フッ素化合物はフッ素原子がもつ特異的な性質により、医薬・農薬・高分子材料、液晶材料等の様々な産業分野において重宝されている。例えば、近年上市された農薬では実に８割の化合物に何らかのフッ素置換基が含まれている。そのため、フッ素置換基をいかに効率よく分子に導入するかは重要な課題である。
３,３,３－トリフルオロメチル－１－アリールアルケン－１－イル トリフルオロメタンスルホナート及びその類縁体は、上記用途に用いられるフッ素置換化合物の有用なビルディングブロックであり、近年、光レドックス触媒を用いたトリフルオロメチル化反応の開発が盛んに行われるようになり、その一環として、アルキン化合物を出発物質として合成する手法が種々報告されている。
以下に、アルキン化合物から３,３,３－トリフルオロメチル－１－アリールアルケン－１－イル トリフルオロメタンスルホナート及びその類縁体を合成する公知の方法を挙げる。
非特許文献１
非特許文献２
非特許文献３
３,３,３－トリフルオロメチル－１－アリールアルケン－１－イル トリフルオロメタンスルホナート及びその類縁体は、上記用途に用いられるフッ素置換化合物の有用なビルディングブロックであり、近年、光レドックス触媒を用いたトリフルオロメチル化反応の開発が盛んに行われるようになり、その一環として、アルキン化合物を出発物質として合成する手法が種々報告されている。
以下に、アルキン化合物から３,３,３－トリフルオロメチル－１－アリールアルケン－１－イル トリフルオロメタンスルホナート及びその類縁体を合成する公知の方法を挙げる。
非特許文献１
【化1】
【化2】
【化3】
【先行技術文献】
【非特許文献】
【0003】
【文献】Tomita, R.; Koike, T.; Akita, M. Angew. Chem., Int. Ed. 2015, 54, 12923-12927
【文献】Wang, X;Studer,A. Org.Lett.2017,19,2977-2980
【文献】han,H.S;Lee.Y.J;Jung,Y.S.;Han,S.B. Org.Lett.2017,1962-1965
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
上記アルキン化合物から３,３,３－トリフルオロメチル－１－アリールアルケン－１－イル トリフルオロメタンスルホナート及びその類縁体を合成する公知の方法（非特許文献１～３）は、いずれも遷移金属触媒が必須である。そして、非特許文献１及び２の方法では、高価なＣＦ３化もしくはフルオロアルキル化剤を必要とし、非特許文献３の方法では、得られた生成物からさらにＣｌ原子を変換する段階で高価な遷移金属触媒を必要とするため、代替試薬を用いた手法の開発が求められていた。
本発明は、医薬、農薬品などの開発に有用なビルディングブロックである３,３,３－トリフルオロメチル－１－アリールアルケン－１－イル トリフルオロメタンスルホナート及びその類縁化合物を、安価かつ遷移金属触媒を用いずに製造する方法の開発を目的としている。
本発明は、医薬、農薬品などの開発に有用なビルディングブロックである３,３,３－トリフルオロメチル－１－アリールアルケン－１－イル トリフルオロメタンスルホナート及びその類縁化合物を、安価かつ遷移金属触媒を用いずに製造する方法の開発を目的としている。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明者らは、フルオロアルカンスルホン酸無水物をフルオロアルキル源及びフルオロアルカンスルホナート化剤とするアルキンの二官能基化反応について鋭意検討の結果、アセトニトリルを溶媒とし、１,４－ジアザビシクロ[２.２.２]オクタン (ＤＡＢＣＯ）を塩基として添加した場合、特異的に反応が進行することを見いだし、本発明を完成するに至った。
【0006】
すなわち、本発明は、以下の発明に関する。
（１）式（Ｉ）
［式中、
各Ｒは、それぞれ独立して、
水素原子、
Ｃ１～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル基、
ＣＯ２Ｒ１（式中、Ｒ１は、水素原子、Ｃ１～Ｃ１０アルキル基、Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル基、Ｃ６～Ｃ１０アリール基又はＣ６～Ｃ１０アリールＣ１～Ｃ１０アルキル基を示す）、
ＣＯＲ２（式中、Ｒ２は、水素原子、Ｃ１～Ｃ１０アルキル基、Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル基、Ｃ６～Ｃ１０アリール基又はＣ６～Ｃ１０アリールＣ１～Ｃ１０アルキル基を示す）、
ＣＯＮＲ３Ｒ４ （式中、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１～Ｃ１０アルキル基、Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル基又はＣ６～Ｃ１０アリール基を示す）、
Ｃ１～Ｃ１０フルオロアルキル基、
置換基Ａ群から選ばれる少なくとも一つを有していてもよいＣ６～Ｃ１０アリール基、又は
置換基Ａ群から選ばれる少なくとも一つを有していてもよい５～１０員のヘテロアリール基を示す。
（置換基Ａ：ハロゲン原子、Ｃ１～１０アルキル基、Ｃ１～１０アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、ＣＯ2Ｒ５基（Ｒ５は上記Ｒ１と同じ）、ＣＯＲ６基（Ｒ６は上記Ｒ２と同じ）、ＯＳＯ２Ｒｆ（ＲｆはＣ１～Ｃ１０フルオロアルキル基を示す）及びＮＲ７Ｒ８（Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立して、水素原子又は保護基を示す）］
