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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】
(24)【登録日】2022-02-22
(45)【発行日】2022-03-03
(54)【発明の名称】携帯用電子装置及びその撮像モジュール
(51)【国際特許分類】
   H01L 27/146 20060101AFI20220224BHJP
   H01L 31/02 20060101ALI20220224BHJP
   H01L 31/0232 20140101ALI20220224BHJP
   H04N 5/225 20060101ALI20220224BHJP
【FI】
H01L27/146 D
H01L31/02 B
H01L31/02 D
H04N5/225 700
H04N5/225 100
【請求項の数】 10
(21)【出願番号】P 2020163106
(22)【出願日】2020-09-29
(65)【公開番号】P2022022043
(43)【公開日】2022-02-03
【審査請求日】2020-09-29
(31)【優先権主張番号】109125024
(32)【優先日】2020-07-24
(33)【優先権主張国・地域又は機関】TW
(73)【特許権者】
【識別番号】311005219
【氏名又は名称】海華科技股▲分▼有限公司
(74)【代理人】
【識別番号】110000729
【氏名又は名称】特許業務法人 ユニアス国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】李 聰結
(72)【発明者】
【氏名】林 恭安
【審査官】西出 隆二
(56)【参考文献】
【文献】特開2014-132690(JP,A)
【文献】特開2003-163341(JP,A)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
H01L 27/146
H01L 31/02
H01L 31/0232
H04N 5/225
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
複数の基板パッドを含む回路基板と、
複数のチップパッドを含む撮像チップと、
前記撮像チップにおける複数の前記チップパッドにそれぞれ配置される、複数の第1の導電性材料と、
光透過性本体と、前記複数の前記第1の導電性材料にそれぞれ電気的に接続され光透過性本体に配置される複数の導電性構成とを含むと共に、複数の前記第1の導電性材料に配置される、光フィルタ部材と、
対応的な前記導電性構成と対応的な前記基板パッドのそれぞれに電気的に接続される、複数の第2の導電性材料と、
前記撮像チップと対応するように前記回路基板に配置されるレンズ組立体と、
を備え
前記回路基板は、上面、及び前記上面と対応的な下面を含み、前記撮像チップが前記回路基板の前記上面に配置され、かつ、複数の前記基板パッドが前記回路基板の前記上面に配置され、
各前記第1の導電性材料は、対応的な前記チップパッドと対応的な前記導電性構成との間に電気的に接続される導電体であり、かつ、各前記第2の導電性材料は、対応的な前記導電性構成と対応的な前記基板パッドとの間に電気的に接続される導電性ワイヤであり、
前記光フィルタ部材における各前記導電性構成は、前記光透過性本体の側部に配置されると共に外部に露出した側部導電性層と、前記光透過性本体の底部に配置される底部導電性層と、前記光透過性本体の頂部に配置される頂部導電性層とを含み、前記側部導電性層が、前記底部導電性層と前記頂部導電性層との間に電気的に接続され、かつ、前記底部導電性層と前記頂部導電性層とはそれぞれ、対応的な前記第1の導電性材料と対応的な前記第2の導電性材料との間に電気的に接触される、ことを特徴とする撮像モジュール。
【請求項2】
前記回路基板は、上面、及び前記上面と相対的な下面を含み、前記撮像チップが前記回路基板の前記上面に配置され、かつ、複数の前記基板パッドが前記回路基板の前記上面に配置され、
各前記第1の導電性材料は、対応的な前記チップパッドと対応的な前記導電性構成との間に電気的に接続される導電体であり、かつ、各前記第2の導電性材料は、対応的な前記導電性構成と対応的な前記基板パッドとの間に電気的に接続される導電性ワイヤであり、
前記光フィルタ部材における各前記導電性構成は、前記光透過性本体を貫通する穿孔と、前記穿孔内に配置される導電性貫通層とを含み、かつ、前記導電性貫通層に両端部はそれぞれ、対応的な前記第1の導電性材料と対応的な前記第2の導電性材料に電気的に接触し、
前記撮像チップは、イメージセンシングエリア及びチップパッド配置エリアを含み、かつ、前記イメージセンシングエリアと前記チップパッド配置エリアとの間に空きエリアが配置され、
複数の前記チップパッドが前記チップパッド配置エリアに配置され、かつ、前記イメージセンシングエリアが前記チップパッド配置エリアにより囲まれ、それにより、前記イメージセンシングエリアが複数の前記チップパッドで囲まれることになり、
前記撮像モジュールは、絶縁充填材を含み、前記絶縁充填材が前記撮像チップと前記光フィルタ部材との間に、複数の前記第1の導電性材料を囲むように配置され、それにより、前記撮像チップと前記光フィルタ部材との間に閉鎖空間が形成される、請求項1に記載の撮像モジュール。
【請求項3】
前記回路基板は、上面、及び前記上面と相対的な下面を含み、前記撮像チップが前記回路基板の前記上面に配置され、かつ、複数の前記基板パッドが前記回路基板の前記上面に配置され、
各前記第1の導電性材料は、対応的な前記チップパッドと対応的な前記導電性構成との間に電気的に接続される導電体であり、かつ、各前記第2の導電性材料は、対応的な前記導電性構成と対応的な前記基板パッドとの間に電気的に接続される導電性ワイヤであり、