で表されるアルキン化合物と式（ＩＩ）
（ＲｆＳＯ２）２Ｏ （ＩＩ）
（式中、ＲｆはＣ１～Ｃ１０フルオロアルキル基を示す）
で表されるフルオロアルカンスルホン酸無水物を、多環式三級アミン及びアセトニトリルの存在下で反応させることを特徴とする、式（ＩＩＩ）
（式中、
Ｒ及びＡｒは式（Ｉ）における定義と同様であり、
ＲｆはＣ１～Ｃ１０フルオロアルキル基を示す。
波線はトランス又はシスのいずれか、あるいはそれらの混合物であることを示す）
で表されるビニルフルオロアルカンスルホナート化合物の製造方法。
（１）式（Ｉ）
【化4】
各Ｒは、それぞれ独立して、
水素原子、
Ｃ１～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル基、
ＣＯ２Ｒ１（式中、Ｒ１は、水素原子、Ｃ１～Ｃ１０アルキル基、Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル基、Ｃ６～Ｃ１０アリール基又はＣ６～Ｃ１０アリールＣ１～Ｃ１０アルキル基を示す）、
ＣＯＲ２（式中、Ｒ２は、水素原子、Ｃ１～Ｃ１０アルキル基、Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル基、Ｃ６～Ｃ１０アリール基又はＣ６～Ｃ１０アリールＣ１～Ｃ１０アルキル基を示す）、
ＣＯＮＲ３Ｒ４ （式中、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１～Ｃ１０アルキル基、Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル基又はＣ６～Ｃ１０アリール基を示す）、
Ｃ１～Ｃ１０フルオロアルキル基、
置換基Ａ群から選ばれる少なくとも一つを有していてもよいＣ６～Ｃ１０アリール基、又は
置換基Ａ群から選ばれる少なくとも一つを有していてもよい５～１０員のヘテロアリール基を示す。
（置換基Ａ：ハロゲン原子、Ｃ１～１０アルキル基、Ｃ１～１０アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、ＣＯ2Ｒ５基（Ｒ５は上記Ｒ１と同じ）、ＣＯＲ６基（Ｒ６は上記Ｒ２と同じ）、ＯＳＯ２Ｒｆ（ＲｆはＣ１～Ｃ１０フルオロアルキル基を示す）及びＮＲ７Ｒ８（Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立して、水素原子又は保護基を示す）］
で表されるアルキン化合物と式（ＩＩ）
（ＲｆＳＯ２）２Ｏ （ＩＩ）
（式中、ＲｆはＣ１～Ｃ１０フルオロアルキル基を示す）
で表されるフルオロアルカンスルホン酸無水物を、多環式三級アミン及びアセトニトリルの存在下で反応させることを特徴とする、式（ＩＩＩ）
【化5】
Ｒ及びＡｒは式（Ｉ）における定義と同様であり、
ＲｆはＣ１～Ｃ１０フルオロアルキル基を示す。
波線はトランス又はシスのいずれか、あるいはそれらの混合物であることを示す）
で表されるビニルフルオロアルカンスルホナート化合物の製造方法。
【0007】
（２）多環式三級アミンが、１－アザビシクロ[２.２.２]オクタン又は１,４－ジアザビシクロ[２.２.２]オクタンである、（１）に記載の製造方法。
（３）マイクロリアクターを用いることを特徴とする（１）又は（２）に記載の製造方法。
（３）マイクロリアクターを用いることを特徴とする（１）又は（２）に記載の製造方法。
【発明の効果】
【0008】
医薬、農薬品などの開発に有用なビルディングブロックである３,３,３－トリフルオロメチル－１－アリールアルケン－１－イル トリフルオロメタンスルホナート及びその類縁化合物を、安価かつ遷移金属触媒を用いずに製造することができる。
【発明を実施するための形態】
【0009】
（アルキン化合物からビニルフルオロアルカンスルホナート化合物の製造方法）
本発明の製造方法は、
式（Ｉ）
で表されるアルキン化合物と式（ＩＩ）
（ＲｆＳＯ２）２Ｏ （ＩＩ）
で表されるフルオロアルカンスルホン酸無水物を、多環式三級アミン及びアセトニトリルの存在下で反応させて、式（ＩＩＩ）
で表されるビニルフルオロアルカンスルホナート化合物を製造する方法である。
本発明の製造方法は、
式（Ｉ）
【化6】
（ＲｆＳＯ２）２Ｏ （ＩＩ）
で表されるフルオロアルカンスルホン酸無水物を、多環式三級アミン及びアセトニトリルの存在下で反応させて、式（ＩＩＩ）
【化7】
【0010】
本発明の製造方法により、フルオロアルカンスルホン酸無水物中のフルオロアルキル基（Ｒｆ）とフルオロアルカンスルホナート基（ＯＳＯ２Ｒｆ）がアルキン化合物に位置選択的に結合する。また、本発明の製造方法により、フルオロアルキル基（Ｒｆ）とフルオロアルカンスルホナート基（ＯＳＯ２Ｒｆ）がトランス及び／又はシスの位置に結合したビニルフルオロアルカンスルホナート化合物が得られるが、大部分はトランスの位置に結合したものであり、シスの位置に結合したものはわずかである。
【0011】
１）式（Ｉ）で表されるアルキン化合物及び式（ＩＩＩ）で表されるビニルフルオロアルカンスルホナート化合物
上記式（Ｉ）において、
各Ｒは、それぞれ独立して、
水素原子、
Ｃ１～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル基、
ＣＯ２Ｒ１（式中、Ｒ１は、水素原子、Ｃ１～Ｃ１０アルキル基、Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル基、Ｃ６～Ｃ１０アリール基又はＣ６～Ｃ１０アリールＣ１～Ｃ１０アルキル基を示す）
ＣＯＲ２（式中、Ｒ２は、水素原子、Ｃ１～Ｃ１０アルキル基、Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル基、Ｃ６～Ｃ１０アリール基又はＣ６～Ｃ１０アリールＣ１～Ｃ１０アルキル基を示す）、
ＣＯＮＲ３Ｒ４ （式中、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１～Ｃ１０アルキル基、Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル基又はＣ６～Ｃ１０アリール基を示す）、
Ｃ１～Ｃ１０フルオロアルキル基を示し、
置換基Ａ群から選ばれる少なくとも一つを有していてもよいＣ６～Ｃ１０アリール基、又は
置換基Ａ群から選ばれる少なくとも一つを有していてもよい５～１０員のヘテロアリール基を示す。
置換基Ａ群には、以下の置換基が包含される。
ハロゲン原子、Ｃ１～１０アルキル基、Ｃ１～１０アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、ＣＯ2Ｒ５基（Ｒ５は上記Ｒ１と同じ）、ＣＯＲ６基（Ｒ６は上記Ｒ２と同じ）、ＯＳＯ２Ｒｆ（ＲｆはＣ１～Ｃ１０フルオロアルキル基を示す）及びＮＲ７Ｒ８（Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立して、水素原子又は保護基を示す）。
上記式（Ｉ）において、
各Ｒは、それぞれ独立して、
水素原子、
Ｃ１～Ｃ１０アルキル基、
Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル基、
ＣＯ２Ｒ１（式中、Ｒ１は、水素原子、Ｃ１～Ｃ１０アルキル基、Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル基、Ｃ６～Ｃ１０アリール基又はＣ６～Ｃ１０アリールＣ１～Ｃ１０アルキル基を示す）
ＣＯＲ２（式中、Ｒ２は、水素原子、Ｃ１～Ｃ１０アルキル基、Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル基、Ｃ６～Ｃ１０アリール基又はＣ６～Ｃ１０アリールＣ１～Ｃ１０アルキル基を示す）、
ＣＯＮＲ３Ｒ４ （式中、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１～Ｃ１０アルキル基、Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル基又はＣ６～Ｃ１０アリール基を示す）、
Ｃ１～Ｃ１０フルオロアルキル基を示し、
置換基Ａ群から選ばれる少なくとも一つを有していてもよいＣ６～Ｃ１０アリール基、又は
置換基Ａ群から選ばれる少なくとも一つを有していてもよい５～１０員のヘテロアリール基を示す。
置換基Ａ群には、以下の置換基が包含される。
ハロゲン原子、Ｃ１～１０アルキル基、Ｃ１～１０アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、ＣＯ2Ｒ５基（Ｒ５は上記Ｒ１と同じ）、ＣＯＲ６基（Ｒ６は上記Ｒ２と同じ）、ＯＳＯ２Ｒｆ（ＲｆはＣ１～Ｃ１０フルオロアルキル基を示す）及びＮＲ７Ｒ８（Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立して、水素原子又は保護基を示す）。
【0012】
上記式（ＩＩＩ）において、Ｒは式（Ｉ）における定義と同様であり、ＲｆはＣ１～Ｃ１０フルオロアルキル基を示す。
【0013】
上記各置換基について、以下に具体的に示す。
「Ｃ１～Ｃ１０アルキル基」は、直鎖状または分枝状のアルキル基であり、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ－へキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基等を挙げることができる。
「Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル基」としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基等を挙げることができる。
「Ｃ６～Ｃ１０アリール基」は、単環式または縮合多環式芳香族炭化水素基であり、フェニル基、ナフチル基、アズレニル基、インデニル基、インダニル基、テトラリニル基等を挙げることができる。
「Ｃ６～Ｃ１０アリールＣ１～Ｃ１０アルキル基」は、Ｃ６～Ｃ１０アリール基とＣ１～Ｃ１０アルキル基とが結合した基であり、ベンジル基、フェネチル基、３－フェニル－ｎ－プロピル基、ナフチルメチル基等を挙げることができる。
「Ｃ１～Ｃ１０アルキル基」は、直鎖状または分枝状のアルキル基であり、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ－へキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基等を挙げることができる。
「Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル基」としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基等を挙げることができる。
「Ｃ６～Ｃ１０アリール基」は、単環式または縮合多環式芳香族炭化水素基であり、フェニル基、ナフチル基、アズレニル基、インデニル基、インダニル基、テトラリニル基等を挙げることができる。