前記光フィルタ部材における各前記導電性構成は、前記光透過性本体を貫通する穿孔と、前記穿孔内に配置される導電性貫通層と、前記光透過性本体の底部に配置される底部導電性層と、前記光透過性本体の頂部に配置される頂部導電性層とを含み、前記導電性貫通層が前記底部導電性層と前記頂部導電性層との間に電気的に接続され、かつ、前記底部導電性層と前記頂部導電性層とはそれぞれ、対応的な前記第1の導電性材料と対応的な前記第2の導電性材料と電気的に接触され、
前記撮像チップは、イメージセンシングエリア及びチップパッド配置エリアを含み、かつ、前記イメージセンシングエリアと前記チップパッド配置エリアとの間に空きエリアが配置され、
複数の前記チップパッドが前記チップパッド配置エリアに配置され、かつ、前記イメージセンシングエリアが前記チップパッド配置エリアに囲まれ、それにより、前記イメージセンシングエリアが複数の前記チップパッドにより囲まれるようになり、
前記撮像モジュールは、絶縁充填材を含み、かつ、前記絶縁充填材は、前記撮像チップと前記光フィルタ部材との間に、複数の前記第1の導電性材料を囲むように配置され、それにより、前記撮像チップと前記光フィルタ部材との間に閉鎖空間が形成される、請求項1に記載の撮像モジュール。
【請求項4】
前記撮像チップは、イメージセンシングエリア及びチップパッド配置エリアを含み、かつ、前記イメージセンシングエリアと前記チップパッド配置エリアとの間に空きエリアが配置され、
複数の前記チップパッドは、前記チップパッド配置エリアに配置され、かつ、前記イメージセンシングエリアが前記チップパッド配置エリアに囲まれ、それにより、前記イメージセンシングエリアが複数の前記チップパッドに囲まれることにより、
前記撮像モジュールは、絶縁充填材を含み、かつ、前記絶縁充填材は、前記撮像チップと前記光フィルタ部材との間に、複数の前記第1の導電性材料を囲むように配置され、それにより、前記撮像チップと前記光フィルタ部材との間に閉鎖空間が形成される、請求項1に記載の撮像モジュール。
【請求項5】
前記回路基板は、上面、及び前記上面と相対的な下面を含み、前記撮像チップが前記回路基板の前記上面に配置され、かつ、複数の前記基板パッドが前記回路基板の前記上面に配置され、
各前記第1の導電性材料は、対応的な前記チップパッドと対応的な前記導電性構成との間に電気的に接続される導電体であり、かつ、各前記第2の導電性材料は、対応的な前記導電性構成と対応的な前記基板パッドとの間に電気的に接続される導電性ワイヤであり、
前記光フィルタ部材における各前記導電性構成は、前記光透過性本体の側部に配置される半穿孔と、前記半穿孔内に配置される導電性貫通層と、前記光透過性本体の底部に配置される底部導電性層と、前記光透過性本体の頂部に配置される頂部導電性層とを含み、前記導電性貫通層が前記底部導電性層と前記頂部導電性層との間に電気的に接続され、かつ、前記底部導電性層と前記頂部導電性層とはそれぞれ、対応的な前記第1の導電性材料と対応的な前記第2の導電性材料に電気的に接触され、
前記撮像チップじゃ、イメージセンシングエリア及びチップパッド配置エリアを含み、かつ、前記イメージセンシングエリアと前記チップパッド配置エリアとの間に空きエリアが配置され、
複数の前記チップパッドが前記チップパッド配置エリアに配置され、かつ、前記イメージセンシングエリアが前記チップパッド配置エリアに囲まれ、それにより、前記イメージセンシングエリアが複数の前記チップパッドに囲まれることになり、
前記撮像モジュールは、絶縁充填材を含み、かつ、前記絶縁充填材は、前記撮像チップと前記光フィルタ部材との間に、複数の前記第1の導電性材料を囲むように配置され、それにより、前記撮像チップと前記光フィルタ部材との間に閉鎖空間が形成される、請求項1に記載の撮像モジュール。
【請求項6】
前記回路基板は、上面と、前記上面と相対的な下面と、前記上面と前記下面との間に連接される貫通口とを含み、複数の前記基板パッドが前記回路基板の前記下面に配置され、かつ、複数の前記第2の導電性材料がそれぞれ複数の前記基板パッドに配置され、
各前記第1の導電性材料は、対応的な前記チップパッドと対応的な前記導電性構成との間に電気的に接続される第1の導電体であり、かつ、各前記第2の導電性材料は、対応的な前記導電性構成と対応的な前記基板パッドとの間に電気的に接続される第2の導電体であり、
前記光フィルタ部材における各前記導電性構成は、前記光透過性本体を貫通する穿孔と、前記穿孔内に配置される導電性貫通層とを含み、かつ、前記導電性貫通層に両端部はそれぞれ、対応的な前記第1の導電性材料と対応的な前記第2の導電性材料に電気的に接触し、
前記撮像チップは、イメージセンシングエリア及びチップパッド配置エリアを含み、かつ、前記イメージセンシングエリアと前記チップパッド配置エリアとの間に空きエリアが配置され、
複数の前記チップパッドが前記チップパッド配置エリアに配置され、かつ、前記イメージセンシングエリアが前記チップパッド配置エリアにより囲まれ、それにより、前記イメージセンシングエリアが複数の前記チップパッドで囲まれることになり、
前記撮像モジュールは、絶縁充填材を含み、前記絶縁充填材が前記撮像チップと前記光フィルタ部材との間に、複数の前記第1の導電性材料を囲むように配置され、それにより、前記撮像チップと前記光フィルタ部材との間に閉鎖空間が形成される、請求項1に記載の撮像モジュール。
【請求項7】
前記回路基板は、上面と、前記上面と対応的な下面と、前記上面と前記下面とを連接する貫通口とを含み、複数の前記基板パッドは、前記回路基板の前記下面に配置され、かつ、複数の前記第2の導電性材料がそれぞれ複数の前記基板パッドに配置され、