「Ｃ６～Ｃ１０アリールＣ１～Ｃ１０アルキル基」は、Ｃ６～Ｃ１０アリール基とＣ１～Ｃ１０アルキル基とが結合した基であり、ベンジル基、フェネチル基、３－フェニル－ｎ－プロピル基、ナフチルメチル基等を挙げることができる。
【0014】
「５～１０員のヘテロアリール基」は、ヘテロ原子として窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子を１～４個有する５～１０員の単環又は多環の芳香族複素環、及び、ベンゼン環とヘテロ原子として窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子を１～４個有する複素環が縮合した１０員以下の縮合環を包含する。
ヘテロアリール基としては、例えば、ピリジニル基、イミダゾリル基、ピリミジニル基、ピラゾリル基、トリアゾリル基、ピラジニル基、テトラゾリル基、フリル基、チエニル基、イソキサゾリル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イソチアゾリル基、ピロリル基、キノリニル基、イソキノリニル基、インドリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンゾフラニル基、シンノリニル基、インダゾリル基、インドリジニル基、フタラジニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基、イソインドリル基、プテリジニル基、プリニル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、フラザニル基、ベンゾフラザニル基、ベンゾチオフェニル基、ベンゾチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基、キナゾリニル基、キノキサリニル基、ナフチリジニル基、フロピリジニル基等を挙げることができる。
ヘテロアリール基としては、例えば、ピリジニル基、イミダゾリル基、ピリミジニル基、ピラゾリル基、トリアゾリル基、ピラジニル基、テトラゾリル基、フリル基、チエニル基、イソキサゾリル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イソチアゾリル基、ピロリル基、キノリニル基、イソキノリニル基、インドリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンゾフラニル基、シンノリニル基、インダゾリル基、インドリジニル基、フタラジニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基、イソインドリル基、プテリジニル基、プリニル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、フラザニル基、ベンゾフラザニル基、ベンゾチオフェニル基、ベンゾチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基、キナゾリニル基、キノキサリニル基、ナフチリジニル基、フロピリジニル基等を挙げることができる。
【0015】
「ＣＯ2Ｒ１」及び「ＣＯ２Ｒ５」において、Ｒ１及びＲ５の「Ｃ１～Ｃ１０アルキル基」、「Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル基」、「Ｃ６～Ｃ１０アリール基」及び「Ｃ６～Ｃ１０アリールＣ１～Ｃ１０アルキル基」は、上記定義における例示と同じものを挙げることができる。
「ＣＯＲ２」及び「ＣＯＲ６」において、Ｒ２及びＲ６の「Ｃ１～Ｃ１０アルキル基」、「Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル基」、「Ｃ６～Ｃ１０アリール基」及び「Ｃ６～Ｃ１０アリールＣ１～Ｃ１０アルキル基」は、上記定義における例示と同じものを挙げることができる。
「ＣＯＮＲ３Ｒ４」において、Ｒ３及びＲ４中の「Ｃ１～Ｃ１０アルキル基」、「Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル基」及び「Ｃ６～Ｃ１０アリール基」は、上記定義における例示と同じものを挙げることができる。
「ＣＯＲ２」及び「ＣＯＲ６」において、Ｒ２及びＲ６の「Ｃ１～Ｃ１０アルキル基」、「Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル基」、「Ｃ６～Ｃ１０アリール基」及び「Ｃ６～Ｃ１０アリールＣ１～Ｃ１０アルキル基」は、上記定義における例示と同じものを挙げることができる。
「ＣＯＮＲ３Ｒ４」において、Ｒ３及びＲ４中の「Ｃ１～Ｃ１０アルキル基」、「Ｃ３～Ｃ１０シクロアルキル基」及び「Ｃ６～Ｃ１０アリール基」は、上記定義における例示と同じものを挙げることができる。
【0016】
「Ｃ１～Ｃ１０フルオロアルキル基」は、水素原子の全てがフッ素原子により置換されたアルキル基（ペルフルオロアルキル基）であっても、水素原子の一部がフッ素原子により置換されたアルキル基であってもよい。
Ｃ１～Ｃ１０のフルオロアルキル基としてはＣＦ３、Ｃ２Ｆ５、Ｃ３Ｆ７、Ｃ４Ｆ９、Ｃ５Ｆ１１、Ｃ６Ｆ１３、Ｃ７Ｆ１５、Ｃ８Ｆ１７、ＣＦ２Ｈ、ＣＦＨ２、ＣＦ２ＣＦ２Ｈ、ＣＨ２ＣＦ３、ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ３、ＣＨ２Ｃ２Ｆ５、ＣＨ２ＣＨ２Ｃ２Ｆ５、ＣＨ２Ｃ３Ｆ７、ＣＨ２ＣＨ２Ｃ３Ｆ７、ＣＨ２Ｃ４Ｆ９、ＣＨ２ＣＨ２Ｃ４Ｆ９等を挙げることができる。中でも、Ｃ１～Ｃ６のフルオロアルキル基が好ましく、さらにはＣ１～Ｃ３のフルオロアルキル基が好ましく、特にＣＦ３が好ましい。