各前記第1の導電性材料は、対応的な前記チップパッドと対応的な前記導電性構成との間に電気的に接続される第1の導電体であり、かつ、各前記第2の導電性材料は、対応的な前記導電性構成と対応的な前記基板パッドとの間に電気的に接続される第2の導電体であり、
前記光フィルタ部材における各前記導電性構成は、前記光透過性本体を貫通する穿孔と、前記穿孔内に配置される導電性貫通層と、前記光透過性本体の底部に配置される底部導電性層と、前記光透過性本体の頂部に配置される頂部導電性層とを含み、前記導電性貫通層が前記底部導電性層と前記頂部導電性層との間に電気的に接続され、かつ、前記底部導電性層と前記頂部導電性層とはそれぞれ、対応的な前記第1の導電性材料と対応的な前記第2の導電性材料に電気的に接触され、
前記撮像チップは、イメージセンシングエリア及びチップパッド配置エリアを含み、かつ、前記イメージセンシングエリアと前記チップパッド配置エリアとの間に空きエリアが配置され、
複数の前記チップパッドは、前記チップパッド配置エリアに配置され、かつ、前記イメージセンシングエリアが前記チップパッド配置エリアに囲まれ、それで、前記イメージセンシングエリアが複数の前記チップパッドに囲まれることになり、
前記撮像モジュールは、絶縁充填材を含み、かつ、前記絶縁充填材は、前記撮像チップと前記光フィルタ部材との間に、複数の前記第1の導電性材料を囲むように配置され、それにより、前記撮像チップと前記光フィルタ部材との間に閉鎖空間が形成される、請求項1に記載の撮像モジュール。
【請求項8】
前記回路基板は、上面と、前記上面と対応的な下面と、前記上面と前記下面とを連通する貫通口とを含み、複数の前記基板パッドは、前記回路基板の前記下面に配置され、かつ、複数の前記第2の導電性材料はそれぞれ複数の前記基板パッドに配置され、
各前記第1の導電性材料は、対応的な前記チップパッドと対応的な前記導電性構成との間に電気的に接続される第1の導電体であり、かつ、各前記第2の導電性材料は、対応的な前記導電性構成と対応的な前記基板パッドとの間に電気的に接続される第2の導電体であり、
前記光フィルタ部材における各前記導電性構成は、前記光透過性本体の側部に配置されると共に外部に露出する側部導電性層と、前記光透過性本体の底部に配置される底部導電性層と、前記光透過性本体の頂部に配置される頂部導電性層とを含み、前記側部導電性層は、前記底部導電性層と前記頂部導電性層との間に電気的に接続され、かつ、前記底部導電性層と前記頂部導電性層とはそれぞれ、対応的な前記第1の導電性材料と対応的な前記第2の導電性材料との間に電気的に接触され、
前記撮像チップは、イメージセンシングエリア及びチップパッド配置エリアを含み、かつ、前記イメージセンシングエリアと前記チップパッド配置エリアとの間に空きエリアが配置され、
複数の前記チップパッドが前記チップパッド配置エリアに配置され、かつ、前記イメージセンシングエリアが前記チップパッド配置エリアに囲まれ、それで、前記イメージセンシングエリアが複数の前記チップパッドに囲まれるようになり、
前記撮像モジュールは、絶縁充填材を含み、かつ、前記絶縁充填材が前記撮像チップと前記光フィルタ部材との間に、複数の前記第1の導電性材料を囲むように配置され、それにより、前記撮像チップと前記光フィルタ部材との間に、閉鎖空間が形成される、請求項1に記載の撮像モジュール。
【請求項9】
前記回路基板は、上面と、前記上面と相対的な下面と、前記上面と前記下面との間を貫通する貫通口とを含み、複数の前記基板パッドが前記回路基板の前記下面に配置され、かつ、複数の前記第2の導電性材料がそれぞれ複数の前記基板パッドに配置され、
各前記第1の導電性材料は、対応的な前記チップパッドと対応的な前記導電性構成との間に電気的に接続される第1の導電体であり、かつ、各前記第2の導電性材料は、対応的な前記導電性構成と対応的な前記基板パッドとの間に電気的に接続される第2の導電体であり、
前記光フィルタ部材における各前記導電性構成は、前記光透過性本体の側部に配置される半穿孔と、前記半穿孔内に配置される導電性貫通層と、前記光透過性本体の底部に配置される底部導電性層と、前記光透過性本体の頂部に配置される頂部導電性層とを含み、前記導電性貫通層は、前記底部導電性層と前記頂部導電性層との間に電気的に接続され、かつ、前記底部導電性層と前記頂部導電性層とはそれぞれ、対応的な前記第1の導電性材料と対応的な前記第2の導電性材料に電気的に接触され、
前記撮像チップは、イメージセンシングエリア及びチップパッド配置エリアを含み、かつ、前記イメージセンシングエリアと前記チップパッド配置エリアとの間に空きエリアが配置され、
複数の前記チップパッドは、前記チップパッド配置エリアに配置され、かつ、前記イメージセンシングエリアが前記チップパッド配置エリアに囲まれ、それで、前記イメージセンシングエリアが複数の前記チップパッドに囲まれるようになり、
前記撮像モジュールは、絶縁充填材を含み、かつ、前記絶縁充填材は、前記撮像チップと前記光フィルタ部材との間に、複数の前記第1の導電性材料を囲むように配置され、それにより、前記撮像チップと前記光フィルタ部材との間に閉鎖空間が形成される、請求項1に記載の撮像モジュール。
【請求項10】
撮像モジュールを使用した携帯用電子装置であって、
前記撮像モジュールは、
複数の基板パッドを含む回路基板と、
複数のチップパッドを含む撮像チップと、
前記撮像チップにおける複数の前記チップパッドにそれぞれ配置される、複数の第1の導電性材料と、
光透過性本体と、前記複数の前記第1の導電性材料にそれぞれ電気的に接続され光透過性本体に配置される複数の導電性構成とを含むと共に、複数の前記第1の導電性材料に配置される、光フィルタ部材と、
対応的な前記導電性構成と対応的な前記基板パッドのそれぞれに電気的に接続される、複数の第2の導電性材料と、
前記撮像チップと対応するように前記回路基板に配置されるレンズ組立体と、
を備え
前記回路基板は、上面、及び前記上面と対応的な下面を含み、前記撮像チップが前記回路基板の前記上面に配置され、かつ、複数の前記基板パッドが前記回路基板の前記上面に配置され、
各前記第1の導電性材料は、対応的な前記チップパッドと対応的な前記導電性構成との間に電気的に接続される導電体であり、かつ、各前記第2の導電性材料は、対応的な前記導電性構成と対応的な前記基板パッドとの間に電気的に接続される導電性ワイヤであり、
前記光フィルタ部材における各前記導電性構成は、前記光透過性本体の側部に配置されると共に外部に露出した側部導電性層と、前記光透過性本体の底部に配置される底部導電性層と、前記光透過性本体の頂部に配置される頂部導電性層とを含み、前記側部導電性層が、前記底部導電性層と前記頂部導電性層との間に電気的に接続され、かつ、前記底部導電性層と前記頂部導電性層とはそれぞれ、対応的な前記第1の導電性材料と対応的な前記第2の導電性材料との間に電気的に接触される、ことを特徴とする携帯用電子装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、電子装置及びその撮像モジュールに関し、特に携帯用電子装置及びその撮像モジュールに関する。
【背景技術】
【0002】
従来、携帯用電子装置に撮像モジュールが配置されているが、既存の撮像モジュールに更なる改善できる余裕がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0003】
本発明が解決しようとする課題は、既存の技術の不足に対し、携帯用電子装置及びその撮像モジュールを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0004】
上記技術的課題を解決するために、本発明が採用する技術的手段の1つは、次の撮像モジュールを提供することである。撮像モジュールは、回路基板、撮像チップ、複数の第1の導電性材料、光フィルタ部材、複数の第2の導電性材料、及びレンズ組立体を含む。回路基板は複数の基板パッドを備える。撮像チップは複数のチップパッドを備える。複数の第1の導電性材料はそれぞれ撮像チップの複数のチップパッドに配置される。光フィルタ部材が複数の第1の導電性材料に配置される。光フィルタ部材に、光透過性本体と、光透過性本体に配置される複数の導電性構成とが含まれる。複数の導電性構成はそれぞれ複数の第1の導電性材料に電気的に接続される。第2の導電性材料の各々は、対応的な導電性構成と対応的な基板パッドとの間に電気的に接続される。レンズ組立体は回路基板に、撮像チップと対応するように配置される。
【0005】
上記技術的課題を解決するために、本発明が採用する別の技術的手段は、次の携帯用電子装置を提供することである。携帯用電子装置に撮像モジュールが使用される。撮像モジュールは、回路基板、撮像チップ、複数の第1の導電性材料、光フィルタ部材、複数の第2の導電性材料、及びレンズ組立体を含む。回路基板は複数の基板パッドを備える。撮像チップは複数のチップパッドを備える。複数の第1の導電性材料はそれぞれ、撮像チップの複数のチップパッドに配置される。光フィルタ部材が複数の第1の導電性材料に配置され、光フィルタ部材に、光透過性本体と、光透過性本体に配置される複数の導電性構成とが含まれる。複数の導電性構成はそれぞれ、複数の第1の導電性材料に電気的に接続される。第2の導電性材料の各々は、対応的な導電性構成と対応的な基板パッドとの間に電気的に接続される。レンズ組立体は、回路基板に、撮像チップと対応的に配置される。
【発明の効果】
【0006】
本発明による有益な効果の1つとしては、本発明が提供する携帯用電子装置及びその撮像モジュールは、「複数の第1の導電性材料がそれぞれ撮像チップの複数のチップパッドに配置される」、「光フィルタ部材が複数の第1の導電性材料に配置され、光フィルタ部材に光透過性本体と、光透過性本体に配置される複数の導電性構成とが含まれ、複数の導電性構成がそれぞれ複数の第1の導電性材料に電気的に接続される。」、及び「第2の導電性材料の各々は、対応的な導電性構成と対応的な基板パッドとの間に電気的に接続される。」という技術的手段により、光フィルタ部材が、複数の導電性構成と複数の第1の導電性材料との協働により、撮像チップの複数のチップパッドに電気的に接続できながら、光フィルタ部材が、複数のチップパッドにそれぞれ配置される複数の第1の導電性材料よる支持により、撮像チップの上方に配置できる。そのように、撮像チップのイメージセンシングエリアの面積を最大化することができる(イメージセンシングエリアのセンシング面積を増加する)ことである。
【図面の簡単な説明】
【0007】
図1】本発明に係る第1の実施形態の撮像モジュールを示す側面模式図である。
図2】本発明に係る第1の実施形態の撮像チップを示す上面模式図である。
図3】本発明に係る第1の実施形態の携帯用電子装置を示す斜視模式図である。
図4】本発明に係る第2の実施形態の撮像モジュールを示す側面模式図である。
図5】本発明に係る第3の実施形態の撮像モジュールを示す側面模式図である。
図6】本発明に係る第4の実施形態の撮像モジュールを示す側面模式図である。
図7】本発明に係る第5の実施形態の撮像モジュールを示す側面模式図である。
図8】本発明に係る第5の実施形態の撮像チップを示す上面模式図である。
図9】本発明に係る第5の実施形態の携帯用電子装置を示す斜視模式図である。
図10】本発明に係る第6の実施形態の撮像モジュールを示す側面模式図である。
図11】本発明に係る第7の実施形態の撮像モジュールを示す側面模式図である。