Ｃ１～Ｃ１０のフルオロアルキル基としてはＣＦ３、Ｃ２Ｆ５、Ｃ３Ｆ７、Ｃ４Ｆ９、Ｃ５Ｆ１１、Ｃ６Ｆ１３、Ｃ７Ｆ１５、Ｃ８Ｆ１７、ＣＦ２Ｈ、ＣＦＨ２、ＣＦ２ＣＦ２Ｈ、ＣＨ２ＣＦ３、ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ３、ＣＨ２Ｃ２Ｆ５、ＣＨ２ＣＨ２Ｃ２Ｆ５、ＣＨ２Ｃ３Ｆ７、ＣＨ２ＣＨ２Ｃ３Ｆ７、ＣＨ２Ｃ４Ｆ９、ＣＨ２ＣＨ２Ｃ４Ｆ９等を挙げることができる。中でも、Ｃ１～Ｃ６のフルオロアルキル基が好ましく、さらにはＣ１～Ｃ３のフルオロアルキル基が好ましく、特にＣＦ３が好ましい。
【0017】
「ハロゲン原子」は、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ等を挙げることができる。
「Ｃ１～１０アルコキシ基」は、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、ｉ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基、アミルオキシ基、イソアミルオキシ基、ｔ－アミルオキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｎ－ヘプチルオキシ基、イソヘプチルオキシ基、ｔ－ヘプチルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、ｔ－オクチルオキシ基、２－エチルヘキシルオキシ基、ｎ－ノニルオキシ基、ｎ－デシルオキシ基等を挙げることができる。
ＮＲ７Ｒ８において、Ｒ７及びＲ８中の「保護基」は、アルキル基、アリール基、トシル基、ｔ－ブトキシカルボニル基等を挙げることができる。
式（Ｉ）及び式（ＩＩＩ）で表される化合物は、一方のＲが置換基Ａ群から選ばれる少なくとも一つを有していてもよいＣ６～Ｃ１０アリール基又は置換基Ａ群から選ばれる少なくとも一つを有していてもよい５～１０員のヘテロアリール基である化合物が好ましい。
「Ｃ１～１０アルコキシ基」は、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、ｉ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基、アミルオキシ基、イソアミルオキシ基、ｔ－アミルオキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基、ｎ－ヘプチルオキシ基、イソヘプチルオキシ基、ｔ－ヘプチルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、ｔ－オクチルオキシ基、２－エチルヘキシルオキシ基、ｎ－ノニルオキシ基、ｎ－デシルオキシ基等を挙げることができる。
ＮＲ７Ｒ８において、Ｒ７及びＲ８中の「保護基」は、アルキル基、アリール基、トシル基、ｔ－ブトキシカルボニル基等を挙げることができる。
式（Ｉ）及び式（ＩＩＩ）で表される化合物は、一方のＲが置換基Ａ群から選ばれる少なくとも一つを有していてもよいＣ６～Ｃ１０アリール基又は置換基Ａ群から選ばれる少なくとも一つを有していてもよい５～１０員のヘテロアリール基である化合物が好ましい。
【0018】
２）式（ＩＩ）で表されるフルオロアルカンスルホン酸無水物
式（ＩＩ）中の、ＲｆはＣ１～Ｃ１０フルオロアルキル基を示す。Ｃ１～Ｃ１０フルオロアルキル基としては、式（Ｉ）及び式（ＩＩＩ）におけるＣ１～Ｃ１０フルオロアルキル基と同様である。Ｃ１～Ｃ６のフルオロアルキル基が好ましく、さらにはＣ１～Ｃ３のフルオロアルキル基が好ましく、特にＣＦ３が好ましい。
フルオロアルカンスルホン酸無水物の使用量は、式（Ｉ）で表されるアルキン化合物に対して、通常、モル比で１～１０倍である。
式（ＩＩ）中の、ＲｆはＣ１～Ｃ１０フルオロアルキル基を示す。Ｃ１～Ｃ１０フルオロアルキル基としては、式（Ｉ）及び式（ＩＩＩ）におけるＣ１～Ｃ１０フルオロアルキル基と同様である。Ｃ１～Ｃ６のフルオロアルキル基が好ましく、さらにはＣ１～Ｃ３のフルオロアルキル基が好ましく、特にＣＦ３が好ましい。
フルオロアルカンスルホン酸無水物の使用量は、式（Ｉ）で表されるアルキン化合物に対して、通常、モル比で１～１０倍である。
【0019】
３）多環式三級アミン
本発明のビニルフルオロアルカンスルホナート化合物の製造において使用される多環式三級アミンは、以下の式で表される化合物である。
（式中、Ｘは炭素原子又は窒素原子を示し、Ｒ９はＣ１～Ｃ３アルキル基を示し、ｍは０～５のいずれかの整数を示し、ｎ１、ｎ２、ｎ３は、それぞれ、それぞれ独立して、１～３のいずれかの整数を示す）
多環式三級アミンは、塩基として使用され、環構造によってアルキル基が後ろ手に縛られた構造をとっているために窒素上の非共有電子対まわりの立体障害が小さく、求核性が著しく高い。特に、１－アザビシクロ[２.２.２]オクタン又は１,４－ジアザビシクロ[２.２.２]オクタンが好ましい。
多環式三級アミンの使用量は、式（Ｉ）で表されるアルキン化合物に対して、通常、モル比で１～１０倍である。
本発明のビニルフルオロアルカンスルホナート化合物の製造において使用される多環式三級アミンは、以下の式で表される化合物である。
【化8】
多環式三級アミンは、塩基として使用され、環構造によってアルキル基が後ろ手に縛られた構造をとっているために窒素上の非共有電子対まわりの立体障害が小さく、求核性が著しく高い。特に、１－アザビシクロ[２.２.２]オクタン又は１,４－ジアザビシクロ[２.２.２]オクタンが好ましい。
多環式三級アミンの使用量は、式（Ｉ）で表されるアルキン化合物に対して、通常、モル比で１～１０倍である。