図12】本発明に係る第8の実施形態の撮像モジュールを示す側面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【0008】
発明の特徴及び技術内容がより一層分かるように、以下本発明に関する詳細な説明と添付図面を参照する。しかし、提供される添付図面は参考と説明のために提供するものに過ぎず、本発明の特許請求の範囲を制限するためのものではない。
【0009】
下記より、具体的な実施例で本発明が開示する「携帯用電子装置及びその撮像モジュール」に係る実施形態を説明する。当業者は本明細書の公開内容により本発明のメリット及び効果を理解し得る。本発明は他の異なる実施形態により実行又は応用できる。本明細書における各細節も様々な観点又は応用に基づいて、本発明の精神逸脱しない限りに、均等の変形と変更を行うことができる。また、本発明の図面は簡単で模式的に説明するためのものであり、実際的な寸法を示すものではない。以下の実施形態において、さらに本発明に係る技術事項を説明するが、公開された内容は本発明を限定するものではない。
【0010】
[第1の実施形態]
図1及び図2に示すように、本発明に係る第1の実施形態が提供する撮像モジュールMは、回路基板1、撮像チップ2、複数の第1の導電性材料3、光フィルタ部材4、複数の第2の導電性材料5、及びレンズ組立体6を含む。さらに、回路基板1が複数の基板パッド100を備え、撮像チップ2が複数のチップパッド200を備え、かつ、複数の第1の導電性材料3がそれぞれ撮像チップ2の複数のチップパッド200に配置される。光フィルタ部材4が、複数の第1の導電性材料3に配置され、光フィルタ部材4に光透過性本体40と、光透過性本体40に配置される複数の導電性構成41とが含まれる。かつ、複数の導電性構成41はそれぞれ複数の第1の導電性材料3に電気的に接続される。第2の導電性材料5の各々は、対応的な導電性構成41と対応的な基板パッド100との間に電気的に接続される。かつ、レンズ組立体6が回路基板1に、撮像チップ2と対応するように配置される。
【0011】
例えば、図1に示すように、回路基板1は、上面1001、及び上面1001と対応する下面1002を含む。撮像チップ2が回路基板1の上面1001に配置され、かつ、複数の基板パッド100が回路基板1の上面1001に配置される。また、第1の導電性材料3の各々は、対応的なチップパッド200と対応的な導電性構成41との間にある導電体(例えば、はんだボール、はんだペースト、または任意の種類の導電性材料が挙げられる)に電気的に接続されてもよい。また、第2の導電性材料5は、対応的な導電性構成41と対応的な基板パッド100との間に電気的に接続された導電性ワイヤ(例えば、ワイヤボンディングの方法で形成された金属線)であってもよい。なお、上述した例は、可能性のある1つの実施形態に過ぎず、本発明を制限することを意図するものではない。
【0012】
例えば、図1に示すように、光フィルタ部材4における各導電性構成41には、光透過性本体40を貫通する穿孔410と、穿孔410内に配置される導電性貫通層412とが含まれる。導電性貫通層412の両端部はそれぞれ、光透過性本体40の底部4001と頂部4002とを互いに揃えている。かつ、導電性貫通層412の両端部はそれぞれ対応的な第1の導電性材料3と対応的な第2の導電性材料5に電気的に接触される。なお、上述した例は、可能性のある1つの実施形態に過ぎず、本発明を制限することを意図するものではない。
【0013】
例えば、図1及び図2に示すように、撮像チップ2としては、相補型金属酸化物半導体(Complementary Metal-Oxide-Semiconductor,CMOS)チップまたは電荷結合素子(Charge-coupled Device,CCD)チップが挙げられる。また、撮像チップ2は、イメージセンシングエリア21及びチップパッド配置エリア22を備え、かつ、イメージセンシングエリア21とチップパッド配置エリア22との間に空きエリア23(又は空きスペース)が配置される。即ち、光フィルタ部材4は、複数の第1の導電性材料3により支持されることができるため、イメージセンシングエリア21とチップパッド配置エリア22との間に位置する空きエリア23に、光フィルタ部材4を支持するための支持物が配置されることはなく、それで、イメージセンシングエリア21の面積を最大化する(イメージセンシングエリア21のセンシング面積を増加する)ことができる。また、複数のチップパッド200がチップパッド配置エリア22に配置されると共に、イメージセンシングエリア21がチップパッド配置エリア22により囲まれることにより、イメージセンシングエリア21は、複数のチップパッド200により囲まれることになった。なお、上述した例は、可能性のある1つの実施形態に過ぎず、本発明を制限することを意図するものではない。
【0014】
例えば、図1に示すように、撮像モジュールMに絶縁充填材7がさらに含まれ、かつ、絶縁充填材7が撮像チップ2と光フィルタ部材4との間に位置しながら複数の第1の導電性材料3を囲むことにより、撮像チップ2と光フィルタ部材4との間に閉鎖空間Rが形成されることは、注目に値する。それにより、絶縁充填材7のバリアにより撮像チップ2のイメージセンシングエリア21を外部からの異物や塵埃による汚染から保護されている。なお、上述した例は、可能性のある1つの実施形態に過ぎず、本発明を制限することを意図するものではない。
【0015】
図1及び図3に示すように、本発明に係る第1の実施形態はさらに携帯用電子装置Zを提供することは、注目に値する。かつ、携帯用電子装置Zをしては、ノートパソコン、タブレットまたはスマートフォンが挙げられるが、本発明はこの例に制限されない。また、携帯用電子装置Zは、撮像モジュールMを使用してもよい。かつ、撮像モジュールM包括一回路基板1、撮像チップ2、複数の第1の導電性材料3、光フィルタ部材4、複数の第2の導電性材料5、及びレンズ組立体6を含む。
【0016】
[第2の実施形態]
図4に示すように、本発明に係る第2の実施形態は、撮像モジュールM、及び撮像モジュールMを使用した携帯用電子装置(図示されない)を提供する。図4図1との比較からは、本発明に係る第2の実施形態と第1の実施形態との最大な相違点では、第2の実施形態において、光フィルタ部材4における導電性構成41のそれぞれは、光透過性本体40を貫通する穿孔410と、穿孔410内に配置された導電性貫通層412と、光透過性本体40の底部4001に配置された底部導電性層413と、光透過性本体40の頂部4002に配置された頂部導電性層414とを含み、また、導電性貫通層412が底部導電性層413と頂部導電性層414との間に電気的に接続され、かつ、底部導電性層413と頂部導電性層414とがそれぞれ、対応的な第1の導電性材料3と対応的な第2の導電性材料5とに電気的に接触される点であると看取ることができる。
【0017】
それにより、本発明に係る第2の実施形態は、底部導電性層413を使用することにより、導電性構成41と第1の導電性材料3との間の接触面積を増加し、それで、導電性構成41と第1の導電性材料3との接触不良による断線の不具合を効果的に抑えることができる。かつ、本発明に係る第2の実施形態は、頂部導電性層414を使用することにより、導電性構成41と第2の導電性材料5との接触面積を増加し、それで、導電性構成41と第2の導電性材料5との接触不良による断線の不具合を効果的に抑えることができる。
【0018】
[第3の実施形態]
図5に示すように、本発明に係る第3の実施形態は、撮像モジュールM、及び撮像モジュールMを使用した携帯用電子装置(図示されない)を提供する。図5図1との比較からは、本発明に係る第3の実施形態と第1の実施形態との最大な相違点では、第3の実施形態において、光フィルタ部材4における各導電性構成41は、光透過性本体40の側部4003に配置されると共に外部に露出する側部導電性層415と、光透過性本体40の底部4001に配置される底部導電性層413と、光透過性本体40の頂部4002に配置される頂部導電性層414とを含み、また、側部導電性層415が底部導電性層413と頂部導電性層414との間に電気的に接続され、かつ、底部導電性層413と頂部導電性層414がそれぞれ、対応的な第1の導電性材料3と対応的な第2の導電性材料5と電気的に接触される点であると看取ることができる。
【0019】
それにより、本発明に係る第3の実施形態は、底部導電性層413を使用することにより、導電性構成41と第1の導電性材料3との接触面積を増加し、それで、導電性構成41と第1の導電性材料3との接触不良による断線の不都合を効果的に抑えることができ、かつ、本発明に係る第3の実施形態は、頂部導電性層414を使用することにより、導電性構成41と第2の導電性材料5との接触面積を増加して、導電性構成41と第2の導電性材料5との接触不良による断線の不具合を効果的に抑えることができる。なお、底部導電性層413と頂部導電性層414との間にある側部導電性層415は、光透過性本体40の側部4003に配置されることができるため、第1の実施形態のように、光透過性本体40に複数の穿孔410を追加する必要はないことは、注目されたい。また、第2の導電性材料5が側部導電性層415と基板パッド100との間に電気的に接続されてもよいことが注目に値する。
【0020】
[第4の実施形態]
図6に示すように、本発明に係る第4の実施形態は、撮像モジュールM、及び撮像モジュールMを使用した携帯用電子装置(図示されない)を提供する。図6図1との比較からは、本発明に係る第4の実施形態と第1の実施形態との最大な相違点では、第4の実施形態において、光フィルタ部材4における各導電性構成41は、光透過性本体40の側部4003に配置される半穿孔411と、半穿孔411内に配置された導電性貫通層412と、光透過性本体40の底部4001に配置された底部導電性層413と、光透過性本体40の頂部4002に配置された頂部導電性層414とを含み、また、導電性貫通層412が底部導電性層413と頂部導電性層414との間に電気的に接続され、かつ、底部導電性層413と頂部導電性層414とがそれぞれ、対応的な第1の導電性材料3と対応的な第2の導電性材料5に電気的に接続される点であると看取ることができる。
【0021】
それにより、本発明に係る第4の実施形態は、底部導電性層413を使用することにより、導電性構成41と第1の導電性材料3との接触面積を増加し、それで、導電性構成41と第1の導電性材料3との接触不良による断線の不都合を効果的に抑えることができる。また、本発明に係る第4の実施形態は、頂部導電性層414を使用することにより、導電性構成41と第2の導電性材料5との接触面積を増加し、それで、導電性構成41と第2の導電性材料5との接触不良による断線の不具合を効果的に抑えることができる。なお、第2の導電性材料5は、導電性貫通層412と基板パッド100との間に電気的に接続されてもよいことは、注目に値する。
【0022】
[第5の実施形態]
図7及び図8に示すように、本発明に係る第5の実施形態は、撮像モジュールMを提供する。撮像モジュールMは、回路基板1、撮像チップ2、複数の第1の導電性材料3、光フィルタ部材4、複数の第2の導電性材料5、及びレンズ組立体6を含む。さらには、回路基板1は複数の基板パッド100を備え、撮像チップ2は複数のチップパッド200を備え、かつ、複数の第1の導電性材料3はそれぞれ撮像チップ2の複数のチップパッド200に配置される。光フィルタ部材4は、複数の第1の導電性材料3に配置され、光フィルタ部材4は光透過性本体40と、光透過性本体40に配置される複数の導電性構成41とを含み、かつ、複数の導電性構成41はそれぞれ、複数の第1の導電性材料3に電気的に接続される。各第2の導電性材料5は、対応的な導電性構成41と対応的な基板パッド100との間に電気的に接続され、かつ、レンズ組立体6が回路基板1に、撮像チップ2と対応するように配置される。