【0020】
４）溶媒
本発明の製造方法において使用する溶媒として、アセトニトリルが必須である。アセトニトリルは、アリールアルキン化合物又はフルオロアルカンスルホン酸無水物のいずれかを溶解する溶媒として使用してもよいし、両方を溶解する溶媒として使用してもよい。
また、アセトニトリルと他の溶媒を併用してもよい。他の溶媒は、アセトニトリルと混合しないで、アセトニトリルで溶解しない原料を溶解する溶媒として使用してもよいし、アセトニトリルと混合して使用してもよい。アセトニトリルの使用量は、通常、原料化合物に対して、重量比で５０～２００倍である。
他の溶媒との混合溶媒として使用する場合は、アセトニトリルは、全溶媒量の少なくとも５～７５重量％必要である。
併用し得る溶媒としては、反応に阻害的な影響を及ぼさない限り、限定されない。そのような溶媒としては、非極性溶媒、極性溶媒又はそれらの２種以上の混合溶媒が使用できる。非極性溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、シクロペンタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素；ジクロロメタン、１，２－ジクロロエタン、α，α，α－トリフルオロトルエン（ＢＴＦ）、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素が挙げられる。また、極性溶媒としては、アセトン、ジメチルホルムアルデヒド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等の非プロトン性極性溶媒が挙げられる。
本発明の製造方法において使用する溶媒として、アセトニトリルが必須である。アセトニトリルは、アリールアルキン化合物又はフルオロアルカンスルホン酸無水物のいずれかを溶解する溶媒として使用してもよいし、両方を溶解する溶媒として使用してもよい。
また、アセトニトリルと他の溶媒を併用してもよい。他の溶媒は、アセトニトリルと混合しないで、アセトニトリルで溶解しない原料を溶解する溶媒として使用してもよいし、アセトニトリルと混合して使用してもよい。アセトニトリルの使用量は、通常、原料化合物に対して、重量比で５０～２００倍である。
他の溶媒との混合溶媒として使用する場合は、アセトニトリルは、全溶媒量の少なくとも５～７５重量％必要である。
併用し得る溶媒としては、反応に阻害的な影響を及ぼさない限り、限定されない。そのような溶媒としては、非極性溶媒、極性溶媒又はそれらの２種以上の混合溶媒が使用できる。非極性溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、シクロペンタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素；ジクロロメタン、１，２－ジクロロエタン、α，α，α－トリフルオロトルエン（ＢＴＦ）、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素が挙げられる。また、極性溶媒としては、アセトン、ジメチルホルムアルデヒド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等の非プロトン性極性溶媒が挙げられる。
【0021】
５）その他
本発明の製造方法は、通常の反応装置のほか、マイクロリアクターを使用することができる。マイクロリアクターを使用することにより流速の上昇し、混合効率が向上するため、収率が向上する。
本発明の製造方法は、さらに、銅、ルテニウム又はイリジウムなどの遷移金属触媒を使用してもよい。
本発明の製造方法における反応温度は、通常、１５℃～１５０℃である。反応圧力は、常圧または加圧下にて実施することができる。反応時間は、通常、３０分～８時間である。なお、反応は十分な攪拌下にて行うことが望ましい。
また、ラジカル開始剤の添加や光照射を行うことも可能である。
上記反応により得られるビニルフルオロアルカンスルホナート化合物は、同化合物を含む反応溶液をそのまま供することができるが、濃縮、濃縮後の洗浄、あるいは、適宜な後処理を行った後に供することもできる。後処理の具体的な方法としては、抽出、晶出、再結晶、クロマトグラフィー等の公知の精製を挙げることができる。
そして、公知の方法により、式（Ｉ）で表されるビニルフルオロアルカンスルホナート化合物及び式（ＩＩ）で表されるビニルフルオロアルカンスルホナート化合物を、クロマトグラフィー等の公知の手段により分離することができる。
本発明の製造方法は、通常の反応装置のほか、マイクロリアクターを使用することができる。マイクロリアクターを使用することにより流速の上昇し、混合効率が向上するため、収率が向上する。
本発明の製造方法は、さらに、銅、ルテニウム又はイリジウムなどの遷移金属触媒を使用してもよい。
本発明の製造方法における反応温度は、通常、１５℃～１５０℃である。反応圧力は、常圧または加圧下にて実施することができる。反応時間は、通常、３０分～８時間である。なお、反応は十分な攪拌下にて行うことが望ましい。
また、ラジカル開始剤の添加や光照射を行うことも可能である。
上記反応により得られるビニルフルオロアルカンスルホナート化合物は、同化合物を含む反応溶液をそのまま供することができるが、濃縮、濃縮後の洗浄、あるいは、適宜な後処理を行った後に供することもできる。後処理の具体的な方法としては、抽出、晶出、再結晶、クロマトグラフィー等の公知の精製を挙げることができる。
そして、公知の方法により、式（Ｉ）で表されるビニルフルオロアルカンスルホナート化合物及び式（ＩＩ）で表されるビニルフルオロアルカンスルホナート化合物を、クロマトグラフィー等の公知の手段により分離することができる。