【0023】
例えば、図7に示すように、回路基板1には、上面1001、上面1001と相対的な下面1002と、上面1001と下面1002との間に貫通する貫通口1003(貫通口1003が回路基板1を貫通する)とを含み、複数の基板パッド100が回路基板1の下面1002に配置され、かつ、複数の第2の導電性材料5がそれぞれ複数の基板パッド100に配置される。また、各第1の導電性材料3は、対応的なチップパッド200と対応的な導電性構成41との間に電気的に接続された第1の導電体(例えば、はんだボール、はんだペースト、または任意の種類の導電性材料が挙げられる)であってもよく、かつ、各第2の導電性材料5は、対応的な導電性構成41と対応的な基板パッド100との間に電気的に接続された第2の導電体(例えば、はんだボール、はんだペースト、または任意の種類の導電性材料が挙げられる)であってもよい。なお、上述した例は、可能性のある1つの実施形態に過ぎず、本発明を制限することを意図するものではない。
【0024】
例えば、図7に示すように、光フィルタ部材4における各導電性構成41は、光透過性本体40を貫通する穿孔410と、穿孔410内に配置された導電性貫通層412とを含む。導電性貫通層412の両端部はそれぞれ、光透過性本体40の底部4001と頂部4002とを互いに揃えている。かつ、導電性貫通層412の両端部はそれぞれ、対応的な第1の導電性材料3と対応的な第2の導電性材料5に電気的に接触される。なお、上述した例は、可能性のある1つの実施形態に過ぎず、本発明を制限することを意図するものではない。
【0025】
例えば、図7及び図8に示すように、撮像チップ2としては、相補型金属酸化物半導体(Complementary Metal-Oxide-Semiconductor,CMOS)チップまたは電荷結合素子(Charge-coupled Device,CCD)チップであってもよい。また、撮像チップ2は、イメージセンシングエリア21及びチップパッド配置エリア22を含み、かつ、イメージセンシングエリア21とチップパッド配置エリア22との間に空きエリア23が配置される。即ち、イメージセンシングエリア21とチップパッド配置エリア22との間に位置する空きエリア23に、光フィルタ部材4を接触するための支持体が配置されておらず、それにより、イメージセンシングエリア21の面積は最大化される(イメージセンシングエリア21のセンシング面積を増加する)ことができる。また、複数のチップパッド200がチップパッド配置エリア22に配置され、かつ、イメージセンシングエリア21がチップパッド配置エリア22で囲まれる。そのように、イメージセンシングエリア21が複数のチップパッド200で囲まれるようになる。なお、上述した例は、可能性のある1つの実施形態に過ぎず、本発明を制限することを意図するものではない。
【0026】
例えば、図7に示すように、撮像モジュールMは、さらに絶縁充填材7を含み、かつ、絶縁充填材7が撮像チップ2と光フィルタ部材4との間に、複数の第1の導電性材料3を囲むように配置され、それにより、撮像チップ2と光フィルタ部材4との間に閉鎖空間Rが形成されることは、注目に値する。そのように、絶縁充填材7のバリアにより、撮像チップ2のイメージセンシングエリア21を外部からの異物や塵埃による汚染から保護されている。なお、上述した例は、可能性のある1つの実施形態に過ぎず、本発明を制限することを意図するものではない。
【0027】
図7及び図9に示すように、本発明に係る第5の実施形態は、携帯用電子装置Zをさらに提供することは、注目に値する。携帯用電子装置Zとしては、ノートパソコン、タブレットまたはスマートフォンが挙げられるが、本発明はこの例に制限されない。また、携帯用電子装置Zは、撮像モジュールMを使用してもよい。かつ、撮像モジュールMは、回路基板1、撮像チップ2、複数の第1の導電性材料3、光フィルタ部材4、複数の第2の導電性材料5、及びレンズ組立体6を含む。
【0028】
[第6の実施形態]
図10を参照されたい。本発明に係る第6の実施形態は、撮像モジュールM、及び撮像モジュールMを使用した携帯用電子装置(図示されない)を開示する。図10図7との比較からは、本発明に係る第6の実施形態と第5の実施形態との最大な相違点では、第6の実施形態において、光フィルタ部材4における各導電性構成41は、光透過性本体40を貫通する穿孔410と、穿孔410内に配置された導電性貫通層412と、光透過性本体40の底部4001に配置された底部導電性層413と、光透過性本体40の頂部4002に配置された頂部導電性層414とを含み、また、導電性貫通層412が底部導電性層413と頂部導電性層414との間に電気的に接続され、かつ、底部導電性層413と頂部導電性層414とがそれぞれ、対応的な第1の導電性材料3と対応的な第2の導電性材料5と電気的に接触されることが看取ることができる。
【0029】
それにより、本発明に係る第6の実施形態は、底部導電性層413を使用することにより、導電性構成41と第1の導電性材料3との接触面積を増加し、それで、導電性構成41と第1の導電性材料3との接触不要による断線の不都合を効果的に抑えることができる。かつ、本発明に係る第6の実施形態は、頂部導電性層414を使用することにより、導電性構成41と第2の導電性材料5との接触面積を増加し、それで、導電性構成41と第2の導電性材料5との接触不良による断線の不具合を効果的に抑えることができる。
【0030】
[第7の実施形態]
図11を参照されたい。本発明に係る第7の実施形態は、撮像モジュールM、及び撮像モジュールMを使用した携帯用電子装置(図示されない)を提供する。図11図7との比較からは、本発明に係る第7の実施形態と第5の実施形態との最大な相違点では、第7の実施形態において、光フィルタ部材4における各導電性構成41は、光透過性本体40の側部4003に配置されると共に外部に露出する側部導電性層415と、光透過性本体40の底部4001に配置された底部導電性層413と、光透過性本体40の頂部4002に配置された頂部導電性層414とを含み、また、側部導電性層415が、底部導電性層413と頂部導電性層414との間に電気的に接続され、かつ、底部導電性層413と頂部導電性層414とがそれぞれ、対応的な第1の導電性材料3と対応的な第2の導電性材料5と電気的に接触されることが看取ることができる。
【0031】
そのように、本発明に係る第7の実施形態は、底部導電性層413を使用することにより、導電性構成41と第1の導電性材料3との接触面積を増加し、それで、導電性構成41と第1の導電性材料3との接触不良による断線の不都合を効果的に抑えることができる。かつ、本発明に係る第7の実施形態は、頂部導電性層414を使用することにより、導電性構成41と第2の導電性材料5との接触面積を増加し、それで、導電性構成41と第2の導電性材料5との接触不良による断線の不具合を効果的に抑えることができる。なお、底部導電性層413と頂部導電性層414との間に電気的に接続される側部導電性層415は、光透過性本体40の側部4003に配置されてもよいことは、注目に値する。それで、光透過性本体40には、第5の実施形態のように複数の穿孔410を追加配置する必要はない。また、第2の導電性材料5は、側部導電性層415と基板パッド100との間に電気的に接続されてもよいことは、注目に値する。
【0032】
[第8の実施形態]
図12に示すように、本発明に係る第8の実施形態は、撮像モジュールM、及び撮像モジュールMを使用した携帯用電子装置(図示されない)を提供する。図12図7との比較からは、本発明に係る第8の実施形態と第5の実施形態との最大な相違点では、第8の実施形態において、光フィルタ部材4における各導電性構成41は、光透過性本体40の側部4003に配置された半穿孔411と、半穿孔411内に配置された導電性貫通層412と、光透過性本体40の底部4001に配置された底部導電性層413と、光透過性本体40の頂部4002に配置された頂部導電性層414とを含み、また、導電性貫通層412が底部導電性層413と頂部導電性層414との間に電気的に接続され、かつ、底部導電性層413と頂部導電性層414とはそれぞれ、対応的な第1の導電性材料3と対応的な第2の導電性材料5に電気的に接触されることが看取ることができる。
【0033】
そのように、本発明に係る第8の実施形態は、底部導電性層413を使用することにより、導電性構成41と第1の導電性材料3との接触面積を増加し、それで、導電性構成41と第1の導電性材料3との接触不良による断線の不都合を効果的に抑えることができる。かつ、本発明に係る第8の実施形態は、頂部導電性層414を使用することにより、導電性構成41と第2の導電性材料5との接触面積を増加し、それで、導電性構成41と第2の導電性材料5との接触不良による断線の不具合を効果的に抑えることができる。なお、第2の導電性材料5は、導電性貫通層412と基板パッド100との間に電気的に接続されてもよいことは、注目に値する。
【0034】
[実施形態による有益な効果]
本発明による有益な効果の1つとしては、本発明が提供する携帯用電子装置Z及びその撮像モジュールMは、「複数の第1の導電性材料3がそれぞれ撮像チップ2の複数のチップパッド200に配置される。」「光フィルタ部材4が複数の第1の導電性材料3に配置され、光フィルタ部材4には、光透過性本体40と、光透過性本体40に配置された複数の導電性構成41とが含まれて、複数の導電性構成41がそれぞれ複数の第1の導電性材料3に電気的に接続される。」、及び「各第2の導電性材料5が対応的な導電性構成41と対応的な基板パッド100との間に電気的に接続される」という技術的手段により、光フィルタ部材4が、複数の導電性構成41と複数の第1の導電性材料3との協働により、撮像チップ2の複数のチップパッド200に電気的に接続されることができ、かつ、光フィルタ部材4は、複数のチップパッド200にそれぞれ配置された複数の第1の導電性材料3により支持され、撮像チップ2の上方に配置されることができる。そのように、撮像チップ2のイメージセンシングエリア21の面積が最大化される(イメージセンシングエリア21のセンシング面積を増加する)ことができる。
【0035】
以上に開示された内容は本発明の好ましい実施形態に過ぎず、これにより本発明の特許請求の範囲を制限するものではない。そのため、本発明の明細書及び添付図面の内容に基づき為された等価の技術変形は、全て本発明の特許請求の範囲に含まれるものとする。
【符号の説明】
【0036】
Z 携帯用電子装置
M 撮像モジュール
1 回路基板
1001 上面
1002 下面
1003 貫通口
100 基板パッド
2 撮像チップ
200 チップパッド
21 イメージセンシングエリア
22 チップパッド配置エリア
23 空きエリア
3 第1の導電性材料
4 光フィルタ部材
40 光透過性本体
4001 底部
4002 頂部
4003 側部
41 導電性構成
410 穿孔
411 半穿孔
412 導電性貫通層
413 底部導電性層
414 頂部導電性層
415 側部導電性層
5 第2の導電性材料
6 レンズ組立体
7 絶縁充填材
R 閉鎖空間
図1
図2
図3
図4
図5
図6
図7
図8
図9
図10
図11
図12