【0022】
（式（ＩＩＩ）で表されるビニルフルオロアルカンスルホナート化合物のアリール化）
本発明において得られる式（ＩＩＩ）で表されるビニルフルオロアルカンスルホナート化合物は、例えば以下の方法により、フルオロアルカンスルホナート基をアリール基に変換することができる。
式中、Ｒ及びＲｆは上記（ＩＩＩ）における定義と同様である。Ａｒは置換基を有していてもよいＣ６～Ｃ１０アリール基，又は置換基を有していてもよい５～１０員のヘテロアリール基を示す。Ｃ６～Ｃ１０アリール基及び５～１０員のヘテロアリール基は、式（Ｉ）における定義と同様である。
本発明において得られる式（ＩＩＩ）で表されるビニルフルオロアルカンスルホナート化合物は、例えば以下の方法により、フルオロアルカンスルホナート基をアリール基に変換することができる。
【化9】
【0023】
以下に、実施例において本発明をより詳細に説明するが、本発明の技術的範囲は、これらに限定されるものではない。
【実施例】
【0024】
（１）溶媒の比較試験（その１ ＳｏｌｖｅｎｔＩＩの比較）
ＳｏｌｖｅｎｔＩをジクロロメタンに固定し、ＳｏｌｖｅｎｔＩＩについて検討した。
［実施例１］
反応容器に１－フェニル－１－ヘキシン８２．１ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ）、トリフルオロメタンスルホン酸無水物０．４２ｍＬ（２．５ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（ＳｏｌｖｅｎｔＩ）２．５ｍＬを入れて溶解後、アセトニトリル（ＳｏｌｖｅｎｔＩＩ）２．５ｍＬに溶解した１,４－ジアザビシクロ[２.２.２]オクタン (ＤＡＢＣＯ)１６７ｍｇ（１．５ｍｍｏｌ）を室温下で添加した。その後、４時間室温下で攪拌後、溶媒を除去した。反応生成物から目的化合物を単離して、ＮＭＲで目的化合物の生成を確認し、反応生成物に内部標準としてエチルベンゼンを加え、ＧＣ－ＭＳにより転換率（conv.）および収率(yield)を算出した（表１）。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3) δ 7.41-7.49 (m, 5H), 2.48-2.52 (m, 2H), 1.60-1.66 (m, 2H), 1.46 (sext, J = 7.6 Hz, 2H), 0.99 (t, J = 7.4 Hz, 3H)
19F-NMR (470 MHz, CDCl3) δ-58.02, -74.23
ＳｏｌｖｅｎｔＩをジクロロメタンに固定し、ＳｏｌｖｅｎｔＩＩについて検討した。
【化10】
反応容器に１－フェニル－１－ヘキシン８２．１ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ）、トリフルオロメタンスルホン酸無水物０．４２ｍＬ（２．５ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（ＳｏｌｖｅｎｔＩ）２．５ｍＬを入れて溶解後、アセトニトリル（ＳｏｌｖｅｎｔＩＩ）２．５ｍＬに溶解した１,４－ジアザビシクロ[２.２.２]オクタン (ＤＡＢＣＯ)１６７ｍｇ（１．５ｍｍｏｌ）を室温下で添加した。その後、４時間室温下で攪拌後、溶媒を除去した。反応生成物から目的化合物を単離して、ＮＭＲで目的化合物の生成を確認し、反応生成物に内部標準としてエチルベンゼンを加え、ＧＣ－ＭＳにより転換率（conv.）および収率(yield)を算出した（表１）。
1H-NMR (500 MHz, CDCl3) δ 7.41-7.49 (m, 5H), 2.48-2.52 (m, 2H), 1.60-1.66 (m, 2H), 1.46 (sext, J = 7.6 Hz, 2H), 0.99 (t, J = 7.4 Hz, 3H)
19F-NMR (470 MHz, CDCl3) δ-58.02, -74.23
【0025】
［比較例１～６］
ＳｏｌｖｅｎｔＩＩを表１に示す溶媒にする以外は、実施例１と同様に反応を行った（表１）。
ＳｏｌｖｅｎｔＩＩを表１に示す溶媒にする以外は、実施例１と同様に反応を行った（表１）。
【0026】
【表1】
【0027】
アセトニトリルの存在が必須であることが分かった。
【0028】
（２）溶媒の比較試験（その２ ＳｏｌｖｅｎｔＩの比較）
ＳｏｌｖｅｎｔＩＩをアセトニトリルに固定し、ＳｏｌｖｅｎｔＩの検討を行った。
［実施例２～７］
反応容器に１－フェニル－１－ヘキシン８２．１ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ）、トリフルオロメタンスルホン酸無水物０．４２ｍＬ（２．５ｍｍｏｌ）及び表２に記載の溶媒（ＳｏｌｖｅｎｔＩ）２．５ｍＬを入れて溶解後、アセトニトリル（ＳｏｌｖｅｎｔＩＩ）２．５ｍＬに溶解した１,４－ジアザビシクロ[２.２.２]オクタン (ＤＡＢＣＯ)１６７ｍｇ（１．５ｍｍｏｌ）を室温下で添加した。その後、４時間室温下で攪拌後、溶媒を除去した。
反応生成物から目的化合物を単離して、ＮＭＲで目的化合物の生成を確認し、反応生成物に内部標準としてエチルベンゼンを加え、ＧＣ－ＭＳにより転換率および収率を算出した（表２）。
ＳｏｌｖｅｎｔＩＩをアセトニトリルに固定し、ＳｏｌｖｅｎｔＩの検討を行った。
【化11】
［実施例２～７］
反応容器に１－フェニル－１－ヘキシン８２．１ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ）、トリフルオロメタンスルホン酸無水物０．４２ｍＬ（２．５ｍｍｏｌ）及び表２に記載の溶媒（ＳｏｌｖｅｎｔＩ）２．５ｍＬを入れて溶解後、アセトニトリル（ＳｏｌｖｅｎｔＩＩ）２．５ｍＬに溶解した１,４－ジアザビシクロ[２.２.２]オクタン (ＤＡＢＣＯ)１６７ｍｇ（１．５ｍｍｏｌ）を室温下で添加した。その後、４時間室温下で攪拌後、溶媒を除去した。
反応生成物から目的化合物を単離して、ＮＭＲで目的化合物の生成を確認し、反応生成物に内部標準としてエチルベンゼンを加え、ＧＣ－ＭＳにより転換率および収率を算出した（表２）。
【0029】
【表2】
【0030】
ＳｏｌｖｅｎｔＩＩがアセトニトリルの場合、ＳｏｌｖｅｎｔＩは特に制限を受けないことが分かった。
【0031】
（３）塩基の比較試験
ＳｏｌｖｅｎｔＩをジクロロメタンおよびＳｏｌｖｅｎｔＩＩをアセトニトリルに固定し、塩基の検討を行った。
［比較例７～１１］
反応容器に１－フェニル－１－ヘキシン８２．１ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ）、トリフルオロメタンスルホン酸無水物０．４２ｍＬ（２．５ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（ＳｏｌｖｅｎｔＩ）２．５ｍＬを入れて溶解後、アセトニトリル（ＳｏｌｖｅｎｔＩＩ）２．５ｍＬに溶解した表３に記載の塩基（１．５ｍｍｏｌ）を室温下で添加した。その後、４時間室温下で攪拌後、溶媒を除去した。
反応生成物から目的化合物を単離して、ＮＭＲで目的化合物の生成を確認し、反応生成物に内部標準としてエチルベンゼンを加え、ＧＣ－ＭＳにより転換率および収率を算出した（表３）。
ＳｏｌｖｅｎｔＩをジクロロメタンおよびＳｏｌｖｅｎｔＩＩをアセトニトリルに固定し、塩基の検討を行った。
【化12】
反応容器に１－フェニル－１－ヘキシン８２．１ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ）、トリフルオロメタンスルホン酸無水物０．４２ｍＬ（２．５ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（ＳｏｌｖｅｎｔＩ）２．５ｍＬを入れて溶解後、アセトニトリル（ＳｏｌｖｅｎｔＩＩ）２．５ｍＬに溶解した表３に記載の塩基（１．５ｍｍｏｌ）を室温下で添加した。その後、４時間室温下で攪拌後、溶媒を除去した。
反応生成物から目的化合物を単離して、ＮＭＲで目的化合物の生成を確認し、反応生成物に内部標準としてエチルベンゼンを加え、ＧＣ－ＭＳにより転換率および収率を算出した（表３）。
【0032】
【表3】
【0033】
ＤＡＢＣＯのみ選択的に生成物を与えることが分かった。
【0034】
（４）マイクロリアクターによる製造
［実施例８］
１,４－ジアザビシクロ[２.２.２]オクタン (ＤＡＢＣＯ) 及び１－フェニル－１－ヘキシンを、それぞれモル濃度が０．６Ｍ及び０．２Ｍとなるようにアセトニトリルに溶解させ、溶液Ａとした。トリフルオロメタンスルホン酸無水物をモル濃度が１．０Ｍとなるようにジクロロメタンに溶解させ、溶液Ｂとした。溶液Ａおよび溶液Ｂを１０ｍＬディスポーザブルシリンジに充填し、シリンジポンプ（ＹＭＣ社製ＹＳＰ－１０１）に装着した。シリンジポンプの流速を表４に記載の滞留時間となるように設定し、送液しＴ字型マイクロミキサー（ＭｉＣｈＳ社製α０２）で混合し、ｂｌａｃｋ ｌｉｇｈｔ（ＴＯＳＨＩＢＡネオボール５ ＥＦＤ１５ＢＬＢ－Ｔ）を照射させながらリアクター（ＰＴＦＥチューブ、外径１／１６インチ、内径１ｍｍ、長さ５ｍ）を通過させた。一定時間サンプリングを行った後に、エチルベンゼンを内部標準として添加しＧＣ－ＭＳにより転換率及び収率を算出した。
［実施例８］
１,４－ジアザビシクロ[２.２.２]オクタン (ＤＡＢＣＯ) 及び１－フェニル－１－ヘキシンを、それぞれモル濃度が０．６Ｍ及び０．２Ｍとなるようにアセトニトリルに溶解させ、溶液Ａとした。トリフルオロメタンスルホン酸無水物をモル濃度が１．０Ｍとなるようにジクロロメタンに溶解させ、溶液Ｂとした。溶液Ａおよび溶液Ｂを１０ｍＬディスポーザブルシリンジに充填し、シリンジポンプ（ＹＭＣ社製ＹＳＰ－１０１）に装着した。シリンジポンプの流速を表４に記載の滞留時間となるように設定し、送液しＴ字型マイクロミキサー（ＭｉＣｈＳ社製α０２）で混合し、ｂｌａｃｋ ｌｉｇｈｔ（ＴＯＳＨＩＢＡネオボール５ ＥＦＤ１５ＢＬＢ－Ｔ）を照射させながらリアクター（ＰＴＦＥチューブ、外径１／１６インチ、内径１ｍｍ、長さ５ｍ）を通過させた。一定時間サンプリングを行った後に、エチルベンゼンを内部標準として添加しＧＣ－ＭＳにより転換率及び収率を算出した。
【0035】
【表4】
【0036】
流速の上昇とともに，収率が向上した。これは流速の上昇により混合効率の向上に起因している (実施例８－１、８－２、８－６)。ブラックライト非照射および室温下では非効率となった（実施例８－４）。一方、ブラックライト非照射および反応温度６０℃下では収率が向上した（実施例８－５）。ミキサーの内径を大きくすると混合効率が下がり、収率も低下した (実施例８－７)。バッチ条件では、試薬混合時に発生する熱により反応が促進されるが副反応も生起する（実施例１）。
【産業上の利用可能性】
【0037】
トリフルオロメチル基を有する化合物はフッ素の特異的な性質を有するため、医・農薬や液晶材料の原料等として利用期待できる。本発明により得られる化合物は例えば、エストロゲン受容体モジュレーター（PCT Int. Appl., 2012037411，PCT Int. Appl., 2012037410）の合成中間体としての使用が考えられる。